JP2013234301A - Photocurable and thermosetting resin composition, molded product and article - Google Patents

Photocurable and thermosetting resin composition, molded product and article Download PDF

Info

Publication number
JP2013234301A
JP2013234301A JP2012109111A JP2012109111A JP2013234301A JP 2013234301 A JP2013234301 A JP 2013234301A JP 2012109111 A JP2012109111 A JP 2012109111A JP 2012109111 A JP2012109111 A JP 2012109111A JP 2013234301 A JP2013234301 A JP 2013234301A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin composition
light
thermosetting resin
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012109111A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Tsuchida
和弘 土田
Munenao Hirokami
宗直 廣神
Tomoyuki Mizunashi
友之 水梨
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2012109111A priority Critical patent/JP2013234301A/en
Publication of JP2013234301A publication Critical patent/JP2013234301A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocurable and thermosetting resin composition suitable for a functional film material and an antifouling scratch-resistant coating material.SOLUTION: As a resin composition, a silicon compound having the following structure is used as a main component of a siloxane unit. In the structure, a linking group between a (meth)acryloxy group as a photo-polymerizable group and silicon includes a urethane bond, and 1 to 5 (meth)acryloxy groups are linked to the same silicon atom by chemical bonds excluding a siloxane bond. In this way, by using the silicon compound, a distance between crosslinking points in a cured resin is increased compared to conventional compositions to alleviate curing shrinkage while keeping sufficient hardness. The hardness and toughness of a cured product are both achieved in a high level by a secondary interaction by a hydrogen bond between structural groups in the urethane bond moiety.

Description

本発明は、光及び熱硬化性樹脂組成物、その光及び熱硬化性樹脂組成物からなる成形品及びその光及び熱硬化性樹脂組成物の硬化皮膜を有する物品に関するもので、詳しくは単独成形品とした場合には透明でタッチパネル等の用途に好適な線膨張係数及び複屈折を有すると共に、耐磨耗性、形状安定性、耐クラック性に優れたものとなり、硬化皮膜とした場合には透明、高硬度で耐擦傷性、耐汚染性、耐クラック性に優れ、硬化収縮の少ない保護皮膜となる光及び熱硬化性樹脂組成物に関するものである。   The present invention relates to a light and thermosetting resin composition, a molded article comprising the light and thermosetting resin composition, and an article having a cured film of the light and thermosetting resin composition. If it is transparent, it has a linear expansion coefficient and birefringence suitable for applications such as touch panels, and it has excellent wear resistance, shape stability, and crack resistance. The present invention relates to a light and thermosetting resin composition that is transparent, high in hardness, excellent in scratch resistance, stain resistance, and crack resistance, and forms a protective film with little curing shrinkage.

ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂等の合成樹脂は、軽量・透明性・易加工性等の利点を有する。そこで、そのような合成樹脂は、近年、CD、DVD等の光ディスク、液晶、ELパネル等の表示窓、タッチパネル用透明導電性フィルムに代表される各種機能性フィルム等、種々の分野で利用されている。   Synthetic resins such as polymethyl methacrylate resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, cyclic polyolefin resin, polyethylene terephthalate resin, and triacetyl cellulose resin have advantages such as light weight, transparency, and easy processability. Therefore, in recent years, such synthetic resins have been used in various fields such as optical disks such as CD and DVD, display windows such as liquid crystal and EL panels, and various functional films represented by transparent conductive films for touch panels. Yes.

しかしながら、上記に代表される樹脂材料ではタッチパネル用フィルム基材として使用した際、耐熱性の不足、線膨張係数、複屈折の大きさなどに問題があり、該基材フィルムを使用した透明導電フィルムも同様の問題が不可避であった。一方、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリアリレート、液晶ポリマーなどの高耐熱性ポリマーは一般に耐熱性、耐薬品性、電気絶縁性に優れるものの、着色が生じ易く光学分野での用途は限定されている。   However, the resin materials represented by the above have problems in lack of heat resistance, linear expansion coefficient, birefringence, etc. when used as a film substrate for touch panels, and transparent conductive films using the substrate film The same problem was inevitable. On the other hand, high heat-resistant polymers such as polyimide, polyethersulfone, polyetherketone, polyarylate, and liquid crystal polymer are generally excellent in heat resistance, chemical resistance, and electrical insulation, but are easily colored and have limited use in the optical field. Has been.

こういった中で、特許第4256756号公報(特許文献1)、特許第4409397号公報(特許文献2)では、アクリル基に代表される重合性基を有したシロキサン単位を主構成単位とするポリオルガノシルセスキオキサン並びにこれを樹脂と混合して使用した樹脂組成物に関する技術が開示されている。また、特許文献2においては更に脂環式構造を有する多官能アクリルを第二の必須成分とすることで硬化成形物とした際に、線膨張係数及び複屈折などのパラメータについてタッチパネル用部材に有効な物性へ改質可能である技術を開示している。   Among these, in Japanese Patent No. 4256756 (Patent Document 1) and Japanese Patent No. 44099797 (Patent Document 2), a polysiloxane having a siloxane unit having a polymerizable group typified by an acrylic group as a main constituent unit is disclosed. A technique relating to an organosilsesquioxane and a resin composition using the organosilsesquioxane mixed with a resin is disclosed. Further, in Patent Document 2, when a polyfunctional acrylic having an alicyclic structure is used as a second essential component to obtain a cured molded product, parameters such as a coefficient of linear expansion and birefringence are effective for a touch panel member. Disclosed is a technique that can be modified to various physical properties.

ところで上記成形物としての応用技術の他に、上記に代表される非シリコーン成形物表面の耐擦傷性を向上させるために、透明で且つ耐擦傷性を有するシリコーン(シロキサン)ハードコートを媒体の記録及び/又は再生ビーム入射側表面に形成することが一般的に行われている。該ハードコートの形成は、分子中にビニル基、(メタ)アクリル基等の光反応性基を2個以上有する化合物、ビニル基、(メタ)アクリル基等の光反応性基を有するアルコキシシランを塩基性触媒存在下で加水分解縮合した籠型構造のシロキサン化合物(特開2002−363414号公報(特許文献3)、特許第4400751号公報(特許文献4))、光反応性基を有するアルコキシシランとコロイダルシリカの反応物等を含有する組成物を媒体表面に塗布し、これを紫外線等の活性エネルギー線の照射により硬化させることにより行われる。しかしながら、このようなハードコートは光反応性基として(メタ)アクリロキシプロピル基並びに(メタ)アクリロキシメチル基を採用しており、その官能基量のバランスにより一定の硬度が得られるものの、その代わりに硬化収縮による歪が大きく、膜厚を大きくした場合の耐クラック性が不十分であり、媒体がフィルムの場合には物品としての反りが大きくなった。また、同様の硬化収縮による成形物の反り等は上記特許文献1,2においても改善されていない。   By the way, in addition to the applied technology as the molded product, in order to improve the scratch resistance of the non-silicone molded surface represented by the above, a transparent and scratch-resistant silicone (siloxane) hard coat is recorded on the medium. In general, formation on the reproduction beam incident side surface is performed. The hard coat is formed by using a compound having two or more photoreactive groups such as a vinyl group or a (meth) acryl group in the molecule, an alkoxysilane having a photoreactive group such as a vinyl group or a (meth) acryl group. A siloxane compound having a cage structure hydrolyzed and condensed in the presence of a basic catalyst (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-363414 (Patent Document 3), Japanese Patent No. 4400571 (Patent Document 4)), an alkoxysilane having a photoreactive group And a composition containing a reaction product of colloidal silica and the like are applied to the surface of the medium and cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays. However, such a hard coat employs a (meth) acryloxypropyl group and a (meth) acryloxymethyl group as photoreactive groups, and although a certain hardness can be obtained by the balance of the functional group amount, Instead, distortion due to curing shrinkage was large, crack resistance was insufficient when the film thickness was increased, and warping as an article increased when the medium was a film. Further, the warpage of the molded product due to the same curing shrinkage is not improved in Patent Documents 1 and 2 described above.

また、光ディスク、表示窓、タッチパネル等のフィルム等の表面には、その使用に際して各種汚染物質による汚染や指紋の付着が起こる。これら汚染や指紋の付着は好ましいことではなく、光ディスク(光情報媒体)の表面に、防汚性の改善、指紋付着性の減少、又は指紋除去性の向上のために適切な表面処理が施されることもある。例えば、光情報媒体表面に種々の撥水・撥油処理を施すことが検討されている。   Also, on the surfaces of films such as optical disks, display windows, touch panels, etc., contamination with various contaminants and fingerprints occur during use. Such contamination and fingerprint adhesion are not desirable, and the surface of the optical disk (optical information medium) is subjected to appropriate surface treatment to improve antifouling properties, reduce fingerprint adhesion properties, or improve fingerprint removal properties. Sometimes. For example, various water and oil repellent treatments have been studied on the surface of optical information media.

また、防汚性の改善としては、重合性官能基を有するアルコキシシランとパーフルオロアルキル基を有するアルコキシシランを塩基性触媒存在下で加水分解縮合した籠型構造のシロキサン化合物が提案されている(特許第3603133号公報(特許文献5))。この化合物を含有する組成物を硬化させた皮膜は、オレイン酸の接触角等が高くなり、防汚性の向上は期待されるが、マジックインキの拭き取り性は不十分であるうえに、耐磨耗性等が著しく低下してしまう。   As an improvement in antifouling property, a siloxane compound having a cage structure obtained by hydrolytic condensation of an alkoxysilane having a polymerizable functional group and an alkoxysilane having a perfluoroalkyl group in the presence of a basic catalyst has been proposed ( Japanese Patent No. 3603133 (Patent Document 5)). A film obtained by curing a composition containing this compound has a high contact angle of oleic acid and is expected to improve antifouling properties. Wearability etc. will fall remarkably.

なお、光反応性基として(メタ)アクリル基を含有するシロキサン化合物をシリカ系の膜として応用する例はこれまでに報告されている。しかしながら、この技術は、ハードコート剤としての応用ではなく、加熱、UV/EB照射、プラズマ処理により硬化後、有機基を分解・消去し、空孔を形成することを目的とした平坦性・低誘電率の層間絶縁膜として利用されている(特開2005−179587号公報(特許文献6))。   Examples of applying a siloxane compound containing a (meth) acryl group as a photoreactive group as a silica-based film have been reported so far. However, this technique is not applied as a hard coating agent, but has a flatness / lowness aimed at decomposing / erasing organic groups and forming pores after curing by heating, UV / EB irradiation, and plasma treatment. It is used as an interlayer insulating film having a dielectric constant (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-179587 (Patent Document 6)).

多官能(メタ)アクリル基を有するケイ素化合物としては対応する多官能(メタ)アクリル基含有アリル化合物とヒドロクロロシランのヒドロシリル化反応並びにそれに続くアルコールによるアルコキシシリル化を施した反応生成物(特開平10−101613号公報(特許文献7)、特開2010−229054号公報(特許文献8))、又は水酸基含有多官能(メタ)アクリレートとイソシアネートシランによるウレタン化反応生成物(特許第3164431号公報(特許文献9)が開示されているが、いずれの応用技術についてもアルコキシシリル基部分を意図的に加水分解縮合させたものではない所謂シランカップリング剤成分としての応用に留まるのみである。また、応用分野についても歯科材料など限定的なものであり、本発明のような技術分野とは一線を画すものである。   As a silicon compound having a polyfunctional (meth) acrylic group, a corresponding polyfunctional (meth) acrylic group-containing allyl compound and hydrochlorosilane are subjected to a hydrosilylation reaction, followed by an alkoxysilylation with an alcohol (Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10). -1061313 (Patent Document 7), JP 2010-229054 (Patent Document 8)), or a urethanation reaction product of a hydroxyl group-containing polyfunctional (meth) acrylate and an isocyanate silane (Patent No. 3164431) Document 9) is disclosed, but any of the applied techniques is only applied as a so-called silane coupling agent component that is not intentionally hydrolyzed by condensing the alkoxysilyl group moiety. The field is also limited, such as dental materials, the present invention The art, such as those that draw the line.

特許第4256756号公報Japanese Patent No. 4256756 特許第4409397号公報Japanese Patent No. 44099797 特開2002−363414号公報JP 2002-363414 A 特許第4400751号公報Japanese Patent No. 4400751 特許第3603133号公報Japanese Patent No. 3603133 特開2005−179587号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-179587 特開平10−101613号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-101613 特開2010−229054号公報JP 2010-229054 A 特許第3164431号公報Japanese Patent No. 3164431

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、成形品として透明でタッチパネル等の用途に好適な線膨張係数及び複屈折を有すると共に、耐磨耗性、形状安定性、耐クラック性に優れたものとなり、硬化皮膜として透明、高硬度で耐擦傷性、指紋汚れ等の汚染物質に対する耐汚染性、耐クラック性に優れ、硬化収縮の少ない保護皮膜となる光及び熱硬化性樹脂組成物、該光及び熱硬化性樹脂組成物を用いた成形品及び該光及び熱硬化性樹脂組成物の硬化皮膜を有する物品を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a linear expansion coefficient and birefringence that are transparent as a molded product and suitable for applications such as a touch panel, and are excellent in wear resistance, shape stability, and crack resistance. A light and thermosetting resin composition which is transparent as a cured film, has high hardness and scratch resistance, has excellent resistance to contamination against contaminants such as fingerprint stains, crack resistance, and has a protective film with little curing shrinkage, It is an object of the present invention to provide a molded article using a light and thermosetting resin composition and an article having a cured film of the light and thermosetting resin composition.

本発明は、上記目的を達成するため、下記の光及び熱硬化性樹脂組成物、成形品及び物品を提供する。
〔1〕 下記シロキサン単位式(1)
[式中、Xは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であり、R1〜R6は置換又は非置換の炭素数1〜10の一価炭化水素基であり、上記置換基はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、(メタ)アクリロキシ基、エポキシ構造含有基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ官能性基、パーフルオロアルキル基、ポリ(ヘキサフルオロプロピレンオキサイド)構造含有基、シリル基から選択される1種又は2種以上の一価有機基である。但し、R1〜R6のいずれかに下記式(2)
(式中、R7は下記式(3)
で示される構造基であり、Aは分岐又は非分岐である炭素数2〜10、且つ、間に酸素原子を挟んでもよく、それ以外のヘテロ原子は含まない(n+1)価の炭化水素基(有機連結基)であり、R8は独立に水素原子又はメチル基であり、mは1〜10の整数であり、nは1〜5の整数である。なお、CH2=CR8−COO−基は、Aの炭素原子のいずれか1つ又は2つ以上に結合してもよい。)
で表される有機基を1個以上含み、総シロキサン単位に対し、式(2)で表される有機基が置換しているシロキサン単位が20〜100mol%であり、aは平均0≦a<0.4であり、bは平均0≦b<0.5であり、cは平均0<c≦1であり、dは平均0≦d<0.4であり、eは平均0≦e<0.2であり、a+b+c+d=1である。]
で表されるシリコーン樹脂を含む光及び熱硬化性樹脂組成物。
〔2〕 式(2)のmが3である〔1〕記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。
〔3〕 式(2)で表される有機基が下記式(4)〜(8)
(式中、R8は上記と同義である。)
で示されるいずれかの構造基、又はその2種以上の組み合わせである〔2〕記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。
〔4〕 シリコーン樹脂の重量平均分子量が2,000〜50,000である〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。
〔5〕 シリコーン樹脂が、総シロキサン単位に対し、パーフルオロアルキル基又はポリ(ヘキサフルオロプロピレンオキサイド)構造含有基が置換しているシロキサン単位が0.1〜20mol%である〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。
〔6〕 更に、多官能(メタ)アクリル化合物を含む〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。
〔7〕 更に、金属酸化物微粒子を1種以上含む〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。
〔8〕 更に、ラジカル系光重合触媒、熱縮合触媒のいずれかの1種以上を含む〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。
〔9〕 〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の光及び熱硬化性樹脂組成物を硬化して得られる成形品。
〔10〕 〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の光及び熱硬化性樹脂組成物の硬化皮膜を形成してなる物品。
In order to achieve the above object, the present invention provides the following light and thermosetting resin compositions, molded articles and articles.
[1] The following siloxane unit formula (1)
[Wherein, X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 1 to R 6 are substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and the substituent is fluorine. Atom, chlorine atom, bromine atom, (meth) acryloxy group, epoxy structure-containing group, mercapto group, isocyanate group, amino functional group, perfluoroalkyl group, poly (hexafluoropropylene oxide) structure-containing group, silyl group Or one or more monovalent organic groups. However, any one of R 1 to R 6 is represented by the following formula (2)
(Wherein R 7 is the following formula (3)
A is a branched or unbranched carbon group having 2 to 10 carbon atoms, and may have an oxygen atom between them, and does not contain any other hetero atom (n + 1) -valent hydrocarbon group ( R 8 is independently a hydrogen atom or a methyl group, m is an integer of 1 to 10, and n is an integer of 1 to 5. The CH 2 ═CR 8 —COO— group may be bonded to any one or more of the carbon atoms of A. )
The number of siloxane units substituted by the organic group represented by the formula (2) with respect to the total siloxane units is 20 to 100 mol%, and a is an average of 0 ≦ a < 0.4, b is average 0 ≦ b <0.5, c is average 0 <c ≦ 1, d is average 0 ≦ d <0.4, and e is average 0 ≦ e <0.4. 0.2 and a + b + c + d = 1. ]
The light and thermosetting resin composition containing the silicone resin represented by these.
[2] The light and thermosetting resin composition according to [1], wherein m in the formula (2) is 3.
[3] The organic group represented by the formula (2) is represented by the following formulas (4) to (8).
(Wherein R 8 has the same meaning as described above.)
The light and thermosetting resin composition according to [2], which is any one of the structural groups represented by the formula (2) or a combination of two or more thereof.
[4] The light and thermosetting resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the silicone resin has a weight average molecular weight of 2,000 to 50,000.
[5] The silicone resin has 0.1 to 20 mol% of siloxane units substituted with perfluoroalkyl groups or poly (hexafluoropropylene oxide) structure-containing groups with respect to the total siloxane units [1] to [4 ] The light and thermosetting resin composition in any one of.
[6] The light and thermosetting resin composition according to any one of [1] to [5], further including a polyfunctional (meth) acrylic compound.
[7] The light and thermosetting resin composition according to any one of [1] to [6], further including at least one metal oxide fine particle.
[8] The light and thermosetting resin composition according to any one of [1] to [7], further including at least one of a radical photopolymerization catalyst and a thermal condensation catalyst.
[9] A molded product obtained by curing the light and thermosetting resin composition according to any one of [1] to [8].
[10] An article formed by forming a cured film of the light and thermosetting resin composition according to any one of [1] to [8].

本発明の光及び熱硬化性樹脂組成物によれば、光重合性基である(メタ)アクリロキシ基とケイ素の連結基にウレタン結合を有し、且つ同一ケイ素原子にシロキサン結合を除く化学結合により1〜5個の(メタ)アクリロキシ基が連結された構造のケイ素化合物をシロキサン単位の主成分に用いることで、従来公知の(メタ)アクリル基含有シランカップリング剤をシロキサン単位として使用した場合(図1(a))に比べて硬化樹脂の架橋点間距離が長くなるため、架橋密度が低下して硬化収縮が緩和され(図1(b))、成形品として形状安定性が得られ、硬化皮膜としてフィルム物品の反りの発生を抑制することができる。また、硬化物として透明でタッチパネル等の用途に好適な線膨張係数及び複屈折を有し、指紋汚れ等の汚染物質に対する防汚性に優れたものとすることができる。また、多官能(メタ)アクリル基の性質により十分な硬度が発現され、更にはウレタン結合部位の構造基間水素結合による二次的相互作用により硬化物の硬度と靭性を高次元で両立させることが可能となり(図1(c))、耐クラック性、耐磨耗性、耐擦傷性に優れた保護皮膜とすることができる。   According to the light and thermosetting resin composition of the present invention, a (meth) acryloxy group which is a photopolymerizable group and a silicon linking group have a urethane bond, and the same silicon atom has a chemical bond excluding a siloxane bond. When a conventionally known (meth) acryl group-containing silane coupling agent is used as a siloxane unit by using a silicon compound having a structure in which 1 to 5 (meth) acryloxy groups are linked as the main component of the siloxane unit ( Since the distance between the cross-linking points of the cured resin is longer than that in FIG. 1 (a)), the cross-linking density is reduced and the curing shrinkage is eased (FIG. 1 (b)), and shape stability is obtained as a molded product. Generation | occurrence | production of the curvature of a film article can be suppressed as a cured film. In addition, the cured product is transparent and has a linear expansion coefficient and birefringence suitable for applications such as a touch panel, and has excellent antifouling properties against contaminants such as fingerprint stains. In addition, sufficient hardness is expressed due to the nature of the polyfunctional (meth) acrylic group, and furthermore, the hardness and toughness of the cured product are made compatible at a high level by secondary interaction due to hydrogen bonding between structural groups in the urethane bond site. (FIG. 1 (c)), and a protective film excellent in crack resistance, wear resistance, and scratch resistance can be obtained.

本発明の樹脂組成物による効果発現メカニズムの説明図である。It is explanatory drawing of the effect expression mechanism by the resin composition of this invention.

以下、本発明について、具体的に説明する。
本発明の光及び熱硬化性樹脂組成物の主成分として用いられるシリコーン樹脂は、下記シロキサン単位式(1)
[式中、Xは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であり、R1〜R6は置換又は非置換の炭素数1〜10の一価炭化水素基であり、上記置換基はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、(メタ)アクリロキシ基、エポキシ構造含有基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ官能性基、パーフルオロアルキル基、ポリ(ヘキサフルオロプロピレンオキサイド)構造含有基、シリル基から選択される1種又は2種以上の一価有機基である。但し、R1〜R6のいずれかに下記式(2)
(式中、R7は下記式(3)
で示される構造基であり、Aは分岐又は非分岐である炭素数2〜10、且つ、間に酸素原子を挟んでもよく、それ以外のヘテロ原子は含まない(n+1)価の炭化水素基(有機連結基)であり、R8は独立に水素原子又はメチル基であり、mは1〜10の整数であり、nは1〜5の整数である。なお、CH2=CR8−COO−基は、Aの炭素原子のいずれか1つ又は2つ以上に結合してもよい。)
で表される有機基を1個以上含み、総シロキサン単位に対し、式(2)で表される有機基が置換しているシロキサン単位が20〜100mol%であり、aは平均0≦a<0.4であり、bは平均0≦b<0.5であり、cは平均0<c≦1であり、dは平均0≦d<0.4であり、eは平均0≦e<0.2であり、a+b+c+d=1である。]
で表される。
Hereinafter, the present invention will be specifically described.
The silicone resin used as the main component of the light and thermosetting resin composition of the present invention is represented by the following siloxane unit formula (1):
[Wherein, X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 1 to R 6 are substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and the substituent is fluorine. Atom, chlorine atom, bromine atom, (meth) acryloxy group, epoxy structure-containing group, mercapto group, isocyanate group, amino functional group, perfluoroalkyl group, poly (hexafluoropropylene oxide) structure-containing group, silyl group Or one or more monovalent organic groups. However, any one of R 1 to R 6 is represented by the following formula (2)
(Wherein R 7 is the following formula (3)
A is a branched or unbranched carbon group having 2 to 10 carbon atoms, and may have an oxygen atom between them, and does not contain any other hetero atom (n + 1) -valent hydrocarbon group ( R 8 is independently a hydrogen atom or a methyl group, m is an integer of 1 to 10, and n is an integer of 1 to 5. The CH 2 ═CR 8 —COO— group may be bonded to any one or more of the carbon atoms of A. )
The number of siloxane units substituted by the organic group represented by the formula (2) with respect to the total siloxane units is 20 to 100 mol%, and a is an average of 0 ≦ a < 0.4, b is average 0 ≦ b <0.5, c is average 0 <c ≦ 1, d is average 0 ≦ d <0.4, and e is average 0 ≦ e <0.4. 0.2 and a + b + c + d = 1. ]
It is represented by

この樹脂組成物を構成するシリコーン樹脂は、シロキサン単位式(1)においてa,b,dは0であり得るので、シロキサン単位式として、(R6SiO3/2c(OX)e、(R6SiO3/2c(SiO4/2d(OX)e、(R123SiO1/2a(R6SiO3/2c(OX)e、(R45SiO2/2b(R6SiO3/2c(OX)e、(R45SiO2/2b(R6SiO3/2c(SiO4/2d(OX)e、(R123SiO1/2a(R6SiO3/2c(SiO4/2d(OX)e、(R123SiO1/2a(R45SiO2/2b(R6SiO3/2c(OX)eがある。このシリコーン樹脂は、これらのシロキサン単位からなる分岐状、網状、3次元状などのオルガノポリシロキサン樹脂であり、(メタ)アクリロキシ基を有するので、光及び熱重合開始剤共存下で紫外線などの高エネルギー線照射あるいは熱により迅速に硬化する。 In the silicone resin constituting this resin composition, a, b, and d in the siloxane unit formula (1) can be 0. Therefore, (R 6 SiO 3/2 ) c (OX) e , ( R 6 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (OX) e , (R 1 R 2 R 3 SiO 1/2 ) a (R 6 SiO 3/2 ) c (OX) e , (R 4 R 5 SiO 2/2 ) b (R 6 SiO 3/2 ) c (OX) e , (R 4 R 5 SiO 2/2 ) b (R 6 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d ( OX) e , (R 1 R 2 R 3 SiO 1/2 ) a (R 6 SiO 3/2 ) c (SiO 4/2 ) d (OX) e , (R 1 R 2 R 3 SiO 1/2 ) there is a (R 4 R 5 SiO 2/2 ) b (R 6 SiO 3/2) c (OX) e. This silicone resin is a branched, reticulated or three-dimensional organopolysiloxane resin composed of these siloxane units, and has a (meth) acryloxy group. Cures rapidly by energy beam irradiation or heat.

上記シロキサン単位式(1)におけるa,b,c,dは各シロキサン単位の合計モル数を1とした場合の各シロキサン単位の平均モル数を意味しており、各シロキサン単位が一分子中に平均何mol%含まれているかを示している。従って、a+b+c+d=1である。また、eは各シロキサン単位中、ケイ素上に加水分解性基が結合したシロキサン単位が平均何mol%含まれているかを示している。従って0≦e<(b+c+d)である。   In the siloxane unit formula (1), a, b, c and d mean the average number of moles of each siloxane unit when the total number of moles of each siloxane unit is 1, and each siloxane unit is in one molecule. It shows how many mol% is contained on average. Therefore, a + b + c + d = 1. Moreover, e has shown how many mol% of the siloxane unit which the hydrolyzable group couple | bonded on silicon is contained in each siloxane unit. Therefore, 0 ≦ e <(b + c + d).

オルガノポリシロキサン樹脂中にM単位(R123SiO1/2)が導入されると一般に分子量が低下するため、その範囲は平均0≦a<0.4、好ましくは0≦a<0.2である。D単位(R45SiO2/2)が導入されると樹脂の分岐度が減少し、硬化物のモジュラスが低下し、耐クラック性や防汚性が向上するため、その範囲は0≦b<0.5であり、好ましくは平均0≦b<0.02である。T単位(R6SiO3/2)が導入されると、一般に分岐度が向上して硬化物のモジュラスが大きくなり、耐磨耗性が向上するため、平均0<c≦1であり、好ましくは0.8≦c≦1である。Q単位(SiO4/2)が導入されると、一般に樹脂の分岐度が顕著に向上し、硬化物のモジュラスが顕著に大きくなり、耐クラック性が低下するため、dは平均0≦d<0.4であり、好ましくはd=0である。加水分解性基を含むシロキサン単位が導入されると、熱縮合による硬度向上が増大するが、その一方で樹脂中に反応活性基が残存することとなり、保存安定性が低下するため、eは平均0≦e<0.2であり、好ましくは平均0≦e<0.1である。 When M units (R 1 R 2 R 3 SiO 1/2 ) are introduced into the organopolysiloxane resin, the molecular weight generally decreases, so the range is 0 ≦ a <0.4, preferably 0 ≦ a <. 0.2. When the D unit (R 4 R 5 SiO 2/2 ) is introduced, the degree of branching of the resin is reduced, the modulus of the cured product is lowered, and crack resistance and antifouling properties are improved. b <0.5, preferably 0 ≦ b <0.02 on average. When the T unit (R 6 SiO 3/2 ) is introduced, the degree of branching is generally improved, the modulus of the cured product is increased, and the wear resistance is improved. Therefore, the average 0 <c ≦ 1, preferably Is 0.8 ≦ c ≦ 1. When Q unit (SiO 4/2 ) is introduced, generally the degree of branching of the resin is remarkably improved, the modulus of the cured product is remarkably increased, and the crack resistance is lowered, so d is an average of 0 ≦ d < 0.4, preferably d = 0. When a siloxane unit containing a hydrolyzable group is introduced, the hardness improvement due to thermal condensation increases, but on the other hand, a reactive group remains in the resin and storage stability decreases, so e is an average. 0 ≦ e <0.2, preferably 0 ≦ e <0.1 on average.

上記シロキサン単位式(1)中、ケイ素原子に結合した置換基であるR1〜R6のうち、置換又は非置換の炭素数1〜10の一価脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、ビニル基、アリル基等のアルケニル基が挙げられる。また、炭素数6〜10の一価芳香族炭化水素基としては、フェニル基、トリル基、フェニルエチル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基やアラルキル基が挙げられる。置換基にはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、(メタ)アクリロキシ基、エポキシ構造含有基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ官能性基、パーフルオロアルキル基、ポリ(ヘキサフルオロプロピレンオキサイド)構造含有基、シリル基が挙げられる。 In the siloxane unit formula (1), among R 1 to R 6 which are substituents bonded to a silicon atom, the substituted or unsubstituted monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms includes a methyl group, Examples thereof include linear, branched or cyclic alkyl groups such as ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group and cyclohexyl group, and alkenyl groups such as vinyl group and allyl group. Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms include aryl groups such as phenyl group, tolyl group, phenylethyl group, xylyl group, and naphthyl group, and aralkyl groups. Substituents include fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, (meth) acryloxy group, epoxy structure-containing group, mercapto group, isocyanate group, amino functional group, perfluoroalkyl group, poly (hexafluoropropylene oxide) structure-containing group And a silyl group.

これらの中でも、下記式(2)
(式中、R7は下記式(3)
で示される構造基であり、Aは分岐又は非分岐である炭素数2〜10、且つ、間に酸素原子を挟んでもよく、それ以外のヘテロ原子は含まない(n+1)価の炭化水素基(有機連結基)であり、R8は独立に水素原子又はメチル基であり、mは1〜10の整数であり、nは1〜5の整数である。なお、CH2=CR8−COO−基は、Aの炭素原子のいずれか1つ又は2つ以上に結合してもよい。)
で表される有機基がR1〜R6のうちに少なくとも一つは含まれる(即ち、シリコーン樹脂のケイ素原子に結合する有機基の少なくとも一つは上記式(2)の基である。)。
また、R8については紫外線等の高エネルギー線照射時の硬化性を考慮すると水素原子であることが好ましい。総シロキサン単位に対して、式(2)で表される有機基が置換しているシロキサン単位は40〜99.9mol%であることが好ましく、より好ましくは70〜99.7mol%である。
Among these, the following formula (2)
(Wherein R 7 is the following formula (3)
A is a branched or unbranched carbon group having 2 to 10 carbon atoms, and may have an oxygen atom between them, and does not contain any other hetero atom (n + 1) -valent hydrocarbon group ( R 8 is independently a hydrogen atom or a methyl group, m is an integer of 1 to 10, and n is an integer of 1 to 5. The CH 2 ═CR 8 —COO— group may be bonded to any one or more of the carbon atoms of A. )
At least one of R 1 to R 6 is included (that is, at least one of the organic groups bonded to the silicon atom of the silicone resin is a group of the above formula (2)). .
R 8 is preferably a hydrogen atom in view of curability when irradiated with high energy rays such as ultraviolet rays. It is preferable that the siloxane unit which the organic group represented by Formula (2) substitutes with respect to a total siloxane unit is 40-99.9 mol%, More preferably, it is 70-99.7 mol%.

上記式(2)におけるアルキレン基Cm2mは、硬化樹脂の架橋点間の距離を調整するものであり、そのmは1〜10の整数であり、好ましくは1〜8であり、更に好ましくはm=3である。mが10を超えると、本発明で目的とする硬化物の硬度と靭性のバランスを損なう。 The alkylene group C m H 2m in the above formula (2) adjusts the distance between the crosslinking points of the cured resin, and m is an integer of 1 to 10, preferably 1 to 8, and more preferably. M = 3. When m exceeds 10, the balance between the hardness and toughness of the cured product intended in the present invention is impaired.

また、上記式(3)において、(メタ)アクリロキシ基の個数(n)は、1〜5の整数であり、これにより硬化物として十分な硬度を確保している。nが5を超えると、本発明で目的とする硬化物の硬度と靭性のバランスを損なう。   In the above formula (3), the number (n) of (meth) acryloxy groups is an integer of 1 to 5, thereby ensuring a sufficient hardness as a cured product. When n exceeds 5, the balance between the hardness and toughness of the cured product intended in the present invention is impaired.

従って、上記式(2)で表される有機基は、下記式(4)〜(8)
(式中、R8は上記と同義である。)
で表す有機基であることが好ましい。
Therefore, the organic group represented by the above formula (2) is represented by the following formulas (4) to (8).
(Wherein R 8 has the same meaning as described above.)
It is preferable that it is an organic group represented by.

上記シロキサン単位式(1)中、ケイ素原子に結合した(O1/2X)について、Xは水素原子、又はメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基であり、好ましくは水素原子、メチル基であり、より好ましくは水素原子である。 In the siloxane unit formula (1), with respect to (O 1/2 X) bonded to a silicon atom, X is a hydrogen atom or a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, C1-C4 alkyl groups, such as i-butyl group and t-butyl group, Preferably they are a hydrogen atom and a methyl group, More preferably, it is a hydrogen atom.

上記シロキサン単位式(1)中、ケイ素原子に結合した置換基であるR1〜R6のいずれかに、紫外線等の高エネルギー線照射時の硬化性を考慮すると、式(2)で表される有機基のほかに光反応性基として、下記式(9)
CH2=C(R9)COO(CH2l− (9)
(式中、R9は水素原子又はメチル基であり、lは1〜8の整数である。)
で表される有機基を有するとよい。なお、R9については紫外線等の高エネルギー線照射時の硬化性を考慮すると水素原子であることが好ましい。
In the siloxane unit formula (1), any one of R 1 to R 6 which is a substituent bonded to a silicon atom is represented by the formula (2) in consideration of curability when irradiated with high energy rays such as ultraviolet rays. As a photoreactive group in addition to the organic group, the following formula (9)
CH 2 = C (R 9) COO (CH 2) l - (9)
(In the formula, R 9 is a hydrogen atom or a methyl group, and l is an integer of 1 to 8.)
It is good to have the organic group represented by these. R 9 is preferably a hydrogen atom in consideration of curability when irradiated with high energy rays such as ultraviolet rays.

ここで、式(2)の有機基含有のシロキサン単位の含有率をAmol%、式(9)の有機基含有のシロキサン単位の含有率をBmol%とすると、0.1<A/(A+B)≦1であることが好ましく、より好ましくは0.2<A/(A+B)≦1である。上記の範囲外の含有率であると、本発明の効果である架橋密度低下による成形物の可とう性付与と重合性基の高活性による成形物の硬度向上のバランスを損なう場合が生じる。   Here, when the content of the organic group-containing siloxane unit of the formula (2) is Amol% and the content of the organic group-containing siloxane unit of the formula (9) is Bmol%, 0.1 <A / (A + B) It is preferable that ≦ 1, more preferably 0.2 <A / (A + B) ≦ 1. If the content is outside the above range, the balance between imparting flexibility of the molded product due to the reduction in crosslink density, which is an effect of the present invention, and improving the hardness of the molded product due to high activity of the polymerizable group may be impaired.

なお、上記式(9)で表される有機基が置換しているシロキサン単位は0〜80mol%が好ましく、より好ましくは0〜30mol%である。   In addition, 0-80 mol% is preferable and, as for the siloxane unit which the organic group represented by the said Formula (9) has substituted, More preferably, it is 0-30 mol%.

また、上記シロキサン単位式(1)中、防汚効果を向上させる目的には、総シロキサン単位に対し、パーフルオロアルキル基やポリ(ヘキサフルオロプロピレンオキサイド)構造含有基が置換しているシロキサン単位が0.1〜20mol%であることが好ましく、より好ましくは1〜5mol%である。パーフルオロアルキル基としては、炭素数1〜10のアルキル基の水素原子の一部又は全部をフッ素原子で置換したもの、例えば、
4924−、C61324−、C81724
等が挙げられる。ポリ(ヘキサフルオロプロピレンオキサイド)構造としては、
37OC(CF3)FCF2OC(CF3)FCH2OC36−、
F(C(CF3)FCF2O)6C(CF3)FC(=O)NHC36
等が挙げられる。
In the siloxane unit formula (1), for the purpose of improving the antifouling effect, a siloxane unit substituted with a perfluoroalkyl group or a poly (hexafluoropropylene oxide) structure-containing group is substituted for the total siloxane unit. It is preferable that it is 0.1-20 mol%, More preferably, it is 1-5 mol%. As the perfluoroalkyl group, one in which part or all of the hydrogen atoms of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms are substituted with fluorine atoms, for example,
C 4 F 9 C 2 H 4 —, C 6 F 13 C 2 H 4 —, C 8 F 17 C 2 H 4
Etc. As poly (hexafluoropropylene oxide) structure,
C 3 F 7 OC (CF 3 ) FCF 2 OC (CF 3 ) FCH 2 OC 3 H 6- ,
F (C (CF 3 ) FCF 2 O) 6 C (CF 3 ) FC (═O) NHC 3 H 6
Etc.

上記シロキサン単位式(1)中、耐マジックインキ性を向上させる目的には、総シロキサン単位に対し、ジメチルシロキサン単位の含有率が0.1〜10mol%であることが好ましく、より好ましくは0.1〜3mol%である。上記の含有率より少ないと十分な耐マジックインキ性は得られず、また、多いと十分な耐磨耗性が得られない場合がある。   In the siloxane unit formula (1), for the purpose of improving the magic ink resistance, the content of dimethylsiloxane units is preferably 0.1 to 10 mol%, more preferably 0. 1 to 3 mol%. When the content is less than the above-mentioned content, sufficient magic ink resistance cannot be obtained, and when the content is large, sufficient abrasion resistance may not be obtained.

なお、シリコーン樹脂が、このように式(2)で表される有機基が置換しているシロキサン単位S−1に加えて、式(9)の有機基が置換しているシロキサン単位S−2、パーフルオロアルキル基及び/又はポリ(ヘキサフルオロプロピレンオキサイド)構造含有基が置換しているシロキサン単位S−3、ジメチルシロキサン単位S−4のいずれか1個又は複数個を含む場合、式(2)で表される有機基が置換しているシロキサン単位S−1は20〜99.9mol%、特に30〜98.9mol%である。   In addition to the siloxane unit S-1 in which the organic group represented by the formula (2) is substituted in this way, the silicone resin is a siloxane unit S-2 in which the organic group of the formula (9) is substituted. , A perfluoroalkyl group and / or a poly (hexafluoropropylene oxide) structure-containing group includes one or more of substituted siloxane units S-3 and dimethylsiloxane units S-4, the formula (2 The siloxane unit S-1 substituted by the organic group represented by) is 20 to 99.9 mol%, particularly 30 to 98.9 mol%.

(シリコーン樹脂の製造法)
上記シロキサン単位式(1)についてその前駆原料となる加水分解性シランモノマーは分子中に加水分解性シリル基を1つ以上有するものであれば特に限定されないが、上記式(4)〜(8)よりなる群から選択される構造基とするためには、下記式(10)〜(13)に例示されるような加水分解性シランモノマーを使用するとよい。
(Manufacturing method of silicone resin)
The hydrolyzable silane monomer as a precursor for the siloxane unit formula (1) is not particularly limited as long as it has one or more hydrolyzable silyl groups in the molecule, but the above formulas (4) to (8) In order to obtain a structural group selected from the group consisting of the above, hydrolyzable silane monomers as exemplified in the following formulas (10) to (13) may be used.

(式中、Meはメチル基を示す。) (In the formula, Me represents a methyl group.)

ここで、例示化合物は加水分解性シリル基がトリメトキシシリル基であるが、それに限定されず、該シリル基は例えばメチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、ジメチルエトキシシリル基などであってもよい。加水分解性シリル基を2つ以上有するものである場合には、R1〜R6のうち置換基にシリル基を有するものがそれに該当する。また、置換基としてのシリル基もまた加水分解性シリル基である場合には、同時に単位式(1)の中に相応するシロキサン単位が含まれる。加水分解性シリル基を2つ以上有する加水分解性シランモノマーとしては1,2−ビストリメトキシシリルエタン、1,2−ビストリエトキシシリルエタン、1,2−ビス(メチルジメトキシシリル)エタン、1,2−ビス(メチルジエトキシシリル)エタン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,6−ビス(トリエトキシシリル)ヘキサン、1,8−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、1,8−ビス(トリエトキシシリル)オクタン、1,19−ビス(トリメトキシシリルエチル)−ペルメチルデカシロキサン、N,N−ビス(トリメトキシシリルプロピル)アミン、トリス−(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート等が挙げられる。これらは、マジックインキ拭き取り性の向上に寄与する。 Here, the exemplary compound has a hydrolyzable silyl group that is a trimethoxysilyl group, but is not limited thereto. Examples of the silyl group include a methyldimethoxysilyl group, a dimethylmethoxysilyl group, a triethoxysilyl group, and a methyldiethoxysilyl group. Or a dimethylethoxysilyl group. In the case of having two or more hydrolyzable silyl groups, those having a silyl group as a substituent among R 1 to R 6 correspond thereto. When the silyl group as a substituent is also a hydrolyzable silyl group, a corresponding siloxane unit is simultaneously contained in the unit formula (1). Examples of hydrolyzable silane monomers having two or more hydrolyzable silyl groups include 1,2-bistrimethoxysilylethane, 1,2-bistriethoxysilylethane, 1,2-bis (methyldimethoxysilyl) ethane, 1,2 -Bis (methyldiethoxysilyl) ethane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, 1,6-bis (triethoxysilyl) hexane, 1,8-bis (trimethoxysilyl) octane, 1,8- Bis (triethoxysilyl) octane, 1,19-bis (trimethoxysilylethyl) -permethyldecasiloxane, N, N-bis (trimethoxysilylpropyl) amine, tris- (trimethoxysilylpropyl) isocyanurate, etc. Can be mentioned. These contribute to the improvement of the magic ink wiping property.

シリコーン樹脂の製造法の概略としては、上述したような加水分解性シリル基(アルコキシ基)を含有するシラン化合物を、塩基性触媒存在下で、アルコキシ基を全て加水分解縮合する量より多くの水で加水分解縮合することで(メタ)アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサン樹脂を得ることができる。   As an outline of the method for producing a silicone resin, a silane compound containing a hydrolyzable silyl group (alkoxy group) as described above is more water than the amount in which all alkoxy groups are hydrolyzed and condensed in the presence of a basic catalyst. (Meth) acryloxy group-containing organopolysiloxane resin can be obtained by hydrolytic condensation with.

ここで、塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、テトラアルキルアンモニウムヒドロキサイド等が挙げられる。これらの中でも、テトラアルキルアンモニウムヒドロキサイドが好ましい。
塩基性触媒の添加量は、配合したシラン化合物、シロキサン化合物の0.1〜20質量%、特に1〜10質量%であることが好ましい。
Here, examples of the basic catalyst include sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, tetraalkylammonium hydroxide and the like. Among these, tetraalkylammonium hydroxide is preferable.
The addition amount of the basic catalyst is preferably 0.1 to 20% by mass, particularly 1 to 10% by mass, based on the silane compound and siloxane compound added.

加水分解縮合に使用する水の量は、配合したシラン化合物、シロキサン化合物のアルコキシ基を全て加水分解縮合するために必要な量より多くするものであり、配合組成中のアルコキシ基1molに対して、水0.55〜10mol、好ましくは0.6〜5molである。0.55molより少ないと、アルコキシ基の加水分解が進まず、10molより多いと縮合が進まず、いずれの場合も未反応のシランモノマーが残ってしまい、皮膜表面にハジキ等が発生する。   The amount of water used for the hydrolytic condensation is larger than the amount required for hydrolytic condensation of all the alkoxy groups of the compounded silane compound and siloxane compound. Water is 0.55 to 10 mol, preferably 0.6 to 5 mol. If it is less than 0.55 mol, hydrolysis of the alkoxy group does not proceed, and if it exceeds 10 mol, condensation does not proceed. In any case, an unreacted silane monomer remains and repelling or the like occurs on the surface of the film.

加水分解縮合反応時は、アルコール中で行う必要があり、使用するアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、t−ブタノール等が挙げられる。   The hydrolysis condensation reaction must be performed in alcohol, and examples of the alcohol used include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, and t-butanol.

上述したシラン化合物、アルコール、塩基性触媒を配合し、水を添加して加水分解縮合を進める。この時の反応温度は0〜200℃であり、好ましくは0〜50℃である。   The above-mentioned silane compound, alcohol, and basic catalyst are blended, and water is added to proceed with hydrolysis and condensation. The reaction temperature at this time is 0-200 degreeC, Preferably it is 0-50 degreeC.

加水分解縮合後、酸で中和もしくは水洗することで中性とした後、アルコール等を留去することで実質的に溶剤等を含まなくても安定性に優れた(メタ)アクリロキシ基含有オルガノポリシロキサン樹脂を得ることができる。   After hydrolytic condensation, neutralize with acid or neutralize by washing with water, and then distill off alcohol, etc. to remove (meth) acryloxy group-containing organo, which is substantially free of solvents A polysiloxane resin can be obtained.

上記シロキサン単位式(1)で表されるシリコーン樹脂の展開溶媒にテトラヒドロフラン(THF)を用いたゲルパーミエーションクロマトフラフィー(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量は、2,000〜50,000であることが好ましくより好ましくは2,500〜30,000、特に好ましくは3,000〜25,000である。分子量が小さすぎると、縮合が不足しており、保存安定性が悪く、未反応のシロキサン単位が残ってしまい、皮膜表面にハジキ等が発生する場合がある。大きすぎると、粘度が高くなり、ハンドリングが困難になるおそれがある。   The weight average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a developing solvent for the silicone resin represented by the siloxane unit formula (1) is 2,000 to 50,000. Is more preferably 2,500 to 30,000, and particularly preferably 3,000 to 25,000. If the molecular weight is too small, condensation is insufficient, storage stability is poor, unreacted siloxane units remain, and repellency or the like may occur on the film surface. If it is too large, the viscosity becomes high and handling may be difficult.

本発明の上記シロキサン単位式(1)で表されるオルガノポリシロキサン樹脂(シリコーン樹脂)を含む樹脂組成物は必要に応じて、反応性がある希釈剤として多官能(メタ)アクリレートを含むことが好ましい。多官能(メタ)アクリレートを含まない場合、該オルガノポリシロキサン樹脂が固体(結晶)化したり、高粘度化したりするため、安定した製造が困難になる他、基板への塗工が非常に困難になるおそれがある。   The resin composition containing the organopolysiloxane resin (silicone resin) represented by the siloxane unit formula (1) of the present invention may contain a polyfunctional (meth) acrylate as a reactive diluent, if necessary. preferable. When polyfunctional (meth) acrylate is not included, the organopolysiloxane resin becomes solid (crystallized) or increases in viscosity, which makes it difficult to manufacture stably and makes it very difficult to apply to substrates. There is a risk.

多官能(メタ)アクリレートは、硬化後に得られる皮膜のマトリックスを形成するものである。多官能(メタ)アクリレートは、分子内に2つ以上の(メタ)アクリル基を有する化合物であり、例えば、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニルジアクリレート、3−(メタ)アクリロイルオキシグリセリンモノ(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、エステルアクリレート等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
これらの化合物は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The polyfunctional (meth) acrylate forms a matrix of the film obtained after curing. The polyfunctional (meth) acrylate is a compound having two or more (meth) acryl groups in the molecule. For example, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, ethylene Oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meta) ) Acrylate, dicyclopentadienyl diacrylate, 3- (meth) acryloyloxyglycerin mono (meth) acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, ester acrylate, etc. Including but not necessarily limited thereto.
These compounds may use only 1 type and may use 2 or more types together.

上記多官能(メタ)アクリレートの配合量は、上記シリコーン樹脂100質量部に対し0〜100質量部、特に0〜70質量部であることが好ましい。多官能(メタ)アクリレートの配合量が多すぎると、十分な耐磨耗性が得られない場合がある。なお、多官能(メタ)アクリレートを配合する場合、その効果を有効に発揮させる点から10質量部以上であることが好ましい。   The blending amount of the polyfunctional (meth) acrylate is preferably 0 to 100 parts by mass, particularly preferably 0 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the silicone resin. If the amount of polyfunctional (meth) acrylate is too large, sufficient wear resistance may not be obtained. In addition, when mix | blending polyfunctional (meth) acrylate, it is preferable that it is 10 mass parts or more from the point which exhibits the effect effectively.

上記シロキサン単位式(1)で表されるオルガノポリシロキサン樹脂(シリコーン樹脂)及び必要に応じて多官能(メタ)アクリレートを含んだコーティング剤組成物、硬化触媒を混合することにより、光及び熱硬化性コーティング剤組成物を得ることができ、これは紫外線等の高エネルギー線及び熱により硬化するものである。   By mixing an organopolysiloxane resin (silicone resin) represented by the above siloxane unit formula (1) and, if necessary, a polyfunctional (meth) acrylate coating composition and a curing catalyst, light and heat curing Can be obtained, which is cured by high energy rays such as ultraviolet rays and heat.

ここで、硬化触媒としては、ラジカル開始剤及び/又は熱縮合触媒を用いることができる。ラジカル開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常の光重合開始剤(ラジカル系光重合触媒)から選択することができる。例えば、ダロキュアー1173、イルガキュア651、イルガキュア184、イルガキュア907(いずれもチバスペシャルティケミカルズ社製)等が挙げられる。   Here, a radical initiator and / or a thermal condensation catalyst can be used as the curing catalyst. The radical initiator can be selected from ordinary photopolymerization initiators (radical photopolymerization catalysts) such as acetophenone, benzoin, benzophenone, and thioxanthone. For example, Darocur 1173, Irgacure 651, Irgacure 184, Irgacure 907 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals) and the like can be mentioned.

また、熱縮合触媒としては、公知のものの中から適宜選択して使用することが可能である。本発明で使用する熱縮合触媒の具体例としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメチラート、酢酸ナトリウム、蟻酸ナトリウム、n−ヘキシルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシクロウンデセン等の塩基性化合物類、テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、アルミニウムトリイソブトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、過塩素酸アルミニウム、塩化アルミニウム、コバルトオクチレート、コバルトアセチルアセトナート、亜鉛オクチレート、亜鉛アセチルアセトナート、鉄アセチルアセトナート、スズアセチルアセトナート、ジブチルスズオクチレート、ジブチルスズラウレート等の含金属化合物類、p−トルエンスルホン酸、トリクロル酢酸のような酸性化合物類等が挙げられる。   In addition, the thermal condensation catalyst can be appropriately selected from known ones. Specific examples of the thermal condensation catalyst used in the present invention include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methylate, sodium acetate, sodium formate, n-hexylamine, tributylamine, diazabicycloundecene, etc. Basic compounds such as tetraisopropyl titanate, tetrabutyl titanate, aluminum triisobutoxide, aluminum triisopropoxide, aluminum acetylacetonate, aluminum perchlorate, aluminum chloride, cobalt octylate, cobalt acetylacetonate, zinc octylate, Metal-containing compounds such as zinc acetylacetonate, iron acetylacetonate, tin acetylacetonate, dibutyltin octylate, dibutyltin laurate, p-toluenesulfonic acid, tri Lol acidic compounds such as acetic acid, and the like.

硬化触媒の配合量は、上記シリコーン樹脂と多官能(メタ)アクリレートの合計量100質量部に対して0.1〜15質量部配合することができる。好ましい配合量は0.5〜10質量部であり、0.1質量部より少ないと硬化性が悪化する場合があり、15質量部より多いと表面の硬度が低下するおそれがある。   The blending amount of the curing catalyst can be 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the silicone resin and the polyfunctional (meth) acrylate. A preferable compounding amount is 0.5 to 10 parts by mass, and if it is less than 0.1 part by mass, the curability may be deteriorated.

本発明の上記シロキサン単位式(1)で表されるオルガノポリシロキサン樹脂(シリコーン樹脂)を含むコーティング剤組成物は、更に必要に応じて、金属酸化物微粒子、シランカップリング剤、非重合性の希釈溶剤、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤などを含んでいても差し支えない。   The coating agent composition containing the organopolysiloxane resin (silicone resin) represented by the above siloxane unit formula (1) of the present invention may further comprise a metal oxide fine particle, a silane coupling agent, a non-polymerizable agent, if necessary. Dilution solvents, polymerization inhibitors, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, antifoaming agents, leveling agents and the like may be included.

金属酸化物微粒子としては、例えば、Si、Ti、Al、Zn、Zr、In、Sn、Sb等の酸化物微粒子、あるいはこれらの複合酸化物微粒子等が挙げられる。また表面をシリカ、アルミナ等で被覆したものを使用してもよい。金属酸化物微粒子として具体的には、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア等の微粒子が挙げられ、シリカ微粒子が好ましい。このような金属酸化物微粒子を添加することにより、耐磨耗性等の特性をより高めることができる。   Examples of the metal oxide fine particles include oxide fine particles such as Si, Ti, Al, Zn, Zr, In, Sn, and Sb, or composite oxide fine particles thereof. Moreover, you may use what coat | covered the surface with silica, an alumina, etc. Specific examples of the metal oxide fine particles include fine particles of silica, alumina, zirconia, titania and the like, and silica fine particles are preferable. By adding such metal oxide fine particles, characteristics such as wear resistance can be further enhanced.

また、シリカ微粒子は、低屈折率等の効果が期待される中空、多孔質のものを使用してもよい。
前記シリカ微粒子の中でも、活性エネルギー線反応性基を有する加水分解性シラン化合物によって表面修飾されたものが好ましく用いられる。このような反応性シリカ微粒子は、ハードコートを硬化させる際の活性エネルギー線照射によって、架橋反応を起こし、ポリマーマトリックス中に固定される。
なお、シリカ微粒子等の金属酸化物微粒子の配合量は、シリコーン樹脂と多官能(メタ)アクリレートの合計量100質量部に対し、5〜100質量部が好ましい。
Further, the silica fine particles may be hollow or porous which is expected to have an effect such as a low refractive index.
Among the silica fine particles, those having a surface modified with a hydrolyzable silane compound having an active energy ray reactive group are preferably used. Such reactive silica fine particles undergo a crosslinking reaction by irradiation with active energy rays when the hard coat is cured, and are fixed in the polymer matrix.
In addition, the compounding quantity of metal oxide microparticles | fine-particles, such as a silica microparticle, is 5-100 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of silicone resin and polyfunctional (meth) acrylate.

非重合性の希釈剤としては脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒などが挙げられる。その中でも、シリコーン樹脂との相溶性からエステル系、ケトン系溶媒が好ましい。   Non-polymerizable diluents include aliphatic hydrocarbon solvents, aromatic hydrocarbon solvents, alcohol solvents, ester solvents, ketone solvents, and the like. Among them, ester solvents and ketone solvents are preferable because of compatibility with silicone resins.

本発明の光及び熱硬化性樹脂組成物は、タッチパネル用透明導電性フィルムに代表される各種機能性フィルム等に好適な成形材料、より詳しくはタッチパネル等の用途に好適な線膨張係数及び複屈折を有すると共に、高透明性、高い寸法安定性(形状安定性)、耐クラック性と耐磨耗性のバランスに優れたフィルムを提供する成形材料である。また、本発明の光及び熱硬化性樹脂組成物は、表面に防汚層の付与が必要とされる物品、特に再生専用光ディスク、光記録ディスク、光磁気記録ディスク等の光情報媒体の表面、より詳しくは、記録あるいは再生ビーム入射側表面や、光学レンズ、光学フィルター、反射防止膜、及び液晶ディスプレー、CRTディスプレー、プラズマディスプレー、ELディスプレー等の各種表示素子等の表面に塗布し、硬化皮膜とすることにより、これらの表面の耐擦傷性、耐クラック性、指紋汚れ等の汚染物質に対する防汚効果やマジックインキの拭き取り性を付与することが可能である。この硬化皮膜を有する物品は、防汚性及び潤滑性に優れると共に耐擦傷性及び耐磨耗性にも優れるものとなり、皮膜の硬化収縮も小さいことから物品がフィルム形状の場合の反りの発生を抑制することができる。   The light and thermosetting resin composition of the present invention is a molding material suitable for various functional films typified by a transparent conductive film for touch panels, more specifically, a linear expansion coefficient and birefringence suitable for applications such as touch panels. And a molding material that provides a film with excellent balance between high transparency, high dimensional stability (shape stability), crack resistance and wear resistance. The light and thermosetting resin composition of the present invention is a surface of an optical information medium such as a read-only optical disc, an optical recording disc, a magneto-optical recording disc, etc. More specifically, it is applied to the surface of a recording or reproducing beam incident side, an optical lens, an optical filter, an antireflection film, and various display elements such as a liquid crystal display, a CRT display, a plasma display, an EL display, etc. By doing so, it is possible to impart an antifouling effect to the contaminants such as scratch resistance, crack resistance, fingerprint stains and the like, and wiping ability of the magic ink. An article having this cured film is excellent in antifouling property and lubricity, and also excellent in scratch resistance and abrasion resistance, and since the curing shrinkage of the film is small, the occurrence of warping when the article is in the form of a film is caused. Can be suppressed.

本発明の樹脂組成物による成形体(成形品)を得る方法としては、例えば任意のキャビティ形状を有し、石英ガラス等の透明素材で構成された金型内に注入し、後述する光(活性線)照射により硬化を行い金型から脱型させることで所望の形状の成形体を製造する方法や、金型を用いない場合には、移動するスチールベルト上にドクターブレードやロール状のコーターを用いて本発明の樹脂組成物を塗布し、活性線照射により硬化させることでシート状の成形体を製造する方法等を例示することができる。   As a method for obtaining a molded body (molded product) of the resin composition of the present invention, for example, it is injected into a mold having an arbitrary cavity shape and made of a transparent material such as quartz glass, and light (active) described later Line) A method of producing a molded body of a desired shape by curing by irradiation and removing from the mold, or if a mold is not used, a doctor blade or roll-shaped coater is placed on the moving steel belt. Examples thereof include a method for producing a sheet-like molded article by applying the resin composition of the present invention and curing the composition by actinic ray irradiation.

本発明の樹脂組成物による皮膜を形成する方法としては、本発明の樹脂組成物をコーティング剤としてスピンコート法等により塗布し、硬化させることで皮膜を作製することができる。
形成された皮膜の膜厚は、0.1〜50μm、特に0.5〜30μmの範囲にあることが好ましい。膜厚が薄すぎると耐磨耗性が低下する場合があり、また厚すぎると耐磨耗性等が飽和し、所望特性を付与するに当たるコストが不要に高くなってしまう場合がある。
As a method of forming a film by the resin composition of the present invention, the film can be prepared by applying the resin composition of the present invention as a coating agent by a spin coating method or the like and curing it.
The film thickness of the formed film is preferably in the range of 0.1 to 50 μm, particularly 0.5 to 30 μm. If the film thickness is too thin, the wear resistance may decrease, and if it is too thick, the wear resistance and the like may be saturated, and the cost for imparting desired characteristics may become unnecessarily high.

本発明の樹脂組成物を光硬化させるための光源としては、通常、200〜450nmの範囲の波長の光を含む光源、例えば高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン灯、カーボンアーク灯等を使用することができる。照射量は特に制限されないが、10〜5,000mJ/cm2、特に20〜2,000mJ/cm2であることが好ましい。硬化時間は通常0.5秒〜2分、好ましくは1秒〜1分である。 As a light source for photocuring the resin composition of the present invention, usually a light source containing light having a wavelength in the range of 200 to 450 nm, such as a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, etc. Can be used. Although the amount of irradiation is not particularly limited, it is preferably 10 to 5,000 mJ / cm 2 , particularly preferably 20 to 2,000 mJ / cm 2 . The curing time is usually 0.5 seconds to 2 minutes, preferably 1 second to 1 minute.

本発明の樹脂組成物の加熱硬化には、30〜250℃の温度範囲で1〜120分間処理することが好ましく、特に硬化時間の短縮並びに基材の劣化防止を両立させる観点から、60〜150℃の温度で加熱処理することが好ましい。   For the heat curing of the resin composition of the present invention, it is preferable to treat for 1 to 120 minutes in a temperature range of 30 to 250 ° C., particularly from the viewpoint of achieving both shortening of the curing time and prevention of deterioration of the substrate. Heat treatment is preferably performed at a temperature of ° C.

以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、下記においてMeはメチル基を示す。また、シリコーン樹脂の重量平均分子量は、展開溶媒としてテトラヒドロフラン(THF)を用いたゲルパーミエーションクロマトフラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の測定値である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example. In the following, Me represents a methyl group. The weight average molecular weight of the silicone resin is a measured value in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a developing solvent.

[調製例1]
出発原料として、下記式(10)
で示されるメタクリロキシ基含有トリメトキシシラン335.4質量部(1.00mol)、イソプロピルアルコール926.3質量部を反応器中に配合し、均一になったところで20質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液15.2質量部、水95.6質量部(水 合計6.0mol)を添加し、30℃で12時間撹拌した。その後、メチルイソブチルケトン900質量部を投入し、水洗にて発生したメタノール並びにイソプロピルアルコールの除去、反応液を中性とした後、減圧下にてメチルイソブチルケトンを一部留去した。得られた反応物は揮発分60.0質量%のメチルイソブチルケトン溶液であり、重量平均分子量3,700であった。この反応物は赤外吸収光分析、核磁気共鳴分析の結果から加水分解縮合が理想どおり進行し、シロキサン単位式[MA1SiO3/21.0[OH]0.09[MA1:式(10)由来のメタクリロキシ基含有構造基(下記式(10’)に示すもの)]を有する光反応性基含有オルガノポリシロキサン樹脂であることを確認した。これを樹脂Aとする。
[Preparation Example 1]
As a starting material, the following formula (10)
In the reactor, 335.4 parts by mass (1.00 mol) of methacryloxy group-containing trimethoxysilane and 926.3 parts by mass of isopropyl alcohol were blended, and when 20% by mass tetramethylammonium hydroxide aqueous solution 15 was obtained. 2 parts by mass and 95.6 parts by mass of water (water total 6.0 mol) were added and stirred at 30 ° C. for 12 hours. Thereafter, 900 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added, methanol and isopropyl alcohol generated by washing with water were removed, and the reaction solution was neutralized. Then, methyl isobutyl ketone was partially distilled off under reduced pressure. The obtained reaction product was a methyl isobutyl ketone solution having a volatile content of 60.0% by mass, and had a weight average molecular weight of 3,700. This reaction product undergoes hydrolysis and condensation as ideal from the results of infrared absorption light analysis and nuclear magnetic resonance analysis, and siloxane unit formula [MA1SiO 3/2 ] 1.0 [OH] 0.09 [MA1: methacryloxy derived from formula (10) It was confirmed that the photoreactive group-containing organopolysiloxane resin had a group-containing structural group (shown in the following formula (10 ′)). This is designated as resin A.

[調製例2]
出発原料として、下記式(11)
で示されるメタクリロキシ基含有トリメトキシシラン433.5質量部(1.00mol)、イソプロピルアルコール1270.7質量部を反応器中に配合し、均一になったところで20質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液15.2質量部、水95.6質量部(水 合計6.0mol)を添加し、30℃で12時間撹拌した。その後、メチルイソブチルケトン900質量部を投入し、水洗にて発生したメタノール並びにイソプロピルアルコールの除去、反応液を中性とした後、減圧下にてメチルイソブチルケトンを一部留去した。得られた反応物は揮発分60.0質量%のメチルイソブチルケトン溶液であり、重量平均分子量3,900であった。この反応物は赤外吸収光分析、核磁気共鳴分析の結果から加水分解縮合が理想どおり進行し、シロキサン単位式[MA2SiO3/21.0[OH]0.11[MA2:式(11)由来のメタクリロキシ基含有構造基(下記式(11’)に示すもの)]を有する光反応性基含有オルガノポリシロキサン樹脂であることを確認した。これを樹脂Bとする。
[Preparation Example 2]
As a starting material, the following formula (11)
In the reactor, 433.5 parts by mass (1.00 mol) of methacryloxy group-containing trimethoxysilane and 1270.7 parts by mass of isopropyl alcohol were blended, and when 20% by mass tetramethylammonium hydroxide aqueous solution 15 was obtained. 2 parts by mass and 95.6 parts by mass of water (water total 6.0 mol) were added and stirred at 30 ° C. for 12 hours. Thereafter, 900 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added, methanol and isopropyl alcohol generated by washing with water were removed, and the reaction solution was neutralized. Then, methyl isobutyl ketone was partially distilled off under reduced pressure. The obtained reaction product was a methyl isobutyl ketone solution having a volatile content of 60.0% by mass, and had a weight average molecular weight of 3,900. This reaction product undergoes hydrolysis and condensation as ideal based on the results of infrared absorption light analysis and nuclear magnetic resonance analysis, and siloxane unit formula [MA2SiO 3/2 ] 1.0 [OH] 0.11 [MA2: methacryloxy derived from formula (11) It was confirmed that the photoreactive group-containing organopolysiloxane resin had a group-containing structural group (shown in the following formula (11 ′)). This is designated as resin B.

[調製例3]
出発原料として、下記式(12)
で示されるアクリロキシ基含有トリメトキシシラン503.2質量部(1.00mol)、イソプロピルアルコール1193.0質量部を反応器中に配合し、均一になったところで20質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液15.3質量部、水95.5質量部(水 合計6.0mol)を添加し、30℃で12時間撹拌した。その後、メチルイソブチルケトン900質量部を投入し、水洗にて発生したメタノール並びにイソプロピルアルコールの除去、反応液を中性とした後、減圧下にてメチルイソブチルケトンを一部留去した。得られた反応物は揮発分60.0質量%のメチルイソブチルケトン溶液であり、重量平均分子量13,000であった。この反応物は赤外吸収光分析、核磁気共鳴分析の結果から加水分解縮合が理想どおり進行し、シロキサン単位式[MA3SiO3/21.0[OH]0.15[MA3:式(12)由来のアクリロキシ基含有構造基(下記式(12’)に示すもの)]を有する光反応性基含有オルガノポリシロキサン樹脂であることを確認した。これを樹脂Cとする。
[Preparation Example 3]
As a starting material, the following formula (12)
In the reactor, 503.2 parts by mass (1.00 mol) of acryloxy group-containing trimethoxysilane and 1193.0 parts by mass of isopropyl alcohol were mixed, and when 20% by mass tetramethylammonium hydroxide aqueous solution 15 was obtained. 3 parts by mass and 95.5 parts by mass of water (total water 6.0 mol) were added and stirred at 30 ° C. for 12 hours. Thereafter, 900 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added, methanol and isopropyl alcohol generated by washing with water were removed, and the reaction solution was neutralized. Then, methyl isobutyl ketone was partially distilled off under reduced pressure. The obtained reaction product was a methyl isobutyl ketone solution having a volatile content of 60.0% by mass and a weight average molecular weight of 13,000. This reaction product undergoes hydrolysis and condensation as ideal based on the results of infrared absorption optical analysis and nuclear magnetic resonance analysis, and siloxane unit formula [MA3SiO 3/2 ] 1.0 [OH] 0.15 [MA3: acryloxy derived from formula (12) It was confirmed that the photoreactive group-containing organopolysiloxane resin had a group-containing structural group (shown in the following formula (12 ′)). This is Resin C.

[調製例4]
出発原料として、下記式(13)
で示されるアクリロキシ基含有トリメトキシシラン729.1質量部(1.00mol)、イソプロピルアルコール1259.8質量部を反応器中に配合し、均一になったところで20質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液15.3質量部、水95.5質量部(水 合計6.0mol)を添加し、30℃で12時間撹拌した。その後、メチルイソブチルケトン900質量部を投入し、水洗にて発生したメタノール並びにイソプロピルアルコールの除去、反応液を中性とした後、減圧下にてメチルイソブチルケトンを一部留去した。得られた反応物は揮発分60.0質量%のメチルイソブチルケトン溶液であり、重量平均分子量22,000であった。この反応物は赤外吸収光分析、核磁気共鳴分析の結果から加水分解縮合が理想どおり進行し、シロキサン単位式[MA4SiO3/21.0[OH]0.12[MA4:式(13)由来のアクリロキシ基含有構造基(下記式(13’)に示すもの)]を有する光反応性基含有オルガノポリシロキサン樹脂であることを確認した。これを樹脂Dとする。
[Preparation Example 4]
As a starting material, the following formula (13)
In the reactor, 729.1 parts by mass (1.00 mol) of acryloxy group-containing trimethoxysilane and 1259.8 parts by mass of isopropyl alcohol were blended, and when 20% by mass tetramethylammonium hydroxide aqueous solution 15 was obtained. 3 parts by mass and 95.5 parts by mass of water (total water 6.0 mol) were added and stirred at 30 ° C. for 12 hours. Thereafter, 900 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added, methanol and isopropyl alcohol generated by washing with water were removed, and the reaction solution was neutralized. Then, methyl isobutyl ketone was partially distilled off under reduced pressure. The obtained reaction product was a methyl isobutyl ketone solution having a volatile content of 60.0% by mass and a weight average molecular weight of 22,000. This reaction product undergoes hydrolysis and condensation as ideal from the results of infrared absorption light analysis and nuclear magnetic resonance analysis, and siloxane unit formula [MA4SiO 3/2 ] 1.0 [OH] 0.12 [MA4: acryloxy derived from formula (13) It was confirmed that the photoreactive group-containing organopolysiloxane resin had a group-containing structural group (shown in the following formula (13 ′)). This is designated as Resin D.

[調製例5]
出発原料として、式(13)で示されるアクリロキシ基含有トリメトキシシラン707.3質量部(0.97mol)、HFPO3Si(OMe)319.3質量部(0.03mol)[HFPO3:C37OC(CF3)FCF2OC(CF3)FCH2OC36−]、イソプロピルアルコール1259.8質量部を反応器中に配合し、均一になったところで20質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液15.3質量部、水95.5質量部(水 合計6.0mol)を添加し、30℃で12時間撹拌した。その後、メチルイソブチルケトン900質量部を投入し、水洗にて発生したメタノール並びにイソプロピルアルコールの除去、反応液を中性とした後、減圧下にてメチルイソブチルケトンを一部留去した。得られた反応物は揮発分60.0質量%のメチルイソブチルケトン溶液であり、重量平均分子量21,000であった。この反応物は、赤外吸収光分析、核磁気共鳴分析の結果から加水分解縮合が理想どおり進行し、シロキサン単位式[MA4SiO3/20.97[HFPO3SiO3/20.03[OH]0.12[MA4:式(13)由来のアクリロキシ基含有構造基、HFPO3:C37OC(CF3)FCF2OC(CF3)FCH2OC36−]を有する光反応性基含有オルガノポリシロキサン樹脂であることを確認した。これを樹脂Eとする。
[Preparation Example 5]
As starting materials, 707.3 parts by mass (0.97 mol) of acryloxy group-containing trimethoxysilane represented by the formula (13), 19.3 parts by mass (0.03 mol) of HFPO 3 Si (OMe) 3 [HFPO 3 : C 3 F 7 OC (CF 3 ) FCF 2 OC (CF 3 ) FCH 2 OC 3 H 6 —] and 1259.8 parts by mass of isopropyl alcohol were blended in the reactor, and when uniform, 20% by mass tetramethylammonium hydroxide aqueous solution. 15.3 parts by mass and 95.5 parts by mass of water (total of 6.0 mol of water) were added, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 12 hours. Thereafter, 900 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added, methanol and isopropyl alcohol generated by washing with water were removed, and the reaction solution was neutralized. Then, methyl isobutyl ketone was partially distilled off under reduced pressure. The obtained reaction product was a methyl isobutyl ketone solution having a volatile content of 60.0% by mass and a weight average molecular weight of 21,000. This reaction product undergoes hydrolysis and condensation as ideal based on the results of infrared absorption light analysis and nuclear magnetic resonance analysis, and the siloxane unit formula [MA4SiO 3/2 ] 0.97 [HFPO3SiO 3/2 ] 0.03 [OH] 0.12 [MA4 : Photoreactive group-containing organopolysiloxane resin having acryloxy group-containing structural group derived from formula (13), HFPO3: C 3 F 7 OC (CF 3 ) FCF 2 OC (CF 3 ) FCH 2 OC 3 H 6 —] It was confirmed that. This is designated as Resin E.

[調製例6]
出発原料として、式(13)で示されるアクリロキシ基含有トリメトキシシラン699.9質量部(0.96mol)、HFPO3Si(OMe)319.3質量部(0.03mol)[HFPO3:C37OC(CF3)FCF2OC(CF3)FCH2OC36−]、1,19−ビス(トリメトキシシリルエチル)−ペルメチルデカシロキサン0.9質量部(0.0009mol)、イソプロピルアルコール1259.8質量部を反応器中に配合し、均一になったところで20質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液15.3質量部、水95.5質量部(水 合計6.0mol)を添加し、30℃で12時間撹拌した。その後、メチルイソブチルケトン900質量部を投入し、水洗にて発生したメタノール並びにイソプロピルアルコールの除去、反応液を中性とした後、減圧下にてメチルイソブチルケトンを一部留去した。得られた反応物は揮発分60.0質量%のメチルイソブチルケトン溶液であり、重量平均分子量21,000であった。この反応物は、赤外吸収光分析、核磁気共鳴分析の結果から加水分解縮合が理想どおり進行し、シロキサン単位式[RSEMe2SiO1/20.0018[Me2SiO2/20.0072[RSESiO3/20.0018[MA4SiO3/20.9592[HFPO3SiO3/20.03[OH]0.06[RSE:2−シリルエチル、MA4:式(13)由来のアクリロキシ基含有構造基、HFPO3:C37OC(CF3)FCF2OC(CF3)FCH2OC36−]を有する光反応性基含有オルガノポリシロキサン樹脂であることを確認した。これを樹脂Fとする。
[Preparation Example 6]
As starting materials, 699.9 parts by mass (0.96 mol) of acryloxy group-containing trimethoxysilane represented by the formula (13), 19.3 parts by mass (0.03 mol) of HFPO 3 Si (OMe) 3 [HFPO 3 : C 3 F 7 OC (CF 3) FCF 2 OC (CF 3) FCH 2 OC 3 H 6 -], 1,19- bis (trimethoxysilyl ethyl) - pel methyl deca siloxane 0.9 part by weight (0.0009 mol), isopropyl alcohol 1259.8 parts by mass in the reactor was added, and when uniform, 15.3 parts by mass of a 20% by mass tetramethylammonium hydroxide aqueous solution and 95.5 parts by mass of water (water total 6.0 mol) were added. Stir at 30 ° C. for 12 hours. Thereafter, 900 parts by mass of methyl isobutyl ketone was added, methanol and isopropyl alcohol generated by washing with water were removed, and the reaction solution was neutralized. Then, methyl isobutyl ketone was partially distilled off under reduced pressure. The obtained reaction product was a methyl isobutyl ketone solution having a volatile content of 60.0% by mass and a weight average molecular weight of 21,000. This reaction product undergoes hydrolysis and condensation as ideal based on the results of infrared absorption optical analysis and nuclear magnetic resonance analysis, and the siloxane unit formula [R SE Me 2 SiO 1/2 ] 0.0018 [Me 2 SiO 2/2 ] 0.0072 [R SE SiO 3/2 ] 0.0018 [MA4SiO 3/2 ] 0.9592 [HFPO3SiO 3/2 ] 0.03 [OH] 0.06 [R SE : 2-silylethyl, MA4: acryloxy group-containing structural group derived from formula (13), HFPO3 : C 3 F 7 OC (CF 3 ) FCF 2 OC (CF 3 ) FCH 2 OC 3 H 6 —] was confirmed to be a photoreactive group-containing organopolysiloxane resin. This is designated as Resin F.

[比較調製例1]
出発原料として、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン234.0質量部(1.00mol)、イソプロピルアルコール539.7質量部を反応器中に配合し、均一になったところで20質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液15.3質量部、水95.5質量部(水 合計6.0mol)を添加し、25℃で12時間撹拌した。トルエンを投入して水洗し、中性化した後、アルコール、トルエン等を留去した後、メチルイソブチルケトンを投入し溶液とした。
得られた反応物は揮発分60.0質量%、重量平均分子量3,000であった。この反応物は、赤外吸収光分析、核磁気共鳴分析の結果から加水分解縮合が理想どおり進行し、シロキサン単位式[Ac3SiO3/21.0[OH]0.03[Ac3:3−アクリロキシプロピル]を有する光反応性基含有オルガノポリシロキサン樹脂であることを確認した。これを樹脂Gとする。
[Comparative Preparation Example 1]
As starting materials, 234.0 parts by mass (1.00 mol) of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 539.7 parts by mass of isopropyl alcohol were blended in a reactor. When uniform, 20% by mass of tetramethylammonium hydroxide was added. A side aqueous solution (15.3 parts by mass) and water (95.5 parts by mass) (water total 6.0 mol) were added, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 12 hours. Toluene was added, washed with water and neutralized, and then alcohol, toluene and the like were distilled off, and then methyl isobutyl ketone was added to prepare a solution.
The obtained reaction product had a volatile content of 60.0% by mass and a weight average molecular weight of 3,000. This reaction product undergoes hydrolysis and condensation as ideal from the results of infrared absorption light analysis and nuclear magnetic resonance analysis, and the siloxane unit formula [Ac3SiO 3/2 ] 1.0 [OH] 0.03 [Ac3: 3-acryloxypropyl] It was confirmed that the photoreactive group-containing organopolysiloxane resin had This is called resin G.

[比較調製例2]
出発原料として、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン226.8質量部(0.97mol)、HFPO3Si(OMe)319.3質量部(0.03mol)[HFPO3:C37OC(CF3)FCF2OC(CF3)FCH2OC36−]、イソプロピルアルコール608.5質量部を反応器中に配合し、均一になったところで20質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液15.3質量部、水95.5質量部(水 合計6.0mol)を添加し、25℃で12時間撹拌した。トルエンを投入して水洗し、中性化した後、アルコール、トルエン等を留去した後、メチルイソブチルケトンを投入し溶液とした。
得られた反応物は揮発分60.0質量%、重量平均分子量2,200であった。この反応物は、赤外吸収光分析、核磁気共鳴分析の結果から加水分解縮合が理想どおり進行し、シロキサン単位式[Ac3SiO3/20.97[HFPO3SiO3/20.03[OH]0.04[Ac3:3−アクリロキシプロピル、HFPO3:C37OC(CF3)FCF2OC(CF3)FCH2OC36−]を有する光反応性基含有オルガノポリシロキサン樹脂であることを確認した。これを樹脂Hとする。
[Comparative Preparation Example 2]
As starting materials, 226.8 parts by mass (0.97 mol) of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 19.3 parts by mass (0.03 mol) of HFPO 3 Si (OMe) 3 [HFPO 3 : C 3 F 7 OC (CF 3 ) FCF 2 OC (CF 3 ) FCH 2 OC 3 H 6 —] and 608.5 parts by mass of isopropyl alcohol were blended in the reactor, and when uniform, 15.3 parts by mass of a 20% by mass tetramethylammonium hydroxide aqueous solution was obtained. , 95.5 parts by mass of water (total 6.0 mol of water) was added and stirred at 25 ° C. for 12 hours. Toluene was added, washed with water and neutralized, and then alcohol, toluene and the like were distilled off, and then methyl isobutyl ketone was added to prepare a solution.
The obtained reaction product had a volatile content of 60.0% by mass and a weight average molecular weight of 2,200. This reaction product undergoes hydrolytic condensation as ideal based on the results of infrared absorption light analysis and nuclear magnetic resonance analysis, and the siloxane unit formula [Ac3SiO 3/2 ] 0.97 [HFPO3SiO 3/2 ] 0.03 [OH] 0.04 [Ac3 : 3-acryloxypropyl, HFPO3: C 3 F 7 OC (CF 3) FCF 2 OC (CF 3) FCH 2 OC 3 H 6 - was confirmed to be] photoreactive group-containing organopolysiloxane resin having a . This is Resin H.

[比較調製例3]
出発原料として、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン224.6質量部(0.96mol)、HFPO3Si(OMe)319.3質量部(0.03mol)[HFPO3:C37OC(CF3)FCF2OC(CF3)FCH2OC36−]、1,19−ビス(トリメトキシシリルエチル)−ペルメチルデカシロキサン0.9質量部(0.0009mol)、イソプロピルアルコール612.7質量部を反応器中に配合し、均一になったところで20質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液15.3質量部、水95.5質量部(水 合計6.0mol)を添加し、25℃で12時間撹拌した。トルエンを投入して水洗し、中性化した後、アルコール、トルエン等を留去した後、メチルイソブチルケトンを投入し溶液とした。
得られた反応物は揮発分60.0質量%、重量平均分子量3,000であった。この反応物は、赤外吸収光分析、核磁気共鳴分析の結果から加水分解縮合が理想どおり進行し、シロキサン単位式[RSEMe2SiO1/20.0018[Me2SiO2/20.0072[RSESiO3/20.0018[Ac3SiO3/20.9592[HFPO3SiO3/20.03[OH]0.043[RSE:2−シリルエチル、Ac3:アクリロキシプロピル、HFPO3:C37OC(CF3)FCF2OC(CF3)FCH2OC36−]を有する光反応性基含有オルガノポリシロキサン樹脂であることを確認した。これを樹脂Iとする。
[Comparative Preparation Example 3]
As starting materials, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane 224.6 parts by mass (0.96 mol), HFPO 3 Si (OMe) 3 19.3 parts by mass (0.03 mol) [HFPO 3 : C 3 F 7 OC (CF 3 ) FCF 2 OC (CF 3 ) FCH 2 OC 3 H 6 —], 1,19-bis (trimethoxysilylethyl) -permethyldecasiloxane 0.9 parts by mass (0.0009 mol), isopropyl alcohol 612.7 parts by mass Was mixed in the reactor, and when uniform, 15.3 parts by mass of a 20% by mass tetramethylammonium hydroxide aqueous solution and 95.5 parts by mass of water (total of 6.0 mol of water) were added, and the mixture was added at 25 ° C. for 12 hours. Stir. Toluene was added, washed with water and neutralized, and then alcohol, toluene and the like were distilled off, and then methyl isobutyl ketone was added to prepare a solution.
The obtained reaction product had a volatile content of 60.0% by mass and a weight average molecular weight of 3,000. This reaction product undergoes hydrolysis and condensation as ideal based on the results of infrared absorption optical analysis and nuclear magnetic resonance analysis, and the siloxane unit formula [R SE Me 2 SiO 1/2 ] 0.0018 [Me 2 SiO 2/2 ] 0.0072 [R SE SiO 3/2 ] 0.0018 [Ac3SiO 3/2 ] 0.9592 [HFPO3SiO 3/2 ] 0.03 [OH] 0.043 [R SE : 2-silylethyl, Ac3: acryloxypropyl, HFPO3: C 3 F 7 OC (CF 3 ) It was confirmed that the photoreactive group-containing organopolysiloxane resin had FCF 2 OC (CF 3 ) FCH 2 OC 3 H 6 —]. This is Resin I.

[実施例1]
調製例1で得たオルガノポリシロキサン樹脂(樹脂A):25質量部(主成分換算)、トリメチロールプロパントリアクリレート:10質量部、ジシクロペンタジエニルジアクリレート(共栄社化学(株)製ライトアクリレートDCP−A):60質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー(共栄社化学(株)製UF−8001):5質量部を混合し、減圧下にてメチルイソブチルケトンを留去した。その後、光重合開始剤としてダロキュアー1173(チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名):2.5質量部を混合し、透明な樹脂組成物を得た。
次に、ロールコーターを用いて厚さ0.2mmとなるようにキャストし、80W高圧水銀灯で光を2秒間照射し(積算照射量200mJ/cm2)硬化させ、所定の厚みとしたシート状の成形体を得た。
[Example 1]
Organopolysiloxane resin (resin A) obtained in Preparation Example 1: 25 parts by mass (converted to main component), trimethylolpropane triacrylate: 10 parts by mass, dicyclopentadienyl diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd. light acrylate) DCP-A): 60 parts by mass, urethane acrylate oligomer (UF-8001 manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.): 5 parts by mass were mixed, and methyl isobutyl ketone was distilled off under reduced pressure. Thereafter, Darocur 1173 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals): 2.5 parts by mass as a photopolymerization initiator was mixed to obtain a transparent resin composition.
Next, the film was cast to a thickness of 0.2 mm using a roll coater, and irradiated with light with an 80 W high-pressure mercury lamp for 2 seconds (integrated irradiation amount: 200 mJ / cm 2 ) to cure to a predetermined thickness. A molded body was obtained.

[実施例2〜4及び比較例1]
実施例1において、樹脂Aに代えて樹脂B、C、D、Gとし、それ以外は実施例1と同様にして樹脂成形体を得た。これらの配合明細を表1に示す。
[Examples 2 to 4 and Comparative Example 1]
In Example 1, resin B, C, D, and G were used in place of the resin A, and a resin molded body was obtained in the same manner as in Example 1 except that. These formulation details are shown in Table 1.

得られた成形体について、以下の方法で各種特性を測定した。
[成形物特性]
(1)ガラス転移温度
動的熱機械分析法、昇温速度5℃/分、チャック間距離10mm
(2)線膨張係数(JIS K 7197)
熱機械分析法、昇温速度5℃/分、圧縮荷重0.1N
(3)全光線透過率(JIS K 7361−1)
分光エリプソメトリー、試料厚み0.2mm
(4)複屈折
分光エリプソメトリー、試料厚み0.2mm
得られた成形体の物性値を表2に示す。
About the obtained molded object, various characteristics were measured with the following method.
[Molded product characteristics]
(1) Glass transition temperature Dynamic thermomechanical analysis, heating rate 5 ° C / min, chuck distance 10mm
(2) Linear expansion coefficient (JIS K 7197)
Thermomechanical analysis, heating rate 5 ° C / min, compression load 0.1N
(3) Total light transmittance (JIS K 7361-1)
Spectroscopic ellipsometry, sample thickness 0.2mm
(4) Birefringence Spectroscopic ellipsometry, sample thickness 0.2mm
Table 2 shows the physical property values of the obtained molded body.

[実施例5]
調製例1で得たオルガノポリシロキサン樹脂(樹脂A):60質量部(主成分換算)、ヘキサンジオールジアクリレート:40質量部、光重合開始剤としてダロキュアー1173(チバスペシャルティケミカルズ社製、商品名):5質量部を混合し、透明な樹脂組成物を得た。
次に、バーコーター(No.5)を用いてポリカーボネート板に厚さ5μmとなるように塗布し、50℃の乾燥機で10分乾燥させた後に、80W高圧水銀灯で光を2秒間照射し(積算照射量200mJ/cm2)硬化させて皮膜を形成した。
[Example 5]
Organopolysiloxane resin (resin A) obtained in Preparation Example 1: 60 parts by mass (converted to main component), hexanediol diacrylate: 40 parts by mass, Darocur 1173 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) as a photopolymerization initiator : 5 parts by mass were mixed to obtain a transparent resin composition.
Next, it was applied to a polycarbonate plate to a thickness of 5 μm using a bar coater (No. 5), dried with a dryer at 50 ° C. for 10 minutes, and then irradiated with light with an 80 W high pressure mercury lamp for 2 seconds ( (A cumulative irradiation amount of 200 mJ / cm 2 ) was cured to form a film.

[実施例6〜10及び比較例2〜4]
実施例5において、樹脂Aに代えて樹脂B〜Iとし、それ以外は実施例5と同様にして硬化皮膜を得た。これらの配合明細を表3に示す。
[Examples 6 to 10 and Comparative Examples 2 to 4]
In Example 5, instead of the resin A, resins B to I were used, and other than that was obtained in the same manner as in Example 5 to obtain a cured film. These formulation details are shown in Table 3.

得られたポリカーボネート板上の硬化皮膜及び別途硬化皮膜を形成したPETフィルムについて、以下のように各種特性を測定した。
[硬化皮膜特性]
(1)耐マジックインキ性
硬化皮膜に市販の油性マジックインキで線を描き、ウエスで拭き取ったときの拭き取り性を目視で観察し、次の評価基準で評価した。○:ウエスで拭き取った後でマジックインキの残存認められず(拭き取り性あり)、×:ウエスで拭き取った後でマジックインキの残存認められる(拭き取り性なし)。
(2)防汚性
水接触角とトリオレイン酸接触角を接触角計(CA−X150型、協和界面科学製)を用いて測定した(接触角が大きいものほど防汚性に優れる)。
(3)耐擦傷性、耐磨耗性
ASTMD 1044に準拠し、テーバー磨耗試験機(磨耗輪CS−10F使用)を用いて硬化皮膜の磨耗試験(500g荷重100回転)を行い、磨耗試験前後の硬化皮膜の濁度を濁度計(NHD2000、日本電色工業製)を用いて測定し、〔磨耗試験後の濁度−磨耗試験前の濁度〕の値をΔHaze(ヘイズ)とした(ΔHazeは15以下の場合に耐擦傷性、耐磨耗性は良好である。)。これらの試料厚みは5μmである。
(4)硬化収縮性
収縮によるフィルム全体の反り(カール)の度合いについて、10cm×10cmの平坦なPETフィルム上に硬化皮膜を厚さ5μmで形成し、水平面にフィルム中心点で固定した際のフィルム端部(フィルム中心点から最短距離の端部)の水平面からの距離で評価した。この場合、数値が大きいほど収縮が大きいことを意味する。
得られた硬化皮膜の物性値を表4に示す。
Various characteristics of the cured film on the obtained polycarbonate plate and a PET film on which a separately cured film was formed were measured as follows.
[Hardened film properties]
(1) Magic ink resistance A line was drawn with a commercially available oil-based magic ink on the cured film, and the wiping property when wiped with a waste cloth was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria. ○: Magic ink remains not observed after wiping with waste (wiping property), ×: Magic ink remaining is observed after wiping with waste (no wiping property).
(2) Antifouling property The water contact angle and the trioleic acid contact angle were measured using a contact angle meter (CA-X150 type, manufactured by Kyowa Interface Science) (the larger the contact angle, the better the antifouling property).
(3) Scratch resistance, abrasion resistance In accordance with ASTM D 1044, a cured film is subjected to a wear test (500 g load 100 rotations) using a Taber abrasion tester (with wear wheel CS-10F). The turbidity of the cured film was measured using a turbidimeter (NHD2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), and the value of [turbidity after abrasion test-turbidity before abrasion test] was defined as ΔHaze (haze) (ΔHaze) If the ratio is 15 or less, the scratch resistance and wear resistance are good.) The thickness of these samples is 5 μm.
(4) Curing shrinkage About the degree of warpage (curl) of the entire film due to shrinkage, a film obtained by forming a cured film with a thickness of 5 μm on a flat 10 cm × 10 cm PET film and fixing it to the horizontal plane at the film center point Evaluation was made based on the distance from the horizontal surface of the edge (the edge closest to the film center). In this case, it means that shrinkage is so large that a numerical value is large.
Table 4 shows the physical property values of the obtained cured film.

以上のように、本発明の樹脂組成物は、(メタ)アクリロキシ基を有するシロキサン単位を主構成単位とする所定成分のシリコーン樹脂を含有し、その硬化物の硬度と靭性のバランスを高次元で両立させているので、機能性フィルム材料、防汚耐擦傷性コート材料として好適な結果となっている。   As described above, the resin composition of the present invention includes a predetermined component silicone resin having a siloxane unit having a (meth) acryloxy group as a main constituent unit, and the hardness and toughness of the cured product are balanced in a high dimension. Since both are achieved, it is a suitable result as a functional film material and an antifouling and scratch-resistant coating material.

Claims (10)

下記シロキサン単位式(1)
[式中、Xは水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であり、R1〜R6は置換又は非置換の炭素数1〜10の一価炭化水素基であり、上記置換基はフッ素原子、塩素原子、臭素原子、(メタ)アクリロキシ基、エポキシ構造含有基、メルカプト基、イソシアネート基、アミノ官能性基、パーフルオロアルキル基、ポリ(ヘキサフルオロプロピレンオキサイド)構造含有基、シリル基から選択される1種又は2種以上の一価有機基である。但し、R1〜R6のいずれかに下記式(2)
(式中、R7は下記式(3)
で示される構造基であり、Aは分岐又は非分岐である炭素数2〜10、且つ、間に酸素原子を挟んでもよく、それ以外のヘテロ原子は含まない(n+1)価の炭化水素基であり、R8は独立に水素原子又はメチル基であり、mは1〜10の整数であり、nは1〜5の整数である。なお、CH2=CR8−COO−基は、Aの炭素原子のいずれか1つ又は2つ以上に結合してもよい。)
で表される有機基を1個以上含み、総シロキサン単位に対し、式(2)で表される有機基が置換しているシロキサン単位が20〜100mol%であり、aは平均0≦a<0.4であり、bは平均0≦b<0.5であり、cは平均0<c≦1であり、dは平均0≦d<0.4であり、eは平均0≦e<0.2であり、a+b+c+d=1である。]
で表されるシリコーン樹脂を含む光及び熱硬化性樹脂組成物。
The following siloxane unit formula (1)
[Wherein, X is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 1 to R 6 are substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and the substituent is fluorine. Atom, chlorine atom, bromine atom, (meth) acryloxy group, epoxy structure-containing group, mercapto group, isocyanate group, amino functional group, perfluoroalkyl group, poly (hexafluoropropylene oxide) structure-containing group, silyl group Or one or more monovalent organic groups. However, any one of R 1 to R 6 is represented by the following formula (2)
(Wherein R 7 is the following formula (3)
A is a branched or unbranched carbon group having 2 to 10 carbon atoms and may have an oxygen atom between them, and does not contain any other hetero atom (n + 1) -valent hydrocarbon group R 8 is independently a hydrogen atom or a methyl group, m is an integer of 1 to 10, and n is an integer of 1 to 5. The CH 2 ═CR 8 —COO— group may be bonded to any one or more of the carbon atoms of A. )
The number of siloxane units substituted by the organic group represented by the formula (2) with respect to the total siloxane units is 20 to 100 mol%, and a is an average of 0 ≦ a < 0.4, b is average 0 ≦ b <0.5, c is average 0 <c ≦ 1, d is average 0 ≦ d <0.4, and e is average 0 ≦ e <0.4. 0.2 and a + b + c + d = 1. ]
The light and thermosetting resin composition containing the silicone resin represented by these.
式(2)のmが3である請求項1記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。   The light and thermosetting resin composition according to claim 1, wherein m in the formula (2) is 3. 式(2)で表される有機基が下記式(4)〜(8)
(式中、R8は上記と同義である。)
で示されるいずれかの構造基、又はその2種以上の組み合わせである請求項2記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。
The organic group represented by the formula (2) is represented by the following formulas (4) to (8).
(Wherein R 8 has the same meaning as described above.)
The light and thermosetting resin composition according to claim 2, which is any one of the structural groups represented by the above, or a combination of two or more thereof.
シリコーン樹脂の重量平均分子量が2,000〜50,000である請求項1〜3のいずれか1項記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。   The light and thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the silicone resin has a weight average molecular weight of 2,000 to 50,000. シリコーン樹脂が、総シロキサン単位に対し、パーフルオロアルキル基又はポリ(ヘキサフルオロプロピレンオキサイド)構造含有基が置換しているシロキサン単位が0.1〜20mol%である請求項1〜4のいずれか1項記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。   5. The siloxane unit in which the silicone resin is substituted with a perfluoroalkyl group or a poly (hexafluoropropylene oxide) structure-containing group with respect to the total siloxane units is 0.1 to 20 mol%. The light and thermosetting resin composition according to Item. 更に、多官能(メタ)アクリル化合物を含む請求項1〜5のいずれか1項記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。   Furthermore, the light and thermosetting resin composition of any one of Claims 1-5 containing a polyfunctional (meth) acryl compound. 更に、金属酸化物微粒子を1種以上含む請求項1〜6のいずれか1項記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。   Furthermore, the light and thermosetting resin composition of any one of Claims 1-6 containing 1 or more types of metal oxide microparticles | fine-particles. 更に、ラジカル系光重合触媒、熱縮合触媒のいずれかの1種以上を含む請求項1〜7のいずれか1項記載の光及び熱硬化性樹脂組成物。   The light and thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 7, further comprising at least one of a radical photopolymerization catalyst and a thermal condensation catalyst. 請求項1〜8のいずれか1項記載の光及び熱硬化性樹脂組成物を硬化して得られる成形品。   A molded article obtained by curing the light and thermosetting resin composition according to claim 1. 請求項1〜8のいずれか1項記載の光及び熱硬化性樹脂組成物の硬化皮膜を形成してなる物品。   An article formed by forming a cured film of the light and thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 8.
JP2012109111A 2012-05-11 2012-05-11 Photocurable and thermosetting resin composition, molded product and article Pending JP2013234301A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012109111A JP2013234301A (en) 2012-05-11 2012-05-11 Photocurable and thermosetting resin composition, molded product and article

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012109111A JP2013234301A (en) 2012-05-11 2012-05-11 Photocurable and thermosetting resin composition, molded product and article

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013234301A true JP2013234301A (en) 2013-11-21

Family

ID=49760664

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012109111A Pending JP2013234301A (en) 2012-05-11 2012-05-11 Photocurable and thermosetting resin composition, molded product and article

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013234301A (en)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014201711A (en) * 2013-04-09 2014-10-27 信越化学工業株式会社 Fluoropolyether compound
CN104945615A (en) * 2014-03-31 2015-09-30 信越化学工业株式会社 Fluorine-containing acryl compound, method for making the same, curable composition and substrate
US20160155968A1 (en) * 2014-12-01 2016-06-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Composition, electronic device, and thin film transistor
US20170058061A1 (en) * 2015-08-31 2017-03-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Composition, electronic device, and thin film transistor
WO2018062664A1 (en) * 2016-09-30 2018-04-05 삼성에스디아이 주식회사 Window film composition and flexible window film formed therefrom
KR20190023335A (en) * 2017-08-28 2019-03-08 삼성에스디아이 주식회사 Composition for window film, flexible window film prepared using the same and flexible display apparatus comprising the same
JP2019038872A (en) * 2017-08-22 2019-03-14 信越化学工業株式会社 Organopolysiloxane compound having polymerizable functional group, and active energy ray-curable composition containing the same
CN109912798A (en) * 2017-12-13 2019-06-21 信越化学工业株式会社 Organopolysiloxane compound and active energy ray-curable composition comprising it
US10358578B2 (en) 2015-05-29 2019-07-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Insulating ink and insulator and thin film transistor and electronic device
JP2020059797A (en) * 2018-10-10 2020-04-16 信越化学工業株式会社 Active energy ray curable composition containing organopolysiloxane compound having polymerizable functional group
JP2020176183A (en) * 2019-04-16 2020-10-29 信越化学工業株式会社 Active energy ray-curable composition
KR20210015404A (en) * 2019-08-02 2021-02-10 주식회사 엘지화학 Curable Composition
CN113165015A (en) * 2018-11-21 2021-07-23 株式会社大赛璐 Weather-resistant hard coating composition for glass-substitute substrate, cured product, and laminate

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05287215A (en) * 1992-04-06 1993-11-02 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Abrasion-resistant ultraviolet-curable coating composition
JPH10161315A (en) * 1996-12-05 1998-06-19 Nippon Steel Chem Co Ltd Alkali-soluble photosensitive resin composition
JP4400751B2 (en) * 2006-10-24 2010-01-20 信越化学工業株式会社 Light and thermosetting coating composition and article having cured film thereof
JP2011218331A (en) * 2010-04-14 2011-11-04 Kansai Paint Co Ltd Method of forming multilayer coating film and coated article

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05287215A (en) * 1992-04-06 1993-11-02 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Abrasion-resistant ultraviolet-curable coating composition
JPH10161315A (en) * 1996-12-05 1998-06-19 Nippon Steel Chem Co Ltd Alkali-soluble photosensitive resin composition
JP4400751B2 (en) * 2006-10-24 2010-01-20 信越化学工業株式会社 Light and thermosetting coating composition and article having cured film thereof
JP2011218331A (en) * 2010-04-14 2011-11-04 Kansai Paint Co Ltd Method of forming multilayer coating film and coated article

Cited By (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014201711A (en) * 2013-04-09 2014-10-27 信越化学工業株式会社 Fluoropolyether compound
CN104945615A (en) * 2014-03-31 2015-09-30 信越化学工业株式会社 Fluorine-containing acryl compound, method for making the same, curable composition and substrate
US20160155968A1 (en) * 2014-12-01 2016-06-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Composition, electronic device, and thin film transistor
CN105646883A (en) * 2014-12-01 2016-06-08 三星电子株式会社 Composition, electronic device, and thin film transistor
US10879475B2 (en) 2014-12-01 2020-12-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Composition, electronic device, and thin film transistor
CN105646883B (en) * 2014-12-01 2020-04-21 三星电子株式会社 Composition, electronic device and thin film transistor
US10522771B2 (en) 2014-12-01 2019-12-31 Samsung Electronics Co., Ltd. Composition, electronic device, and thin film transistor
US10358578B2 (en) 2015-05-29 2019-07-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Insulating ink and insulator and thin film transistor and electronic device
CN106478952B (en) * 2015-08-31 2021-06-01 三星电子株式会社 Composition, electronic device, thin film transistor, and capacitor
KR102380151B1 (en) * 2015-08-31 2022-03-28 삼성전자주식회사 Thin film transistor, and electronic device including same
US9988472B2 (en) 2015-08-31 2018-06-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Composition, electronic device, and thin film transistor
US20170058061A1 (en) * 2015-08-31 2017-03-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Composition, electronic device, and thin film transistor
CN106478952A (en) * 2015-08-31 2017-03-08 三星电子株式会社 Compositionss, electronic device, thin film transistor (TFT) and capacitor
KR20170025889A (en) * 2015-08-31 2017-03-08 삼성전자주식회사 Composition, electronic device including same, and thin film transistor
WO2018062664A1 (en) * 2016-09-30 2018-04-05 삼성에스디아이 주식회사 Window film composition and flexible window film formed therefrom
KR101967026B1 (en) * 2016-09-30 2019-04-08 삼성에스디아이 주식회사 Composition for window film and flexible window film prepared using the same
KR20180036317A (en) * 2016-09-30 2018-04-09 삼성에스디아이 주식회사 Composition for window film and flexible window film prepared using the same
JP2019038872A (en) * 2017-08-22 2019-03-14 信越化学工業株式会社 Organopolysiloxane compound having polymerizable functional group, and active energy ray-curable composition containing the same
KR20190023335A (en) * 2017-08-28 2019-03-08 삼성에스디아이 주식회사 Composition for window film, flexible window film prepared using the same and flexible display apparatus comprising the same
KR102374305B1 (en) * 2017-08-28 2022-03-16 (주)솔잎기술 Composition for window film, flexible window film prepared using the same and flexible display apparatus comprising the same
CN109912798A (en) * 2017-12-13 2019-06-21 信越化学工业株式会社 Organopolysiloxane compound and active energy ray-curable composition comprising it
TWI774893B (en) * 2017-12-13 2022-08-21 日商信越化學工業股份有限公司 Organopolysiloxane compound and active energy ray curable composition containing the same
CN109912798B (en) * 2017-12-13 2022-07-05 信越化学工业株式会社 Organopolysiloxane compound and active energy ray-curable composition containing same
JP2020059797A (en) * 2018-10-10 2020-04-16 信越化学工業株式会社 Active energy ray curable composition containing organopolysiloxane compound having polymerizable functional group
CN113165015A (en) * 2018-11-21 2021-07-23 株式会社大赛璐 Weather-resistant hard coating composition for glass-substitute substrate, cured product, and laminate
CN113165015B (en) * 2018-11-21 2023-11-28 株式会社大赛璐 Weather-resistant hard coating composition for glass-substitute substrate, cured product, and laminate
JP2020176183A (en) * 2019-04-16 2020-10-29 信越化学工業株式会社 Active energy ray-curable composition
JP7156151B2 (en) 2019-04-16 2022-10-19 信越化学工業株式会社 Active energy ray-curable composition
KR20210015404A (en) * 2019-08-02 2021-02-10 주식회사 엘지화학 Curable Composition
KR102504356B1 (en) * 2019-08-02 2023-02-28 주식회사 엘지화학 Curable Composition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013234301A (en) Photocurable and thermosetting resin composition, molded product and article
JP5884647B2 (en) CURABLE COMPOSITION AND CURED MOLDED ARTICLE OF THE SAME
JP4400751B2 (en) Light and thermosetting coating composition and article having cured film thereof
TWI409279B (en) A polyfunctional (meth) acrylate compound, a photohardenable resin composition and an article
TWI402297B (en) A siloxane compound containing a photo-reactive group, a method for producing the same, and a photohardenable resin composition, an article having the hardened film
JP4761057B2 (en) SUBSTRATE HAVING COMPOSITE HARD COAT LAYER WITH ANTIFOIDING COATING AGENT FIXED TO HARD COATING LAYER
KR100759203B1 (en) Coating Compositions and Articles with Cured Coats Thereof
TWI761378B (en) Fluorine-containing acrylic compound, method for producing the same, and curable composition and article
EP1491916A1 (en) Article with composite hardcoat layer and method for forming composite hardcoat layer
JP4239030B2 (en) Photo-curable resin composition and article having cured film thereof
JP5630985B2 (en) Antifouling substrate manufacturing method and antifouling article
JP5316348B2 (en) Photocurable coating agent composition and article having cured film thereof
WO2002077116A1 (en) Surface-treating agent comprising inorganic/organic composite material
JP2011518666A (en) Plastic hard coat and substrate coated thereby
JP2004359834A (en) Agent for imparting resistance to contamination and contamination-resistant article using the same
JP5678901B2 (en) Curable resin composition, cured product thereof and article having cured film
JP4868150B2 (en) Light and thermosetting coating composition, and article having the cured film
JP2000063549A (en) Thin article having abrasion resistant thin membrane, and optical disk
JP4913627B2 (en) Antireflection film and method for producing the same
JP3952586B2 (en) Transparent coated molded product and manufacturing method thereof
JP2004225019A (en) Fluorine-containing polyether mono- or di-(meth)acrylates
JP2013177503A (en) Coating composition, transparent coated molded article and method for producing the same
JP2001207120A (en) Method for producing highly light-transmitting film and coating composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140526

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20141203

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141209

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150421