JP2013545300A - Optical communication module and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

改良した光通信モジュールは、複数のv溝を設けたシリコン製のマザーボードを有し、これらv溝は、レーザーダイオードの出射をエンクロージャ内に保持して光学的に整列させ、エンクロージャは、シリコン製のマザーボードをエンクロージャ内の所望位置に配置及び案内する2以上の位置決め部分を有する。エンクロージャはヒートシンクとして作用し、このヒートシンクは安定性を付与し、またシリコン製のマザーボードの取り付け材料がウィッキングするのを補助し、取り付け材料によるシリコン製のマザーボードの損傷を回避する。改良した光通信モジュールを形成する方法も開示する。
【選択図】図3B
The improved optical communication module has a silicon mother board with a plurality of v-grooves that hold the laser diode emission within the enclosure for optical alignment, and the enclosure is made of silicon. It has two or more positioning parts that place and guide the motherboard to a desired position within the enclosure. The enclosure acts as a heat sink, which provides stability and helps the silicon motherboard mounting material to wick, avoiding damage to the silicon motherboard due to the mounting material. A method of forming an improved optical communication module is also disclosed.
[Selection] Figure 3B

Description

光通信(フォトニクス)モジュールは、光デバイスに整列する光学的コンポーネント(例えば、光ファイバ及び/又は光学的レンズ)を有する。現在、比較的高い光強度(例えば、1W超)及び比較的低い光結合損失(例えば、約15%未満の光結合損失)を有する光通信モジュールは、製造に比較的時間がかかり、作業者の熟練を要し、また作業者の介入及び/又は高いコストの製造設備を要し、したがって、製造のコストが比較的高くなる。この結果、現在入手可能な光通信モジュールはコストが比較的高いエンドユーザー用途(例えば、消費者のようなエンドユーザーではない専門的熟練者向けのエンドユーザー用途)に利用されている。光通信モジュールの設計は、光通信モジュールを組み込む現行デバイスに対して売れる低価格帯のデバイス向け用途に適するよう行うのが望ましい。光ファイバからの高い光強度の発生(例えば、1W超)は、一般的に光ファイバと効率的に結合するエネルギー源を必要とする。例えば、適当な高光強度デバイスとして、(1)ダイオードレーザー及び(2)光ファイバに対する高効率結合がある。   An optical communication (photonics) module has optical components (eg, optical fibers and / or optical lenses) that align with an optical device. Currently, optical communication modules with relatively high light intensity (eg, greater than 1 W) and relatively low optical coupling loss (eg, less than about 15% optical coupling loss) are relatively time consuming to manufacture, It requires skill and requires operator intervention and / or high cost manufacturing equipment, thus making the manufacturing costs relatively high. As a result, currently available optical communication modules are used for costly end-user applications (eg, end-user applications for professionals who are not end users such as consumers). It is desirable to design the optical communication module so that it is suitable for a low-priced device application that can be sold with respect to the current device incorporating the optical communication module. Generation of high light intensity from an optical fiber (eg, greater than 1 W) generally requires an energy source that efficiently couples with the optical fiber. For example, suitable high light intensity devices include (1) diode lasers and (2) high efficiency coupling to optical fibers.

図1は現在入手可能な光通信モジュール製造におけるプロセスフロー100の例を示す。この例示的なプロセスフローは15個の作業を含む。これら15個の作業のいずれかは、手動操作、自動操作、又はこれら2つの組み合わせである。第1作業101において、レーザーダイオードはサブマウントにダイ取付される。この作業101において、ダイオードレーザーは、p側を下向きにして(例えば、ポジティブ側を下向きにするとはアノード側を下向きにするとも称される)サブマウントに取り付けたダイオードレーザーチップとすることができる。サブマウントは、一般的に、高熱伝導性材料とすべきである。サブマウント材料の望ましい熱伝導性は、ダイオードレーザーの熱膨張率(例えば、約4ppm/K〜8ppm/K)に近似する熱膨張率を有する、約180W/m‐Kよりも大きいものとする。サブマウントとして利用可能な適当な材料には、例えば、以下に限定しないが、WCu,AlN,SiC及びBeOがある。とくに、硬質はんだを使用してダイオードレーザーをサブマウントに取り付けるときに類似した熱膨張特性を示すダイオードレーザー及びサブマウント材料を使用するのが望ましく、さもないと、これら熱膨張のミスマッチによる応力発生があり、ダイオードレーザーの寿命及び/又は性能を低下させるおそれがある。一般的にはダイオードレーザー(例えば、ダイオードレーザーチップ)をサブマウントにダイ取付するために、硬質はんだが使用される。硬質はんだが一般的に使用されるのは、硬質はんだは光通信モジュール及び/又はこの光通信モジュールを使用するエンドデバイスの寿命にわたり最も安定性をもたらすからである。使用できる硬質はんだの代表的な例としては、以下に限定しないが、AuSn及びAuGeの合金がある。   FIG. 1 shows an example of a process flow 100 in manufacturing currently available optical communication modules. This exemplary process flow includes 15 operations. Any of these 15 operations is manual operation, automatic operation, or a combination of the two. In the first operation 101, the laser diode is die attached to the submount. In this operation 101, the diode laser can be a diode laser chip attached to the submount with the p-side facing down (eg, the positive side facing down is also referred to as the anode side facing down). The submount should generally be a high thermal conductivity material. The desired thermal conductivity of the submount material should be greater than about 180 W / m-K, with a coefficient of thermal expansion that approximates that of a diode laser (eg, about 4 ppm / K to 8 ppm / K). Suitable materials that can be used as submounts include, but are not limited to, WCu, AlN, SiC, and BeO, for example. In particular, it is desirable to use diode lasers and submount materials that exhibit similar thermal expansion characteristics when using a hard solder to attach the diode laser to the submount, otherwise stress generation due to these thermal expansion mismatches will occur. Yes, there is a risk of reducing the life and / or performance of the diode laser. Generally, hard solder is used to die attach a diode laser (eg, a diode laser chip) to the submount. Hard solder is commonly used because it provides the most stability over the lifetime of the optical communication module and / or the end device that uses the optical communication module. Representative examples of hard solder that can be used include, but are not limited to, alloys of AuSn and AuGe.

依然として図1につき説明すると、次の作業102において、サーミスタは、サブマウントにダイ接着される。サーミスタは、抵抗が温度に従って変動する抵抗器である。このプロセスフローのステーション1Aは、チップ・オン・サブマウント(CoS)組立体(アセンブリ)を形成する作業101及び102である。「タクトタイム」は、要求を満たす組立シーケンスにおいて所定作業ステップで製品を生産するのに必要な時間と定義し、また1日あたりの分単位の作業時間を総顧客需要量で割り算する事によって計算される、又は1日あたり生産されるユニット数によって計算される。このように、タクトタイムは、生産されるユニットあたりの分単位の作業時間に等しい。本質的に、タクトタイムは所定作業ステップにおける最大生産能力を決定する。したがって、全体の組立シーケンスにおける最大タクトタイムは生産できるラインの能力を制限する。   Still referring to FIG. 1, in the next operation 102, the thermistor is die bonded to the submount. A thermistor is a resistor whose resistance varies with temperature. Station 1A of this process flow is operations 101 and 102 that form a chip on submount (CoS) assembly. “Tact time” is defined as the time required to produce a product in a given work step in an assembly sequence that meets the requirements, and is calculated by dividing the work time in minutes per day by the total customer demand. Or calculated by the number of units produced per day. Thus, the tact time is equal to the working time in minutes per unit produced. In essence, the takt time determines the maximum production capacity at a given work step. Therefore, the maximum tact time in the entire assembly sequence limits the capacity of the line that can be produced.

やはり図1につき説明すると、CoS組立体を生産するステーション1Aのタクトタイムは約2分である。ステーション2Aにおいて、CoSをワイヤボンディングする作業103を行い、ステーション2Aのタクトタイムは約0.3分である。CoSをワイヤボンディングして種々のコンポーネント(例えば、サーミスタ及びLDチップ)を外界に電気的接続性を与える(例えば、サーミスタ及びLDチップを、システムにおける他の部分、例えば、電源、テストステーション又は他の制御システムに対する電気的接続性を与える)。   Still referring to FIG. 1, the tact time of the station 1A producing the CoS assembly is about 2 minutes. In the station 2A, an operation 103 for wire bonding CoS is performed, and the tact time of the station 2A is about 0.3 minutes. CoS is wire bonded to provide electrical connectivity for various components (eg, thermistors and LD chips) to the outside world (eg, thermistors and LD chips are connected to other parts of the system, eg, power supplies, test stations or other Provide electrical connectivity to the control system).

作業104はステーション3Aで行う。作業104において、作業101,102,103で形成したチップ・オン・サブマウントをテストする。このテスト中に所定デバイスの光電特性を得る。すなわち、光強度、電圧及び波長を電流の関数として測定する。この作業は、手動操作、自動操作又はこれら2つの組み合わせとすることができる。ステーション3Aにおける作業104において、CoSテストは約2分のタクトタイムを要する。   Operation 104 is performed at station 3A. In operation 104, the chip-on-submount formed in operations 101, 102, and 103 is tested. The photoelectric characteristics of a given device are obtained during this test. That is, light intensity, voltage and wavelength are measured as a function of current. This operation can be manual operation, automatic operation, or a combination of the two. In operation 104 at station 3A, the CoS test requires a tact time of about 2 minutes.

光ファイバ内への効率的な光結合(光収集)があることは重要である。ダイオードレーザーの速軸は、ダイオードレーザーから高度に分岐するため、速軸コリメート(FAC)レンズを使用してレーザーダイオードの遠方領域エミッション(出射)を減退させ、これによりコリメートされたダイオードレーザーの出射を光ファイバに合致又は整列させることができる。   It is important that there is efficient optical coupling (light collection) into the optical fiber. The fast axis of the diode laser is highly divergent from the diode laser, so a fast axis collimating (FAC) lens is used to reduce the far-field emission of the laser diode, thereby emitting the collimated diode laser. It can be matched or aligned with the optical fiber.

例示的な光通信モジュールにおいて、FACレンズ及び光ファイバ双方は能動的にダイオードレーザーに整列させる。ダイオードレーザー出射光はFACレンズを通過してから光ファイバを通過する。一実施形態において、FACレンズの整列は光ファイバの整列前に行う。能動的整列は、光出射するようデバイスを能動的に動作させるときに行い、また結合光出力を輪郭(プロファイル)及び光強度双方のためにモニタリングし、最終的に輪郭及び光強度のそれぞれ(例えば、最適値を含む望ましい範囲内で)を得る。図1につき説明すると、作業105において、光通信モジュール製造プロセスは、つぎにFAC整列の第1ステップ及びFACレンズ取り付けの第2ステップを有する。FACレンズの整列及び取り付け双方は、ダイオードレーザーを動作させ、そして光を出射している間に同時に行う。この整列及び取り付けステップにおいて、FACレンズは、ダイオードレーザーを動作させている間に操作し、所望の出射パターン及び/又は達成すべきまた随意的に最適化すべき所望の光学的処理量が得られるようにする。整列及び取り付けステップは時間がかかるものである。作業105の次の部分でFACレンズの所望の整列又は位置決めが得られた後、レンズを種々の取り付け手法のうち任意なもので取り付ける。   In the exemplary optical communication module, both the FAC lens and the optical fiber are actively aligned to the diode laser. The diode laser emission light passes through the optical fiber after passing through the FAC lens. In one embodiment, the FAC lens is aligned before the optical fiber is aligned. Active alignment occurs when the device is actively operated to emit light, and the combined light output is monitored for both contour (profile) and light intensity, and finally each of the contour and light intensity (eg, Within the desired range, including the optimal value). Referring to FIG. 1, in operation 105, the optical communication module manufacturing process next includes a first step of FAC alignment and a second step of FAC lens attachment. Both alignment and attachment of the FAC lens occur simultaneously while operating the diode laser and emitting light. In this alignment and mounting step, the FAC lens is manipulated while the diode laser is operating so that the desired output pattern and / or the desired optical throughput to be achieved and optionally optimized are obtained. To. The alignment and attachment steps are time consuming. After the desired alignment or positioning of the FAC lens is obtained in the next part of operation 105, the lens is attached by any of a variety of attachment techniques.

1つの代表的な取り付け手法としては、以下に限定しないが、FACレンズをサブマウント又はサブマウントに隣接する表面に接着する。FACレンズをサブマウントに接着するためのプロセスは時間がかかり、また熟練を要するものであり、これはすなわち光強度及びビームパターンを硬化プロセス全体にわたりモニタリングし、接着剤(例えば、エポキシ)が硬化する間にFACレンズの移動を補償するよう熟練したオペレータが修正を行わなければならはないからである。代案として、レンズをサブマウントに接着するためのプロセスは所望の光強度及びビームパターンが得られる複雑な自動設備を要するが、当該プロセスは依然として時間がかかるものである。   One typical attachment technique includes, but is not limited to, attaching a FAC lens to a submount or a surface adjacent to the submount. The process for bonding the FAC lens to the submount is time consuming and skillful, that is, the light intensity and beam pattern are monitored throughout the curing process and the adhesive (eg, epoxy) is cured. This is because a skilled operator must make corrections to compensate for the movement of the FAC lens. Alternatively, the process for adhering the lens to the submount requires complex automated equipment that provides the desired light intensity and beam pattern, but the process is still time consuming.

FACレンズを整列させまた取り付けた後、サブマウントにおけるレンズ付きダイオードレーザーチップを、作業106であるポストレンズテスト(LIV,WL)においてテストする。ポストレンズテスト106は、CoSテスト(作業104)につき上述したのと同様であるが、この場合、レンズを通して結合される光強度を測定してレンズ結合効率を評価する点が異なる。このように、ポストレンズテスト106はレンズを通して結合された光強度、電圧及び波長を電流の関数として測定する。この作業は、手動操作、自動操作、又はこれら2つの組み合わせとすることができる。   After aligning and attaching the FAC lens, the lensed diode laser chip in the submount is tested in the post lens test (LIV, WL), operation 106. The post lens test 106 is similar to that described above for the CoS test (operation 104), but differs in that the lens coupling efficiency is evaluated by measuring the light intensity coupled through the lens. Thus, the post lens test 106 measures the light intensity, voltage and wavelength coupled through the lens as a function of current. This operation can be manual operation, automatic operation, or a combination of the two.

一実施形態において、ステーション4Aの処理を実行するための典型的なプロセス時間、すなわち、(例えば、作業105における)能動的な光学的整列及びFACレンズのサブマウントに対する直接的な取り付け(例えば、接着)、並びに(例えば、作業106における)ポストレンズテストは、比較的長期にわたる時間がかかる。ステーション4Aのタクトタイムは約15分のオーダーであり、作業は取り付け(例えば、接着及び硬化)時間中のオペレータの介入を必要とし、硬化プロセス中にFACレンズの修正を行うことができるようにする。さらに、取り付け(例えば、接着)に伴うオペレータのスキルに起因して修正ミスによる廃棄処分量はオペレータ毎に変動する。   In one embodiment, typical process times for performing station 4A processing, i.e., active optical alignment (e.g., in operation 105) and direct attachment (e.g., gluing) to the FAC lens submount. ), As well as post lens testing (eg, at operation 106) takes a relatively long time. The tact time of station 4A is on the order of about 15 minutes and the work requires operator intervention during the installation (eg, gluing and curing) time so that the FAC lens can be corrected during the curing process. . Furthermore, the amount of disposal due to a correction error varies from operator to operator due to operator skills associated with attachment (for example, adhesion).

現在利用可能な製造技術によれば、FACレンズをサブマウントに取り付けた後、サブマウントのレンズ付きダイオードレーザーチップ(例えば、レンズ付きCoS)をステーション6Aで作業108中にエンクロージャ内に取り付ける。作業108は約0.3分のタクトタイムを要する。エンクロージャは、サブマウントのレンズ付きダイオードレーザーチップを収容するハウジングを備え、これらコンポーネントは互いに近接した状態に維持され、エンクロージャ内から見た外部環境から保護される。エンクロージャは、サブマウントのレンズ付きダイオードレーザーチップに対して機械的な安定性及び/又は支持性を与える。さらに、エンクロージャはヒートシンク(いわゆるHS)になり得る。エンクロージャを作製するのに使用し得る適当な材料としては、以下に限定しないが、例えば、銅、WCu、又は高熱伝導性を有する他の材料がある。   According to currently available manufacturing techniques, after the FAC lens is attached to the submount, the submount lensed diode laser chip (eg, lensed CoS) is attached in the enclosure during operation 108 at station 6A. The operation 108 requires a tact time of about 0.3 minutes. The enclosure includes a housing that houses a diode laser chip with a submount lens, and these components are kept in close proximity to each other and are protected from the external environment viewed from within the enclosure. The enclosure provides mechanical stability and / or support for the submount lensed diode laser chip. Furthermore, the enclosure can be a heat sink (so-called HS). Suitable materials that can be used to make the enclosure include, but are not limited to, copper, WCu, or other materials with high thermal conductivity.

ある実施形態において、作業107をステーション5Aで作業108の前に行う。作業107では、電極をエンクロージャ(例えば、ヒートシンクである、いわゆるHS)に取り付ける。電極はエンクロージャに、例えば、はんだ付けによって取り付ける。電極は、システムの他の部分、例えば、電源、テストステーション、他の制御システムとの電気的接続性をもたらす。適当な電極としては、例えば、必要とされる電流レベル(例えば、約0.1アンペア〜約5アンペアの電流レベル、又は所望のレーザーダイオードを動作させるのに必要な電流レベル)用に適当な金属トレースを有する厚いフィルム状セラミック及び/又はプリント回路板(例えば、pcbボード)がある。作業107は約0.3分のタクトタイムを要する。   In one embodiment, operation 107 is performed before operation 108 at station 5A. In operation 107, an electrode is attached to an enclosure (eg, a so-called HS that is a heat sink). The electrodes are attached to the enclosure, for example by soldering. The electrodes provide electrical connectivity to other parts of the system, such as power supplies, test stations, and other control systems. Suitable electrodes include, for example, a metal suitable for the required current level (eg, a current level of about 0.1 amperes to about 5 amperes, or a current level necessary to operate the desired laser diode). There are thick film ceramics and / or printed circuit boards (eg, pcb boards) with traces. The operation 107 requires a takt time of about 0.3 minutes.

ステーション7Aにおいて、作業109でエンクロージャのワイヤボンディングを行う。この作業でサブマウントにおけるレンズ付きダイオードレーザーチップ(例えば、レンズ付きCoS)を電極に電気的に接続する。ステーション7Aのタクトタイムは約0.3分である。ある実施形態では、ステーション8A及び9Aにおける作業110及び111中に、それぞれ、剥き出しの光ファイバをクリーブし(作業110にて)、及びフェルール組立体に取り付ける(作業111にて)。ステーション8Aでは、光ファイバをクリーブによって準備し、作業110を完了するに要するタクトタイムは約1分である。再び図1につき説明すると、一実施形態において、ステーション9Aにおける作業111中、クリーブした光ファイバに剛性を与えるとともに光ファイバを取り付け可能にするメカニズムを光ファイバに付加する。   At station 7A, wire bonding of the enclosure is performed in operation 109. In this operation, the diode laser chip with lens (for example, CoS with lens) in the submount is electrically connected to the electrode. The tact time of the station 7A is about 0.3 minutes. In one embodiment, during operations 110 and 111 at stations 8A and 9A, the bare optical fiber is cleaved (at operation 110) and attached to the ferrule assembly (at operation 111), respectively. In the station 8A, the tact time required for completing the work 110 by preparing the optical fiber by cleaving is about 1 minute. Referring again to FIG. 1, in one embodiment, during operation 111 at station 9A, a mechanism is added to the optical fiber that provides rigidity to the cleaved optical fiber and allows the optical fiber to be attached.

一実施形態において、作業111では、クリーブした光ファイバをフェルール組立体に取り付ける(例えば、光ファイバをフェルール内に取り付ける)。フェルールは光ファイバの機械的支持体として作用し、フェルールは光ファイバを保持し、また光ファイバを所望位置に固定することができる。光ファイバはフェルール内に接着する(例えば、エポキシで接着する)及び/又はフェルール内にはんだ付けする。光ファイバのフェルール組立体へのエポキシ取り付けを作業111中に行う場合、作業のタクトタイムは約5分である。   In one embodiment, operation 111 attaches the cleaved optical fiber to the ferrule assembly (eg, installs the optical fiber in the ferrule). The ferrule acts as a mechanical support for the optical fiber, which can hold the optical fiber and fix the optical fiber in the desired position. The optical fiber is glued into the ferrule (eg, glued with epoxy) and / or soldered into the ferrule. If the epoxy attachment to the optical fiber ferrule assembly is performed during operation 111, the tact time of the operation is about 5 minutes.

ステーション10Aにおいて、ファイバ結合及びテストを行う。ステーション10Aにおける作業112中、光ピグテイルを整列させ、また取り付ける。作業112は、取り付け前に能動的整列を含む。フェルール組立体内でのファイバは、任意の適当な手段、例えば、レーザー溶接、はんだリフロー、及びエポキシ接着によって取り付ける。   At station 10A, fiber coupling and testing are performed. During operation 112 at station 10A, the optical pigtails are aligned and installed. Operation 112 includes active alignment prior to installation. The fibers in the ferrule assembly are attached by any suitable means, such as laser welding, solder reflow, and epoxy bonding.

能動的整列中、若干の電流をレーザーダイオードチップに供給し、デバイスを電気的に動作させ、これによりファイバを通した光処理量(スループット)を最大化するよう調整する。光ピグテイルは、光エネルギーをレーザーダイオードチップから外部(例えば、システム又はデバイスの他の部分)に伝達することに役立つ。   During active alignment, some current is supplied to the laser diode chip to adjust the device to operate electrically, thereby maximizing the light throughput through the fiber. The optical pigtail serves to transfer light energy from the laser diode chip to the outside (eg, other parts of the system or device).

作業105に関連して説明したレンズ取り付け方法のように、この取り付け方法が完了する(例えば、エポキシ接着剤が硬化する)とき、光ファイバ位置の一定の調整とともに光強度の能動的モニタリングを必要とする。概して、これら一般的な如何なる光ファイバ取り付け方法(例えば、レーザー溶接、はんだリフロー、及びエポキシ接着)も要する時間は、約15分〜約20分のオーダーである。   As with the lens attachment method described in connection with operation 105, when this attachment method is complete (eg, the epoxy adhesive is cured), it requires active monitoring of light intensity with constant adjustment of the optical fiber position. To do. In general, the time required for any of these common fiber optic attachment methods (eg, laser welding, solder reflow, and epoxy bonding) is on the order of about 15 minutes to about 20 minutes.

光ファイバは、上述したようなFACレンズをダイオードレーザーチップに整列するのに類似したプロセスに従って、レンズ付きダイオードレーザーチップに整列させることができる。より具体的に言うと、光ファイバのレンズ付きダイオードレーザーチップに対する整列のプロセスは、ダイオードレーザーを動作させて光強度をモニタリングできるようにしつつ能動的に行い、光学的結合を確実にする及び/又は最大化する。光ファイバの整列は、種々のファイバ取り付け方法のうち任意なものを用いて行うことができ、各ファイバ取り付け方法はそれぞれ異なるファイバ準備を必要とする。適当なファイバ取り付け方法としては、以下に限定するものではないが、光ファイバを収納するフェルールのレーザー溶接、はんだリフロー、及びエポキシ接着がある。フェルールは、光ファイバが着座するベースに取り付けられる取り付けデバイスとして作用する。フェルールをベースと光ファイバに取り付けて、光ファイバの支持を行う。フェルールはファイバを保持し、ファイバを取り付け、またファイバを整列させる機構を備える。フェルールの剛性は、光ファイバの整列及び固定を基盤となる支持構造で補助する。   The optical fiber can be aligned to the lensed diode laser chip according to a process similar to aligning a FAC lens to the diode laser chip as described above. More specifically, the process of aligning the optical fiber to the lensed diode laser chip is performed actively while allowing the diode laser to operate and monitor the light intensity to ensure optical coupling and / or maximize. Optical fiber alignment can be performed using any of a variety of fiber attachment methods, each fiber attachment method requiring a different fiber preparation. Suitable fiber attachment methods include, but are not limited to, laser welding of ferrules containing optical fibers, solder reflow, and epoxy bonding. The ferrule acts as an attachment device that is attached to the base on which the optical fiber is seated. A ferrule is attached to the base and the optical fiber to support the optical fiber. The ferrule includes a mechanism for holding the fiber, attaching the fiber, and aligning the fiber. The rigidity of the ferrule assists the alignment and fixation of the optical fiber with the underlying support structure.

作業112中、はんだリフローを使用してファイバを収納するフェルールの取り付けを行うことができる。はんだリフロー中、はんだプラットフォームを必要とし、このはんだプラットフォームに光ファイバを取り付ける。はんだの選定又は選択は、ファイバクラッドのガラス遷移温度及び/又はバッファのガラス遷移温度によって制限を受ける。随意的に、はんだリフローは、付加的な接着作業によって補強され、及び/又はより支持されることができ、この場合、付加的な接着剤及び/又はエポキシはフェルール組立体に対するファイバの頂面に付加し、その位置を補強するのに役立つ。   During operation 112, solder reflow can be used to attach the ferrule that houses the fiber. During solder reflow, a solder platform is required and an optical fiber is attached to the solder platform. The selection or selection of solder is limited by the glass transition temperature of the fiber cladding and / or the glass transition temperature of the buffer. Optionally, the solder reflow can be reinforced and / or better supported by an additional gluing operation, in which case the additional adhesive and / or epoxy is on the top surface of the fiber relative to the ferrule assembly. Add and help to reinforce its position.

ファイバを取り付ける作業112中、レーザー溶接を用いることができる。レーザー溶接において、特化したプラットフォームを使用してファイバを溶接クリップに溶接し、この溶接クリップを使用してフェルールを保持し、またこのフェルールを使用して光ファイバを支持する。溶接クリップは特化したプラットフォームに溶接することができる。   Laser welding can be used during operation 112 of attaching the fiber. In laser welding, a specialized platform is used to weld the fiber to a weld clip, the weld clip is used to hold the ferrule, and the ferrule is used to support the optical fiber. The welding clip can be welded to a specialized platform.

作業111ではフェルールの使用を回避することができ、その代わりに、クリーブしたファイバの外面を追加的に金属化する。光ファイバの外面の一部分を金属化する場合、このことは作業112の前に行う。作業112では金属化したファイバを整列させ、また金属化したファイバをはんだにより取り付ける。作業111ではフェルールの使用を回避することができ、その代わりに、ファイバの外面に接着剤を付け、作業112中にファイバを整列させ、接着剤を直接用いて取り付けることもできる。   In operation 111, the use of ferrules can be avoided, and instead the outer surface of the cleaved fiber is additionally metallized. This is done prior to operation 112 if a portion of the outer surface of the optical fiber is metallized. In operation 112, the metallized fibers are aligned and the metallized fibers are attached by solder. In operation 111, the use of ferrules can be avoided, or alternatively, an adhesive can be applied to the outer surface of the fiber, the fiber aligned during operation 112, and attached using the adhesive directly.

この後、作業113において、ポストファイバテストを行い、光ファイバにわたる結合を評価する。さらに、作業104及び106で行うテストにつき説明したように、この場合のテストも、あるデバイスに関する光強度、電圧及び波長を含む光電特性を評価するものであり、これら特性は電流の関数として測定する。作業113におけるテストは、手動操作、自動操作、又はこれら2つの組み合わせとすることができる。ステーション10Aにおけるファイバ結合及びテストは約15分のタクトタイムを有する。   Thereafter, in operation 113, a post-fiber test is performed to evaluate the coupling across the optical fiber. In addition, as described for the tests performed in operations 104 and 106, this test also evaluates photoelectric characteristics, including light intensity, voltage, and wavelength for a device, and these characteristics are measured as a function of current. . The test in operation 113 can be a manual operation, an automatic operation, or a combination of the two. Fiber coupling and testing at station 10A has a tact time of about 15 minutes.

レンズ付きダイオードレーザーチップを光ファイバに整列した後、残りの製造ステップは、(ステーション11Aでの)リッド取り付け及び封止及び次の(ステーション12Aでの)最終テストがある。これら残りの製造ステップは一般的なものであり、光通信モジュールアセンブリの分野における当業者にはよく理解できるであろう。例えば、依然として図1につき説明すると、ステーション11Aにおいて、リッド取り付け及び封止は作業114中に行う。リッドはプラスチック及び/又は金属で形成することができるとともに、それぞれ、接着又ははんだ付けを行うことができる。作業114はリッド取り付け及び封止を含み、そのタクトタイムは約1分である。ステーション12Aは、最終テストを行う作業115を含む。最終テストにおいて、レンズを通して結合した光強度、電圧、波長及び光ファイバによる結合を電流の関数として測定する。作業115におけるテストは、手動操作、自動操作、又はこれら2つの組み合わせとすることができる。作業115のタクトタイムは約1分である。   After aligning the lensed diode laser chip to the optical fiber, the remaining manufacturing steps include lid mounting and sealing (at station 11A) and subsequent final test (at station 12A). These remaining manufacturing steps are general and will be well understood by those skilled in the art of optical communication module assembly. For example, still referring to FIG. 1, at station 11A, lid attachment and sealing occurs during operation 114. The lid can be formed of plastic and / or metal and can be bonded or soldered, respectively. Operation 114 includes lid attachment and sealing, with a tact time of about 1 minute. Station 12A includes an operation 115 that performs a final test. In the final test, the light intensity coupled through the lens, voltage, wavelength, and coupling by the optical fiber are measured as a function of current. The test at operation 115 can be a manual operation, an automatic operation, or a combination of the two. The takt time of the work 115 is about 1 minute.

再び図1につき説明すると、従来の光通信モジュールにおける15個の作業は12個のステーション、2回のワイヤボンディング作業、2回の能動的整列ステップ及び4回のテスト作業を必要とし、全体として、43分のシーケンシャルタクトタイムを要する。   Referring again to FIG. 1, 15 operations in a conventional optical communication module require 12 stations, 2 wire bonding operations, 2 active alignment steps, and 4 test operations. A sequential tact time of 43 minutes is required.

光通信モジュールを組み込んだ現行のデバイスよりも価格ポイントが低いデバイスでの用途に適切な光通信モジュールを設計するのが望ましい。このように低いコストの光通信モジュールが、最小限の光結合損失(例えば、約15%未満、又は約12%未満、又は約10%未満、又は約5%未満の光結合損失)で、比較的高い光強度(1Wより大きい、0.5Wより大きい、若しくは、約0.5W〜約20Wの範囲内、または、20Wより大きい)を達成するのが望ましい。より低コストの光通信モジュールとして、部品表(BOM)の部品点数がより少ないこと、部品表(cBOM)のコストがより低いこと、及び/又は、製造コストがより低いこと(例えば、光通信モジュールのアセンブリ用の、より低コストな製造プロセス及び/又はより低コストな装置)のうち、1つ又はそれ以上を有することが望ましい。   It is desirable to design an optical communication module that is suitable for use in devices that have lower price points than current devices that incorporate optical communication modules. Such low cost optical communication modules can be compared with minimal optical coupling loss (eg, less than about 15%, or less than about 12%, or less than about 10%, or less than about 5%). It is desirable to achieve a high optical intensity (greater than 1 W, greater than 0.5 W, or in the range of about 0.5 W to about 20 W, or greater than 20 W). As a lower cost optical communication module, the parts list (BOM) has a lower number of parts, the cost of the parts list (cBOM) is lower, and / or the manufacturing cost is lower (for example, an optical communication module) It is desirable to have one or more of a lower cost manufacturing process and / or a lower cost device for the assembly.

一実施形態において、光通信モジュールは、マザーボードと、マザーボードを取り付けることができるベースを有するエンクロージャとを有するものとすることができる。マザーボードは、マザーボードに配置したレーザーダイオードと、前記ダイオードに整列するよう光ファイバを収容するよう構成したチャネルとを有することができる。エンクロージャはさらに、互いに間隔を置いて配置されて、マザーボードをエンクロージャ内の所望位置に係合させる、複数の位置決め素子を有することができる。さらに、エンクロージャは、マザーボードからの過剰な取り付け材料を接収するに十分な容積を画定することができる。   In one embodiment, the optical communication module may include a motherboard and an enclosure having a base to which the motherboard can be attached. The motherboard can include a laser diode disposed on the motherboard and a channel configured to receive an optical fiber to align with the diode. The enclosure may further include a plurality of positioning elements that are spaced apart from each other to engage the motherboard in a desired position within the enclosure. Furthermore, the enclosure can define a volume sufficient to confiscate excess mounting material from the motherboard.

位置決め部分は、さらに、位置決め素子と称することができ、また同様に位置決め素子は、位置決め部分と称することができる。位置決め素子は、種々の形態をとることができる。一実施形態において、互いに間隔を置いて配置した複数の位置決め素子は、ベースから突出させる。例えば、位置決め素子はコラムとすることができ、又はエンクロージャの壁部分とすることができる。例えば、マザーボードは、ベース及び1つ又はそれ以上の側壁によって画定されるキャビティ内に配置することができる。キャビティの側壁はベースから突出させることができ、また側壁として形成され又は当該側壁から突出する互いに間隔を置いて配置した複数の位置決め素子を有することができる。複数の位置決め素子の相互間及び/又は複数の位置決め素子に隣接するスペースは、マザーボードをベースに取り付けるとき、取り付け材料(例えば、少なくとも若干の過剰な取り付け材料)を収容する構成とすることができる。複数の位置決め素子に隣接するスペース及び/又は数個の位置決め素子相互間のスペースは、取り付け材料がマザーボードの側面若しくは頂面のうち少なくとも一方に接触しないように構成する。   The positioning part can further be referred to as a positioning element, and likewise the positioning element can be referred to as a positioning part. The positioning element can take various forms. In one embodiment, a plurality of positioning elements spaced from each other are projected from the base. For example, the positioning element can be a column or can be a wall portion of the enclosure. For example, the motherboard can be placed in a cavity defined by a base and one or more sidewalls. The sidewall of the cavity can protrude from the base and can have a plurality of spaced apart positioning elements formed as sidewalls or protruding from the sidewall. The spaces between the plurality of positioning elements and / or adjacent to the plurality of positioning elements may be configured to accommodate mounting material (eg, at least some excess mounting material) when the motherboard is mounted to the base. The space adjacent to the plurality of positioning elements and / or the space between several positioning elements is configured such that the mounting material does not contact at least one of the side surface or the top surface of the motherboard.

マザーボードのチャネルは種々の形態にすることができる。一態様において、チャネルは、光ファイバとダイオードの出射との受動的な整列を提供し、これにより、光ファイバをチャネル内に配置したとき、光ファイバはダイオードに自動的に整列することができる。チャネルは、例えば、v溝、ハーフパイプ、又は他の任意の断面形状を有するものとし、またマザーボードの長手方向寸法又は短手方向寸法に沿って配置することができる。マザーボードは、さらに、付加的なチャネル、例えば、レンズを収容かつ整列させるよう構成した第2チャネルを有し、レンズはダイオードと光ファイバとの間に配置される。第2チャネルはこの第2チャネル内に配置されるレンズを有し、これにより、このレンズは、ダイオードの出射を光ファイバに伝送する。第2チャネルは、例えば、マザーボードの長手方向寸法又は短手方向寸法に沿って延在させることができる。   The channel of the motherboard can take various forms. In one aspect, the channel provides a passive alignment of the optical fiber and the output of the diode so that the optical fiber can automatically align with the diode when the optical fiber is placed in the channel. The channel may have, for example, a v-groove, a half pipe, or any other cross-sectional shape, and may be disposed along the longitudinal or transversal dimension of the motherboard. The motherboard further has an additional channel, eg, a second channel configured to receive and align the lens, the lens being disposed between the diode and the optical fiber. The second channel has a lens disposed in the second channel, whereby the lens transmits the diode emission to the optical fiber. The second channel can extend, for example, along the longitudinal or transversal dimension of the motherboard.

第1態様において、光通信モジュールは、光ファイバを収容するとともに当該光ファイバをレーザーダイオード出射に整列させるよう構成したチャネルを有するマザーボードを備える。マザーボードは、例えば、シリコン製のマザーボードとすることができる。光通信モジュールは、2つ又はそれ以上の位置決め素子を有するエンクロージャを有し、位置決め素子は、マザーボードをエンクロージャ内の所望位置に配置する。エンクロージャは、ベース部分と、互いに間隔を置いて配置した2つ又はそれ以上の位置決め素子とを有し、これにより、エンクロージャのベース部分とマザーボードの底面との間に配置した取り付け材料は、位置決め素子に隣接するスペース内にウィッキングする(例えば、少なくとも若干の過剰な取り付け材料は位置決め部分に隣接する容積のあるスペース内に接収される)。いくつかの実施形態において、エンクロージャはヒートシンクとする。随意的に2つ又はそれ以上の位置決め素子はマザーボードをエンクロージャ内のほぼ所望位置に係合及び/又は維持する。いくつかの実施形態において、光通信モジュールは、さらに、エンクロージャの表面をカバーするリッドを備え、エンクロージャ内に配置した内容物を保護する。エンクロージャは、ほぼ平らなベース部分を有することができる。一実施形態において、マザーボードは、さらに、レンズを保持するよう構成した他のチャネルを有し、レンズ及び光ファイバは、それぞれに対応するチャネルによって保持するとき、レーザーダイオード出射に光学的に整列する。   In a first aspect, an optical communication module includes a motherboard having a channel configured to receive an optical fiber and to align the optical fiber with laser diode emission. The motherboard can be, for example, a silicon motherboard. The optical communication module includes an enclosure having two or more positioning elements that position the motherboard at a desired location within the enclosure. The enclosure has a base portion and two or more positioning elements spaced from each other so that the mounting material disposed between the base portion of the enclosure and the bottom surface of the motherboard Wick in the space adjacent to (e.g., at least some excess mounting material is seized into the volumetric space adjacent to the positioning portion). In some embodiments, the enclosure is a heat sink. Optionally, two or more positioning elements engage and / or maintain the motherboard in a generally desired position within the enclosure. In some embodiments, the optical communication module further comprises a lid that covers the surface of the enclosure to protect the contents disposed within the enclosure. The enclosure can have a substantially flat base portion. In one embodiment, the motherboard further has other channels configured to hold the lens, and the lens and the optical fiber are optically aligned with the laser diode emission when held by the corresponding channel.

チャネルは、例えば、光ファイバを保持する寸法のv溝とすることができ、これにより、光ファイバを対応のv溝によって保持するとき、光ファイバはレーザーダイオードの出射に光学的に整列する。一実施形態において、マザーボードは、さらに、レンズを保持する寸法の他のv溝を有し、レンズ及び光ファイバは、それぞれに対応するv溝によって保持するとき、レーザーダイオードの出射に光学的に整列することができる。   The channel can be, for example, a v-groove that is sized to hold an optical fiber, so that when the optical fiber is held by a corresponding v-groove, the optical fiber is optically aligned with the emission of the laser diode. In one embodiment, the motherboard further has other v-grooves dimensioned to hold the lens, and the lens and the optical fiber are optically aligned with the laser diode emission when held by the respective v-groove. can do.

他の実施形態において、光ファイバ自体がレンズを有し、レンズは光ファイバの一部とする。   In other embodiments, the optical fiber itself has a lens, which is part of the optical fiber.

いくつかの実施形態において、レーザーダイオード(例えば、レーザーダイオードチップ)をマザーボードの頂面に配置する。随意的に、レーザーダイオード自体がレンズを有し、レンズは光ファイバの一部とすることができる。   In some embodiments, a laser diode (eg, a laser diode chip) is placed on the top surface of the motherboard. Optionally, the laser diode itself has a lens, which can be part of the optical fiber.

適当なレンズは、例えば、コリメートレンズ、又は例えば、集束レンズとすることができる。   A suitable lens can be, for example, a collimating lens or, for example, a focusing lens.

一実施形態において、光ファイバは、約0.48より大きい又は等しい開口数(NA)を有するものとする。光ファイバが約0.48より大きい又は等しいNA値である場合、レンズの使用は不要である。ある実施形態において、レーザーダイオードチップは、比較的低い発散(例えば、15゜未満)を有する。他の態様において、光通信モジュールは、シリコン製のマザーボードの頂面に配置したレーザーダイオードを有する。シリコン製のマザーボードは、複数のv溝、レーザーダイオードの出射をコリメートするレンズ、及び光ファイバを有する。シリコン製のマザーボードは、レンズを保持する寸法の1つのv溝と、光ファイバを保持する寸法の他のv溝とを有する。レンズ及び光ファイバは、それぞれに対応するv溝によって保持されるとき、レーザーダイオードの出射に光学的に整列する。エンクロージャは2つ又はそれ以上の位置決め部分を有し、これら位置決め部分はシリコン製のマザーボードをエンクロージャ内の所望位置に配置する。エンクロージャは、ベース部分と、互いに間隔を置いて配置した2つ又はそれ以上の位置決め部分とを有し、エンクロージャのベース部分とシリコン製のマザーボードの底面との間に配置した取り付け材料が、少なくとも1つの位置決め部分に隣接するスペース内にウィッキングする。一実施形態において、取り付け材料は、2つ又はそれ以上の位置決め部分の相互間にウィッキングする。   In one embodiment, the optical fiber should have a numerical aperture (NA) greater than or equal to about 0.48. If the optical fiber has a NA value greater than or equal to about 0.48, the use of a lens is not necessary. In some embodiments, the laser diode chip has a relatively low divergence (eg, less than 15 °). In another aspect, the optical communication module includes a laser diode disposed on a top surface of a silicon motherboard. The silicon motherboard has a plurality of v-grooves, a lens for collimating the emission of the laser diode, and an optical fiber. A silicon motherboard has one v-groove dimensioned to hold a lens and another v-groove dimensioned to hold an optical fiber. The lens and optical fiber are optically aligned with the emission of the laser diode when held by their corresponding v-groove. The enclosure has two or more positioning portions that locate the silicon motherboard at the desired location within the enclosure. The enclosure has a base portion and two or more positioning portions spaced apart from each other, and at least one mounting material is disposed between the base portion of the enclosure and the bottom surface of the silicon motherboard. Wick in the space adjacent to the two positioning parts. In one embodiment, the attachment material wicks between two or more positioning portions.

ある実施形態において、少なくとも1つの位置決め部分に隣接するスペース及び/又は2つ又はそれ以上の位置決め部分の相互間のスペースは、取り付け材料が、シリコン製のマザーボードの側面及びシリコン製のマザーボードの頂面のうち少なくとも一方に接触するのを回避することを可能にする。ある実施形態において、位置決め部分は、エンクロージャの壁の一部分とする。他の実施形態において、位置決め部分はコラムとする。   In some embodiments, the space adjacent to the at least one positioning portion and / or the space between two or more positioning portions is such that the mounting material is a side surface of the silicon motherboard and a top surface of the silicon motherboard. It is possible to avoid touching at least one of them. In some embodiments, the positioning portion is a portion of the enclosure wall. In other embodiments, the positioning portion is a column.

適当な位置決め部分としてのコラムは、多数の断面形状のうち任意なもの(例えば、円形、三角形、四辺形(例えば、正方形、長方形)、五角形、六角形、七角形、八角形又はエンクロージャに所望の特性を与える他の任意な多角形)とすることができる。一実施形態において、1つのv溝をシリコン製のマザーボードの長手方向平面(例えば、長手方向寸法)に沿って配置し、他のv溝をシリコン製のマザーボードの短手方向平面(例えば、短手方向寸法)に沿って配置する。一実施形態において、レンズ及び光ファイバの各々は、それぞれに対応するv溝内に、エポキシ、はんだ、又はそれらの組み合わせのうちの1つ又はそれ以上によって取り付けられる。   The column as a suitable positioning portion can be any of a number of cross-sectional shapes (eg, circular, triangular, quadrilateral (eg, square, rectangular), pentagonal, hexagonal, heptagonal, octagonal or enclosure desired Any other polygon that gives the properties). In one embodiment, one v-groove is disposed along the longitudinal plane (eg, longitudinal dimension) of the silicon motherboard and the other v-groove is disposed in the short plane (eg, short side) of the silicon motherboard. (Direction dimension). In one embodiment, each of the lens and optical fiber is attached by one or more of epoxy, solder, or combinations thereof in the corresponding v-groove.

光通信モジュールは、望ましくは、エンクロージャの表面をカバーするリッドを有し、リッド付きエンクロージャがエンクロージャ内に配置した内容物を外部環境から保護するようにする。随意的に、エンクロージャはほぼ平らなベース部分を有する。   The optical communication module desirably has a lid that covers the surface of the enclosure so that the lidded enclosure protects the contents disposed within the enclosure from the external environment. Optionally, the enclosure has a substantially flat base portion.

エンクロージャ内の位置決め部分は、シリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板をエンクロージャ内の所望位置に配置及び案内する。位置決め部分は、エンクロージャ内に保持した部分(例えば、シリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板)をほぼ安定した位置に維持することができるよう、(例えば、エンクロージャの内容物が、回転、シフト、又は移動をしないようにし)、またシリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板の所望の整列を維持するよう、安定性を付与する。   The positioning portion within the enclosure places and guides the silicon motherboard and / or electrical circuit board to a desired location within the enclosure. The positioning part (eg, the contents of the enclosure is rotated, shifted, etc.) so that the part held within the enclosure (eg, silicon motherboard and / or electrical circuit board) can be maintained in a substantially stable position. Or stability) so as to maintain the desired alignment of the silicon motherboard and / or the electrical circuit board.

エンクロージャ内の位置決め部分は、シリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板をエンクロージャ内の所望位置(例えば、リセス及び/又はスロット)に配置及び案内し、この所望位置で、シリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板は、それらを所定位置に案内する位置決め部分によって配置される。   The positioning portion within the enclosure places and guides the silicon motherboard and / or electrical circuit board to a desired location (eg, recess and / or slot) within the enclosure, where the silicon motherboard and / or Alternatively, the electrical circuit boards are arranged by positioning parts that guide them into place.

他の態様において、光通信モジュールを形成する方法は、複数のv溝を備えるシリコン製のマザーボードを準備するステップと、前記シリコン製のマザーボードの頂面にレーザーダイオードを配置するステップと、短手方向平面に沿って配置したレンズ用のv溝にレンズを配置するレンズ配置ステップであって、前記レンズ用のv溝は、前記レンズの外形寸法を保持する寸法を有するものとしたレンズ配置ステップとを有する。この方法は、さらに、長手方向平面に沿って配置した光ファイバ用のv溝に光ファイバを配置する光ファイバ配置ステップであって、前記光ファイバ用のv溝は、前記光ファイバの外形寸法を保持する寸法を有するものとした光ファイバ配置ステップを有する。前記レンズ及び前記光ファイバは、それぞれに対応するv溝によって保持されるとき、前記レーザーダイオードからのレーザーダイオード出射に光学的に整列する。さらに、この方法は、2つ又はそれ以上の位置決め部分を有するエンクロージャ内に前記シリコン製のマザーボードを配置するマザーボード配置ステップであって、前記位置決め部分は、前記シリコン製のマザーボードを前記エンクロージャ内の所定位置に配置する構成としたマザーボード配置ステップを有する。一実施形態において、レーザーダイオードは、シリコン製のマザーボードを準備する前に、レーザーダイオードをシリコン製のマザーボードの頂面に配置される。この方法は、随意的に、前記光ファイバを前記光ファイバ用のv溝に配置する前に、光ファイバを剥き出しのファイバからクリーブするステップを有することができる。   In another aspect, a method of forming an optical communication module includes: preparing a silicon motherboard having a plurality of v-grooves; placing a laser diode on a top surface of the silicon motherboard; A lens disposing step of disposing a lens in a lens v-groove disposed along a plane, wherein the lens v-groove has a dimension for retaining an outer dimension of the lens; Have. The method further includes an optical fiber placement step of placing an optical fiber in a v-groove for an optical fiber disposed along a longitudinal plane, wherein the v-groove for the optical fiber has an outer dimension of the optical fiber. An optical fiber placement step having dimensions to hold; The lens and the optical fiber are optically aligned with the laser diode emission from the laser diode when held by a corresponding v-groove. The method further includes a motherboard placement step of placing the silicon motherboard in an enclosure having two or more positioning portions, wherein the positioning portion places the silicon motherboard in a predetermined position in the enclosure. There is a mother board arranging step configured to arrange at a position. In one embodiment, the laser diode is placed on the top surface of the silicon motherboard prior to preparing the silicon motherboard. The method can optionally include cleaving the optical fiber from the bare fiber prior to placing the optical fiber in the v-groove for the optical fiber.

さらに、この方法は、随意的に、電気的回路板をエンクロージャ内に配置するステップを有する。ある実施形態において、シリコン製のマザーボード及び電気的回路板は、エンクロージャ内にほぼ同時に配置される。   Further, the method optionally includes placing an electrical circuit board in the enclosure. In some embodiments, the silicon motherboard and the electrical circuit board are placed in the enclosure at approximately the same time.

現在入手可能な光通信モジュールの製造プロセスのフロー図である。It is a flowchart of the manufacturing process of the optical communication module which can be obtained now. 本明細書に開示する、1つ又は複数の革新的な特徴を用いた光通信モジュールの製造プロセスのフロー図である。FIG. 6 is a flow diagram of a manufacturing process for an optical communication module using one or more innovative features disclosed herein. 複数のv溝を有し、レーザーダイオード及びサーミスタを支持するシリコン製のマザーボードと、電気的回路板とを示し、シリコン製のマザーボード及び電気的回路板の双方は、ヒートシンクとして作用するエンクロージャ内に配置されている。A silicon motherboard having a plurality of v-grooves and supporting a laser diode and a thermistor and an electrical circuit board are shown, both of which are arranged in an enclosure that acts as a heat sink. Has been. シリコン製のマザーボード組立体(複数のv溝を有し、レーザーダイオード、サーミスタ、及び光ファイバを支持する)及び電気的回路板を示し、シリコン製のマザーボード及び電気的回路板の双方は、ヒートシンクとして作用するエンクロージャ内に配置されている。A silicon motherboard assembly (having a plurality of v-grooves and supporting laser diodes, thermistors, and optical fibers) and an electrical circuit board, both the silicon motherboard and the electrical circuit board being used as heat sinks Located in the working enclosure. レーザーダイオード、レンズ用のv溝内に配置したレンズ、並びに光学的整列用のv溝内に配置した光ファイバのクリーブ部分及びバッファ用のv溝内に配置した光ファイバの未クリーブ部分を有するシリコン製のマザーボード組立体を断面で示す側面図である。Silicon having a laser diode, a lens disposed in the v-groove for the lens, and a cleaved portion of the optical fiber disposed in the v-groove for optical alignment and an uncleaved portion of the optical fiber disposed in the v-groove for the buffer It is a side view which shows a product motherboard assembly in cross section. エンクロージャの他の実施形態であって、当該エンクロージャは、コラムである位置決め部分を有し、各コラムH1,H2,H3,H4,H5及びH6がほぼ円形断面形状の実施形態を示す。Another embodiment of an enclosure, wherein the enclosure has a positioning portion that is a column, and each column H1, H2, H3, H4, H5 and H6 represents an embodiment with a generally circular cross-sectional shape. エンクロージャの他の実施形態であって、当該エンクロージャは、コラムである位置決め部分を有し、各コラムI1,I2,I3,I4,I5及びI6がほぼ多角形断面形状の実施形態を示す。Another embodiment of an enclosure, wherein the enclosure has a positioning portion that is a column, and each column I1, I2, I3, I4, I5 and I6 represents an embodiment with a generally polygonal cross-sectional shape. エンクロージャの他の実施形態であって、エンクロージャの壁が、位置決め部分である2つ以上の部分を有し、当該部分が、とくに、ほぼ三角形形状の位置決め部分J1,J2,J3及びJ4である実施形態を示す。Another embodiment of an enclosure, wherein the enclosure wall has two or more parts that are positioning parts, which are in particular the substantially triangular shaped positioning parts J1, J2, J3 and J4. The form is shown. エンクロージャの他の実施形態であって、エンクロージャの壁が、位置決め部分である2つ以上の部分を有し、当該部分が、とくに、ほぼ三角形形状の位置決め部分K1,K2,K3,K4,K5及びK6である実施形態を示す。In another embodiment of the enclosure, the wall of the enclosure has two or more parts that are positioning parts, in particular said parts are in particular triangular positioning parts K1, K2, K3, K4, K5 and FIG. 7 shows an embodiment that is K6. FIG. エンクロージャの他の実施形態であって、エンクロージャの壁が、位置決め部分である2つ以上の部分を有し、当該部分が、とくに、ほぼ湾曲した位置決め部分L1,L2,L3及びI4である実施形態を示す。Another embodiment of the enclosure, wherein the wall of the enclosure has two or more parts that are positioning parts, in particular those parts are generally curved positioning parts L1, L2, L3 and I4. Indicates. レーザーダイオード、レンズ及び光学的に整列した光ファイバを有するシリコン製のマザーボード組立体の光学系の側面図であり、レーザーダイオードの出力端部はレンズの外面から整列距離(A)をとり、レンズは光ファイバの最も近接する端部から整列距離(B)をとる状況を示す。1 is a side view of an optical system of a silicon motherboard assembly having a laser diode, a lens and an optically aligned optical fiber, the output end of the laser diode taking an alignment distance (A) from the outer surface of the lens; A situation is shown in which the alignment distance (B) is taken from the closest end of the optical fiber. 図4に示す光学系の側から描いた、レーザーダイオードからレンズ及び光ファイバを経ての光出射の結合をシミュレートするレイトレースを示す。FIG. 5 shows a ray trace simulating the coupling of light emission from a laser diode through a lens and an optical fiber, drawn from the side of the optical system shown in FIG. シリコン製のマザーボード組立体を収納するエンクロージャに取り付けるよう構成したリッドの頂面側から見た図である。It is the figure seen from the top side of the lid comprised so that it might attach to the enclosure which accommodates a silicon motherboard assembly. シリコン製のマザーボード組立体を収納するエンクロージャに取り付けるよう構成したリッドの底面側から見た図である。It is the figure seen from the bottom face side of the lid comprised so that it might attach to the enclosure which accommodates a silicon motherboard assembly.

現在入手可能な光通信モジュールよりも低コストの光通信モジュールを得る能力は、少なくとも部分的には、光通信モジュールを仕上げる部品点数を削減する設計に依存する。代替的に又は付加的に、現在入手可能な光通信モジュールよりも低コストの光通信モジュールを得る能力は、製造ステップの数を削減する設計に依存し、この設計は、光通信モジュールの製造に要する時間(例えば、タクトタイム)を削減する及び/又はモジュールを生産するに要する製造設備の量を削減する。とくに、コストを削減した光通信モジュールを得る能力は、FACレンズ及び/又は光ファイバに対する能動的整列の排除、削減した部品点数、及び、現在入手可能な光通信モジュールに比べて同一又はそれ以上の性能が得られる削減した製造ステップであって、図1につき説明したプロセスに従って組み立てる本発明の例示的実施形態による製造ステップ、のうち1つ又は複数によって可能となる。   The ability to obtain lower cost optical communication modules than currently available optical communication modules depends, at least in part, on designs that reduce the number of parts that complete the optical communication module. Alternatively or additionally, the ability to obtain a lower cost optical communication module than currently available optical communication modules depends on a design that reduces the number of manufacturing steps, and this design depends on the manufacturing of the optical communication module. Reduce the time required (eg, tact time) and / or reduce the amount of manufacturing equipment required to produce the module In particular, the ability to obtain cost-reduced optical communication modules has the ability to eliminate active alignment with FAC lenses and / or optical fibers, reduce the number of components, and be equal to or greater than currently available optical communication modules. This is enabled by one or more of the reduced manufacturing steps in which performance is obtained, according to the exemplary embodiment of the present invention assembled according to the process described with respect to FIG.

製造ステップの数の他に、製造作業における各単位作業の時間も光通信モジュール生産コストに影響する。各単位作業時間の影響は、比較的大量の生産が望まれるときに特に重要であり、これはすなわち、より多くの生産が必要なときにはその量を維持するのに付加的な設備を必要とするからである。したがって、製造プロセスは、最新式のプロセスを通しての比較的迅速な出力を有し、これにより不必要な時間が集中するステップを回避するとともに、排除可能な如何なるステップも回避し、付加的な製造設備を回避することができるようにするのが望ましい。   In addition to the number of manufacturing steps, the time for each unit operation in the manufacturing operation also affects the optical communication module production cost. The impact of each unit work time is particularly important when a relatively large amount of production is desired, that is, it requires additional equipment to maintain that amount when more production is needed Because. Thus, the manufacturing process has a relatively quick output through state-of-the-art processes, thereby avoiding unnecessary time-intensive steps and avoiding any steps that can be eliminated, and additional manufacturing equipment It is desirable to be able to avoid this.

表1:1週間当たりの生産時間数の関数として、目標週間生産量を達成するのに要する任意の1作業に関する作業タクトタイム Table 1: Work takt time for any one operation required to achieve the target weekly production as a function of production hours per week

例えば、表1につき説明すると、或る作業の容量はその作業のタクトタイムによって制限される。したがって、生産プロセス全体の容量は、最大タクトタイムを有する作業によって制限される。図1に示すプロセスからは、最大タクトタイムは約15分であり、この時間は、1シフトあたり7時間とした3シフトを1週間7日として採用した場合であっても、30,000個の生産量を達成することが不可能な時間の長さである。表1が示すように、そのプロセスのためのタクトタイムを減少することは、光通信モジュールを大規模に市場投入するに必要な大量生産を達成する上で重要である。   For example, referring to Table 1, the capacity of a certain work is limited by the tact time of the work. Therefore, the capacity of the entire production process is limited by the work having the maximum tact time. From the process shown in FIG. 1, the maximum tact time is about 15 minutes, and this time is 30,000 pieces even when 3 shifts of 7 hours per shift are adopted as 7 days a week. It is the length of time that it is impossible to achieve production. As Table 1 shows, reducing the tact time for the process is important in achieving the mass production required to bring optical communication modules to market on a large scale.

一実施形態において、改良した光通信モジュールは従来既知の光通信モジュールに比べて生産に要する部品点数を削減する(例えば、改良した光通信モジュールを生産する総部品点数は、これまで入手可能な光通信モジュールを生産する総部品点数よりも少ない)。   In one embodiment, the improved optical communication module reduces the number of parts required for production compared to previously known optical communication modules (e.g., the total number of parts to produce an improved optical communication module is the optical components available so far). Less than the total number of parts producing the communication module).

他の実施形態において、改良した光通信モジュールは、ダイオードレーザーチップをFACレンズ及び光ファイバの双方と一緒に搬入するのに要する製造ステップの総数を減少するプロセスによって生産する。随意的に、改良した光通信モジュールは、ダイオードレーザーチップをFACレンズ及び光ファイバの双方に整列させるのに必要な1つ又は複数の製造ステップを排除するプロセスによって生産する。   In other embodiments, the improved optical communication module is produced by a process that reduces the total number of manufacturing steps required to carry the diode laser chip along with both the FAC lens and the optical fiber. Optionally, the improved optical communication module is produced by a process that eliminates one or more manufacturing steps necessary to align the diode laser chip with both the FAC lens and the optical fiber.

さらに他の実施形態では、FACレンズ及び/又は光ファイバの能動的な整列の要件が排除される。再び図1につき説明すると、作業105におけるFACレンズの整列及び作業112における光ファイバの整列はステーション4A及び10Aで行い、双方ともに最大のタクトタイムである約15分を要する。能動的整列要件の排除は、シリコン半導体材料の結晶学的特性を利用することによって、達成することができる。より具体的には、シリコン半導体材料は既知の優先的平面を有するダイヤモンド立方体構造を有する。   In still other embodiments, the requirement for active alignment of FAC lenses and / or optical fibers is eliminated. Referring again to FIG. 1, FAC lens alignment in operation 105 and optical fiber alignment in operation 112 are performed at stations 4A and 10A, both of which require a maximum tact time of approximately 15 minutes. Elimination of the active alignment requirement can be achieved by taking advantage of the crystallographic properties of the silicon semiconductor material. More specifically, the silicon semiconductor material has a diamond cubic structure with a known preferential plane.

シリコン半導体材料の優先的平面を使用して、光学的コンポーネントの整列に利用することができる輪郭のはっきりした表面(例えば、チャネル及び/又はv溝の形状的特徴)、を形成することができる。能動的整列の排除は、光通信モジュールを製造するに必要な製造ステップの数を削減し、これはすなわちFACレンズの能動的整列(作業105)を排除し、及び/又は、光ファイバの能動的整列(作業112)を排除するからである。能動的整列の排除は、光学的素子の位置決め(例えば、整列)及び取り付け、またそれらの所望位置(例えば、好ましい位置又は最適位置)への配置に要するタクトタイムを大幅に減少させる。   A preferential plane of silicon semiconductor material can be used to form a well-defined surface (eg, channel and / or v-groove shape features) that can be utilized for alignment of optical components. The elimination of active alignment reduces the number of manufacturing steps required to manufacture the optical communication module, ie it eliminates active alignment of the FAC lens (operation 105) and / or active optical fiber. This is because the alignment (operation 112) is eliminated. The elimination of active alignment greatly reduces the tact time required to position (eg, align) and attach optical elements and place them in a desired position (eg, a preferred or optimal position).

図2は、本明細書に記載した革新的な特徴の少なくともいくつかを組み込んだ光通信モジュール製造プロセスフロー200を示す。図2に示すプロセスフローは、図1に示すプロセスフローに比べて、作業総数、ステーション総数、ワイヤボンディング作業数及びテスト作業総数が削減されている。さらに、図2に示すプロセスは、いかなる能動的整列ステップの必要性をも排除する。この結果、図2に示す光通信モジュール製造プロセスフローは、図1につき説明した従来のプロセスよりも総タクトタイムが大幅に少なくなる。   FIG. 2 illustrates an optical communication module manufacturing process flow 200 that incorporates at least some of the innovative features described herein. In the process flow shown in FIG. 2, the total number of operations, the total number of stations, the number of wire bonding operations, and the total number of test operations are reduced compared to the process flow shown in FIG. Furthermore, the process shown in FIG. 2 eliminates the need for any active alignment step. As a result, the optical communication module manufacturing process flow shown in FIG. 2 significantly reduces the total tact time compared to the conventional process described with reference to FIG.

再び図2につき説明すると、ステーション1Bにおいてシリコン製マザーボード組立体は、1つ又は複数のチャネルに特徴があるシリコン製マザーボードを準備して、(作業201で)レーザーダイオードチップ、(作業202で)サーミスタ、(作業203で)FACレンズ及び(作業204で)クリーブした剥き出しファイバを、1つ又は複数のチャネルに特徴があるシリコン製マザーボードに取り付けることによって形成される。つぎに図3Aにつき説明すると、シリコン製のマザーボード302を形成するため、1つ又は複数のチャネル315をシリコンウエハの少なくとも一部分にエッチングする。   Referring again to FIG. 2, at station 1B, the silicon motherboard assembly provides a silicon motherboard characterized by one or more channels, a laser diode chip (at operation 201), and a thermistor (at operation 202). The FAC lens (in operation 203) and the exposed cleaved fiber (in operation 204) are attached to a silicon motherboard characterized by one or more channels. Referring now to FIG. 3A, one or more channels 315 are etched into at least a portion of the silicon wafer to form a silicon motherboard 302.

チャネルは様々な形態にすることができる。一実施形態において、v溝特徴部315はシリコンウエハを所望の向きに指向させ、またシリコンウエハにおける光学的素子のための所望位置を、マスキング及び化学エッチングを介してエッチングすることによって形成する。より具体的には、約500ミクロン〜約1000ミクロンの範囲内の厚さを有するシリコンウエハを、チャネル用のv溝315がシリコンウエハの長手方向平面及び/又は短手方向平面に整列するよう指向させる。より具体的には、一実施形態において、レンズ用のv溝311はシリコンウエハの短手方向平面の方向に沿ってエッチングされるとともに、光学的整列用のv溝312、バッファ用のv溝313及びウィッキング用のv溝314をすべてシリコンウエハの長手方向平面の方向に沿ってエッチングされている。随意的に、1つ又は複数のウィッキング用のv溝314を短手方向平面の方向にエッチングすることができる。それぞれの向きに沿って(例えば、長手方向平面及び短手方向平面に沿って)v溝を整列させることは、v溝形状を化学エッチングにより得ることを可能にする。   Channels can take a variety of forms. In one embodiment, the v-groove feature 315 is formed by directing the silicon wafer in a desired orientation and etching the desired location for optical elements in the silicon wafer via masking and chemical etching. More specifically, a silicon wafer having a thickness in the range of about 500 microns to about 1000 microns is oriented so that the channel v-groove 315 is aligned with the longitudinal plane and / or the lateral plane of the silicon wafer. Let More specifically, in one embodiment, the v groove 311 for the lens is etched along the direction of the short side plane of the silicon wafer, and the v groove 312 for optical alignment and the v groove 313 for buffer are used. All of the wicking grooves 314 are etched along the longitudinal plane of the silicon wafer. Optionally, one or more wicking v-grooves 314 can be etched in the direction of the transverse plane. Aligning the v-groove along each orientation (eg, along the longitudinal and transversal planes) allows the v-groove shape to be obtained by chemical etching.

化学エッチングをシリコンウエハに使用する場合、得られる整列公差は、数ミクロンのオーダーであり、したがって、用途によっては十分適する。この精度は、v溝315をシリコンの結晶レベルで形成し、また結晶格子が十分に規定されかつ精密であるために可能である。v溝の任意の僅かな狂いは、v溝の位置を画定するためにシリコンウエハをマスキングするステップにおける乱れであり、また狂いの公差は数マイクロメートル(例えば、約2又は約3マイクロメートル)内に保持することができる。より具体的には、整列用の特徴部及び/又はv溝315の形態は、シリコンウエハにおいて、エッチング剤に対して耐性がある層で優先的にマスキングされた露出表面を湿式化学エッチングによって形成することができる。   When chemical etching is used on silicon wafers, the resulting alignment tolerances are on the order of a few microns and are therefore well suited for some applications. This accuracy is possible because the v-groove 315 is formed at the silicon crystal level and the crystal lattice is well defined and precise. Any slight deviation of the v-groove is a disturbance in the step of masking the silicon wafer to define the position of the v-groove, and the tolerance of the deviation is within a few micrometers (eg, about 2 or about 3 micrometers). Can be held in. More specifically, the alignment feature and / or the shape of the v-groove 315 form an exposed surface in the silicon wafer that is preferentially masked with a layer that is resistant to the etchant by wet chemical etching. be able to.

シリコンウエハをエッチングするのに用いてもよい好適なエッチング用の化学物質としては、例えば水酸化カリウム(KOH)があり、また好適なマスキング剤としては、例えばエッチング剤に対して耐性を示す二酸化シリコン(SiO)がある。シリコンウエハのマスキングしていない部分は化学エッチング剤に露出される。v溝315の形態は、シリコンウエハの露出表面に存在する電子対結合の未結合手対を化学にエッチングする結果として生ずる。エッチングはシリコンウエハの表面にわたり、エッチングの化学物質が電子対結合の未結合手対のない表面に達するまで継続する。電子対結合の未結合手対のない表面は、結晶構造の表面(111)として定義され、その構造は、電子対結合の未結合手対を持たず、それ故に、化学エッチング剤に対する耐性があり、シリコンウエハ表面にわたる(例えば、図3A及び3Bに示すy方向への)更なるエッチングを制限し、それ故に、v溝の特徴部の形態を作り出す。v溝の形状及びサイズはマスキング層における開口部によって画定される。 A suitable etching chemical that may be used to etch a silicon wafer is, for example, potassium hydroxide (KOH), and a suitable masking agent is, for example, silicon dioxide that is resistant to the etchant. (SiO 2 ). The unmasked portion of the silicon wafer is exposed to a chemical etchant. The shape of the v-groove 315 is a result of chemically etching the unpaired pairs of electron pairs present on the exposed surface of the silicon wafer. Etching continues across the surface of the silicon wafer until the etching chemistry reaches a surface with no unpaired pairs of electron pairs. The surface without electron-bonded unbonded pairs is defined as the surface (111) of the crystal structure, and the structure does not have electron-bonded unbonded pairs and is therefore resistant to chemical etchants. Limiting further etching across the silicon wafer surface (eg, in the y-direction shown in FIGS. 3A and 3B), thus creating a v-groove feature morphology. The shape and size of the v-groove is defined by the opening in the masking layer.

v溝は約2又は約3マイクロメートルの範囲内の所望の公差を有する。v溝公差は、マスク規定及びシリコン結晶自体の特性の組み合わせの結果として得られる。シリコンに形成したv溝は、例えば、FACレンズ及び光ファイバの能動的な光学的整列を可能にする。   The v-groove has a desired tolerance in the range of about 2 or about 3 micrometers. The v-groove tolerance is obtained as a result of a combination of the mask definition and the properties of the silicon crystal itself. V-grooves formed in silicon allow for active optical alignment of, for example, FAC lenses and optical fibers.

随意的に、図2につき説明するが、作業201で準備するシリコン製のマザーボードは、標準的なシリコンウエハプロセスに基づいて製造されるシリコン製のマザーボードの形式とする。シリコン製マザーボードは、他の金属化(例えば、金属化トレース)を施すことができ、例えば、これに限定しないが、ダイオードレーザーチップ、サーミスタ等の他のコンポーネントを取り付けることができるようにする。さらに、マイクロベンチに電気的トレースを設けて電気的接続性を容易にすることができる。金属化は、熱放熱性能を促進及び改善するよう設計することができる。   Optionally, referring to FIG. 2, the silicon motherboard prepared in operation 201 is in the form of a silicon motherboard manufactured based on a standard silicon wafer process. The silicon motherboard can be provided with other metallizations (eg, metallized traces), such as, but not limited to, other components such as diode laser chips, thermistors, etc. can be attached. Furthermore, electrical connectivity can be facilitated by providing electrical traces on the microbench. Metallization can be designed to promote and improve heat dissipation performance.

一実施形態において、以下に図3Aにつき説明すると、シリコン製のマザーボード302は、シリコン基板の頂面306及び/又は底面に1つ又は複数の金属化部を有する。金属化部は、例えば金とすることができる。金属化部は、はんだ付け及びAuワイヤ接合の双方を可能とする。一実施形態において、金属化部は、Tiのベース層、Ptの第2層、及びAuの第3層を有するものとし、各層は、約500オングストローム〜約8000オングストローム、又は、約1000オングストローム〜約5000オングストロームの範囲内の厚さを有するものとすることができる。好適な金属化部は、約425゜Cの温度に約15分間耐えて、ピーリング及び/又はブリスタリングを生じないものにすべきである。1つ又は複数の金属化部は、シリコン製のマザーボード302の頂面306に配置した1つ又は複数の金属化トレース326の形式とすることができる。   In one embodiment, referring to FIG. 3A below, the silicon motherboard 302 has one or more metallizations on the top surface 306 and / or bottom surface of the silicon substrate. The metallization part can be gold, for example. The metallization allows both soldering and Au wire bonding. In one embodiment, the metallization includes a Ti base layer, a Pt second layer, and an Au third layer, each layer being about 500 angstroms to about 8000 angstroms, or about 1000 angstroms to about 1000 angstroms. It may have a thickness in the range of 5000 Angstroms. A suitable metallization should be able to withstand a temperature of about 425 ° C. for about 15 minutes without causing peeling and / or blistering. The one or more metallizations may be in the form of one or more metallization traces 326 disposed on the top surface 306 of the silicon motherboard 302.

レーザーダイオードチップ及びサーミスタ324を取り付けるのに使用するはんだは、シリコン製のマザーボード302上に予め堆積させておくことができる。より具体的には、予堆積はんだ323は、シリコン製のマザーボード302の頂面306側に配置した金属化部(例えば、金属化トレース326)の頂面に堆積させることができる。予堆積はんだ323は、例えば80Au20Snとすることができる。一実施形態において、予堆積はんだ323は、はんだバリア322(例えば、Pt層)の頂面に配置し、このはんだバリア322は、予堆積はんだ323をその下層にある金属化層(例えば、Au層又は金属化トレース326)から分離かつ絶縁する。   The solder used to attach the laser diode chip and the thermistor 324 can be pre-deposited on the silicon motherboard 302. More specifically, the pre-deposited solder 323 can be deposited on the top surface of a metallization (for example, metallization trace 326) disposed on the top surface 306 side of the silicon motherboard 302. The pre-deposited solder 323 can be, for example, 80Au20Sn. In one embodiment, pre-deposited solder 323 is disposed on the top surface of solder barrier 322 (eg, a Pt layer), which solder barrier 322 has a metallization layer (eg, an Au layer) underlying it. Alternatively, separate and insulate from metallized trace 326).

一実施形態において、金属化ベース層をAu(例えば、金属化トレース326)とし、第2層をPtから形成して約1500オングストロームの厚さとしたはんだバリア層とし、第3層は80Au20Snから形成して約3ミクロン〜約7ミクロンの厚さとしたはんだ層とする。各金属化トレース326(例えば、各Auパッド領域)は、他の金属化トレース326から電気的に絶縁することができ、この絶縁は、非導電性のシリコン(代表的には約500ミクロンの厚さ)又は個別の下側にある絶縁層のいずれかを使用することによって行う。個別の下側にある絶縁層は厚くし過ぎないようにすべきである。シリコン製のマザーボード302を経てレーザーダイオードによって発生する熱の熱伝導を抑制する厚さは回避すべきである。下側にある絶縁層の好適な厚さは、約300オングストローム〜5000オングストロームの範囲内とする。シリコンは、130W/m‐Kから180W/m‐Kの範囲内又は約150W/m‐Kの熱伝導性を有する。驚くべきことに、シリコンの熱伝導は、ダイオードレーザーのヒートシンク用に使用する代表的な材料の熱伝導よりも低い。ダイオードレーザーのヒートシンク用に使用する代表的な材料としては、以下に限定しないが、BeO,WCu,及びCuがあり、これら材料は、約150W/m‐K〜約400W/m‐Kの範囲内の熱伝導を有する。このような代表的なヒートシンク材料は、現在入手可能な技術(図1につき本発明の背景で説明した)によって形成した、現在入手可能な高光強度デバイスに利用される。   In one embodiment, the metallized base layer is Au (eg, metallized trace 326), the second layer is a solder barrier layer formed from Pt to a thickness of about 1500 angstroms, and the third layer is formed from 80Au20Sn. And a solder layer having a thickness of about 3 microns to about 7 microns. Each metallized trace 326 (eg, each Au pad region) can be electrically isolated from the other metallized traces 326, and this insulation is made of non-conductive silicon (typically about 500 microns thick). Or by using an individual underlying insulating layer. The individual underlying insulating layer should not be too thick. Thicknesses that inhibit the heat conduction of the heat generated by the laser diode through the silicon motherboard 302 should be avoided. The preferred thickness of the underlying insulating layer is in the range of about 300 angstroms to 5000 angstroms. Silicon has a thermal conductivity in the range of 130 W / mK to 180 W / mK or about 150 W / mK. Surprisingly, the heat conduction of silicon is lower than that of typical materials used for diode laser heat sinks. Typical materials used for diode laser heat sinks include, but are not limited to, BeO, WCu, and Cu, which are in the range of about 150 W / mK to about 400 W / mK. It has the heat conduction. Such representative heat sink materials are utilized in currently available high light intensity devices formed by currently available technology (described in the context of the present invention with respect to FIG. 1).

しかしながら、シリコンの厚さは500ミクロンのオーダーであり、金属化は製造の一部として適用することができ、本明細書で開示する技術によれば、現在入手可能な光通信モジュール(例えば、図1につき上述した、製造中に能動的整列を必要とする光通信モジュール)を作製するときに生ずるよりも全体的に低い熱抵抗性を生ずる。現在入手可能な高光強度デバイスに使用される代表的な材料に取り付けたデバイスは、一般的に約10W/K〜約13W/Kの熱抵抗性を有する。対照的に、少なくとも部分的には、使用するマザーボードの厚さ及び金属化に起因して、v溝を採用する本発明により改善した光通信モジュールは、約5W/K〜約7W/Kの範囲内の熱抵抗性を有することができる。したがって、光強度における大幅な改善は、v溝を採用する改善した光通信モジュールに存在する、能動的整列に特徴がある現在入手可能な光通信モジュールの熱抵抗性(例えば、約10W/K〜約13W/Kの範囲内)よりも低い熱抵抗性(例えば、約5W/K〜約7W/Kの範囲内)に起因して得られる。   However, the thickness of silicon is on the order of 500 microns, and metallization can be applied as part of manufacturing, and according to the techniques disclosed herein, currently available optical communication modules (eg, Resulting in an overall lower thermal resistance than occurs when producing optical communication modules that require active alignment during manufacture, as described above for one. Devices attached to typical materials used in currently available high light intensity devices generally have a thermal resistance of about 10 W / K to about 13 W / K. In contrast, due to the thickness and metallization of the motherboard used, the improved optical communication module employing the v-groove in the range of about 5 W / K to about 7 W / K, at least in part. Can have a thermal resistance within. Thus, a significant improvement in light intensity is present in the thermal resistance of currently available optical communication modules characterized by active alignment (eg, about 10 W / K˜ Resulting from a lower thermal resistance (e.g., in the range of about 5 W / K to about 7 W / K).

再び図2及び図3Aにつき説明すると、ステーション1Bでは、シリコン製のマザーボード302は、シリコン基板の頂面306上に金属化部(例えば、Au金属化部又は金属化トレース326)を有する。ある実施形態において、金属化部(例えば、金属化トレース326)はv溝115にオーバーラップしない。図2において、作業201中レーザーダイオード320は、シリコン製のマザーボード302の頂面における金属化トレース326上に配置した予堆積はんだ323にダイ接着される。   Referring again to FIGS. 2 and 3A, at station 1B, the silicon motherboard 302 has a metallization (eg, Au metallization or metallization trace 326) on the top surface 306 of the silicon substrate. In some embodiments, the metallization (eg, metallization trace 326) does not overlap the v-groove 115. In FIG. 2, during operation 201, laser diode 320 is die bonded to pre-deposited solder 323 located on metallized trace 326 on the top surface of silicon motherboard 302.

作業201で取り付けたレーザーダイオード320は、例えば、レーザーダイオードチップとすることができる。レーザーダイオードチップは、例えば、高出力単一エミッタマルチモード半導体レーザーダイオード、高光強度マルチモード半導体レーザーダイオードとすることができ、又はアレイ形式のマルチエミッタチップとすることができる。このアレイは、限定しないが、10mm幅の程度の大きさであり、また2つ又はそれ以上の個数のエミッタを有するものとすることができる。一実施形態において、レーザーダイオードチップは、そのAR側(例えば、反射防止コーティング側)をHR側(例えば、高反射コーティングされた側)から区別できるタイプに分類される。レーザーダイオードチップは、約400μm〜約12mmの範囲内のチップ幅を有し、またチップ長さ(キャビティ長さ)が約500μm〜約5000μmの範囲内であるものとすることができる。   The laser diode 320 attached in operation 201 can be, for example, a laser diode chip. The laser diode chip can be, for example, a high power single emitter multimode semiconductor laser diode, a high light intensity multimode semiconductor laser diode, or an array type multiemitter chip. This array is not limited, but can be as large as 10 mm wide and can have two or more emitters. In one embodiment, the laser diode chip is categorized into a type that can distinguish its AR side (eg, anti-reflective coating side) from the HR side (eg, highly reflective coated side). The laser diode chip may have a chip width in the range of about 400 μm to about 12 mm, and the chip length (cavity length) may be in the range of about 500 μm to about 5000 μm.

レーザーダイオードの厚さ又は深さは、約50μm〜約500μmとすることができる。一実施形態において、レーザーダイオードチップは、p側を下向き(例えば、アノード側を下向き)にしてシリコン製のマザーボード302の頂面306にダイ接着することができる。ダイ接着金属化部は、はんだ(例えば、予堆積はんだ323)、例えば、80Au20Snはんだとすることができ、他の適当なはんだとしては、以下に限定しないが、AuGe、またAuSn,Sn,SnAg等の他の合金がある。一実施形態において、80Au20Snはんだを使用し、アノード側(p側)を下向きにしてレーザーダイオード320をシリコン製のマザーボード302に取り付けることは、高光強度を伝達する要件を補助する。一実施形態において、レーザーダイオード用の予堆積はんだパッド323は、少なくともレーザーダイオード320のある将来のサイズを変更できる寸法にし、より具体的には、レーザーダイオード320用のはんだパッド323は、突出チップサイズよりも、より大きい幅又はより長い長さにすることができる。一実施形態において、はんだパッド323は、突出レーザーダイオードチップの寸法の約1倍〜約3倍の範囲内の寸法とする。   The thickness or depth of the laser diode can be from about 50 μm to about 500 μm. In one embodiment, the laser diode chip can be die bonded to the top surface 306 of the silicon motherboard 302 with the p side facing down (eg, the anode side facing down). The die bonding metallized portion can be a solder (eg, pre-deposited solder 323), for example, 80Au20Sn solder, and other suitable solders include, but are not limited to, AuGe, AuSn, Sn, SnAg, etc. There are other alloys. In one embodiment, using 80Au20Sn solder and attaching the laser diode 320 to the silicon motherboard 302 with the anode side (p side) facing down aids the requirement to transmit high light intensity. In one embodiment, the pre-deposited solder pad 323 for the laser diode is dimensioned to allow at least some future size change of the laser diode 320, and more specifically, the solder pad 323 for the laser diode 320 has a protruding chip size. Can be of greater width or longer length. In one embodiment, the solder pad 323 has a size in the range of about 1 to about 3 times the size of the protruding laser diode chip.

一実施形態において、フラックスフリーの取り付けプロセスを使用して、出射面に対する汚染及び/又は損傷を最小化及び/又は回避する。一実施形態において、ダイ接着レーザーダイオードは、高光強度をもたらすことができる。例えば、ダイ接着金属化部(例えば、金属化トレース326)は、レーザーダイオード320に対する動作電流を5アンペアまで維持する必要がある。一実施形態において、ダイ接着金属化部は、レーザーダイオード320に対する動作電流の送給を5アンペア〜10アンペアまで維持する。   In one embodiment, a flux-free attachment process is used to minimize and / or avoid contamination and / or damage to the exit surface. In one embodiment, the die attach laser diode can provide high light intensity. For example, a die attach metallization (eg, metallization trace 326) needs to maintain an operating current for laser diode 320 up to 5 amps. In one embodiment, the die attach metallization maintains operating current delivery to the laser diode 320 from 5 amps to 10 amps.

依然として図3Aにつき説明すると、シリコン製のマザーボード302は、シリコン製のマザーボード302の頂面側306、例えばシリコン製のマザーボード302の頂面306に存在する金属化部(例えば、金属化トレース326)に取り付けたセンサ324(例えば、サーミスタのような温度センサ)を支持する。図2を参照する作業202において、サーミスタ324は、シリコン製のマザーボードにダイ接着され、より具体的には、サーミスタ324は、シリコン製のマザーボード302の頂面における金属化トレース326に配置した予堆積はんだ323にダイ接着される。サーミスタ324は温度センサとし、より具体的には、サーミスタ324は、その抵抗がその温度に従って変化する抵抗器とする。サーミスタ324は、シリコン製のマザーボード302の温度をモニタリングするメカニズムをなし、温度監視及び光通信モジュールの制御を可能とする。   Still referring to FIG. 3A, the silicon motherboard 302 is placed on the top side 306 of the silicon motherboard 302, eg, on a metallization (eg, metallization trace 326) present on the top surface 306 of the silicon motherboard 302. An attached sensor 324 (eg, a temperature sensor such as a thermistor) is supported. In operation 202 with reference to FIG. 2, the thermistor 324 is die bonded to a silicon motherboard, and more specifically, the thermistor 324 is pre-deposited on a metallized trace 326 on the top surface of the silicon motherboard 302. A die is bonded to the solder 323. The thermistor 324 is a temperature sensor, and more specifically, the thermistor 324 is a resistor whose resistance changes according to its temperature. The thermistor 324 provides a mechanism for monitoring the temperature of the silicon motherboard 302, and enables temperature monitoring and control of the optical communication module.

サーミスタ324は、限定しないが、約0゜C〜約80゜Cの範囲の温度、又は約10Kの温度を感知することができる抵抗範囲を有する。好適なサーミスタは、シリアルナンバーPN♯10K3CG3を含むベータサーム(Beta therm)社から入手可能である。このようなサーミスタは、例えば、Auを用いたワイヤボンディングに適している。   The thermistor 324 has a resistance range that can sense, but is not limited to, a temperature in the range of about 0 ° C. to about 80 ° C., or a temperature of about 10K. A suitable thermistor is available from Beta therm, including serial number PN # 10K3CG3. Such a thermistor is suitable for wire bonding using Au, for example.

図2及び図3A〜3Cにつき説明すると、作業203においてFACレンズ330はシリコン製のマザーボード302の組立体にエポキシ接着される。シリコン製のマザーボード組立体に配置した1つ又は複数のv溝315はレンズ用のv溝311であり、FACレンズ330をレーザーダイオード320(例えば、レーザーダイオードチップ)に光学的整列させることができる。このようにして、レンズ用のv溝311は、レーザーダイオード320からFACレンズ330への光出射の受動的な光学的整列を行う手段をなす。単にFACレンズ330をv溝311内に配置するという、受動的な方法で、FACレンズ330の光学的に整列させる。   2 and 3A-3C, in operation 203, the FAC lens 330 is epoxy-bonded to the assembly of the motherboard 302 made of silicon. The one or more v-grooves 315 disposed on the silicon motherboard assembly are v-grooves 311 for lenses, and the FAC lens 330 can be optically aligned with a laser diode 320 (eg, a laser diode chip). In this way, the lens v-groove 311 provides a means for passive optical alignment of light emission from the laser diode 320 to the FAC lens 330. The FAC lens 330 is optically aligned in a passive manner by simply placing the FAC lens 330 in the v-groove 311.

FACレンズ330は、例えば、光学的等級のサファイアを含む任意の多数の材料から作製したサファイア速軸コリメートレンズとすることができる。FACレンズを製造するのに適した他の材料は、限定しないが、他の等級材料、例えば、溶融シリカ、石英、又はゼオネックスCOP材料のような光学的プラスチック材料とすることができる。光学的等級サファイア材料は、c軸ランダム配向を有することができる。FACレンズを使用して、レーザーダイオード320からの光出射を光ファイバに結合する(作業205及び図3B,3Cにつき後述する)。選択したFACレンズ330は、不必要な伝送損失を回避しつつ光学的結合を生ずるよう選択されるべきである。例えば、望ましいFACレンズ330は光学的結合を最大化し、また伝送損失を最小化する。一実施形態において、FACレンズは、形状がほぼ円筒形(又は完全に円筒形)であるサファイアロッド型レンズを採用し、他の実施形態では、FACレンズとして採用するサファイアロッド型レンズは、少なくとも部分的に面取りし、断面が円形でなく、文字「D」に類似した断面のFACレンズとする。代案として、サファイアロッドの複数の部分を面取りする(例えば、断面が2つの互いに平行な側面を有し、これら側面を曲面で連結したものとする)ことができる。光学的シミュレーションを使用して所望のレンズ形状及び/又はレンズ位置を決定することができる。FAC直径は、限定しないが、約100ミクロン〜約300ミクロンの範囲内とすることができ、また長さは、光エネルギーのクリッピング(例えば、光エネルギーのブロッキング又は全体的又は部分的なカット)を防止するよう選択する。レンズの適切な長さは、限定しないが、約100ミクロン〜約6mmの範囲内とすることができる。一実施形態において、FACレンズは約0.200mmの直径、1mmより大きい長さとする。直径は固定とすることができるが、長さは必要に応じて拡張することができる。FACレンズ全体又は一部分は、フレネル損失を制御する(例えば、フレネル損失を制限及び/又は最小化する)コーティングで被覆することができる。例えば、一実施形態では、AR(反射防止コーティング)によりFACレンズの少なくとも一部分を被覆する。FACレンズに堆積させるARコーティングは、1KW/cmのエネルギー強度に耐え得るものとする。ARコーティングは、反射が無反射まで最小化するよう選択することができる。 The FAC lens 330 may be, for example, a sapphire fast axis collimating lens made from any number of materials including optical grade sapphire. Other materials suitable for manufacturing FAC lenses can be, but are not limited to, other grade materials, for example optical plastic materials such as fused silica, quartz, or ZEONEX COP materials. The optical grade sapphire material can have a c-axis random orientation. A FAC lens is used to couple the light emission from the laser diode 320 to the optical fiber (work 205 and FIGS. 3B and 3C will be described later). The selected FAC lens 330 should be selected to provide optical coupling while avoiding unnecessary transmission loss. For example, the desired FAC lens 330 maximizes optical coupling and minimizes transmission loss. In one embodiment, the FAC lens employs a sapphire rod type lens that is substantially cylindrical (or completely cylindrical) in shape, and in another embodiment, the sapphire rod type lens employed as the FAC lens is at least partially The FAC lens is chamfered and the cross section is not circular but has a cross section similar to the letter “D”. As an alternative, a plurality of portions of the sapphire rod can be chamfered (for example, the cross section has two parallel side surfaces and these side surfaces are connected by curved surfaces). Optical simulation can be used to determine the desired lens shape and / or lens position. The FAC diameter can be, but is not limited to, within the range of about 100 microns to about 300 microns, and the length can be optical energy clipping (eg, light energy blocking or total or partial cut). Choose to prevent. A suitable length for the lens is not limited, but can be in the range of about 100 microns to about 6 mm. In one embodiment, the FAC lens has a diameter of about 0.200 mm and a length greater than 1 mm. The diameter can be fixed, but the length can be expanded as needed. The entire or part of the FAC lens can be coated with a coating that controls Fresnel loss (eg, limits and / or minimizes Fresnel loss). For example, in one embodiment, at least a portion of the FAC lens is coated with AR (anti-reflection coating). The AR coating deposited on the FAC lens shall be able to withstand an energy intensity of 1 KW / cm 2 . The AR coating can be selected to minimize reflection to non-reflection.

ARコーティングは、レーザーダイオードで採用される波長範囲に従って選択し、レーザーダイオードが発射する所望の波長範囲内で反射を排除及び/又は最小化するようにすべきである。波長は、約360nm〜約3000nmの範囲内、又は約1390nm〜約1430nmの範囲内、又は約1200nm〜約1600nmの範囲内、又は約1460nm〜約1480nmの範囲内とすることができる。つぎに図3A及び3Bにつき説明すると、1つ又は複数のウィッキング用のv溝314をシリコン製のマザーボード302に配置する。ウィッキング用のv溝314は、種々のコンポーネントをシリコン製のマザーボード302の組立体に取り付けるのに使用する接着剤(例えば、エポキシ接着剤)又ははんだ材料のいかなる過剰部分をも受け入れることができる。シリコン製のマザーボード302に採用したウィッキング用のv溝は、過剰接着剤及び/又は過剰はんだ材料によって生ずる拡散が光学的コンポーネントに被さらない、レーザーダイオードに被さらない、及び/又は光ビームに干渉しないことを確実にする。   The AR coating should be selected according to the wavelength range employed by the laser diode so as to eliminate and / or minimize reflections within the desired wavelength range that the laser diode emits. The wavelength can be in the range of about 360 nm to about 3000 nm, or in the range of about 1390 nm to about 1430 nm, or in the range of about 1200 nm to about 1600 nm, or in the range of about 1460 nm to about 1480 nm. 3A and 3B, one or more wicking v-grooves 314 are disposed on the silicon motherboard 302. FIG. The wicking v-groove 314 can accept any excess of adhesive (eg, epoxy adhesive) or solder material used to attach the various components to the silicon motherboard 302 assembly. The wicking v-grooves employed in the silicon motherboard 302 do not cover the optical components, the laser diode, and / or the light beam due to diffusion caused by excess adhesive and / or excess solder material. Ensure that there is no interference.

つぎに図2につき説明すると、ステーション2Bは、作業205を含む光ファイバの準備を行い、光ファイバ(例えば、剥き出しファイバ)をクリーブする。作業205に従って採用することができる適当な光ファイバとしては、例えば、ラージコアマルチモード光ファイバ(MMF)がある。クリーブすることによって光ファイバを準備するタクトタイムは、約1分である。   Referring now to FIG. 2, station 2B prepares the optical fiber including operation 205, and cleaves the optical fiber (eg, bare fiber). A suitable optical fiber that can be employed according to operation 205 is, for example, a large core multimode optical fiber (MMF). The takt time for preparing an optical fiber by cleaving is about 1 minute.

適当な光ファイバは、約0.1〜約1.0の範囲内、又は0.2よりも大きい、又は0.22よりも大きい開口数(NA)を有することができる。適当な光ファイバとしては、ポリミクロ・テクノロジーズ(Poly micro Technologies)社から入手可能なラージコアマルチモード光ファイバがある。適当な光ファイバは、溶融シリカコアと、この溶融シリカコアの全体又は一部分を包囲するドープ処理溶融シリカクラッドと、及びこのドープ処理溶融シリカ被覆の全体又は一部分を包囲するバッファとを有するものとすることができる。適当なバッファとしては、例えば、アクリレートバッファ又はポリイミドバッファがある。ファイバは光吸収が低いものとすべきであり、適当なファイバは、例えば、低OHタイプ(例えば、低水酸化物タイプ)である。適当なファイバの1つは、例えば、超低OHコアを有するシリカ光ファイバである。光ファイバの物理的寸法は、v溝寸法に適合して適切な受動整列を可能とするように合わされる。一実施形態において、溶融シリカコアは約100ミクロン〜1mmの範囲内又は約150ミクロンの直径を有し、光ファイバは約105ミクロン〜又は約1.05mmの範囲内又は約165ミクロンの直径のクラッド部を有し、バッファは約200ミクロン〜又は1.2mmの範囲内又は約250ミクロンの外径を有するものとする。作業205中、剥き出しファイバのクリーブには、光ファイバの外径からバッファの少なくとも一部を除去することが含まれて臨界的な光学的整列を可能とする。クリーブ後、光ファイバはクリーブ部分を有し、このクリーブ部分において、コアはクラッド部分によってのみ包囲される。この光ファイバをv溝内に配置することによって、光通信モジュールとの受動的光整列が可能となる。つぎに図3A〜3Cにつき説明すると、光ファイバ340のクリーブ部分342及び未クリーブ部分344の双方をv溝315内に配置する。より具体的には、クリーブ部分342を光学的整列用のv溝312内に配置し、また未クリーブ部分344をバッファ用のv溝313内に配置する。光学的整列用のv溝312は光ファイバ340のクリーブ部分342の光学的整列を可能にする。バッファ用のv溝313は光ファイバ340の未クリーブ部分344を機械的に支持できるようにする。   Suitable optical fibers can have a numerical aperture (NA) in the range of about 0.1 to about 1.0, or greater than 0.2, or greater than 0.22. Suitable optical fibers include large core multimode optical fibers available from Poly micro Technologies. A suitable optical fiber may have a fused silica core, a doped fused silica cladding surrounding all or part of the fused silica core, and a buffer surrounding all or part of the doped fused silica coating. it can. Suitable buffers include, for example, acrylate buffers or polyimide buffers. The fiber should have low light absorption, and a suitable fiber is, for example, a low OH type (eg, a low hydroxide type). One suitable fiber is, for example, a silica optical fiber having an ultra low OH core. The physical dimensions of the optical fiber are tailored to match the v-groove dimensions to allow proper passive alignment. In one embodiment, the fused silica core has a diameter in the range of about 100 microns to 1 mm or about 150 microns, and the optical fiber has a cladding portion in the range of about 105 microns to or about 1.05 mm or about 165 microns. And the buffer should have an outer diameter in the range of about 200 microns to or 1.2 mm or about 250 microns. During operation 205, the bare fiber cleave includes removing at least a portion of the buffer from the outer diameter of the optical fiber to allow critical optical alignment. After cleaving, the optical fiber has a cleaved portion in which the core is surrounded only by the cladding portion. By disposing the optical fiber in the v-groove, passive optical alignment with the optical communication module becomes possible. Next, referring to FIGS. 3A to 3C, both the cleaved portion 342 and the uncleaved portion 344 of the optical fiber 340 are disposed in the v-groove 315. More specifically, the cleaved portion 342 is disposed in the v-groove 312 for optical alignment, and the uncleaved portion 344 is disposed in the v-groove 313 for buffer. The optical alignment v-groove 312 allows optical alignment of the cleaved portion 342 of the optical fiber 340. The buffer v-groove 313 allows the uncleaved portion 344 of the optical fiber 340 to be mechanically supported.

図2及び図3A〜3Cにつき説明すると、ステーション1Bでの作業204において、作業205でクリーブした剥き出し光ファイバを、v溝315にエポキシ取り付けする(例えば、クリーブ部分342を光学的整列用のv溝312内に配置し、また随意的に未クリーブ部分344をバッファ用のv溝313内に配置する)。ステーション1で生ずる4つの作業(例えば、作業201,202,203及び204)のタクトタイムは約3分である。ステーション1で行うこのシリコン製のマザーボード302の組立プロセスは、例えば、コンピュータチップ産業に容易に採用される標準的な多層シリコンウエハ生産プロセスに適合可能である。   2 and 3A-3C, in operation 204 at station 1B, the bare optical fiber cleaved in operation 205 is epoxy-attached to v-groove 315 (eg, cleave portion 342 is v-groove for optical alignment). 312 and optionally an uncleaved portion 344 is placed in the buffer v-groove 313). The tact time of the four operations (e.g. operations 201, 202, 203 and 204) occurring at station 1 is about 3 minutes. The assembly process of the silicon motherboard 302 performed at the station 1 can be adapted to, for example, a standard multilayer silicon wafer production process easily adopted in the computer chip industry.

シリコン製のマザーボード302は、ダイオードレーザー320と光学的コンポーネント(例えば、FACレンズ330及び光ファイバ340)との改良した取り付け用の特徴部を収容するよう構成する。シリコン製のマザーボード302の組立体内に配置した適当なv溝315はレーザーダイオード320を支持することができる。一実施形態において、ダイオードレーザー320をシリコン製のマザーボード302表面の頂面306、例えば、シリコン製のマザーボード302の頂面306に存在する金属化部(例えば、金属化トレース326)に取り付ける。ダイオードレーザー取り付け用の特徴部は、限定しないが、FACレンズ330を光ファイバ340に整列させるのに必要な特徴部を設けることであり、これによりFACレンズ330及び光ファイバ340が互いに整列し、同時に光学的な整列も生ずる。好適には、光学的コンポーネント(例えば、FACレンズ330及び光ファイバ340)用のこれら特徴部によれば、整列公差を2,3ミクロンの範囲内にすることができる。FACレンズ330及び光ファイバ340双方の受動的整列及び取り付けが可能である。このようにして、現在利用可能なプロセス(図1につき説明した)で、FACレンズを能動的に整列させ(ステーション4Aで約15分)、また光ファイバを能動的に整列させる(ステーション10Aで約15分〜約20分)これまで必要とされていた熟練技術及び時間が不要及び/又は大幅に軽減される。   The silicon motherboard 302 is configured to accommodate features for improved mounting of the diode laser 320 and optical components (eg, FAC lens 330 and optical fiber 340). A suitable v-groove 315 located within the silicon motherboard 302 assembly can support the laser diode 320. In one embodiment, the diode laser 320 is attached to a top surface 306 on the surface of the silicon motherboard 302, eg, a metallization (eg, metallization trace 326) present on the top surface 306 of the silicon motherboard 302. The features for mounting the diode laser include, but are not limited to, providing the features necessary to align the FAC lens 330 with the optical fiber 340 so that the FAC lens 330 and the optical fiber 340 are aligned with each other at the same time. Optical alignment also occurs. Preferably, these features for optical components (eg, FAC lens 330 and optical fiber 340) allow alignment tolerances to be in the range of a few microns. Passive alignment and attachment of both the FAC lens 330 and the optical fiber 340 are possible. In this manner, the FAC lens is actively aligned (about 15 minutes at station 4A) and the optical fiber is actively aligned (about 10 minutes at station 10A) in the currently available process (described with respect to FIG. 1). 15 minutes to about 20 minutes) The skill and time required so far is unnecessary and / or significantly reduced.

より具体的には、図2及び図3A〜3Cにつき説明すると、ダイオードレーザー320をシリコン製のマザーボード302に取り付けた後、FACレンズ330及び光ファイバ340を、シリコン製のマザーボード302にエッチングしたそれぞれに対応するv溝315(例えば、詳しくは、レンズ用のv溝311、光学的整列用のv溝312及び随意的なバッファ用のv溝313)内に配置し、それらがシリコン製のマザーボード302に対して、それぞれに対応するv溝315の位置で受動的に整列しまた取り付けられる。v溝315(例えば、レンズ用のv溝311及び光学的整列用のv溝312)は、レンズ330(例えば、FACレンズ)及び光ファイバ340の受動的整列を可能とするよう設計すべきであるが、同時にv溝315はp側(例えば、アノード側)を取り付けたレーザーダイオード320からの光出射に干渉しないようにすべきである。このことは、受動的に整列した光学的部材が配置されているとともに取り付けられている開口内に光出射が入射するようレーザーダイオード320を位置決めすることによって容易になる。   More specifically, referring to FIG. 2 and FIGS. 3A to 3C, after the diode laser 320 is attached to the silicon motherboard 302, the FAC lens 330 and the optical fiber 340 are etched into the silicon motherboard 302, respectively. The corresponding v-grooves 315 (for example, the v-groove 311 for the lens, the v-groove 312 for optical alignment, and the optional v-groove 313 for buffering) are arranged in the silicon mother board 302. In contrast, they are passively aligned and attached at the corresponding v-groove 315 locations. The v-groove 315 (eg, lens v-groove 311 and optical alignment v-groove 312) should be designed to allow passive alignment of the lens 330 (eg, FAC lens) and optical fiber 340. However, at the same time, the v-groove 315 should not interfere with the light emission from the laser diode 320 with the p-side (for example, the anode side) attached. This is facilitated by positioning the laser diode 320 such that the light emission is incident in an aperture in which passively aligned optical members are disposed and mounted.

図4は、光学的整列にある、レーザーダイオード320、レンズ330(例えば、FACレンズ)及び光ファイバ340(例えば、MMFファイバのクリーブ部分342)を含む光学系の側面図を示す。レーザーダイオード320の出力端部はレンズ330の外面からの整列距離(A)を有し、この整列距離(A)は約5ミクロン〜約30ミクロン、又は約10ミクロン〜20ミクロン、又は約15ミクロン〜約18ミクロンの範囲内、又は約17ミクロンとする。レンズ330は光ファイバ340の最も近接した端部からの整列距離(B)を有し、この整列距離(B)は約10ミクロン〜約200ミクロン、又は約50ミクロン〜約150ミクロン、又は約80ミクロン〜約120ミクロンの範囲内、又は約100ミクロンとする。   FIG. 4 shows a side view of an optical system that includes a laser diode 320, a lens 330 (eg, a FAC lens), and an optical fiber 340 (eg, a cleave portion 342 of an MMF fiber) in optical alignment. The output end of the laser diode 320 has an alignment distance (A) from the outer surface of the lens 330 that is about 5 microns to about 30 microns, or about 10 microns to 20 microns, or about 15 microns. In the range of about 18 microns, or about 17 microns. Lens 330 has an alignment distance (B) from the closest end of optical fiber 340, which is from about 10 microns to about 200 microns, or from about 50 microns to about 150 microns, or about 80. Within the range of microns to about 120 microns, or about 100 microns.

光ファイバレンズ330のクリーブ部分は、例えば、±1〜2ミクロンのオーダーの外径公差を有する。FACレンズ330は外径(C)を有し、外径(C)の公差は、例えば、±1〜2ミクロンのオーダーである。レーザーダイオード320はカソード側320a及びアノード側320bを有する。   The cleaved portion of the optical fiber lens 330 has an outer diameter tolerance on the order of ± 1 to 2 microns, for example. The FAC lens 330 has an outer diameter (C), and the tolerance of the outer diameter (C) is, for example, on the order of ± 1 to 2 microns. The laser diode 320 has a cathode side 320a and an anode side 320b.

図5は、レーザーダイオードからの光出射が、光学系側(例えば、FACレンズ330の側面及び光ファイバ340の側面)から描いたFACレンズ330及び光ファイバ340を経て結合する状況をシミュレートするレイトレースを示す。より具体的には、このレイトレースは、レーザーダイオードチップからの光出射321(例えば、速軸出射)がFACレンズ330及びMMFファイバである光ファイバ340のクリーブ部分342を通過するシミュレーションを示し、これらすべての部分は、例えば、図3Aにつき説明したような、レンズ用のv溝311及び光学的整列用のv溝312を採用することによって受動的に整列する。一実施形態において、図4及び図5に示すように、レイトレースは、レーザーダイオード320からの光出射321を示し、レーザーダイオード320はFACレンズ330から約17ミクロンの整列距離(A)を有する。さらに、レイトレースはFACレンズ330からの光出射も示しており、このFACレンズ330は光ファイバ340の最も近接する端部(例えば、光ファイバ340のクリーブ部分342の端部)から約80ミクロンの整列距離(B)を有する。光出射はFACレンズ330を出るとき屈曲し、光出射の屈曲度はFACレンズ330に起因する。この後、光出射は光ファイバ340に結合される。   FIG. 5 shows a rate that simulates a situation in which light emission from a laser diode is coupled through the FAC lens 330 and the optical fiber 340 drawn from the optical system side (for example, the side surface of the FAC lens 330 and the side surface of the optical fiber 340). Show the race. More specifically, this ray trace shows a simulation where light emission 321 (eg, fast axis emission) from a laser diode chip passes through a FAC lens 330 and a cleave portion 342 of an optical fiber 340 that is an MMF fiber. All parts are passively aligned, for example, by employing a v-groove 311 for the lens and a v-groove 312 for optical alignment as described with respect to FIG. 3A. In one embodiment, as shown in FIGS. 4 and 5, the ray trace shows light emission 321 from the laser diode 320, which has an alignment distance (A) of about 17 microns from the FAC lens 330. In addition, the ray trace also shows light emission from the FAC lens 330, which is approximately 80 microns from the closest end of the optical fiber 340 (eg, the end of the cleaved portion 342 of the optical fiber 340). Alignment distance (B). The light emission is bent when exiting the FAC lens 330, and the degree of bending of the light emission is due to the FAC lens 330. Thereafter, the light emission is coupled to the optical fiber 340.

レーザー出射に従って、z軸は、レーザーダイオードの光出射面から離れる光出射方向として定義される。一方、対応するx軸方向及びy軸方向は、それぞれ遅軸方向及び速軸方向である。したがって、図3A〜3C及び図4〜5に示す光学的レイアウトの整列公差の対応する定義は、以下のように定義し、整列公差を表2に示す。   According to laser emission, the z-axis is defined as the light emission direction away from the light emission surface of the laser diode. On the other hand, the corresponding x-axis direction and y-axis direction are the slow axis direction and the fast axis direction, respectively. Accordingly, the corresponding definitions of the alignment tolerances of the optical layouts shown in FIGS. 3A-3C and FIGS. 4-5 are defined as follows, and the alignment tolerances are shown in Table 2.

1. ΔXレーザーダイオードは、光ファイバ340に対してx軸方向におけるレーザーダイオード320の配置公差である。
2. ΔYレーザーダイオードは、ダイオードレーザー320の垂直方向公差である(これは、例えば、レーザーダイオード320のアノード側320aに配置したはんだ量によって影響を受ける)。
3. ΔA=ダイオードレーザー320とFACレンズ330との間の距離公差
4. ΔB=FACレンズ330と光ファイバ340との間の距離公差
5. ΔYレンズは、レンズ(例えば、FACレンズ330)の垂直方向公差である。
6. ΔYクリーブ光ファイバは、光ファイバ340の垂直方向公差である。
1. The ΔX laser diode is an arrangement tolerance of the laser diode 320 with respect to the optical fiber 340 in the x-axis direction.
2. ΔY laser diode is the vertical tolerance of the diode laser 320 (this is affected, for example, by the amount of solder placed on the anode side 320a of the laser diode 320).
3. ΔA = Tolerance of distance between diode laser 320 and FAC lens 330
4. ΔB = Tolerance of distance between FAC lens 330 and optical fiber 340
5. ΔY lens is the vertical tolerance of a lens (eg, FAC lens 330).
6. ΔY cleaved optical fiber is the vertical tolerance of optical fiber 340.

表2:5%及び10%の光伝送低下に対応する整列公差 Table 2: Alignment tolerances corresponding to 5% and 10% optical transmission degradation

つぎに図2及び図3Bにつき説明すると、ステーション3Bでの作業206中に、ステーション1Bでの作業201,202,203及び204中に形成したシリコン製のマザーボード302組立体をエンクロージャ502内に配置するとともに取り付けることができ、また、電気的回路板402をエンクロージャ502に取り付けることができる。   2 and 3B, during the operation 206 at the station 3B, the silicon motherboard 302 assembly formed in the operations 201, 202, 203, and 204 at the station 1B is arranged in the enclosure 502. And an electrical circuit board 402 can be attached to the enclosure 502.

図3A及び3Bにつき説明すると、ステーション1Bで形成したシリコン製のマザーボード302組立体は、ダイオードレーザー320、FACレンズ330及び光ファイバ340に特徴があり、それぞれ、レンズ用のv溝311と、FACレンズ330及び光ファイバ340(とくに、光ファイバのクリーブ部分342)を受動的に整列させる光学的整列用のv溝312とにより互いに好適に整列する。図2につき説明すると、ステーション3Bにおいて、ステーション1Bで形成したシリコン製のマザーボード302を作業206中にエンクロージャ502(例えば、ヒートシンク〔HS〕)にはんだ付けする。多数のうちの任意のはんだを使用してシリコン製のマザーボード302をエンクロージャ502にはんだ付けすることができ、はんだとしては、例えば、100Sn、SnAgベースの合金(例えば、97Sn3Ag)、又はリフロー温度範囲が100゜C〜400゜Cである任意のはんだがある。   3A and 3B, the silicon mother board 302 assembly formed in the station 1B is characterized by a diode laser 320, a FAC lens 330, and an optical fiber 340. The v-groove 311 for the lens and the FAC lens, respectively. 330 and optical fiber 340 (especially the cleaved portion 342 of the optical fiber) are preferably aligned with each other by an optical alignment v-groove 312 that passively aligns. Referring to FIG. 2, in the station 3B, the silicon mother board 302 formed in the station 1B is soldered to the enclosure 502 (for example, the heat sink [HS]) during the operation 206. Any number of any solder can be used to solder the silicon motherboard 302 to the enclosure 502, for example, 100Sn, SnAg based alloy (eg 97Sn3Ag), or a reflow temperature range. There are any solders that are between 100 ° C and 400 ° C.

電気的回路板402は多数の方法に従って形成することができる。例えば、電気的回路板402は、金属化トレース326を有する厚みのあるフィルム又は金属化セラミックとすることができ、外部電源に及び/又は外部電源からシリコン製のマザーボード302に1つ又は複数のワイヤボンディング405を介して電流を伝送する。金属化トレース326は、例えば、Cu及び/又はAuを含む多数の導電性材料のうちの任意なものから形成することができる。代案として、電気的回路板402は、標準的銅クラッドPCBボード(プリント回路板)を形成するのに使用する技術に従って形成することができる。   The electrical circuit board 402 can be formed according to a number of methods. For example, the electrical circuit board 402 can be a thick film or metallized ceramic with metallized traces 326 and one or more wires to an external power source and / or from an external power source to the silicon motherboard 302. Current is transmitted through bonding 405. The metallized trace 326 can be formed from any of a number of conductive materials including, for example, Cu and / or Au. Alternatively, the electrical circuit board 402 can be formed according to the technique used to form a standard copper clad PCB board (printed circuit board).

電気的回路板は、アノードトレース426A及びカソードトレース426Bを有することができる。アノードトレース426A及びカソードトレース426Bにおける銅の領域及び厚さは重要であり、これはすなわち、電気的回路板402の目的は、アノードワイヤ416A及びカソードワイヤ416Bからシリコン製のマザーボード302に対してできるだけ多量のエネルギーを伝送し、電気的損失(例えば、直列抵抗)を最小化し、ひいては光通信モジュールからの付加的な放熱を最小化するためである。ある実施形態において、アノードトレース426A及びカソードトレース426Bは、はんだバリアを有し、アノードトレース426A及びカソードトレース426Bの所定領域にはんだがウィッキングするのを防止する。アノードワイヤ416Aはレーザーダイオードチップ320に電気を供給する。レーザーダイオード320はポジティブ側を下向き(アノード側320Aを下向き)にして予堆積したはんだ323上に取り付け、このはんだ323は、シリコン製のマザーボード320に配置したアノードトレース426A(例えば、Auアノードトレース)の頂面に堆積させる。レーザーダイオード320のネガティブ側(例えば、カソード側320B)はシリコン製のマザーボード302に配置したカソードトレース426Bにワイヤボンディング(1つ又は複数のワイヤボンド405により)する。電気的回路板402のアノードトレース426Aはシリコン製のマザーボード302に配置したアノードトレース426Aに1つ又は複数のワイヤボンド405により接続し、また同様に電気的回路板402のカソードトレース426Aをシリコン製のマザーボード302に配置したカソードトレース426Aに1つ又は複数のワイヤボンド405により接続する。適当なワイヤボンディングは、例えば、Au,Al又は類似の材料を含む多数の材料のうちの任意なものによって行うことができる。   The electrical circuit board can have an anode trace 426A and a cathode trace 426B. The copper area and thickness in the anode trace 426A and cathode trace 426B is important, that is, the purpose of the electrical circuit board 402 is as large as possible from the anode wire 416A and cathode wire 416B to the silicon motherboard 302. This is to minimize the electrical loss (for example, series resistance) and, in turn, the additional heat radiation from the optical communication module. In certain embodiments, the anode trace 426A and cathode trace 426B have a solder barrier to prevent solder wicking in certain areas of the anode trace 426A and cathode trace 426B. The anode wire 416A supplies electricity to the laser diode chip 320. Laser diode 320 is mounted on pre-deposited solder 323 with the positive side facing down (anode side 320A facing down), which solder 323 is an anode trace 426A (eg, Au anode trace) located on a silicon motherboard 320. Deposit on top. The negative side (eg, cathode side 320B) of the laser diode 320 is wire bonded (by one or more wire bonds 405) to the cathode trace 426B located on the silicon motherboard 302. The anode trace 426A of the electrical circuit board 402 is connected to the anode trace 426A disposed on the silicon motherboard 302 by one or more wire bonds 405, and the cathode trace 426A of the electrical circuit board 402 is similarly made of silicon. One or more wire bonds 405 are connected to the cathode trace 426A disposed on the motherboard 302. Appropriate wire bonding can be performed by any of a number of materials including, for example, Au, Al, or similar materials.

ある実施形態において、電気的回路板402は1つ又は複数のワイヤを有し、サーミスタ324に達する。一実施形態において、2つのフィードバック制御ワイヤ410を設け、これらフィードバック制御ワイヤ410は電気的回路板402に配置した金属化トレース326を介してサーミスタ324に出入りし、電気的回路板402はワイヤボンド405を介してシリコン製のマザーボード302の金属化トレース326に接続する。2つのフィードバック制御ワイヤ410は、光通信モジュールの外部環境に接続し、シリコン製のマザーボード302組立体の温度を、サーミスタ324、温度感知する抵抗器(例えば、温度で抵抗が変化する)を介してモニタリング及び制御することができる。   In some embodiments, the electrical circuit board 402 has one or more wires and reaches the thermistor 324. In one embodiment, two feedback control wires 410 are provided and these feedback control wires 410 enter and exit the thermistor 324 via metallized traces 326 located on the electrical circuit board 402, and the electrical circuit board 402 is connected to the wire bond 405. To the metalized trace 326 of the silicon motherboard 302. The two feedback control wires 410 are connected to the external environment of the optical communication module, and the temperature of the silicon mother board 302 assembly is measured via the thermistor 324 and a temperature sensing resistor (for example, the resistance changes depending on the temperature). Can be monitored and controlled.

依然として図2につき説明すると、作業206中に電気的回路板402はエンクロージャ502にはんだ付けされる。電気的回路板402は、限定しないが、厚みのあるフィルム、金属化セラミック、又は適切な銅厚さ(例えば、約0.5OzCu〜約10OzCuの)を有するPCBボード(プリント回路板)とすることができる。多数のはんだのうちの任意なものを使用して電気的回路板402をエンクロージャ502にはんだ付けし、例えば、SnAgベースの合金、又は100゜C〜300゜Cの範囲内のリフロー温度を有する任意のはんだを使用することができる。はんだの代わりに又ははんだに付加して、他の取り付け材料を使用することができ、例えば、適当なエポキシを使用することができ、このエポキシとしては、例えば、アークティックシルバー(arctic silver)社のエポキシのような任意の銀ベースの熱エポキシがある。ステーション3Bのタクトタイムは約0.6分である。   Still referring to FIG. 2, during operation 206, electrical circuit board 402 is soldered to enclosure 502. The electrical circuit board 402 may be, but is not limited to, a thick film, a metallized ceramic, or a PCB board (printed circuit board) having a suitable copper thickness (eg, about 0.5 OzCu to about 10 OzCu). Can do. The electrical circuit board 402 is soldered to the enclosure 502 using any of a number of solders, for example, SnAg based alloys or any having a reflow temperature in the range of 100 ° C. to 300 ° C. Solder of can be used. Other mounting materials can be used instead of or in addition to solder, for example, suitable epoxies can be used, such as those from Arctic Silver, Inc. There are optional silver-based thermal epoxies such as epoxy. The takt time of station 3B is about 0.6 minutes.

さらに図3A及び3Bにつき説明すると、エンクロージャ502は、例えば、ヒートシンク(HS)とすることができる。適当なエンクロージャ502は、エンクロージャ502内に収容すべきコンポーネントのうちの1つ又は複数から熱を除去することができる。エンクロージャ502は、多数の材料のうちの任意なものから作製することができ、材料としては限定しないが、例えば、銅、WCu、アルミニウム、又は高い熱伝導性を有する任意の材料がある。エンクロージャ502は、シリコン製のマザーボード302の組立体用の機械的支持体となり、ダイオードレーザーチップ320によって生ずる熱の除去を容易にする熱特性をもたらし(ヒートシンクとして作用する)、及び/又はシリコン製のマザーボード302(レーザーダイオード320を含む)用の保護エンクロージャとして作用する。エンクロージャ502に使用するのに適当な材料としては、金属、例えば、限定しないがCu,WCu,Al又はこれらの組み合わせがある。エンクロージャ502は射出成形金属、例えば、射出成形銅とすることができる。適当なエンクロージャ502は金属複合材(例えば、金属と銅の複合材)から形成することができる。エンクロージャ502は、Alを含む任意な熱伝導性材料から形成することができる。エンクロージャ502は、(例えば、射出成形した)単一構造、又は2つ又はそれ以上の部分(例えば、多数の部分)から形成し、それらを組み合わせることができる。   Still referring to FIGS. 3A and 3B, the enclosure 502 may be, for example, a heat sink (HS). A suitable enclosure 502 can remove heat from one or more of the components to be contained within the enclosure 502. The enclosure 502 can be made from any of a number of materials, including but not limited to copper, WCu, aluminum, or any material having high thermal conductivity. The enclosure 502 provides mechanical support for the assembly of the silicon motherboard 302, provides thermal properties that facilitate the removal of heat generated by the diode laser chip 320 (acts as a heat sink), and / or is made of silicon. Acts as a protective enclosure for motherboard 302 (including laser diode 320). Suitable materials for use in the enclosure 502 include metals, such as but not limited to Cu, WCu, Al, or combinations thereof. The enclosure 502 can be an injection molded metal, such as injection molded copper. A suitable enclosure 502 can be formed from a metal composite (eg, a metal and copper composite). Enclosure 502 can be formed from any thermally conductive material including Al. The enclosure 502 can be formed from a single structure (eg, injection molded) or from two or more parts (eg, multiple parts) and can be combined.

エンクロージャは多様な形態とすることもできる。依然として、図3Aにつき説明すると、一実施形態において、エンクロージャ502はほぼ平らな底面506を有し、またこの底面506にほぼ直交するよう配置した壁508を有する。シリコン製のマザーボード302及び/又は電気的回路板402は、エンクロージャ502の底面506に(例えば、恒久的に、又は着脱可能に)、例えば、はんだ付け又は接着剤(例えば、エポキシ又は熱エポキシ)を含む適当な手段を介して取り付けることができる。   The enclosure can also take a variety of forms. Still referring to FIG. 3A, in one embodiment, the enclosure 502 has a generally flat bottom surface 506 and a wall 508 arranged to be substantially orthogonal to the bottom surface 506. A silicon motherboard 302 and / or electrical circuit board 402 is applied to the bottom surface 506 of the enclosure 502 (eg, permanently or removably), for example, by soldering or adhesive (eg, epoxy or thermal epoxy). It can be attached via any suitable means including.

エンクロージャは、さらに、互いに間隔を置いて配置した複数の位置決め素子を有し、マザーボードをエンクロージャ内の所望位置に係合できるようにする。例えば、図3Aに示すように、エンクロージャ壁508は、例えば、エンクロージャ502内でシリコン製のマザーボード302及び/又は電気的回路板402を適切に位置決めできるように、エンクロージャ502に対して、サイズ、形状及び/又は配置を決めることができる。適当な壁508は、シリコン製のマザーボード302及び/又は電気的回路板402をエンクロージャ502内で所望位置に確実に保持できるように、サイズ、形状及び/又は配置が決められる。エンクロージャ502の壁508はシリコン製のマザーボード302を案内し、これにより、例えば、図3A及び3Bに示すように、エンクロージャ502の壁508が、部分G1,G2,G3,G4,G5及びG6で湾曲し、これら湾曲部分は壁508における位置決め部分として作用し、シリコン製のマザーボード302がエンクロージャ502内で適切な位置に配置されるように補助する。適当な壁508は、エンクロージャ502内の適正位置に配置できるように、電気的回路板402同様、サイズ、形状及び/又は配置を決めることができる。このようにして、エンクロージャ502の部分(例えば、壁の部分及び/又は底面の部分)は、エンクロージャ502内に保持しようとする内容物(例えば、シリコン製のマザーボードの組立体)の位置決めを補助することができ、これにより他の対象物に対する適正な整列を達成することができる。エンクロージャの位置決め部分は構造的な安定性をもたらし、エンクロージャの内容物の所望整列に対する回転、シフト、又は他の乱れを回避する。このようにして、エンクロージャの構造的安定性は、シリコン製のマザーボードに配置した光学的素子を、レーザーダイオード出射に対する適正整列状態に維持することに役立つ。エンクロージャの位置決め部分は、エンクロージャ内の所定位置でマザーボードに係合することができる。   The enclosure further includes a plurality of positioning elements spaced from each other to allow the motherboard to engage a desired position within the enclosure. For example, as shown in FIG. 3A, the enclosure wall 508 is sized, shaped, and relative to the enclosure 502 so that, for example, the silicon motherboard 302 and / or the electrical circuit board 402 can be properly positioned within the enclosure 502. And / or the placement can be determined. Appropriate walls 508 are sized, shaped and / or arranged to ensure that the silicon motherboard 302 and / or electrical circuit board 402 can be securely held in the desired location within the enclosure 502. The wall 508 of the enclosure 502 guides the silicon motherboard 302 so that the wall 508 of the enclosure 502 is curved at portions G1, G2, G3, G4, G5 and G6, for example, as shown in FIGS. 3A and 3B. These curved portions then act as positioning portions in the wall 508 to assist in positioning the silicon motherboard 302 in place within the enclosure 502. Appropriate walls 508 can be sized, shaped and / or arranged like the electrical circuit board 402 so that the appropriate wall 508 can be placed in place within the enclosure 502. In this way, the portion of the enclosure 502 (eg, the wall portion and / or the bottom portion) assists in positioning the contents (eg, a silicon motherboard assembly) to be retained in the enclosure 502. And this can achieve proper alignment with respect to other objects. The positioning portion of the enclosure provides structural stability and avoids rotation, shifting, or other disturbances to the desired alignment of the enclosure contents. In this way, the structural stability of the enclosure helps to maintain the optical elements placed on the silicon motherboard in proper alignment with the laser diode emission. The positioning portion of the enclosure can engage the motherboard at a predetermined position within the enclosure.

エンクロージャは、さらに、シリコン製のマザーボードからの過剰な取り付け材料を接収するに十分な容積を画定することもできる。複数の位置決め素子の相互間及び/又は隣接するスペースは、マザーボードをベースに取り付けるとき、取り付け材料を収容するように構成することができ、また、取り付け材料がマザーボードの側面又は頂面のうち少なくとも一方に接触するのを阻止するよう構成することができる。したがって、エンクロージャにおける、位置決め素子相互間若しくは位置決め部分相互間の隣接するピッチ(例えば、スペース)、及び/又は、位置決め素子若しくは位置決め部分に隣接する頻度は、所望の機能、すなわち、1)シリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板をエンクロージャ内に案内及び/又は係合させること、2)エンクロージャの内容物を安定させること、3)位置決め部分に隣接する及び/又は2つの位置決め部分の相互間の、ウィッキング領域(例えば、マザーボードから漏出する過剰な取り付け材料を接収するに十分な容積を有する領域)を生ずること、という機能を得るよう選択することができる。ピッチの限界は、位置決め部分が近すぎて、位置決め部分に隣接するスペースがウィッキング領域として作用するには不十分となる平らな壁として機能してしまう位置である。エンクロージャは内部に保持する内容物から熱を除去することができる。さらに、エンクロージャをリッドでカバーする場合、エンクロージャ内に保持した内容物を外部環境から保護することができる。   The enclosure may further define a volume sufficient to seize excess mounting material from the silicon motherboard. A space between and / or adjacent to the plurality of positioning elements can be configured to receive mounting material when the motherboard is mounted to the base, and the mounting material is at least one of a side surface or a top surface of the motherboard. Can be configured to prevent contact. Thus, the adjacent pitch (eg, space) between positioning elements or positioning portions and / or the frequency of adjacent positioning elements or positioning portions in the enclosure is the desired function: 1) made of silicon Guiding and / or engaging the motherboard and / or electrical circuit board within the enclosure, 2) stabilizing the contents of the enclosure, 3) adjacent to the positioning part and / or between the two positioning parts The wicking area (for example, an area having sufficient volume to seize excess mounting material leaking from the motherboard) can be selected. The pitch limit is a position where the positioning portion is too close to function as a flat wall where the space adjacent to the positioning portion is insufficient to act as a wicking area. The enclosure can remove heat from the contents held therein. Furthermore, when the enclosure is covered with a lid, the contents held in the enclosure can be protected from the external environment.

より具体的には、壁508は、シリコン製のマザーボード302における表面の下側からの取り付け材料(例えば、はんだ及び/又は接着剤)のいかなるウィッキング(例えば、接収)も、シリコン製のマザーボード302の側壁304、及び/又はシリコン製のマザーボード302の頂面306、及び/又は電気的回路板402の側壁及び/又は頂面に接触するのを回避できるように、エンクロージャ502に対して、サイズ、形状、及び/又は配置を決めることができる。同様に電気的回路板402の表面下側からの取り付け材料のいかなるウィッキングも、電気的回路板402の側壁及び/又は頂面、及び/又はシリコン製のマザーボード302の側壁及び/又は頂面に接触するのを回避する。このようにして、エンクロージャ502の壁508のサイズ、形状、及び/又は配置を決めることは、シリコン製のマザーボード302及び/又は電気的回路板402を短絡させるリスクを軽減(例えば、最小化)することができる。図3Bにつき説明すると、エンクロージャ502の壁508の位置決め部分G1,G2,G3,G4,G5及びG6は、エンクロージャ502内でのシリコン製のマザーボード302の組立体の配置を案内する。図3Aにつき説明すると、位置決め部分G2及びG3の相互間は、エンクロージャ502の底面506における、点線で輪郭付けした符号「W」で示した領域である。いかなる過剰な取り付け材料(例えば、はんだ及び/又は接着剤)も、符号「W」を付けたウィッキング領域内にウィッキングする(例えば、接収され)ことができ、この領域で過剰取り付け材料はウィッキング領域Wの少なくともフットプリントに溜まり及び/又はカバーし、またこれによりシリコン製のマザーボードの側壁304及び/又は頂面306に接触することに起因するシリコン製のマザーボード302の短絡リスクを回避及び/又は軽減する。図3Aは、ウィッキング領域Wを位置決め部分G2及びG3に隣接して形成することができ、とくに、ウィッキング領域Wを2つの位置決め部分G2及びG3間及び/又は1つの位置決め部分に隣接する領域によって形成し得ることを示す。とくに、ウィッキング領域Wはシリコン製のマザーボード302の側壁304と、エンクロージャ壁508の部分(例えば、領域Z)との間の隙間によって形成することができ、エンクロージャ壁508の部分は、シリコン製のマザーボード302(及び/又は電気的回路板402)を案内するエンクロージャ壁508の位置決め部分G2及びG3に比べて側壁304からより長い距離にある(例えば、シリコン製のマザーボード302を所定位置に案内する補助をしないエンクロージャ壁508の部分)。   More specifically, the wall 508 allows any wicking (eg, requisition) of attachment material (eg, solder and / or adhesive) from below the surface of the silicon motherboard 302 to be made from the silicon motherboard 302. Size relative to the enclosure 502 so as to avoid contacting the side walls 304 and / or the top surface 306 of the silicon motherboard 302 and / or the side walls and / or top surface of the electrical circuit board 402, The shape and / or arrangement can be determined. Similarly, any wicking of mounting material from the lower surface side of the electrical circuit board 402 may be applied to the sidewalls and / or top surface of the electrical circuit board 402 and / or to the sidewalls and / or top surface of the silicon motherboard 302. Avoid contact. In this way, determining the size, shape, and / or placement of the wall 508 of the enclosure 502 reduces (eg, minimizes) the risk of shorting the silicon motherboard 302 and / or the electrical circuit board 402. be able to. Referring to FIG. 3B, the positioning portions G1, G2, G3, G4, G5 and G6 of the wall 508 of the enclosure 502 guide the placement of the assembly of the silicon motherboard 302 within the enclosure 502. Referring to FIG. 3A, between the positioning portions G <b> 2 and G <b> 3 is a region indicated by a reference sign “W” outlined by a dotted line on the bottom surface 506 of the enclosure 502. Any excess attachment material (eg, solder and / or adhesive) can be wicked (eg, confiscated) within the wicking area labeled “W”, where the excess attachment material is wicked. Retain and / or cover at least the footprint of the king area W and thereby avoid the risk of short circuiting of the silicon motherboard 302 due to contact with the side walls 304 and / or the top surface 306 of the silicon motherboard. Or reduce. FIG. 3A shows that the wicking region W can be formed adjacent to the positioning portions G2 and G3, and in particular, the wicking region W can be formed between the two positioning portions G2 and G3 and / or adjacent to one positioning portion. It can be formed by. In particular, the wicking region W can be formed by a gap between the side wall 304 of the silicon motherboard 302 and a portion of the enclosure wall 508 (eg, region Z), the portion of the enclosure wall 508 being made of silicon. A longer distance from the side wall 304 than the positioning portions G2 and G3 of the enclosure wall 508 that guides the motherboard 302 (and / or the electrical circuit board 402) (eg, assistance to guide the silicon motherboard 302 into place) Part of the enclosure wall 508).

エンクロージャ壁508(より具体的には、エンクロージャ壁508の位置決め部分G1,G2,G3,G4,G5及びG6)は、シリコン製のマザーボード302の組立体及び電気的回路板402をエンクロージャ502内の所望位置に(例えば、エンクロージャ502の中心に向けて)配置するときの補助となり、位置決め部分(例えば、G2及びG3のような2つの位置決め部分の相互間)及びシリコン製のマザーボード302及び/又は電気的回路板402の位置決めを補助しないエンクロージャ壁508の他の部分に隣接して形成されるウィッキング領域「W」は、取り付け材料(例えば、はんだ及び/又は接着剤)がシリコン製のマザーボード304の側壁及び/又はシリコン製のマザーボード302組立体の頂面306及び/又は電気的回路板402の側壁若しくは頂面にウィッキングする可能性を最小化する。   The enclosure wall 508 (more specifically, the positioning portions G 1, G 2, G 3, G 4, G 5 and G 6 of the enclosure wall 508) allows the assembly of the silicon motherboard 302 and the electrical circuit board 402 to be desired within the enclosure 502. To assist in positioning (e.g., toward the center of the enclosure 502), positioning portions (e.g., between two positioning portions such as G2 and G3) and silicon motherboard 302 and / or electrical The wicking area “W” formed adjacent to other portions of the enclosure wall 508 that does not assist in positioning the circuit board 402 is the sidewall of the motherboard 304 whose mounting material (eg, solder and / or adhesive) is made of silicon. And / or the top surface 306 of the silicon motherboard 302 assembly and / or Minimizes the possibility of wicking to the side wall or the top surface of the electric circuit board 402.

多数のエンクロージャ形態のうちの任意なものを使用して、図3A及び3Bにつき説明した所望の機能性を生ずるようにし、すなわち、所望の機能性としては、(1)シリコン製マザーボード組立体(及び/又は電気的回路板)のエンクロージャ内での位置決め、(2)位置決め部分によってエンクロージャ内に保持及び整列状態にした部分の回転を阻止する(例えば、シリコン製のマザーボード組立体及び/又は電気的回路板のエンクロージャ内での回転を阻止する)安定性、及び(3)取り付け材料(例えば、はんだ又は接着剤)のウィッキングに起因したシリコン製のマザーボード組立体(及び/又は電気的回路板)の短絡を最小化及び/又は排除する1つ又は複数のウィッキング領域を生ずるという、エンクロージャの能力がある。   Any of a number of enclosure configurations may be used to produce the desired functionality described with respect to FIGS. 3A and 3B, ie, the desired functionality includes (1) a silicon motherboard assembly (and Positioning of the electrical circuit board) within the enclosure, and (2) preventing rotation of the portion held and aligned within the enclosure by the positioning portion (eg, silicon motherboard assembly and / or electrical circuit) Stability of the board to prevent rotation within the enclosure, and (3) of the silicon motherboard assembly (and / or electrical circuit board) due to wicking of the mounting material (eg solder or adhesive) There is the ability of the enclosure to produce one or more wicking areas that minimize and / or eliminate short circuits.

適当なエンクロージャは2つ又はそれ以上の位置決め素子に特徴がある。より具体的には、壁の部分は適当なエンクロージャ内で位置決め素子として作用する。位置決め素子は、多数の任意の形状とすることができる、及び/又は多数の任意の断面形状を有するコラムとすることができる。例示的なエンクロージャ形態は、位置決め/機械的整列、構造的安定性、及び1つ又は複数のウィッキング領域という特徴のうち1つ又はそれ以上をもたらし、ある実施形態では、エンクロージャ形態はこれら特徴のすべてをもたらす。   Suitable enclosures are characterized by two or more positioning elements. More specifically, the wall portion acts as a positioning element in a suitable enclosure. The positioning element can be a number of any shape and / or a column having a number of any cross-sectional shape. Exemplary enclosure configurations provide one or more of the following features: positioning / mechanical alignment, structural stability, and one or more wicking regions, and in certain embodiments, the enclosure configuration is Bring everything.

最後に、エンクロージャは、底面、壁、ウィッキング領域W及び位置決め部分G1〜G6を、単一ピース、すなわち、例えば、射出成形によって形成した単一構造にして製造することができる。   Finally, the enclosure can be manufactured with a single piece, ie, a single structure formed by injection molding, for example, the bottom surface, the wall, the wicking region W, and the positioning portions G1-G6.

ある実施形態において、エンクロージャは2つ又はそれ以上のピースから製造することができる。例えば、位置決め部分を底面及び/又は壁に結合する。位置決め部分は、例えば、底面の相補部分に嵌合する少なくとも1つの側面(例えば、「雄形」コラムの側面が底面の「雌形」領域に嵌合し、また例えば、締り嵌めによって連結される)を有するコラム形状にすることができる。位置決め部分はエンクロージャ壁の一部とすることができ、またコラムはエンクロージャの相補部分に嵌合するよう構成する(例えば、壁がエンクロージャの底面に嵌合する)ことができる。代案として、位置決め部分はエンクロージャの壁に結合するよう構成することができる。   In certain embodiments, the enclosure can be manufactured from two or more pieces. For example, the positioning portion is coupled to the bottom surface and / or the wall. The positioning portion is, for example, at least one side surface that fits into the complementary portion of the bottom surface (eg, the side surface of the “male” column fits into the “female” region of the bottom surface and is connected, for example, by an interference fit ). The positioning portion can be part of the enclosure wall, and the column can be configured to mate with a complementary portion of the enclosure (eg, the wall mate with the bottom surface of the enclosure). Alternatively, the positioning portion can be configured to couple to the enclosure wall.

つぎに図3Dにつき説明すると、エンクロージャの他の実施形態であり、コラムとしての位置決め素子を有する。各コラムH1,H2,H3,H4,H5及びH6はほぼ円形断面形状を有する。これらコラムはエンクロージャ内で機械的整列能力を生ずるよう配置し、シリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板の整列を補助する。コラム相互間の隙間は1つ又は複数のウィッキング領域(例えば、コラムH2とH3との間に位置するウィッキング領域WH)を生ずる。適当なエンクロージャは、2つ又はそれ以上のコラム、例えば、H1及びH5、又はH2及びH5、又はH1及びH6を有することができる。代案として、適当なエンクロージャは、3つ又はそれ以上のコラム、例えば、H1,H3及びH5、又はH1,H2及びH5、又はH1,H2及びH6を有するものとする。代案として、適当なエンクロージャは、4つ又はそれ以上のコラム、例えば、H1,H2,H3及びH4、又はH1,H3,H4及びH6を有するものとする。造形したコラムは、底面の相補部分に嵌合する少なくとも1つの側面を有することができる(例えば、「雄形」コラムの側面は底面の「雌形」領域に嵌合し、また例えば、締り嵌めによって連結される)。したがって、ある実施形態において、エンクロージャのコラム及び底面は一体構造ではなく、多数のピースで形成する。適当なエンクロージャは、コラムとした位置決め素子(例えば、位置決め部分)に特徴があり、代案として、一体構造とすることができる。   Next, referring to FIG. 3D, another embodiment of the enclosure has a positioning element as a column. Each column H1, H2, H3, H4, H5 and H6 has a substantially circular cross-sectional shape. These columns are positioned within the enclosure to provide mechanical alignment capability and assist in aligning the silicon motherboard and / or electrical circuit board. The gap between the columns creates one or more wicking regions (eg, a wicking region WH located between columns H2 and H3). Suitable enclosures can have two or more columns, eg, H1 and H5, or H2 and H5, or H1 and H6. Alternatively, a suitable enclosure may have three or more columns, eg, H1, H3 and H5, or H1, H2 and H5, or H1, H2 and H6. As an alternative, a suitable enclosure may have four or more columns, eg, H1, H2, H3 and H4, or H1, H3, H4 and H6. The shaped column can have at least one side that fits into the complementary portion of the bottom surface (eg, the side of the “male” column fits into the “female” region of the bottom surface, eg, an interference fit. Linked by). Thus, in some embodiments, the column and bottom surface of the enclosure are not monolithic but are formed of multiple pieces. A suitable enclosure is characterized by a columnar positioning element (eg, a positioning portion), which can alternatively be a unitary structure.

図3Eは、コラムとしての位置決め素子を有するエンクロージャの他の実施形態を示す。各コラムI1,I2,I3,I4,I5及びI6は多角形断面を有する。これらコラムはエンクロージャ内で機械的整列能力を生ずるよう配置し、シリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板の整列を補助する。コラムI1,I2,I3,I4,I5及び/又はI6の相互間の隙間は1つ又は複数のウィッキング領域(例えば、コラムI2とI3との相互間に位置するウィッキング領域WI)を生ずる。適当なエンクロージャは、2つ又はそれ以上のコラム、例えば、I1及びI5、又はI2及びI5、又はI1及びI6を有することができる。代案として、適当なエンクロージャは、3つ又はそれ以上のコラム、例えば、I1,I3及びI5、又はI1,I2及びI5、又はI1,I2及びI6を有するものとする。代案として、適当なエンクロージャは、4つ又はそれ以上のコラム、例えば、I1,I2,I3及びI4、又はI1,I3,I4及びI6を有するものとする。エンクロージャに使用するコラムの組み合わせには、同一の断面を有するもの、又は代案として、異なる断面形状を有するものとすることができる。多角形断面の位置は、コラムI2及びI6におけるように選択することができ、尖った先端(例えば、コラムI2の断面における三角形の頂点)がシリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板をエンクロージャのほぼ中心に位置する長手方向軸線に沿って所定位置に案内する位置決め部分の一部となるようにする。適当なエンクロージャは、複数のコラムを有し、各コラムが同一断面形状を有するもの、又は各コラムが異なる断面形状を有するもの、又は2つ又はそれ以上のコラムが同一断面形状を有するもの、又は2つ又はそれ以上のコラムが異なる断面形状を有するものとすることができる。適当な断面形状としては、例えば、円形、三角形、四辺形(例えば、正方形、長方形)、五角形、六角形、七角形、八角形、又はエンクロージャに所望の特性を付与する他の適当な多角形がある。   FIG. 3E shows another embodiment of an enclosure having positioning elements as columns. Each column I1, I2, I3, I4, I5 and I6 has a polygonal cross section. These columns are positioned within the enclosure to provide mechanical alignment capability and assist in aligning the silicon motherboard and / or electrical circuit board. The gap between columns I1, I2, I3, I4, I5 and / or I6 creates one or more wicking regions (eg, wicking region WI located between columns I2 and I3). Suitable enclosures can have two or more columns, eg, I1 and I5, or I2 and I5, or I1 and I6. Alternatively, a suitable enclosure may have three or more columns, eg, I1, I3 and I5, or I1, I2 and I5, or I1, I2 and I6. As an alternative, a suitable enclosure may have four or more columns, eg, I1, I2, I3 and I4, or I1, I3, I4 and I6. Combinations of columns used in the enclosure can have the same cross-section, or alternatively, have different cross-sectional shapes. The position of the polygonal cross section can be selected as in columns I2 and I6, with a pointed tip (eg, a triangular apex in the cross section of column I2) that connects the silicon motherboard and / or electrical circuit board to the enclosure. It becomes a part of the positioning part which guides to a predetermined position along the longitudinal direction axial line located in the substantially center. Suitable enclosures have multiple columns, each column having the same cross-sectional shape, or each column having a different cross-sectional shape, or two or more columns having the same cross-sectional shape, or Two or more columns may have different cross-sectional shapes. Suitable cross-sectional shapes include, for example, circles, triangles, quadrilaterals (eg, squares, rectangles), pentagons, hexagons, heptagons, octagons, or other suitable polygons that impart desired properties to the enclosure. is there.

造形したコラムは、底面の相補部分に嵌合する少なくとも1つの側面を有することができる(例えば、「雄形」三角形断面コラムI2の側面は底面の「雌形」三角形領域に嵌合し、また例えば、締り嵌めによって連結する)。したがって、ある実施形態において、エンクロージャのコラム及び底面は一体構造ではなく、多数のピースで形成する。コラムとした位置決め素子(例えば、位置決め部分)に特徴がある適当なエンクロージャは、代案として、一体構造とすることができる。   The shaped column can have at least one side that fits into the complementary portion of the bottom surface (eg, the side of the “male” triangular section column I2 fits into the “female” triangular area of the bottom surface, and For example, connect by interference fit). Thus, in some embodiments, the column and bottom surface of the enclosure are not monolithic but are formed of multiple pieces. A suitable enclosure characterized by a column positioning element (e.g. positioning part) may alternatively be a unitary structure.

図3Fは、エンクロージャの他の実施形態を示し、エンクロージャの壁は、位置決め素子(例えば、位置決め部分)である2つ又はそれ以上の部分を有する。   FIG. 3F illustrates another embodiment of an enclosure, where the wall of the enclosure has two or more portions that are positioning elements (eg, positioning portions).

とくに、エンクロージャの壁は、J1,J2,J3及びJ4で分類された、4つのほぼ三角形形状の位置決め部分を有する。この場合、エンクロージャ壁の少なくとも1つの部分は、ほぼジグザグの又はほぼ三角形の輪郭を有するものとして示されており、位置決め部分に隣接するウィッキング領域(例えば、位置決め部分J2に隣接するWJ2)又は2つの位置決め部分の相互間に位置するウィッキング領域(例えば、J1とJ2との間におけるウィッキング領域WJ1)はほぼ多角形形状である。ある実施形態において、エンクロージャは一体構造とし、ほぼ三角形部分及び底面部分を含むエンクロージャ壁を単一の材料ピースから形成する(例えば、射出成形する)。他の実施形態において、エンクロージャを多数のピースから形成し、エンクロージャ壁は、恒久的に又は一時的に、エンクロージャ(例えば、エンクロージャの底面)に対して取り付け可能にする。適当なエンクロージャは、2つ又はそれ以上の位置決め部分、例えば、J1及びJ4、又はJ1及びJ3を有することができる。代案として、適当なエンクロージャは、3つ又はそれ以上の位置決め部分、例えば、J1,J2及びJ3を有する。代案として、適当なエンクロージャは、4つの又はそれ以上の位置決め部分、例えば、J1,J2,J3及びJ4を有するものとする。位置決め部分の組み合わせは、2つ又はそれ以上の位置決め部分がシリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板を所定位置に案内し、またエンクロージャ内に保持される内容物に安定性を与えるよう選択される。   In particular, the wall of the enclosure has four generally triangular positioning portions, classified by J1, J2, J3 and J4. In this case, at least one portion of the enclosure wall is shown as having a substantially zigzag or substantially triangular profile, and a wicking area adjacent to the positioning portion (eg, WJ2 adjacent to the positioning portion J2) or 2 The wicking region (for example, the wicking region WJ1 between J1 and J2) located between the two positioning portions has a substantially polygonal shape. In some embodiments, the enclosure is a unitary structure, and the enclosure wall, including generally triangular and bottom portions, is formed from a single piece of material (eg, injection molded). In other embodiments, the enclosure is formed from multiple pieces, and the enclosure wall is permanently or temporarily attachable to an enclosure (eg, the bottom surface of the enclosure). A suitable enclosure can have two or more positioning portions, eg, J1 and J4, or J1 and J3. Alternatively, a suitable enclosure has three or more positioning portions, for example J1, J2 and J3. As an alternative, a suitable enclosure may have four or more positioning portions, for example J1, J2, J3 and J4. The combination of positioning parts is selected such that two or more positioning parts guide the silicon motherboard and / or electrical circuit board in place and provide stability to the contents held in the enclosure. The

図3Gは、エンクロージャの他の実施形態を示し、エンクロージャ壁は、位置決め部分としての2つまたはそれ以上の部分を有する。とくに、エンクロージャ壁は、K1,K2,K3,K4,K5及びK6で分類された、ほぼ三角形の6つの位置決め部分を有する。この場合、エンクロージャ壁の少なくとも1つの部分は、ほぼジグザグの又はほぼ三角形の輪郭を有するものとして示すことができ、位置決め部分に隣接するウィッキング領域(例えば、位置決め部分K3に隣接するウィッキング領域WK2)又は2つの位置決め部分の相互間に位置するウィッキング領域(例えば、K1とK2との間におけるウィッキング領域WK1)はほぼ多角形形状(例えば、三角形)である。ある実施形態において、エンクロージャは一体構造とし、代案として、多数のピースから形成することができる。   FIG. 3G shows another embodiment of the enclosure, where the enclosure wall has two or more portions as positioning portions. In particular, the enclosure wall has six generally triangular positioning portions classified by K1, K2, K3, K4, K5 and K6. In this case, at least one portion of the enclosure wall can be shown as having a substantially zigzag or substantially triangular profile, and a wicking region adjacent to the positioning portion (eg, wicking region WK2 adjacent to the positioning portion K3). ) Or the wicking region located between the two positioning portions (eg, the wicking region WK1 between K1 and K2) is substantially polygonal (eg, a triangle). In certain embodiments, the enclosure is a unitary structure and, alternatively, can be formed from multiple pieces.

適当なエンクロージャは、2つ又はそれ以上の位置決め部分、例えば、K1及びK4、又はK1及びK5、又はK1又はK6を有することができる。代案として、適当なエンクロージャは、3つ又はそれ以上の位置決め部分、例えば、K1,K2及びK4、又はK1,K3及びK5、又はK1,K4及びK3、又はK1,K5及びK6を有するものとする。代案として、適当なエンクロージャは、4つ又はそれ以上の位置決め部分、例えば、K1,K2,K4及びK5を有するものとする。位置決め部分の組み合わせは、2つ又はそれ以上の位置決め部分がシリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板を所定位置に案内する。また位置決め要素(例えば、位置決め部分)の組み合わせは、エンクロージャの内容物(例えば、シリコン製のマザーボード)を整列状態に維持する安定性を与えるよう選択することができる。   Suitable enclosures can have two or more positioning portions, for example K1 and K4, or K1 and K5, or K1 or K6. As an alternative, a suitable enclosure shall have three or more positioning parts, for example K1, K2 and K4, or K1, K3 and K5, or K1, K4 and K3, or K1, K5 and K6. . As an alternative, a suitable enclosure may have four or more positioning portions, for example K1, K2, K4 and K5. In the combination of positioning parts, two or more positioning parts guide the silicon mother board and / or electrical circuit board in place. Also, the combination of positioning elements (eg, positioning portions) can be selected to provide stability that keeps the contents of the enclosure (eg, a silicon motherboard) in alignment.

図3Hは、エンクロージャの他の実施形態を示し、エンクロージャ壁は、位置決め部分としての2つ又はそれ以上の部分、とくに、ほぼ湾曲した位置決め部分L1,L2,L3及びL4を有する。図3Hに示すエンクロージャは、図3A及び3Bにつき説明したエンクロージャに類似するが、(図3A及び3Bに示すエンクロージャは6つの位置決め部分を有する一方、)図3Hに示すエンクロージャは4つの位置決め部分を有する。   FIG. 3H shows another embodiment of the enclosure, where the enclosure wall has two or more portions as positioning portions, in particular, substantially curved positioning portions L1, L2, L3 and L4. The enclosure shown in FIG. 3H is similar to the enclosure described with respect to FIGS. 3A and 3B, but the enclosure shown in FIG. 3H has four positioning portions (while the enclosure shown in FIGS. 3A and 3B has six positioning portions). .

とくに、エンクロージャ壁は、L1,L2,L3及びL4で分類された、ほぼ湾曲した4つの位置決め部分を有する。この場合、エンクロージャ壁の少なくとも1つの部分は、ほぼ湾曲した輪郭を有するものとして示すことができ、位置決め部分に隣接するウィッキング領域(例えば、L2に隣接するウィッキング領域WL2)又は2つの位置決め部分の相互間に位置するウィッキング領域(例えば、L1とL2との間のウィッキング領域WL1)はほぼ湾曲した形状である。ある実施形態において、エンクロージャは一体構造として形成し、ほぼ湾曲した部分及び底面部分を含むエンクロージャ壁を単一の材料ピースから形成する(例えば、射出成形する)。他の実施形態として、エンクロージャをは多数のピースから形成し、エンクロージャの壁は、恒久的に又は一時的に、エンクロージャに対して取り付け可能にする(例えば、エンクロージャ底面に取り付け可能にする)ことができる。適当なエンクロージャは、2つ又はそれ以上の位置決め部分、例えば、L1及びL4、又はL1及びL3を有することができる。代案として、適当なエンクロージャは、3つ又はそれ以上の位置決め部分、例えば、L1,L2及びL3を有するものとする。代案として、適当なエンクロージャは、4つ又はそれ以上のコラム、例えば、L1,L2,L3及びL4を有するものとする。位置決め要素(例えば、位置決め部分)の組み合わせは、2つ又はそれ以上の位置決め部分がシリコン製のマザーボード及び/又は電気的回路板をエンクロージャ内の所定位置に案内するよう選択される。   In particular, the enclosure wall has four generally curved positioning portions, labeled L1, L2, L3 and L4. In this case, at least one portion of the enclosure wall can be shown as having a generally curved profile, such as a wicking region adjacent to the positioning portion (eg, wicking region WL2 adjacent to L2) or two positioning portions. The wicking regions located between each other (for example, the wicking region WL1 between L1 and L2) have a substantially curved shape. In certain embodiments, the enclosure is formed as a unitary structure, and the enclosure wall including a generally curved portion and a bottom portion is formed from a single piece of material (eg, injection molded). In other embodiments, the enclosure may be formed from a number of pieces, and the wall of the enclosure may be permanently or temporarily attachable to the enclosure (eg, attachable to the bottom of the enclosure). it can. A suitable enclosure can have two or more positioning portions, eg, L1 and L4, or L1 and L3. Alternatively, a suitable enclosure may have three or more positioning portions, eg, L1, L2, and L3. As an alternative, a suitable enclosure may have four or more columns, eg, L1, L2, L3, and L4. The combination of positioning elements (eg, positioning portions) is selected such that two or more positioning portions guide the silicon motherboard and / or electrical circuit board to a predetermined position within the enclosure.

適当なエンクロージャは、さらに、位置決め部分を有するエンクロージャ壁、及び位置決め部分として作用する1つ又は複数のコラムの双方を設けることができる。   Suitable enclosures can further include both an enclosure wall having a positioning portion and one or more columns that act as positioning portions.

一実施形態において、エンクロージャ502の壁508は、エンクロージャ502及びその内容物(例えば、シリコン製のマザーボード302及び/又は電気的回路板402)の構造的一体性を確保するよう、サイズ、形状及び配置を決める。ある実施形態において、エンクロージャ502は、シリコン製のマザーボード302内で発生する熱を受け入れる熱質量を有するものとし、したがって、ある実施形態において、エンクロージャ502は何らかの用途のためにレーザーダイオード320によって生じた熱エネルギーを蓄積する付加的な熱容量を得る。随意的に、エンクロージャ502の壁508は、シリコン製のマザーボード302内で発生する熱を受け入れる熱質量を生ずるよう、サイズ、形状及び配置を決める。また図2につき説明すると、作業206の他の実施において、シリコン製のマザーボード302をエンクロージャ502に取り付けるのとは別個に、電気的回路板402をエンクロージャ502に取り付け、またこのような取り付け作業は、改善した光通信モジュールを形成するに要する組立体ステップの数を1つ余分に追加する。電気的回路板402の取り付けステップと、シリコン製のマザーボード302組立体の取り付けステップとを分けることにより、タクトタイムは、電気的回路板402をエンクロージャ502にはんだ付けするのにかかる、約0.3分〜約0.6分の時間だけ増加する。   In one embodiment, the wall 508 of the enclosure 502 is sized, shaped and arranged to ensure structural integrity of the enclosure 502 and its contents (eg, silicon motherboard 302 and / or electrical circuit board 402). Decide. In certain embodiments, the enclosure 502 is assumed to have a thermal mass that accepts heat generated within the silicon motherboard 302, and thus, in certain embodiments, the enclosure 502 is heat generated by the laser diode 320 for some application. Get additional heat capacity to store energy. Optionally, the wall 508 of the enclosure 502 is sized, shaped and arranged to produce a thermal mass that receives heat generated within the silicon motherboard 302. Referring also to FIG. 2, in another implementation of operation 206, separate from installing the silicon motherboard 302 in the enclosure 502, the electrical circuit board 402 is installed in the enclosure 502, and such installation operations include: One extra assembly step is required to form an improved optical communication module. By separating the mounting step of the electrical circuit board 402 and the mounting step of the silicon motherboard 302 assembly, the tact time is about 0.3, which is required to solder the electrical circuit board 402 to the enclosure 502. Increase by minutes to about 0.6 minutes.

つぎに、図2,3A及び3Bにつき説明すると、ステーション4Bにおいて、エンクロージャ502内に取り付けたシリコン製のマザーボード302及び電気的回路板402は、作業207中にワイヤボンディング405により結合する。エンクロージャ502は適当なワイヤボンディング材料、例えば、Auワイヤ、Alワイヤ、又は他の適当な材料によりワイヤボンディング405を行う。   2, 3A and 3B, in the station 4B, the silicon mother board 302 and the electric circuit board 402 mounted in the enclosure 502 are joined by wire bonding 405 during the operation 207. The enclosure 502 performs wire bonding 405 with a suitable wire bonding material, such as Au wire, Al wire, or other suitable material.

作業207のワイヤボンディングモジュールにおいて、ワイヤボンド405は、電気的回路板402の金属化トレース326をシリコン製のマザーボード302組立体の金属化トレース326に接続するために形られている。ワイヤボンド405は、電気的回路板402を介して外部電源からの電流をシリコン製のマザーボード302組立体に対して電気輸送することができる。電気的回路板は、アノードトレース426A及びカソードトレース426Bを有することができる。レーザーダイオード320は、ポジティブ側を下向きにして(アノード側320Aを下向きにして)、シリコン製のマザーボード302の組立体に配置したアノードトレース426Aの頂面の予堆積はんだ323に取り付ける。レーザーダイオード320のネガティブ側(例えば、カソード側320B)は、シリコン製のマザーボード302組立体に配置したカソードトレース426Bに(1つ又はそれ以上のワイヤボンド405を介して)ワイヤボンディングする。電気的回路板402のアノードトレース426Aは、シリコン製のマザーボード302に配置したアノードトレース426Aに1つ又は複数のワイヤボンド405を介して接続されており、また同様に電気的回路板402のカソードトレース426Bはシリコン製のマザーボード302に配置したカソードトレース426Bに1つ又はそれ以上のワイヤボンド405を介して接続される。   In the wire bonding module of operation 207, the wire bond 405 is shaped to connect the metalized trace 326 of the electrical circuit board 402 to the metalized trace 326 of the silicon motherboard 302 assembly. The wire bond 405 can electrically transport current from an external power source to the silicon motherboard 302 assembly via the electrical circuit board 402. The electrical circuit board can have an anode trace 426A and a cathode trace 426B. The laser diode 320 is attached to the pre-deposited solder 323 on the top surface of the anode trace 426A located on the assembly of the silicon motherboard 302 with the positive side facing down (the anode side 320A facing down). The negative side of laser diode 320 (eg, cathode side 320B) is wire bonded (via one or more wire bonds 405) to cathode trace 426B located on the silicon motherboard 302 assembly. The anode trace 426A of the electrical circuit board 402 is connected to the anode trace 426A disposed on the silicon motherboard 302 via one or more wire bonds 405, and similarly the cathode trace of the electrical circuit board 402. 426B is connected to cathode trace 426B located on silicon motherboard 302 via one or more wire bonds 405.

選択するワイヤボンドのサイズは電流処理能力に適合できるように行う。適当なワイヤの直径は、例えば、約0.5ミル〜約5ミル、又は約1ミル〜約1.3ミルの範囲内である。一実施形態において、直径1.3ミルのAuワイヤを使用した。ワイヤは、例えば、ボールボンディング又はウェッジボンディングでボンディングすることができる。この作業を通した高い処理量(例えば、より少ないタクトタイムで)を達成するために、ゴールドボールボンディングを使用する。ステーション4Bのタクトタイムは約0.3分である。図2,3A,3B,6A及び6Bにつき説明すると、図2のプロセス図におけるステーション5Bにおいて、リッド600は、エンクロージャ502に取り付けられ、リッド取り付け及び封止が行なわれる作業208中に封止される。リッド600は、金属又はプラスチックを含む多数の材料のうちの任意なものから形成することができる。一実施形態において、コスト制御上の理由から、プラスチックを使用する。リッド底面604にはエンクロージャ502の相補的な壁508に整列する特徴部608を設けることができる。リッド底面604はトンネル610を有し、エンクロージャ502に組み付けたとき、光ファイバが、光ファイバの位置及び/又は機能を乱さないように、リッド付きエンクロージャから露出させることができる。図2において、ステーション5Bでは、リッド600をエンクロージャ502の頂面に取り付ける。リッド600は、任意の適当な材料、例えば、適切なエポキシ/接着剤で封止(シール)する。一実施形態において、リッド600は保護リッド600とし、レーザーダイオード320及び/又はシリコン製のマザーボード302の組立体全体及び/又は電気的回路板402を外部環境から保護する。リッド600は、エンクロージャ502の頂面に配置し、エンクロージャ502内に収容したシリコン製のマザーボード302及び電気的回路板402をカバーし、またこれらコンポーネントを外部環境から保護する。リッド600は、エンクロージャ502内に収容したレーザーダイオード320及び他のコンポーネントを、例えば、考えられる環境ダメージ又は汚染から保護する。多数のリッド形態のうちの任意のものを、リッドがエンクロージャを補完する限り、使用することができ、これによりエンクロージャの内容物を外部環境から保護すること、及び/又は光ファイバを途絶させることなくエンクロージャから露出させることができる。より具体的には、リッドは、エンクロージャの壁、ウィッキング領域及び、所定のエンクロージャの光ファイバ出口ルートを補完するよう選択することができる(例えば、リッドの特徴部及びトンネルは、選択したエンクロージャに補完し合うよう位置決めする)。ステーション5Bのタクトタイムは約1分である。   The size of the wire bond selected is made to be compatible with the current handling capability. Suitable wire diameters are, for example, in the range of about 0.5 mil to about 5 mil, or about 1 mil to about 1.3 mil. In one embodiment, 1.3 mil diameter Au wire was used. The wire can be bonded by, for example, ball bonding or wedge bonding. Gold ball bonding is used to achieve high throughput (eg, with less tact time) through this operation. The tact time of the station 4B is about 0.3 minutes. 2, 3A, 3B, 6A and 6B, at station 5B in the process diagram of FIG. 2, lid 600 is attached to enclosure 502 and sealed during operation 208 where lid installation and sealing is performed. . The lid 600 can be formed from any of a number of materials including metal or plastic. In one embodiment, plastic is used for cost control reasons. The lid bottom surface 604 may be provided with a feature 608 that aligns with a complementary wall 508 of the enclosure 502. The lid bottom surface 604 has a tunnel 610 that can be exposed from the lidded enclosure so that the optical fiber does not disturb the position and / or function of the optical fiber when assembled to the enclosure 502. In FIG. 2, in the station 5 </ b> B, the lid 600 is attached to the top surface of the enclosure 502. The lid 600 is sealed with any suitable material, such as a suitable epoxy / adhesive. In one embodiment, the lid 600 is a protective lid 600 that protects the entire laser diode 320 and / or silicon motherboard 302 assembly and / or the electrical circuit board 402 from the external environment. The lid 600 is disposed on the top surface of the enclosure 502, covers the silicon motherboard 302 and the electrical circuit board 402 housed in the enclosure 502, and protects these components from the external environment. The lid 600 protects the laser diode 320 and other components contained within the enclosure 502 from, for example, possible environmental damage or contamination. Any of a number of lid configurations can be used as long as the lid complements the enclosure, thereby protecting the contents of the enclosure from the external environment and / or without disrupting the optical fiber. Can be exposed from the enclosure. More specifically, the lid can be selected to complement the enclosure wall, wicking area, and fiber optic exit route for a given enclosure (eg, lid features and tunnels are selected for the selected enclosure). Positioning to complement each other). The tact time of the station 5B is about 1 minute.

ステーション6Bにおいて、最終テスト(LIV,WL)は作業209中に生ずる。このテストにおいて、最終的な光電特性を測定する。とくに、作動電圧、光強度、及び波長を光通信分野の当業者にとって既知の手段及び方法に従って測定する。ステーション6Bのタクトタイムは、約1分である。   At station 6B, the final test (LIV, WL) occurs during operation 209. In this test, the final photoelectric characteristics are measured. In particular, the operating voltage, light intensity, and wavelength are measured according to means and methods known to those skilled in the art of optical communications. The tact time of the station 6B is about 1 minute.

図2につき説明した例示的な改良プロセスフローは、9つの作業、6つのステーション、1回のワイヤボンディング、能動的整列ステップがなく1回のテスト作業を必要とする。図2につき説明したプロセスの全シーケンシャルタクトタイムは6.9分である。図2につき説明したプロセスの全シーケンシャルタクトタイムは、図1につき説明した従来プロセスを完了するのに要する全シーケンシャルタクトタイムである43分よりも短い数オーダーの大きさである。   The exemplary improved process flow described with reference to FIG. 2 requires nine operations, six stations, one wire bonding, one test operation without active alignment steps. The total sequential tact time of the process described with reference to FIG. 2 is 6.9 minutes. The total sequential tact time of the process described with reference to FIG. 2 is several orders of magnitude shorter than 43 minutes, which is the total sequential tact time required to complete the conventional process described with reference to FIG.

一定の実施形態のみについて説明したが、特許請求の範囲で定義する思想及び範囲から逸脱することなく、種々の形式変更及び詳細付けを行うことができることは、当業者には理解できるであろう。当業者であれば、単なる日常的な経験により、本明細書に記載した特別な実施形態に相当する多くの均等物を認識又は確認することができるであろう。このような均等物も本発明の請求の範囲内にあるものとする。   While only certain embodiments have been described, those skilled in the art will recognize that various changes and details can be made without departing from the spirit and scope as defined by the claims. Those skilled in the art will recognize, or be able to ascertain using no more than routine experience, many equivalents to the specific embodiments described herein. Such equivalents are intended to be within the scope of the claims.

本明細書で言及した特許文献、科学的な及び医学的な刊行物は当業者にとって入手可能な知識をなすものである。発行された米国特許、刊行された特許文献及び継続中の特許出願、及び本明細書が引用する他の参考文献は、参照により本明細書に組み入れるものとする。   The patent literature, scientific and medical publications referred to in this specification constitute knowledge that is available to those with skill in the art. Published US patents, published patent documents and pending patent applications, and other references cited herein are hereby incorporated by reference.

本明細書に使用するすべての技術的及び科学的な用語は、以下に定義しない限り、当業者に一般的に理解されるものと同一の意味をもつものとする。本明細書に使用した技術の参照は、そのような技術の変更又は等価若しくはその後に開発された技術の代用を含んで、当業者には明らかな従来技術で一般的に理解されている技術に言及することを意図する。さらに、特許請求の範囲の要旨を一層明確にし、また厳密に記載するため、明細書及び特許請求の範囲で使用する若干の用語について以下の定義を行う。   All technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art unless otherwise defined below. References to techniques used herein are intended to be those generally understood in the prior art that will be apparent to those skilled in the art, including such technical modifications or equivalents or substitutions of subsequently developed techniques. Intended to be mentioned. Furthermore, in order to further clarify and strictly describe the gist of the claims, the following definitions are provided for some terms used in the specification and claims.

本明細書に使用する可変数の数値的範囲は、範囲の境界を含めて範囲内のいかなる数値を使用して実施形態を実施することができる。したがって、元来離散的な可変数に関して、可変数は範囲の端点も含めて数値範囲内の任意な整数値に等しいものとすることができる。同様に、元来連続的な可変数に関して、可変数は範囲の端点も含めて数値範囲内の任意な実数値に等しいものとすることができる。例えば、限定しないが、0〜2の範囲内の値を有すると記載した可変数は、可変数が元来離散的である場合、値0,1又は2をとることができ、元来連続的である場合、値0.0,0.1,0.01,0.001,又は0以上(0≧)かつ2以下(≦2)の任意な他の実数をとることができる。最後に、可変数は、引用した範囲内の値の任意の下位概念範囲も含み、範囲内の多数の値をとることができる。   As used herein, a variable number of numerical ranges may be implemented using any numerical value within the range, including range boundaries. Thus, with respect to an originally discrete variable number, the variable number can be equal to any integer value within the numerical range, including the end points of the range. Similarly, for an inherently continuous variable number, the variable number may be equal to any real value within the numerical range, including the end points of the range. For example, without limitation, a variable number described as having a value in the range of 0 to 2 can take the value 0, 1 or 2 if the variable number is originally discrete and is inherently continuous. Can be any value 0.0, 0.1, 0.01, 0.001, or any other real number greater than or equal to 0 (0 ≧) and less than or equal to 2 (≦ 2). Finally, variable numbers can take on many values within a range, including any subconceptual range of values within the quoted range.

本明細書に使用する、特に断りのない限り、用語「又は(or)」は、「及び/又は(and/or)」の意味を含んで包括的に使用し、「どちらか一方(either/or)」の排他的な意味で使用するものでない。   As used herein, unless stated otherwise, the term “or” is used generically to include the meaning of “and / or” and “either / or) ”is not used in an exclusive sense.

Claims (43)

光通信モジュールにおいて、
レーザーダイオードを配置したマザーボードであって、光ファイバを収容しかつ光ファイバを前記レーザーダイオードに整列させるよう構成したチャネルを有する、該マザーボードと、及び
マザーボードを取り付けるベース、及び互いに間隔を置いて配置された複数の位置決め素子を有するエンクロージャであって、前記位置決め素子は前記マザーボードを前記エンクロージャの所定位置に係合させるものとし、前記マザーボードからの過剰な取り付け材料を接収するに十分な容積を画定する、該エンクロージャと
を備えた、光通信モジュール。
In optical communication module,
A motherboard with a laser diode disposed therein, the motherboard having a channel configured to receive an optical fiber and align the optical fiber with the laser diode, and a base to which the motherboard is mounted, and spaced apart from each other An enclosure having a plurality of positioning elements, the positioning elements engaging the motherboard in place on the enclosure and defining a volume sufficient to confiscate excess mounting material from the motherboard; An optical communication module comprising the enclosure.
請求項1記載の光通信モジュールにおいて、前記互いに間隔を置いて配置した複数の位置決め素子は、ベースから突出する構成とした、光通信モジュール。   2. The optical communication module according to claim 1, wherein the plurality of positioning elements arranged at intervals from each other protrude from the base. 請求項1記載の光通信モジュールにおいて、前記マザーボードはキャビティ内に配置し、このキャビティは、前記ベース及び前記ベースから突出する側壁によって画定し、前記互いに間隔を置いて配置した複数の位置決め素子は、前記側壁から突出する構成とした、光通信モジュール。   The optical communication module according to claim 1, wherein the mother board is disposed in a cavity, the cavity is defined by the base and a side wall protruding from the base, and the plurality of positioning elements spaced apart from each other include: An optical communication module configured to protrude from the side wall. 請求項1記載の光通信モジュールにおいて、前記取り付け材料は、前記マザーボードを前記ベースに連結する、光通信モジュール。   The optical communication module according to claim 1, wherein the attachment material connects the mother board to the base. 請求項4記載の光通信モジュールにおいて、前記複数の位置決め素子の相互間のスペースは、前記マザーボードを前記ベースに取り付けるとき、前記取り付け材料を受け入れる構成とした、光通信モジュール。   5. The optical communication module according to claim 4, wherein a space between the plurality of positioning elements is configured to receive the attachment material when the mother board is attached to the base. 6. 請求項1記載の光通信モジュールにおいて、前記複数の位置決め素子の相互間のスペースは、前記取り付け材料が前記マザーボードの側面又は頂面のうち少なくとも一方に接触するのを防止するよう構成した、光通信モジュール。   The optical communication module according to claim 1, wherein a space between the plurality of positioning elements is configured to prevent the attachment material from contacting at least one of a side surface or a top surface of the motherboard. module. 請求項1記載の光通信モジュールにおいて、少なくとも1つの位置決め素子を、エンクロージャ壁の一部とした、光通信モジュール。   2. The optical communication module according to claim 1, wherein at least one positioning element is a part of an enclosure wall. 請求項1記載の光通信モジュールにおいて、少なくとも1つの位置決め素子を、コラムとした、光通信モジュール。   2. The optical communication module according to claim 1, wherein at least one positioning element is a column. 請求項8記載の光通信モジュールにおいて、前記コラムが前記ベースから突出する、光通信モジュール。   9. The optical communication module according to claim 8, wherein the column protrudes from the base. 請求項1記載の光通信モジュールにおいて、前記チャネルは、前記マザーボードの長手寸法方向に沿って配置したv溝を有する、光通信モジュール。   The optical communication module according to claim 1, wherein the channel has a v-groove arranged along a longitudinal dimension direction of the mother board. 請求項1記載の光通信モジュールにおいて、さらに、レンズを収容しかつ整列させるよう構成した第2チャネルを備え、前記レンズが前記ダイオードと前記光ファイバとの間に配置される、光通信モジュール。   The optical communication module according to claim 1, further comprising a second channel configured to receive and align a lens, wherein the lens is disposed between the diode and the optical fiber. 請求項11記載の光通信モジュールにおいて、さらに、前記第2チャネルに配置したレンズを備え、前記レンズが前記ダイオードからの出射を前記光ファイバに伝送する、光通信モジュール。   The optical communication module according to claim 11, further comprising a lens disposed in the second channel, wherein the lens transmits emission from the diode to the optical fiber. 請求項11記載の光通信モジュールにおいて、前記第2チャネルを、前記マザーボードの短手寸法方向に沿って延びるものとした、光通信モジュール。   12. The optical communication module according to claim 11, wherein the second channel extends along a short dimension direction of the motherboard. 請求項12記載の光通信モジュールにおいて、前記レンズ及び前記光ファイバの各々を、それぞれに対応するチャネル内に、エポキシ、はんだ又はそれらの組み合わせのうちの1つ、又はそれ以上によって連結した、光通信モジュール。   13. The optical communication module of claim 12, wherein each of the lens and the optical fiber is coupled in a corresponding channel by one or more of epoxy, solder, or combinations thereof. module. 請求項1記載の光通信モジュールにおいて、さらに、前記エンクロージャの表面をカバーするリッドを備え、前記エンクロージャ内に配置した内容物を保護する、光通信モジュール。   The optical communication module according to claim 1, further comprising a lid that covers a surface of the enclosure, and protecting contents disposed in the enclosure. 請求項1記載の光通信モジュールにおいて、前記ベースをほぼ平らなものとした、光通信モジュール。   2. The optical communication module according to claim 1, wherein the base is substantially flat. 請求項1記載の光通信モジュールにおいて、前記複数の位置決め素子に隣接するスペースを、前記マザーボードを前記ベースに取り付けるとき、前記取り付け材料を受け入れるよう構成した、光通信モジュール。   The optical communication module according to claim 1, wherein a space adjacent to the plurality of positioning elements is configured to receive the attachment material when the motherboard is attached to the base. 請求項1記載の光通信モジュールにおいて、前記エンクロージャをヒートシンクとした、光通信モジュール。   2. The optical communication module according to claim 1, wherein the enclosure is a heat sink. 光通信モジュールにおいて、
複数のv溝を有するシリコン製のマザーボードの頂面に配置したレーザーダイオードと、
レーザーダイオードの出射をコリメートするレンズと、
光ファイバであって、シリコン製のマザーボードは前記レンズを保持する寸法の1つのv溝及び前記光ファイバを保持する寸法の他のv溝を有するものとし、前記レンズ及び前記光ファイバは、それぞれに対応するv溝によって保持されるとき、レーザーダイオード出射に光学的に整列する光ファイバと、
2つ又はそれ以上の位置決め部分を有するエンクロージャであって、前記位置決め部分は前記シリコン製のマザーボードを前記エンクロージャ内の所望位置に配置し、前記エンクロージャはベース部分を有し、前記2つ又はそれ以上の位置決め部分は互いに間隔を置いて位置されており、これにより前記エンクロージャのベース部分と前記シリコン製のマザーボードの底面との相互間に配置した取り付け材料が位置決め部分に隣接するスペースにウィッキングする、該エンクロージャと
を備えた、光通信モジュール。
In optical communication module,
A laser diode disposed on the top surface of a silicon motherboard having a plurality of v-grooves;
A lens that collimates the emission of the laser diode;
An optical fiber, wherein the silicon motherboard has one v-groove dimensioned to hold the lens and another v-groove dimensioned to hold the optical fiber, the lens and the optical fiber being respectively An optical fiber optically aligned with the laser diode emission when held by the corresponding v-groove;
An enclosure having two or more positioning portions, wherein the positioning portions place the silicon motherboard in a desired location within the enclosure, the enclosure having a base portion, the two or more Positioning portions are spaced apart from each other, so that the mounting material disposed between the base portion of the enclosure and the bottom surface of the silicon motherboard wicks into the space adjacent to the positioning portion, An optical communication module comprising the enclosure.
請求項19記載の光通信モジュールにおいて、前記取り付け材料が、前記2つ又はそれ以上の位置決め部分の相互間にウィッキングする、光通信モジュール。   20. The optical communication module of claim 19, wherein the mounting material wicks between the two or more positioning portions. 請求項20記載の光通信モジュールにおいて、前記2つ又はそれ以上の位置決め部分の相互間のスペースは、前記取り付け材料が前記シリコン製のマザーボードの側面及び前記シリコン製のマザーボードの頂面のうちの少なくとも一方に接触することを回避できる、光通信モジュール。   21. The optical communication module according to claim 20, wherein the space between the two or more positioning portions is at least one of a side surface of the silicon motherboard and a top surface of the silicon motherboard. An optical communication module that can avoid contact with one side. 請求項19記載の光通信モジュールにおいて、少なくとも1つの位置決め部分を、エンクロージャ壁の一部とした、光通信モジュール。   20. The optical communication module according to claim 19, wherein at least one positioning portion is a part of the enclosure wall. 請求項19記載の光通信モジュールにおいて、前記少なくとも1個の位置決め部分をコラムとした、光通信モジュール。   20. The optical communication module according to claim 19, wherein the at least one positioning portion is a column. 請求項19記載の光通信モジュールにおいて、1つのv溝を前記シリコン製のマザーボードの長手方向平面に沿って配置し、他のv溝を前記シリコン製のマザーボードの長手方向平面に沿って配置した、光通信モジュール。   The optical communication module according to claim 19, wherein one v-groove is disposed along a longitudinal plane of the silicon motherboard, and another v-groove is disposed along a longitudinal plane of the silicon motherboard. Optical communication module. 請求項19記載の光通信モジュールにおいて、前記レンズ及び前記光ファイバの各々を、それぞれに対応するv溝内に、エポキシ、はんだ、又はそれらの組み合わせのうちの1つ又はそれ以上によって取り付けた、光通信モジュール。   20. The optical communication module of claim 19, wherein each of the lens and the optical fiber is mounted in one or more of epoxy, solder, or combinations thereof in a corresponding v-groove. Communication module. 請求項19記載の光通信モジュールにおいて、さらに、前記エンクロージャの表面をカバーするリッドを備え、前記エンクロージャ内に配置した内容物を保護する、光通信モジュール。   The optical communication module according to claim 19, further comprising a lid that covers a surface of the enclosure, and protecting contents disposed in the enclosure. 請求項19記載の光通信モジュールにおいて、前記エンクロージャは、ほぼ平らなベース部分を有する、光通信モジュール。   20. The optical communication module of claim 19, wherein the enclosure has a substantially flat base portion. 光通信モジュールを形成する方法であって、
複数のv溝を備えるシリコン製のマザーボードを準備するステップと、
前記シリコン製のマザーボードの頂面にレーザーダイオードを配置するステップと、
短手方向平面に沿って配置したレンズ用のv溝にレンズを配置するレンズ配置ステップであって、前記レンズ用のv溝は、前記レンズの外形寸法を保持する寸法を有するレンズ配置ステップと、
長手方向平面に沿って配置した光ファイバ用のv溝に光ファイバを配置する光ファイバ配置ステップであって、前記光ファイバ用のv溝は、前記光ファイバの外形寸法を保持する寸法を有するものとし、前記レンズ及び前記光ファイバが、それぞれに対応するv溝によって保持されるとき、前記レーザーダイオードからのレーザーダイオード出射に光学的に整列する光ファイバ配置ステップと、
2つ又はそれ以上の位置決め部分を有するエンクロージャ内に前記シリコン製のマザーボードを配置するマザーボード配置ステップであって、前記位置決め部分が、前記シリコン製のマザーボードを前記エンクロージャ内の所定位置に配置するマザーボード配置ステップと
を有する、方法。
A method of forming an optical communication module comprising:
Providing a silicon motherboard having a plurality of v-grooves;
Placing a laser diode on the top surface of the silicon motherboard;
A lens disposing step of disposing a lens in a v-groove for a lens disposed along a lateral plane, wherein the v-groove for the lens has a dimension for retaining an outer dimension of the lens;
An optical fiber placement step for placing an optical fiber in a v-groove for an optical fiber disposed along a longitudinal plane, wherein the v-groove for the optical fiber has a dimension for retaining an outer dimension of the optical fiber. An optical fiber placement step that optically aligns the laser diode emission from the laser diode when the lens and the optical fiber are held by their corresponding v-grooves;
A motherboard placement step of placing the silicon motherboard in an enclosure having two or more positioning portions, wherein the positioning portion places the silicon motherboard in a predetermined position in the enclosure. And a method.
請求項28記載の方法において、さらに、
前記光ファイバを前記光ファイバ用のv溝に配置する前に、剥き出しのファイバから光ファイバをクリーブするステップを有する、方法。
30. The method of claim 28, further comprising:
Cleaving the optical fiber from the bare fiber before placing the optical fiber in the v-groove for the optical fiber.
請求項28記載の方法において、さらに、
前記エンクロージャ内に電気的回路板を配置するステップを有する、方法。
30. The method of claim 28, further comprising:
Placing an electrical circuit board within the enclosure.
請求項30記載の方法において、前記シリコン製のマザーボード及び前記電気的回路板を、前記エンクロージャ内にほぼ同時に配置する、方法。   32. The method of claim 30, wherein the silicon motherboard and the electrical circuit board are disposed in the enclosure substantially simultaneously. 請求項28記載の方法において、前記レーザーダイオードを、前記シリコン製のマザーボードを準備する前に、前記シリコン製のマザーボードの頂面に配置する、方法。   30. The method of claim 28, wherein the laser diode is placed on a top surface of the silicon motherboard prior to preparing the silicon motherboard. 光通信モジュールにおいて、
光ファイバを収容し、また前記光ファイバをレーザーダイオード出射に整列させるよう構成したチャネルを有するマザーボードと、
ベース部分及び2つ又はそれ以上の位置決め素子を有するエンクロージャであって、前記位置決め素子は前記マザーボードを前記エンクロージャ内の所望位置に配置するものとし、前記2つ又はそれ以上の位置決め素子は互いに間隔を置いて配置されており、前記ベース部分と前記マザーボードの底面との相互間に配置した取り付け材料が、位置決め素子に隣接するスペース内にウィッキングするエンクロージャと
を備えた、光通信モジュール。
In optical communication module,
A motherboard having a channel containing an optical fiber and configured to align the optical fiber with a laser diode emission;
An enclosure having a base portion and two or more positioning elements, wherein the positioning elements position the motherboard at a desired location within the enclosure, the two or more positioning elements spaced apart from each other; An optical communication module comprising: an enclosure disposed in between, wherein the mounting material disposed between the base portion and the bottom surface of the motherboard wicks in a space adjacent to a positioning element.
請求項33記載の光通信モジュールにおいて、前記エンクロージャを、ヒートシンクとした、光通信モジュール。   34. The optical communication module according to claim 33, wherein the enclosure is a heat sink. 請求項33記載の光通信モジュールにおいて、前記2つ又はそれ以上の位置決め素子を、前記マザーボードを前記エンクロージャ内のほぼ前記所望位置に維持するものとした、光通信モジュール。   34. The optical communication module of claim 33, wherein the two or more positioning elements maintain the motherboard at approximately the desired position within the enclosure. 請求項33記載の光通信モジュールにおいて、さらに、前記エンクロージャの表面をカバーするリッドを備え、前記エンクロージャ内に配置した内容物を保護する、光通信モジュール。   34. The optical communication module according to claim 33, further comprising a lid that covers a surface of the enclosure, and protecting contents disposed in the enclosure. 請求項33記載の光通信モジュールにおいて、前記エンクロージャは、ほぼ平らなベース部分を有する、光通信モジュール。   34. The optical communication module of claim 33, wherein the enclosure has a substantially flat base portion. 請求項33記載の光通信モジュールにおいて、前記マザーボードは、さらにレンズを保持するよう構成した他のチャネルを有し、前記レンズ及び前記光ファイバが、それぞれに対応するチャネルに保持されるとき、前記レーザーダイオードの出射に光学的に整列する、光通信モジュール。   34. The optical communication module of claim 33, wherein the motherboard further includes other channels configured to hold a lens, and the laser and the optical fiber are held in corresponding channels, respectively, the laser. An optical communication module that is optically aligned with the output of the diode. 請求項33記載の光通信モジュールにおいて、前記チャネルをv溝で構成した、光通信モジュール。   34. The optical communication module according to claim 33, wherein the channel is constituted by a v-groove. 請求項39記載の光通信モジュールにおいて、前記マザーボードは、さらに、レンズを保持するような寸法に構成した他のv溝を有し、前記レンズ及び前記光ファイバが、それぞれに対応するv溝によって保持されるとき、前記レーザーダイオード出射に光学的に整列する、光通信モジュール。   40. The optical communication module according to claim 39, wherein the mother board further has another v-groove configured to hold a lens, and the lens and the optical fiber are held by a corresponding v-groove. An optical communication module that optically aligns with the laser diode emission when done. 請求項33記載の光通信モジュールにおいて、前記光ファイバは、さらに、レンズを有するものとして構成した、光通信モジュール。   34. The optical communication module according to claim 33, wherein the optical fiber further includes a lens. 請求項33記載の光通信モジュールにおいて、レーザーダイオードを、前記マザーボードの頂面に配置した、光通信モジュール。   34. The optical communication module according to claim 33, wherein a laser diode is disposed on the top surface of the motherboard. 請求項42記載の光通信モジュールにおいて、前記レーザーダイオードがレンズを有する、光通信モジュール。   43. The optical communication module according to claim 42, wherein the laser diode has a lens.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104966986A (en) * 2015-06-30 2015-10-07 中国电子科技集团公司第十三研究所 Directive test system for assembling laser array
KR20210049819A (en) * 2018-08-29 2021-05-06 스미토모 덴코 옵티프론티어 가부시키가이샤 Optical fiber alignment jig, optical fiber fusion splicer equipped with optical fiber alignment jig, and optical fiber alignment method
CN109994923A (en) * 2019-03-26 2019-07-09 中国科学院半导体研究所 Temperature detection device and preparation method thereof
CN110596675A (en) * 2019-08-21 2019-12-20 深圳奥锐达科技有限公司 Laser emission device and laser radar system
CN114280500A (en) * 2021-12-22 2022-04-05 深圳市迅飞凌科技有限公司 Detection device for detecting whether metal shell of optical module is short-circuited to internal circuit

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2616668B2 (en) * 1993-08-30 1997-06-04 日本電気株式会社 Hermetically sealed structure of optical fiber introduction section
JP3596029B2 (en) * 1994-06-06 2004-12-02 住友電気工業株式会社 Semiconductor laser module
JP3592406B2 (en) * 1995-07-10 2004-11-24 富士通株式会社 Optical module and method for manufacturing optical module
JP2001343560A (en) * 2000-05-30 2001-12-14 Kyocera Corp Optical module
JP3896097B2 (en) * 2003-06-27 2007-03-22 日本オプネクスト株式会社 Receptacle type optical module

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