JP2014014131A - Acoustic wave device built-in module and communication device - Google Patents

Acoustic wave device built-in module and communication device Download PDF

Info

Publication number
JP2014014131A
JP2014014131A JP2013179701A JP2013179701A JP2014014131A JP 2014014131 A JP2014014131 A JP 2014014131A JP 2013179701 A JP2013179701 A JP 2013179701A JP 2013179701 A JP2013179701 A JP 2013179701A JP 2014014131 A JP2014014131 A JP 2014014131A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wave device
lid
elastic wave
acoustic wave
built
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013179701A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5856592B2 (en
Inventor
Motoyuki Tajima
基行 田島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiyo Yuden Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Yuden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiyo Yuden Co Ltd filed Critical Taiyo Yuden Co Ltd
Priority to JP2013179701A priority Critical patent/JP5856592B2/en
Publication of JP2014014131A publication Critical patent/JP2014014131A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5856592B2 publication Critical patent/JP5856592B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Transceivers (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an acoustic wave device built-in module which inhibits moisture etc. from intruding into a cavity on an electrode exciting an acoustic wave, and to provide a communication device.SOLUTION: An acoustic wave device built-in module includes: a multilayer wiring board 12 where an insulation layer 14 and a wiring layer 16 are laminated; multiple acoustic wave devices 20 which are incorporated into the multilayer wiring board 12; and an antenna switch 40 provided on the multilayer wiring board 12 and electrically connected with the acoustic wave device 20. Each acoustic wave device 20 includes: an IDT0 that is an electrode provided on a piezoelectric substrate 22 and exciting an acoustic wave; and a sealing part 28 including a frame 24, which is provided on the piezoelectric substrate 22 enclosing the IDT0, and a lid 26 which is provided on the frame 24 so as to have a cavity 30 on the IDT0. The lid 26 is recessed toward the piezoelectric substrate 22 side.

Description

本発明は、多層配線板に弾性波デバイスが内蔵された弾性波デバイス内蔵モジュール及び通信装置に関する。   The present invention relates to an elastic wave device built-in module and a communication apparatus in which an elastic wave device is built in a multilayer wiring board.

弾性波を利用する弾性波デバイスは、例えば携帯電話端末等の無線通信機器のフィルタ及び分波器に用いられている。弾性波デバイスには、弾性表面波を利用する弾性表面波デバイスとバルク波を利用するバルク波デバイスとがある。弾性表面波デバイスは、圧電基板上に櫛歯状のIDT(Interdigital Transducer)電極が設けられている。IDT電極を覆って誘電体膜が設けられたラブ波デバイス或いは弾性境界波デバイスも弾性表面波デバイスに含まれる。一方、バルク波デバイスには、圧電膜の上下両面を電極により挟んだ圧電薄膜共振器デバイスがある。また、ラム波を利用したラム波デバイスもバルク波デバイスに含まれる。   2. Description of the Related Art Elastic wave devices that use elastic waves are used in filters and duplexers of wireless communication devices such as mobile phone terminals, for example. There are surface acoustic wave devices that use surface acoustic waves and bulk wave devices that use bulk waves. In the surface acoustic wave device, a comb-like IDT (Interdigital Transducer) electrode is provided on a piezoelectric substrate. A Love wave device or a boundary acoustic wave device in which a dielectric film is provided so as to cover the IDT electrode is also included in the surface acoustic wave device. On the other hand, as a bulk wave device, there is a piezoelectric thin film resonator device in which upper and lower surfaces of a piezoelectric film are sandwiched between electrodes. A Lamb wave device using Lamb waves is also included in the bulk wave device.

弾性波デバイスでは、特性を維持するために、弾性波を励振する電極(圧電基板上に形成されたIDT電極、又は圧電膜の上下面にその厚さ方向に重畳して配置された電極対)上に、空隙(空間)を有する封止部を設けることが行われる。   In an acoustic wave device, in order to maintain the characteristics, electrodes for exciting an acoustic wave (an IDT electrode formed on a piezoelectric substrate or a pair of electrodes arranged on the upper and lower surfaces of a piezoelectric film so as to overlap in the thickness direction) A sealing part having a gap (space) is provided on the top.

また、無線通信機器の小型化が進められており、それに伴い、弾性波デバイスが実装されるモジュールもより小型化が求められている。かかるモジュールの小型化及び薄型化のために、弾性波デバイスを金属等の配線層と樹脂等の絶縁層とが積層された多層配線板内に配置することが知られている(例えば、特許文献1)。一方、樹脂は加熱されると、樹脂内の水分或いは未反応生成物が気化、脱ガスすることが知られている(例えば、特許文献2)。   In addition, miniaturization of wireless communication devices has been promoted, and accordingly, a module on which an acoustic wave device is mounted is required to be further miniaturized. In order to reduce the size and thickness of such a module, it is known that an acoustic wave device is arranged in a multilayer wiring board in which a wiring layer made of metal or the like and an insulating layer made of resin or the like are laminated (for example, Patent Documents). 1). On the other hand, it is known that when the resin is heated, moisture or unreacted products in the resin are vaporized and degassed (for example, Patent Document 2).

特開2006−351590号公報JP 2006-351590 A 特開2007−258776号公報JP 2007-258776 A

配線層と絶縁層とが積層された多層配線板に弾性波デバイスが内蔵された弾性波デバイス内蔵モジュールにあっては、弾性波を励振する電極を封止部により封止した場合でも、電極上の空隙(空間)に水分等が侵入することが生じる。これにより、弾性波を励振する電極の腐食が生じ、弾性波デバイスとしての特性が劣化してしまう。また、弾性波デバイス内蔵モジュールを電子機器のマザーボード等に実装する際には、実装時の加熱により、弾性波を励振する電極上の空隙に侵入した水分等が気化・膨張して、弾性波デバイスにストレスが加わり、クラックが生じることがある。   In an elastic wave device built-in module in which an elastic wave device is built in a multilayer wiring board in which a wiring layer and an insulating layer are laminated, even when the electrode for exciting the elastic wave is sealed by the sealing portion, Moisture or the like may enter the gap (space). Thereby, corrosion of the electrode which excites an elastic wave arises, and the characteristic as an elastic wave device will deteriorate. In addition, when mounting a module with a built-in elastic wave device on a motherboard or the like of an electronic device, moisture or the like that has entered the gap on the electrode that excites the elastic wave is vaporized and expanded by heating during mounting, and the elastic wave device May cause stress and cracks.

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、弾性波を励振する電極上の空隙(空間)に水分等が侵入することを抑制することができる弾性波デバイス内蔵モジュール及び通信装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and provides an elastic wave device built-in module and a communication apparatus that can prevent moisture and the like from entering a gap (space) on an electrode that excites an elastic wave. For the purpose.

本発明は、絶縁層と配線層とが積層された多層配線板と、前記多層配線板に内蔵された複数の弾性波デバイスと、前記多層配線板に設けられ、前記弾性波デバイスと電気的に接続されたアンテナスイッチと、を備え、前記弾性波デバイスは、基板上に設けられた弾性波を励振する電極と、前記電極を囲んで前記基板上に設けられた枠体と前記電極上に空隙を有するように前記枠体上に設けられたリッドとを含む封止部と、を有し、前記リッドは、前記基板側に凹んでいることを特徴とする弾性波デバイス内蔵モジュールである。本発明によれば、空隙内の圧力を高くすることができるため、空隙内に水分等が浸入することを抑制できる。   The present invention provides a multilayer wiring board in which an insulating layer and a wiring layer are laminated, a plurality of acoustic wave devices incorporated in the multilayer wiring board, and provided in the multilayer wiring board, and electrically connected to the acoustic wave device. And an antenna switch connected thereto, wherein the acoustic wave device includes an electrode that excites an acoustic wave provided on a substrate, a frame that surrounds the electrode and that is provided on the substrate, and a gap above the electrode. And a sealing portion including a lid provided on the frame body, and the lid is recessed on the substrate side. According to the present invention, since the pressure in the gap can be increased, it is possible to prevent moisture and the like from entering the gap.

上記構成において、前記空隙内の圧力は、前記リッドが前記基板側に凹まずに平坦であるとした場合における前記電極上の空隙に圧力よりも高い構成とすることができる。   In the above configuration, the pressure in the gap may be higher than the pressure in the gap on the electrode when the lid is flat without being recessed toward the substrate.

上記構成において、前記絶縁層は、樹脂により形成されている構成とすることができる。   The said structure WHEREIN: The said insulating layer can be set as the structure currently formed with resin.

上記構成において、前記リッドは、金属により形成されている構成とすることができる。   The said structure WHEREIN: The said lid can be set as the structure currently formed with the metal.

上記構成において、前記リッドの凹み量は、前記リッドの厚さの半分よりも小さい構成とすることができる。   The said structure WHEREIN: The dent amount of the said lid can be set as the structure smaller than half of the thickness of the said lid.

上記構成において、前記リッドの凹み量は、前記基板上に設けられた弾性波を励振する電極と前記リッドとの間隔が10μm以上離される凹み量である構成とすることができる。   In the above configuration, the recess amount of the lid may be a recess amount in which an interval between the electrode for exciting an elastic wave provided on the substrate and the lid is separated by 10 μm or more.

上記構成において、前記リッドと前記絶縁層との間に前記絶縁層とは異なる材質の絶縁物が介在されている構成とすることができる。   The said structure WHEREIN: It can be set as the structure by which the insulator of the material different from the said insulating layer is interposed between the said lid and the said insulating layer.

上記構成において、前記弾性波デバイスは、前記多層配線板の厚さ方向の中央部に内蔵されている構成とすることができる。   The said structure WHEREIN: The said acoustic wave device can be set as the structure incorporated in the center part of the thickness direction of the said multilayer wiring board.

上記構成において、前記弾性波デバイスは、弾性表面波デバイスを含む構成とすることができる。   The said structure WHEREIN: The said acoustic wave device can be set as the structure containing a surface acoustic wave device.

上記構成において、前記弾性波デバイスは、バルク波デバイスを含む構成とすることができる。   The said structure WHEREIN: The said elastic wave device can be set as the structure containing a bulk wave device.

上記構成において、前記弾性波デバイスによって分波器が形成されている構成とすることができる。   In the above configuration, a duplexer may be formed by the acoustic wave device.

本発明は、上記記載の弾性波内蔵モジュールを有することを特徴とする通信装置である。   The present invention is a communication device having the elastic wave built-in module described above.

本発明によれば、弾性波を励振する電極上の空隙に水分等が侵入することを抑制できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can suppress that a water | moisture content etc. penetrate | invade into the space | gap on the electrode which excites an elastic wave.

図1は、比較例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールを示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an elastic wave device built-in module according to Comparative Example 1. 図2は、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールを示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the elastic wave device built-in module according to the first embodiment. 図3(a)は、図2に示した弾性波デバイス内蔵モジュールに内蔵された状態での一つの弾性波デバイスを示す外観斜視図、図3(b)は、図3(a)に示されるリッドを透視した場合の弾性波デバイスの構成を示す平面図である。3A is an external perspective view showing one acoustic wave device in a state of being incorporated in the elastic wave device built-in module shown in FIG. 2, and FIG. 3B is shown in FIG. It is a top view which shows the structure of the elastic wave device at the time of seeing through a lid. 図4は、図3(b)の線A−Aに沿った断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 図5(a)及び図5(b)は、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールの製造方法を示す断面図(その1)である。5A and 5B are cross-sectional views (part 1) illustrating the method for manufacturing the elastic wave device built-in module according to the first embodiment. 図6(a)は、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールの製造方法を示す平面図、図6(b)は、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールの製造方法を示す断面図(その2)である。FIG. 6A is a plan view illustrating a method for manufacturing the elastic wave device built-in module according to the first embodiment, and FIG. 6B is a cross-sectional view illustrating the method for manufacturing the elastic wave device built-in module according to the first embodiment. Part 2). 図7は、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールの製造方法を示す断面図(その3)である。FIG. 7 is a cross-sectional view (part 3) illustrating the method for manufacturing the elastic wave device built-in module according to the first embodiment. 図8(a)から図8(c)は、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールの製造方法を示す断面図(その3)である。FIG. 8A to FIG. 8C are cross-sectional views (part 3) illustrating the method for manufacturing the elastic wave device built-in module according to the first embodiment. 図9(a)及び図9(b)は、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールの製造方法を示す断面図(その4)である。FIGS. 9A and 9B are cross-sectional views (part 4) illustrating the method for manufacturing the elastic wave device built-in module according to the first embodiment. 図10(a)及び図10(b)は、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールの製造方法を示す断面図(その5)である。FIG. 10A and FIG. 10B are cross-sectional views (part 5) illustrating the method for manufacturing the elastic wave device built-in module according to the first embodiment. 図11は、枠体及びリッドが絶縁物で形成された弾性表面波デバイスを示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a surface acoustic wave device in which a frame and a lid are formed of an insulator. 図12(a)は、圧電薄膜共振器デバイスを示す平面図、図12(b)は、図12(a)の線A−A間の断面図である。FIG. 12A is a plan view showing a piezoelectric thin film resonator device, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 図13は、分波器を示すブロック図である。FIG. 13 is a block diagram illustrating the duplexer. 図14は、実施例1の変形例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールを示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating the module with a built-in acoustic wave device according to the first modification of the first embodiment. 図15は、実施例2に係る通信装置を示すブロック図である。FIG. 15 is a block diagram illustrating the communication apparatus according to the second embodiment.

図1は、比較例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールを示す断面図である。図1のように、比較例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールは、絶縁層102と配線層104とが複数積層された多層配線板106中に、弾性波デバイス110が内蔵されている。絶縁層102を介して積層された複数の配線層104は、絶縁層102の厚さ方向に延びる貫通配線(層間接続配線)108によって、互いに電気的に接続されている。多層配線板106の表面には、インダクタ、キャパシタ、高周波IC(Integrated Circuit:集積回路)等の電子部品130が実装されている。   FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an elastic wave device built-in module according to Comparative Example 1. As shown in FIG. 1, the elastic wave device built-in module according to Comparative Example 1 includes an elastic wave device 110 built in a multilayer wiring board 106 in which a plurality of insulating layers 102 and wiring layers 104 are laminated. The plurality of wiring layers 104 stacked via the insulating layer 102 are electrically connected to each other by through wiring (interlayer connection wiring) 108 extending in the thickness direction of the insulating layer 102. On the surface of the multilayer wiring board 106, electronic components 130 such as inductors, capacitors, and high frequency ICs (Integrated Circuits) are mounted.

弾性波デバイス110は、圧電基板112上に形成された櫛歯状のIDT(Interdigital Transducer)電極IDT0と、その両側に位置して配置された反射器R0とを含む弾性表面波デバイスである。そして、圧電基板112上には、IDT0と反射器R0とを封止する金属製の封止部114が設けられている。封止部114は、IDT0と反射器R0の周囲を囲む枠体116と、IDT0上に空隙120が形成されるように枠体116上に設けられたリッド118とを含む。かかる封止部114の周囲に於ける圧電基板112上には、IDT0を外部に電気的に接続する為の突起電極122が設けられている。突起電極122は、配線層104及び/或いは貫通配線(層間接続配線)108を介して、電子部品130等に電気的に接続可能とされている。   The acoustic wave device 110 is a surface acoustic wave device including a comb-like IDT (Interdigital Transducer) electrode IDT0 formed on a piezoelectric substrate 112 and reflectors R0 disposed on both sides thereof. On the piezoelectric substrate 112, a metal sealing portion 114 that seals the IDT0 and the reflector R0 is provided. Sealing portion 114 includes a frame 116 that surrounds IDT0 and reflector R0, and a lid 118 that is provided on frame 116 so that gap 120 is formed on IDT0. On the piezoelectric substrate 112 around the sealing portion 114, a protruding electrode 122 for electrically connecting the IDT0 to the outside is provided. The protruding electrode 122 can be electrically connected to the electronic component 130 or the like via the wiring layer 104 and / or the through wiring (interlayer connection wiring) 108.

図1のように、弾性波デバイス110が多層配線板106中に配置されている場合、IDT0上の空隙(空間)120内に水分が侵入してIDT0が腐食してしまい、弾性波デバイス110の特性が劣化することが生じ易い。かかる水分は、弾性波デバイス内蔵モジュールの製造工程に於いて侵入するか、或いは弾性波デバイス内蔵モジュールの形成後の経時変化によって侵入する。また、かかる水分は、圧電基板112と枠体116との界面或いは枠体116とリッド118との界面等、何らかの界面から空隙120内に侵入する。例えば、IDT0と突起電極122との間を接続する配線と枠体116との間を電気的に絶縁するように、配線と枠体116との間に絶縁物層を介在させた場合には、この絶縁物層と枠体116との界面から水分が侵入する。特に、絶縁層102がエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、或いは熱可塑性の液晶ポリマーシート等により形成されている場合、樹脂は吸湿性を有することから、空隙120内に水分が侵入し易い。   As shown in FIG. 1, when the acoustic wave device 110 is disposed in the multilayer wiring board 106, moisture enters the gap (space) 120 on the IDT 0 and the IDT 0 is corroded, and the acoustic wave device 110 The characteristic is likely to deteriorate. Such moisture penetrates in the manufacturing process of the elastic wave device built-in module, or penetrates due to a change with time after the formation of the elastic wave device built-in module. Further, the moisture enters the gap 120 from some interface such as the interface between the piezoelectric substrate 112 and the frame body 116 or the interface between the frame body 116 and the lid 118. For example, when an insulating layer is interposed between the wiring and the frame 116 so as to electrically insulate the wiring 116 and the wiring connecting the IDT0 and the protruding electrode 122, Moisture enters from the interface between the insulator layer and the frame body 116. In particular, when the insulating layer 102 is formed of an epoxy resin, a polyimide resin, a thermoplastic liquid crystal polymer sheet, or the like, the resin has a hygroscopic property, so that moisture easily enters the gap 120.

また、封止部114は、枠体116とリッド118とを例えば半田によって接合することにより形成されるが、この接合処理は半田の融点以上の高温環境下で行われる。このため、かかる高温状態から常温に復帰する際に空隙120の体積が一定であれば、空隙120内の圧力は低下する。このように、空隙120内が減圧状態になれば、かかる空隙120内へ水分が侵入することが助長される。さらに、絶縁層102が樹脂で形成されている場合には、弾性波デバイス内蔵モジュールを電子機器のマザーボード等に実装する際の熱によって、絶縁層102から水分及び/或いは未反応生成物(例えば、フッ素或いは塩素)が気化、脱ガスする。この時、多層配線板106の内層である絶縁層102に於いて生じた水分及び/或いは未反応生成物は、外部に放出されることなく、多層配線板106内に保持される。このため、経時変化によって、これらの水分及び/或いは未反応生成物が空隙120内に侵入することも生じてしまう。   Further, the sealing portion 114 is formed by joining the frame body 116 and the lid 118 with, for example, solder. This joining process is performed in a high temperature environment equal to or higher than the melting point of the solder. For this reason, if the volume of the space | gap 120 is constant when returning from this high temperature state to normal temperature, the pressure in the space | gap 120 will fall. Thus, if the inside of the space | gap 120 will be in a pressure reduction state, it will be encouraged that a water | moisture content penetrate | invades into this space | gap 120. FIG. Furthermore, when the insulating layer 102 is formed of resin, moisture and / or unreacted products (for example, from the insulating layer 102 due to heat when the module with built-in elastic wave device is mounted on a motherboard or the like of an electronic device) Fluorine or chlorine) is vaporized and degassed. At this time, moisture and / or unreacted products generated in the insulating layer 102 which is the inner layer of the multilayer wiring board 106 are retained in the multilayer wiring board 106 without being released to the outside. For this reason, these moisture and / or unreacted products may also enter the gap 120 due to changes over time.

このように、多層配線板中に弾性波デバイスが内蔵された弾性波デバイス内蔵モジュールでは、かかる弾性波デバイスに於いて弾性波を励振する電極上の空隙に水分等が侵入することが生じ、これにより弾性波デバイスの特性の劣化等を招来してしまう。そこで、このような課題を解決すべく、弾性波を励振する電極上に設けられる空隙に水分等が侵入することを抑制することができる実施例について以下に説明する。   As described above, in an elastic wave device built-in module in which an elastic wave device is built in a multilayer wiring board, moisture or the like enters the gap on the electrode that excites the elastic wave in the elastic wave device. As a result, the characteristics of the acoustic wave device are deteriorated. Therefore, in order to solve such a problem, an embodiment capable of suppressing the entry of moisture or the like into the gap provided on the electrode for exciting the elastic wave will be described below.

図2は、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールを示す断面図である。図2のように、実施例1の弾性波デバイス内蔵モジュール10にあっては、弾性波デバイス20は、多層配線板12の内部に埋め込まれて配置され内蔵されている。弾性波デバイス20は、多層配線板12の厚さ方向のほぼ中央部に位置して収納・配置されている。多層配線板12は、絶縁層14と配線層16とが複数積層された積層基板である。積層された複数の配線層16は、絶縁層14を貫通する貫通配線(層間接続配線ともいう)18によって互いに電気的に接続されている。配線層16及び貫通配線18は、例えば銅(Cu)等の金属で形成されている。一方、絶縁層14は、例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、或いは熱可塑性の液晶ポリマーシート等により形成されている。   FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the elastic wave device built-in module according to the first embodiment. As shown in FIG. 2, in the elastic wave device built-in module 10 according to the first embodiment, the elastic wave device 20 is embedded and arranged in the multilayer wiring board 12. The acoustic wave device 20 is housed and disposed at a substantially central portion in the thickness direction of the multilayer wiring board 12. The multilayer wiring board 12 is a laminated substrate in which a plurality of insulating layers 14 and wiring layers 16 are laminated. The plurality of stacked wiring layers 16 are electrically connected to each other by through wiring (also referred to as interlayer connection wiring) 18 that penetrates the insulating layer 14. The wiring layer 16 and the through wiring 18 are made of a metal such as copper (Cu), for example. On the other hand, the insulating layer 14 is formed of, for example, an epoxy resin, a polyimide resin, or a thermoplastic liquid crystal polymer sheet.

ここで、弾性波デバイス内蔵モジュール10内に収容・内蔵された弾性波デバイス20について説明する。図3(a)は、図2に示した弾性波デバイス内蔵モジュール内に内蔵された状態での一つの弾性波デバイス20を示す外観斜視図、図3(b)は、図3(a)に示されるリッド26を透視した場合の弾性波デバイス20の構成を示す平面図である。ここでは、弾性波デバイス20の周囲に在る絶縁層14、配線層16の表示を省略している。図3(a)及び図3(b)のように、弾性波デバイス20は、例えばタンタル酸リチウム(LiTaO)又はニオブ酸リチウム(LiNbO)等の圧電材料からなる基板22(以下、圧電基板と称する)上に、IDT0及びその両側に配設された反射器R0を具備する弾性表面波デバイスである。圧電基板22の厚さは、例えば250μmである。IDT0及び反射器R0は、例えばアルミニウム(Al)等の金属で形成されている。尚、図3(b)にあっては、一つのIDT0とその両側に配設された反射器R0を表示するのみであるが、一つの弾性波デバイスに於いては、かかるIDT0と反射器R0とを含む弾性波デバイス素子が複数個組み合わされて、フィルタ回路等、所望の回路が形成されている。 Here, the acoustic wave device 20 housed and incorporated in the acoustic wave device built-in module 10 will be described. 3A is an external perspective view showing one acoustic wave device 20 in a state of being incorporated in the elastic wave device built-in module shown in FIG. 2, and FIG. 3B is a perspective view of FIG. It is a top view which shows the structure of the elastic wave device 20 at the time of seeing through the shown lid 26. FIG. Here, the display of the insulating layer 14 and the wiring layer 16 around the acoustic wave device 20 is omitted. 3A and 3B, the acoustic wave device 20 includes a substrate 22 (hereinafter referred to as a piezoelectric substrate) made of a piezoelectric material such as lithium tantalate (LiTaO 3 ) or lithium niobate (LiNbO 3 ). The surface acoustic wave device comprises IDT0 and reflectors R0 disposed on both sides thereof. The thickness of the piezoelectric substrate 22 is, for example, 250 μm. The IDT0 and the reflector R0 are made of a metal such as aluminum (Al), for example. In FIG. 3B, only one IDT0 and reflectors R0 disposed on both sides thereof are displayed. However, in one acoustic wave device, such IDT0 and reflector R0 are displayed. A desired circuit such as a filter circuit is formed by combining a plurality of acoustic wave device elements including

圧電基板22上に於いては、IDT0及び反射器R0の周囲を囲繞して、平面形状が略矩形状を有する枠体24が配設されている。枠体24は、例えばCu又はニッケル(Ni)等を含む金属により形成され、その厚さは例えば30μmである。かかる枠体24上には、IDT0及び反射器R0上に空隙30が形成されるように、IDT0及び反射器R0上を覆って板状のリッド26が配設されている。リッド26は、例えばCu又はNi等を含む金属板により形成され、その厚さは例えば20μmである。これにより、IDT0及び反射器R0は、枠体24とリッド26とからなる封止部28によって形成される空隙30内に封止されている。   On the piezoelectric substrate 22, a frame 24 having a substantially rectangular planar shape is disposed so as to surround the IDT0 and the reflector R0. The frame body 24 is formed of a metal including, for example, Cu or nickel (Ni), and the thickness thereof is, for example, 30 μm. On the frame 24, a plate-shaped lid 26 is disposed so as to cover the IDT0 and the reflector R0 so that a gap 30 is formed on the IDT0 and the reflector R0. The lid 26 is formed of a metal plate containing, for example, Cu or Ni, and has a thickness of 20 μm, for example. As a result, the IDT 0 and the reflector R 0 are sealed in a gap 30 formed by a sealing portion 28 including the frame body 24 and the lid 26.

そして、封止部28よりも外側の圧電基板22上面に於いては、突起電極32が4個配設されている。4個の突起電極32のうちの1つの突起電極32Aは信号入力用であり、また他の1つの突起電極32Bは信号出力用である。更に、残りの2つの突起電極32C、32Dはグランド(接地)用である。信号入力用突起電極32A及び信号出力用突起電極32Bは、配線34を介してIDT0に電気的に接続される。また、信号入力用突起電極32A及び信号出力用突起電極32Bに接続する配線34と枠体24との間には絶縁物層(不図示)が配設されて、配線34と枠体24との間は電気的に絶縁されている。一方、グランド(接地)用突起電極32C、32Dは、配線35を介して、枠体24に電気的に接続されている。即ち、弾性波デバイス20に於いて、IDT0及び反射器R0は、枠体24及びリッド26によって、外部の電磁界に対しても遮蔽される。   Four protruding electrodes 32 are arranged on the upper surface of the piezoelectric substrate 22 outside the sealing portion 28. Of the four protruding electrodes 32, one protruding electrode 32A is for signal input, and the other protruding electrode 32B is for signal output. Further, the remaining two protruding electrodes 32C and 32D are for grounding. The signal input protruding electrode 32A and the signal output protruding electrode 32B are electrically connected to the IDT0 via the wiring 34. In addition, an insulating layer (not shown) is disposed between the wire 34 connected to the signal input protrusion electrode 32A and the signal output protrusion electrode 32B and the frame body 24, and the wiring 34 and the frame body 24 are connected to each other. They are electrically insulated. On the other hand, the ground (grounding) protruding electrodes 32 </ b> C and 32 </ b> D are electrically connected to the frame body 24 via the wiring 35. In other words, in the acoustic wave device 20, the IDT 0 and the reflector R 0 are shielded against an external electromagnetic field by the frame body 24 and the lid 26.

図4は、図3(b)の線A−Aに沿った断面図である。図4のように、個々の突起電極32は、柱状の下側部分32a、柱状の上側部分32b、及び両柱状部の間に配設された例えば金(Au)−錫(Sn)半田からなる接合部材36をもって構成されている。一方、封止部28を構成する枠体24とリッド26も、金(Au)−錫(Sn)半田からなる接合部材36によって接合されている。実施例1に於ける弾性波デバイス内蔵モジュール10内に配置された弾性波デバイス20にあっては、リッド26の上面は平坦な面ではなく、枠体24から遠ざかるに連れて圧電基板22側に湾曲した変形(圧電基板22表面に近づく方向に凹んだ形状)が生じている。即ち、かかるリッド26の圧電基板22表面側への変形に伴い、IDT0及び反射器R0上に存在する空隙(空間)30は、その容積が減少している。尚、かかるリッド26の湾曲量Xは、その厚さの半分よりも小さく、リッド26とIDT0との間の最小の間隔は、10μm以上に確保されている。また、図3(a)の斜視図では、湾曲の様子は省略して示されている。   FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. As shown in FIG. 4, each protruding electrode 32 is made of, for example, gold (Au) -tin (Sn) solder disposed between a columnar lower portion 32a, a columnar upper portion 32b, and both columnar portions. A joining member 36 is used. On the other hand, the frame 24 and the lid 26 constituting the sealing portion 28 are also joined by a joining member 36 made of gold (Au) -tin (Sn) solder. In the elastic wave device 20 arranged in the elastic wave device built-in module 10 according to the first embodiment, the upper surface of the lid 26 is not a flat surface, but moves toward the piezoelectric substrate 22 as the distance from the frame body 24 increases. A curved deformation (a shape recessed in a direction approaching the surface of the piezoelectric substrate 22) occurs. That is, as the lid 26 is deformed to the surface side of the piezoelectric substrate 22, the volume of the gap (space) 30 existing on the IDT0 and the reflector R0 is reduced. The bending amount X of the lid 26 is smaller than half of its thickness, and the minimum distance between the lid 26 and the IDT0 is ensured to be 10 μm or more. Further, in the perspective view of FIG. 3A, the state of bending is omitted.

図2に於いて、多層配線板12に内蔵された弾性波デバイス20が有する突起電極32は、配線層16及び貫通配線18に接続されている。多層配線板12の上面に形成された配線層16Aは、少なくともその一部が端子パッドとして用いられ、かかる端子パッドには、電子部品40が半田42によって実装されている。電子部品40は、抵抗素子、インダクタ、或いはキャパシタ等のチップ部品、及びパワーアンプ、アンテナスイッチ、或いは高周波ICの能動素子等であり、端子パッドに対し必要に応じて実装されている。このような構成により、弾性波デバイス20と電子部品40との間は電気的に接続される。また、弾性波デバイス20及び電子部品40は、必要に応じて多層配線板12の下面に形成された配線層16Bに対しても電気的に接続される。多層配線板12の下面の配線層16Bは、弾性波デバイス内蔵モジュール10の外部接続用端子パッド外部として機能する。即ち、弾性波デバイス20及び電子部品40は、多層配線板12の下面に於ける配線層16Bを介して、電子機器のマザーボードに於ける端子等に電気的に接続される。   In FIG. 2, the protruding electrode 32 included in the acoustic wave device 20 incorporated in the multilayer wiring board 12 is connected to the wiring layer 16 and the through wiring 18. At least a part of the wiring layer 16 </ b> A formed on the upper surface of the multilayer wiring board 12 is used as a terminal pad, and an electronic component 40 is mounted on the terminal pad by solder 42. The electronic component 40 is a chip component such as a resistance element, an inductor, or a capacitor, a power amplifier, an antenna switch, an active element of a high frequency IC, or the like, and is mounted on a terminal pad as necessary. With such a configuration, the acoustic wave device 20 and the electronic component 40 are electrically connected. The acoustic wave device 20 and the electronic component 40 are also electrically connected to the wiring layer 16B formed on the lower surface of the multilayer wiring board 12 as necessary. The wiring layer 16B on the lower surface of the multilayer wiring board 12 functions as an external terminal pad for external connection of the elastic wave device built-in module 10. That is, the acoustic wave device 20 and the electronic component 40 are electrically connected to terminals and the like on the motherboard of the electronic device via the wiring layer 16B on the lower surface of the multilayer wiring board 12.

次に、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールの製造方法について説明する。図5(a)及び図5(b)並びに図6(b)から図10(b)は、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールの製造方法を示す断面図である。図6(a)は、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールの製造方法を示す平面図である。まず、図5(a)及び図5(b)を用いて、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールに内蔵される弾性波デバイスの製造方法について説明する。図5(a)のように、圧電基板22上に、周知の手段を用いてIDT0、反射器R0、IDT0と反射器R0を囲繞する枠体24、及び枠体24の外側に位置する突起電極32の下側部分32aを形成する。IDT0及び反射器R0は、例えばアルミニウムを主体とする金属の蒸着及びリフトオフ法を用いて形成することができる。枠体24及び突起電極32の下側部分32aは、例えば電解めっき法を適用し、銅を主体とする金属を選択的に被着することにより形成することができる。   Next, a manufacturing method of the elastic wave device built-in module according to the first embodiment will be described. FIGS. 5A and 5B and FIGS. 6B to 10B are cross-sectional views illustrating a method for manufacturing the module with a built-in acoustic wave device according to the first embodiment. FIG. 6A is a plan view illustrating the method for manufacturing the elastic wave device built-in module according to the first embodiment. First, with reference to FIGS. 5A and 5B, a method for manufacturing an acoustic wave device built in the module incorporating an acoustic wave device according to the first embodiment will be described. As shown in FIG. 5A, the IDT0, the reflector R0, the frame 24 that surrounds the IDT0 and the reflector R0, and the protruding electrodes that are located outside the frame 24 are formed on the piezoelectric substrate 22 by using known means. A lower portion 32a of 32 is formed. The IDT0 and the reflector R0 can be formed using, for example, a metal vapor deposition and lift-off method mainly composed of aluminum. The frame 24 and the lower portion 32a of the protruding electrode 32 can be formed by, for example, applying an electroplating method and selectively depositing a metal mainly composed of copper.

この様な圧電基板22上への金属層の形成と並行して、例えばSUS304等のステンレスからなる支持基板44上(図5に於いては下向き)に、リッド26と突起電極32の上側部分32bを選択的に形成する。しかる後、リッド26の上面の縁部及び突起電極32の上側部分32bの上面に、例えば金(Au)−錫(Sn)半田からなる接合部材36を形成する。これらのリッド26、突起電極32の上側部分32b、及び接合部材36は、例えば電解めっき法を用いて形成することができる。   In parallel with the formation of the metal layer on the piezoelectric substrate 22, the lid 26 and the upper portion 32 b of the protruding electrode 32 are formed on a support substrate 44 made of stainless steel such as SUS304 (downward in FIG. 5). Are selectively formed. Thereafter, a bonding member 36 made of, for example, gold (Au) -tin (Sn) solder is formed on the edge of the upper surface of the lid 26 and the upper surface of the upper portion 32 b of the protruding electrode 32. The lid 26, the upper portion 32b of the protruding electrode 32, and the bonding member 36 can be formed using, for example, an electrolytic plating method.

そして、リッド26が枠体24に対向し、突起電極32の上側部分32bが下側部分32aに対向するように、支持基板44を圧電基板22上に配置する。そして、接合部材36の融点以上の温度(例えば250℃〜300℃)に接合部材36を加熱して、支持基板44を圧電基板22側に加圧する。   Then, the support substrate 44 is disposed on the piezoelectric substrate 22 so that the lid 26 faces the frame body 24 and the upper portion 32b of the protruding electrode 32 faces the lower portion 32a. Then, the bonding member 36 is heated to a temperature equal to or higher than the melting point of the bonding member 36 (for example, 250 ° C. to 300 ° C.), and the support substrate 44 is pressed toward the piezoelectric substrate 22 side.

これにより、接合部材36を介してリッド26が枠体24上に接合され、図5(b)のように、IDT0と反射器R0上に空隙30を有する封止部28が形成される。また、突起電極32の下側部分32aと上側部分32bが接合部材36によって接合され、突起電極32が形成される。その後、支持基板44を除去することにより、IDT0と反射器R0上に空隙30を有する封止部28が形成され、またかかる封止部28の周囲に複数個の突起電極32が配設された弾性波デバイス20が形成される。なお、この段階では、リッド26の表面は平坦な形状を有している。一方、高温環境下に於いて接合部材36を溶融させて枠体24とリッド26とを接合させているため、高温から常温に戻る際に空隙30内の圧力が低下して、空隙30内は外気圧よりも低い減圧状態となっている。   Thereby, the lid 26 is joined on the frame body 24 via the joining member 36, and the sealing portion 28 having the gap 30 is formed on the IDT0 and the reflector R0 as shown in FIG. 5B. Further, the lower portion 32 a and the upper portion 32 b of the protruding electrode 32 are bonded by the bonding member 36, and the protruding electrode 32 is formed. Thereafter, by removing the support substrate 44, the sealing portion 28 having the gap 30 is formed on the IDT0 and the reflector R0, and a plurality of protruding electrodes 32 are disposed around the sealing portion 28. The acoustic wave device 20 is formed. At this stage, the surface of the lid 26 has a flat shape. On the other hand, since the frame member 24 and the lid 26 are joined by melting the joining member 36 in a high temperature environment, the pressure in the gap 30 decreases when returning from high temperature to room temperature, The pressure is lower than the external pressure.

なお、リッド26は、高い放熱性及び低い電気抵抗を得るために、Cuを含むことが好ましく、厚さの不均一性を低減させるために、Cu層上にNi層を設けることが好ましい。また、支持基板44は、例えばSUS304のように、Cuに対してめっきの基材として機能し、且つ、封止後にリッド26から容易に剥離できる程度の密着性を有する材料が好ましい。また、熱膨張係数の相違による位置ズレを低減するために、支持基板44として圧電基板22と同じ圧電体材料を用いてもよい。支持基板44として圧電体を用いる場合には、支持基板44表面に電解めっき用金属層(例えば、Al層又はCu層)を、更にその上にめっき層と適度な密着性を有する金属層(例えば、Ti層)を形成することが好ましい。   The lid 26 preferably contains Cu in order to obtain high heat dissipation and low electrical resistance, and it is preferable to provide a Ni layer on the Cu layer in order to reduce thickness non-uniformity. The support substrate 44 is preferably made of a material that functions as a base material for plating with respect to Cu, such as SUS304, and has such adhesiveness that it can be easily peeled off from the lid 26 after sealing. Further, the same piezoelectric material as that of the piezoelectric substrate 22 may be used as the support substrate 44 in order to reduce the positional deviation due to the difference in thermal expansion coefficient. When a piezoelectric body is used as the support substrate 44, a metal layer for electrolytic plating (for example, an Al layer or a Cu layer) is provided on the surface of the support substrate 44, and a metal layer (for example, an appropriate adhesiveness with the plating layer is further formed thereon. , Ti layer) is preferably formed.

前述の如き製造工程をもって形成された弾性波デバイス20は、図6(a)及び図6(b)のように、上面と下面を貫通する貫通配線18が形成され、更に両面に配線層16aが選択的に形成された絶縁層14aに埋め込まれる。このとき、弾性波デバイス20の上面は絶縁層14a上面に露出し、少なくともリッド26の上面は絶縁層14aの上面と同一平面をなしていることが好ましい。   As shown in FIGS. 6A and 6B, the acoustic wave device 20 formed by the manufacturing process as described above has through-wirings 18 penetrating the upper and lower surfaces, and further has wiring layers 16a on both sides. It is embedded in the selectively formed insulating layer 14a. At this time, it is preferable that the upper surface of the acoustic wave device 20 is exposed on the upper surface of the insulating layer 14a, and at least the upper surface of the lid 26 is flush with the upper surface of the insulating layer 14a.

この後、図7のように、絶縁層14aの上面側にプリプレグの絶縁層14bと配線層16bとを順に配置し、一方、絶縁層14aの下面側にプリプレグの絶縁層14cと配線層16cとを順に配置する。しかる後、絶縁層14b、14c及び配線層16b、16cを加熱して、支持体46を用いて絶縁層14b、14c及び配線層16b、16cを絶縁層14a側に加圧する。これにより、図8(a)のように、絶縁層14b、14c及び配線層16b、16cが絶縁層14aに圧着して、弾性波デバイス20が内蔵された積層基板が得られる。このとき、絶縁層14b、14c及び配線層16b、16cに加えられる圧力は弾性波デバイス20にも印加されることから、リッド26の材質及び厚さを適切に選択することにより、リッド26が圧電基板22側に湾曲した変形(圧電基板22表面に近づく方向に凹んだ形状)を生じるようにする。リッド26が圧電基板22表面に近づく方向に凹んだ形状となることにより、空隙30の容積が小さくなり、絶縁層14aに埋め込む前のリッド26が平坦な形状であった場合に比べて、空隙30内の圧力が高まる。尚、リッド26の凹み量は、その材質及び厚さに依存することから、所望の凹み量になるように、リッド26の材質及び厚さを予め選択する。   Thereafter, as shown in FIG. 7, the prepreg insulating layer 14b and the wiring layer 16b are sequentially arranged on the upper surface side of the insulating layer 14a, while the prepreg insulating layer 14c and the wiring layer 16c are arranged on the lower surface side of the insulating layer 14a. Are arranged in order. Thereafter, the insulating layers 14b and 14c and the wiring layers 16b and 16c are heated, and the insulating layers 14b and 14c and the wiring layers 16b and 16c are pressed toward the insulating layer 14a using the support 46. As a result, as shown in FIG. 8A, the insulating layers 14b and 14c and the wiring layers 16b and 16c are pressure-bonded to the insulating layer 14a to obtain a laminated substrate in which the acoustic wave device 20 is built. At this time, since the pressure applied to the insulating layers 14b and 14c and the wiring layers 16b and 16c is also applied to the acoustic wave device 20, the lid 26 can be made piezoelectric by appropriately selecting the material and thickness of the lid 26. A deformation (a shape recessed in a direction approaching the surface of the piezoelectric substrate 22) is generated on the substrate 22 side. Since the lid 26 has a shape that is recessed in a direction approaching the surface of the piezoelectric substrate 22, the volume of the gap 30 is reduced, and the gap 30 is smaller than when the lid 26 before being embedded in the insulating layer 14 a has a flat shape. The pressure inside increases. In addition, since the amount of recesses of the lid 26 depends on the material and thickness thereof, the material and thickness of the lid 26 are selected in advance so that the desired amount of recesses is obtained.

図8(b)のように、配線層16bの上面及び配線層16cの下面に設けたレジスト層(不図示)をマスクに用い、配線層16b、16cに対して、例えばエッチング処理を施すことで、配線層16b、16cに開口を形成する。この開口では、絶縁層14b、14cが露出している。開口で露出している絶縁層14b、14cに対して、例えばレーザを照射することで、絶縁層14b、14cを貫通する貫通孔48を形成する。貫通孔48では、配線層16aが露出している。   As shown in FIG. 8B, by using a resist layer (not shown) provided on the upper surface of the wiring layer 16b and the lower surface of the wiring layer 16c as a mask, the wiring layers 16b and 16c are subjected to, for example, an etching process. Then, openings are formed in the wiring layers 16b and 16c. In this opening, the insulating layers 14b and 14c are exposed. By irradiating the insulating layers 14b and 14c exposed at the openings with, for example, a laser, the through holes 48 penetrating the insulating layers 14b and 14c are formed. In the through hole 48, the wiring layer 16a is exposed.

図8(c)のように、貫通孔48に貫通配線18を形成する。貫通配線18は、まず無電解めっき法によりシードメタルを形成し、このシードメタルを給電線として電解めっき法により形成することができる。また、絶縁層14bの上面及び絶縁層14cの下面にもめっき層が形成されるため、絶縁層14bの上面全面及び絶縁層14cの下面全面に配線層16b、16cが再度形成される。   As shown in FIG. 8C, the through wiring 18 is formed in the through hole 48. The through wiring 18 can be formed by first forming a seed metal by an electroless plating method and using the seed metal as a power supply line by an electrolytic plating method. Since the plating layer is also formed on the upper surface of the insulating layer 14b and the lower surface of the insulating layer 14c, the wiring layers 16b and 16c are formed again on the entire upper surface of the insulating layer 14b and the entire lower surface of the insulating layer 14c.

図9(a)のように、配線層16bの上面及び配線層16cの下面に設けたレジスト層(不図示)をマスクに用い、配線層16b、16cに対して、例えばエッチング処理を施すことで、配線層16b、16cを所望の形状にパターニングする。   As shown in FIG. 9A, a resist layer (not shown) provided on the upper surface of the wiring layer 16b and the lower surface of the wiring layer 16c is used as a mask, and the wiring layers 16b and 16c are subjected to, for example, an etching process. The wiring layers 16b and 16c are patterned into a desired shape.

図9(b)及び図10(a)のように、図7から図9(a)で説明した処理と同様な処理を繰り返して、弾性波デバイス20が内蔵された多層配線板12を形成する。その後、図10(b)のように、多層配線板12の上面の配線層16に半田42を供給し、リフローすることにより、弾性波デバイス20に電気的に接続される電子部品40を実装する。これにより、実施例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュール10が形成される。   As shown in FIGS. 9B and 10A, the same processing as that described in FIGS. 7 to 9A is repeated to form the multilayer wiring board 12 in which the acoustic wave device 20 is built. . Thereafter, as shown in FIG. 10B, the solder 42 is supplied to the wiring layer 16 on the upper surface of the multilayer wiring board 12 and reflowed to mount the electronic component 40 electrically connected to the acoustic wave device 20. . Thereby, the elastic wave device built-in module 10 according to the first embodiment is formed.

実施例1によれば、図2及び図4のように、多層配線板12に内蔵された弾性波デバイス20の封止部28を構成するリッド26は、圧電基板22側に凹んだ形状となり、封止部28により形成される空隙30の容積が減少している。これにより、空隙30内の圧力が高まり、空隙30内に水分等が侵入することを抑制できる。その結果、弾性波デバイス20の特性の劣化等を抑制することができる。   According to the first embodiment, as shown in FIGS. 2 and 4, the lid 26 constituting the sealing portion 28 of the acoustic wave device 20 built in the multilayer wiring board 12 has a concave shape on the piezoelectric substrate 22 side. The volume of the gap 30 formed by the sealing portion 28 is reduced. Thereby, the pressure in the space | gap 30 increases and it can suppress that a water | moisture content etc. penetrate | invade into the space | gap 30. FIG. As a result, deterioration of the characteristics of the acoustic wave device 20 can be suppressed.

空隙30内に水分等が侵入することを抑制するという観点から、空隙30内の圧力は、リッド26が平坦であるとした場合における空隙30内の圧力よりも高いことが好ましい。例えば、リッド26の湾曲量X(凹み量X)が、リッド26が平坦であるとした場合における空隙30の高さの1%以上あれば、空隙30内の圧力を高めて、水分等の侵入を抑制することができる。また、空隙30内の圧力をより高めて、水分等の侵入をより効果的に抑制するために、リッド26の凹み量Xは、リッド26が平坦であるとした場合における空隙30の高さの5%以上であることが好ましい。10%以上であればより好ましく、20%以上であることが更に好ましい。   From the viewpoint of preventing moisture and the like from entering the gap 30, the pressure in the gap 30 is preferably higher than the pressure in the gap 30 when the lid 26 is flat. For example, if the amount of curvature X (the amount of depression X) of the lid 26 is 1% or more of the height of the gap 30 when the lid 26 is flat, the pressure in the gap 30 is increased and moisture or the like enters. Can be suppressed. Further, in order to further increase the pressure in the gap 30 and more effectively suppress the intrusion of moisture or the like, the recess amount X of the lid 26 is equal to the height of the gap 30 when the lid 26 is flat. It is preferably 5% or more. It is more preferably 10% or more, and further preferably 20% or more.

実施例1では、枠体24及びリッド26が共に金属により形成されている場合を例に示したがこれに限られるものではない。枠体24及びリッド26は、ポリイミド、エポキシ樹脂等の樹脂、或いはセラミック材等の絶縁物により形成されてもよい。図11は、枠体及びリッドが絶縁物で形成された弾性表面波デバイスを示す断面図である。図11のように、圧電基板22上に設けられたIDT0及び反射器R0を囲んで、例えば樹脂からなる枠体24aが設けられている。枠体24a上には、IDT0及び反射器R0上に空隙30が形成されるように、例えば樹脂からなるリッド26aが設けられている。これにより、IDT0及び反射器R0は、枠体24aとリッド26aとを有する封止部28aにより封止されている。封止部28aを貫通して、IDT0に電気的に接続される貫通電極49が設けられている。なお、枠体24aとリッド26aとの間には接合部材は介在してなく、枠体24aとリッド26aとは直接接合している。   In the first embodiment, the case where both the frame body 24 and the lid 26 are made of metal is shown as an example, but the present invention is not limited to this. The frame body 24 and the lid 26 may be formed of a resin such as polyimide or an epoxy resin, or an insulator such as a ceramic material. FIG. 11 is a cross-sectional view showing a surface acoustic wave device in which a frame and a lid are formed of an insulator. As shown in FIG. 11, a frame 24a made of resin, for example, is provided so as to surround the IDT0 and the reflector R0 provided on the piezoelectric substrate 22. On the frame 24a, a lid 26a made of, for example, a resin is provided so that a gap 30 is formed on the IDT0 and the reflector R0. Thereby, IDT0 and reflector R0 are sealed by the sealing part 28a which has the frame 24a and the lid 26a. A through electrode 49 penetrating the sealing portion 28a and electrically connected to the IDT0 is provided. Note that no joining member is interposed between the frame body 24a and the lid 26a, and the frame body 24a and the lid 26a are directly joined.

また、枠体24とリッド26とを異なる材料から形成することもできる。例えば、枠体24が金属により形成され、リッド26がセラミック材により形成されてもよい。また、封止部28は、枠体24及びリッド26以外の部材を含んでいてもよい。さらに、封止部28は、一体形成されたキャップ形状の部材で構成されてもよい。   Further, the frame body 24 and the lid 26 can be formed from different materials. For example, the frame body 24 may be formed of a metal, and the lid 26 may be formed of a ceramic material. The sealing portion 28 may include a member other than the frame body 24 and the lid 26. Furthermore, the sealing part 28 may be comprised with the cap-shaped member integrally formed.

尚、リッド26の強度が小であると、図7に示した絶縁層14b、絶縁層14c等を絶縁層14aに圧着させる際に加える圧力によって、リッド26に大きな凹みが形成され、リッド26がIDT0に接触してしまう可能性がある。また、リッド26にクラックが生じてしまう可能性もある。この為、リッド26は、ある程度の大きさの強度を有することが好ましく、金属により形成されていることが好ましい。また、リッド26を金属で形成することで、弾性波デバイス20の放熱性及び耐湿性を向上させることができる。かかる放熱性及び耐湿性を向上させる観点から、枠体24も金属で形成されていることが望ましい。   If the strength of the lid 26 is small, a large dent is formed in the lid 26 by the pressure applied when the insulating layer 14b, the insulating layer 14c, etc. shown in FIG. There is a possibility of coming into contact with IDT0. In addition, there is a possibility that a crack may occur in the lid 26. For this reason, the lid 26 preferably has a certain degree of strength, and is preferably formed of metal. Moreover, the heat dissipation and moisture resistance of the acoustic wave device 20 can be improved by forming the lid 26 with a metal. From the viewpoint of improving the heat dissipation and moisture resistance, it is desirable that the frame body 24 is also made of metal.

リッド26が金属により形成されている場合、図5(a)及び図5(b)を用いて説明したように、リッド26と枠体24とを半田からなる接合部材36を用いて接合し、封止部28を形成する。この接合処理は高温環境下で行われるため、封止処理後には空隙30内は減圧状態となってしまう。空隙30内が減圧状態であると、空隙30内に水分等が侵入し易い。したがって、リッド26が金属により形成されている場合、リッド26が圧電基板22側に凹んだ形状となり、封止部28により形成される空隙30の容積が減少することは、封止処理に於ける空隙30内の減圧化を補償して、水分等の侵入を抑制することに有効である。   When the lid 26 is formed of metal, as described with reference to FIGS. 5A and 5B, the lid 26 and the frame body 24 are bonded using the bonding member 36 made of solder, The sealing part 28 is formed. Since this joining process is performed in a high temperature environment, the inside of the space 30 is in a reduced pressure state after the sealing process. When the space 30 is in a reduced pressure state, moisture or the like easily enters the space 30. Therefore, when the lid 26 is made of metal, the lid 26 has a concave shape on the piezoelectric substrate 22 side, and the volume of the gap 30 formed by the sealing portion 28 is reduced in the sealing process. It is effective to compensate for the reduced pressure in the gap 30 and suppress the intrusion of moisture and the like.

また、リッド26の強度が必要以上に大であると、図7に示す絶縁層14b、絶縁層14c等を絶縁層14aに圧着させる際に加える圧力によっても、リッド26には殆ど凹みを生じない。したがって、リッド26の強度は、絶縁層14b、絶縁層14c等を絶縁層14aに圧着させる際に加える圧力によってリッド26に凹みが生じる程度の大きさであることが好ましい。リッド26の強度と厚さとは相関することから、リッド26が例えばCu或いはNi等の金属、それらの金属を成分に含む合金、若しくはセラミック材により形成される場合、リッド26の厚さは10μm以上乃至40μm以下とされるのが好ましく、20μm以上乃至30μm以下とされるのがより好ましい。   If the strength of the lid 26 is greater than necessary, the lid 26 hardly dents due to the pressure applied when the insulating layer 14b, the insulating layer 14c, etc. shown in FIG. . Therefore, it is preferable that the strength of the lid 26 is large enough to cause the lid 26 to be dented by the pressure applied when the insulating layer 14b, the insulating layer 14c, etc. are pressure-bonded to the insulating layer 14a. Since the strength and thickness of the lid 26 are correlated, when the lid 26 is formed of, for example, a metal such as Cu or Ni, an alloy containing such a metal as a component, or a ceramic material, the thickness of the lid 26 is 10 μm or more. The thickness is preferably set to 40 μm or less, and more preferably 20 μm to 30 μm.

尚、多層配線板12を構成する絶縁層14は、樹脂以外の絶縁物で形成することもできるが、絶縁層14を樹脂により形成する場合、前述の如く樹脂は吸湿し易い性質を持つことから、空隙30内に水分が侵入し易い。したがって、絶縁層14が樹脂により形成されている場合、空隙30内の圧力を高めて水分等の侵入を抑制するためにも、リッド26が圧電基板22側に凹んだ形状とされることが好ましい。   The insulating layer 14 constituting the multilayer wiring board 12 can be formed of an insulator other than resin. However, when the insulating layer 14 is formed of resin, the resin easily absorbs moisture as described above. , Moisture easily enters the gap 30. Therefore, when the insulating layer 14 is made of resin, it is preferable that the lid 26 has a concave shape on the piezoelectric substrate 22 side in order to increase the pressure in the gap 30 and suppress the entry of moisture and the like. .

また、リッド26に於ける凹み量Xは、かかるリッド26がIDT0に接触しない量とされるが、リッド26が金属で形成される場合には、リッド26とIDT0との間隔が10μm以上離れていることが好ましい。これは、リッド26とIDT0との間隔が小さくなると、リッド26とIDT0との間に生じる容量により、弾性波デバイス20の特性が劣化するためである。この為、リッド26の凹み量Xは、例えばリッド26の厚さの1/2よりも少とされることが選択される。一方、リッド26が樹脂等の絶縁物で形成されている場合には、リッド26は、IDT0の振動を妨げない位置までIDT0に近接して凹むことが許される。   Further, the amount X of the recess in the lid 26 is set so that the lid 26 does not contact the IDT0. However, when the lid 26 is made of metal, the distance between the lid 26 and the IDT0 is 10 μm or more apart. Preferably it is. This is because when the distance between the lid 26 and IDT0 becomes small, the characteristics of the acoustic wave device 20 deteriorate due to the capacitance generated between the lid 26 and IDT0. For this reason, it is selected that the dent amount X of the lid 26 is, for example, less than ½ of the thickness of the lid 26. On the other hand, when the lid 26 is formed of an insulating material such as resin, the lid 26 is allowed to be recessed close to the IDT0 to a position that does not hinder the vibration of the IDT0.

図2のように、弾性波デバイス20は、多層配線板12の厚さ方向の中央部に内蔵されることが好ましい。これにより、多層配線板12を圧着によって形成する際に加える圧力によって、弾性波デバイス20の封止部28を構成するリッド26を、圧電基板22側に凹んだ形状とさせることが容易になされる。即ち、空隙30内の圧力を高めることを容易に行うことができる。   As shown in FIG. 2, the acoustic wave device 20 is preferably built in the central portion of the multilayer wiring board 12 in the thickness direction. Accordingly, the lid 26 constituting the sealing portion 28 of the acoustic wave device 20 can be easily formed into a shape recessed toward the piezoelectric substrate 22 by the pressure applied when the multilayer wiring board 12 is formed by pressure bonding. . That is, it is possible to easily increase the pressure in the gap 30.

実施例1では、多層配線板12に内蔵された弾性波デバイス20が弾性表面波デバイスである場合を例に説明したが、弾性波デバイス20として、ラブ波デバイス又は弾性境界波デバイスを適用する場合にあっても、本発明思想を適用することができる。また、多層配線板に内蔵される弾性波デバイスは、圧電薄膜共振器デバイス或いはラム波デバイス等のバルク波デバイスの場合でもよい。さらに、多層配線板に内蔵された複数の弾性波デバイスのうちの1つが弾性表面波デバイスで、他の1つがバルク波デバイスの場合でもよい。図12(a)は、圧電薄膜共振器デバイスを示す平面図、図12(b)は、図12(a)の線A−A間の断面図である。図12(a)及び図12(b)のように、シリコン等の基板50上に、下部電極52、窒化アルミニウム等の圧電膜54、及び上部電極56が順に積層されている。圧電膜54を挟み下部電極52と上部電極56とが重なる領域が共振領域58である。共振領域58の下方の基板50には、基板50を貫通する貫通孔60が形成されている。なお、貫通孔60の代わりに、基板50の一部が除去されて空隙が形成される構成、基板50と下部電極52との間にドーム型の空隙が形成される構成、或いは弾性波を反射する音響多層膜が形成される構成を適用することも可能である。   In the first embodiment, the case where the acoustic wave device 20 incorporated in the multilayer wiring board 12 is a surface acoustic wave device has been described as an example. However, as the acoustic wave device 20, a Love wave device or a boundary acoustic wave device is applied. Even in this case, the idea of the present invention can be applied. The acoustic wave device incorporated in the multilayer wiring board may be a bulk wave device such as a piezoelectric thin film resonator device or a Lamb wave device. Furthermore, one of the plurality of acoustic wave devices incorporated in the multilayer wiring board may be a surface acoustic wave device, and the other may be a bulk wave device. FIG. 12A is a plan view showing a piezoelectric thin film resonator device, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. As shown in FIGS. 12A and 12B, a lower electrode 52, a piezoelectric film 54 such as aluminum nitride, and an upper electrode 56 are sequentially stacked on a substrate 50 such as silicon. A region where the lower electrode 52 and the upper electrode 56 overlap with the piezoelectric film 54 interposed therebetween is a resonance region 58. A through hole 60 penetrating the substrate 50 is formed in the substrate 50 below the resonance region 58. In addition, instead of the through hole 60, a configuration in which a part of the substrate 50 is removed to form a void, a configuration in which a dome-shaped void is formed between the substrate 50 and the lower electrode 52, or an acoustic wave is reflected. It is also possible to apply a configuration in which an acoustic multilayer film is formed.

また、多層配線板に内蔵された弾性波デバイスによって分波器が形成される構成としてもよい。図13は、分波器を示すブロック図である。図13のように、分波器68は、送信フィルタ62と受信フィルタ64と整合回路66とを備える。送信フィルタ62及び受信フィルタ64が、多層配線板に内蔵された弾性波デバイスによって形成される。例えば、図2において、多層配線板12に内蔵された弾性波デバイス20のうちの一方を送信フィルタ62、他方を受信フィルタ64とすることができる。各フィルタの弾性波を励振する電極は、異なる圧電基板上に形成されても良く、また共通の圧電基板上に形成されても良い。共通の圧電基板上に形成された場合には、1つの封止部によって複数の弾性波を励振する電極を封止してもよい。   Moreover, it is good also as a structure by which a splitter is formed with the elastic wave device incorporated in the multilayer wiring board. FIG. 13 is a block diagram illustrating the duplexer. As shown in FIG. 13, the duplexer 68 includes a transmission filter 62, a reception filter 64, and a matching circuit 66. The transmission filter 62 and the reception filter 64 are formed by an elastic wave device built in the multilayer wiring board. For example, in FIG. 2, one of the acoustic wave devices 20 incorporated in the multilayer wiring board 12 can be a transmission filter 62 and the other can be a reception filter 64. The electrodes for exciting the elastic waves of the respective filters may be formed on different piezoelectric substrates or may be formed on a common piezoelectric substrate. When formed on a common piezoelectric substrate, the electrodes for exciting a plurality of elastic waves may be sealed by one sealing portion.

送信フィルタ62は、アンテナ端子Antと送信端子Txとの間に配置・接続されている。受信フィルタ64は、アンテナ端子Antと受信端子Rxとの間に配置・接続されている。そして、整合回路66は、送信フィルタ62及び受信フィルタ64の少なくとも一方とアンテナ端子Antとの間に接続されている。   The transmission filter 62 is disposed and connected between the antenna terminal Ant and the transmission terminal Tx. The reception filter 64 is disposed and connected between the antenna terminal Ant and the reception terminal Rx. The matching circuit 66 is connected between at least one of the transmission filter 62 and the reception filter 64 and the antenna terminal Ant.

送信フィルタ62は、送信端子Txから入力された信号のうち送信帯域の信号を送信信号としてアンテナ端子Antに通過させ、他の周波数の信号を抑圧する。受信フィルタ64は、アンテナ端子Antから入力された信号のうち受信帯域の信号を受信信号として受信端子Rxに通過させ、他の周波数の信号を抑圧する。整合回路66は、送信フィルタ62を通過した送信信号が、受信フィルタ64側に漏れず、アンテナ端子Antから出力するようにインピーダンスを整合させる回路である。   The transmission filter 62 passes a signal in the transmission band among signals input from the transmission terminal Tx as a transmission signal to the antenna terminal Ant, and suppresses signals of other frequencies. The reception filter 64 passes a signal in the reception band among the signals input from the antenna terminal Ant to the reception terminal Rx as a reception signal, and suppresses signals of other frequencies. The matching circuit 66 is a circuit that matches the impedance so that the transmission signal that has passed through the transmission filter 62 does not leak to the reception filter 64 side and is output from the antenna terminal Ant.

実施例1において、図6(a)及び図6(b)に示される絶縁層14aの周囲側面に、絶縁層14aと同程度の厚さを有するCu等の金属層が配置されてもよい。かかる金属層を配置することにより、多層配線板12の強度及び放熱性を高めることができる。   In Example 1, a metal layer such as Cu having a thickness similar to that of the insulating layer 14a may be disposed on the peripheral side surface of the insulating layer 14a shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b). By arrange | positioning this metal layer, the intensity | strength and heat dissipation of the multilayer wiring board 12 can be improved.

図14は、実施例1の変形例1に係る弾性波デバイス内蔵モジュールを示す断面図である。図14のように、実施例1の変形例1の弾性波デバイス内蔵モジュール70にあっては、封止部28を構成するリッド26上に、例えば、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂或いはその他の絶縁物からなる調整層72が配設されている。調整層72は、絶縁層14と異なる材質の絶縁物で形成されている。その他の構成は、実施例1の図2と同じであるため説明を省略する。   FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating the module with a built-in acoustic wave device according to the first modification of the first embodiment. As shown in FIG. 14, in the elastic wave device built-in module 70 according to the first modification of the first embodiment, on the lid 26 constituting the sealing portion 28, for example, a resin such as polyimide resin or epoxy resin, or other An adjustment layer 72 made of an insulating material is provided. The adjustment layer 72 is formed of an insulating material different from that of the insulating layer 14. Other configurations are the same as those of the first embodiment shown in FIG.

実施例1の変形例1では、リッド26と絶縁層14との間に、絶縁物からなる調整層72が配設されている。かかる調整層72の厚さを調整することにより、図7での絶縁層14b、14c等を絶縁層14aに圧着させる際に加える圧力によってリッド26が凹む量を調整することが可能となる。   In the first modification of the first embodiment, an adjustment layer 72 made of an insulator is disposed between the lid 26 and the insulating layer 14. By adjusting the thickness of the adjustment layer 72, the amount of depression of the lid 26 can be adjusted by the pressure applied when the insulating layers 14b, 14c, etc. in FIG. 7 are pressed against the insulating layer 14a.

例えば、多層配線板12に内蔵された複数の弾性波デバイス20それぞれのリッド26の面積が異なると、各弾性波デバイス20に同じ大きさの圧力が加わっても、弾性波デバイス20毎にリッド26の凹み量が異なってしまうことが生ずる。例えば、複数の弾性波デバイス20のうちの1つは、リッド26がほとんど凹まず、他の1つは、IDT0に接触するほどリッド26が凹んでしまう場合がある。しかしながら、実施例1の変形例1のように、リッド26上に調整層72を配設し、且つかかる調整層72の厚さを弾性波デバイス20毎に選択することにより、複数の弾性波デバイス20のそれぞれに於けるリッド26のの凹み量を、同様のものとすることができる。   For example, if the areas of the lids 26 of the plurality of acoustic wave devices 20 incorporated in the multilayer wiring board 12 are different, even if the same pressure is applied to each acoustic wave device 20, the lid 26 is provided for each acoustic wave device 20. The amount of dents in the case may be different. For example, in one of the plurality of acoustic wave devices 20, the lid 26 is hardly recessed, and in the other one, the lid 26 may be recessed so as to contact the IDT 0. However, as in the first modification of the first embodiment, the adjustment layer 72 is disposed on the lid 26 and the thickness of the adjustment layer 72 is selected for each elastic wave device 20, thereby providing a plurality of elastic wave devices. The amount of depression of the lid 26 in each of the 20 can be the same.

実施例2は、実施例1の弾性波デバイス内蔵モジュールを有する通信装置である。図15は、実施例2に係る通信装置を示すブロック図である。図15のように、実施例2の通信装置80は、アンテナ82、アンテナスイッチ84、高周波IC86、パワーアンプ88、フィルタ90、複数の分波器92、複数の受信フィルタ94、及び複数のローパスフィルタ96を有する。高周波IC86は、複数のローノイズアンプ98を有する。高周波IC86は、信号の周波数の変換を行うダイレクトコンバータとして機能する。   The second embodiment is a communication apparatus having the elastic wave device built-in module according to the first embodiment. FIG. 15 is a block diagram illustrating the communication apparatus according to the second embodiment. As illustrated in FIG. 15, the communication device 80 according to the second embodiment includes an antenna 82, an antenna switch 84, a high-frequency IC 86, a power amplifier 88, a filter 90, a plurality of duplexers 92, a plurality of reception filters 94, and a plurality of low-pass filters. 96. The high frequency IC 86 has a plurality of low noise amplifiers 98. The high frequency IC 86 functions as a direct converter that converts the frequency of the signal.

複数の分波器92はそれぞれ、W−CDMA(Wideband Code Division Multiple Access)方式におけるバンド1、バンド2、及びバンド5に対応している。複数の受信フィルタ94はそれぞれ、GSM(Global System for Mobile Communication)(登録商標、以下同様)方式における850MHz帯、900MHz帯、1800MHz帯、1900MHz帯に対応している。複数のローパスフィルタ96の一方は、GSM方式のローバンド帯(850MHz帯と900MHz帯)の送信フィルタの機能を有し、他方は、GSM方式のハイバンド帯(1800MHz帯と1900MHz帯)の送信フィルタの機能を有する。   Each of the plurality of duplexers 92 corresponds to band 1, band 2, and band 5 in the W-CDMA (Wideband Code Division Multiple Access) system. Each of the plurality of reception filters 94 corresponds to the 850 MHz band, 900 MHz band, 1800 MHz band, and 1900 MHz band in the GSM (Global System for Mobile Communication) (registered trademark, hereinafter the same) method. One of the plurality of low-pass filters 96 has a function of a GSM low band (850 MHz band and 900 MHz band) transmission filter, and the other is a GSM high band (1800 MHz band and 1900 MHz band) transmission filter function. It has a function.

複数の分波器92それぞれが有する送信フィルタ92aは、パワーアンプ88とフィルタ90とを介して高周波IC86に接続されている。フィルタ90は、接続される送信フィルタ92aの通過帯域と同じ帯域を選択的に通過させるバンドパスフィルタである。複数の分波器92それぞれが有する受信フィルタ92bは、高周波IC86内のローノイズアンプ98に接続されている。複数の受信フィルタ94それぞれは、高周波IC86内のローノイズアンプ98に接続されている。複数のローパスフィルタ96は、パワーアンプ88を介して高周波IC86に接続されている。なお、受信フィルタ92b及び受信フィルタ94は、平衡出力の場合に限らず、不平衡出力の場合でもよい。   The transmission filter 92 a included in each of the plurality of duplexers 92 is connected to the high frequency IC 86 via a power amplifier 88 and a filter 90. The filter 90 is a band-pass filter that selectively passes the same band as the pass band of the connected transmission filter 92a. The reception filter 92 b included in each of the plurality of duplexers 92 is connected to a low noise amplifier 98 in the high frequency IC 86. Each of the plurality of reception filters 94 is connected to a low noise amplifier 98 in the high frequency IC 86. The plurality of low-pass filters 96 are connected to the high frequency IC 86 via the power amplifier 88. The reception filter 92b and the reception filter 94 are not limited to balanced outputs, but may be unbalanced outputs.

複数の分波器92それぞれのアンテナ端子(バンド1、バンド2、及びバンド5)は、アンテナスイッチ84に接続されている。複数の受信フィルタ94それぞれのアンテナ端子(GSM 850、GSM 900、GSM 1800、GSM 1900)は、アンテナスイッチ84に接続されている。複数のローパスフィルタ96それぞれのアンテナ端子(GSM_LB Tx及びGSM_HB Tx)は、アンテナスイッチ84に接続されている。   The antenna terminals (band 1, band 2, and band 5) of the plurality of duplexers 92 are connected to the antenna switch 84. The antenna terminals (GSM 850, GSM 900, GSM 1800, GSM 1900) of each of the plurality of reception filters 94 are connected to the antenna switch 84. The antenna terminals (GSM_LB Tx and GSM_HB Tx) of each of the plurality of low-pass filters 96 are connected to the antenna switch 84.

アンテナスイッチ84は、通信方式に応じて各分波器及び各フィルタの中のいずれかを選択し、アンテナ82と接続させる。例えば、高周波IC86は、ベースバンド信号をW−CDMA方式のバンド5のRF信号にアップコンバートして送信信号を生成する。送信信号は、フィルタ90でフィルタリングされた後、パワーアンプ88により増幅され、バンド5用の分波器92で再度フィルタリングされる。送信信号は、アンテナ82を通じて送信される。また、アンテナ82が受信したW−CDMA方式のバンド5の受信信号は、バンド5用の分波器92でフィルタリングされる。ローノイズアンプ98は受信信号を増幅し、高周波IC86は受信信号をベースバンド信号にダウンコンバートする。   The antenna switch 84 selects one of the duplexers and the filters according to the communication method and connects it to the antenna 82. For example, the high-frequency IC 86 up-converts the baseband signal into a W-CDMA band 5 RF signal to generate a transmission signal. The transmission signal is filtered by the filter 90, amplified by the power amplifier 88, and filtered again by the band 5 duplexer 92. The transmission signal is transmitted through the antenna 82. Also, the W-CDMA band 5 received signal received by the antenna 82 is filtered by the band 5 duplexer 92. The low noise amplifier 98 amplifies the received signal, and the high frequency IC 86 down-converts the received signal into a baseband signal.

実施例1の弾性波デバイス内蔵モジュール10は、図15の破線で囲まれた部品(1つの分波器92と1つのパワーアンプ88)を有する構成や、一点鎖線で囲まれた部品(アンテナスイッチ84、複数の分波器92、複数の受信フィルタ94、及び複数のローパスフィルタ96)を有する構成等、様々な態様を取ることができる。   The elastic wave device built-in module 10 according to the first embodiment has a configuration having components (one duplexer 92 and one power amplifier 88) surrounded by a broken line in FIG. 15 and components surrounded by a one-dot chain line (antenna switch). 84, a plurality of duplexers 92, a plurality of reception filters 94, and a plurality of low-pass filters 96).

以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。   Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to such specific embodiments, and various modifications and changes can be made within the scope of the gist of the present invention described in the claims. It can be changed.

10、70 弾性波デバイス内蔵モジュール
12 多層配線板
14 絶縁層
16 配線層
18 貫通配線
20 弾性波デバイス
22 圧電基板
24、24a 枠体
26、26a リッド
28、28a 封止部
30 空隙
32 突起電極
36 接合部材
40 電子部品
68 分波器
72 調整層
80 通信装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 70 Module with built-in elastic wave device 12 Multilayer wiring board 14 Insulating layer 16 Wiring layer 18 Through wiring 20 Elastic wave device 22 Piezoelectric substrate 24, 24a Frame body 26, 26a Lid 28, 28a Sealing part 30 Gap 32 Projection electrode 36 Joining Member 40 electronic component 68 duplexer 72 adjustment layer 80 communication device

Claims (12)

絶縁層と配線層とが積層された多層配線板と、
前記多層配線板に内蔵された複数の弾性波デバイスと、
前記多層配線板に設けられ、前記弾性波デバイスと電気的に接続されたアンテナスイッチと、を備え、
前記弾性波デバイスは、基板上に設けられた弾性波を励振する電極と、前記電極を囲んで前記基板上に設けられた枠体と前記電極上に空隙を有するように前記枠体上に設けられたリッドとを含む封止部と、を有し、
前記リッドは、前記基板側に凹んでいることを特徴とする弾性波デバイス内蔵モジュール。
A multilayer wiring board in which an insulating layer and a wiring layer are laminated;
A plurality of acoustic wave devices incorporated in the multilayer wiring board;
An antenna switch provided on the multilayer wiring board and electrically connected to the acoustic wave device,
The elastic wave device is provided on the frame so as to have an electrode for exciting an elastic wave provided on the substrate, a frame provided on the substrate so as to surround the electrode, and a gap on the electrode. A sealing portion including a lid formed,
The module with a built-in acoustic wave device, wherein the lid is recessed toward the substrate.
前記空隙内の圧力は、前記リッドが前記基板側に凹まずに平坦であるとした場合における前記電極上の空隙の圧力よりも高いことを特徴とする請求項1記載の弾性波デバイス内蔵モジュール。   The elastic wave device built-in module according to claim 1, wherein the pressure in the gap is higher than the pressure of the gap on the electrode when the lid is flat without being recessed toward the substrate. 前記絶縁層は、樹脂により形成されていることを特徴とする請求項1または2記載の弾性波デバイス内蔵モジュール。   The elastic wave device built-in module according to claim 1, wherein the insulating layer is made of a resin. 前記リッドは、金属により形成されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項記載の弾性波デバイス内蔵モジュール。   The elastic wave device built-in module according to claim 1, wherein the lid is made of metal. 前記リッドの凹み量は、前記リッドの厚さの半分よりも小さいことを特徴とする請求項4記載の弾性波デバイス内蔵モジュール。   The elastic wave device built-in module according to claim 4, wherein the amount of depression of the lid is smaller than half of the thickness of the lid. 前記リッドの凹み量は、前記基板上に設けられた弾性波を励振する電極と前記リッドとの間隔が10μm以上離される凹み量であることを特徴とする請求項4記載の弾性波デバイス内蔵モジュール。   5. The module with a built-in elastic wave device according to claim 4, wherein the concave amount of the lid is a concave amount in which an interval between an electrode for exciting an elastic wave provided on the substrate and the lid is separated by 10 μm or more. . 前記リッドと前記絶縁層との間に前記絶縁層とは異なる材質の絶縁物が介在されていることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項記載の弾性波デバイス内蔵モジュール。   The elastic wave device built-in module according to claim 1, wherein an insulator made of a material different from the insulating layer is interposed between the lid and the insulating layer. 前記弾性波デバイスは、前記多層配線板の厚さ方向の中央部に内蔵されていることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項記載の弾性波デバイス内蔵モジュール。   The elastic wave device built-in module according to claim 1, wherein the elastic wave device is built in a central portion in a thickness direction of the multilayer wiring board. 前記弾性波デバイスは、弾性表面波デバイスを含むことを特徴とする請求項1から8のいずれか一項記載の弾性波デバイス内蔵モジュール。   The module according to claim 1, wherein the acoustic wave device includes a surface acoustic wave device. 前記弾性波デバイスは、バルク波デバイスを含むことを特徴とする請求項1から9のいずれか一項記載の弾性波デバイス内蔵モジュール。   The elastic wave device built-in module according to claim 1, wherein the elastic wave device includes a bulk wave device. 前記弾性波デバイスによって分波器が形成されていることを特徴とする請求項1から10のいずれか一項記載の弾性波デバイス内蔵モジュール。   11. The elastic wave device built-in module according to claim 1, wherein a branching filter is formed by the elastic wave device. 請求項1から11のいずれか一項記載の弾性波内蔵モジュールを有することを特徴とする通信装置。   A communication apparatus comprising the elastic wave built-in module according to claim 1.
JP2013179701A 2013-08-30 2013-08-30 Elastic wave device built-in module and communication apparatus Active JP5856592B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013179701A JP5856592B2 (en) 2013-08-30 2013-08-30 Elastic wave device built-in module and communication apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013179701A JP5856592B2 (en) 2013-08-30 2013-08-30 Elastic wave device built-in module and communication apparatus

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012145819A Division JP5358724B1 (en) 2012-06-28 2012-06-28 Elastic wave device built-in module and communication apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014014131A true JP2014014131A (en) 2014-01-23
JP5856592B2 JP5856592B2 (en) 2016-02-10

Family

ID=50109509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013179701A Active JP5856592B2 (en) 2013-08-30 2013-08-30 Elastic wave device built-in module and communication apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5856592B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016042990A1 (en) * 2014-09-18 2016-03-24 株式会社村田製作所 High frequency component
US10164603B2 (en) 2015-03-27 2018-12-25 Murata Manufacturing Co., Ltd. Elastic wave device, communication module apparatus, and method for manufacturing elastic wave device
US10193055B2 (en) 2014-12-02 2019-01-29 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Printed circuit board and method of manufacturing the same
US11264968B2 (en) 2019-02-01 2022-03-01 Taiyo Yuden Co., Ltd. High-frequency device and multiplexer

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05308243A (en) * 1991-07-15 1993-11-19 Kokusai Electric Co Ltd Surface acoustic wave electronic component
JPH09162693A (en) * 1995-12-14 1997-06-20 Kokusai Electric Co Ltd Surface acoustic wave element
JP2000165192A (en) * 1998-11-30 2000-06-16 Kyocera Corp Surface acoustic wave device
JP2000261284A (en) * 1999-03-05 2000-09-22 Kyocera Corp Surface acoustic wave device and its production
JP2001217674A (en) * 2000-01-31 2001-08-10 Kyocera Corp Surface acoustic wave device
JP2001244638A (en) * 1999-12-20 2001-09-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Module with built-in circuit and its manufacturing method
JP2003142981A (en) * 2001-11-01 2003-05-16 Hitachi Metals Ltd High frequency component
JP2003198204A (en) * 2001-12-26 2003-07-11 Kyocera Corp High frequency module
JP2007208665A (en) * 2006-02-01 2007-08-16 Fujitsu Media Device Kk Elastic wave device and method for manufacturing same
WO2009057699A1 (en) * 2007-10-30 2009-05-07 Kyocera Corporation Elastic wave device
WO2009090895A1 (en) * 2008-01-17 2009-07-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Piezoelectric device

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05308243A (en) * 1991-07-15 1993-11-19 Kokusai Electric Co Ltd Surface acoustic wave electronic component
JPH09162693A (en) * 1995-12-14 1997-06-20 Kokusai Electric Co Ltd Surface acoustic wave element
JP2000165192A (en) * 1998-11-30 2000-06-16 Kyocera Corp Surface acoustic wave device
JP2000261284A (en) * 1999-03-05 2000-09-22 Kyocera Corp Surface acoustic wave device and its production
JP2001244638A (en) * 1999-12-20 2001-09-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Module with built-in circuit and its manufacturing method
JP2001217674A (en) * 2000-01-31 2001-08-10 Kyocera Corp Surface acoustic wave device
JP2003142981A (en) * 2001-11-01 2003-05-16 Hitachi Metals Ltd High frequency component
JP2003198204A (en) * 2001-12-26 2003-07-11 Kyocera Corp High frequency module
JP2007208665A (en) * 2006-02-01 2007-08-16 Fujitsu Media Device Kk Elastic wave device and method for manufacturing same
WO2009057699A1 (en) * 2007-10-30 2009-05-07 Kyocera Corporation Elastic wave device
WO2009090895A1 (en) * 2008-01-17 2009-07-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Piezoelectric device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016042990A1 (en) * 2014-09-18 2016-03-24 株式会社村田製作所 High frequency component
CN106716634A (en) * 2014-09-18 2017-05-24 株式会社村田制作所 High frequency component
US10193518B2 (en) 2014-09-18 2019-01-29 Murata Manufacturing Co., Ltd. Radio-frequency (RF) component
CN106716634B (en) * 2014-09-18 2019-12-06 株式会社村田制作所 High-frequency component
US10193055B2 (en) 2014-12-02 2019-01-29 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Printed circuit board and method of manufacturing the same
US10164603B2 (en) 2015-03-27 2018-12-25 Murata Manufacturing Co., Ltd. Elastic wave device, communication module apparatus, and method for manufacturing elastic wave device
US11264968B2 (en) 2019-02-01 2022-03-01 Taiyo Yuden Co., Ltd. High-frequency device and multiplexer

Also Published As

Publication number Publication date
JP5856592B2 (en) 2016-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5358724B1 (en) Elastic wave device built-in module and communication apparatus
CN107134986B (en) Electronic device
JP6106404B2 (en) Electronic component module
JP2016096439A (en) Acoustic wave device, transmission/reception device and mobile communication equipment
US9667221B2 (en) Acoustic wave device
KR102292154B1 (en) Acoustic wave devices, high-frequency front-end circuits and communication devices
JP5340756B2 (en) Electronic component and manufacturing method thereof
JP5856592B2 (en) Elastic wave device built-in module and communication apparatus
WO2021002454A1 (en) High frequency module and communication device
US10659003B2 (en) Electronic component with two substrates enclosing functional element and insulating film therein
US10340888B2 (en) Elastic wave filter, duplexer, and elastic wave filter module
JP2022044314A (en) Elastic wave device
JP2018201083A (en) Electronic component
JP5107281B2 (en) Electronic component, duplexer, communication module, communication apparatus, and electronic component manufacturing method
WO2023026812A1 (en) High frequency module, communication device, and method for manufacturing high frequency module
WO2022260015A1 (en) High frequency module and communication device
WO2022259763A1 (en) High frequency module, communication device, and method for manufacturing high frequency module
JP6112654B2 (en) module
JP2022113172A (en) elastic wave device
JP2007184691A (en) Composite rf component
US20230298959A1 (en) High-frequency module and communication device
JP7465515B1 (en) Acoustic Wave Devices
US20240347905A1 (en) Radio frequency module, manufacturing method of radio frequency module, and communication device
WO2023047957A1 (en) High frequency module and communication device
WO2022185692A1 (en) High frequency module and communication device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20141125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150825

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20151022

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151201

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151211

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5856592

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250