JP2013507635A - 原位置における極薄の光学膜の厚さデータ決定のための方法およびシステム - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
Claims (10)
- 薄膜の厚さに関するデータの決定のための方法であって、前記膜および基板が全体として干渉計構造を形成するように、前記膜が前記基板上に配置されることと、前記方法において、光学放射線が前記膜と前記基板によって形成された前記干渉計構造の方に発せられ、前記干渉計構造から光学的に反射される放射線が測定され、前記薄膜の厚さ関連データが前記光学的に反射された放射線によって決定されることと、を特徴とする、方法。
- 前記干渉計構造が、実質的に光学的ファブリ・ペロー干渉計構造である、請求項1に記載の方法。
- 前記膜の厚さ関連データが、前記光学的に反射される放射線スペクトル関連情報によって決定される、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記膜の厚さ関連データが接触なしで光学的に決定される、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- スペクトルが前記光学的に反射された放射線から決定され、前記スペクトルが、理論的なスペクトルと相関し、インターフェログラムを得るために、干渉計構造の少なくとも1つの厚さ値について算出され、厚さ関連データは、インターフェログラムの最大点によって決定され、そこで最大点が特定の閾値を越える、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- ALD(原子層堆積)またはCVD法によって任意に前記膜を沈着させる時、厚さ関連データが特に前記膜厚の変化に関する、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記厚さ関連データの決定が、エアリー関数、余弦関数または直方体関数等の周期関数による等の、相関方法によって実行される、先行する請求項のいずれかに記載の方法。
- 薄膜の厚さ関連データの決定のためのシステムであって、前記システムにおいて、前記膜および基板が全体として干渉計構造を形成するように、前記膜が前記基板上に配置され、前記システムは、前記膜および前記基板によって形成される前記干渉計構造の方への光学放射線の放射のための手段を備え、前記システムは、前記干渉計構造から光学的に反射される放射線を測定すること、及び光学的に反射される放射線による前記膜の厚さ関連データの決定のための手段を備えることを特徴とする、システム。
- 分光計安定性の決定のための方法であって、前記方法において、厚めで低反射のフィルムがファブリ・ペロー干渉計の前に配置され、測定されたスペクトルへの検出可能な実質的に周期的な変動を獲得するために、形成された干渉計構造の厚さ記述値は任意に相関算出によって分離され、前記値は分光計の安定性決定に使われることを特徴とする、方法。
- 薄膜の厚さに関するデータの決定のためのコンピュータプログラム製品であって、前記膜および基板が全体として干渉計構造を形成するように、前記膜が前記基板上に配置され、光学放射線は膜および基板によって形成される干渉計構造の方へ発され、前記干渉計構造から光学的に反射される放射線が測定されることと、前記コンピュータプログラム製品が、前記コンピュータプログラム製品がデータ処理装置において実行される時、光学的に反射された放射線によって前記膜の厚さに関するデータを決定するように構成されることと、を特徴とする、コンピュータプログラム製品。
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