JP2014048360A - Liquid crystal display device - Google Patents

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Hideaki Sakai
英明 酒井
Kenji Ogura
健慈 小倉
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Kyocera Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve a wide viewing angle and to restrict a decrease in the numeral aperture of a pixel, in a liquid crystal display device according to the invention.SOLUTION: In a liquid crystal display device 1, a first region a1 of a first signal electrode 228a is provided with a plurality of first slits S1 arranged along Y direction and extending in a first direction inclining to X direction, the second region a2 of the first signal electrode 228a is provided with a plurality of second slits S2 arranged in Y direction and extending in a second direction different from the first direction, and the fourth region a4 of the second signal electrode 228b is provided with a plurality of third slits S3 arranged in Y direction and extending in the second direction.

Description

本発明は、携帯電話、デジタルカメラ、携帯ゲーム機または携帯情報端末などの様々な用途に用いられる液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device used for various applications such as a mobile phone, a digital camera, a portable game machine, or a portable information terminal.

液晶表示装置は、互いに対向配置させた一対の基板と、これら一対の基板間に設けられた液晶層とを備える。また、一対の基板のうち一方の基板上には複数のゲート配線および複数のソース配線が互いに交差するように設けられており、複数のゲート配線および複数のソース配線を覆うように平坦化膜が設けられている。また、この平坦化膜上であって、複数のゲート配線および複数のソース配線によって囲まれた画素には共通電極が設けられており、この共通電極上には絶縁膜を介して信号電極が設けられている(例えば、特許文献1参照)。この信号電極には、信号電極の長辺方向に配列し、信号電極の短辺方向に対し傾斜して延在する複数のスリットが形成されている。   The liquid crystal display device includes a pair of substrates disposed to face each other and a liquid crystal layer provided between the pair of substrates. In addition, a plurality of gate wirings and a plurality of source wirings are provided on one of the pair of substrates so as to cross each other, and a planarization film is formed so as to cover the plurality of gate wirings and the plurality of source wirings. Is provided. In addition, a common electrode is provided on the planarization film and surrounded by a plurality of gate wirings and a plurality of source wirings, and a signal electrode is provided on the common electrode through an insulating film. (For example, refer to Patent Document 1). The signal electrode is formed with a plurality of slits which are arranged in the long side direction of the signal electrode and extend while being inclined with respect to the short side direction of the signal electrode.

このような液晶表示装置では、一方の基板上に設けられた信号電極および共通電極に対し電圧を印加することで、信号電極と共通電極との間でスリットを通る電界を発生させ、この電界によって液晶層中の液晶分子の配向を制御して、広視野角化を実現させている。   In such a liquid crystal display device, an electric field passing through the slit is generated between the signal electrode and the common electrode by applying a voltage to the signal electrode and the common electrode provided on one substrate, and this electric field A wide viewing angle is realized by controlling the orientation of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer.

近年では、液晶表示装置に対しさらなる広視野角化が求められている。これに対して、図8に示す液晶表示装置のように、画素P内で信号電極228に対して異なる方向に延在する複数の第1スリットS1および複数の第2スリットS2を形成し、複数の第1スリットS1が形成された領域と複数の第2スリットS2が形成された領域とで、電界印加時の液晶分子の配向を変え、さらなる広視野角化を実現させている。   In recent years, a wider viewing angle has been demanded for liquid crystal display devices. On the other hand, a plurality of first slits S1 and a plurality of second slits S2 extending in different directions with respect to the signal electrode 228 in the pixel P are formed as in the liquid crystal display device shown in FIG. In the region where the first slit S1 is formed and the region where the plurality of second slits S2 are formed, the orientation of the liquid crystal molecules at the time of applying an electric field is changed to realize a wider viewing angle.

特開2007−226175号公報JP 2007-226175 A

しかしながら、図8に示す液晶表示装置のように、信号電極228をゲート配線221およびソース配線223に近接して形成した場合は、信号電極228が長方形状となるので、信号電極228の長辺方向(Y方向)に配列するとともに短辺方向(X方向)に対して傾斜する複数の第1スリットS1および第2スリットS2を信号電極228に形成しようとすると、信号電極228のY方向の端部においてスリットSが形成されにくい領域Dが存在する。第1スリットS1および第2スリットS2が形成されず、この領域Dでの電極部分の面積が大きくなった場合は、この部分で画素の開口率が低下し、光の透過率が低下しやすくなるという問題点があった。   However, when the signal electrode 228 is formed close to the gate wiring 221 and the source wiring 223 as in the liquid crystal display device shown in FIG. 8, the signal electrode 228 has a rectangular shape. When a plurality of first slits S1 and second slits S2 arranged in the (Y direction) and inclined with respect to the short side direction (X direction) are to be formed in the signal electrode 228, end portions of the signal electrode 228 in the Y direction There is a region D where the slit S is difficult to be formed. When the first slit S1 and the second slit S2 are not formed and the area of the electrode portion in the region D is increased, the aperture ratio of the pixel is lowered at this portion, and the light transmittance is easily lowered. There was a problem.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、広視野角化を実現させるとともに、画素の開口率の低下を抑制した液晶表示装置を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device that realizes a wide viewing angle and suppresses a decrease in the aperture ratio of pixels.

本発明に係る液晶表示装置は、主面同士を対向させて配置された第1基板および第2基板と、前記第1基板および前記第2基板の間に配置された液晶層と、前記第2基板の前記主面上にY方向に順次配列して設けられた線状の第1ゲート配線、第2ゲート配線および第3ゲート配線と、前記第2基板の前記主面上にY方向と直交するX方向に順次配列して
設けられた、前記第1ゲート配線〜第3ゲート配線に交差する線状の第1ソース配線および第2ソース配線と、前記第1ゲート配線〜第3ゲート配線、前記第1ソース配線および前記第2ソース配線を覆うように前記第2基板の前記主面上に設けられた第1絶縁膜と、該第1絶縁膜上に設けられた共通電極と、第2絶縁膜を介して前記共通電極上に設けられた、Y方向に隣り合う第1信号電極および第2信号電極とを備え、前記第1信号電極は、前記第1ゲート配線、前記第2ゲート配線、前記第1ソース配線および前記第2ソース配線によって囲まれた第1領域に位置する第1部位と、前記第2ゲート配線、前記第3ゲート配線、前記第1ソース配線および前記第2ソース配線によって囲まれた第2領域に位置する第2部位と、前記第2ゲート配線と重なるように位置する、前記第1部位と前記第2部位とを接続する第3部位とを有し、前記第2信号電極は、前記第2領域に設けられた、前記第1信号電極の前記第2部位に隣接する第4部位を有し、前記第1信号電極の前記第1部位には、Y方向に沿って配列した、X方向に対して傾斜する第1方向に延在する複数の第1スリットが設けられているとともに、前記第1信号電極の前記第2部位には、Y方向に沿って配列した、前記第1方向と異なる第2方向に延在する複数の第2スリットが設けられており、前記第2信号電極の前記第4部位には、Y方向に沿って配列した、前記第2方向に延在する複数の第3スリットが設けられていることを特徴とする。
The liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate and a second substrate that are disposed with their main surfaces facing each other, a liquid crystal layer that is disposed between the first substrate and the second substrate, and the second substrate. Linear first gate wiring, second gate wiring, and third gate wiring sequentially arranged on the main surface of the substrate in the Y direction, and orthogonal to the Y direction on the main surface of the second substrate Linearly arranged first source wiring and second source wiring that intersect with the first gate wiring to third gate wiring, and arranged in order in the X direction, and the first gate wiring to third gate wiring, A first insulating film provided on the main surface of the second substrate so as to cover the first source wiring and the second source wiring; a common electrode provided on the first insulating film; A first signal adjacent to the Y direction provided on the common electrode via an insulating film And the first signal electrode is located in a first region surrounded by the first gate wiring, the second gate wiring, the first source wiring, and the second source wiring. The first part overlaps with the second gate line, the second part located in the second region surrounded by the second gate line, the third gate line, the first source line and the second source line. The second part is connected to the second part, and the second signal electrode is provided in the second region, and the third part is connected to the second part. A plurality of first portions extending in a first direction inclined with respect to the X direction, arranged along the Y direction, in the first portion of the first signal electrode. A first slit and a first slit. The second part of the second signal electrode is provided with a plurality of second slits arranged in the Y direction and extending in a second direction different from the first direction, and the fourth part of the second signal electrode. Is provided with a plurality of third slits arranged in the Y direction and extending in the second direction.

本発明に係る液晶表示装置によれば、広視野角化を実現させるとともに、画素の開口率の低下を抑制できる。   According to the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to realize a wide viewing angle and to suppress a decrease in the aperture ratio of the pixel.

本発明の第1の実施形態における液晶表示装置を示す平面図である。It is a top view which shows the liquid crystal display device in the 1st Embodiment of this invention. 図1のI−I線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the II line | wire of FIG. 第2基板上の配線、電極および薄膜トランジスタを示す平面図である。It is a top view which shows the wiring on the 2nd board | substrate, an electrode, and a thin-film transistor. 図3のII−II線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the II-II line of FIG. 本発明の第2の実施形態における液晶表示装置の要部を示す平面図である。It is a top view which shows the principal part of the liquid crystal display device in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態における液晶表示装置の要部を示す平面図である。It is a top view which shows the principal part of the liquid crystal display device in the 3rd Embodiment of this invention. 図6のIII−III線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the III-III line of FIG. 従来の液晶表示装置を示す平面図である。It is a top view which shows the conventional liquid crystal display device.

[第1の実施形態]
本発明の第1の実施形態における液晶表示装置1について、図1〜図4を参照しながら説明する。
[First Embodiment]
A liquid crystal display device 1 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

液晶表示装置1は、液晶パネル2と、液晶パネル2に向けて光を出射する光源装置3と、液晶パネル2上に配置される第1偏光板4と、液晶パネル2と光源装置3との間に配置される第2偏光板5とを備えている。   The liquid crystal display device 1 includes a liquid crystal panel 2, a light source device 3 that emits light toward the liquid crystal panel 2, a first polarizing plate 4 disposed on the liquid crystal panel 2, and the liquid crystal panel 2 and the light source device 3. And a second polarizing plate 5 disposed therebetween.

液晶パネル2では、第1基板21と第2基板22とが対向配置され、第1基板21と第2基板22との間に液晶層23が設けられているとともに、この液晶層23を取り囲むように第1基板21と第2基板22とを接合するシール材24が設けられている。   In the liquid crystal panel 2, the first substrate 21 and the second substrate 22 are disposed to face each other, and a liquid crystal layer 23 is provided between the first substrate 21 and the second substrate 22, so as to surround the liquid crystal layer 23. In addition, a sealing material 24 for joining the first substrate 21 and the second substrate 22 is provided.

第1基板21は、画像表示の際に表示面として用いられる第1主面21aと、第1主面21aとは反対側に位置する第2主面21bとを有している。第1基板21は、例えばガラス、プラスチックなどの透光性を有する材料によって形成される。   The first substrate 21 has a first main surface 21a used as a display surface when displaying an image, and a second main surface 21b located on the opposite side of the first main surface 21a. The first substrate 21 is formed of a light-transmitting material such as glass or plastic.

第1基板21の第2主面21b上には、遮光膜211およびカラーフィルタ212が設けられている。   A light shielding film 211 and a color filter 212 are provided on the second main surface 21 b of the first substrate 21.

遮光膜211は光を遮光する機能を有する。遮光膜211は、第1基板21の第2主面21b上に設けられている。また。遮光膜211は、画素Pの外周に沿って格子状に設けられており、すなわち、ゲート配線221およびソース配線223に平面視して重なるように設けられている。なお、本実施形態における遮光膜211は第2主面21b上に格子状に形成されているが、これには限られない。遮光膜211の材料は、例えば、遮光性の高い色(例えば黒色)の染料もしくは顔料が添加された樹脂、またはクロムなどの金属が挙げられる。   The light shielding film 211 has a function of shielding light. The light shielding film 211 is provided on the second main surface 21 b of the first substrate 21. Also. The light shielding film 211 is provided in a lattice shape along the outer periphery of the pixel P, that is, is provided so as to overlap the gate wiring 221 and the source wiring 223 in plan view. Although the light shielding film 211 in the present embodiment is formed in a lattice shape on the second main surface 21b, the present invention is not limited to this. Examples of the material of the light shielding film 211 include a resin to which a dye or pigment having a high light shielding property (for example, black) is added, or a metal such as chromium.

カラーフィルタ212は、可視光のうち特定の波長のみを透過させる機能を有する。複数のカラーフィルタ212は、第1基板21の第2主面21b上に位置しており、各画素Pごとに設けられている。各カラーフィルタ212は、赤(R)、緑(G)および青(B)のいずれかの色を有している。また、カラーフィルタ212は、上記の色に限られず、例えば、黄色(Y)、白(W)などの色を有してもよい。カラーフィルタ212の材料としては、例えば染料または顔料を添加した樹脂が挙げられる。   The color filter 212 has a function of transmitting only a specific wavelength of visible light. The plurality of color filters 212 are located on the second main surface 21 b of the first substrate 21 and are provided for each pixel P. Each color filter 212 has one of red (R), green (G), and blue (B). Further, the color filter 212 is not limited to the above color, and may have a color such as yellow (Y) or white (W), for example. Examples of the material of the color filter 212 include a resin to which a dye or a pigment is added.

第2基板22は、第1基板21の第2主面21bに対向する第1主面22aと、第1主面22aの反対側に位置する第2主面22bとを有している。第2基板22は第1基板21と同様の材料で形成できる。   The second substrate 22 has a first main surface 22a facing the second main surface 21b of the first substrate 21, and a second main surface 22b located on the opposite side of the first main surface 22a. The second substrate 22 can be formed of the same material as the first substrate 21.

第2基板22の第1主面22a上には、複数のゲート配線221が設けられており、複数のゲート配線221を覆うようにゲート絶縁膜222が設けられている。このゲート絶縁膜222上には複数のソース配線223が設けられているとともに、複数のソース配線223を覆うように第1層間絶縁膜224が設けられている。また、第1層間絶縁膜224上には平坦化膜225が設けられている。また、平坦化膜225上には共通電極226が設けられている。共通電極226を覆うように平坦化膜225上には第2層間絶縁膜227が設けられており、この第2層間絶縁膜227上には複数の信号電極228が設けられている。   A plurality of gate wirings 221 are provided on the first main surface 22 a of the second substrate 22, and a gate insulating film 222 is provided so as to cover the plurality of gate wirings 221. A plurality of source wirings 223 are provided on the gate insulating film 222, and a first interlayer insulating film 224 is provided so as to cover the plurality of source wirings 223. A planarizing film 225 is provided on the first interlayer insulating film 224. A common electrode 226 is provided on the planarizing film 225. A second interlayer insulating film 227 is provided on the planarizing film 225 so as to cover the common electrode 226, and a plurality of signal electrodes 228 are provided on the second interlayer insulating film 227.

ゲート配線221は、駆動IC(図示せず)から供給される電圧を薄膜トランジスタTFTに印加する機能を有する。図3に示すように、複数のゲート配線221はY方向に沿って配列されている。また、ゲート配線221は線状であって、X方向に沿って延在している。また、ゲート配線221は信号電極228のY方向の中央部を通過するように延在している。   The gate wiring 221 has a function of applying a voltage supplied from a driving IC (not shown) to the thin film transistor TFT. As shown in FIG. 3, the plurality of gate wirings 221 are arranged along the Y direction. The gate wiring 221 is linear and extends along the X direction. Further, the gate wiring 221 extends so as to pass through the central portion of the signal electrode 228 in the Y direction.

また、図3には、3つのゲート配線221が示されている。説明の便宜上、これらを第1ゲート配線221a、第2ゲート配線221bおよび第3ゲート配線221cとする(図5および図6でも同様である)。   In FIG. 3, three gate wirings 221 are shown. For convenience of explanation, these are referred to as a first gate wiring 221a, a second gate wiring 221b, and a third gate wiring 221c (the same applies to FIGS. 5 and 6).

ゲート配線221は、導電性を有する材料によって形成され、例えば、アルミニウム、モリブデン、チタン、ネオジム、クロム、銅またはこれらを含む合金によって形成される。   The gate wiring 221 is formed of a conductive material, for example, aluminum, molybdenum, titanium, neodymium, chromium, copper, or an alloy containing these.

なお、ゲート配線221は例えば下記方法によって形成される。   The gate wiring 221 is formed by the following method, for example.

まず、スパッタリング法、蒸着法、または化学気相成長法によって、金属材料を第2基板22の第1主面22a上に金属膜として形成する。この金属膜の表面に対して感光性樹脂を塗布し、塗布した感光性樹脂に対して露光処理および現像処理を行なうことで、感光性樹脂に所望の形状のパターンを形成する。次いで、金属膜をエッチング液でエッチングして、金属膜を所望の形状にした後、塗布した感光性樹脂を剥離する。このように、金属材料を成膜およびパターニングすることでゲート配線221を形成できる。   First, a metal material is formed as a metal film on the first main surface 22a of the second substrate 22 by sputtering, vapor deposition, or chemical vapor deposition. A photosensitive resin is applied to the surface of the metal film, and a pattern having a desired shape is formed on the photosensitive resin by performing exposure processing and development processing on the applied photosensitive resin. Next, the metal film is etched with an etching solution to make the metal film into a desired shape, and then the applied photosensitive resin is peeled off. Thus, the gate wiring 221 can be formed by forming and patterning a metal material.

ゲート絶縁膜222はゲート配線221を覆うように第1主面22a上に設けられている。ゲート絶縁膜222は、窒化シリコン、酸化シリコンなどの絶縁性を有する材料によって形成さ
れる。なお、ゲート絶縁膜222は、上記のスパッタリング法、蒸着法または化学気相成長法などによって第2基板22の第1主面22a上に形成できる。
The gate insulating film 222 is provided on the first main surface 22a so as to cover the gate wiring 221. The gate insulating film 222 is formed using an insulating material such as silicon nitride or silicon oxide. The gate insulating film 222 can be formed on the first main surface 22a of the second substrate 22 by the above-described sputtering method, vapor deposition method, chemical vapor deposition method, or the like.

ソース配線223は、駆動ICから供給される信号電圧を薄膜トランジスタTFTを介して信号電極228に印加する機能を有する。ソース配線223はゲート絶縁膜222上に設けられている。図3に示すように、複数のソース配線223は線状に形成されているとともに、Y方向に延在している。また、複数のソース配線223はX方向に沿って配列されている。ソース配線223はゲート配線221と同様の材料で形成してもよい。なお、ソース配線223はゲート配線221と同様の方法によって形成できる。   The source wiring 223 has a function of applying a signal voltage supplied from the driving IC to the signal electrode 228 through the thin film transistor TFT. The source wiring 223 is provided on the gate insulating film 222. As shown in FIG. 3, the plurality of source lines 223 are formed in a linear shape and extend in the Y direction. The plurality of source lines 223 are arranged along the X direction. The source wiring 223 may be formed using the same material as the gate wiring 221. Note that the source wiring 223 can be formed by a method similar to that of the gate wiring 221.

また、図3には、複数のソース配線223が記載されている。説明の便宜上、これらを第1ソース配線223a、第2ソース配線223b、第3ソース配線223cおよび第4ソース配線223dとする(図5および図6でも同様である)。   In FIG. 3, a plurality of source wirings 223 are shown. For convenience of explanation, these are referred to as a first source wiring 223a, a second source wiring 223b, a third source wiring 223c, and a fourth source wiring 223d (the same applies to FIGS. 5 and 6).

また、図3において、第1ゲート配線221a、第2ゲート配線221b、第1ソース配線223aおよび第2ソース配線223bによって囲まれた領域を第1領域R1とし、第2ゲート配線221b、第3ゲート配線221c、第1ソース配線223aおよび第2ソース配線223bによって囲まれた領域を第2領域R2とし、第3ゲート配線221cの第2領域R2とは反対側の領域を第3領域R3とし、第1ゲート配線221a、第2ゲート配線221b、第2ソース配線223bおよび第3ソース配線223cによって囲まれた領域を第4領域R4とし、第2ゲート配線221b、第3ゲート配線221c、第2ソース配線223bおよび第3ソース配線223cによって囲まれた領域を第5領域R5とする(図5および図6でも同様である)。   In FIG. 3, a region surrounded by the first gate wiring 221a, the second gate wiring 221b, the first source wiring 223a, and the second source wiring 223b is defined as a first region R1, and the second gate wiring 221b and the third gate A region surrounded by the wiring 221c, the first source wiring 223a, and the second source wiring 223b is a second region R2, and a region opposite to the second region R2 of the third gate wiring 221c is a third region R3. A region surrounded by the first gate line 221a, the second gate line 221b, the second source line 223b, and the third source line 223c is defined as a fourth region R4. The second gate line 221b, the third gate line 221c, and the second source line A region surrounded by 223b and the third source wiring 223c is a fifth region R5 (the same applies to FIGS. 5 and 6).

なお、本実施形態における画素Pとは、各信号電極228が位置する領域であり、図3に示された破線で囲まれた領域である(図5および図6でも同様である)。   Note that the pixel P in this embodiment is a region where each signal electrode 228 is located, and is a region surrounded by a broken line shown in FIG. 3 (the same applies to FIGS. 5 and 6).

第1層間絶縁膜224はソース配線223を覆うようにゲート絶縁膜222上に設けられている。第1層間絶縁膜224は絶縁性を有する材料によって形成され、例えば、窒化シリコン、酸化シリコンなどの無機材料が挙げられる。   The first interlayer insulating film 224 is provided on the gate insulating film 222 so as to cover the source wiring 223. The first interlayer insulating film 224 is formed of an insulating material, and examples thereof include inorganic materials such as silicon nitride and silicon oxide.

薄膜トランジスタTFTは、非晶質シリコン、多結晶シリコンまたは酸化物半導体などの半導体層と、この半導体層上に設けられるとともに、ソース配線223に接続されたソース電極と、ドレイン電極とを有する。薄膜トランジスタTFTはゲート配線221に隣接して設けられている。また、薄膜トランジスタTFTのドレイン電極はコンタクトホール(図示せず)を介して信号電極228に接続されている。なお、図3に示すように、ソース電極はソース配線223からX方向に延在している。   The thin film transistor TFT includes a semiconductor layer such as amorphous silicon, polycrystalline silicon, or an oxide semiconductor, a source electrode provided on the semiconductor layer, connected to the source wiring 223, and a drain electrode. The thin film transistor TFT is provided adjacent to the gate wiring 221. The drain electrode of the thin film transistor TFT is connected to the signal electrode 228 via a contact hole (not shown). As shown in FIG. 3, the source electrode extends from the source line 223 in the X direction.

薄膜トランジスタTFTでは、ゲート配線221を介して半導体層に印加される電圧に応じてソース電極およびドレイン電極間の半導体層の抵抗が変化することで、信号電極228への画像信号の書き込みまたは非書き込みが制御される。   In the thin film transistor TFT, the resistance of the semiconductor layer between the source electrode and the drain electrode changes in accordance with the voltage applied to the semiconductor layer through the gate wiring 221, so that writing or non-writing of the image signal to the signal electrode 228 is possible. Be controlled.

平坦化膜225は、有機材料によって形成され、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂またはポリイミド系樹脂などの樹脂で形成される。なお、平坦化膜225の膜厚は例えば1μm〜5μmの範囲で設定されている。   The planarizing film 225 is formed of an organic material, for example, a resin such as an acrylic resin, an epoxy resin, or a polyimide resin. The film thickness of the planarizing film 225 is set in the range of 1 μm to 5 μm, for example.

共通電極226は、駆動ICから印加された電圧によって信号電極228との間で電界を発生させる機能を有する。共通電極226は平坦化膜225上に設けられている。共通電極226は、透光性および導電性を有する材料によって形成され、例えばITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、ATO(Antimony Tin Oxide)、AZO(Al-Doped Zinc Oxide)、酸化錫、酸化亜鉛または導電性高分子によって形成される。   The common electrode 226 has a function of generating an electric field with the signal electrode 228 by a voltage applied from the driving IC. The common electrode 226 is provided on the planarization film 225. The common electrode 226 is formed of a material having translucency and conductivity. For example, ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), ATO (Antimony Tin Oxide), AZO (Al-Doped Zinc Oxide), oxidation It is formed of tin, zinc oxide or a conductive polymer.

第2層間絶縁膜227は、信号電極228と共通電極226とを電気的に絶縁する機能を有する。第2層間絶縁膜227は第1層間絶縁膜224と同様の材料で形成してもよい。   The second interlayer insulating film 227 has a function of electrically insulating the signal electrode 228 and the common electrode 226 from each other. The second interlayer insulating film 227 may be formed of the same material as the first interlayer insulating film 224.

信号電極228は、駆動ICから印加された信号電圧によって共通電極226との間で電界を発生させる機能を有する。複数の信号電極228は第2層間絶縁膜227上に設けられている。また、平面視して、複数の信号電極228は共通電極226と重なっている。各信号電極228にはスリットSが形成されている。本実施形態ではスリットSが長方形状であるが、これには限定されず、例えば楕円状などでもよい。なお、信号電極228は共通電極226と同様の材料で形成してもよい。   The signal electrode 228 has a function of generating an electric field with the common electrode 226 by a signal voltage applied from the driving IC. The plurality of signal electrodes 228 are provided on the second interlayer insulating film 227. Further, the plurality of signal electrodes 228 overlap with the common electrode 226 in plan view. Each signal electrode 228 has a slit S formed therein. In the present embodiment, the slit S is rectangular, but is not limited thereto, and may be, for example, elliptical. Note that the signal electrode 228 may be formed of the same material as the common electrode 226.

また、図3に示すように、各信号電極228はゲート配線221を跨って設けられている。ここで、説明の便宜上、第1領域R1および第2領域R2の両方に位置する信号電極228を第1信号電極228aとし、第2領域R2および第3領域R3の両方に位置する信号電極228を第2信号電極228bとし、第4領域R4および第5領域R5の両方に位置する信号電極228を第3信号電極228cとする(図5および図6でも同様である)。   Further, as shown in FIG. 3, each signal electrode 228 is provided across the gate wiring 221. Here, for convenience of explanation, the signal electrode 228 positioned in both the first region R1 and the second region R2 is referred to as a first signal electrode 228a, and the signal electrode 228 positioned in both the second region R2 and the third region R3 is defined. The second signal electrode 228b and the signal electrode 228 located in both the fourth region R4 and the fifth region R5 are defined as the third signal electrode 228c (the same applies to FIGS. 5 and 6).

第1信号電極228aは、第1領域R1に位置する第1部位a1と、第2領域R2に位置する第2部位a2と、第2ゲート配線221bと平面視して重なるように位置して第1部位a1と第2部位a2とを接続する第3部位a3とを有する。   The first signal electrode 228a is positioned so as to overlap with the first part a1 located in the first region R1, the second part a2 located in the second region R2, and the second gate wiring 221b in plan view. It has the 3rd site | part a3 which connects 1 site | part a1 and 2nd site | part a2.

第2信号電極228bは、第2領域R2に位置し、第1信号電極228aの第2部位a2に隣接する第4部位a4と、第3領域R3に位置する第5部位a5と、第3ゲート配線221cと平面視して重なるように位置して第4部位a4と第5部位a5とを接続する第6部位a6とを有している。   The second signal electrode 228b is located in the second region R2, a fourth portion a4 adjacent to the second portion a2 of the first signal electrode 228a, a fifth portion a5 located in the third region R3, and a third gate. It has a sixth part a6 that is located so as to overlap the wiring 221c in plan view and connects the fourth part a4 and the fifth part a5.

第3信号電極228cは、第4領域R4に位置する第7部位a7と、第5領域R5に位置する第8部位a8と、第2ゲート配線221bと平面視して重なるように位置して第7部位a7と第8部位a8とを接続する第9部位a9とを有している。   The third signal electrode 228c is positioned so as to overlap the seventh part a7 located in the fourth region R4, the eighth part a8 located in the fifth region R5, and the second gate wiring 221b in plan view. It has the 9th site | part a9 which connects 7 site | part a7 and the 8th site | part a8.

図3に示すように、第1信号電極228aの第1部位a1には、Y方向に沿って配列し、X方向に対して傾斜し延在する複数の第1スリットS1が設けられている。また、第1信号電極228aの第2部位a2には、Y方向に沿って配列し、第1スリットS1の延在方向と異なる方向に延在する複数の第2スリットS2が設けられている。   As shown in FIG. 3, the first portion a1 of the first signal electrode 228a is provided with a plurality of first slits S1 arranged along the Y direction and inclined and extended with respect to the X direction. The second portion a2 of the first signal electrode 228a is provided with a plurality of second slits S2 arranged along the Y direction and extending in a direction different from the extending direction of the first slit S1.

また、図3に示すように、第2信号電極228bの第4部位a4には、Y方向に沿って配列し、第2スリットS2の延在方向に延在する複数の第3スリットS3が設けられている。また、第2信号電極228bの第5部位a5には、Y方向に沿って配列し、第2スリットS2の延在方向と異なる方向に延在する複数の第4スリットS4が設けられている。なお、本実施形態では、第5部位a5の第4スリットS4が第1部位a1の第1スリットS1の延在方向と同じ方向に延在している。   Also, as shown in FIG. 3, the fourth portion a4 of the second signal electrode 228b is provided with a plurality of third slits S3 arranged along the Y direction and extending in the extending direction of the second slit S2. It has been. The fifth portion a5 of the second signal electrode 228b is provided with a plurality of fourth slits S4 arranged along the Y direction and extending in a direction different from the extending direction of the second slit S2. In the present embodiment, the fourth slit S4 of the fifth part a5 extends in the same direction as the extending direction of the first slit S1 of the first part a1.

さらに、図3に示すように、第3信号電極228cの第7部位a7には、Y方向に沿って配列し、第1スリットS1の延在方向に延在する複数の第5スリットS5が設けられている。また、第3信号電極228cの第8部位a8には、Y方向に沿って配列し、第2スリットS2の延在方向に延在する複数の第6スリットS6が設けられている。   Further, as shown in FIG. 3, the seventh portion a7 of the third signal electrode 228c is provided with a plurality of fifth slits S5 arranged along the Y direction and extending in the extending direction of the first slit S1. It has been. The eighth portion a8 of the third signal electrode 228c is provided with a plurality of sixth slits S6 arranged along the Y direction and extending in the extending direction of the second slit S2.

液晶表示装置1では、第1信号電極228aが、第1スリットS1が形成された第1部位a1と、第2スリットS2が形成された第2部位a2とを有する。すなわち、第1信号電極228aには異なる方向に延在する第1スリットS1および第2スリットS2が形成され
ているので、第1部位a1の形成領域と第2部位a2の形成領域とで電界印加時の液晶分子の配向を変えることができ、液晶表示装置の広視野角化を実現できる。
In the liquid crystal display device 1, the first signal electrode 228a has a first part a1 where the first slit S1 is formed and a second part a2 where the second slit S2 is formed. That is, since the first slit S1 and the second slit S2 extending in different directions are formed in the first signal electrode 228a, an electric field is applied between the formation region of the first part a1 and the formation region of the second part a2. The orientation of the liquid crystal molecules at the time can be changed, and a wide viewing angle of the liquid crystal display device can be realized.

また、第2ゲート配線221bが第1信号電極228aの第3部位a3と重なるように位置し、第1信号電極228aが第2ゲート配線221bに跨って設けられているので、隣接する第1信号電極228aの第2部位a2と第2信号電極228bの第4部位a4との間には第2ゲート配線221bが形成されていない。すなわち、この領域では第2ゲート配線221bによって光源装置3からの光が遮られないので、第2部位a2と第4部位a4との間の領域を画像表示に寄与する領域として有効に利用できる。加えて、第2信号電極228bは第1信号電極228aの第2部位a2に隣接する第4部位a4を有し、この第4部位a4には第2スリットS2の延在方向に延在する第3スリットS3が形成されている。すなわち、隣接する第2部位a2および第4部位a4には同一方向に延在するスリットS(第2スリットS2、第3スリットS3)が形成されているので、第1信号電極228aのY方向の端辺および第2信号電極228bのY方向の端辺をスリットS(第2スリットS2、第3スリットS3)に対応させて傾斜させれば、第1信号電極228aの第2部位a2におけるY方向の端辺近傍まで第2スリットS2を形成できるとともに、第2信号電極228bの第4部位a4におけるY方向の端辺近傍まで第3スリットS3を形成できる。第1信号電極228aおよび第2信号電極228bの端辺近傍まで第2スリットS2を形成できることで、信号電極228におけるY方向の端辺近傍の電極部分の面積領域を小さくでき、画素Pでの開口率の低下を抑制し、光の透過率の低下を抑制できる。   Further, since the second gate wiring 221b is positioned so as to overlap the third portion a3 of the first signal electrode 228a, and the first signal electrode 228a is provided across the second gate wiring 221b, the adjacent first signal The second gate wiring 221b is not formed between the second part a2 of the electrode 228a and the fourth part a4 of the second signal electrode 228b. That is, since the light from the light source device 3 is not blocked by the second gate wiring 221b in this region, the region between the second part a2 and the fourth part a4 can be effectively used as an area contributing to image display. In addition, the second signal electrode 228b has a fourth portion a4 adjacent to the second portion a2 of the first signal electrode 228a, and the fourth portion a4 extends in the extending direction of the second slit S2. Three slits S3 are formed. That is, since the adjacent second part a2 and fourth part a4 are formed with slits S (second slit S2, third slit S3) extending in the same direction, the first signal electrode 228a in the Y direction is formed. If the end side and the end side in the Y direction of the second signal electrode 228b are inclined corresponding to the slit S (second slit S2, third slit S3), the Y direction in the second portion a2 of the first signal electrode 228a. The second slit S2 can be formed to the vicinity of the end side of the second signal electrode, and the third slit S3 can be formed to the vicinity of the end side in the Y direction of the fourth portion a4 of the second signal electrode 228b. Since the second slit S2 can be formed to the vicinity of the end sides of the first signal electrode 228a and the second signal electrode 228b, the area of the electrode portion in the vicinity of the Y direction end side of the signal electrode 228 can be reduced, and the opening at the pixel P can be reduced. It is possible to suppress a decrease in the rate and suppress a decrease in the light transmittance.

また、第2ゲート配線221bは、第1スリットS1が形成された第1部位a1と第2スリットS2が形成された第2部位a2との間に位置している。ここで、第1部位a1と第2部位a2とでは異なる方向に延在するスリットS(第1スリットS1、第2スリットS2)が形成されているので、第1スリットS1および第2スリットS2の延在方向の関係によって第1部位a1と第2部位a2との間の領域には第1スリットS1および第2スリットS2を形成しにくいため、この領域では電極部分の面積が大きくなりやすく、この領域は画像表示に寄与しにくくなる。そのため、第2ゲート配線221bが、画像表示に寄与しにくく、異なる方向に延在するスリットSが設けられた第1部位a1と第2部位a2との間に位置することで、第2ゲート配線221bが光を遮ることによって画素Pの開口率へ与える影響を低減できる。   The second gate wiring 221b is located between the first part a1 where the first slit S1 is formed and the second part a2 where the second slit S2 is formed. Here, since the slits S (first slit S1, second slit S2) extending in different directions are formed in the first part a1 and the second part a2, the first slit S1 and the second slit S2 Since the first slit S1 and the second slit S2 are difficult to form in the region between the first part a1 and the second part a2 due to the relationship of the extending direction, the area of the electrode part tends to increase in this region. The region is less likely to contribute to image display. For this reason, the second gate wiring 221b is unlikely to contribute to image display and is positioned between the first part a1 and the second part a2 provided with the slits S extending in different directions. The influence on the aperture ratio of the pixel P can be reduced by blocking the light by 221b.

また、液晶表示装置1では、第2ゲート配線221bを基準として第1信号電極228aの第1部位a1の第1スリットS1の延在方向と第2部位a2の第2スリットS2の延在方向とは線対称となる。これによって、第1信号電極228aが位置する画素Pにおける電界印加時の液晶分子の配向方向は対称的になるので、視野角特性が向上する。   Further, in the liquid crystal display device 1, with respect to the second gate line 221b, the extending direction of the first slit S1 of the first portion a1 of the first signal electrode 228a and the extending direction of the second slit S2 of the second portion a2 are defined. Is line symmetric. As a result, the orientation direction of the liquid crystal molecules when the electric field is applied in the pixel P where the first signal electrode 228a is located becomes symmetric, so that the viewing angle characteristics are improved.

加えて、液晶表示装置1では、第2信号電極228bの第5部位a5の第4スリットS4は第1スリットS1の延在方向に延在している。すなわち、第2信号電極228bの第4部位a4の第3スリットS3の延在方向と第5部位a5の第4スリットS4の延在方向とは線対称となる。これによって、第2信号電極228bが位置する画素Pにおける液晶層23の電界印加時の液晶分子の配向方向は対称的になるので、視野角特性が向上する。   In addition, in the liquid crystal display device 1, the fourth slit S4 of the fifth portion a5 of the second signal electrode 228b extends in the extending direction of the first slit S1. That is, the extending direction of the third slit S3 of the fourth portion a4 of the second signal electrode 228b and the extending direction of the fourth slit S4 of the fifth portion a5 are axisymmetric. As a result, the orientation direction of the liquid crystal molecules when the electric field is applied to the liquid crystal layer 23 in the pixel P where the second signal electrode 228b is located becomes symmetric, so that the viewing angle characteristics are improved.

液晶層23は、第1基板21と第2基板22との間に設けられている。液晶層23は、ネマティック液晶などを含んでいる。   The liquid crystal layer 23 is provided between the first substrate 21 and the second substrate 22. The liquid crystal layer 23 includes nematic liquid crystal or the like.

シール材24は、第1基板21と第2基板22とを貼り合わせる機能を有する。シール材24は第1基板21と第2基板22との間に設けられている。このシール材24は、エポキシ樹脂などによって形成される。   The sealing material 24 has a function of bonding the first substrate 21 and the second substrate 22 together. The sealing material 24 is provided between the first substrate 21 and the second substrate 22. This sealing material 24 is formed of an epoxy resin or the like.

光源装置3は、液晶パネル2に向けて光を出射する機能を有する。光源装置3は、光源31と、導光板32とを有している。なお、本実施形態における光源装置3では、光源31にLEDなどの点光源を採用しているが、冷陰極管などの線光源を採用してもよい。   The light source device 3 has a function of emitting light toward the liquid crystal panel 2. The light source device 3 includes a light source 31 and a light guide plate 32. In the light source device 3 in the present embodiment, a point light source such as an LED is used as the light source 31, but a linear light source such as a cold cathode tube may be used.

第1偏光板4は、所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第1偏光板4は、液晶パネル2の第1基板21の第1主面21aに対向するように配置されている。   The first polarizing plate 4 has a function of selectively transmitting light in a predetermined vibration direction. The first polarizing plate 4 is disposed so as to face the first main surface 21 a of the first substrate 21 of the liquid crystal panel 2.

第2偏光板5は、所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第2偏光板5は、第2基板22の第2主面22bに対向するように配置されている。   The second polarizing plate 5 has a function of selectively transmitting light in a predetermined vibration direction. The second polarizing plate 5 is disposed so as to face the second main surface 22 b of the second substrate 22.

[第2の実施形態]
図5は、第2の実施形態における液晶表示装置1Aの要部を示す平面図である。
[Second Embodiment]
FIG. 5 is a plan view showing a main part of the liquid crystal display device 1A according to the second embodiment.

液晶表示装置1Aは液晶表示装置1に比べて、第2ソース配線223bを基準として第3信号電極228cの第7部位a7の第5スリットS5の延在方向と第1信号電極228aの第1部位a1の第1スリットS1の延在方向とが線対称になるとともに、第2ソース配線223bを基準として第3信号電極228cの第8部位a8の第6スリットS6の延在方向と第1信号電極228aの第2部位a2の第2スリットS2の延在方向とが線対称となる点で異なる。   Compared with the liquid crystal display device 1, the liquid crystal display device 1 </ b> A has an extension direction of the fifth slit S <b> 5 of the seventh portion a <b> 7 of the third signal electrode 228 c and the first portion of the first signal electrode 228 a relative to the second source line 223 b. The extending direction of the first slit S1 of a1 is axisymmetric, and the extending direction of the sixth slit S6 of the eighth portion a8 of the third signal electrode 228c and the first signal electrode with respect to the second source wiring 223b. The difference is that the extending direction of the second slit S2 of the second portion a2 of 228a is line symmetric.

すなわち、X方向に隣り合う信号電極228において、隣り合う信号電極228の間に位置するソース配線223を基準としてスリットSの延在方向が対称的になっている。これによって、液晶表示装置1Aでは、第1信号電極228aが位置する画素Pと第3信号電極228cが位置する画素Pとにおいて、電界印加時の液晶分子の配向方向が対称的になるので、視野角特性が向上する。   That is, in the signal electrodes 228 adjacent to each other in the X direction, the extending direction of the slits S is symmetric with respect to the source wiring 223 located between the adjacent signal electrodes 228. As a result, in the liquid crystal display device 1A, the orientation direction of the liquid crystal molecules at the time of applying an electric field is symmetrical between the pixel P where the first signal electrode 228a is located and the pixel P where the third signal electrode 228c is located. Angular characteristics are improved.

[第3の実施形態]
図6および図7は、第3の実施形態における液晶表示装置1Bの要部を示す図である。
[Third Embodiment]
6 and 7 are views showing the main part of the liquid crystal display device 1B according to the third embodiment.

液晶表示装置1Bは液晶表示装置1に比べて、下記点で異なっている。   The liquid crystal display device 1B is different from the liquid crystal display device 1 in the following points.

図7に示すように、共通電極226は第2層間絶縁膜227を介して信号電極228上に設けられている。また、信号電極228にはスリットSが形成されていない代わりに、共通電極226には複数のスリットSが形成されている。   As shown in FIG. 7, the common electrode 226 is provided on the signal electrode 228 via the second interlayer insulating film 227. Further, the slits S are not formed in the signal electrode 228, but a plurality of slits S are formed in the common electrode 226.

液晶表示装置1Bの共通電極226には、第1信号電極228aの第1部位a1と重なる部位にY方向に沿って配列し、X方向に対し傾斜して延在する複数の第1スリットS1が設けられているとともに、第1信号電極228aの第2部位a2と重なる部位にY方向に沿って配列し、第1スリットS1とは異なる方向に延在する複数の第2スリットS2が設けられている。すなわち、第1信号電極228aと重なる共通電極226の部位には異なる方向に延在する第1スリットS1および第2スリットS2が形成されているので、第1部位a1が位置する領域と第2部位a2が位置する領域とで電界印加時の液晶分子の配向を変えることができるので、広視野角化を実現できる。   The common electrode 226 of the liquid crystal display device 1B has a plurality of first slits S1 arranged along the Y direction at portions overlapping the first portion a1 of the first signal electrode 228a and extending obliquely with respect to the X direction. A plurality of second slits S2 arranged in the Y direction and extending in a direction different from the first slits S1 are provided in a portion overlapping the second portion a2 of the first signal electrode 228a. Yes. That is, since the first slit S1 and the second slit S2 extending in different directions are formed in the portion of the common electrode 226 that overlaps the first signal electrode 228a, the region where the first portion a1 is located and the second portion Since the orientation of liquid crystal molecules during application of an electric field can be changed between the region where a2 is located, a wide viewing angle can be realized.

また、液晶表示装置1Bでは、第1信号電極228aの第3部位a3が第2ゲート配線221bと平面視して重なるように位置し、第1信号電極228aは第2ゲート配線221bを跨って設けられているので、隣接する第1信号電極228aの第2部位a2と第2信号電極228bの第4部位a4との間の領域には第2ゲート配線221bが形成されていない。すなわち、この領域では第2ゲート配線221bによって光源装置3からの光が遮られず、第2部位a2と第4部位a4との間の領域を画像表示に寄与する領域として有効に利用できる。さらに
、第2層間絶縁膜227を介して第1信号電極228aの第2部位a2および第2信号電極228bの第4部位a4に重なる共通電極226の部位に対して、第2スリットS2を形成することで、第2部位a2の端辺近傍および第4部位a4の端辺近傍の領域まで第2スリットS2を形成できるので、画素Pでの開口率の低下を抑制し、光の透過率の低下を抑制できる。加えて、第2部位a2と第4部位a4との間の領域と重なる共通電極226の部位にも第2スリットS2を形成することが可能になり、当該領域での電極形成領域を低減することで、画素Pでの開口率の低下を抑制し、光の透過率の低下を抑制できる。
In the liquid crystal display device 1B, the third portion a3 of the first signal electrode 228a is positioned so as to overlap with the second gate wiring 221b in plan view, and the first signal electrode 228a is provided across the second gate wiring 221b. Therefore, the second gate wiring 221b is not formed in the region between the second part a2 of the adjacent first signal electrode 228a and the fourth part a4 of the second signal electrode 228b. That is, in this area, the light from the light source device 3 is not blocked by the second gate wiring 221b, and the area between the second part a2 and the fourth part a4 can be effectively used as an area contributing to image display. Further, the second slit S2 is formed in the portion of the common electrode 226 that overlaps the second portion a2 of the first signal electrode 228a and the fourth portion a4 of the second signal electrode 228b via the second interlayer insulating film 227. As a result, the second slit S2 can be formed in the vicinity of the edge of the second part a2 and the vicinity of the edge of the fourth part a4. Can be suppressed. In addition, it is possible to form the second slit S2 also in the portion of the common electrode 226 that overlaps the region between the second portion a2 and the fourth portion a4, and to reduce the electrode formation region in the region. Thus, a decrease in aperture ratio at the pixel P can be suppressed, and a decrease in light transmittance can be suppressed.

また、第2ゲート配線221bは、第1スリットS1が形成された共通電極226の部位と第2スリットS2が形成された共通電極226の部位との間に位置している。ここで、第1スリットS1と第2スリットS2とは異なる方向に延在しているので、第1スリットS1と第2スリットS2との延在方向の関係によって第1スリットS1が形成された部位と第2スリットS2が形成された部位との間の領域には第1スリットS1および第2スリットS2を形成しにくいため、この領域で電極部分の面積が大きくなりやすく、この領域は画像表示に寄与しにくくなる。そのため、第2ゲート配線221bが、画像表示に寄与しにくく、第1スリットS1が形成された共通電極226の部位と第2スリットS2が形成された共通電極226の部位との間の領域に位置することで、第2ゲート配線221bが光を遮光することによって画素Pの開口率へ与える影響を低減できる。   The second gate wiring 221b is located between the portion of the common electrode 226 where the first slit S1 is formed and the portion of the common electrode 226 where the second slit S2 is formed. Here, since the first slit S1 and the second slit S2 extend in different directions, the portion where the first slit S1 is formed by the relationship in the extending direction between the first slit S1 and the second slit S2. Since it is difficult to form the first slit S1 and the second slit S2 in the region between the first slit S2 and the portion where the second slit S2 is formed, the area of the electrode portion tends to be large in this region. It becomes difficult to contribute. Therefore, the second gate wiring 221b is unlikely to contribute to image display, and is positioned in a region between the common electrode 226 portion where the first slit S1 is formed and the common electrode 226 portion where the second slit S2 is formed. Thus, the influence of the second gate wiring 221b on the aperture ratio of the pixel P by shielding light can be reduced.

また、液晶表示装置1Bでは、第2ゲート配線221bを基準として共通電極226の第1スリットS1の延在方向と第2スリットS2の延在方向とは線対称となる。これによって、第1信号電極228aが位置する画素Pにおける液晶層23の電界印加時の液晶分子の配向方向が対称的になるので、視野角特性が向上する。   In the liquid crystal display device 1B, the extending direction of the first slit S1 and the extending direction of the second slit S2 of the common electrode 226 are axisymmetric with respect to the second gate line 221b. As a result, the alignment direction of the liquid crystal molecules when the electric field is applied to the liquid crystal layer 23 in the pixel P where the first signal electrode 228a is located becomes symmetric, so that the viewing angle characteristics are improved.

また、液晶表示装置1Bの共通電極226には、第3信号電極228cの第7部位a7と重なる領域に第1スリットS1が設けられているとともに、第3信号電極228cの第8部位a8と重なる領域に第2スリットS2が設けられている。すなわち、X方向に隣接する第1信号電極228aおよび第3信号電極228cの領域に位置する共通電極226には同じ方向に延在するスリットSが形成されるので、隣接する第1信号電極228aと第3信号電極228cと重なる共通電極226の部位に対してスリットSを形成しやすくなるので、液晶表示装置の製造工程を簡略化できる。   The common electrode 226 of the liquid crystal display device 1B is provided with a first slit S1 in a region overlapping the seventh portion a7 of the third signal electrode 228c, and also overlaps the eighth portion a8 of the third signal electrode 228c. A second slit S2 is provided in the region. That is, since the common electrode 226 located in the region of the first signal electrode 228a and the third signal electrode 228c adjacent to each other in the X direction is formed with the slit S extending in the same direction, the adjacent first signal electrode 228a Since it becomes easy to form the slit S in the portion of the common electrode 226 that overlaps with the third signal electrode 228c, the manufacturing process of the liquid crystal display device can be simplified.

本発明は第1〜第3の実施形態に特に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更および改良が可能である。   The present invention is not particularly limited to the first to third embodiments, and various modifications and improvements can be made within the scope of the present invention.

1、1A、1B 液晶表示装置
2 液晶パネル
P 画素
R1 第1領域
R2 第2領域
R3 第3領域
R4 第4領域
R5 第5領域
21 第1基板
21a 第1主面
21b 第2主面(主面)
211 遮光膜
212 カラーフィルタ
22 第2基板
22a 第1主面(主面)
22b 第2主面
221 ゲート配線
221a 第1ゲート配線
221b 第2ゲート配線
221c 第3ゲート配線
222 ゲート絶縁膜
223 ソース配線
223a 第1ソース配線
223b 第2ソース配線
223c 第3ソース配線
223d 第4ソース配線
224 第1層間絶縁膜
225 平坦化膜(第1絶縁膜)
226 共通電極
227 第2層間絶縁膜(第2絶縁膜)
228 信号電極
228a 第1信号電極
a1 第1部位
a2 第2部位
a3 第3部位
228b 第2信号電極
a4 第4部位
a5 第5部位
a6 第6部位
228c 第3信号電極
a7 第7部位
a8 第8部位
a9 第9部位
TFT 薄膜トランジスタ
S スリット
S1 第1スリット
S2 第2スリット
S3 第3スリット
S4 第4スリット
S5 第5スリット
S6 第6スリット
23 液晶層
24 シール材
3 光源装置
31 光源
32 導光板
4 第1偏光板
5 第2偏光板
1, 1A, 1B Liquid crystal display device 2 Liquid crystal panel P Pixel R1 1st area | region R2 2nd area | region R3 3rd area | region R4 4th area | region R5 5th area | region
21 First board
21a 1st main surface
21b Second main surface (main surface)
211 Shading film
212 Color filter
22 Second board
22a First main surface (main surface)
22b 2nd main surface
221 Gate wiring
221a First gate wiring
221b Second gate wiring
221c Third gate wiring
222 Gate insulation film
223 source wiring
223a First source wiring
223b Second source wiring
223c Third source wiring
223d Fourth source wiring
224 First interlayer insulating film
225 Planarization film (first insulating film)
226 Common electrode
227 Second interlayer insulating film (second insulating film)
228 Signal electrode
228a First signal electrode a1 First part a2 Second part a3 Third part
228b Second signal electrode a4 Fourth part a5 Fifth part a6 Sixth part
228c 3rd signal electrode a7 7th part a8 8th part a9 9th part
TFT thin film transistor S slit S1 first slit S2 second slit S3 third slit S4 fourth slit S5 fifth slit S6 sixth slit
23 Liquid crystal layer
24 Sealing material 3 Light source device
31 Light source
32 Light guide plate 4 First polarizing plate 5 Second polarizing plate

Claims (5)

主面同士を対向させて配置された第1基板および第2基板と、前記第1基板および前記第2基板の間に配置された液晶層と、前記第2基板の前記主面上にY方向に順次配列して設けられた線状の第1ゲート配線、第2ゲート配線および第3ゲート配線と、前記第2基板の前記主面上にY方向と直交するX方向に順次配列して設けられた、前記第1ゲート配線〜第3ゲート配線に交差する線状の第1ソース配線および第2ソース配線と、前記第1ゲート配線〜第3ゲート配線、前記第1ソース配線および前記第2ソース配線を覆うように前記第2基板の前記主面上に設けられた第1絶縁膜と、該第1絶縁膜上に設けられた共通電極と、第2絶縁膜を介して前記共通電極上に設けられた、Y方向に隣り合う第1信号電極および第2信号電極とを備え、
前記第1信号電極は、前記第1ゲート配線、前記第2ゲート配線、前記第1ソース配線および前記第2ソース配線によって囲まれた第1領域に位置する第1部位と、前記第2ゲート配線、前記第3ゲート配線、前記第1ソース配線および前記第2ソース配線によって囲まれた第2領域に位置する第2部位と、前記第2ゲート配線と重なるように位置する、前記第1部位と前記第2部位とを接続する第3部位とを有し、
前記第2信号電極は、前記第2領域に設けられた、前記第1信号電極の前記第2部位に隣接する第4部位を有し、
前記第1信号電極の前記第1部位には、Y方向に沿って配列した、X方向に対して傾斜する第1方向に延在する複数の第1スリットが設けられているとともに、前記第1信号電極の前記第2部位には、Y方向に沿って配列した、前記第1方向と異なる第2方向に延在する複数の第2スリットが設けられており、
前記第2信号電極の前記第4部位には、Y方向に沿って配列した、前記第2方向に延在する複数の第3スリットが設けられていることを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate and a second substrate arranged with their main surfaces facing each other, a liquid crystal layer arranged between the first substrate and the second substrate, and a Y direction on the main surface of the second substrate First linear wirings, second gate wirings, and third gate wirings that are sequentially arranged on the main surface of the second substrate, arranged in the X direction perpendicular to the Y direction. Linear first source wiring and second source wiring intersecting the first gate wiring to third gate wiring, the first gate wiring to third gate wiring, the first source wiring, and the second gate wiring. A first insulating film provided on the main surface of the second substrate so as to cover the source wiring, a common electrode provided on the first insulating film, and on the common electrode via the second insulating film Provided with a first signal electrode and a second signal electrode adjacent to each other in the Y direction. ,
The first signal electrode includes a first portion located in a first region surrounded by the first gate wiring, the second gate wiring, the first source wiring, and the second source wiring, and the second gate wiring. A second part located in a second region surrounded by the third gate line, the first source line and the second source line, and the first part located so as to overlap the second gate line; A third part connecting the second part,
The second signal electrode includes a fourth portion provided in the second region and adjacent to the second portion of the first signal electrode,
The first portion of the first signal electrode is provided with a plurality of first slits arranged in the Y direction and extending in a first direction inclined with respect to the X direction. The second portion of the signal electrode is provided with a plurality of second slits arranged along the Y direction and extending in a second direction different from the first direction,
The liquid crystal display device, wherein the fourth portion of the second signal electrode is provided with a plurality of third slits arranged in the Y direction and extending in the second direction.
前記第2信号電極には、前記第3ゲート配線の前記第2領域とは反対側の第3領域に位置する第5部位と、前記第3ゲート配線と重なるように位置する、前記第4部位と前記第5部位とを接続する第6部位とを有し、
前記第2信号電極の前記第5部位には、Y方向に沿って配列した、前記第1方向に延在する複数の第4スリットが設けられている請求項1に記載の液晶表示装置。
The second signal electrode includes a fifth part located in a third region opposite to the second region of the third gate wiring, and the fourth part located so as to overlap the third gate wiring. And a sixth portion connecting the fifth portion,
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the fifth portion of the second signal electrode is provided with a plurality of fourth slits arranged in the Y direction and extending in the first direction.
前記第1ゲート配線〜第3ゲート配線に交差するように設けられた、前記第2ソース配線に対して前記第1ソース配線とは反対側で隣り合う線状の第3ソース配線と、
前記第2絶縁膜を介して前記共通電極上に設けられた、前記第1信号電極とX方向に隣り合う第3信号電極とをさらに備え、
該第3信号電極は、前記第1ゲート配線、前記第2ゲート配線、前記第2ソース配線および前記第3ソース配線によって囲まれた第4領域に設けられた第7部位と、前記第2ゲート配線、前記第3ゲート配線、前記第2ソース配線および前記第3ソース配線によって囲まれた第5領域に位置する第8部位と、前記第2ゲート配線と重なるように位置する、前記第7部位と前記第8部位とを接続する第9部位とを有し、
前記第3信号電極の前記第7部位には、Y方向に沿って配列した、前記第2ソース配線を基準に前記第1方向と線対称となる方向である第3方向に延在する複数の第5スリットが設けられているとともに、前記第3信号電極の前記第8部位には、前記第2ソース配線を基準に前記第2方向と線対称となる方向である第4方向に延在する複数の第6スリットが設えられている請求項1または2に記載の液晶表示装置。
A third linear source line adjacent to the second source line on the side opposite to the first source line, provided to intersect the first gate line to the third gate line;
A first signal electrode provided on the common electrode via the second insulating film; and a third signal electrode adjacent in the X direction;
The third signal electrode includes a seventh portion provided in a fourth region surrounded by the first gate wiring, the second gate wiring, the second source wiring, and the third source wiring, and the second gate. An eighth part located in a fifth region surrounded by the wiring, the third gate wiring, the second source wiring, and the third source wiring, and the seventh part located so as to overlap the second gate wiring And a ninth part connecting the eighth part,
The seventh portion of the third signal electrode has a plurality of lines extending in a third direction, which is arranged along the Y direction and is symmetrical with the first direction with respect to the second source wiring. A fifth slit is provided, and the eighth portion of the third signal electrode extends in a fourth direction which is a line symmetric with the second direction with respect to the second source wiring. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a plurality of sixth slits are provided.
前記第2方向は、前記第2ゲート配線を基準に前記第1方向と線対称となる方向である請求項1〜3のいずれかに記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second direction is a direction that is line-symmetric with the first direction with respect to the second gate wiring. 主面同士を対向させて配置された第1基板および第2基板と、前記第1基板および前記
第2基板の間に配置された液晶層と、前記第2基板の前記主面上にY方向に順次配列して設けられた線状の第1ゲート配線、第2ゲート配線および第3ゲート配線と、前記第2基板の前記主面上にY方向と直交するX方向に順次配列して設けられた、前記第1ゲート配線〜第3ゲート配線に交差する線状の第1ソース配線および第2ソース配線と、前記第1ゲート配線〜第3ゲート配線、前記第1ソース配線および前記第2ソース配線を覆うように前記第2基板の前記主面上に設けられた第1絶縁膜と、該第1絶縁膜上に設けられたY方向に隣り合う第1信号電極および第2信号電極と、第2絶縁膜を介して前記第1信号電極、前記第2信号電極および前記第1信号電極と前記第2信号電極との間の領域に重なるように設けられた共通電極とを備え、
前記第1信号電極は、前記第1ゲート配線、前記第2ゲート配線、前記第1ソース配線および前記第2ソース配線によって囲まれた第1領域に位置する第1部位と、前記第2ゲート配線、前記第3ゲート配線、前記第1ソース配線および前記第2ソース配線によって囲まれた第2領域に位置する第2部位と、前記第2ゲート配線と重なるように位置する、前記第1部位と前記第2部位とを接続する第3部位とを有し、
前記第2信号電極は、前記第2領域に設けられた、前記第1信号電極の前記第2部位に隣接する第4部位を有し、
前記共通電極には、前記第1信号電極の前記第1部位に重なる領域にY方向に沿って配列した、X方向に対して傾斜する第1方向に延在する複数の第1スリットと、前記第1信号電極の前記第2部位に重なる領域および前記第2信号電極の前記第4部位に重なる領域にY方向に沿って配列した、前記第1方向と異なる第2方向に延在する複数の第2スリットとが設けられていること特徴とする液晶表示装置。
A first substrate and a second substrate arranged with their main surfaces facing each other, a liquid crystal layer arranged between the first substrate and the second substrate, and a Y direction on the main surface of the second substrate First linear wirings, second gate wirings, and third gate wirings that are sequentially arranged on the main surface of the second substrate, arranged in the X direction perpendicular to the Y direction. Linear first source wiring and second source wiring intersecting the first gate wiring to third gate wiring, the first gate wiring to third gate wiring, the first source wiring, and the second gate wiring. A first insulating film provided on the main surface of the second substrate so as to cover the source wiring; and a first signal electrode and a second signal electrode adjacent to each other in the Y direction provided on the first insulating film; The first signal electrode, the second signal electrode and the front through the second insulating film And a common electrode provided so as to overlap the regions between the first signal electrode and the second signal electrode,
The first signal electrode includes a first portion located in a first region surrounded by the first gate wiring, the second gate wiring, the first source wiring, and the second source wiring, and the second gate wiring. A second part located in a second region surrounded by the third gate line, the first source line and the second source line, and the first part located so as to overlap the second gate line; A third part connecting the second part,
The second signal electrode includes a fourth portion provided in the second region and adjacent to the second portion of the first signal electrode,
The common electrode includes a plurality of first slits extending in a first direction inclined with respect to the X direction, arranged along the Y direction in a region overlapping the first portion of the first signal electrode, A plurality of regions extending in a second direction different from the first direction, arranged along the Y direction in a region overlapping the second portion of the first signal electrode and a region overlapping the fourth portion of the second signal electrode. A liquid crystal display device comprising a second slit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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