JP2014012896A - 硬質皮膜被覆部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の硬質皮膜被覆部材は、基材と、この基材上に順次に形成した厚さ1〜30μmの窒素含有クロム皮膜と、厚さ0.1〜3μmのクロム酸化皮膜とより成る。
【選択図】図1
Description
従来技術である窒素含有クロム皮膜はアモルファス構造を有し、明確な粒界が存在しないため、高耐食性、耐アルカリ性を有しているとされるが、金型に適用した場合、さらなる高寿命化に向けて成形される金属の溶湯や樹脂との濡れ性がよすぎて問題となっていた(例えば特許文献1)。
また、特許文献2の被膜は最表面の被膜の強度が比較的小さいために、負荷の高い前記金型用途においては被膜の早期剥離、摩滅のおそれがある。特許文献3の方法はイオンプレーティングによるもので、被膜を形成するためには金型を少なくとも300℃以上に加熱する必要があり、基材が軟化するおそれがある。
さらに、従来技術は装置・工程が複雑となり製造コストの高いものであった。また、再処理・局所的な処理ができないなどの生産性にも問題があるものであった。その他TiAlN皮膜を施した金型も知られているが、アルカリ水溶液に対して化学的に不安定であり、金型のメンテナンスにおいて不具合が生じるおそれがあった。
すなわち、基材1上に硬質で機械的な強度の高い窒素含有クロム皮膜3を形成し、その上に硬質で化学的に安定なクロム酸化皮膜5を形成することにより、耐磨耗性、密着性、耐高温酸化性、耐アルカリ性および離型性を向上させることができ、さらに下地層2と傾斜組成層4を形成することにより、基材と窒素含有クロム皮膜間、窒素含有クロム皮膜とクロム酸化皮膜間等に生じる応力を緩和してより高い密着力を確保することができる。
また、基材と皮膜の密着力をさらに向上させるために、基材1上に下地層2として厚さ0.01〜3μmのクロム皮膜を形成するのが好ましく、この厚さは0.1〜2μmであるのがさらに好ましい。
さらに、基材と皮膜および窒素含有クロム皮膜とクロム酸化皮膜の密着性をさらに向上させるために、前記傾斜組成層4を前記窒素含有クロム皮膜3と前記クロム酸化皮膜5の間に形成することが好ましく、その厚さは0.01〜1μmが好ましく、さらには0.05〜0.5μmであることが好ましい。
まず、処理装置10のターゲット22としてクロムターゲットを配置し、真空ポンプ14を作動させて真空処理室12内を真空排気した後、ガス導入パイプ28を介して真空処理室12内にアルゴンガスを導入して真空処理室12内をアルゴンガス雰囲気にして、イオンボンバード処理を行って、基材20の表面を活性化する。また、基材は図示しないヒーターなどにより、250℃以下、好ましくは200℃〜130℃に加熱される。基材の加熱は後工程のスパッタリングが終了するまで続けられる。なお、膜形成時(スパッタリング時)の加熱は、粒子イオンの衝突エネルギーにより行われる部分が大きく、ヒーターが不要なことがある。
次に、アルゴンガスの導入を一旦停止し、真空処理室12内を真空排気した後、ガス導入パイプ28を介して真空処理室12内にアルゴンガスを導入して真空処理室12内をアルゴンガス雰囲気にする。その後、ターゲット22にスパッタ電源24から所定の電圧を印加して、ターゲット22の近傍にグロー放電(低温プラズマ)を生じさせる。これにより、放電領域内のアルゴンガスがイオン化してターゲット22に高速で衝突し、この衝突によってターゲット22からクロム原子が叩き出され、このクロム原子が基材20の表面に叩き付けられて、基材20の表面に下地層としてのクロム皮膜が形成される。
次に、ガス導入パイプ28を介して真空処理室12内にアルゴンガスと窒素ガスを導入して真空処理室12内をアルゴンガスと窒素ガスの雰囲気にする。その後、ターゲット22にスパッタ電源24から所定の電圧を印加して、ターゲット22の近傍にグロー放電(低温プラズマ)を生じさせる。これにより、放電領域内のアルゴンガスがイオン化してターゲット22に高速で衝突し、この衝突によってターゲット22からクロム原子が叩き出され、このクロム原子が真空処理室12内の雰囲気中の窒素原子とともに基材20上のクロム皮膜の表面に叩き付けられて、基材20上のクロム皮膜の表面に窒素を含有するクロム皮膜(硬質層)が形成される。この窒素含有クロム皮膜はクロム中にNが固溶あるいは、クロム中にアモルファス構造の窒化クロム、クロム中に微細な結晶の窒化クロムの少なくとも1つ以上を有する皮膜となる。
次に、前記窒素含有クロム皮膜を形成した基材をスパッタ処理装置から取り出し、レーザー加工装置において、大気中で所定出力のレーザーを窒素含有クロム皮膜に一定時間照射する。この結果窒素含有クロム皮膜内の窒素は熱拡散を生じ、皮膜内のクロムはポテンシャンルの高い酸素と結合する。このときの照射時間と照射エネルギーで所望の厚さのクロム酸化皮膜を得ることができる。
レーザーによるクロム酸化皮膜形成処理は、例えばフェムト秒レーザーにより極短時間に光エネルギーを集中させ、すなわちその照射時間を短くすることで、熱影響が基材にほとんどないようにすることができる。
通常の窒素含有クロム皮膜の酸化温度である700〜900℃での加熱処理をガスの燃焼による加熱や電気ヒーターによる加熱などにより行なうことなく、安定なクロム酸化皮膜を所望の厚さに形成することができ、さらに通常の加熱処理で見られるような変態に伴う歪の発生や、硬度の軟化を防ぐことができる。
さらにレーザーによるクロム酸化皮膜形成の特徴として、一般に行われる、レーザをパルス的に照射し、且つ走査することで、凹状のディンプル構造を表面の全面にわたり付与することができる。このディンプルは、離型材、潤滑剤の保持性に優れ、すなわち金型に適用した場合離型性や耐久性を向上させ、構造的にも優れた皮膜を提供することができる。また、自動車等の摺動部品に適用した場合、ディンプルが潤滑油を保持し、部品の耐久性を向上させる。
このようにして作製された窒素含有クロム皮膜とクロム酸化皮膜は窒素含有クロム皮膜とクロム酸化皮膜の界面に傾斜した窒素と酸素の拡散層を有するため、窒素含有クロム皮膜とクロム酸化皮膜間の密着力が優れており、窒素含有クロム皮膜のアモルファス構造に由来した化学的安定性をも持ち合わせている。
なお、レーザーを用いなくとも、予め所定温度に加熱した炉内に、前記窒素含有クロム皮膜を形成した基材を短時間投入し、その後冷却するという熱処理によっても、基材に与える熱影響を最小限にとどめ、且つクロム酸化皮膜を形成することができる。
また、硬質皮膜被覆部材の深さ方向のビッカース硬さを測定、および表面のX線回折分析を実施した。
また、酸素と窒素とクロムの元素が共存する層が前記クロム酸化皮膜と前記窒素含有クロム皮膜の間に約0.2μm認められ、酸素とクロムが漸減、窒素が漸増した領域となっており、傾斜組成層を呈している。
この傾斜組成層より深い部分は窒素とクロムが存在する窒素含有クロム皮膜となっていた。
2 下地層
3 窒素含有クロム皮膜
4 傾斜組成層
5 クロム酸化皮膜
10 処理装置
12 真空処理室
14 真空ポンプ
16 回転テーブル
18 治具
20 基材
22 ターゲット
24 スパッタ電源
26 バイアス電源
28 ガス導入パイプ
Claims (5)
- 基材と、この基材上に順次に積層される厚さ1〜30μmの窒素含有クロム皮膜と、厚さ0.1〜3μmのクロム酸化皮膜とより成ること特徴とする硬質皮膜被覆部材。
- 基材と、この基材上に順次に積層される厚さ0.01〜3μmのクロム皮膜と、厚さ1〜30μmの窒素含有クロム皮膜と、厚さ0.1〜3μmのクロム酸化皮膜とより成ることを特徴とする硬質皮膜被覆部材。
- 前記窒素含有クロム皮膜と前記クロム酸化皮膜の間に、前記窒素含有クロム皮膜と前記クロム酸化皮膜の中間的な組成の厚さ0.01〜1μmの傾斜組成層を有することを特徴とする請求項1または2記載の硬質皮膜被覆部材。
- 前記クロム酸化皮膜の表面にディンプルが形成されていることを特徴とする請求項1、2または3記載の硬質皮膜被覆部材。
- 金型又は摺動部品として使用されることを特徴とする請求項1、2、3または4記載の硬質皮膜被覆部材。
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