JP2013247069A - Substrate static elimination system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、搬送する基板を除電する基板除電システムに関するものである。 The present invention relates to a substrate neutralization system that neutralizes a substrate to be transported.
液晶表示装置に用いられるガラス基板や半導体のウェハ等の基板は、ベルトコンベア等によって搬送されると共に、例えば成膜や洗浄等を行う基板処理装置へ搬入及び搬出される。しかし、上記ベルトコンベアや基板処理装置から搬出される際の剥離帯電や摩擦帯電などによって、基板には徐々に静電気が蓄積されてしまう。そして、基板の帯電量がある臨界値を超えてしまうと、近接する金属部材との間でスパークが発生し易くなる。その結果、基板に形成された素子等が損傷してしまう問題がある。 A substrate such as a glass substrate or a semiconductor wafer used in a liquid crystal display device is conveyed by a belt conveyor or the like, and is carried into and out of a substrate processing apparatus that performs film formation, cleaning, and the like. However, static electricity is gradually accumulated on the substrate due to peeling charging or frictional charging when the belt conveyor or the substrate processing apparatus is carried out. When the charge amount of the substrate exceeds a certain critical value, sparks are likely to occur between adjacent metal members. As a result, there is a problem that an element formed on the substrate is damaged.
これに対し、特許文献1には、ベルトコンベアのベルトの表面電位を静電センサにより計測し、その計測結果に基づいてベルトを除電する除電装置の除電電圧をコントローラにより制御することが開示されている。そのことにより、ベルトの電位上昇が抑えられるので、搬送する基板におけるスパークの発生が抑制される。
On the other hand,
しかし、通常、除電効果を高めるために、除電装置(イオナイザ)における除電電圧は最大値に設定されている。よって、ベルト又は基板の表面電位が大きくなったときに、除電電圧をさらに高めることはできない。すなわち、上記従来の基板搬送装置には、基板を確実に除電することが難しいという問題がある。 However, in order to enhance the neutralization effect, the neutralization voltage in the neutralization device (ionizer) is normally set to a maximum value. Therefore, the static elimination voltage cannot be further increased when the surface potential of the belt or the substrate increases. In other words, the conventional substrate transfer apparatus has a problem that it is difficult to reliably remove static electricity from the substrate.
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、搬送する基板を効率良く且つ確実に除電しようとすることにある。 The present invention has been made in view of such a point, and an object of the present invention is to efficiently and reliably remove static electricity from a substrate to be transported.
上記の目的を達成するために、この発明では、計測された帯電量に基づいて基板の搬送速度を制御するようにした。 In order to achieve the above object, in the present invention, the transport speed of the substrate is controlled based on the measured charge amount.
具体的に、第1の発明に係る基板除電システムは、載置された基板を搬送する搬送機構と、対向している上記基板の領域における帯電量を計測する帯電センサと、上記帯電センサよりも上記基板の搬送方向下流側に配置され、対向している上記基板の領域にイオンを放出する除電器と、上記帯電センサにより計測された帯電量に基づいて、上記搬送機構による上記基板の搬送速度を制御する搬送速度制御部とを備えている。 Specifically, the substrate static eliminator system according to the first aspect of the present invention includes a transport mechanism that transports a placed substrate, a charge sensor that measures the amount of charge in the region of the substrate that is facing, and a charge sensor that is higher than the charge sensor. The substrate transport speed of the substrate by the transport mechanism based on the charge eliminator disposed on the downstream side of the substrate transport direction and discharging ions to the facing region of the substrate and the charge amount measured by the charge sensor And a conveyance speed control unit for controlling.
この発明によると、搬送機構により搬送される基板は、帯電センサにより計測された帯電量に基づいて、搬送速度制御部により搬送速度が制御される。よって、帯電量が比較的多い基板については、比較的低い速度で搬送することにより、基板を確実に除電することが可能になる。一方、帯電量が比較的少ない基板については、比較的高い速度で搬送することにより、基板を効率良く除電しつつ搬送することが可能になる。 According to the present invention, the transport speed of the substrate transported by the transport mechanism is controlled by the transport speed control unit based on the charge amount measured by the charge sensor. Therefore, for a substrate having a relatively large amount of charge, the substrate can be reliably discharged by being transported at a relatively low speed. On the other hand, a substrate with a relatively small charge amount can be transported while discharging the substrate efficiently by transporting the substrate at a relatively high speed.
第2の発明は、上記第1の発明において、上記搬送速度制御部は、上記帯電センサにより計測された上記基板の帯電量が多いほど、当該基板が上記除電器に対向している間の搬送速度を低く設定することを特徴とする。 In a second aspect based on the first aspect, the transport speed control unit transports the substrate while the substrate is facing the static eliminator as the amount of charge of the substrate measured by the charge sensor increases. The speed is set low.
この発明によると、帯電量が多い基板ほど除電器に長い間対向することになるので、基板を効率良く且つ確実に除電することが可能になる。 According to the present invention, since the substrate with a larger amount of charge faces the static eliminator for a longer time, the substrate can be efficiently and reliably neutralized.
第3の発明は、上記第1の発明において、上記搬送速度制御部は、上記帯電センサにより計測された上記基板の帯電量が所定の閾値以上であるときに、当該基板が上記除電器に対向している間の搬送速度を上記基板の帯電量が上記閾値未満であるときの搬送速度よりも低く設定することを特徴とする。 In a third aspect based on the first aspect, the transport speed control unit is configured so that the substrate faces the static eliminator when the charge amount of the substrate measured by the charge sensor is equal to or greater than a predetermined threshold. In this case, the conveyance speed during the operation is set lower than the conveyance speed when the charge amount of the substrate is less than the threshold value.
この発明によると、帯電量が所定の閾値以上であるか否かによって基板の搬送速度が切り替えられるので、基板を効率良く除電しつつ搬送速度の制御を簡単にすることが可能になる。 According to the present invention, since the substrate conveyance speed is switched depending on whether or not the charge amount is equal to or greater than a predetermined threshold value, it is possible to simplify the control of the conveyance speed while efficiently discharging the substrate.
第4の発明は、上記第3の発明において、上記除電器は、上記基板の搬送方向に複数並んで設けられると共に、それぞれイオン放出状態又はイオン放出停止状態に切り替え可能に構成され、上記帯電センサにより計測された上記基板の帯電量が上記所定の閾値以上であるときに、イオン放出状態の上記除電器の数を、上記基板の帯電量が上記閾値未満であるときにおけるイオン放出状態の上記除電器の数よりも多くする除電器切替制御部をさらに有していることを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, the charge eliminator is provided in a plurality of rows in the substrate transport direction, and can be switched to an ion emission state or an ion emission stop state, respectively. When the charge amount of the substrate measured by the above is equal to or greater than the predetermined threshold value, the number of the static eliminators in the ion emission state is determined as the above-mentioned removal of the ion discharge state when the charge amount of the substrate is less than the threshold value. It further has a static eliminator switching control unit that increases the number of electric appliances.
この発明によると、帯電量が所定の閾値以上である場合には、基板の搬送速度が比較的低くなると共にイオンを放出する除電器の数が増えるため、より確実に基板を除電できることに加え、基板の搬送速度を大幅に低く設定する必要がないので、基板を効率よく搬送することも可能になる。 According to the present invention, when the charge amount is equal to or greater than a predetermined threshold, the substrate transport speed becomes relatively low and the number of ionizers that emit ions increases, so that the substrate can be discharged more reliably. Since it is not necessary to set the substrate conveyance speed to be significantly low, the substrate can be efficiently conveyed.
第5の発明は、上記第1の発明において、上記搬送速度制御部は、1枚の上記基板について、上記帯電センサにより計測された領域の帯電量が多いほど、当該計測された領域が上記除電器に対向している間の上記基板の搬送速度を低く設定することを特徴とする。 In a fifth aspect based on the first aspect, the transport speed control unit is configured to reduce the measured area as the removal amount increases as the amount of charge in the area measured by the charge sensor increases. The substrate conveyance speed while facing the electric appliance is set low.
この発明によると、1枚の基板のうち帯電量が多い領域については除電器に対向する時間を比較的長くして確実に除電を行う一方、当該基板のうち帯電量が少ない領域については除電器に対向する時間を比較的短くして効率良く除電を行うことが可能になる。つまり、1枚の基板を帯電量の分布に応じて効率良く除電できる。 According to the present invention, in a region with a large amount of charge in one substrate, the charge is surely removed by making the time facing the static eliminator relatively long, while in a region with a small amount of charge in the substrate, It is possible to carry out static elimination efficiently by relatively shortening the time facing the. That is, it is possible to efficiently remove electricity from one substrate according to the distribution of the charge amount.
第6の発明は、上記第1の発明において、上記搬送速度制御部は、1枚の上記基板について、上記帯電センサにより計測された領域の帯電量が所定の閾値以上であるときに、当該計測された領域が上記除電器に対向している間の上記基板の搬送速度を、上記帯電センサにより計測された領域の帯電量が上記所定の閾値未満であるときの搬送速度よりも低く設定することを特徴とする。 In a sixth aspect based on the first aspect, the conveyance speed control unit performs measurement when the amount of charge in a region measured by the charge sensor is equal to or greater than a predetermined threshold for one substrate. The substrate transport speed while the region is facing the static eliminator is set lower than the transport speed when the charge amount of the region measured by the charge sensor is less than the predetermined threshold. It is characterized by.
この発明によると、1枚の基板において各領域の帯電量が所定の閾値以上であるか否かによって基板の搬送速度が切り替えられるので、基板を効率良く除電しつつ搬送速度の制御を簡単にすることが可能になる。 According to the present invention, the transport speed of the substrate is switched depending on whether or not the charge amount of each region in a single substrate is equal to or greater than a predetermined threshold value, so that the transport speed can be easily controlled while discharging the substrate efficiently. It becomes possible.
本発明によれば、帯電量に応じて基板の搬送速度を制御するようにしたので、搬送する基板を効率良く且つ確実に除電することができる。 According to the present invention, since the conveyance speed of the substrate is controlled in accordance with the charge amount, the substrate to be conveyed can be discharged efficiently and reliably.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following embodiment.
《発明の実施形態1》
図1及び図2は、本発明の実施形態1を示している。
1 and 2
図1は、本実施形態1における基板除電システム1の構成を示す概念図である。図2は、本実施形態1における基板除電システム1を模式的に示す平面図である。
FIG. 1 is a conceptual diagram illustrating a configuration of a substrate
基板除電システム1は、図1に示すように、載置された基板10を搬送する搬送機構11と、帯電センサ12と、除電器13とを備えている。搬送される基板10は、例えば、大判のマザーガラスであって、液晶表示パネルを構成するガラス基板が複数含まれている。
As shown in FIG. 1, the
搬送機構11は、互いに平行に延びると共に所定の間隔で配置された複数の軸21と、各軸21にそれぞれ複数設けられたローラ22とを有している。そうして、搬送機構11は、複数のローラ22に基板10が載置された状態で軸21を回転駆動することにより、基板10を軸21が並ぶ方向(図1に示す搬送方向A)に搬送するようになっている。搬送方向Aは、例えば水平方向となっている。
The
帯電センサ12は、搬送機構11の上方及び下方にそれぞれ配置されている。各帯電センサ12は互いに対向するように設けられている。また、図2に示すように、帯電センサ12は、基板10の一部に対向するように配置されている。そして、帯電センサ12は、当該帯電センサ12に対向している基板10の領域における帯電量を計測するように構成されている。帯電センサ12の例としては、オムロン株式会社の製品ZJ−SD100を挙げることができる。
The
除電器13は、所謂イオナイザであって、帯電センサ12よりも基板10の搬送方向Aの下流側に配置されている。また、除電器13は、搬送機構11の上方及び下方にそれぞれ配置され、互いに対向するように設けられている。各除電器13は、対向している基板10の領域にイオンを放出することによって、その基板10の領域を電気的に中和させるようになっている。
The
除電器13は、軸21に沿って延びる長尺状のイオナイザにより構成されている。イオナイザの例としては、株式会社キーエンスの製品SJ−H300VSOを挙げることができる。イオナイザには、放電針に高電圧を印加しイオンを生成するコロナ放電式イオナイザや、軟X線によりイオンを生成する軟X線式イオナイザ等があり、いずれの方式のイオナイザも採用することができる。
The
また、基板除電システム1は、基板10に記載されているID情報を例えばCCDイメージセンサ等によって読み取るカメラ14を有している。カメラ14は、搬送機構11の上方位置に配置されている。
Moreover, the board | substrate
さらに、基板除電システム1は、帯電センサ12により計測された帯電量に基づいて、搬送機構11による基板10の搬送速度を制御する搬送速度制御部15を備えている。搬送速度制御部15は、図1に示すように、速度選定部16と駆動制御部17とを有している。
Furthermore, the substrate
速度選定部16は、帯電センサ12から入力された帯電量の値に対応する搬送速度を予め記憶されているデータベースのテーブルに基づいて選定する。テーブルには、入力された帯電量の値が大きくなるに連れて、低い搬送速度が出力されるようにデータが格納されている。そのことにより、速度選定部16は、帯電センサ12により計測された基板10の帯電量が多いほど、当該基板10が除電器13に対向している間の搬送速度を低く設定するようになっている。
The
駆動制御部17は、速度選定部16により選定された搬送速度で基板10を搬送するように、搬送機構11の軸21を駆動制御する。
The
そうして、基板10は、搬送機構11により所定の搬送速度で搬送される。基板10が帯電センサ12に対向したときに、帯電センサ12は当該帯電センサ12に対向している領域における基板10の帯電量を計測する。この帯電量の値は、搬送速度制御部15における速度選定部16に入力される。
Thus, the
速度選定部16は、入力された帯電量の値に対応する搬送速度の値をテーブルから読み取って駆動制御部17へ出力する。そして、駆動制御部17は、速度選定部16から入力された搬送速度によって基板10が搬送されるように、軸21の回転速度を制御する。その結果、基板10は、当該基板10に除電器13が対向している間に、所定の搬送速度で搬送されつつ除電器13により除電されることとなる。
The
−実施形態1の効果−
したがって、この実施形態1によると、搬送機構11により搬送される基板10の搬送速度を、帯電センサ12により計測された帯電量に基づいて、搬送速度制御部15により適切に制御できる。
-Effect of Embodiment 1-
Therefore, according to the first embodiment, the transport speed of the
すなわち、速度選定部16によって、帯電センサ12により計測された基板10の帯電量が多いほど、当該基板10が除電器13に対向している間の搬送速度を低く設定するようにしたので、帯電量が多い基板10ほど除電器13に長い間対向することになるので、基板10を効率良く且つ確実に除電することできる。
That is, the
よって、帯電量が比較的多い基板10については、比較的低い速度で搬送することにより、基板10を確実に除電できる一方、帯電量が比較的少ない基板10については、比較的高い速度で搬送することにより、基板10を効率良く除電しつつ搬送できることとなる。
Therefore, the
《発明の実施形態2》
次に、本発明の実施形態2について説明する。尚、以降の各実施形態では、図1及び図2と同じ部分については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
<<
Next,
上記実施形態1では、速度選定部16によって、帯電センサ12により計測された基板10の帯電量が多いほど、当該基板10が除電器13に対向している間の搬送速度を低く設定するようにしたが、搬送速度の制御はこれに限られない。
In the first embodiment, as the charge amount of the
本実施形態2の基板除電システム1は、上記実施形態1において搬送速度制御部15の構成が相違している。
The substrate
すなわち、搬送速度制御部15は、帯電センサ12により計測された基板10の帯電量が所定の閾値以上であるときに、当該基板10が除電器13に対向している間の搬送速度を基板10の帯電量が上記閾値未満であるときの搬送速度よりも低く設定するようにしてもよい。
That is, the transport
この場合、図1に示す基板除電システム1において、速度選定部16は、帯電センサ12により計測された帯電量が例えば1kV以上であったときに例えば10m/分の搬送速度を選定する。そのことにより、帯電量が1kV以上であって比較的多い基板10は、比較的低速である10m/分の速度で搬送されるので、基板10を確実に除電することができる。
In this case, in the substrate
一方、速度選定部16は、帯電センサ12により計測された帯電量が例えば1kV未満であったときに例えば15m/分の搬送速度を選定する。そのことにより、帯電量が1kV未満であって比較的少ない基板10は、比較的高速である15m/分の速度で搬送されるので、基板10を効率良く搬送しつつ十分に除電することができる。
On the other hand, the
したがって、この実施形態2によると、帯電量が所定の閾値以上であるか否かによって基板10の搬送速度が切り替えられるので、基板10を効率良く除電しつつ搬送速度の制御を簡単にすることができる。
Therefore, according to the second embodiment, since the transport speed of the
《発明の実施形態3》
図3及び図4は、本発明の実施形態3を示している。
<< Embodiment 3 of the Invention >>
3 and 4 show Embodiment 3 of the present invention.
図3は、本実施形態3における基板除電システム1の構成を示す概念図である。図4は、本実施形態3における基板除電システム1を模式的に示す平面図である。
FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating a configuration of the substrate
本実施形態3は、上記実施形態2の構成において、さらに除電器13のイオン発生状態を切替制御するようにしたものである。
In the third embodiment, the ion generation state of the
図3及び図4に示すように、本実施形態の基板除電システム1では、除電器13が、基板10の搬送方向Aに複数並んで設けられると共に、それぞれイオン放出状態又はイオン放出停止状態に切り替え可能に構成されている。
As shown in FIGS. 3 and 4, in the substrate
さらに、基板除電システム1は、除電器13のイオン発生状態を切替制御するための除電器切替制御部19をさらに有している。除電器切替制御部19は、帯電センサ12により計測された基板10の帯電量が所定の閾値以上であるときに、イオン放出状態の除電器13の数を、基板10の帯電量が上記閾値未満であるときにおけるイオン放出状態の除電器13の数よりも多くする。
Furthermore, the substrate
この場合、図3に示す基板除電システム1において、帯電センサ12により計測された帯電量が例えば1kV以上であったときは、除電器切替制御部19が例えば3本設けられている除電器13の全てをイオン発生状態に切り替えると共に、速度選定部16が例えば10m/分の搬送速度を選定する。
In this case, in the
そのことにより、帯電量が1kV以上であって比較的多い基板10は、比較的多数である3本の除電器13により除電されると共に比較的低速である10m/分の速度で搬送されるので、基板10を確実に除電することができる。
As a result, a relatively large number of
一方、帯電センサ12により計測された帯電量が例えば1kV未満であったときは、除電器切替制御部19が例えば3本設けられている除電器13のうち1本をイオン放出停止状態に切り替えると共に、速度選定部16が例えば15m/分の搬送速度を選定する。
On the other hand, when the charge amount measured by the
そのことにより、帯電量が1kV未満であって比較的少ない基板10は、比較的少数である2本の除電器13により除電されると共に比較的高速である15m/分の速度で搬送されるので、基板10を効率良く搬送しつつ十分に除電することができる。
As a result, the
したがって、この実施形態3によると、帯電量が所定の閾値以上である場合には、基板10の搬送速度が比較的低くなると共にイオンを放出する除電器13の数が増えるため、より確実に基板10を除電できる。さらに、基板10の搬送速度を大幅に低く設定する必要がないので、基板10を効率よく搬送することができる。
Therefore, according to the third embodiment, when the charge amount is equal to or greater than the predetermined threshold value, the transport speed of the
また、帯電量が所定の閾値未満である場合には、基板10の搬送速度が比較的高くなると共にイオンを放出する除電器13の数が減るため、基板10を十分に除電しながらも素早く搬送することができる。
In addition, when the charge amount is less than a predetermined threshold value, the transport speed of the
《発明の実施形態4》
図5は、本発明の実施形態4を示している。
<< Embodiment 4 of the Invention >>
FIG. 5 shows Embodiment 4 of the present invention.
図5は、本実施形態4における基板除電システム1を模式的に示す概念図である。
FIG. 5 is a conceptual diagram schematically showing the substrate
上記各実施形態1〜3では、各基板10毎に、帯電センサ12により計測した基板10の一部における帯電量に基づいて、当該基板の搬送速度を変化させたのに対し、本実施形態4は、1枚の基板10における帯電量が異なる領域毎に搬送速度を変化させるようにしたものである。
In each of the first to third embodiments, the transport speed of the substrate is changed for each
すなわち、図5に示すように、基板除電システム1は、搬送機構11の軸21に沿って配置された複数の帯電センサ12と、搬送速度制御部15としての速度選定部16及び駆動制御部17とを有している。
That is, as shown in FIG. 5, the
そして、搬送速度制御部15は、1枚の基板10について、帯電センサ12により計測された領域の帯電量が多いほど、当該計測された領域が除電器13に対向している間の基板10の搬送速度を低く設定するように構成されている。
Then, the conveyance
よって、搬送速度制御部15の速度選定部16は、基板10の所定領域について、複数の帯電センサ12により計測された帯電量が比較的多い場合には、当該所定領域が除電器13に対向して通過する際の搬送速度を比較的低く設定する。一方、上記速度選定部16は、基板10の所定領域について、複数の帯電センサ12により計測された帯電量が比較的少ない場合には、当該所定領域が除電器13に対向して通過する際の搬送速度を比較的高く設定する。
Therefore, when the charge amount measured by the plurality of charging
したがって、この実施形態4によると、1枚の基板10をその帯電量の分布に応じて除電できるので、基板10を確実に除電しながらもその搬送速度を高めることができる。
Therefore, according to the fourth embodiment, the charge of one
《発明の実施形態5》
次に、本発明の実施形態5について説明する。
<< Embodiment 5 of the Invention >>
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described.
図6は、帯電センサ12により計測された基板10の帯電量分布を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing the charge amount distribution of the
上記実施形態4では、速度選定部16によって、1枚の基板10について、帯電センサ12により計測された領域の帯電量が多いほど、当該計測された領域が除電器13に対向している間の基板10の搬送速度を低く設定するようにしたが、搬送速度の制御はこれに限られない。
In Embodiment 4 described above, as the amount of charge in the area measured by the
本実施形態5の基板除電システム1は、上記実施形態4において搬送速度制御部15の構成が相違している。
The
すなわち、搬送速度制御部15は、1枚の基板10について、帯電センサ12により計測された領域の帯電量が所定の閾値以上であるときに、当該計測された領域が除電器13に対向している間の基板10の搬送速度を、帯電センサ12により計測された領域の帯電量が所定の閾値未満であるときの搬送速度よりも低く設定するようにしてもよい。
That is, when the charge amount of the area measured by the charging
例えば、基板10における帯電量が図6に示すように分布している場合、閾値を1kVとすると、同図で領域S1及び領域S2では閾値以上の帯電量となっている。
For example, when the charge amount on the
そして、基板除電システム1において、速度選定部16は、帯電センサ12により計測された領域S1,S2の帯電量が1kV以上であったときに、その領域S1,S2が除電器13に対応して通過する間、例えば10m/分の搬送速度を選定する。そのことにより、帯電量が比較的多い1kV以上である領域S1,S2は、比較的低速である10m/分の速度で搬送されながら除電器13により確実に除電される。
In the substrate
一方、速度選定部16は、帯電センサ12により計測された領域の帯電量が1kV未満であったときに、その領域(つまりS1,S2以外の領域)が除電器13に対応して通過する間、例えば15m/分の搬送速度を選定する。そのことにより、帯電量が比較的少ない1kV未満であるS1,S2以外の領域は、比較的高速である15m/分の速度で効率良く搬送されながら除電器13により十分に除電される。
On the other hand, when the charge amount of the area measured by the charging
したがって、この実施形態5によると、1枚の基板10において各領域の帯電量が所定の閾値以上であるか否かによって基板10の搬送速度が切り替えられるので、基板10を効率良く除電しつつ搬送速度の制御を簡単にすることできる。
Therefore, according to the fifth embodiment, since the transport speed of the
尚、本発明は上記実施形態1〜5に限定されるものでなく、本発明には、これらの実施形態1〜5を適宜組み合わせた構成が含まれる。 In addition, this invention is not limited to the said Embodiment 1-5, The structure which combined these Embodiments 1-5 suitably is contained in this invention.
以上説明したように、本発明は、搬送する基板を除電する基板除電システムについて有用である。 As described above, the present invention is useful for a substrate neutralization system that neutralizes a substrate to be transported.
A 搬送方向
1 基板除電システム
10 基板
11 搬送機構
12 帯電センサ
13 除電器
15 搬送速度制御部
16 速度選定部
17 駆動制御部
19 除電器切替制御部
A Transport direction
1 Substrate neutralization system
10 Substrate
11 Transport mechanism
12 Charging sensor
13 Static eliminator
15 Conveyance speed controller
16 Speed selection part
17 Drive controller
19 Static eliminator switching control unit
Claims (6)
対向している上記基板の領域における帯電量を計測する帯電センサと、
上記帯電センサよりも上記基板の搬送方向下流側に配置され、対向している上記基板の領域にイオンを放出する除電器と、
上記帯電センサにより計測された帯電量に基づいて、上記搬送機構による上記基板の搬送速度を制御する搬送速度制御部とを備えている
ことを特徴とする基板除電システム。 A transport mechanism for transporting the placed substrate;
A charge sensor that measures the amount of charge in the area of the substrate that is facing;
A static eliminator that is arranged downstream of the charging sensor in the transport direction of the substrate and emits ions to the region of the substrate that is facing;
A substrate static elimination system, comprising: a conveyance speed control unit that controls a conveyance speed of the substrate by the conveyance mechanism based on a charge amount measured by the charge sensor.
上記搬送速度制御部は、上記帯電センサにより計測された上記基板の帯電量が多いほど、当該基板が上記除電器に対向している間の搬送速度を低く設定する
ことを特徴とする基板除電システム。 In the board | substrate static elimination system described in Claim 1,
The board speed control unit sets the transport speed while the board is facing the static eliminator as the amount of charge of the board measured by the charging sensor increases. .
上記搬送速度制御部は、上記帯電センサにより計測された上記基板の帯電量が所定の閾値以上であるときに、当該基板が上記除電器に対向している間の搬送速度を上記基板の帯電量が上記閾値未満であるときの搬送速度よりも低く設定する
ことを特徴とする基板除電システム。 In the board | substrate static elimination system described in Claim 1,
The transport speed control unit determines the transport speed while the substrate is facing the static eliminator when the charge amount of the substrate measured by the charge sensor is equal to or greater than a predetermined threshold. A substrate static eliminator system, characterized in that it is set to be lower than the conveyance speed when is less than the threshold value.
上記除電器は、上記基板の搬送方向に複数並んで設けられると共に、それぞれイオン放出状態又はイオン放出停止状態に切り替え可能に構成され、
上記帯電センサにより計測された上記基板の帯電量が上記所定の閾値以上であるときに、イオン放出状態の上記除電器の数を、上記基板の帯電量が上記閾値未満であるときにおけるイオン放出状態の上記除電器の数よりも多くする除電器切替制御部をさらに有している
ことを特徴とする基板除電システム。 In the board | substrate static elimination system described in Claim 3,
The static eliminator is provided side by side in the transport direction of the substrate and is configured to be switchable to an ion emission state or an ion emission stop state, respectively.
When the charge amount of the substrate measured by the charge sensor is equal to or greater than the predetermined threshold value, the number of ionizers in the ion emission state is set as the ion release state when the charge amount of the substrate is less than the threshold value. A substrate static eliminator system further comprising a static eliminator switching control unit that increases the number of the static eliminators.
上記搬送速度制御部は、1枚の上記基板について、上記帯電センサにより計測された領域の帯電量が多いほど、当該計測された領域が上記除電器に対向している間の上記基板の搬送速度を低く設定する
ことを特徴とする基板除電システム。 In the board | substrate static elimination system described in Claim 1,
The transport speed control unit transports the substrate while the measured region is facing the static eliminator as the amount of charge in the region measured by the charging sensor increases for one substrate. Substrate neutralization system, characterized in that low is set.
上記搬送速度制御部は、1枚の上記基板について、上記帯電センサにより計測された領域の帯電量が所定の閾値以上であるときに、当該計測された領域が上記除電器に対向している間の上記基板の搬送速度を、上記帯電センサにより計測された領域の帯電量が上記所定の閾値未満であるときの搬送速度よりも低く設定する
ことを特徴とする基板除電システム。 In the board | substrate static elimination system described in Claim 1,
When the charge amount of the area measured by the charging sensor is greater than or equal to a predetermined threshold value for the one substrate, the conveyance speed control unit is in a state where the measured area faces the static eliminator. The substrate discharging speed is set to be lower than the conveying speed when the amount of charge in the region measured by the charging sensor is less than the predetermined threshold.
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