JP2014016857A - Front surface protective plate for touch panel integrated display device and display device - Google Patents

Front surface protective plate for touch panel integrated display device and display device Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a front surface protective plate for a touch panel integrated display device in which wiring and electrodes of a touch panel are integrated with the front surface protective plate for a display device and that has a structure capable of reducing the number of processes and reducing costs, and to provide a display device including the front surface protective plate.SOLUTION: A front surface protective plate 10 for a touch panel integrated display device includes: a light shielding layer 3 composing a decorative part 2 and wiring 4 on the light shielding layer, in an opaque area A2 on a first surface S1 of a translucent substrate 1; and a first electrode 5a extending in an X direction, a second electrode 5b extending in a Y direction and an insulator layer 6 interposed between both electrodes at an intersection part 5C of the first electrode and the second electrode and insulating both electrodes from each other, in a display area A1. The insulator layer is formed integrally with at least one or more insulating layers among layers composing the decorative part, such as the light shielding layer, with the same material and in contact with a surface capable of being integrally formed. A display device is obtained by combining the front surface protective plate and a display panel.

Description

本発明は、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板、及び表示装置に関する。特に、製造工程数を減らし得る構成のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板と、これを備えた表示装置に関する。   The present invention relates to a front protective plate for a touch panel integrated display device and a display device. In particular, the present invention relates to a front protective plate for a touch panel integrated display device having a configuration capable of reducing the number of manufacturing steps and a display device including the same.

近年、スマートフォン、タブレットPC(パーソナルコンピュータ)など各種表示装置において、表示パネルと組み合わせて使用される位置入力装置として、タッチパネルが急速に普及してきている。タッチパネルは、以前から、電磁誘導方式、抵抗膜方式など各種方式のものが知られ、各種用途で使用されてきたが、最近その中でも特に注目されてきているのは、マルチタッチ(多点同時入力)が可能な静電容量方式のタッチパネルである。   In recent years, touch panels have been rapidly spread as position input devices used in combination with display panels in various display devices such as smartphones and tablet PCs (personal computers). Various types of touch panels, such as electromagnetic induction systems and resistive film systems, have been known for a long time, and have been used for various applications. Recently, multi-touch (multi-point simultaneous input) has attracted particular attention. It is a capacitive touch panel capable of

表示装置において、タッチパネルは、表示パネルの表示を観察する観察者側に配置され、さらにタッチパネルの観察者側には、タッチパネルを外力などから保護するカバーガラスなどの表示装置用前面保護板が配置される。
表示装置用前面保護板とタッチパネルとは、それぞれ独立した部品として配置されることもあるが、最近は、薄型化、軽量化、部品点数削減などの要求に応えるべく、表示装置用前面保護板とタッチパネルとを一体化した、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板が注目されている(特許文献1)。
In the display device, the touch panel is arranged on the observer side for observing the display on the display panel, and on the observer side of the touch panel, a front protective plate for a display device such as a cover glass for protecting the touch panel from an external force or the like is arranged. The
The front protection plate for the display device and the touch panel may be arranged as independent components, but recently, the front protection plate for the display device has been developed to meet the demands for thinner, lighter, and fewer parts. A front protective plate for a touch panel integrated display device that is integrated with a touch panel has attracted attention (Patent Document 1).

図16の平面図は、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20の一例を示す。図16(a)は、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20を、裏側から見た全体図である。図16(b)及び図16(c)の部分拡大平面図は、静電容量方式のタッチパネルにおける電極のパターン形状の一例を模式的に示す図である。   The plan view of FIG. 16 shows an example of a conventional front protective plate 20 for a touch panel integrated display device. FIG. 16A is an overall view of a conventional front protective plate 20 for a touch panel integrated display device as viewed from the back side. The partial enlarged plan views of FIGS. 16B and 16C are diagrams schematically illustrating an example of the electrode pattern shape in the capacitive touch panel.

タッチパネル一体型表示装置用前面保護板20は、中央の表示用領域A1の外周部が不透明領域A2となっており、この不透明領域A2が加飾部2となっている。加飾部2は、ガラス板などの透光性基板の面上に遮光層3等が形成されていることで、不透明領域A2としての遮光性が確保されている。不透明領域A2によって、表示用領域A1の外周部に配置される配線4やコネクタ等を隠して、これらが見えて外観を損ねないようになっている。同図では、配線4が不透明領域A2である加飾部2の裏側に設けられている。また、加飾部2には、製品ロゴなどの可視情報9、赤外透過窓3aなども適宜設けられる。一方、表示用領域A1中には、タッチパネルの位置検知用の電極5が配置されている。電極5は、通常、ITO(Indium Tin Oxide;インジウム錫酸化物)などの透明導電体薄膜でパターン形成され、中央の表示用領域A1内の位置検知領域から不透明領域A2の加飾部2に重なる部分まで延びて配線4に電気的に接続されている。   In the front protective plate 20 for a touch panel integrated display device, the outer peripheral portion of the central display region A1 is an opaque region A2, and the opaque region A2 is a decorative portion 2. The decorating unit 2 has a light shielding property as the opaque region A2 by forming the light shielding layer 3 and the like on the surface of a translucent substrate such as a glass plate. The opaque region A2 hides the wiring 4 and the connector disposed on the outer periphery of the display region A1, so that they can be seen and the appearance is not impaired. In the same figure, the wiring 4 is provided in the back side of the decorating part 2 which is the opaque area A2. The decoration unit 2 is also provided with visible information 9 such as a product logo, an infrared transmission window 3a, and the like as appropriate. On the other hand, a touch panel position detection electrode 5 is disposed in the display area A1. The electrode 5 is usually patterned with a transparent conductive thin film such as ITO (Indium Tin Oxide), and overlaps the decorative portion 2 of the opaque region A2 from the position detection region in the central display region A1. It extends to the part and is electrically connected to the wiring 4.

一般に静電容量式タッチパネルでは、図16(a)〜図16(c)に例示するように、図面で左右方向であるX方向に延在する複数の第1電極5aと、X方向とは直交し図面で上下方向であるY方向に延在する複数の第2電極5bとを有する。ここでは、X方向に延在する電極を第1電極5aと呼び、Y方向に延在する電極を第2電極5bと呼ぶことにする。
静電容量式タッチパネル自体としては、第1電極5a及び第2電極5bは、それぞれが別の透光性基板に形成される形態もあるが、同一基板、それも、同一基板の同一面上に形成される形態とすることで、互いの相対的位置精度を向上できる利点がある。
同図に例示した従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20も、第1電極5a及び第2電極5bを、一つの透光性基板の同一面上に形成した形態である。
In general, in a capacitive touch panel, as illustrated in FIGS. 16A to 16C, a plurality of first electrodes 5 a extending in the X direction, which is the left-right direction in the drawing, are orthogonal to the X direction. And a plurality of second electrodes 5b extending in the Y direction which is the vertical direction in the drawing. Here, the electrode extending in the X direction is referred to as a first electrode 5a, and the electrode extending in the Y direction is referred to as a second electrode 5b.
As for the capacitive touch panel itself, the first electrode 5a and the second electrode 5b may be formed on different translucent substrates. However, the same substrate may be formed on the same surface of the same substrate. By being formed, there is an advantage that the relative positional accuracy of each other can be improved.
The conventional front protective plate 20 for a touch panel integrated display device illustrated in the same figure also has a form in which the first electrode 5a and the second electrode 5b are formed on the same surface of one translucent substrate.

第1電極5a及び第2電極5bのパターンとしては、投影型静電容量方式では各種パターンが知られているが、同図に例示するパターンでは、一つの第1電極5aは、図16(b)に示すように、菱形形状の複数の第1透明電極要素5aEと、互いに隣接する第1透明電極要素5aE同士を接続し第1透明電極要素5aEに比べて面積が小さい第1接続部5aCと、不図示の、位置検知領域の外周部の不透明領域A2まで延びて配線4に第1透明電極要素5aEを電気的に接続する為の取出し部と、から構成される。同様に、一つの第2電極5bも、図16(c)に示すように、菱形形状の複数の第2透明電極要素5bEと、互いに隣接する第2透明電極要素5bE同士を接続し第1透明電極要素5aEに比べて面積が小さい第2接続部5bCと、第2透明電極要素5bEを配線4に電気的に接続する不図示の取出し部と、から構成される。
ただし、図16(a)では、第1電極5aは第1透明電極要素5aEのみを描いてあり、第2電極5bも第2透明電極要素5bEのみを描いてあり、第1接続部5aC、第2接続部5bC、及び取出し部の図示は省略してある。
As the pattern of the first electrode 5a and the second electrode 5b, various patterns are known in the projection capacitive method, but in the pattern illustrated in FIG. ), A plurality of rhombus-shaped first transparent electrode elements 5aE and first transparent electrode elements 5aE adjacent to each other and having a smaller area than the first transparent electrode elements 5aE, And an unillustrated take-out portion that extends to the opaque region A2 in the outer peripheral portion of the position detection region and electrically connects the first transparent electrode element 5aE to the wiring 4. Similarly, as shown in FIG. 16 (c), one second electrode 5b also connects a plurality of rhombus-shaped second transparent electrode elements 5bE and the second transparent electrode elements 5bE adjacent to each other to form a first transparent electrode. The second connecting portion 5bC has a smaller area than the electrode element 5aE, and a take-out portion (not shown) that electrically connects the second transparent electrode element 5bE to the wiring 4.
However, in FIG. 16A, the first electrode 5a depicts only the first transparent electrode element 5aE, the second electrode 5b depicts only the second transparent electrode element 5bE, and the first connection portion 5aC, The illustration of the two connection parts 5bC and the take-out part is omitted.

図17は、第1接続部5aCと第2接続部5bCとが交差する交差部5Cに注目して、一つの交差部5Cと、不透明領域A2の加飾部2及び加飾部2上の配線4に注目して、その一部と、配線4に接続する電極に注目して、その一部の第1電極5aと、を模式的に示した図であり、図17(a)が部分拡大平面図であり、図17(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。   17 pays attention to the crossing part 5C where the first connection part 5aC and the second connection part 5bC cross each other, and the wiring on the crossing part 5C, the decoration part 2 in the opaque region A2, and the decoration part 2 FIG. 17 is a diagram schematically showing a part of the first electrode 5a, focusing on a part thereof and focusing on an electrode connected to the wiring 4, and FIG. 17 (a) is a partially enlarged view. FIG. 17B is a partially enlarged cross-sectional view taken along the line CC in the plan view.

延在方向が互いに交差する第1電極5a及び第2電極5bは、互いに電気的に絶縁されて形成される必要があるから、透光性基板1の同一面(同図では第1面S1の面)上にこれらを形成する構成では、第1電極5a及び第2電極5bのいずれか一方、例えば、第1電極5aを形成した後、全面に透明な絶縁層を形成し、この絶縁層の面上に、第2電極5bを形成することもできる。しかし、これでは、第1電極5aと第2電極5bのパターン形成は別工程となり、アライメント精度が関係してくるために、互いの相対的位置精度は向上しない。そこで、同図の構成では、第1接続部5aCを除く第1電極5a、及び、第2電極5bは、同一面に同時パターン形成されている。   The first electrode 5a and the second electrode 5b whose extending directions intersect with each other need to be formed to be electrically insulated from each other, so that the same surface of the translucent substrate 1 (the first surface S1 in FIG. In the configuration in which these are formed on the surface), after forming one of the first electrode 5a and the second electrode 5b, for example, the first electrode 5a, a transparent insulating layer is formed on the entire surface. The second electrode 5b can also be formed on the surface. However, in this case, the pattern formation of the first electrode 5a and the second electrode 5b is a separate process, and the alignment accuracy is related, so the relative positional accuracy of each other does not improve. Therefore, in the configuration shown in the figure, the first electrode 5a and the second electrode 5b excluding the first connection portion 5aC are simultaneously formed on the same surface.

すなわち、同図に示す従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20は、例えば、図18A及び図18Bの平面図で例示する工程によって、製造することができる。ここでは、ブリッジ部5aBを後形成する工程例を説明するが、先形成する工程も可能である。
先ず、図18A(A)のように、透光性基板1の不透明領域A2とする部分に、加飾部2となる遮光層3が形成される。
次に、図18A(B)のように、第1電極5aのうちの第1透明電極要素5aE及び取出し部5aF、並びに第2電極5bの全て(第2透明電極要素5bE、第2接続部5bC及び取出し部)が同時にパターン形成される。第1電極5aのうちの第1接続部5aCは、この段階では形成されない。
次に、図18A(C)のように、第2接続部5bCの部分に絶縁層6が形成される。
That is, the conventional front protective plate 20 for a touch panel integrated display device shown in the figure can be manufactured, for example, by the process illustrated in the plan views of FIGS. 18A and 18B. Here, although an example of a process for forming the bridge portion 5aB later will be described, a process for forming the bridge part 5aB is also possible.
First, as shown in FIG. 18A (A), a light shielding layer 3 to be a decoration portion 2 is formed in a portion to be an opaque region A2 of the translucent substrate 1.
Next, as shown in FIG. 18A (B), all of the first transparent electrode element 5aE and the extraction part 5aF of the first electrode 5a and the second electrode 5b (second transparent electrode element 5bE, second connection part 5bC). And the extraction part) are simultaneously patterned. The first connection portion 5aC of the first electrode 5a is not formed at this stage.
Next, as shown in FIG. 18A (C), the insulating layer 6 is formed in the portion of the second connection portion 5bC.

次に、図18B(D)のように、絶縁層6を跨いで隣接する第1透明電極要素5aEを接続するブリッジ部5aBを、第1接続部5aCとして形成する。この結果、第1接続部5aCと第2接続部5bCとは絶縁層6によって互いに絶縁された立体構造となる。
例えば、絶縁層6を透明樹脂などの透明材料でパターン形成し、第1接続部5aCもITOなどの透明導電性材料でパターン形成すると、表示用領域A1は全面に亘って透明な領域として形成される。
次に、図18B(E)のように、加飾部2の遮光層3の面上に、前記取出し部5aFと電気的に接続されるように、配線4が形成れる。
Next, as shown in FIG. 18B (D), a bridge portion 5aB that connects adjacent first transparent electrode elements 5aE across the insulating layer 6 is formed as a first connection portion 5aC. As a result, the first connecting portion 5aC and the second connecting portion 5bC have a three-dimensional structure insulated from each other by the insulating layer 6.
For example, when the insulating layer 6 is patterned with a transparent material such as a transparent resin and the first connection portion 5aC is also patterned with a transparent conductive material such as ITO, the display area A1 is formed as a transparent area over the entire surface. The
Next, as shown in FIG. 18B (E), the wiring 4 is formed on the surface of the light shielding layer 3 of the decoration portion 2 so as to be electrically connected to the extraction portion 5aF.

以上のように、図16及び図17に例示した構成の、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20を製造するには、5工程が必要であった。   As described above, five steps are required to manufacture the conventional front protective plate 20 for a touch panel integrated display device having the configuration illustrated in FIGS.

そして、加飾部2に形成された配線4には、コネクタを介して制御用回路が接続されるなどされれば、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板20はタッチパネルとしての全機能が付与されたものとなる。   And if the circuit for control is connected to the wiring 4 formed in the decoration part 2 via a connector etc., the front-surface protective plate 20 for a touch panel integrated display device will be given all the functions as a touch panel. It will be.

特開2009−301767号公報JP 2009-301767 A

ところで、以上説明したような構成の、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20では、確かに、タッチパネルと表示装置用前面保護板とが一体化され、それぞれを別部品として組み付ける必要がなく、透光性基板1の共通化によるコストダウンも可能となり、薄型化、軽量化、部品点数削減などの要求に応えたものではある。
しかし、製造する為の工程は、表示装置用前面保護板として必要な工程と、タッチパネルとして必要な工程との、それぞれの工程が必要であり、工程数及び構成においても、透光性基板1の共通化の点以外では、コストダウンが図れるものではなかった。
By the way, in the conventional front protective plate for a touch panel integrated display device 20 configured as described above, the touch panel and the front protective plate for display device are certainly integrated, and there is no need to assemble each as a separate part. In addition, the cost can be reduced by sharing the translucent substrate 1, which meets the demands for reduction in thickness, weight, and number of parts.
However, the process for manufacturing requires a process required as a front protective plate for a display device and a process required as a touch panel, and the number of processes and the configuration of the translucent substrate 1 are also required. Other than the point of commonality, the cost could not be reduced.

本発明の課題は、表示装置用前面保護板にタッチパネルの配線及び電極を一体化した、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板として、工程数を減らすことができ、コストダウンに繋がり得る構成のものを提供することである。また、こうしたタッチパネル一体型表示装置用前面保護板を備えた表示装置を提供することである。   An object of the present invention is a front protective plate for a touch panel integrated display device in which the wiring and electrodes of the touch panel are integrated with the front protective plate for the display device, which can reduce the number of processes and lead to cost reduction. Is to provide. It is another object of the present invention to provide a display device including such a front protective plate for a touch panel integrated display device.

本発明では、次の様な構成のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板、及び表示装置とした。
(1)中央の表示用領域と、この表示用領域の外周部に設けられ可視光を遮蔽する不透明領域とを有し、この不透明領域が加飾部を構成し、前記表示用領域にはタッチパネル用の電極を有し、前記不透明領域にはタッチパネル用の配線を有する、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板であって、
透光性基板と、
この透光性基板の一方の面上の前記不透明領域に設けられ、前記加飾部を構成する遮光層と、
前記遮光層上に設けられた前記配線と、
前記透光性基板の前記一方の面上の前記表示用領域に設けられ、第1方向に延在する複数の第1電極と、前記第1方向と交差する第2方向に延在する複数の第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との交差部において、両電極間に介在し両電極を互いに絶縁する絶縁層と、
を有し、
前記絶縁層は、前記加飾部の構成層のうちの絶縁性を示す少なくとも1層以上の層と、同一材料で形成され、かつ、この層と同時形成可能な面に接して形成されている、
タッチパネル一体型表示装置用前面保護板。
(2)前記交差部において、前記絶縁層上に形成される前記第1電極及び前記第2電極のいずれか一方の電極は、前記絶縁層の上を跨ぐブリッジ部となっており、他方の電極は前記絶縁層の下をくぐり抜け、
前記ブリッジ部が反射性導電性層を含み、
前記絶縁層の可視光反射率が前記ブリッジ部の可視光反射率よりも小さい、前記(1)のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板。
(3)前記絶縁層と同一材料で同時形成可能な面に接して形成される前記加飾部の構成層が、前記加飾部に設けられた赤外透過窓を構成する赤外透過層である、前記(2)のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板。
(4)前記第1電極及び前記第2電極は、層自体が不透明な導電性層から形成されており、
前記第1電極は、第1透明電極要素と、隣接する前記第1透明電極要素同士を接続する第1接続部とを含み、
前記第2電極は、第2透明電極要素と、隣接する前記第2透明電極要素同士を接続する第2接続部とを含み、
前記第1接続部及び前記第2接続部は、前記交差部において互いに交差し、
前記第1透明電極要素及び前記第2透明電極要素は、前記導電性層がメッシュ状に形成されたメッシュ電極から構成されている、前記(1)〜(3)のいずれかのタッチパネル一体型表示装置用前面保護板。
(5)表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された前記(1)〜(4)のいずれかのタッチパネル一体型表示装置用前面保護板と、を含む、表示装置。
In the present invention, a front protective plate for a touch panel integrated display device having the following configuration and a display device are provided.
(1) It has a center display area and an opaque area that is provided on the outer periphery of the display area and shields visible light, and this opaque area constitutes a decoration, and the display area has a touch panel A front protective plate for a touch panel integrated display device, having electrodes for and having a wiring for a touch panel in the opaque region,
A translucent substrate;
A light-shielding layer provided in the opaque region on one surface of the translucent substrate and constituting the decorative portion;
The wiring provided on the light shielding layer;
A plurality of first electrodes provided in the display region on the one surface of the translucent substrate and extending in a first direction; and a plurality of extending in a second direction intersecting the first direction. A second electrode;
An insulating layer that is interposed between the electrodes and insulates the electrodes from each other at the intersection of the first electrode and the second electrode;
Have
The insulating layer is formed of the same material as at least one or more layers showing insulating properties among the constituent layers of the decorative portion, and is formed in contact with a surface that can be formed simultaneously with the layer. ,
Front protective plate for touch panel integrated display.
(2) At the intersection, either one of the first electrode and the second electrode formed on the insulating layer is a bridge portion straddling the insulating layer, and the other electrode Pass under the insulating layer,
The bridge portion includes a reflective conductive layer;
The front protective plate for a touch panel integrated display device according to (1), wherein a visible light reflectance of the insulating layer is smaller than a visible light reflectance of the bridge portion.
(3) The constituent layer of the decoration part formed in contact with the surface that can be formed simultaneously with the same material as the insulating layer is an infrared transmission layer that constitutes an infrared transmission window provided in the decoration part. The front protective plate for a touch panel integrated display device according to (2).
(4) The first electrode and the second electrode are formed of a conductive layer in which the layer itself is opaque,
The first electrode includes a first transparent electrode element and a first connection part that connects the adjacent first transparent electrode elements,
The second electrode includes a second transparent electrode element and a second connection portion that connects the adjacent second transparent electrode elements,
The first connection portion and the second connection portion intersect each other at the intersection.
The touch panel integrated display according to any one of (1) to (3), wherein each of the first transparent electrode element and the second transparent electrode element includes a mesh electrode in which the conductive layer is formed in a mesh shape. Front protective plate for equipment.
(5) A display device comprising: a display panel; and the front protective plate for a touch panel integrated display device according to any one of (1) to (4), which is disposed on an observer side of the display panel.

本発明のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板によれば、工程数を減らすことができ、コストダウンに繋がり得る構成を提供することができる。
本発明の表示装置によれば、それが備えるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板が、前記効果を有する。
According to the front protective plate for a touch panel integrated display device of the present invention, it is possible to reduce the number of steps and provide a configuration that can lead to cost reduction.
According to the display device of the present invention, the front protective plate for a touch panel integrated display device provided therein has the above-described effect.

本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の一実施形態(メタルブリッジ、低反射の絶縁層)を模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)と、平面図中D−D線での部分拡大断面図(c)。A partially enlarged plan view (a) schematically illustrating an embodiment (metal bridge, low reflection insulating layer) of a front protective plate for a touch panel integrated display device according to the present invention, and a C-C line in the plan view. The partial expanded sectional view (b) and the partial expanded sectional view in the DD line in a top view (c). 図1のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の製造工程の一例を示す平面図。The top view which shows an example of the manufacturing process of the front surface protection board for touchscreen integrated display apparatuses of FIG. 「同時形成可能な面」の意味について、図1の構成を基準に、同一材料で形成される絶縁層と遮光層などとが、同時形成可能な構成と、そうでない構成との相違を説明する断面図。Regarding the meaning of “surface that can be formed simultaneously”, a difference between a configuration in which an insulating layer and a light shielding layer formed of the same material can be formed simultaneously and a configuration in which the insulating layer is not formed will be described based on the configuration in FIG. Sectional drawing. 本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の別の実施形態(透明ブリッジ、低反射の絶縁層)を模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)。A partially enlarged plan view (a) schematically illustrating another embodiment (transparent bridge, low reflection insulating layer) of the front protective plate for a touch panel integrated display device according to the present invention, and a CC line in the plan view. Partial enlarged sectional view of (b). 本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の別の実施形態(透明ブリッジ、低反射の絶縁層;変形形態=ブリッジ逆構造)を模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)。The partial enlarged plan view (a) which illustrates typically another embodiment (a transparent bridge, a low reflection insulating layer; a deformation | transformation form = bridge reverse structure) of the front-surface protection plate for touchscreen integrated display apparatuses by this invention, and plane The partial expanded sectional view in the CC line in a figure (b). 本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の別の実施形態(メタルブリッジ、低反射の絶縁層、メッシュ電極)を模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)。A partially enlarged plan view (a) schematically illustrating another embodiment (metal bridge, low reflection insulating layer, mesh electrode) of the front protective plate for a touch panel integrated display device according to the present invention, and C- in the plan view. The partial expanded sectional view in the C line (b). 本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の別の実施形態(メタルブリッジ、低反射及び透明の2層の絶縁層)を模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)。A partially enlarged plan view (a) schematically illustrating another embodiment of the front protective plate for a touch panel integrated display device according to the present invention (metal bridge, low reflection and transparent two insulating layers), and a plan view The partial expanded sectional view in the CC line (b). 本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の別の実施形態(透明ブリッジ,透明な絶縁層)を模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)。A partially enlarged plan view (a) schematically illustrating another embodiment (transparent bridge, transparent insulating layer) of a front protective plate for a touch panel integrated display device according to the present invention, and a CC line in the plan view. Partial expanded sectional view (b). 本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の別の実施形態(透明ブリッジ、低反射及び透明の2層の絶縁層)を模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)。A partially enlarged plan view (a) schematically illustrating another embodiment of the front protective plate for a touch panel integrated display device according to the present invention (transparent bridge, low reflection and transparent two insulating layers), and a plan view The partial expanded sectional view in the CC line (b). 本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の別の実施形態(メタルブリッジ、低反射の絶縁層=赤外透過層)を模式的に説明する部分拡大平Partially enlarged plan view schematically illustrating another embodiment of the front protective plate for a touch panel integrated display device according to the present invention (metal bridge, low reflection insulating layer = infrared transmission layer). 加飾部の赤外透過窓における赤外透過層3aLの形態例を説明する部分拡大断面図。The partial expanded sectional view explaining the example of the form of the infrared transmission layer 3aL in the infrared transmission window of a decoration part. 本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の別の実施形態(全面のオーバーコート層)を模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)。Partial enlargement top view (a) which illustrates typically another embodiment (overcoat layer of the whole surface) of the front protection board for touchscreen integrated display devices by this invention, and the partial expansion in CC line in a top view Sectional drawing (b). 加飾部の遮光層が裏打ち層も備える形態例を示す部分拡大断面図。The partial expanded sectional view which shows the form example with which the light shielding layer of a decoration part also has a backing layer. 本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の別の実施形態(メタルブリッジ,透明な絶縁層、低反射層)を模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(b)。Partial enlarged plan view (a) schematically illustrating another embodiment (metal bridge, transparent insulating layer, low reflection layer) of the front protective plate for a touch panel integrated display device according to the present invention, and C- in the plan view The partial expanded sectional view in the C line (b). 本発明による表示装置の一実施形態を模式的に説明する断面図。Sectional drawing which illustrates typically one Embodiment of the display apparatus by this invention. 従来の或いは本発明による、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板を裏側から見た平面図(a)、透明電極のパターンを説明する部分拡大平面図(b)および(c)。The top view (a) which looked at the front protection board for the touch panel integrated display apparatus from the back side by the conventional or this invention, The partial enlarged plan views (b) and (c) explaining the pattern of a transparent electrode. 図16のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板における透明電極の交差部分を示す平面図(a)と、平面図中C−C線での断面図(b)。The top view (a) which shows the cross | intersection part of the transparent electrode in the front surface protection board for touchscreen integrated display apparatuses of FIG. 16, and sectional drawing (b) in CC line in a top view. 図17のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の製造工程の一例の前半を示す平面図。The top view which shows the first half of an example of the manufacturing process of the front-surface protection plate for touchscreen integrated display apparatuses of FIG. 図17のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板の製造工程の一例の後半を示す平面図。The top view which shows the second half of an example of the manufacturing process of the front surface protection board for touchscreen integrated display apparatuses of FIG.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面は概念図であり、説明上の都合に応じて適宜、構成要素の縮尺関係、縦横比等は誇張されていることがある。     Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings are conceptual diagrams, and the scale relations, aspect ratios, and the like of components may be exaggerated as appropriate for convenience of explanation.

〔A〕用語の定義:
本発明において用いる主要な用語について、その定義をここで説明しておく。
[A] Definition of terms:
The definitions of major terms used in the present invention will be explained here.

「表側」とは、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10或いはその他の構成要素において、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を表示パネル30と組み合わせて使用したときに、表示パネル30から表示光が出光する側であり、表示パネル30の表示を観察する観察者の側を意味する。
「裏側」とは、前記「表側」とは反対側を意味し、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10或いはその他の構成要素において、表示パネル30の表示光が入光する側を意味する。
透光性基板1の面に対して、「一方の面」は、第1電極5a及び第2電極5b、並びに配線4を必ず有する側の面である。「一方の面」とは「裏側」の面を意味し、「他方の面」とは「表側」の面を意味する。「一方の面」乃至は「裏側」の面を「第1面S1」とも呼び、「他方の面」乃至は「表側」の面を「第2面S2」とも呼ぶ。
“Front side” means that display is performed from the display panel 30 when the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device is used in combination with the display panel 30 in the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device or other components. It is the side from which light is emitted and means the side of the observer who observes the display on the display panel 30.
The “back side” means the side opposite to the “front side”, and means the side where the display light of the display panel 30 enters in the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device or other components.
With respect to the surface of the translucent substrate 1, “one surface” is a surface on the side necessarily including the first electrode 5 a and the second electrode 5 b and the wiring 4. “One surface” means the “back side” surface, and “the other surface” means the “front side” surface. The “one surface” or “back side” surface is also referred to as “first surface S1”, and the “other surface” or “front side” surface is also referred to as “second surface S2.”

〔B〕タッチパネル一体型表示装置用前面保護板:
本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を、実施形態ごとに説明する。
[B] Front protective plate for touch panel integrated display device:
A front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present invention will be described for each embodiment.

《第1の実施形態:メタルブリッジ、低反射の絶縁層》
本実施形態は、ブリッジ部5aBに金属材料を用い、絶縁層6に加飾部2の遮光層3と同一材料で、黒色などブリッジ部5aBよりも可視光反射率が低い低反射性を示す材料を用いて、絶縁層6と遮光層3とを同時形成した形態である。
図1(a)は、本実施形態のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板を模式的に説明する裏側から見た部分拡大平面図であり、図1(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図であり、図1(c)は、平面図中D−D線での部分拡大断面図である。
タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10の全体は、従来例としても例示した図16(a)の平面図と同様である。
<< First Embodiment: Metal Bridge, Low Reflective Insulating Layer >>
In the present embodiment, a metal material is used for the bridge portion 5aB, the insulating layer 6 is made of the same material as the light shielding layer 3 of the decorative portion 2, and a material having low reflectivity, such as black, having lower visible light reflectance than the bridge portion 5aB. In this embodiment, the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 are formed simultaneously.
FIG. 1A is a partially enlarged plan view of a front protective plate for a touch panel integrated display device according to the present embodiment as viewed from the back side, and FIG. FIG. 1C is a partially enlarged cross-sectional view taken along a line, and FIG. 1C is a partially enlarged cross-sectional view taken along line DD in the plan view.
The entire front protective plate 10 for a touch panel integrated display device is the same as the plan view of FIG. 16A illustrated as a conventional example.

図1は、第1接続部5aCと第2接続部5bCとが交差する交差部5Cに注目して、一つの交差部5Cと、不透明領域A2の加飾部2及び加飾部2上の配線4に注目して、その一部と、配線4に接続する電極に注目して、その一部の第1電極5aと、を模式的に示した図であり、図1(a)が部分拡大平面図であり、図1(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。   1 pays attention to an intersecting portion 5C where the first connecting portion 5aC and the second connecting portion 5bC intersect, and the wiring on the intersecting portion 5C, the decorating portion 2 in the opaque region A2, and the decorating portion 2 4 is a diagram schematically showing a part of the first electrode 5a, focusing on a part thereof and an electrode connected to the wiring 4, and FIG. 1 (a) is a partially enlarged view. FIG. 1B is a partially enlarged cross-sectional view taken along the line CC in the plan view.

ただし、図1(a)の模式的な平面図は、表示用領域A1内で、第1方向として図面で左右方向であるX方向に延在する複数の第1電極5a、及び、第2方向としてX方向とは直交し図面で上下方向であるY方向に延在する複数の第2電極5bの全てを描いてはいない。絶縁層6を介して両電極が交差する交差部5Cの立体構造に注目し、一つのブリッジ部5aBとその周辺のみを代表して描いてある。
また、表示用領域A1の外周部の全周囲に形成され加飾部2を構成する遮光層3と、遮光層3の面上に形成された配線4も、第1電極5aに接続するもの1本のみを模式的に描いてあり、第2電極5bに接続する配線4の図示は省略してある。
図1(a)では、層の上下関係を判り易くする観点から、透明である第1透明電極要素5aE及び第2透明電極要素5bEなども、ハッチングを入れてある。
以上の図面表記に関することは、本発明による他の実施形態における図面についても同様である。
However, the schematic plan view of FIG. 1A shows a plurality of first electrodes 5a extending in the X direction which is the left-right direction in the drawing as the first direction in the display area A1, and the second direction. As shown, not all of the plurality of second electrodes 5b which are orthogonal to the X direction and extend in the Y direction which is the vertical direction in the drawing are drawn. Focusing on the three-dimensional structure of the intersecting portion 5C where both electrodes intersect via the insulating layer 6, only one bridge portion 5aB and its periphery are depicted as representatives.
In addition, the light shielding layer 3 that is formed around the entire periphery of the display area A1 and that constitutes the decorative portion 2, and the wiring 4 that is formed on the surface of the light shielding layer 3 are also connected to the first electrode 5a 1 Only the book is schematically depicted, and illustration of the wiring 4 connected to the second electrode 5b is omitted.
In FIG. 1 (a), the transparent first transparent electrode element 5aE and the second transparent electrode element 5bE are also hatched from the viewpoint of making it easy to understand the vertical relationship of the layers.
The same applies to the drawings in other embodiments according to the present invention.

本実施形態におけるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、中央の表示用領域A1と、表示用領域A1の外周部に設けられ可視光を遮蔽する不透明領域A2とを有し、この不透明領域A2が加飾部2を構成し、表示用領域A1にはタッチパネル用の電極として複数の第1電極5a及び複数の第2電極5bを有し、不透明領域A2にはタッチパネル用の配線4を有する。
このタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、透光性基板1と、
透光性基板1の一方の面とする第1面S1の面上の不透明領域A2に設けられ、加飾部2を構成する遮光層3と、
遮光層3の面上に設けられた配線4と、
透光性基板1の一方の面である第1面S1上の表示用領域A1から不透明領域A2に亘って設けられ、第1方向としてX方向に延在する複数の第1電極5aと、第1方向と交差する第2方向としてX方向と直交するY方向に延在する複数の第2電極5bと、
第1電極5aと第2電極5bとの交差部5Cを、両電極間に介在し両電極を互いに絶縁する絶縁層6と、を有する。
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment has a central display area A1 and an opaque area A2 that is provided on the outer periphery of the display area A1 and shields visible light. A2 constitutes the decorative portion 2, the display area A1 has a plurality of first electrodes 5a and a plurality of second electrodes 5b as electrodes for a touch panel, and the opaque area A2 has a wiring 4 for the touch panel. .
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device includes a translucent substrate 1,
A light shielding layer 3 that is provided in the opaque region A2 on the surface of the first surface S1 as one surface of the translucent substrate 1 and constitutes the decorative portion 2;
Wiring 4 provided on the surface of the light shielding layer 3,
A plurality of first electrodes 5a extending from the display region A1 on the first surface S1 which is one surface of the translucent substrate 1 to the opaque region A2 and extending in the X direction as the first direction; A plurality of second electrodes 5b extending in the Y direction orthogonal to the X direction as a second direction intersecting with one direction;
An intersection 5C between the first electrode 5a and the second electrode 5b is provided between the electrodes, and an insulating layer 6 that insulates the electrodes from each other.

本実施形態においては、第1電極5a及び第2電極5bのパターンは、投影型静電容量方式に対応したパターンとなっている。一つの第1電極5aは、図16(b)でも示すように、菱形形状の複数の第1透明電極要素5aEと、互いに隣接する第1透明電極要素5aE同士を接続し第1透明電極要素5aEに比べて面積が小さい第1接続部5aCと、図16(b)では不図示であるが、第1透明電極要素5aEから位置検知領域の外周部の不透明領域A2まで延びて配線4に第1透明電極要素5aEを電気的に接続する為の取出し部5aFと、から構成される。同様に、一つの第2電極5b、図16(c)でも示すように、菱形形状の複数の第2透明電極要素5bEと、互いに隣接する第2透明電極要素5bE同士を接続し第1透明電極要素5aEに比べて面積が小さい第2接続部5bCと、第2透明電極要素5bEを配線4に電気的に接続する不図示の取出し部と、から構成される。
ただし、図16(a)では、第1電極5aは第1透明電極要素5aEのみを描いてあり、第2電極5bも第2透明電極要素5bEのみを描いてあり、第1接続部5aC、第2接続部5bC、及び各取出し部の図示は省略してある。
In this embodiment, the pattern of the 1st electrode 5a and the 2nd electrode 5b is a pattern corresponding to a projection capacitive system. As shown in FIG. 16 (b), one first electrode 5a connects a plurality of rhombus-shaped first transparent electrode elements 5aE and the first transparent electrode elements 5aE adjacent to each other to form a first transparent electrode element 5aE. The first connection portion 5aC having a smaller area than the first connection portion 5a and a first connection portion 5aC extending from the first transparent electrode element 5aE to the opaque region A2 in the outer peripheral portion of the position detection region, which are not shown in FIG. And an extraction portion 5aF for electrically connecting the transparent electrode element 5aE. Similarly, as shown also in one second electrode 5b, FIG. 16 (c), a plurality of rhombus-shaped second transparent electrode elements 5bE and the second transparent electrode elements 5bE adjacent to each other are connected to each other. The second connecting portion 5bC having a smaller area than the element 5aE and a take-out portion (not shown) that electrically connects the second transparent electrode element 5bE to the wiring 4 are configured.
However, in FIG. 16A, the first electrode 5a depicts only the first transparent electrode element 5aE, the second electrode 5b depicts only the second transparent electrode element 5bE, and the first connection portion 5aC, Illustration of 2 connection part 5bC and each extraction part is abbreviate | omitted.

しかも、絶縁層6は、加飾部2の構成層のうちの絶縁性を示す少なくとも1層として遮光層3と、同一材料で形成され、かつ、遮光層3と同時形成可能な面に接して同時に形成されている。   Moreover, the insulating layer 6 is formed of the same material as the light shielding layer 3 as at least one of the constituent layers of the decorative portion 2 and is in contact with a surface that can be formed simultaneously with the light shielding layer 3. It is formed at the same time.

さらに、本実施形態においては、交差部5Cで絶縁層6上に形成される第1電極5a及び第2電極5bのいずれか一方の電極として第1電極5aが、絶縁層6の上を跨ぐブリッジ部5aBとなっており、他方の電極となる第2電極5bは、絶縁層6の下をくぐり抜ける構造となっている。   Further, in the present embodiment, the bridge in which the first electrode 5a as one of the first electrode 5a and the second electrode 5b formed on the insulating layer 6 at the intersection 5C straddles the insulating layer 6 is straddled. The second electrode 5b, which is the portion 5aB and serves as the other electrode, has a structure that passes through the insulating layer 6.

本実施形態においては、透光性基板1にはガラス板が用いられており、加飾部2の遮光層3には着色顔料で黒色とした感光性樹脂が用いられており、配線4には、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)の金属材料が用いられている。
第1接続部5aCとなるブリッジ部5aBを除く第1電極5a、及び第2電極5bには、ITOが用いられており、ブリッジ部5aBには配線4と同一材料が用いられている結果、反射性導電性層から形成されており、絶縁層6には遮光層3と同一材料が用いられている結果、可視光反射率がブリッジ部5aBに比べて小さくなっている。
ブリッジ部5aBは、配線4と、同一材料で同時形成可能な面に接して同時形成されており、金属特有の反射性を呈し、また、不透明である。
In the present embodiment, a glass plate is used for the translucent substrate 1, a photosensitive resin blacked with a coloring pigment is used for the light shielding layer 3 of the decorative portion 2, and the wiring 4 A metal material of silver alloy (also referred to as APC) made of palladium and copper is used.
ITO is used for the first electrode 5a and the second electrode 5b excluding the bridge portion 5aB to be the first connection portion 5aC, and the same material as the wiring 4 is used for the bridge portion 5aB. As a result of using the same material as the light shielding layer 3 for the insulating layer 6, the visible light reflectance is smaller than that of the bridge portion 5aB.
The bridge portion 5aB is simultaneously formed in contact with the wiring 4 and a surface that can be formed simultaneously with the same material, exhibits a metal-specific reflectivity, and is opaque.

絶縁層6は加飾部2の遮光層3と、同一材料の黒色を呈する感光性樹脂によって同時形成されているため、絶縁層6は、ブリッジ部5aBに比べて、可視光反射率を低くすることができ、金属性反射を呈するブリッジ部5aBを目立たなくさせることができる。絶縁層6が電気的に絶縁性である関係上、本実施形態における遮光層3も、電気的に絶縁性である。
なお、透光性基板1上のそれぞれの層は全て、フォトリソグラフィ法によってパターン形成されている。
Since the insulating layer 6 is formed simultaneously with the light-shielding layer 3 of the decorative portion 2 and the same photosensitive black resin, the insulating layer 6 has a lower visible light reflectance than the bridge portion 5aB. The bridge portion 5aB exhibiting metallic reflection can be made inconspicuous. Since the insulating layer 6 is electrically insulating, the light shielding layer 3 in the present embodiment is also electrically insulating.
Note that all the layers on the translucent substrate 1 are patterned by photolithography.

なお、図1(b)のように、破線で図示するオーバーコート層7を、さらに、コネクタとの接続部を除く全面に形成しても良い。より信頼性を求められる場合に、オーバーコート層7によって、信頼性を向上させることができる。   As shown in FIG. 1B, an overcoat layer 7 shown by a broken line may be further formed on the entire surface excluding the connection portion with the connector. When more reliability is required, the overcoat layer 7 can improve the reliability.

なお、本発明においては、「絶縁」、或いは「接続」とは、全て電気的な意味での用語として使用されている。
本実施形態においては、ブリッジ部5aBは第1電極5aについてであったが、本発明においては、第2電極5b側がブリッジ部となる構成もあり得る。
本実施形態においては、X方向を第1電極5aとし、Y方向を第2電極5bとしたが、本発明においては、この逆でも良い。
本発明においては、第1電極5aと第2電極5bとの交差は直交以外でも良い。
本発明においては、第1透明電極要素5aE及び第2透明電極要素5bEの形状は、図1のような菱形形状に限定されない。
本発明においては、第1電極5a及び第2電極5bは、投影型静電容量方式など静電容量方式に限定されず、両電極が互いに交差する交差部5Cを有する方式であれば良い。
In the present invention, “insulation” or “connection” are all used as terms in an electrical sense.
In the present embodiment, the bridge portion 5aB is about the first electrode 5a. However, in the present invention, there may be a configuration in which the second electrode 5b side is a bridge portion.
In the present embodiment, the X direction is the first electrode 5a and the Y direction is the second electrode 5b. However, in the present invention, the opposite may be used.
In the present invention, the intersection of the first electrode 5a and the second electrode 5b may be other than orthogonal.
In the present invention, the shape of the first transparent electrode element 5aE and the second transparent electrode element 5bE is not limited to the rhombus shape as shown in FIG.
In the present invention, the first electrode 5a and the second electrode 5b are not limited to the electrostatic capacity method such as the projected electrostatic capacity method, and may be any method as long as the two electrodes intersect each other.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、次のようにして製造することができる。
1)先ず、図2(A)のように、(透光性基板1の一方の面である第1面S1に)第2電極5bの全てと、第1電極5aのうち第1接続部5aCを除く全てを、同一材料で同時形成する。
2)次に、図2(B)のように、絶縁層6と、加飾部2を構成する遮光層3とを、同一材料で同時形成する。
3)次に、図2(C)のように、配線4と、第1接続部5aCとなるブリッジ部5aBとを、同一材料で同時形成する。
本実施形態においては、以上の3工程で製造することができる。
〔Production method〕
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device as described above can be manufactured as follows.
1) First, as shown in FIG. 2A, all of the second electrodes 5b (on the first surface S1, which is one surface of the translucent substrate 1), and the first connection portion 5aC of the first electrodes 5a. All except for are formed simultaneously with the same material.
2) Next, as shown in FIG. 2B, the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 constituting the decorative portion 2 are simultaneously formed of the same material.
3) Next, as shown in FIG. 2C, the wiring 4 and the bridge portion 5aB to be the first connection portion 5aC are formed simultaneously with the same material.
In this embodiment, it can manufacture in the above three processes.

〔同時形成可能な面とは〕
本実施形態においては、絶縁層6は、加飾部2の構成層のうちの絶縁性を示す少なくとも1層以上の層として遮光層3と、同一材料で形成されている以外に、さらに、この同一材料で形成されている層同士が「同時形成可能な面」に接して形成されている。
ここで、「同時形成可能な面」について、この条件に該当しない「同時形成不可能な面」と対比させつつ、更に説明する。
ただ、「同時形成可能な面」に接して、同一材料で形成されている絶縁層6と加飾部2の構成層とが形成されていたからと言って、両層は別々に形成された物とすることもできる。しかし、「同時形成可能な面」に接して形成された構成においては、わざわざ、工程数を増やしてコスト高となるのを容認してまで、両層を同時に形成せずに、分けて形成する必要もないし、その必然性もない。両層を同時に形成することで、工程数を増やさずに形成できる物とすることができ、その分、コストダウンが図れる物にできるからである。
[What can be formed simultaneously?]
In the present embodiment, the insulating layer 6 is formed of the same material as that of the light shielding layer 3 as at least one or more layers showing insulating properties among the constituent layers of the decorative portion 2. The layers formed of the same material are formed in contact with the “surface that can be formed simultaneously”.
Here, the “surface that can be formed simultaneously” will be further described in comparison with the “surface that cannot be formed simultaneously” that does not meet this condition.
However, just because the insulating layer 6 made of the same material and the constituent layer of the decorative portion 2 were formed in contact with the “surface that can be formed simultaneously”, both layers were formed separately. You can also However, in the structure formed in contact with the “surface that can be formed simultaneously”, both layers are formed separately without intentionally increasing the number of steps and accepting an increase in cost. There is no necessity and there is no necessity. This is because by forming both layers at the same time, it can be formed without increasing the number of steps, and the cost can be reduced accordingly.

「同時形成可能な面」の説明において、「面」とは、絶縁層6或いは加飾部2の遮光層3などの構成層が、接する相手側の層において、「表面」と「界面」とを含み、また「側面」も含む。ただし、絶縁層6或いは加飾部2の遮光層3などの構成層を形成する面は、絶縁層6或いは加飾部2の遮光層3などの構成層に対して透光性基板1側となる層の面であるので、絶縁層6或いは加飾部2の遮光層3などの構成層に対して透光性基板1側とは反対側の層の面は除く。前記透光性基板1側とは反対側の面とは、例えば、以下の説明で参照する図3(a)〜図3(d)の絶縁層6に対するブリッジ部5aBの透光性基板1側の面である。
側面は形成面乃至は透光性基板1の第1面S1に、垂直であると見做す。これは、後述する「折り返すことなく」の定義において、斜めの側面に沿って「折り返し」が生じたとしても、これは無視して良いからである。
In the description of “surfaces that can be formed simultaneously”, “surface” refers to “surface” and “interface” in the layer on the other side where the constituent layer such as the insulating layer 6 or the light shielding layer 3 of the decorative portion 2 contacts. And also includes “sides”. However, the surface on which the constituent layers such as the light shielding layer 3 of the insulating layer 6 or the decorative portion 2 are formed is on the side of the transparent substrate 1 with respect to the constituent layers such as the light shielding layer 3 of the insulating layer 6 or the decorative portion 2. Therefore, the surface of the layer opposite to the translucent substrate 1 side with respect to the constituent layers such as the insulating layer 6 or the light shielding layer 3 of the decorative portion 2 is excluded. The surface opposite to the translucent substrate 1 side is, for example, the translucent substrate 1 side of the bridge portion 5aB with respect to the insulating layer 6 in FIGS. 3 (a) to 3 (d) referred to in the following description. This is the aspect.
The side surface is considered to be perpendicular to the formation surface or the first surface S1 of the translucent substrate 1. This is because in the definition of “without folding”, which will be described later, even if “folding” occurs along an oblique side surface, this can be ignored.

先ず、図3(a)は、本実施形態に該当する構成における「同時形成可能な面」の例であり、絶縁層6は透光性基板1、第1透明電極要素5aE及び第2接続部5bCの面に接して形成され、加飾部2の構成層としての遮光層3は透光性基板1、及び第1透明電極要素5aEと連続層として同時形成されている取出し部5aFの面に接して形成されている。このため、絶縁層6及び遮光層3は共に、透光性基板1の面に接した部分を有するとともに、絶縁層6は第1透明電極要素5aEの面に接した部分を有し、遮光層3は第1透明電極要素5aEと連続層として同時形成されている取出し部5aFの面に接した部分を有する。つまり、「同時形成可能な面」に接して形成されている。
同図に描かれた太い矢印の意味は、これらか詳述するので、ここでは簡単に説明しておく。同図で絶縁層6が第1透明電極要素5aEに接する面の部分から、遮光層3が第1透明電極要素5aEと連続層として同時形成されている取出し部5aFの面に接する部分まで、左向きの矢印は、逆向きになることなく一直線に延びており、両層がそれぞれ接して形成された面は、折り返すことなく接続されていることを示す。
また、矢印は示さないが、絶縁層6が接する面が透光性基板1である場合も同様に、絶縁層6が透光性基板1に接する面の部分から、遮光層3が透光性基板1の面に接する部分まで、左向きの矢印を、逆向きになることなく一直線で描くことができる。
First, FIG. 3A is an example of a “surface that can be formed simultaneously” in the configuration corresponding to the present embodiment, and the insulating layer 6 includes the translucent substrate 1, the first transparent electrode element 5aE, and the second connection portion. The light shielding layer 3 that is formed in contact with the surface of 5bC and is a constituent layer of the decorative portion 2 is formed on the surface of the extraction portion 5aF that is simultaneously formed as a continuous layer with the translucent substrate 1 and the first transparent electrode element 5aE. It is formed in contact. For this reason, both the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 have a portion in contact with the surface of the translucent substrate 1, and the insulating layer 6 has a portion in contact with the surface of the first transparent electrode element 5aE. 3 has the part which contact | connected the surface of the extraction part 5aF currently formed simultaneously as 1st transparent electrode element 5aE as a continuous layer. That is, it is formed in contact with the “surface that can be formed simultaneously”.
The meaning of the thick arrows drawn in the figure will be described in detail here, and will be briefly described here. From the portion of the surface where the insulating layer 6 is in contact with the first transparent electrode element 5aE to the portion where the light shielding layer 3 is in contact with the surface of the extraction portion 5aF formed simultaneously with the first transparent electrode element 5aE in FIG. The arrows extend in a straight line without being reversed, and indicate that the surfaces formed by contacting both layers are connected without being folded back.
In addition, although the arrow is not shown, when the surface in contact with the insulating layer 6 is the translucent substrate 1, similarly, the light shielding layer 3 is translucent from the portion of the surface in which the insulating layer 6 is in contact with the translucent substrate 1. The left-pointing arrow can be drawn in a straight line up to the portion in contact with the surface of the substrate 1 without being reversed.

図3(b)は、「同時形成不可能な面」の例である。同図の絶縁層6は透光性基板1、第1透明電極要素5aE及び第2接続部5bCの面に接して形成されている点は、上述した図3(a)と同様である。一方、加飾部2の構成層としての遮光層3は透光性基板1の面に接して形成されている点までは図3(a)と同様であるが、この遮光層3は、第1透明電極要素5aEと連続層として同時形成されている取出し部5aFの面に接して形成されてはいない。こうした構成は、遮光層3の部分の層上下関係から判るように、遮光層3を先に形成してから第1透明電極要素5aE及び取出し部5aF並びに第2接続部5bCなどを形成することで、形成される構成である。
つまり、これらの層の形成順序は、ブリッジ部5aBとして形成する第2接続部5bCは除いた、第1電極5a及び第2電極5bを同一材料で同時形成することを前提にすると、
1)遮光層3を形成し、この次に、
2)第1透明電極要素5aE及び取出し部5aF、並びに第2電極5b(第2透明電極要素5bE、第2接続部5bC及び第2電極5bの取出し部)を形成し、この次に、
3)絶縁層6を遮光層3と同一材料で形成しないと実現しない構成である。
FIG. 3B is an example of a “surface that cannot be formed simultaneously”. The insulating layer 6 in the figure is formed in contact with the surfaces of the translucent substrate 1, the first transparent electrode element 5aE, and the second connection portion 5bC, as in FIG. 3A described above. On the other hand, the light shielding layer 3 as a constituent layer of the decorative portion 2 is the same as that shown in FIG. 3A until the light shielding layer 3 is formed in contact with the surface of the translucent substrate 1. It is not formed in contact with the surface of the extraction portion 5aF that is simultaneously formed as a continuous layer with the one transparent electrode element 5aE. Such a configuration is obtained by forming the first transparent electrode element 5aE, the extraction portion 5aF, the second connection portion 5bC, and the like after the light shielding layer 3 is formed first, as can be seen from the layer vertical relationship of the portion of the light shielding layer 3. This is a configuration to be formed.
That is, the order of formation of these layers is based on the premise that the first electrode 5a and the second electrode 5b are formed simultaneously with the same material except for the second connection portion 5bC formed as the bridge portion 5aB.
1) The light shielding layer 3 is formed, and then
2) forming the first transparent electrode element 5aE and the extraction part 5aF, and the second electrode 5b (the extraction part of the second transparent electrode element 5bE, the second connection part 5bC and the second electrode 5b), and then
3) The configuration is not realized unless the insulating layer 6 is formed of the same material as the light shielding layer 3.

したがって、明らかに、絶縁層6及び遮光層3について、両層は互いに「同時形成不可能な面」に接して形成されている。
同図で絶縁層6が第1透明電極要素5aEに接する面の部分から、遮光層3が接する唯一の面である透光性基板1の面に接する部分まで、左向きでスタートした矢印は、取出し部5aFの左端の側面に沿って折り返すことで、遮光層3が透光性基板1の面に接する部分まで延ばすことができ、両層がそれぞれ接して形成された面は、折り返すことなく接続されているとは、言えない。
ただし、こうした「同時形成不可能な面」に接して形成された構成であっても、この場合では形成面として透光性基板1に注目すると、図示はしないが、絶縁層6が透光性基板1に接する面の部分から、遮光層3が透光性基板1の面に接する部分まで、左向きでスタートする矢印を、透光性基板1の面に沿って折り返すことなく延ばすことができる。この点では、透光性基板1に対しては一見すると、「同時形成可能な面」に接して形成されているようにも見える。しかし、前記したように、絶縁層6が接しているもう一つの面である第1透明電極要素5aEの面で見ると、「同時形成不可能な面」に接して形成されている構造が存在する。
つまり、「同時形成可能な面」に接して形成されているとは、対象とする層同士について、一部の面でも、「同時形成不可能な面」に接して形成されている部分が存在している場合は、同時形成することが出来ないのであり、「同時形成可能な面」に接して形成されているとは言えない。
Therefore, obviously, the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 are formed in contact with each other on “surfaces that cannot be formed simultaneously”.
In the same figure, the arrow started leftward from the portion of the surface where the insulating layer 6 is in contact with the first transparent electrode element 5aE to the portion where it is in contact with the surface of the transparent substrate 1, which is the only surface where the light shielding layer 3 is in contact, is taken out. By folding back along the left end side surface of the part 5aF, the light shielding layer 3 can be extended to a portion in contact with the surface of the translucent substrate 1, and the surfaces formed by contacting both layers are connected without being folded back. I can't say that.
However, even if the structure is formed in contact with such a “surface that cannot be formed simultaneously”, in this case, when attention is paid to the light-transmitting substrate 1 as a forming surface, the insulating layer 6 is light-transmitting although not shown. An arrow that starts to the left can be extended along the surface of the light-transmitting substrate 1 from the portion of the surface that contacts the substrate 1 to the portion of the light-shielding layer 3 that contacts the surface of the light-transmitting substrate 1 without being folded back. In this respect, the transparent substrate 1 seems to be formed in contact with the “surface that can be formed simultaneously” at first glance. However, as described above, when viewed from the surface of the first transparent electrode element 5aE, which is the other surface with which the insulating layer 6 is in contact, there is a structure formed in contact with the “surface that cannot be formed simultaneously” To do.
In other words, “It is formed in contact with the“ surface that can be formed simultaneously ”means that there is a portion formed in contact with the“ surface that cannot be formed simultaneously ”in some of the target layers. In this case, it cannot be formed at the same time, and cannot be said to be in contact with the “surface that can be formed simultaneously”.

図3(c)及び図3(d)は、絶縁層6と、同一材料で形成され且つ「同時形成可能な面」に接して形成されている、加飾部2の構成層のうちの絶縁性を示す少なくとも1層以上の層として、遮光層3に属する赤外透過層3aLの場合の2例を示したものである。赤外透過層3aLは赤外透過窓3aの部分とする遮光層3の非形成部に形成される。赤外透過層3aLは、可視光に対する遮光性と赤外光に対する透光性を共に示す層である。赤外透過窓3a及び赤外透過層3aLについての詳細は、後述する。
図3(c)及び図3(d)のどちらの構成でも、絶縁層6が接する面から赤外透過層3aLが接する層まで、矢印は折り返すことなく到達し、両層がそれぞれ接して形成された面は、折り返すことなく接続されていることを示す。
図3(c)においては、絶縁層6が接する第1透明電極要素5aEの面と、赤外透過層3aLが接する透光性基板1の面とは、接続した面となっている。
図3(d)においては、絶縁層6が接する第1透明電極要素5aEの面と、赤外透過層3aLが接する遮光層3の面とは、接続した面となっている。
3 (c) and 3 (d) show the insulation of the constituent layers of the decorative portion 2 formed of the same material as the insulating layer 6 and in contact with the “surface that can be formed simultaneously”. Two examples in the case of the infrared transmission layer 3aL belonging to the light shielding layer 3 are shown as at least one or more layers showing the property. The infrared transmission layer 3aL is formed in a portion where the light shielding layer 3 is not formed as a portion of the infrared transmission window 3a. The infrared transmitting layer 3aL is a layer that exhibits both a light blocking property for visible light and a light transmitting property for infrared light. Details of the infrared transmission window 3a and the infrared transmission layer 3aL will be described later.
In both configurations of FIG. 3C and FIG. 3D, the arrow reaches from the surface in contact with the insulating layer 6 to the layer in contact with the infrared transmission layer 3aL without being folded back, and both layers are in contact with each other. The surface indicates that the connection is made without turning back.
In FIG.3 (c), the surface of the 1st transparent electrode element 5aE which the insulating layer 6 contact | connects, and the surface of the translucent board | substrate 1 which the infrared transmission layer 3aL contacts are the surfaces which connected.
In FIG. 3D, the surface of the first transparent electrode element 5aE that is in contact with the insulating layer 6 and the surface of the light shielding layer 3 that is in contact with the infrared transmission layer 3aL are connected surfaces.

(接続した面とは)
「接続した面」とは、図3(c)或いは図3(d)で折れ線の矢印で示すとおり、絶縁層6が接して形成されている第1透明電極要素5aEから、赤外透過層3aLが接して形成されている透光性基板1或いは遮光層3の面にまで、層の側面も場合により経由して折り返すことなく、たどることができることを意味する。このように、両層の形成されている面が、互いに折り返すことなく「接続した面」であるときは、「同時形成可能な面」となる。
(What is the connected surface)
The “connected surface” refers to the infrared transmission layer 3aL from the first transparent electrode element 5aE formed in contact with the insulating layer 6 as shown by the broken line arrows in FIG. 3C or 3D. This means that the side surface of the layer can be traced to the surface of the light-transmitting substrate 1 or the light shielding layer 3 formed in contact with each other without being folded back. Thus, when the surface on which both layers are formed is a “connected surface” without being folded back, it becomes a “surface that can be formed simultaneously”.

図3(b)は、「同時形成不可能な面」の例であった。これを上記「接続した面」の観点から再度考察すると、絶縁層6が接して形成されている第1透明電極要素5aEの面と、遮光層3が接して形成されている透光性基板1の面とは、互いに接続した面ではない。これをより厳密に表現すると、両層がそれぞれ接して形成されている前記面同士は、互いに折り返すことなく接続した面ではない。言い換えると、折り返して接続した面に接して形成されている。   FIG. 3B is an example of a “surface that cannot be formed simultaneously”. Considering this again from the viewpoint of the “connected surface”, the transparent substrate 1 in which the light shielding layer 3 is in contact with the surface of the first transparent electrode element 5aE formed in contact with the insulating layer 6. Are not connected to each other. To express this more strictly, the surfaces formed by contacting both layers are not surfaces that are not folded back to each other. In other words, it is formed in contact with the folded and connected surface.

(折り返すとは)
「折り返す」とは、図3(b)で折れ線の矢印で示す様に、矢印の折れ線が延びる方向が、断面図において、元の方向に戻ることを意味する。
前記矢印が、折り返すか否かを判断する断面図は、平面視において、同一材料で形成されている絶縁層6と加飾部2の構成層とを、最短距離で結ぶことができる直線を含む断面における断面図とすることができる。つまり、「折り返す」を判断するための矢印としては、絶縁層6と同図の場合で言えば遮光層3とを最短距離で結ぶことができる直線を含む断面に於ける矢印を採用できる。
(What is wrapping?)
“Fold back” means that the direction in which the broken line of the arrow extends returns to the original direction in the cross-sectional view, as indicated by the broken line arrow in FIG.
The cross-sectional view for determining whether or not the arrow is folded back includes a straight line that can connect the insulating layer 6 formed of the same material and the constituent layers of the decorative portion 2 at the shortest distance in a plan view. It can be a sectional view in a section. In other words, as an arrow for determining “turning back”, an arrow in a cross section including a straight line that can connect the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 with the shortest distance in the case of FIG.

以上説明したように、「同時形成可能な面」とは、図3(d)で例示した場合のように、絶縁層6が接して形成される面と、これと同一材料で、且つ「同時形成可能な面」に接して形成される、つまり同時形成される層が赤外透過層3aLである場合で言えば、赤外透過層3aLが接して形成される面が、異なる層の面であっても良い。同図では、絶縁層6は第1透明電極要素5aEに接して形成され、赤外透過層3aLは遮光層3の面に接して形成されている。
ただ、両層がそれぞれ形成される面が異なる層の面であっても、図3(c)のように、「同時形成不可能な面」のこともある。この違いは、両層の形成される面が異なる層の面であっても、折り返すことなく接続した面であるか否かによって、「同時形成可能な面」であるか否かを判別できる。
As described above, the “surface that can be formed simultaneously” is the same material as the surface formed in contact with the insulating layer 6 as in the case illustrated in FIG. If the layer formed in contact with the “formable surface”, that is, the layer formed simultaneously is the infrared transmission layer 3aL, the surface formed in contact with the infrared transmission layer 3aL is a surface of a different layer. There may be. In the figure, the insulating layer 6 is formed in contact with the first transparent electrode element 5 a E, and the infrared transmission layer 3 a L is formed in contact with the surface of the light shielding layer 3.
However, even if the surfaces on which both layers are formed are different surfaces, they may be “surfaces that cannot be formed simultaneously” as shown in FIG. This difference can be determined whether or not the surfaces on which both layers are formed are “surfaces that can be formed at the same time” depending on whether or not they are surfaces that are connected without folding.

(接する面同士の組み合わせ)
これまでの説明で判る様に、対象とする層について、或る一つの層が接して形成される面が2種類以上存在する構成がある。例えば、図3(a)及び図3(b)では、絶縁層6には、(A1)透光性基板1、(A2)第1透明電極要素5aE、及び、(A3)第2接続部5bC、の3種類の面が存在し、遮光層3には、(B1)透光性基板1の1種類の面が存在する。
図3(d)では、絶縁層6には、(A1)透光性基板1、(A2)第1透明電極要素5aE、及び、(A3)第2接続部5bC、の3種類の面が存在し、赤外透過層3aLには、(B1)透光性基板1、及び、(B2)遮光層3の2種類の面が存在する。
このように、複数の面が存在するときは、絶縁層6が接して形成される面の全て(A1)〜(An)と、これと同一材料で形成される層が接して形成される面の全て(B1)〜(Bn)との、全ての組み合わせにおいて、折り返すことなく接続されている矢印(経路と言っても良い)を描ければ、「同時形成可能な面」である。
例えば、上記図3(d)の場合で言えば、(A1)と(B1)、(A1)と(B2)、(A2)と(B1)、(A2)と(B2)、(A3)と(B1)、(A3)と(B2)、の全6組の組み合わせが対象となる。
ただし、或る面(Ai)から或る面(Bi)に至る矢印(経路)が複数存在するときは、そのなかの一つの経路でも折り返すことなく接続されていれば良く、他の矢印(経路)に折り返して接続されている矢印(経路)が存在しても良い。
なお、前記n及びiは1以上の整数である。
(Combination of touching faces)
As can be understood from the above description, the target layer has a configuration in which two or more types of surfaces formed by contacting a certain layer exist. For example, in FIGS. 3A and 3B, the insulating layer 6 includes (A1) a transparent substrate 1, (A2) a first transparent electrode element 5aE, and (A3) a second connection portion 5bC. , And the light shielding layer 3 has (B1) one type of surface of the translucent substrate 1.
In FIG. 3D, the insulating layer 6 has three types of surfaces: (A1) the transparent substrate 1, (A2) the first transparent electrode element 5aE, and (A3) the second connection portion 5bC. In the infrared transmission layer 3aL, there are two types of surfaces: (B1) the translucent substrate 1 and (B2) the light shielding layer 3.
Thus, when there are a plurality of surfaces, all of the surfaces (A1) to (An) formed in contact with the insulating layer 6 and the surfaces formed of the same material as the surfaces are in contact with each other. In all combinations of (B1) to (Bn), an arrow (which may be referred to as a path) that is connected without turning back is a “surface that can be formed simultaneously”.
For example, in the case of FIG. 3D, (A1) and (B1), (A1) and (B2), (A2) and (B1), (A2) and (B2), (A3) and All six combinations of (B1), (A3), and (B2) are targeted.
However, when there are a plurality of arrows (routes) from a certain surface (Ai) to a certain surface (Bi), it is sufficient that one of the routes is connected without being folded, and the other arrows (routes) ) And an arrow (path) connected by turning back may be present.
The n and i are integers of 1 or more.

以上のように、「同時形成可能な面」とは、絶縁層6が接して形成される面と、これと同一材料で形成される加飾部2を構成し絶縁性を示す層が接して形成される面とが、「互いに折り返すことなく接続された面」である、と言うこともできる。   As described above, the “surface that can be formed simultaneously” means that the surface formed by contact with the insulating layer 6 is in contact with the layer that constitutes the decorative portion 2 formed of the same material as the insulating layer 6 and exhibits insulating properties. It can also be said that the surface to be formed is a “surface connected without folding back to each other”.

以下、構成要素毎にさらに詳述する。   Hereinafter, each component will be further described in detail.

〔表示用領域A1と不透明領域A2〕
タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、図16の平面図で例示したように、中央に表示用領域A1を有し、表示用領域A1の外周部に、可視光を遮蔽する不透明領域A2を有する。
表示用領域A1は、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を表示パネルに適用したときに、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を透して、表示パネルが表示する内容を表示できる領域である。また、タッチパネルの位置検知領域を含む領域でもある。
不透明領域A2は、表示パネルが外周部に有する配線、コネクタなどを隠したり、或いは、不透明な配線4、コネクタなどを隠したりする為の領域である。また、不透明領域A2は、遮光層3及びそれが表現する色、並びに、適宜設けるロゴやマークなどの可視情報9によって加飾部2を構成する領域である。
[Display area A1 and opaque area A2]
As illustrated in the plan view of FIG. 16, the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device has a display area A1 in the center, and an opaque area A2 that shields visible light from the outer periphery of the display area A1. Have
The display area A1 is an area through which the display panel can display the content displayed through the front protective plate 10 for a display device with an integrated touch panel when the front protective plate 10 for a display device with a touch panel integrated is applied to a display panel. It is. It is also an area including a position detection area of the touch panel.
The opaque area A2 is an area for hiding the wiring, connector, etc., which the display panel has on the outer periphery, or for hiding the opaque wiring 4, connector, etc. The opaque region A2 is a region that configures the decoration portion 2 by the light shielding layer 3, the color expressed by the light shielding layer 3, and visible information 9 such as a logo or a mark provided as appropriate.

〔透光性基板1〕
透光性基板1は、少なくとも可視光線に対して透明で、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10の裏側のタッチパネル用の電極や表示パネルを保護し得る機械強度を有するものであれば、特に制限はなく、公知の基板を用いることができ、代表的にはガラス板を用いることができる。特に、前記ガラス板として、化学強化ガラスはフロートガラスに比べて機械的強度に優れ、その分薄くできる点で好ましい。
透光性基板1には、樹脂を用いることも可能である。例えば、前記樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂などを用いることができる。透光性基板1に樹脂を用いることで、軽量にできる上、可撓性を持たせることも可能となる。
[Translucent substrate 1]
As long as the translucent substrate 1 is transparent to at least visible light and has mechanical strength capable of protecting the touch panel electrodes and the display panel on the back side of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device, it is particularly preferable. There is no restriction | limiting, A well-known board | substrate can be used and a glass plate can be used typically. In particular, as the glass plate, chemically tempered glass is preferable in that it has excellent mechanical strength compared to float glass and can be made thinner accordingly.
Resin can also be used for the translucent substrate 1. For example, as the resin, an acrylic resin, a polycarbonate resin, a polyester resin, or the like can be used. By using a resin for the light-transmitting substrate 1, the weight can be reduced and flexibility can be provided.

〔加飾部2〕
加飾部2は、表示用領域A1の外周部に存在する不透明領域A2において、任意の意匠表現により、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を加飾する部分である。
加飾部2は、通常、不透明領域A2の全領域となる。加飾部2は、不透明領域A2を可視光に対して不透明とする為に、少なくとも遮光層3を有する。不透明領域A2の加飾部2の内部には、図16で例示するように、人感センサなどのための赤外透過窓3a、ロゴやマークなどの可視情報9を、設けることができる。
[Decoration Part 2]
The decorating part 2 is a part for decorating the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device with an arbitrary design expression in the opaque area A2 present in the outer peripheral part of the display area A1.
The decorating part 2 is usually the entire area of the opaque area A2. The decorative portion 2 has at least a light shielding layer 3 in order to make the opaque region A2 opaque to visible light. In the interior of the decoration part 2 in the opaque region A2, visible information 9 such as an infrared transmission window 3a for a human sensor or a logo or a mark can be provided as illustrated in FIG.

[遮光層3]
遮光層3は、透光性基板1の裏側の一方の面である第1面S1の不透明領域A2の部分に形成される。遮光層3によって、不透明領域A2が不透明な領域として形成され、不透明領域A2における加飾部2を構成する。遮光層3は、不要な部品を隠すための遮光性と共に、外観意匠を向上させる機能も有する。
[Light shielding layer 3]
The light shielding layer 3 is formed in a portion of the opaque region A2 of the first surface S1, which is one surface on the back side of the translucent substrate 1. The opaque region A2 is formed as an opaque region by the light shielding layer 3, and constitutes the decoration part 2 in the opaque region A2. The light shielding layer 3 has a function of improving the appearance design as well as a light shielding property for hiding unnecessary parts.

遮光層3の遮光性は、要求仕様、表現色にもよるが、透過率で言えば大きくても3%以下(光学濃度ODにて1.5以上)、より好ましくは透過率で1%以下(光学濃度OD2.0以上)、さらに好ましくは透過率で0.01%以下(光学濃度OD4.0以上)が望ましい。透過率が上記値を超えると、隠すべき部品などが見えてしまうことがあるからである。   The light-shielding property of the light-shielding layer 3 depends on required specifications and expression colors, but in terms of transmittance, it is at most 3% or less (optical density OD is 1.5 or more), more preferably transmittance is 1% or less. (Optical density OD2.0 or higher), more preferably 0.01% or lower (optical density OD4.0 or higher) in transmittance is desirable. This is because if the transmittance exceeds the above value, parts to be hidden may be seen.

遮光層3は、公知の材料及び形成法で形成することができる。例えば、遮光層3は、着色顔料を硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂バインダ中に含む層から形成することができる。硬化性樹脂としては紫外線硬化型アクリル系樹脂などの感光性樹脂を用いることができる。
本実施形態においては、遮光層3は、着色顔料を硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂バインダ中に含む層から形成されている。上記硬化性樹脂として感光性樹脂を用いてある。
The light shielding layer 3 can be formed by a known material and a forming method. For example, the light shielding layer 3 can be formed from a layer containing a color pigment in a resin binder made of a cured product of a curable resin. As the curable resin, a photosensitive resin such as an ultraviolet curable acrylic resin can be used.
In this embodiment, the light shielding layer 3 is formed of a layer containing a color pigment in a resin binder made of a cured product of a curable resin. A photosensitive resin is used as the curable resin.

(着色顔料)
上記着色顔料としては、遮光層3で表現する色に応じたものを用いれば良く、特に制限はない。例えば、着色顔料としては、黒色顔料、白色顔料、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料などを用いることができる。着色顔料は、1種単独で用いても良いし、同種類の色、或いは異なる色の着色顔料を複数種類用いても良い。
(Color pigment)
The color pigment is not particularly limited as long as it corresponds to the color expressed by the light shielding layer 3. For example, as a colored pigment, a black pigment, a white pigment, a red pigment, a yellow pigment, a blue pigment, a green pigment, a purple pigment, or the like can be used. The color pigments may be used alone, or a plurality of types of color pigments of the same type or different colors may be used.

前記黒色顔料には、例えば、カーボンブラック、チタンブラック(低次酸化チタン、酸窒化チタンなど)を用いることができる。
着色顔料としては、表現する色にもよるが、遮光性が得易い点では黒色顔料が好ましい。黒色顔料のなかでも、安価である点ではカーボンブラックはチタンブラックに比べて好ましく、より高い絶縁性を得易い点では、チタンブラックはカーボンブラックに比べて好ましい。
As the black pigment, for example, carbon black and titanium black (low-order titanium oxide, titanium oxynitride, etc.) can be used.
As the coloring pigment, although depending on the color to be expressed, a black pigment is preferable in terms of easily obtaining light shielding properties. Among black pigments, carbon black is preferable to titanium black in terms of low cost, and titanium black is preferable to carbon black in terms of easily obtaining higher insulation.

遮光層3で黒色など暗色を表現する場合、カーボンブラックなどの黒色顔料を用いずに、有彩色の着色顔料を複数種類混合して、黒色を表現しても良い。とくに、絶縁層6を遮光層3と同一材料で形成する場合に、着色顔料を含む樹脂層は絶縁性ではあるが、より高い絶縁性を求める場合は、カーボンブラックのような導電性に寄与し得る黒色顔料を用いないで、黒色など暗色を表現できる利点がある。   When dark color such as black is expressed by the light-shielding layer 3, black may be expressed by mixing a plurality of chromatic color pigments without using a black pigment such as carbon black. In particular, when the insulating layer 6 is formed of the same material as the light-shielding layer 3, the resin layer containing the color pigment is insulative, but when higher insulation is required, it contributes to conductivity such as carbon black. There is an advantage that a dark color such as black can be expressed without using a black pigment to be obtained.

(硬化性樹脂)
前記硬化性樹脂としては、感光性樹脂、及び、熱硬化性樹脂から選ばれる公知の樹脂を1種以上用いることができる。
前記感光性樹脂或いは熱硬化性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂等を、1種以上用いることができる。
(Curable resin)
As said curable resin, 1 or more types of well-known resin chosen from photosensitive resin and a thermosetting resin can be used.
As the photosensitive resin or thermosetting resin, for example, one or more of acrylic resin, epoxy resin, polyimide resin, and the like can be used.

(遮光層3の形成)
遮光層3の形成法は、本発明においては、特に限定されない。例えば、遮光層3は、前記硬化性樹脂の未硬化物を含む樹脂バインダ中に着色顔料を含有する、着色硬化性樹脂組成物によって、形成することができる。前記着色硬化性樹脂組成物には、さらに、この樹脂組成物を透光性基板1の面上に塗布する際の塗布適性、或いは印刷する際の印刷適性の調整などの為に、溶剤を含むことができる。
(Formation of light shielding layer 3)
The method for forming the light shielding layer 3 is not particularly limited in the present invention. For example, the light shielding layer 3 can be formed by a colored curable resin composition containing a color pigment in a resin binder containing an uncured product of the curable resin. The colored curable resin composition further contains a solvent for adjusting the coating suitability when the resin composition is applied onto the surface of the light-transmitting substrate 1 or the printing suitability when printing. be able to.

硬化性樹脂として感光性樹脂を用いる場合、前記着色顔料、前記感光性樹脂の未硬化物としては、従来、カラーフィルタ用途として調整された着色レジスト用の材料を用いても良い。   When a photosensitive resin is used as the curable resin, a material for a color resist that has been conventionally adjusted for color filter use may be used as the color pigment and the uncured product of the photosensitive resin.

硬化性樹脂として感光性樹脂を用いる場合、着色硬化性樹脂組成物を、透光性基板1の面上に塗布する方法は、例えば、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ビードコート法などの公知の塗工法によることができる。
着色硬化性樹脂組成物を塗布した後は、フォトリソグラフィー技術を用いて露光、現像、ベークなどの所定の工程を経て、パターニングすることにより、透光性基板1の面上の一部に、所定パターンの遮光層3を形成することができる。
When using a photosensitive resin as the curable resin, a method of applying the colored curable resin composition on the surface of the translucent substrate 1 is, for example, a spin coating method, a roll coating method, a die coating method, a spray coating method, A known coating method such as a bead coating method can be used.
After applying the colored curable resin composition, patterning is performed on a part of the surface of the translucent substrate 1 by performing a predetermined process such as exposure, development, and baking using a photolithography technique. A light shielding layer 3 having a pattern can be formed.

硬化性樹脂として熱硬化性樹脂を用いる場合は、着色硬化性樹脂組成物からなるインクを用いて、印刷法によってパターン状に形成する。印刷法としては、特に制限はなく、例えば、オフセット印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法等を適宜採用することができる。   When a thermosetting resin is used as the curable resin, it is formed into a pattern by a printing method using an ink made of a colored curable resin composition. There is no restriction | limiting in particular as a printing method, For example, an offset printing method, a flexographic printing method, an inkjet printing method etc. can be employ | adopted suitably.

[加飾部2の構成層のうち絶縁性を示す層]
加飾部2の構成層のうち絶縁性を示す層としては、本実施形態においては、遮光層3である。
本発明においては、加飾部2の構成層のうち絶縁性を示す層としては、遮光層3以外に、後述実施形態で説明するオーバーコート層7、赤外透過層3aLなどがあり得る。また、これら以外の層であっても、絶縁性を示す層であれば、絶縁層6として使用することができる。絶縁性を示さない層としては、例えば、後述する、金属光沢を有する金属材料で形成された裏打ち層3bがある。この裏打ち層3bには配線4と同一材料のものが用いられ得る。
上記絶縁性とは、交差部5Cにおいて交差する第1電極5aと第2電極5bとの絶縁に要求される程度の絶縁性を意味する。この絶縁性は、交差部5Cにおいて交差する両電極の重なり合う面積、タッチパネルとしての位置検知精度及び制御回路などに依存する。
本発明においては、加飾部2は2層以上の層を重ねても良い。例えば、後述するように、遮光層3とオーバーコート層7との2層からなる加飾部2である。
[The layer which shows insulation among the constituent layers of the decoration part 2]
In the present embodiment, the light-insulating layer 3 is a layer showing insulating properties among the constituent layers of the decorating unit 2.
In the present invention, the insulating layer among the constituent layers of the decorating unit 2 may include an overcoat layer 7 and an infrared transmission layer 3aL described in the following embodiment in addition to the light shielding layer 3. Moreover, even if it is a layer other than these, if it is a layer which shows insulation, it can be used as the insulating layer 6. FIG. As a layer which does not show insulation, for example, there is a backing layer 3b formed of a metallic material having a metallic luster, which will be described later. The backing layer 3b can be made of the same material as the wiring 4.
The insulating property means an insulating property required to insulate the first electrode 5a and the second electrode 5b that intersect at the intersecting portion 5C. This insulation depends on the overlapping area of the electrodes intersecting at the intersection 5C, the position detection accuracy as a touch panel, the control circuit, and the like.
In the present invention, the decorative portion 2 may be stacked with two or more layers. For example, as will be described later, the decoration portion 2 includes two layers of a light shielding layer 3 and an overcoat layer 7.

〔配線4〕
配線4には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、配線4には、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属(含むその合金)などを用いることができる。配線4は、例えば、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。
配線4には、モリブデン(Mo)/アルミニウム(Al)/モリブデン(Mo)と3層積層構造の導電性層(MAMと呼ばれている)を用いることもできる。
本実施形態においては、配線4は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)によって、金属層として形成されている。
配線4の形成法としては、特に制限はなく、フォトリソグラフィ法以外に、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法によって形成しても良い。
また、本実施形態においては、配線4は、ブリッジ部5aBとなる反射性導電性層と同一材料で同時形成可能な面に同時形成されている。
[Wiring 4]
A known material and formation method can be used for the wiring 4. For example, the wiring 4 can be made of metal (including alloys thereof) such as silver, gold, copper, chromium, platinum, aluminum, palladium, and molybdenum. For example, the wiring 4 can be formed into a pattern by a photolithography method after forming a metal layer of a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper by a sputtering method.
For the wiring 4, molybdenum (Mo) / aluminum (Al) / molybdenum (Mo) and a conductive layer (referred to as MAM) having a three-layer structure can also be used.
In the present embodiment, the wiring 4 is formed as a metal layer by a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper.
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the wiring 4, You may form by printing methods, such as a screen printing method and an inkjet printing method, besides the photolithography method.
Moreover, in this embodiment, the wiring 4 is simultaneously formed on the surface which can be simultaneously formed with the same material as the reflective conductive layer used as the bridge part 5aB.

〔第1電極5a及び第2電極5b〕
第1電極5a及び第2電極5bには、公知の材料及び形成法を適宜採用することができる。例えば、第1電極5a及び第2電極5bには、ITO(Indium Tin Oxide;インジウム錫酸化物)、IZO(登録商標;出光興産株式会社)(Indium Zinc Oxide;インジウム亜鉛化物)、AZO(Aluminum Zinc Oxide;アルミニウム亜鉛酸化物)、IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide、インジウムガリウム亜鉛酸化物)、等の透明導電体薄膜をパターン形成したものを用いることができる。
[First electrode 5a and second electrode 5b]
For the first electrode 5a and the second electrode 5b, known materials and forming methods can be appropriately employed. For example, the first electrode 5a and the second electrode 5b include ITO (Indium Tin Oxide), IZO (registered trademark; Idemitsu Kosan Co., Ltd.) (Indium Zinc Oxide), AZO (Aluminum Zinc). Oxide (aluminum zinc oxide), IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide, Indium Gallium Zinc Oxide), or the like can be used that is formed by patterning a transparent conductor thin film.

[ブリッジ部]
ブリッジ部5aB或いは第2電極5bにおけるブリッジ部(以下、これらを纏めて単にブリッジ部とも言う)については、透明導電体薄膜以外の前記配線4で述べたような不透明な金属層を用いることもできる。ブリッジ部には反射性導電性層を用いることもできる。ブリッジ部は、配線4と同一材料とすることもでき、さらに配線4と同時形成可能な面に接して同時形成することもできる。
ブリッジ部5aBは、反射性導電性層を含む場合、この反射性導電性層に前記透明導電体薄膜などの他の層が、積層されていても良い。
[Bridge part]
For the bridge portion (hereinafter collectively referred to as a bridge portion) in the bridge portion 5aB or the second electrode 5b, an opaque metal layer as described in the wiring 4 other than the transparent conductor thin film can be used. . A reflective conductive layer can also be used for the bridge portion. The bridge portion can be made of the same material as that of the wiring 4, and can be simultaneously formed in contact with a surface that can be formed simultaneously with the wiring 4.
When the bridge portion 5aB includes a reflective conductive layer, another layer such as the transparent conductor thin film may be laminated on the reflective conductive layer.

ブリッジ部の外形形状の寸法は、例えば、図1に示す本実施形態においては、幅5〜20μm、長さ100〜400μmの長方形である。前記幅とは、図1のブリッジ部5aBにおいて、第2方向(図面Y方向)の寸法であり、前記長さとは、第1方向(図面X方向)の寸法である。   The dimensions of the external shape of the bridge portion are, for example, a rectangle having a width of 5 to 20 μm and a length of 100 to 400 μm in the present embodiment shown in FIG. The width is a dimension in the second direction (Y direction in the drawing) and the length is a dimension in the first direction (X direction in the drawing) in the bridge portion 5aB in FIG.

(反射性導電性層)
反射性導電性層には、前記配線4で述べた金属材料など用いることができる。例えば、反射性導電性層には、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属(含むその合金)などを用いることができる。反射性導電性層は、例えば、銀、パラジウム及び銅からなる 銀合金(APCとも言う)の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。
反射性導電性層は、モリブデン(Mo)/アルミニウム(Al)/モリブデン(Mo)と3層積層構造の導電性層(MAMと呼ばれている)を用いることもできる。
本実施形態においては、反射性導電性層は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)によって、フォトリソグラフィ法によりパターン形成された金属層として形成されている。
これらの金属材料で形成した反射性導電性層は、金属特有の反射性を呈し、また、通常は不透明である。例えば、前記銀合金APCからなる反射性導電性層は銀色の金属反射性を呈している。
ブリッジ部の形成法としては、特に制限はなく、フォトリソグラフィ法以外に、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法によって形成しても良い。
(Reflective conductive layer)
For the reflective conductive layer, the metal materials described in the wiring 4 can be used. For example, a metal (including an alloy thereof) such as silver, gold, copper, chromium, platinum, aluminum, palladium, or molybdenum can be used for the reflective conductive layer. The reflective conductive layer can be formed by sputtering as a metal layer of silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium and copper, and then patterned by photolithography.
As the reflective conductive layer, molybdenum (Mo) / aluminum (Al) / molybdenum (Mo) and a three-layered conductive layer (referred to as MAM) can also be used.
In this embodiment, the reflective conductive layer is formed as a metal layer patterned by a photolithography method using a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper.
Reflective conductive layers formed of these metal materials exhibit metal-specific reflectivity and are usually opaque. For example, the reflective conductive layer made of the silver alloy APC exhibits silver metal reflectivity.
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of a bridge | bridging part, You may form by printing methods, such as a screen printing method and an inkjet printing method, besides the photolithography method.

反射性導電性層は、金属材料に限らず、例えば、反射性を示すなら導電性高分子でも良い。
本実施形態においては、反射性導電性層と配線4とは同一材料で同時形成可能な面に接して同時形成されている。
The reflective conductive layer is not limited to a metal material, and may be a conductive polymer as long as it exhibits reflectivity.
In the present embodiment, the reflective conductive layer and the wiring 4 are simultaneously formed in contact with a surface that can be formed simultaneously with the same material.

反射性導電性層の反射性とは、反射率が可視光域(380〜780nm)の平均で50%以上示すこととする。例えば、一般に、銀は90%以上、アルミニウムは80%以上、金は短波長域で50%近くまで低下するが、平均では50%以上を示す。   The reflectivity of the reflective conductive layer means that the reflectance is 50% or more on the average in the visible light region (380 to 780 nm). For example, in general, silver falls to 90% or more, aluminum falls to 80% or more, and gold falls to nearly 50% in the short wavelength region, but on average shows 50% or more.

〔絶縁層6〕
絶縁層6は、加飾部2の構成層のうちの絶縁性を示す少なくとも1層以上の層と、同一材料で形成され、かつ、この層と同時形成可能な面に接して形成される。本実施形態においては、絶縁層6は遮光層3と同一材料で同時形成可能な面、具体的には、第1電極5aの面を含む面に接して形成されている。
絶縁層6には、絶縁性を有するものとして公知の材料及び形成法を適宜採用することができる。絶縁層6は、例えば、樹脂層として、紫外線硬化型アクリル系樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。
絶縁層6は、透明、不透明いずれでも良いが、ブリッジ部5aBが反射性導電性層の場合には、透明でも良いが、反射を減らし反射性導電性層を用いたブリッジ部5aBを目立たなくさせる意味で、不透明であることが好ましい。
[Insulating layer 6]
The insulating layer 6 is formed of the same material as at least one or more layers showing insulating properties among the constituent layers of the decorative portion 2 and is formed in contact with a surface that can be formed simultaneously with this layer. In the present embodiment, the insulating layer 6 is formed in contact with a surface that can be formed simultaneously with the same material as the light shielding layer 3, specifically, the surface including the surface of the first electrode 5a.
For the insulating layer 6, a known material and a forming method can be appropriately adopted as having an insulating property. The insulating layer 6 can be patterned by, for example, a photolithography method using an ultraviolet curable acrylic resin as a resin layer.
The insulating layer 6 may be either transparent or opaque, but may be transparent if the bridge portion 5aB is a reflective conductive layer, but reduces the reflection and makes the bridge portion 5aB using the reflective conductive layer inconspicuous. In terms of meaning, it is preferably opaque.

絶縁層6は、加飾部2の構成層のうちの絶縁性を示す少なくとも1層以上の層と同時形成するが、その形成法としては、特に制限はなく、フォトリソグラフィ法以外に、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法によって形成しても良い。   The insulating layer 6 is formed simultaneously with at least one or more layers showing the insulating properties among the constituent layers of the decorative portion 2, but the forming method is not particularly limited, and screen printing other than photolithography is possible. You may form by printing methods, such as a method and an inkjet printing method.

(可視光反射率)
ブリッジ部が反射性導電性層を含む場合、絶縁層6を、ブリッジ部の可視光反射率よりも小さい層とすることが好ましい。ブリッジ部からの光反射を目立たなくさせることができる。前記可視光反射率は、可視光域(380〜780nm)の平均値とすることができる。或いは、より人間の目の感度に近い、国際照明委員会CIEによる、標準光源Cを用いたYxy表色系でY値を用いることもできる。本実施形態においては、後者のY値を採用している。
絶縁層6を、反射性導電性層を含むブリッジ部の可視光反射率よりも小さい可視光反射率の層とするには、例えば、黒色、灰色などに着色した絶縁層6とすると良い。また、加飾部2を構成する遮光層3の色に応じて、青色、茶色などの有彩色、或いは白でも光が散乱して、反射性導電性層5よりも低反射とすることができる。
低反射とした絶縁層6は、同時に遮光性(不透明性)も示す。したがって、低反射とした絶縁層6は、低反射性及び遮光性を示しブリッジ部5aBを隠蔽する「隠蔽層」ということもできる。
(Visible light reflectance)
When the bridge portion includes a reflective conductive layer, the insulating layer 6 is preferably a layer smaller than the visible light reflectance of the bridge portion. Light reflection from the bridge portion can be made inconspicuous. The visible light reflectance can be an average value in the visible light region (380 to 780 nm). Alternatively, the Y value can also be used in the Yxy color system using the standard light source C by the International Lighting Commission CIE, which is closer to the human eye sensitivity. In the present embodiment, the latter Y value is adopted.
In order to make the insulating layer 6 a layer having a visible light reflectance smaller than the visible light reflectance of the bridge portion including the reflective conductive layer, for example, the insulating layer 6 colored black or gray may be used. Further, depending on the color of the light shielding layer 3 constituting the decorative portion 2, light is scattered even in chromatic colors such as blue and brown, or white, so that the reflection can be lower than that of the reflective conductive layer 5. .
The insulating layer 6 with low reflection also exhibits light shielding properties (opacity). Therefore, the insulating layer 6 having low reflection can be called a “hiding layer” that shows low reflection and light shielding properties and hides the bridge portion 5aB.

本実施形態においては、絶縁層6の可視光反射率を反射性導電性層を含むブリッジ部5aBの可視光反射率よりも小さくしてあるので、ブリッジ部5aBを目立たなくさせることはできるが、図1(b)で示すように、ブリッジ部5aBが絶縁層6によって隠しきれずに視認される視認部分Vsが存在する。これは、隣接する第1透明電極要素5aEをブリッジ部5aBによって電気的に接続する際に、ブリッジ部5aBと接触させる部分は絶縁層6で被覆せずに残しておくためである。同様に電気的な接続を確保する意味から、配線4と取出し部5aFの接続部分にも視認部分Vsが存在する。しかし、これでも、絶縁層6を透明層として形成する場合に比べれば、面積50%以上のかなりの部分の反射性導電性層を隠すことができるので、コストをかけずに目立ち難くすることができる。   In the present embodiment, since the visible light reflectance of the insulating layer 6 is smaller than the visible light reflectance of the bridge portion 5aB including the reflective conductive layer, the bridge portion 5aB can be made inconspicuous, As shown in FIG. 1B, there is a visible portion Vs where the bridge portion 5aB is visible without being completely hidden by the insulating layer 6. This is because when the adjacent first transparent electrode element 5aE is electrically connected by the bridge portion 5aB, the portion to be in contact with the bridge portion 5aB is left uncovered with the insulating layer 6. Similarly, in order to ensure electrical connection, a visual recognition portion Vs is also present at the connection portion between the wiring 4 and the extraction portion 5aF. However, even in this case, compared with the case where the insulating layer 6 is formed as a transparent layer, a considerable portion of the reflective conductive layer having an area of 50% or more can be concealed. it can.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10では、絶縁層6と、加飾部2の遮光層3は、同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、絶縁層6は工程数を増やさずに設けることができる。さらに、配線4とブリッジ部5aBも同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、ブリッジ部5aBも工程数を増やさずに設けることができる。
このため、図17、図18A及び図18Bで例示した、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20が製造に5工程を要したのに対して、本実施形態においては、2工程少ない、3工程のみで製造可能な構成となり、コストダウンが可能となる。
これは、逆に言えば、加飾部2が存在しない、つまり表示装置用前面保護板と一体化させないタッチパネルだけのタッチパネル基板と比較すれば、追加の工程無しに加飾部2を付与することで表示装置用前面保護板としての機能も追加して、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を製造できることを意味する。
しかも、ブリッジ部5aBを、配線4と同一材料としても、絶縁層6はブリッジ部5aBに比べて可視光反射率が小さいので、ブリッジ部5aBをコストをかけずに目立ち難くすることもできる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 of the decorative portion 2 are formed on a surface that can be formed simultaneously with the same material. Since they are formed simultaneously, the insulating layer 6 can be provided without increasing the number of steps. Furthermore, since the wiring 4 and the bridge portion 5aB are simultaneously formed on the surface that can be formed simultaneously with the same material, the bridge portion 5aB can also be provided without increasing the number of steps.
For this reason, while the conventional front protective plate 20 for a touch panel integrated display device illustrated in FIG. 17, FIG. 18A and FIG. 18B requires five steps for manufacturing, in this embodiment, two steps are less. It becomes a structure that can be manufactured by only three steps, and the cost can be reduced.
In other words, the decoration part 2 does not exist, that is, the decoration part 2 is provided without an additional process as compared with a touch panel substrate having only a touch panel that is not integrated with the front protective plate for a display device. The function as a front protective plate for a display device is also added, which means that the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device can be manufactured.
In addition, even if the bridge portion 5aB is made of the same material as the wiring 4, the insulating layer 6 has a lower visible light reflectance than the bridge portion 5aB, so that the bridge portion 5aB can be made inconspicuous without incurring costs.

《第2の実施形態:透明ブリッジ、低反射の絶縁層》
図4に示す本実施形態は、交差部5Cにおいて、ブリッジ部5aBに透明導電性材料を用い、絶縁層6に加飾部2の遮光層3と同一材料で、前記第1の実施形態でブリッジ部5aBと同一材料とした配線4の材料よりも可視光反射率が低い材料を用いた形態である。
図4(a)は、本実施形態のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を模式的に説明する裏側から見た部分拡大平面図であり、図4(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
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In the present embodiment shown in FIG. 4, a transparent conductive material is used for the bridge portion 5aB at the intersection 5C, and the insulating layer 6 is made of the same material as the light-shielding layer 3 of the decorative portion 2, and the bridge in the first embodiment is used. This is a form using a material having a lower visible light reflectance than the material of the wiring 4 made of the same material as the portion 5aB.
4A is a partially enlarged plan view of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, which is schematically viewed from the back side, and FIG. 4B is C- in the plan view. It is a partial expanded sectional view in the C line.

本実施形態は、図1に示した前記第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)ブリッジ部5aBが、配線4と同一材料で同時形成されるのではなく、透明導電性材料としてITOなどの透明導電体薄膜で形成される点。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) The bridge portion 5aB is not formed of the same material as the wiring 4 at the same time, but is formed of a transparent conductive thin film such as ITO as a transparent conductive material.

〔ブリッジ部5aB〕
第1電極5aのブリッジ部5aBは、ITOなど透明導電体薄膜で形成されていれば、第2透明電極要素5bEなどと同一材料でも良く、同一材料でなくても良い。
[Bridge 5aB]
The bridge portion 5aB of the first electrode 5a may be made of the same material as the second transparent electrode element 5bE or the like as long as it is formed of a transparent conductive thin film such as ITO.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、次のようにして製造することができる。
1)先ず、第2電極5bの全てと、第1電極5aのうち第1接続部5aCを除く全てを、同一材料で同時形成する。
2)次に、絶縁層6と、加飾部2を構成する遮光層3とを、同一材料で同時形成する。
3)次に、配線4を形成する。
4)次に、第1接続部5aCとなるブリッジ部5aBを形成する。
上記3)及び4)は順序が逆でも良い。
本実施形態においては、以上の4工程で製造することができる。
〔Production method〕
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device as described above can be manufactured as follows.
1) First, all of the second electrodes 5b and all of the first electrodes 5a except the first connection portion 5aC are simultaneously formed of the same material.
2) Next, the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 constituting the decorative portion 2 are formed simultaneously with the same material.
3) Next, the wiring 4 is formed.
4) Next, the bridge portion 5aB to be the first connection portion 5aC is formed.
The order of 3) and 4) may be reversed.
In this embodiment, it can manufacture by the above 4 processes.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10では、絶縁層6と、加飾部2の遮光層3は、同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、絶縁層6は工程数を増やさずに設けることができる。
このため、図17、図18A及び図18Bで例示した、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20が製造に5工程を要したのに対して、本実施形態においては、1工程少ない、4工程のみで製造可能な構成となり、コストダウンが可能となる。
これは、逆に言えば、加飾部2が存在しない、つまり表示装置用前面保護板と一体化させないタッチパネルだけのタッチパネル基板と比較すれば、追加の工程無しに加飾部2を付与することで表示装置用前面保護板としての機能も追加して、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を製造できることを意味する。
ブリッジ部5aBが透明であるのに対して、絶縁層6は遮光層3と同一材料で形成した為に遮光性となるので、絶縁層6の部分は透明にはできないが、絶縁層6は面積的に小さいために格別目障りになる程でもない。工程数を減らせることによるコストダウンの利点との兼ね合いで、こうした構成の仕様の採否は決めればよい。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 of the decorative portion 2 are formed on a surface that can be formed simultaneously with the same material. Since they are formed simultaneously, the insulating layer 6 can be provided without increasing the number of steps.
For this reason, the front protective plate 20 for a conventional touch panel integrated display device illustrated in FIG. 17, FIG. 18A and FIG. 18B requires five steps for manufacturing, whereas in this embodiment, one step is less. It becomes a structure that can be manufactured by only four steps, and the cost can be reduced.
In other words, the decoration part 2 does not exist, that is, the decoration part 2 is provided without an additional process as compared with a touch panel substrate having only a touch panel that is not integrated with the front protective plate for a display device. The function as a front protective plate for a display device is also added, which means that the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device can be manufactured.
Since the bridge portion 5aB is transparent, the insulating layer 6 is made of the same material as the light shielding layer 3 and thus has a light shielding property. Therefore, the insulating layer 6 cannot be transparent, but the insulating layer 6 has an area. Because it is small in size, it is not so special. Whether or not to adopt the specifications of such a configuration may be determined in consideration of the advantage of cost reduction by reducing the number of processes.

《第2の実施形態の変形形態(ブリッジ逆構造):透明ブリッジ、低反射の絶縁層》
次に、第2の実施形態の変形形態として、交差部の立体構造が逆となっている、ブリッジ逆構造について説明する。
<< Modification of Second Embodiment (Inverse Bridge Structure): Transparent Bridge, Low Reflective Insulating Layer >>
Next, as a modification of the second embodiment, an inverted bridge structure in which the three-dimensional structure of the intersection is reversed will be described.

〔ブリッジ逆構造〕
本発明においては、本実施形態のように、絶縁層6の上のブリッジ部5aBとなる第1接続部5aCと、絶縁層6の下のブリッジ下側部となる第2接続部5bCとが、同一材料で形成される形態では、交差部5Cでの絶縁層6に対する層上下関係の立体構造は、逆構造にできる。なお、絶縁層6の上とは、絶縁層6よりも透光性基板1から遠い方を意味し、絶縁層6の下とは、絶縁層6よりも透光性基板1に近い方を意味する。
すなわち、上記実施形態では、絶縁層6の上には、互いに離間し隣接した第1透明電極要素5aE同士を接続するブリッジ部5aBを有し、絶縁層6の下には、第2透明電極要素5bE同士を連続層として接続する第2接続部5bCとしての(ブリッジ下側部5bU)を有する立体構造であった。
[Bridge reverse structure]
In the present invention, as in the present embodiment, the first connection portion 5aC that becomes the bridge portion 5aB on the insulating layer 6 and the second connection portion 5bC that becomes the bridge lower side portion under the insulating layer 6 include: In the form formed of the same material, the three-dimensional structure of the layer vertical relationship with respect to the insulating layer 6 at the intersection 5C can be reversed. Note that “above the insulating layer 6” means a position farther from the translucent substrate 1 than the insulating layer 6, and “below the insulating layer 6” means closer to the translucent substrate 1 than the insulating layer 6. To do.
That is, in the said embodiment, it has bridge | bridging part 5aB which connects mutually adjacent 1st transparent electrode element 5aE on the insulating layer 6, and under the insulating layer 6, it is 2nd transparent electrode element. It was the three-dimensional structure which has (bridge lower side part 5bU) as 2nd connection part 5bC which connects 5bE as a continuous layer.

しかし、次に説明する変形形態のように、逆の立体構造とすることができる。以下、第1電極5aと第2電極5bとを入れ替えた構成で説明する。
図5(a)は、本実施形態に対する変形形態のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を模式的に説明する裏側から見た部分拡大平面図であり、図4X(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
However, an opposite three-dimensional structure can be obtained as in a modification described below. Hereinafter, the configuration in which the first electrode 5a and the second electrode 5b are interchanged will be described.
FIG. 5A is a partially enlarged plan view of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device, which is a modification of the embodiment, viewed from the back side, and FIG. 4X (b) is a plan view. It is a partial expanded sectional view in the middle CC line.

すなわち、絶縁層6の下には、互いに離間し隣接した第2透明電極要素5bE同士を接続する第2接続部5bCとしてブリッジ下側部5bUを有し、絶縁層6の上には、第1透明電極要素5aE同士を連続層として接続する第1接続部5aCとしてのブリッジ部5aBを有する、逆の立体構造である。   That is, under the insulating layer 6, the bridge lower side portion 5 b U is provided as the second connecting portion 5 b C that connects the second transparent electrode elements 5 b E that are separated from each other and adjacent to each other. This is a reverse three-dimensional structure having a bridge portion 5aB as a first connection portion 5aC that connects the transparent electrode elements 5aE as a continuous layer.

上記の逆立体構造の部分は、以下の3工程で製造することができる。
1)先ず、第2接続部5bCとなるブリッジ下側部5bUを形成する。
2)次に、絶縁層6と、加飾部2を構成する遮光層3とを、同一材料で同時形成する。
3)次に、第2電極5bのうちブリッジ下側部5bUを除く全てと、ブリッジ部5aBを含む第1電極5aの全てを、同一材料で同時形成する。
The part of said reverse three-dimensional structure can be manufactured in the following three steps.
1) First, the lower bridge portion 5bU to be the second connection portion 5bC is formed.
2) Next, the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 constituting the decorative portion 2 are formed simultaneously with the same material.
3) Next, all of the second electrodes 5b except the lower bridge portion 5bU and all of the first electrodes 5a including the bridge portion 5aB are formed simultaneously with the same material.

さらに、配線4も含めた工程とすると、
4)次に、配線4を形成する。
上記3)及び4)は順序が逆でも良い。
以上、配線4も含めると、4工程で製造することができる。
Furthermore, if the process includes the wiring 4,
4) Next, the wiring 4 is formed.
The order of 3) and 4) may be reversed.
As described above, when the wiring 4 is included, it can be manufactured in four steps.

本発明においては、絶縁層6の上のブリッジ部5aBとなる第1接続部5aCと、絶縁層6の下のブリッジ下側部5bUによる第2接続部5bCとが、同一材料で形成される形態では、交差部5Cの立体構造は逆構造にできるが、上記「同一材料」とは、同じ透明導電性材料だが異なる材料であっても良い。   In the present invention, the first connection portion 5aC to be the bridge portion 5aB on the insulating layer 6 and the second connection portion 5bC by the bridge lower side portion 5bU below the insulating layer 6 are formed of the same material. Then, although the three-dimensional structure of the intersection 5C can be reversed, the “same material” may be the same transparent conductive material but a different material.

《第3の実施形態:メタルブリッジ、低反射の絶縁層、メッシュ電極》
図6に示す本実施形態は、交差部5Cにおいて、ブリッジ部5aBに金属材料を用い、絶縁層6に加飾部2の遮光層3と同一材料でブリッジ部5aBよりも可視光反射率が低い材料を用いた形態である。
また、第1透明電極要素5aE及び第2透明電極要素5bEに、それ自体が不透明な導電性材料をメッシュ状にパターン形成することで、見かけ上透明にしたメッシュ電極を用いた形態でもある。
図6(a)は、本実施形態のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を模式的に説明する裏側から見た部分拡大平面図であり、図6(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
<< Third Embodiment: Metal Bridge, Low Reflective Insulating Layer, Mesh Electrode >>
This embodiment shown in FIG. 6 uses a metal material for the bridge portion 5aB at the intersection 5C, and has the same material as the light shielding layer 3 of the decorative portion 2 for the insulating layer 6 and has a lower visible light reflectance than the bridge portion 5aB. This is a form using materials.
In addition, the first transparent electrode element 5aE and the second transparent electrode element 5bE may be formed by using a mesh electrode that is made transparent by forming an opaque conductive material in a mesh pattern.
FIG. 6A is a partially enlarged plan view of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment as viewed from the back side, and FIG. It is a partial expanded sectional view in the C line.

本実施形態は、図1に示した前記第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)第1電極5a及び第2電極5bは、層自体が不透明な導電性層から形成されており、第1透明電極要素5aE及び第2透明電極要素5bEが、前記導電性層がメッシュ状に形成されたメッシュ電極から形成されている点。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) The first electrode 5a and the second electrode 5b are formed of a conductive layer having an opaque layer, and the first transparent electrode element 5aE and the second transparent electrode element 5bE are formed in a mesh shape. The point formed from the formed mesh electrode.

〔層自体が不透明な導電性層〕
層自体が不透明な導電性層としては、前記配線4で述べた材料及び形成法を採用することができる。つまり、この導電性層には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、上記導電性層には、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属(含むその合金)などを用いることができる。上記導電性層は、例えば、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。
上記導電性層は、モリブデン(Mo)/アルミニウム(Al)/モリブデン(Mo)と3層積層構造の導電性層(MAMと呼ばれている)を用いることもできる。
本実施形態においては、上記導電性層は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)によって、金属層として形成されている。
従って、本実施形態においては、上記導電性層には、配線4と同一材料を用いてある。
上記導電性層の形成法としては、特に制限はなく、フォトリソグラフィ法以外に、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法によって形成しても良い。
[Conductive layer with opaque layer itself]
As the conductive layer in which the layer itself is opaque, the materials and formation methods described in the wiring 4 can be employed. That is, a known material and a forming method can be employed for the conductive layer. For example, a metal (including alloys thereof) such as silver, gold, copper, chromium, platinum, aluminum, palladium, or molybdenum can be used for the conductive layer. The conductive layer can be formed, for example, by sputtering as a metal layer of a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper, and then patterned by a photolithography method.
As the conductive layer, molybdenum (Mo) / aluminum (Al) / molybdenum (Mo) and a three-layered conductive layer (referred to as MAM) can also be used.
In the present embodiment, the conductive layer is formed as a metal layer from a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper.
Therefore, in the present embodiment, the same material as that of the wiring 4 is used for the conductive layer.
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said electroconductive layer, You may form by printing methods, such as a screen printing method and an inkjet printing method, besides the photolithography method.

[メッシュ電極]
メッシュ電極は、層自体が不透明な導電性層が、メッシュ状に形成された電極である。この結果、メッシュ電極は見かけ上、換言するとメッシュ電極を全体的に見ると、透明に見える電極である。
メッシュ電極のメッシュパターンの形状としては、特に制限はなく、公知のパターンを適宜採用することができる。例えば、正方格子形状など、直線形状の開口部が多数2方向に配列したパターン形状を採用することができる。開口部の形状は、正方形以外に三角形、四角形、五角形、六角形などの多角形でも良く、また開口部の形状は多角形のように直線のみからなる形状以外に、曲線のみからなる形状でもよい。
メッシュ電極は、開口部の部分で透光性が確保されて、見かけ上透明な、換言すると擬似的な透明電極とすることができる。
適用するタッチパネルの面積が広くなると、透明電極にはより小さい面積抵抗率が求められる。ITOなどの透明導電体薄膜では面積抵抗率を低くすると透明性が低下する問題を、メッシュ電極によって解決できる。
メッシュ電極の線幅及び開口部の寸法は、要求される面積抵抗率及び透明性に応じて、適宜な寸法とすれば良い。例えば、線幅は5〜30μm、好ましくは5〜20μm、開口部Aの寸法は300〜1500μmとすることができる。線幅が前記範囲を超えるとメッシュの線が目立ち易くなり、線幅が前記範囲未満となると面積抵抗率が大きくなるすぎることがある。開口部の寸法が、前記範囲を超えると面積抵抗率が大きくなるすぎることがあり、前記範囲未満となると透明性が低下しすぎるとこがある。
[Mesh electrode]
The mesh electrode is an electrode in which a conductive layer whose layer itself is opaque is formed in a mesh shape. As a result, the mesh electrode appears to be transparent when viewed in other words, when the mesh electrode is viewed as a whole.
There is no restriction | limiting in particular as a shape of the mesh pattern of a mesh electrode, A well-known pattern can be employ | adopted suitably. For example, a pattern shape in which a large number of linear openings are arranged in two directions, such as a square lattice shape, can be employed. The shape of the opening may be a polygon such as a triangle, a quadrangle, a pentagon, or a hexagon other than a square, and the shape of the opening may be a shape consisting only of a curve in addition to a shape consisting only of a straight line such as a polygon. .
The mesh electrode is translucent at the opening and is apparently transparent, in other words, a pseudo transparent electrode.
When the area of the applied touch panel is increased, the transparent electrode is required to have a smaller area resistivity. In the case of a transparent conductor thin film such as ITO, the problem that the transparency is lowered when the sheet resistivity is lowered can be solved by the mesh electrode.
The line width of the mesh electrode and the dimensions of the opening may be appropriately determined according to the required sheet resistivity and transparency. For example, the line width can be 5 to 30 μm, preferably 5 to 20 μm, and the size of the opening A can be 300 to 1500 μm. If the line width exceeds the above range, mesh lines may be noticeable, and if the line width is less than the above range, the sheet resistivity may be too high. If the size of the opening exceeds the range, the sheet resistivity may be too large, and if it is less than the range, the transparency may be too low.

メッシュ電極は、第1接続部5aC及び第2接続部5bC、並びに第1電極5a及び第2電極5bの各取出し部については、必須ではない。これらの部分は幅が第1透明電極要素5aE及び第2透明電極要素5bEに比べて細く、例えば、メッシュ電極の部分のメッシュの線幅と同程度であれば、メッシュにしなくてもよい。   The mesh electrode is not indispensable for the first connection portion 5aC and the second connection portion 5bC, and the respective extraction portions of the first electrode 5a and the second electrode 5b. These portions are narrower than the first transparent electrode element 5aE and the second transparent electrode element 5bE. For example, if the width is approximately the same as the line width of the mesh in the mesh electrode portion, the mesh may not be formed.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、次のようにして製造することができる。
1)先ず、第2電極5bの全てと、第1電極5aのうち第1接続部5aCを除く全てを、同一材料で同時形成する。
2)次に、絶縁層6と、加飾部2を構成する遮光層3とを、同一材料で同時形成する。

3)次に、配線4と、第1接続部5aCとなるブリッジ部5aBとを、同一材料で同時形成する。
本実施形態においては、以上の3工程で製造することができる。
〔Production method〕
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device as described above can be manufactured as follows.
1) First, all of the second electrodes 5b and all of the first electrodes 5a except the first connection portion 5aC are simultaneously formed of the same material.
2) Next, the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 constituting the decorative portion 2 are formed simultaneously with the same material.

3) Next, the wiring 4 and the bridge portion 5aB to be the first connection portion 5aC are simultaneously formed with the same material.
In this embodiment, it can manufacture in the above three processes.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10では、絶縁層6と、加飾部2の遮光層3は、同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、絶縁層6は工程数を増やさずに設けることができる。さらに、配線4とブリッジ部5aBも同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、ブリッジ部5aBも工程数を増やさずに設けることができる。
このため、図17、図18A及び図18Bで例示した、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20が製造に5工程を要したのに対して、本実施形態においては、2工程少ない、3工程のみで製造可能な構成となり、コストダウンが可能となる。
これは、逆に言えば、加飾部2が存在しない、つまり表示装置用前面保護板と一体化させないタッチパネルだけのタッチパネル基板と比較すれば、追加の工程無しに加飾部2を付与することで表示装置用前面保護板としての機能も追加して、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を製造できることを意味する。
しかも、ブリッジ部5aBを、配線4と同一材料としても、絶縁層6はブリッジ部5aBに比べて可視光反射率が小さいので、ブリッジ部5aBをコストをかけずに目立ち難くすることもできる。
さらに、第1透明電極要素5aE及び第2透明電極要素5bEは、メッシュ電極で形成してあるので、大面積のタッチパネル用途でも、透明性を確保しつつ面積抵抗率も確保でき、透明性と面積抵抗率との両性能を両立できる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 of the decorative portion 2 are formed on a surface that can be formed simultaneously with the same material. Since they are formed simultaneously, the insulating layer 6 can be provided without increasing the number of steps. Furthermore, since the wiring 4 and the bridge portion 5aB are simultaneously formed on the surface that can be formed simultaneously with the same material, the bridge portion 5aB can also be provided without increasing the number of steps.
For this reason, while the conventional front protective plate 20 for a touch panel integrated display device illustrated in FIG. 17, FIG. 18A and FIG. 18B requires five steps for manufacturing, in this embodiment, two steps are less. It becomes a structure that can be manufactured by only three steps, and the cost can be reduced.
In other words, the decoration part 2 does not exist, that is, the decoration part 2 is provided without an additional process as compared with a touch panel substrate having only a touch panel that is not integrated with the front protective plate for a display device. The function as a front protective plate for a display device is also added, which means that the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device can be manufactured.
In addition, even if the bridge portion 5aB is made of the same material as the wiring 4, the insulating layer 6 has a lower visible light reflectance than the bridge portion 5aB, so that the bridge portion 5aB can be made inconspicuous without incurring costs.
Furthermore, since the first transparent electrode element 5aE and the second transparent electrode element 5bE are formed of mesh electrodes, even in a large-area touch panel application, the area resistivity can be ensured while ensuring transparency, and the transparency and area. Both performances with resistivity can be achieved.

《第4の実施形態:メタルブリッジ、低反射及び透明の2層の絶縁層》
図7に示す本実施形態は、交差部5Cにおいて、ブリッジ部5aBに金属材料を用い、絶縁層6を2層構成として、透明基材1側の絶縁層6aに、ブリッジ部5aBよりも可視光反射率が低い材料として、加飾部2の遮光層3と同一材料を用い、ブリッジ部5aB側の絶縁層6bに、加飾部2の透明なオーバーコート層7と同一材料を用いた形態である。
図7(a)は、本実施形態のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を模式的に説明する裏側から見た部分拡大平面図であり、図7(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
<< Fourth Embodiment: Metal Bridge, Two Insulating Layers of Low Reflection and Transparent >>
This embodiment shown in FIG. 7 uses a metal material for the bridge portion 5aB at the intersection portion 5C, and has a two-layer structure of the insulating layer 6, so that the insulating layer 6a on the transparent base material 1 side is more visible than the bridge portion 5aB. In the form using the same material as the light shielding layer 3 of the decoration part 2 as a material with low reflectance, and using the same material as the transparent overcoat layer 7 of the decoration part 2 for the insulating layer 6b on the bridge part 5aB side. is there.
FIG. 7A is a partially enlarged plan view of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, schematically viewed from the back side, and FIG. It is a partial expanded sectional view in the C line.

本実施形態は、図1に示した前記第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)加飾部2が構成層として、遮光層3以外に、遮光層3上に透明なオーバーコート層7も有し、配線4は遮光層3の面にではなくオーバーコート層7の面に形成されている点。
b)絶縁層6が2層構成であり、加飾部2の遮光層3と同一材料で形成した透光性基板1側の絶縁層6aの上に、さらに、加飾部2のオーバーコート層7と同一材料で形成した絶縁層6bが形成されている点。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) In addition to the light shielding layer 3, the decorative portion 2 has a transparent overcoat layer 7 on the light shielding layer 3, and the wiring 4 is not on the surface of the light shielding layer 3 but on the surface of the overcoat layer 7. The point that is formed.
b) The insulating layer 6 has a two-layer structure, and further on the insulating layer 6a on the translucent substrate 1 side made of the same material as the light shielding layer 3 of the decorative portion 2, and further, an overcoat layer of the decorative portion 2 7 is that an insulating layer 6b formed of the same material as that of FIG.

〔オーバーコート層7〕
図7の形態においては、加飾部2を構成する遮光層3の面上に形成されるオーバーコート層7は、僅かに遮光層3の表示用領域A1側にはみ出して形成される。この結果、マイグレーションなどに対して、配線4が着色顔料を含み得る遮光層3にその側面も含めて接触せず、信頼性を向上させることができる。このため、図7(a)では、遮光層3は全面がオーバーコート層7で覆われているが、あえて、遮光層3は見えるようにハッチングを薄くして描いてある。他の同様の実施形態でも同じである。
[Overcoat layer 7]
In the form of FIG. 7, the overcoat layer 7 formed on the surface of the light shielding layer 3 constituting the decorative portion 2 is formed so as to protrude slightly from the light shielding layer 3 to the display area A1 side. As a result, the wiring 4 does not come into contact with the light-shielding layer 3 that can contain a color pigment, including its side surfaces, and the reliability can be improved. For this reason, in FIG. 7A, the entire surface of the light shielding layer 3 is covered with the overcoat layer 7. However, the light shielding layer 3 is drawn with thin hatching so that the light shielding layer 3 can be seen. The same applies to other similar embodiments.

オーバーコート層7は、絶縁性を示す層でもあり、公知の材料及び形成方法を採用することができる。オーバーコート層7には、遮光層3で述べた感光性樹脂などの硬化性樹脂、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂などを用いることができ、具体例を挙げれば、熱硬化性のエポキシ樹脂などを用いることができる。
オーバーコート層7は、フォトリソグラフィ法など、遮光層3や絶縁層6と同様の公知の形成法で形成することができる。
The overcoat layer 7 is also a layer exhibiting insulating properties, and known materials and forming methods can be employed. For the overcoat layer 7, a curable resin such as the photosensitive resin described in the light shielding layer 3, for example, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, or the like can be used. An epoxy resin or the like can be used.
The overcoat layer 7 can be formed by a known formation method similar to the light shielding layer 3 and the insulating layer 6 such as a photolithography method.

オーバーコート層7は、通常、着色顔料は含まない透明な層として形成される。しかし、本実施形態のように、表示用領域A1内における、交差部5Cでのブリッジ部5aBを形成する反射性導電性層、及び表示用領域A1と不透明領域A2との境界部分の取出し部で僅かに視認され得る配線4を隠す意味からは、不透明であっても良い。オーバーコート層7を不透明とするには、前記遮光層3と同様に着色顔料を含有させると良い。   The overcoat layer 7 is usually formed as a transparent layer containing no color pigment. However, as in the present embodiment, the reflective conductive layer forming the bridge portion 5aB at the intersecting portion 5C in the display region A1 and the extraction portion of the boundary portion between the display region A1 and the opaque region A2 are used. In order to hide the wiring 4 that can be visually recognized slightly, it may be opaque. In order to make the overcoat layer 7 opaque, it is preferable to contain a color pigment as in the case of the light shielding layer 3.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、次のようにして製造することができる。
1)先ず、第2電極5bの全てと、第1電極5aのうち第1接続部5aCを除く全てを、同一材料で同時形成する。
2)次に、絶縁層6のうちの絶縁層6aと、加飾部2を構成する遮光層3とを、同一材料で同時形成する。
3)次に、絶縁層6のうちの絶縁層6bと、加飾部2を構成するオーバーコート層7とを、同一材料で同時形成する。
4)次に、配線4と、第1接続部5aCとなるブリッジ部5aBとを、同一材料で同時形成する。
本実施形態においては、以上の4工程で製造することができる。
〔Production method〕
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device as described above can be manufactured as follows.
1) First, all of the second electrodes 5b and all of the first electrodes 5a except the first connection portion 5aC are simultaneously formed of the same material.
2) Next, the insulating layer 6a of the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 constituting the decorative portion 2 are simultaneously formed of the same material.
3) Next, the insulating layer 6b of the insulating layer 6 and the overcoat layer 7 constituting the decorative portion 2 are formed simultaneously with the same material.
4) Next, the wiring 4 and the bridge portion 5aB to be the first connection portion 5aC are simultaneously formed of the same material.
In this embodiment, it can manufacture by the above 4 processes.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10では、2層構成とした絶縁層6と、加飾部2の遮光層3及びオーバーコート層7は、同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、絶縁層6は工程数を増やさずに設けることができる。さらに、配線4とブリッジ部5aBも同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、ブリッジ部5aBも工程数を増やさずに設けることができる。
このため、図17、図18A及び図18Bで例示した、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20が製造に5工程を要し、さらにオーバーコート層7を設ければ6工程を要したのに対して、本実施形態においては、2工程少ない、4工程のみで製造可能な構成となり、コストダウンが可能となる。
これは、逆に言えば、加飾部2が存在しない、つまり表示装置用前面保護板と一体化させないタッチパネルだけのタッチパネル基板と比較すれば、追加の工程無しに加飾部2を付与することで表示装置用前面保護板としての機能も追加して、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を製造できることを意味する。
しかも、ブリッジ部5aBを、配線4と同一材料としても、絶縁層6はブリッジ部5aBに比べて可視光反射率が小さいので、ブリッジ部5aBをコストをかけずに目立ち難くすることもできる。
さらに、オーバーコート層7によって、交差部5Cも含めて信頼性を向上できる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, the insulating layer 6 having the two-layer configuration, the light shielding layer 3 and the overcoat layer 7 of the decorative portion 2 are The insulating layer 6 can be provided without increasing the number of steps because it is formed simultaneously on the surface that can be formed simultaneously with the same material. Furthermore, since the wiring 4 and the bridge portion 5aB are simultaneously formed on the surface that can be formed simultaneously with the same material, the bridge portion 5aB can also be provided without increasing the number of steps.
For this reason, the front protective plate 20 for a conventional touch panel integrated display device illustrated in FIGS. 17, 18 </ b> A, and 18 </ b> B requires five steps for manufacturing, and if the overcoat layer 7 is provided, six steps are required. On the other hand, in this embodiment, it becomes a structure which can be manufactured only by 4 processes with 2 processes few, and a cost reduction is attained.
In other words, the decoration part 2 does not exist, that is, the decoration part 2 is provided without an additional process as compared with a touch panel substrate having only a touch panel that is not integrated with the front protective plate for a display device. The function as a front protective plate for a display device is also added, which means that the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device can be manufactured.
In addition, even if the bridge portion 5aB is made of the same material as the wiring 4, the insulating layer 6 has a lower visible light reflectance than the bridge portion 5aB, so that the bridge portion 5aB can be made inconspicuous without incurring costs.
Further, the reliability of the overcoat layer 7 including the intersection 5C can be improved.

《第5の実施形態:透明ブリッジ,透明な絶縁層》
図8に示す本実施形態は、交差部5Cにおいて、ブリッジ部5aBに透明導電性材料を用い、加飾部2が構成層として遮光層3と遮光層3上のオーバーコート層7とを有し、絶縁層6に加飾部2のオーバーコート層7と同一材料を用いた形態である。
図8(a)は、本実施形態のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を模式的に説明する裏側から見た部分拡大平面図であり、図7(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
<< Fifth Embodiment: Transparent Bridge, Transparent Insulating Layer >>
In the present embodiment shown in FIG. 8, a transparent conductive material is used for the bridge portion 5aB at the intersecting portion 5C, and the decoration portion 2 includes the light shielding layer 3 and the overcoat layer 7 on the light shielding layer 3 as constituent layers. In this embodiment, the insulating layer 6 is made of the same material as the overcoat layer 7 of the decorative portion 2.
FIG. 8A is a partially enlarged plan view of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment as viewed from the back side, and FIG. It is a partial expanded sectional view in the C line.

本実施形態は、図1に示した前記第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)加飾部2が遮光層3以外に、この遮光層3上にオーバーコート層7も有し、配線4は遮光層3の面にではなくオーバーコート層7の面に形成されている点。
b)絶縁層6が加飾部2のオーバーコート層7と同一材料で同時形成されている点。
c)ブリッジ部5aBが、配線4と同一材料で同時形成されるのではなく、透明導電性材料としてITOなどの透明導電体薄膜で形成される点。
d)ブリッジ逆構造である点。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) The decorative portion 2 has an overcoat layer 7 on the light shielding layer 3 in addition to the light shielding layer 3, and the wiring 4 is formed not on the surface of the light shielding layer 3 but on the surface of the overcoat layer 7. .
b) The insulating layer 6 is simultaneously formed of the same material as the overcoat layer 7 of the decorative portion 2.
c) The bridge portion 5aB is not formed of the same material as that of the wiring 4, but is formed of a transparent conductive thin film such as ITO as a transparent conductive material.
d) The bridge has a reverse structure.

〔オーバーコート層7〕
オーバーコート層7は、通常、透明な層として形成される。しかも、本実施形態のように、表示用領域A1内における、交差部5Cでのブリッジ部5aBが透明導電性材料で形成されている為に、これを活かす意味で、オーバーコート層7は透明であることが好ましい。
[Overcoat layer 7]
The overcoat layer 7 is usually formed as a transparent layer. Moreover, since the bridge portion 5aB at the intersecting portion 5C in the display region A1 is formed of a transparent conductive material as in the present embodiment, the overcoat layer 7 is transparent in the sense that this is utilized. Preferably there is.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、次のようにして製造することができる。
1)先ず、第2接続部5bCとなるブリッジ下側部5bUを形成する。
2)次に、加飾部2の遮光層3を形成する。
3)次に、絶縁層6と、加飾部2を構成するオーバーコート層7とを、同一材料で同時形成する。
4)次に、第2電極5bのうちブリッジ下側部5bUを除く全てと、ブリッジ部5aBを含む第1電極5aの全てを、同一材料で同時形成する。
5)次に、配線4を形成する。
上記4)及び5)は順序が逆でも良い。
本実施形態においては、以上の5工程で製造することができる。
〔Production method〕
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device as described above can be manufactured as follows.
1) First, the lower bridge portion 5bU to be the second connection portion 5bC is formed.
2) Next, the light shielding layer 3 of the decoration part 2 is formed.
3) Next, the insulating layer 6 and the overcoat layer 7 constituting the decorative portion 2 are simultaneously formed of the same material.
4) Next, all of the second electrodes 5b except the lower bridge portion 5bU and all of the first electrodes 5a including the bridge portion 5aB are simultaneously formed of the same material.
5) Next, the wiring 4 is formed.
The order of 4) and 5) may be reversed.
In this embodiment, it can manufacture in the above 5 processes.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10では、絶縁層6と、加飾部2のオーバーコート層7とは、同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、絶縁層6は工程数を増やさずに設けることができる。
このため、図17、図18A及び図18Bで例示した、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20が製造に5工程を要し、さらにオーバーコート層7を設ければ6工程を要したのに対して、本実施形態においては、1工程少ない、5工程のみで製造可能な構成となり、コストダウンが可能となる。
しかも、ブリッジ部5aBが透明で、絶縁層6も透明であるので、交差部5Cを透明にできる。
さらに、オーバーコート層7によって、交差部5Cも含めて信頼性を向上できる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, the insulating layer 6 and the overcoat layer 7 of the decorative portion 2 can be formed simultaneously with the same material. Since the insulating layer 6 is simultaneously formed on the surface, the insulating layer 6 can be provided without increasing the number of steps.
For this reason, the front protective plate 20 for a conventional touch panel integrated display device illustrated in FIGS. 17, 18 </ b> A, and 18 </ b> B requires five steps for manufacturing, and if the overcoat layer 7 is provided, six steps are required. On the other hand, in this embodiment, it becomes a structure which can be manufactured by only 5 processes with 1 process fewer, and a cost reduction is attained.
In addition, since the bridge portion 5aB is transparent and the insulating layer 6 is also transparent, the intersection portion 5C can be made transparent.
Further, the reliability of the overcoat layer 7 including the intersection 5C can be improved.

《第6の実施形態:透明ブリッジ、低反射及び透明の2層の絶縁層》
図9に示す本実施形態は、交差部5Cにおいて、ブリッジ部5aBに透明導電性材料を用い、絶縁層6を2層構成として、透明基材1側の絶縁層6aに、ブリッジ部5aBよりも可視光反射率が低い材料として、加飾部2の遮光層3と同一材料を用い、ブリッジ部5aB側の絶縁層6bに、加飾部2の透明なオーバーコート層7と同一材料を用いた形態である。
図9(a)は、本実施形態のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を模式的に説明する裏側から見た部分拡大平面図であり、図7(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
<< Sixth Embodiment: Transparent Bridge, Low Reflection and Transparent Two Insulating Layers >>
In the present embodiment shown in FIG. 9, in the intersection portion 5C, a transparent conductive material is used for the bridge portion 5aB, the insulating layer 6 has a two-layer structure, and the insulating layer 6a on the transparent base material 1 side is more than the bridge portion 5aB. As the material having a low visible light reflectance, the same material as the light shielding layer 3 of the decorative portion 2 is used, and the same material as that of the transparent overcoat layer 7 of the decorative portion 2 is used for the insulating layer 6b on the bridge portion 5aB side. It is a form.
FIG. 9A is a partially enlarged plan view of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, as viewed from the back side, and FIG. It is a partial expanded sectional view in the C line.

本実施形態は、図1に示した前記第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)ブリッジ部5aBが、配線4と同一材料で同時形成されるのではなく、透明導電性材料としてITOなどの透明導電体薄膜で形成される点。
b)加飾部2が構成層として、遮光層3以外に、遮光層3上に透明なオーバーコート層7も有し、配線4は遮光層3の面にではなくオーバーコート層7の面に形成されている点。
c)絶縁層6が2層構成であり、加飾部2の遮光層3と同一材料で形成した透光性基板1側の絶縁層6aの上に、さらに、加飾部2のオーバーコート層7と同一材料で形成した絶縁層6bが形成されている点。
d)ブリッジ逆構造である点。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) The bridge portion 5aB is not formed of the same material as the wiring 4 at the same time, but is formed of a transparent conductive thin film such as ITO as a transparent conductive material.
b) In addition to the light shielding layer 3, the decorative portion 2 also has a transparent overcoat layer 7 on the light shielding layer 3, and the wiring 4 is not on the surface of the light shielding layer 3, but on the surface of the overcoat layer 7. The point that is formed.
c) The insulating layer 6 has a two-layer structure, and the overcoat layer of the decorative portion 2 is further formed on the insulating layer 6a on the translucent substrate 1 side formed of the same material as the light shielding layer 3 of the decorative portion 2. 7 is that an insulating layer 6b made of the same material as that of No. 7 is formed.
d) The bridge has a reverse structure.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、次のようにして製造することができる。
1)先ず、第2接続部5bCとなるブリッジ下側部5bUを形成する。
2)次に、絶縁層6のうちの絶縁層6aと、加飾部2を構成する遮光層3とを、同一材料で同時形成する。
3)次に、絶縁層6のうちの絶縁層6bと、加飾部2を構成するオーバーコート層7とを、同一材料で同時形成する。
4)次に、第2電極5bのうちブリッジ下側部5bUを除く全てと、ブリッジ部5aBを含む第1電極5aの全てを、同一材料で同時形成する。
5)次に、配線4を形成する。
上記4)及び5)は順序が逆でも良い。
本実施形態においては、以上の5工程で製造することができる。
〔Production method〕
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device as described above can be manufactured as follows.
1) First, the lower bridge portion 5bU to be the second connection portion 5bC is formed.
2) Next, the insulating layer 6a of the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 constituting the decorative portion 2 are simultaneously formed of the same material.
3) Next, the insulating layer 6b of the insulating layer 6 and the overcoat layer 7 constituting the decorative portion 2 are formed simultaneously with the same material.
4) Next, all of the second electrodes 5b except the lower bridge portion 5bU and all of the first electrodes 5a including the bridge portion 5aB are simultaneously formed of the same material.
5) Next, the wiring 4 is formed.
The order of 4) and 5) may be reversed.
In this embodiment, it can manufacture in the above 5 processes.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10では、2層構成とした絶縁層6と、加飾部2の遮光層3及びオーバーコート層7は、同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、絶縁層6は工程数を増やさずに設けることができる。さらに、配線4とブリッジ部5aBも同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、ブリッジ部5aBも工程数を増やさずに設けることができる。
このため、図17、図18A及び図18Bで例示した、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20が製造に5工程を要し、さらにオーバーコート層7を設ければ6工程を要したのに対して、本実施形態においては、1工程少ない、5工程のみで製造可能な構成となり、コストダウンが可能となる。
ブリッジ部5aBが透明であるのに対して、絶縁層6aは遮光層3と同一材料で形成した為に遮光性となるので、絶縁層6aの部分は透明にはできないが、絶縁層6aは面積的に小さいために格別目障りになる程でもない。工程数を減らせることによるコストダウンの利点との兼ね合いで、こうした構成の仕様の採否は決めればよい。
さらに、オーバーコート層7によって、交差部5Cも含めて信頼性を向上できる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, the insulating layer 6 having the two-layer configuration, the light shielding layer 3 and the overcoat layer 7 of the decorative portion 2 are The insulating layer 6 can be provided without increasing the number of steps because it is formed simultaneously on the surface that can be formed simultaneously with the same material. Furthermore, since the wiring 4 and the bridge portion 5aB are simultaneously formed on the surface that can be formed simultaneously with the same material, the bridge portion 5aB can also be provided without increasing the number of steps.
For this reason, the front protective plate 20 for a conventional touch panel integrated display device illustrated in FIGS. 17, 18 </ b> A, and 18 </ b> B requires five steps for manufacturing, and if the overcoat layer 7 is provided, six steps are required. On the other hand, in this embodiment, it becomes a structure which can be manufactured by only 5 processes with 1 process fewer, and a cost reduction is attained.
Since the bridge portion 5aB is transparent, the insulating layer 6a is made of the same material as the light shielding layer 3 and therefore has a light shielding property. Therefore, the insulating layer 6a cannot be transparent, but the insulating layer 6a Because it is small in size, it is not so special. Whether or not to adopt the specifications of such a configuration may be determined in consideration of the advantage of cost reduction by reducing the number of processes.
Further, the reliability of the overcoat layer 7 including the intersection 5C can be improved.

《第7の実施形態:メタルブリッジ、低反射の絶縁層=赤外透過層》
図10に示す本実施形態は、交差部5Cにおいて、ブリッジ部5aBに金属材料を用い、絶縁層6に加飾部2の赤外透過窓3aの赤外透過層3aLと同一材料でブリッジ部5aBよりも可視光反射率が低い材料を用いた形態である。
図10(a)は、本実施形態のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を模式的に説明する裏側から見た部分拡大平面図であり、図10(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
図16のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10の全体図で、赤外透過窓3aの位置の例を示す。
<< Seventh Embodiment: Metal Bridge, Low Reflective Insulating Layer = Infrared Transmission Layer >>
This embodiment shown in FIG. 10 uses a metal material for the bridge portion 5aB at the intersection 5C, and uses the same material as the infrared transmission layer 3aL of the infrared transmission window 3a of the decorative portion 2 for the insulating layer 6 to form the bridge portion 5aB. This is a form using a material having a lower visible light reflectance.
FIG. 10A is a partially enlarged plan view of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, schematically viewed from the back side, and FIG. It is a partial expanded sectional view in the C line.
FIG. 17 is an overall view of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device in FIG.

本実施形態は、図1に示した前記第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)加飾部2が遮光層3以外に、遮光層3の非形成部に赤外透過窓3aを有し、赤外透過窓3aに赤外透過層3aLが形成されている点。
b)絶縁層6が加飾部2の赤外透過層3aLと同一材料で同時形成されている点。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) The decoration part 2 has the infrared transmission window 3a in the non-formation part of the light shielding layer 3 other than the light shielding layer 3, and the infrared transmission layer 3aL is formed in the infrared transmission window 3a.
b) The insulating layer 6 is simultaneously formed with the same material as the infrared transmitting layer 3aL of the decorative portion 2.

〔赤外透過窓3a〕
赤外透過窓3aは、例えば、通話時に携帯電話を耳にあてがったときに、タッチパネルの誤作動を防ぐ必要から、また、表示パネルの表示を消して電池寿命を長くする観点などから、人肌の接近を感知する人感センサとして設ける赤外線センサの部分に設けられる。
赤外透過窓3aは、不透明領域A2内において遮光層3の非形成部として設けられ、可視光に対しては遮光性を示すと共に赤外光に対しては透過性を示す部分として形成される。赤外透過窓3aの上記光学性能は、上記光学性能を有する赤外透過層3aLを、赤外透過窓3aの部分に形成することで実現できる。赤外透過層3aLを用いるのは、遮光層3が例えば黒色の場合、黒色顔料としてカーボンブラックを用いると、可視光のみならず赤外光に対しても遮光性となってしまうために、遮光層3とは材料が異なる層として赤外透過層3aLが必要になることがあるからである。
[Infrared transmission window 3a]
For example, the infrared transmission window 3a is used to prevent malfunction of the touch panel when the mobile phone is put on the ear during a call, and from the viewpoint of extending the battery life by turning off the display on the display panel. It is provided in the part of the infrared sensor provided as a human sensor that senses the approach of.
The infrared transmission window 3a is provided as a non-formation part of the light shielding layer 3 in the opaque region A2, and is formed as a part that exhibits a light shielding property with respect to visible light and a light transmittance with respect to infrared light. . The optical performance of the infrared transmission window 3a can be realized by forming the infrared transmission layer 3aL having the optical performance on the infrared transmission window 3a. The infrared transmission layer 3aL is used because, for example, when the light shielding layer 3 is black, if carbon black is used as a black pigment, it becomes light shielding not only for visible light but also for infrared light. This is because the infrared transmitting layer 3aL may be required as a layer made of a material different from that of the layer 3.

赤外透過窓3aの赤外光に対する透過性は、要求仕様、表現色、赤外透過窓3aに適用する赤外線センサなどの赤外利用部品にもよるが、一例を示せば、赤外領域での透過率70%以上にする。前記透過率70%以上とする赤外領域は、必ずしも780nm以上の領域でなくてもよく、例えば850nm以上の領域であれば、充分に対応可能である。なお、透過率70%以上とする赤外領域の上限は、近赤外域、それも通常、1300nmまでを満たせば、対応できる。
赤外透過窓3aの可視光に対する遮光性は、要求仕様、表現色にもよるが、赤外透過窓3aの部分は、通常、スポット的に小さいため、必ずしも、遮光層3の遮光性のレベルに合わせる必要はない。このため、赤外透過窓3aの可視光に対する遮光性は、一例を示せば、透過率で言えば大きくても50%以下(光学濃度ODにて0.2以上)、より好ましくは透過率で25%以下(光学濃度OD0.6以上)、さらに好ましくは透過率で10%以下(光学濃度OD1.0以上)が望ましい。
こうして、赤外透過窓3aは、例えば、赤外光領域に対しては、波長850nm以上1300nm以下で70%以上、可視光領域に対しては10%以下で設ける。なお、この透過率とは、平均値ではなく、各波長毎の値である。
The transmittance of infrared transmission window 3a with respect to infrared light depends on required specifications, expression color, and infrared components such as an infrared sensor applied to infrared transmission window 3a. The transmittance is 70% or more. The infrared region having a transmittance of 70% or more is not necessarily a region of 780 nm or more. For example, an infrared region of 850 nm or more can be sufficiently handled. Note that the upper limit of the infrared region where the transmittance is 70% or more can be dealt with if the near-infrared region is satisfied, usually up to 1300 nm.
The light shielding property of the infrared transmitting window 3a with respect to the visible light depends on the required specifications and the expression color, but the infrared transmitting window 3a is usually spot-like, so the light shielding property level of the light shielding layer 3 is not necessarily limited. There is no need to match. For this reason, the light-shielding property with respect to visible light of the infrared transmission window 3a is 50% or less (0.2 or more in optical density OD) at the maximum in terms of transmittance, for example, more preferably transmittance. It is desirably 25% or less (optical density OD 0.6 or more), more preferably 10% or less (optical density OD 1.0 or more) in terms of transmittance.
Thus, for example, the infrared transmission window 3a is provided at a wavelength of 850 nm to 1300 nm for the infrared light region and 70% or more for the visible light region, and 10% or less for the visible light region. The transmittance is not an average value but a value for each wavelength.

(赤外透過層3aL)
赤外透過層3aLは、赤外透過窓3aの存在を目立たなくさせるために、通常、遮光層3と類似色で形成される。そして、赤外透過層3aLは、可視光に対しては遮光性を示すと共に赤外光に対しては透過性を示す。
赤外透過層3aLは、カーボンブラックのような黒色顔料は含有させずに、互いに色が異なる有彩色の着色顔料の複数種類、例えば、赤色、黄色、青色を含有させることで、黒色など暗色を表現した層として形成することができる。
(Infrared transmission layer 3aL)
The infrared transmission layer 3aL is usually formed in a similar color to the light shielding layer 3 in order to make the presence of the infrared transmission window 3a inconspicuous. The infrared transmission layer 3aL exhibits a light shielding property with respect to visible light and a transparency with respect to infrared light.
The infrared transmission layer 3aL does not contain a black pigment such as carbon black, but contains a plurality of types of chromatic coloring pigments having different colors, for example, red, yellow, and blue, thereby providing a dark color such as black. It can be formed as an expressed layer.

赤外透過層3aLと遮光層3との関係は、図11(a)のように遮光層3よりも先に形成する構成、図11(b)のように遮光層3よりも後に形成する構成などがある。本実施形態においては、図11(b)の赤外透過層3aLを後から形成する構成である。
どちらの構成においても、絶縁層6と同時形成することが可能な構成がある。絶縁層6と同時形成する対象として、赤外透過層3aLが遮光層3に比べて有利な点は、「同時形成可能な面」としての制約が少ない点である。つまり、同時形成し易い点である。
これは、図3における「同時形成可能な面」の説明に戻って、図3(b)の絶縁層6と遮光層3の関係では、第1透明電極要素5aEの形成との前後関係において、同時形成不可能であったが、同じ構造の第1透明電極要素5aEを有する場合でも、図3(e)に示すような、絶縁層6と赤外透過層3aLとの関係では「同時形成可能」となる。ただし、赤外透過層3aLが遮光層3よりも先に形成される図3(f)の構成は、「同時形成不可能」なままで、「同時形成可能」にはできない。赤外透過層3aLを遮光層3よりも先に形成する構成のためである。
The relationship between the infrared transmitting layer 3aL and the light shielding layer 3 is a structure formed before the light shielding layer 3 as shown in FIG. 11A and a structure formed after the light shielding layer 3 as shown in FIG. 11B. and so on. In the present embodiment, the infrared transmission layer 3aL in FIG. 11B is formed later.
In either configuration, there is a configuration that can be formed simultaneously with the insulating layer 6. As an object to be formed simultaneously with the insulating layer 6, the infrared transmission layer 3 a L has an advantage over the light shielding layer 3 in that there are few restrictions as “surfaces that can be formed simultaneously”. That is, it is easy to form simultaneously.
Returning to the description of “surfaces that can be simultaneously formed” in FIG. 3, in the relationship between the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 in FIG. 3B, in the context of the formation of the first transparent electrode element 5 a E, Although it was impossible to form simultaneously, even in the case of having the first transparent electrode element 5aE having the same structure, the relationship between the insulating layer 6 and the infrared transmitting layer 3aL as shown in FIG. " However, the configuration of FIG. 3F in which the infrared transmission layer 3aL is formed prior to the light shielding layer 3 remains “simultaneous formation” and cannot be “simultaneous formation”. This is because the infrared transmission layer 3aL is formed before the light shielding layer 3.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、次のようにして製造することができる。
1)先ず、第2電極5bの全てと、第1電極5aのうち第1接続部5aCを除く全てを、同一材料で同時形成する。
2)次に、加飾部2の遮光層3を形成する。
3)次に、絶縁層6と、加飾部2を構成する赤外透過層3aLとを、同一材料で同時形成する。
4)次に、配線4と、第1接続部5aCとなるブリッジ部5aBとを、同一材料で同時形成する。
本実施形態においては、以上の4工程で製造することができる。
〔Production method〕
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device as described above can be manufactured as follows.
1) First, all of the second electrodes 5b and all of the first electrodes 5a except the first connection portion 5aC are simultaneously formed of the same material.
2) Next, the light shielding layer 3 of the decoration part 2 is formed.
3) Next, the insulating layer 6 and the infrared transmission layer 3aL constituting the decorative portion 2 are formed simultaneously with the same material.
4) Next, the wiring 4 and the bridge portion 5aB to be the first connection portion 5aC are simultaneously formed of the same material.
In this embodiment, it can manufacture by the above 4 processes.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10では、絶縁層6と、加飾部2の赤外透過窓3aの部分の赤外透過層3aLは、同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、絶縁層6は工程数を増やさずに設けることができる。さらに、配線4とブリッジ部5aBも同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、ブリッジ部5aBも工程数を増やさずに設けることができる。
このため、図17、図18A及び図18Bで例示した、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20が製造に5工程を要し、さらに赤外透過窓3a部分の赤外透過層3aLを設ければ6工程を要したのに対して、本実施形態においては、2工程少ない、4工程のみで製造可能な構成となり、コストダウンが可能となる。
これは、逆に言えば、加飾部2が存在しない、つまり表示装置用前面保護板と一体化させないタッチパネルだけのタッチパネル基板と比較すれば、追加の工程無しに加飾部2を付与することで表示装置用前面保護板としての機能も追加して、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を製造できることを意味する。
しかも、ブリッジ部5aBを、配線4と同一材料としても、絶縁層6はブリッジ部5aBに比べて可視光反射率が小さいので、ブリッジ部5aBをコストをかけずに目立ち難くすることもできる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device in the present embodiment, the insulating layer 6 and the infrared transmission layer 3aL of the infrared transmission window 3a portion of the decoration unit 2 are The insulating layer 6 can be provided without increasing the number of steps because it is formed simultaneously on the surface that can be formed simultaneously with the same material. Furthermore, since the wiring 4 and the bridge portion 5aB are simultaneously formed on the surface that can be formed simultaneously with the same material, the bridge portion 5aB can also be provided without increasing the number of steps.
For this reason, the conventional front protective plate 20 for a touch panel integrated display device illustrated in FIGS. 17, 18A and 18B requires five steps for manufacturing, and further, the infrared transmission layer 3aL of the infrared transmission window 3a portion is formed. If provided, six steps are required, but in the present embodiment, the number of steps is two, and the structure can be manufactured by only four steps, thereby reducing the cost.
In other words, the decoration part 2 does not exist, that is, the decoration part 2 is provided without an additional process as compared with a touch panel substrate having only a touch panel that is not integrated with the front protective plate for a display device. The function as a front protective plate for a display device is also added, which means that the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device can be manufactured.
In addition, even if the bridge portion 5aB is made of the same material as the wiring 4, the insulating layer 6 has a lower visible light reflectance than the bridge portion 5aB, so that the bridge portion 5aB can be made inconspicuous without incurring costs.

《第7の実施形態の変形形態:メタルブリッジ、低反射の絶縁層》
図示はしないが、本実施形態においては、赤外透過層3aLの形成と、第2電極5bの全てと、第1電極5aのうち第1接続部5aCを除く全ての形成の順序を逆にする変形形態もある。
<< Modified form of the seventh embodiment: Metal bridge, low reflection insulating layer >>
Although not shown, in the present embodiment, the order of formation of the infrared transmission layer 3aL, all of the second electrodes 5b, and all of the first electrodes 5a excluding the first connection portion 5aC are reversed. There are also variations.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、次のようにして製造することができる。
1)先ず、加飾部2の遮光層3を形成する。
2)次に、第2電極5bの全てと、第1電極5aのうち第1接続部5aCを除く全てを、同一材料で同時形成する。
3)次に、絶縁層6と、加飾部2を構成する赤外透過層3aLとを、同一材料で同時形成する。
4)次に、配線4と、第1接続部5aCとなるブリッジ部5aBとを、同一材料で同時形成する。
本変形形態においては、以上の4工程で製造することができる。
〔Production method〕
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device as described above can be manufactured as follows.
1) First, the light shielding layer 3 of the decoration part 2 is formed.
2) Next, all of the second electrodes 5b and all of the first electrodes 5a except the first connection portion 5aC are formed simultaneously with the same material.
3) Next, the insulating layer 6 and the infrared transmission layer 3aL constituting the decorative portion 2 are formed simultaneously with the same material.
4) Next, the wiring 4 and the bridge portion 5aB to be the first connection portion 5aC are simultaneously formed of the same material.
In this modification, it can be manufactured by the above four steps.

〔本実施形態に対する変形形態の効果〕
前記製造方法の1)と2)の順序を逆にして、上記のようにするときは、さらに次の効果が得られる。
取出し部5aFは遮光層3上に形成でき、配線4と遮光層3上で接続できるため、図10(b)で示した表示用領域A1と不透明領域A2との境界付近での配線4の視認部分Vsを無くすことができる。
[Effects of Modifications to the Present Embodiment]
When the order of 1) and 2) of the manufacturing method is reversed and the above is performed, the following effects are further obtained.
Since the extraction portion 5aF can be formed on the light shielding layer 3 and can be connected to the wiring 4 on the light shielding layer 3, the wiring 4 is visually recognized in the vicinity of the boundary between the display area A1 and the opaque area A2 shown in FIG. The portion Vs can be eliminated.

《第8の実施形態:オーバーコート層》
図12に示す本実施形態は、交差部5Cにおいては、第1の実施形態と同じである。第1の実施形態の構成に対して、最後にオーバーコート層7を形成した形態である。
図12(a)は、本実施形態のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を模式的に説明する裏側から見た部分拡大平面図であり、図12(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
<< Eighth Embodiment: Overcoat Layer >>
This embodiment shown in FIG. 12 is the same as the first embodiment at the intersection 5C. In the configuration of the first embodiment, the overcoat layer 7 is finally formed.
FIG. 12A is a partially enlarged plan view of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment as viewed from the back side, and FIG. It is a partial expanded sectional view in the C line.

本実施形態は、図1に示した前記第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)最裏面に透明なオーバーコート層7が形成されている点。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) A transparent overcoat layer 7 is formed on the rearmost surface.

〔オーバーコート層7〕
オーバーコート層7としては、前記第4の実施形態で述べたオーバーコート層7と同様に、公知の材料及び方法を採用することができる。
を用いることができる。
本実施形態においては、オーバーコート層7は、配線4、第1電極5a及び第2電極5bが形成された後の面の全面に形成されている。ただし、図示は省略するが、このオーバーコート層7は、配線4がフレキシブルプリント配線基板(FPC)を介して制御回路に接続する部分は形成せず、配線4を露出してある。
オーバーコート層7によって、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10としての裏側の表面が、傷付きなどから保護されている。
[Overcoat layer 7]
As the overcoat layer 7, known materials and methods can be employed in the same manner as the overcoat layer 7 described in the fourth embodiment.
Can be used.
In the present embodiment, the overcoat layer 7 is formed on the entire surface after the wiring 4, the first electrode 5a, and the second electrode 5b are formed. Although not shown, the overcoat layer 7 exposes the wiring 4 without forming a portion where the wiring 4 is connected to the control circuit via a flexible printed wiring board (FPC).
The overcoat layer 7 protects the surface on the back side of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device from being scratched.

本実施形態においては、オーバーコート層7は、配線4、第1電極5a及び第2電極5bが形成された後の面の全面に形成される形態を説明したが、オーバーコート層7の位置は、これ以外の位置に設けることもできる。
例えば、次の1)、2)のいずれか、又は両方があり得る。
1)第1電極5a及び第2電極5bを形成する前の、透光性基板1の面の全面。
2)遮光層3を形成後、第1電極5a及び第2電極5bを形成する前の、透光性基板1の面上の全面。この場合は、絶縁層6と同一材料で同時形成する加飾部2の構成層としては、前記オーバーコート層7とは別のオーバーコート層7、赤外透過層3aL、裏打ち層などとなる。
これらのオーバーコート層7によって、a)信頼性向上、b)層の輪郭部で層形成部と層非形成部に生じる段差の軽減などを図ることができる。
In the present embodiment, the overcoat layer 7 has been described as being formed on the entire surface after the wiring 4, the first electrode 5a, and the second electrode 5b are formed. However, the position of the overcoat layer 7 is It can also be provided at other positions.
For example, there can be either or both of the following 1), 2).
1) The entire surface of the translucent substrate 1 before forming the first electrode 5a and the second electrode 5b.
2) The entire surface of the translucent substrate 1 after forming the light shielding layer 3 and before forming the first electrode 5a and the second electrode 5b. In this case, as a constituent layer of the decorating part 2 formed simultaneously with the same material as the insulating layer 6, an overcoat layer 7, an infrared transmission layer 3aL, a backing layer, etc., which are different from the overcoat layer 7, are used.
By these overcoat layers 7, it is possible to a) improve the reliability, and b) reduce the level difference between the layer forming portion and the layer non-forming portion at the contour portion of the layer.

このようなオーバーコート層7は、他の実施形態においても、適宜採用することができる。   Such an overcoat layer 7 can be appropriately employed also in other embodiments.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、次のようにして製造することができる。
1)先ず、第2電極5bの全てと、第1電極5aのうち第1接続部5aCを除く全てを、同一材料で同時形成する。
2)次に、絶縁層6と、加飾部2を構成する遮光層3とを、同一材料で同時形成する。

3)次に、配線4と、第1接続部5aCとなるブリッジ部5aBとを、同一材料で同時形成する。
4)次に、オーバーコート層7を形成する。
本実施形態においては、以上の4工程で製造することができる。
〔Production method〕
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device as described above can be manufactured as follows.
1) First, all of the second electrodes 5b and all of the first electrodes 5a except the first connection portion 5aC are simultaneously formed of the same material.
2) Next, the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 constituting the decorative portion 2 are formed simultaneously with the same material.

3) Next, the wiring 4 and the bridge portion 5aB to be the first connection portion 5aC are simultaneously formed with the same material.
4) Next, the overcoat layer 7 is formed.
In this embodiment, it can manufacture by the above 4 processes.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10では、絶縁層6と、加飾部2の遮光層3は、同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、絶縁層6は工程数を増やさずに設けることができる。さらに、配線4とブリッジ部5aBも同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、ブリッジ部5aBも工程数を増やさずに設けることができる。
このため、図17、図18A及び図18Bで例示した、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20が製造に5工程を要し、さらにオーバーコート層7を設ければ6工程を要したのに対して、本実施形態においては、2工程少ない、4工程のみで製造可能な構成となり、コストダウンが可能となる。
これは、逆に言えば、加飾部2が存在しない、つまり表示装置用前面保護板と一体化させないタッチパネルだけのタッチパネル基板と比較すれば、追加の工程無しに加飾部2を付与することで表示装置用前面保護板としての機能も追加して、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を製造できることを意味する。
しかも、ブリッジ部5aBを、配線4と同一材料としても、絶縁層6はブリッジ部5aBに比べて可視光反射率が小さいので、ブリッジ部5aBをコストをかけずに目立ち難くすることもできる。
さらに、オーバーコート層7によって、信頼性を向上できる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, the insulating layer 6 and the light shielding layer 3 of the decorative portion 2 are formed on a surface that can be formed simultaneously with the same material. Since they are formed simultaneously, the insulating layer 6 can be provided without increasing the number of steps. Furthermore, since the wiring 4 and the bridge portion 5aB are simultaneously formed on the surface that can be formed simultaneously with the same material, the bridge portion 5aB can also be provided without increasing the number of steps.
For this reason, the front protective plate 20 for a conventional touch panel integrated display device illustrated in FIGS. 17, 18 </ b> A, and 18 </ b> B requires five steps for manufacturing, and if the overcoat layer 7 is provided, six steps are required. On the other hand, in this embodiment, it becomes a structure which can be manufactured only by 4 processes with 2 processes few, and a cost reduction is attained.
In other words, the decoration part 2 does not exist, that is, the decoration part 2 is provided without an additional process as compared with a touch panel substrate having only a touch panel that is not integrated with the front protective plate for a display device. The function as a front protective plate for a display device is also added, which means that the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device can be manufactured.
In addition, even if the bridge portion 5aB is made of the same material as the wiring 4, the insulating layer 6 has a lower visible light reflectance than the bridge portion 5aB, so that the bridge portion 5aB can be made inconspicuous without incurring costs.
Further, the overcoat layer 7 can improve the reliability.

《第9の実施形態:メタルブリッジ,透明な絶縁層、低反射層》
図14に示す本実施形態は、交差部5Cにおいては、ブリッジ部5aBに金属材料を用い、加飾部2が構成層として遮光層3と遮光層3上のオーバーコート層7とを有し、絶縁層6に加飾部2のオーバーコート層7と同一材料を用いた形態である。
さらに、ブリッジ部5aBを表側から見えないように、低反射層8を形成した形態である。
図14(a)は、本実施形態のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10を模式的に説明する裏側から見た部分拡大平面図であり、図14(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
<< Ninth Embodiment: Metal Bridge, Transparent Insulating Layer, Low Reflective Layer >>
In the present embodiment shown in FIG. 14, in the intersection portion 5C, a metal material is used for the bridge portion 5aB, and the decoration portion 2 includes the light shielding layer 3 and the overcoat layer 7 on the light shielding layer 3 as constituent layers. This is a form in which the same material as the overcoat layer 7 of the decorative portion 2 is used for the insulating layer 6.
Further, the low reflection layer 8 is formed so that the bridge portion 5aB cannot be seen from the front side.
FIG. 14A is a partially enlarged plan view of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment as viewed from the back side, and FIG. It is a partial expanded sectional view in the C line.

本実施形態は、図1に示した前記第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)加飾部2が遮光層3以外に、この遮光層3上にオーバーコート層7も有し、配線4は遮光層3の面にではなくオーバーコート層7の面に形成されている点。
b)絶縁層6が加飾部2のオーバーコート層7と同一材料で同時形成されている点。
c)絶縁層6よりも表側に低反射層8が形成されている点。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) The decorative portion 2 has an overcoat layer 7 on the light shielding layer 3 in addition to the light shielding layer 3, and the wiring 4 is formed not on the surface of the light shielding layer 3 but on the surface of the overcoat layer 7. .
b) The insulating layer 6 is simultaneously formed of the same material as the overcoat layer 7 of the decorative portion 2.
c) The low reflective layer 8 is formed on the front side of the insulating layer 6.

〔低反射層8〕
本発明においては、ブリッジ部5aBが反射性導電性層を含み且つ絶縁層6にブリッジ部5aBよりも低反射性の材料を採用しないとき、或いは採用したときも含めて、ブリッジ部5aBを目立たなくさせるために、絶縁層6とは別に低反射層8をブリッジ部5aBを隠すように設けても良い。本実施形態がこの一例に該当する。
[Low reflective layer 8]
In the present invention, the bridge portion 5aB includes a reflective conductive layer and the insulating layer 6 does not use the material having lower reflectivity than the bridge portion 5aB or includes the bridge portion 5aB. For this purpose, the low reflection layer 8 may be provided separately from the insulating layer 6 so as to hide the bridge portion 5aB. This embodiment corresponds to this example.

低反射層8は、前記絶縁層6を低反射とする場合と同様に、ブリッジ部5aBの可視光反射率よりも小さい層である。なお、測定は、もちろん、低反射層8の層面2面のうちブリッジ部5aBから遠い方の面が観察される側から行う。低反射層8は、同時に遮光性(不透明性)も示す。これは、ブリッジ部5aBからの反射光を減らすことができるからである。したがって、低反射層8は、低反射性及び遮光性を示しブリッジ部5aBを隠蔽する「隠蔽層」ということもできる。低反射層8は、ブリッジ部5aBを目立たなくさせる。
前記遮光性は、ブリッジ部5aBを目立たなくさせる観点から、透過率で言えば大きくても10%以下(光学濃度ODにて1以上)、より好ましくは透過率で1%以下(光学濃度OD2.0以上)、さらに好ましくは透過率で0.01%以下(光学濃度OD4.0以上)が望ましい。
The low reflective layer 8 is a layer smaller than the visible light reflectance of the bridge portion 5aB, as in the case where the insulating layer 6 is made low reflective. Of course, the measurement is performed from the side where the surface far from the bridge portion 5aB of the two layer surfaces of the low reflection layer 8 is observed. The low reflection layer 8 also exhibits light shielding properties (opacity). This is because the reflected light from the bridge portion 5aB can be reduced. Therefore, the low reflection layer 8 can also be referred to as a “hidden layer” that exhibits low reflectivity and light shielding properties and conceals the bridge portion 5aB. The low reflection layer 8 makes the bridge portion 5aB inconspicuous.
From the viewpoint of making the bridge portion 5aB inconspicuous, the light shielding property is 10% or less (1 or more at the optical density OD) in terms of transmittance, more preferably 1% or less (optical density OD2. 0 or more), more preferably 0.01% or less (optical density OD4.0 or more) in transmittance.

低反射層8は、カーボンブラックなどの黒色顔料を硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂バインダ中に含む黒色など暗色を呈する層として、フォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。硬化性樹脂には紫外線硬化型アクリル系樹脂などの感光性樹脂を用いることができる。本実施形態においては、低反射層8、カーボンブラックを含む紫外線硬化型アクリル系樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン形成されている。
低反射層8を、黒色など暗色とするには、カーボンブラック以外の、赤、黄、青、緑などの有彩色顔料を複数種類用い黒色を呈する層としても良い。例えば、赤、黄、青の3色の着色顔料を用いて黒色としても良い。暗色とは、黒色以外に、紺色、深緑色などの有彩色で明度が低く、前記Yが10%以下を示す色のことを意味する。
したがって、低反射層8に用いる着色顔料としては、黒色顔料、白色顔料、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料など1種又は2種以上用いることができる。
The low reflection layer 8 can be patterned by a photolithography method as a layer exhibiting a dark color such as black containing a black pigment such as carbon black in a resin binder made of a cured curable resin. As the curable resin, a photosensitive resin such as an ultraviolet curable acrylic resin can be used. In the present embodiment, the pattern is formed by a photolithography method using an ultraviolet curable acrylic resin containing the low reflection layer 8 and carbon black.
In order to make the low reflection layer 8 dark such as black, a layer that exhibits black using a plurality of chromatic pigments such as red, yellow, blue, and green other than carbon black may be used. For example, black may be formed using three color pigments of red, yellow, and blue. The dark color means a color other than black, such as dark blue or dark green, which has a low lightness and the Y is 10% or less.
Therefore, as the color pigment used for the low reflection layer 8, one or more kinds such as a black pigment, a white pigment, a red pigment, a yellow pigment, a blue pigment, a green pigment, and a purple pigment can be used.

低反射層8は、酸窒化クロムなどのそれ自体が暗色を示す無機材料で形成しても良い。
例えば、低反射層8は、カラーフィルタのブラックマトリクス等として使用される得る、
具体的には、透光性基板1側から、1)クロムの原子百分率が30〜50%の酸化クロムからなる第1反射防止膜、2)クロムの原子百分率が第1反射防止膜より大きく45〜60%の窒化クロムからなる第2反射防止膜、3)クロム100%で厚み80nmのクロム膜、からなる3層構造の酸窒化クロム系膜を用いることができる。各反射防止膜によって、透光性基板1とクロム膜との屈折率差を段階的に変化させることができ、可視光反射率を減らすことができる。単に、クロム膜単独でも黒色で低反射とすることができるが、上記反射防止膜により、さらに低反射とすることができる。大よそ反射率10%を5%に半減できる。
なお、各反射防止膜は、クロムの原子百分率が透光性基板1から遠くなるほど大きくなれば、酸化物、窒化物以外に、酸窒化物、炭化物など、酸素、窒素、炭素のいずれか1以上の組みとの化合物で良い。
The low reflection layer 8 may be formed of an inorganic material that itself exhibits a dark color, such as chromium oxynitride.
For example, the low reflection layer 8 can be used as a black matrix of a color filter, etc.
Specifically, from the translucent substrate 1 side, 1) a first antireflection film made of chromium oxide having a chromium atomic percentage of 30 to 50%, and 2) a chromium atomic percentage larger than that of the first antireflection film 45. It is possible to use a chromium oxynitride film having a three-layer structure including a second antireflection film made of ˜60% chromium nitride and 3) a chromium film made of 100% chromium and having a thickness of 80 nm. With each antireflection film, the difference in refractive index between the translucent substrate 1 and the chromium film can be changed stepwise, and the visible light reflectance can be reduced. A chrome film alone can be black and have low reflection, but the antireflection film can further reduce reflection. About 10% reflectance can be halved to 5%.
In addition, each antireflection film has one or more of oxygen, nitrogen, and carbon, such as oxynitride and carbide, in addition to oxide and nitride, as the atomic percentage of chromium increases as the distance from the translucent substrate 1 increases. A compound with a combination of

低反射層8は、絶縁性であることが好ましい。本実施形態においては、低反射層8は絶縁性の層となっている。低反射層8が導電性であると、層構成及びパターン形状の組み合わせによっては、絶縁性が必要となる部分の絶縁性が確保できないことが生じるからである。本実施形態においては、第2接続部5bCと透光性単位光学要素1との絶縁性を、ブリッジ部5aBを隠しつつ確保する必要がある。
このため、上記3層構造の酸窒化クロム系膜は、3層のうちクロム膜が導電性であることから、このクロム膜側の表面にも、前記第1反射防止層と第2反射防止層のいずれか1以上を積層した複層構造として、クロム膜側も絶縁性にするとよい。
低反射層8の寸法及び形状は、表側からブリッジ部5aBの全域が見えない寸法及び形状が好ましい。ただし、大きすぎると表示品質に悪影響することがあるので、ブリッジ部5aBの外輪郭形状からはみ出しても50μm以下、好ましく10μm以下が好ましい。
The low reflective layer 8 is preferably insulating. In the present embodiment, the low reflection layer 8 is an insulating layer. This is because if the low reflective layer 8 is conductive, it may not be possible to ensure the insulation of the portion that requires insulation depending on the combination of the layer configuration and the pattern shape. In the present embodiment, it is necessary to ensure the insulation between the second connection portion 5bC and the translucent unit optical element 1 while hiding the bridge portion 5aB.
For this reason, the chromium oxynitride film having the three-layer structure is conductive among the three layers. Therefore, the first antireflection layer and the second antireflection layer are also formed on the surface of the chromium film. As a multi-layer structure in which any one or more of these layers are stacked, the chromium film side may be insulative.
The size and shape of the low reflective layer 8 are preferably such that the entire area of the bridge portion 5aB cannot be seen from the front side. However, if it is too large, the display quality may be adversely affected. Therefore, even if it protrudes from the outer contour shape of the bridge portion 5aB, it is preferably 50 μm or less, preferably 10 μm or less.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、次のようにして製造することができる。
1)先ず、低反射層8を形成する。
2)次に、第2電極5bの全てと、第1電極5aのうち第1接続部5aCを除く全てを、同一材料で同時形成する。
3)次に、加飾部2の遮光層3を形成する。
4)次に、絶縁層6と、加飾部2を構成するオーバーコート層7とを、同一材料で同時形成する。
5)次に、配線4と、第1接続部5aCとなるブリッジ部5aBとを、同一材料で同時形成する。
本実施形態においては、以上の5工程で製造することができる。
〔Production method〕
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device as described above can be manufactured as follows.
1) First, the low reflection layer 8 is formed.
2) Next, all of the second electrodes 5b and all of the first electrodes 5a except the first connection portion 5aC are formed simultaneously with the same material.
3) Next, the light shielding layer 3 of the decoration part 2 is formed.
4) Next, the insulating layer 6 and the overcoat layer 7 constituting the decorative portion 2 are simultaneously formed of the same material.
5) Next, the wiring 4 and the bridge portion 5aB to be the first connection portion 5aC are simultaneously formed of the same material.
In this embodiment, it can manufacture in the above 5 processes.

〔本実施形態における効果)
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10では、絶縁層6と、加飾部2のオーバーコート層7とは、同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、絶縁層6は工程数を増やさずに設けることができる。さらに、配線4とブリッジ部5aBも同一材料で同時形成可能な面に同時形成されているために、ブリッジ部5aBも工程数を増やさずに設けることができる。
このため、図17、図18A及び図18Bで例示した、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20が製造に5工程を要し、さらにオーバーコート層7を設ければ6工程を要したのに対して、本実施形態においては、1工程少ない、5工程のみで製造可能な構成となり、コストダウンが可能となる。
しかも、ブリッジ部5aBを、配線4と同一材料とし、絶縁層6が透明であっても、低反射層8によって、ブリッジ部5aBをコストをかけずに目立ち難くすることもできる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present embodiment, the insulating layer 6 and the overcoat layer 7 of the decorative portion 2 can be formed simultaneously with the same material. Since the insulating layer 6 is simultaneously formed on the surface, the insulating layer 6 can be provided without increasing the number of steps. Furthermore, since the wiring 4 and the bridge portion 5aB are simultaneously formed on the surface that can be formed simultaneously with the same material, the bridge portion 5aB can also be provided without increasing the number of steps.
For this reason, the front protective plate 20 for a conventional touch panel integrated display device illustrated in FIGS. 17, 18 </ b> A, and 18 </ b> B requires five steps for manufacturing, and if the overcoat layer 7 is provided, six steps are required. On the other hand, in this embodiment, it becomes a structure which can be manufactured by only 5 processes with 1 process fewer, and a cost reduction is attained.
Moreover, even if the bridge portion 5aB is made of the same material as the wiring 4 and the insulating layer 6 is transparent, the low reflection layer 8 can make the bridge portion 5aB inconspicuous without cost.

《変形形態》
本発明のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、上記した構成要素以外を有しても良く、上記した形態以外のその他の形態をとり得る。以下、その一部を説明する。
<Deformation>
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device of the present invention may have components other than those described above, and may take other forms other than the above-described forms. Some of these will be described below.

〔遮光層3に属する裏打ち層3b〕
遮光層3は単層でも良いが、2層以上積層した構成とすることができる。例えば、図13で例示する遮光層3のように、遮光層3Aに裏打ち層3bを伴った層とすることができる。裏打ち層3bは、遮光層3の遮光性を向上させたり、遮光層3Aと、この遮光層3Aを透して見える裏打ち層3bとによって、加飾部2の外観意匠を演出することもできる。
例えば、裏打ち層3bとして、配線4と同様な金属材料を用いることができる。裏打ち層3bは配線4と同一材料で形成しても良い。但し、この場合、裏打ち層3b上に配線4を形成すると、配線4同士の絶縁性が確保できないので、裏打ち層3bの上にはオーバーコート層7などの絶縁性の層を形成した上で、配線4を形成する(同図で破線で例示)。
裏打ち層3bを金属光沢を有する金属材料で形成し、遮光層3Aに若干の透光性を持たせた場合、遮光層3でメタリック調の外観色を表現することもできる。また、白色など白色系の加飾部2とするときに、遮光層3単独で白色層としたときに、この遮光層3の遮光性が不足する場合に、裏打ち層3bで遮光性を補うことができる。
[Backing layer 3b belonging to light shielding layer 3]
Although the light shielding layer 3 may be a single layer, it may have a configuration in which two or more layers are laminated. For example, like the light shielding layer 3 illustrated in FIG. 13, the light shielding layer 3A may be a layer with the backing layer 3b. The backing layer 3b can improve the light-shielding property of the light-shielding layer 3, or can produce the appearance design of the decorative portion 2 by the light-shielding layer 3A and the backing layer 3b seen through the light-shielding layer 3A.
For example, the same metal material as that of the wiring 4 can be used for the backing layer 3b. The backing layer 3 b may be formed of the same material as the wiring 4. However, in this case, if the wiring 4 is formed on the backing layer 3b, the insulation between the wirings 4 cannot be ensured. Therefore, after forming an insulating layer such as the overcoat layer 7 on the backing layer 3b, The wiring 4 is formed (illustrated with a broken line in the figure).
When the backing layer 3b is formed of a metallic material having a metallic luster and the light shielding layer 3A has a slight translucency, the light shielding layer 3 can express a metallic appearance color. Further, when the white-colored decorative part 2 such as white is used, when the light-shielding layer 3 alone is used as a white layer and the light-shielding property of the light-shielding layer 3 is insufficient, the backing layer 3b supplements the light-shielding property. Can do.

〔可視情報9〕
図16に例示するタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10では、遮光層3が形成される不透明領域A2には可視情報9として製品のロゴマークなどが形成されている。
本発明においては、可視情報9は必須ではないが、不透明領域A2に対して、製品ロゴマーク、操作説明用の文字や記号、模様などの任意の目視可能な可視情報9を設けることができる。
[Visible information 9]
In the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device illustrated in FIG. 16, a product logo mark or the like is formed as visible information 9 in the opaque region A <b> 2 where the light shielding layer 3 is formed.
In the present invention, the visible information 9 is not essential, but any visible information 9 such as a product logo, an operation explanation character, symbol, or pattern can be provided for the opaque region A2.

可視情報9は、表側から見える様に、不透明領域A2内において、例えば、遮光層3の非形成部に設けることができる。この構成では、可視情報9は、遮光層3の前記非形成部の部分を、表側から見たときの色及び形状によって表現される目視可能な情報である。
可視情報9は、図示は省略するが、遮光層3の前記非形成部の部分に可視情報形成層を設けることで、この可視情報形成層を、表側から見たときの色及び形状によって表現することができる。なお、可視情報形成層は、透光性基板1と遮光層3との間に形成することもできる。
可視情報形成層としては、金属層、着色樹脂層など、遮光層3とは色や表面状態の外観が異なる層を用いることができる。前記金属層としては、銀、アルミニウム、銅などの金属薄膜を用いることができる。前記着色樹脂層としては着色顔料や金属粉末を含む樹脂組成物層を用いることができる。
The visible information 9 can be provided, for example, in a non-formation part of the light shielding layer 3 in the opaque region A2 so that it can be seen from the front side. In this configuration, the visible information 9 is visible information that is expressed by a color and a shape when the non-formed portion of the light shielding layer 3 is viewed from the front side.
Although not shown, the visible information 9 is represented by a color and a shape when the visible information forming layer is viewed from the front side by providing a visible information forming layer in the non-formed portion of the light shielding layer 3. be able to. The visible information forming layer can also be formed between the translucent substrate 1 and the light shielding layer 3.
As the visible information forming layer, a layer such as a metal layer or a colored resin layer having a color or a surface appearance different from that of the light shielding layer 3 can be used. As the metal layer, a metal thin film such as silver, aluminum, or copper can be used. As the colored resin layer, a resin composition layer containing a color pigment or metal powder can be used.

〔タッチパネルの全機能の一体化〕
タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、制御回路、この制御回路と配線4を電気的に接続するコネクタなどのタッチパネル機能の全部が一体化されたものとしても良い。
タッチパネルの一体化は、タッチパネルとして必要な機能の一部を一体化する形態でも、その分に応じた部品点数の低減、薄型化の効果は得られるが、タッチパネルとしての必要な機能の全部を一体化するのが、より好ましい。
タッチパネルとして必要な機能の全部を一体化したタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、タッチパネルと言うこともできる。タッチパネルとして必要な機能の一部を一体化したタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、タッチパネル用部材と言うこともできる。
[Integration of all touch panel functions]
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device may be configured such that all of touch panel functions such as a control circuit and a connector for electrically connecting the control circuit and the wiring 4 are integrated.
The touch panel can be integrated even if some of the functions required as a touch panel are integrated, but the effects of reducing the number of parts and reducing the thickness can be obtained. More preferably.
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device, in which all functions necessary for a touch panel are integrated, can also be called a touch panel. The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device, in which a part of functions necessary as a touch panel is integrated, can also be called a touch panel member.

〔D〕表示装置:
本発明による表示装置は、上記したタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10と、表示パネルとを、少なくとも含む構成の表示装置である。
図15は、本発明による表示装置の実施形態例であり、同図に示す表示装置100は、図面上方の観察者V側の表側から順に、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10、表示パネル30を備えている。
タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、前述した本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10である。タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、表側である第2面S2を観察者V側に向けて、裏側である第1面S1を表示パネル30側に向けて、配置される。
前記表示パネル30は、液晶表示パネル、電界発光(EL)パネルが代表的であるが、この他、電子ペーパーパネル、ブラウン管によるディスプレイ装置でもよく、公知の各種表示パネルで良い。
[D] Display device:
The display device according to the present invention is a display device configured to include at least the above-described front protective plate 10 for a touch panel integrated display device and a display panel.
FIG. 15 shows an embodiment of a display device according to the present invention. A display device 100 shown in FIG. 30.
The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device is the above-described front protective plate 10 for a touch panel integrated display device according to the present invention. The front protective plate 10 for a touch panel integrated display device is arranged with the second surface S2 on the front side facing the viewer V side and the first surface S1 on the back side facing the display panel 30 side.
The display panel 30 is typically a liquid crystal display panel or an electroluminescence (EL) panel, but may be an electronic paper panel, a display device using a cathode ray tube, or various known display panels.

このような構成とすることで、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板20を用いた場合に比べて、そのタッチパネル一体型表示装置用前面保護板が工程数を減らすことができ、コストダウンが可能な構成である為に、表示装置としてもコストダウンが可能な構成とすることができる。   By adopting such a configuration, the front protective plate for a touch panel integrated display device can reduce the number of processes and reduce the cost compared to the case where the front protective plate 20 for a touch panel integrated display device is used. Therefore, the display device can be reduced in cost.

《表示装置としての変形形態》
本発明の表示装置100は、上記した形態以外のその他の形態をとり得る。以下、その一部を説明する。
<< Deformation as display device >>
The display device 100 of the present invention can take other forms besides the above-described form. Some of these will be described below.

〔タッチパネル機能の一部又は全部の一体化〕
タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10は、図1などで明示的に示したように、タッチパネル機能の一部として、配線4、第1電極5a及び第2電極5bが一体化している形態のものでも良いし、図示はしないが、さらに、制御回路、この制御回路と配線4を電気的に接続するコネクタなどのタッチパネル機能の全部が一体化している形態のものでも良い。
表示装置100としては、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10が前者の形態の場合には、制御回路、この制御回路と配線4を電気的に接続するコネクタなどのタッチパネル機能の残りの部分を含むものとなる。
[Integration of part or all of the touch panel function]
As explicitly shown in FIG. 1 or the like, the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device has a configuration in which the wiring 4, the first electrode 5a, and the second electrode 5b are integrated as a part of the touch panel function. Although not shown, the touch panel function such as a control circuit and a connector for electrically connecting the control circuit and the wiring 4 may be integrated.
In the case where the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device is in the former form, the display device 100 includes the remaining part of the touch panel function such as a control circuit and a connector for electrically connecting the control circuit and the wiring 4. It will be included.

いずれの構成においても、従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板を用いた場合に比べて、そのタッチパネル一体型表示装置用前面保護板が工程数を減らすことができ、コストダウンが可能な構成である為に、表示装置としてもコストダウンが可能な構成とすることができる。   In any configuration, the front protective plate for a touch panel integrated display device can reduce the number of processes and reduce the cost compared to the case of using a conventional front protective plate for a touch panel integrated display device. Therefore, the display device can be configured to be able to reduce the cost.

〔粘着シートなどの樹脂層の介在〕
図15で例示した実施形態による表示装置100では、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10と表示パネル30との間は、空隙を有し空気層が存在する構造となっているが、本発明においては、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板10と表示パネル30との間など、構成部材の間は、アクリル系樹脂などによる粘着剤層など公知の樹脂層で埋め尽くしても良い。樹脂層によって部材表面での光反射が減ることで、表示をより見易くすることができる。前記樹脂層には、粘着シート、塗布した樹脂液の固化層などを用いることができる。
[Interposition of resin layer such as adhesive sheet]
The display device 100 according to the embodiment illustrated in FIG. 15 has a structure in which an air layer exists between the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device and the display panel 30. In, between the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device and the display panel 30, the constituent members may be filled with a known resin layer such as an adhesive layer made of an acrylic resin or the like. Since the light reflection on the surface of the member is reduced by the resin layer, the display can be more easily seen. For the resin layer, a pressure-sensitive adhesive sheet, a solidified layer of the applied resin liquid, or the like can be used.

〔D〕用途:
本発明によるタッチパネル一体型表示装置用前面保護板10、及び表示装置100の用途は、特に限定されない。例えば、スマートフォンなどの携帯電話、タブレットPCなどの携帯情報端末、パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション、デジタルカメラ、電子手帳、ゲーム機器、自動券売機、ATM端末、POS端末、などである。
[D] Application:
Applications of the front protective plate 10 for a touch panel integrated display device and the display device 100 according to the present invention are not particularly limited. For example, a mobile phone such as a smartphone, a portable information terminal such as a tablet PC, a personal computer, a car navigation system, a digital camera, an electronic notebook, a game machine, an automatic ticket vending machine, an ATM terminal, a POS terminal, and the like.

1 透光性基板
2 加飾部
3 遮光層
3A 遮光層(裏打ち層を除く)
3a 赤外透過窓
3aL 赤外透過層
3b 裏打ち層
4 配線
5 電極
5a 第1電極
5b 第2電極
5aB (第1電極の)ブリッジ部
5aC 第1接続部
5aE 第1透明電極要素
5aF (第1電極の)取出し部
5bC 第2接続部
5bE 第2透明電極要素
5bU ブリッジ下側部
5C 交差部
6 絶縁層
6a,6b 絶縁層
7 オーバーコート層
8 低反射層
9 可視情報
10 タッチパネル一体型表示装置用前面保護板
20 従来のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板
30 表示パネル
100 表示装置
A1 表示用領域
A2 不透明領域
S1 第1面(一方の面)
S2 第2面(他方の面)
V 観察者
Vs 視認部分
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Translucent board | substrate 2 Decorating part 3 Light shielding layer 3A Light shielding layer (except a backing layer)
3a Infrared transmission window 3aL Infrared transmission layer 3b Backing layer 4 Wiring 5 Electrode 5a First electrode 5b Second electrode 5aB (First electrode) Bridge portion 5aC First connection portion 5aE First transparent electrode element 5aF (First electrode) 5bC second connecting portion 5bE second transparent electrode element 5bU bridge lower side portion 5C crossing portion 6 insulating layer 6a, 6b insulating layer 7 overcoat layer 8 low reflection layer 9 visible information 10 front surface for touch panel integrated display device Protective plate 20 Front protective plate for conventional touch panel integrated display device 30 Display panel 100 Display device A1 Display region A2 Opaque region S1 First surface (one surface)
S2 2nd surface (the other surface)
V observer Vs visible part

Claims (5)

中央の表示用領域と、この表示用領域の外周部に設けられ可視光を遮蔽する不透明領域とを有し、この不透明領域が加飾部を構成し、前記表示用領域にはタッチパネル用の電極を有し、前記不透明領域にはタッチパネル用の配線を有する、タッチパネル一体型表示装置用前面保護板であって、
透光性基板と、
この透光性基板の一方の面上の前記不透明領域に設けられ、前記加飾部を構成する遮光層と、
前記遮光層上に設けられた前記配線と、
前記透光性基板の前記一方の面上の前記表示用領域に設けられ、第1方向に延在する複数の第1電極と、前記第1方向と交差する第2方向に延在する複数の第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極との交差部において、両電極間に介在し両電極を互いに絶縁する絶縁層と、
を有し、
前記絶縁層は、前記加飾部の構成層のうちの絶縁性を示す少なくとも1層以上の層と、同一材料で形成され、かつ、この層と同時形成可能な面に接して形成されている、
タッチパネル一体型表示装置用前面保護板。
A display area in the center and an opaque area that is provided on the outer periphery of the display area and shields visible light. The opaque area constitutes a decorative portion, and the display area includes an electrode for a touch panel. A front protective plate for a touch panel integrated display device having wiring for a touch panel in the opaque region,
A translucent substrate;
A light-shielding layer provided in the opaque region on one surface of the translucent substrate and constituting the decorative portion;
The wiring provided on the light shielding layer;
A plurality of first electrodes provided in the display region on the one surface of the translucent substrate and extending in a first direction; and a plurality of extending in a second direction intersecting the first direction. A second electrode;
An insulating layer that is interposed between the electrodes and insulates the electrodes from each other at the intersection of the first electrode and the second electrode;
Have
The insulating layer is formed of the same material as at least one or more layers showing insulating properties among the constituent layers of the decorative portion, and is formed in contact with a surface that can be formed simultaneously with the layer. ,
Front protective plate for touch panel integrated display.
前記交差部において、前記絶縁層上に形成される前記第1電極及び前記第2電極のいずれか一方の電極は、前記絶縁層の上を跨ぐブリッジ部となっており、他方の電極は前記絶縁層の下をくぐり抜け、
前記ブリッジ部が反射性導電性層を含み、
前記絶縁層の可視光反射率が前記ブリッジ部の可視光反射率よりも小さい、請求項1に記載のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板。
At the intersection, either one of the first electrode and the second electrode formed on the insulating layer is a bridge portion straddling the insulating layer, and the other electrode is the insulating electrode. Go under the layer,
The bridge portion includes a reflective conductive layer;
The front protective plate for a touch panel integrated display device according to claim 1, wherein a visible light reflectance of the insulating layer is smaller than a visible light reflectance of the bridge portion.
前記絶縁層と同一材料で同時形成可能な面に接して形成される前記加飾部の構成層が、前記加飾部に設けられた赤外透過窓を構成する赤外透過層である、請求項2に記載のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板。   The constituent layer of the decoration part formed in contact with a surface that can be formed simultaneously with the same material as the insulating layer is an infrared transmission layer that constitutes an infrared transmission window provided in the decoration part. Item 3. A front protective plate for a touch panel integrated display device according to Item 2. 前記第1電極及び前記第2電極は、層自体が不透明な導電性層から形成されており、
前記第1電極は、第1透明電極要素と、隣接する前記第1透明電極要素同士を接続する第1接続部とを含み、
前記第2電極は、第2透明電極要素と、隣接する前記第2透明電極要素同士を接続する第2接続部とを含み、
前記第1接続部及び前記第2接続部は、前記交差部において互いに交差し、
前記第1透明電極要素及び前記第2透明電極要素は、前記導電性層がメッシュ状に形成されたメッシュ電極から構成されている、請求項1〜3のいずれかに記載のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板。
The first electrode and the second electrode are formed of a conductive layer in which the layer itself is opaque,
The first electrode includes a first transparent electrode element and a first connection part that connects the adjacent first transparent electrode elements,
The second electrode includes a second transparent electrode element and a second connection portion that connects the adjacent second transparent electrode elements,
The first connection portion and the second connection portion intersect each other at the intersection.
4. The touch panel integrated display device according to claim 1, wherein each of the first transparent electrode element and the second transparent electrode element includes a mesh electrode in which the conductive layer is formed in a mesh shape. 5. Front protective plate.
表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された請求項1〜4のいずれかに記載のタッチパネル一体型表示装置用前面保護板と、を含む、表示装置。   A display device comprising: a display panel; and the front protective plate for a touch panel integrated display device according to any one of claims 1 to 4, which is disposed on an observer side of the display panel.
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