JP2013508920A - プラズマ処理システムにおける電流制御 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくともウエハを処理するためにプラズマを生成するプラズマ処理システムが開示されている。プラズマ処理システムは、プラズマの少なくとも一部を維持するための電流を伝導するコイルを備える。プラズマ処理システムは、さらに、位相角を測定することなく供給電流の量を測定して供給電流の電流量測定値を提供するためにコイルに接続されたセンサを備える。供給電流は、上記の電流、または、(例えば、上記の電流を含む)複数の電流を提供するために用いられる全電流である。プラズマ処理システムは、さらに、位相角測定値に関連する情報を用いることなく、電流量測定値および/または電流量測定値を用いて得られた情報を用いてコマンドを生成し、供給電流の量および/または全電流の量を制御するためのコマンドを提供するために、センサに接続された制御器を備える。
【選択図】図1
Description
Claims (20)
- 少なくともウエハを処理するためにプラズマを生成するプラズマ処理システムであって、
前記プラズマの少なくとも第1の部分を維持するための第1の電流を伝導する第1のコイルと、
前記供給電流の位相角を測定することなく供給電流の量を測定して第1の電流量測定値を提供するために前記第1のコイルに接続された第1の電流量センサであって、前記供給電流は、前記第1電流、または、複数の電流を供給するために用いられる全電流であり、前記複数の電流は、前記供給電流が前記全電流である場合には前記第1の電流を含む、第1の電流量センサと、
位相角測定値に関連する情報を用いることなく、前記第1の電流量測定値および前記第1の電流量測定値を用いて得られた情報の少なくとも一方を用いて第1のコマンドを生成し、前記第1のコマンドを提供して前記供給電流の量および前記全電流の量の少なくとも一方を制御するために、前記第1の電流量センサに接続された第1の制御器と、
を備える、プラズマ処理システム。 - 請求項1に記載のプラズマ処理システムであって、
前記供給電流は前記第1の電流である、プラズマ処理システム。 - 請求項1に記載のプラズマ処理システムであって、さらに、
前記供給電流を分配する分配器であって、前記第1のコイルは前記分配器を介して前記第1の電流量センサに接続される分配器と、
前記プラズマの少なくとも第2の部分を維持するための第2の電流を伝導する第2のコイルであって、前記第2のコイルは前記分配器を介して前記第1の電流量センサに接続され、前記第2の電流は前記複数の電流に含まれており、前記供給電流は前記全電流である第2のコイルと、
を備える、プラズマ処理システム。 - 請求項3に記載のプラズマ処理システムであって、さらに、
前記第1の電流の量を測定して第2の電流量測定値を提供するための第2の電流量センサであって、前記第1のコイルは前記第2の電流量センサに接続される第2の電流量センサと、
前記第2の電流の量を測定して第3の電流量測定値を提供するための第3の電流量センサであって、前記第2のコイルは前記第2の電流量センサに接続される第3の電流量センサと、
前記第2の電流量測定値、前記第3の電流量測定値、前記第2の電流量測定値を用いて得られた情報、および、前記第3の電流量測定値を用いて得られた情報の内の少なくとも1つを用いて第2のコマンドを生成するために前記第2の電流量センサおよび前記第3の電流量センサに接続され、前記第2のコマンドを前記分配器に提供して前記第1の電流の量および前記第2の電流の量の少なくとも一方を制御するために前記分配器に接続された第2の制御器と、
を備える、プラズマ処理システム。 - 請求項4に記載のプラズマ処理システムであって、
前記第2の制御器は、位相角測定値を用いることなく前記第2のコマンドを生成する、プラズマ処理システム。 - 請求項1に記載のプラズマ処理システムであって、さらに、
前記供給電流を分配する分配器であって、前記第1のコイルは前記分配器を介して前記第1の電流量センサに接続される分配器と、
前記プラズマの前記第1の部分以外の前記プラズマの少なくとも1組の部分を維持するための1組の電流を伝導する1組のコイルと、
を備え、
前記1組のコイルは、前記分配器を介して前記第1の電流量センサに接続され、前記1組の電流は前記複数の電流に含まれており、前記供給電流は前記全電流であり、前記1組のコイルは少なくとも2つのコイルを含む、プラズマ処理システム。 - 請求項6に記載のプラズマ処理システムであって、さらに、
前記第1の電流の量を測定して第2の電流量測定値を提供するための第2の電流量センサであって、前記第1のコイルは前記第2の電流量センサを介して前記分配器に接続される第2の電流量センサと、
前記1組の電流の量を測定して1組の電流量測定値を提供するための1組の電流量センサであって、前記1組の電流量測定値の各々は前記1組の電流の1つに関連しており、前記1組のコイルの各々は前記1組の電流量センサの1つに接続される1組の電流量センサと、
前記第2の電流量測定値、前記1組の電流量測定値の少なくとも1つ、前記第2の電流量測定値を用いて得られた情報、および、前記1組の電流量測定値の前記少なくとも1つを用いて得られた情報の内の少なくとも1つを用いて第2のコマンドを生成するために前記第2の電流量センサおよび前記1組の電流量センサに接続され、前記第2のコマンドを前記分配器に提供して前記第1の電流の量と前記1組の電流の量の内の1または複数の量との少なくとも一方を制御するために前記分配器に接続された第2の制御器と、
を備える、プラズマ処理システム。 - 請求項1に記載のプラズマ処理システムであって、さらに、
前記供給電流を分配する分配器であって、前記第1のコイルは前記分配器に接続され、前記供給電流は前記第1の電流である分配器と、
前記プラズマの少なくとも第2の部分を維持するための第2の電流を伝導する第2のコイルであって、前記第2のコイルは前記分配器に接続され、前記第2の電流は前記複数の電流に含まれる第2のコイルと、
を備える、プラズマ処理システム。 - 請求項8に記載のプラズマ処理システムであって、さらに、
前記第1の電流量測定値および前記第1の電流量測定値を用いて得られた情報の少なくとも一方を用いて第2のコマンドを生成するために前記第1の電流量センサに接続され、前記第2のコマンドを前記分配器に提供して前記第1の電流の量および前記第2の電流の量の少なくとも一方を制御するために前記分配器に接続された第2の制御器を備える、プラズマ処理システム。 - 請求項8に記載のプラズマ処理システムであって、さらに、
前記第2の電流の量を測定して第2の電流量測定値を提供するための第2の電流量センサであって、前記第2のコイルは前記第2の電流量センサに接続される第2の電流量センサと、
前記第1の電流量測定値、前記第2の電流量測定値、前記第1の電流量測定値を用いて得られた情報、および、前記第2の電流量測定値を用いて得られた情報の内の少なくとも1つを用いて第2のコマンドを生成するために前記第1の電流量センサおよび前記第2の電流量センサに接続され、前記第2のコマンドを前記分配器に提供して前記第1の電流の量および前記第2の電流の量の少なくとも一方を制御するために前記分配器に接続された第2の制御器と、
を備える、プラズマ処理システム。 - 請求項10に記載のプラズマ処理システムであって、
前記第2の制御器は、位相角測定値を用いることなく前記第2のコマンドを生成する、プラズマ処理システム。 - 請求項1に記載のプラズマ処理システムであって、さらに、
前記全電流を分配する分配器であって、前記第1のコイルは前記分配器に接続され、前記供給電流は前記第1の電流である分配器と、
前記プラズマの前記第1の部分以外の前記プラズマの少なくとも1組の部分を維持するための1組の電流を伝導する1組のコイルと、
を備え、
前記1組のコイルは前記分配器に接続され、前記1組の電流は前記複数の電流に含まれており、前記1組のコイルは少なくとも2つのコイルを含む、プラズマ処理システム。 - 請求項12に記載のプラズマ処理システムであって、さらに、
前記第1の電流量測定値および前記第1の電流量測定値を用いて得られた情報の少なくとも一方を用いて第2のコマンドを生成するために前記第1の電流量センサに接続され、前記第2のコマンドを前記分配器に提供して前記第1の電流の量と前記1組の電流の1または複数の量との少なくとも一方を制御するために前記分配器に接続された第2の制御器を備える、プラズマ処理システム。 - 請求項12に記載のプラズマ処理システムであって、さらに、
前記1組の電流の量を測定して1組の電流量測定値を提供するための1組の電流量センサであって、前記1組のコイルの各々は前記1組の電流量センサの1つに接続される1組の電流量センサと、
前記第1の電流量測定値、前記1組の電流量測定値の少なくとも1つ、前記第1の電流量測定値を用いて得られた情報、および、前記1組の電流量測定値の前記少なくとも1つを用いて得られた情報の内の少なくとも1つを用いて第2のコマンドを生成するために前記第1の電流量センサおよび前記1組の電流量センサに接続され、前記第2のコマンドを前記分配器に提供して前記第1の電流の量と前記1組の電流の1または複数の量との少なくとも一方を制御するために前記分配器に接続された第2の制御器と、
を備える、プラズマ処理システム。 - プラズマ処理システムにおいて電流制御を実行するためのメカニズムであって、
前記プラズマ処理システムは、プラズマの少なくとも第1の部分を維持するための第1の電流を伝導する第1のコイルを少なくとも備え、
前記メカニズムは、
前記供給電流の位相角を測定することなく供給電流の量を測定して第1の電流量測定値を提供するために前記第1のコイルに接続された第1の電流量センサであって、前記供給電流は、前記第1電流、または、複数の電流を供給するために用いられる全電流であり、前記複数の電流は、前記供給電流が前記全電流である場合には前記第1の電流を含む第1の電流量センサと、
位相角測定値に関連する情報を用いることなく、前記第1の電流量測定値および前記第1の電流量測定値を用いて得られた情報の少なくとも一方を用いて第1のコマンドを生成し、前記第1のコマンドを提供して前記供給電流の量および前記全電流の量の少なくとも一方を制御するために前記電流量センサに接続された第1の制御器と、
を備える、メカニズム。 - 請求項15に記載のメカニズムであって、
前記供給電流は前記第1の電流である、メカニズム。 - 請求項15に記載のメカニズムであって、
前記プラズマ処理システムは、さらに、前記プラズマの少なくとも第2の部分を維持するための第2の電流を伝導する第2のコイルを少なくとも備え、
前記メカニズムは、さらに、
前記供給電流を分配するための分配器であって、前記第1のコイルは前記分配器を介して前記第1の電流量センサに接続され、前記第2のコイルは前記分配器を介して前記第1の電流量センサに接続され、前記第2の電流は前記複数の電流に含まれており、前記供給電流は前記全電流である分配器と、
前記第1の電流の量を測定して第2の電流量測定値を提供するための第2の電流量センサであって、前記第1のコイルは前記第2の電流量センサに接続される第2の電流量センサと、
前記第2の電流の量を測定して第3の電流量測定値を提供するための第3の電流量センサであって、前記第2のコイルは前記第2の電流量センサに接続される第3の電流量センサと、
前記第2の電流量測定値、前記第3の電流量測定値、前記第2の電流量測定値を用いて得られた情報、および、前記第3の電流量測定値を用いて得られた情報の内の少なくとも1つを用いて第2のコマンドを生成するために前記第2の電流量センサおよび前記第3の電流量センサに接続され、前記第2のコマンドを前記分配器に提供して前記第1の電流の量および前記第2の電流の量の少なくとも一方を制御するために前記分配器に接続された第2の制御器と、
を備える、メカニズム。 - 請求項17に記載のメカニズムであって、
前記第2の制御器は、位相角測定値を用いることなく前記第2のコマンドを生成する、メカニズム。 - 請求項15に記載のメカニズムであって、
前記プラズマ処理システムは、さらに、前記プラズマの少なくとも第2の部分を維持するための第2の電流を伝導する第2のコイルを少なくとも備え、
前記メカニズムは、さらに、
前記供給電流を分配するための分配器であって、前記第1のコイルは前記分配器に接続され、前記供給電流は前記第1の電流であり、前記第2のコイルは前記分配器に接続され、前記第2の電流は前記複数の電流に含まれる分配器と、
前記第1の電流量測定値および前記第1の電流量測定値を用いて得られた情報の少なくとも一方を用いて第2のコマンドを生成するために前記第1の電流量センサに接続され、前記第2のコマンドを前記分配器に提供して前記第1の電流の量および前記第2の電流の量の少なくとも一方を制御するために前記分配器に接続された第2の制御器と、
を備える、メカニズム。 - 請求項15に記載のメカニズムであって、
前記プラズマ処理システムは、さらに、前記プラズマの少なくとも第2の部分を維持するための第2の電流を伝導する第2のコイルを少なくとも備え、
前記メカニズムは、さらに、
前記供給電流を分配するための分配器であって、前記第1のコイルは前記分配器に接続され、前記供給電流は前記第1の電流であり、前記第2のコイルは前記分配器に接続され、前記第2の電流は前記複数の電流に含まれる分配器と、
前記第2の電流の量を測定して第2の電流量測定値を提供するための第2の電流量センサであって、前記第2のコイルは前記分配器に接続される第2の電流量センサと、
前記第1の電流量測定値、前記第2の電流量測定値、前記第1の電流量測定値に関する情報、および、前記第2の電流量測定値に関する情報の内の少なくとも1つを用いて第2のコマンドを生成するために前記第1の電流量センサおよび前記第2の電流量センサに接続され、前記第2のコマンドを前記分配器に提供して前記第1の電流の量および前記第2の電流の量の少なくとも一方を制御するために前記分配器に接続された第2の制御器と、
を備える、メカニズム。
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