JP2013225675A - マニホールド及びマニホールド製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】工程中の製品の品質不良の発生を防止するマニホールドを提供する。
【解決手段】マニホールド本体と、リング形状でマニホールド本体の内周面に同心円状に水平設置されて反応チャンバの内部に設置されるクオーツチューブが案内される案内面を提供し、外周面に複数個の嵌合部を備えるクオーツチューブ案内リングと、マニホールド本体の内周面に周囲方向に設けられクオーツチューブ案内リングが設置される案内面を提供するフランジ部と、フランジ部上側にフランジ部に所定の高さでクオーツチューブ案内リングの各嵌合部に対応する個数で所定の間隔を置いて複数個形成される係止突起と、クオーツチューブ案内リングの各嵌合部がフランジ部と各係止突起との間の空間に挟まれた状態で各嵌合部の間を連結する複数個の連結片と、を備え、クオーツチューブ案内リングと複数個の連結片とがマニホールド本体に溶接により一体に固定設置される、マニホールド。
【選択図】図２Ａ

Description

本発明は、半導体製造用のマニホールドに関し、より詳細には、半導体製造工程においてクオーツチューブが案内されるクオーツチューブ案内リングがレーザー溶接によってマニホールドに一体に製作されるクオーツチューブ案内リング一体型のマニホールド及びこの製造方法に関するものである。

半導体素子の製造のための熱処理工程には、シリコーンの表面を酸化する酸化工程、不純物を拡散する拡散工程、半導体基板の上に所定の物質を蒸着する化学気相蒸着工程、均一な拡散や再結晶などを目的にするアニール工程などがある。このような半導体製造工程を遂行するためには高温ファーネスの使用が必要である。

通常の高温拡散工程は、ウエハーに熱を加えながら遂行されるため、この加えられた高温の熱によって対象のウエハーに致命的な欠陥が発生することがある。

このような問題を解決するため、最近では、クオーツチューブ（ＱＵＡＲＴＺ ＴＵＢＥ、石英管）を利用して対象のウエハーを取り囲んだ状態で、高温ファーネス内で拡散工程を遂行させることで、このウエハーに発生する欠陥を防止する対策が広く用いられている。

一方、高温ファーネスには、ガス供給管とガス排気管が反応チャンバの下端部に固定フランジなどの手段によって連結されているマニホールド（または、インナチューブ）を介して反応チャンバと連結されている。

ここで、クオーツチューブは、中空で長さが長い円筒形状で、マニホールドの内側にマニホールドに対して同心円状に配置されており、また、高温ファーネスの内部に垂直に設置されている。

これに関して、特許文献１には、クオーツチューブ（反応チューブ）がマニホールドに案内された状態で高温ファーネスの内部に設置されている構成が開示されている。

上述した特許文献１では、クオーツチューブがマニホールドに案内されている構造は明確に開示されていないが、マニホールドに同心円状に垂直配置されるクオーツチューブは、マニホールドの内周面に設置されるクオーツチューブ案内リングの上面に案内される。

これについて、図１Ａ、図１Ｂに、上述した従来のマニホールドとマニホールドの内周面に設置されているクオーツチューブ案内リングの構成を示している。図１Ａは、クオーツチューブ案内リングがマニホールドに設置される前の分解状態を示す分解斜視図である。図１Ｂは、クオーツチューブ案内リングがマニホールドに結合された状態を示す結合斜視図である。

図１Ａおよび図１Ｂに示すように、クオーツチューブ案内リング２０は、マニホールド本体１０と別個に製作されて、マニホールド本体１０の内周面に嵌合固定される構造を有する。

このために、リング形状に形成されたクオーツチューブ案内リング２０には、この外周面に所定の長さに突出するように形成された嵌合部２１が所定の間隔で複数個形成される。そしてマニホールド本体１０の内周面には、クオーツチューブ案内リング２０が案内される案内面を提供するフランジ部１２がマニホールド本体１０の内側の周囲の全体に形成されている。フランジ部１２の上面には、クオーツチューブ案内リング１０の嵌合部２１が嵌合固定される係止突起１１が嵌合部２１に対応する個数と位置で複数個形成される。

これによりクオーツチューブ案内リング２０の各嵌合部２１がマニホールド本体１０の内側に形成された各係止突起１１との干渉がない位置でマニホールド本体１０の上方から下方へフランジ部１２の上面に案内させた状態でクオーツチューブ案内リング２０を所定の角度で回転させれば、クオーツチューブ案内リング２０の嵌合部２１がフランジ部１２の上面と係止突起１１の下面との間の空間に嵌合する形態で嵌合固定が完了する構造を有するようになる。

大韓民国特許公開第１０−２００７−００６０２５２号

しかし、このような従来のマニホールド本体１０にクオーツチューブ案内リング２０が嵌合固定される固定構造は、マニホールド本体１０にクオーツチューブ案内リング２０の嵌合固定が完了した状態でマニホールド１０の内周面とクオーツチューブ案内リング２０の外周面との間に隙間（図１Ｂの「Ａ」）、すなわち嵌合部２１が形成されないクオーツチューブ案内リング２０の外周面と係止突起１１が形成されないマニホールド本体１０の内周面との間の空間によって隙間（図１Ｂの「Ａ」）が発生する。このような隙間で拡散工程の進行時に発生する微細な異物（溶接ヒューム、パーティクルなど）が浸透・沈着することにより、工程中に製品の品質不良が発生する問題がある。

またクオーツチューブ案内リング２０は、この外周面に形成された嵌合部２１がマニホールド本体１０のフランジ部１２と係止突起１１との間の空間に嵌合されることで、上方向の動きは制限されるが、左右方向の動きは可能である。このため、マニホールド本体１０の内部で左右方向の離隔、すなわち揺れが発生する。これによりクオーツチューブ案内リング１０に案内されるクオーツチューブ（図示せず）にも工程中に左右方向の揺れが発生して製品の品質に不良が発生する問題がある。

そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、従来の構造で既存の製作完了したマニホールド本体とクオーツチューブ案内リングの構造を設計変更せずにそのまま活用しつつ、クオーツチューブ案内リングをマニホールド本体に設置するにおいてクオーツチューブ案内リングとマニホールド本体との間の隙間をなくすとともに、マニホールド本体にクオーツチューブ案内リングの揺れがないようにすることで、工程中に製品の品質不良が発生するのを防止することの可能な、クオーツチューブ案内リング一体型のマニホールド及びこの製造方法を提供することにある。

また、本発明の目的は、溶接によってクオーツチューブ案内リングをマニホールド本体に一体化されるように製作してクオーツチューブ案内リングとマニホールド本体の結合部位を滑らかにし、外観上の美的品質の向上はもちろん、クオーツチューブが案内されるクオーツチューブ案内リングの案内面の平坦度を高めることの可能な、クオーツチューブ案内リング一体型のマニホールド及びこの製造方法を提供することにある。

そして本発明のさらなる目的は、クオーツチューブ案内リングにクオーツチューブが容易に正しい位置に案内されるとともに、案内された状態を安定的に維持することで、設置作業の便宜性とクオーツチューブの設置誤差による製品の品質不良を防止することの可能な、クオーツチューブ案内リング一体型のマニホールド及びこの製造方法を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、排気するマニホールドにおいて、マニホールド本体と、リング形状でマニホールド本体の内周面に同心円状に水平設置されて反応チャンバの内部に設置されるクオーツチューブが案内される案内面を提供し、外周面に所定の間隔を置いて突出して形成された複数個の嵌合部を具備するクオーツチューブ案内リングと、マニホールド本体の内周面に周囲方向に具備されてクオーツチューブ案内リングが設置される案内面を提供するフランジ部と、マニホールド本体の内周面のフランジ部上側にフランジ部に所定の高さでクオーツチューブ案内リングの各嵌合部に対応する個数で所定の間隔を置いて複数個形成され、フランジ部の上面に案内されたクオーツチューブ案内リングが所定の角度で回転されることによってクオーツチューブ案内リングの嵌合部が水平方向で挟まれる空間を提供する複数個の係止突起と、クオーツチューブ案内リングの各嵌合部がフランジ部と各係止突起との間の空間に挟まれた状態で各嵌合部の間を連結し、嵌合部が形成されないクオーツチューブ案内リングの外周面と係止突起が形成されないマニホールド本体の内周面との間の空間を補う複数個の連結片と、を備え、マニホールド本体のフランジ部に設置されたクオーツチューブ案内リングと複数個の連結片とがマニホールド本体に溶接によって一体に固定設置されることを特徴とする、マニホールドが提供される。

また、クオーツチューブ案内リングの嵌合部とマニホールド本体の内周面に形成された係止突起とは、それぞれ等しい円弧長さを有する弧形状で形成され、連結片は、クオーツチューブ案内リングの各嵌合部の間の空間を埋めて全体を連結する円弧長さを有する弧形状で形成されてもよい。

さらに、クオーツチューブ案内リングの一面には、周囲方向の全体に所定の深さだけ窪んだ案内溝を形成してもよい。

また、案内溝の上端には、開口端側に向かうほど直径が広くなる傾斜面が案内溝の周囲方向の全体に形成されてもよい。

マニホールド本体と、クオーツチューブ案内リングと、連結片とは、ステンレススチールで製作してもよい。

また、上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、上述のようなマニホールドの製造方法において、クオーツチューブ案内リングの各嵌合部がマニホールドの各係止突起に干渉されない方向でクオーツチューブ案内リングを上方から下方へマニホールドのフランジ部に案内させる段階と、クオーツチューブ案内リングがマニホールドのフランジ部に案内された状態でクオーツチューブ案内リングを所定の角度で水平回転させてクオーツチューブ案内リングの各嵌合部がフランジ部と係止突起との間に挟まれる段階と、クオーツチューブ案内リングの嵌合部がフランジ部と係止突起との間に挟まれた状態で、各連結片でクオーツチューブ案内リングの各嵌合部間の空間を連結する段階と、各連結片でクオーツチューブ案内リングの各嵌合部間の空間が連結された状態で、各連結片とクオーツチューブ案内リングとが溶接によってマニホールドに一体に固定結合される段階と、を含むことを特徴とする、マニホールド製造方法が提供される。

以上説明した本発明によるレーザー溶接によってクオーツチューブ案内リングが一体に設けられているマニホールド及びこの製造方法には次のような効果がある。

まず、従来の構造で既存の製作完了したマニホールド本体およびクオーツチューブ案内リングの構造を設計変更せずにそのまま再活用することができる。また、在庫数量による経済的損失を減らすことができるともに、従来の構造に製作されたクオーツチューブ案内リングをマニホールド本体に設置する際に、クオーツチューブ案内リングとマニホールド本体との間の隙間を除くとともに、マニホールド本体にクオーツチューブ案内リングの揺れがないようにすることで、工程中に製品の品質不良が発生するのを防止することができる。

そしてレーザー溶接によって溶接を連結片及びクオーツチューブ案内リングがマニホールド本体の内部にまるで一つの構成であるかのように一体に製作されることで、外観上の美的品質の向上はもちろん、クオーツチューブが案内されるクオーツチューブ案内リングの案内面の平坦度を高めることができる。

最後に、クオーツチューブ案内リングにクオーツチューブが手軽く正しい位置に案内されることができる案内手段を具備することで、設置作業の便宜性とクオーツチューブの設置誤差による製品の品質不良を阻むことができる。

従来技術によるマニホールドにクオーツチューブ案内リングが結合される前の状態を示す分解斜視図である。 従来技術によるマニホールドにクオーツチューブ案内リングが結合された後の状態を示す結合斜視図である。 本発明の一実施形態に係るマニホールドにクオーツチューブ案内リングがマニホールド本体に一体に結合される構成の全体を示す分解斜視図である。 同実施形態に係るマニホールドにクオーツチューブ案内リングがマニホールド本体に一体に結合される構成の全体を示す結合斜視図である。 同実施形態に係るマニホールドのクオーツチューブ案内リング断面を示す断面図である。 同実施形態に係るマニホールドのクオーツチューブ案内リングにクオーツチューブが案内された状態を示す断面図である。 同実施形態に係るマニホールドでレーザー溶接によってクオーツチューブ案内リングがマニホールド本体に一体に設けられている状態を説明する斜視図である。 同実施形態に係るクオーツチューブ案内リングがマニホールドに一体に設けられている最終製品を示す斜視図である。 同実施形態に係るクオーツチューブ案内リングが一体に設けられているマニホールドを製造する方法を説明するフローチャートである。 同実施形態に係るクオーツチューブ案内リングがマニホールドに一体に設けられている最終製品を撮影して得られた写真である。

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。本発明は多様な変換を加えることができ、多様な実施形態を有することができるところ、特定の実施形態を図面に例示して詳細に説明する。しかし、これは本発明を特定の実施形態に限定するものではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれるすべての変換、均等物ないし代替物を含むことに理解されなければならない。また、本発明を説明するにおいて、関係する公知技術に対する具体的な説明については、その詳細な説明を省略する。

図２Ａは、本発明の一実施形態に係るマニホールドにクオーツチューブ案内リングが一体に結合されるための構成を示す分解斜視図である。図２Ｂは、本実施形態に係るマニホールドにクオーツチューブ案内リングが一体に結合されるための構成を示す結合斜視図である。

図２Ａおよび図２Ｂに示すように、本実施形態に係るクオーツチューブ案内リングが一体に設けられているマニホールドは、マニホールド本体１００と、マニホールド本体１００に嵌合固定されるクオーツチューブ案内リング２００と、マニホールド本体１００とクオーツチューブ案内リング２００との間の隙間、すなわち隙間となる空間を補う複数個の連結片３００とで構成されている。このとき、クオーツチューブ案内リング２００と複数個の連結片３００とは、溶接によってマニホールド本体１００に一体に固定される。

クオーツチューブ案内リング２００は、クオーツチューブ（図４の符号４００を参照）の下端面が案内される案内面を提供する。ウエハー（図示せず）は、半導体製造工程の中で拡散工程のための高温ファーネス（図示せず）の反応チャンバ（図示せず）の内部に設置される。このとき、高温の熱からウエハーを保護するためにウエハーを取り囲んだ状態でクオーツチューブが垂直に設置されている。クオーツチューブ案内リング２００は、クオーツチューブの下端面が案内される案内面を提供する役目をする。

このようなクオーツチューブ案内リング２００は、所定の直径を有するリング形状であり、マニホールド本体１００の内部にマニホールド本体１００と同心円状に水平設置される。クオーツチューブ案内リング２００の外周面には、外側に向かって所定の長さで突出し、後述するマニホールド本体１００の係止突起１１０とフランジ部１２０との間に嵌合される嵌合部２１０が一体に形成される。

クオーツチューブ案内リング２００の嵌合部２１０は、所定の円弧長さを有する弧形状でクオーツチューブ案内リング２００の外周面に所定の間隔で複数個具備される。望ましくは、４個の嵌合部２１０が等間隔で配置される。

マニホールド本体１００は、半導体製造工程の中で拡散工程のための高温ファーネスに設置される。マニホールド本体１００は、高温ファーネスの内部の反応チャンバの下端部に設置されて反応チャンバでガスを供給及び排気する役目をする。

このようなマニホールド本体１００は、全体的に所定の高さを有しつつ、長手方向両端が開放された中空の円筒形状で形成された構造物である。マニホールド本体１００の内周面には、クオーツチューブ案内リング２００が設置される案内面を提供するフランジ部１２０が周囲方向の全体に形成される。このようなフランジ部１２０は、マニホールド本体１００の内側面からマニホールド本体１００の中心に向かう方向に所定の長さで水平延長されている構造を有する。

そしてマニホールド本体１００の内周面でフランジ部１２０上側には、フランジ部１２０から所定の高さで離隔した位置に係止突起１１０が具備される。係止突起１１０は、フランジ部１２０と上下方向（すなわち長手方向）に配置され、係止突起１１０とフランジ部１２０との間の空間に上述したクオーツチューブ案内リング２００の嵌合部２１０が水平方向で嵌合される。

マニホールド本体１００の係止突起１１０は、マニホールド本体１００の内側面からマニホールド本体１００の中心に向かう方向でフランジ部１２０の延長長さと等しい長さで突出する構造を有する。このような係止突起１１０は、クオーツチューブ案内リング２００の各嵌合部２１０に対応する個数と間隔で形成される。すなわち、クオーツチューブ案内リング２００に４個の嵌合部２１０が等間隔で設けられるとき、係止突起１１０は、各嵌合部２１０の間隔と同じ間隔で４個が具備される。また、係止突起１１０は、クオーツチューブ案内リング２００の嵌合部２１０と等しい円弧長さを有する弧形状に形成されている。

なお、図２Ａおよび図２Ｂの符号１３０は、反応チャンバにガスを供給するガス供給管であり、符号１４０は、反応チャンバから発生するガスを排気するガス排気管である。

このように構成されたクオーツチューブ案内リング２００とマニホールド本体１００の装着構造を簡単に説明する。この際、図７に基づきマニホールドの製造方法についても合わせて説明する。まず、クオーツチューブ案内リング２００の各嵌合部２１０がマニホールド本体１００の各係止突起１１０に干渉されない方向、すなわち互いに違う方向で位置され状態でクオーツチューブ案内リング２００を上部から下方で下ろしながらマニホールド本体１００のフランジ部１２０上面に案内させる（図７のステップＳ１１０を参照）。

この状態でクオーツチューブ案内リング２００を一定の角度で水平回転させてクオーツチューブ案内リング２００の各嵌合部２１０がマニホールド本体１００のフランジ部１２０と係止突起１１０との間の空間に嵌合されるようになる（図７のステップＳ１２０を参照）。

一方、図２Ａに示された連結片３００は、クオーツチューブ案内リング２００の各嵌合部２１０の間を連結する役目をする。このような連結片３００は、クオーツチューブ案内リング２００の各嵌合部２１０の間の空間を埋めて全体を連結する円弧長さを有する弧形状に形成される。例えば４個の嵌合部２１０が設けられるとき、これらの間をそれぞれ連結するように４個の連結片３００が具備される。

すなわち、連結片３００は、図２Ｂに示すように、弧形状を有する４個の独立されたセグメント構造物である。連結片３００は、図７のステップＳ１２０で説明するが、クオーツチューブ案内リング２００の各嵌合部２１０がマニホールド本体１００のフランジ部１２０と係止突起１１０との間に嵌合された状態でクオーツチューブ案内リング２００の各嵌合部２１０の間に設置されることで、嵌合部２１０が形成されないクオーツチューブ案内リング２００と係止突起１１０が形成されないマニホールド本体１００の内周面との間の空間に補う（図７のステップＳ１３０）。

このように、本実施形態によれば、上述した連結片３００によって、従来の構造で既存の製作完了したマニホールドとクオーツチューブ案内リングを別途設計変更することなくそのまま活用しても、従来の問題点で提起したマニホールドにクオーツチューブ案内リングの間の空間に微細な異物である溶接ヒューム、パーティクルなどが浸透・沈着しなくなる。これにより、工程中の製品の不良の発生がなくなる。

また、本実施形態に係るクオーツチューブ案内リング一体型のマニホールドはクオーツチューブ案内リングにクオーツチューブを案内させる時にクオーツチューブをクオーツチューブ案内リングの正しい位置に容易に案内させることができるともに、案内された状態を安定的に維持することができる。

図３と図４とを参照して説明すれば、上記クオーツチューブ案内リング２００からクオーツチューブ４００が案内される一面にはクオーツチューブ案内リング２００の周囲方向の全体に所定の深さだけ窪んだ案内溝２２０が形成される。

これにより、クオーツチューブ４００が案内溝２２０に案内される時にクオーツチューブ４００の外側面の全体が案内溝２２０を構成する内壁に側面支持されることで、クオーツチューブ案内リング２００に安定的な案内状態を維持することができるようになる。

このとき、案内溝２２０の内壁の上端には、上部に行くほど直径が広くなる傾斜面２３０が案内溝２２０の周囲の全体に形成される。このような傾斜面２３０は、クオーツチューブ４００をクオーツチューブ案内リング２００の案内溝２２０に位置させる場合にクオーツチューブ４００が傾斜面２３０に沿って上部から下方で自然に滑って下り案内溝２２０の内部の正しい位置に位置するように案内する役目をする。

さらに、本実施形態に係るクオーツチューブ案内リング一体型のマニホールドは、図７のステップＳ１３０において連結片３００がクオーツチューブ案内リング２００の各嵌合部２１０の間に連結されている状態で、連結片３００とクオーツチューブ案内リング２００とが溶接によって一体に固定されるとともに、マニホールド本体１００に一体に固定されることで、マニホールドの内部で揺れなく固定設置される。

図５を参照すれば、マニホールドの内部に設置された各連結片３００とクオーツチューブ案内リング２００とにおいて、各連結片３００と各係止突起１１０の連結部品、各連結片３００とクオーツチューブ案内リング２００の連結部品、そして各連結片３００またはクオーツチューブ案内リング２００とマニホールド本体１００の内周面との間の連結部品を溶接によってそれぞれ一体に固定結合する（図７のステップＳ１４０）。

ここで、マニホールド、連結片、クオーツチューブ案内リングはステンレススチール（ＳＵＳ）の材質で製作される。そして、この溶接には、ステンレススチールの材質の溶接母材を利用するレーザー溶接が使われる。

このとき、レーザー溶接は、所定の溶接時間と空冷時間を置いて３回連続して遂行される。より詳細には、１回目の溶接の溶接時間と空冷時間はそれぞれ３時間、２回目の溶接の溶接時間と空冷時間はそれぞれ２時間、３回目の溶接の溶接時間と空冷時間はそれぞれ１時間と３時間である。

また、１回目の溶接の溶接厚さと溶接深度は２．２６ｍｍと２．２９ｍｍ、上記２回目の溶接の溶接厚さと溶接深度は１．２７ｍｍと１．２７ｍｍ、上記３回目の溶接の溶接厚さと溶接深度は０．５１ｍｍと０．４３ｍｍである。

このように本実施形態によれば、図８に示すように、レーザー溶接において順次に遂行される溶接時間、空冷時間、溶接厚さ、及び溶接深度によって溶接の製品に対する接続面積を最小化することで、変形を防止して微細な精密溶接が可能となる。これにより、各構成の結合部位が滑らかになって外観上の美的品質の向上はもちろん、クオーツチューブが案内されるクオーツチューブ案内リングの案内面の平坦度を高めることができる。

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

１００ マニホールド本体
１１０ 係止突起
１２０ フランジ部
２００ クオーツチューブ案内リング
２１０ 嵌合部
２２０ 案内溝
２３０ 傾斜面
３００ 連結片
４００ クオーツチューブ

Claims (9)

1. 半導体製造工程で反応チャンバの下端部に設置され、前記反応チャンバにガスを供給・排気するマニホールドにおいて、
   マニホールド本体と、
   リング形状で前記マニホールド本体の内周面に同心円状に水平設置されて前記反応チャンバの内部に設置されるクオーツチューブが案内される案内面を提供し、外周面に所定の間隔を置いて突出して形成された複数個の嵌合部を具備するクオーツチューブ案内リングと、
   前記マニホールド本体の内周面に周囲方向に具備されて前記クオーツチューブ案内リングが設置される案内面を提供するフランジ部と、
   前記マニホールド本体の内周面の前記フランジ部上側に前記フランジ部に所定の高さで前記クオーツチューブ案内リングの各嵌合部に対応する個数で所定の間隔を置いて複数個形成され、前記フランジ部の上面に案内された前記クオーツチューブ案内リングが所定の角度で回転されることによって前記クオーツチューブ案内リングの嵌合部が水平方向で挟まれる空間を提供する複数個の係止突起と、
   前記クオーツチューブ案内リングの各嵌合部が前記フランジ部と各係止突起との間の空間に挟まれた状態で前記各嵌合部の間を連結し、前記嵌合部が形成されないクオーツチューブ案内リングの外周面と前記係止突起が形成されないマニホールド本体の内周面との間の空間を補う複数個の連結片と、
   を備え、
   前記マニホールド本体のフランジ部に設置されたクオーツチューブ案内リングと複数個の連結片とが前記マニホールド本体に溶接によって一体に固定設置されることを特徴とする、マニホールド。
2. 前記クオーツチューブ案内リングの嵌合部と前記マニホールド本体の内周面に形成された前記係止突起とは、それぞれ等しい円弧長さを有する弧形状で形成され、
   前記連結片は、前記クオーツチューブ案内リングの各嵌合部の間の空間を埋めて全体を連結する円弧長さを有する弧形状で形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のマニホールド。
3. 前記クオーツチューブ案内リングの一面には、周囲方向の全体に所定の深さだけ窪んだ案内溝が形成されており、前記クオーツチューブの下端面が前記案内溝に案内されることを特徴とする、請求項１に記載のマニホールド。
4. 前記案内溝の上端には、開口端側に向かうほど直径が広くなる傾斜面が前記案内溝の周囲方向の全体に形成されており、
   前記クオーツチューブを前記クオーツチューブ案内リングの案内溝に位置したとき前記クオーツチューブが前記傾斜面に沿って前記案内溝に位置されることを特徴とする、請求項３に記載のマニホールド。
5. 前記マニホールド本体と、前記クオーツチューブ案内リングと、前記連結片とは、ステンレススチールで製作されることを特徴とする、請求項１に記載のマニホールド。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載のマニホールドの製造方法において、
   前記クオーツチューブ案内リングの各嵌合部が前記マニホールドの各係止突起に干渉されない方向で前記クオーツチューブ案内リングを上方から下方へ前記マニホールドのフランジ部に案内させる段階と、
   前記クオーツチューブ案内リングが前記マニホールドのフランジ部に案内された状態で前記クオーツチューブ案内リングを所定の角度で水平回転させて前記クオーツチューブ案内リングの各嵌合部が前記フランジ部と係止突起との間に挟まれる段階と、
   前記クオーツチューブ案内リングの嵌合部が前記フランジ部と係止突起との間に挟まれた状態で、前記各連結片で前記クオーツチューブ案内リングの各嵌合部間の空間を連結する段階と、
   前記各連結片で前記クオーツチューブ案内リングの各嵌合部間の空間が連結された状態で、前記各連結片とクオーツチューブ案内リングとが溶接によってマニホールドに一体に固定結合される段階と、
   を含むことを特徴とする、マニホールド製造方法。
7. 前記溶接は、ステンレススチールを溶接母材として利用するレーザー溶接であることを特徴とする、請求項６に記載のマニホールド製造方法。
8. 前記レーザー溶接は、所定の溶接時間と空冷時間を置いて３回連続して遂行されることを特徴とする、請求項７に記載のマニホールド製造方法。
9. １回目の溶接の溶接厚さと溶接深度は２．２６ｍｍと２．２９ｍｍ、２回目の溶接の溶接厚さと溶接深度は１．２７ｍｍと１．２７ｍｍ、３回目の溶接の溶接厚さと溶接深度は０．５１ｍｍと０．４３ｍｍであることを特徴とする、請求項８に記載のマニホールド製造方法。