JP2013222960A - Structure of via hole of electrical circuit board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電気回路基板のビアホールの分野に関し、特に、電気回路基板のビアホールの構造に関する。 The present invention relates to the field of via holes in electrical circuit boards, and more particularly to the structure of via holes in electrical circuit boards.
プリント基板(PCB)は、不可欠な電子部品であり、電子装置と部品の支持体でもあり、電子部品の配線の接続を提供する役割を果たしている。従来の回路基板は、エッチングレジストを印刷するプロセスを適用して、回路の配線とパターンを作製するため、プリント基板又はプリント配線基板と呼ばれる。電子工学製品は、より小型で精巧になってきており、今日の回路基板の殆どは、レジスト(薄膜又はコーティング)を付着して作製され、その後露光及び現像されて、次にエッチングされて、回路基板の製造が終了する。 A printed circuit board (PCB) is an indispensable electronic component, is also a support body for the electronic device and the component, and plays a role of providing connection of wiring of the electronic component. A conventional circuit board is called a printed board or a printed wiring board because a circuit wiring and a pattern are produced by applying a process of printing an etching resist. Electronics products are becoming smaller and more sophisticated, and most of today's circuit boards are made by applying a resist (thin film or coating), then exposed and developed, then etched, The production of the substrate is completed.
回路基板のビアホールを作製するために従来採用されているプロセスは、最初に、上下銅箔層と粘着層を有するキャリア基板を設けるものである。次に、穴開け加工が行われ、導電カバー部が電気メッキされる。その後、キャリア基板は、複数のエッチング領域を形成するために、ドライフィルムのコーティング、露光、現像、エッチングされる。最後に、薄膜が、エッチングされたキャリア基板に塗布される。 A process conventionally employed for producing a via hole in a circuit board is to first provide a carrier substrate having upper and lower copper foil layers and an adhesive layer. Next, drilling is performed and the conductive cover portion is electroplated. The carrier substrate is then coated with dry film, exposed, developed and etched to form a plurality of etched regions. Finally, a thin film is applied to the etched carrier substrate.
しかしながら、回路基板のビアホールを作製する従来のプロセスでは、まず穴開けを行い、電気メッキとエッチングはその後に行われる。加工の流れは、単純であるが、以下の短所を被ることが多い。
(1)キャリア基板の厚さは不均一で、そのために微細な配線加工の歩留まり率が悪くなる。
(2)不純物が、電気メッキのプロセスで発生することがあり、そのために画像転写及びエッチング加工の歩留まり率が低下する。
(3)キャリア基板のサイズ安定性が悪化し、そのために露光の位置合わせが不正確になる。
(4)キャリア基板の構造が変えられ、そのために柔軟性が低下し易くなる。
その結果、更なる改善が、回路基板のビアホールの構造を作製する既知のプロセスに対して、行われ得る。
However, in a conventional process for producing a via hole in a circuit board, first a hole is drilled and then electroplating and etching are performed. The flow of processing is simple, but often suffers from the following disadvantages.
(1) The thickness of the carrier substrate is not uniform, and therefore the yield rate of fine wiring processing is deteriorated.
(2) Impurities may be generated in the electroplating process, which decreases the yield rate of image transfer and etching.
(3) The size stability of the carrier substrate is deteriorated, so that the alignment of exposure becomes inaccurate.
(4) The structure of the carrier substrate can be changed, and the flexibility tends to decrease.
As a result, further improvements can be made to the known processes for making circuit board via hole structures.
上記に鑑み、本発明の第1の目的は、電気回路基板のビアホールの構造を提供することである。 In view of the above, a first object of the present invention is to provide a via hole structure of an electric circuit board.
電気回路基板のビアホールに関する従来の製造プロセスと比べて、本発明には、以下の利点がある。
(1)エッチングを直接原料に施すため、歩留まり率が大いに改善される。
(2)不純物の問題が、製造プロセスで全く起こらない。
(3)使用される材料は、安定性に優れる。
(4)ビアホールメッキ領域の構造的変化を除いて、基板の材料は、大幅に変化されない。
(5)基板上の回路トレースの密度が、高められる。
Compared with the conventional manufacturing process related to the via hole of the electric circuit board, the present invention has the following advantages.
(1) Since the etching is directly performed on the raw material, the yield rate is greatly improved.
(2) The problem of impurities does not occur at all in the manufacturing process.
(3) The material used is excellent in stability.
(4) Except for the structural change of the via hole plating region, the material of the substrate is not significantly changed.
(5) The density of circuit traces on the substrate is increased.
図面、特に図1〜図6を参照すると、概して参照番号100で表される、本発明の第1実施形態によるキャリア基板は、片面基板である。第1基板11は、第1基板上面11aと第1基板下面11bを有する。第1基板上面11aには、少なくとも1つの上回路トレース21を形成する。上回路トレース21は、離間区域210だけ離間される。
With reference to the drawings, in particular FIGS. 1 to 6, the carrier substrate according to the first embodiment of the present invention, generally denoted by
上粘着層31は、上回路トレース21の表面上に形成される。上粘着層31は、上回路トレース21の表面を完全に被覆してもよい、又は上粘着層31の部分領域を局所的に被覆してもよい。上粘着層31で被覆されない上回路トレース21の表面は、上回路トレース露光区域211として規定され、表面実装型デバイス(SMD)又はゴールドフィンガ用の露出接点としての役割を果たす。
The upper
上導体層41は、上粘着層31の表面上に形成される。上導体層41は、縦方向Iに、上回路トレース21の上回路トレース露光区域211に対して第1高低差h1(図3に示されるように)を示す。下導体層42は、第1基板11の第1基板下面11b上に形成される。
The
図4で示されるように、少なくとも1つのスルーホール5が、縦方向Iに、上導体層41、上粘着層31、上回路トレース21、第1基板11、下導体層42を通り延在しており、スルーホール壁面51を形成する。
As shown in FIG. 4, at least one through
図5で示されるように、導電性カバー部6は、上導体層41の上面、下導体層42の下面、スルーホール5のスルーホール壁面51を被覆する。導電性カバー部6は、ドライフィルムのコーティング、露光、現像、エッチングを含むプロセスによって、形成されてもよい。導電性カバー部6は、銅、銀、金又はそれらの組合せから選択される導電材料を含む。
As shown in FIG. 5, the
図6に示されるように、スルーホール5と隣接する部分を除く導電性カバー部6の部分、スルーホール5と隣接する部分を除く上導体層41の部分、スルーホール5と隣接する部分を除く下導体層42の部分は、既知のエッチング技術で除去されるか、又は部分的に残存される。
As shown in FIG. 6, the portion of the
上導体層41、上回路トレース21、下導体層42は、導電性カバー部6を通して互いに電気的に接続される。
The
本実施形態では、第1基板11は、キャリア基板としての役割を果たす片面基板であり、その代わりに、キャリア基板は、片面基板と片面基板の組合せ、片面基板と両面基板の組合せ、両面基板と両面基板の組合せ、及び多層基板で実現されることができる。
In the present embodiment, the
図7乃至図13を参照する。概して参照番号200で表される、本発明の第2実施形態によるキャリア基板は、両面基板である。
Please refer to FIG. 7 to FIG. The carrier substrate according to the second embodiment of the present invention, generally represented by
図7に示されるように、第1両面基板12は、両面基板上面12aと両面基板下面12bを有し、其々には、少なくとも1つの上回路トレース21と少なくとも1つの下回路トレース22を形成する。上回路トレース21は、離間区域210だけ離間され、下回路トレース22は、離間区域220だけ離間される。上回路トレース21は、少なくとも1つの上回路トレース露光区域211を含み、下回路トレース22は、選択的に、少なくとも1つの下回路トレース露光区域221を含む。
As shown in FIG. 7, the first double-
図8及び図9で示されるように、上粘着層31は、上回路トレース21の表面上に形成される。下粘着層32は、下回路トレース22の表面上に形成される。上導体層41は、上粘着層31の表面上に形成される。上導体層41は、縦方向Iに、上回路トレース21の上回路トレース露光区域211に対して第1高低差h1を示す。
As shown in FIGS. 8 and 9, the
下導体層42は、下粘着層32の表面上に形成される。下導体層42は、縦方向Iに、下回路トレース22の下回路トレース露光区域221に対して第2高低差h2を示す。
The
図10で示されるように、少なくとも1つのスルーホール5は、縦方向Iに、上導体層41、上粘着層31、上回路トレース21、第1両面基板12、下回路トレース22、下粘着層32、下導体層42を通して、延在する。このスルーホール5は、スルーホール壁面51を形成する。
As shown in FIG. 10, at least one through
図11で示されるように、導電性カバー部6は、上導体層41の上面、下導体層42の下面、スルーホール5のスルーホール壁面51を被覆する。
As shown in FIG. 11, the
図12で示されるように、スルーホール5と隣接する部分を除く導電性カバー部6の部分、スルーホール5と隣接する部分を除く上導体層41の部分は、既知のエッチング技術により除去されるか、或いは部分的に残存される。
As shown in FIG. 12, the portion of the
図13に示されるように、スルーホール5と隣接する部分を除く導電性カバー部6の部分、スルーホール5と隣接する部分を除く下導体層42の部分は、既知のエッチング技術により除去されるか、或いは部分的に残存される。
As shown in FIG. 13, the portion of the
図14は、概して参照番号300で表される、2枚の片面基板を含む、本発明の第3実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。図面で示されるように、キャリア基板300は、第1基板上面11aと第1基板下面11bを有する少なくとも1枚の第1基板11を含み、少なくとも1つの上回路トレース21が、第1基板上面11a上に形成される。少なくとも1枚の第2基板13は、第2基板上面13aと第2基板下面13bを有し、第2基板上面13aは、接着層71によって、第1基板11の第1基板下面11bに接着される。少なくとも1つの下回路トレース22は、第2基板下面13b上に形成される。接着層71は、接着と絶縁という物性を示す。
第3実施形態のキャリア基板300は、第1実施形態のキャリア基板100と置き換えることができ、図2乃至図6で説明された製造プロセスは、第3実施形態のキャリア基板に適用されて、2枚の片面基板から成る電気回路基板ビアホールの構造を形成できる。
FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a third embodiment of the present invention, including two single-sided substrates, generally indicated by
The
図15は、概して参照番号400で表される、3枚の片面基板を含む、本発明の第4実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。第4実施形態の一般的な構造は、図14のものと同様であるが、少なくとも1枚の第3基板14と接着層71、72は、第2基板13の第2基板上面13aと第1基板11の第1基板下面11bとの間に配設される。第3基板14は、その上に少なくとも1つの中間回路トレース23が形成される表面を有する。
FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a fourth embodiment of the present invention that includes three single-sided substrates, generally designated by the
図16は、概して参照番号500で表される、2枚の片面基板と1枚の両面基板を含む、本発明の第5実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。
第5実施形態のキャリア基板は、第1基板上面11aと第1基板下面11bを有する第1基板11を含み、少なくとも1つの上回路トレース21が、第1基板上面11a上に形成される。第2基板13は、第2基板上面13aと第2基板下面13bを有し、少なくとも1つの下回路トレース22が、第2基板下面13b上に形成される。
FIG. 16 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a fifth embodiment of the present invention, including two single-sided substrates and one double-sided substrate, generally designated by the
The carrier substrate of the fifth embodiment includes a
少なくとも1枚の第1両面基板12は、第2基板13の第2基板上面13aと、第1基板11の第1基板下面11bとの間に配設される。第1両面基板12は、両面基板上面12aと両面基板下面12bを有し、これらの面其々には、少なくとも1つの中間回路トレース23a、23bを形成する。両面基板上面12aは、接着層71によって、第1基板11の第1基板下面11bに接着され、第1両面基板12bは、接着層72によって、第2基板13の第2基板上面13aに接着される。
At least one first double-
図17は、概して参照番号600で表される、1枚の片面基板と1枚の両面基板を含む、本発明の第6実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。第6実施形態のキャリア基板は、第1基板上面11aと第1基板下面11bを有する第1基板11を含み、少なくとも1つの上回路トレース21が、第1基板上面11a上に形成される。
少なくとも1枚の第1両面基板12は、両面基板上面12aと両面基板下面12bを有する。両面基板上面12aは、接着層71によって、第1基板11の第1基板下面11bに接着される。少なくとも1つの下回路トレース22は、両面基板下面12b上に形成される。少なくとも1つの中間回路トレース23は、第1両面基板12の両面基板上面12a上に形成される。
FIG. 17 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a sixth embodiment of the present invention, including a single-sided substrate and a single-sided double-sided substrate, generally designated by the
At least one first double-
図18は、概して参照番号700で表される、2枚の両面基板を含む、本発明の第7実施形態によるキャリア基板を示す断面図であり、図19は、完全に組立てられた後の第7実施形態を示す断面図である。キャリア基板700は、両面基板上面12aと両面基板下面12bを有する、第1両面基板12を含み、少なくとも1つの上回路トレース21が、両面基板上面12a上に形成される。少なくとも1枚の第2両面基板15は、両面基板上面15aと両面基板下面15bを有する。第2両面基板上面15aは、接着層71によって、第1両面基板12の両面基板下面12bに接着される。
少なくとも1つの下回路トレース22は、第2両面基板15の両面基板下面15b上に形成される。少なくとも1つの第1両面基板の中間回路トレース23cは、第1両面基板12の両面基板下面12b上に形成される。少なくとも1つの第2両面基板中間回路トレース23dは、第2両面基板15の両面基板上面15a上に形成される。
FIG. 18 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a seventh embodiment of the present invention, including two double-sided substrates, generally designated by the
At least one
図19を参照する。組立て後に、上粘着層31は、第1両面基板12の上回路トレース21の少なくとも部分領域上に形成され、上粘着層31によって被覆されない上回路トレース21の部分は、上回路トレース露光区域211として規定される。上導体層41は、上粘着層31の上面上に形成される。上導体層41は、縦方向Iに、上回路トレース露光区域211に対して第1高低差h1を示す。
Refer to FIG. After the assembly, the
下粘着層32は、第2両面基板15の下回路トレース22の少なくとも部分領域上に形成され、下粘着層32によって被覆されない下回路トレース22の部分は、下回路トレース露光区域221として規定される。下導体層42は、下粘着層32の下面上に形成される。下導体層42は、縦方向Iに、下回路トレース露光区域221に対して第2高低差h2を示す。
The lower
少なくとも1つのスルーホール5は、縦方向Iに、上導体層41、上粘着層31、上回路トレース21、第1両面基板12、第1両面基板の中間回路トレース23c、接着層71、第2両面基板の中間回路トレース23d、第2両面基板15、下回路トレース22、下粘着層32、下導体層42を通り延在し、スルーホール壁面51を形成する。
導電性カバー部6は、スルーホール5のスルーホール壁面51、スルーホール5に隣接する第1両面基板12の上導体層41の部分領域、スルーホール5と隣接する第2両面基板15の下導体層42の部分領域を被覆する。
At least one through
The
実用化する際には、スルーホール5は、所望に応じて、上回路トレース21、下回路トレース22、第1両面基板の中間回路トレース23c、第2両面基板の中間回路トレース23dに、選択的に電気的に接続されることができる。
In practical use, the through-
図20は、概して参照番号800で表される、1枚の片面基板と1枚の両面基板を含む、本発明の第8実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。図面で示されるように、第8実施形態のキャリア基板は、少なくとも1枚の第1基板11と1枚の第1両面基板12を含む。第1両面基板12は、埋込孔8を含む。
埋込孔8は、図13に示されたスルーホール5の構造と似た構造を有するが、埋込孔8は、第1基板11と第1両面基板12を接着する前に、事前に形成される。第1両面基板12は、中間回路トレース24としての役割を果たす上回路トレースを形成する上面を有する。第1両面基板12は、少なくとも1つの下回路トレース22を形成する下面を有する。第1基板11は、少なくとも1つの上回路トレース21を形成する上面11aを有する。第1両面基板12と第1基板11は、接着層73によって互いに接着される。
FIG. 20 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to an eighth embodiment of the present invention, including a single-sided substrate and a double-sided substrate, generally designated by the
The buried hole 8 has a structure similar to the structure of the through
第1基板11と第1両面基板12は、接着層73によって纏めて接着された後、スルーホールを作製するために、上記のような製造プロセスが、埋込孔8からシフトした位置で、実行される。これにより、埋込孔と中間回路トレース層を含む3層の電気回路基板の構造が完成して、本発明によるキャリア基板として機能するようになる。
After the
本実施形態では、キャリア基板800を形成するために、片面基板が、接着層73によって、事前に埋込孔8が形成された両面基板に接着される。キャリア基板800は、従って、第1実施形態のキャリア基板100と置換えて、図2〜図6で説明した製造プロセスを、第1両面基板12の埋込孔8からシフトした位置で、行ってもよい。これにより、埋込孔と中間回路トレース層を含む電気回路基板のビアホールの構造が完成する。
In the present embodiment, in order to form the
図21は、概して参照番号900で表される、2枚の両面基板を含む、本発明の第9実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。図面で示されるように、第9実施形態のキャリア基板は、予め埋込孔8a、8bを其々形成した少なくとも2枚の両面基板12、15を含む。
第1両面基板12は、少なくとも1つの中間回路トレース24を形成する両面基板上面12aを有する。両面基板は、少なくとも1つの下回路トレース22を形成する両面基板下面12bを有する。第2両面基板15は、少なくとも1つの中間回路トレース25を形成する両面基板下面15bと少なくとも1つの上回路トレース21を形成する両面基板上面15aを有する。2枚の両面基板12、15は、接着層74によって互いに接着される。
FIG. 21 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a ninth embodiment of the present invention that includes two double-sided substrates, generally designated by the
The first double-
2枚の両面基板12、15が接着層74によって纏めて接着された後に、上述したスルーホールに関する製造プロセスが、埋込孔と中間回路トレース層を有する4層の電気回路基板の構造を完成して、本発明のキャリア基板として機能させるために、行われることができる。
本実施形態では、予め埋込孔を形成した2枚の両面基板12、15は、接着層74によって纏めて接着されて、キャリア基板900を形成する。従って、キャリア基板900は、第1実施形態のキャリア基板100と置換えて、図2〜図6で説明した製造プロセスを、埋込孔と中間回路トレース層を含む電気回路基板のビアホールの構造を完成するように、埋込孔の位置を避けて行ってもよい。
After the two double-
In the present embodiment, the two double-
図22は、概して参照番号901で表される、1枚の両面基板と2枚の片面基板を含む、本発明の第10実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。図面で示されるように、第10実施形態のキャリア基板は、予め形成された埋込孔8を含む少なくとも1枚の第1両面基板12を含む。第1両面基板12は、両面基板上面12aと両面基板下面12bを有し、これらの面には其々、少なくとも1つの中間回路トレース24、26を形成し、其々を接着層75、76によって、第1基板11と第2基板13に接着される。第1基板11と第2基板13は、いずれも片面基板である。第1基板11は、少なくとも1つの上回路トレース21を形成する上面11aを有し、第2基板13は少なくとも1つの下回路トレース22を形成する下面13bを有する。
FIG. 22 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a tenth embodiment of the present invention, including one double-sided substrate and two single-sided substrates, generally designated by
第1両面基板12と第1基板11及び第2基板13が、互いに接着層75、76によって接着された後に、図2〜図6で説明した製造プロセスが、埋込孔と中間回路トレース層を含む4層の電気回路基板の構造を完成して、本発明によるキャリア基板として機能させるために、第1両面基板12の埋込孔8を避ける位置で、行われる。
After the first double-
上記実施形態から、以下が理解される。本発明では、1枚又は複数枚の片面基板及び両面基板又は多層基板を組合せて、様々な構造のキャリア基板を形成し、片面基板、両面基板、多層基板は、フレキシブル回路基板、リジッド回路基板、及びフレキシブル基板とリジット基板の複合基板等の、異なる特性の回路基板とすることができる。また、様々な実施形態が、本発明に従い、ビアホールの構造と製造プロセスを組合せて、作製することができる。 The following is understood from the above embodiment. In the present invention, one or a plurality of single-sided substrates and double-sided substrates or multilayer substrates are combined to form carrier substrates having various structures. The single-sided substrates, double-sided substrates, and multilayer substrates are flexible circuit boards, rigid circuit boards, In addition, a circuit board having different characteristics such as a composite board of a flexible board and a rigid board can be obtained. Various embodiments can also be made in accordance with the present invention, combining via hole structures and manufacturing processes.
Claims (19)
前記第1基板上面上に形成される、少なくとも1つの上回路トレースと、
前記上回路トレースの少なくとも部分領域上に形成される上粘着層であって、該上粘着層によって被覆されない前記上回路トレースの部分が、上回路トレース露光区域を形成する、上粘着層と、
前記上粘着層上に形成される上導体層であって、縦方向に、前記上回路トレース露光区域に対して第1高低差を示す、上導体層と、
前記第1基板下面上に形成される下導体層と、
前記縦方向に、前記上導体層、前記上粘着層、前記上回路トレース、前記第1基板、前記下導体層を通り延在し、スルーホール壁面を形成する、少なくとも1つのスルーホールと、
前記スルーホールの前記スルーホール壁面、前記スルーホールに隣接する前記上導体層の部分領域、前記スルーホールに隣接する前記下導体層の部分領域を被覆する、導電性カバー部とを含む、
電気回路基板。 A first substrate comprising a single-sided substrate having a first substrate upper surface and a first substrate lower surface;
At least one upper circuit trace formed on the top surface of the first substrate;
An upper adhesive layer formed on at least a partial region of the upper circuit trace, wherein a portion of the upper circuit trace not covered by the upper adhesive layer forms an upper circuit trace exposure area; and
An upper conductor layer formed on the upper adhesive layer, wherein the upper conductor layer shows a first height difference with respect to the upper circuit trace exposure area in the longitudinal direction; and
A lower conductor layer formed on the lower surface of the first substrate;
At least one through hole extending in the vertical direction through the upper conductor layer, the upper adhesive layer, the upper circuit trace, the first substrate, the lower conductor layer, and forming a through hole wall surface;
A conductive cover portion covering the through hole wall surface of the through hole, a partial region of the upper conductor layer adjacent to the through hole, and a partial region of the lower conductor layer adjacent to the through hole;
Electric circuit board.
前記第1両面基板上面上に形成される、少なくとも1つの上回路トレースと、
前記上回路トレースの少なくとも部分領域上に形成される上粘着層であって、該上粘着層によって被覆されない前記上回路トレースの部分が、上回路トレース露光区域を形成する、上粘着層と、
前記上粘着層上に形成される上導体層であって、縦方向に、前記上回路トレース露光区域に対して第1高低差を示す、上導体層と、
前記第1両面基板下面上に形成される、少なくとも1つの下回路トレースと、
前記下回路トレースの少なくとも部分領域上に形成される、下粘着層と、
前記下粘着層上に形成される、下導体層と、
前記縦方向に、前記上導体層、前記粘着層、前記上回路トレース、前記第1両面基板、前記下回路トレース、前記下粘着層、前記下導体層を通り延在し、スルーホール壁面を形成する、少なくとも1つのスルーホールと、
前記スルーホールの前記スルーホール壁面、前記スルーホールに隣接する前記上導体層の部分領域、前記スルーホールに隣接する前記下導体層の部分領域を被覆する、導電性カバー部とを含む、
電気回路基板。 A first double-sided substrate having a first double-sided substrate upper surface and a first double-sided substrate lower surface;
At least one upper circuit trace formed on the upper surface of the first double-sided substrate;
An upper adhesive layer formed on at least a partial region of the upper circuit trace, wherein a portion of the upper circuit trace not covered by the upper adhesive layer forms an upper circuit trace exposure area; and
An upper conductor layer formed on the upper adhesive layer, wherein the upper conductor layer shows a first height difference with respect to the upper circuit trace exposure area in the longitudinal direction; and
At least one lower circuit trace formed on the lower surface of the first double-sided substrate;
A lower adhesive layer formed on at least a partial region of the lower circuit trace;
A lower conductor layer formed on the lower adhesive layer;
Extending in the vertical direction through the upper conductor layer, the adhesive layer, the upper circuit trace, the first double-sided substrate, the lower circuit trace, the lower adhesive layer, and the lower conductor layer to form a through-hole wall surface At least one through hole;
A conductive cover portion covering the through hole wall surface of the through hole, a partial region of the upper conductor layer adjacent to the through hole, and a partial region of the lower conductor layer adjacent to the through hole;
Electric circuit board.
前記第1両面基板上面上に形成される、少なくとも1つの上回路トレースと、
前記上回路トレースの少なくとも部分領域上に形成される上粘着層であって、該上粘着層によって被覆されない前記上回路トレースの部分が、上回路トレース露光区域を形成する、上粘着層と、
前記上粘着層上に形成される上導体層であって、縦方向に、前記上回路トレース露光区域に対して第1高低差を示す、上導体層と、
前記第1両面基板下面上に形成される、少なくとも1つの第1両面中間回路トレースと、
第2両面基板上面と第2両面基板下面を有する、第2両面基板と、
前記第2両面基板下面上に形成される、少なくとも1つの下回路トレースと、
前記下回路トレースの少なくとも部分領域上に形成される、下粘着層であって、該下粘着層によって被覆されない前記下回路トレースの部分が、下回路トレース露光区域を形成する、下粘着層と、
前記下粘着層上に形成される下導体層であって、該下導体層は、前記縦方向に、前記下回路トレース露光区域に対して、第2高低差を示す、下導体層と、
前記第2両面基板上面上に形成される、少なくとも1つの第2両面基板の中間回路トレースと、
前記第1両面基板下面と前記第2両面基板上面との間に挿入される接着層と、
前記縦方向に、前記上導体層、前記上粘着層、前記上回路トレース、前記接着層、前記下回路トレース、前記下粘着層、前記下導体層を通り延在し、スルーホール壁面を形成する、少なくとも1つのスルーホールと、
前記スルーホールの前記スルーホール壁面、前記スルーホールに隣接する前記第1両面基板の前記上導体層の部分領域、前記スルーホールに隣接する前記第2両面基板の前記下導体層の部分領域を被覆する、導電性カバー部とを含む、
電気回路基板。 A first double-sided substrate having a first double-sided substrate upper surface and a first double-sided substrate lower surface;
At least one upper circuit trace formed on the upper surface of the first double-sided substrate;
An upper adhesive layer formed on at least a partial region of the upper circuit trace, wherein a portion of the upper circuit trace not covered by the upper adhesive layer forms an upper circuit trace exposure area; and
An upper conductor layer formed on the upper adhesive layer, wherein the upper conductor layer shows a first height difference with respect to the upper circuit trace exposure area in the longitudinal direction; and
At least one first double-sided intermediate circuit trace formed on the lower surface of the first double-sided substrate;
A second double-sided substrate having a second double-sided substrate upper surface and a second double-sided substrate lower surface;
At least one lower circuit trace formed on the lower surface of the second double-sided substrate;
A lower adhesive layer formed on at least a partial region of the lower circuit trace, wherein a portion of the lower circuit trace not covered by the lower adhesive layer forms a lower circuit trace exposure area; and
A lower conductor layer formed on the lower adhesive layer, the lower conductor layer showing a second height difference with respect to the lower circuit trace exposure area in the longitudinal direction; and
An intermediate circuit trace of at least one second double-sided substrate formed on the top surface of the second double-sided substrate;
An adhesive layer inserted between the lower surface of the first double-sided substrate and the upper surface of the second double-sided substrate;
In the vertical direction, the upper conductor layer, the upper adhesive layer, the upper circuit trace, the adhesive layer, the lower circuit trace, the lower adhesive layer, and the lower conductor layer are extended to form a through-hole wall surface. At least one through hole;
Covers the through hole wall surface of the through hole, the partial region of the upper conductor layer of the first double-sided substrate adjacent to the through hole, and the partial region of the lower conductor layer of the second double-sided substrate adjacent to the through hole. Including a conductive cover portion,
Electric circuit board.
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