JP5100226B2 - Antireflection film manufacturing method and antireflection film - Google Patents

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Description

本発明は、反射防止フィルムの製造方法および反射防止フィルムに係り、特に耐擦傷性や各層界面での密着性に優れ、フィルム表面からの添加物成分の溶出による外観面状品質の低下が少ない反射防止フィルムの製造方法および反射防止フィルムに関する。   The present invention relates to a method for producing an antireflection film and an antireflection film, and is particularly excellent in scratch resistance and adhesion at the interface of each layer, and is less reflective in appearance surface quality due to elution of additive components from the film surface. The present invention relates to an antireflection film manufacturing method and an antireflection film.

陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や液晶表示装置(LCD)のような平面性画像表示装置(FPD)には、視認性を高め、耐擦傷性を向上するために、その最外層に反射防止フィルム、防眩性フィルム、表面保護フィルム等の光学機能性フィルムが使用されている。   Flat image display devices (FPD) such as cathode ray tube display (CRT), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD) and liquid crystal display (LCD) have improved visibility and scratch resistance. In order to improve, an optical functional film such as an antireflection film, an antiglare film, or a surface protective film is used as the outermost layer.

上記の光学機能性フィルムは、直接的に人の目視に晒される機会が多く、また、近年のディスプレイの大画面化、高輝度化、高精細化、高価格化により、使用される光学機能性フィルムは、極めて厳しい外観品質(点欠陥、ムラ、汚れ等がないこと)、物理耐久品質(耐擦傷性、防汚性等に優れること)が要求されている。特に、反射防止フィルムは、ディスプレイの表面に傷が付くと、恒久的な表示欠陥となって画像表示装置の外観品位が著しく低下するため、耐擦傷性は重要である。   The above optical functional films are often exposed directly to human eyes, and the optical functionality that is used due to the recent increase in screen size, brightness, resolution, and price. The film is required to have extremely strict appearance quality (no point defects, unevenness, dirt, etc.) and physical durability quality (excellent scratch resistance, antifouling property, etc.). In particular, when the surface of the display is scratched, the antireflection film becomes a permanent display defect, and the appearance quality of the image display device is remarkably deteriorated. Therefore, scratch resistance is important.

反射防止フィルムの光学機能層は、基材フィルム上への機能材料形成材溶液の塗布・乾燥、特に有機溶剤を含有する機能材料形成材溶液の塗布・乾燥を複数回繰り返すことによって形成されることが多い。このような塗布工程によって光学機能層を設けた光学フィルムを製造する過程では、塗布直後の塗布液の乱れ、不均一な乾燥による光学機能層の塗布厚みの乱れによる外観故障(特に、ムラ故障)が生じやすい。   The optical functional layer of the antireflection film is formed by repeating the application / drying of the functional material forming material solution on the base film, particularly the application / drying of the functional material forming material solution containing an organic solvent, a plurality of times. There are many. In the process of manufacturing an optical film provided with an optical functional layer by such a coating process, appearance failure (particularly unevenness failure) due to disturbance of the coating liquid immediately after coating, or disturbance of the coating thickness of the optical functional layer due to uneven drying. Is likely to occur.

このため、塗布液中には、塗布性改良、乾燥均一化、高速塗布適性付与のために、界面活性作用をもつフッ素系化合物やシリコーン系化合物などの添加剤を塗布液中に添加する方法が提案されている(特許文献1参照)。また、初期乾燥時の乾燥速度を制御し、非接触搬送を行う方法も行われている。(特許文献2参照)。   For this reason, in the coating solution, there is a method of adding an additive such as a fluorine-based compound or a silicone-based compound having a surface active action to the coating solution in order to improve coating property, uniform drying, and impart high-speed coating suitability. It has been proposed (see Patent Document 1). In addition, a method of controlling the drying speed during initial drying and performing non-contact conveyance is also performed. (See Patent Document 2).

一方、耐擦傷性の付与方法としては、最外表面に位置する低屈折率層を形成する場合に、微粒子を有する電離放射線硬化型樹脂組成物を主体とする塗布液を塗布し、これを紫外線、電子線、あるいは熱により硬化させる方法が知られている(特許文献3)。   On the other hand, as a method for imparting scratch resistance, when a low refractive index layer located on the outermost surface is formed, a coating liquid mainly composed of an ionizing radiation curable resin composition having fine particles is applied, and this is applied to ultraviolet rays. A method of curing with an electron beam or heat is known (Patent Document 3).

また、反射防止フィルムは複数の光学機能層、物理機能層を積層してなるものであり、層間密着性を改善するために被塗布層の硬化性樹脂の反応性官能基をハーフキュア状態にすることが行われている(特許文献4)。
特開2005−257786号公報 特開2006−334561号公報 特開平9−145903号公報 特開2003−311911号公報
Further, the antireflection film is formed by laminating a plurality of optical functional layers and physical functional layers, and in order to improve interlayer adhesion, the reactive functional group of the curable resin of the coated layer is in a half-cured state. (Patent Document 4).
JP 2005-257786 A JP 2006-334561 A JP-A-9-145903 JP 2003-311911 A

特許文献1から4に記載されている方法を用いて、塗布性改良、乾燥均一化、高速塗布適性の付与を目的として界面活性作用などを有する添加剤を塗布液中に添加して被塗布層を形成し、さらに、塗布層(上層)との層間密着性を改善するために被塗布層をハーフキュアとして反射防止フィルムの製造を行う。すると、塗布層を塗布乾燥した後に熱硬化処理、電離放射線硬化処理を行い、塗布層に耐擦傷性を付与する際、塗布層表面に被塗布層からの溶出物質による白粉状故障が生じ、外観品質を悪化させる問題があり、耐擦傷性と外観品質を両立させることが困難であった。   Using the methods described in Patent Documents 1 to 4, an additive having a surface active action or the like is added to the coating solution for the purpose of improving coating properties, drying uniformity, and imparting high-speed coating suitability. Further, in order to improve interlayer adhesion with the coating layer (upper layer), an antireflection film is produced using the coated layer as a half cure. Then, after applying and drying the coating layer, heat curing treatment, ionizing radiation curing treatment, when imparting scratch resistance to the coating layer, white powder failure due to the substance eluted from the coating layer occurs on the coating layer surface, There is a problem of deteriorating appearance quality, and it is difficult to achieve both scratch resistance and appearance quality.

本発明者らは、外観品質の低下を生じさせる白粉状の物質が、被塗布中に含まれる塗布性改良、乾燥均一化、高速塗布適性付与のために添加されたフッ素系化合物またはシリコーン系化合物の界面活性作用をもつ添加剤成分等であることを確認した。このことから、白粉故障は、最外層である低屈折率層に耐擦傷性を付与するために、電離放射線硬化型樹脂組成物を紫外線、電子線、あるいは熱により硬化させる際の熱収縮による該添加成分の溶出(泣き出し)によるものであると考えられる。   The inventors of the present invention have added a fluorine-based compound or a silicone-based substance in which a white powder-like substance that causes a decrease in appearance quality is added to improve coating properties, dry uniformization, and impart high-speed coating suitability included in the coating. It was confirmed that the compound was an additive component having a surfactant activity of the compound. From this, the white powder failure is caused by heat shrinkage caused by curing the ionizing radiation curable resin composition with ultraviolet rays, electron beams, or heat in order to impart scratch resistance to the low refractive index layer which is the outermost layer. This is thought to be due to the elution (crying out) of the added components.

しかしながら、フッ素系化合物またはシリコーン系化合物の界面活性作用をもつ添加剤成分は、塗布性改良、乾燥均一化、高速塗布適性付与に必須の成分であり、除くことは好ましくない。また、被塗布層をハーフキュアとすることは、塗布層と被塗布層との層間密着性を良好にするため、耐擦傷性付与に重要である。   However, an additive component having a surfactant activity of a fluorine-based compound or a silicone-based compound is an essential component for improving coating properties, uniforming drying, and imparting high-speed coating suitability, and it is not preferable to remove them. In addition, making the coating layer a half-cure is important for imparting scratch resistance in order to improve the interlayer adhesion between the coating layer and the coating layer.

また、一方で、生産性の観点から、耐擦傷性付与のための加熱(硬化)乾燥時間を短くすることが望まれている。   On the other hand, from the viewpoint of productivity, it is desired to shorten the heating (curing) drying time for imparting scratch resistance.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、耐擦傷性と外観品質を両立させ、品質・得率の良い反射防止フィルムを製造すると共に、生産性向上の観点から、耐擦傷性付与のための加熱(硬化)乾燥時間を短縮することができる反射防止フィルムの製造方法および反射防止フィルムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and at the same time, provides both scratch resistance and appearance quality, produces an antireflection film with good quality and yield, and imparts scratch resistance from the viewpoint of improving productivity. It is an object of the present invention to provide an antireflection film manufacturing method and an antireflection film capable of shortening the heating (curing) drying time.

本発明の請求項1は、前記目的を達成するために、支持体と、前記支持体の上に配される少なくとも1層の光学機能層と、前記光学機能層の上に配され、前記光学機能層よりも屈折率の低い低屈折率層とを有する反射防止フィルムの製造方法において、前記光学機能層の表面に、前記低屈折率層を形成させるための液を塗布して塗布層を形成する塗布工程と、前記塗布層の乾燥を促進させる乾燥工程と、乾燥が促進された塗布層を熱硬化させて低屈折率層とする硬化工程を有し、前記硬化工程は、前記塗布層を第1温度の乾燥風で硬化させる第1の硬化工程と、前記第1の硬化工程後の前記塗布層を前記第1温度より低い第2温度の乾燥風で前記塗布層を硬化させる第2の硬化工程と、前記第2の硬化工程後の前記塗布層を前記第2温度より高い第3温度の乾燥風で前記塗布層を硬化させる第3の硬化工程と、を有し、前記第1温度は100℃以上120℃以下であり、前記第2温度は85℃以上100℃以下であり、前記第3温度は100℃以上120℃以下であることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法を提供する。
また、第1温度、第2温度および第3温度を上記範囲に調整することで、白粉状の物質の析出を抑え、硬化速度を向上させた製造方法を提供することができる。
According to a first aspect of the present invention, in order to achieve the above object, a support, at least one optical function layer disposed on the support, and the optical function layer are disposed. In a method for producing an antireflection film having a low refractive index layer having a refractive index lower than that of a functional layer, a coating layer is formed by applying a liquid for forming the low refractive index layer on the surface of the optical functional layer. A coating step, a drying step for promoting the drying of the coating layer, and a curing step for thermally curing the coating layer whose drying has been accelerated to form a low refractive index layer. A first curing step of curing with a drying air at a first temperature; and a second curing step of curing the coating layer with a drying air at a second temperature lower than the first temperature after the first curing step . and curing step, the coated layer after the second curing step than the second temperature There a third curing step of curing the coating layer at a dry air of the third temperature, have a, the first temperature is 120 ° C. or less 100 ° C. or higher, the second temperature is 85 ° C. or higher 100 ° C. or less And the third temperature is 100 ° C. or higher and 120 ° C. or lower .
In addition, by adjusting the first temperature, the second temperature, and the third temperature to the above ranges, it is possible to provide a manufacturing method that suppresses the precipitation of a white powdery substance and improves the curing rate.

硬化の初期段階において、高い硬化温度で硬化させることにより、白粉状の物質が発生することが知られている。しかし、この初期段階の初期においては、塗布層中に多量の溶媒を含んでいるため、高温で硬化を行っても、溶媒の揮発に熱が使われ、白粉状の物質が析出することなく、硬化を行うことができる。したがって、本発明においては、硬化工程の初期段階である第1の硬化工程において、乾燥風の温度を第2温度より高い第1温度の乾燥風で硬化させている。これにより、硬化を従来より高温で行うため、硬化乾燥時間を短縮することができる。   It is known that a white powdery substance is generated by curing at a high curing temperature in the initial stage of curing. However, since the coating layer contains a large amount of solvent in the initial stage of this initial stage, heat is used for volatilization of the solvent without causing precipitation of a white powdery substance even if curing is performed at a high temperature. Can be cured. Therefore, in the present invention, in the first curing process, which is the initial stage of the curing process, the temperature of the drying air is cured with the drying air having the first temperature higher than the second temperature. Thereby, since curing is performed at a higher temperature than before, the curing and drying time can be shortened.

つぎに、第2の硬化工程において、乾燥風の温度を第1の硬化工程より低い温度とした。第1の硬化工程により、塗布層中の溶媒量が少なくなると、塗布層の硬化により、白粉状の物質が析出するため、第2の硬化工程において、温度を下げることにより、白粉状の物質の析出を防止することができる。また、第2の硬化工程において、温度を下げることにより、溶媒量の少なくなっている塗布層中から硬化用化合物が揮発することを防止することができるため、反射防止フィルムの架橋密度の低下を抑えることができる。   Next, in the second curing step, the temperature of the drying air was set lower than that in the first curing step. When the amount of solvent in the coating layer is reduced by the first curing step, a white powdery substance is precipitated by curing of the coating layer. Therefore, in the second curing step, by reducing the temperature, Precipitation of substances can be prevented. Further, in the second curing step, by reducing the temperature, it is possible to prevent the curing compound from volatilizing from the coating layer in which the amount of the solvent is reduced, so that the crosslinking density of the antireflection film is reduced. Can be suppressed.

さらに、第3の硬化工程において、乾燥風の温度を第2温度より高い第3温度で硬化させることとした。第2の硬化工程により、塗布層がほぼ硬化しているため、第3の硬化工程において、膜面温度を上昇させても、白粉状の物質が析出することなく、塗布層の硬化を行うことができる。また、第3の硬化工程において、第3温度を上昇させることにより、塗布層の硬化反応を充分に促進させることができ、非常に硬度の高い層を得ることができる。   Further, in the third curing step, the temperature of the drying air is cured at a third temperature higher than the second temperature. Since the coating layer is substantially cured by the second curing step, the coating layer is cured without precipitation of a white powdery substance even when the film surface temperature is increased in the third curing step. be able to. Further, in the third curing step, by raising the third temperature, the curing reaction of the coating layer can be sufficiently promoted, and a very high hardness layer can be obtained.

また、硬化工程における乾燥風の温度の分布を、第1温度を高く、第2温度を低く、第3温度を高く設定することにより、硬化前の塗布層がハーフキュア状態であっても、白粉状の物質が析出することなく、塗布層の硬化を行うことができる。   Further, by setting the temperature distribution of the drying air in the curing step to a high first temperature, a low second temperature, and a high third temperature, even if the coating layer before curing is in a half-cured state, The coating layer can be cured without precipitation of a powdery substance.

したがって、結果として、外観故障がなく、耐擦傷性に優れる反射防止フィルムを形成することができる。   Therefore, as a result, it is possible to form an antireflection film having no appearance failure and excellent scratch resistance.

請求項2は請求項1において、前記支持体がRe値0〜200nmの透明支持体であることを特徴とする。   A second aspect of the present invention is characterized in that, in the first aspect, the support is a transparent support having a Re value of 0 to 200 nm.

請求項2によれば、支持体のレターデーション値を上記範囲とすることにより、画像表示装置の反射防止フィルムとして好適に用いることができる。   According to the second aspect, by setting the retardation value of the support within the above range, it can be suitably used as an antireflection film of an image display device.

請求項3は請求項1または2において、前記第1の硬化工程が前記塗布膜の恒率乾燥期であり、前記第2の硬化工程が前記塗布膜の減率乾燥期であり、前記第1の硬化工程と前記第2の硬化工程とを前記恒率乾燥期から前記減率乾燥期の乾燥変化点の位置において区画することを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the first curing step is a constant rate drying period of the coating film, and the second curing step is a decreasing rate drying period of the coating film, The curing step and the second curing step are partitioned at the position of the drying change point from the constant rate drying period to the decreasing rate drying period.

請求項3は、第1の硬化工程と第2の硬化工程の区画を規定したものである。第1の硬化工程を恒率乾燥期とすることにより、乾燥風の温度を高温にしても、熱はすべて塗布層の溶媒揮発に使用されるため、塗布層が硬化することによる、白粉状の物質の析出がなく外観故障のない反射防止フィルムを形成することができる。   The third aspect defines the sections of the first curing step and the second curing step. By setting the first curing step to a constant rate drying period, even if the temperature of the drying air is high, all the heat is used for solvent evaporation of the coating layer. Thus, it is possible to form an antireflection film free from precipitation of the above substances and having no appearance failure.

しかし、塗布膜中の溶媒が少なくなった減率乾燥期では熱の大部分が塗布層の硬化に使用されるため、塗布膜の温度が高温になり、急激に硬化が進むため、白粉状の物質が析出する場合がある。   However, since most of the heat is used for curing the coating layer in the decreasing rate drying period when the solvent in the coating film is low, the temperature of the coating film becomes high and the curing proceeds rapidly, so that the white powder form May be deposited.

そこで、第2の硬化工程において、恒率乾燥期から減率乾燥期に移行する乾燥変化点での乾燥風の温度を下げるようにした。これにより、硬化がゆっくりと進行するため、白粉状の物質が析出することなく、塗布層の硬化を行うことができる。   Therefore, in the second curing step, the temperature of the drying air is lowered at the drying change point where the constant rate drying period shifts to the decreasing rate drying period. Thereby, since hardening progresses slowly, it can harden | cure an application layer, without depositing a white powder-like substance.

請求項4は請求項3において、前記乾燥変化点は、前記塗布膜中の固形分量が60〜80%の範囲であることを特徴とする。   A fourth aspect of the present invention is characterized in that, in the third aspect, the drying change point is a range in which the solid content in the coating film is 60 to 80%.

請求項4は、第1の硬化工程と第2の硬化工程との変更点である乾燥変化点の位置を規定したものであり、塗布膜中の固形分量が60〜80質量%になる位置とすることが好ましい。したがって、塗布膜中の固形分量を測定することにより、硬化工程のどの位置で第1の硬化工程と第2の硬化工程を変更すればよいかが分かる。   Claim 4 defines the position of the drying change point which is a change point between the first curing step and the second curing step, and the position where the solid content in the coating film is 60 to 80% by mass; It is preferable to do. Therefore, by measuring the solid content in the coating film, it is possible to know at which position in the curing process the first curing process and the second curing process should be changed.

請求項は請求項1からにおいて、前記光学機能層が、界面活性作用を持つフッ素系化合物及びシリコーン系化合物のうちから選択される少なくとも1種を含有する光学機能層形成用組成物であることを特徴とする。 A fifth aspect of the present invention is the composition for forming an optical functional layer according to any one of the first to fourth aspects, wherein the optical functional layer contains at least one selected from a fluorine-based compound having a surface active action and a silicone-based compound. It is characterized by that.

請求項によれば、光学機能層に、界面活性作用を持つフッ素系化合物またはシリコーン系化合物を含有させることにより、優れた防汚性やすべり性を有する光学機能層を形成することができる。 According to the fifth aspect , an optical functional layer having excellent antifouling properties and slipperiness can be formed by containing a fluorine-based compound or a silicone-based compound having a surface activity in the optical functional layer.

請求項は請求項1からにおいて、前記低屈折率層が、2以上の架橋性反応基を有するモノマーの1種を少なくとも含む硬化用化合物を含有することを特徴とする。 A sixth aspect of the present invention is characterized in that in the first to fifth aspects, the low refractive index layer contains a curing compound containing at least one monomer having two or more crosslinkable reactive groups.

請求項によれば、硬化用化合物として、2以上の架橋性反応基を有するモノマーの1種を少なくとも含有するものが、特に、密着性及び良好な面状を両立した光学補償シートを製造できるからである。 According to claim 6 , a compound containing at least one monomer having two or more crosslinkable reactive groups as the curing compound, in particular, can produce an optical compensation sheet having both good adhesion and good surface condition. Because.

請求項は請求項において、前記2以上の架橋性反応基を有するモノマーが、2以上のアルデヒド基を含有するアルデヒド化合物であることを特徴とする。 A seventh aspect is characterized in that, in the sixth aspect , the monomer having two or more crosslinkable reactive groups is an aldehyde compound containing two or more aldehyde groups.

請求項によれば、2以上の架橋反応性基を有するモノマーが2以上のアルデヒド基を有するアルデヒド化合物であるため、支持体と塗布膜との密着性を向上させることができる。 According to the seventh aspect , since the monomer having two or more cross-linking reactive groups is an aldehyde compound having two or more aldehyde groups, the adhesion between the support and the coating film can be improved.

請求項は、前記目的を達成するために、請求項1からいずれか記載の製造方法により製造された反射防止フィルムを提供する。 In order to achieve the above object, an eighth aspect provides an antireflection film manufactured by the manufacturing method according to any one of the first to seventh aspects.

請求項は、請求項1からに記載の反射防止フィルムの製造方法により製造された反射防止フィルムであるため、耐擦傷性に優れ、外観品質に優れた反射防止フィルムである。 8. are the antireflection film produced by the production method of the antireflective film according to claims 1 7, excellent scratch resistance, an excellent antireflection film appearance quality.

請求項は請求項において、前記光学機能層が、防眩性付与層であることを特徴とする。 A ninth aspect is characterized in that, in the eighth aspect , the optical functional layer is an anti-glare layer.

請求項10は請求項8または9において、前記光学機能層の屈折率が1.58以上2.00以下であることを特徴とする。 A tenth aspect is characterized in that, in the eighth or ninth aspect , a refractive index of the optical functional layer is 1.58 or more and 2.00 or less.

請求項11は請求項から10において、前記低屈折率層の屈折率が、1.31以上1.45以下であることを特徴とする。 An eleventh aspect is characterized in that, in the eighth to tenth aspects, a refractive index of the low refractive index layer is 1.31 or more and 1.45 or less.

請求項から11によれば、光学機能層を防眩性付与層とすることにより、効率よく支持体からの反射を防止することができる。また、屈折率を上記範囲とすることにより、反射率の低減が可能である。 According to the eighth to eleventh aspects, reflection from the support can be efficiently prevented by using the optical function layer as an antiglare property-imparting layer. Further, the reflectance can be reduced by setting the refractive index within the above range.

本発明によれば、塗布層の硬化が促進される第2の硬化工程の乾燥風の温度を下げることにより、塗布層と被塗布層の密着性を保ち耐擦傷性に優れ、かつ、外観品質の良好な反射防止フィルムを提供することができる。また、第1の硬化工程の乾燥風の温度を上げることにより、加熱硬化時間を速くすることができるので、生産性を向上させることができる。また、第3の硬化工程において、乾燥風の温度を上げることにより、塗布層の硬化反応を充分に促進させることができ、非常に硬度の高い層を得ることができる。したがって、結果として、外観故障がなく、耐擦傷性に優れる反射防止フィルムを形成することができる。   According to the present invention, by reducing the temperature of the drying air in the second curing step in which the curing of the coating layer is accelerated, the adhesion between the coating layer and the coating layer is maintained and the scratch resistance is excellent, and the appearance quality is improved. Can be provided. Further, by raising the temperature of the drying air in the first curing step, the heat curing time can be shortened, so that productivity can be improved. Further, in the third curing step, by raising the temperature of the drying air, the curing reaction of the coating layer can be sufficiently promoted, and a very hard layer can be obtained. Therefore, as a result, it is possible to form an antireflection film having no appearance failure and excellent scratch resistance.

以下、本発明の反射防止フィルムの製造方法、および、その製造方法により製造された反射防止フィルムについて実施形態を示しながら説明する。なお、ここに示す形態は、本発明に係る一例であり、本発明を限定するものではない。図1に本実施形態で用いるフィルム製造装置1の概略図を示す。   Hereinafter, the manufacturing method of the antireflection film of the present invention and the antireflection film manufactured by the manufacturing method will be described with reference to embodiments. In addition, the form shown here is an example which concerns on this invention, and does not limit this invention. FIG. 1 shows a schematic diagram of a film production apparatus 1 used in the present embodiment.

フィルム製造装置1には、形成する反射防止フィルムのベース、すなわちベースフィルム2を送り出す送出機70と、ベースフィルム2の表面に液を塗布して塗布層を形成するための、塗布装置10と、複数のパスローラ31を備え、塗布層を乾燥させるための乾燥装置30と、仕切り板41で仕切られた前室42aと中室42bと後室42cとを有し、塗布層を熱硬化させるための、加熱装置40と、塗布層に紫外線を照射して硬化を十分に促進させることで反射防止フィルム3とする紫外線ランプ50と、反射防止フィルム3を巻き取るための巻取機60とが備えられている。また、この他にも、フィルム製造装置1には、複数の搬送ローラ80や除塵機90が備えられている。   The film manufacturing apparatus 1 includes a base 70 for an antireflection film to be formed, that is, a delivery device 70 for feeding out the base film 2, a coating apparatus 10 for forming a coating layer by coating a liquid on the surface of the base film 2, A plurality of pass rollers 31, a drying device 30 for drying the coating layer, a front chamber 42 a, a middle chamber 42 b, and a rear chamber 42 c partitioned by a partition plate 41, for thermosetting the coating layer , A heating device 40, an ultraviolet lamp 50 for making the antireflection film 3 by sufficiently irradiating the coating layer with ultraviolet rays and curing the coating layer, and a winder 60 for winding the antireflection film 3 are provided. ing. In addition, the film manufacturing apparatus 1 includes a plurality of transport rollers 80 and a dust remover 90.

塗布装置10には、ベースフィルム2の搬送路の下方に、グラビアパターンが刻印されたマイクログラビアローラ11と塗布液が入れられているタンク(図示しない)とが備えられている。このマイクログラビアローラ11は、ベースフィルム2の所望の面に、塗布液を塗布するための部材である。また、上記のタンクは、マイクログラビアローラ11の下方であり、マイクログラビアローラ11の表面が塗布液に接触する位置に配されているので、タンク内の塗布液にマイクログラビアローラ11の表面を接触させることにより、グラビアパターンに塗布液を供給することができる。ここで、余剰の塗布液は、ドクターブレード(図示しない)により取り除かれるため、グラビアパターンへ供給する塗布液を適量に調整することができる。   The coating apparatus 10 includes a micro gravure roller 11 on which a gravure pattern is engraved and a tank (not shown) in which a coating liquid is placed below the conveyance path of the base film 2. The micro gravure roller 11 is a member for applying a coating liquid to a desired surface of the base film 2. Further, the tank is located below the micro gravure roller 11 and is disposed at a position where the surface of the micro gravure roller 11 comes into contact with the coating liquid, so that the surface of the micro gravure roller 11 contacts the coating liquid in the tank. By doing so, the coating liquid can be supplied to the gravure pattern. Here, since the excess coating liquid is removed by a doctor blade (not shown), the coating liquid supplied to the gravure pattern can be adjusted to an appropriate amount.

乾燥装置30には、整風板34により仕切られた搬送室32と排気室33とが備えられている。整風板34は、複数の開口が設けられた金属製の板であり、搬送室32と排気室33とを仕切りながらも、両室間での風通しを良好なものとしている。整風板34の開口率及び材質などは、特に限定されないが、開口率が50%以下の金網やパンチングメタルが好ましく、より好ましくは開口率が20〜40%である。本実施形態では、300メッシュで開口率30%の金網を用いている。なお、整風板34は、整風板34とベースフィルム2の塗布層表面との間隔が10mm程度となるように設けることが好ましい。   The drying device 30 includes a transfer chamber 32 and an exhaust chamber 33 that are partitioned by an air conditioning plate 34. The air-conditioning plate 34 is a metal plate provided with a plurality of openings, and provides good ventilation between both chambers while partitioning the transfer chamber 32 and the exhaust chamber 33. The aperture ratio and material of the air conditioning plate 34 are not particularly limited, but a wire mesh or punching metal with an aperture ratio of 50% or less is preferable, and an aperture ratio is more preferably 20 to 40%. In the present embodiment, a wire mesh with 300 mesh and an aperture ratio of 30% is used. In addition, it is preferable to provide the air conditioning plate 34 so that the space | interval of the air conditioning plate 34 and the coating layer surface of the base film 2 may be about 10 mm.

搬送室32には、ベースフィルム2を支持しながら搬送するための複数のパスローラ31が備えられている。なお、各パスローラ31は、脱着が可能であり、容易に脱着操作を行うことができる形態であることが好ましい。例えば、ベースフィルム2の上に塗布された液の残留溶媒量が20%以上45%以下の場合には、パスローラ31を取り外してベースフィルム2に非接触で搬送するようにすると、平面性を低下させずにベースフィルム2を搬送することができる。   The transfer chamber 32 is provided with a plurality of pass rollers 31 for transferring the base film 2 while supporting it. In addition, it is preferable that each pass roller 31 is a form which can be attached or detached and can be easily attached or detached. For example, when the residual solvent amount of the liquid applied on the base film 2 is 20% or more and 45% or less, if the pass roller 31 is removed and conveyed to the base film 2 in a non-contact manner, the flatness is lowered. The base film 2 can be conveyed without making it.

排気室33には、ベースフィルム2の幅方向であり、それぞれ対向する位置に、排気室33内の空気を排気するための、排気パイプと、排気室33内に新たな空気を送り込むための給気パイプ(共に図示しない)とが取り付けられている。排気室33では、排気パイプにより排気室33内に空気が室外へと排気されると共に、給気パイプにより排気室33の内部に所望の温度に加熱した乾燥空気が送り込まれることで、その内部温度が適宜調整される。これにより、搬送室32を搬送されるベースフィルム2上の塗布層の乾燥を促進させることができる。なお、給気パイプから給気される空気は、空気以外のガスでも良く、特に限定されるものではない。   The exhaust chamber 33 is disposed in the width direction of the base film 2 and is opposed to the exhaust chamber 33. The exhaust pipe 33 exhausts air in the exhaust chamber 33 and a supply air for feeding new air into the exhaust chamber 33. An air pipe (both not shown) is attached. In the exhaust chamber 33, air is exhausted into the exhaust chamber 33 by the exhaust pipe, and dry air heated to a desired temperature is sent into the exhaust chamber 33 by the air supply pipe. Is adjusted accordingly. Thereby, drying of the coating layer on the base film 2 conveyed in the conveyance chamber 32 can be promoted. The air supplied from the air supply pipe may be a gas other than air and is not particularly limited.

加熱装置40において、仕切り板41a、41bで仕切られた前室42a、中室42bおよび後室42cの内部には、各室の内部温度を調整するための温度制御手段である給気ダクト43a、43b、43cがそれぞれ設置されている。仕切り版41a、41bは、その形状や材質等に特に制限はないが、熱伝導性の低い材料で形成されているものが好ましい。また、温度制御手段も、特に限定されるものではなく、例えば、加熱温度を任意に制御することができる加熱器が挙げられる。また、フィルム製造装置1には、ベースフィルム2を支持しながら搬送するための搬送ローラ80が、適宜配置されている。なお、搬送ローラ80の設置箇所および個数などは特に制限されるものではなく、必要に応じて選択することができる。   In the heating device 40, inside the front chamber 42a, the middle chamber 42b, and the rear chamber 42c partitioned by the partition plates 41a and 41b, an air supply duct 43a that is a temperature control means for adjusting the internal temperature of each chamber, 43b and 43c are respectively installed. The partition plates 41a and 41b are not particularly limited in shape and material, but are preferably formed of a material having low thermal conductivity. Also, the temperature control means is not particularly limited, and examples thereof include a heater that can arbitrarily control the heating temperature. Further, the film manufacturing apparatus 1 is appropriately provided with a transport roller 80 for transporting the base film 2 while supporting it. In addition, the installation location and the number of the transport rollers 80 are not particularly limited, and can be selected as necessary.

次に、上記のようなフィルム製造装置1を用いて光学フィルムを製造する方法を説明する。   Next, a method for producing an optical film using the film production apparatus 1 as described above will be described.

図2(a)に反射防止フィルム3の断面図を示す。反射防止フィルム3は、ベースフィルム2の上に低屈折率層24が形成された構造を有する。先ず、形成する反射防止フィルム3のベースとなる、ベースフィルム2の構造について説明する。本実施形態で使用するベースフィルム2は、透明な支持体21と、この支持体21の上に接するようにして配される第1層22および複数の透光性微粒子25を含有する。ベースフィルム2の材質や構造などは特に限定されるものではなく、市販のポリマーフィルムなどを支持体として、その上に所望の光学機能層を塗設するなどして設けたものを好適に用いることができる。支持体のレターデーション値(Re値)は、反射防止フィルムが用いられる液晶表示装置やその使用方法に応じて好ましい範囲が異なるが、通常、Re値は0〜200nmの透明支持体であることが好ましい。支持体のRe値を上記範囲とすることにより、画像表示装置の反射防止フィルムとして好適に用いることができる。また、第1層22および第2層23の種類なども特に限定されるものではないが、本実施形態では、光学特性に優れる反射防止フィルム3を得るために、第1層22をハードコート層とし、第2層23を防眩性ハードコート層とする。なお、透光性微粒子25については、後で詳細に説明する。   FIG. 2A shows a cross-sectional view of the antireflection film 3. The antireflection film 3 has a structure in which a low refractive index layer 24 is formed on the base film 2. First, the structure of the base film 2 serving as the base of the antireflection film 3 to be formed will be described. The base film 2 used in the present embodiment includes a transparent support 21, a first layer 22 disposed in contact with the support 21, and a plurality of translucent fine particles 25. The material and structure of the base film 2 are not particularly limited, and it is preferable to use a commercially available polymer film or the like that is provided by coating a desired optical functional layer on the support. Can do. Although the preferred range of the retardation value (Re value) of the support varies depending on the liquid crystal display device in which the antireflection film is used and the method of use thereof, the Re value is usually a transparent support having a thickness of 0 to 200 nm. preferable. By setting the Re value of the support within the above range, it can be suitably used as an antireflection film for an image display device. Also, the types of the first layer 22 and the second layer 23 are not particularly limited, but in the present embodiment, in order to obtain the antireflection film 3 having excellent optical characteristics, the first layer 22 is a hard coat layer. The second layer 23 is an antiglare hard coat layer. The translucent fine particles 25 will be described in detail later.

先ず、ベースフィルム2が送出機70から適宜送り出され、送り出されたベースフィルム2は、搬送ローラ80に支持されながら搬送される間に、その表面に向って除塵機90から風が吹きつけられる。これによりフィルムの表面に付着している塵などの不純物を取り除くことができるので、塗布層を形成する際に不純物が混入するおそれを低減する効果が得られる。なお、除塵機90の設置箇所や設置台数などは特に制限されるものではないが、上記の効果をより高めるためにも、本実施形態のように、除塵機90は、塗布装置10の上流側であり、かつ塗布装置10に出来る限り近い位置へ設けることが好ましい。   First, the base film 2 is appropriately sent out from the delivery device 70, and the delivered base film 2 is blown from the dust remover 90 toward the surface while being conveyed while being supported by the conveyance roller 80. Thereby, impurities such as dust adhering to the surface of the film can be removed, so that an effect of reducing the possibility of impurities being mixed when forming the coating layer can be obtained. In addition, although the installation location and the number of installed units of the dust remover 90 are not particularly limited, the dust remover 90 is provided on the upstream side of the coating apparatus 10 as in the present embodiment in order to further enhance the above effect. And it is preferable to provide it at a position as close as possible to the coating apparatus 10.

除塵されたベースフィルム2は設備の下流へと搬送され、塗布装置10によりその表面に液が塗布される。本実施形態では、光学機能層26よりも低屈折率となる層を形成させるための液をベースフィルム2の表面に塗布して、低屈折率層となる塗布層を設ける。塗布装置10のマイクログラビアローラ11は、ベースフィルム2の搬送方向とは反対向きに回転しており、かつその表面に形成されているグラビアパターンには、適量の塗布液が供給されている。このようなマイクログラビアローラ11をベースフィルム2の表面に接触させると、塗布液を転写させることができるため、ベースフィルム2の表面に塗布層を容易に形成させることが可能となる。   The dust-removed base film 2 is conveyed downstream of the equipment, and a liquid is applied to the surface by the coating device 10. In the present embodiment, a liquid for forming a layer having a lower refractive index than that of the optical functional layer 26 is applied to the surface of the base film 2 to provide a coating layer that becomes a low refractive index layer. The micro gravure roller 11 of the coating apparatus 10 rotates in the direction opposite to the conveying direction of the base film 2, and an appropriate amount of coating liquid is supplied to the gravure pattern formed on the surface thereof. When such a micro gravure roller 11 is brought into contact with the surface of the base film 2, the coating liquid can be transferred, so that a coating layer can be easily formed on the surface of the base film 2.

マイクログラビアローラ11に刻印されたグラビアパターンの線数は50〜800本/インチであることが好ましく、より好ましくは100〜300本/インチである。また、グラビアパターンの深度は1〜600μmであることが好ましく、より好ましくは5〜200μmである。更に、マイクログラビアローラ11の回転数は3〜800rpmであることが好ましく、より好ましくは5〜200rpmである。なお、ベースフィルム2の搬送速度は0.5〜100m/分とすることが好ましい、より好ましくは1〜50m/分である。以上により、ベースフィルムの表面に、厚みが均一で塗布ムラの少ない塗布層を形成することができる。   The number of gravure patterns imprinted on the micro gravure roller 11 is preferably 50 to 800 lines / inch, and more preferably 100 to 300 lines / inch. Moreover, it is preferable that the depth of a gravure pattern is 1-600 micrometers, More preferably, it is 5-200 micrometers. Furthermore, the rotational speed of the micro gravure roller 11 is preferably 3 to 800 rpm, more preferably 5 to 200 rpm. In addition, it is preferable that the conveyance speed of the base film 2 shall be 0.5-100 m / min, More preferably, it is 1-50 m / min. As described above, a coating layer having a uniform thickness and little coating unevenness can be formed on the surface of the base film.

なお、上記の塗布液の量は、特に限定されるものではなく、ベースフィルム2の表面でのはじきの発生を防止し、かつ所望とする塗布層の厚み等を考慮しながら適宜選択すれば良い。ただし、塗布液の量が多いと、ベースフィルム2の表面にはじきが形成される、または、乾燥時間が長くなるおそれがあるため問題である。この問題は塗布層が厚すぎる場合にも同様に発生する。したがって、本問題を回避するために、塗布液の量はベースフィルム1mあたり、1〜40mlとすることが好ましく、特に好ましくは2〜25mlとすることである。また、乾燥時間の長時間化を防ぎつつ、所望の特性を有する層を形成させるために、塗布層の厚みは0.01〜20μmとすることが好ましく、より好ましくは0.05〜10μmである。 The amount of the coating solution is not particularly limited, and may be appropriately selected while preventing the occurrence of repelling on the surface of the base film 2 and considering the desired thickness of the coating layer. . However, if the amount of the coating solution is large, there is a problem that repellency may be formed on the surface of the base film 2 or the drying time may be prolonged. This problem also occurs when the coating layer is too thick. Therefore, in order to avoid this problem, the amount of the coating solution is preferably 1 to 40 ml, particularly preferably 2 to 25 ml, per 1 m 2 of the base film. In order to form a layer having desired characteristics while preventing the drying time from being prolonged, the thickness of the coating layer is preferably 0.01 to 20 μm, more preferably 0.05 to 10 μm. .

乾燥装置30に送り込まれたベースフィルム2は、塗布層側とは反対の面を支持面として、各パスローラ31で支持されながら搬送室32内を搬送する。乾燥装置30では、給気パイプ(図示しない)から温度を調整した乾燥風を送り込むことで内部温度が調整される。これにより、塗布層の乾燥をある程度促進させる初期乾燥を行うことができる。なお、乾燥装置30の内部温度は、20℃以上120℃以下であることが好ましく、より好ましくは、25℃以上100℃以下である。これにより、熱収縮を発生させることなく塗布層の乾燥を進行させることができる。ただし、内部温度を20℃未満とすると、塗布層に含まれる溶剤を十分に蒸発させることができないので、溶剤を多く含んだままの塗布層を次の加熱装置40で加熱することになる。その結果、加熱装置40では、塗布層中の溶剤が急激に蒸発するため、乾燥ムラや厚みムラが大量に生じて外観故障が著しく悪化する。一方で、乾燥装置30の内部温度を120℃よりも高くすると、乾燥装置30の内部で塗布層中の溶剤が急激に蒸発するため、塗布層が熱収縮したり、溶剤の蒸発と共に添加剤が蒸発して所望の特性を有する層が形成できないおそれがある。   The base film 2 fed into the drying device 30 is transported in the transport chamber 32 while being supported by the pass rollers 31 with the surface opposite to the coating layer side as a support surface. In the drying device 30, the internal temperature is adjusted by sending drying air whose temperature is adjusted from an air supply pipe (not shown). Thereby, initial drying that promotes drying of the coating layer to some extent can be performed. In addition, it is preferable that the internal temperature of the drying apparatus 30 is 20 to 120 degreeC, More preferably, it is 25 to 100 degreeC. Thereby, drying of an application layer can be advanced without generating heat shrink. However, if the internal temperature is less than 20 ° C., the solvent contained in the coating layer cannot be sufficiently evaporated, and the coating layer containing a large amount of the solvent is heated by the next heating device 40. As a result, in the heating device 40, since the solvent in the coating layer is rapidly evaporated, a large amount of drying unevenness and thickness unevenness are caused, and the appearance failure is remarkably deteriorated. On the other hand, when the internal temperature of the drying device 30 is higher than 120 ° C., the solvent in the coating layer rapidly evaporates inside the drying device 30, so that the coating layer thermally shrinks or the additive is added together with the evaporation of the solvent. There is a possibility that a layer having desired characteristics cannot be formed by evaporation.

また、各パスローラ31は、その表面温度を調整することができる機能を有することが好ましい。これにより、塗布層の乾燥をより効率的に行うことができる。このとき、塗布層の乾燥ムラを抑制するために、各パスローラ31の表面温度は、乾燥装置30の内部の温度と略同等に調整することが好ましい。   Each pass roller 31 preferably has a function of adjusting the surface temperature. Thereby, the coating layer can be dried more efficiently. At this time, the surface temperature of each pass roller 31 is preferably adjusted to be substantially equal to the temperature inside the drying device 30 in order to suppress drying unevenness of the coating layer.

なお、搬送室32内の風速は、0.1m/秒以上1.5m/秒以下とすることが好ましい。より好ましくは、0.1m/秒以上1.0m/秒以下であり、特に好ましくは0.2m/秒以上1.0m/秒以下である。これにより、外観故障の発生を防止しながら、乾燥装置30により塗布層の初期乾燥を効率良くかつ満足に行うことができる。ただし、風速が0.1m/秒以下の場合には、乾燥効率が大幅に低下して、塗布層の初期乾燥を十分に行なうことができない。そのため、加熱装置40では溶剤を多量に含む塗布層を乾燥させることになるので、溶剤が急激に蒸発して塗布層に乾燥ムラや厚みムラが大量に生じてしまう。ここで乾燥を十分に行なうために搬送室32を長くすると、設備コストの増大や乾燥効率の低下等を引き起こすおそれがあるため好ましくない。一方で、風速を1.5m/秒よりも大きくすると、塗布層に厚みムラが生じるおそれがあり問題である。   The wind speed in the transfer chamber 32 is preferably 0.1 m / second or more and 1.5 m / second or less. More preferably, it is 0.1 m / second or more and 1.0 m / second or less, and particularly preferably 0.2 m / second or more and 1.0 m / second or less. Thereby, the initial drying of the coating layer can be performed efficiently and satisfactorily by the drying device 30 while preventing the appearance failure. However, when the wind speed is 0.1 m / sec or less, the drying efficiency is significantly lowered, and the initial drying of the coating layer cannot be sufficiently performed. For this reason, since the heating device 40 dries the coating layer containing a large amount of the solvent, the solvent rapidly evaporates, resulting in a large amount of uneven drying and uneven thickness in the coating layer. Here, it is not preferable to lengthen the transfer chamber 32 in order to sufficiently dry, since it may cause an increase in equipment cost and a decrease in drying efficiency. On the other hand, if the wind speed is higher than 1.5 m / sec, there is a possibility that uneven thickness may occur in the coating layer, which is a problem.

塗布層の初期乾燥が終了したベースフィルム2は、乾燥装置30から送り出された後、続けて、加熱装置40へと送り込まれる。加熱装置40は、給気ダクト43a、43b、43cから供給される乾燥空気の温度を調整することで、前室42a、中室42b及び後室42cの各内部温度を調整している。   After the initial drying of the coating layer is completed, the base film 2 is sent out from the drying device 30 and then sent into the heating device 40. The heating device 40 adjusts the internal temperatures of the front chamber 42a, the middle chamber 42b, and the rear chamber 42c by adjusting the temperature of the dry air supplied from the air supply ducts 43a, 43b, and 43c.

ここで、加熱装置40内に供給する乾燥風の温度は、前室42aに供給する乾燥風の温度すなわち第1温度、中室42bに供給する乾燥風の温度すなわち第2温度、後室42cに供給する乾燥風の温度すなわち第3温度において、以下の関係を有している。前室42aにおける硬化工程である第1の硬化工程においては、第1温度を第2温度より高い温度で硬化を行う。そして、中室42bにおける硬化工程である第2の硬化工程においては、第2温度を第1温度より低い温度で硬化を行う。そして、後室42cにおける硬化工程である第3の硬化工程においては、第3温度を再び第2温度より高い温度で硬化を行う。   Here, the temperature of the drying air supplied into the heating device 40 is the temperature of the drying air supplied to the front chamber 42a, that is, the first temperature, the temperature of the drying air supplied to the middle chamber 42b, that is, the second temperature, and the temperature of the drying chamber 42c. The temperature of the supplied drying air, that is, the third temperature, has the following relationship. In the first curing step, which is a curing step in the front chamber 42a, the first temperature is cured at a temperature higher than the second temperature. In the second curing step, which is a curing step in the middle chamber 42b, the second temperature is cured at a temperature lower than the first temperature. Then, in the third curing step, which is a curing step in the rear chamber 42c, the third temperature is again set at a temperature higher than the second temperature.

これは、硬化の初期段階において、硬化温度が高いと白粉状の物質が発生することが知られている。しかし、初期段階のさらに初期である第1の硬化工程においては、まだ、塗布層中に多量の溶媒を含んでいるため、高温で乾燥を行っても白粉状の物質が析出することがほとんどない。また、硬化温度を高温とすることにより、硬化時間を短縮できるという効果がある。   It is known that a white powdery substance is generated when the curing temperature is high at the initial stage of curing. However, in the first curing step, which is the initial stage of the initial stage, since the coating layer still contains a large amount of solvent, a white powdery substance is almost always deposited even when drying at high temperature. Absent. Moreover, there exists an effect that hardening time can be shortened by making hardening temperature into high temperature.

次に中室42bにおいて、第1温度より低い第2温度にて、硬化を行う。前室42aを通過してきたベースフィルム2上の塗布層は、溶媒量が少なくなっている。したがって、高温で乾燥することにより、白粉状の物質が析出する。そのため、第2の硬化工程において、温度を下げることにより、白粉状の物質の析出を防止することができる。   Next, curing is performed in the middle chamber 42b at a second temperature lower than the first temperature. The coating layer on the base film 2 that has passed through the front chamber 42a has a small amount of solvent. Therefore, a white powdery substance is deposited by drying at a high temperature. Therefore, in the second curing step, precipitation of a white powder substance can be prevented by lowering the temperature.

最後に後室42cにおいて、第2温度より高い温度にて、硬化を行っている。第3温度を上昇させることにより、塗布層の硬化反応を十分に行うことができるため、非常に硬度の高い層を得ることができる。   Finally, curing is performed in the rear chamber 42c at a temperature higher than the second temperature. By raising the third temperature, the coating layer can be sufficiently cured, so that a layer with very high hardness can be obtained.

硬化温度は乾燥させる塗布膜の材質、塗布量および塗布膜の厚さなどにより適宜選択し行われる。具体的には、第1温度は100℃以上120℃以下であり、好ましくは105℃以上110℃以下である。また、第2温度は85℃以上100℃以下であり、好ましくは90℃以上95℃以下である。さらに、第3温度は100℃以上120℃以下であり、好ましくは105℃以上110℃以下である。乾燥風の温度は、第1温度よりも第2温度が低くなるように調整され、第3温度は第2温度より高くなるように調整される。なお、第1温度と第2温度との温度差は5℃以上15℃以下とすることが好ましい。また、第2温度と第3温度との温度差は5℃以上15℃以下であることが好ましい。   The curing temperature is appropriately selected depending on the material of the coating film to be dried, the coating amount, the thickness of the coating film, and the like. Specifically, the first temperature is 100 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, preferably 105 ° C. or higher and 110 ° C. or lower. Moreover, 2nd temperature is 85 degreeC or more and 100 degrees C or less, Preferably they are 90 degreeC or more and 95 degrees C or less. Further, the third temperature is 100 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, preferably 105 ° C. or higher and 110 ° C. or lower. The temperature of the drying air is adjusted so that the second temperature is lower than the first temperature, and the third temperature is adjusted so as to be higher than the second temperature. The temperature difference between the first temperature and the second temperature is preferably 5 ° C. or more and 15 ° C. or less. The temperature difference between the second temperature and the third temperature is preferably 5 ° C. or more and 15 ° C. or less.

この様に、本発明では、低屈折率層を設ける際に、初期乾燥を行った後の塗布層を少なくとも3以上の異なる温度で乾燥させるようにしたので、添加剤等の溶出を押さえながら塗布層の熱硬化を行った後に、塗布層の硬化反応をより十分に促進させることができる。また、硬化初期における硬化温度を上げることができるため、硬化速度を向上させることができる。このため、添加剤等の溶出による白粉状の物質が表面に生成することなく、かつ、非常に硬度の高い層を得ることができるので、結果として、外観故障がなく、耐擦傷性に優れる塗布層、すなわち低屈折率層を形成させることが可能となる。   As described above, in the present invention, when the low refractive index layer is provided, the coating layer after the initial drying is dried at at least three different temperatures, so that the coating can be performed while suppressing elution of additives and the like. After the layer is thermally cured, the curing reaction of the coating layer can be more fully accelerated. Moreover, since the curing temperature in the initial stage of curing can be raised, the curing rate can be improved. For this reason, a white powdery substance due to elution of additives and the like is not generated on the surface, and a very hard layer can be obtained. As a result, there is no appearance failure and excellent scratch resistance. An application layer, that is, a low refractive index layer can be formed.

ただし、第1温度が100℃未満、第2温度が85℃未満、第3温度が100℃未満の場合には、いずれも塗布層の熱硬化を促進させる温度としては低すぎるため問題である。ここで、硬化反応を促進させるためにベースフィルム2の搬送速度を遅くしたり、搬送路を長くしたりすると、搬送時間の長時間化による生産性の低下や、加熱装置40内での滞留時間の長時間化によりベースフィルム2が熱ダメージを受けたりするおそれがある他、設備の大型化による設備コストの増大を招くため問題である。一方で、第1温度が120℃を超える場合、第2温度が100℃を超える場合、第3温度が120℃を超える場合には、塗布層中に含まれる添加剤が塗布層の表面に溶け出して、外観故障や塗布層の熱収縮によるしわ及びつれ等が生じるおそれがあるので問題である。   However, when the first temperature is less than 100 ° C., the second temperature is less than 85 ° C., and the third temperature is less than 100 ° C., all are problematic because the temperature is too low to promote thermal curing of the coating layer. Here, if the transport speed of the base film 2 is slowed or the transport path is lengthened in order to promote the curing reaction, the productivity decreases due to the prolonged transport time, and the residence time in the heating device 40 In addition to the possibility that the base film 2 may be thermally damaged due to the prolonged time, the cost of equipment is increased due to the increase in equipment size. On the other hand, when the first temperature exceeds 120 ° C., when the second temperature exceeds 100 ° C., or when the third temperature exceeds 120 ° C., the additive contained in the coating layer dissolves on the surface of the coating layer. This is a problem because wrinkles and wrinkles due to appearance failure and thermal contraction of the coating layer may occur.

また、各硬化工程は、第1の硬化工程を塗布膜の恒率乾燥期で行い、第2の硬化工程を塗布膜の減率乾燥期で行い、第1の硬化工程と第2の硬化工程とを恒率乾燥期から減率乾燥期の乾燥変化点の位置において区画することが好ましい。   Moreover, each hardening process performs a 1st hardening process in the constant rate drying period of a coating film, performs a 2nd hardening process in the decreasing rate drying period of a coating film, a 1st hardening process and a 2nd hardening process. Are preferably divided at the position of the drying change point from the constant rate drying period to the decreasing rate drying period.

ここで、乾燥変化点について説明する。図3に乾燥時間に対する膜面温度の温度変化を示す。図3は横軸が乾燥時間、縦軸が膜面温度であり、一定の風速と風温で塗布膜を乾燥させた場合の膜面の温度変化を示す。図3に示すように、乾燥を開始すると、ある時間から湿球温度であった膜面温度が上昇する。上昇前を恒率乾燥期と称し、上昇が開始した点以降を減率乾燥期と称する。また、恒率乾燥期と減率乾燥期との変化点を乾燥変化点と称する。膜面温度が湿球温度である恒率乾燥期においては、膜内の揮発分の膜内移動が充分早く、表面から揮発する液が充分存在する状態である。そして、減率乾燥期では、膜内の揮発分が表面に不足して同じ風を与えても乾燥速度が遅い状態になる。この乾燥変化点において、固形分量を測定すると、60〜80%の間である。   Here, the drying change point will be described. FIG. 3 shows the temperature change of the film surface temperature with respect to the drying time. In FIG. 3, the horizontal axis represents the drying time and the vertical axis represents the film surface temperature, and shows the temperature change of the film surface when the coating film is dried at a constant air speed and air temperature. As shown in FIG. 3, when drying is started, the film surface temperature, which has been the wet bulb temperature, increases from a certain time. The period before the increase is referred to as the constant rate drying period, and the point after the start of the increase is referred to as the decreasing rate drying period. Further, the changing point between the constant rate drying period and the decreasing rate drying period is referred to as a drying change point. In the constant rate drying period in which the film surface temperature is the wet bulb temperature, the movement of volatile components in the film is sufficiently fast to move within the film, and there is a sufficient amount of liquid that volatilizes from the surface. In the rate-decreasing drying period, even if the volatile matter in the film is insufficient on the surface and the same wind is applied, the drying rate is slow. When the solid content is measured at this drying change point, it is between 60 and 80%.

次に、固形分の測定方法について説明する。ここでいう固形分量とは
固形分量(%)=固形分/(揮発分+固形分)×100
である。固形分及び(揮発分+固形分)は、重量測定により、以下の式(1)及び式(2)により求めることができる。
固形分=[A:乾燥終了した膜の重量]−[B:塗布前の支持体の重量]・・・(1)
揮発分+固形分=[C:ある乾燥ゾーンでサンプルした膜の重量]−[B:塗布前の支持体の重量] ・・・(2)
したがって、あるゾーンでサンプルを採取した時に
A:揮発分の沸点以上で絶乾させた重量、
B:Aを脱膜して測った重量、
C:サンプルしてすぐに測った重量、
を各々測定することにより固形分量を得ることができる。
Next, a method for measuring the solid content will be described. Solid content here Solid content (%) = solid content / (volatile content + solid content) × 100
It is. The solid content and (volatile content + solid content) can be obtained from the following formulas (1) and (2) by weight measurement.
Solid content = [A: Weight of dried film] − [B: Weight of support before coating] (1)
Volatile content + solid content = [C: weight of film sampled in a certain drying zone] − [B: weight of support before coating] (2)
Therefore, when a sample is taken in a certain zone, A: a weight that is completely dried above the boiling point of volatile matter,
B: Weight measured by removing A,
C: Weight measured immediately after sampling,
The solid content can be obtained by measuring each.

加熱装置40で初期硬化が行われた後のベースフィルム2には、形成された低屈折率層の表面に向かって紫外線ランプ50により紫外線が照射される。このように低屈折率層に紫外線のような電離放射線を照射すると、層の硬化をよりいっそう促進させることができるため、非常に硬度が高い層を得ることができる。なお、本発明における電離放射線とは、紫外線の他、電子線、X線、γ線、高速中性子線、高速荷電粒子線等の線であり、照射した物質に電離作用をもたらす放射線を意味する。最後に、反射防止フィルム3は、巻取機60に巻き取られる。ただし、反射防止フィルム3は、必ずしも巻取機60で巻き取られた状態(バルク)である必要はなく、シート状とする等、その最終形態は特に限定されない。   The base film 2 after the initial curing is performed by the heating device 40 is irradiated with ultraviolet rays from the ultraviolet lamp 50 toward the surface of the formed low refractive index layer. In this way, when the low refractive index layer is irradiated with ionizing radiation such as ultraviolet rays, the curing of the layer can be further promoted, so that a layer with extremely high hardness can be obtained. In addition, the ionizing radiation in this invention is rays, such as an electron beam, an X-ray, a gamma ray, a fast neutron beam, a fast charged particle beam other than an ultraviolet-ray, and means the radiation which brings an ionization effect | action to the irradiated substance. Finally, the antireflection film 3 is wound around the winder 60. However, the antireflection film 3 is not necessarily in a state (bulk) wound up by the winder 60, and the final form thereof is not particularly limited, for example, a sheet shape.

以上の方法により形成される反射防止フィルム3は、初期乾燥後に熱硬化され、更に、紫外線が照射されることで形成された低屈折率層24を有するため、外観故障がほとんどなく、かつ耐擦傷性に優れる等の特徴を有する。   The antireflection film 3 formed by the above method has a low refractive index layer 24 that is thermally cured after initial drying and further irradiated with ultraviolet rays, so that there is almost no appearance failure and scratch resistance. It has characteristics such as excellent properties.

次に、本発明に係る反射防止フィルムについて説明する。支持体21は、透明であり、各層を形成させるための土台となる部材であるが、ポリマーからなるプラスチックフィルムであることが好ましい。上記のポリマーとしては、セルロースエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂、非晶質ポリオレフィン等が挙げられる。中でも、セルロースエステルであるトリアセチルセルロース、ポリエステルであるポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートを用いることが好ましく、特に、トリアセチルセルロースであることが好ましい。   Next, the antireflection film according to the present invention will be described. The support 21 is transparent and is a member serving as a base for forming each layer, but is preferably a plastic film made of a polymer. Examples of the polymer include cellulose ester, polyamide, polycarbonate, polyester, polystyrene, polyolefin, norbornene resin, and amorphous polyolefin. Among these, it is preferable to use cellulose ester triacetyl cellulose, polyesters polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and triacetyl cellulose is particularly preferable.

光学機能層26は、光学機能層としての作用を有するような層であり、ポリマーであるバインダや重合開始剤、分散剤等からなる少なくとも1層の層より構成される。したがって、光学機能層26は2層以上の複層構造を有していても良い。本実施形態では、第1層22及び第2層23からなる複層構造の光学機能層26を形成させる。光学機能層を構成する層としては、例えば、光拡散層、中屈折率層、高屈折率層、光学補償層、防眩性付与層等が挙げられる。また、光学機能層26を構成する層は同一種でも良いし、異なる組成を有する層でも良く、上記の中から、適宜選択して所望の光学機能層26を形成すれば良い。ただし、優れた反射防止効果を得るためにも、層として防眩性付与層を含んでいることが好ましい。   The optical functional layer 26 has a function as an optical functional layer, and is composed of at least one layer made of a binder, a polymerization initiator, a dispersant, or the like that is a polymer. Therefore, the optical functional layer 26 may have a multilayer structure of two or more layers. In the present embodiment, an optical functional layer 26 having a multilayer structure composed of the first layer 22 and the second layer 23 is formed. Examples of the layer constituting the optical functional layer include a light diffusion layer, a middle refractive index layer, a high refractive index layer, an optical compensation layer, and an antiglare layer. The layers constituting the optical functional layer 26 may be of the same type or may be layers having different compositions. The desired optical functional layer 26 may be formed by appropriately selecting from the above. However, in order to obtain an excellent antireflection effect, it is preferable that an antiglare property-imparting layer is included as a layer.

また、光学機能層26に使用されるバインダとしては、飽和炭化水素鎖又はポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。このようなポリマーを構成するモノマーの構造や、芳香族環の有無、或いはハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、窒素原子等の原子の有無、等を適宜選択してバインダとなるポリマーを用いることにより、形成させる層の屈折率を好適に調整することが可能となる。   Further, the binder used in the optical function layer 26 is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon chain or a polyether chain as a main chain. By using a polymer as a binder by appropriately selecting the structure of the monomer constituting such a polymer, the presence or absence of an aromatic ring, the presence or absence of an atom such as a halogen atom, a sulfur atom, a phosphorus atom or a nitrogen atom. The refractive index of the layer to be formed can be suitably adjusted.

第2層23には、複数の透光性微粒子25が添加されている。本発明では、可視光領域で吸収のない微粒子を透光性微粒子と称する。このような透光性微粒子25を層中に複数添加させると、微粒子としての作用により層の屈折率を容易に調整することができる他に、透光性微粒子は光を透過させるため、層の防眩性を好適に調整することができる。透光性粒子については、特開2003−302506号公報の[0044]に具体的記載があり、本発明に適用することができる。なお、透光性微粒子は、形成させる層の屈折率に応じて屈折率差を考慮しながら適宜選択することが好ましい。   A plurality of translucent fine particles 25 are added to the second layer 23. In the present invention, fine particles that do not absorb in the visible light region are referred to as translucent fine particles. When a plurality of such translucent fine particles 25 are added to the layer, the refractive index of the layer can be easily adjusted by the action of the fine particles, and the translucent fine particles transmit light. The antiglare property can be suitably adjusted. The translucent particles are specifically described in [0044] of JP-A No. 2003-302506, and can be applied to the present invention. In addition, it is preferable that the light-transmitting fine particles are appropriately selected in consideration of the refractive index difference according to the refractive index of the layer to be formed.

屈折率や粒径の違いを考慮して透光性微粒子を使い分けることにより、形成させる層の諸特性を制御することができる。例えば、粒径の大きい透光性微粒子を用いると、層の防眩性を容易に調整することができ、より小さな粒径の透光性微粒子を用いると、層の屈折率を容易に調整することができる。したがって、種類や大きさの異なる2種類以上の透光性微粒子を併用することが好ましい。これにより、例えば、輝度の均一性を低下させるために問題であるフィルム表面の凹凸が存在していても、粒径を選択しながら透光性微粒子を用いることで、上記の問題を改善することができる。   Various characteristics of the layer to be formed can be controlled by properly using the light-transmitting fine particles in consideration of the difference in refractive index and particle size. For example, the use of light-transmitting fine particles having a large particle diameter can easily adjust the antiglare property of the layer, and the use of light-transmitting fine particles having a smaller particle diameter can easily adjust the refractive index of the layer. be able to. Therefore, it is preferable to use two or more types of translucent fine particles having different types and sizes. Thereby, for example, even if there is unevenness on the film surface which is a problem in order to reduce the uniformity of brightness, the above problem can be improved by using the light-transmitting fine particles while selecting the particle size. Can do.

上記の様に透光性微粒子を適宜選択して用いるなどして、光学機能層26の屈折率は、1.58以上2.0以下とすることが好ましい。また、低屈折率層24の屈折率は、1.31以上1.45以下とすることが好ましい。上記のような光学機能層26は優れた防眩性を有する。そして、上記のような低屈折率層24は硬度が高く、表面に傷が付き難い等の特徴を有する。そのため、このような層からなる反射防止フィルム3は、防眩性や耐擦傷性及び防汚性等に優れた光学フィルムである。なお、透光性微粒子は、光学機能層26或いは低屈折率層24の少なくとも1つに含ませることが好ましい。また、本実施形態のように光学機能層26などが複数の層で構成されている場合には、少なくともいずれか1層に含有させれば良い。   As described above, it is preferable that the refractive index of the optical functional layer 26 is 1.58 or more and 2.0 or less by appropriately selecting and using the light-transmitting fine particles. The refractive index of the low refractive index layer 24 is preferably 1.31 or more and 1.45 or less. The optical functional layer 26 as described above has excellent antiglare properties. The low refractive index layer 24 as described above has characteristics such as high hardness and resistance to scratches on the surface. Therefore, the antireflection film 3 composed of such a layer is an optical film excellent in antiglare property, scratch resistance, antifouling property and the like. The translucent fine particles are preferably contained in at least one of the optical function layer 26 or the low refractive index layer 24. Further, when the optical functional layer 26 or the like is composed of a plurality of layers as in the present embodiment, it may be contained in at least one of the layers.

透光性微粒子としては、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうち、少なくとも1種の金属酸化物であることが好ましい。また、その平均粒径は、0.2μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.1μm以下であり、特に好ましくは0.06μm以下である。上記の金属酸化物としては、例えば、TiO、ZrO、Al、In、ZnO、SnO、Sb、ITO、SiOなどが挙げられる。中でも、TiO及びZrOは、高屈折率化の点で好ましい。なお、各微粒子の表面を、シランカップリング剤やチタンカップリング剤等で処理すると、バインダに対する分散性や相溶性を向上させることができるので好ましい。上記の微粒子の添加量は、添加させる層の全質量に対して10〜90%であることが好ましく、より好ましくは20〜80%であり、特に好ましくは、30〜75%である。 The translucent fine particles are preferably at least one metal oxide of titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony. The average particle size is preferably 0.2 μm or less, more preferably 0.1 μm or less, and particularly preferably 0.06 μm or less. Examples of the metal oxides, e.g., TiO 2, ZrO 2, Al 2 O 3, In 2 O 3, ZnO, SnO 2, Sb 2 O 3, ITO, SiO 2 or the like can be mentioned. Among these, TiO 2 and ZrO 2 are preferable in terms of increasing the refractive index. In addition, it is preferable to treat the surface of each fine particle with a silane coupling agent or a titanium coupling agent because dispersibility and compatibility with the binder can be improved. The addition amount of the fine particles is preferably 10 to 90%, more preferably 20 to 80%, and particularly preferably 30 to 75% with respect to the total mass of the layer to be added.

透光性微粒子のうち、防眩性を付与する目的で用いられる微粒子としては、フィラ粒子よりも粒径が大きく、平均粒径が1〜10μm程度のマット粒子が好ましく用いることができる。マット粒子としては、例えば、シリカ粒子、TiO粒子等の無機化合物粒子や、アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン粒子、ベンゾグアナミン粒子等の有機化合物粒子等が挙げられる。中でも、高い防眩性を発現させることができることから、架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子を用いることが好ましい。マット粒子の形状は、真球或いは不定形と問わず、特に限定されるものではない。粒径や形状の異なる2種類以上のマット粒子を併用させることも可能である。なお、防眩性の層を形成させるためには、マット粒子の含有量が、形成させる層1m辺りに対して10〜2000mgであることが好ましい。より好ましくは、100〜1400mgである。 Of the translucent fine particles, as fine particles used for the purpose of imparting antiglare properties, mat particles having a particle size larger than the filler particles and an average particle size of about 1 to 10 μm can be preferably used. Examples of the mat particles include inorganic compound particles such as silica particles and TiO 2 particles, and organic compound particles such as acrylic particles, cross-linked acrylic particles, polystyrene particles, cross-linked styrene particles, melamine particles, and benzoguanamine particles. Among them, it is preferable to use crosslinked styrene particles, crosslinked acrylic particles, and silica particles because high antiglare properties can be expressed. The shape of the mat particle is not particularly limited, regardless of whether it is a true sphere or an indefinite shape. Two or more kinds of mat particles having different particle sizes and shapes can be used in combination. In order to form the antiglare layer, the content of the matte particles is preferably a 10~2000mg to layer 1 m 2 around to form. More preferably, it is 100-1400 mg.

上記マット粒子は、層中で均一に分散されていることが好ましい。また、各粒子の粒子径が略同一であることが好ましい。例えば、平均粒径よりも20%以上大きい粒子を粗大粒子とするとき、全粒子に含まれる粗大粒子が含まれる割合は1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1%以下である。したがって、マット粒子は、粒径が略同一であり、層中に均一に分散させることを目的として、出来る限り程度の強い分級が多く行われたものを用いることが好ましい。なお、上記に示す微粒子は、粒径が光の波長よりも十分に小さいため、光の散乱が生じない。   The mat particles are preferably uniformly dispersed in the layer. Moreover, it is preferable that the particle diameter of each particle is substantially the same. For example, when particles larger than the average particle diameter by 20% or more are used as coarse particles, the ratio of coarse particles contained in all particles is preferably 1% or less, more preferably 0.1% or less. . Therefore, it is preferable to use mat particles having substantially the same particle diameter and subjected to as many strong classifications as possible for the purpose of uniform dispersion in the layer. Note that the fine particles described above have a particle size sufficiently smaller than the wavelength of light, and thus light scattering does not occur.

また、光学機能層には、界面活性作用を持つフッ素系化合物及びシリコーン系化合物のうち少なくとも1種を含有させることが好ましい。このような化合物を適宜選択して用いることにより、優れた防汚性や滑り性を有する光学機能層を形成することができる。なお、上記の化合物は、層形成用に用いられる層形成材料の全固形分量に対して、0.01〜20質量%とすることが好ましい。より好ましくは0.05〜10質量%であり、特に好ましくは0.1〜5質量%である。   The optical functional layer preferably contains at least one of a fluorine-based compound and a silicone-based compound having a surface active action. By appropriately selecting and using such a compound, an optical functional layer having excellent antifouling properties and slipperiness can be formed. In addition, it is preferable that said compound shall be 0.01-20 mass% with respect to the total solid content of the layer forming material used for layer formation. More preferably, it is 0.05-10 mass%, Most preferably, it is 0.1-5 mass%.

フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。また、このフルオロアルキル基は炭素数が1〜20であることが好ましく、より好ましくは、1〜10である。この場合、直鎖、分岐構造、脂環式構造であっても良いし、エーテル結合を有していても良い。なお、フルオロアルキル基は、同一分子中に複数含まれていても良い。   As the fluorine compound, a compound having a fluoroalkyl group is preferable. The fluoroalkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms. In this case, it may be a straight chain, branched structure, or alicyclic structure, or may have an ether bond. A plurality of fluoroalkyl groups may be contained in the same molecule.

上記のフッ素系化合物は、相溶性や光学機能層と低屈折率層との界面での密着性に作用するような置換基を有していることが好ましい。この置換基は、同一でも良いし、異なっていても良いが、複数個有していることが好ましい。置換基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられる。また、フッ素化合物は、フッ素原子を含まない化合物とフッ素原子を含む化合物との共重合体でも良いし、共重合オリゴマーでも良く、その分子量も特に制限されない。フッ素化合物におけるフッ素原子の含有量も特に制限されないが、フッ素原子全量に対して20質量%であることが好ましい。より好ましくは30〜70質量%であり、特に好ましくは40〜70質量%である。   The fluorine-based compound preferably has a substituent that affects compatibility and adhesion at the interface between the optical functional layer and the low refractive index layer. These substituents may be the same or different, but preferably have a plurality. Examples of the substituent include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. The fluorine compound may be a copolymer of a compound containing no fluorine atom and a compound containing a fluorine atom, or may be a copolymer oligomer, and the molecular weight thereof is not particularly limited. The fluorine atom content in the fluorine compound is not particularly limited, but is preferably 20% by mass with respect to the total amount of fluorine atoms. More preferably, it is 30-70 mass%, Most preferably, it is 40-70 mass%.

シリコーン系化合物としては、例えば、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端及び側鎖、又は末端か側鎖のいずれか一方に置換基を有するものが挙げられる。なお、上記のような単位を繰り返し含む化合物には、ジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでいても良い。また、置換基は同一でも異種でも良いが、複数個有することが好ましい。置換基の好適な例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。分子量に特に制限はないが、取り扱い性等を考慮して、100000以下であることが好ましい。より好ましくは、50000以下であり、特に好ましくは3000〜30000である。シリコーン系化合物のシリコーン原子量にも特に制限はないが、化合物全量に対して18質量%以上であることが好ましく、より好ましくは25〜37.8質量%であり、特に好ましくは30〜37質量%である。   Examples of the silicone compound include those having a substituent at the terminal and side chain of the compound chain containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units, or at either the terminal or the side chain. In addition, the compound containing the above units repeatedly may contain a structural unit other than dimethylsilyloxy. The substituents may be the same or different, but preferably have a plurality. Preferable examples of the substituent include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. . Although there is no restriction | limiting in particular in molecular weight, In view of handleability etc., it is preferable that it is 100,000 or less. More preferably, it is 50000 or less, Most preferably, it is 3000-30000. The silicone atomic weight of the silicone compound is not particularly limited, but is preferably 18% by mass or more, more preferably 25 to 37.8% by mass, and particularly preferably 30 to 37% by mass with respect to the total amount of the compound. It is.

上述したベースフィルム2の上に形成される低屈折率層24について説明する。低屈折率層は、2以上の架橋性反応基を有するモノマーの1種を少なくとも含む硬化性組成物を塗布、乾燥、硬化して形成される硬化膜であることが好ましい。また、この2以上の架橋性反応基を有するモノマーが、2以上のアルデヒド基を含有するアルデヒド化合物であることが好ましい。   The low refractive index layer 24 formed on the base film 2 will be described. The low refractive index layer is preferably a cured film formed by applying, drying and curing a curable composition containing at least one monomer having two or more crosslinkable reactive groups. The monomer having two or more crosslinkable reactive groups is preferably an aldehyde compound containing two or more aldehyde groups.

具体的な化合物として、例えばグリオキサール、マロンアルデヒド、スクシンアルデヒド、グルタルアルデヒド、アジポアルデヒド、ピメロアルデヒド、スベロアルデヒド、アゼラアルデヒド、セバコアルデヒド、アスパルアルデヒド、1,2,4−ブタントリカルバルデヒド、3−ホルミルヘキサンジアール、シクロヘキサンジカルバルデヒド、シクロヘキサンジアセトアルデヒド、フタルアルデヒド、イソフタルアルデヒド、テレフタルアルデヒド、ベンゼントリアルデヒド、1,4,5,8−ナフタレンテトラアセトアルデヒド、両末端アルデヒド化ポバール、ジアルデヒドでんぷん等が挙げられる。本発明に供されるアルデヒド化合物はこれらに限定されるものではない。   Specific compounds include, for example, glyoxal, malonaldehyde, succinaldehyde, glutaraldehyde, adipaldehyde, pimeroaldehyde, suberoaldehyde, azelaaldehyde, sebacoaldehyde, aspartaldehyde, 1,2,4-butanetri Carbaldehyde, 3-formylhexane dial, cyclohexane dicarbaldehyde, cyclohexane diacetaldehyde, phthalaldehyde, isophthalaldehyde, terephthalaldehyde, benzenetrialdehyde, 1,4,5,8-naphthalenetetraacetaldehyde, both end aldehyded povalaldehyde, Examples include dialdehyde starch. The aldehyde compound used in the present invention is not limited to these.

これらの中で、特に、反応性の高い2官能性(アルデヒド基が2つ)脂肪族アルデヒド化合物が好ましい。   Among these, a highly reactive bifunctional (two aldehyde groups) aliphatic aldehyde compound is preferable.

図2(b)に、フィルム製造装置1により形成することができる別形態の反射防止フィルムの一例を示す。図2(b)に示すように、反射防止フィルム110は、支持体21と光学機能層115と低屈折率層116とから構成されている。なお、支持体21は、図2(a)を示して説明したものと同じであるため、同符号を付す。光学機能層115は、支持体21から近い順に第1層112、第2層113、第3層114とが積層された複層構造を有する。ここで、微粒子やバインダの種類等を適宜選択することにより、第1層112としてハードコート層としての作用を有する層を形成し、第2層113として中屈折率層を形成し、第3層114として高屈折率層を形成すると、非常に反射防止性に優れる反射防止フィルム110を得ることができる。   FIG. 2B shows an example of another form of the antireflection film that can be formed by the film manufacturing apparatus 1. As shown in FIG. 2B, the antireflection film 110 is composed of a support 21, an optical function layer 115, and a low refractive index layer 116. In addition, since the support body 21 is the same as what was demonstrated and shown in Fig.2 (a), it attaches | subjects the same code | symbol. The optical functional layer 115 has a multilayer structure in which a first layer 112, a second layer 113, and a third layer 114 are stacked in order from the support 21. Here, a layer having a function as a hard coat layer is formed as the first layer 112, a medium refractive index layer is formed as the second layer 113, and the third layer is selected by appropriately selecting the kind of fine particles and binder. When a high refractive index layer is formed as 114, an antireflection film 110 having excellent antireflection properties can be obtained.

なお、塗布方法に関して、本実施形態では、一般に、マイクログラビアコート法として公知の方法である方法を用いたが、本方法に限定されるものではない。本発明に好適に用いることができる塗布方法としては、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラコート法、ワイヤーバーコート法、マイクログラビアコート法、エクストルージョンコート法(例えば、米国2681294号明細書に記載)等が挙げられる。上記の中でも、厚みが均一で塗布ムラの少ない塗布層を形成させるために、ワイヤーバーコート法、エクストルージョンコート法、マイクログラビアコート法を用いることが好ましく、特に、マイクログラビアコート法を用いることが好ましい。   As for the coating method, in this embodiment, a method that is generally known as a microgravure coating method is used, but the present invention is not limited to this method. Examples of the coating method that can be suitably used in the present invention include a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, a micro gravure coating method, and an extrusion coating method (for example, As described in US Pat. No. 2,681,294). Among these, in order to form a coating layer having a uniform thickness and less coating unevenness, it is preferable to use a wire bar coating method, an extrusion coating method, or a micro gravure coating method, and in particular, to use a micro gravure coating method. preferable.

加熱装置40として、本実施形態では、3つの区画を有する形態を示したが、この区画数は、第1温度、第2温度および第3温度の制御が可能であれば、特に限定されず設置することが可能である。また、加熱装置40は、区画化されている形態でなくとも、例えば、個々に内部温度を調整することができる乾燥装置が複数組み合わされた形態でも良いし、別々の乾燥装置を並列に配置した形態でも良い。   In the present embodiment, the heating device 40 has three sections. However, the number of the sections is not particularly limited as long as the first temperature, the second temperature, and the third temperature can be controlled. Is possible. In addition, the heating device 40 may be in a form in which a plurality of drying apparatuses capable of individually adjusting the internal temperature are combined, or separate drying apparatuses are arranged in parallel, instead of being partitioned. Form may be sufficient.

また、加熱硬化した低屈折率層に電離放射線を照射する場合、本実施形態では、紫外線を照射させる形態を示したが、例えば、紫外線に代えて電離放射線である電子線を照射し、更に、これらを併せて用いることもできる。このように複数の電離放射線を併用する場合には、紫外線照射装置や電子線照射装置等の所望の照射装置を用意し、これらを並列に配置して用いることで、低屈折率層に対して紫外線及び電子線を連続して照射させれば良い。なお、各照射装置の設置箇所及び順序等は特に限定されるものではなく、適宜選択することが可能である。   Further, when the ionizing radiation is irradiated to the heat-cured low refractive index layer, in the present embodiment, the mode of irradiating with ultraviolet rays is shown.For example, instead of the ultraviolet rays, the electron beam which is ionizing radiation is irradiated, These can also be used in combination. Thus, when using a plurality of ionizing radiations together, prepare a desired irradiation device such as an ultraviolet irradiation device or an electron beam irradiation device, and use them in parallel to provide a low refractive index layer. What is necessary is just to irradiate an ultraviolet-ray and an electron beam continuously. In addition, the installation location, order, etc. of each irradiation apparatus are not specifically limited, It is possible to select suitably.

なお、紫外線照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ヒュージョンランプなどのような公知の紫外線照射装置を好適に用いることができる。また、電離放射線の照射装置も特に限定されるものではなく、各種電離放射線の照射装置として公知のものを用いることができる。ただし、電離放射線を照射するにあたり、ベースフィルムへのダメージを低減しながらも十分に硬化を促進させることを目的として、紫外線を用いる場合には、その照射量を30mJ以上800mJ以下とすることが好ましく、より好ましくは50mJ以上300mJ以下とすることであり、電離放射線を用いる場合には、加速電子圧を80kV以上300kV以下とすることが好ましい。   As the ultraviolet irradiation device, for example, a known ultraviolet irradiation device such as a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or a fusion lamp can be suitably used. Also, the ionizing radiation irradiation apparatus is not particularly limited, and various ionizing radiation irradiation apparatuses can be used. However, when irradiating with ionizing radiation, for the purpose of sufficiently promoting curing while reducing damage to the base film, the irradiation amount is preferably 30 mJ or more and 800 mJ or less. More preferably, it is set to 50 mJ or more and 300 mJ or less, and when ionizing radiation is used, the accelerated electron pressure is preferably set to 80 kV or more and 300 kV or less.

なお、本発明に係る支持体や、光学機能層及び低屈折率層を形成するために用いられる硬化性樹脂、微粒子、及び重合開始剤や分散剤等の添加剤等、各層の形成方法等に関する詳細は、特開2005−257786号公報の[0061]に詳細に記載されており、この記載も本発明に適用することができる。   In addition, it is related with the formation method of each layer etc., such as the support body which concerns on this invention, curable resin used for forming an optical function layer and a low-refractive-index layer, microparticles | fine-particles, and additives, such as a polymerization initiator and a dispersing agent. Details are described in detail in JP-A-2005-257786, [0061], and this description can also be applied to the present invention.

本発明により得られる反射防止フィルムは、偏光板の保護フィルムとして好適に使用することができる。偏光板は、偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムで主に構成されているが、この保護フィルムのうち少なくとも1枚に用いることが好ましい。このとき、反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねるので、偏光板の製造コストを低減することができると共に、反射防止フィルムを最表層とすることで、外部からの光の映り込みが防止され、耐傷性、防汚性等にも優れる偏光板を得ることができる。他にも、2枚の保護フィルムのうち、片方が反射防止フィルムであり、もう一方が、光学異方層を有する光学補償フィルムであることが好ましい。このような光学補償フィルムは、光学異方層を有する光学機能層を形成することが得ることができる。光学補償フィルムは、位相差フィルムとも称され、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。   The antireflection film obtained by the present invention can be suitably used as a protective film for a polarizing plate. The polarizing plate is mainly composed of two protective films sandwiching the polarizing film from both sides, and is preferably used for at least one of the protective films. At this time, since the antireflection film also serves as a protective film, the manufacturing cost of the polarizing plate can be reduced, and by using the antireflection film as the outermost layer, reflection of light from the outside is prevented, and scratch resistance A polarizing plate having excellent antifouling properties and the like can be obtained. In addition, it is preferable that one of the two protective films is an antireflection film and the other is an optical compensation film having an optically anisotropic layer. Such an optical compensation film can be used to form an optical functional layer having an optically anisotropic layer. The optical compensation film is also called a retardation film, and can improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen.

上記の様に本発明により得られる反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いると、TN、STN、VA、IPS、OCB等のモードの透過型、反射型、又は半透過型の液晶表示装置に好適に用いることができる。   As described above, when the antireflection film obtained by the present invention is used as a protective film for a polarizing film, it can be used for a TN, STN, VA, IPS, OCB or other mode transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device. It can be used suitably.

偏光膜としては、公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いても良く、特に限定されるものではない。この後者に示す偏光膜は、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を、保持手段により保持しつつ、幅方向に対して張力を付与することで延伸することで形成される。なお、少なくとも幅方向に1.1〜20倍の割合で延伸し、フィルムの両端の保持手段におけるフィルムの長手方向に対する進行速度の差が3%以内とし、このフィルム保持工程の終了時におけるフィルムの進行方向とフィルムの実質延伸方向のなす角度とが、20〜70°傾斜するようにフィルムの進行方向をフィルムの両端を保持した状態で屈曲させると、所望の延伸を施した偏光膜を作製することができる。なお、上記の角度を45°とすると、生産性の観点から好ましい。   As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used, and the polarizing film is not particularly limited. The latter polarizing film is formed by stretching by applying tension to the width direction while holding both ends of the continuously supplied polymer film by the holding means. The film is stretched at a rate of 1.1 to 20 times at least in the width direction, and the difference in the traveling speed with respect to the longitudinal direction of the film in the holding means at both ends of the film is within 3%. When the direction of travel of the film is bent while holding both ends of the film so that the angle between the direction of travel and the direction of substantial stretching of the film is inclined by 20 to 70 °, a polarizing film having a desired stretch is produced. be able to. In addition, when said angle is set to 45 degrees, it is preferable from a viewpoint of productivity.

本発明により得られる反射防止フィルムは、LCD、PDP、ELD、CRTのような画像表示装置に好ましく用いることができる。また、本発明により得られるような透明支持体を有する反射防止フィルムを、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いると、表示品質に優れる画像表示装置を提供することができる。   The antireflection film obtained by the present invention can be preferably used for image display devices such as LCD, PDP, ELD, and CRT. Further, when an antireflection film having a transparent support as obtained by the present invention is used with the transparent support side adhered to the image display surface of the image display device, an image display device having excellent display quality can be provided. .

なお、本発明の反射防止フィルムに係る偏光膜、ポリマーフィルム、画像表示装置等に関しては、特開2005−257786号公報の[0067]以降に記載されており、この記載も本発明に適用することができる。   The polarizing film, polymer film, image display device and the like relating to the antireflection film of the present invention are described in JP-A-2005-257786, [0067] and thereafter, and this description also applies to the present invention. Can do.

以下に、実施例により本発明の実質的な効果を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the practical effects of the present invention will be described by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

<実施例1>
[ベースフィルムの作製]
支持体であるトリアセチルセルロースフィルム(富士フイルム(株)製、TD80U)の表面に、後述する光学機能層形成液Aを塗布液として、線数135本/インチ、深度60μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアローラと、ドクターブレードとを用いて搬送速度20m/分の条件で塗布して塗布層を設けた。その後、この塗布層を100℃で40秒間乾燥させた。続いて、塗布層の表面に、窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量250mJ/cmの紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて光学機能層としての作用を有する光学機能層Aを形成した。硬化後の光学機能層Aの厚さは約10μmであった。なお、この光学機能層Aが形成されたフィルムを巻取りロールに巻き取って、光拡散フィルムであるロール状のベースフィルム(拡散フィルムA)を得た。
<Example 1>
[Preparation of base film]
Diameter having a gravure pattern of 135 lines / inch and a depth of 60 μm on the surface of a triacetylcellulose film (TD80U, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) as a support, using an optical functional layer forming liquid A described later as a coating liquid. A 50 mm micro gravure roller and a doctor blade were used for coating at a conveying speed of 20 m / min to provide a coating layer. Thereafter, the coating layer was dried at 100 ° C. for 40 seconds. Subsequently, the surface of the coating layer is irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 250 mJ / cm 2 using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) under a nitrogen purge. Thus, the coating layer was cured to form an optical functional layer A having an action as an optical functional layer. The thickness of the optical functional layer A after curing was about 10 μm. In addition, the film in which this optical function layer A was formed was wound up by the winding roll, and the roll-shaped base film (diffusion film A) which is a light-diffusion film was obtained.

[反射防止フィルムの作製]
図1に示すフィルム製造装置1により反射防止フィルムを作製した。先ず、上記により作製したベースフィルムの表面に、塗布装置10により塗布液として後述の低屈折率層塗布液Aを塗布することで塗布層を設けた後、乾燥装置30により120℃で150秒の間、塗布層を乾燥した。なお、塗布装置10は、線数200本/インチ、深度30μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアローラ11とドクターブレードとを備えた形態を使用し、塗布条件をグラビアローラ11の回転数を30rpm、搬送速度20m/分とした。次に、加熱装置40の前室42a内の乾燥風の温度を105℃、中室42bの乾燥風の温度を95℃とし、後室42cの乾燥風の温度を105℃として、各加熱室42a〜42cの加熱時間を2分間として塗布層を加熱硬化させた。この後、紫外線ランプ50として、窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量900mJ/cmの紫外線を乾燥が促進された塗布層に照射して、反射防止フィルムを得た。この反射防止フィルムは、低屈折率層の厚さが100nmであった。
[Preparation of antireflection film]
An antireflection film was produced by the film production apparatus 1 shown in FIG. First, on the surface of the base film produced as described above, a coating layer is provided by applying a low refractive index layer coating solution A described later as a coating solution by the coating device 10, and then the drying device 30 is used for 120 seconds at 120 ° C. Meanwhile, the coating layer was dried. The coating apparatus 10 uses a form including a micro gravure roller 11 having a diameter of 200 μm / inch and a gravure pattern having a depth of 30 μm and a diameter of 50 mm and a doctor blade. It was 30 rpm and the conveyance speed was 20 m / min. Next, the temperature of the drying air in the front chamber 42a of the heating device 40 is set to 105 ° C., the temperature of the drying air in the middle chamber 42b is set to 95 ° C., and the temperature of the drying air in the rear chamber 42c is set to 105 ° C. The coating layer was heated and cured at a heating time of ˜42c for 2 minutes. Thereafter, using an ultraviolet-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) under a nitrogen purge as an ultraviolet lamp 50, drying promotes ultraviolet rays with an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 900 mJ / cm 2. The coated layer was irradiated to obtain an antireflection film. In this antireflection film, the thickness of the low refractive index layer was 100 nm.

〔光学機能層形成液A〕
・第1液(ジルコニア含有UV硬化型ハードコート液;JSR(株)製、デソライトZ7404、固形分濃度約61質量%、固形分中ZrO含率約70質量%、重合性モノマー、重合開始剤含有) 100質量部
・第2液(ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物;日本化薬(株)製、DPHA) 30質量部
・メチルイソブチルケトン 21質量部
・メチルエチルケトン 6質量部
・シランカップリング剤A(アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン;信越化学工業(株)製、KBM−5103) 98質量部
上記組成物を混合攪拌して混合液A1を調製した。なお、この混合液A1をトリアセチルセルロースフィルム(TD80UF、富士写真フイルム(株)製)に塗布して塗布層を設けた後、この塗布層に紫外線を照射して硬化させることで得られた層の屈折率は、1.61であった。
[Optical function layer forming liquid A]
First liquid (zirconia-containing UV curable hard coat liquid; manufactured by JSR Corporation, Desolite Z7404, solid content concentration: about 61% by mass, ZrO 2 content in solid content: about 70% by mass, polymerizable monomer, polymerization initiator Contained) 100 parts by mass / second liquid (mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., DPHA) 30 parts by mass / methyl isobutyl ketone 21 parts by mass / methyl ethyl ketone 6 parts by mass Silane coupling agent A (acryloyloxypropyltrimethoxysilane; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM-5103) 98 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a mixed solution A1. In addition, after apply | coating this liquid mixture A1 to a triacetyl cellulose film (TD80UF, Fuji Photo Film Co., Ltd. product) and providing an application layer, the layer obtained by irradiating this application layer with an ultraviolet-ray and making it harden | cure The refractive index of was 1.61.

次に、混合液A1に平均粒径が3.0μmの分級強化架橋PMMA粒子(綜研化学(株)製、MXS−300、屈折率1.49)が含まれる微粒子分散液Aを35質量部加えた後、平均粒径1.5μmのシリカ粒子(日本触媒(株)製、シーホスタKE-P150、屈折率1.46)が含まれる微粒子分散液Bを90質量部加えて混合液A2とした。そして、この混合液A2を、孔径30μmのポリプロピレン製フィルタで濾過することにより光拡散性のハードコート層を形成することができる光学機能層形成液Aとした。なお、微粒子分散液Aは、上記のPMMA粒子が30質量%含まれるメチルイソブチルケトン分散液を、ポリトロン分散機にて10000rpm、20分間分散させて得られる分散液である。また、微粒子分散液Bは、上記のシリカ粒子が30質量%含まれるメチルエチルケトン分散液をポリトロン分散機にて10000rpm、30分間分散させて得られる分散液である。   Next, 35 parts by mass of a fine particle dispersion A containing classified strengthened crosslinked PMMA particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., MXS-300, refractive index 1.49) having an average particle size of 3.0 μm is added to the mixed solution A1. Thereafter, 90 parts by mass of a fine particle dispersion B containing silica particles having an average particle diameter of 1.5 μm (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., Seahosta KE-P150, refractive index 1.46) was added to obtain a mixed liquid A2. And this liquid mixture A2 was used as the optical function layer forming liquid A which can form a light-diffusible hard-coat layer by filtering with a polypropylene filter with a pore diameter of 30 μm. The fine particle dispersion A is a dispersion obtained by dispersing a methyl isobutyl ketone dispersion containing 30% by mass of the above PMMA particles in a polytron dispersing machine at 10,000 rpm for 20 minutes. The fine particle dispersion B is a dispersion obtained by dispersing a methyl ethyl ketone dispersion containing 30% by mass of the above silica particles with a polytron disperser at 10,000 rpm for 30 minutes.

〔低屈折率層塗布液A〕
下記組成物をミキシングタンクに投入して、これを攪拌した後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタでろ過することで低屈折率層を形成させるための塗布液である低屈折率層塗布液Aを調製した。
・第1ポリマー溶液(熱架橋性含フッ素ポリマー組成液;JSR(株)製、オプスターJN7228A) 100質量部
・シリカ分散物A(日産化学(株)製、MEK−ST、平均粒径15nm)4.3質量部
・シリカ分散物B(日産化学(株)製、MEK−STの粒径違い品、平均粒径45nm) 5.1質量部
・ゾル液E 2.2質量部
・メチルエチルケトン 15.0質量部
・シクロヘキサノン 3.6質量部
ただし、上記のゾル液Eは、後述の方法により調製したものを用いた。
[Low refractive index layer coating solution A]
The following composition is put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating solution A which is a coating solution for forming a low refractive index layer. did.
First polymer solution (thermally crosslinkable fluorine-containing polymer composition; manufactured by JSR Corporation, Opstar JN7228A) 100 parts by mass Silica dispersion A (Nissan Chemical Co., Ltd., MEK-ST, average particle size 15 nm) 4 .3 parts by mass-Silica Dispersion B (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., MEK-ST different particle size, average particle size 45 nm) 5.1 parts by mass-sol solution E 2.2 parts by mass-methyl ethyl ketone 15.0 Mass part · Cyclohexanone 3.6 parts by mass However, the sol solution E was prepared by the method described later.

〔ゾル液E〕
攪拌機及び還流冷却器を備えた反応器の中に、メチルエチルケトンを120質量部、シランカップリング剤Aを100質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート(ホープ製薬(株)製)を3質量部、加えてから、これを混合することで混合物とした。次に、この混合物に、イオン交換水を30質量部加えた後、60℃、4時間反応させてから、略室温まで冷却してゾル液Eを得た。このゾル液Eは、質量平均分子量が1800であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000である成分は100質量%であった。なお、ガスクロマトグラフィー分析により、ゾル液E中には、原料のシランカップリング剤Aが全く残存していないことを確認した。
[Sol solution E]
In a reactor equipped with a stirrer and a reflux condenser, 120 parts by mass of methyl ethyl ketone, 100 parts by mass of silane coupling agent A, 3 parts by mass of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate (manufactured by Hope Pharmaceutical Co., Ltd.), After addition, this was mixed to make a mixture. Next, 30 parts by mass of ion-exchanged water was added to the mixture, and the mixture was reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to about room temperature to obtain a sol solution E. The sol solution E had a mass average molecular weight of 1800, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100% by mass. It was confirmed by gas chromatography analysis that no silane coupling agent A as a raw material remained in the sol solution E.

<実施例2>
前室42aおよび後室42cの室内の塗布層の膜面温度を110℃とした以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルムを製造した。
<Example 2>
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 1 except that the film surface temperature of the coating layer in the front chamber 42a and the rear chamber 42c was 110 ° C.

<実施例3>
実施例1において、光学機能層形成液Aの代わりに、下記に示す光学機能層形成液Bを用い、防眩性ハードコート層フィルムであるロール状のベースフィルム(防眩性ハードコート層フィルムB)を得た。このベースフィルムの表面に、低屈折率層塗布液Bを塗布して、反射防止フィルムを製造した以外は、実施例1と同様の方法により製造した。
<Example 3>
In Example 1, instead of the optical functional layer forming liquid A, an optical functional layer forming liquid B shown below is used, and a roll-shaped base film (antiglare hard coating layer film B) which is an antiglare hard coat layer film is used. ) The base film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the antireflective film was manufactured by applying the low refractive index layer coating solution B to the surface of the base film.

〔光学機能層形成液B〕
・第3液(ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物;日本化薬(株)製、PETA) 50質量部
・トルエン 38.5質量部
・重合開始剤A(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184) 2質量部
上記組成物を混合し、攪拌することで混合液B1を調製した。なお、この混合液B1をトリアセチルセルロースフィルム(TD80UF、富士写真フイルム(株)製)に塗布して塗布層を設けた後、この塗布層に紫外線を照射して硬化することにより得られた層の屈折率は、1.51であった。
[Optical function layer forming liquid B]
-Third liquid (mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate; Nippon Kayaku Co., Ltd., PETA) 50 parts by mass-Toluene 38.5 parts by mass-Polymerization initiator A (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Manufactured by Irgacure 184) 2 parts by mass The above composition was mixed and stirred to prepare a mixed solution B1. A layer obtained by applying this mixed solution B1 to a triacetylcellulose film (TD80UF, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) to provide a coating layer, and then irradiating the coating layer with ultraviolet rays and curing it. The refractive index of was 1.51.

次に、混合液B1に、平均粒径が3.5μmのポリスチレン粒子(綜研化学(株)製、SX−350、屈折率1.60)が含まれている微粒子分散液Cを1.7質量部加えた後、平均粒径3.5μmのアクリル−スチレン粒子(綜研化学(株)製、屈折率1.55)が含まれる微粒子分散液Dを13.3質量部加えて、混合液B2を調製した。そして、この混合液B2に、フッ素系表面改質剤(FP−13、質量平均分子量14000;特開2005−283849の[0080]参照)を0.75質量部と、シランカップリング剤Aを10質量部とを加えて、防眩性ハードコート層を形成させるための光学機能層形成液Bとした。なお、微粒子分散液Cは、上記のポリスチレン粒子が30質量%の割合でトルエンに含まれている混合液を、ポリトロン分散機にて10000rpm、20分間分散させて得られる分散液である。また、微粒子分散液Dは、上記のアクリル−スチレン粒子が30質量%の割合でトルエンに含まれている混合液である。   Next, 1.7 mass of the fine particle dispersion C containing polystyrene particles (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., SX-350, refractive index 1.60) having an average particle size of 3.5 μm in the mixed solution B1. After adding 1 part by mass, 13.3 parts by mass of the fine particle dispersion D containing acrylic-styrene particles having an average particle size of 3.5 μm (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., refractive index 1.55) was added, and the mixture B2 was added. Prepared. Then, 0.75 parts by mass of the fluorine-based surface modifier (FP-13, mass average molecular weight 14000; refer to [0080] of JP-A-2005-283849) and 10 silane coupling agent A are added to the mixed solution B2. An optical functional layer forming liquid B for forming an anti-glare hard coat layer was added with parts by mass. In addition, the fine particle dispersion C is a dispersion obtained by dispersing a mixed liquid in which the above polystyrene particles are contained in toluene at a ratio of 30% by mass with a polytron dispersing machine at 10,000 rpm for 20 minutes. The fine particle dispersion D is a mixed liquid in which the above-mentioned acrylic-styrene particles are contained in toluene at a ratio of 30% by mass.

〔低屈折率層塗布液B〕
下記組成物をミキシングタンクに投入して、これを攪拌した後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタでろ過することで低屈折率層を形成させるための塗布液である低屈折率層塗布液Bを調製した。
・第2ポリマー溶液(熱架橋性含フッ素ポリマー組成液;JSR(株)製、オプスターJTA−113) 100質量部
・シリカ分散物A 4.3質量部
・シリカ分散物B 5.1質量部
・ゾル液E 2.2質量部
・メチルエチルケトン 15.0質量部
・シクロヘキサノン 3.6質量部
[Low refractive index layer coating solution B]
The following composition is put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating solution B which is a coating solution for forming a low refractive index layer. did.
・ Second polymer solution (thermally crosslinkable fluorine-containing polymer composition; manufactured by JSR Corporation, OPSTAR JTA-113) 100 parts by mass ・ Silica dispersion A 4.3 parts by mass ・ Silica dispersion B 5.1 parts by mass Sol liquid E 2.2 parts by mass, methyl ethyl ketone 15.0 parts by mass, cyclohexanone 3.6 parts by mass

<実施例4>
前室42aおよび後室42cの室内の塗布層の膜面温度を110℃とした以外は、実施例3と同様にして反射防止フィルムを製造した。
<Example 4>
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 3 except that the film surface temperature of the coating layer in the front chamber 42a and the rear chamber 42c was 110 ° C.

<実施例5>
低屈折率層塗布液Gの代わりに低屈折率層塗布液Hを塗布し、前室42aおよび後室42cの室内の塗布層の温度を100℃とした以外は実施例3と同様にして反射防止フィルムを製造した。
<Example 5>
Reflection is performed in the same manner as in Example 3 except that the low refractive index layer coating liquid H is applied instead of the low refractive index layer coating liquid G, and the temperature of the coating layers in the front chamber 42a and the rear chamber 42c is 100 ° C. A prevention film was produced.

〔低屈折率層塗布液C〕
下記組成物をミキシングタンクに投入して、これを攪拌した後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタでろ過することにより低屈折率層塗布液Cを調製した。
・第2ポリマー溶液 100質量部
・シリカ分散物A 4.3質量部
・シリカ分散物B 5.1質量部
・ゾル液E 2.2質量部
・メタノール 10.0質量部
・メチルエチルケトン 5.0質量部
・シクロヘキサノン 3.6質量部
[Low refractive index layer coating solution C]
The following composition was put into a mixing tank, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating solution C.
-Second polymer solution 100 parts by mass-Silica dispersion A 4.3 parts by mass-Silica dispersion B 5.1 parts by mass-Sol liquid E 2.2 parts by mass-Methanol 10.0 parts by mass-Methyl ethyl ketone 5.0 parts by mass Parts / cyclohexanone 3.6 parts by mass

<実施例6>
前室42aおよび後室42cの室内の塗布層の温度を105℃とした以外は実施例5と同様にして反射防止フィルムを製造した。
<Example 6>
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 5 except that the temperature of the coating layer in the front chamber 42a and the rear chamber 42c was 105 ° C.

<実施例7>
前室42aおよび後室42cの室内の塗布層の温度を110℃とした以外は実施例5と同様にして反射防止フィルムを製造した。
<Example 7>
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 5 except that the temperature of the coating layers in the front chamber 42a and the rear chamber 42c was 110 ° C.

<実施例8>
中室42bの室内の塗布層の温度を100℃とした以外は実施例6と同様にして反射防止フィルムを製造した。
<Example 8>
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 6 except that the temperature of the coating layer in the middle chamber 42b was 100 ° C.

<実施例9>
中室42bの室内の塗布層の温度を85℃とした以外は実施例7と同様にして反射防止フィルムを製造した。
<Example 9>
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 7 except that the temperature of the coating layer in the middle chamber 42b was 85 ° C.

<実施例10>
実施例1において、光学機能層形成液Aの代わりに、下記に示す光学機能層形成液Cを用い、高屈折率フィルムであるロール状のベースフィルム(高屈折率フィルムC)を得た。このベースフィルムの表面に、低屈折率層塗布液Bを塗布して、反射防止フィルムを製造した以外は、実施例1と同様の方法により製造した。
<Example 10>
In Example 1, instead of the optical functional layer forming liquid A, an optical functional layer forming liquid C shown below was used to obtain a roll-shaped base film (high refractive index film C) as a high refractive index film. The base film was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the antireflective film was manufactured by applying the low refractive index layer coating solution B to the surface of the base film.

〔光学機能性形成液C〕
下記の材料をミキシングタンクに投入し、これを攪拌することで得られる混合物を、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルタを備える濾過装置で濾過することにより高屈折率の光学機能層を形成させることができる塗布液として光学機能層形成液Cを調製した。
・二酸化チタン分散液 88.9質量部
・第2液 58.9質量部
・重合開始剤B(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製、イルガキュア907) 3.1質量部
・光増感剤(日本化薬(株)製、カヤキュアーDETX) 1.1質量部
・メチルエチルケトン 482.4質量部
・シクロヘキサノン 1869.8質量部
なお、二酸化チタン分散液は、下記の方法により調製したものを用いた。
[Optical functionality forming liquid C]
An optical functional layer having a high refractive index can be formed by filtering the mixture obtained by putting the following materials into a mixing tank and stirring the mixture with a filtration device having a polypropylene filter having a pore diameter of 0.4 μm. An optical functional layer forming solution C was prepared as a coating solution that can be used.
-Titanium dioxide dispersion 88.9 parts by mass-Second liquid 58.9 parts by mass-Polymerization initiator B (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 907) 3.1 parts by mass-Photosensitizer (Nipponization) Yaku Co., Ltd., Kayacure DETX) 1.1 parts by mass / methyl ethyl ketone 482.4 parts by mass / cyclohexanone 1869.8 parts by mass The titanium dioxide dispersion prepared by the following method was used.

〔二酸化チタン分散液〕
下記の材料を、ダイノミルにより質量平均径が70nmになるまで分散させることで調製した。
・微粒子分散液F(石原産業(株)製、MPT-129C(TiO:Co:Al:ZrOが質量比で、90.5:3.0:4.0:0.5) 257.1質量部
・分散剤A 38.6質量部
・シクロヘキサノン 704.3質量部
[Titanium dioxide dispersion]
The following materials were prepared by dispersing with a dynomill until the mass average diameter became 70 nm.
Fine particle dispersion F (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., MPT-129C (TiO 2 : Co 3 O 4 : Al 2 O 3 : ZrO 2 in mass ratio, 90.5: 3.0: 4.0: 0) .5) 257.1 parts by mass / Dispersant A 38.6 parts by mass / cyclohexanone 704.3 parts by mass

<実施例11>
前室42aおよび後室42cの室内の塗布層の温度を110℃とした以外は実施例8と同様にして反射防止フィルムを製造した。
<Example 11>
An antireflection film was produced in the same manner as in Example 8, except that the temperature of the coating layer in the front chamber 42a and the rear chamber 42c was 110 ° C.

<比較例1〜9>
実施例1から9の反射防止フィルムの製造方法において、加熱装置40の代わりに2室からなる加熱装置を用い、各部屋での加熱時間を5分とした以外は各実施例と同様の方法により反射防止フィルムを形成した。
<Comparative Examples 1-9>
In the method for producing an antireflection film of Examples 1 to 9, a heating device consisting of two chambers was used instead of the heating device 40, and the heating time in each room was set to 5 minutes. An antireflection film was formed.

<評価結果>
各実施例及び比較例で作製した反射防止フィルムを用いて、下記の項目に関する評価を行った。
<Evaluation results>
The following items were evaluated using the antireflection films prepared in each Example and Comparative Example.

[1.平均反射率]
分光光度計(日立製作所(株)製、U4100)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°におけるサンプルの分光反射率を測定した。そして、450〜650nmの平均反射率を、光学フィルムの平均反射率とした。
[1. Average reflectance]
Using a spectrophotometer (U4100, manufactured by Hitachi, Ltd.), the spectral reflectance of the sample at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 380 to 780 nm. And the average reflectance of 450-650 nm was made into the average reflectance of an optical film.

[2.鉛筆硬度耐擦傷性]
反射防止フィルムを温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、JIS K 5400に記載の方法により鉛筆硬度評価を行った。
[2. Pencil hardness scratch resistance]
The antireflection film was conditioned at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH for 2 hours, and then pencil hardness was evaluated by the method described in JIS K 5400.

[3.スチールウール耐擦傷性]
膜表面をスチールウール#0000を用いて、500gの荷重下で10回擦った後に、傷のつくレベルを確認した。判定は次の基準に従った。
[3. Steel wool scratch resistance]
The surface of the film was rubbed 10 times under a load of 500 g using steel wool # 0000, and then the level of scratching was confirmed. The determination was in accordance with the following criteria.

○:全く傷がつかない
△:細かい傷が見える
×:傷が著しい
○: No scratches are observed Δ: Fine scratches are visible ×: Scratches are remarkable

[4.ベンコット耐擦傷性]
学振型摩擦堅牢度試験機(テスター産業(株)製、AB−301)を用いて、後述の条件でサンプルに対するこすり試験を行なった。そして、こすり終えたサンプルの低屈折率層側とは反対の面に油性の黒インキを塗った後、低屈折率層側の面を目視により観察して、反射光で見られるこすり部分の傷を、以下の基準により光学フィルムのベンコット耐擦傷性として3段階で評価した。
[4. Bencott scratch resistance]
Using a Gakushin type friction fastness tester (Tester Sangyo Co., Ltd., AB-301), a rubbing test was performed on the sample under the conditions described below. And after applying oily black ink to the surface opposite to the low refractive index layer side of the sample that has been rubbed, the surface on the low refractive index layer side is visually observed, and scratches on the rubbed portion seen by reflected light are observed. Was evaluated according to the following criteria as the Bencott scratch resistance of the optical film in three stages.

○:非常に注意深く見ても全く傷が見えず、製品上全く問題がない。   ○: Even when viewed very carefully, no scratches are visible, and there is no problem on the product.

△:一部に弱い傷を見ることが出来るが、製品上許容出来る。   Δ: Some weak scratches can be seen, but acceptable in product.

×:一目見ただけで確認できる傷があり、製品上でも問題となる。   X: There are scratches that can be confirmed at first glance, which also causes problems on the product.

〔こすり試験条件〕
・評価環境条件:25℃、60%RH
・こすり材:サンプルと接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)に、ベンコット(旭化成工業(株)製、M−3)を巻いてから、バンドで固定したもの。
・移動距離(片道):13cm
・こすり速度:13cm/秒
・荷重:200g/cm
・先端部接触面積:1cm×1cm
・こすり回数:250往復
[Rubbing test conditions]
-Evaluation environmental conditions: 25 ° C, 60% RH
・ Scraping material: A tester that comes into contact with the sample was wrapped with Bencot (M-3, manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) around the tip (1 cm × 1 cm) of the tester, and then fixed with a band.
・ Movement distance (one way): 13cm
・ Rubbing speed: 13 cm / sec ・ Load: 200 g / cm 2
-Tip contact area: 1 cm x 1 cm
・ Rubbing frequency: 250 round trips

[5.白粉故障]
サンプルの低屈折率層を表面としたとき、この面に対して裏面に位置する面に油性の黒インクを塗った後、低屈折率層の表面に光源を照射した。そして、このときに表面で確認出来る白粉故障の程度を、以下の基準により3段階で評価した。なお、上記の光源としては、3波長蛍光灯及び人工太陽光灯を用いた。
[5. White powder breakdown]
When the low refractive index layer of the sample was used as the surface, oil-based black ink was applied to the surface located on the back surface of this surface, and then the surface of the low refractive index layer was irradiated with a light source. And the grade of the white powder failure which can be confirmed on the surface at this time was evaluated in three stages according to the following criteria. As the light source, a three-wavelength fluorescent lamp and an artificial sunlight lamp were used.

○:白粉故障が全く発生しておらず、外観品質として製品上問題とならない。   ○: No white powder failure has occurred, and appearance quality does not cause a problem on the product.

△:白粉故障が薄く発生しているが、外観品質として製品上許容出来る。   Δ: White powder failure is thin, but the appearance quality is acceptable on the product.

×:白粉故障が全面に発生しており、外観品質として問題となる。   X: A white powder failure occurs on the entire surface, which causes a problem in appearance quality.

各実施例および比較例において得られた評価結果を図4および図5に示す。   The evaluation results obtained in each example and comparative example are shown in FIGS.

比較例1〜9の反射防止フィルムは、ベンコット耐擦傷製および白粉故障に優れるが、鉛筆硬度耐擦傷が3Hであり、硬化時の膜面温度が105℃と低い反射防止フィルムについては、スチールウール耐擦傷性についても一部に弱い傷が確認できた。また、実施例1から9の反射防止フィルムは、鉛筆硬度耐擦傷性も4Hと比較例より高く、また、スチールウール耐擦傷性についても、すべてのサンプルで良好な結果が得られた。   The antireflection films of Comparative Examples 1 to 9 are excellent in Bencott scratch resistance and white powder failure, but the antireflection film having a pencil hardness scratch resistance of 3H and a low film surface temperature of 105 ° C. during curing is steel wool. As for the scratch resistance, some weak scratches were confirmed. Further, the antireflection films of Examples 1 to 9 also had a pencil hardness scratch resistance of 4H, which was higher than that of the comparative example, and good results were obtained for all the samples with respect to the steel wool scratch resistance.

また、硬化時間についても、実施例が、各工程に2分、合計6分で硬化が終了しているのに対し、比較例は、各工程に5分、合計10分間、硬化にかかっているため、硬化時間を短縮できることが確認できた。   In addition, regarding the curing time, the examples were cured in 2 minutes for each step and a total of 6 minutes, whereas the comparative example was cured for 5 minutes in each step for a total of 10 minutes. Therefore, it was confirmed that the curing time can be shortened.

以上の結果より、本発明によると、耐擦傷性に優れながら、かつ白粉故障がほとんど確認できない程、外観故障の発生が抑制された品質に優れる反射防止フィルムを、優れた生産性により製造することができる。   From the above results, according to the present invention, an antireflection film having excellent quality in which the appearance failure is suppressed to such an extent that white powder failure is hardly confirmed while being excellent in scratch resistance is manufactured with excellent productivity. Can do.

本発明に係るフィルム製造装置の一例の概略図である。It is the schematic of an example of the film manufacturing apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る光学フィルムの一例の断面図(a)と、他の例の断面図(b)である。It is sectional drawing (a) of an example of the optical film which concerns on this invention, and sectional drawing (b) of another example. 一定の温度条件下での乾燥時間に対する膜面温度の温度変化を示す図である。It is a figure which shows the temperature change of the film surface temperature with respect to the drying time on fixed temperature conditions. 実施例の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of an Example. 比較例の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of a comparative example.

符号の説明Explanation of symbols

1…フィルム製造装置、2…ベースフィルム、3、110…反射防止フィルム、10…塗布装置、11…マイクログラビアローラ、21…支持体、22、112…第1層、23、113…第2層、114…第3層、24、116…低屈折率層、25…透光性微粒子、26、115…光学機能層、30…乾燥装置、31…パスローラ、32…搬送室、33…排気室、34…整風板、40…加熱装置、41…仕切り板、42a…前室、42b…中室、42c…後室、43…ダクト、50…紫外線ランプ、60…巻取機、70…送出機、80…搬送ローラ、90…除塵機   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Film manufacturing apparatus, 2 ... Base film, 3, 110 ... Antireflection film, 10 ... Coating apparatus, 11 ... Micro gravure roller, 21 ... Support body, 22, 112 ... 1st layer, 23, 113 ... 2nd layer , 114 ... third layer, 24, 116 ... low refractive index layer, 25 ... translucent fine particles, 26, 115 ... optical functional layer, 30 ... drying device, 31 ... pass roller, 32 ... transport chamber, 33 ... exhaust chamber, 34 ... Air conditioning plate, 40 ... Heating device, 41 ... Partition plate, 42a ... Front chamber, 42b ... Middle chamber, 42c ... Rear chamber, 43 ... Duct, 50 ... Ultraviolet lamp, 60 ... Winding machine, 70 ... Sending machine, 80 ... conveying roller, 90 ... dust remover

Claims (11)

支持体と、前記支持体の上に配される少なくとも1層の光学機能層と、前記光学機能層の上に配され、前記光学機能層よりも屈折率の低い低屈折率層とを有する反射防止フィルムの製造方法において、
前記光学機能層の表面に、前記低屈折率層を形成させるための液を塗布して塗布層を形成する塗布工程と、
前記塗布層の乾燥を促進させる乾燥工程と、
乾燥が促進された塗布層を熱硬化させて低屈折率層とする硬化工程を有し、
前記硬化工程は、前記塗布層を第1温度の乾燥風で硬化させる第1の硬化工程と、前記第1の硬化工程後の前記塗布層を前記第1温度より低い第2温度の乾燥風で前記塗布層を硬化させる第2の硬化工程と、前記第2の硬化工程後の前記塗布層を前記第2温度より高い第3温度の乾燥風で前記塗布層を硬化させる第3の硬化工程と、を有し、
前記第1温度は100℃以上120℃以下であり、前記第2温度は85℃以上100℃以下であり、前記第3温度は100℃以上120℃以下であることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
A reflection having a support, at least one optical functional layer disposed on the support, and a low refractive index layer disposed on the optical functional layer and having a refractive index lower than that of the optical functional layer In the manufacturing method of a prevention film,
An application step of forming a coating layer by applying a liquid for forming the low refractive index layer on the surface of the optical functional layer;
A drying step for promoting drying of the coating layer;
A curing step in which drying is accelerated and the coating layer is thermally cured to form a low refractive index layer;
The curing step includes a first curing step of curing the coating layer at a dry air of a first temperature, the coating layer after the first curing step in dry air of lower than said first temperature second temperature A second curing step for curing the coating layer; and a third curing step for curing the coating layer with a drying air having a third temperature higher than the second temperature on the coating layer after the second curing step. , have a,
The first temperature is 100 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, the second temperature is 85 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and the third temperature is 100 ° C. or higher and 120 ° C. or lower . Production method.
前記支持体がRe値0〜200nmの透明支持体であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルムの製造方法。   The method for producing an antireflection film according to claim 1, wherein the support is a transparent support having an Re value of 0 to 200 nm. 前記第1の硬化工程が前記塗布膜の恒率乾燥期であり、前記第2の硬化工程が前記塗布膜の減率乾燥期であり、前記第1の硬化工程と前記第2の硬化工程とを前記恒率乾燥期から前記減率乾燥期の乾燥変化点の位置において区画することを特徴とする請求項1または2記載の反射防止フィルムの製造方法。   The first curing step is a constant rate drying period of the coating film, the second curing step is a decreasing rate drying period of the coating film, the first curing step and the second curing step, 3. The method for producing an antireflection film according to claim 1, wherein: is partitioned at a position of a drying change point from the constant rate drying period to the decreasing rate drying period. 前記乾燥変化点は、前記塗布膜中の固形分量が60〜80%の範囲であることを特徴とする請求項3記載の反射防止フィルムの製造方法。   The method for producing an antireflection film according to claim 3, wherein the drying change point is in a range of 60 to 80% of the solid content in the coating film. 前記光学機能層が、界面活性作用を持つフッ素系化合物及びシリコーン系化合物のうちから選択される少なくとも1種を含有する光学機能層形成用組成物であることを特徴とする請求項1からいずれか記載の反射防止フィルムの製造方法。 Wherein the optical functional layer, one of claims 1, characterized in that the optically functional layer forming composition containing at least one selected from among fluorine compounds and silicone compounds with surface activity 4 A method for producing an antireflection film as described above. 前記低屈折率層が、2以上の架橋性反応基を有するモノマーの1種を少なくとも含む硬化用化合物を含有することを特徴とする請求項1からいずれか記載の反射防止フィルムの製造方法。 The low refractive index layer, method of manufacturing the anti-reflection film according to any one of claims 1 5, characterized in that it contains a curing compound including at least one kind of monomer having two or more crosslinkable reactive groups. 前記2以上の架橋性反応基を有するモノマーが、2以上のアルデヒド基を含有するアルデヒド化合物であることを特徴とする請求項記載の反射防止フィルムの製造方法。 The method for producing an antireflection film according to claim 6, wherein the monomer having two or more crosslinkable reactive groups is an aldehyde compound containing two or more aldehyde groups. 請求項1からいずれか記載の製造方法により製造された反射防止フィルム。 Antireflection film produced by the method according to any one of claims 1 7. 前記光学機能層が、防眩性付与層であることを特徴とする請求項記載の反射防止フィルム。 The antireflection film according to claim 8 , wherein the optical functional layer is an antiglare property-imparting layer. 前記光学機能層の屈折率が1.58以上2.00以下であることを特徴とする請求項または記載の反射防止フィルム。 The antireflective film according to claim 8 or 9, wherein the refractive index of the optical functional layer is 1.58 or more and 2.00 or less. 前記低屈折率層の屈折率が、1.31以上1.45以下であることを特徴とする請求項から10いずれか記載の反射防止フィルム。 The refractive index of the low refractive index layer, an antireflection film according to any one of claims 8, wherein 10 to be at 1.31 to 1.45.
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