JP2013227393A - 光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物（４） - Google Patents

Abstract

【課題】離型性、型再現性、基板フィルムとの密着性に優れ、耐久性（耐擦傷性、耐スクラッチ性）の高い基材上に成型する光学レンズに適した樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるナフタレン骨格を有する化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、（メタ）アクリレート（Ｃ）を含有する光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物。

【選択図】なし

Description

紫外線硬化型樹脂組成物は、液晶表示装置のバックライトに使用されるプリズムレンズシートや、プロジェクションテレビ等に使用されるフレネルレンズ、レンチキュラーレンズ等の基材上に成型される光学レンズシート、透過型スクリーンなどに用いられている。

これら光学レンズシートを含む光学シートは、近年のコストダウンの要求の高まりから枚数が減少傾向にあり、従来、直接接触することがなかった他の光学材料と接触した場合の耐久性（耐擦傷性、耐スクラッチ性などと称される）を高い水準で要求されている。また、市場からは強く省エネ化を要望されており、バックライトの個数削減や減光、光学シートの高性能化が検討されてきた。前述光学シートの一つである光学レンズシートは、物理的な光学設計と附型する樹脂材料の有する屈折率によりその性能が決定される。即ち、同じ形状を有する光学レンズシートであれば、選択される樹脂材料の屈折率が高ければ高いほど正面輝度を向上させることができる。正面輝度が向上することでバックライトの発光強度の抑制、或いは、バックライトの数を減らすことが可能となることから、より高屈折率な樹脂組成物が求められている。（特許文献１）

しかしながら、一般的に樹脂組成物を高屈折率化するには、芳香族等の剛直な構造を有する樹脂材料の含有率を高める必要があり、結果として樹脂硬化膜は硬く脆いものとなる。それ故に耐久性が低い材料となり、必要とされる物性を満たすことはできないという問題があった。

特許文献２ではフレネルレンズ用の樹脂組成物として可塑剤を用いた技術が検討されているが、文献中の反応性樹脂の構成では近年求められる光学レンズシート用屈折率の要求とは乖離している。該文献中のビスフェノールＡ骨格のウレタンアクリレートを樹脂組成物中に用いることでは、要求される屈折率と耐久性の両立は困難である。

また、樹脂層に耐久性を持たせる技術として、特許文献３では、アクリル当量の小さい材料を使用することにより高耐久性を発現しているが、アクリル当量の小さい材料を含有する樹脂組成物は硬化収縮率が高くカール性が強い傾向にあり、光学シートとして好ましくない。また、アクリル当量が小さい材料で耐久性の発現を試みると、硬化膜は硬く脆いものとなり、有機または無機フィラーを含有した光学シートと接触することで容易にキズが付いてしまうという問題があった。

以上のように、一般的に光学レンズシートに求められる特性である高い光線透過率、金型離型性、基材密着性を持ち合わせながら、高屈折率、高耐久性を兼ね備えた樹脂組成物は得られていなかった。

特開２０１０−１０６０４６公報 特許３６１７７００号 特開２０１０−１２６６７０公報 特開２０１０−１８９５３４公報

本発明の目的は、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等の基材上に成型する光学レンズシートに適した樹脂組成物や、光線透過率、金型離型性に優れ、高い屈折率、高い耐久性（耐擦傷性、耐スクラッチ性）を有する硬化物を提供するものである。

本発明者らは、前記課題を解決するため鋭意研究の結果、特定の組成を有する紫外線硬化性樹脂組成物及びその硬化物が前記課題を解決することを見出し、本発明を完成させた。

即ち、本発明は、
（１）下記一般式（１）で表されるナフタレン骨格を有する化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、（メタ）アクリレート（Ｃ）を含有する光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物

（式中、Ｒ_１及びＲ_２は水素原子、アルキル基、アルキレンオキサイド基、チオール基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、フェニル基を表し、同一でも異なっていても良い。）
（２）（Ａ）が下記一般式（２）で表される（１）に記載の光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物

（式中、Ｒ_３は炭素数１から５の炭化水素基を示し、ｍ及びｎは平均の繰り返し数であり、ｍ＝０〜５、ｎ＝０〜５をそれぞれ示す。）

（３）（Ａ）を１〜４０質量部含有する（１）または（２）の何れか１項に記載の光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物
（４）（Ｂ）を０．１〜１５質量部含有する（１）乃至（３）の何れか１項に記載の光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物
（５）さらに下記一般式（３）で表されるナフタレン骨格を有する化合物（Ｄ）を含有する（１）乃至（４）の何れか１項に記載の光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物

（式中、Ｒ_４は同一もしくはそれぞれ異なり、水素原子または炭素数１から４の炭化水素基、Ｒ_５は同一もしくはそれぞれ異なり炭素数１から５の炭化水素基、ｍおよびｎは平均の繰り返し数であり、ｍ＋ｎ＝０．４〜１２をそれぞれ示す。）

（６）（Ｄ）を５〜４０質量部含有する（１）乃至（５）の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物
（７）（Ｃ）が芳香族を有する（メタ）アクリレートである（１）乃至（６）の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物
（８）さらに微粒子（Ｅ）を含有する（１）乃至（７）の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物。
（９）（Ｅ）の一次粒径が１００ｎｍ以下である（８）に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物
（１０）（Ｅ）の微粒子が、下記微粒子（Ｅ−１）から選択される微粒子であることを特徴とする（８）または（９）の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物

（Ｅ−１）：酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化チタン／酸化ジルコニウム／酸化錫／五酸化アンチモン複合物、酸化ジルコニウム／酸化錫／五酸化アンチモン複合物、酸化チタン／酸化ジルコニウム／酸化錫複合物

（１１）Ｅ型粘度計で測定した２５℃での粘度が５０００ｍＰａ・ｓ以下である（１）乃至（１０）の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物
（１２）液状屈折率が１．５１〜１．６３である（１）乃至（１１）の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物
（１３）液状屈折率が１．５４〜１．６１である（１）乃至（１２）の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物
（１４）（１）乃至（１３）の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化せしめて得られる硬化物
（１５）（１４）に記載の硬化物を有する光学レンズシート
に関する。

本発明の樹脂組成物は、安定性が良く、金型からの離型性、型再現性、基材フィルムとの密着性が良い。また、屈折率が高く、耐久性（耐擦傷性、耐スクラッチ性）に優れている。そのため特にレンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等の基材上に成型する光学レンズシートに適している。

本発明の樹脂組成物に含有されるナフタレン骨格を有する化合物（Ａ）は、一般式（１）のＲ_１及びＲ_２が水素原子、アルキル基、アルキレンオキサイド基、チオール基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、フェニル基を表し、同一でも異なっていても良い。好ましくはヒドロキシ基または炭素数１から５のアルキレンオキサイド基であり、アルキレンオキサイドの平均繰り返し数ｎ＝１〜５である。特に好ましくは炭素数２のエチレンオキサイド基であり、平均繰り返し数ｎ＝１〜３である。

本発明の樹脂組成物に含有されるアルキレンオキサイド基を有する化合物（Ａ）は、１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンオキサイドまたはアルキレンカーボネートを反応させ、続いて、（メタ）アクリル酸と酸触媒存在下で脱水縮合反応させることにより得ることができる。本発明において、１，１’−ビ−ナフトールとしては、１，１’−ビ−２−ナフトールが好ましく用いられ、Ｓ＆Ｒ ＣＨＩＲＡＬ ＣＨＥＭＩＣＡＬ社等から入手可能である。１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンオキサイドとの反応においては、１モルの１，１’−ビ−ナフトールに対して０．５〜２４モルのアルキレンオキサイドを反応させる。１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンカーボネートとの反応においては、１モルの１，１’−ビ−ナフトールに対して２〜５モルのアルキレンカーボネートを反応させる。アルキレンオキサイドまたはアルキレンカーボネートは１種類のものを単独で用いても、２種類以上を混合して用いてもよい。成分（Ａ）の含有率は成分（Ｃ）＋成分（Ｄ）の総量１００質量部に対して、１〜４０質量部であり、好ましくは５〜２０質量部である。

アルキレンオキサイドの具体例としては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等の（炭素数１〜５）アルキレンオキサイドが挙げられる。また、アルキレンカーボネートの具体例としては、エチレンカーボネート（炭酸エチレン）、プロピレンカーボネート（炭酸プロピレン、ブチレンカーボネート（炭酸ブチレン）等の（炭素数１〜４）アルキレンカーボネートが挙げられる。

１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンオキサイド又はアルキレンカーボネートとの反応は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ触媒下、反応時間１〜４８時間、反応温度９０℃〜２００℃の間で行なわれる。１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンオキサイドとの反応においては、反応混合物１００質量％に対して０．０１〜５質量％のアルカリ触媒が用いられる。１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンカーボネートとの反応においては、１モルの１，１’−ビ−ナフトールに対して０．０１〜０．５モルのアルカリ触媒が用いられる。

本発明の樹脂組成物に含有される光重合開始剤（Ｂ）としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類；アセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−フェニルプロパン−１−オン、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１−オン、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン］等のアセトフェノン類；２−エチルアントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、２−クロロアントラキノン、２−アミルアントラキノン等のアントラキノン類；２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン等のチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類；ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４'−メチルジフェニルサルファイド、４，４'−ビスメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ジフェニル−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フォスフィンオキシド等のホスフィンオキサイド類等を挙げることができる。好ましくは、アセトフェノン類であり、さらに好ましくは２−ヒドロキシ−２−メチル−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトンを挙げることができる。本発明の成分（Ｂ）の含有量は成分（Ｃ）＋成分（Ｄ）の総量１００質量部に対して、０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜５質量部である。なお、本発明の樹脂組成物においては、光重合開始剤（Ｂ）は単独で用いてもよいし、複数種を混合して用いてもよい。

本発明の樹脂組成物に使用する（メタ）アクリレート（Ｃ）としては、単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレート、３つ以上の官能基を有する多官能（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートが挙げられる。

単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレート等のヘテロ環を有する（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、エトキシ変性クレゾール（メタ）アクリート、プロポキシ変性クレゾール（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールベンゾエート（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールモノエトキシ（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールポリエトキシ（メタ）アクリレート、ｐ−フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｐ−フェニルフェノールモノエトキシ（メタ）アクリレート、ｐ−フェニルフェノールポリエトキシ（メタ）アクリレート等の芳香環を有する（メタ）アクリレート、カルバゾール（ポリ）エトキシ（メタ）アクリレート、カルバゾール（ポリ）プロポキシ（メタ）アクリレート、（ポリ）カプロラクトン変性カルバゾール（メタ）アクリレート等の複素環を有する（メタ）アクリレート、ビナフトール（メタ）アクリレート、ビナフトール（ポリ）エトキシ（メタ）アクリレート、ビナフトール（ポリ）プロポキシ（メタ）アクリレート、（ポリ）カプロラクトン変性ビナフトール（メタ）アクリレート、（ポリ）エトキシ変性ナフトール（メタ）アクリレート、（ポリ）プロポキシ変性ナフトール（メタ）アクリレート等の縮合環を有する（メタ）アクリレート、イミド環構造を有するイミド（メタ）アクリレート、ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート等のアルキル基を有する（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルカルビトール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリレート等を挙げることができる。

２つの官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーとしては、ヒドロピバルアルデヒド変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エトキシ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロポキシ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エトキシ変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロポキシ変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エトキシ変性ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロポキシ変性ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシ（ポリ）エトキシフルオレン等の芳香環を有する（メタ）アクリレート、ビスフェノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシメタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシカプロラクトンフルオレンジ（メタ）アクリレート等の多環芳香族を有する（メタ）アクリレート、ジアクリル化イソシアヌレート等のイソシアネートのアクリル化物、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の直鎖メチレン構造を有する（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールのジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。

多官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、（ポリ）カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等のイソシアヌレート環を有する多官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ポリ）エトキシ変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロポキシ変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、（ポリ）カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、（ポリ）エトキシ変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロポキシ変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、（ポリ）カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、（ポリ）エトキシ変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロポキシ変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ポリペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、（ポリ）エトキシ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロポキシ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの多官能（メタ）アクリレート、リン酸トリ（メタ）アクリレート等の含リンの多官能（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンベンゾエート（メタ）アクリレート等の芳香族を有する多官能（メタ）アクリレート、２，２，２−トリスアクリロイロキシメチルコハク酸等の酸変性された多官能（メタ）アクリレート、シリコーンヘキサ（メタ）アクリレート等のシリコーン骨格を有する多官能（メタ）アクリレート等を挙げることができる。

ウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、ジオール化合物（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオール、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ビスフェノールＡポリプロポキシジオール等）又はこれらジオール化合物と二塩基酸若しくはその無水物（例えば、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、ダイマー酸、イソフタル酸、テレフタル酸、フタル酸若しくはこれらの無水物）との反応物であるポリエステルジオールと、有機ポリイソシアネート（例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の鎖状飽和炭化水素イソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシレンジイソシアネート、水添トルエンジイソシアネート等の環状飽和炭化水素イソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアネート、６−イソプロピル−１，３−フェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート）を反応させ、次いで水酸基含有（メタ）アクリレートを付加した反応物等が挙げられる。

エポキシ（メタ）アクリレートとしては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型フェノールアラルキル樹脂、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物の末端グリシジルエーテル、フルオレンエポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂類と（メタ）アクリル酸との反応物等を挙げることができる。

ポリエステル（メタ）アクリレートとしては、ジオール化合物と二塩基酸又はその無水物との反応物であるポリエステルジオールと、（メタ）アクリル酸の反応物等が挙げられる。

中でも本発明の樹脂組成物に使用することのできる（メタ）アクリレート（Ｃ）としては、屈折率が高く、粘度が低く、基材への密着性が良好な単官能（メタ）アクリレートモノマーが好適に用いられる。具体的には、芳香族または縮合環を有する（メタ）アクリレートが好ましくフェノール（ポリ）エトキシ（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノール（ポリ）エトキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（ポリ）エトキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（ポリ）プロポキシ（メタ）アクリレート、ナフトール（ポリ）エトキシ（メタ）アクリレート、ナフトール（ポリ）プロポキシ（メタ）アクリレート、フェニルフェノール（ポリ）エトキシ（メタ）アクリレート、フェニルフェノール（ポリ）プロポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。特に好ましくは高屈折率でありながら低粘度で密着性に優れるｐ−フェニルフェノール（ポリ）エトキシ（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノール（ポリ）エトキシ（メタ）アクリレートである。なお、本発明の樹脂組成物においては、（メタ）アクリレート（Ｄ）は単独で用いてもよいし、複数種を混合して用いてもよい。本発明では芳香族を有する単官能（メタ）アクリレートを１００質量部とした場合に成分（Ａ）が１０〜１００質量部であるときに高屈折率で耐久性に優れたプリズムレンズシート用樹脂組成物を得ることができ、さらに好ましくは芳香族を有する単官能（メタ）アクリレート１００質量部に対し成分（Ａ）が２０〜５０質量部である。本発明の成分（Ｃ）の含有量は成分（Ｃ）＋成分（Ｄ）を１００質量部とした場合に、６０〜９５質量部であり、好ましくは７５〜９０質量部である。

本発明の樹脂組成物に含有されるナフタレン骨格を有する化合物（Ｄ）は、１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンオキサイドまたはアルキレンカーボネートを反応させ、続いて、（メタ）アクリル酸と酸触媒存在下で脱水縮合反応させることにより得ることができる。本発明において、１，１’−ビ−ナフトールとしては、１，１’−ビ−２−ナフトールが好ましく用いられ、Ｓ＆Ｒ ＣＨＩＲＡＬ ＣＨＥＭＩＣＡＬ社等から入手可能である。１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンオキサイドとの反応においては、１モルの１，１’−ビ−ナフトールに対して０．５〜２４モルのアルキレンオキサイドを反応させる。１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンカーボネートとの反応においては、１モルの１，１’−ビ−ナフトールに対して２〜５モルのアルキレンカーボネートを反応させる。アルキレンオキサイドまたはアルキレンカーボネートは１種類のものを単独で用いても、２種類以上を混合して用いてもよい。

アルキレンオキサイドの具体例としては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等の（炭素数１〜５）アルキレンオキサイドが挙げられる。また、アルキレンカーボネートの具体例としては、エチレンカーボネート（炭酸エチレン）、プロピレンカーボネート（炭酸プロピレン、ブチレンカーボネート（炭酸ブチレン）等の（炭素数１〜４）アルキレンカーボネートが挙げられる。

１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンオキサイド又はアルキレンカーボネートとの反応は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ触媒下、反応時間１〜４８時間、反応温度９０〜２００℃の間で行なわれる。１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンオキサイドとの反応においては、反応混合物１００質量％に対して０．０１〜５質量％のアルカリ触媒が用いられる。１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンカーボネートとの反応においては、１モルの１，１’−ビ−ナフトールに対して０．０１〜０．５モルのアルカリ触媒が用いられる。

１，１’−ビ−ナフトールとアルキレンオキサイド又はアルキレンカーボネートとの反応物と（メタ）アクリル酸の脱水縮合反応において、（メタ）アクリル酸は１，１’−ビ−ナフトール１モルに対して０．１〜１０モル用いられる。脱水縮合反応における反応溶媒としては、反応において生成した水を留去することのできる共沸溶媒を用いることができる。ここでいう共沸溶媒とは６０〜１３０℃の沸点を有し、水と容易に分離できるものであり、特に、ベンゼン、トルエン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン等の非反応性有機溶剤の１種又は２種以上を混合して使用するのが望ましい。その使用量は任意であるが、好ましくは反応混合物に対し１０〜７０質量％である。

脱水縮合反応における反応時間は１〜２４時間、反応温度は６０〜１５０℃の範囲でよいが、反応時間の短縮と重合防止の点から、７５〜１２０℃で行なうのが好ましい。

原料として用いる市販品の（メタ）アクリル酸には、既にｐ−メトキシフェノール等の重合禁止剤が添加されているのが普通であるが、反応時に改めて重合禁止剤を添加してもよい。そのような重合禁止剤の例としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、３−ヒドロキシチオフェノール、ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジヒドロキシ−ｐ−ベンゾキノン、フェノチアジン等が挙げられる。その使用量は反応混合物に対し０．０１〜１質量％である。

脱水縮合反応に使用される酸触媒は、硫酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等公知のものから任意に選択でき、その使用量は、（メタ）アクリル酸１モルに対して０．０１〜１０モル％、好ましくは１〜５モル％である。

本発明の樹脂組成物に使用する化合物（Ｄ）としては、屈折率や他の成分との相溶性を考慮すると、１モルの１，１’−ビ−ナフトールに対して０．５〜４モルのアルキレンオキサイドを反応させた化合物や、１モルの１，１’−ビ−ナフトールに対して２〜４モルのアルキレンカーボネートを反応させた化合物が好ましい。アルキレンオキサイドとしてはメチレン基が１〜４のアルキレンオキサイドであればいずれでもよいが、エチレンオキサイドあるいはプロピレンオキサイドが好ましい。アルキレンカーボネートとしてはメチレン基が１〜４のアルキレンカーボネートであればいずれでもよいが、エチレンカーボネート（炭酸エチレン）あるいはプロピレンカーボネート（炭酸プロピレン）が好ましい。屈折率を向上させる目的であればアルキレンオキサイドの繰り返し数ｎ＋ｍ＝２が好ましく、耐スクラッチ性を向上させる目的であればアルキレンオキサイドの繰り返し数はｎ＋ｍ＞２が好ましい。本発明で使用する化合物（Ｄ）としては屈折率と耐スクラッチ性の両物性を向上させる為にアルキレンオキサイドの繰り返し数に分布を持つものが好ましい。

本発明に使用される微粒子（Ｅ）としては有機微粒子、無機微粒子が挙げられる。また、微粒子（Ｅ）は、必要とされる硬度、耐擦傷性、硬化収縮率、屈折率を考慮し単独、または複数種を混合して用いることができる。

本発明に使用される有機微粒子としては、ポリスチレン樹脂ビーズ、アクリル系樹脂ビーズ、ウレタン樹脂ビーズ、ポリカーボネート樹脂ビーズ、ベンゾグアナミン−ホルマリン縮合物の樹脂粉末、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルマリン縮合物の樹脂粉末、尿素−ホルマリン縮合物の樹脂粉末、アスパラギン酸エステル誘導体の粉末、ステアリン酸亜鉛の粉末、ステアリン酸アミドの粉末、エポキシ樹脂パウダー、ポリエチレンパウダー等が挙げられ、架橋ポリメチルメタクリレート樹脂ビーズや架橋ポリメチルメタクリレート・スチレン樹脂ビーズ等が好ましい。これら有機微粒子は市販品として容易に入手することができ、又、公知文献を参考に調製することもできる。

本発明に使用される無機微粒子としては導電性金属酸化物、透明性金属酸化物等が挙げられる。

本発明に使用される導電性金属酸化物としては、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、五酸化アンチモン、酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられる。

本発明に使用される透明性金属酸化物としては、シリカ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化チタン／酸化ジルコニウム／酸化錫／五酸化アンチモン複合物、酸化ジルコニウム／酸化錫／五酸化アンチモン複合物、酸化チタン／酸化ジルコニウム／酸化錫複合物等が挙げられる。

本発明に使用される微粒子としては硬度と耐擦傷性に優れ、屈折率の高い微粒子が好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化チタン／酸化ジルコニウム／酸化錫／五酸化アンチモン複合物、酸化ジルコニウム／酸化錫／五酸化アンチモン複合物、酸化チタン／酸化ジルコニウム／酸化錫複合物が好適に用いられる。また、ディスプレイに用いられる光学シートは高い光線透過率が要求される為、微粒子の一次粒径は１００ｎｍ以下が好ましい。

さらに、微粒子の分散剤として、ポリカルボン酸系の分散剤やシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、変性シリコーンオイル等のシリコーン系分散剤や有機共重合体系の分散剤等を併用することも可能である。これらの配合割合としては、本発明の樹脂組成物の全質量に対して０〜３０質量％程度、好ましくは０．０５〜５質量％程度である。

なお、一次粒径とは凝集を崩したときの、その粒子が持つ一番小さい粒径を意味する。即ち、楕円形状の微粒子では短径を一次粒径とする。一次粒径は動的光散乱法や電子顕微鏡観察等により測定することができる。具体的には、日本電子（株）製ＪＳＭ−７７００Ｆ電界放出形走査電子顕微鏡を使用し、加速電圧３０ｋＶ条件下で一次粒径を測定できる。

これら微粒子は溶媒に分散し使用することができる。特に無機微粒子は水または有機溶媒に分散された形で市販品を入手し易く、使用される有機溶媒としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の芳香族系炭化水素溶剤、ヘキサン、オクタン、デカン等の脂肪族系炭化水素溶剤、及びそれらの混合物である石油エーテル、ホワイトガソリン、ソルベントナフサ等、エステル系溶剤としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のアルキルアセテート類、γ−ブチロラクトン等の環状エステル類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルモノアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート、ブチレングリコールモノメチルエーテルモノアセテート等の（モノ又はポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルモノアセテート類、グルタル酸ジアルキル、コハク酸ジアルキル、アジピン酸ジアルキル等のポリカルボン酸アルキルエステル類等、エーテル系溶剤としては、ジエチルエーテル、エチルブチルエーテル等のアルキルエーテル類、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル類、テトラヒドロフラン等の環状エーテル類等、ケトン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン等が挙げられる。

本発明の樹脂組成物の各成分の使用割合は、所望の屈折率や耐久性や粘度や密着性等を考慮して決められるが、成分（Ｃ）＋成分（Ｄ）を１００質量部とした場合に、成分（Ｃ）の含有量は５〜４０質量部であり、好ましくは１０〜２５質量部である。成分（Ｄ）の含有量は６０〜９５質量部であり、好ましくは７５〜９０質量部である。成分（Ａ）は成分（Ｃ）＋成分（Ｄ）の総量１００質量部に対して、１〜４０質量部であり、好ましくは５〜２０質量部である。成分（Ｂ）は成分（Ｃ）＋成分（Ｄ）の総量１００質量部に対して、０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜５質量部である。成分（Ｅ）は成分（Ｃ）＋成分（Ｄ）の総量１００質量部に対して１〜４０質量部であり、好ましくは１０〜２５質量部である。

本発明の樹脂組成物には、前記成分以外に取り扱い時の利便性等を改善するために、離型剤、消泡剤、レベリング剤、光安定剤、酸化防止剤、重合禁止剤、可塑剤、帯電防止剤等を状況に応じて併用して含有することができる。

中でも帯電防止剤は塵埃の付着を防止する効果があり歩留まりが向上する為、併用して使用される例が多い。使用される材料としては帯電防止効果、樹脂組成物への相溶性を考慮しイオン性の化合物が好ましい。

イオン性の化合物としては、例えば、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド又はビス（フルオロスルホニル）イミドをアニオンとし、ピリジニウム、イミダゾリウム、ホスホニウム、アンモニウム及びリチウムからなる群から選ばれる少なくとも１種のイオンをカチオンとする塩であり、中でもピリジニウム塩、イミダゾリウム塩が優れた帯電防止機能を有し好ましい。

該ピリジニウム系のカチオンとしては特に限定されるものではないが、ピリジン環の炭素原子の置換基として（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基が好ましく、且つ、ピリジン環の窒素原子の置換基として（Ｃ２〜Ｃ１８）アルキル基が好ましい。ピリジン環の炭素原子の置換基として複数の置換基を有する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。該ピリジニウム系のカチオンとしては、例えば、Ｎ−イソプロピル−３，４−ジメチルピリジニウムイオン、Ｎ−イソプロピル−３−エチル−４−メチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−プロピル−３，４−ジメチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−プロピル−３−エチル−４−メチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−ブチル−３，４−ジメチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−ブチル−３−エチル−４−メチルピリジニウムイオン、Ｎ−エチル−３，４−ジメチルピリジニウムイオン、Ｎ−エチル−３−エチル−４−メチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−ヘキシル−３，４−ジメチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−ヘキシル−３−エチル−４−メチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−オクチル−３，４−ジメチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−オクチル−３−エチル−４−メチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−ドデシル−３，４−ジメチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−ドデシル−３−エチル−４−メチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−オクタデシル−３，４−ジメチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−オクタデシル−３−エチル−４−メチルピリジニウムイオン等が挙げられる。上記カチオンのうち、Ｎ−イソプロピル−３，４−ジメチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−プロピル−３，４−ジメチルピリジニウムイオン、Ｎ−ｎ−ブチル−３，４−ジメチルピリジニウムイオン、Ｎ−エチル−３，４−ジメチルピリジニウムイオンが特に好ましい。

該イミダゾリウム系のカチオンとしては特に限定されるものではないが、イミダゾール環の炭素原子の置換基として（Ｃ１〜Ｃ４）アルキル基、窒素原子の置換基として（Ｃ１〜Ｃ１８）アルキル基が好ましく、直鎖アルキル基が特に好ましい。イミダゾール環の炭素原子の置換基又は窒素原子の置換基として複数の置換基を有する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。該イミダゾリウム系のカチオンとしては、例えば、１−エチル−３−メチルイミダゾリウムイオン、１−プロピル−３−メチルイミダゾリウムイオン、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムイオン、１−ヘキシル−３−メチルイミダゾリウムイオン、１−オクチル−３−メチルイミダゾリウムイオン、１−デシル−３−メチルイミダゾリウムイオン、１−ドデシル−３−メチルイミダゾリウムイオン、１−テトラデシル−３−メチルイミダゾリウムイオン、１−ヘキサデシル−３−メチルイミダゾリウムイオン、１−オクタデシル−３−メチルイミダゾリウムイオン、１−エチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムイオン、１−ブチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムイオン、１−ヘキシル−２，３−ジメチルイミダゾリウムイオン、１−オクチル−２，３−ジメチルイミダゾリウムイオン、１，３−ジメチルイミダゾリウムイオン、１−メチル−３−エチルイミダゾリウムイオン、１−メチル−３−ブチルイミダゾリウムイオン等が挙げられ、中でも１−エチル−３−メチルイミダゾリウムイオンが好ましい。

イオン性の化合物としては、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド−リチウム塩、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド−Ｎ−ブチル−３−メチルピリジニウムが特に好ましい。

また、高い耐久性や高い屈折率を得るために可塑剤を使用される例も多い。使用される材料としては所望の耐久性や屈折率により選択される。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系ポリマー、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ビス（２−エチルヘキシル）フタレート、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸エステル、トリス（２−エチルヘキシル）トリメリテート等のトリメリット酸エステル、ジブチルアジペート、ジイソブチルアジペート、ビス（２−エチルヘキシル）アジペート、ジイソノニルアジペート、ジイソデシルアジペート、ビス（２−（２−ブトキシエトキシ）エチル）アジペート、ビス（２−エチルヘキシル）アゼレート、ジブチルセバケート、ビス（２−エチルヘキシル）セバケート、ジエチルサクシネート等の脂肪族二塩基酸エステル、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリス（２−エチルヘキシル）ホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジフェニルホスフェート等の正リン酸エステル、メチルアセチルリシノレート等のリシノール酸エステル、ポリ（１，３−ブタンジオールアジペート）等のポリエステル、グリセリルトリアセテート等の酢酸エステル、Ｎ−ブチルベンゼンスルホンアミド等のスルホンアミド、ポリエチレングリコールベンゾエート、ポリエチレングリコールジベンゾエート、ポリプロピレングリコールベンゾエート、ポリプロピレングリコールジベンゾエート、ポリテロラメチレングリコールベンゾエート、ポリテトラメチレングリコールベンゾエート等のポリアルキレンオキサイド（ジ）ベンゾエート、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテル、ポリエトキシ変性ビスフェノールＡ、ポリプロポキシ変性ビスフェノールＡ等のポリアルコキシ変性ビスフェノールＡ、ポリエトキシ変性ビスフェノールＦ、ポリプロポキシ変性ビスフェノールＦ等のポリアルコキシ変性ビスフェノールＦ、ナフタレン、フェナントレン、アントラセン等の多環芳香族、（ビ）ナフトール、（ポリ）エトキシ変性（ビ）ナフトール、（ポリ）プロポキシ変性（ビ）ナフトール、（ポリ）テトラメチレングリコール変性（ビ）ナフトール、（ポリ）カプロラクトン変性（ビ）ナフトール等のナフトール誘導体、ジフェニルスルフィド、ジフェニルポリスルフィド、ベンゾチアゾリルジスルフィド、ジフェニルチオ尿素、モルホリノジチオベンゾチアゾール、シクロヘキシルベンゾチアゾール−２−スルフェンアミン、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、テトラキス（２−エチルヘキシル）チウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等の含硫黄化合物が上げられる。好ましくは、（ポリ）エチレングリコールジベンゾエート、（ポリ）プロピレングリコールジベンゾエート、ビナフトール、（ポリ）エトキシ変性ビナフトール、（ポリ）プロポキシ変性ビナフトール、ジフェニルスルフィドである。

更に、必要に応じて、アクリルポリマー、ポリエステルエラストマー、ウレタンポリマー及びニトリルゴム等のポリマー類も添加することができる。溶剤を加えることもできるが、溶剤を添加しないものが好ましい。

本発明の樹脂組成物は、各成分を常法に従い混合溶解することにより調製することができる。例えば、撹拌装置、温度計のついた丸底フラスコに各成分を仕込み、４０〜８０℃にて０．５〜６時間撹拌することにより得ることができる。

本発明の樹脂組成物の粘度は、基材上に成型する光学レンズを製造する際の形状の転写性や加工性の作業性に適した粘度として、Ｅ型粘度計（ＴＶ−２００：東機産業社製）を用いて測定した粘度が２５℃で５０００ｍＰａ・ｓ以下である組成物が好ましい。

本発明の樹脂組成物はエネルギー線によって容易に硬化させることができる。ここでエネルギー線の具体例としては、紫外線、可視光線、赤外線、Ｘ線、ガンマー線、レーザー光線等の電磁波、アルファー線、ベータ線、電子線等の粒子線等が挙げられる。本発明においては、これらのうち、紫外線、レーザー光線、可視光線、または電子線が好ましい。

常法に従い、本発明の樹脂組成物に前記エネルギー線を照射することにより、本発明の硬化物を得ることができる。本発明の樹脂組成物の液状屈折率は通常１．５１〜１．６３であり、好ましくは１．５４〜１．６１である。屈折率はアッベ屈折率計（型番：ＤＲ−Ｍ２、（株）アタゴ製）等で測定することができる。

本発明の基材上に成型する光学レンズは、例えば、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ等の形状を有するスタンパー上に塗布して該樹脂組成物の層を設け、その層の上に透明基材であるバックシート（例えば、ポリメタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、又はこれらポリマーのブレンド品等からなるフィルム）または易接着処理等の処理が為されたガラス基板を接着させ、次いで該透明基材側から高圧水銀灯等によりエネルギー線を照射して該樹脂組成物を硬化させた後、該スタンパーから硬化物を剥離して得ることができる。

本発明の光学レンズシートには、どのような製造法で作られるものも含まれるが、例えば、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ等の形状を有するスタンパー上に塗布して該樹脂組成物の層を設け、その層の上に透明基材であるバックシート（例えば、ポリメタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、又はこれらポリマーのブレンド品等からなるフィルム）または易接着処理等の処理が為されたガラス基板を接着させ、次いで該透明基材側から高圧水銀灯等によりエネルギー線を照射して該樹脂組成物を硬化させた後、該スタンパーから硬化物を剥離して得ることができる。

次に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。本発明は以下の実施例によって何ら限定されるものではない。なお、数値の単位「部」は質量部を示す。

合成例１：ポリエトキシ変性ビナフトールの合成
攪拌装置、還流管、温度計をつけたフラスコ中に、１，１’−ビ−２−ナフトールを２８６．３ｇ（１．０ｍｏｌ）、炭酸エチレンを２６４．２ｇ（３．０ｍｏｌ）、炭酸カリウムを４１．５ｇ（０．３ｍｏｌ）、トルエン２０００ｍｌを仕込み、１１０℃で１２時間反応させた。
反応後、得られた反応液を水洗、１質量％ＮａＯＨ水溶液で洗浄し、次いで洗浄水が中性になるまで水洗を行った。水洗後の溶液をロータリーエバポレーターを用いて減圧下に溶媒を留去し、１，１’−ビ−２−ナフトールのエチレンオキサイド２ｍｏｌ反応物３００．０ｇを得た。

合成例２：ビナフトールポリエトキシジアクリレートの合成
攪拌装置、還流管、温度計、及び水分離機をつけたフラスコ中に、合成例１で得られた１，１’−ビ−２−ナフトールのエチレンオキサイド２ｍｏｌ反応物１８７．２ｇ（０．５ｍｏｌ）、アクリル酸８６．５ｇ（２．４ｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸０．９５ｇ、ハイドロキノン０．８７ｇ、トルエン９１７．４ｇ、シクロヘキサン３９３．２ｇ仕込み、反応温度９５〜１０５℃で生成水を溶媒と共沸留去しながら反応させた。反応後、２５質量％ＮａＯＨ水溶液で中和した後、１５質量％食塩水２００ｇで３回洗浄し、溶媒を減圧留去後、ビナフトールジエトキシジアクリレートを得た。

以下の実施例に示すような組成にて本発明の紫外線硬化型樹脂組成物及び硬化物を得た。又、樹脂組成物及び硬化膜についての評価方法及び評価基準は以下の通り行った。なお、有機溶媒を含有する実施例については、エバポレーターで十分に有機溶媒を揮発させた後に評価を行った。

（１）粘度：Ｅ型粘度計（ＴＶ−２００：東機産業（株）製）を用いて２５℃で測定した。

（２）屈折率（２５℃）：硬化した紫外線硬化性樹脂層の屈折率（２５℃）をアッベ屈折率計（ＤＲ−Ｍ２：（株）アタゴ製）で測定した。

（３）離型性：硬化した樹脂を金型より離型させるときの難易度を表す。
○・・・金型からの離型が良好である
×・・・離型が困難あるいは型残りがある

（４）型再現性：基材上に紫外線硬化型樹脂層を塗布・成型し、高圧水銀灯（８０Ｗ／ｃｍ、オゾンレス）で１０００ｍＪ／ｃｍ²の照射を行い硬化させた。硬化した紫外線硬化型樹脂層の表面形状と金型の表面形状を観察した。
○・・・再現性良好である
×・・・再現性が不良である

（５）密着性：型再現性評価で用いたサンプルにて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６に準じて密着性評価を行った。
評価結果は０〜２を○とし、３〜５を×とした。

（６）耐擦傷性：ＰＥＴ基材上に金型を使いプリズム形状を附形し試験片を作製。試験片上に拡散シートのマット面を合わせ、さらにその上に５００ｇの分銅を載せ、プリズムパターンと垂直方向に拡散シートを引っ張った際に発生する擦り傷を観察した。拡散シートには市販品（Ｈａｚｅ値２５％）を使用した。
○・・・傷無し〜僅かに傷有り
×・・・強い傷有り

＊比較例２：特許文献３実施例３の配合である
＊比較例２の粘度のみ５０℃で測定した

表１で使用している化合物は合成例を除き市販品として容易に入手可能であり、下記の通りである。
１，１’−ビ−２−ナフトール：Ｓ＆Ｒ ＣＨＩＲＡＬ ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製
Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４：ＢＡＳＦ・ジャパン（株）製 １−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン
ＫＡＹＡＲＡＤ ＯＰＰ−１：日本化薬（株）製 ｏ−フェニルフェノールモノエトキシアクリレート
ＫＡＹＡＲＡＤ ＯＰＰ−１．５：日本化薬（株）製 ｏ−フェニルフェノールポリエトキシアクリレート
ビスコート Ｖ＃１５０：大阪有機化学工業（株）製 テトラヒドロフルフリルアクリレート
ファンクリル ＦＡ−５１２ＡＳ：日立化成工業（株）製 ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート
ニューフロンティア ＰＨＥ：第一工業製薬（株）製 フェノールモノエトキシアクリレート
ニューフロンティア ＢＰＥ−８：第一工業製薬（株）製 ビスフェノールＡポリエトキシジアクリレート
ファンクリル ＦＡ−３２１Ａ：第一工業製薬（株）製 ビスフェノールＡポリエトキシジアクリレート
ＳＺＲ−Ｋ（堺化学工業（株）製 ＭＥＫ分散酸化ジルコニウム 固形分濃度３０質量％）

実施例１〜５及び比較例１〜２の評価結果から明らかなように、特定の組成を有する本発明の樹脂組成物は離型性、型再現性、基板フィルムとの密着性が良好であり、耐久性（耐擦傷性、耐スクラッチ性）に優れる。そのため例えばレンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等の基材上に成型する光学レンズシートに適しており、他の光学シートとの接触によって発生する形状の欠点を抑制することができる。

本発明の紫外線硬化性樹脂組成物及びその硬化物は、主に、レンチキュラーレンズ、プリズムレンズ、マイクロレンズ等の基材上に成型される光学レンズシートに特に適するものである。

Claims (15)

1. 下記一般式（１）で表されるナフタレン骨格を有する化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、（メタ）アクリレート（Ｃ）を含有する光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物。
   

   

   （式中、Ｒ_１及びＲ_２は水素原子、アルキル基、アルキレンオキサイド基、チオール基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、フェニル基を表し、同一でも異なっていても良い。）
2. （Ａ）が下記一般式（２）で表される請求項１に記載の光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物。
   

   

   （式中、Ｒ_３は炭素数１から５の炭化水素基を示し、ｍ及びｎは平均の繰り返し数であり、ｍ＝０〜５、ｎ＝０〜５をそれぞれ示す。）
3. （Ａ）を１〜４０質量部含有する請求項１または請求項２の何れか１項に記載の光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物。
4. （Ｂ）を０．１〜１５質量部含有する請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物。
5. さらに下記一般式（３）で表されるナフタレン骨格を有する化合物（Ｄ）を含有する請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載の光学レンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物。
   

   

   （式中、Ｒ_４は同一もしくはそれぞれ異なり、水素原子または炭素数１から４の炭化水素基、Ｒ_５は同一もしくはそれぞれ異なり炭素数１から５の炭化水素基、ｍおよびｎは平均の繰り返し数であり、ｍ＋ｎ＝０．４〜１２をそれぞれ示す。）
6. （Ｄ）を５〜４０質量部含有する請求項１乃至請求項５の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物。
7. （Ｃ）が芳香族を有する（メタ）アクリレートである請求項１乃至請求項６の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物。
8. さらに微粒子（Ｅ）を含有する請求項１乃至請求項７の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物。
9. （Ｅ）の一次粒径が１００ｎｍ以下である請求項８に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物。
10. （Ｅ）の微粒子が、下記微粒子（Ｅ−１）から選択される微粒子であることを特徴とする請求項８または請求項９の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物。
    （Ｅ−１）：酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化チタン／酸化ジルコニウム／酸化錫／五酸化アンチモン複合物、酸化ジルコニウム／酸化錫／五酸化アンチモン複合物、酸化チタン／酸化ジルコニウム／酸化錫複合物
11. Ｅ型粘度計で測定した２５℃での粘度が５０００ｍＰａ・ｓ以下である請求項１乃至請求項１０の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物。
12. 液状屈折率が１．５１〜１．６３である請求項１乃至請求項１１の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物。
13. 液状屈折率が１．５４〜１．６１である請求項１乃至請求項１２の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物。
14. 請求項１乃至請求項１３の何れか１項に記載のエネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化せしめて得られる硬化物。
15. 請求項１４に記載の硬化物を有する光学レンズシート。