JP2010018956A - 地盤改良構造 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】地中埋設物10,11が埋設された埋設物領域1,2と、地中埋設物が埋設されていない原地盤領域3と、を有する不均質な地盤Gに造成される地盤改良構造において、原地盤領域3に第一地盤改良体12が造成されているとともに、埋設物領域1,2に第一地盤改良体12と異なる第二地盤改良体13,14,15が造成されており、第一地盤改良体12が設けられた原地盤領域3と第二地盤改良体13,14,15が設けられた埋設物領域1,2とは、せん断波速度の深さ方向の分布が同等になっている。
【選択図】図2
Description
図1は地盤改良の対象の地盤Gを表した斜視図であり、図2は地盤Gに形成される地盤改良構造を表した平面図である。
図1、図2に示すように、本実施の形態における改良対象の地盤Gは、建物Xの建設予定地であり、その一部分に地中埋設物10,11が埋設された不均質地盤である。具体的説明すると、地盤Gは、鉱滓10(本発明における地中埋設物に相当する。)が埋設された鉱滓埋設領域1と、既存杭11(本発明における地中埋設物に相当する。)が埋設された既存杭埋設領域2と、鉱滓10や既存杭11等の地中埋設物が埋設されていない原地盤領域3と、を有している。
本実施の形態における地盤改良構造は、公知の固結工法によって地盤G中に石灰やセメント等の固結材を攪拌混合させることで土を化学的に固結させたものである。
具体的に説明すると、図2に示すように、地盤Gのうち、原地盤領域3の地盤G中には、壁状の地盤改良体12(本発明における第一地盤改良体に相当する。)が平面視格子状に造成されている。この地盤改良体12は、土と固結材とを横方向に連続的に攪拌混合して形成される壁状の地盤改良体である。
なお、本実施の形態における「改良率」とは、対象の領域(例えば鉱滓埋設領域1)全体の体積を100として、その領域における地盤改良体(例えば杭状の地盤改良体13及び壁状の地盤改良体14)の総体積の割合(%)のことをいう。
例えば、上記した実施の形態では、原地盤領域3に壁状の地盤改良体12が格子状に造成されているが、本発明における原地盤領域に造成する地盤改良体は、原地盤領域の形状や地質に合わせて地盤改良体の形状を適宜変更することが可能であり、壁状の地盤改良体が格子状以外の形状に配設されていてもよく、或いは、杭状やブロック状等の壁状以外の地盤改良体であってもよい。また、上記した実施の形態では、鉱滓埋設領域1に杭状の地盤改良体13と壁状の地盤改良体14とが造成され、既存杭埋設領域2に格子状の地盤改良体15が造成されているが、本発明における埋設物領域に造成する地盤改良体は、埋設物領域の形状や、埋設物(鉱滓10や既存杭11)の形状、存在範囲の大きさ等に合わせて適宜変更することが可能であり、格子壁状やそれ以外の壁状、杭状、ブロック状等の地盤改良体であってもよい。
2 既存杭埋設領域(埋設物領域)
3 原地盤領域
10 鉱滓(埋設物)
11 既存杭(埋設物)
12 地盤改良体(第一地盤改良体)
13 地盤改良体(第二地盤改良体)
14 地盤改良体(第二地盤改良体)
15 地盤改良体(第二地盤改良体)
G 地盤(不均質地盤)
Claims (2)
- 地中埋設物が埋設された埋設物領域と、地中埋設物が埋設されていない原地盤領域と、を有する不均質な地盤に造成される地盤改良構造において、
前記原地盤領域に第一地盤改良体が造成されているとともに、前記埋設物領域に第一地盤改良体と異なる第二地盤改良体が造成されており、
前記第一地盤改良体が設けられた前記原地盤領域と前記第二地盤改良体が設けられた前記埋設物領域とは、せん断波速度の深さ方向の分布が同等になっていることを特徴とする地盤改良構造。 - 請求項1記載の地盤改良構造において、
前記第二地盤改良体による前記埋設物領域の改良率が、前記第一地盤改良体による前記原地盤領域の改良率よりも小さいことを特徴とする地盤改良構造。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012062732A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | 地盤改良方法 |
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