JP2013239436A - 透光性導電膜およびその製造方法と、この透光性導電膜を用いた電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明の透光性導電膜およびその製造方法と、この透光性導電膜を用いた電子機器は、高い導電率を維持しつつ優れた透過率を実現することを目的とする。
【解決手段】上記課題を解決するために、本発明の透光性導電膜は基材2と、基材2の上に形成され、上面に凹部を有し透光性導電結晶4を含む第1の層3と、第1の層3の上に形成され透光性粒子6を含む第2の層5とを備え、凹部に前記透光性粒子6を介在させるものである。
【選択図】図1
【解決手段】上記課題を解決するために、本発明の透光性導電膜は基材2と、基材2の上に形成され、上面に凹部を有し透光性導電結晶4を含む第1の層3と、第1の層3の上に形成され透光性粒子6を含む第2の層5とを備え、凹部に前記透光性粒子6を介在させるものである。
【選択図】図1
Description
本発明は、タッチパネルなどのディスプレイ用の透光性導電膜として有用なZnO系の透光性導電膜に関し、ZnO膜の可視光域の透過率を向上させた透光性導電膜およびその製造方法と、この透光性導電膜を用いた電子機器に関するものである。
ZnOはその優れた透光性と導電性からディスプレイや太陽電池などの透光性導電膜材料として広く検討されている。特にディスプレイ用途には視認性確保のため可視光域において85%以上の高い透過率が求められている。ZnO層の成膜プロセスはスパッタ、CVD法、溶液法など多岐に渡るが、いずれのプロセスでも、高い透過率を確保するためにZnOの配向度を上げる取組が行われている。またZnO層における結晶のc軸配向度を向上させることで透光性のみならず導電性を向上できる利点もある。
特許文献1では、溶液法によるZnO層の成膜において、溶液の組成を調整することでZnOのc軸配向性を制御しており六角柱状の結晶が基板に対して垂直方向に成長するように成膜しているものである。しかしながら六角柱状のZnOを成膜する場合、実際にはa、b軸方向にも成長してしまい、例えばX線回折測定において、ほぼすべての六角柱状のZnO結晶がc軸配向しているデータが示されたとしても、実際には図5(a)のZnO層の断面SEM写真に示すように六角柱の結晶は基板に対して厳密に垂直でないことが多い。また図5(b)のZnO膜の上面SEM写真に示すように上面の凹部でその表面に空隙が生じてしまう。その結果、透光性導電膜の表面におけるZnO結晶の粒界またはZnO結晶間の隙間などで光が散乱し透光性導電膜全体の透過率が低下してしまう。また導電性の向上は膜厚を厚くすることで解決されるが厚みが厚くなるに従い、前述した透過率の低下は顕著になってしまう。
本発明の透光性導電膜は上記課題を解決するものであり高い導電率を維持しつつ優れた透過率を実現することを目的とする。
上記の課題を解決するために本発明は基材と、基材の上に形成され、上面に凹部を有し透光性導電結晶を含む第1の層と、第1の層の上に形成され、透光性粒子を含む第2の層とを備え、凹部に透光性粒子が介在した透光性導電膜を提供するものである。
本発明の透光性導電膜は第1の層における表面に凹部を有した場合でも、凹部で形成された隙間に透光性粒子を充填することで、この凹部で生じる光の散乱を抑制することができる。
以下、本発明の透光性導電膜1について図面を参照しながら説明する。
図1は本発明における透光性導電膜1の側面SEM写真であり、図2は本発明における透光性導電膜1の断面模式図である。
図1の透光性導電膜1はPETフィルムやガラス基板などの基材2の上面に、凹部を有し透光性導電結晶4を含む第1の層3を配置し、この第1の層3の上に形成され透光性粒子6を含む第2の層5とを備えるものであり、図2に示すように第1の層3の上面における凹部に透光性粒子6を介在させることで、この凹部における空隙が低減し光の散乱を抑制するものである。
本発明における第1の層3について説明する。第1の層3としては特に限定されるものではないが配向性を有する透光性導電結晶4を用いることで高い導電率および高い透過率を実現することができる。この透光性導電結晶4の材料としてはZnO、SnO2、In2O3、TiO2があげられる。
なお、本発明において配向性を有するとは結晶の成長方向を指しこの配向方向は例えばX線回折測定で確認することができる。
以下、透光性導電結晶4をZnO結晶として説明するが、本発明の透光性導電膜1の透光性導電結晶4においては上述したZnO結晶以外の結晶で構成されていても良い。
透光性導電結晶4における配向方向の長さは配向方向に垂直な平面における透光性導電結晶4の最大長さよりも小さい透光性導電結晶4が好ましい。この透光性導電結晶4の具体的な形状としては配向方向に薄い薄体形状(板形状、鱗片状等)であり、他の製造プロセスよりも安価でかつ生産性が高い塗布法(スピンコート、ディップコート、印刷法等)を用いて、薄体形状の透光性導電結晶4における底面が基板面と平行に配列し、かつ緻密な第2の層5を形成することができる。ここで透光性導電結晶4の配向方向の長さが配向方向に垂直な平面における透光性導電結晶4の最大長さよりも小さい透光性導電結晶4について説明する。例として透光性導電結晶4をZnO結晶として説明する。ZnO結晶の配向方向がc軸である場合はZnO結晶のc軸の長さが、a−b軸平面における最大長さよりも短い結晶を指し、前述した底面は(002)面および、この(002)面と等価な面となる。すなわち、配向方向に対して垂直な面が底面となるものである。
次に本発明における透光性粒子6を含む第2の層5について説明する。第2の層5は第1の層3の上面に配置されるものであり、この透光性粒子6は透光性が良好であると共に、第1の層3で形成される凹部に介在するものであればよい。具体的には透光性粒子6の平均粒子径が透光性導電結晶4の最大長さよりも小さいものであれば、少なくともこの凹部の空隙を透光性粒子6で埋め透光性導電膜1の透過率向上効果を奏する。さらにこの凹部を有する第1の層3が透光性導電膜1の表層となる場合と比較して、この透光性粒子6が透光性導電膜1の表層として構成される方がその凹部が小さくなり光の散乱を抑制することができる。
ここで透光性粒子6の粒形状は特に限定されるものではなく、第1の層3の凹部に介在されるものであればよいが、好ましい透光性粒子6の形態としては、その平均粒径が40nm以下であり、可視光下限(約0.4μm)の波長の1/10以下とすることにより、特に透光性導電膜1における表面の散乱を抑えることができる。光は波長の1/10のサイズの物質であれば、物質表面での散乱や反射を限りなく低減することができ光を透過することができる。この透光性粒子6としては例えばSiO2または、ZnO、SnO2、In2O3、TiO2等があげられるが、より好ましくは高い透過率に加えて、高い導電性を有するZnO、SnO2、In2O3、TiO2があげられる。また、第1の層3と異なる材料の第2の層5を積層した場合には異材同士の界面において光が屈折し易くなり透光性導電膜1全体の透過率が低下してしまうため、より好ましくは第1の層3と同様にZnOを用いることが好ましい。
次に第1の層3の厚みと第2の層5との厚み比について説明する。第1の層の厚みをA、第2の層の厚みをBとしたとき、その厚み比A/Bの値が0.4以上であることが好ましい。この厚み比A/Bを0.4以上とすることで透光性導電膜1全体の透過率を向上させることができる。また、厚みの比の上限値については特に限定されるものではないが、第1の層3の上面に第2の層が少なくとも透光性粒子1層分の膜厚があればよい。
また、本発明の透光性導電膜1はタッチパネル等に用いられ、これを搭載する電子機器に用いることができる。
次に、上述した本発明の透光性導電膜1の製造方法について実施例を基に以下詳細に説明する。
以下、本発明の実施例1について説明する。
図3は本発明の一実施例における透光性導電膜1の製造工程フローを示す図である。
本実施例ではZnO結晶を含む第1の層3を溶液法により成膜した。第1の層3を溶液法により作製するために、まず基材2の上面にシード層(種層)を成膜する。まずZn(CH3COO)2、エタノール、2,2−イミノジエタノールを混合してシード層形成溶液を作製する。次いでこのシード層形成溶液をアセトンおよびエタノールで洗浄したガラス基板上にスピンコート塗布して150℃で10分間乾燥させた。これを3回繰り返した後に350℃、20分間の熱処理を施すことでZnOのシード層を形成した。
次に第1の層3を形成するための成膜水溶液として、Zn(NO3)2・6H2O、C6H12N4および水を混合し、この成膜水溶液を70℃で加熱し、上記シード層付ガラス基板を70℃に加熱した成膜水溶液に120分間浸漬することで第1の層3が形成される。
図4にこの第1の層3のX線回折の測定結果を示す。通常のZnO結晶のメインピーク(101)面のピーク強度よりも(002)面のピーク強度の方が高く、多くのZnO結晶がc軸に配向していることがわかる。
なお、この時(002)面の(101)面に対するピーク強度比をX=I002/(I002+I101)とし、配向度Fは(X―X0)/(1−X0)として算出した。
また、配向度FのX0は、ランダムなZnO結晶の粉末X線回折測定結果から求めた(002)面の(101)面に対するピーク強度比であり、これらのピーク強度比から配向度Fを算出した結果0.94であった。
次に、この第1の層3の上に透光性粒子6からなる第2の層5を形成する。透光性粒子6の平均粒子径としては0.02μm、0.04μm、0.05μm、0.1μm、2μmを用意し、各々IPA分散液をスピンコートすることにより、第2の層5を形成して透光性導電膜1を作製した。
なお、本発明における平均粒子径とは動的光散乱式粒度分布測定装置(Malvern製ゼータサイザー)を用いて測定したD50(メディアン径)の値と定義する。透光性導電膜1の膜厚は全て1μmで、第1の層3の厚みと第2の層5との厚み比は、全て4となるように調整した。なお、膜厚は膜の破断面のSEM観察により測定した。
(表1)に第1の層3単体、第2の層5単体、更に第1の層3上に異なる透光性粒子6径の第2の層5を形成した透光性導電膜1の透過率および抵抗率の測定結果を示す。
なお、透過率はJISR1635に従い分光光度計(日本分光製V−570)を用いて測定し、可視光の波長域0.4μm〜0.75μmにおける透過率の平均値を算出し、透過率の値とした。抵抗率は、JIS K 7194に従い、ロレスタ(三菱化学製)を用い、四深針法により測定した。
(表1)に示すように、試料No.1の第1の層3単体の透過率は74%であるのに対して、第1の層3の上に平均粒子径0.02μmおよび0.04μmの第2の層5を形成した試料No.4およびNo.9は、その透過率が85%以上と優れた値を示した。
これは可視光の波長よりも十分に短い平均粒子径を有した透光性粒子からなる第2の層5を第1の層3上に形成することにより、試料No.1の第1の層3単体の透過率よりも高くなるものである。また、第1の層3におけるZnO結晶の表面は図1および図5(b)に示すように凹部を有し、この凹部に透光性粒子6を介在させることで、凹部における空隙を低減させ光の散乱を抑制することができる。
また、第2の層5単体の試料No.2および試料No.6の抵抗率は第1の層3単体の試料No.1の抵抗率と比較して2桁高く、さらにこの試料No.2および試料No.6を試料No.1の第1の層3上面に形成した試料No.4および試料No.9の抵抗率は、試料No.1の抵抗率とほぼ同程度の導電性を確保できている。
また、第1の層3単体である試料No.1の上面に、透光性粒子6の平均粒子径が0.05μmである第2の層5を形成した試料No.10では、透光性粒子6の平均粒子径が0.04μmの試料No.9と比較して透過率が5%も低下、さらには透光性粒子6の平均粒子径が2μmの試料No.5および0.1μmの試料No.11の透過率は更に低下した。透光性導電膜1の表面に形成される第2の層における透光性粒子6の平均粒子径が可視光の波長よりも大きいために光を散乱してしまうことが要因である。
これら透過率向上の効果は第2の層5単体でその透光性粒子6の平均粒子径が0.02μmおよび2.0μmのときに各々透過率が89%、0.7%である試料No.2および試料No.3の結果と比較しても明らかである。
以上のように、本実施例によれば高い電気伝導性を維持しつつ、従来よりも高い透過率を実現することができる。
以下、本発明の実施例2について説明する。
なお、本発明の透光性導電膜1は実施例1と同様の方法で作製した。また、第2の層5の透光性粒子6の平均粒子径は0.02μmとした。このとき、透光性導電膜1の膜厚は1μmと一定とし、第1の層3の厚みAと第2の層5の厚みBとの厚み比A/Bを25、4、0.4および0.25とした。なお、第1の層3の厚みは、図3に示す製造工程フローのうち、成膜溶液へ基板を浸漬する時間を調整することにより制御した。第2の層5の厚みは塗布法のうちスピンコートで形成し、スピンコートの回数を変更することにより制御した。なお、透光性導電膜1、第1の層3および第2の層5における各々の厚みは実施例1と同方法で測定した。
(表2)に第1の層3の厚みAと、第2の層5の厚みBとの厚み比A/Bの検討結果を示す。
(表2)に示すように、第1の層3の厚みAと、第2の層5の厚みBとの厚み比A/Bが0.4以上の場合には透光性、導電性がいずれも高い。しかしながら0.4から0.25となる所で急激に抵抗率が増加し、導電性が低下する。これは、第2の層5における透光性粒子6の抵抗率が第1の層3におけるZnO結晶の抵抗率と比較して高いためである。
以上のように、本実施例によれば、第1の層3の厚みAと、第2の層5の厚みBとの厚み比A/Bを0.4以上とすることで高い電気伝導性を維持しつつ、従来よりも高い85%以上の透過率を実現することができる。厚みの比の上限値については特に規定はないが、少なくとも透光性導電膜1の表面に第2の層5が形成されていればよく、この場合厚みとしては透光性粒子6が1層分の膜厚となる。
なお、第1の層3における透光性導電結晶4の形成方法としては溶液法に限らずスパッタ、CVD法、ゾルゲル法、更には安価でかつ生産性が高い塗布法(スピンコート、ディップコート、印刷法等)でも良い。透光性粒子6を含む第2の層5の形成方法としては、塗布法により第1の層3における凹部に透光性粒子6が介在する構成となる。
以上のように、本発明の透光性導電膜1によれば凹部を有し透光性導電結晶4を含む第1の層3と、この第1の層3の上に形成され、透光性粒子6を含む第2の層5とを備え、この凹部に透光性粒子6を介在させることにより高い導電率を維持しつつ、優れた透過率を実現させることができる。
本発明によれば高い導電率を維持しつつ、優れた透過率を有した透光性導電膜を提供するものであり、ディスプレイ用の透光性導電膜として有用である。
1 透光性導電膜
2 基材
3 第1の層
4 透光性導電結晶
5 第2の層
6 透光性粒子
2 基材
3 第1の層
4 透光性導電結晶
5 第2の層
6 透光性粒子
Claims (10)
- 基材と、
前記基材の上に形成され、上面に凹部を有し透光性導電結晶を含む第1の層と、
前記第1の層の上に形成され、透光性粒子を含む第2の層とを備え、
前記凹部に前記透光性粒子が介在した透光性導電膜。 - 前記透光性粒子の平均粒子径は、前記透光性導電結晶における最大長さよりも小さい請求項1に記載の透光性導電膜。
- 前記透光性導電結晶は配向性を有し、前記透光性導電結晶の配向方向の長さは、
前記配向方向に垂直な平面における前記透光性導電結晶の最大長さよりも小さい請求項1に記載の透光性導電膜。 - 前記透光性粒子の平均粒子径は40nm以下である請求項1に記載の透光性導電膜。
- 前記第1の層の層方向における厚みをAとし前記第2の層の層方向の厚みをBとしたとき、前記第1の層の層厚と、前記第2の層の層厚の比A/Bは0.4以上である請求項1に記載の透光性導電膜。
- 前記透光性粒子はSiO2、ZnO、SnO2、In2O3、TiO2のいずれかを含む請求項1に記載の透光性導電膜。
- 前記透光性導電結晶はZnO、SnO2、In2O3、TiO2のいずれかを含む請求項1に記載の透光性導電膜。
- 基材と、
前記基材の上に形成され、上面に凹部を有し透光性導電結晶を含む第1の層と、
前記第1の層の上に形成され、透光性粒子を含む第2の層とを備え、
前記凹部に前記透光性粒子が介在した透光性導電膜の製造方法であって、
前記第1の層は溶液法、スピンコート法、ディップコート法、印刷法、スパッタ法、CVD法、PLD法、めっき、ゾルゲル法のうちいずれか1つの方法で形成され、前記第2の層はスピンコート、ディップコート、印刷のうちいずれか1つの方法で形成される透光性導電膜の製造方法。 - 前記第1の層がスピンコート、ディップコート、印刷法のうちいずれか1つの方法で形成されたとき、前記透光性導電結晶は配向性を有し、前記透光性導電結晶の配向方向の長さは、前記配向方向に垂直な平面における前記透光性導電結晶の最大長さよりも小さい請求項8に記載の透光性導電膜の製造方法。
- 請求項1に記載の透光性導電膜を備えた表示部付き入力部を有する電子機器。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013087164A JP2013239436A (ja) | 2012-04-18 | 2013-04-18 | 透光性導電膜およびその製造方法と、この透光性導電膜を用いた電子機器 |
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JP2012094348 | 2012-04-18 | ||
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017163494A1 (ja) * | 2016-03-24 | 2017-09-28 | 日本碍子株式会社 | 酸化亜鉛膜の製造方法 |
CN110544563A (zh) * | 2019-07-23 | 2019-12-06 | 华南理工大学 | 一种柔性透明铜电路及其制备方法与应用 |
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2013
- 2013-04-18 JP JP2013087164A patent/JP2013239436A/ja active Pending
Cited By (3)
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---|---|---|---|---|
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JPWO2017163494A1 (ja) * | 2016-03-24 | 2019-01-24 | 日本碍子株式会社 | 酸化亜鉛膜の製造方法 |
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