JP2014083644A - 平面研削方法及び平面研削盤のクーラント供給装置 - Google Patents

平面研削方法及び平面研削盤のクーラント供給装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2014083644A
JP2014083644A JP2012235444A JP2012235444A JP2014083644A JP 2014083644 A JP2014083644 A JP 2014083644A JP 2012235444 A JP2012235444 A JP 2012235444A JP 2012235444 A JP2012235444 A JP 2012235444A JP 2014083644 A JP2014083644 A JP 2014083644A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coolant
grindstone
scattering
fluid
supply passage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012235444A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6007061B2 (ja
Inventor
Atsushi Shibanaka
篤志 芝中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JTEKT Machine Systems Corp
Original Assignee
Koyo Machine Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koyo Machine Industries Co Ltd filed Critical Koyo Machine Industries Co Ltd
Priority to JP2012235444A priority Critical patent/JP6007061B2/ja
Publication of JP2014083644A publication Critical patent/JP2014083644A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6007061B2 publication Critical patent/JP6007061B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)

Abstract

【課題】クーラント流量の多少に関係なく重力の影響を受けずに、クーラントをより均等に且つ継続して砥石の全周に供給することができ、砥石の自生作用が安定して起こる状態を維持できるようにする。
【解決手段】砥石軸3側の供給通路12から砥石5側端部の飛散手段7に供給されたクーラントを、砥石軸3の回転時の遠心力により飛散手段7を経て砥石5の研削部6に内側から供給する。砥石軸3の供給通路12の出口13側に嵌合された分流体14を備え、この分流体14の外周に、供給通路12からのクーラントを砥石軸3と一体回転する分流体14の回転に伴って周方向に略均等に分流させながら飛散手段7へと供給する分流路21を周方向に略等配に形成する。クーラントは自由水面12Aよりも下側を通過中の分流路21に流入し、分流体14の回転に伴って全周の分流路21に略均等に分流される。
【選択図】図1

Description

本発明は、平面研削方法及び平面研削盤のクーラント供給装置に関し、シリコンウェーハ等のワークを研削する際に、砥石の研削部の全面に内側から略均等にクーラントを供給できるようにしたものである。
平面研削盤によりシリコンウェーハ等のワークの片面研削又は両面同時研削を行う場合、砥石軸の砥石装着台に装着された砥石の内周側にクーラントの飛散手段を備え、砥石軸の中心側の供給通路から供給されたクーラントを、飛散手段により外周の研削部側へと飛散させて研削部に対して内側から供給するようにしている。
この種のクーラント供給装置には、従来、その飛散手段による飛散形式の違いにより、砥石装着台と対向して配置された飛散板を経てクーラントを飛散させる飛散板式と、砥石の研削部の内周側の吐出孔を経て飛散させる吐出孔式とがある。
そして、飛散板式のクーラント供給装置には、飛散板に砥石装着台に対向して羽根を設け、この羽根の回転によるポンプ作用を利用してクーラントを供給するもの(特許文献1)、飛散板に砥石装着台に対向して放射状に通路を設け、飛散板の回転による遠心力によって各通路を経てクーラントを飛散させて供給するもの(特許文献2)、砥石軸と飛散板とに、所定の隙間をおいて相対向するテーパー面を形成し、その隙間部を経て遠心力によりクーラントを飛散させて供給するもの(特許文献3、4)等がある。
また吐出孔式のクーラント供給装置は、砥石の研削部の内周側に対応して周方向に複数個の吐出孔を略等配に形成する一方、砥石軸内の供給通路と各吐出孔とを連通する分岐路を設け、供給通路からのクーラントを分岐路を経て吐出口へと供給し、遠心力により吐出口から研削部に吐出して飛散させるようにしている(特許文献5)。
特開平9−38866号公報 特開2002−11660号公報 特開昭58−45874号公報 特開平11−267973号公報 特開2004−25344号公報
従来の飛散板式のクーラント供給装置では、砥石軸の回転時のポンプ作用又は遠心力を利用して飛散板の外周から砥石の研削部へとクーラントを飛散させるようにしている。このため飛散板と砥石装着台の対向面との隙間にバラツキがあるか、又は飛散板の中心部に供給されるクーラントの流量にバラツキが生じた場合には、クーラントが飛散板の流れ易い箇所に集中する偏りが生じて、その状態のままでクーラントが一定の軌道を描きながら飛散することがある。その結果、砥石の研削部の全周にクーラントを略均一に供給できなくなって、加工後のワークの平面度が低下する等の研削精度の低下を招く惧れがある。特に砥石軸の回転数が低下した低回転数の場合には、ポンプ作用又は遠心力が低下するため、クーラントが重力の影響を受けて一定の軌道を描きながら飛散する状況が顕著になる傾向にある。
しかし、ワークの加工精度に影響を与えない程度までクーラントの供給量を増やして加工精度の低下を防止することが考えられるが、その場合にはクーラントの流量が必要以上に増加し、そのため環境の問題やクーラント供給に関連する付帯設備の大型化の問題が生じるだけでなく、クーラントと一緒に研削屑や砥石屑が排出されてしまい、研削屑や砥石屑により砥石の目立てが行える砥石の自生作用が低下するという問題がある。
一方、吐出孔式のクーラント供給装置では、供給通路内のクーラントの流量が少ない場合でも、そのクーラントを砥石軸の回転に伴って各分岐路へと略均等に分岐させることができ、その各分岐路に分岐したクーラントを遠心力により吐出孔から砥石の研削部の内側に供給するため、飛散板式の問題点を解消できる利点がある。しかし、この吐出孔式は、砥石の研削部の内周側に対応して複数個の吐出孔を形成するだけでなく、その複数個の吐出孔を砥石軸の中心の供給通路に連通する複数個の分岐孔を斜め方向に形成する必要があり、そのため飛散板式に比較して孔加工等が煩雑であり製造コストが高騰する等の問題がある。
本発明は、このような従来の問題点に鑑み、クーラント流量の多少に関係なく重力の影響を受けずに、クーラントをより均等に且つ継続して砥石の全周に供給することが可能であり、砥石の自生作用が安定して発生する状態を維持でき、その結果、研削負荷が安定してワークの研削精度の向上及び研削精度の安定性の向上を図ることができ、しかもクーラント流量を少なくでき、製造コストを低減できる平面研削方法及び平面研削盤のクーラント供給装置を提供することを目的とする。
本発明に係る平面研削方法は、砥石軸側の供給通路から砥石側端部の飛散手段に供給されるクーラントを、前記砥石軸の回転時の遠心力により前記飛散手段を経て前記砥石の研削部に供給しながら前記砥石によりワークを研削する平面研削方法において、前記供給通路の出口側に嵌合され前記砥石軸と一体回転する分流体の回転に伴って、該分流体の外周又は外周側近傍に周方向に略等配に設けられた複数個の分流路にクーラントを分流させながら前記飛散手段へと供給するものである。前記分流路が前記供給通路内のクーラントの自由水面よりも下側を通過するときに該分流路にクーラントを分流させることが望ましい。
本発明に係る平面研削盤のクーラント供給装置は、砥石軸側の供給通路から砥石側端部の飛散手段に供給されたクーラントを、前記砥石軸の回転時の遠心力により前記飛散手段を経て前記砥石の研削部に内側から供給するようにした平面研削盤のクーラント供給装置において、前記砥石軸の前記供給通路の出口側に嵌合された分流体を備え、該分流体の外周又は外周側近傍に、前記砥石軸と一体回転する前記分流体の回転に伴って前記供給通路からのクーラントを分流させて前記飛散手段へと供給する分流路を周方向に略等配に設けたものである。
前記分流路が前記供給通路内のクーラントの自由水面よりも下側を通過するときに該分流路にクーラントを分流させることが望ましい。前記分流体は外周面に前記分流路を有することもある。前記分流体の上手側に、前記各分流路に内周側から連通し且つ前記供給通路からのクーラントを前記各分流路へと流入させる流入部を備えたものでもよい。
前記飛散手段は前記砥石側端部に装着され且つ前記分流体で分流されたクーラントを遠心力により外周側に飛散させる飛散板を有するものでもよい。前記飛散手段は前記分流路から外側へと飛散するクーラントを周方向に拡散させる拡散手段を備えたものでもよい。前記拡散手段は外側へと飛散するクーラントが衝突する障害壁と、該障害壁に衝突後のクーラントを周方向に拡散させながら外側へと飛散させる拡散用隙間とを備えたものでもよい。前記飛散板と、前記出口内の段部との間で前記分流体を挟持してもよい。
本発明では、クーラント流量の多少に関係なく重力の影響を受けずに、クーラントをより均等に且つ継続して砥石の全周に供給することが可能であり、砥石の自生作用が安定して起こる状態を維持でき、その結果、研削負荷が安定してワークの研削精度の向上及び研削精度の安定性の向上を図ることができ、しかもクーラント流量を少なくでき、製造コストを低減できる利点がある。
本発明の第1の実施形態を示す横型両頭平面研削盤の正面断面図である。 同分流体側の側面断面図である。 同分流体及び飛散板の側面図である。 同分流体及び飛散板の正面断面図である。 本発明の第2の実施形態を示す横型両頭平面研削盤の正面断面図である。 本発明の第3の実施形態を示す横型両頭平面研削盤の正面断面図である。 同飛散板の側面図である。 同要部の拡大図である。 本発明の第4の実施形態を示す横型両頭平面研削盤の正面断面図である。 本発明の第5の実施形態を示す横型両頭平面研削盤の正面断面図である。 同分流体の側面断面図である。 本発明の第6の実施形態を示す横型両頭平面研削盤の正面断面図である。 同飛散板の側面図である。 本発明の第7の実施形態を示す横型両頭平面研削盤の正面断面図である。 同飛散板の側面図である。 本発明の第8の実施形態を示す横型両頭平面研削盤の正面断面図である。 同分流体の側面断面図である。 本発明の第9の実施形態を示す横型両頭平面研削盤の正面断面図である。 同飛散板の側面図である。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳述する。図1〜図4はシリコンウェーハ等の薄板状のワークの両面を平面研削する横型両頭平面研削盤に採用した場合のクーラント供給装置を例示する。図1、図2において、1はシリコンウェーハ等の薄板状のワークである。2は横型両頭平面研削盤、3はその砥石軸で、ワーク1の左右両側に相対向して配置され、左右方向に摺動自在な左右一対の摺動ベース上の軸受台(図示省略)により軸心廻りに回転自在に支持されている。
各砥石軸3は相対向する一端側に砥石装着台4を有し、その砥石装着台4に、ワーク1を研削する砥石5と、ワーク1の研削時にクーラントを飛散させて砥石5の研削部6の全周に内側から供給する飛散手段7とが装着され、また砥石軸3の他端側には砥石軸3の回転駆動用の駆動源(図示省略)が設けられている。
砥石5はカップ型であって、研削部6と、この研削部6を支持する基台8を略同心状に備え、その基台8が砥石装着台4の端面に周方向に複数本のボルト等の固定手段9により着脱自在に装着されている。基台8の砥石5の内周側には、後述の飛散手段7から飛散するクーラントを砥石5の研削部6側へと案内するためのテーパー面10が略同心状に設けられている。
砥石軸3の略中心部には、クーラントを供給する供給通路12と、この供給通路12に連通して砥石装着台4、環体11等の内周に形成された出口13とが軸心方向に設けられている。砥石装着台4は環体11を介して砥石軸3の先端部に着脱自在に固定されている。出口13には外周に分流路21を有する分流体14が軸心方向に着脱自在に嵌合され、砥石軸3と一体回転する分流体14の回転により、供給通路12からのクーラントを周方向の全周に略均等に分流させながら飛散手段7へと送るようになっている。
供給通路12は砥石5と反対側でクーラントの供給源(図示省略)に接続されており、この供給通路12の通路断面積に比較してクーラントの流量が少ない場合には、供給源から供給されたクーラントが、その上側に自由水面12Aができる状態で供給通路12内を流れている。これは比較的小径の供給通路12が砥石軸3の略中央にあり、クーラントが砥石軸3の回転時の遠心力の影響を受け難いためである。なお、クーラントの自由水面12Aのレベルは、クーラント流量が少なければ下がり多ければ上がるが、供給通路12内に自由水面12Aができるようにクーラント流量を決定することが望ましい。
しかし、クーラントの流量が多い場合には、クーラントの内圧の極端な上昇を防止できる程度であれば、クーラントが供給通路12の通路断面の全体に充満した状態で流れるようにしてもよい。また供給通路12内のクーラントに自由水面12Aができるか否かは、供給通路12の通路断面積とクーラントの流量との関係によって決まることであり、砥石5の研削部6に供給されるクーラントの供給量の多少には直接は関係しない。
飛散手段7は相対向して配置されたベース板16と飛散板17とを有し、そのベース板16は基台8の内側で砥石装着台4の端面に周方向に複数本のボルト等の固定手段18により着脱自在に装着され、また飛散板17はベース板16の端面に周方向に複数本のボルト等の固定手段19により着脱自在に装着されている。
出口13は供給通路12の先端側で砥石装着台4、環体11及びベース板16に跨がって軸心方向に連続状に形成されている。なお、砥石装着台4、環体11等を砥石軸3の先端部の外周に套嵌した場合には、出口13は供給通路12と一体に砥石軸3の先端部の内周に設けてもよい。
分流体14はその回転により供給通路12からのクーラントを周方向に略均等に分流させるためのもので、出口13に挿脱自在に挿入されている。この分流体14にはその外周に軸心方向に平行に溝状の複数個の分流路21が周方向に略等配に形成され、また供給通路12側の端部に、供給通路12からのクーラントが各分流路21へと流入し易くなるように各分流路21の内周側に連通する流入部22が形成されている。従って、例えば砥石軸3、分流体14が図2のX矢示方向に回転する場合には、供給通路12から流入部22に達したクーラントは、その自由水面12Aの下側にある分流路21に流入しながら、その回転に伴って順次全周の各分流路21へと分流されて行く。
分流路21は周方向の幅に対して径方向の深さが大の溝状であり、分流体14の回転時に各分流路21間の隔壁の内側部分で流入部22内のクーラントを攪拌し難くなっている。なお、分流路21は周方向の幅を大にし径方向の深さを浅くしてもよいし、周方向の幅、径方向の深さを共に同程度にする等、クーラント流量等を考慮しながら適宜決定すればよい。流入部22は各分流路21の上手側内周に連通する凹入状に形成されている。
飛散板17は、図3、図4に示すように、固定手段19によりベース板16に固定された円板状のフランジ部23と、このフランジ部23の略中心部からベース板16側に突出してベース板16の内周に挿入される突出部24とを有する。そして、飛散板17のフランジ部23及び突出部24のベース板16と対向する対向面には、分流体14の各分流路21に連通し且つ砥石軸3、分流体14の回転時に分流路21からのクーラントを遠心力により外周側へと飛散させるための溝状の飛散路25が放射状に形成されている。ベース板16には飛散板17の外周から飛散するクーラントを研削部6側へと案内するテーパー面26が設けられている。突出部24は省略してもよい。
分流体14は飛散板17の突出部24と砥石軸3の段部27とにより軸心方向の両側から挟持され、また位置決め手段29により飛散板17に対して相対回転不能に位置決めされている。分流体14の供給通路12側には砥石軸3の端面により形成された段部27があり、この段部27と分流体14との間にOリング等の弾性シールリング30と、筒体等のスペーサ31とが軸心方向に介在されている。
弾性シールリング30は砥石軸3と環体11との隙間からのクーラントの漏れを防止すると共に、飛散板17、分流体14の寸法のバラツキによるガタ等を防止するために使用されている。スペーサ31の分流体14側の内周には、クーラントが分流体14の各分流路21に流れ込み易くなるように、分流体14に向かって外側へと広がるテーパー状の流入案内面31aが設けられている。位置決め手段29は飛散板17の突出部24と分流体14との対向凹部に挿入された1本又は複数本の位置決めピン33を有し、分流路21と飛散路25とが連通した状態で分流体14が回転しないように飛散板17に位置決めしている。なお、流入案内面31aは分流体14に向かって広がる形状であればテーパー状以外の形状、例えば円弧状等でもよい。
ワーク1の両面を平面研削するに際しては、駆動源の駆動により砥石軸3を軸心廻りにX矢示方向に回転させながら、ワーク1の両側に配置された一対の砥石5によりその両面を研削する。このワーク1の研削中は供給通路12から飛散手段7へとクーラントを送り、飛散手段7の外周から砥石5の研削部6の全周に内側から略均等にクーラントを供給する。
研削中は砥石軸3と一体に分流体14、飛散板17がX矢示方向に回転している。しかし、クーラント流量が少ない場合には、クーラントはその上側に自由水面12Aができるように、常に重力を受けながら供給通路12内の下部を出口13側へと流れる。そして、分流体14の上手側に到達したクーラントは、まずスペーサ31を経て分流体14の流入部22に入り、その流入部22内のクーラントの自由水面12Aよりも下側の各分流路21へと流入しながら、砥石軸3、分流体14の回転に伴って順次全周の各分流路21に略均等に分流され、飛散手段7へと供給される。
飛散手段7では、ベース板16、飛散板17が砥石軸3と一体に回転するため、各分流路21から各飛散路25へと流れたクーラントは、その飛散板17等の回転による遠心力を受けて飛散板17の外周から飛散して、砥石5の研削部6の内周側の全周へと略均等に供給されて行く。
分流体14側ではそのX矢示方向の回転に伴って全周の各分流路21に対してクーラントを略均等に分流させることができる。即ち、分流体14の外周の各分流路21は分流体14と一体に回転しているが、図1、図2からも判るように、クーラントの自由水面12Aよりも下側を通過中の分流路21にしかクーラントが流れ込まず、クーラントの自由水面12Aよりも上側にある分流路21には流れ込まない。
しかし、クーラントが流れ込んだ分流路21は分流体14のX矢示方向の回転に伴って回転方向の前側へと次々と上昇し、その上昇後にクーラントの自由水面12Aレベルよりも上側にあった回転方向の後側の分流路21が次々に下側へと移動する。このため砥石軸3と一体回転する分流体14の回転中は、その回転に伴って分流体14の流入部22のクーラントが各分流路21に略均等に流れ込むこととなり、クーラント流量が少ない場合でも、そのクーラントを分流体14の全周に略均等に分流させることができる。
また分流体14の分流路21の上手側にはその内周側に連通する流入部22があるので、この流入部22を経て各分流路21にクーラントを速やかに流入させることができ、分流体14が砥石軸3と一体に回転するにも拘わらず、分流体14の各分流路21へのクーラントの分流を円滑にすることができる。
しかも分流体14の流入部22を経て内周側から分流させるだけでなく、その上手側のスペーサ31の内周に分流体14に向かって広がるテーパー状の流入案内面31aがあるため、供給通路12からのクーラントはその流入案内面31aを経て分流体14の各分流路21へとスムーズに流れ込むこととなる。このためクーラント流量が非常に少なく自由水面12Aが低いような場合でも、そのクーラントを分流体14の各分流路21に略均等に分流させることができる。
このように外周に分流路21を有する分流体14を出口13内に配置し、各分流路21がクーラントの自由水面12Aよりも下側を回転方向に通過中のときに、その分流路21にクーラントを流入させながら、分流体14の回転に伴って全周の各分流路21にクーラントを分流させているため、遠心力の影響が弱まる低回転数の場合にも、遠心力の大小に関係なく全周の分流路21にクーラントを略均等に分流させることが可能であり、飛散板17の外周から飛散するクーラントを砥石5の研削部6の全周に略均等に供給することができる。
従って、クーラントの供給量の部分的なバラツキによるワーク1の研削精度の低下を防止でき、加工後のワーク1の平面度が向上する等、ワーク1の研削精度を向上させることができる。またクーラント流量が少量であっても、そのクーラントを分流体14の全周の各分流路21に略均等に分流できるため、クーラント流量を極力少なくできる。その結果、クーラントの浪費による環境問題の発生を防止できると共に、クーラント供給に関連する付帯設備の小型化による製造コストの低減等を図ることができ、更にはクーラント流量の安定的減少により砥石5の自生作用を安定化させる等、良好な研削精度の安定性を継続的に維持することができる。
更に構造的にはクーラントの供給通路12の出口13内に、外周に分流路21が等配に形成された分流体14を嵌合し、飛散板17のベース板16との対向面側に、分流体14の分流路21に連通する飛散路25を形成しているので、分流孔を備えた従来の吐出孔式に比較して構造的にも簡単であり容易且つ安価に製造できる利点がある。
また砥石軸3の段部27と飛散板17との間に分流体14を介在し、ベース板16を介して砥石装着台4に装着された飛散板17により分流体14を押えて固定しているので、分流体14を出口13内に容易に組み込むことができる。しかも分流体14と飛散板17との間に位置決め手段29があるため、出口13内の分流体14を飛散板17で押えているにも拘わらず、分流体14の分流路21と飛散板17の飛散路25との相対的な位置ずれを防止できる。
図5は本発明の第2の実施形態を例示する。分流体14の流入部22側の内周面は、図5に示すように、上手側が広がるテーパー面22aとなっている。また弾性シールリング30と分流体14との間のスペーサ31は出口13に内嵌する円筒部31bと、この円筒部31bの一端に形成され且つ弾性シールリング30に当接するリング状の当接部31cとを備えている。他の構成は第1の実施形態と同様である。
このように分流体14の流入部22側の内周面をテーパー面22aとすることによって、流入部22側に溜まるクーラントの自由水面12Aが低い場合でも、分流路21の流入部22側の開口位置がクーラント内に水没し易くなるため、砥石軸3、分流体14の回転時に、分流路21間の隔壁によるクーラントの攪拌、特にクーラントの回転方向への掻き上げ現象を少なくできる。
またスペーサ31の厚さを薄くすることにより、流入部22側に溜まるクーラントの自由水面12Aが低い場合でも、クーラントの溜まり量、溜まり深さを深くできるため、分流体14の回転によりクーラントが多少掻き上げられても、クーラントの各分流路21への流入を容易且つ確実にできる。なお、スペーサ31は第1の実施形態と同様にしてもよい。
図6〜図8は本発明の第3の実施形態を例示する。飛散手段7は、図6、図7に示すように、飛散板17のフランジ部23に屈曲状に形成された飛散路25と、飛散するクーラントを周方向に拡散させる拡散手段35とを備えている。飛散板17は周方向に略等配に配置された複数個の飛散路25を有し、その飛散路25は突出部24からフランジ部23側の外周近傍へと放射状に形成された内側部36と、この内側部36の径方向の外端からフランジ部23の周方向へと屈曲する屈曲部37と、この屈曲部37の先端からフランジ部23の外周側に開口する飛散口部38とを有する。なお、屈曲部37は内側部36に対して砥石軸3、飛散板17等の回転方向の前方側、後方側の何れに屈曲してもよい。
飛散板17とベース板16との間には、フランジ部23とベース板16との間に拡散用隙間39を形成するためのシム等の薄板40が介在されている。拡散手段35は屈曲部37の外側の障害壁41と、この障害壁41に対応する部分の拡散用隙間39等により構成され、飛散板17の外周近傍で屈曲部37の外側の障害壁41に衝突したクーラントを飛散板17とベース板16との間の拡散用隙間39で周方向に拡散させながら飛散させるようになっている。
薄板40は屈曲部37よりも内周側に設けられている。シム等の薄板40に相当する段部をベース板16又は飛散板17に一体に設けて、薄板40を省略してもよい。ベース板16及び飛散板17の両方に段部を一体に設けて薄板40に相当する寸法を確保してもよい。他の構成は第1又は第2の実施形態と同様である。
この飛散手段7では、分流体14の各分流路21を経て飛散板17の飛散路25へと送られてきたクーラントAは遠心力により外側へと飛散するが、図8に示すように、飛散路25の内側部36から屈曲部37、飛散口部38を経て飛散板17の外周へと飛散するクーラントA1と、飛散路25の内側部36から屈曲部37に衝突してフランジ部23とベース板16との間の拡散用隙間39を経て飛散板17の外周へと飛散するクーラントA2とに分かれる。
前者のクーラントA1は飛散口部38からそのまま砥石5の研削部6に向かって一気に飛散する。一方、後者のクーラントA2は障害壁41に衝突した後、ベース板16及び飛散板17との間の拡散用隙間39側へと流れる。しかし、拡散用隙間39が狭いため一気に飛び出さずに、拡散用隙間39全体で周方向に広がりながら飛散板17の外周側へと通過し、その後にベース板16のテーパー面26等に沿って飛散する。
その結果、飛散板17の全周にクーラントを広く拡散させることができ、その拡散し広がった状態のクーラントが砥石5の研削部6に向かって飛散することとなる。このため第1の実施形態等に比較してクーラントの周方向への拡散性が良好になり、クーラントを砥石5の研削部6に満遍なく均等に供給することができる。
なお、飛散板17のフランジ部23とベース板16との間の拡散用隙間39は、クーラント流量の多少によって異なるが、試験結果では0.1mm程度の拡散用隙間39が適当であり、それよりも大きくした場合には全く効果が得られなかった。従って、拡散用隙間39はクーラント流量に適した微少隙間であることが重要である。
図9は本発明の第4の実施形態を例示する。飛散板17のフランジ部23には、図7と同様に屈曲状に形成された飛散路25が形成されている。ベース板16と飛散板17との間には図8の薄板40に相当するものがなく、飛散板17のフランジ部23は飛散路25の周辺部分の前面がベース板16に当接している。他の構成は第1〜第3の実施形態の何れかと同様である。
このように飛散板17の飛散路25を屈曲状に形成し、その飛散路25の周辺部分の前面で飛散板17のフランジ部23がベース板16に当接するようにしてもよい。この場合には、クーラントは飛散路25の内側部36、屈曲部37を経て飛散口部38から外周側へと飛散する。従って、クーラントが同じ飛散路25を経て飛散する際にも、飛散路25が屈曲状の場合には、飛散路25が放射状の場合に比較して時間的なバラツキが大きくなり、飛散板17の外周でクーラントをより均一に拡散させることが可能である。
図10、図11は本発明の第5の実施形態を例示する。クーラント流量が多い場合には、分流体14の外周の分流路21の数を少なくして、図10、図11に示すように、各分流路21の個々の断面積及びその合計断面積を大にすることが望ましい。分流体14の外周にはクーラントの供給量に見合う十分な断面積を有する分流路21が周方向に略等配に形成されている。なお、分流路21の断面積を大にするに当たっては、周方向の溝幅よりも径方向の溝深さを大にすることが望ましい。
分流体14の上手側には流入部22はなく、分流路21の上流端がスペーサ31の流入案内面31aに対向している。流入案内面31aは角度が小さくなっており、スペーサ31が分流路21の上手側の開口を極力制限しないようになっている。飛散板17の飛散路25も分流路21に応じて断面積を大にする。分流体14の上手側の流入部22は省略してもよい。他の構成は第1〜第3の実施形態の何れかと同様である。
この場合には、分流体14の外周の分流路21の数が少なくその合計断面積が大であるため、供給通路12の通路断面積に対してクーラント流量が多いような場合でも、分流体14がクーラントの流れの障害となることがなく、そのクーラントを分流体14の各分流路21へとスムーズに分流することができる。そのため分流体14の上手側の供給通路12内でのクーラントの内圧の上昇を防止しながら、砥石5の研削部6にバラツキなくクーラントを略均等に供給することができる。また供給通路12でのクーラントの内圧の上昇を防止できるため、砥石軸3等の供給通路12の継ぎ目部分からのクーラントの漏れ等を未然に防止できる。なお、供給通路12内を流れるクーラントは、自由水面12Aができてもできなくてもよい。
図12、図13は本発明の第6の実施形態を例示する。この飛散手段7は拡散手段35を備え、その拡散手段35は飛散板17とベース板16との拡散用隙間39からクーラントを周方向の所定幅で拡散させて飛散させるようになっている。ベース板16は拡散用隙間39に相当する段部43を一体に有し、そのベース板16側との対向側に形成された飛散路25は、突出部24から飛散板17の外周側近傍に跨がって放射状に形成された内側部36と、内側部36の外端側に周方向の両側に溝状に形成されたポケット部44とを備え、全体として略T字状になっている。拡散手段35はポケット部44の外側の障害壁41と、障害壁41に対応する部分の拡散用隙間39とにより構成されている。他の構成は第1〜第5の実施形態の何れかと同様である。
分流体14からのクーラントは、飛散板17及びベース板16の回転による遠心力を受けて、飛散板17の飛散路25の内側部36を外側へと移動した後、ポケット部44の外側にある障害壁41に衝突して一旦ポケット部44内に溜まる。そして、ポケット部44内に溜まったクーラントは、飛散板17及びベース板16の回転による遠心力を受けて、ポケット部44の幅に対応して周方向に拡散しながら飛散板17とベース板16との間の拡散用隙間39から外周側へと飛散する。従って、クーラントをポケット部44の幅に対応して周方向に拡散できるため、砥石5の研削部6の全周にクーラントを略均等に供給することができる。
図14、図15は本発明の第7の実施形態を例示する。この拡散手段35は飛散板17とベース板16との拡散用隙間39の全周にクーラントを拡散させて飛散させるようになっている。飛散板17には突出部24からフランジ部23の外周側近傍に跨がって放射状に形成された内側部36と、各内側部36の外周側に連通して周溝46が形成されている。周溝46の外側の障害壁41はベース板16に当接せず、この障害壁41とベース板16との間には周方向の全周に拡散用隙間39が形成されている。他の構成は第1〜第6の実施形態の何れかと同様である。
このように周溝46の外周側の全周に拡散用隙間39を設けることによって、その全周でクーラントを周方向に拡散させながら、そのクーラントを砥石5の研削部6の全周に略均等に供給することができる。
図16、図17は本発明の第8の実施形態を例示する。分流体14の外周側近傍には、軸心方向に貫通する分流路21が周方向に略等配に複数個形成されている。各分流路21の上手側は、その内周側の流入部22に開口部21aで連通している。各分流路21の開口部21aの周方向の開口幅は、その分流路21の開口部21aの外側部分の通路幅よりも小さくなっている。
なお、分流路21の孔形状は任意であるが、加工性からは丸孔状が適当である。また分流路21の上流側端は、分流体14の径方向の外側部分がスペーサ31の流入案内面31aの最外周縁近傍に位置するか、又は最外周縁の外側に位置することが望ましい。他の構成は第1〜第7の実施形態の何れかと同様である。
この場合にも分流路21がクーラントの自由水面12Aよりも下側を通過するときに、供給通路12内のクーラントがその分流路21に流入する。従って、分流体14に複数個の分流路21を設けるに当たっては、その外周面に溝状に形成する他、外周面よりも内側の外周側近傍に貫通状に設けることも可能である。
また各分流路21はその開口部21aの開口幅がそれよりも外側部分の通路幅よりも小さくなっているため、砥石軸3、分流体14が回転するにも拘わらず、その開口部21a側でクーラントの攪拌(掻き上げ)を極力抑えながら、各分流路21へとクーラントを速やかに分流させることができる。
図18、図19は本発明の第9の実施形態を例示する。この実施形態の拡散手段35は、内外方向に略同心状に配置された複数個の障害部50〜52、例えば最内周の第1障害部50と、中間の第2障害部51と、最外周の第3障害部52とにより構成されている。第1〜第3障害部50〜52はクーラントが外側へと飛散する周方向に複数個の飛散通路50a〜52aと、この飛散通路50a〜52a間に配置され且つ遠心力により飛散するクーラントが衝突してそのクーラントを周方向に分散させるための複数個の障害壁50b〜52bとを備え、飛散通路50a〜52a及び障害壁50b〜52bが周方向に略均等に配置されている。
第1〜第3障害部50〜52の各飛散通路50a〜52aは周方向に略等間隔に配置され、第1〜第3障害部50〜52毎に全体として飛散板17の中心から略放射状になっている。第1障害部50はベース板16側に開口する分流路21の外側近傍に配置されている。この第1障害部50の複数個の障害壁50bの内、その一部の複数個(例えば8個の内の4個)の障害壁50bの取り付け孔50cに固定手段19が挿通されている。
第1〜第3障害部50〜52は内周側の飛散通路50a,51aと外周側の障害壁51b,52b、内周側の障害壁50b,51bと外周側の飛散通路51a,52aが夫々径方向に対応して配置されている。例えば第1、第2障害部50,51の飛散通路50a,51a及び障害壁50b,51bは周方向に同数であり、第1障害部50の飛散通路50a及び障害壁50bの外周側には、第2障害部51の障害壁51b及び飛散通路51aが対応して配置されている。
飛散板17にはその第3障害部52の障害壁52bの周方向の途中に、飛散板17の固定手段18の頭部18aに対応する切り欠き部54が設けられている。この切り欠き部54は第2障害部51の障害壁51bの外側に対応している。また切り欠き部54は固定手段18の頭部18aにより一部を残して塞がれており、その頭部18aと障害壁52bとの隙間でクーラントの飛散通路52aの一部が形成されている。なお、切り欠き部54では固定手段18の頭部18aが障害壁52bを兼用している。
この場合にも、拡散手段35では、分流路21を経てベース板16と飛散板17との間に供給されたクーラントが、飛散手段7の回転による遠心力によって外周方向へと移動して、第1障害部50から第2障害部51、第3障害部52を経て外側へと飛散する間に、各障害部50〜52に順次衝突して周方向の全周に略均等に拡散させることができる。
例えば分流路21から供給されたクーラントは、最内周の第1障害部50の障害壁50bに衝突した後又は直接第1障害部50の飛散通路50aを図19のa矢示方向に通過し、その外側の中間の第2障害部51の障害壁51bに衝突して流れを遮られる。中間の第2障害部51の障害壁51bに衝突したクーラントは、遠心力により第2障害部51の障害壁51bの内周面に張りつき、後から飛散して来るクーラントにより押されながら第2障害部51の障害壁51bの内周面に沿って回転方向(図19のX矢示方向)に対して後方へと図19のb矢示方向に移動して周方向に分散され、その後、第2障害部51の飛散通路51aを経て図19のc矢示方向へと通過し、最外周側の第3障害部52の障害壁52bに衝突する。
この第3障害部52の障害壁52bに衝突したクーラントは第2障害部51と同様に遠心力により、第3障害部52の障害壁52bの内周面に沿って回転方向(X矢示方向)に対して後方へと図19のd矢示方向に移動して、その後方側の第3障害部52の飛散通路52aから飛散板17の外方へと図19のe矢示方向へと飛散する。
このように飛散板17の中心部に供給されたクーラントは、ベース板16と飛散板17との間を通過する際に、図19の矢印a〜dに示すような拡散経路を辿りながら順次外側へと飛散しながら周方向へと拡散されて行くので、飛散板17の全周にクーラントを拡散させることができる。従って、分流路21でクーラントを略均等に分流できることと相俟って、飛散板17の周方向の全周からクーラントを砥石5の研削部6に対して略均等に供給することができる。
以上、本発明の各実施形態について説明したが、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。例えば実施形態では、横型両頭平面研削盤について例示しているが、単頭式でも同様に実施でき、また両頭、単頭の別を問わず、砥石軸3を傾斜状に配置して供給通路12内のクーラントが自由水面12Aを持った状態で流れるようにした傾斜型の平面研削盤でも同様に実施可能である。またワーク1としてシリコンウェーハを具体的に例示しているが、シリコンウェーハ以外の各種のワーク1を研削する場合にも、前述と同様に実施できる。
分流路21は分流体14に溝状、貫通孔状に形成する他、分流体14が嵌合する出口13の内周面に溝状に形成してもよい。また溝状の分流路21を形成するに当たっては、砥石軸3、分流体14の回転により流入部22内のクーラントの流れを乱さないように、分流路21の周方向の幅に対して径方向の深さを大にすることが望ましい。例えば溝幅の狭いスリット状の分流路21を周方向に略等配に複数個(多数個)設けてもよい。その他、分流路21が溝状の場合、その形状は角形の凹状でもよいし、V字状でもよい。
また流入部22に開口する内周の開口幅が短く、その開口よりも径方向の外側が開口幅よりも周方向に広がる形状の分流路21でもよい。例えば、分流体14の内部に分流路21を形成する場合には、流入部22に開口する内周の開口幅が短く、その開口よりも径方向の外側が周方向に長い長孔状に形成してもよい。分流路21は周方向に2個以上の複数個を略等配に設けるが、その数はクーラントの分散性を損なわず、しかも各分流路21に対してクーラントが流入し易い数であることが望ましい。
実施形態の分流体14は、軸心方向の全体が略同径の直円筒面状の外周形状を有するものを例示しているが、円錐形状又は円錐台形状の分流体14を用い、その分流体14の小径側を供給通路12に対応させて出口13内に着脱自在に配置する一方、大径側の円錐部の外周に分流路21を設けてもよい。
飛散手段7は飛散路25を有する飛散板17とベース板16とを対向して配置しているが、飛散板17を平板状とし、ベース板16に飛散路25を設けてもよいし、両者に跨がって飛散路25を設けてもよい。飛散手段7に拡散手段35を設ける場合には、その拡散手段35についても同様である。
また拡散手段35は遠心力により外側へと飛散するクーラントを障害壁41,50b〜52b等の障害部50〜52に衝突させることにより、そのクーラントを周方向に拡散させるものであればよく、各実施形態に例示の構造以外のものを採用することも可能である。
更にこのクーラント供給装置は、砥石軸3内の供給通路12内のクーラントが自由水面12Aを持った状態で流れること、即ち供給通路12の全体にクーラントが充満する場合に比較してクーラント流量が少ない場合を前提に説明したが、供給通路12の全体に充満して内圧が発生するような状態でクーラントが供給される場合にも使用可能である。その場合にも分流体14の外周面等に略等配に分流路21を設けることにより、各分流路21に略均等にクーラントを分流させることができる。
3 砥石軸
5 砥石
6 研削部
7 飛散手段
12 供給通路
13 出口
14 分流体
17 飛散板
21 分流路
22 流入分流
27 段部
35 拡散手段
39 拡散用隙間
41,50b〜52b 障害壁

Claims (10)

  1. 砥石軸側の供給通路から砥石側端部の飛散手段に供給されるクーラントを、前記砥石軸の回転時の遠心力により前記飛散手段を経て前記砥石の研削部に供給しながら前記砥石によりワークを研削する平面研削方法において、前記供給通路の出口側に嵌合され前記砥石軸と一体回転する分流体の回転に伴って、該分流体の外周又は外周側近傍に周方向に略等配に設けられた複数個の分流路にクーラントを分流させながら前記飛散手段へと供給することを特徴とする平面研削方法。
  2. 前記分流路が前記供給通路内のクーラントの自由水面よりも下側を通過するときに該分流路にクーラントを分流させることを特徴とする請求項1に記載の平面研削方法。
  3. 砥石軸側の供給通路から砥石側端部の飛散手段に供給されたクーラントを、前記砥石軸の回転時の遠心力により前記飛散手段を経て前記砥石の研削部に内側から供給するようにした平面研削盤のクーラント供給装置において、前記砥石軸の前記供給通路の出口側に嵌合された分流体を備え、該分流体の外周又は外周側近傍に、前記砥石軸と一体回転する前記分流体の回転に伴って前記供給通路からのクーラントを分流させて前記飛散手段へと供給する分流路を周方向に略等配に設けたことを特徴とする平面研削盤のクーラント供給装置。
  4. 前記分流路が前記供給通路内のクーラントの自由水面よりも下側を通過するときに該分流路にクーラントを分流させることを特徴とする請求項3に記載の平面研削盤のクーラント供給装置。
  5. 前記分流体は外周面に前記分流路を有することを特徴とする請求項3又は4に記載の平面研削盤のクーラント供給装置。
  6. 前記分流体の上手側に、前記各分流路に内周側から連通し且つ前記供給通路からのクーラントを前記各分流路へと流入させる流入部を備えたことを特徴とする請求項3〜5の何れかに記載の平面研削盤のクーラント供給装置。
  7. 前記飛散手段は前記砥石側端部に装着され且つ前記分流体で分流されたクーラントを遠心力により外周側に飛散させる飛散板を有することを特徴とする請求項3〜6の何れかに記載の平面研削盤のクーラント供給装置。
  8. 前記飛散手段は前記分流路から外側へと飛散するクーラントを周方向に拡散させる拡散手段を備えたことを特徴とする請求項3〜7の何れかに記載の平面研削盤のクーラント供給装置。
  9. 前記拡散手段は外側へと飛散するクーラントが衝突する障害壁と、該障害壁に衝突後のクーラントを周方向に拡散させながら外側へと飛散させる拡散用隙間とを備えたことを特徴とする請求項8に記載の平面研削盤のクーラント供給装置。
  10. 前記飛散板と、前記出口内の段部との間で前記分流体を挟持したことを特徴とする請求項7に記載の平面研削盤のクーラント供給装置。
JP2012235444A 2012-10-25 2012-10-25 平面研削方法及び平面研削盤のクーラント供給装置 Active JP6007061B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012235444A JP6007061B2 (ja) 2012-10-25 2012-10-25 平面研削方法及び平面研削盤のクーラント供給装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012235444A JP6007061B2 (ja) 2012-10-25 2012-10-25 平面研削方法及び平面研削盤のクーラント供給装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014083644A true JP2014083644A (ja) 2014-05-12
JP6007061B2 JP6007061B2 (ja) 2016-10-12

Family

ID=50787219

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012235444A Active JP6007061B2 (ja) 2012-10-25 2012-10-25 平面研削方法及び平面研削盤のクーラント供給装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6007061B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101675271B1 (ko) * 2015-10-30 2016-11-14 서우테크놀로지 주식회사 연삭장치 및 그가 적용된 반도체 스트립 그라인더
KR101721833B1 (ko) * 2016-03-04 2017-03-31 서우테크놀로지 주식회사 폴리싱 유닛 및 그가 적용된 반도체 스트립 그라인더
KR20170142722A (ko) * 2016-06-20 2017-12-28 서우테크놀로지 주식회사 반도체 웨이퍼 그라인더

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63201048U (ja) * 1987-06-11 1988-12-26
JP2007296601A (ja) * 2006-04-28 2007-11-15 Disco Abrasive Syst Ltd 研削ホイール
JP2011093029A (ja) * 2009-10-28 2011-05-12 Disco Abrasive Syst Ltd 研削装置
JP2011173189A (ja) * 2010-02-23 2011-09-08 Disco Corp 搬送機構

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63201048U (ja) * 1987-06-11 1988-12-26
JP2007296601A (ja) * 2006-04-28 2007-11-15 Disco Abrasive Syst Ltd 研削ホイール
JP2011093029A (ja) * 2009-10-28 2011-05-12 Disco Abrasive Syst Ltd 研削装置
JP2011173189A (ja) * 2010-02-23 2011-09-08 Disco Corp 搬送機構

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101675271B1 (ko) * 2015-10-30 2016-11-14 서우테크놀로지 주식회사 연삭장치 및 그가 적용된 반도체 스트립 그라인더
KR101721833B1 (ko) * 2016-03-04 2017-03-31 서우테크놀로지 주식회사 폴리싱 유닛 및 그가 적용된 반도체 스트립 그라인더
KR20170142722A (ko) * 2016-06-20 2017-12-28 서우테크놀로지 주식회사 반도체 웨이퍼 그라인더
KR101851383B1 (ko) * 2016-06-20 2018-06-07 서우테크놀로지 주식회사 반도체 웨이퍼 그라인더

Also Published As

Publication number Publication date
JP6007061B2 (ja) 2016-10-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6007061B2 (ja) 平面研削方法及び平面研削盤のクーラント供給装置
US9975217B2 (en) Scattering plate, grinding wheel, and grinding device
WO2015072383A1 (ja) 軸受装置の冷却構造
JP5307850B2 (ja) ガイドローラ
KR20060043837A (ko) 웨이퍼 형태 가공편의 양면 동시 연삭 장치
KR20140033427A (ko) 롤링 베어링
MX2008011291A (es) Dispositivo y metodo para crear cavitacion hidrodinamica en los fluidos.
JP5816061B2 (ja) 転がり軸受の潤滑装置
CN103835804A (zh) 增压器
US11376711B2 (en) Nozzle head
JP6497057B2 (ja) 遠心ポンプ
JP5964175B2 (ja) 平面研削方法及び平面研削盤のクーラント供給装置
JP2007147004A (ja) 湯水混合バルブ装置
JP2016143702A (ja) 基板処理装置
JP2008082496A (ja) 転がり軸受の潤滑装置
JP2011064248A (ja) 軸受構造
JP3161915U (ja) 研磨装置
KR20160127537A (ko) 기판 처리 장치 및 이에 사용되는 혼합 노즐
JP5974383B2 (ja) 研削砥石および研削装置
JP7395152B2 (ja) 微細気泡発生ノズル本体
JP7391189B2 (ja) ジャーナル軸受およびジャーナル軸受を用いた回転機器
JP7329397B2 (ja) 微細気泡発生ノズル本体
JP2015058482A (ja) 両頭平面研削盤用の静圧パッド及びワークの両頭平面研削方法
JP2008221388A (ja) 機械加工用冷却剤供給装置
KR20210052930A (ko) 쿨런트 역류 방지 구조를 구비하는 로터리 조인트

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150520

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160324

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160329

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160621

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160715

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160830

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160912

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6007061

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250