JP2013536843A - スキンケアとしてのカーボネート誘導体 - Google Patents

Abstract

アンチエイジング含有成分、特に抗酸化剤およびスキンイルミネイティングフェノール含有成分のカーボネートは、向上した物理特性を有するこれらの含有成分の誘導体として製造されてきた。これらのカーボネートが酵素触媒下で加水分解して母体含有成分を放出することが示されてきた。一方、多くの場合のフェノール性基のエステルは同じ条件下で加水分解しない。

Description

関連出願の相互参照
本件は、仮出願Ｕ．Ｓ．整理番号第６１／３７９，９２９（２０１０年９月３日出願）（本開示の記載と矛盾しない限りにおいて参照により本開示に組入れる）の優先権を主張する本出願である。

発明の分野
本発明は、アンチエイジング含有成分，例えば抗酸化剤およびスキンイルミネイティングフェノール含有成分のアルキルカーボネートの分野に属する。本発明はまた、アルキルカーボネートの製造方法に属する。

発明の背景
多数のアンチエイジングスキンケア含有成分は本来的にフェノール性である。これらの多くは抗酸化剤またはスキンイルミネイティング含有成分として機能し、遊離水酸基はこれらの種のレドックス活性の鍵である。残念ながらこれらの物質の多くは、化粧用含有成分に用いるのに良く適してはいない物理特性を有し、これらが有する溶解性は殆どの化粧用溶媒（油および水の両者）中で最低レベルである傾向があり、化粧配合物中で不安定である可能性がある（特に酸化に対して）。フェノール性基の誘導体化はこれらの物質を安定化する可能性がある。しかしこれらの誘導体は生理学的条件下で容易に外れてフェノール性基を遊離して所望のアンチエイジング活性を与えることができなければならない（Ｇｒａｓｓｏら，Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍ．２００７，３５，１３７−１５２）。

フェノール性基の誘導体化はこれらの物質の物理特性を大いに改善できる。ヒドロキシルまたはカルボキシル含有物質の誘導体化のための１つの有用な方法はこれらの物質のエステルを調製することである。この手法の有用性はしばしば、皮膚中の酵素がこれらのエステルを加水分解して母体活性物質を遊離する能力に左右される。この方策は脂肪族アルコールを含有する多くの活性含有成分の誘導体化には有効であるが、フェノールに由来するエステルはしばしば、屈折性であり、または酵素加水分解に対して遅い反応性を有するに過ぎない。これにも関わらず、フェノール性活性成分，例えばレスベラトロール（関連する組成物の特許：米国特許第６，５７２，８８２号および米国特許出願公開第２００９／００６８１３２ Ａ１；配合物特許：米国特許出願公開第２００９／００３５２３６ Ａ１，米国特許出願公開第２００９／００３５２３７ Ａ１，米国特許出願公開第２００９／００３５２４０ Ａ１，米国特許出願公開第２００９／００３５２４２ Ａ１，および米国特許出願公開第２００９／００３５２４３ Ａ１）ならびにヒドロキシチロソール（米国特許第７，０９８，２４６号および米国特許出願公開第２００３／０２２５１６０）のエステル誘導体への関心がある（加水分解して母体フェノール性活性含有成分を放出することには疑問があるとしても）。事実、ヒドロキシチロソールでは、しばしば脂肪族水酸基のみがエステル化される官能基であって（Ｇｒａｓｓｏら，Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍ．２００７，３５，１３７−１５２；Ｔｒｕｊｉｌｌｏら，Ｊ．Ａｇｒｉｃ．Ｆｏｏｄ Ｃｈｅｍ．２００６，５４，３７７９−３７８５；Ｍａｔｅｏｓら，Ｊ．Ａｇｒｉｃ．Ｆｏｏｄ Ｃｈｅｍ．２００８，５６，１０９６０−１０９６６；Ｇｏｒｄｏｎら，Ｊ．Ａｇｒｉｃ．Ｆｏｏｄ Ｃｈｅｍ．２００１，４９，２４８０−２４８５；Ｂｕｉｓｍａｎら， Ｂｉｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｅｔｔ．１９９８，２０，１３１−１３６；米国特許出願公開第２００５／０１５０５８ Ａ１；Ｆｒ．Ｄｅｍａｎｄｅ ２，９１９，８００；ＥＳ ２，２３３，２０８；ＥＳ ２，２４６，６０３）誘導体されていないフェノール性基は残り、これはカテコール官能性の安定性を改善しない。これらのフェノール性スキンケア活性含有成分のアルキルカーボネート誘導体は説明されてこなかった。

生理的（酵素的）条件下で加水分解するフェノール性活性成分の新規な誘導体には大きな有用性および関心がある。

発明の要約
本発明の一態様において、一般構造１：

（式中、Ｒは、置換および非置換、分岐鎖および直鎖、飽和、不飽和および多価不飽和のＣ₁−Ｃ₂₂アルキルから選択され、そしてＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は独立に、水素、置換および非置換、分岐鎖および直鎖、飽和のＣ₄−Ｃ₂₂アルキル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₂−Ｃ₂₂アルケニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₂−Ｃ₂₂アルキニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₄−Ｃ₂₂ジエニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₆−Ｃ₂₂トリエニル、Ｃ₁−Ｃ６アルコキシ、カルボキシル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド、シアノ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルカノイルオキシ、ヒドロキシル、アリール、ヘテロアリール、チオール、チオエーテル、ならびにハロゲンから選択される）
を有するアルキルカーボネートが提供される。

本発明の別の態様において、一般構造１：

（式中、Ｒは、置換および非置換、分岐鎖および直鎖、飽和、不飽和および多価不飽和のＣ₁−Ｃ₂₂アルキルから選択され、そしてＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は独立に、水素、置換および非置換、分岐鎖および直鎖、飽和のＣ₄−Ｃ₂₂アルキル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₂−Ｃ₂₂アルケニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₂−Ｃ₂₂アルキニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₄−Ｃ₂₂ジエニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₆−Ｃ₂₂トリエニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、カルボキシル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド、シアノ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルカノイルオキシ、ヒドロキシル、アリール、ヘテロアリール、チオール、チオエーテル、ならびにハロゲンから選択される）
を有するアルキルカーボネートの製造方法であって、式４：

の少なくとも１種のアルコールを、クロロホルメート、ブロモホルメート、またはジカーボネートと反応させて該式１のアルキルカーボネートを生成することを含む、方法が提供される。

詳細な説明
本発明において、一般構造１：

（式中、Ｒは、置換および非置換、分岐鎖および直鎖、飽和、不飽和および多価不飽和のＣ₁−Ｃ₂₂アルキルから選択され、そしてＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は独立に、水素、置換および非置換、分岐鎖および直鎖、飽和のＣ₄−Ｃ₂₂アルキル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₂−Ｃ₂₂アルケニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₂−Ｃ₂₂アルキニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₄−Ｃ₂₂ジエニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₆−Ｃ₂₂トリエニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、カルボキシル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド、シアノ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルカノイルオキシ、ヒドロキシル、アリール、ヘテロアリール、チオール、チオエーテル、ならびにハロゲンから選択される）
を有するフェノール性アンチエイジングスキンケア含有成分の新規なアルキルカーボネートが見出された。用語「Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ」、「Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル」、「Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ」および「Ｃ₂−Ｃ₆アルカノイルオキシ」は、構造 −ＯＲ⁶，−ＣＯ₂Ｒ⁷，−ＯＣＯ₂Ｒ⁷および−ＯＣＯＲ⁷に対応する基をそれぞれ意味するのに用いる。ここで、Ｒ⁶はＣ₁−Ｃ₆の直鎖または分岐鎖、置換または非置換のアルキルであり、Ｒ⁷は、Ｃ₁−Ｃ₁₄の直鎖または分岐鎖、置換または非置換のアルキルである。用語「Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル」および「Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド」は、構造 −ＮＨＣＯＲ⁸，−ＣＯＮＨＲ⁸に対応する基をそれぞれ意味するのに用いる。ここでＲ⁸はＣ₁−Ｃ₁₅の直鎖または分岐鎖、置換または非置換のアルキルである。隣接するＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵の任意の２つ以上が接続されて１つ以上の縮合環を形成できる。

飽和、不飽和および多価不飽和の基（これはＲで表すことができる）は、約２２個以下の炭素原子を含有する直鎖または分岐鎖の脂肪族炭化水素基であることができ、そして例えば、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、カルボキシル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド、シアノ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシアリール、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルカノイルオキシ、ヒドロキシ、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、チオール、チオエーテル、およびハロゲンから選択される１〜３の基で置換されていることができる。用語「Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ」、「Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル」、「Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ」および「Ｃ₂−Ｃ₆アルカノイルオキシ」は、構造 −ＯＲ⁶，−ＣＯ₂Ｒ⁷，−ＯＣＯ₂Ｒ⁷および−ＯＣＯＲ⁷に対応する基をそれぞれ意味するのに用いる。ここで、Ｒ⁶はＣ₁−Ｃ₆の直鎖または分岐鎖、置換または非置換のアルキルであり、Ｒ⁷は、Ｃ₁−Ｃ₁₄の直鎖または分岐鎖、置換または非置換のアルキルである。用語「Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル」および「Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド」は、構造 −ＮＨＣＯＲ⁸，−ＣＯＮＨＲ⁸に対応する基をそれぞれ意味するのに用いる。ここでＲ⁸はＣ₁−Ｃ₁₅の直鎖または分岐鎖、置換または非置換のアルキルである。用語「Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシアリール」は、構造 −Ａｒ−ＯＣＯＯＲ⁹に対応する基を意味するのに用いる。ここでＲ⁹はＣ₁−Ｃ₁₄アルキルまたは置換Ｃ₁−Ｃ₁₄アルキルである。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵で表すことができるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ジエニル基、およびトリエニル基は、約２２個以下の炭素原子を含有する直鎖または分岐鎖の脂肪族炭化水素基であることができ、そして例えば、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、カルボキシル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド、シアノ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシアリール、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルカノイルオキシ、ヒドロキシ、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、チオール、チオエーテル、およびハロゲンから選択される１〜３の基で置換されていることができる。用語「Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ」、「Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル」、「Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ」および「Ｃ₂−Ｃ₆アルカノイルオキシ」は、構造 −ＯＲ⁶，−ＣＯ₂Ｒ⁷，−ＯＣＯ₂Ｒ⁷および−ＯＣＯＲ⁷に対応する基をそれぞれ意味するのに用いる。ここで、Ｒ⁶はＣ₁−Ｃ₆の直鎖または分岐鎖、置換または非置換のアルキルであり、Ｒ⁷は、Ｃ₁−Ｃ₁₄の直鎖または分岐鎖、置換または非置換のアルキルである。用語「Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル」および「Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド」は、構造 −ＮＨＣＯＲ⁸，−ＣＯＮＨＲ⁸に対応する基をそれぞれ意味するのに用いる。ここでＲ⁸はＣ₁−Ｃ₁₅の直鎖または分岐鎖、置換または非置換のアルキルである。用語「Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシアリール」は、構造 −Ａｒ−ＯＣＯＯＲ⁹に対応する基を意味するのに用いる。ここでＲ⁹はＣ₁−Ｃ₁₄アルキルまたは置換Ｃ₁−Ｃ₁₄アルキルである。

Ｒ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵上の置換基として存在できるアリール基としては、フェニル、ナフチルまたはアントラセニル、ならびに、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、置換Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール、置換Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、ハロゲン、カルボキシ、シアノ、Ｃ₁−Ｃ₁₅アルカノイルオキシ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルスルホニル、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルカノイルアミノおよび−Ｏ−Ｒ¹⁰、−Ｓ−Ｒ¹⁰、−ＳＯ₂−Ｒ¹⁰、−ＮＨＳＯ₂Ｒ¹⁰、および−ＮＨＣＯ₂Ｒ¹⁰から選択される１〜３の置換基で置換されたフェニル、ナフチルまたはアントラセニルであり、Ｒ¹⁰がフェニル、ナフチル、または、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシおよびハロゲンから選択される１〜３の置換基で置換されたフェニルもしくはナフチルであるものを挙げることができる。

Ｒ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵上の置換基として存在できるヘテロアリール基としては、酸素、硫黄および窒素から選択される１〜３のヘテロ原子を含有する５−または６−員芳香環が挙げられる。そのようなヘテロアリール基の例は、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジル、ベンズオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンズイミダゾリル、インドリル等である。ヘテロアリール基は、例えば、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、置換Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、ハロゲン、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ、アリール、アリールチオ、アリールオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、およびＣ₂−Ｃ₆アルカノイルアミノ等の３つ以下の基で置換されていることができる。ヘテロアリール基はまた、縮合環系，例えばベンゾ残基またはナフト残基で置換されていることができる。これらは非置換または置換（例えば、先の文に記載する３つ以下の基で）であることができる。用語「ハロゲン」はフッ素、塩素、臭素およびヨウ素を包含する意味で用いる。

アルキルカーボネートの例としては、これらに限定するものではないが、構造２ レスベラトロールトリス（アルキルカーボネート）、構造３ ヒドロキシチロソールトリス（アルキルカーボネート）、構造４ ４−ヒドロキシベンジルアルコールジ（アルキルカーボネート）、および構造５ ４−（アルコキシカルボニルオキシ）−２−フェニルエタノールのエステル、が挙げられる。

我々の発明の新規な方法は、アルコール６：

を、クロロホルメート、ブロモホルメート、またはジカーボネートと反応させて、式１のアルキルカーボネートを生成することを含む。

該方法は、溶媒なし、または、環状もしくは非環状のエーテル溶媒，例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、もしくはテトラヒドロフラン；芳香族炭化水素，例えばベンゼン、トルエンもしくはキシレン；脂肪族もしくは脂環式の飽和もしくは不飽和の炭化水素，例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンもしくはリモネン；ハロゲン化炭化水素，例えばジクロロメタン、ジクロロエタン、ジブロモエタン、テトラクロロエチレン、もしくはクロロベンゼン；極性非プロトン性溶媒，例えばアセトニトリル、ジメチルホルムアミドもしくはジメチルスルホキシド；またはこれらの混合物から選択される不活性溶媒中で行う。本発明の一態様において、溶媒は用いない。別の態様において、ジクロロメタン、トルエン、またはこれらの混合物を用いる。

該方法は、約−１００℃〜約１００℃の間の温度で行うことができる。別の態様において、該方法は約−１００℃から溶媒の沸点までの間の温度で行うことができる。他の温度範囲は、約０℃〜６０℃、および約０℃〜約５０℃である。

クロロホルメート、ブロモホルメート、またはジカーボネートの量は、式６の化合物の各水酸基に対して約０．８５〜約２０当量の範囲であることができる。他の態様において、クロロホルメート、ブロモホルメート、またはジカーボネートの量は、式６の化合物の誘導体化される各水酸基に対して約１〜約１０当量、または約１〜約１．５当量であることができる。反応は、酸受容体の存在下で行うことができる。酸受容体の例としては、これらに限定するものではないが、３〜１５個の炭素原子を有するトリアルキルアミン、または置換もしくは非置換のピリジンが挙げられる。該方法はまた、触媒の存在下で行うことができる。触媒は、超求核性、例えばＮ，Ｎ−ジアルキルアミノピリジンまたはアルコキシピリジン、であることができる。反応のための圧力は約１ｔｏｒｒ〜約１０ａｔｏｍ圧の範囲であることができる。別の範囲は約２００ｔｏｒｒから常圧である。

本発明のカーボネートは、酵素加水分解するという予期しない性質を示す。これは特に、類似のフェノール性エステル（これらの酵素的条件下で開裂しないもの、または極めてゆっくり加水分解されるもののいずれも）として驚くべきものである。例えば、レスベラトールのトリス（ブチルカーボネート）およびトリス（メチルカーボネート）（２，ここでＲはそれぞれｎ−ブチルまたはメチルである）の両者は、トルエンおよび水性ｐＨ７バッファーの二相混合物中でのリパーゼでの処理時に、カーボネートの加水分解にあずかってジカーボネート、モノカーボネート、および母体トリフェノールを与える。酵素の不存在下では、加水分解は観測されない。一方、レスベラトロールのトリパルミテートエステルは、同条件下で最低レベルの加水分解を示した。母体含有成分のアンチエイジング特性は、フェノール性構造による抗酸化剤としてのこれらの挙動に連動すると考えられ、よって含有成分の任意の誘導体は皮膚中で開裂して有効になることが可能であることが必要である。酵素的な結果はカーボネートが対応するエステルよりも大幅により有効であるであろうことを示す。

母体フェノールはメタノール以外の殆どの有機溶媒中で不溶である。一方、カーボネートは大幅に広い溶解性プロファイルを示し、これは配合および皮膚中への浸透を助けることができる。加えて、母体フェノールは幾らか不安定であり、貯蔵時に茶色になる傾向がある。これはフェノールの酸化的不安定性に起因すると考えられ、カーボネート誘導体化はこの不安定性を改善することになる。

該方法のアルキルカーボネート生成物は、当業者に公知の方法，例えば抽出、ろ過、または結晶化を用いて単離できる。式１のアルキルカーボネート生成物は、当業者に公知の方法，例えば抽出、クロマトグラフィ、蒸留または結晶化を用いて必要に応じて精製できる。

本発明に係るアルキルカーボネートは、化粧組成物、スキンケア組成物等の組成物中で使用できる。該組成物は、例えば、皮膚の粗さ、小皺および皺の低減、光ダメージを受けた皮膚の改善、皮膚再生、皮膚の色素沈着の低減、ならびに皮膚における刺激および／または炎症反応の低減、に有用であることができる。

本発明の典型的な化粧用および／またはスキンケア用の組成物は、少なくとも０．００１質量％の本発明に係るカーボネートを含有する。例えば、該組成物は、約０．００１〜約２０．０質量％、または約０．０１〜約１０．０質量％の本発明に係るカーボネートを含有できる。より低い濃度は、より緩やかな条件で使用でき、より高濃度はより強い条件で使用できる。推奨される範囲はまた、組成物中で用いる任意の補助含有成分に左右される。

本発明の化粧用およびスキンケア用の組成物はまた、カーボネートに加えて他のスキンコンディショニング含有成分を含有できる。そのような組成物はまた、他のスキン含有成分，例えばレチノール、レチニルエステル、テトロン酸、テトロン酸誘導体、ハイドロキノン、コウジ酸、没食子酸、アルブチン、α−ヒドロキシ酸、およびアスコルビン酸の脂肪酸エステルを含有できる。このような他の含有成分は当業者に公知である。

典型的には、皮膚部位への局所適用は、キャリアと共同して実現する。採用する場合、キャリアは、１種または複数種の活性成分または補助成分の非活性化または酸化を引き起こさないという意味で、そしてこれが適用される皮膚領域へのいずれの不利な作用も引き起こさないという意味で、不活性である。例えば、本発明に係る化合物は、皮膚科学的に許容可能なキャリアまたは媒体との混合物（例えば、ローション、クリーム、軟膏、ソープ、スティック等）中で、局所適用を容易にするようにして、そして幾つかの場合には、追加的な有利な効果（例えば作用させる皮膚領域の保湿によってもたらすことができるような）を与えるようにして、適用する。多くの調合物が当該分野で公知であり、そして、油および／またはアルコールならびにエモリエント，例えばオリーブオイル、炭化水素油およびワックス、シリコーンオイル、他の植物、動物または海洋の脂肪または油、グリセリド誘導体、脂肪酸または脂肪酸エステルまたはアルコールまたはアルコールエーテル、レシチン、ラノリンおよび誘導体、多価アルコールまたはエステル、ワックスエステル、ステロール、リン脂質等、およびまた一般的には乳化剤（ノニオン性、カチオン性またはアニオン性）、を含有するローションが挙げられる。これらの同じ一般的な含有成分は、ローションよりむしろクリーム中に、またはゲル中に、または固体スティック中に、含有成分の種々の割合を用いることによって、および／または増粘剤（例えばゴムもしくは他の形の親水コロイド）を含ませることによって、配合できる。

本発明によって提供される新規な方法を、以下の例によって更に例示する。

例１：レスベラトロールトリス（メチルカーボネート）（式２，Ｒ＝Ｍｅ）の調製
レスベラトロール（１５ｇ；６５．７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（８０ｍＬ）と組合わせ、ピリジン（１８．８ｇ；２３６ｍｍｏｌ；３．６当量）を滴下添加した。メチルクロロホルメート（２６．２ｇ；２７８ｍｍｏｌ；４．２当量）を添加し、反応混合物を加熱して１時間還流させ、その時点でＨＰＬＣ分析は５つの主要なピークを示した。ピリジン（６．３ｇ；７９．６ｍｍｏｌ；１．２当量）およびメチルクロロホルメート（８．８ｇ；９３．１ｍｍｏｌ；１．４当量）を添加して１時間還流させた。ＨＰＬＣ分析で単一ピークが観測されるようになるまでこれを更に２回繰り返した。混合物を酢酸エチル（２５０ｍＬ）で希釈し、３Ｍ ＨＣｌ（３ｘ２５０ｍＬ）および５％炭酸水素ナトリウム（３ｘ２５０ｍＬ）で洗浄した。有機溶液を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮して、２６．６ｇの粗ヒドロキシチロソールトリス（メチルカーボネート）（式２、Ｒ＝Ｍｅ）を得た。該粗生成物を、１６０ｇのイソプロピルアルコールから結晶化させて２１．４ｇのレスベラトロールトリス（メチルカーボネート）（８１％）を得た。これはＨＰＬＣ分析で＞９９％の純度であった。

¹ＨＮＭＲ（水素−１核磁気共鳴）（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．６６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）；７．４６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）；７．４０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．４Ｈｚ）；７．２７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）；７．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．６Ｈｚ）；７．１６（ｔ，１Ｈ；Ｊ＝２．１Ｈｚ）；３．８６（ｂｒｓ，６Ｈ）；３．８４（ｂｒｓ，３Ｈ）
ＨＰＬＣ（高性能液体クロマトグラフィ）（４．６ｘ１５０ｍｍ Ｚｏｒｂａｘ ＳＢ−Ｃ８カラム［Ａｇｉｌｅｎｔ］，３．５μ厚，５０：５０ メタノール：水（０．１％トリフルオロ酢酸を含有）で５分間、１００％メタノールまで徐々に１分間かけ、１００％メタノールで１１分間保持、２９４ｎｍで検出）：ｔ_Ｒ ８．６５分（２，Ｒ＝Ｍｅ）；ｔ_Ｒ ３．３分（レスベラトロール） ＬＣＭＳ：４０２（２のＭ⁺，Ｒ＝Ｍｅ）

例２：レスベラトロールトリス（ブチルカーボネート）の調製（２，Ｒ＝ｎ−Ｂｕ）
レスベラトロール（１０．０ｇ；４３．８ｍｍｏｌ）を５０ｍＬ（６１８ｍｍｏｌ；１４．１当量）のピリジン中に溶解させた。混合物をトルエン（７５ｍＬ）で希釈し、２５ｍＬのトルエン中に溶解させたｎ−ブチルクロロホルメート（１９．１５ｇ；１４０ｍｍｏｌ；３．２当量）で処理した。添加中に発熱がみられ、冷却を適用した（最高温度は３７℃であった）。得られた白色の撹拌可能なスラリーを１晩室温で撹拌した。この時点でＨＰＬＣ分析は１つの主要な生成物を示したが幾つかの副次的なピークを示した（モノ−およびジ−カーボネートと推測される）。追加の２０％のブチルクロロホルメート（３．８ｇ）を添加し、混合物を１晩撹拌した。この時点でＨＰＬＣ分析は＞９４％の単一ピークを示した。混合物を１５０ｍＬの酢酸エチルおよび１００ｍＬの水の間で分離した。水層はデカンテーションした。有機層を３Ｍ ＨＣｌ（２００ｍＬ）および５％炭酸水素ナトリウム（１００ｍＬ）で洗浄し、乾燥させ（ＭｇＳＯ₄）、次いで減圧中、穏やかに加熱して濃縮して、２２．９６ｇ（９９％）の式２，Ｒ＝ｎ−Ｂｕを得た。¹Ｈ ＮＭＲは予測される構造と一致しており、ＨＰＬＣ分析は９７．１％の純度、および０．７％のレスベラトロールを示した。

¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ７．４９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．７，２．０Ｈｚ）；７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）；７．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．７，１．９Ｈｚ）；７．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１６．３Ｈｚ）；７．０１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝ ２．２Ｈｚ）；６．９７（ｔ，１Ｈ；Ｊ＝１６．３Ｈｚ）；４．２７５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）；４．２６５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）；１．８−１．６５（ｍ，６Ｈ）；１．５３−１．３７（ｍ，６Ｈ）；０．９８（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）
ＨＰＬＣ−ＭＳ（４．６ｘ１５０ｍｍ Ｚｏｒｂａｘ ＳＢ−Ｃ８カラム［Ａｇｉｌｅｎｔ］，３．５μ厚，５０：５０ メタノール：水（０．１％トリフルオロ酢酸を含有）で５分間、１００％メタノールまで徐々に１分間かけ、１００％メタノールで１１分間保持、２９４ｎｍで検出）：ｔ_Ｒ ９．１８分（２，Ｒ＝ｎ−Ｂｕ，Ｍ⁺ ５２８）；ｔ_Ｒ ８．８分（レスベラトロールビス［ブチルカーボネート］，Ｍ⁺ ４２８）；ｔ_Ｒ ８．５分（レスベラトロールモノ［ブチルカーボネート］，Ｍ⁺ ３２８）；ｔ_Ｒ ３．３分（レスベラトロール，Ｍ⁺ ２２８）

比較例１：レスベラトロールトリパルミテートの調製
レスベラトロール（１００ｍｇ；０．４４ｍｍｏｌ）を１ｍＬのピリジン中に溶解させた。パルミトイルクロリド（４２５μＬ；１．４０ｍｍｏｌ；３．２当量）を添加し、直ちに固体の形成がみられた。この混合物を室温で１２時間撹拌し、この時点でＨＰＬＣ分析はレスベラトロールの存在を示さなかった。混合物を酢酸エチルおよび水に分離し、水層をデカンテーションした。上部有機層を１．５Ｍ ＨＣｌ（１０ｍＬ）および５％炭酸水素ナトリウム（１０ｍＬ）で順に洗浄し、乾燥させ（ＭｇＳＯ₄）、濃縮して、０．４５ｇ（９９％）のレスベラトロールトリパルミテートを得た。

¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ７．４９（ｂｒ ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）；７．１５−６．９５（ｍ，６Ｈ）；６．８０（ｔ，１Ｈ；Ｊ＝２．０Ｈｚ）；２．５５（ｔ，６Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）；１．５−１．２（ｍ，７８Ｈ）；０．８８（ｔ，９Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）
ＨＰＬＣ（４．６ｘ１５０ｍｍ Ｚｏｒｂａｘ ＳＢ−Ｃ８カラム［Ａｇｉｌｅｎｔ］，３．５μ厚，５０：５０ メタノール：水（０．１％トリフルオロ酢酸を含有）で５分間、１００％メタノールまで徐々に１分間かけ、１００％メタノールで２４分間保持、２９４ｎｍで検出）：ｔ_Ｒ ２５．０分（レスベラトロールトリパルミテート）；ｔ_Ｒ ３．３分（レスベラトロール）

例３：レスベラトロールトリス（メチルカーボネート）の酵素加水分解
レスベラトロールトリス（メチルカーボネート）（１００ｍｇ；０．２４９ｍｍｏｌ）を２ｍＬのトルエン中に溶解させた。２ｍＬのｐＨ７バッファーを添加し、次いで１００ｍｇのＮｏｖｏｚｙｍ ４３５（固定化されたＣａｎｄｉｄａ Ａｎｔａｒｃｔｉｃａ リパーゼＢ）を添加した。混合物を室温で２２時間激しく撹拌し、この時点でＨＰＬＣ分析（両層で等体積）は２３．７５％レスベラトロール、５２．９％レスベラトロールモノ（メチルカーボネート）、１５．８％レスベラトロールビス（メチルカーボネート）および７．０％レスベラトロールトリス（メチルカーボネート）を示した。室温で３日後、ＨＰＬＣ分析は６３．８％レスベラトロール、３５．１ ％レスベラトロールモノ（メチルカーボネート）、０．６％レスベラトロールビス（メチルカーボネート）を示し、検出可能なレスベラトロールトリス（ブチルカーボネート）は示さなかった。酵素不存在下での同様の反応の実施では、３日後の検出可能な加水分解は示さなかった。

例４：レスベラトロールトリス（ブチルカーボネート）の酵素加水分解
レスベラトロールトリス（ブチルカーボネート）（１００ｍｇ；０．１８９ｍｍｏｌ）を２ｍＬのトルエン中に溶解させた。２ｍＬのｐＨ７バッファーを添加し、次いで１００ｍｇのＮｏｖｏｚｙｍ ４３５（固定化されたＣａｎｄｉｄａ Ａｎｔａｒｃｔｉｃａ リパーゼＢ）を添加した。混合物を室温で１日間激しく撹拌し、この時点で上層は４１％レスベラトロールビス（ブチルカーボネート）および５９％レスベラトロールトリス（ブチルカーボネート）を示した。室温で３日後、等体積の上層および下層をＨＰＬＣで分析し、３５％レスベラトロール、５％レスベラトロールモノ（ブチルカーボネート）、４１％レスベラトロールジ（ブチルカーボネート）、および１９％レスベラトロールトリス（ブチルカーボネート）を示した。

比較例２：レスベラトロールトリパルミテートの酵素加水分解
レスベラトロールトリパルミテート（１００ｍｇ；０．１１ｍｍｏｌ）を２ｍＬのトルエン中に溶解させた。２ｍＬのｐＨ７バッファーを添加し、次いで１００ｍｇのＮｏｖｏｚｙｍ ４３５（固定化されたＣａｎｄｉｄａ Ａｎｔａｒｃｔｉｃａ リパーゼＢ）を添加した。混合物を室温で３日間激しく撹拌し、得られたのは最低レベルの加水分解であり、ＨＰＬＣ分析では、レスベラトロールは殆どなく：８９％レスベラトロールトリパルミテート、６．４％レスベラトロールジパルミテート、および０．９％レスベラトロールであった。

例５：４−ヒドロキシベンジルアルコールビス（ブチルカーボネート）の調製
４−ヒドロキシベンジルアルコール（１．０ｇ；８．０６ｍｍｏｌ）を２ｍＬ（２４．７ｍｍｏｌ；３当量）のピリジン中に溶解させた。トルエン（９ｍＬ）を添加して曇った溶液を得た。これを氷水中で冷却した。ブチルクロロホルメート（２．４２ｇ；１７．７２ｍｍｏｌ；２．２当量）を添加し、直ちに固体の形成があった。混合物を０℃で１時間撹拌し、この時点でＨＰＬＣ分析は、４−ヒドロキシベンジルアルコールを示さず、１つの主要なピークであった。混合物を酢酸エチルで希釈し、次いで水、１．５Ｍ ＨＣｌ（２０ｍｌ）、および５％炭酸水素ナトリウム（２０ｍＬ）で洗浄した。有機溶液を硫酸マグネシウムで乾燥させて濃縮し、２．５２ｇ（９６％）の４−ヒドロキシベンジルアルコールビス（ブチルカーボネート）を得た。

¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ７．４１（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ）；７．１９（ｄｔ，２Ｈ，Ｊ＝８．７，２．６Ｈｚ）；５．１４（ｓ，２Ｈ）；４．２６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）；４．１５（ｔ，２Ｈ；Ｊ＝６．６Ｈｚ）；１．８−１．６（ｍ，４Ｈ）；１．５２−１．３２（ｍ，４Ｈ）；０．９７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）；０．９３（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）
ＨＰＬＣ（４．６ｘ１５０ｍｍ Ｚｏｒｂａｘ ＳＢ−Ｃ８カラム［Ａｇｉｌｅｎｔ］，３．５μ厚，３：９７ メタノール：水（０．１％トリフルオロ酢酸を含有）、４０：６０ メタノール：水（０．１％トリフルオロ酢酸を含有）まで徐々に２０分間かけ、１００％メタノールまで徐々に５分間かけ、１００％メタノールで５分間保持、２９４ｎｍおよび２２５ｎｍで検出）：ｔ_Ｒ ２７．１分（４−ヒドロキシベンジルアルコールビス［ブチルカーボネート］；ｔ_Ｒ ８．５分（ヒドロキシベンジルアルコール）

例６：４−ヒドロキシベンジルアルコールビス（ブチルカーボネート）の酵素加水分解
４−ヒドロキシベンジルアルコールビス（ブチルカーボネート）（１００ｍｇ；０．３０８ｍｍｏｌ）を１ｍＬのトルエン中に溶解させた。１ｍＬのｐＨ７バッファーを添加し、次いで１００ｍｇのＮｏｖｏｚｙｍ ４３５（固定化されたＣａｎｄｉｄａ Ａｎｔａｒｃｔｉｃａ リパーゼＢ）を添加した。混合物を室温で１．５時間激しく撹拌し、この時点でＨＰＬＣ分析（両層の等体積）は、１．５％４−ヒドロキシベンジルアルコール、各々４０および１４％の４−ヒドロキシベンジルアルコールモノ（ブチルカーボネート）、ならびに４１％４−ヒドロキシベンジルアルコールビス（ブチルカーボネート）を示した。４−ヒドロキシベンジルアルコールの分析は、トルエン中および水中の両者でのその不溶性に起因して不正確であることに留意されたい。室温で２１時間後、ＨＰＬＣ分析は、極めて少ないモノ−およびビス−カーボネートを示した。酵素の不存在下での同様の反応の実施は、３日後に検出可能な加水分解を示さなかった。

例７：ヒドロキシチロソールトリス（メチルカーボネート）（３，Ｒ＝Ｍｅ）の調製
ヒドロキシチロソール（１．０ｇ；６．４９ｍｍｏｌ）を２．３ｍＬ（２４．７ｍｍｏｌ；４．４当量）のピリジン中に溶解させた。トルエン（９ｍＬ）を添加して曇った溶液を得た。これを氷水中で冷却した。メチルクロロホルメート（２．４５ｇ；２５．９ｍｍｏｌ；４当量）を添加し、直ちに固体の形成があった。混合物を０℃で４５分間撹拌し、６時間かけて室温まで温めた。この時点でＨＰＬＣ分析は、ヒドロキシチロソールを示さず、１つの主要なピークであった。混合物を酢酸エチルで希釈し、次いで水、１．５Ｍ ＨＣｌ（２０ｍｌ）、および５％炭酸水素ナトリウム（２０ｍＬ）で洗浄した。有機溶液を硫酸マグネシウムで乾燥させて濃縮し、１．６４ｇ（７７％）の３，Ｒ＝Ｍｅを得た。これは¹Ｈ ＮＭＲ分析により純粋であった。

¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ７．２４−７．１１（ｍ，３Ｈ）；４．３４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）；３．９０５（ｓ，３Ｈ）；３．９０（ｓ，３Ｈ）；３．７７（ｓ，３Ｈ）；２．９６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）
ＨＰＬＣ（４．６ｘ１５０ｍｍ Ｚｏｒｂａｘ ＳＢ−Ｃ８カラム［Ａｇｉｌｅｎｔ］，３．５μ厚，３：９７ メタノール：水（０．１％トリフルオロ酢酸を含有）、４０：６０ メタノール：水（０．１％トリフルオロ酢酸を含有）まで徐々に２０分間かけ、１００％メタノールまで徐々に５分間かけ、１００％メタノールで５分間保持、２９４ｎｍおよび２２５ｎｍで検出）：ｔ_Ｒ ２５．２分（３，Ｒ＝Ｍｅ）；ｔ_Ｒ ８．５分（ヒドロキシチロソール）

比較例３：ヒドロキシチロソールトリヘキサノエートの調製
ヒドロキシチロソール（１．００ｇ；６．４９ｍｍｏｌ）を２．３ｍＬ（２８．４ｍｍｏｌ；４．４当量）のピリジン中に溶解させた。混合物をトルエン（９ｍＬ）で希釈し、氷水中で冷却した。ヘキサノイルクロリド（２．９９ｍＬ；２１．４ｍｍｏｌ；３．３当量）を添加し、直ちに固体の形成があった。混合物を１晩かけて室温まで温めた。この時点でＨＰＬＣ分析は、存在するヒドロキシチロソールを示さず、１つの主要なピークであった。混合物を酢酸エチル中および水中に分離し水層をデカンテーションした。上部有機層を、１．５Ｍ ＨＣｌ（２０ｍＬ）、および５％炭酸水素ナトリウム（２０ｍＬ）で順に洗浄し、乾燥（ＭｇＳＯ₄）、濃縮し、２．８６ｇ（９８％）のヒドロキシチロソールトリヘキサノエートを得た。これは１．９％の残存ヒドロキシチロソールを含有していた。

¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ７．１−７．０（ｍ，３Ｈ）；４．２７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）；２．９２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）；２．５２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）；２．４４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）；２．２８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）；１．８−１．５５（ｍ，６Ｈ）；１．４５−１．２５（ｍ，１２Ｈ），０．９７−０．８５（ｍ，９Ｈ）
ＨＰＬＣ（４．６ｘ１５０ｍｍ Ｚｏｒｂａｘ ＳＢ−Ｃ８カラム［Ａｇｉｌｅｎｔ］，３．５μ厚，３：９７ メタノール：水（０．１％トリフルオロ酢酸を含有）、４０：６０ メタノール：水（０．１％トリフルオロ酢酸を含有）まで徐々に２０分間かけ、１００％メタノールまで徐々に５分間かけ、１００％メタノールで５分間保持、２９４ｎｍおよび２２５ｎｍで検出）：ｔ_Ｒ ２７．８分（ヒドロキシチロソールトリヘキサノエート）；ｔ_Ｒ ８．５分（ヒドロキシチロソール）

例８：ヒドロキシチロソールトリス（メチルカーボネート）の酵素加水分解
ヒドロキシチロソールトリス（メチルカーボネート）（３，Ｒ＝Ｍｅ，１００ｍｇ；０．３０５ｍｍｏｌ）を２ｍＬのトルエン中に溶解させた。２ｍＬのｐＨ７バッファーを添加し、次いで１００ｍｇのＮｏｖｏｚｙｍ ４３５（固定化されたＣａｎｄｉｄａ Ａｎｔａｒｃｔｉｃａ リパーゼＢ）を添加した。混合物を室温で２４時間激しく撹拌し、この時点でＨＰＬＣ分析（両層の等体積）は、７４％のヒドロキシチロソール、１．５％のモノ−およびジ−カーボネート、ならびに１７％の３（Ｒ＝Ｍｅ）を示した。室温で４８時間後、ＨＰＬＣ分析は、９２％のヒドロキシチロソール、５％のモノ−およびジ−カーボネート、ならびに３％の３（Ｒ＝Ｍｅ）を示した。酵素の不存在下での同様の反応の実施は、２日後に検出可能なヒドロキシチロソールへの加水分解を示さなかった。

比較例４：ヒドロキシチロソールトリヘキサノエートの酵素加水分解
ヒドロキシチロソールトリヘキサノエート（ＨＰＬＣ分析で１．９％のドロキシチロソールを含有）（１００ｍｇ；０．２２ｍｍｏｌ）を２ｍＬのトルエン中に溶解させた。２ｍＬのｐＨ７バッファーを添加し、次いで１００ｍｇのＮｏｖｏｚｙｍ ４３５（固定化されたＣａｎｄｉｄａ Ａｎｔａｒｃｔｉｃａ リパーゼＢ）を添加した。混合物を室温で４８時間激しく撹拌し、７２．３％ヒドロキシチロソールトリヘキサノエート、１８．７％の３，４−ジ（ヘキサノイル）フェニルエタノール、および２．５％のヒドロキシチロソールを得た。

例９：４−（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）−２−フェネチルリノレエートの調製
チロソールリノレエート（４−ヒドロキシ−２−フェネチルリノレエート）（２．０ｇ；４．９９ｍｍｏｌ）を２ｍＬ（２４．７ｍｍｏｌ；３当量）のピリジン中に溶解させた。トルエン（９ｍＬ）を添加して曇った溶液を得た。これを氷水中で冷却した。ブチルクロロホルメート（２．４２ｇ；１７．７２ｍｍｏｌ；２．２当量）を添加し、直ちに固体の形成があった。混合物を室温まで温め、６時間撹拌した。この時点でＨＰＬＣ分析は、＜２％のチロソールリノレエートを示し、１つの主要なピークであった。混合物を酢酸エチルで希釈し、次いで水、１．５Ｍ ＨＣｌ（２０ｍｌ）、および５％炭酸水素ナトリウム（２０ｍＬ）で順に洗浄した。有機溶液を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮して、２．７５ｇの４−（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）−２−フェネチルリノレエートを得た。

¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）；７．１０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）；５．３５（ｍ，４Ｈ）；４．２７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）；４．２４（ｔ，２Ｈ；Ｊ＝６．７Ｈｚ）；２．９３（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）；２．７７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）；２．２８（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）；２．１−２．０（ｍ，４Ｈ）；１．８−１．６５（ｍ，２Ｈ）；１．６５−１．２５（ｍ，２０Ｈ）；０．９７（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）；０．８９（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）
ＨＰＬＣ（４．６ｘ１５０ｍｍ Ｚｏｒｂａｘ ＳＢ−Ｃ８カラム［Ａｇｉｌｅｎｔ］，３．５μ厚，１０：９０ メタノール：水（０．１％トリフルオロ酢酸を含有）で２０分間、２２５ｎｍで検出）：ｔ_Ｒ １０．８分（４−（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）−２−フェネチルリノレエート）；ｔ_Ｒ ５．２分（チロソールリノレエート）

Claims (17)

1. 一般構造１：
   

   

   （式中、Ｒは、置換および非置換、分岐鎖および直鎖、飽和、不飽和および多価不飽和のＣ₁−Ｃ₂₂アルキルから選択され、そしてＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は独立に、水素、置換および非置換、分岐鎖および直鎖、飽和のＣ₄−Ｃ₂₂アルキル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₂−Ｃ₂₂アルケニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₂−Ｃ₂₂アルキニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₄−Ｃ₂₂ジエニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₆−Ｃ₂₂トリエニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、カルボキシル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド、シアノ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルカノイルオキシ、ヒドロキシル、アリール、ヘテロアリール、チオール、チオエーテル、ならびにハロゲンから選択される）
   を有する、アルキルカーボネート。
2. Ｒが、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、カルボキシル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド、シアノ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルカノイルオキシ、ヒドロキシル、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、チオール、チオエーテル、およびハロゲンから選択される１〜３の基で置換されている、請求項１に記載のアルキルカーボネート。
3. Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵で表されることができるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ジエニル基およびトリエニル基が、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、カルボキシル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド、シアノ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシアリール、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルカノイルオキシ、ヒドロキシ、アリール、置換アリール、ヘテロアリール、置換ヘテロアリール、チオール、チオエーテル、およびハロゲンから選択される１〜３の基で置換されている、請求項１に記載のアルキルカーボネート。
4. 該アリール基が、フェニル、ナフチル、アントラセニル、および、１〜３の置換基で置換されたフェニル、ナフチルまたはアントラセニルからなる群から選択される、請求項１に記載のアルキルカーボネート。
5. 該置換基が、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、置換Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール、置換Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、ハロゲン、カルボキシ、シアノ、Ｃ₁−Ｃ₁₅アルカノイルオキシ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルスルホニル、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルカノイルアミノおよび−Ｏ−Ｒ¹⁰、−Ｓ−Ｒ¹⁰、−ＳＯ₂−Ｒ¹⁰、−ＮＨＳＯ₂Ｒ¹⁰、および−ＮＨＣＯ₂Ｒ¹⁰からなる群から選択され、Ｒ¹⁰が、フェニル、ナフチル、または、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシおよびハロゲンから選択される１〜３の基で置換されたフェニルもしくはナフチルである、請求項４に記載のアルキルカーボネート。
6. 該ヘテロアリール基が、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、オキサジアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジル、ベンズオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンズイミダゾリルおよびインドリルからなる群から選択される、請求項１に記載のアルキルカーボネート。
7. 該ヘテロアリール基が、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、置換Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、ハロゲン、Ｃ₁−Ｃ₆アルキルチオ、アリール、アリールチオ、アリールオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₆アルカノイルアミノ、および縮合環系からなる群から独立に選択される３つ以下の基で置換されている、請求項１に記載のアルキルカーボネート。
8. 該アルキルカーボネートが、レスベラトロールトリス（アルキルカーボネート）、ヒドロキシチロソールトリス（アルキルカーボネート）、４−ヒドロキシベンジルアルコールジ（アルキルカーボネート）、または４−（アルコキシカルボニルオキシ）−２−フェニルエタノールのＣ₂−Ｃ₂₂の飽和、不飽和もしくは多価不飽和のエステルである、請求項１に記載のアルキルカーボネート。
9. 一般構造１：
   

   

   （式中、Ｒは、置換および非置換、分岐鎖および直鎖、飽和、不飽和および多価不飽和のＣ₁−Ｃ₂₂アルキルから選択され、そしてＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は独立に、水素、置換および非置換、分岐鎖および直鎖、飽和のＣ₄−Ｃ₂₂アルキル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₂−Ｃ₂₂アルケニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₂−Ｃ₂₂アルキニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₄−Ｃ₂₂ジエニル、置換および非置換、分岐鎖および直鎖のＣ₆−Ｃ₂₂トリエニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、カルボキシル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミノカルボニル、Ｃ₁−Ｃ₁₅アミド、シアノ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニル、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルコキシカルボニルオキシ、Ｃ₂−Ｃ₁₅アルカノイルオキシ、ヒドロキシ、アリール、ヘテロアリール、チオール、チオエーテル、ならびにハロゲンから選択される）
   を有するアルキルカーボネートの製造方法であって、
   式４：
   

   

   の少なくとも１種のアルコールを、クロロホルメート、ブロモホルメート、またはジカーボネートと反応させて該式１のアルキルカーボネートを生成することを含む、方法。
10. 該方法を、溶媒なし、または、環状エーテルもしくは非環状エーテル、芳香族炭化水素、脂肪族もしくは脂環式の飽和もしくは不飽和の炭化水素、ハロゲン化炭化水素、極性非プロトン性溶媒、もしくはこれらの混合物からなる群から選択される不活性溶媒中で行う、請求項９に記載の方法。
11. 該方法を、約−１００℃〜約１００℃の間の温度で行う、請求項９に記載の方法。
12. クロロホルメート、ブロモホルメート、またはジカーボネートの量が、式４の化合物の各水酸基に対して約０．８５〜約２０当量の範囲である、請求項９に記載の方法。
13. 該反応を酸受容体の存在下で行う、請求項９に記載の方法。
14. 該反応を触媒の存在下で行う、請求項９に記載の方法。
15. 請求項１に記載のアルキルカーボネートを含む、組成物。
16. 請求項１５に記載のアルキルカーボネートを含む、化粧組成物。
17. 該アルキルカーボネートの量が少なくとも０．００１質量％である、請求項１６に記載の化粧組成物。