JP2014058393A - Core member for resin film original fabric, resin film original fabric using core member for resin film original fabric, and method for producing optical film - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a core member capable suppressing charging of a wound resin film, and obtaining an optical film excellent in coating suitability of coating liquid and excellent in optical characteristics, when forming a functional layer by unwinding the resin film.SOLUTION: A core member for a resin film original fabric includes a cylindrical core, and conductive surface layers formed on the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the core, and surface roughness of the surface layer provided on the inner peripheral surface is larger than surface roughness of the surface layer provided on the outer peripheral surface.

Description

本発明は、樹脂フィルム原反用コア部材、該樹脂フィルム原反用コア部材を用いた樹脂フィルム原反および光学フィルムの製造方法に関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a resin film original fabric core member, a resin film original fabric using the resin film original fabric core member, and an optical film manufacturing method.

近年、画像表示装置として液晶表示装置やプラズマディスプレイ装置等が知られている。これら画像表示装置には、樹脂フィルムに各種の機能層を形成した光学フィルムが使用されている。樹脂フィルムは、一般的に、長尺状のフィルムをコア部材にロール状に巻き回した樹脂フィルム原反(フィルムロール)として、保存および輸送等に供されている。そして、樹脂フィルムは、使用する際に樹脂フィルム原反から順次巻き出され、上記した機能層が形成される。   In recent years, liquid crystal display devices, plasma display devices, and the like are known as image display devices. In these image display devices, an optical film in which various functional layers are formed on a resin film is used. The resin film is generally used for storage and transportation as a resin film original film (film roll) obtained by winding a long film around a core member in a roll shape. And when using, a resin film is sequentially unwound from a resin film original fabric, and an above-mentioned functional layer is formed.

また、光学フィルムが備える機能層としては、たとえば、ハードコート層、屈折率を調整した反射防止層、表面に凹凸形状が形成された防眩層、及び液晶分子の配向方向を制御した液晶層(光学異方性層)等が知られている。このような機能層は、機能層を構成する材料を含む機能層形成用の塗布液を樹脂フィルムの表面に塗布することによって形成することができる。均一な機能層を形成するために、塗布液は、樹脂フィルムに均一に塗れ広げられることが好ましい。   Moreover, as a functional layer with which an optical film is provided, for example, a hard coat layer, an antireflection layer with an adjusted refractive index, an antiglare layer having a concavo-convex shape formed on the surface, and a liquid crystal layer with controlled orientation direction of liquid crystal molecules ( Optically anisotropic layers) and the like are known. Such a functional layer can be formed by applying a functional layer-forming coating solution containing a material constituting the functional layer to the surface of the resin film. In order to form a uniform functional layer, it is preferable that the coating solution is uniformly spread and spread on the resin film.

フィルム表面に塗布液を塗り広げやすくする技術の1つとして、特許文献1には、連続した帯状のフィルムを巻き取る際、コア表層又はコア全体に静電防止処理が施された筒状のコアを用いる、フィルム原反の製造方法が開示されている。特許文献1に記載のコア部材では、少なくとも外周面に静電防止処理が施されており、フィルムの帯電を抑制して、フィルム表面に塗布液を塗り広げやすくしている。   As one of the techniques for facilitating spreading of the coating liquid on the film surface, Patent Document 1 discloses a cylindrical core in which an antistatic treatment is applied to the core surface layer or the entire core when winding a continuous belt-like film. The manufacturing method of the film original fabric which uses is disclosed. In the core member described in Patent Document 1, at least the outer peripheral surface is subjected to antistatic treatment, and the charging of the film is suppressed to make it easy to spread the coating liquid on the film surface.

特開2007−176034号公報JP 2007-176034 A

ところで、近年、フィルムが吸湿することにより発生する光学ムラを抑制するため、偏光板の保護フィルムとして、低透湿、低吸湿のフィルム(たとえばアクリルフィルム等)が求められている。ところが、このような低透湿、低吸湿のフィルムは、含水率が低く帯電しやすいため、従来よりも機能層を形成する際の帯電抑制が難しい。そのため、特許文献1に記載のコア部材を用いてフィルムの帯電を抑制しようとしても、機能層を形成する際に充分に帯電を抑制することができず、得られる光学フィルムに塗布ムラに起因する光学ムラが発生しやすい、という問題がある。   By the way, in recent years, in order to suppress optical non-uniformity generated when the film absorbs moisture, a low moisture-permeable, low moisture-absorbing film (for example, an acrylic film) is required as a protective film for the polarizing plate. However, since such a low moisture permeability and low moisture absorption film has a low moisture content and is easily charged, it is more difficult to suppress charging when forming a functional layer than in the past. Therefore, even if it tries to suppress charging of the film using the core member described in Patent Document 1, charging cannot be sufficiently suppressed when the functional layer is formed, and the resulting optical film is caused by uneven coating. There is a problem that optical unevenness is likely to occur.

本発明は、上記従来の問題に鑑みてなされたものであり、巻き回される樹脂フィルムの帯電を抑制することができ、樹脂フィルムを巻き出して機能層を形成する際に、塗布液の塗布適正に優れ、光学特性に優れた光学フィルムを得ることができる樹脂フィルム原反用コア部材を提供することを目的とする。また、このような樹脂フィルム原反用コア部材を備えた樹脂フィルム原反、該樹脂フィルムから光学フィルムを製造する方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, can suppress charging of a wound resin film, and applies a coating liquid when unwinding the resin film to form a functional layer. It aims at providing the core member for resin film original fabrics which can obtain the optical film which was excellent excellently and excellent in the optical characteristic. Moreover, it aims at providing the method of manufacturing an optical film from the resin film original fabric provided with such a core member for resin film originals, and this resin film.

本発明の一態様による樹脂フィルム原反用コア部材(以下、単にコア部材ともいう)は、円筒状の巻き芯と、該巻き芯の外周面および内周面に形成された導電性の表面層とを備え、前記内周面に設けられた表面層の表面粗さが、前記外周面に設けられた表面層の表面粗さよりも大きい。   A core member for a resin film original fabric (hereinafter also simply referred to as a core member) according to an embodiment of the present invention includes a cylindrical winding core, and a conductive surface layer formed on the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the winding core. The surface roughness of the surface layer provided on the inner peripheral surface is larger than the surface roughness of the surface layer provided on the outer peripheral surface.

本発明のコア部材は、このような構成を有することにより、導電性の表面層の比表面積を従来よりも増やすことができる。そのため、本発明のコア部材は、従来よりも、巻き回される樹脂フィルムの帯電を抑制することができ、巻き回された樹脂フィルムを巻き出して機能層を形成する際に、塗布液の塗布適正を向上させることができ、光学特性に優れた光学フィルムを得ることができる。   By having such a structure, the core member of the present invention can increase the specific surface area of the conductive surface layer as compared with the conventional case. Therefore, the core member of the present invention can suppress the charging of the wound resin film more than before, and the coating liquid is applied when the wound resin film is unwound to form the functional layer. Appropriateness can be improved, and an optical film excellent in optical properties can be obtained.

前記巻き芯が、繊維強化プラスチックを含むことが好ましい。   The winding core preferably includes a fiber reinforced plastic.

巻き芯が、繊維強化プラスチックを含む場合、巻き芯を軽量化、高強度化することができる。   When the core includes fiber reinforced plastic, the core can be reduced in weight and strength.

また、本発明の樹脂フィルム原反は、上記コア部材と、該コア部材の外周面にロール状に巻き回された長尺状の樹脂フィルムとを備えることを特徴とする。   Moreover, the resin film original fabric of this invention is equipped with the said core member and the elongate resin film wound by roll shape on the outer peripheral surface of this core member, It is characterized by the above-mentioned.

本発明の樹脂フィルム原反は、上記コア部材に樹脂フィルムが巻き回されている。そのため、巻き回された樹脂フィルムは帯電が抑制される。その結果、巻き回された樹脂フィルムを巻き出して機能層を形成する際に、塗布液の塗布適正を向上させることができ、光学特性に優れた光学フィルムを得ることができる。   As for the resin film original fabric of this invention, the resin film is wound around the said core member. Therefore, charging of the wound resin film is suppressed. As a result, when the wound resin film is unwound to form the functional layer, it is possible to improve the coating suitability of the coating liquid and to obtain an optical film having excellent optical characteristics.

温度23℃、相対湿度75%における前記樹脂フィルムの吸水率が2.0%以下であることが好ましい。   The water absorption rate of the resin film at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 75% is preferably 2.0% or less.

このような低吸水率の樹脂フィルムは、一般に帯電しやすいが、本発明の樹脂フィルム原反は、このような低吸湿のフィルムを巻き回した場合であっても、帯電を充分に抑制することができる。そのため、低透湿、低吸湿フィルム上に様々な機能層を塗布して光学フィルムとした場合であっても光学ムラの発生を充分に抑制することができる。   Such a resin film having a low water absorption rate is generally easily charged, but the original film of the resin film of the present invention sufficiently suppresses charging even when such a low moisture absorption film is wound. Can do. Therefore, even when various functional layers are applied on the low moisture permeability and low moisture absorption film to form an optical film, the occurrence of optical unevenness can be sufficiently suppressed.

また、本発明の光学フィルムの製造方法は、上記樹脂フィルム原反から、樹脂フィルムを巻き出す工程と、巻き出された樹脂フィルム上に塗布液を塗布して機能層を形成する工程と、を備えることを特徴とする。   Further, the method for producing an optical film of the present invention includes a step of unwinding a resin film from the raw resin film, and a step of forming a functional layer by applying a coating liquid on the unwound resin film. It is characterized by providing.

本発明の光学フィルムの製造方法では、上記樹脂フィルム原反からフィルムを巻き出して使用する。巻き出されたフィルムは、帯電が抑制されているため、機能層を形成する際に、塗布液の塗布適正が優れる。そのため、光学特性に優れた光学フィルムが得られ得る。   In the method for producing an optical film of the present invention, the film is unwound from the original resin film. Since the unwound film is suppressed from being charged, the coating solution is excellent in coating suitability when the functional layer is formed. Therefore, an optical film having excellent optical characteristics can be obtained.

前記機能層が、ハードコート層、反射防止層、防眩層および液晶層からなる群から選ばれる少なくとも1つであることが好ましい。   The functional layer is preferably at least one selected from the group consisting of a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and a liquid crystal layer.

本発明の光学フィルムの製造方法では、上記樹脂フィルム原反から巻き出されたフィルムを使用する。巻き出されたフィルムは帯電が抑制されているため、これら種々の機能を有する機能層を形成する際に、塗布液の塗布適正が優れる。そのため、光学特性に優れ、種々の機能を発揮できる光学フィルムが得られ得る。   In the method for producing an optical film of the present invention, a film unwound from the resin film original fabric is used. Since the unwound film is suppressed from being charged, the application suitability of the coating solution is excellent when forming a functional layer having these various functions. Therefore, an optical film having excellent optical characteristics and capable of exhibiting various functions can be obtained.

本発明によれば、巻き回される樹脂フィルムの帯電を抑制することができ、樹脂フィルムを巻き出して機能層を形成する際に、塗布液の塗布適正に優れ、光学特性に優れた光学フィルムを得ることができるコア部材、このようなコア部材を備えた樹脂フィルム原反、該樹脂フィルム原反から光学フィルムを製造する方法を提供することができる。   According to the present invention, the charging of the wound resin film can be suppressed, and when the functional film is formed by unwinding the resin film, the optical film is excellent in coating application and has excellent optical characteristics. It is possible to provide a core member capable of obtaining the above, a resin film original having such a core member, and a method for producing an optical film from the resin film original.

図1は、本発明の一実施形態におけるコア部材の概略的な模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a core member according to an embodiment of the present invention. 図2は、本発明の一実施形態における樹脂フィルム原反の概略的な模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a resin film original fabric according to an embodiment of the present invention. 図3は、溶液流延法による樹脂フィルムの製造装置の基本的な構成を示す概略図である。FIG. 3 is a schematic view showing a basic configuration of a resin film manufacturing apparatus by a solution casting method. 図4は、光学フィルムの製造装置の基本的な構成を示す概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a basic configuration of an optical film manufacturing apparatus.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although the form for implementing this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to these.

<樹脂フィルム原反用コア部材>
図1は、本実施形態の樹脂フィルム原反用コア部材(コア部材10)の概略的な模式図であり、図1(a)はコア部材10を説明するための斜視図、図1(b)はコア部材10を説明するための正面図である。図1(a)に示されるように、本実施形態のコア部材10は、円筒状の巻き芯11と、該巻き芯11の外周面および内周面に形成された導電性の表面層(表面層12および表面層13)とを備える。コア部材10は、内周面に設けられた表面層13の表面粗さが、外周面に設けられた表面層12の表面粗さよりも大きい。
<Core material for resin film substrate>
FIG. 1 is a schematic schematic view of a core member (core member 10) for a resin film original fabric according to the present embodiment. FIG. 1 (a) is a perspective view for explaining the core member 10, and FIG. ) Is a front view for explaining the core member 10. As shown in FIG. 1A, the core member 10 of the present embodiment includes a cylindrical winding core 11 and a conductive surface layer (surface) formed on the outer peripheral surface and inner peripheral surface of the winding core 11. Layer 12 and surface layer 13). In the core member 10, the surface roughness of the surface layer 13 provided on the inner peripheral surface is larger than the surface roughness of the surface layer 12 provided on the outer peripheral surface.

(巻き芯)
巻き芯11は、図1(a)に示されるように、円筒状を呈する。巻き芯11は、内部が空洞であるので、比較的軽量である。また、巻き芯11は、円筒状であるため、樹脂フィルムを巻き取って外周面に樹脂フィルムが巻き回された樹脂フィルム原反を作製する際に、コア部材10を回転させる回転装置を設置しやすい。
(Winding core)
As shown in FIG. 1A, the winding core 11 has a cylindrical shape. Since the inside of the winding core 11 is hollow, it is relatively lightweight. In addition, since the winding core 11 is cylindrical, a rotating device that rotates the core member 10 is installed when the resin film is wound and the resin film is wound around the outer peripheral surface. Cheap.

巻き芯11の材料としては特に限定されない。たとえば、巻き芯11の材料として、紙、樹脂、金属などを採用することができる。また、これらの材料は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The material for the winding core 11 is not particularly limited. For example, paper, resin, metal, or the like can be used as the material of the winding core 11. Moreover, these materials may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

紙を用いる場合、平均表面粗さが適切である点から平巻きタイプのものが好ましい。樹脂を用いる場合、たとえば、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩化ビニル、ABS樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ブタジエンゴム、ポリスチレン、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリウレタン樹脂などを採用することができる。金属を用いる場合、たとえば、鉄、アルミニウム、銅、チタン、鉛、亜鉛、金、ニッケル、クロム、スズ、銀、パラジウム、白金などを採用することができる。   When paper is used, a flat wound type is preferable from the viewpoint that the average surface roughness is appropriate. When resin is used, for example, polyethylene, polypropylene, vinyl chloride, ABS resin, epoxy resin, polyester resin, butadiene rubber, polystyrene, polyimide resin, polyamide resin, polyamideimide resin, acrylic resin, vinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyurethane resin Etc. can be adopted. When a metal is used, for example, iron, aluminum, copper, titanium, lead, zinc, gold, nickel, chromium, tin, silver, palladium, platinum or the like can be employed.

また、巻き芯11の材料としては、軽量かつ強度に優れる点で、繊維強化プラスチックを採用することが好ましい。具体的には、上記樹脂とガラス繊維とを組み合わせたガラス繊維強化プラスチックや、上記樹脂と導電剤であるカーボン繊維、カーボンブラック等のカーボン材料とを組み合わせた炭素繊維強化プラスチックを好ましく採用することができる。これらの中でも、導電性の炭素繊維強化プラスチックを用いることが好ましい。導電性の炭素繊維強化プラスチックを採用することにより、樹脂フィルム原反の保存時や、フィルムの巻き出し時に発生する樹脂フィルムの電荷を巻き芯11に移動させ、巻き芯11内で拡散させることができるため、より帯電を抑制する効果が得られる。この際、樹脂フィルムに発生した電荷が、後述する表面層12および表面層13を介して巻き芯11に緩やかに移動するので、樹脂フィルムの帯電を抑制できると考えられる。また、表面層12および表面層13に発生する電荷は、巻き回された樹脂フィルムに移動するのではなく、導電性の炭素繊維強化プラスチックを含む巻き芯11に移動しやすいと考えられる。これらのことから、樹脂フィルムの帯電を抑制できると考えられる。そのため、樹脂フィルム原反から巻き出した樹脂フィルムを用いると、画像表示装置に用いた場合における画像欠陥(光学ムラ)の発生が充分に抑制された光学フィルムを作製することができる。具体的には、モアレ縞等の干渉縞やギラつきの発生が充分に抑制された光学フィルムを作製することができる。   Moreover, as a material of the winding core 11, it is preferable to employ | adopt fiber reinforced plastic at the point which is lightweight and excellent in intensity | strength. Specifically, a glass fiber reinforced plastic combining the resin and glass fiber, or a carbon fiber reinforced plastic combining the resin and a carbon material such as carbon fiber or carbon black as a conductive agent is preferably employed. it can. Among these, it is preferable to use conductive carbon fiber reinforced plastic. By adopting conductive carbon fiber reinforced plastic, it is possible to move the resin film charge generated during storage of the resin film raw material or unwinding of the film to the winding core 11 and diffuse it in the winding core 11. Therefore, the effect of suppressing charging can be obtained. At this time, the charge generated in the resin film moves slowly to the winding core 11 via the surface layer 12 and the surface layer 13 described later, and it is considered that charging of the resin film can be suppressed. Moreover, it is thought that the electric charge which generate | occur | produces in the surface layer 12 and the surface layer 13 does not move to the wound resin film, but moves easily to the winding core 11 containing a conductive carbon fiber reinforced plastic. From these things, it is thought that the charge of a resin film can be suppressed. Therefore, when the resin film unwound from the original resin film is used, it is possible to produce an optical film in which the occurrence of image defects (optical unevenness) when used in an image display device is sufficiently suppressed. Specifically, an optical film in which generation of interference fringes such as moire fringes and glare is sufficiently suppressed can be manufactured.

巻き芯11の大きさは特に限定されず、たとえば、内径100〜1000mm、厚み2〜10mm、長さ1500〜5000mmとすることができる。このような巻き芯11を使用することにより、たとえば幅1000〜4000mm、長さ2000〜10000m、厚み10〜200μmの長尺状のフィルムを外周面に巻き回してフィルム原反とすることができる。   The magnitude | size of the winding core 11 is not specifically limited, For example, it can be set as internal diameter 100-1000mm, thickness 2-10mm, and length 1500-5000mm. By using such a core 11, for example, a long film having a width of 1000 to 4000 mm, a length of 2000 to 10000 m, and a thickness of 10 to 200 μm can be wound around the outer peripheral surface to form a film original.

巻き芯11の両面(外周面および内周面)には、導電性の表面層(表面層12および表面層13が形成される。コア部材10は、導電性の表面層を備えることにより、外周面に巻き回される長尺状のフィルムの帯電を抑制することができる。   Conductive surface layers (a surface layer 12 and a surface layer 13 are formed on both surfaces (outer peripheral surface and inner peripheral surface) of the winding core 11. The core member 10 has an outer peripheral surface by including a conductive surface layer. The charging of the long film wound around the surface can be suppressed.

巻き芯11の外周面は、均一にフィルムを巻きまわすことができ、かつ、巻き回されるフィルムの光学特性を低下させないように、外周面の表面粗さが小さくされることが好ましい。たとえば、外周面に設けられた表面層の表面粗さは0.05〜1.0μmに調整されることが好ましい。   It is preferable that the outer peripheral surface of the winding core 11 has a small surface roughness so that the film can be uniformly wound and the optical properties of the wound film are not deteriorated. For example, the surface roughness of the surface layer provided on the outer peripheral surface is preferably adjusted to 0.05 to 1.0 μm.

一方、内周面は、表面粗さが外周面の表面粗さよりも大きくなるよう調整される。たとえば、内周面に設けられた表面層の表面粗さは、1.0μm〜30.0μmに調整されることが好ましく、10.0〜30.0μmに調整されることがより好ましく、20.0〜30.0μmに調整されることがさらに好ましい。コア部材10は、このように内周面に設けられた表面層13の表面粗さが外周面に設けられた表面層12の表面粗さよりも大きくなるよう調整されているため、上記した導電性の表面層の比表面積を従来よりも大きくすることができ、巻き回される長尺フィルムの帯電を防止することができる。   On the other hand, the inner peripheral surface is adjusted so that the surface roughness is larger than the surface roughness of the outer peripheral surface. For example, the surface roughness of the surface layer provided on the inner peripheral surface is preferably adjusted to 1.0 μm to 30.0 μm, more preferably adjusted to 10.0 to 30.0 μm, and 20. More preferably, it is adjusted to 0 to 30.0 μm. Since the core member 10 is adjusted so that the surface roughness of the surface layer 13 provided on the inner peripheral surface is larger than the surface roughness of the surface layer 12 provided on the outer peripheral surface, the above-described conductivity is provided. The specific surface area of the surface layer can be made larger than before, and charging of the wound long film can be prevented.

内周面に設けられた表面層13の表面粗さが外周面に設けられた表面層12の表面粗さよりも大きくなるように調整する方法としては特に限定されず、たとえば、内周面と外周面との表面層を同程度の表面粗さに調整した後に、コア内部をサンドペーパーを巻きつけた棒状のもので擦る方法や、粒径が1mm以下の砂をコア内部に吹き付ける方法等により内周面に設けられた表面層13の表面粗さを大きくすることができる。このような方法により、たとえば、表面粗さを調整する前後において、内周面の比表面積を、1.1〜2.0倍にすることができる。   The method for adjusting the surface roughness of the surface layer 13 provided on the inner peripheral surface to be larger than the surface roughness of the surface layer 12 provided on the outer peripheral surface is not particularly limited. After adjusting the surface layer with the surface to the same degree of surface roughness, the inside of the core can be rubbed with a rod-like object wrapped with sandpaper, or sand with a particle size of 1 mm or less can be blown into the core. The surface roughness of the surface layer 13 provided on the peripheral surface can be increased. By such a method, for example, the specific surface area of the inner peripheral surface can be 1.1 to 2.0 times before and after adjusting the surface roughness.

なお、内周面に設けられた表面層13において、このように表面粗さを調整する場所は特に限定されない。すなわち、内周面に設けられた表面層13の一部について表面粗さを調整してもよく、全部について表面粗さを調整してもよい。   In addition, in the surface layer 13 provided in the internal peripheral surface, the place which adjusts surface roughness in this way is not specifically limited. That is, the surface roughness may be adjusted for a part of the surface layer 13 provided on the inner peripheral surface, or the surface roughness may be adjusted for all.

導電性の表面層を形成する方法としては特に限定されない。たとえば、市販されている静電防止剤を塗布、乾燥させる方法を採用することができる。静電防止剤としては各種イオン系界面活性剤やフッ素系界面活性剤に代表される非イオン系界面活性剤が一般的であるが、これに限定されず、静電防止効果があるものであれば何でもよく、たとえば導電性ポリマーや金属を含有した樹脂等を採用することができる。具体的には、ムロマチテクノス(株)製MU−003、イチコウエンジニアリング(株)製MX−50、アキレス(株)製SL−10などを採用することができる。   The method for forming the conductive surface layer is not particularly limited. For example, a method of applying and drying a commercially available antistatic agent can be employed. As the antistatic agent, various ionic surfactants and nonionic surfactants typified by fluorine surfactants are generally used, but not limited thereto, and those having an antistatic effect. Any resin may be used, for example, a conductive polymer or a resin containing a metal can be employed. Specifically, MU-003 manufactured by Muromachi Technos Co., Ltd., MX-50 manufactured by Ichiko Engineering Co., Ltd., SL-10 manufactured by Achilles Co., Ltd., and the like can be employed.

静電防止剤の静電効果としては、表面抵抗値を1×1010Ω以下とすることが好ましく、1×10Ω以下とすることがより好ましく、1×10Ω以下とすることがさらに好ましい。そのため、静電防止剤の塗布厚みは特に限定されず、静電効果を充分に発揮できる厚みであればよい。たとえば、厚みは、0.001μm以上、好ましくは0.01μm以上、より好ましくは0.1μm以上とすることができる。また、ここでの表面抵抗値は、一般的な抵抗率計で測定することができ、例えば、Monroe Electronics社製のポータブル表面抵抗率/抵抗計272A等を用いて測定することができる。 The electrostatic effects of antistats, it is preferable that the surface resistance value and 1 × 10 10 Ω or less, more preferably, to less 1 × 10 8 Ω, be less 1 × 10 7 Ω Further preferred. Therefore, the application thickness of the antistatic agent is not particularly limited as long as it can sufficiently exhibit the electrostatic effect. For example, the thickness can be 0.001 μm or more, preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.1 μm or more. The surface resistance value here can be measured with a general resistivity meter, for example, using a portable surface resistivity / resistance meter 272A manufactured by Monroe Electronics.

コア部材10は、外周面に後述する長尺状の樹脂フィルムがロール状に巻き回されて樹脂フィルム原反とされる。   The core member 10 has a long resin film, which will be described later, wound around the outer peripheral surface in a roll shape to form a resin film original.

<樹脂フィルム原反>
図2は、本実施形態の樹脂フィルム原反20の概略的な模式図であり、図2(a)は、樹脂フィルム原反20の概略的な斜視図であり、図2(b)は、樹脂フィルム原反20の保存状態を説明する概略的な斜視図であり、図2(c)は、樹脂フィルム原反20の保存状態を説明する概略的な平面図である。
<Resin film stock>
FIG. 2 is a schematic schematic view of the resin film original fabric 20 of the present embodiment, FIG. 2 (a) is a schematic perspective view of the resin film original fabric 20, and FIG. FIG. 2C is a schematic perspective view illustrating a storage state of the resin film original fabric 20, and FIG. 2C is a schematic plan view illustrating a storage state of the resin film original fabric 20.

図2(a)に示されるように、樹脂フィルム原反20は、上記した円筒状のコア部材10と、コア部材10の外周面にロール状に巻き回された長尺状の樹脂フィルム21とを備える。また、樹脂フィルム原反20は、図2(b)および図2(c)に示されるように、コア部材10の両端部を軸支可能な保持部22を備えた架台23に載置する方法等により保存される。従来の樹脂フィルム原反では、このように、樹脂フィルム原反20を保存したり、この樹脂フィルム原反20から樹脂フィルム21を巻き出したりする際に、樹脂フィルム21が帯電していた。しかしながら、本実施形態の樹脂フィルム原反20は、上記したコア部材10を用いるため、このような保存時や巻き出し時における樹脂フィルム21の帯電が抑制される。   As shown in FIG. 2A, the resin film original fabric 20 includes the above-described cylindrical core member 10 and a long resin film 21 wound around the outer peripheral surface of the core member 10 in a roll shape. Is provided. Further, as shown in FIGS. 2B and 2C, the resin film original fabric 20 is placed on a pedestal 23 provided with holding portions 22 that can pivotally support both ends of the core member 10. Saved by etc. In the conventional resin film original fabric, the resin film 21 is charged when the resin film original fabric 20 is stored or when the resin film 21 is unwound from the resin film original fabric 20 as described above. However, since the resin film original fabric 20 of the present embodiment uses the core member 10 described above, charging of the resin film 21 during such storage and unwinding is suppressed.

樹脂フィルム21をコア部材10に巻き取る方法は特に限定されず、従来公知の方法により巻き取ることができる。具体的には、たとえば、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。巻き取り張力としては、30〜400N/mとすることができ、好ましくは、100〜300N/mとすることができる。   The method for winding the resin film 21 around the core member 10 is not particularly limited, and can be wound by a conventionally known method. Specifically, it can be wound by a winding method such as a constant tension method, a constant torque method, a taper tension method, a program tension control method with a constant internal stress, or the like. The winding tension may be 30 to 400 N / m, and preferably 100 to 300 N / m.

また、巻き取られたフィルムの大きさは特に限定されず、たとえば幅1000〜4000mm、長さ1000〜10000m、厚み10〜200μmの長尺状のフィルムをコア部材10に巻く取ることができる。   The size of the wound film is not particularly limited. For example, a long film having a width of 1000 to 4000 mm, a length of 1000 to 10000 m, and a thickness of 10 to 200 μm can be wound around the core member 10.

(樹脂フィルム)
樹脂フィルム21を構成する樹脂としては特に限定されず、たとえば、光学フィルムの基材として用いられる樹脂が挙げられる。具体的には、たとえば、セルロースジアセテート樹脂、セルローストリアセテート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、セルロースアセテートプロピオネート樹脂等のセルロースエステル系樹脂;ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂;ポリメチルメタクリレート樹脂等のアクリル系樹脂;ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、セロファン、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、シンジオタクティックポリスチレン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリメチルペンテン樹脂等のビニル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;ポリアリレート系樹脂;ポリエーテルケトン樹脂;ポリエーテルケトンイミド樹脂;ポリアミド系樹脂;フッ素系樹脂等を挙げることができる。これらの原料は単独で用いても良いし、2種以上を混合して用いてもよい。
(Resin film)
It does not specifically limit as resin which comprises the resin film 21, For example, resin used as a base material of an optical film is mentioned. Specifically, for example, cellulose ester resins such as cellulose diacetate resin, cellulose triacetate resin, cellulose acetate butyrate resin, and cellulose acetate propionate resin; polyester resins such as polyethylene terephthalate resin and polyethylene naphthalate resin; Acrylic resins such as methyl methacrylate resin; polysulfone (including polyethersulfone) resin, polyethylene resin, polypropylene resin, cellophane, polyvinylidene chloride resin, polyvinyl alcohol resin, ethylene vinyl alcohol resin, syndiotactic polystyrene resin, cyclohexane Vinyl resins such as olefin resins and polymethylpentene resins; polycarbonate resins; polyarylate resins; polyether ketone trees ; It can be mentioned fluorine-based resin or the like; polyether ketone imide resin; polyamide resin. These raw materials may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、温度23℃、相対湿度75%における吸水率が2.0%以下である樹脂フィルム21を使用することが好ましく、1.5%以下である樹脂フィルム21を使用することがより好ましく、1.0%以下である樹脂フィルム21を使用することがさらに好ましい。吸水率の下限は特に限定されず、光学フィルムの要求品質に応じて適宜設定することができる。このように、吸水率が2.0%以下の樹脂フィルム21は、一般に吸水率が低いため帯電しやすいが、本実施形態の樹脂フィルム原反20は、上記したコア部材10を備えるため、このような低吸湿のフィルムをコア部材10に巻き回した場合であっても、帯電を抑制することができる。そのため、低透湿、低吸湿フィルムを偏光板の保護フィルムとして使用した場合においても光学ムラの発生を充分に抑制することができる。なお、吸水率は、(株)フジワーク製の光学式水分計(IM−3SCV MODEL−1900)等を用いて測定することができる。   Among these, it is preferable to use the resin film 21 having a water absorption rate of 2.0% or less at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 75%, and more preferably using the resin film 21 having a water absorption rate of 1.5% or less. More preferably, the resin film 21 is 1.0% or less. The lower limit of the water absorption rate is not particularly limited, and can be appropriately set according to the required quality of the optical film. As described above, the resin film 21 having a water absorption rate of 2.0% or less is generally easily charged due to the low water absorption rate. However, since the resin film original fabric 20 of the present embodiment includes the core member 10 described above, Even when such a low moisture absorption film is wound around the core member 10, charging can be suppressed. Therefore, even when a low moisture permeability and low moisture absorption film is used as a protective film for a polarizing plate, the occurrence of optical unevenness can be sufficiently suppressed. The water absorption rate can be measured using an optical moisture meter (IM-3SCV MODEL-1900) manufactured by Fuji Work Co., Ltd.

吸水率が2.0%以下の樹脂フィルム21としては、たとえば、ポリメチルメタクリレートを含有するポリアクリル樹脂(吸水率約1.2%)、ポリイミド樹脂(吸水率約1.3%)が挙げられる。   Examples of the resin film 21 having a water absorption rate of 2.0% or less include a polyacrylic resin (water absorption rate of about 1.2%) and a polyimide resin (water absorption rate of about 1.3%) containing polymethyl methacrylate. .

上記樹脂フィルム21は、必要に応じてポリマー系添加剤を配合することができる。これにより、樹脂フィルム原反20から巻き出した樹脂フィルム21上に後述する機能層を形成して、光学フィルムを作製すると、光学ムラの発生をさらに抑制した光学フィルムが得られ得る。   The resin film 21 can be blended with a polymer additive as necessary. Thereby, when the functional layer mentioned later is formed on the resin film 21 unwound from the resin film original fabric 20, and an optical film is produced, the optical film which further suppressed generation | occurrence | production of an optical nonuniformity may be obtained.

ポリマー系添加剤は、特に限定されないが、たとえば、樹脂フィルム21に含有させることによって、その性状を、光学フィルムの基材として好適なものに変質させることができるもの等が挙げられる。本実施形態におけるポリマー系添加剤は、数平均分子量が200以上50000以下のものを含み、好ましくは300以上10000以下の範囲であり、さらに好ましくは300〜5000の範囲のものが用いられる。具体的には、ポリエステル系可塑剤やアクリル樹脂系可塑剤等の、比較的高分子量の可塑剤等が挙げられる。この中でも、ポリエステル系可塑剤が好ましい。   Although a polymer type additive is not specifically limited, For example, the thing etc. which can change the property to the thing suitable as a base material of an optical film by making it contain in the resin film 21 are mentioned. The polymer-based additive in the present embodiment includes those having a number average molecular weight of 200 or more and 50000 or less, preferably 300 or more and 10,000 or less, and more preferably 300 to 5000. Specific examples include relatively high molecular weight plasticizers such as polyester plasticizers and acrylic resin plasticizers. Among these, a polyester plasticizer is preferable.

ポリエステル系可塑剤とは、少なくとも1種の多塩基酸と少なくとも1種の多価アルコールとを重縮合したものであり、好ましくは1種の二塩基酸と少なくとも1種の二価アルコールとを重縮合したものである。二塩基酸としては、脂肪族の二塩基酸および芳香族の二塩基酸のいずれでもよく、脂肪族の二塩基酸としては、脂肪族ジカルボン酸である、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、マレイン酸またはフマル酸等が好ましく用いられ、芳香族二塩基酸としては、芳香族ジカルボン酸であるフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,8−ナフタレンジカルボン酸、2,8−ナフタレンジカルボン酸または2,6−ナフタレンジカルボン酸等が好ましく用いられる。二価アルコールとしては、二価の脂肪族アルコール(脂肪族ジオール)および二価の芳香族アルコール(芳香族環含有ジオール)のいずれでもよいが、脂肪族ジオールが好ましい。脂肪族ジオールとしては、エタンジオール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、1,4−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオールまたは1,4−シクロヘキサンジメタノール等が好ましく用いられ、芳香族環含有ジオールとしてはビスフェノールA、1,4−ジヒドロキシフノールまたはベンゼン-1,4-ジメタノール等が好ましく用いられる。また、ポリエステル系可塑剤の末端は、未封止でも封止されていてもよいが、封止される場合は、炭素数1〜22の脂肪族基、炭素数6〜20の芳香族環含有基から選ばれた置換基で封止されることが好ましく、中でもモノアルコール残基やモノカルボン酸残基が好ましい。モノアルコール残基としては炭素数1〜30の置換、無置換のモノアルコール残基が好ましく、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、イソヘキサノール、シクロヘキシルアルコール、オクタノール、イソオクタノール、2−エチルヘキシルアルコール、ノニルアルコール、イソノニルアルコール、tert−ノニルアルコール、デカノール、ドデカノール、ドデカヘキサノール、ドデカオクタノール、アリルアルコール、オレイルアルコールなどの脂肪族アルコール、ベンジルアルコール、3−フェニルプロパノールなどの置換アルコールなどが挙げられ、さらに、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、イソペンタノール、ヘキサノール、イソヘキサノール、シクロヘキシルアルコール、イソオクタノール、2−エチルヘキシルアルコール、イソノニルアルコール、オレイルアルコール、ベンジルアルコールであることが好ましく、メタノール、エタノール、プロパノール、イソブタノール、シクロヘキシルアルコール、2−エチルヘキシルアルコール、イソノニルアルコール、ベンジルアルコールであることが特に好ましい。また、モノカルボン酸残基として使用されるモノカルボン酸としては、炭素数1〜30の置換、無置換のモノカルボン酸が好ましい。これらは、脂肪族モノカルボン酸でも芳香族環含有カルボン酸でもよい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸が挙げられ、好ましい芳香族環含有モノカルボン酸としては、たとえば安息香酸、p−tert−ブチル安息香酸、p−tert−アミル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等が挙げられ、これらはそれぞれ1種単独で用いても2種以上を使用してもよい。   The polyester-based plasticizer is a product obtained by polycondensation of at least one polybasic acid and at least one polyhydric alcohol. Preferably, one polybasic acid and at least one dihydric alcohol are polymerized. Condensed. The dibasic acid may be either an aliphatic dibasic acid or an aromatic dibasic acid, and the aliphatic dibasic acid may be an aliphatic dicarboxylic acid such as malonic acid, succinic acid, glutaric acid, or adipine. Acid, sebacic acid, azelaic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, maleic acid or fumaric acid are preferably used. As the aromatic dibasic acid, aromatic dicarboxylic acid phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 1,5- Naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,8-naphthalenedicarboxylic acid, 2,8-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and the like are preferably used. The dihydric alcohol may be either a divalent aliphatic alcohol (aliphatic diol) or a divalent aromatic alcohol (aromatic ring-containing diol), but an aliphatic diol is preferred. Aliphatic diols include ethanediol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1, 4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 1,4-hexanediol, 1,4-cyclohexanediol or 1,4-cyclohexanedi Methanol is preferably used, and bisphenol A, 1,4-dihydroxyfunol or benzene-1,4-dimethanol is preferably used as the aromatic ring-containing diol. Moreover, although the terminal of a polyester plasticizer may be unsealed or sealed, when sealed, it contains an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms and an aromatic ring having 6 to 20 carbon atoms. It is preferably sealed with a substituent selected from a group, and among them, a monoalcohol residue or a monocarboxylic acid residue is preferable. As the monoalcohol residue, a substituted or unsubstituted monoalcohol residue having 1 to 30 carbon atoms is preferable. Methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, pentanol, isopentanol, hexanol, isohexanol, cyclohexyl Alcohol, octanol, isooctanol, 2-ethylhexyl alcohol, nonyl alcohol, isononyl alcohol, tert-nonyl alcohol, decanol, dodecanol, dodecahexanol, aliphatic alcohol such as dodecaoctanol, allyl alcohol, oleyl alcohol, benzyl alcohol, 3- And substituted alcohols such as phenylpropanol, and methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butano , Isobutanol, isopentanol, hexanol, isohexanol, cyclohexyl alcohol, isooctanol, 2-ethylhexyl alcohol, isononyl alcohol, oleyl alcohol, benzyl alcohol, methanol, ethanol, propanol, isobutanol, cyclohexyl Particularly preferred are alcohol, 2-ethylhexyl alcohol, isononyl alcohol, and benzyl alcohol. Moreover, as monocarboxylic acid used as a monocarboxylic acid residue, a C1-C30 substituted and unsubstituted monocarboxylic acid is preferable. These may be aliphatic monocarboxylic acids or aromatic ring-containing carboxylic acids. Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butanoic acid, caprylic acid, caproic acid, decanoic acid, dodecanoic acid, stearic acid, oleic acid, and preferred aromatic ring-containing monocarboxylic acids include, for example, Benzoic acid, p-tert-butylbenzoic acid, p-tert-amylbenzoic acid, orthotoluic acid, metatoluic acid, p-toluic acid, dimethylbenzoic acid, ethylbenzoic acid, normal propylbenzoic acid, aminobenzoic acid, acetoxybenzoic acid, etc. Each of these may be used alone or in combination of two or more.

(樹脂フィルムの製造方法)
樹脂フィルムは、たとえば、溶液流延製膜法等により作製することができる。これにより、膜厚が均一であって、光学フィルムとして好適に使用し得る樹脂フィルムが得られ得る。
(Method for producing resin film)
The resin film can be produced by, for example, a solution casting film forming method. Thereby, the film thickness is uniform and a resin film that can be suitably used as an optical film can be obtained.

溶液流延製膜法とは、上記樹脂を溶解した樹脂溶液(ドープ)を、走行する支持体上に流延して流延膜(ウェブ)を形成する流延工程と、前記流延膜を前記支持体から剥離する剥離工程と、剥離した流延膜を乾燥させる乾燥工程とを備える製膜法である。樹脂フィルムは、たとえば、図3に示される樹脂フィルムの製造装置30により作製される。図3は、溶液流延法による樹脂フィルムの製造装置30の基本的な構成を示す概略図である。なお、図3に示される樹脂フィルムの製造装置30は例示であり、樹脂フィルムの製造装置30の構成はこれに限定されない。   The solution casting film forming method is a casting process in which a resin solution (dope) in which the above resin is dissolved is cast on a traveling support to form a casting film (web), and the casting film is It is a film-forming method provided with the peeling process which peels from the said support body, and the drying process which dries the cast film which peeled. The resin film is produced, for example, by a resin film manufacturing apparatus 30 shown in FIG. FIG. 3 is a schematic view showing a basic configuration of a resin film manufacturing apparatus 30 by a solution casting method. The resin film manufacturing apparatus 30 shown in FIG. 3 is merely an example, and the configuration of the resin film manufacturing apparatus 30 is not limited thereto.

図3に示されるように、樹脂フィルムの製造装置30は、無端ベルト支持体31、流延ダイ32、剥離ローラ33、乾燥装置34、および巻取装置35等を備える。流延ダイ32は、樹脂を溶解した樹脂溶液36を無端ベルト支持体31の表面上に流延する。無端ベルト支持体31は、一対の駆動ローラおよび従動ローラによって駆動可能に支持される。流延ダイ32から流延された樹脂溶液36は、流延膜を形成し、搬送されながら乾燥される。剥離ローラ33は、乾燥された流延膜を無端ベルト支持体31から剥離する。剥離された流延膜は、乾燥装置34によってさらに乾燥され、樹脂フィルムとして巻取装置35に巻き取られる。   As shown in FIG. 3, the resin film manufacturing apparatus 30 includes an endless belt support 31, a casting die 32, a peeling roller 33, a drying device 34, a winding device 35, and the like. The casting die 32 casts a resin solution 36 in which a resin is dissolved onto the surface of the endless belt support 31. The endless belt support 31 is supported by a pair of drive rollers and driven rollers so as to be driven. The resin solution 36 cast from the casting die 32 forms a casting film and is dried while being conveyed. The peeling roller 33 peels the dried cast film from the endless belt support 31. The peeled cast film is further dried by the drying device 34 and wound around the winding device 35 as a resin film.

樹脂フィルムは、溶液流延製膜法によって形成された樹脂フィルムに限定されず、溶融流延製膜法によって形成された樹脂フィルムであってもよい。   The resin film is not limited to a resin film formed by a solution casting film forming method, and may be a resin film formed by a melt casting film forming method.

また、樹脂フィルム原反の製造方法は、コア部材と、そのコア部材の外周面にロール状に巻き回された長尺状の樹脂フィルムとを備える樹脂フィルム原反を製造することができる方法であれば、特に限定されない。具体的には、コア部材を回転させ、その回転しているコア部材の外周面上に、樹脂フィルムを供給することによって、コア部材の外周面上に樹脂フィルムを巻き取る方法等が挙げられる。そうすることによって、長尺状の樹脂フィルムが、コア部材の外周面上にロール状に巻き回された樹脂フィルム原反が得られ得る。具体的には、コア部材を巻取装置に設置し、巻取装置でコア部材を回転させる方法等が挙げられる。より具体的には、図3に示されるような溶液流延製膜法による樹脂フィルムの製造装置30の巻取装置35を用いる方法等が挙げられる。   Moreover, the manufacturing method of a resin film original fabric is a method which can manufacture the resin film original fabric provided with the core member and the elongate resin film wound by roll shape on the outer peripheral surface of the core member. If there is, it will not be specifically limited. Specifically, a method of winding the resin film on the outer peripheral surface of the core member by rotating the core member and supplying the resin film onto the outer peripheral surface of the rotating core member can be mentioned. By doing so, the resin film original fabric by which the elongate resin film was wound by roll shape on the outer peripheral surface of the core member may be obtained. Specifically, the core member is installed in a winding device, and the core member is rotated by the winding device. More specifically, a method using a winding device 35 of a resin film manufacturing apparatus 30 by a solution casting film forming method as shown in FIG.

このように製造された樹脂フィルム原反から樹脂フィルムが巻き出され、後述する機能層が形成されて光学フィルムが作製される。   The resin film is unwound from the resin film raw material thus manufactured, and a functional layer described later is formed to produce an optical film.

<光学フィルムの製造方法>
本実施形態の光学フィルムの製造方法は、上記樹脂フィルム原反から樹脂フィルムを巻き出す工程(巻出工程)と、巻き出された樹脂フィルム上に塗布液を塗布して機能層を形成する工程(機能層形成工程)とを備える。なお、本実施形態の光学フィルムの製造方法は、巻出工程および機能層形成工程を備える方法であればよく、これ以外の工程については特に限定されない。
<Method for producing optical film>
The method for producing an optical film of the present embodiment includes a step of unwinding a resin film from the resin film original (unwinding step) and a step of forming a functional layer by applying a coating liquid on the unwound resin film. (Functional layer forming step). In addition, the manufacturing method of the optical film of this embodiment should just be a method provided with the unwinding process and a functional layer formation process, and it does not specifically limit about other processes.

本実施形態の光学フィルムは、たとえば、図4に示される光学フィルムの製造装置40を用いて作製される。図4は、光学フィルムの製造装置40の基本的な構成を示す概略図である。なお、図4に示される光学フィルムの製造装置40は例示であり、光学フィルムの製造装置40の構成はこれに限定されない。また、形成させる機能層の種類によっても、異なる構成を採用することができる。   The optical film of this embodiment is produced using the optical film manufacturing apparatus 40 shown by FIG. 4, for example. FIG. 4 is a schematic view showing a basic configuration of the optical film manufacturing apparatus 40. The optical film manufacturing apparatus 40 shown in FIG. 4 is merely an example, and the configuration of the optical film manufacturing apparatus 40 is not limited to this. Different configurations can be employed depending on the type of functional layer to be formed.

光学フィルムの製造装置40は、巻出装置41、塗布装置42、温度調整装置(温度調整装置43および温度調整装置44)、硬化装置45、および巻取装置46を備える。巻出工程は、巻出装置41により実施され、機能層形成工程は、塗布装置42により実施される。なお、塗布液の種類によっては、温度調整装置や硬化装置45が省略されることもある。   The optical film manufacturing apparatus 40 includes an unwinding device 41, a coating device 42, a temperature adjusting device (a temperature adjusting device 43 and a temperature adjusting device 44), a curing device 45, and a winding device 46. The unwinding process is performed by the unwinding apparatus 41, and the functional layer forming process is performed by the coating apparatus 42. Depending on the type of coating solution, the temperature adjustment device and the curing device 45 may be omitted.

巻出装置41は、たとえば、樹脂フィルム原反から樹脂フィルムを回転させることにより巻き出して、塗布装置42等に供給する。   For example, the unwinding device 41 unwinds the resin film by rotating it from the raw resin film and supplies it to the coating device 42 and the like.

樹脂を巻き出す方法としては特に限定されず、たとえば、樹脂フィルム原反のコア部材を巻出装置41に設置し、樹脂フィルムを巻き取るときとは反対方向に回転させて、樹脂フィルム原反から樹脂フィルムを巻き出す方法等を採用することができる。   The method for unwinding the resin is not particularly limited. For example, the resin film original fabric core member is installed in the unwinding device 41 and rotated in the direction opposite to the direction of winding the resin film. A method of unwinding a resin film or the like can be employed.

塗布装置42は、巻出装置41から供給された樹脂フィルムの表面に、機能層を構成する材料を含む塗布液を塗布して機能層を形成する。塗布装置42は特に限定されず、たとえば、グラビアコータ、スピナーコータ、ワイヤーバーコータ、ロールコータ、リバースコータ、押出コータ、エアードクターコータ、ダイコータ、ディップコータおよびインクジェット装置等の塗布装置42を使用することができる。樹脂フィルム上に複数の層を塗布する場合には、マルチマニホールドを有するエクストルージョンダイのように一台の塗布装置42で多層同時塗布してもよく、また、1層を塗布する塗布装置42を複数並べて逐次塗布してもよい。   The coating device 42 applies a coating solution containing a material constituting the functional layer to the surface of the resin film supplied from the unwinding device 41 to form the functional layer. The coating device 42 is not particularly limited. For example, a coating device 42 such as a gravure coater, spinner coater, wire bar coater, roll coater, reverse coater, extrusion coater, air doctor coater, die coater, dip coater, and inkjet device is used. Can do. When applying a plurality of layers on a resin film, multiple coatings may be applied simultaneously with a single coating device 42, such as an extrusion die having a multi-manifold. A plurality of them may be sequentially applied.

塗布液を塗布して形成される機能層は、光学フィルムとして求められる性能を発揮させるための層であれば特に限定されない。具体的には、機能層としては、ハードコート層、反射防止層、防眩層および液晶層(光学異方性層)等が挙げられる。光学フィルムは、樹脂フィルム上に、これらの機能層のうち1種類を形成したものであってもよいし、2種類以上の機能層を積層したものであってもよい。   The functional layer formed by applying the coating liquid is not particularly limited as long as it is a layer for exhibiting performance required as an optical film. Specifically, examples of the functional layer include a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and a liquid crystal layer (optically anisotropic layer). The optical film may be one in which one of these functional layers is formed on a resin film, or may be a laminate of two or more functional layers.

(ハードコート層)
ハードコート層は、フィルムの耐擦傷性を向上させるための層である。ハードコート層は、たとえば、活性線硬化樹脂層であることが好ましい。活性線硬化樹脂層とは、紫外線や電子線のような活性線の照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂である活性線硬化樹脂を主たる成分とする層をいう。
(Hard coat layer)
The hard coat layer is a layer for improving the scratch resistance of the film. The hard coat layer is preferably an actinic radiation curable resin layer, for example. The actinic radiation curable resin layer refers to a layer mainly composed of actinic radiation curable resin, which is a resin that cures through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams.

活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む樹脂が挙げられる。これらは、紫外線や電子線のような活性線を照射することにより硬化する。紫外線硬化性樹脂としては、たとえば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が挙げられる。   Examples of the actinic radiation curable resin include a resin containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond. These are cured by irradiating active rays such as ultraviolet rays and electron beams. Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, and an ultraviolet curable epoxy resin. It is done.

紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートはメタクリレートを包含するものとする)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって得られるものを挙げることができ、たとえば、特開昭59−151110号公報に記載のものを挙げることができる。   In general, UV curable urethane acrylate resins include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate) in addition to products obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer. And those obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate, such as those described in JP-A-59-151110. Can do.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に得られるものを挙げることができ、たとえば、特開昭59−151112号公報に記載のものを挙げることができる。   Examples of the UV curable polyester acrylate resin include those that can be easily obtained by reacting a polyester polyol with 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxy acrylate monomer. For example, JP-A-59-151112 Can be mentioned.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、たとえば、特開平1−105738号公報に記載のものを挙げることができる。   Examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include those produced by reacting an epoxy acrylate with an oligomer and adding a reactive diluent and a photoreaction initiator to the oligomer. For example, JP-A-1-105738 Can be mentioned.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。   Examples of ultraviolet curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and the like. it can.

(反射防止層)
反射防止層は、ハードコート層を高屈折率化し、その上に低屈折率薄膜を設ける等、各層の屈折率や層厚を制御することで機能を付与される層であり、反射率を低くすることにより表示画面への外部の物の映りこみを防止する層である。
(Antireflection layer)
The antireflection layer is a layer that is given a function by controlling the refractive index and layer thickness of each layer, such as increasing the refractive index of the hard coat layer and providing a low refractive index thin film thereon, and lowering the reflectance. This prevents the external object from being reflected on the display screen.

反射防止層としては、たとえば、ハードコート層よりも屈折率の小さい低屈折率層を積層したもの、無機化合物からなる低屈折率層と無機化合物からなる高屈折率層とを繰り返し積層したもの、などを挙げることができる。   Examples of the antireflection layer include those obtained by laminating a low refractive index layer having a refractive index smaller than that of the hard coat layer, those obtained by repeatedly laminating a low refractive index layer made of an inorganic compound and a high refractive index layer made of an inorganic compound, And so on.

低屈折率層を形成する材料としては、フィルムまたはハードコート層よりも屈折率の低いものであれば特に限定されないが、たとえば、紫外線硬化型アクリル樹脂等の樹脂系材料、樹脂中に中空シリカや、コロイダルシリカ等の無機微粒子を分散させたハイブリッド系材料、テトラエトキシシラン等の金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル系材料等が挙げられる。   The material for forming the low refractive index layer is not particularly limited as long as it has a refractive index lower than that of the film or the hard coat layer. For example, resin materials such as ultraviolet curable acrylic resins, hollow silica or And hybrid materials in which inorganic fine particles such as colloidal silica are dispersed, sol-gel materials using metal alkoxides such as tetraethoxysilane, and the like.

(防眩層)
防眩層は、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、画像表示装置等の使用時に反射像の映り込みが気にならないようにするための層であり、表面に適切な凹凸を設けることによって形成される。
(Anti-glare layer)
The anti-glare layer is a layer that reduces the visibility of the reflected image by blurring the outline of the image reflected on the surface so that the reflected image does not appear when using an image display device or the like. It is formed by providing appropriate irregularities on the surface.

このような凹凸を形成する方法としては、フィルムへの防眩層の塗設が挙げられる。凹凸形状としては、直円錐、斜円錐、角錐、斜角錐、楔型、凸多角体、半球状等から選ばれる構造、ならびにそれらの部分形状を有する構造が挙げられる。   Examples of a method for forming such irregularities include the application of an antiglare layer to a film. Examples of the concavo-convex shape include a structure selected from a right cone, a diagonal cone, a pyramid, a diagonal pyramid, a wedge shape, a convex polygon, a hemisphere, and the like, and a structure having a partial shape thereof.

防眩層の凹凸形状の粗さは、JIS B0601:2001で規定される算術平均粗さ(Ra)が60〜700nmであることが好ましく、80〜400nmであることがより好ましい。Raが60nm未満の場合、防眩性の効果が弱くなる傾向があり、Raが700nmを超える場合、目視で粗すぎる印象を受ける傾向がある。なお、Raは、光干渉式の表面粗さ測定器で測定することができ、たとえば光学干渉式表面粗さ計RST/PLUS(WYKO社製)を用いて測定することができる。   The roughness of the uneven shape of the antiglare layer is preferably an arithmetic average roughness (Ra) defined by JIS B0601: 2001, more preferably 60 to 700 nm, and more preferably 80 to 400 nm. When Ra is less than 60 nm, the antiglare effect tends to be weakened, and when Ra exceeds 700 nm, there is a tendency to receive an impression that is too rough visually. In addition, Ra can be measured with an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured using, for example, an optical interference type surface roughness meter RST / PLUS (manufactured by WYKO).

(液晶層(光学異方性層))
液晶層(光学異方性層)は、液晶分子をフィルム上に塗工し固定化して得られる層であり、フィルムに光学異方性を付与するための層である。
(Liquid crystal layer (optically anisotropic layer))
The liquid crystal layer (optically anisotropic layer) is a layer obtained by applying and fixing liquid crystal molecules on a film, and is a layer for imparting optical anisotropy to the film.

液晶層を構成する液晶材料としては特に限定されず、たとえば、棒状の分子構造を有する液晶性化合物や、円盤状の分子構造を有する液晶性化合物(ディスコチック液晶化合物ともいう)等を使用することができる。このような液晶性化合物としては、特開2006−285187号公報に記載の化合物等を用いることができ、液晶性化合物の配向方向等については、用途に応じて適宜調整することが可能である。   The liquid crystal material constituting the liquid crystal layer is not particularly limited. For example, a liquid crystal compound having a rod-like molecular structure or a liquid crystal compound having a disc-like molecular structure (also referred to as a discotic liquid crystal compound) is used. Can do. As such a liquid crystalline compound, the compounds described in JP-A-2006-285187 can be used, and the orientation direction of the liquid crystalline compound can be appropriately adjusted depending on the application.

巻出装置41により巻き出されるフィルムは、上記したコア部材を備える樹脂フィルム原反に巻き回されていたため、フィルムの帯電が抑制されている。そのため、塗布装置42は、各種機能層を形成するための塗布液を均一に塗布することができる。   Since the film unwound by the unwinding device 41 is wound around the resin film original provided with the core member described above, charging of the film is suppressed. Therefore, the coating apparatus 42 can apply | coat the coating liquid for forming various functional layers uniformly.

温度調整装置は、樹脂フィルム上に塗布された塗布液の層に対して、加熱処理や冷却処理を施す。たとえば、温度調整装置43は、樹脂フィルム上に塗布された塗布液を加熱して乾燥させる。次いで、温度調整装置44は、塗布液を冷却して、硬化処理前に塗布液の層の粘度を上昇させる。   The temperature adjusting device performs a heat treatment or a cooling treatment on the coating liquid layer applied on the resin film. For example, the temperature adjustment device 43 heats and dries the coating solution applied on the resin film. Next, the temperature adjusting device 44 cools the coating solution to increase the viscosity of the coating solution layer before the curing process.

硬化装置45は、加熱処理や冷却処理が施された塗布液の層に対して、硬化処理を施す。たとえば、硬化装置45は、紫外線等の活性線を塗布液の層に照射したり、上記した温度調整装置43による加熱よりも高温の加熱処理等を施す。これにより、樹脂フィルム上に機能層が形成された光学フィルムが得られる。   The curing device 45 performs a curing process on the coating liquid layer that has been subjected to the heat treatment or the cooling process. For example, the curing device 45 irradiates the layer of the coating liquid with an active ray such as ultraviolet rays, or performs a heat treatment at a temperature higher than the heating by the temperature adjusting device 43 described above. Thereby, the optical film in which the functional layer was formed on the resin film is obtained.

巻取装置46は、得られた光学フィルムを巻き取る。巻取装置46は、たとえば、回転可能な巻取ローラを備え、巻取ローラを回転させることにより光学フィルムを巻き取る装置である。巻き取られた光学フィルムは、均一に機能層が形成されており、種々の機能を発揮し得る。   The winding device 46 winds up the obtained optical film. The winding device 46 is, for example, a device that includes a rotatable winding roller and winds the optical film by rotating the winding roller. The wound optical film has a uniform functional layer and can exhibit various functions.

巻き取り時の張力としては、30〜400N/mとすることができ、好ましくは、10〜300N/mとすることができる。   The tension during winding can be 30 to 400 N / m, and preferably 10 to 300 N / m.

得られた光学フィルムは、偏光素子に貼り付けることによって、偏光板とされる。この偏光板は、上記光学フィルムを使用しているため、この偏光板を用いた画像表示装置は、光学ムラが充分に抑制される。   The obtained optical film is made into a polarizing plate by being attached to a polarizing element. Since this polarizing plate uses the above optical film, the image unevenness using the polarizing plate is sufficiently suppressed.

前記偏光板としては、たとえば、偏光素子の少なくとも一方の表面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて、光学フィルムを貼り合わせたものが好ましい。また、偏光板は、偏光素子の一方の面に、光学フィルムを貼り付けていればよいが、偏光素子のもう一方の表面にも、上記した光学フィルムを積層させてもよく、別の偏光板用の透明保護フィルムを積層させてもよい。   As the polarizing plate, for example, an optical film is preferably bonded to at least one surface of a polarizing element using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution. Further, the polarizing plate may be formed by attaching an optical film to one surface of the polarizing element, but the above optical film may be laminated on the other surface of the polarizing element. A transparent protective film may be laminated.

偏光板は、上記のとおり、偏光素子の少なくとも一方の表面側に、光学フィルムを積層したものである。光学フィルムが位相差フィルム等の光学補償フィルムとして機能する場合、光学フィルムの遅相軸が偏光素子の吸収軸に実質的に平行または直交するように配置されていることが好ましい。   As described above, the polarizing plate is obtained by laminating an optical film on at least one surface side of the polarizing element. When the optical film functions as an optical compensation film such as a retardation film, the optical film is preferably disposed so that the slow axis of the optical film is substantially parallel or perpendicular to the absorption axis of the polarizing element.

偏光素子としては、たとえば、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが挙げられる。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものとがある。中でも、ポリビニルアルコール系フィルムとしては、エチレンで変性された変性ポリビニルアルコール系フィルムが好ましく用いられる。   Examples of the polarizing element include a polyvinyl alcohol polarizing film. The polyvinyl alcohol polarizing film includes those obtained by dyeing iodine on a polyvinyl alcohol film and those obtained by dyeing a dichroic dye. Among these, as the polyvinyl alcohol film, a modified polyvinyl alcohol film modified with ethylene is preferably used.

液晶表示装置は、液晶セルと、液晶セルを挟むように配置された2枚の偏光板とを備え、2枚の偏光板のうち少なくとも一方が、偏光板であるものが挙げられる。なお、液晶セルとは、一対の電極間に液晶物質が充填されたものであり、この電極に電圧を印加することで、液晶の配向状態が変化され、透過光量が制御される。このような液晶表示装置には偏光板が用いられているので、光学ムラが少ない。   The liquid crystal display device includes a liquid crystal cell and two polarizing plates arranged so as to sandwich the liquid crystal cell, and at least one of the two polarizing plates is a polarizing plate. Note that the liquid crystal cell is a cell in which a liquid crystal substance is filled between a pair of electrodes, and by applying a voltage to the electrodes, the alignment state of the liquid crystal is changed and the amount of transmitted light is controlled. Since such a liquid crystal display device uses a polarizing plate, there is little optical unevenness.

以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<コア部材の作製>
(コアA)
内径152mm、外径165mm、長さ1450mmの絶縁性の紙製の巻芯を準備した。次に、外周面にのみ、静電防止剤としてムロマチテクノス(株)製MU−003(ポリオキシエチレントリアルキルエーテル類とフッ素系界面活性剤の混合物)を均一に吹きつけ、30℃で5分間乾燥させ、厚み2mmの導電性の表面層を形成した。内周面には導電性の表面層を設けなかった。外周面の表面抵抗率は1×10Ω/cmであり、内周面の表面抵抗率は2×1014Ω/cmであった。外周面の表面粗さ(Ra)は0.3μmで内面の表面粗さも同様に0.3μmであった。なお、表面抵抗率は、抵抗率計(Monroe Electronics製のポータブル表面抵抗率/抵抗計272A)を用いて測定した。表面粗さは、キヤノン(株)製の非接触表面形状測定器(NewViewTM7300)を用いて測定した。
<Production of core member>
(Core A)
An insulating paper core having an inner diameter of 152 mm, an outer diameter of 165 mm, and a length of 1450 mm was prepared. Next, MU-003 (mixture of polyoxyethylene trialkyl ethers and fluorosurfactant) manufactured by Muromachi Technos Co., Ltd. was sprayed uniformly as an antistatic agent only on the outer peripheral surface, and the mixture was sprayed at 30 ° C. for 5 minutes. It dried and formed the electroconductive surface layer of thickness 2mm. No conductive surface layer was provided on the inner peripheral surface. The surface resistivity of the outer peripheral surface was 1 × 10 7 Ω / cm 2 , and the surface resistivity of the inner peripheral surface was 2 × 10 14 Ω / cm 2 . The surface roughness (Ra) of the outer peripheral surface was 0.3 μm, and the surface roughness of the inner surface was also 0.3 μm. The surface resistivity was measured using a resistivity meter (portable surface resistivity / resistance meter 272A manufactured by Monroe Electronics). The surface roughness was measured using a non-contact surface shape measuring instrument (NewView 7300) manufactured by Canon Inc.

(コアB)
内径152mm、外径165mm、長さ1450mmの絶縁性のガラス繊維強化プラスチック製コア(ガラス繊維の割合が60%、その他の成分が40%からなるコア)からなる巻芯を準備した。次に、外周面にのみ、静電防止剤としてムロマチテクノス(株)製MU−003(ポリオキシエチレントリアルキルエーテル類とフッ素系界面活性剤の混合物)を均一に吹きつけ、30℃で5分間乾燥させ、厚み2mmの導電性の表面層を形成した。内周面には導電性の表面層を設けなかった。外周面の表面抵抗率は1×10Ω/cmであり、内周面の表面抵抗率は1×1014Ω/cmであった。外周面の表面粗さは0.3μmであり、内周面の表面粗さも同様に0.3μmであった。
(Core B)
A core made of an insulating glass fiber reinforced plastic core having an inner diameter of 152 mm, an outer diameter of 165 mm, and a length of 1450 mm (a core having a glass fiber ratio of 60% and other components of 40%) was prepared. Next, MU-003 (mixture of polyoxyethylene trialkyl ethers and fluorosurfactant) manufactured by Muromachi Technos Co., Ltd. was sprayed uniformly as an antistatic agent only on the outer peripheral surface, and the mixture was sprayed at 30 ° C. for 5 minutes. It dried and formed the electroconductive surface layer of thickness 2mm. No conductive surface layer was provided on the inner peripheral surface. The surface resistivity of the outer peripheral surface was 1 × 10 7 Ω / cm 2 , and the surface resistivity of the inner peripheral surface was 1 × 10 14 Ω / cm 2 . The surface roughness of the outer peripheral surface was 0.3 μm, and the surface roughness of the inner peripheral surface was also 0.3 μm.

(コアC)
内径152mm、外径165mm、長さ1450mmの絶縁性のガラス繊維強化プラスチック製コア(ガラス繊維の割合が60%、その他の成分が40%からなるコア)からなる巻芯を準備した。次に、外周面および内周面に、静電防止剤としてムロマチテクノス(株)製MU−003(ポリオキシエチレントリアルキルエーテル類とフッ素系界面活性剤の混合物)を均一に吹きつけ、30℃で5分間乾燥させ、厚み2mmの導電性の表面層を形成した。外周面の表面抵抗率は1×10Ω/cmであり、内周面の表面抵抗率は1×10Ω/cmであった。外周面の表面粗さは0.3μmであり、内周面の表面粗さも同様に3μmであった。
(Core C)
A core made of an insulating glass fiber reinforced plastic core having an inner diameter of 152 mm, an outer diameter of 165 mm, and a length of 1450 mm (a core having a glass fiber ratio of 60% and other components of 40%) was prepared. Next, MU-003 (mixture of polyoxyethylene trialkyl ethers and a fluorosurfactant) manufactured by Muromachi Technos Co., Ltd. was sprayed uniformly on the outer peripheral surface and inner peripheral surface as an antistatic agent, and 30 ° C. And dried for 5 minutes to form a conductive surface layer having a thickness of 2 mm. The surface resistivity of the outer peripheral surface was 1 × 10 7 Ω / cm, and the surface resistivity of the inner peripheral surface was 1 × 10 7 Ω / cm. The surface roughness of the outer peripheral surface was 0.3 μm, and the surface roughness of the inner peripheral surface was also 3 μm.

(コアD)
内径152mm、外径165mm、長さ1450mmの絶縁性のガラス繊維強化プラスチック製コア(ガラス繊維の割合が60%、その他の成分が40%からなるコア)からなる巻芯を準備した。内周面をサンドペーパーを巻きつけた棒で擦ることにより表面粗さを調整した。次いで、内周面の比表面積を次に、外周面および内周面に、静電防止剤としてムロマチテクノス(株)製MU−003(ポリオキシエチレントリアルキルエーテル類とフッ素系界面活性剤の混合物)を均一に吹きつけ、30℃で5分間乾燥させ、厚み2mmの導電性の表面層を形成した。外周面の表面抵抗率は1×10Ω/cmであり、内周面の表面抵抗率は1×10Ω/cmであった。外周面の表面粗さは0.3μmであり、内周面の表面粗さは25μmであった。内周面の表面粗さを調整する前の内周面の比表面積は0.69mであり、調整した後の内周面の比表面積は1.38mであった。
(Core D)
A core made of an insulating glass fiber reinforced plastic core having an inner diameter of 152 mm, an outer diameter of 165 mm, and a length of 1450 mm (a core having a glass fiber ratio of 60% and other components of 40%) was prepared. The surface roughness was adjusted by rubbing the inner peripheral surface with a stick wound with sandpaper. Next, the specific surface area of the inner peripheral surface, and then on the outer peripheral surface and the inner peripheral surface, MU-003 (mixture of polyoxyethylene trialkyl ethers and fluorosurfactant) manufactured by Muromachi Technos Co., Ltd. ) Was sprayed uniformly and dried at 30 ° C. for 5 minutes to form a conductive surface layer having a thickness of 2 mm. The surface resistivity of the outer peripheral surface was 1 × 10 7 Ω / cm, and the surface resistivity of the inner peripheral surface was 1 × 10 5 Ω / cm. The surface roughness of the outer peripheral surface was 0.3 μm, and the surface roughness of the inner peripheral surface was 25 μm. The specific surface area of the inner circumferential surface before the adjustment of the surface roughness of the inner peripheral surface is 0.69 m 2, specific surface area of the inner peripheral surface after adjusting was 1.38 m 2.

(コアE)
内径152mm、外径165mm、長さ1450mmの導電性の炭素繊維強化プラスチック製コア(炭素繊維の割合が40%、その他の成分が60%)からなる巻芯を準備した。内周面をサンドペーパーを巻きつけた棒で擦ることにより表面粗さを調整した。次いで、内周面の比表面積を次に、外周面および内周面に、静電防止剤としてムロマチテクノス(株)製MU−003(ポリオキシエチレントリアルキルエーテル類とフッ素系界面活性剤の混合物)を均一に吹きつけ、30℃で5分間乾燥させ、厚み2mmの導電性の表面層を形成した。外周面の表面抵抗率は1×10Ω/cmであり、内周面の表面抵抗率は5×10Ω/cmであった。外周面の表面粗さは0.3μmであり、内周面の表面粗さは25μmであった。内周面の表面粗さを調整する前の内周面の比表面積はであり、調整した後の内周面の比表面積は1.38mであった。
(Core E)
A core made of a conductive carbon fiber reinforced plastic core having an inner diameter of 152 mm, an outer diameter of 165 mm, and a length of 1450 mm (the ratio of carbon fibers is 40% and the other components are 60%) was prepared. The surface roughness was adjusted by rubbing the inner peripheral surface with a stick wound with sandpaper. Next, the specific surface area of the inner peripheral surface, and then on the outer peripheral surface and the inner peripheral surface, MU-003 (a mixture of polyoxyethylene trialkyl ethers and a fluorosurfactant manufactured by Muromachi Technos Co., Ltd.) as an antistatic agent. ) Was sprayed uniformly and dried at 30 ° C. for 5 minutes to form a conductive surface layer having a thickness of 2 mm. The surface resistivity of the outer peripheral surface was 1 × 10 7 Ω / cm, and the surface resistivity of the inner peripheral surface was 5 × 10 4 Ω / cm. The surface roughness of the outer peripheral surface was 0.3 μm, and the surface roughness of the inner peripheral surface was 25 μm. The specific surface area of the inner peripheral surface before adjusting the surface roughness of the inner peripheral surface was, and the specific surface area of the inner peripheral surface after adjustment was 1.38 m 2 .

<樹脂フィルム原反の作製>
それぞれのコア部材に対して、ポリメチルメタクリレート樹脂からなるアクリルフィルム(厚み60μm、吸水率1.2%)の端を固定し、3900m巻き取って樹脂フィルム原反を作製した。巻き取り時の張力は300N/mとした。
<Preparation of the raw resin film>
An end of an acrylic film (thickness 60 μm, water absorption rate 1.2%) made of polymethyl methacrylate resin was fixed to each core member, and 3900 m was wound up to produce a resin film original. The tension during winding was 300 N / m.

<光学フィルムの作製(機能層の形成)>
上記したそれぞれの樹脂フィルム原反に、以下の方法により各種機能層を形成した。
<Preparation of optical film (formation of functional layer)>
Various functional layers were formed on each of the above resin film original fabrics by the following method.

<ハードコート(HC)層の形成>
(ハードコート層形成用樹脂組成物の調製)
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)30質量部および光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製のイルガキュア907)1.5質量部を、メチルイソブチルケトン73.5質量部に溶解して、ハードコート層形成用樹脂組成物を得た。
<Formation of hard coat (HC) layer>
(Preparation of resin composition for forming hard coat layer)
A hard coat layer was prepared by dissolving 30 parts by mass of pentaerythritol triacrylate (PETA) and 1.5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) in 73.5 parts by mass of methyl isobutyl ketone. A forming resin composition was obtained.

(ハードコートフィルムの作製)
上記調製したそれぞれの樹脂フィルム原反から巻き出したそれぞれの樹脂フィルム上に、ハードコート層形成用樹脂組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムズジャパン(株)製のフュージョンUV、光源:Hバルブ)を用いて照射線量約20mJ/cmで紫外線照射を行い、ハードコート層を半硬化させて、膜厚10μmのハードコート層を樹脂フィルム上に作製した。
(Preparation of hard coat film)
The resin composition for forming a hard coat layer was bar-coated on each resin film unwound from each of the prepared resin film originals, and the solvent was removed by drying. Thereafter, ultraviolet irradiation is performed at an irradiation dose of about 20 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV manufactured by Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source: H bulb), and the hard coat layer is semi-cured to obtain a film thickness. A 10 μm hard coat layer was formed on the resin film.

<反射防止(AR)層の形成>
(低屈折率層形成用樹脂組成物の調製)
中空シリカ分散液(粒径50nm、固形分20質量%、溶剤:メチルイソブチルケトン)15質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)2質量部および光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製のイルガキュア127)0.08質量部を、メチルイソブチルケトン82.9質量部に溶解して、低屈折率層形成用樹脂組成物を得た。
<Formation of antireflection (AR) layer>
(Preparation of low refractive index layer-forming resin composition)
Hollow silica dispersion (particle size 50 nm, solid content 20% by mass, solvent: methyl isobutyl ketone) 15 parts by mass, pentaerythritol triacrylate (PETA) 2 parts by mass and photopolymerization initiator (Irgacure manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) 127) 0.08 parts by mass of the compound was dissolved in 82.9 parts by mass of methyl isobutyl ketone to obtain a resin composition for forming a low refractive index layer.

(反射防止フィルムの作製)
上記調製したそれぞれの樹脂フィルム原反から巻き出したそれぞれの樹脂フィルム上に、ハードコート層形成用樹脂組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムズジャパン(株)製のフュージョンUV、光源:Hバルブ)を用いて照射線量約20mJ/cmで紫外線照射を行い、ハードコート層を半硬化させて、膜厚10μmのハードコート層を樹脂フィルム上に作製した。
(Preparation of antireflection film)
The resin composition for forming a hard coat layer was bar-coated on each resin film unwound from each of the prepared resin film originals, and the solvent was removed by drying. Thereafter, ultraviolet irradiation is performed at an irradiation dose of about 20 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV manufactured by Fusion UV Systems Japan Co., Ltd., light source: H bulb), and the hard coat layer is semi-cured to obtain a film thickness. A 10 μm hard coat layer was formed on the resin film.

次いで、低屈折率層形成用樹脂組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置を用いて照射線量約200mJ/cmで紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、ハードコート層上に約100nmの低屈折率層を作製した。 Subsequently, the resin composition for forming a low refractive index layer was bar-coated, and the solvent was removed by drying. Thereafter, ultraviolet irradiation was performed using an ultraviolet irradiation device at an irradiation dose of about 200 mJ / cm 2 , and the coating film was cured to produce a low refractive index layer of about 100 nm on the hard coat layer.

このようにして、ハードコート層と低屈折率層とからなる反射防止層が樹脂フィルム上に形成し、反射防止フィルムとした。
(実施例1)
コアDを用いた樹脂フィルム原反から巻き出した樹脂フィルムに、上記の方法によりHC層を形成し、光学フィルムを作製した。
In this way, an antireflection layer composed of the hard coat layer and the low refractive index layer was formed on the resin film to obtain an antireflection film.
Example 1
An HC layer was formed on the resin film unwound from the resin film original fabric using the core D by the above method to produce an optical film.

(実施例2)
コアEを用いた以外は、実施例1と同様の方法により光学フィルムを作製した。
(Example 2)
An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the core E was used.

(比較例1)
コアAを用いた以外は、実施例1と同様の方法により光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 1)
An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the core A was used.

(比較例2)
コアBを用いた以外は、実施例1と同様の方法により光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 2)
An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that Core B was used.

(比較例3)
コアCを用いた以外は、実施例1と同様の方法により光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 3)
An optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the core C was used.

(実施例3)
機能層として、上記の方法によりAR層を形成した以外は、実施例1と同様の方法により光学フィルムを作製した。
(実施例4)
コアEを用いた以外は、実施例3と同様の方法により光学フィルムを作製した。
(Example 3)
An optical film was produced by the same method as in Example 1 except that the AR layer was formed by the above method as the functional layer.
Example 4
An optical film was produced in the same manner as in Example 3 except that Core E was used.

(比較例4)
コアAを用いた以外は、実施例3と同様の方法により光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 4)
An optical film was produced in the same manner as in Example 3 except that Core A was used.

(比較例5)
コアBを用いた以外は、実施例3と同様の方法により光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 5)
An optical film was produced in the same manner as in Example 3 except that Core B was used.

(比較例6)
コアCを用いた以外は、実施例3と同様の方法により光学フィルムを作製した。
(Comparative Example 6)
An optical film was produced in the same manner as in Example 3 except that Core C was used.

実施例1〜4、比較例1〜6により得られたそれぞれの光学フィルムについて、以下の基準に沿って光学特性を評価した。結果を表1に示す。   About each optical film obtained by Examples 1-4 and Comparative Examples 1-6, the optical characteristic was evaluated along the following references | standards. The results are shown in Table 1.

(干渉縞評価)
得られた光学フィルムの機能層が形成された面とは反対側の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼った。その状態の光学フィルムを、機能層が形成された面側から目視で観察した。
(評価基準)
○:干渉縞が確認されなかった。
△:干渉縞がわずかな範囲で確認された。
×:干渉縞が広い範囲で確認された。
(Interference fringe evaluation)
The black tape for preventing back surface reflection was stuck on the surface on the opposite side to the surface in which the functional layer of the obtained optical film was formed. The optical film in this state was visually observed from the surface side on which the functional layer was formed.
(Evaluation criteria)
○: No interference fringes were confirmed.
(Triangle | delta): The interference fringe was confirmed in the slight range.
X: Interference fringes were confirmed in a wide range.

(ギラつき評価)
ビュアー(ハクバ写真産業(株)製のライトビュアー7000PRO)上に、厚み0.7mmのガラス板にブラックマトリクスパターンが形成されたブラックマトリクスパターン板(105ppi)を、パターン面を下にして載置した。そのブラックマトリクスパターン板の上に、得られた光学フィルムの機能層が形成された面とは反対側の面を接触させるように載置した。光学フィルムが浮かないように、光学フィルムの縁を指で軽く押さえながら、暗室で、ビュアーを作動させた状態で、光学フィルムを目視で観察した。
(評価基準)
○:ギラつきが確認されなかった。
△:ギラつきがわずかな範囲で確認された。
×:ギラつきが広い範囲で確認された。
(Evaluation with glare)
A black matrix pattern plate (105 ppi) in which a black matrix pattern was formed on a glass plate having a thickness of 0.7 mm was placed on a viewer (Light Viewer 7000PRO manufactured by Hakuba Photo Industry Co., Ltd.) with the pattern surface facing down. . On the black matrix pattern board, it mounted so that the surface on the opposite side to the surface in which the functional layer of the obtained optical film was formed may be contacted. In order to prevent the optical film from floating, the optical film was visually observed with the viewer operated in a dark room while lightly pressing the edge of the optical film with a finger.
(Evaluation criteria)
○: No glare was confirmed.
(Triangle | delta): The glare was confirmed in the slight range.
X: The glare was confirmed in a wide range.

Figure 2014058393
Figure 2014058393

表1に示されるように、本発明のコア部材に巻き回されたフィルムに光学機能層を塗布した場合には、ハードコート層を塗布した場合、反射防止層を塗布した場合の何れについても、帯電による塗布ムラが発生せず、干渉縞の発生やギラつきの発生を抑制することができた。   As shown in Table 1, when the optical functional layer is applied to the film wound around the core member of the present invention, when the hard coat layer is applied, or when the antireflection layer is applied, Coating unevenness due to charging did not occur, and generation of interference fringes and glare could be suppressed.

10 コア部材
11 巻き芯
12、13 表面層
20 樹脂フィルム原反
21 樹脂フィルム
22 保持部
23 架台
30 樹脂フィルムの製造装置
31 無端ベルト支持体
32 流延ダイ
33 剥離ローラ
34 乾燥装置
35 巻取装置
36 樹脂溶液
40 光学フィルムの製造装置
41 巻出装置
42 塗布装置
43、44 温度調整装置
45 硬化装置
46 巻取装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Core member 11 Winding core 12, 13 Surface layer 20 Resin film original fabric 21 Resin film 22 Holding part 23 Mounting frame 30 Resin film manufacturing apparatus 31 Endless belt support 32 Casting die 33 Peeling roller 34 Drying apparatus 35 Winding apparatus 36 Resin solution 40 Optical film manufacturing apparatus 41 Unwinding apparatus 42 Coating apparatus 43, 44 Temperature adjusting apparatus 45 Curing apparatus 46 Winding apparatus

Claims (7)

円筒状の巻き芯と、該巻き芯の外周面および内周面に形成された導電性の表面層とを備え、
前記内周面に設けられた表面層の表面粗さが、前記外周面に設けられた表面層の表面粗さよりも大きい、樹脂フィルム原反用コア部材。
A cylindrical winding core, and a conductive surface layer formed on the outer peripheral surface and inner peripheral surface of the winding core,
The core member for resin film original fabric whose surface roughness of the surface layer provided in the said inner peripheral surface is larger than the surface roughness of the surface layer provided in the said outer peripheral surface.
前記巻き芯が、繊維強化プラスチックを含む、請求項1記載の樹脂フィルム原反用コア部材。   The core member for a resin film original fabric according to claim 1, wherein the winding core includes a fiber reinforced plastic. 前記巻き芯が、炭素繊維強化プラスチックを含む、請求項2記載の樹脂フィルム原反用コア部材。   The core member for a resin film original fabric according to claim 2, wherein the winding core includes a carbon fiber reinforced plastic. 請求項1〜3の何れか1項に記載の樹脂フィルム原反用コア部材と、該コア部材の外周面にロール状に巻き回された長尺状の樹脂フィルムとを備える樹脂フィルム原反。   The resin film original fabric provided with the core member for resin film original fabrics of any one of Claims 1-3, and the elongate resin film wound by roll shape on the outer peripheral surface of this core member. 温度23℃、相対湿度75%における前記樹脂フィルムの吸水率が2.0%以下である請求項4記載の樹脂フィルム原反。   The resin film original fabric according to claim 4, wherein the resin film has a water absorption of 2.0% or less at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 75%. 請求項4または5記載の樹脂フィルム原反から、樹脂フィルムを巻き出す工程と、
巻き出された樹脂フィルム上に塗布液を塗布して機能層を形成する工程と、
を備える光学フィルムの製造方法。
A step of unwinding a resin film from the resin film original fabric according to claim 4 or 5,
Forming a functional layer by applying a coating solution on the unrolled resin film;
An optical film manufacturing method comprising:
前記機能層が、ハードコート層、反射防止層、防眩層および液晶層からなる群から選ばれる少なくとも1つであることを特徴とする請求項6記載の光学フィルムの製造方法。
The method for producing an optical film according to claim 6, wherein the functional layer is at least one selected from the group consisting of a hard coat layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and a liquid crystal layer.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017081679A (en) * 2015-10-27 2017-05-18 住友金属鉱山株式会社 Method and device for winding long substrate as well as surface treatment device of long substrate with winding device
JP2018188249A (en) * 2017-04-28 2018-11-29 株式会社昭和丸筒 Winding core
JP2022135471A (en) * 2021-03-05 2022-09-15 日東電工株式会社 Winding roll and optical film roll wound on the winding roll

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