JP2013227747A - 地盤改良体、地盤改良構造、及び基礎工法 - Google Patents
地盤改良体、地盤改良構造、及び基礎工法 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】低コストかつ外方からの力に対して効果的に地盤の変形を抑制することが可能な地盤改良体、地盤改良構造、及びこの地盤改良体を用いた基礎工法を提供する。
【解決手段】掘削した地盤に地盤改良材を混合させて撹拌し、平面視で一方向に延在する第一壁体21を設け、該第一壁体21の外郭に接続するとともに前記一方向に対して交差する方向に延在する第二壁体22を設けることによって、地盤改良体20を形成することを特徴とする。前記一方向と直交する方向に前記第二壁体22を設ける構成とされても良い。
【選択図】図2
【解決手段】掘削した地盤に地盤改良材を混合させて撹拌し、平面視で一方向に延在する第一壁体21を設け、該第一壁体21の外郭に接続するとともに前記一方向に対して交差する方向に延在する第二壁体22を設けることによって、地盤改良体20を形成することを特徴とする。前記一方向と直交する方向に前記第二壁体22を設ける構成とされても良い。
【選択図】図2
Description
本発明は、例えば建物又は構造物を支持する地盤改良体、地盤改良構造及び、この地盤改良体を用いた基礎工法に関するものである。
従来、地盤改良施工として、地盤をブロック状、壁状、円柱状に掘削し、地盤をほぐした状態で、例えば地盤改良材を添加し、ほぐされた地盤とともに混合し、攪拌することにより、地盤改良壁(地盤改良体)等を施工する方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特許文献1には、先端(下端)に掘削翼を設けたロッドを、隣り合う掘削翼同士が接触しないように複数のロッドを配列するとともに、各ロッドの掘削翼の上方位置に攪拌翼を設け、その攪拌翼がロッドの回転方向と異なる方向に回転させるようにした構成であって、ロッドとともに掘削翼を回転させて地盤中を下方に移動させつつ、攪拌翼によって混合し、攪拌する地盤改良装置について開示されている。
特許文献1には、先端(下端)に掘削翼を設けたロッドを、隣り合う掘削翼同士が接触しないように複数のロッドを配列するとともに、各ロッドの掘削翼の上方位置に攪拌翼を設け、その攪拌翼がロッドの回転方向と異なる方向に回転させるようにした構成であって、ロッドとともに掘削翼を回転させて地盤中を下方に移動させつつ、攪拌翼によって混合し、攪拌する地盤改良装置について開示されている。
そして、このような地盤改良装置を用いて建物直下の地盤を囲むように地盤改良壁を設けることや、特許文献2で示すような円柱状の地盤改良体を複数設けることが行われている。この地盤改良壁や地盤改良体によれば、液状化地盤において地下水や砂の流動を阻止して地盤の液状化を抑制して、構造物の沈下を防止したり、軟弱地盤による圧密沈下を防止したりすることを可能としている。
しかしながら、上述のように地盤を囲むように地盤改良壁を設ける場合には、地盤改良をする面積が広いため、コストが過剰に大きくなる問題があった。また、地盤中に円柱状の地盤改良体を設ける場合には、地盤改良体が外方から力を受ける面積が小さいために、地盤改良体表面の地盤との摩擦抵抗力が十分に得られず、地盤改良体の直上に設けられる建物の支持が不十分とされることがあった。
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、低コストかつ外方からの力に対して効果的に地盤の変形を抑制することが可能な地盤改良体、地盤改良構造、及びこの地盤改良体を用いた基礎工法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明の地盤改良体は、掘削した地盤に地盤改良材を混合させて撹拌することにより形成され、平面視で一方向に延在する第一壁体と、該第一壁体の外郭に接続するとともに前記一方向に対して交差する方向に延在する第二壁体と、を有することを特徴としている。
本発明の地盤改良体によれば、平面視において一方向に延在する第一壁体と、前記一方向に対して交差する方向に延在する第二壁体とを有する構成とされているので、地盤改良体の表面積を大きくすることができる。そして、地盤中に配置された場合に、外方からの力に対して、大きな抵抗面積(力を受ける面積)とすることができるので、地盤改良体の鉛直抵抗(鉛直方向に作用する外力に対する抵抗)及び水平抵抗(水平方向に作用する外力に対する抵抗)を高め、外力に対して変形に強い地盤とすることができる。具体的には、建物又は構造物から受ける下向きの荷重に対しては、地盤改良体の表面における地盤との摩擦力によって抵抗することができる。そのため、このような地盤改良体を地盤中に配置することによって、地盤改良体の上方に設けられる建物や構造物等をより強く支持することが可能となる。
また、本発明においては、地盤中に上述の第一壁体と第二壁体とを形成する簡易な構成とされているので、建物や構造物が設けられる直下の地盤に対して全周を囲うように形成する場合に比べて、容易かつ短時間で施工を行うことができ、低コストで地盤改良体を形成することができる。
また、従来のような円柱状の地盤改良体を形成する場合と比較して、地盤改良体の表面積を大きくすることができるので、円柱状の地盤改良体を用いた場合よりも外方からの力に対して変形に強い地盤とすることができる。
また、本発明においては、地盤中に上述の第一壁体と第二壁体とを形成する簡易な構成とされているので、建物や構造物が設けられる直下の地盤に対して全周を囲うように形成する場合に比べて、容易かつ短時間で施工を行うことができ、低コストで地盤改良体を形成することができる。
また、従来のような円柱状の地盤改良体を形成する場合と比較して、地盤改良体の表面積を大きくすることができるので、円柱状の地盤改良体を用いた場合よりも外方からの力に対して変形に強い地盤とすることができる。
さらに、前記一方向と直交する方向に前記第二壁体が設けられる構成とされても良い。
このような構成にすることによって、第一壁体及び第二壁体に対して外力が加わる場合に、効果的に鉛直抵抗及び水平抵抗を高めることができ、さらに外力に対して強い地盤改良体とすることができる。
また、第一壁体と第二壁体が直交する構成の場合は、地盤改良体を複数配置する際の設計が容易となる。
このような構成にすることによって、第一壁体及び第二壁体に対して外力が加わる場合に、効果的に鉛直抵抗及び水平抵抗を高めることができ、さらに外力に対して強い地盤改良体とすることができる。
また、第一壁体と第二壁体が直交する構成の場合は、地盤改良体を複数配置する際の設計が容易となる。
また、前記第一壁体と、前記第二壁体とを含む多角形状に形成されている構成とされても良い。
このような構成にすることによって、平面視において地盤改良体の断面を、多角形状の閉塞断面とすることができるので、地盤改良体の強度をさらに向上させることができる。具体的には、例えば、平面視において三角形や四角形等の形状をした地盤改良体が挙げられる。
このような構成にすることによって、平面視において地盤改良体の断面を、多角形状の閉塞断面とすることができるので、地盤改良体の強度をさらに向上させることができる。具体的には、例えば、平面視において三角形や四角形等の形状をした地盤改良体が挙げられる。
また、本発明の地盤改良構造は、前記地盤改良体が、複数組み合わされ連設して形成されていることを特徴としている。
本発明の地盤改良構造によれば、前記地盤改良体が複数組み合わされ連設して形成されているので、上述の地盤改良体よりもさらに強度の高い構造とすることができる。このような地盤改良構造は、連設した構造とされているので、例えば、擁壁として用いることが可能である。
本発明の地盤改良構造によれば、前記地盤改良体が複数組み合わされ連設して形成されているので、上述の地盤改良体よりもさらに強度の高い構造とすることができる。このような地盤改良構造は、連設した構造とされているので、例えば、擁壁として用いることが可能である。
また、本発明の基礎工法は、掘削した地盤に地盤改良材を混合させて撹拌し、平面視で一方向に延在する第一壁体を設け、該第一壁体の外郭に接続するとともに前記一方向に対して交差する方向に延在する第二壁体を設けることによって、前記地盤改良体を形成することを特徴としている。
本発明の基礎工法によれば、平面視において一方向に延在する第一壁体を設け、前記一方向に対して交差する方向に延在する第二壁体を設けることによって、地盤改良体を形成する構成とされているので、地盤改良体の表面積を大きくすることができる。そして、地盤改良体の表面積が大きくなることにより、外方からの力に対して変形に強い地盤とすることができ、地盤が外力によって変形することを抑制し、地盤上に設けられる建物や構造物等を強く支持することが可能である。
また、前記一方向と直交する方向に第二壁体を設けることによって、前記地盤改良体を形成する構成としても良い。
このような構成にすることによって、第一壁体及び第二壁体に対して外力が加わる場合に、鉛直抵抗及び水平抵抗をさらに高め、より外力に対して強い地盤改良体とすることができ、建物や構造物をより強く支持することができる。
このような構成にすることによって、第一壁体及び第二壁体に対して外力が加わる場合に、鉛直抵抗及び水平抵抗をさらに高め、より外力に対して強い地盤改良体とすることができ、建物や構造物をより強く支持することができる。
また、前記第一壁体と前記第二壁体とを含む多角形状に壁体を設けることによって、前記地盤改良体を形成しても良い。
また、前記地盤改良体を複数組み合わせて連設して形成しても良い。
また、前記地盤改良体を複数組み合わせて連設して形成しても良い。
さらに、前記地盤改良体を、間隔をあけて複数配置し、これら複数の地盤改良体によって建物又は構造物を支持する構成としても良い。
このような構成によれば、上述のような地盤改良体が建物又は構造物の直下に間隔をあけて所定の位置に複数配置されることになり、建物又は構造物の直下の地盤に外方から力が作用した場合に、前記複数の地盤改良体によって囲まれる地盤を拘束する効果が得られ、地盤に液状化が生じることを予防することが可能となる。例えば、建物又は構造物の形状に合わせて、T型やL型等の地盤改良体を地盤中に配置することにより、このような効果を得ることができる。
また、上述のような地盤改良体を、間隔をあけて複数配置する構成としているので、建物や構造物の直下の地盤の周方向の全周を囲うように地盤改良体を形成する場合と比較して、容易かつ短時間で施工を行うことができ、低コスト化を図ることが可能となる。
さらに、円柱状の地盤改良体を複数配置する場合と比較して、上述のような地盤改良体を複数配置した場合には、地盤をより効果的に拘束して地盤の変形を抑制することができ、建物や構造物を液状化から保護することができる。
このような構成によれば、上述のような地盤改良体が建物又は構造物の直下に間隔をあけて所定の位置に複数配置されることになり、建物又は構造物の直下の地盤に外方から力が作用した場合に、前記複数の地盤改良体によって囲まれる地盤を拘束する効果が得られ、地盤に液状化が生じることを予防することが可能となる。例えば、建物又は構造物の形状に合わせて、T型やL型等の地盤改良体を地盤中に配置することにより、このような効果を得ることができる。
また、上述のような地盤改良体を、間隔をあけて複数配置する構成としているので、建物や構造物の直下の地盤の周方向の全周を囲うように地盤改良体を形成する場合と比較して、容易かつ短時間で施工を行うことができ、低コスト化を図ることが可能となる。
さらに、円柱状の地盤改良体を複数配置する場合と比較して、上述のような地盤改良体を複数配置した場合には、地盤をより効果的に拘束して地盤の変形を抑制することができ、建物や構造物を液状化から保護することができる。
本発明の地盤改良体によれば、低コストかつ外方からの力に対して効果的に地盤の変形を抑制することが可能な地盤改良体、地盤改良構造、及びこの地盤改良体を用いた基礎工法を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態による地盤改良体、地盤改良構造、及び基礎工法について、図面に基づいて説明する。
本発明の実施形態の基礎工法では、図1に示すように、店舗40(建物)を基礎30の直上に設け、これら店舗40及び基礎30の直下において地盤改良体20(20A〜20C)を複数設けている。
この地盤改良体20は、掘削した地盤に地盤改良材を混合させて撹拌することにより形成され、図2で示すように、一方向に延在する第一壁体21と、この第一壁体21の外郭に接続するとともに前記一方向に対して交差する方向に延在する第二壁体22とを有している。本実施形態においては、第一壁体21と第二壁体22とが直交して形成されている。また、地盤改良体20は、図3で示すように、地面に対して垂直方向に形成されている。
この地盤改良体20は、掘削した地盤に地盤改良材を混合させて撹拌することにより形成され、図2で示すように、一方向に延在する第一壁体21と、この第一壁体21の外郭に接続するとともに前記一方向に対して交差する方向に延在する第二壁体22とを有している。本実施形態においては、第一壁体21と第二壁体22とが直交して形成されている。また、地盤改良体20は、図3で示すように、地面に対して垂直方向に形成されている。
本実施形態においては、第一壁体21(21A〜21C)及び第二壁体22(22A〜22C)の長さ(図2においてL1で示す寸法)は1.2m、幅(図2においてW1で示す寸法)は0.4m、高さ(図3においてH1で示す寸法)は5.0mとされている。
地盤改良体20(20A〜20C)は、本実施形態においては、第一壁体21(21A〜21C)と第二壁体22(22A〜22C)とが直交して形成されており、地盤中に13箇所配置されている。この地盤改良体20(20A〜20C)は、図2(a)、図2(b)、図2(c)で示すように、平面視でL型、T型、+型の形状とされており、店舗40の形状に対応して適宜最適な形状の地盤改良体20(20A〜20C)が配置されている。
本実施形態においては、図1及び図4に示すように、店舗40の地盤の角部にL型の地盤改良体20A(20)が4箇所配置され、L型の地盤改良体20A(20)の間に合計8箇所のT型の地盤改良体20B(20)が配置され、店舗40の地盤の中央部に+型の地盤改良体20C(20)が1箇所配置されている。また、T型の地盤改良体20B(20)については、第一壁体21B(21)の延在方向の中央部から突出して延在する第二壁体22B(22)の突出端が建物の内方を向くように配置されている。
次に、上述した地盤改良体20(20A〜20C)の製造方法について説明する。
まず、地盤改良体20を製造するために用いる地盤改良装置1について図5から図8を用いて説明する。
本実施形態で用いる地盤改良装置1は、図5で示すように、例えば店舗40の基礎30直下において、壁状あるいはブロック状での地盤改良体(地盤改良壁、壁体)を形成するための装置である。この地盤改良装置1は、3軸の回転軸の各下端に備えた掘削翼を回転させながら地盤中を鉛直方向下方に移動させて掘削し、その掘削土に地盤改良材を添加して混合し、攪拌することにより地盤改良体を施工するものである。
まず、地盤改良体20を製造するために用いる地盤改良装置1について図5から図8を用いて説明する。
本実施形態で用いる地盤改良装置1は、図5で示すように、例えば店舗40の基礎30直下において、壁状あるいはブロック状での地盤改良体(地盤改良壁、壁体)を形成するための装置である。この地盤改良装置1は、3軸の回転軸の各下端に備えた掘削翼を回転させながら地盤中を鉛直方向下方に移動させて掘削し、その掘削土に地盤改良材を添加して混合し、攪拌することにより地盤改良体を施工するものである。
ここで、掘削土に添加される地盤改良材として、地盤改良の目的に応じて、例えばセメントミルク等の液状の材料や、粉体状の材料などの適宜な薬剤を採用することができる。
なお、以下の説明で「掘削土」とは、地盤改良装置1によって掘削された地盤と、地盤改良材とが混合されたものも含む。また、図5に示す地盤改良装置1において、紙面に向かって左右方向を「幅方向X」という。
なお、以下の説明で「掘削土」とは、地盤改良装置1によって掘削された地盤と、地盤改良材とが混合されたものも含む。また、図5に示す地盤改良装置1において、紙面に向かって左右方向を「幅方向X」という。
地盤改良装置1は、鉛直軸回りに回転し、互いに平行に設けられた複数の第1回転軸11(11A、11B、11C)と、それぞれ第1回転軸11の下端に固定されて水平回転する第1掘削翼12(12A、12B、12C)と、隣り合う第1回転軸11同士の中間で第1回転軸11に平行に配置され、第1回転軸11の回転が伝達されて鉛直軸回りに回転する第2回転軸13(13A、13B)と、第2回転軸13の下端に固定されて水平方向に回転する第2掘削翼14(14A、14B)と、第2掘削翼14の上方で第1掘削翼12及び第2掘削翼14によって掘削されない断面領域(後述する第2掘削領域M2、図7(b)参照)内に位置し、隣り合う第1掘削翼12同士の回転軌跡の共通外接線(図6の符号T)に沿って設けられるサイドカッタ15と、を備えている。
3軸の第1回転軸11A、11B、11Cのうち中央の第1回転軸11Bは、両側の第1回転軸11A、11Cよりも下方に突出する長さ寸法であり、それぞれの上端11aが後述する支持フレーム16(図8参照)に対して軸回りに回転可能に支持されている。そして、各第1回転軸11の先端には、下方に向けて尖った形状をなす先端刃17が設けられている。
そして、3軸の第1回転軸11および2軸の第2回転軸13は、それぞれが軸方向Y(図5において上下方向)の複数個所(図5において4箇所)で連結軸18によって互いに平行に且つ一定間隔をあけて支持されている。第2回転軸13A、13Bは、それぞれ同じ長さ寸法で、第1回転軸11よりも短く、下端に設けられる第2掘削翼14が第1掘削翼12よりも上方に位置するようになっている。
連結軸18は、幅方向Xに沿って延び、第1回転軸11及び第2回転軸13をそれぞれ回転自在に支持するとともに、これら回転軸11、13を水平方向に連結している。
連結軸18は、幅方向Xに沿って延び、第1回転軸11及び第2回転軸13をそれぞれ回転自在に支持するとともに、これら回転軸11、13を水平方向に連結している。
第1掘削翼12A、12B、12Cは、それぞれ第1回転軸11A、11B、11Cの下端から径方向外側に向けて棒状の翼軸12aが延び、その翼軸12aの周面に複数の切削ビット12bが配置された構成となっており、第1回転軸11とともに中心軸線回りに回転する。第2掘削翼14A、14Bは、第1掘削翼12よりも小径断面を掘削するものであり、第2回転軸13とともに中心軸線回りに回転する。
そして、第1掘削翼12と第2掘削翼14によって、図7(a)に示す第1掘削領域M1が掘削されることになる。
そして、第1掘削翼12と第2掘削翼14によって、図7(a)に示す第1掘削領域M1が掘削されることになる。
また、第1回転軸11には、内部に軸方向全体にわたって流路が設けられており、上端11aに供給された地盤改良材が下端へ流通するようになっている。そして、第1掘削翼12の周面には前記地盤改良材を噴射させるための噴出口12dが内部の流路に連通した状態で設けられ、この噴出口12dから地盤改良材を第1掘削翼12の回転とともに径方向外方へ向けて噴射させ、掘削土に混合させる構成となっている。
図5に示すように、第1回転軸11および第2回転軸13には、これら回転軸11、13と共に回転する攪拌翼19が回転軸11、13毎にそれぞれの軸方向の所定位置に設けられている。攪拌翼19は、それぞれ径方向外側に向けて複数の翼が延びた形状をなし、最下部に設けられる第1連結軸18Aと下から二番目に設けられる第2連結軸18Bとの間の範囲に設けられている。そして、第1回転軸11に設けられる攪拌翼19と第2回転軸13に設けられる攪拌翼19とが互いに干渉しないように上下方向にずれた位置に配置されている。
そして、中央掘削翼12Bを支持する第1回転軸11Bには、両側の掘削翼12A、12Cと同じ高さ位置に、第1回転軸11Bと共に回転する攪拌翼19Aが同軸に設けられている。
そして、中央掘削翼12Bを支持する第1回転軸11Bには、両側の掘削翼12A、12Cと同じ高さ位置に、第1回転軸11Bと共に回転する攪拌翼19Aが同軸に設けられている。
図6に示すように、サイドカッタ15は、地盤改良装置1の厚さ方向Zにおいて第1連結軸18Aを挟んで両側に配置され、その第1連結軸18Aに対して連結材を介して支持されている。そして、サイドカッタ15は、図6及び図7(b)に示すように、複数の第1掘削翼12A〜12Cによって掘削される回転軌跡の共通外接線Tによって囲まれる地盤改良領域M0と、この地盤改良領域M0のうち第1掘削翼12と第2掘削翼14とによって掘削される第1掘削領域M1(図7(a)参照)と、の間の第2掘削領域M2内に位置している。
サイドカッタ15は、内面側において、平面視で中央部から外周部へ向かうにしたがって漸次、共通外接線Tを含む鉛直面に向かう傾斜面が形成されており、さらに下端側が先細りとなる形状に形成されている。
サイドカッタ15は、内面側において、平面視で中央部から外周部へ向かうにしたがって漸次、共通外接線Tを含む鉛直面に向かう傾斜面が形成されており、さらに下端側が先細りとなる形状に形成されている。
このような構成の地盤改良装置1は、図8に示すように、バックホウ等の作業機2のアタッチメントとして使用される。具体的には、支持フレーム16を作業機2のアームの先端2aに取り付け、支持フレーム16に地盤改良装置1が取り付けられる。そして、地盤改良装置1を改良対象の地盤上に設置した後、作業機2により地盤改良装置1に鉛直方向で下向きの力を与え、掘削反力を取り、第1掘削翼12A、12B、12Cとともに第2掘削翼14A、14Bを回転させて図7(a)に示す第1掘削領域M1の地盤を掘削し、さらにサイドカッタ15で図7(b)に示す第2掘削領域M2の地盤を削ぎ落とすようにして切削することで、地盤改良領域M0が形成されることになる。なお、本実施形態においては、図7(b)のLで示される寸法は1.2m、Wで示される寸法は0.4mとされている。
なお、第1掘削領域M1および第2掘削領域M2で掘削した掘削土には、図5に示す第1掘削翼12の噴出口12dから地盤に向けて地盤改良材を噴射させ、第1回転軸11および第2回転軸13に設けられる複数の攪拌翼19、および中央掘削翼12Bの直上に設けられる攪拌翼19Aによって掘削土を均一に且つ効果的に混合し、攪拌することができるようになっている。
次に、この地盤改良装置1を用いて行われる本実施形態の地盤改良体20(20A〜20C)の製造方法及びこの地盤改良体20(20A〜20C)を用いた基礎工法について説明する。
最初に、L型の地盤改良体20A(20)の製造方法について説明する。まず、上述の地盤改良装置1を用いて、図9で示すように、一方向(図9の上下方向)に延在する第一壁体21A(21)を形成し、鉛直方向に沿った平らな壁面を有する第一壁体21A(21)を得る。次に、前記一方向に直交する方向(図9の左右方向)に、第一壁体21A(21)の縁部の一部に第二壁体22A(22)の縁部がオーバーラップする(重なる)ように第二壁体22A(22)を形成する。なお、縁部とは、平面視において第一壁体21及び第二壁体22の一端又は他端の半円状の領域のことである。
このようにして、本実施形態であるL型の第一壁体21A(21)が得られる。
最初に、L型の地盤改良体20A(20)の製造方法について説明する。まず、上述の地盤改良装置1を用いて、図9で示すように、一方向(図9の上下方向)に延在する第一壁体21A(21)を形成し、鉛直方向に沿った平らな壁面を有する第一壁体21A(21)を得る。次に、前記一方向に直交する方向(図9の左右方向)に、第一壁体21A(21)の縁部の一部に第二壁体22A(22)の縁部がオーバーラップする(重なる)ように第二壁体22A(22)を形成する。なお、縁部とは、平面視において第一壁体21及び第二壁体22の一端又は他端の半円状の領域のことである。
このようにして、本実施形態であるL型の第一壁体21A(21)が得られる。
また、T型の地盤改良体20B(20)についてもL型の地盤改良体20A(20)と同様に製造することが可能である。T型の地盤改良体20B(20)は、図10で示すように、第一壁体21B(21)を形成した後に、平面視において第一壁体21B(21)の幅方向の中央部の一部に、第二壁体22B(22)の縁部がオーバーラップするように形成することによって得られる。
また、+型の地盤改良体20C(20)は、図11で示すように、第一壁体21C(21)を形成した後に、平面視において第一壁体21C(21)の中央部に、第二壁体22C(22)の中央部が重なるように形成されることで得られる。
そして、本実施形態である基礎工法では、このような地盤改良体20A〜20Cを所定の位置に形成することによって、図1で示すように、店舗40の直下の地盤中に適切な形状の地盤改良体20A〜20Cを複数配置し、店舗40を支持することができるようになっている。
また、+型の地盤改良体20C(20)は、図11で示すように、第一壁体21C(21)を形成した後に、平面視において第一壁体21C(21)の中央部に、第二壁体22C(22)の中央部が重なるように形成されることで得られる。
そして、本実施形態である基礎工法では、このような地盤改良体20A〜20Cを所定の位置に形成することによって、図1で示すように、店舗40の直下の地盤中に適切な形状の地盤改良体20A〜20Cを複数配置し、店舗40を支持することができるようになっている。
以上のような構成とされた本実施形態である地盤改良体20によれば、平面視において一方向に延在する第一壁体21と、前記一方向に対して交差する方向に延在する第二壁体22とを有する構成とされているので、地盤改良体20の表面積を大きくすることができる。そのため、地盤改良体20の鉛直抵抗及び水平抵抗を高め、外力に対して変形に強い地盤とすることができる。具体的には、地盤改良体20が地盤中に配置された場合、店舗40から受ける下向きの荷重に対しては、地盤改良体20の表面における地盤との摩擦力によって抵抗することができる。したがって、地盤改良体20の上方に設けられる店舗40をより強く支持することが可能となる。
また、従来のような円柱状の地盤改良体を形成する場合と比較して、地盤改良体20の表面積を大きくすることができるので、外方からの力に対して強い地盤改良体20とすることができる。
また、従来のような円柱状の地盤改良体を形成する場合と比較して、地盤改良体20の表面積を大きくすることができるので、外方からの力に対して強い地盤改良体20とすることができる。
さらに、本実施形態においては、地盤中に第一壁体21と第二壁体22とを設け地盤改良体20を形成する簡易な構成とされているので、店舗40が設けられる直下の地盤に対して全周を覆うように形成する場合と比較して、容易かつ短時間で地盤改良体20を形成することができ、低コスト化を図ることができる。また、このような地盤改良体20は、地盤改良装置1を用いることによって、容易かつ短時間で形成することができ、製造に必要なコストを低減することが可能である。
また、第一壁体21と第二壁体22とが直交して設けられているので、外方からの力に対して、効果的に鉛直抵抗及び水平抵抗を高めることができる。さらに、本実施形態においては、地盤改良体20(20A〜20C)は、L型、T型、+型の形状とされているので、店舗40の形状に合わせて、形状を選択して地盤改良体20A〜20Cを配置することができ、より効果的に鉛直抵抗及び水平抵抗を高めることができる。また、第一壁体21及び第二壁体22の壁面は、平らな形状とされているので、地盤改良体20の特定箇所に外方からの力が集中することを抑制し、外方からの力に強い地盤改良体20とすることができる。
また、本実施形態においては、第一壁体21の縁部又は中央部の一部にのみオーバーラップする(重なる)ように第二壁体22を設け、L型やT型の地盤改良体20を形成する構成とされているので、地盤改良体20の表面積を大きくすることができ、外力に対する抵抗をさらに大きくすることができる。
また、本実施形態においては、第一壁体21の縁部又は中央部の一部にのみオーバーラップする(重なる)ように第二壁体22を設け、L型やT型の地盤改良体20を形成する構成とされているので、地盤改良体20の表面積を大きくすることができ、外力に対する抵抗をさらに大きくすることができる。
本実施形態である基礎工法によれば、上述のような地盤改良体20を地盤中に形成する構成とされているので、外方からの力に対して、変形に強い地盤とすることができ、地盤改良体20の直上に設けられる店舗40を強く支持することができる。
また、地盤改良体20を、間隔をあけて複数配置することによって、さらに変形に強い地盤とすることができ、店舗40をより強く支持することができる。
さらに、本実施形態においては、店舗40の角部の地盤には、L型の地盤改良体20Aを配置し、店舗40の中心の地盤には+型の地盤改良体20Cを配置し、L型の地盤改良体20Aの間にT型の地盤改良体20Bを配置する構成とされているので、店舗40直下の地盤が拘束される効果が得られ、地盤に生じる液状化を抑制することができる。
さらに、本実施形態においては、店舗40の角部の地盤には、L型の地盤改良体20Aを配置し、店舗40の中心の地盤には+型の地盤改良体20Cを配置し、L型の地盤改良体20Aの間にT型の地盤改良体20Bを配置する構成とされているので、店舗40直下の地盤が拘束される効果が得られ、地盤に生じる液状化を抑制することができる。
さらに、上述のような地盤改良体20を、間隔をあけて複数配置する構成とした場合には、店舗40の直下の地盤を囲うように地盤改良体を形成する場合と比較して、容易かつ短時間で施工することができ、低コスト化を図ることができる。
また、本実施形態である基礎工法を用いれば、従来の円柱状の地盤改良体を形成する場合と比較して、地盤改良体20の抵抗面積を大きくすることができるので、変形抵抗を高めることができ、外力に対して強い地盤とすることができる。さらに、店舗40の形状に合わせて地盤改良体20として適切な形状を選択して配置することによって、店舗40直下の地盤を拘束することができ、地盤に生じる液状化を抑制することが可能である。
また、本実施形態である基礎工法を用いれば、従来の円柱状の地盤改良体を形成する場合と比較して、地盤改良体20の抵抗面積を大きくすることができるので、変形抵抗を高めることができ、外力に対して強い地盤とすることができる。さらに、店舗40の形状に合わせて地盤改良体20として適切な形状を選択して配置することによって、店舗40直下の地盤を拘束することができ、地盤に生じる液状化を抑制することが可能である。
以上、本発明による地盤改良装置の実施の形態について説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
なお、本実施形態では、店舗40の直下の地盤に地盤改良体20を形成する場合について説明したが、本発明が適用される構造物は店舗40に限られるものではなく、倉庫や住居等の建物や構造物であっても良い。例えば、図12(a)で示すように、看板50の直下の地盤に適用しても良い。この場合には、図12(a)、(b)で示すように、平面視でT型の地盤改良体20B(20)を2箇所対向配置することによって、外力によって変形が生じ難い地盤とすることが可能である。
また、本実施形態においては、第一壁体の縁部又は中央部の一部にのみオーバーラップする(重なる)ようにL型の第二壁体やT型の第二壁体を設ける場合について説明したが、図13(a)、(b)で示すように、平面視で第一壁体121Aの縁部又は第一壁体121Bの中央部に、第二壁体122A、122Bが、地盤改良体20A、20Bの場合と比較してオーバーラップする(重なる)面積が広くなるように設け、地盤改良体120A、120Bを形成しても良い。また、I型やH型等の地盤改良体とされても良い。要は、第一壁体に接続し、かつ交差する第二壁体を有する構成の地盤改良体であれば、いずれの形状でも良い。
さらには、地盤改良体は、第一壁体と第二壁体を含む多角形状に形成される構成とされても良い。具体的には、例えば、図14(a)で示すように、地盤改良装置1を用いて平面視で三角形状(正三角形状)となるように壁体221を3箇所設け、三角形型の地盤改良体220を形成する場合や、図14(b)で示すように、四角形状となるように壁体321を4箇所設け、四角形型の地盤改良体320を形成する場合が挙げられる。
このように、平面視において閉塞断面を有する地盤改良体とすることによって、地盤改良体の強度を大きく向上させることが可能である。
このように、平面視において閉塞断面を有する地盤改良体とすることによって、地盤改良体の強度を大きく向上させることが可能である。
また、図15で示すように、平面視において互いに直交する方向に延在する二方向の壁体421を交互に接続させて地盤改良体420を形成し、この地盤改良体420を複数連設して、地盤改良構造425を形成しても良い。このように、地盤改良体420が連設された地盤改良構造は、例えば擁壁として用いることが可能である。図15における寸法a1、a2、a3及び角度αは、例えば、a1=1.70m、a2=0.85m、a3=1.20m、α=45°である。
さらに、図16で示すように、平面視において三角形状(二等辺三角形状)に壁体521を設けて地盤改良体520が形成され、さらに地盤改良体520が連設され地盤改良構造525が形成されても良い。図16における寸法b1、b2、b3及び角度βは、例えば、b1=1.70m、b2=0.85m、b3=1.20m、β=45°である。このような構成の場合、図15の地盤改良構造425と比較して地盤改良構造の強度を約7割向上させることができる。
また、図17で示すように、平面視において三角形状(二等辺三角形状)に壁体621を設けて地盤改良体620が形成され、さらに図16の地盤改良構造525よりも三角形が高密に配置されるように地盤改良体620が連設され、地盤改良構造625が形成されても良い。図17における寸法c1、c2、c3及び角度γは、例えば、c1=1.70m、c2=0.85m、c3=1.20m、γ=45°である。このような寸法の場合、図16の地盤改良構造525と比較して地盤改良構造の強度をさらに約4割向上させることができる。
また、これらの地盤改良体の大きさは壁体の配置を変えることによって容易に調節することができる。例えば、図18で示すように、三角形の一辺に複数の壁体721が連設されて地盤改良体720が形成され、この地盤改良体720が連設され地盤改良構造725が形成されても良い。
さらには、地盤改良構造は、形状の異なる複数の地盤改良体が複数組み合わされ連設して形成されていても良い。例えば、L型やT型の地盤改良体を、三角形状や四角形状の地盤改良体と連設され地盤改良構造が形成されても良い。
さらには、地盤改良構造は、形状の異なる複数の地盤改良体が複数組み合わされ連設して形成されていても良い。例えば、L型やT型の地盤改良体を、三角形状や四角形状の地盤改良体と連設され地盤改良構造が形成されても良い。
また、本実施形態においては、第一壁体21及び第二壁体22の長さは1.2m、幅は0.4m、高さは5.0mの場合について説明したが、これに限定されるものではなく、建物や構造物の設計に合わせて適宜最適な大きさの第一壁体及び第二壁体を設ければよい。この大きさは、地盤改良装置1によって形成される地盤改良領域の大きさを変更することによって容易に変更することが可能である。
また、本実施形態においては、店舗40の地盤の角部にL型の地盤改良体20A(20)が4箇所配置され、L型の地盤改良体20A(20)の間に合計8箇所のT型の地盤改良体20B(20)が配置され、店舗40直下の地盤の中央部に、+型の地盤改良体20C(20)が1箇所配置される場合について説明したが、これに限定されるものではなく、建物や構造物の設計に応じて適宜最適な地盤改良体の形状や配置する数量を選択すれば良い。例えば、1箇所の地盤改良体のみとすることも可能である。
また、本実施形態においては、平面視において、第二壁体22が第一壁体21の延在する方向に直交する場合について説明したが、直交に限定されるものではなく、90°以外の交差角度により交差する構成とされても良い。
また、地盤改良体を形成するための地盤改良装置は、本実施形態の装置に限らず他の構成の装置を用いても良い。例えば、本実施形態においては、3本の第1回転軸11A〜11Cを備え、そのうちの中央に位置する第1回転軸11B(中央回転軸)に設けられる中央掘削翼12Bを下側に突出させた構成としているが、これに限定されることはない。例えば、第1回転軸を5本とし、それらに設けられる第1掘削翼のうち中央に配列されるものを下側に突出させる構成や、5つ第1掘削翼のうち中央を最下段とし、両側に向かうに従って順次上方に位置するように第1掘削翼の位置に段差を設けるようにしても良い。このように、第1掘削翼を備えた第1回転軸は3本以上で適宜な本数に設定することが可能である。
さらにまた、サイドカッタ15、連結軸18、攪拌翼19の大きさ、配置、形状、数量などの構成は、改良対象地盤の地質、掘削速度などに応じて適宜設定することができる。また、これらは省略することも可能である。
また、円柱状の地盤改良体を形成する地盤改良装置を使用してT型やL型等の地盤改良体を形成しても良い。
また、本実施の形態による地盤改良装置1はバックホウ等の作業機2に取り付けられるアタッチメントとしての使用としているが、このような使用形態であることに制限されることはなく、例えば専用の架台に設置して用いることも可能である。
その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記した実施の形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能である。
その他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上記した実施の形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能である。
20、20A、20B、20C、120A、120B、220、320、420、520、620、720 地盤改良体
21、21A、21B、21C、121A、121B 第一壁体
22、22A、22B、22C、122A、122B 第二壁体
40 店舗(建物、構造物)
50 看板(構造物)
321、421、521、621、721 壁体
425、525、625、725 地盤改良構造
21、21A、21B、21C、121A、121B 第一壁体
22、22A、22B、22C、122A、122B 第二壁体
40 店舗(建物、構造物)
50 看板(構造物)
321、421、521、621、721 壁体
425、525、625、725 地盤改良構造
Claims (9)
- 掘削した地盤に地盤改良材を混合させて撹拌することにより形成され、
平面視で一方向に延在する第一壁体と、該第一壁体の外郭に接続するとともに前記一方向に対して交差する方向に延在する第二壁体と、を有することを特徴とする地盤改良体。 - 前記一方向と直交する方向に前記第二壁体が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の地盤改良体。
- 前記第一壁体と、前記第二壁体とを含む多角形状に形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の地盤改良体。
- 請求項1から請求項3の地盤改良体のなかから選択された少なくとも一つの前記地盤改良体が、複数組み合わされ連設して形成されていることを特徴とする地盤改良構造。
- 掘削した地盤に地盤改良材を混合させて撹拌し、
平面視で一方向に延在する第一壁体を設け、該第一壁体の外郭に接続するとともに前記一方向に対して交差する方向に延在する第二壁体を設けることによって、地盤改良体を形成することを特徴とする基礎工法。 - 前記一方向と直交する方向に第二壁体を設けることによって、前記地盤改良体を形成することを特徴とする請求項5に記載の基礎工法。
- 前記第一壁体と、前記第二壁体とを含む多角形状に壁体を設けることによって、前記地盤改良体を形成することを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の基礎工法。
- 前記地盤改良体を複数組み合わせて連設して形成することを特徴とする請求項5から請求項7のいずれか一項に記載の基礎工法。
- 前記地盤改良体を、間隔をあけて複数配置し、これら複数の地盤改良体によって建物又は構造物を支持することを特徴とする請求項5から請求項8のいずれか一項に記載の基礎工法。
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