JP2014019948A - Composite multilayer nickel electroplating layer and electroplating method therefor - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite multilayer nickel electroplating layer having corrosion resistance and weldability and having improved internal stress and plating efficiency, and an electroplating method therefor.SOLUTION: The composite multilayer nickel electroplating layer comprises: nickel in a first layer; nickel in a second layer; and a nickel plating layer in a surface layer, and precipitation for one time to several times can be repeated to the nickel in the first layer and the second layer. In the composite multilayer nickel electroplating layer, the internal stress direction of each layer nickel in the composite multilayer nickel electroplating is made reverse to the stress direction of the adjacent plating layer, thus the internal stress in the nickel electroplating layer is reduced, and the nickel electroplating layer in the second layer has a columnar structure, thus the stress between the nickel electroplating layers is buffered.

Description

本発明は、複合多層、特に、三層ニッケル電気めっき層およびその電気めっき方法に関する。   The present invention relates to a composite multilayer, in particular, a three-layer nickel electroplating layer and an electroplating method thereof.

電解析出は、最も一般的なニッケルめっき技術であって、金属基材の腐食防止に広く適用されている。そのため、ニッケルめっき層は、めっき最外層としてもよく、貴金属電気めっきの下地層としてもよい。ニッケルめっき層は、電気めっき最外層に適応すると、主にインテリア性と機能性の効果を有し、例えば、半光沢または光沢、耐食性および耐摩耗性を有することができる。更なる複雑な電気めっき方法において、貴金属またはその合金が電気めっき最表層とする時に、ニッケルめっき層は、中間層として基材と電気めっき最表層とを好適に張り合わせる。特に、電気めっき最表層が部分的に、若しくは、完全に破損される時に、ニッケルめっき層は耐食層の代わりとしてもよい。   Electrolytic deposition is the most common nickel plating technique and is widely applied to prevent corrosion of metal substrates. Therefore, the nickel plating layer may be the outermost plating layer or a base layer for noble metal electroplating. When applied to the outermost layer of electroplating, the nickel plating layer has mainly interior and functional effects, and can have, for example, semi-gloss or gloss, corrosion resistance and wear resistance. In a further complicated electroplating method, when a noble metal or an alloy thereof is used as the outermost layer of electroplating, the nickel plating layer suitably bonds the substrate and the outermost layer of electroplating as an intermediate layer. In particular, the nickel plating layer may be substituted for the corrosion resistant layer when the outermost electroplating layer is partially or completely damaged.

米国特許US4,767,509明細書には、塩化浴を用いてニッケル-リンを基材上に電気めっきする方法が開示されており、全塩素塩電気めっき液は、従来の硫酸塩浴技術より、高い陰極効率、優れた導電性を有し、また、電気めっき工程中に少量の析出しか現れないという長所などを有している。   U.S. Pat. No. 4,767,509 discloses a method of electroplating nickel-phosphorous on a substrate using a chloride bath, and the total chlorine salt electroplating solution is more effective than the conventional sulfate bath technology. In addition, it has a high cathode efficiency, excellent conductivity, and has an advantage that only a small amount of deposition appears during the electroplating process.

米国特許US6,099,624明細書には、アルキルスルホン酸ニッケルのような高導電性の電解質を用いてニッケル-リンを電気めっきする方法が開示されており、該方法は高速電気めっきに関する解決手段を提供した。   U.S. Pat. No. 6,099,624 discloses a method for electroplating nickel-phosphorus using a highly conductive electrolyte such as nickel alkyl sulfonate, which solution relates to high speed electroplating. Provided.

しかしながら、単層ニッケルは、(1)電気めっき浴効率の劣化、(2)電気めっき層内に存在する比較的に高い内部応力、と言う回避できない欠点を有している。前記(1)の場合、電気めっき浴効率の劣化によって、ニッケル電気めっき層の厚さの増加と伴って電気めっきの析出速度が低下する。例えば、ワット(Watts)ニッケルめっき浴のような硫酸ニッケル含有電気めっき浴の場合、陰極効率とめっき液導電率が相対的に低いため、適切な電気めっき層を得るのは、高電圧または長時間が必要となる。代わりにリン-ニッケルを採用すれば、めっき液の低導電率による電気めっき効率が低くなる以外に、得られるめっき層が常に高い内部応力を有し、それによってめっき層の密着力が低くなるとともに延性に欠ける。さらに、内部応力問題は、めっき層厚さの増加によって重大になる。このような欠陥を有するニッケル電気めっき層は、容易に剥離、裂けまたはクラックし、電気めっき層の一部または全部の保護機能が無効になる。同様な破損効果は、ニッケル層を貴金属電気めっきの下地層とする時にも発揮し、しかも二層の電気めっき層がいずれも破損される。   However, single-layer nickel has the inevitable drawbacks of (1) degradation of electroplating bath efficiency and (2) relatively high internal stress present in the electroplating layer. In the case of the above (1), the deposition rate of electroplating decreases as the thickness of the nickel electroplating layer increases due to the deterioration of the electroplating bath efficiency. For example, in the case of an electroplating bath containing nickel sulfate, such as a Watts nickel plating bath, the cathode efficiency and plating solution conductivity are relatively low, so obtaining a suitable electroplating layer can be achieved at high voltage or long time. Is required. If phosphorus-nickel is used instead, the resulting plating layer will always have high internal stress, in addition to lower electroplating efficiency due to the low conductivity of the plating solution, thereby reducing the adhesion of the plating layer. It lacks ductility. Furthermore, the internal stress problem becomes more serious with increasing plating layer thickness. The nickel electroplating layer having such a defect easily peels, tears or cracks, and the protective function of a part or all of the electroplating layer becomes invalid. A similar damage effect is exhibited when the nickel layer is used as a base layer for noble metal electroplating, and the two electroplating layers are both damaged.

米国特許US4,908,280明細書には、耐傷付き性と耐食性を有する二層ニッケルの製造方法が開示され、第一層がニッケルめっき層であり、第二層がニッケル-リンめっき層である。二層のニッケルがあるため、増加した厚さでめっき層の耐傷付き性を向上させることができる。   U.S. Pat. No. 4,908,280 discloses a method for producing double-layer nickel having scratch resistance and corrosion resistance, wherein the first layer is a nickel plating layer and the second layer is a nickel-phosphorous plating layer . Since there are two layers of nickel, the scratch resistance of the plating layer can be improved with an increased thickness.

ところで、従来のニッケル電気めっき技術は、単層ニッケルであっても二層ニッケルであっても、限られた耐食性しか提供できなく、耐食性に対する綜合的な要件、特にコーラ電解試験(アップル社の標準)のような新しい業界標準を確実に満たせない場合がよくある。耐コーラ電解試験は、加速試験の方法であって、電気めっき後の部材が少ない塩化ナトリウムのような塩を添加したコーラ溶液で電解した後の耐食性効果を測定する。該試験が非常に厳しいため、下地層がなければ金または金-コバルト電気めっき層が腐食される。   By the way, the conventional nickel electroplating technology can provide only limited corrosion resistance, whether it is single-layer nickel or double-layer nickel, and comprehensive requirements for corrosion resistance, especially cola electrolytic test (Apple standard) ) Often fail to meet new industry standards such as The anti-cola electrolysis test is a method of an accelerated test, and measures the corrosion resistance effect after electrolysis with a cola solution to which a salt such as sodium chloride is added with few members after electroplating. The test is so severe that the gold or gold-cobalt electroplated layer is corroded without the underlying layer.

謝原寿ら(MATERIAL PROTECTION, Vol.31, No.6, June,1998)のNd-Fe-B粉末合金の多層電気めっき保護技術に関する研究結果により、化学ニッケルーリンめっき(Ni-P)または銅ニッケル(Cu-Ni)合金めっき層が下地層としてNd-Fe-B基体に優れた気密性を有している。その後めっきを施した高硫ニッケル層の電位が最上層とする半光沢ニッケルと下地層とする銅-ニッケル(Cu-Ni)またはNiP化学めっき層より低いため、腐食が高硫ニッケル層中の横方向に進行するように抑制され、Cu-Ni/Ni-P/高硫-Ni/半光沢ニッケル系と、Ni-P/高硫-Ni/半光沢ニッケル系とは保護性に優れている。日本特許文献JP7-331486AとJP8-3763Aには、それぞれ耐食性を改善した磁性合金の製造方法が開示されている。前者は、具体的に合金の表面に三層のめっき層が積層され、コーキングニッケルめっき膜を合金表面の基膜とし、銅めっき層を中間層とし、Ni-P合金めっき層を表層とし、めっき膜は、好ましくは、電気めっきで密着性の良好なめっき膜が形成され、ピンホールを有効に防止し、耐食性を向上させる。後者は、特定組成の磁性基体金属合金に、アルカリ性無電解めっき浴を用いて銅またはニッケルめっき層を形成し、次いで電気銅めっき層またはニッケル電気めっき層を中間層とし、更に該表面に電気めっきで形成されるリン-ニッケル合金を表層とする。それによって、磁性合金の耐食性が著しく改善される。中国特許文献CN101978096Aは、基板に、好ましくは銅系基板上のNi-P層を含む耐食性の導電層システムおよびその製造方法に関するものである。かかる導電層システムは、表面が電解研磨された基板の(i)Ni層と、(ii)Ni-P層と、(iii)Au層とを備える。   According to the results of research on multilayer electroplating protection technology of Nd-Fe-B powder alloy by Hisamoto Xehara et al. (MATERIAL PROTECTION, Vol.31, No.6, June, 1998), chemical nickel-phosphorus plating (Ni-P) or copper nickel ( Cu-Ni) alloy plating layer has excellent airtightness to the Nd-Fe-B substrate as the underlayer. Since the potential of the plated high-sulfur nickel layer is lower than that of the semi-bright nickel as the uppermost layer and the copper-nickel (Cu-Ni) or NiP chemical-plated layer as the underlayer, the corrosion is lateral in the high-sulfur nickel layer. The Cu-Ni / Ni-P / high sulfur-Ni / semi-bright nickel system and the Ni-P / high sulfur-Ni / semi-bright nickel system are excellent in protection. Japanese Patent Documents JP7-331486A and JP8-3763A each disclose a method for producing a magnetic alloy with improved corrosion resistance. In the former, three plating layers are specifically laminated on the surface of the alloy, a caulking nickel plating film is used as a base film on the alloy surface, a copper plating layer is used as an intermediate layer, and a Ni-P alloy plating layer is used as a surface layer. The film is preferably formed by electroplating to form a plating film with good adhesion, effectively preventing pinholes and improving corrosion resistance. In the latter, a copper or nickel plating layer is formed on a magnetic base metal alloy having a specific composition using an alkaline electroless plating bath, and then an electrolytic copper plating layer or a nickel electroplating layer is used as an intermediate layer. The surface layer is a phosphorus-nickel alloy formed by Thereby, the corrosion resistance of the magnetic alloy is significantly improved. Chinese Patent Document CN101978096A relates to a corrosion-resistant conductive layer system including a Ni-P layer on a substrate, preferably a copper-based substrate, and a method of manufacturing the same. Such a conductive layer system comprises (i) a Ni layer, (ii) a Ni-P layer, and (iii) an Au layer of a substrate whose surface is electropolished.

これらの既存技術には様々な多層電気めっき技術が開示されているが、いずれも化学的観点だけから被めっき基板の良好な耐食性と耐摩耗性を実現させた。それ以外、内部応力、ウィスカ成長率、剥離、亀裂、ウロコのリスクを減少させ、溶接性を向上させることについて、いずれも関わっていない。   These existing technologies disclose various multilayer electroplating technologies, all of which realize good corrosion resistance and wear resistance of the substrate to be plated from the chemical viewpoint alone. Other than that, there is nothing related to reducing internal stress, whisker growth rate, delamination, cracks, scale risk and improving weldability.

各種のニッケルめっき層中に、リン-ニッケルが最も内部応力を有している。方法全体において、最初にリン-ニッケル層を電気めっきすると、高内部応力によって多層ニッケルめっきには、めっき下地層から亀裂または剥離が生じる。改良した耐食性、耐久性、導電性、溶接性を実現するため、優先的に解決すべき課題は、ニッケル電気めっき層中に存在する高内部応力の低減および低い電気めっき効率である。   Among various nickel plating layers, phosphorus-nickel has the most internal stress. In the overall method, when the phosphor-nickel layer is first electroplated, the multilayer nickel plating is cracked or peeled off from the plating underlayer due to high internal stress. In order to achieve improved corrosion resistance, durability, conductivity and weldability, the issues to be preferentially solved are the reduction of high internal stresses present in the nickel electroplating layer and low electroplating efficiency.

米国特許US4,767,509明細書US Patent 4,767,509 Specification 米国特許US6,099,624明細書US Patent US 6,099,624 米国特許US4,908,280明細書US Patent 4,908,280 Specification 日本特許文献 特開平7-331486Japanese Patent Document JP 7-331486 A 日本特許文献 特開平8-3763Japanese Patent Document JP-A 8-3763 中国特許文献CN101978096AChinese patent document CN101978096A

化学的観点だけから問題を解決しようとする既存のニッケルめっき技術と違って、本発明は、化学的と物理的観点から分析した上で問題を解決しようとする。まず、本発明は、異なるニッケル電気めっき層の内部応力方向が逆向きであるという特徴から、特定の電気めっき順序を決め、内部応力の大部分を解消させる。次いて、本発明では、金属粒子構造が密に配置される二層ニッケルめっき層の間に、柱状構造を有するニッケル電気めっき層(図1に示す)を電気めっきし、該比較的に疎な柱状構造が、被めっき表面とほぼ垂直になり、構造がコンパクトなニッケル電気めっき層間に発生する応力を緩衝する。 Unlike existing nickel plating technology that attempts to solve the problem only from a chemical point of view, the present invention attempts to solve the problem after analyzing it from a chemical and physical point of view. First, the present invention determines the specific electroplating order and eliminates most of the internal stress from the feature that the internal stress directions of different nickel electroplating layers are opposite. Next, in the present invention, a nickel electroplating layer (shown in FIG. 1) having a columnar structure is electroplated between two-layer nickel plating layers in which metal particle structures are densely arranged, and the relatively sparse The columnar structure is substantially perpendicular to the surface to be plated and buffers the stress generated between the nickel electroplating layers with a compact structure.

具体的には、本発明は、複合多層ニッケル電気めっき層およびその電気めっき方法に関し、前記電気めっき方法で製造される複合多層ニッケル電気めっき層は、第一層のニッケルめっき層と、第二層のニッケルめっき層と、表層のニッケルめっき層とを含み、該三層のニッケルめっき層は、被めっき基材上において、各層のニッケルの内部応力方向が隣接するめっき層の応力方向と逆向きであるような電気めっき順序で配置される。前記第一層のニッケルめっき層がコーキングニッケルであり、前記第二層のニッケルめっき層が半光沢ニッケルであり、前記表層がリン-ニッケルめっき層である。また、本発明の複合多層ニッケル電気めっき層において、ニッケル電気めっき層間の応力を緩衝するため、第二層のニッケル電気めっき層が柱状の構造を有している。隣接するめっき層間の内部応力方向が逆向きであることと、第二層のニッケル電気めっき層が柱状構造を有することとの相乗効果により、ニッケル電気めっき層における内部応力の大部分を削減させることが可能である。本発明は、好ましくは、コーキングニッケル、半光沢ニッケルおよびリン-ニッケルの三層ニッケルを採用する。前記複合多層ニッケルまたは三層ニッケルを順次に金属基材上に電気めっきすることで、めっき層の耐食性と耐摩耗性を向上させ、上記の課題を解決することが可能である。本発明における「耐食性」とは、コーラ電解と塩水噴霧の腐食に対する抵抗力を表す機能であり、表層が貴金属である場合には、例えば、金または金合金の電気めっき層、硝酸蒸気に対する抵抗力を表す機能でもある。本発明の方法では、リン-ニッケルめっき層が必ず最上層であるが、コーキングニッケルと半光沢ニッケルの電気めっき順序も非常に重要である。本発明の複合多層ニッケル電気めっき層は、めっき最外層にしてもよく、貴金属電気めっきの下地層にしてもよい。   Specifically, the present invention relates to a composite multilayer nickel electroplating layer and an electroplating method thereof. The composite multilayer nickel electroplating layer manufactured by the electroplating method includes a first nickel plating layer and a second layer. The nickel plating layer of the surface layer and the nickel plating layer of the surface layer, the three nickel plating layers, on the substrate to be plated, the internal stress direction of nickel of each layer is opposite to the stress direction of the adjacent plating layer Arranged in some electroplating order. The first nickel plating layer is caulking nickel, the second nickel plating layer is semi-bright nickel, and the surface layer is a phosphorus-nickel plating layer. Further, in the composite multilayer nickel electroplating layer of the present invention, the second nickel electroplating layer has a columnar structure in order to buffer the stress between the nickel electroplating layers. Reduction of most of the internal stress in the nickel electroplating layer by the synergistic effect that the internal stress direction between adjacent plating layers is reversed and the nickel electroplating layer of the second layer has a columnar structure Is possible. The present invention preferably employs a three-layer nickel of caulking nickel, semi-bright nickel and phosphorus-nickel. By electroplating the composite multilayer nickel or the three-layer nickel sequentially onto the metal substrate, it is possible to improve the corrosion resistance and wear resistance of the plating layer and solve the above-mentioned problems. “Corrosion resistance” in the present invention is a function representing resistance against corrosion of cola electrolysis and salt spray. When the surface layer is a noble metal, for example, an electroplating layer of gold or a gold alloy, resistance to nitric acid vapor It is also a function that represents. In the method of the present invention, the phosphor-nickel plating layer is always the uppermost layer, but the electroplating sequence of caulking nickel and semi-bright nickel is also very important. The composite multilayer nickel electroplating layer of the present invention may be an outermost plating layer or a base layer for noble metal electroplating.

本発明は、異なるニッケル電気めっき層の特定の物理的形状(図1を参照)、物理的性質と化学構造を用いて、対応する多層ニッケル電気めっき方法を設計し、特有の複合多層ニッケル電気めっき層が得られる。本発明において、電気めっきの順序が非常に重要であり、前記第一層のニッケルが最初に析出し、次いて前記第二層のニッケルが析出し、前記第一層と前記第二層のニッケルは、一回から数回までの析出を繰り返すことが可能である。コーキングニッケルは、第一層として、各種の基材表面の気孔等の欠陥を補填することにより、金属粒子が密に配置され、平滑な表面を有する電気めっき層が形成される。半光沢ニッケルめっきは、第一層の上に第二層として、コーキングニッケルとコーキングニッケルとの間またはコーキングニッケルとリン-ニッケルとの間に緩衝層として、上下二層のニッケルによる内部応力を削減させるという効果を発揮する。本発明では、リン-ニッケルを用いる表層ニッケルは、最後に析出し、ハードコート層に表われ、耐摩耗性に優れ、下地層のニッケルを保護する効果を発揮する。多層ニッケル、特に、三層ニッケル電気めっき層において、各層の内部応力の配向が異なるため、第一層のコーキングニッケルと表層のリン-ニッケル(三層ニッケルであれば、第三層となる)の内部応力が、いずれも引張応力(tensile stress)であるが、第二層の半光沢ニッケルの内部応力が、圧縮応力(compressive stress)であり、このような電気めっき順序で複合多層ニッケル電気めっき層における各層ニッケルの内部応力方向が、隣接するニッケル層の内部応力と逆向きであり、ニッケル電気めっき層中の内部応力の大部分を削減させる。本発明の複合多層ニッケル電気めっき層の第二層のニッケルめっき層は、被めっき金属基材表面とほぼ垂直になる柱状構造の半光沢ニッケルであるため、構造コンパクトで隣接するニッケル電気めっき層の間に生じた応力を緩衝できる。そのため、本発明のニッケル電気めっき方法で製造され物理的形状を有する複合多層または三層のニッケル電気めっき層は、リン-ニッケル層、つまり、表層ニッケルに生じる高い内部応力を削減する。従って、本発明の方法で製造されるめっき層の内部応力は、一般の方法に比べ、最大77%減少することができ、めっき層の密着力、耐剥離性と耐摩耗性を大幅に向上させることができる。   The present invention uses a specific physical shape (see FIG. 1), physical properties and chemical structure of different nickel electroplating layers to design a corresponding multi-layer nickel electroplating method to produce a unique composite multi-layer nickel electroplating. A layer is obtained. In the present invention, the order of electroplating is very important, the nickel of the first layer is deposited first, then the nickel of the second layer is deposited, the nickel of the first layer and the second layer Can repeat the deposition from one to several times. Caulking nickel is used as a first layer to fill defects such as pores on the surface of various base materials, thereby forming metal plating densely and forming an electroplating layer having a smooth surface. Semi-bright nickel plating reduces the internal stress due to the upper and lower layers of nickel as a second layer on top of the first layer and as a buffer layer between caulking nickel and caulking nickel or between caulking nickel and phosphorus-nickel It demonstrates the effect of letting In the present invention, surface nickel using phosphorus-nickel precipitates last and appears on the hard coat layer, has excellent wear resistance, and exhibits the effect of protecting the nickel in the underlayer. In multilayer nickel, especially in the three-layer nickel electroplating layer, the orientation of internal stress in each layer is different, so the first layer of caulking nickel and the surface layer of phosphorus-nickel (if it is a three-layer nickel, the third layer) The internal stress is tensile stress, but the internal stress of semi-bright nickel in the second layer is compressive stress. In such an electroplating sequence, the composite multilayer nickel electroplating layer The internal stress direction of each layer nickel is opposite to the internal stress of the adjacent nickel layer, and most of the internal stress in the nickel electroplating layer is reduced. The second nickel plating layer of the composite multilayer nickel electroplating layer according to the present invention is semi-bright nickel having a columnar structure that is substantially perpendicular to the surface of the metal substrate to be plated. The stress generated between them can be buffered. Therefore, the composite multilayer or three-layer nickel electroplating layer manufactured by the nickel electroplating method of the present invention and having a physical shape reduces high internal stress generated in the phosphor-nickel layer, that is, surface nickel. Therefore, the internal stress of the plating layer manufactured by the method of the present invention can be reduced by up to 77% compared to the general method, and the adhesion strength, peel resistance and wear resistance of the plating layer are greatly improved. be able to.

本発明は、さらに、基材の耐食性を高めるため、金属基材上に析出され、コーキングニッケルと、半光沢ニッケルと、リン-ニッケルとを含む複合多層または三層ニッケルの電気めっき方法を提供する。本発明における「耐食性」とは、コーラ電解、硝酸蒸気と塩水噴霧腐食に対する抵抗力を表す機能である。本発明の方法によって、ニッケルめっき層の内部応力を低減し、ウィスカの発生と剥離面積を減少させることが可能になる。   The present invention further provides a method for electroplating a composite multilayer or three-layer nickel that is deposited on a metal substrate and includes coking nickel, semi-bright nickel, and phosphorus-nickel to enhance the corrosion resistance of the substrate. . “Corrosion resistance” in the present invention is a function representing resistance to cola electrolysis, nitric acid vapor and salt spray corrosion. According to the method of the present invention, the internal stress of the nickel plating layer can be reduced, and the generation of whiskers and the peeled area can be reduced.

本発明の複合多層ニッケルの電気めっき方法は、金属基材に適用され、コーティング層表面の酸化を抑制し、溶接性を高めた。前記方法で製造される多層ニッケル電気めっき層は、耐食性と耐摩耗性に優れ、電気めっき最外層に適用し、貴金属電気めっきの下地層としてもよい。本発明は革新的なニッケル電気めっき工程を提供し、冗長な従来の工程に対し、時間短縮させて新たな工程に改良した。   The composite multilayer nickel electroplating method of the present invention was applied to a metal substrate to suppress oxidation of the coating layer surface and improve weldability. The multilayer nickel electroplating layer produced by the above method is excellent in corrosion resistance and wear resistance, and may be applied to the outermost layer of electroplating to serve as a base layer for noble metal electroplating. The present invention provides an innovative nickel electroplating process that reduces time and improves upon a new process compared to the redundant conventional process.

本発明の方法で保護される金属基材は、鉄系材料と有色金属を含み、例えば、銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、すず、すず合金、ステレス鋼、ステレス鉄、マグネシウム、マグネシウム合金、アルミニウム、アルミニウム合金、亜鉛、亜鉛合金などを含む。   The metal substrate protected by the method of the present invention includes an iron-based material and a colored metal, such as copper, copper alloy, nickel, nickel alloy, tin, tin alloy, stainless steel, stainless steel, magnesium, magnesium alloy, Including aluminum, aluminum alloy, zinc, zinc alloy.

まとめると、本発明は、複合多層ニッケル電気めっき層およびその電気めっき方法に関し、前記複合多層電気めっき層が、第一層のニッケルと、第二層のニッケルと、表層のニッケルとを含み、第二層のニッケルの内部応力方向が、隣接する上下二層のニッケル電気めっき層の応力方向と逆向きである。前記第一層と第二層のニッケルに対して、一回から数回までの析出を繰り返す。また、本発明の複合多層ニッケル電気めっき層において、前記第二層のニッケルは、被めっき金属基材表面とほぼ垂直になる柱状構造の半光沢ニッケルである。本発明の複合多層ニッケル電気めっき層において、前記コーキングニッケルが第一層として細孔または基材表面の欠陥を補填することによって、形成された電気めっき層は、密に配置される粒子の状態で存在する。第二層の半光沢ニッケルめっき層は、下地層(コーキングニッケル)と、隣接するめっき層または最上層(リン-ニッケル)のニッケル電気めっき層との間の内部応力を緩衝するような効果を発揮する。前記半光沢ニッケルめっき層は、被めっき金属基材表面とほぼ垂直になる柱状構造を有し、このような柱状構造が比較的に疎であり、かつその応力方向が隣接するコーキングニッケルおよび最外層のリン-ニッケルの応力方向と逆向きであるため、めっき層内の応力の大部分が相互に相殺する。最上層のリン-ニッケルは、ハードコート層に表われ、優れた耐摩耗性を有し、下地層のニッケルを保護するような効果を発揮する。そのため、本発明の多層ニッケル電気めっき方法の析出順序は、前記第一層のニッケルが最初に析出し、次いて前記第二層のニッケルが析出し、前記第一層と第二層のニッケルに対して一回から数回までの析出を繰り返すことが可能であり、表層のニッケルが最後に析出するようになる。多層、特に、三層ニッケルめっきは、このような順序で析出を行い、ニッケル電気めっき層全体の内部応力を最大限に減少させる。   In summary, the present invention relates to a composite multilayer nickel electroplating layer and an electroplating method thereof, wherein the composite multilayer electroplating layer includes a first layer nickel, a second layer nickel, and a surface layer nickel. The internal stress direction of the two layers of nickel is opposite to the stress direction of the two adjacent upper and lower nickel electroplating layers. Precipitation is repeated once to several times for the nickel of the first layer and the second layer. In the composite multilayer nickel electroplating layer of the present invention, the nickel of the second layer is semi-bright nickel having a columnar structure that is substantially perpendicular to the surface of the metal substrate to be plated. In the composite multilayer nickel electroplating layer of the present invention, the caulking nickel fills pores or defects on the surface of the substrate as the first layer, so that the formed electroplating layer is in a state of closely arranged particles. Exists. The second layer of semi-bright nickel plating layer has the effect of buffering the internal stress between the underlying layer (caulking nickel) and the adjacent or upper layer (phosphorus-nickel) nickel electroplating layer. To do. The semi-bright nickel plating layer has a columnar structure that is substantially perpendicular to the surface of the metal substrate to be plated, such a columnar structure is relatively sparse, and the stress direction is adjacent to the caulking nickel and the outermost layer. Most of the stresses in the plating layer cancel each other because the direction of stress is opposite to that of phosphorus-nickel. The uppermost layer of phosphorus-nickel appears in the hard coat layer, has excellent wear resistance, and exhibits the effect of protecting the underlying layer of nickel. Therefore, the deposition order of the multilayer nickel electroplating method of the present invention is such that the first layer of nickel is deposited first, then the second layer of nickel is deposited, and the first and second layers of nickel are deposited. On the other hand, it is possible to repeat the deposition from one to several times, and the nickel of the surface layer is finally deposited. Multi-layer, especially three-layer nickel plating, deposits in this order, maximizing the internal stress of the entire nickel electroplating layer.

以下、本発明の電気めっき方法について順次に詳しく説明する。
ステップ1:表面洗浄処理
電気めっきを操作する前に、陰極にある部材表面に、鉱物油、防錆油、切削水(冷却液)、潤滑グリース、塗料、指紋、不純物の固体粒子、酸化物、角層、煤および錆びなど各種の油脂と不純物を除去する。
ステップ2:表面活性化(オプション)
洗浄後のサンプルを5-15%希硫酸のような酸性溶液中に入れ、基材に活性化させる。一方、酸も洗浄ステップで基材表面に残留した少量のアルカリに中和する。
ステップ3:ニッケル予備めっき(オプション)
洗浄または洗浄と活性化を経過した基材に、予備めっきを実施する。具体的な方法は工業上一般的に使用される予備めっき工程に参照してもよく、本発明に提供される方法で行ってもよい。本発明の方法とは、NiCl2 (250 g/L)とHCl (125 g/L)の電気めっき液で、めっき浴を室温に維持し、陽極電流密度5ASDの電気めっき条件下で基材に対し30秒間の電気めっきを施すという方法である。
ステップ4:多層ニッケルの電気めっき方法
(1)電極:チタンメッシュに配置される高純度なニッケルブロックをニッケル電気めっきの陽極とする。同様にニッケル帯とニッケル棒も電極として適用される。
(2)多層ニッケルの電気めっき方法のパラメータは下記の通りである。
Hereinafter, the electroplating method of the present invention will be sequentially described in detail.
Step 1: Surface cleaning treatment
Before operation of electroplating, the surface of the material on the cathode is coated with mineral oil, rust preventive oil, cutting water (coolant), lubricating grease, paint, fingerprints, solid particles of impurities, oxide, stratum corneum, wrinkles and rust. Remove various oils and impurities.
Step 2: Surface activation (optional)
The washed sample is placed in an acidic solution such as 5-15% dilute sulfuric acid to activate the substrate. On the other hand, the acid is also neutralized with a small amount of alkali remaining on the substrate surface in the washing step.
Step 3: Pre-nickel plating (optional)
Pre-plating is performed on the substrate that has passed the cleaning or cleaning and activation. A specific method may be referred to a pre-plating step generally used in industry, or may be performed by the method provided in the present invention. The method of the present invention is an electroplating solution of NiCl2 (250 g / L) and HCl (125 g / L). The plating bath is maintained at room temperature and applied to the substrate under electroplating conditions with an anode current density of 5 ASD. This is a method of performing electroplating for 30 seconds.
Step 4: Multi-layer nickel electroplating method
(1) Electrode: A high-purity nickel block disposed on a titanium mesh is used as an anode for nickel electroplating. Similarly, nickel strips and nickel rods are also applied as electrodes.
(2) Parameters of the electroplating method for multilayer nickel are as follows.







多層ニッケルの電気めっき方法:
多層ニッケル電気めっきの順序は、(i)コーキングニッケル、(ii)半光沢ニッケル、(iii)リン-ニッケルである。
Multi-layer nickel electroplating method:
The sequence of multilayer nickel electroplating is (i) caulking nickel, (ii) semi-bright nickel, and (iii) phosphor-nickel.

(i)コーキングニッケル
表1に示される割合で、全ての成分を混合して1000Lのめっき液を調製する。めっき浴の温度を45-70℃に、前記溶液のPHを2.5-5.0に維持する。陽極電流密度2.5-25ASDの条件下で10-100秒間の電気めっきを施す。コーキングニッケルめっき層の厚さが20-80μインチである。
(i) Caulking nickel
All components are mixed at a ratio shown in Table 1 to prepare a 1000 L plating solution. The plating bath temperature is maintained at 45-70 ° C. and the pH of the solution is maintained at 2.5-5.0. Electroplating is performed for 10-100 seconds under the condition of anode current density of 2.5-25ASD. The thickness of the caulking nickel plating layer is 20-80 μinch.

(ii)半光沢ニッケル
表2に示される割合で、全ての成分を混合して1000Lのめっき液を調製する。めっき浴の温度を45-70℃に、前記めっき液のPHを2.5-5.0に維持する。陽極電流密度2.5-25ASDの条件下で50-200秒間の電気めっきを施す。半光沢ニッケルめっき層の厚さが約20-100μインチである。
(ii) Semi-bright nickel
All components are mixed at a ratio shown in Table 2 to prepare a 1000 L plating solution. The temperature of the plating bath is maintained at 45-70 ° C., and the pH of the plating solution is maintained at 2.5-5.0. Electroplating is performed for 50-200 seconds under the condition of anode current density of 2.5-25ASD. The thickness of the semi-bright nickel plating layer is about 20-100 μinch.

(iii)リン-ニッケル
表3に示される割合で、全ての成分を混合して1000Lのめっき液を調製する。めっき浴の温度を45-70℃に、前記溶液のPHを1.0-2.5に維持させる。陽極電流密度2.5-25ASDの条件下で5-100秒間の電気めっきを施す。リン-ニッケルめっき層の厚さが約5-40μインチである。
(iii) Phosphorus-Nickel
All components are mixed at a ratio shown in Table 3 to prepare a 1000 L plating solution. The temperature of the plating bath is maintained at 45-70 ° C. and the pH of the solution is maintained at 1.0-2.5. Electroplating is performed for 5-100 seconds under the condition of anode current density of 2.5-25ASD. The thickness of the phosphor-nickel plating layer is about 5-40 μ inches.

(1) 基材の選択
前記多層ニッケル電気めっきは、鉄または非鉄金属基材に適用され、それは銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、すず、すず合金、ステレス鋼、ステレス鉄、マグネシウム、マグネシウム合金、アルミニウム、アルミニウム合金、亜鉛、亜鉛合金等を含むが特に限定されない。
(1) Selection of substrate
The multilayer nickel electroplating is applied to ferrous or non-ferrous metal substrates, which are copper, copper alloy, nickel, nickel alloy, tin, tin alloy, stainless steel, stainless steel, magnesium, magnesium alloy, aluminum, aluminum alloy, zinc Including, but not limited to, a zinc alloy.

本発明の多層ニッケル電気めっき層およびその電気めっき方法は以下のように改良した性能を有する。
本発明の特定の複合多層は、好ましくは、三層のニッケル電気めっき層が、表面コーティング層および金または金合金のような貴金属めっき層の下地層として採用されることが可能である。各種のニッケルめっき層またはニッケルおよび貴金属の表面めっき層の耐食性、耐久性とその他の性能を比較するため、下記の基準で比較試験を行った。
(1)貴金属表層を有する場合と有していない場合のニッケルめっきサンプル、例えば、パラジウム-ニッケル、金-コバルトを表面ペンキとして有する場合と有していない場合のニッケルめっき層。
(2)二層または三層の異なるニッケルめっき層を有するニッケルめっきサンプル。
(3)全てに対し三層のニッケルをめっきしたものの、電解析出順序が異なるサンプル。
貴金属をめっきする前にニッケルめっき層を下地層とするサンプルに対して、同じ貴金属を採用すると同時に、ニッケルめっき層の順序を変更するまたは三層ではなく二層のニッケルめっき層を採用する。結果としては、本発明の複合多層または三層ニッケルの電気めっき方法は、改良した耐食性と耐久性を実現できた。本発明の複合多層または三層のニッケル電気めっきを下地層とし、そして貴金属を表層に電気めっきすることにより、さらにサンプルの耐食性と溶接性を高めた。具体的には、改良した性能が下記の観点で現れる。
The multilayer nickel electroplating layer and the electroplating method of the present invention have the following improved performance.
In certain composite multilayers of the present invention, preferably a three-layer nickel electroplating layer can be employed as an underlayer for a surface coating layer and a noble metal plating layer such as gold or gold alloy. In order to compare the corrosion resistance, durability, and other performances of various nickel plating layers or nickel and noble metal surface plating layers, comparative tests were conducted according to the following criteria.
(1) Nickel plating samples with and without a noble metal surface layer, for example, nickel plating layers with and without palladium-nickel and gold-cobalt as surface paint.
(2) A nickel-plated sample having two or three different nickel plating layers.
(3) A sample in which three layers of nickel are plated on all but the electrolytic deposition order is different.
Prior to plating the noble metal, the same noble metal is adopted for the sample having the nickel plating layer as the base layer, and at the same time, the order of the nickel plating layers is changed or two nickel plating layers instead of three layers are adopted. As a result, the composite multilayer or triple layer nickel electroplating method of the present invention was able to achieve improved corrosion resistance and durability. The composite multilayer or three-layer nickel electroplating of the present invention was used as an underlayer, and the surface layer was electroplated with a noble metal, thereby further improving the corrosion resistance and weldability of the sample. Specifically, improved performance appears from the following viewpoints.

(1)改良した耐コーラ電解試験
コーラ電解試験工程において、実施例1の三層ニッケルめっき層をめっきしたサンプルが、腐食浸食に優れた抵抗性を有することが見られる。つまり、コーキングニッケル、半光沢ニッケルとリン-ニッケルの順序を有する三層ニッケルは、最良の結果が得られた。変更した順序(半光沢ニッケル/コーキングニッケル/リン-ニッケル)を有する二層ニッケルサンプルまたは三層ニッケルサンプルも耐コーラ電解試験にある程度の抵抗性を有するが、本発明に提供される三層ニッケルより、良い効果が現れない。
(1) Improved cola electrolysis test
In the cola electrolytic test process, it can be seen that the sample plated with the three-layer nickel plating layer of Example 1 has excellent resistance to corrosion erosion. That is, the best results were obtained with three-layer nickel having the order of caulking nickel, semi-bright nickel and phosphorus-nickel. Two-layer nickel samples or three-layer nickel samples with a modified order (semi-bright nickel / caulking nickel / phosphorus-nickel) also have some resistance to cola electrolysis tests, but more than the three-layer nickel provided in the present invention No good effect appears.

試験結果によれば、ニッケルおよび貴金属めっき層を有するサンプルに対して、電解析出の順序に関係なく、二層ニッケルめっき層を有するサンプルより、三層ニッケルめっき層を有するサンプルが耐食性に優れている。    According to the test results, the sample having the three-layer nickel plating layer is superior in corrosion resistance to the sample having the nickel and noble metal plating layer than the sample having the two-layer nickel plating layer, regardless of the order of electrolytic deposition. Yes.

(2)改良した硝酸蒸気侵食に対する抵抗性
ニッケルめっき層を施した後にAu-CoまたはPd-Niおよび Au-Coをめっきしたサンプルの試験結果を比較する。結果としては、二層ニッケルをめっきした後にAu-Coをめっきすることより、三層ニッケルをめっきした後に最外層としてAu-Coをめっきすることが良い結果を持つ。
(2) Improved resistance to nitric acid vapor erosion
The test results of the samples plated with Au-Co or Pd-Ni and Au-Co after nickel plating layer are compared. As a result, it is better to plate Au—Co as the outermost layer after plating three layers of nickel than plating Au—Co after plating two layers of nickel.

(3)改良した塩水噴霧腐食に対する抵抗性
ニッケルだけをめっきしたサンプルの試験結果を比較する。二層ニッケルまたは変更した順序の三層ニッケルより、コーキングニッケル/半光沢ニッケル/リン-ニッケルのような順序の三層ニッケルが優れた性能を持つ。
(3) Improved resistance to salt spray corrosion
Compare the test results of samples plated with nickel only. Compared to double-layer nickel or modified-order triple-layer nickel, ordered triple-layer nickel such as caulking nickel / semi-bright nickel / phosphorus-nickel has better performance.

(4)大幅に減少した内部応力
本発明は、大幅にリン-ニッケルめっき層の内部応力を減少させるという長所を有している。測定により、本発明の方法で製造されためっき層の内部応力は、一般の方法より、最大77%で減少し、内部応力の減少によって剥離と亀裂を防止し、大幅にめっき層の密着力と耐摩耗性を向上させた。また、内部応力の減少によってめっき層におけるウィスカの発生を抑制することができ、該ウィスカの長さが数μmから数mmまでであり、短絡の原因にもなる。
(4) greatly reduced internal stress
The present invention has the advantage of significantly reducing the internal stress of the phosphor-nickel plating layer. From the measurement, the internal stress of the plating layer manufactured by the method of the present invention is reduced by up to 77% from the general method, and the reduction of the internal stress prevents peeling and cracking, and greatly improves the adhesion strength of the plating layer. Improved wear resistance. Moreover, the generation of whiskers in the plating layer can be suppressed by reducing the internal stress, and the length of the whiskers is from several μm to several mm, which causes a short circuit.

(5)改良した溶接性
ニッケルだけをめっきしたサンプル、またはニッケルめっき層を下地層として貴金属を表層とするサンプルの試験結果を比較する。ニッケルだけをめっきしたサンプルに対して、電気めっきの順序に関係なく、三層ニッケルをめっきしたサンプルは、二層ニッケルをめっきしたサンプルより溶接性に優れている。ニッケル-貴金属めっき層のサンプルに対して、重大な差異が現れない。
(5) Improved weldability
The test results of a sample plated only with nickel, or a sample with a nickel plated layer as a base layer and a noble metal as a surface layer are compared. A sample plated with three-layer nickel is superior to a sample plated with two-layer nickel with respect to a sample plated with nickel alone, regardless of the order of electroplating. No significant difference appears for the nickel-noble metal plating layer sample.

本発明の多層ニッケルの電気めっき方法は顕著な効果を持ち、得られるニッケルめっき層は、単独にめっき最表層とする以外に、貴金属電気めっき前の下地層として採用され、そのため、貴金属の用量を低減させ、良い経済的な効果を発揮する。より多くの基材に、コーラ電解、硝酸蒸気と塩水噴霧による腐食に対する抵抗性を含み、改良した耐食性を提供する。本発明の方法により、めっき層の内部応力を減少させ、亀裂、剥離またはクラックの発生する可能性を最低限に抑制する。さらに、本発明は、電気めっき工程の全体時間を短縮すると同時に、基材に優れた耐食性と耐久性を提供し、短時間化かつ経済的な方法を提供する。しかも、被めっき表面の酸化程度を抑制させ、改良した導電性と溶接性が得られる。   The electroplating method of the multilayer nickel of the present invention has a remarkable effect, and the obtained nickel plating layer is employed as an underlayer before noble metal electroplating, in addition to being used alone as the outermost plating layer. Reduce and exert a good economic effect. More substrates provide improved corrosion resistance, including resistance to corrosion by cola electrolysis, nitric acid vapor and salt spray. By the method of the present invention, the internal stress of the plating layer is reduced, and the possibility of cracking, peeling or cracking is minimized. Furthermore, the present invention provides an excellent method of reducing the time and cost by providing the substrate with excellent corrosion resistance and durability while reducing the overall time of the electroplating process. Moreover, the degree of oxidation of the surface to be plated is suppressed, and improved conductivity and weldability are obtained.

図1は、本発明の実施例1における三層ニッケルめっき層のサンプルに対する電子顕微鏡(SEM)の写真である。 ここで、1:第一層のコーキングニッケル、2:第二層の半光沢ニッケル、3:表層のリン-ニッケル、4:銅金属基材、5:充填物。FIG. 1 is a photograph of an electron microscope (SEM) for a sample of a three-layer nickel plating layer in Example 1 of the present invention. Here, 1: caulking nickel of the first layer, 2: semi-bright nickel of the second layer, 3: phosphorus-nickel of the surface layer, 4: copper metal substrate, 5: filler.

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態についてさらに詳しく説明する。  Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

(本発明の順序に従った三層ニッケル:コーキングニッケル→半光沢ニッケル→リン-ニッケル)
銅片を陰極に接続するとともに、脱脂浴に浸漬する。電圧を5 - 10Vに設定し、約2分間の脱脂を行う。そして、脱イオン水で洗浄した後、10%の硫酸で浸漬して中和かつ活性化させる。再び脱イオン水で洗浄する。スルファミン酸ニッケル100g/L、塩化ニッケル30g/L、ホウ酸40g/L、コーキング剤NHL56LE(市販、RamChem社製品)10mL/L、光沢剤NHL56BR(市販、RamChem社製品)6 mL/Lの成分を含むめっき液で、サンプルを浸漬してコーキングニッケルに電気めっきを施す。電解浴のpHが約3.8である。電流密度15ASDと温度60℃の条件下で、電気めっきを施す。50秒間の電気めっきを施した後、40〜60μインチのコーキングニッケル層が得られる。
それから、脱イオン水でサンプルを洗浄し、スルファミン酸ニッケル80g/L、塩化ニッケル13g/L、ホウ酸40g/L、湿潤剤WA31(市販、RamChem社製品)10mL/L、光沢剤BR311(市販、RamChem社製品)2mL/Lの成分を含む第二の電気めっき液で、サンプルを浸漬して半光沢ニッケルに電気めっきを施す。8ASDの条件下で90秒間電気めっきした後、40〜60μインチの半光沢ニッケルが得られる。採用した電気めっき浴のPHが3.8であり、温度を58℃に維持させる。
(Trilayer nickel according to the sequence of the present invention: caulking nickel → semi-bright nickel → phosphorus-nickel)
The copper piece is connected to the cathode and immersed in a degreasing bath. Set the voltage to 5-10V and degrease for about 2 minutes. Then, after washing with deionized water, it is immersed and neutralized and activated with 10% sulfuric acid. Wash again with deionized water. Components of nickel sulfamate 100 g / L, nickel chloride 30 g / L, boric acid 40 g / L, caulking agent NHL56LE (commercially available, RamChem) 10 mL / L, brightener NHL56BR (commercially available, RamChem) 6 mL / L The sample is immersed in the plating solution containing it and electroplated on the caulking nickel. The pH of the electrolytic bath is about 3.8. Electroplating is performed at a current density of 15 ASD and a temperature of 60 ° C. After 50 seconds of electroplating, a 40-60 μinch caulking nickel layer is obtained.
Then, the sample was washed with deionized water, nickel sulfamate 80g / L, nickel chloride 13g / L, boric acid 40g / L, wetting agent WA31 (commercially available from RamChem) 10mL / L, brightener BR311 (commercially available, RamChem product) Electroplating semi-bright nickel by immersing the sample in a second electroplating solution containing 2mL / L of components. After electroplating for 90 seconds under 8 ASD conditions, 40-60 μinch semi-bright nickel is obtained. The electroplating bath employed has a pH of 3.8 and maintains the temperature at 58 ° C.

続きのステップは、最表層としてリン-ニッケルを電気めっきすることである。脱イオン水でサンプルを洗浄し、スルファミン酸ニッケル100g/L、塩化ニッケル15g/L、ホウ酸40g/L、酸化剤RamTech Nicka 1225 R2(市販、RamChem社製品)30mL/L、光沢剤RamTech Nicka 1225 BR(市販、RamChem社製品)11mL/L、リン補充剤RamTech Nicka 1225 SA(市販、RamChem社製品)15mL/Lの成分を含む第三の電気めっき液で、サンプルを浸漬し、10ASDの条件下で、16秒間電気めっきをした後、15〜30μインチのリン-ニッケルが得られる。採用した電気めっき浴の温度を60℃に、PHを1.5に維持させる。   The next step is to electroplate phosphorous-nickel as the outermost layer. Wash sample with deionized water, nickel sulfamate 100g / L, nickel chloride 15g / L, boric acid 40g / L, oxidizing agent RamTech Nicka 1225 R2 (commercially available from RamChem) 30mL / L, brightener RamTech Nicka 1225 Immerse the sample in a third electroplating solution containing components of BR (commercially available, RamChem) 11mL / L and phosphorus supplement RamTech Nicka 1225 SA (commercially available, product of RamChem) 15mL / L. Thus, after electroplating for 16 seconds, 15-30 μin phosphorus-nickel is obtained. Maintain the electroplating bath temperature at 60 ° C and PH at 1.5.

本実施例に得られる三層ニッケル電気めっきのサンプルに対して、電子顕微鏡(SEM)で分析し、図1は、その断面図である。1は三層ニッケル電気めっきのサンプルにおける第一層のコーキングニッケルであり、3は前記表層のリン-ニッケルであり、該断面図により、中間の2、つまり第二層の半光沢ニッケルが相対的に疎なであるとともに、被めっき金属基材の表面とほぼ垂直になる柱状構造を有することが見られる。   The three-layer nickel electroplating sample obtained in this example was analyzed with an electron microscope (SEM), and FIG. 1 is a cross-sectional view thereof. 1 is the first layer of caulking nickel in the sample of the three-layer nickel electroplating, 3 is the surface layer of phosphor-nickel, and the cross-sectional view shows that the middle two, that is, the second layer of semi-bright nickel is relative It can be seen that it has a columnar structure which is sparse and substantially perpendicular to the surface of the metal substrate to be plated.

比較実施例1(二層ニッケル:半光沢ニッケル→リン-ニッケル):
実施例1に記載の手順に基づいて、銅片上に厚さ40〜60μインチの半光沢ニッケルを電気めっきし、その後厚さ15〜30μインチのリン-ニッケルを電気めっきする。
Comparative Example 1 (double layer nickel: semi-bright nickel → phosphorus-nickel):
Based on the procedure described in Example 1, 40-60 inch thick semi-bright nickel is electroplated on the copper strip, followed by 15-30 μinch thick phosphor-nickel.

比較実施例2(二層ニッケル:コーキングニッケル→リン-ニッケル):
実施例1に記載の手順に基づいて、銅片上に厚さ40〜60μインチのコーキングニッケルを電気めっきし、その後厚さ15〜30μインチのリン-ニッケルを電気めっきする。
Comparative Example 2 (double layer nickel: caulking nickel → phosphorus-nickel):
Based on the procedure described in Example 1, 40-60 inch thick caulking nickel is electroplated on the copper strip, followed by 15-30 μinch thick phosphor-nickel.

比較実施例3(順序を変更させた三層ニッケル:半光沢ニッケル→コーキングニッケル→リン-ニッケル):
実施例1に記載の手順に基づいて、銅片上に厚さ40〜80μインチの半光沢ニッケルを電気めっきし、その後基材に厚さ40〜60μインチのコーキングニッケルを電気めっきする。それから、厚さ15〜30μインチのリン-ニッケルを電気めっきする。
Comparative Example 3 (Trilayer nickel with changed order: semi-bright nickel → caulking nickel → phosphorus-nickel):
Based on the procedure described in Example 1, 40-80 μinch thick semi-bright nickel is electroplated on the copper strip, and then 40-60 μinch thick caulking nickel is electroplated on the substrate. Then, 15-30 μin thick phosphor-nickel is electroplated.

実施例2(本発明の順序に従った三層ニッケル-貴金属電気めっき:コーキングニッケル→半光沢ニッケル→リン-ニッケル→パラジウム-ニッケル→金コバルト):
実施例1に記載の手順に基づいて、銅片上に三層のニッケルを電気めっきする。その後、Pd-Ni電気めっきを施す。それから、Au-Coを電気めっきし、厚さ4〜6μインチの金コバルト層が得られ、該金-コバルトめっき層は、サンプルの耐食性と溶接性をさらに向上させる。
Example 2 (Three-layer nickel-noble metal electroplating according to the sequence of the present invention: caulking nickel → semi-bright nickel → phosphorus-nickel → palladium-nickel → gold cobalt):
Based on the procedure described in Example 1, three layers of nickel are electroplated on the copper piece. Thereafter, Pd—Ni electroplating is performed. Then, Au—Co is electroplated to obtain a 4 to 6 μ-inch thick gold-cobalt layer, which further improves the corrosion resistance and weldability of the sample.

比較実施例4(二層ニッケル-貴金属電気めっき:半光沢ニッケル→リン-ニッケル→Pd-Ni→Au-Co):
実施例1に記載の手順に基づいて、銅片上に厚さ120〜140μインチの半光沢ニッケルおよび厚さ30μインチのリン-ニッケルを電気し、その後厚さ25〜30μインチのPd-Niを電気めっきする。最後に、厚さ4〜6μインチのAu-Coを電気めっきする。
Comparative Example 4 (double-layer nickel-noble metal electroplating: semi-bright nickel->phosphorus-nickel->Pd-Ni-> Au-Co):
Based on the procedure described in Example 1, 120-140 μinch thick luster nickel and 30 μinch phosphorous-nickel were electrically deposited on a copper strip, followed by 25-30 μinch thick Pd-Ni. Plating. Finally, 4 to 6 μ-inch Au—Co is electroplated.

本発明の複合多層ニッケルの電気めっき方法による効果を検証するため、サンプルに対して耐コーラ電解試験、硝酸蒸気試験、塩水噴霧試験と内部応力試験を行う。以下に詳しく説明する。   In order to verify the effect of the electroplating method of the composite multilayer nickel of the present invention, the sample is subjected to an anti-cola electrolysis test, a nitric acid vapor test, a salt spray test and an internal stress test. This will be described in detail below.

耐コーラ電解試験:
実施例1、2と比較実施例1〜4によりよって製造された全てのサンプルに耐コーラ電解試験を行う。耐コーラ電解試験の一般工程は下記のようになる。耐コーラ試験の浴液は、5%のNaClを混合した100%のコーラを含む。ステンレス鋼を陰極とする。室温で標準の洗浄と脱脂工程を経過したサンプルをコーラの混合溶液に10分間の電解を行い、電圧が5Vに設定される。次いて、サンプルを超音波液中に配置し、脱イオン水で洗浄し、かつ乾燥し、その後10倍の顕微鏡でサンプルに画像処理し、腐食面積と総面積との割合を推定し、評価は下記の基準で判断した。即ち、腐食面積と総面積の割合が、10%より小さい時に、「優」、10 〜 30 %の時に、「合格」、30%より大きい時に、「不合格」とする。
Cola electrolysis test:
All samples prepared according to Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4 are subjected to a cola electrolysis test. The general process of the anti-cola electrolysis test is as follows. The cola test bath solution contains 100% cola mixed with 5% NaCl. Stainless steel is used as the cathode. A sample that has undergone standard washing and degreasing processes at room temperature is electrolyzed in a mixed solution of cola for 10 minutes, and the voltage is set to 5V. Next, the sample is placed in an ultrasonic solution, washed with deionized water, dried, and then imaged on the sample with a 10x microscope to estimate the ratio of corrosion area to total area. Judgment was made based on the following criteria. That is, when the ratio between the corroded area and the total area is less than 10%, “excellent”, when 10-30%, “pass”, and when greater than 30%, “fail”.

結果としては、比較実施例4>実施例2>実施例1>比較実施例3>比較実施例1≒比較実施例2となる。   The result is Comparative Example 4> Example 2> Example 1> Comparative Example 3> Comparative Example 1≈Comparative Example 2.

硝酸蒸気試験:
実施例1、2と比較実施例1〜4によって製造された全てのサンプルに、米国試験材料協会基準ASTM B735-2000により硝酸蒸気実験を行い、異なるニッケルでベースにする貴金属層を比較する。操作後のサンプルを10倍の顕微鏡で観察し、顕微鏡下で直径が0.5mm以上の腐食点の数を記録するとともに、評価は下記の基準で判断した。即ち、腐食点の数が5以下である時に、「合格」、腐食点の数が5より大きい時に、「不合格」とする。
結果としては、実施例2>比較実施例4となる。
説明:実施例1と比較実施例1〜3によって製造されたサンプルは、いずれも硝酸蒸気試験に不合格し、貴金属をめっきした材料のみ硝酸蒸気試験に合格する。硝酸試験により、異なるニッケルでベースにする貴金属層における硝酸に対する抵抗性を比較する。結果としては、実施例1の順序による三層ニッケルを貴金属の下地層とするのは好ましい。
Nitric acid vapor test:
All samples produced according to Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4 are subjected to a nitric acid vapor experiment according to American Test Materials Association standard ASTM B735-2000 to compare different nickel based noble metal layers. The sample after the operation was observed with a 10 × microscope, and the number of corrosion points having a diameter of 0.5 mm or more was recorded under the microscope, and the evaluation was judged according to the following criteria. That is, when the number of corrosion points is 5 or less, “pass”, and when the number of corrosion points is greater than 5, “fail”.
As a result, Example 2> Comparative Example 4 is obtained.
Explanation: All the samples manufactured according to Example 1 and Comparative Examples 1 to 3 fail the nitric acid vapor test, and only the material plated with the noble metal passes the nitric acid vapor test. The nitric acid test compares the resistance to nitric acid in different nickel-based noble metal layers. As a result, it is preferable that the three-layer nickel according to the sequence of Example 1 is used as the precious metal underlayer.

塩水噴霧試験:
実施例1と比較実施例1〜3によって製造されたサンプルに、米国試験材料協会基準ASTM B799により塩水噴霧試験を行う。その結果を下記表に示す。
Salt spray test:
The samples produced according to Example 1 and Comparative Examples 1 to 3 are subjected to a salt spray test according to American Society for Testing and Materials standard ASTM B799. The results are shown in the table below.



表4に示す試験結果に示すように、24時間の塩水噴霧試験を経過した後、二層ニッケルをめっきしたサンプルおよび変更した順序でめっきした三層ニッケルのサンプルより、本発明の実施例1の順序(コーキングニッケル/半光沢ニッケル/リン-ニッケル)に基づいてめっきした三層ニッケルのサンプル表面上には、腐食することなく変色も最小である。   As shown in the test results shown in Table 4, after passing the salt spray test for 24 hours, from the sample plated with double layer nickel and the sample of triple layer nickel plated in a changed order, On the sample surface of the three-layer nickel plated according to the sequence (caulking nickel / semi-bright nickel / phosphorus-nickel), there is minimal discoloration without corrosion.

内部応力試験:
めっき層応力分析装置(SpecialityTesting & DevelopmentCo.社製造)で、多層ニッケル電気めっきを該会社に製造された特定のストリップ状試験片に電気めっきし、その後内部応力を測定する。以下のサンプルに測定を行った。全ての試験サンプルにほぼ同じ厚さのニッケルをめっきした。
(1)コーキングニッケル(15 ASD, 150 sec)
(2)半光沢ニッケル(8 ASD, 180 sec)
(3)リン-ニッケル(15 ASD, 300 sec)
(4)コーキングニッケル(15 ASD, 75 sec)→リン-ニッケル(10 ASD, 60 sec)
(5)コーキングニッケル(15 ASD, 75 sec)→半光沢ニッケル(8 ASD, 60 sec)→リン-ニッケル(10 ASD, 60 sec)
(6)半光沢ニッケル(8 ASD、 90 sec)→コーキングニッケル(15ASD, 15sec)→半光沢ニッケル(8 ASD、 90sec)リン-ニッケル(10 ASD, 30 sec)
(7)コーキングニッケル(15ASD、15sec)→半光沢ニッケル(8 ASD、 90 sec)→コーキングニッケル(15ASD、15sec)→半光沢ニッケル(8 ASD、 60 sec)→リン-ニッケル(10 ASD, 30 sec)
Internal stress test:
With a plating layer stress analyzer (manufactured by Specialty Testing & Development Co.), multilayer nickel electroplating is electroplated onto a specific strip-shaped test piece manufactured by the company, and then the internal stress is measured. The following samples were measured. All test samples were plated with approximately the same thickness of nickel.
(1) Caulking nickel (15 ASD, 150 sec)
(2) Semi-bright nickel (8 ASD, 180 sec)
(3) Phosphorus-Nickel (15 ASD, 300 sec)
(4) Caulking nickel (15 ASD, 75 sec) → Phosphorus-nickel (10 ASD, 60 sec)
(5) Caulking nickel (15 ASD, 75 sec) → Semi-bright nickel (8 ASD, 60 sec) → Phosphorus-nickel (10 ASD, 60 sec)
(6) Semi-bright nickel (8 ASD, 90 sec) → Caulking nickel (15 ASD, 15 sec) → Semi-bright nickel (8 ASD, 90 sec) Phosphorus-Nickel (10 ASD, 30 sec)
(7) Caulking nickel (15 ASD, 15 sec) → Semi-bright nickel (8 ASD, 90 sec) → Caulking nickel (15 ASD, 15 sec) → Semi-bright nickel (8 ASD, 60 sec) → Phosphorus-Nickel (10 ASD, 30 sec) )

めっき浴条件:双陽極とし、陽極とテストサンプルの間の距離を3インチとし、テストサンプルの表面積を0.0774dm2までとした。 Plating bath conditions: a double anode, the distance between the anode and the test sample was 3 inches, and the surface area of the test sample was 0.0774 dm 2 .

計算式
ニッケルめっき層厚さ(インチ):T =[(めっき後重量-元の重量)/特定金属密度]×0.0509
内部応力(パウンド/平方インチ)=[陽極から陰極までの距離/(3×厚さ)]×テスト定数
ここで、テスト常数は、特定ストリップ状試験片の校正常数であり、メーカーに提供されるものである。
a formula
Nickel plating layer thickness (inch): T = [(weight after plating-original weight) / specific metal density] x 0.0509
Internal stress (pound / square inch) = [distance from anode to cathode / (3 × thickness)] × test constant
Here, the test constant is the normal number of test pieces of the specific strip-shaped test piece, which is provided to the manufacturer.

それ以外、端子偏り方向は、めっき層における応力の方向に示すものである。テスト領域の端子が外へ向かって被電気めっき側まで張り出せれば(電気めっき面が外、耐食面が内である)、前記めっき層の応力属性が引張応力である。テスト領域の端子が内へ向かって被電気めっき側まで張り出せれば(電気めっき面が外、耐食面が内である)、前記めっき層の応力属性が圧縮応力である。   Other than that, the terminal bias direction is the direction of stress in the plating layer. If the terminal in the test area can project outward to the electroplating side (the electroplating surface is outside and the corrosion-resistant surface is inside), the stress attribute of the plating layer is tensile stress. If the terminal in the test area can be extended inward to the electroplating side (the electroplating surface is outside and the corrosion-resistant surface is inside), the stress attribute of the plating layer is compressive stress.



上記結果からは、下記のことが明らかに分かる。
(1) 半光沢ニッケルは、圧縮内部応力を有するが、コーキングニッケルとリン-ニッケルには、引張内部応力が存在する。
(2) 内部応力の異なる方向で、コーキングニッケルとリン-ニッケルとの間に半光沢ニッケルをめっきする時に、例えば、サンプルDとサンプルEとを比較し、内部応力は、11124.67psi(サンプルD)から2566.97psi(サンプルE)まで大幅に減少し、内部応力の数値は77%減少する。
From the above results, the following can be clearly seen.
(1) Semi-bright nickel has compressive internal stress, while caulking nickel and phosphorus-nickel have tensile internal stress.
(2) When plating semi-bright nickel between caulking nickel and phosphorus-nickel in different directions of internal stress, for example, comparing sample D and sample E, the internal stress is 11124.67psi (sample D) From 256.997 psi (sample E), the internal stress figure is reduced by 77%.

溶接性試験:
実施例1、2と比較実施例1〜4によって製造された全てのサンプルに、溶接性試験を行う。米国電子回路協会のプリント基板溶接性試験基準IPC/EIAJ-STD-003Aに記載の湿潤平衡試験装置により溶接性を評価した。
Weldability test:
A weldability test is performed on all samples manufactured according to Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4. Weldability was evaluated by a wet equilibrium test apparatus described in the printed circuit board weldability test standard IPC / EIAJ-STD-003A of the American Electronic Circuit Association.

結果:実施例2≒比較実施例4>実施例1≒比較実施例3>比較実施例1≒比較実施例2
説明:本発明の順序でのニッケル電気めっき層は、溶接性に優れ、貴金属をめっきした表層によってさらに溶接性を向上させる。
Results: Example 2≈Comparative Example 4> Example 1≈Comparative Example 3> Comparative Example 1≈Comparative Example 2
Description: The nickel electroplated layer in the order of the present invention is excellent in weldability, and further improves the weldability by the surface layer plated with the noble metal.

Claims (20)

第一層のニッケルと、第二層のニッケルと、表層のニッケルとを含む複合多層ニッケル電気めっき層であって、
前記複合多層ニッケル電気めっき層は、被めっき金属基材上に、複合多層ニッケル電気めっき層における各層のニッケルの内部応力方向が隣接するめっき層の応力方向と逆向きであり、ニッケル電気めっき層の内部応力を低減させるような電気めっき順序で配列されることを特徴とする複合多層ニッケル電気めっき層。
A composite multilayer nickel electroplating layer comprising nickel of the first layer, nickel of the second layer, and nickel of the surface layer,
In the composite multilayer nickel electroplating layer, the internal stress direction of nickel of each layer in the composite multilayer nickel electroplating layer is opposite to the stress direction of the adjacent plating layer on the metal substrate to be plated. A composite multilayer nickel electroplating layer, characterized by being arranged in an electroplating sequence so as to reduce internal stress.
前記第一層のニッケルの内部応力が引張応力であり、前記第二層のニッケルの内部応力が圧縮応力であることを特徴とする請求項1に記載の複合多層ニッケル電気めっき層。   2. The composite multilayer nickel electroplating layer according to claim 1, wherein the internal stress of nickel in the first layer is tensile stress, and the internal stress of nickel in the second layer is compressive stress. 前記表層のニッケルがリン-ニッケルであり、その内部応力が引張応力であることを特徴とする請求項1に記載の複合多層ニッケル電気めっき層。   2. The composite multilayer nickel electroplating layer according to claim 1, wherein the nickel of the surface layer is phosphorus-nickel, and the internal stress is a tensile stress. 前記複合多層ニッケル電気めっき層の析出順序は、前記第一層のニッケルが最初に析出した後、前記第二層のニッケルが析出し、前記第一層と第二層のニッケルは一回から数回までの析出を繰り返し、前記表層のニッケルが最後に析出するようになることを特徴とする請求項1に記載の複合多層ニッケル電気めっき層。   The deposition order of the composite multilayer nickel electroplating layer is such that after the nickel of the first layer is deposited first, the nickel of the second layer is deposited, and the nickel of the first layer and the second layer is several times from one time. 2. The composite multilayer nickel electroplating layer according to claim 1, wherein the surface layer nickel is finally deposited by repeating the deposition up to 1 time. 前記第一層のニッケルがコーキングニッケルであることを特徴とする請求項1に記載の複合多層ニッケル電気めっき層。   The composite multilayer nickel electroplating layer according to claim 1, wherein the nickel of the first layer is caulking nickel. 前記第一層のコーキングニッケル電気めっき層には、粒子が密に配置され、表面が平滑であることを特徴とする請求項5に記載の複合多層ニッケル電気めっき層。   6. The composite multilayer nickel electroplating layer according to claim 5, wherein the first layer of the caulking nickel electroplating layer has particles arranged densely and has a smooth surface. 前記第二層のニッケルめっき層は、半光沢ニッケルであることを特徴とする請求項1に記載の複合多層ニッケル電気めっき層。   The composite multilayer nickel electroplating layer according to claim 1, wherein the second nickel plating layer is semi-bright nickel. 前記被めっき金属基材は、鉄系材料または有色金属基材であることを特徴とする請求項1に記載の複合多層ニッケル電気めっき層。   The composite multilayer nickel electroplating layer according to claim 1, wherein the metal substrate to be plated is an iron-based material or a colored metal substrate. 前記被めっき金属基材は、銅、銅合金、ニッケル、ニッケル合金、すず、すず合金、ステンレス鋼、ステンレス鉄、マグネシウム、マグネシウム合金、アルミニウム、アルミニウム合金、亜鉛または亜鉛合金であることを特徴とする請求項8に記載の複合多層ニッケル電気めっき層。   The metal substrate to be plated is copper, copper alloy, nickel, nickel alloy, tin, tin alloy, stainless steel, stainless iron, magnesium, magnesium alloy, aluminum, aluminum alloy, zinc or zinc alloy. The composite multilayer nickel electroplating layer according to claim 8. 前記第二層のニッケルめっき層は、被めっき金属基材表面とほぼ垂直になる柱状構造を有する半光沢ニッケルであることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の複合多層のニッケル電気めっき層。   10. The composite multilayer according to claim 1, wherein the nickel plating layer of the second layer is semi-bright nickel having a columnar structure that is substantially perpendicular to the surface of the metal base material to be plated. Nickel electroplating layer. 前記複合多層ニッケル電気めっき層は、第一層のニッケルと、第二層のニッケルと、表層のニッケルとからなる三層のニッケル電気めっき層であることを特徴とする請求項10に記載の複合多層ニッケル電気めっき層。   The composite multilayer nickel electroplating layer is a three-layer nickel electroplating layer comprising a first layer of nickel, a second layer of nickel, and a surface layer of nickel. Multi-layer nickel electroplating layer. 前記三層のニッケル電気めっき層上に、一層のPd-Ni電気めっき層と、一層の厚さ4〜6μインチのAu-Co電気めっき層とが、さらに設けられることを特徴とする請求項11に記載の複合多層ニッケル電気めっき層。   12. The Pd—Ni electroplating layer and the Au—Co electroplating layer having a thickness of 4 to 6 μ inch are further provided on the three nickel electroplating layers. A composite multilayer nickel electroplating layer as described in 1. 前記三層のニッケル電気めっき層の内部応力が77%減少することを特徴とする請求項11に記載の複合多層ニッケル電気めっき層。   The composite multilayer nickel electroplating layer according to claim 11, wherein an internal stress of the three nickel electroplating layers is reduced by 77%. 請求項1乃至13のいずれか一項に記載の複合多層ニッケル電気めっき層を用いることを特徴とする金属基材の表面めっき層。   A surface plating layer of a metal substrate, wherein the composite multilayer nickel electroplating layer according to any one of claims 1 to 13 is used. 請求項1乃至11のいずれか一項と請求項13に記載の複合多層のニッケル電気めっき層を用いることを特徴とする貴金属めっき層または金属合金めっき層の前の下地層。   An underlayer before a noble metal plating layer or a metal alloy plating layer, wherein the composite multilayer nickel electroplating layer according to any one of claims 1 to 11 and claim 13 is used. 基材表面に洗浄処理を行うステップ1と、
任意に酸溶液で洗浄後の基材に表面活性化するステップ2と、
任意に基材上にニッケルを予備めっきするステップ3と、
順次に被めっき基材表面に、第一層のニッケルと、第二層のニッケルと、表層のニッケルとを含む多層ニッケルめっき層を電気めっきするステップ4と、
を備える複合多層ニッケルの電気めっき方法であって、
取得した複合多層ニッケル電気めっき層における各層のニッケルの内部応力方向が、隣接するめっき層の応力方向と逆向きであることを特徴とする複合多層のニッケル電気めっき方法。
Step 1 for cleaning the surface of the substrate;
Step 2 optionally surface activating the substrate after washing with an acid solution;
Optionally step 3 of pre-plating nickel on the substrate;
Step 4 of sequentially electroplating a multilayer nickel plating layer containing nickel of the first layer, nickel of the second layer, and nickel of the surface layer on the surface of the substrate to be plated;
A method for electroplating composite multilayer nickel comprising:
The composite multilayer nickel electroplating method, wherein the nickel internal stress direction of each layer in the obtained composite multilayer nickel electroplating layer is opposite to the stress direction of the adjacent plating layer.
前記複合多層ニッケルめっき層の析出順序は、前記第一層のニッケルが最初に析出した後、前記第二層の半光沢ニッケルが析出し、前記第一層と第二層のニッケルが一回から数回までの析出を繰り返し、最後に表層のニッケルが析出するようになることを特徴とする請求項16に記載の複合多層ニッケルの電気めっき方法。   The deposition order of the composite multilayer nickel plating layer is such that after the nickel of the first layer is first deposited, the semi-bright nickel of the second layer is deposited, and the nickel of the first layer and the second layer is once. 17. The method for electroplating a composite multilayer nickel according to claim 16, wherein the deposition is repeated up to several times, and finally nickel on the surface layer is deposited. 前記第一層がコーキングニッケルであり、前記第二層ニッケルが半光沢ニッケルであり、または、表層がリン-ニッケルであることを特徴とする請求項16に記載の複合多層ニッケルの電気めっき方法。   The method of claim 16, wherein the first layer is coking nickel, the second layer nickel is semi-bright nickel, or the surface layer is phosphorus-nickel. 前記第一層のニッケルと第二層のニッケルが一回析出することを特徴とする請求項16に記載の複合多層ニッケルの電気めっき方法。   The method of claim 16, wherein the first layer nickel and the second layer nickel are deposited once. 前記第二層は、被めっき金属基材表面とほぼ垂直になる柱状構造を有する半光沢ニッケルであることを特徴とする請求項16乃至19のいずれか一項に記載の複合多層ニッケルの電気めっき方法。   The composite multilayer nickel electroplating according to any one of claims 16 to 19, wherein the second layer is semi-bright nickel having a columnar structure substantially perpendicular to the surface of the metal substrate to be plated. Method.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103343367A (en) * 2013-07-12 2013-10-09 深圳市中金高能电池材料有限公司 Nickel-plated steel strip and preparation method thereof
CN103668369A (en) * 2014-01-08 2014-03-26 苏州道蒙恩电子科技有限公司 Electric plating method capable of improving anti-corrosion performance of metal element
CN104282582B (en) * 2014-09-17 2017-02-01 中南大学 Method for packaging Ni-P substrate
CN105177650A (en) * 2015-09-10 2015-12-23 湖南东洋利德材料科技有限公司 Nickel plating method of steel belts for steel battery shells
CN108588691A (en) * 2018-05-11 2018-09-28 西安朗赛精密机械有限公司 A kind of plating Ni methods of aluminium silicon carbide material
CN109208049A (en) * 2018-11-08 2019-01-15 天津亿鑫通金属表面处理有限公司 A kind of uniform stainless steel continuous plating process of tint
CN112195489A (en) * 2020-09-24 2021-01-08 新疆德丰亿升石油防腐工程有限公司 Protective coating of pipe wall, electroplating method and application
CN113235141B (en) * 2021-04-29 2022-03-18 淮阴工学院 Nickel barrel plating and gold plating process for iron-based material

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005311353A (en) * 2004-04-16 2005-11-04 Samsung Techwin Co Ltd Lead frame and manufacturing method therefor
JP2010196127A (en) * 2009-02-26 2010-09-09 Alps Electric Co Ltd Electric contact point
JP2010242117A (en) * 2009-04-01 2010-10-28 Alps Electric Co Ltd Electrical contact and method for manufacturing the same
JP2011514447A (en) * 2008-03-20 2011-05-06 アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー Ni-P layer system and preparation method thereof

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4404067A (en) * 1981-03-24 1983-09-13 Citizen Watch Company Limited Method of manufacturing a timepiece component
US4972204A (en) * 1989-08-21 1990-11-20 Eastman Kodak Company Laminate, electroformed ink jet orifice plate construction
JP2003064451A (en) * 2001-06-11 2003-03-05 Hitachi Ltd Composite gradient alloy plate, manufacturing method therefor and color cathode ray tube having shadow mask using the composite gradient alloy plate
AU2003901058A0 (en) * 2003-03-10 2003-03-20 Microtechnology Centre Management Limited Electroplating pcb components

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005311353A (en) * 2004-04-16 2005-11-04 Samsung Techwin Co Ltd Lead frame and manufacturing method therefor
JP2011514447A (en) * 2008-03-20 2011-05-06 アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー Ni-P layer system and preparation method thereof
JP2010196127A (en) * 2009-02-26 2010-09-09 Alps Electric Co Ltd Electric contact point
JP2010242117A (en) * 2009-04-01 2010-10-28 Alps Electric Co Ltd Electrical contact and method for manufacturing the same

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6014036215; 伊勢秀夫ら: NPシリーズ 電鋳技術と応用 初版, 19960525, 第98〜99頁, 山本恒雄 *

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