JP2014053251A - Organic el device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device in which a light-emitting region can be expanded, while ensuring the strength of a power supply member.SOLUTION: An organic EL device has a hard resin layer 10 surrounding a region including a light-emitting region 30. Wires 87, 88 are buried in the hard resin layer 10, and power is supplied to power supply regions 31, 32 externally via the buried wires 87, 88. Furthermore, a conductive base material 80 having electrical conductivity is provided on a second electrode layer 6. The conductive base material 80 and the power supply regions 31, 32 are connected electrically via the wires 87, 88, and power is supplied externally via the conductive base material 80 on the projection plane of the light-emitting region 30.

Description

本発明は、有機EL(Electro Luminescence)装置に関するものである。   The present invention relates to an organic EL (Electro Luminescence) device.

近年、白熱灯や蛍光灯に代わる照明装置として有機EL装置が注目され、多くの研究がなされている。   In recent years, organic EL devices have attracted attention as a lighting device that can replace incandescent lamps and fluorescent lamps, and many studies have been made.

ここで、有機EL装置は、ガラス基板や透明樹脂フィルム等の基材に、有機EL素子を積層したものである。
また、有機EL素子は、一方又は双方が透光性を有する2つの電極を対向させ、この電極の間に有機化合物からなる発光層を積層したものである。有機EL装置は、電気的に励起された電子と正孔との再結合のエネルギーによって発光する。
有機EL装置は、自発光デバイスであるため、ディスプレイ材料として使用すると高コントラストの画像を得ることができる。また、発光層の材料を適宜選択することにより、種々の波長の光を発光することができる。また、白熱灯や蛍光灯に比べて厚さが極めて薄く、且つ面状に発光するので、設置場所の制約が少ない。
Here, the organic EL device is obtained by laminating an organic EL element on a base material such as a glass substrate or a transparent resin film.
In addition, the organic EL element has two or more light-transmitting electrodes facing each other, and a light emitting layer made of an organic compound is laminated between the electrodes. The organic EL device emits light by the energy of recombination of electrically excited electrons and holes.
Since the organic EL device is a self-luminous device, a high-contrast image can be obtained when used as a display material. In addition, light of various wavelengths can be emitted by appropriately selecting the material of the light emitting layer. Further, since the thickness is extremely thin compared to incandescent lamps and fluorescent lamps, and the light is emitted in a planar shape, there are few restrictions on the installation location.

有機EL装置は、有機EL素子への水分や酸素(以下、水等ともいう)の進入を防止するために、有機EL素子を封止部材で覆うことによって、外部の雰囲気から遮断する封止構造を備えている。この封止構造によって、ダークスポットと呼ばれる非発光点の発生を抑制している。   An organic EL device has a sealing structure that blocks an organic EL element from an external atmosphere by covering the organic EL element with a sealing member in order to prevent moisture and oxygen (hereinafter also referred to as water) from entering the organic EL element. It has. By this sealing structure, generation of non-light emitting points called dark spots is suppressed.

ところで、面発光という有機EL装置の特長を活かすためには、実際に発光する発光領域の面積をできる限り大きく確保することが好ましい。同一の基材上に発光領域と発光領域への給電に寄与する給電領域が形成されている場合には、基材上の発光領域の面積が拡大するに伴い、基材上の給電領域の面積が小さくなる。   By the way, in order to make use of the feature of the organic EL device called surface emission, it is preferable to secure the area of the light emitting region that actually emits light as much as possible. When a power supply region that contributes to power supply to the light emitting region and the light emitting region is formed on the same base material, the area of the power supply region on the base material increases as the area of the light emitting region on the base material increases. Becomes smaller.

そこで、発光領域を拡大する方策として、特許文献1のような構造が考えられる。
特許文献1の発光モジュール(有機EL装置)では、発光領域に位置する給電端子と、給電領域に位置する給電電極(電極)が電気接続部材(給電部材)によって、支持体(封止部材)の背面側で接続されている。すなわち、給電領域から発光領域に線状の給電部材を這わすことによって給電領域の面積を縮小させて、発光領域を拡大できると考えられる。
Therefore, as a measure for enlarging the light emitting region, a structure as in Patent Document 1 can be considered.
In the light emitting module (organic EL device) of Patent Document 1, the power supply terminal located in the light emitting region and the power supply electrode (electrode) located in the power supply region are electrically connected to the support (sealing member) by an electric connection member (power supply member). Connected on the back side. That is, it is considered that the light emitting region can be enlarged by reducing the area of the power feeding region by moving the linear power feeding member from the power feeding region to the light emitting region.

特開2011−119239号公報JP 2011-119239 A

ところが、引用文献1の有機EL装置は、発光領域の面積を拡大することができるものの給電部材が線状であるため、強度が小さく、外的要因によって断線するおそれがある。
また、電極と給電部材は、超音波接合によって接合されており、給電部材はそのすべてが剥きだしとなっている。そのため、給電部材に例えば銅線などを用いた場合、給電部材の表面が酸化されてしまうことがあった。給電部材が酸化されると、電流の流れを阻害し、場合によっては、断線し給電できなくなるおそれもあった。
However, although the organic EL device of the cited document 1 can enlarge the area of the light emitting region, since the power feeding member is linear, the strength is small and there is a risk of disconnection due to external factors.
Moreover, the electrode and the power supply member are joined by ultrasonic bonding, and all of the power supply member is exposed. For this reason, when a copper wire or the like is used for the power supply member, the surface of the power supply member may be oxidized. When the power supply member is oxidized, the flow of current is hindered, and in some cases, there is a possibility that the power supply member is disconnected and cannot supply power.

そこで、本発明は、上記した問題点を解決するものであり、給電部材の強度を確保しつつ、発光領域の拡大ができる有機EL装置を提供するものである。   Therefore, the present invention solves the above-described problems, and provides an organic EL device capable of expanding a light emitting region while ensuring the strength of a power feeding member.

上記した課題を解決するための請求項1に記載の発明は、基材上に順に、第1電極層と、有機発光層と、第2電極層を備えた積層体を有する断面構造を備え、前記基材を平面視したときに、実際に発光する発光領域と、給電部材が接続される給電領域が存在する有機EL装置において、前記発光領域を含む領域を囲む硬質壁部を有し、当該硬質壁部に少なくとも給電部材の一部が埋没しており、当該埋没している給電部材を介して外部から給電領域に給電されるものであり、さらに、前記第2電極層上に電気伝導性を有した導電性基材を有し、当該導電性基材と前記給電領域とが前記給電部材を介して電気的に接続されており、前記発光領域内において、導電性基材を経由して外部から給電されることを特徴とする有機EL装置である。   Invention of Claim 1 for solving an above-mentioned subject is provided with the section structure which has a layered product provided with the 1st electrode layer, the organic luminescent layer, and the 2nd electrode layer in order on a substrate, In the organic EL device in which there is a light emitting region that actually emits light and a power feeding region to which a power feeding member is connected when the substrate is viewed in plan view, the organic EL device includes a hard wall portion that surrounds the region including the light emitting region, At least a part of the power feeding member is buried in the hard wall, and power is fed from the outside to the power feeding region through the buried power feeding member. Further, the electric conductivity is provided on the second electrode layer. The conductive substrate and the power supply region are electrically connected via the power supply member, and in the light emitting region, via the conductive substrate. An organic EL device is characterized in that power is supplied from the outside.

ここでいう「導電性基材」とは、電流の導電経路を備えた基材であり、例えば、プリント基板(PWB)などの実装部を備えた基材だけではなく、銅箔などの単なる導電性のみを有した基材も含む。   The term “conductive substrate” as used herein refers to a substrate having a current conduction path, for example, not only a substrate having a mounting portion such as a printed circuit board (PWB) but also a simple conductive material such as a copper foil. The base material which has only property is also included.

本発明の構成によれば、硬質壁部に少なくとも給電部材の一部が埋没しており、かつ、当該埋没している給電部材を介して外部から給電領域に給電されるものである。すなわち、給電部材の一部は硬質壁部によって覆われており、疑似的なポッティング封止としての機能を有する。そのため、給電時にノイズが入りにくい。また、例えば給電部材がワイヤーや箔のような強度が低いものであっても、給電部材の一部が硬質壁部によって強度が補強されているため、外的要因によって断線や破損しにくい。さらに、例えば金属製の給電部材の場合であっても、表面の酸化を防止することができる。   According to the configuration of the present invention, at least a part of the power feeding member is buried in the hard wall portion, and power is fed from the outside to the power feeding region through the buried power feeding member. That is, a part of the power supply member is covered with the hard wall portion, and has a function as a pseudo potting seal. For this reason, it is difficult for noise to enter during power feeding. For example, even if the power supply member has a low strength such as a wire or a foil, since the strength of a part of the power supply member is reinforced by the hard wall portion, it is difficult to break or break due to an external factor. Furthermore, even in the case of a metal power supply member, for example, surface oxidation can be prevented.

また、本発明の構成によれば、第2電極層上に電気伝導性を有した導電性基材を有し、当該導電性基材と前記給電領域とが前記給電部材を介して電気的に接続されており、かつ、平面視したときに前記発光領域内において、導電性基材を経由して外部から給電される。すなわち、導電性基材は、発光領域の光取出側と逆の位置に設けられているため、給電の邪魔になりにくく、見栄えもよい。また、導電性基材の設置面積を確保できる。さらに、給電領域の面積を縮小することも可能であり、同時に発光面積を拡大することも可能である。   Moreover, according to the structure of this invention, it has the electroconductive base material which has electroconductivity on the 2nd electrode layer, The said electroconductive base material and the said electric power feeding area | region are electrically connected via the said electric power feeding member. In the light emitting region, when connected in plan view, power is supplied from the outside through a conductive base material. That is, since the conductive base material is provided at a position opposite to the light extraction side of the light emitting region, the conductive base material is unlikely to obstruct power supply and may look good. Moreover, the installation area of an electroconductive base material can be ensured. Furthermore, the area of the power supply region can be reduced, and the light emission area can be increased at the same time.

請求項2に記載の発明は、積層体の全部又は一部を封止する封止層を有し、当該封止層上に、軟質接着層が存在し、軟質接着層は、前記発光領域の投影面上に位置するものであり、当該軟質接着層によって導電性基材が接着されていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置である。   Invention of Claim 2 has the sealing layer which seals all or one part of a laminated body, a soft contact bonding layer exists on the said sealing layer, and a soft contact bonding layer is the said light emission area | region. 2. The organic EL device according to claim 1, wherein the organic EL device is located on a projection surface, and a conductive base material is bonded by the soft adhesive layer.

本発明の構成によれば、軟質接着層は、前記発光領域に位置するものである。すなわち、発光領域での積層体の熱膨張などの形状変化による応力を緩和することが可能である。   According to the structure of this invention, a soft contact bonding layer is located in the said light emission area | region. That is, it is possible to relieve stress due to a shape change such as thermal expansion of the laminate in the light emitting region.

請求項3に記載の発明は、基材の縁に沿うように硬質壁部が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL装置である。   The invention according to claim 3 is the organic EL device according to claim 1 or 2, wherein the hard wall portion is formed along the edge of the substrate.

本発明の構成によれば、基材の縁の剛性が向上するため、たとえ基材が柔軟性を有したものであっても、形状を保ちやすい。   According to the structure of this invention, since the rigidity of the edge of a base material improves, even if a base material has a softness | flexibility, it is easy to maintain a shape.

請求項4に記載の発明は、給電部材は給電領域から発光領域に跨がって配されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の有機EL装置である。   According to a fourth aspect of the present invention, in the organic EL device according to any one of the first to third aspects, the power supply member is disposed so as to extend from the power supply region to the light emitting region.

本発明の構成によれば、給電部材は給電領域から発光領域に跨がって配されているため、給電領域の面積を小さくすることができる。すなわち、基材上に占める発光領域の割合を大きくすることができる。   According to the configuration of the present invention, since the power feeding member is disposed across the light emitting region from the power feeding region, the area of the power feeding region can be reduced. That is, it is possible to increase the ratio of the light emitting region on the base material.

請求項5に記載の発明は、硬質壁部は、絶縁性を有した硬質樹脂で形成されており、導電性基材の一部に覆い被さっていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の有機EL装置である。   The invention according to claim 5 is characterized in that the hard wall portion is formed of a hard resin having an insulating property and covers a part of the conductive base material. An organic EL device according to any one of the above.

本発明の構成によれば、硬質壁部が導電性基材の一部を覆い被さっている。すなわち、硬質壁部によって導電性基材と積層体が一体化している。そのため、導電性基材の位置を所望の位置に固定できる。   According to the structure of this invention, the hard wall part has covered a part of electroconductive base material. That is, the conductive base material and the laminate are integrated by the hard wall portion. Therefore, the position of the conductive substrate can be fixed at a desired position.

請求項1乃至5のいずれかに記載の有機EL装置において、給電部材は、ボンディングワイヤーであることが好ましい(請求項6)。   6. The organic EL device according to claim 1, wherein the power feeding member is a bonding wire (Claim 6).

請求項7に記載の発明は、給電部材は、その全部が前記硬質壁部内に埋没していることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の有機EL装置である。   The invention according to claim 7 is the organic EL device according to any one of claims 1 to 6, wherein the power feeding member is entirely buried in the hard wall portion.

本発明の構成によれば、給電部材は、その全部が前記硬質壁部内に埋没しているため、給電部材の強度を補強することができる。また、ノイズも入りにくい。   According to the configuration of the present invention, since the power supply member is entirely embedded in the hard wall portion, the strength of the power supply member can be reinforced. In addition, noise is hard to enter.

本発明の有機EL装置によれば、給電部材が埋没しているため、給電部材の強度を補強でき、発光領域内で外部と電気的に接続されているため、給電領域の面積を狭くすることができる。   According to the organic EL device of the present invention, since the power supply member is buried, the strength of the power supply member can be reinforced, and since it is electrically connected to the outside in the light emitting region, the area of the power supply region is reduced. Can do.

本発明の第1実施形態に係る有機EL装置を裏面側から観察した斜視図である。It is the perspective view which observed the organic EL device concerning a 1st embodiment of the present invention from the back side. 図1の有機EL装置の一部破断斜視図である。It is a partially broken perspective view of the organic EL device of FIG. 図1の有機EL装置のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of the organic electroluminescent apparatus of FIG. 図1の有機EL装置のB−B断面図である。It is BB sectional drawing of the organic electroluminescent apparatus of FIG. 図1の有機EL装置の説明図であり、(a)は、導電性基材側から視た平面図であり、(b)は基板側から視た平面図である。なお、理解を容易にするため、硬質樹脂層を省略している。2A and 2B are explanatory diagrams of the organic EL device of FIG. 1, in which FIG. 1A is a plan view viewed from a conductive base material side, and FIG. 1B is a plan view viewed from a substrate side. For easy understanding, the hard resin layer is omitted. 図1の有機EL装置の第1無機封止層を形成するまでの各工程の説明図であり、(a)〜(g)は各手順における平面図である。It is explanatory drawing of each process until it forms the 1st inorganic sealing layer of the organic EL apparatus of FIG. 1, (a)-(g) is a top view in each procedure. 図1の有機EL装置の軟質樹脂層を形成する工程の説明図であり、(a)〜(c)は各工程を表す。It is explanatory drawing of the process of forming the soft resin layer of the organic EL apparatus of FIG. 1, (a)-(c) represents each process. 図1の有機EL装置の硬質樹脂層を形成する工程までの説明図であり、(d)〜(f)は各工程を表す。It is explanatory drawing to the process of forming the hard resin layer of the organic EL apparatus of FIG. 1, (d)-(f) represents each process. 図8(f)の状態での有機EL装置の概念図である。FIG. 9 is a conceptual diagram of the organic EL device in the state of FIG.

本発明は、有機EL装置に係るものである。図1は、本発明の第1実施形態に係る有機EL装置1を示している。以下、上下の位置関係は、特に断りのない限り、図1の姿勢を基準に説明する。すなわち、有機EL装置1の点灯時における光取り出し側が下である。   The present invention relates to an organic EL device. FIG. 1 shows an organic EL device 1 according to the first embodiment of the present invention. Hereinafter, the vertical positional relationship will be described based on the posture of FIG. 1 unless otherwise specified. That is, the light extraction side when the organic EL device 1 is turned on is on the bottom.

本実施形態の有機EL装置1は、図2のように透光性を有した基板2(基材)上に有機EL素子12が積層されており、さらにその上に無機封止層7(封止層)と、軟質樹脂層8と、硬質樹脂層10(硬質壁部)と、導電性基材80を備えている。有機EL素子12は、第1電極層3と、機能層5と、第2電極層6から形成されている。   In the organic EL device 1 of the present embodiment, an organic EL element 12 is laminated on a substrate 2 (base material) having translucency as shown in FIG. 2, and an inorganic sealing layer 7 (sealing) is further formed thereon. Stop layer), soft resin layer 8, hard resin layer 10 (hard wall portion), and conductive substrate 80. The organic EL element 12 is formed from the first electrode layer 3, the functional layer 5, and the second electrode layer 6.

有機EL装置1は、図3,図4のように駆動時において実際に発光する発光領域30と、発光領域30の周りに発光しない非発光領域29を有している。
非発光領域29は、発光領域30内の有機EL素子12に給電する給電領域31,32と、発光領域30内の有機EL素子12の封止に寄与する封止領域33,34から形成されている。
The organic EL device 1 includes a light emitting region 30 that actually emits light during driving and a non-light emitting region 29 that does not emit light around the light emitting region 30 as shown in FIGS.
The non-light emitting region 29 is formed of power feeding regions 31 and 32 that feed power to the organic EL element 12 in the light emitting region 30 and sealing regions 33 and 34 that contribute to sealing of the organic EL element 12 in the light emitting region 30. Yes.

発光領域30は、図3,図4のように第1電極層3と、機能層5と、第2電極層6が重畳した部位である。発光領域30は、図3,図4のように長さ方向l及び幅方向w(長さ方向lに直交する方向)の中央に位置しており、当該発光領域30を囲むように非発光領域29が位置している。具体的には、給電領域31,32は、図3のように発光領域30の長さ方向lの両外側に位置しており、封止領域33,34は、図4のように発光領域30の幅方向wの両外側に位置している。すなわち、給電領域31,32は、図5(b)のように対辺に沿って配されており、封止領域33,34は当該対辺以外の2辺に沿って配されている。   The light emitting region 30 is a portion where the first electrode layer 3, the functional layer 5, and the second electrode layer 6 are overlapped as shown in FIGS. The light emitting region 30 is located in the center of the length direction l and the width direction w (direction orthogonal to the length direction l) as shown in FIGS. 3 and 4, and is a non-light emitting region so as to surround the light emitting region 30. 29 is located. Specifically, the power feeding regions 31 and 32 are located on both outer sides in the length direction l of the light emitting region 30 as shown in FIG. 3, and the sealing regions 33 and 34 are arranged as shown in FIG. Are located on both outer sides in the width direction w. That is, the power feeding regions 31 and 32 are arranged along the opposite side as shown in FIG. 5B, and the sealing regions 33 and 34 are arranged along two sides other than the opposite side.

給電領域31,32では、図3のように第1電極層3と導電層85,86が直接積層されており、導電層85,86は、外部から供給された電気を有機EL素子12に供給する給電部として機能する。   In the power feeding regions 31 and 32, the first electrode layer 3 and the conductive layers 85 and 86 are directly stacked as shown in FIG. 3, and the conductive layers 85 and 86 supply electricity supplied from the outside to the organic EL element 12. Functions as a power feeding unit.

本実施形態の有機EL装置1は、図2のように硬質樹脂層10が発光領域30の周りを覆って壁部を形成し、当該硬質樹脂層10内にワイヤー87,88の一部又は全部が埋没されている。そして、当該ワイヤー87,88を介して導電層85,86と導電性基材80とが接続されているという特徴を有している。以下、この特徴を踏まえて、まず各構成部位の位置関係について説明し、各構成部位の性質等については後述する。   In the organic EL device 1 of the present embodiment, the hard resin layer 10 covers the periphery of the light emitting region 30 to form a wall as shown in FIG. 2, and part or all of the wires 87 and 88 are in the hard resin layer 10. Is buried. And it has the characteristics that the conductive layers 85 and 86 and the electroconductive base material 80 are connected via the said wires 87 and 88. FIG. Hereinafter, based on this feature, first, the positional relationship of each component will be described, and the properties of each component will be described later.

上記したように、有機EL装置1は、発光領域30において、図3のように基板2上に、第1電極層3と機能層5と第2電極層6とがこの順に積層し、その上に、無機封止層7、軟質樹脂層8、導電性基材80が順に積層されている。
また、給電領域31,32の一部では、第1電極層3上に導電層85,86が積層し、その上に、硬質樹脂層10が積層されている。導電層85,86と導電性基材80は、ワイヤー87,88によって接続されている。
As described above, the organic EL device 1 includes the first electrode layer 3, the functional layer 5, and the second electrode layer 6 stacked in this order on the substrate 2 as shown in FIG. In addition, the inorganic sealing layer 7, the soft resin layer 8, and the conductive substrate 80 are laminated in this order.
Further, in a part of the power feeding regions 31 and 32, conductive layers 85 and 86 are stacked on the first electrode layer 3, and the hard resin layer 10 is stacked thereon. The conductive layers 85 and 86 and the conductive substrate 80 are connected by wires 87 and 88.

硬質樹脂層10は、導電性基材80が有機EL素子12側から離反しないように導電性基材80を固定している。すなわち、硬質樹脂層10は、導電性基材80の一部を覆っており、導電性基材80の縁部を巻き込んでおり、図3のように発光領域30を含む領域を囲むような壁を形成している。本実施形態では、硬質樹脂層10は、図3,図4のように非発光領域29上に形成されている。   The hard resin layer 10 fixes the conductive substrate 80 so that the conductive substrate 80 is not separated from the organic EL element 12 side. That is, the hard resin layer 10 covers a part of the conductive base material 80, encloses the edge of the conductive base material 80, and surrounds the region including the light emitting region 30 as shown in FIG. Is forming. In the present embodiment, the hard resin layer 10 is formed on the non-light emitting region 29 as shown in FIGS.

硬質樹脂層10は、図3のようにワイヤー87,88の大部分を被覆している。言い換えると、ワイヤー87,88の大部分が硬質樹脂層10内に埋設されている。本実施形態では、ワイヤー87,88全体が硬質樹脂層10内に埋没している。すなわち、ワイヤー87,88は外部に露出していない。   The hard resin layer 10 covers most of the wires 87 and 88 as shown in FIG. In other words, most of the wires 87 and 88 are embedded in the hard resin layer 10. In the present embodiment, the entire wires 87 and 88 are buried in the hard resin layer 10. That is, the wires 87 and 88 are not exposed to the outside.

導電層85,86と導電性基材80との関係に注目すると、給電領域31,32に位置する導電層85,86と、発光領域30の部材厚方向の投影面上に主に位置する導電性基材80は、ワイヤー87,88によって接続されている。
すなわち、ワイヤー87,88の一方の端部は、図5のように無機封止層7から露出した露出領域97,98で導電層85,86に接続されている。もう一方の端部は、無機封止層7が被覆した被覆領域99で導電性基材80に接続されている。
別言すると、ワイヤー87の一方の端部は、給電領域31内の導電層85に接続されており、もう一方の端部は、発光領域30内で導電性基材80と接続されている。すなわち、ワイヤー87は給電領域31から発光領域30に跨がって取り付けられている。ワイヤー88の一方の端部は、給電領域32内の導電層86に接続されており、もう一方の端部は、給電領域32内で導電性基材80と接続されている。ワイヤー87,88は、図2のように無機封止層7及び軟質樹脂層8と接触していない。
When attention is paid to the relationship between the conductive layers 85 and 86 and the conductive substrate 80, the conductive layers 85 and 86 located in the power feeding regions 31 and 32 and the conductive located mainly on the projection surface in the member thickness direction of the light emitting region 30. The conductive substrate 80 is connected by wires 87 and 88.
That is, one end of the wires 87 and 88 is connected to the conductive layers 85 and 86 through exposed regions 97 and 98 exposed from the inorganic sealing layer 7 as shown in FIG. The other end is connected to the conductive substrate 80 by a covering region 99 covered by the inorganic sealing layer 7.
In other words, one end of the wire 87 is connected to the conductive layer 85 in the power feeding region 31, and the other end is connected to the conductive base material 80 in the light emitting region 30. That is, the wire 87 is attached across the light emitting region 30 from the power feeding region 31. One end of the wire 88 is connected to the conductive layer 86 in the power supply region 32, and the other end is connected to the conductive substrate 80 in the power supply region 32. The wires 87 and 88 are not in contact with the inorganic sealing layer 7 and the soft resin layer 8 as shown in FIG.

軟質樹脂層8は、図3,図4のように無機封止層7上であって、少なくとも、発光領域30の部材厚方向の投影面全面を覆うように積層されている。軟質樹脂層8は、図3のように長さ方向lにおいて、第2電極層6全体まで延びている。軟質樹脂層8は、面状に広がりをもって、無機封止層7の大部分を覆っている。   The soft resin layer 8 is laminated on the inorganic sealing layer 7 as shown in FIGS. 3 and 4 so as to cover at least the entire projection surface of the light emitting region 30 in the member thickness direction. The soft resin layer 8 extends to the entire second electrode layer 6 in the length direction l as shown in FIG. The soft resin layer 8 spreads in a planar shape and covers most of the inorganic sealing layer 7.

導電性基材80は、箔状又は板状の部材であり、図3のように基板2側から順に第1導電箔81と、絶縁シート82と、第2導電箔83との3層が積層して形成されている。   The conductive substrate 80 is a foil-like or plate-like member, and three layers of a first conductive foil 81, an insulating sheet 82, and a second conductive foil 83 are laminated in order from the substrate 2 side as shown in FIG. Is formed.

導電性基材80は、図1のように、平面視において中央に外部電源と電気的に接続可能な接続部90を有している。具体的には、絶縁シート82に第1接続孔91が形成されており、第2導電箔83に第2接続孔92が形成されている。第1接続孔91から第1導電箔81が露出しており、第2接続孔92から第1導電箔81と絶縁シート82が露出している。絶縁シート82は、第1導電箔81の一部を囲む環状となっており、通電時の安全地帯として機能する。
第1接続孔91と第2接続孔92は、図1のようにともに円形の開口を有しており、開口径が異なっている。第1接続孔91の開口径は、第2接続孔92の開口径よりも小さく、ともに同心円状となっている。すなわち、第1接続孔91と第2接続孔92は共に連続した連通孔を形成しており、外部電源に電気的に接続される給電端子93を当該連通孔内に挿通させることによって第2導電箔83側から第1導電箔81に接続可能となっている。
このように、導電性基材80は、外部電源に電気的に接続される給電端子93の一方の極(例えば、正極)を第1導電箔81に接続し、給電端子93の他方の極(例えば、負極)を第2導電箔83に接続することが可能となっている。
As shown in FIG. 1, the conductive substrate 80 has a connection portion 90 that can be electrically connected to an external power source in the center in a plan view. Specifically, the first connection hole 91 is formed in the insulating sheet 82, and the second connection hole 92 is formed in the second conductive foil 83. The first conductive foil 81 is exposed from the first connection hole 91, and the first conductive foil 81 and the insulating sheet 82 are exposed from the second connection hole 92. The insulating sheet 82 has an annular shape surrounding a part of the first conductive foil 81 and functions as a safety zone when energized.
The first connection hole 91 and the second connection hole 92 both have a circular opening as shown in FIG. 1 and have different opening diameters. The opening diameter of the first connection hole 91 is smaller than the opening diameter of the second connection hole 92 and both are concentric. That is, both the first connection hole 91 and the second connection hole 92 form a continuous communication hole, and the second conductive layer is formed by inserting a power supply terminal 93 electrically connected to an external power source into the communication hole. The first conductive foil 81 can be connected from the foil 83 side.
As described above, the conductive substrate 80 connects one pole (for example, positive electrode) of the power supply terminal 93 that is electrically connected to the external power source to the first conductive foil 81, and connects the other pole ( For example, it is possible to connect the negative electrode) to the second conductive foil 83.

第1導電箔81及び第2導電箔83の材質は、導電性を有していれば特に限定されるものではなく、銅箔、アルミニウム箔、銀箔、金箔、白金箔などが採用できる。
絶縁シート82の材質は、絶縁性を有していれば特に限定されるものではないが、封止性が高い観点からポリエチレンテレフタレート(PET)とポリ塩化ビニリデン(PVDC)とポリテトラフルオロエチレン(PTFE)のうちいずれかであることが好ましい。
The material of the 1st conductive foil 81 and the 2nd conductive foil 83 will not be specifically limited if it has electroconductivity, Copper foil, aluminum foil, silver foil, gold foil, platinum foil, etc. are employable.
The material of the insulating sheet 82 is not particularly limited as long as it has insulating properties, but from the viewpoint of high sealing properties, polyethylene terephthalate (PET), polyvinylidene chloride (PVDC), and polytetrafluoroethylene (PTFE). ) Is preferable.

ワイヤー87,88に目を移すと、ワイヤー87,88は、ともに線状の部材であり、いわゆるボンディングワイヤーと呼ばれるものである。ワイヤー87,88の直径は、15μm以上100μm以下となっており、50μm以上100μm以下であることが好ましい。
ワイヤー87,88の材質は、電気伝導性を有していれば、特に限定されるものではないが、例えば、銅線、銀線、金線、アルミニウム線などが採用できる。
When the eyes are moved to the wires 87 and 88, the wires 87 and 88 are both linear members and are so-called bonding wires. The diameters of the wires 87 and 88 are 15 μm or more and 100 μm or less, and preferably 50 μm or more and 100 μm or less.
Although the material of the wires 87 and 88 will not be specifically limited if it has electrical conductivity, For example, a copper wire, a silver wire, a gold wire, an aluminum wire etc. are employable.

給電領域31,32に位置する導電層85,86に目を移すと、導電層85,86は、第1電極層3よりも電気伝導性が高い材質でできた層である。導電層85,86の材質としては、例えば、第1電極層3として透明導電性酸化物を使用している場合には、金属が使用可能であり、特に金、銀、銅、アルミニウム、白金などが好ましい。本実施形態では、第2電極層6と同質の材質によって形成されており、後述するように第2電極層6の成膜に伴って同時に形成される。   Moving to the conductive layers 85 and 86 located in the power supply regions 31 and 32, the conductive layers 85 and 86 are layers made of a material having higher electrical conductivity than the first electrode layer 3. As a material of the conductive layers 85 and 86, for example, when a transparent conductive oxide is used as the first electrode layer 3, a metal can be used, particularly gold, silver, copper, aluminum, platinum, and the like. Is preferred. In the present embodiment, the second electrode layer 6 is formed of the same material as that of the second electrode layer 6 and is formed simultaneously with the formation of the second electrode layer 6 as will be described later.

導電層85は、図3のようにワイヤー87を介して導電性基材80の第1導電箔81に接続されている。すなわち、ワイヤー87は、給電領域31と発光領域30の複数の領域に跨がって接続されている。同様に、導電層86は、ワイヤー88を介して導電性基材80の第2導電箔83に接続されている。   The conductive layer 85 is connected to the first conductive foil 81 of the conductive base member 80 through the wire 87 as shown in FIG. That is, the wire 87 is connected across a plurality of regions of the power feeding region 31 and the light emitting region 30. Similarly, the conductive layer 86 is connected to the second conductive foil 83 of the conductive base material 80 via the wire 88.

第1電極層3は、図3のように長さ方向l(図面上は長手方向)の一方の辺近傍に、当該一方の辺に平行に延びた第1電極層分離溝15が形成されている。第1電極層分離溝15は、第1電極層3を2つの領域に分割する溝であり、発光領域30と給電領域32を分離する溝である。
当該第1電極層分離溝15の外側(発光領域30と反対側)で、第2電極層6と第1電極層3が接触しており、さらにその外側で、導電層86と第1電極層3が接触している。
すなわち、有機EL素子12を構成する第2電極層6と導電層86との間には、導電層分離溝78があり、当該導電層分離溝78に無機封止層7が入り込んでいる。
一方、その対辺側に位置する有機EL素子12を構成する第2電極層6と導電層85との間にも導電層分離溝77があり、当該導電層分離溝77に無機封止層7が入り込んでいる。
As shown in FIG. 3, the first electrode layer 3 has a first electrode layer separation groove 15 extending in parallel with one side in the vicinity of one side in the length direction l (longitudinal direction in the drawing). Yes. The first electrode layer separation groove 15 is a groove that divides the first electrode layer 3 into two regions, and is a groove that separates the light emitting region 30 and the power feeding region 32.
The second electrode layer 6 and the first electrode layer 3 are in contact with each other outside the first electrode layer separation groove 15 (on the side opposite to the light emitting region 30), and further outside the conductive layer 86 and the first electrode layer. 3 is in contact.
That is, there is a conductive layer separation groove 78 between the second electrode layer 6 constituting the organic EL element 12 and the conductive layer 86, and the inorganic sealing layer 7 enters the conductive layer separation groove 78.
On the other hand, there is also a conductive layer separation groove 77 between the second electrode layer 6 and the conductive layer 85 constituting the organic EL element 12 located on the opposite side, and the inorganic sealing layer 7 is formed in the conductive layer separation groove 77. It has entered.

無機封止層7は、図5(a),図5(b)のように、少なくとも発光領域30の全面に成膜されており、さらに給電領域31,32の一部まで至っている。
具体的には、無機封止層7は、図3のようにその一部が導電層分離溝77及び導電層分離溝78から外側に張り出しており、導電層86,87の一部を覆っている。無機封止層7は、第2電極層6の端面を覆っている。
As shown in FIGS. 5A and 5B, the inorganic sealing layer 7 is formed on at least the entire surface of the light emitting region 30 and further reaches a part of the power feeding regions 31 and 32.
Specifically, the inorganic sealing layer 7 partially protrudes outward from the conductive layer separation groove 77 and the conductive layer separation groove 78 as shown in FIG. 3 and covers a part of the conductive layers 86 and 87. Yes. The inorganic sealing layer 7 covers the end surface of the second electrode layer 6.

続いて、有機EL装置1を構成する各構成部材の物性等について説明する。なお、上記の説明と重複する物性については、省略する。   Next, physical properties and the like of each constituent member constituting the organic EL device 1 will be described. In addition, about the physical property which overlaps with said description, it abbreviate | omits.

基板2は、透光性及び絶縁性を有したものである。基板2の材質については特に限定されるものではなく、例えば、フレキシブルなフィルム基板やプラスチック基板などから適宜選択され用いられる。特にガラス基板や透明なフィルム基板は透明性や加工性の良さの点から好適である。
基板2は、面状に広がりをもっている。具体的には、多角形又は円形をしており、四角形であることが好ましい。本実施形態では、長方形状のガラス基板を採用している。
The board | substrate 2 has translucency and insulation. The material of the substrate 2 is not particularly limited, and is appropriately selected from, for example, a flexible film substrate or a plastic substrate. In particular, a glass substrate or a transparent film substrate is preferable in terms of transparency and good workability.
The substrate 2 has a planar shape. Specifically, it is polygonal or circular, and is preferably square. In this embodiment, a rectangular glass substrate is employed.

第1電極層3の材質は、透明であって、導電性を有していれば、特に限定されるものではなく、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等の透明導電性酸化物などが採用される。機能層5内の発光層から発生した光を効果的に取り出せる点では、透明性が高いITOあるいはIZOが特に好ましい。本実施形態では、ITOを採用している。 The material of the first electrode layer 3 is not particularly limited as long as it is transparent and has conductivity. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), oxidation Transparent conductive oxides such as tin (SnO 2 ) and zinc oxide (ZnO) are employed. ITO or IZO, which has high transparency, is particularly preferable in that light generated from the light emitting layer in the functional layer 5 can be effectively extracted. In this embodiment, ITO is adopted.

機能層5は、第1電極層3と第2電極層6との間に設けられ、少なくとも一つの発光層を有している層である。機能層5は、主に有機化合物からなる複数の層から構成されている。この機能層5は、一般的な有機EL装置に用いられている低分子系色素材料や、共役系高分子材料などの公知のもので形成することができる。また、この機能層5は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などの複数の層からなる積層多層構造であってもよい。   The functional layer 5 is a layer provided between the first electrode layer 3 and the second electrode layer 6 and having at least one light emitting layer. The functional layer 5 is composed of a plurality of layers mainly made of organic compounds. The functional layer 5 can be formed of a known material such as a low molecular dye material or a conjugated polymer material used in a general organic EL device. In addition, the functional layer 5 may have a multilayer structure including a plurality of layers such as a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

第2電極層6の材質は、特に限定されるものではなく、例えば銀(Ag)やアルミニウム(Al)などの金属が挙げられる。本実施形態の第2電極層6は、Alで形成されている。また、これらの材料はスパッタ法又は真空蒸着法によって堆積されることが好ましい。
また、第2電極層6の電気伝導率及び熱伝導率は、第1電極層3よりも大きい。言い換えると、第2電極層6は、第1電極層3よりも電気伝導性及び熱伝導性が高い。
The material of the 2nd electrode layer 6 is not specifically limited, For example, metals, such as silver (Ag) and aluminum (Al), are mentioned. The second electrode layer 6 of this embodiment is made of Al. These materials are preferably deposited by sputtering or vacuum evaporation.
In addition, the electrical conductivity and thermal conductivity of the second electrode layer 6 are larger than those of the first electrode layer 3. In other words, the second electrode layer 6 has higher electrical conductivity and thermal conductivity than the first electrode layer 3.

無機封止層7の材質は、絶縁性及び封止性を有していれば、特に限定されるものではないが、酸素、炭素、窒素の中から選ばれた1種類以上の元素と、ケイ素元素とからなるシリコン合金により形成されていることが好ましく、Si−O、Si−N、Si−H、N−H等の結合を含む窒化珪素や酸化珪素、及び両者の中間固溶体である酸窒化珪素であることが特に好ましい。
また、無機封止層7は、所定の条件で有機EL素子12と離反する方向に圧縮応力が発生する層であることが好ましい。
ここでいう「所定の条件」とは、有機EL素子12の熱膨張などに起因して発生する押圧力を受けた場合などである。
The material of the inorganic sealing layer 7 is not particularly limited as long as it has insulating properties and sealing properties, but one or more elements selected from oxygen, carbon, and nitrogen, and silicon It is preferably formed of a silicon alloy composed of an element, and silicon nitride or silicon oxide containing a bond such as Si—O, Si—N, Si—H, or N—H, and an oxynitride that is an intermediate solid solution of both. Particularly preferred is silicon.
The inorganic sealing layer 7 is preferably a layer in which compressive stress is generated in a direction away from the organic EL element 12 under predetermined conditions.
Here, the “predetermined condition” refers to a case where a pressing force generated due to thermal expansion of the organic EL element 12 is received.

そして、本実施形態では、多層構造の無機封止層を使用している。
具体的には、無機封止層7は、図3のように有機EL素子12側から乾式法によって形成される第1無機封止層50と、湿式法によって形成される第2無機封止層51がこの順に積層されて形成されている。
第1無機封止層50は、化学気相蒸着によって形成される層であり、さらに詳細にはシランガスやアンモニアガス等を原料としてプラズマCVD法で成膜される層である。第1無機封止層50は、後述するように有機EL装置1の製造工程において、水分含量が少ない雰囲気下で、有機EL素子12の形成工程に連続して成膜できるため、空気や水蒸気に晒さずに成膜でき、使用直後の初期ダークスポットの発生を低減することができる。
In this embodiment, an inorganic sealing layer having a multilayer structure is used.
Specifically, the inorganic sealing layer 7 includes a first inorganic sealing layer 50 formed by a dry method from the organic EL element 12 side as shown in FIG. 3 and a second inorganic sealing layer formed by a wet method. 51 are laminated in this order.
The first inorganic sealing layer 50 is a layer formed by chemical vapor deposition, and more specifically, a layer formed by plasma CVD using silane gas, ammonia gas, or the like as a raw material. Since the 1st inorganic sealing layer 50 can be formed into a film continuously in the formation process of the organic EL element 12 in an atmosphere with a low moisture content in the manufacturing process of the organic EL device 1 as will be described later. Film formation can be performed without exposure, and the occurrence of initial dark spots immediately after use can be reduced.

第2無機封止層51は、液体状又はゲル状の原料を塗布した後、化学反応を介して成膜される層である。第2無機封止層51は、緻密性を有したシリカを素材としている。より詳細には、第2無機封止層51はポリシラザン誘導体を原料とするのが好ましい。ポリシラザン誘導体を用いてシリカ転化によって第2無機封止層51を成膜した場合、シリカ転化時に重量増加を生じ、体積収縮が小さい。また、シリカ転化時(固化時)に樹脂の耐え得る温度で十分にしかもクラックを生じ難くすることができるという利点を有する。
なお、ここでいうポリシラザン誘導体は、珪素−窒素結合を持つポリマーであり、Si−N、Si−H、N−H等からなるSiO2、Si34、及び両者の中間固溶体SiOxNy等のセラミック前駆体ポリマーである。また、このポリシラザン誘導体は、Siと結合する水素部分が一部アルキル基等で置換された誘導体も含む。
ポリシラザン誘導体の中でも特に側鎖が全て水素であるペルヒドロポリシラザンや、珪素と結合する水素部分が一部メチル基に置換された誘導体が好ましい。
The second inorganic sealing layer 51 is a layer formed through a chemical reaction after applying a liquid or gel material. The second inorganic sealing layer 51 is made of dense silica. More specifically, the second inorganic sealing layer 51 is preferably made of a polysilazane derivative. In the case where the second inorganic sealing layer 51 is formed by silica conversion using a polysilazane derivative, weight increase occurs during silica conversion, and volume shrinkage is small. In addition, there is an advantage that cracks can be prevented from being generated sufficiently at a temperature that can be withstood by the resin during silica conversion (solidification).
Here, the polysilazane derivative is a polymer having a silicon-nitrogen bond, such as SiO 2 , Si 3 N 4 made of Si—N, Si—H, N—H, etc., and a ceramic such as an intermediate solid solution SiOxNy of both. It is a precursor polymer. The polysilazane derivative also includes a derivative in which a hydrogen part bonded to Si is partially substituted with an alkyl group or the like.
Among the polysilazane derivatives, perhydropolysilazane in which all side chains are hydrogen, and derivatives in which a hydrogen part bonded to silicon is partially substituted with a methyl group are particularly preferable.

また、このポリシラザン誘導体は、有機溶媒に溶解した溶液状態で塗布し使用することが好ましい。この溶解する有機溶媒としては、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素等の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素溶媒、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類が使用できる。   Moreover, it is preferable to apply and use this polysilazane derivative in the solution state melt | dissolved in the organic solvent. As the organic solvent to be dissolved, hydrocarbon solvents such as aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons and aromatic hydrocarbons, ethers such as halogenated hydrocarbon solvents, aliphatic ethers and alicyclic ethers can be used. .

第2無機封止層51は、第1無機封止層50とは異なる材料を封止層として積層したものであり、相互の欠陥を補完することにより、封止性能を高め、経時的な新たなダークスポットの発生を防止したり、発生したダークスポットの拡大化を抑制したりすることができる。   The second inorganic sealing layer 51 is formed by laminating a material different from that of the first inorganic sealing layer 50 as the sealing layer. Generation of dark spots can be prevented, and the expansion of the generated dark spots can be suppressed.

無機封止層7の平均厚みは、1μm〜10μmであることが好ましく、2μm〜5μmであることがより好ましい。
無機封止層7の一部を担う第1無機封止層50の厚みは、0.5μm〜5μmであることが好ましく、1μm〜2μmであることがより好ましい。
また、無機封止層7の一部を担う第2無機封止層51の厚みは、好ましくは0.5μm〜5μmであることが好ましく、1μm〜3μmであることがより好ましい。
The average thickness of the inorganic sealing layer 7 is preferably 1 μm to 10 μm, and more preferably 2 μm to 5 μm.
The thickness of the first inorganic sealing layer 50 that bears a part of the inorganic sealing layer 7 is preferably 0.5 μm to 5 μm, and more preferably 1 μm to 2 μm.
The thickness of the second inorganic sealing layer 51 that bears a part of the inorganic sealing layer 7 is preferably 0.5 μm to 5 μm, and more preferably 1 μm to 3 μm.

軟質樹脂層8は、柔軟性を有し、所定の条件によって塑性変形又は弾性変形する層である。本実施形態では、軟質樹脂層8は、無機封止層7の圧縮応力などを受けた場合に、その応力にほとんど逆らわずに、塑性変形可能となっている。JIS K 6253に準じた軟質樹脂層8のショア硬さは、ショア硬さがA30以上、A70以下であることが好ましく、A30以上A65以下であることがより好ましく、A45以上A63以下であることがさらに好ましい。
軟質樹脂層8のショア硬さがA70より大きい場合、軟質樹脂層8の剛性が大きすぎて、膨らみや衝撃を十分吸収できない。
軟質樹脂層8の曲げ弾性率は、3MPa以上30MPa以下であることが好ましく、3MPa以上25MPa以下であることがより好ましく、3.9MPa以上23MPa以下であることが特に好ましい。
The soft resin layer 8 is a layer that has flexibility and undergoes plastic deformation or elastic deformation under a predetermined condition. In the present embodiment, when the soft resin layer 8 receives a compressive stress of the inorganic sealing layer 7 or the like, the soft resin layer 8 can be plastically deformed with almost no resistance to the stress. The shore hardness of the soft resin layer 8 according to JIS K 6253 is such that the Shore hardness is preferably A30 or more and A70 or less, more preferably A30 or more and A65 or less, and A45 or more and A63 or less. Further preferred.
When the shore hardness of the soft resin layer 8 is larger than A70, the rigidity of the soft resin layer 8 is too large to sufficiently absorb swelling and impact.
The flexural modulus of the soft resin layer 8 is preferably 3 MPa or more and 30 MPa or less, more preferably 3 MPa or more and 25 MPa or less, and particularly preferably 3.9 MPa or more and 23 MPa or less.

軟質樹脂層8の具体的な材質としては、アクリルゴム(ACM)、エチレンプロピレンゴム(EPM,EPDM)、シリコーンゴム(Q)、ブチルゴム(IIR)、スチレン・ブタジエンゴム(SBR)、ブタジエンゴム(BR)、フッ素ゴム(FKM)、ニトリルゴム(NBR)、イソプレンゴム(IR)、ウレタンゴム(U)、クロロスルホン化ポリエチレン(CSM)、エピクロルヒドリンゴム(CO,ECO)、クロロプレンゴム(CR)等のゴム材料が使用できるが、一定の水蒸気バリア性を有し、安価に入手可能である点から、アクリルゴム系樹脂、エチレンプロピレンゴム系樹脂、シリコーンゴム系樹脂、及びブチルゴム系樹脂から選ばれる1種以上であることが好ましく、その中でもフィルムとして入手が容易な、ブチルゴム系樹脂がより好ましい。
また、本実施形態の軟質樹脂層8は、接着性を有しており、複数部材を互いに接着可能となっている。具体的には、本実施形態の軟質樹脂層8は、シート状又は板状の部材であり、表面に粘着性加工が施されている。
Specific materials for the soft resin layer 8 include acrylic rubber (ACM), ethylene propylene rubber (EPM, EPDM), silicone rubber (Q), butyl rubber (IIR), styrene-butadiene rubber (SBR), and butadiene rubber (BR). ), Fluoro rubber (FKM), nitrile rubber (NBR), isoprene rubber (IR), urethane rubber (U), chlorosulfonated polyethylene (CSM), epichlorohydrin rubber (CO, ECO), chloroprene rubber (CR), etc. One or more materials selected from acrylic rubber-based resins, ethylene-propylene rubber-based resins, silicone rubber-based resins, and butyl rubber-based resins can be used, although they have a certain water vapor barrier property and are available at low cost. In particular, butyl rubber, which is easily available as a film, is preferable. System resin is more preferable.
Moreover, the soft resin layer 8 of this embodiment has adhesiveness, and a plurality of members can be bonded to each other. Specifically, the soft resin layer 8 of the present embodiment is a sheet-like or plate-like member, and the surface is subjected to adhesive processing.

軟質樹脂層8の厚みは、有機EL素子12の局所的なショート欠陥(電気的に短絡)の対応部分が膨らむことで局所的なオープン欠陥(電気的に開放)となるようにし、有機EL装置そのものが不点灯とならないようにする観点や、衝撃の吸収を十分なものとしつつ有機EL装置の薄さの特長を活かす観点から、2μm以上1000μm以下とすることが好ましく、10μm以上200μm以下であることがより好ましく、20μm以上100μm以下であることがさらに好ましい。   The thickness of the soft resin layer 8 is set so that a portion corresponding to a local short-circuit defect (electrically short-circuited) of the organic EL element 12 swells to become a local open defect (electrically open-circuit). From the viewpoint of preventing the light itself from being turned off, and from the viewpoint of taking advantage of the thinness of the organic EL device while sufficiently absorbing shock, it is preferably 2 μm or more and 1000 μm or less, and is 10 μm or more and 200 μm or less. More preferably, it is 20 μm or more and 100 μm or less.

硬質樹脂層10は、軟質樹脂層8よりも剛性が高く硬い材質となっている。具体的には、JIS K 6253に準じた硬質樹脂層10のショア硬さ(及び対応する曲げ弾性率の概算値)は、ショアA80以上、すなわち、ショアD30以上(25MPa以上)であることが好ましく、より高信頼性の有機EL装置とする観点からショアD55以上(250MPa以上)、ショアD95以下(6000MPa以下)とすることがより好ましく、ショアD80以上(1500MPa以上)、ショアD90以下(4000MPa以下)とすることがさらに好ましい。
また、本実施形態の硬質樹脂層10は、防水性及び接着性(粘着性)を有しており、複数部材を互いに接着可能となっている。具体的には、本実施形態の硬質樹脂層10は、溶液又はゲル状の流動体を固化して形成されるものである。
硬質樹脂層10の具体的な材質としては、例えば、エポキシ樹脂性の接着材などが採用できる。なお、本実施形態では、エポキシ樹脂性の接着材を採用している。
このような硬質樹脂層10から構成される本発明に係る硬質壁部は、本発明に係る導電性基材80を十分な強度で支持し、また、水分の有機EL素子12への進入を十分に防止し、本発明に係るボンディングワイヤー87,88(給電部材)を十分な強度で補強し、また、その酸化を防止し、かつ、硬質壁部が存在する非発光領域29となる額縁領域を狭くする観点から、図1に示されるその基板2面に平行な方向の硬質樹脂層10の幅(硬質壁部の厚み)D1,D2が、0.05mm以上、10mm以下とすることが好ましく、0.1mm以上5mm以下とすることがより好ましく、0.5mm以上2mm以下とすることがさらに好ましい。
The hard resin layer 10 is made of a hard material having higher rigidity than the soft resin layer 8. Specifically, the shore hardness (and the approximate value of the corresponding flexural modulus) of the hard resin layer 10 according to JIS K 6253 is preferably Shore A80 or higher, that is, Shore D30 or higher (25 MPa or higher). From the viewpoint of providing a highly reliable organic EL device, Shore D55 or more (250 MPa or more), Shore D95 or less (6000 MPa or less) is more preferable, Shore D80 or more (1500 MPa or more), Shore D90 or less (4000 MPa or less). More preferably.
Moreover, the hard resin layer 10 of this embodiment has waterproofness and adhesiveness (adhesiveness), and a plurality of members can be bonded to each other. Specifically, the hard resin layer 10 of the present embodiment is formed by solidifying a solution or gel fluid.
As a specific material of the hard resin layer 10, for example, an epoxy resin adhesive can be employed. In this embodiment, an epoxy resin adhesive is used.
The hard wall portion according to the present invention composed of such a hard resin layer 10 supports the conductive base material 80 according to the present invention with sufficient strength, and sufficiently allows moisture to enter the organic EL element 12. The frame region that becomes the non-light-emitting region 29 in which the bonding wires 87 and 88 (feeding members) according to the present invention are reinforced with sufficient strength, the oxidation is prevented, and the hard wall portion exists is provided. From the viewpoint of narrowing, the width (hard wall thickness) D1, D2 of the hard resin layer 10 in the direction parallel to the surface of the substrate 2 shown in FIG. 1 is preferably 0.05 mm or more and 10 mm or less, It is more preferably 0.1 mm or more and 5 mm or less, and further preferably 0.5 mm or more and 2 mm or less.

次に、本実施形態に係る有機EL装置1の製造方法について説明する。
有機EL装置1は、図示しない真空蒸着装置及びCVD装置によって成膜し、図示しないパターニング装置、本実施形態では、レーザースクライブ装置を使用してパターニングを行い、製造される。
Next, a method for manufacturing the organic EL device 1 according to this embodiment will be described.
The organic EL device 1 is manufactured by forming a film using a vacuum vapor deposition device and a CVD device (not shown), and patterning using a patterning device (not shown), in this embodiment, a laser scribing device.

まず、有機EL素子12を積層する有機EL素子形成工程を行う。
具体的には、まず、スパッタ法やCVD法によって基板2の一部又は全部に第1電極層3を成膜する(図6(a)から図6(b))。
このとき、本実施形態では、基板2の長辺(長さ方向に延びる辺)及び短辺(長辺に直交する辺であって、幅方向に延びる辺)の近傍には第1電極層3を積層していない。
First, the organic EL element formation process which laminates | stacks the organic EL element 12 is performed.
Specifically, first, the first electrode layer 3 is formed on a part or all of the substrate 2 by sputtering or CVD (FIGS. 6A to 6B).
At this time, in the present embodiment, the first electrode layer 3 is disposed in the vicinity of the long side (side extending in the length direction) and the short side (side orthogonal to the long side and extending in the width direction) of the substrate 2. Are not laminated.

その後、第1電極層3が成膜された基板に対して、レーザースクライブ装置によって第1電極層分離溝15を形成する(図6(b)から図6(c))。
このとき、第1電極層分離溝15は、基板2の短辺に平行に形成されており、幅方向全体に亘っている。
第1電極層分離溝15は、有機EL装置1が形成された際に給電領域32と発光領域30との境界部位に形成されている。すなわち、第1電極層分離溝15は、長さ方向において、第1電極層3を2つの領域に分割している。
Thereafter, the first electrode layer separation groove 15 is formed on the substrate on which the first electrode layer 3 is formed by a laser scribing device (FIGS. 6B to 6C).
At this time, the first electrode layer separation groove 15 is formed in parallel to the short side of the substrate 2 and extends over the entire width direction.
The first electrode layer separation groove 15 is formed at a boundary portion between the power feeding region 32 and the light emitting region 30 when the organic EL device 1 is formed. That is, the first electrode layer separation groove 15 divides the first electrode layer 3 into two regions in the length direction.

次に、有機EL装置完成時において給電領域31の全部に当たる部位と、給電領域32の一部に当たる部位をマスクで隠し、真空蒸着装置によって、この基板に電子注入層、電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層などを順次積層し、機能層5を成膜する(図6(c)から図6(d))。
このとき、第1電極層分離溝15内に機能層5が積層され、第1電極層分離溝15内に機能層5が満たされるとともに、この基板の大部分に機能層5が積層される。
Next, when the organic EL device is completed, a portion corresponding to the entire power supply region 31 and a portion corresponding to a part of the power supply region 32 are concealed with a mask, and an electron injection layer, an electron transport layer, a light emitting layer, A hole transport layer, a hole injection layer, and the like are sequentially stacked to form the functional layer 5 (FIGS. 6C to 6D).
At this time, the functional layer 5 is laminated in the first electrode layer separation groove 15, the functional layer 5 is filled in the first electrode layer separation groove 15, and the functional layer 5 is laminated on most of the substrate.

その後、機能層5が成膜された基板に対して、真空蒸着装置によってほぼ全面に第2電極層6を成膜する(図6(d)から図6(e))。
このとき、前記したマスクで隠した部位(機能層5が被覆されていない部位)において、第2電極層6が積層されて第1電極層3と第2電極層6(導電層85,86)が接触した状態で固着し、第1電極層3と第2電極層6(導電層85,86)が電気的に接続される。
Thereafter, the second electrode layer 6 is formed on almost the entire surface of the substrate on which the functional layer 5 is formed by using a vacuum vapor deposition apparatus (FIGS. 6D to 6E).
At this time, the second electrode layer 6 is laminated at the portion hidden by the mask (the portion where the functional layer 5 is not covered), and the first electrode layer 3 and the second electrode layer 6 (conductive layers 85 and 86). Are fixed in contact with each other, and the first electrode layer 3 and the second electrode layer 6 (conductive layers 85 and 86) are electrically connected.

その後、第2電極層6が成膜された基板に対して、レーザースクライブ装置によって、導電層分離溝77,78を形成する(図6(e)から図6(f))。
このとき、導電層分離溝77,78は、第1電極層分離溝15と平行に形成されており、機能層5が積層された領域の外側であって、第2電極層6が積層された領域に形成されている。導電層分離溝77は、有機EL装置1が形成された際に給電領域31と発光領域30との境界部位に形成されている。導電層分離溝78は、有機EL装置1が形成された際に発光領域30と給電領域32との境界部位の外側(給電領域32側)に形成されている。
以上が、有機EL素子形成工程である。
Thereafter, conductive layer separation grooves 77 and 78 are formed on the substrate on which the second electrode layer 6 is formed by a laser scribing device (FIGS. 6E to 6F).
At this time, the conductive layer separation grooves 77 and 78 are formed in parallel with the first electrode layer separation groove 15 and are outside the region where the functional layer 5 is laminated, and the second electrode layer 6 is laminated. Formed in the region. The conductive layer separation groove 77 is formed at a boundary portion between the power feeding region 31 and the light emitting region 30 when the organic EL device 1 is formed. The conductive layer separation groove 78 is formed outside the boundary portion between the light emitting region 30 and the power feeding region 32 (on the power feeding region 32 side) when the organic EL device 1 is formed.
The above is the organic EL element forming step.

続いて、無機封止層7を形成する無機封止層積層工程を行う。
まず、基板の一部をマスクで覆い、CVD装置によって、第1無機封止層50を成膜する(図6(f)から図6(g))。
このとき、第1無機封止層50は、少なくとも発光領域30内の第2電極層6を覆っており、さらに、導電層分離溝77,78の部材厚方向の投影面上まで延びている。すなわち、導電層分離溝77,78内に第1無機封止層50が積層されて、満たされる。そのため、封止機能を十分に確保することができる。
さらに、本実施形態の第1無機封止層50は、図3のように長さ方向lにおいて、導電層分離溝77,78を超えて延びており、図4のように幅方向wにおいては、基板の長辺近傍まで至っている。すなわち、導電層85,86の一部に第1無機封止層50が成膜されている。そのため、伝熱性及び封止性をさらに向上させることができる。
Then, the inorganic sealing layer lamination process which forms the inorganic sealing layer 7 is performed.
First, a part of the substrate is covered with a mask, and the first inorganic sealing layer 50 is formed by a CVD apparatus (FIGS. 6 (f) to 6 (g)).
At this time, the first inorganic sealing layer 50 covers at least the second electrode layer 6 in the light emitting region 30, and further extends onto the projection surface in the member thickness direction of the conductive layer separation grooves 77 and 78. That is, the first inorganic sealing layer 50 is stacked and filled in the conductive layer separation grooves 77 and 78. Therefore, a sufficient sealing function can be ensured.
Furthermore, the first inorganic sealing layer 50 of the present embodiment extends beyond the conductive layer separation grooves 77 and 78 in the length direction l as shown in FIG. 3, and in the width direction w as shown in FIG. It reaches to the vicinity of the long side of the substrate. That is, the first inorganic sealing layer 50 is formed on part of the conductive layers 85 and 86. Therefore, the heat transfer property and the sealing property can be further improved.

その後、第1無機封止層50を成膜したCVD装置から取り出して、第2無機封止層51の原料を塗布し、第2無機封止層51を形成し、無機封止層7が形成される。
このとき、第1無機封止層50上の全面を第2無機封止層51が覆っている。
このようにして、第1無機封止層50上に第2無機封止層51が積層されて無機封止層7が形成される。
Thereafter, the first inorganic sealing layer 50 is taken out from the CVD apparatus, and the raw material of the second inorganic sealing layer 51 is applied to form the second inorganic sealing layer 51, whereby the inorganic sealing layer 7 is formed. Is done.
At this time, the second inorganic sealing layer 51 covers the entire surface of the first inorganic sealing layer 50.
Thus, the 2nd inorganic sealing layer 51 is laminated | stacked on the 1st inorganic sealing layer 50, and the inorganic sealing layer 7 is formed.

続いて、上記した手順によって形成された無機封止層7に導電性基材80を接着する導電性基材接着工程を行う。
導電性基材接着工程では、軟質樹脂層8を形成するとともに、無機封止層7に導電性基材80を接着する。
具体的には、無機封止層7上に軟質樹脂層8を真空ラミネーターで貼り合わせる(図7(a)から図7(b))。
このとき、軟質樹脂層8を形成するに当たって、軟質樹脂層8の両面に絶縁性のセパレーターが被覆したものを用いる。また、貼り合わせ時には、軟質樹脂層8の片面のセパレーターを剥離して、剥離面を無機封止層7上に貼り合わせる。
そして、この貼り合わせた状態では、軟質樹脂層8は発光領域30全体を覆っており、さらに、図3のように長さ方向lにおいて給電領域32の一部まで延びているが、導電層分離溝77,78までは至っていない。すなわち、導電層分離溝77,78から外側には、軟質樹脂層8が被覆しておらず、無機封止層7が露出している。言い換えると、無機封止層7上には、図3,図4のように軟質樹脂層8が露出した部位と、軟質樹脂層8が被覆した部位が混在し、軟質樹脂層8が被覆した部位は幅方向及び長さ方向の中央側に位置している。
Then, the electroconductive base material adhesion process which adheres the electroconductive base material 80 to the inorganic sealing layer 7 formed by the above-mentioned procedure is performed.
In the conductive substrate bonding step, the soft resin layer 8 is formed and the conductive substrate 80 is bonded to the inorganic sealing layer 7.
Specifically, the soft resin layer 8 is bonded onto the inorganic sealing layer 7 with a vacuum laminator (FIGS. 7A to 7B).
At this time, when the soft resin layer 8 is formed, an insulating separator coated on both surfaces of the soft resin layer 8 is used. At the time of bonding, the separator on one side of the soft resin layer 8 is peeled off, and the peeled surface is bonded onto the inorganic sealing layer 7.
In this bonded state, the soft resin layer 8 covers the entire light emitting region 30 and further extends to a part of the power feeding region 32 in the length direction l as shown in FIG. The grooves 77 and 78 are not reached. That is, the outer side of the conductive layer separation grooves 77 and 78 is not covered with the soft resin layer 8 and the inorganic sealing layer 7 is exposed. In other words, on the inorganic sealing layer 7, a portion where the soft resin layer 8 is exposed and a portion covered with the soft resin layer 8 are mixed as shown in FIGS. 3 and 4, and the portion covered with the soft resin layer 8. Is located at the center in the width direction and the length direction.

その後、前記剥離面の反対側の面のセパレーターを剥離し、導電性基材80を載置し真空ラミネーターで貼り合わせる(図7(c),図8(d))。   Thereafter, the separator on the surface opposite to the peeling surface is peeled off, and the conductive substrate 80 is placed and bonded with a vacuum laminator (FIGS. 7C and 8D).

このとき、導電性基材80は、軟質樹脂層8の全面を覆っており、軟質樹脂層8の接着機能によって無機封止層7に一体化される。すなわち、導電性基材80は、発光領域30内の有機EL素子12の全面を間接的に覆っている。   At this time, the conductive substrate 80 covers the entire surface of the soft resin layer 8 and is integrated with the inorganic sealing layer 7 by the adhesive function of the soft resin layer 8. That is, the conductive substrate 80 indirectly covers the entire surface of the organic EL element 12 in the light emitting region 30.

その後、導電性基材80と導電層85,86とをワイヤーボンディング処理を施して接続する(図8(e))。
具体的には、図5(a)のように導電性基材80の一方の辺近傍と導電層85を複数本のワイヤー87でボンディングする。導電性基材80の前記一方の辺の対辺近傍と導電層86を複数本のワイヤー88でボンディングする。
このとき、ワイヤー87は、図3のように導電層分離溝77の上下方向の投影面上を通過しており、ワイヤー88は、導電層分離溝78の上下方向の投影面上を通過している。複数のワイヤー87,88によって導電層85,86と導電性基材80とを接続しているため、接続強度が高く、ワイヤー87,88の引っ張りに対して、導電層85,86が剥がれにくい。それ故に、信頼性も高い。
Thereafter, the conductive substrate 80 and the conductive layers 85 and 86 are connected by wire bonding (FIG. 8E).
Specifically, as shown in FIG. 5A, the vicinity of one side of the conductive substrate 80 and the conductive layer 85 are bonded with a plurality of wires 87. The conductive substrate 86 is bonded to the vicinity of the opposite side of the one side of the conductive substrate 80 with a plurality of wires 88.
At this time, the wire 87 passes over the vertical projection surface of the conductive layer separation groove 77 as shown in FIG. 3, and the wire 88 passes over the vertical projection surface of the conductive layer separation groove 78. Yes. Since the conductive layers 85 and 86 and the conductive substrate 80 are connected by the plurality of wires 87 and 88, the connection strength is high, and the conductive layers 85 and 86 are difficult to peel off against the pulling of the wires 87 and 88. Therefore, it is highly reliable.

続いて、この基板に、硬質樹脂層10の原料をディスペンサー70によって塗布し、硬質樹脂層10を成膜する(図8(f))。
このとき、導電性基材80の一部は、硬質樹脂層10内に埋没している。すなわち、共に接着性を有した軟質樹脂層8と硬質樹脂層10によって、導電性基材80は固定されている。
また、硬質樹脂層10は、図3のように長さ方向において導電性基材80と導電層85,86に跨がって塗布されて形成されており、図4のように幅方向において導電性基材80と第1電極層3に跨がって塗布されて形成されている。
発光領域30に位置する導電性基材80の大部分は、図9のように硬質樹脂層10で覆われていない。すなわち、導電性基材80が露出する開口が形成されている。当該開口形状は、略長方状となっており、当該開口の面積は、発光領域30の面積に比べて一回り大きくなっている。当該開口の面積は、導電性基材80の形成面積の90パーセント以上98パーセント以下となっており、95パーセント以上98パーセント以下であることが好ましい。
ワイヤー87,88は、硬質樹脂層10に埋没した状態で硬化している。すなわち、疑似的なポッティング封止となっている。
Subsequently, the raw material of the hard resin layer 10 is applied to the substrate by the dispenser 70 to form the hard resin layer 10 (FIG. 8F).
At this time, a part of the conductive substrate 80 is buried in the hard resin layer 10. That is, the conductive substrate 80 is fixed by the soft resin layer 8 and the hard resin layer 10 both having adhesiveness.
Further, the hard resin layer 10 is formed by being applied across the conductive base material 80 and the conductive layers 85 and 86 in the length direction as shown in FIG. 3, and is conductive in the width direction as shown in FIG. The base material 80 and the first electrode layer 3 are applied and formed.
Most of the conductive substrate 80 located in the light emitting region 30 is not covered with the hard resin layer 10 as shown in FIG. That is, an opening through which the conductive substrate 80 is exposed is formed. The opening shape is substantially rectangular, and the area of the opening is slightly larger than the area of the light emitting region 30. The area of the opening is 90% or more and 98% or less of the formation area of the conductive substrate 80, and is preferably 95% or more and 98% or less.
The wires 87 and 88 are hardened while being buried in the hard resin layer 10. That is, it is a pseudo potting seal.

このようにして導電性基材接着工程を終了し、有機EL装置1が完成する。   In this way, the conductive substrate bonding step is completed, and the organic EL device 1 is completed.

本実施形態の有機EL装置1によれば、ワイヤー87,88が硬質樹脂層10によって覆われているため、硬質樹脂層10の硬度によってワイヤー87,88の強度を補足することが可能であり、ワイヤー87,88が断線しにくい。また、共通の硬質樹脂層10によって複数のワイヤー87,88が覆われており、当該硬質樹脂層10が辺方向に広がりを持っているため、外力の影響を受けにくく、断線しにくい。   According to the organic EL device 1 of the present embodiment, since the wires 87 and 88 are covered with the hard resin layer 10, the strength of the wires 87 and 88 can be supplemented by the hardness of the hard resin layer 10. The wires 87 and 88 are difficult to break. In addition, since the plurality of wires 87 and 88 are covered with the common hard resin layer 10 and the hard resin layer 10 has a spread in the side direction, it is difficult to be affected by external force and to be disconnected.

上記した実施形態では、基板2として長方形状のガラス基板を用いた場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく正方形状であってもよい。   In the above-described embodiment, the case where a rectangular glass substrate is used as the substrate 2 has been described. However, the present invention is not limited to this and may be a square shape.

1 有機EL装置
2 基板(基材)
3 第1電極層
5 機能層(有機発光層)
6 第2電極層
7 無機封止層(封止層)
8 軟質樹脂層(軟質接着層)
10 硬質樹脂層(硬質壁部)
11 防湿部材
12 有機EL素子(積層体)
30 発光領域
31,32 給電領域
80 導電性基材
87,88 ワイヤー(ボンディングワイヤー)
1 Organic EL device 2 Substrate (base material)
3 First electrode layer 5 Functional layer (organic light emitting layer)
6 Second electrode layer 7 Inorganic sealing layer (sealing layer)
8 Soft resin layer (soft adhesive layer)
10 Hard resin layer (hard wall)
11 Moisture-proof member 12 Organic EL element (laminate)
30 Light emitting area 31, 32 Power feeding area 80 Conductive base material 87,88 Wire (bonding wire)

Claims (7)

基材上に順に、第1電極層と、有機発光層と、第2電極層を備えた積層体を有する断面構造を備え、前記基材を平面視したときに、実際に発光する発光領域と、給電部材が接続される給電領域が存在する有機EL装置において、
前記発光領域を含む領域を囲む硬質壁部を有し、当該硬質壁部に少なくとも給電部材の一部が埋没しており、
当該埋没している給電部材を介して外部から給電領域に給電されるものであり、
さらに、前記第2電極層上に電気伝導性を有した導電性基材を有し、
当該導電性基材と前記給電領域とが前記給電部材を介して電気的に接続されており、前記発光領域内において、導電性基材を経由して外部から給電されることを特徴とする有機EL装置。
A light emitting region that has a cross-sectional structure including a laminate including a first electrode layer, an organic light emitting layer, and a second electrode layer in order on the base material, and that actually emits light when the base material is viewed in plan view. In an organic EL device having a power feeding region to which a power feeding member is connected,
It has a hard wall portion surrounding the region including the light emitting region, and at least a part of the power supply member is buried in the hard wall portion,
Power is supplied to the power supply region from the outside through the buried power supply member,
Furthermore, it has a conductive substrate having electrical conductivity on the second electrode layer,
The organic base material is electrically connected to the power supply region via the power supply member, and is electrically fed from the outside through the conductive base material in the light emitting region. EL device.
積層体の全部又は一部を封止する封止層を有し、
当該封止層上に、軟質接着層が存在し、
軟質接着層は、前記発光領域の投影面上に位置するものであり、
当該軟質接着層によって導電性基材が接着されていることを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置。
It has a sealing layer that seals all or part of the laminate,
A soft adhesive layer exists on the sealing layer,
The soft adhesive layer is located on the projection surface of the light emitting region,
The organic EL device according to claim 1, wherein the conductive base material is adhered by the soft adhesive layer.
基材の縁に沿うように硬質壁部が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL装置。   The organic EL device according to claim 1, wherein a hard wall portion is formed along the edge of the base material. 給電部材は給電領域から発光領域に跨がって配されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の有機EL装置。   The organic EL device according to claim 1, wherein the power supply member is disposed so as to extend from the power supply region to the light emitting region. 硬質壁部は、絶縁性を有した硬質樹脂で形成されており、
導電性基材の一部に覆い被さっていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の有機EL装置。
The hard wall portion is formed of a hard resin having insulating properties,
The organic EL device according to claim 1, wherein a part of the conductive base material is covered.
給電部材は、ボンディングワイヤーであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の有機EL装置。   The organic EL device according to claim 1, wherein the power supply member is a bonding wire. 給電部材は、その全部が前記硬質壁部内に埋没していることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の有機EL装置。   The organic EL device according to any one of claims 1 to 6, wherein the power supply member is entirely buried in the hard wall portion.
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