JP2013222960A - Structure of via hole of electrical circuit board - Google Patents

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蘇國富
Gwun-Jin Lin
林崑津
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure of a via hole of an electrical circuit board.SOLUTION: A structure of a via hole of an electrical circuit board comprises: an adhesive layer and a conductor layer that are formed after wiring is formed on a carrier board. At least one through hole extends in a vertical direction through the carrier board, the wiring, the adhesive layer, and the conductor layer and forms a hole wall surface. The conductor layer shows a height difference with respect to an exposed zone of a circuit trace in the vertical direction. A conductive cover section covers the conductor layer and the hole wall surface of the through hole. The carrier board is a single-sided board, a double-sided board, a multi-layered board, or a combination thereof, and the single-sided board, the double-sided board, and the multi-layered board can be flexible boards, rigid boards, or composite boards combining flexible and rigid boards.

Description

本発明は、電気回路基板のビアホールの分野に関し、特に、電気回路基板のビアホールの構造に関する。   The present invention relates to the field of via holes in electrical circuit boards, and more particularly to the structure of via holes in electrical circuit boards.

プリント基板(PCB)は、不可欠な電子部品であり、電子装置と部品の支持体でもあり、電子部品の配線の接続を提供する役割を果たしている。従来の回路基板は、エッチングレジストを印刷するプロセスを適用して、回路の配線とパターンを作製するため、プリント基板又はプリント配線基板と呼ばれる。電子工学製品は、より小型で精巧になってきており、今日の回路基板の殆どは、レジスト(薄膜又はコーティング)を付着して作製され、その後露光及び現像されて、次にエッチングされて、回路基板の製造が終了する。   A printed circuit board (PCB) is an indispensable electronic component, is also a support body for the electronic device and the component, and plays a role of providing connection of wiring of the electronic component. A conventional circuit board is called a printed board or a printed wiring board because a circuit wiring and a pattern are produced by applying a process of printing an etching resist. Electronics products are becoming smaller and more sophisticated, and most of today's circuit boards are made by applying a resist (thin film or coating), then exposed and developed, then etched, The production of the substrate is completed.

回路基板のビアホールを作製するために従来採用されているプロセスは、最初に、上下銅箔層と粘着層を有するキャリア基板を設けるものである。次に、穴開け加工が行われ、導電カバー部が電気メッキされる。その後、キャリア基板は、複数のエッチング領域を形成するために、ドライフィルムのコーティング、露光、現像、エッチングされる。最後に、薄膜が、エッチングされたキャリア基板に塗布される。   A process conventionally employed for producing a via hole in a circuit board is to first provide a carrier substrate having upper and lower copper foil layers and an adhesive layer. Next, drilling is performed and the conductive cover portion is electroplated. The carrier substrate is then coated with dry film, exposed, developed and etched to form a plurality of etched regions. Finally, a thin film is applied to the etched carrier substrate.

しかしながら、回路基板のビアホールを作製する従来のプロセスでは、まず穴開けを行い、電気メッキとエッチングはその後に行われる。加工の流れは、単純であるが、以下の短所を被ることが多い。
(1)キャリア基板の厚さは不均一で、そのために微細な配線加工の歩留まり率が悪くなる。
(2)不純物が、電気メッキのプロセスで発生することがあり、そのために画像転写及びエッチング加工の歩留まり率が低下する。
(3)キャリア基板のサイズ安定性が悪化し、そのために露光の位置合わせが不正確になる。
(4)キャリア基板の構造が変えられ、そのために柔軟性が低下し易くなる。
その結果、更なる改善が、回路基板のビアホールの構造を作製する既知のプロセスに対して、行われ得る。
However, in a conventional process for producing a via hole in a circuit board, first a hole is drilled and then electroplating and etching are performed. The flow of processing is simple, but often suffers from the following disadvantages.
(1) The thickness of the carrier substrate is not uniform, and therefore the yield rate of fine wiring processing is deteriorated.
(2) Impurities may be generated in the electroplating process, which decreases the yield rate of image transfer and etching.
(3) The size stability of the carrier substrate is deteriorated, so that the alignment of exposure becomes inaccurate.
(4) The structure of the carrier substrate can be changed, and the flexibility tends to decrease.
As a result, further improvements can be made to the known processes for making circuit board via hole structures.

上記に鑑み、本発明の第1の目的は、電気回路基板のビアホールの構造を提供することである。   In view of the above, a first object of the present invention is to provide a via hole structure of an electric circuit board.

電気回路基板のビアホールに関する従来の製造プロセスと比べて、本発明には、以下の利点がある。
(1)エッチングを直接原料に施すため、歩留まり率が大いに改善される。
(2)不純物の問題が、製造プロセスで全く起こらない。
(3)使用される材料は、安定性に優れる。
(4)ビアホールメッキ領域の構造的変化を除いて、基板の材料は、大幅に変化されない。
(5)基板上の回路トレースの密度が、高められる。
Compared with the conventional manufacturing process related to the via hole of the electric circuit board, the present invention has the following advantages.
(1) Since the etching is directly performed on the raw material, the yield rate is greatly improved.
(2) The problem of impurities does not occur at all in the manufacturing process.
(3) The material used is excellent in stability.
(4) Except for the structural change of the via hole plating region, the material of the substrate is not significantly changed.
(5) The density of circuit traces on the substrate is increased.

製造プロセスの異なる段階での、本発明の第1実施形態による電気回路基板のビアホールの構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the via hole of the electric circuit board | substrate by 1st Embodiment of this invention in a different step of a manufacturing process. 製造プロセスの異なる段階での、本発明の第1実施形態による電気回路基板のビアホールの構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the via hole of the electric circuit board | substrate by 1st Embodiment of this invention in a different step of a manufacturing process. 製造プロセスの異なる段階での、本発明の第1実施形態による電気回路基板のビアホールの構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the via hole of the electric circuit board | substrate by 1st Embodiment of this invention in a different step of a manufacturing process. 製造プロセスの異なる段階での、本発明の第1実施形態による電気回路基板のビアホールの構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the via hole of the electric circuit board | substrate by 1st Embodiment of this invention in a different step of a manufacturing process. 製造プロセスの異なる段階での、本発明の第1実施形態による電気回路基板のビアホールの構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the via hole of the electric circuit board | substrate by 1st Embodiment of this invention in a different step of a manufacturing process. 完全に組立てられた後の、本発明の第1実施形態を示す断面図である。1 is a cross-sectional view of a first embodiment of the present invention after fully assembled. FIG. 本発明の第2実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the carrier substrate by 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the carrier substrate by 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the carrier substrate by 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the carrier substrate by 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the carrier substrate by 2nd Embodiment of this invention. 完全に組立てられた後の、本発明の第2実施形態を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of a second embodiment of the present invention after it has been fully assembled. 完全に組立てられた後の、本発明の第2実施形態を示す別の断面図である。FIG. 6 is another cross-sectional view showing a second embodiment of the present invention after it is fully assembled. 本発明の第3実施形態によるキャリア基板を示す、分解した形の断面図である。It is sectional drawing of the exploded form which shows the carrier substrate by 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態によるキャリア基板を示す、分解した形の断面図である。FIG. 7 is an exploded sectional view showing a carrier substrate according to a fourth embodiment of the present invention. 本発明の第5実施形態によるキャリア基板を示す、分解した形の断面図である。FIG. 7 is an exploded sectional view showing a carrier substrate according to a fifth embodiment of the present invention. 本発明の第6実施形態によるキャリア基板を示す、分解した形の断面図である。It is sectional drawing of the exploded form which shows the carrier substrate by 6th Embodiment of this invention. 本発明の第7実施形態によるキャリア基板を示す、分解した形の断面図である。It is sectional drawing of the exploded form which shows the carrier substrate by 7th Embodiment of this invention. 完全に組み立てられた後の、本発明の第7実施形態を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a seventh embodiment of the present invention after it is fully assembled. 本発明の第8実施形態によるキャリア基板を示す、分解した形の断面図である。It is sectional drawing of the exploded form which shows the carrier substrate by 8th Embodiment of this invention. 本発明の第9実施形態によるキャリア基板を示す、分解した形の断面図である。It is sectional drawing of the exploded form which shows the carrier substrate by 9th Embodiment of this invention. 本発明の第10実施形態によるキャリア基板を示す、分解した形の断面図である。It is sectional drawing of the exploded form which shows the carrier substrate by 10th Embodiment of this invention.

図面、特に図1〜図6を参照すると、概して参照番号100で表される、本発明の第1実施形態によるキャリア基板は、片面基板である。第1基板11は、第1基板上面11aと第1基板下面11bを有する。第1基板上面11aには、少なくとも1つの上回路トレース21を形成する。上回路トレース21は、離間区域210だけ離間される。   With reference to the drawings, in particular FIGS. 1 to 6, the carrier substrate according to the first embodiment of the present invention, generally denoted by reference numeral 100, is a single-sided substrate. The first substrate 11 has a first substrate upper surface 11a and a first substrate lower surface 11b. At least one upper circuit trace 21 is formed on the first substrate upper surface 11a. Upper circuit traces 21 are separated by a separation area 210.

上粘着層31は、上回路トレース21の表面上に形成される。上粘着層31は、上回路トレース21の表面を完全に被覆してもよい、又は上粘着層31の部分領域を局所的に被覆してもよい。上粘着層31で被覆されない上回路トレース21の表面は、上回路トレース露光区域211として規定され、表面実装型デバイス(SMD)又はゴールドフィンガ用の露出接点としての役割を果たす。   The upper adhesive layer 31 is formed on the surface of the upper circuit trace 21. The upper adhesive layer 31 may completely cover the surface of the upper circuit trace 21 or may partially cover a partial region of the upper adhesive layer 31. The surface of the upper circuit trace 21 that is not covered by the upper adhesive layer 31 is defined as an upper circuit trace exposure area 211 and serves as an exposed contact for a surface mount device (SMD) or gold finger.

上導体層41は、上粘着層31の表面上に形成される。上導体層41は、縦方向Iに、上回路トレース21の上回路トレース露光区域211に対して第1高低差h1(図3に示されるように)を示す。下導体層42は、第1基板11の第1基板下面11b上に形成される。   The upper conductor layer 41 is formed on the surface of the upper adhesive layer 31. The upper conductor layer 41 shows a first height difference h1 (as shown in FIG. 3) in the vertical direction I with respect to the upper circuit trace exposure area 211 of the upper circuit trace 21. The lower conductor layer 42 is formed on the first substrate lower surface 11 b of the first substrate 11.

図4で示されるように、少なくとも1つのスルーホール5が、縦方向Iに、上導体層41、上粘着層31、上回路トレース21、第1基板11、下導体層42を通り延在しており、スルーホール壁面51を形成する。   As shown in FIG. 4, at least one through hole 5 extends in the vertical direction I through the upper conductor layer 41, the upper adhesive layer 31, the upper circuit trace 21, the first substrate 11, and the lower conductor layer 42. The through-hole wall surface 51 is formed.

図5で示されるように、導電性カバー部6は、上導体層41の上面、下導体層42の下面、スルーホール5のスルーホール壁面51を被覆する。導電性カバー部6は、ドライフィルムのコーティング、露光、現像、エッチングを含むプロセスによって、形成されてもよい。導電性カバー部6は、銅、銀、金又はそれらの組合せから選択される導電材料を含む。   As shown in FIG. 5, the conductive cover 6 covers the upper surface of the upper conductor layer 41, the lower surface of the lower conductor layer 42, and the through hole wall surface 51 of the through hole 5. The conductive cover portion 6 may be formed by a process including dry film coating, exposure, development, and etching. The conductive cover portion 6 includes a conductive material selected from copper, silver, gold, or a combination thereof.

図6に示されるように、スルーホール5と隣接する部分を除く導電性カバー部6の部分、スルーホール5と隣接する部分を除く上導体層41の部分、スルーホール5と隣接する部分を除く下導体層42の部分は、既知のエッチング技術で除去されるか、又は部分的に残存される。   As shown in FIG. 6, the portion of the conductive cover portion 6 excluding the portion adjacent to the through hole 5, the portion of the upper conductor layer 41 excluding the portion adjacent to the through hole 5, and the portion adjacent to the through hole 5 are excluded. The portion of the lower conductor layer 42 is removed by a known etching technique or left partially.

上導体層41、上回路トレース21、下導体層42は、導電性カバー部6を通して互いに電気的に接続される。   The upper conductor layer 41, the upper circuit trace 21, and the lower conductor layer 42 are electrically connected to each other through the conductive cover portion 6.

本実施形態では、第1基板11は、キャリア基板としての役割を果たす片面基板であり、その代わりに、キャリア基板は、片面基板と片面基板の組合せ、片面基板と両面基板の組合せ、両面基板と両面基板の組合せ、及び多層基板で実現されることができる。   In the present embodiment, the first substrate 11 is a single-sided substrate that serves as a carrier substrate. Instead, the carrier substrate is a combination of a single-sided substrate and a single-sided substrate, a combination of a single-sided substrate and a double-sided substrate, a double-sided substrate, It can be realized with a combination of double-sided substrates and multilayer substrates.

図7乃至図13を参照する。概して参照番号200で表される、本発明の第2実施形態によるキャリア基板は、両面基板である。   Please refer to FIG. 7 to FIG. The carrier substrate according to the second embodiment of the present invention, generally represented by reference numeral 200, is a double-sided substrate.

図7に示されるように、第1両面基板12は、両面基板上面12aと両面基板下面12bを有し、其々には、少なくとも1つの上回路トレース21と少なくとも1つの下回路トレース22を形成する。上回路トレース21は、離間区域210だけ離間され、下回路トレース22は、離間区域220だけ離間される。上回路トレース21は、少なくとも1つの上回路トレース露光区域211を含み、下回路トレース22は、選択的に、少なくとも1つの下回路トレース露光区域221を含む。   As shown in FIG. 7, the first double-sided board 12 has a double-sided board upper surface 12a and a double-sided board lower surface 12b, and each forms at least one upper circuit trace 21 and at least one lower circuit trace 22. To do. Upper circuit trace 21 is spaced apart by spaced area 210 and lower circuit trace 22 is spaced by spaced area 220. Upper circuit trace 21 includes at least one upper circuit trace exposure area 211, and lower circuit trace 22 optionally includes at least one lower circuit trace exposure area 221.

図8及び図9で示されるように、上粘着層31は、上回路トレース21の表面上に形成される。下粘着層32は、下回路トレース22の表面上に形成される。上導体層41は、上粘着層31の表面上に形成される。上導体層41は、縦方向Iに、上回路トレース21の上回路トレース露光区域211に対して第1高低差h1を示す。   As shown in FIGS. 8 and 9, the upper adhesive layer 31 is formed on the surface of the upper circuit trace 21. The lower adhesive layer 32 is formed on the surface of the lower circuit trace 22. The upper conductor layer 41 is formed on the surface of the upper adhesive layer 31. The upper conductor layer 41 exhibits a first height difference h <b> 1 in the vertical direction I with respect to the upper circuit trace exposure area 211 of the upper circuit trace 21.

下導体層42は、下粘着層32の表面上に形成される。下導体層42は、縦方向Iに、下回路トレース22の下回路トレース露光区域221に対して第2高低差h2を示す。   The lower conductor layer 42 is formed on the surface of the lower adhesive layer 32. The lower conductor layer 42 exhibits a second height difference h <b> 2 in the vertical direction I with respect to the lower circuit trace exposure area 221 of the lower circuit trace 22.

図10で示されるように、少なくとも1つのスルーホール5は、縦方向Iに、上導体層41、上粘着層31、上回路トレース21、第1両面基板12、下回路トレース22、下粘着層32、下導体層42を通して、延在する。このスルーホール5は、スルーホール壁面51を形成する。   As shown in FIG. 10, at least one through hole 5 has an upper conductor layer 41, an upper adhesive layer 31, an upper circuit trace 21, a first double-sided substrate 12, a lower circuit trace 22, and a lower adhesive layer in the vertical direction I. 32, extending through the lower conductor layer 42. The through hole 5 forms a through hole wall surface 51.

図11で示されるように、導電性カバー部6は、上導体層41の上面、下導体層42の下面、スルーホール5のスルーホール壁面51を被覆する。   As shown in FIG. 11, the conductive cover 6 covers the upper surface of the upper conductor layer 41, the lower surface of the lower conductor layer 42, and the through hole wall surface 51 of the through hole 5.

図12で示されるように、スルーホール5と隣接する部分を除く導電性カバー部6の部分、スルーホール5と隣接する部分を除く上導体層41の部分は、既知のエッチング技術により除去されるか、或いは部分的に残存される。   As shown in FIG. 12, the portion of the conductive cover portion 6 excluding the portion adjacent to the through hole 5 and the portion of the upper conductor layer 41 excluding the portion adjacent to the through hole 5 are removed by a known etching technique. Or partially remains.

図13に示されるように、スルーホール5と隣接する部分を除く導電性カバー部6の部分、スルーホール5と隣接する部分を除く下導体層42の部分は、既知のエッチング技術により除去されるか、或いは部分的に残存される。   As shown in FIG. 13, the portion of the conductive cover portion 6 excluding the portion adjacent to the through hole 5 and the portion of the lower conductor layer 42 excluding the portion adjacent to the through hole 5 are removed by a known etching technique. Or partially remains.

図14は、概して参照番号300で表される、2枚の片面基板を含む、本発明の第3実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。図面で示されるように、キャリア基板300は、第1基板上面11aと第1基板下面11bを有する少なくとも1枚の第1基板11を含み、少なくとも1つの上回路トレース21が、第1基板上面11a上に形成される。少なくとも1枚の第2基板13は、第2基板上面13aと第2基板下面13bを有し、第2基板上面13aは、接着層71によって、第1基板11の第1基板下面11bに接着される。少なくとも1つの下回路トレース22は、第2基板下面13b上に形成される。接着層71は、接着と絶縁という物性を示す。
第3実施形態のキャリア基板300は、第1実施形態のキャリア基板100と置き換えることができ、図2乃至図6で説明された製造プロセスは、第3実施形態のキャリア基板に適用されて、2枚の片面基板から成る電気回路基板ビアホールの構造を形成できる。
FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a third embodiment of the present invention, including two single-sided substrates, generally indicated by reference numeral 300. As shown in the drawing, the carrier substrate 300 includes at least one first substrate 11 having a first substrate upper surface 11a and a first substrate lower surface 11b, and at least one upper circuit trace 21 is formed on the first substrate upper surface 11a. Formed on top. At least one second substrate 13 has a second substrate upper surface 13a and a second substrate lower surface 13b, and the second substrate upper surface 13a is bonded to the first substrate lower surface 11b of the first substrate 11 by an adhesive layer 71. The At least one lower circuit trace 22 is formed on the second substrate lower surface 13b. The adhesive layer 71 exhibits physical properties of adhesion and insulation.
The carrier substrate 300 of the third embodiment can be replaced with the carrier substrate 100 of the first embodiment, and the manufacturing processes described in FIGS. 2 to 6 are applied to the carrier substrate of the third embodiment and 2 It is possible to form an electric circuit board via-hole structure composed of a single-sided board.

図15は、概して参照番号400で表される、3枚の片面基板を含む、本発明の第4実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。第4実施形態の一般的な構造は、図14のものと同様であるが、少なくとも1枚の第3基板14と接着層71、72は、第2基板13の第2基板上面13aと第1基板11の第1基板下面11bとの間に配設される。第3基板14は、その上に少なくとも1つの中間回路トレース23が形成される表面を有する。   FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a fourth embodiment of the present invention that includes three single-sided substrates, generally designated by the reference numeral 400. The general structure of the fourth embodiment is the same as that of FIG. 14, but at least one third substrate 14 and adhesive layers 71 and 72 are formed on the second substrate upper surface 13 a of the second substrate 13 and the first substrate 13. The substrate 11 is disposed between the first substrate lower surface 11b. The third substrate 14 has a surface on which at least one intermediate circuit trace 23 is formed.

図16は、概して参照番号500で表される、2枚の片面基板と1枚の両面基板を含む、本発明の第5実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。
第5実施形態のキャリア基板は、第1基板上面11aと第1基板下面11bを有する第1基板11を含み、少なくとも1つの上回路トレース21が、第1基板上面11a上に形成される。第2基板13は、第2基板上面13aと第2基板下面13bを有し、少なくとも1つの下回路トレース22が、第2基板下面13b上に形成される。
FIG. 16 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a fifth embodiment of the present invention, including two single-sided substrates and one double-sided substrate, generally designated by the reference numeral 500.
The carrier substrate of the fifth embodiment includes a first substrate 11 having a first substrate upper surface 11a and a first substrate lower surface 11b, and at least one upper circuit trace 21 is formed on the first substrate upper surface 11a. The second substrate 13 has a second substrate upper surface 13a and a second substrate lower surface 13b, and at least one lower circuit trace 22 is formed on the second substrate lower surface 13b.

少なくとも1枚の第1両面基板12は、第2基板13の第2基板上面13aと、第1基板11の第1基板下面11bとの間に配設される。第1両面基板12は、両面基板上面12aと両面基板下面12bを有し、これらの面其々には、少なくとも1つの中間回路トレース23a、23bを形成する。両面基板上面12aは、接着層71によって、第1基板11の第1基板下面11bに接着され、第1両面基板12bは、接着層72によって、第2基板13の第2基板上面13aに接着される。   At least one first double-sided substrate 12 is disposed between the second substrate upper surface 13 a of the second substrate 13 and the first substrate lower surface 11 b of the first substrate 11. The first double-sided substrate 12 has a double-sided substrate upper surface 12a and a double-sided substrate lower surface 12b, and at least one intermediate circuit trace 23a, 23b is formed on each of these surfaces. The double-sided substrate upper surface 12a is bonded to the first substrate lower surface 11b of the first substrate 11 by the adhesive layer 71, and the first double-sided substrate 12b is bonded to the second substrate upper surface 13a of the second substrate 13 by the adhesive layer 72. The

図17は、概して参照番号600で表される、1枚の片面基板と1枚の両面基板を含む、本発明の第6実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。第6実施形態のキャリア基板は、第1基板上面11aと第1基板下面11bを有する第1基板11を含み、少なくとも1つの上回路トレース21が、第1基板上面11a上に形成される。
少なくとも1枚の第1両面基板12は、両面基板上面12aと両面基板下面12bを有する。両面基板上面12aは、接着層71によって、第1基板11の第1基板下面11bに接着される。少なくとも1つの下回路トレース22は、両面基板下面12b上に形成される。少なくとも1つの中間回路トレース23は、第1両面基板12の両面基板上面12a上に形成される。
FIG. 17 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a sixth embodiment of the present invention, including a single-sided substrate and a single-sided double-sided substrate, generally designated by the reference numeral 600. The carrier substrate of the sixth embodiment includes a first substrate 11 having a first substrate upper surface 11a and a first substrate lower surface 11b, and at least one upper circuit trace 21 is formed on the first substrate upper surface 11a.
At least one first double-sided substrate 12 has a double-sided substrate upper surface 12a and a double-sided substrate lower surface 12b. The double-sided substrate upper surface 12 a is bonded to the first substrate lower surface 11 b of the first substrate 11 by the adhesive layer 71. At least one lower circuit trace 22 is formed on the double-sided board lower surface 12b. At least one intermediate circuit trace 23 is formed on the double-sided board upper surface 12 a of the first double-sided board 12.

図18は、概して参照番号700で表される、2枚の両面基板を含む、本発明の第7実施形態によるキャリア基板を示す断面図であり、図19は、完全に組立てられた後の第7実施形態を示す断面図である。キャリア基板700は、両面基板上面12aと両面基板下面12bを有する、第1両面基板12を含み、少なくとも1つの上回路トレース21が、両面基板上面12a上に形成される。少なくとも1枚の第2両面基板15は、両面基板上面15aと両面基板下面15bを有する。第2両面基板上面15aは、接着層71によって、第1両面基板12の両面基板下面12bに接着される。
少なくとも1つの下回路トレース22は、第2両面基板15の両面基板下面15b上に形成される。少なくとも1つの第1両面基板の中間回路トレース23cは、第1両面基板12の両面基板下面12b上に形成される。少なくとも1つの第2両面基板中間回路トレース23dは、第2両面基板15の両面基板上面15a上に形成される。
FIG. 18 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a seventh embodiment of the present invention, including two double-sided substrates, generally designated by the reference numeral 700, and FIG. 19 is the first view after fully assembled. It is sectional drawing which shows 7 embodiment. The carrier substrate 700 includes a first double-sided substrate 12 having a double-sided substrate upper surface 12a and a double-sided substrate lower surface 12b, and at least one upper circuit trace 21 is formed on the double-sided substrate upper surface 12a. At least one second double-sided substrate 15 has a double-sided substrate upper surface 15a and a double-sided substrate lower surface 15b. The second double-sided substrate upper surface 15 a is bonded to the double-sided substrate lower surface 12 b of the first double-sided substrate 12 by the adhesive layer 71.
At least one lower circuit trace 22 is formed on the double-sided board lower surface 15 b of the second double-sided board 15. At least one first double-sided board intermediate circuit trace 23 c is formed on the double-sided board lower surface 12 b of the first double-sided board 12. At least one second double-sided board intermediate circuit trace 23 d is formed on the double-sided board upper surface 15 a of the second double-sided board 15.

図19を参照する。組立て後に、上粘着層31は、第1両面基板12の上回路トレース21の少なくとも部分領域上に形成され、上粘着層31によって被覆されない上回路トレース21の部分は、上回路トレース露光区域211として規定される。上導体層41は、上粘着層31の上面上に形成される。上導体層41は、縦方向Iに、上回路トレース露光区域211に対して第1高低差h1を示す。   Refer to FIG. After the assembly, the upper adhesive layer 31 is formed on at least a partial region of the upper circuit trace 21 of the first double-sided substrate 12, and the portion of the upper circuit trace 21 that is not covered by the upper adhesive layer 31 is defined as the upper circuit trace exposure area 211. It is prescribed. The upper conductor layer 41 is formed on the upper surface of the upper adhesive layer 31. The upper conductor layer 41 exhibits a first height difference h <b> 1 in the vertical direction I with respect to the upper circuit trace exposure area 211.

下粘着層32は、第2両面基板15の下回路トレース22の少なくとも部分領域上に形成され、下粘着層32によって被覆されない下回路トレース22の部分は、下回路トレース露光区域221として規定される。下導体層42は、下粘着層32の下面上に形成される。下導体層42は、縦方向Iに、下回路トレース露光区域221に対して第2高低差h2を示す。   The lower adhesive layer 32 is formed on at least a partial region of the lower circuit trace 22 of the second double-sided substrate 15, and the portion of the lower circuit trace 22 that is not covered by the lower adhesive layer 32 is defined as the lower circuit trace exposure area 221. . The lower conductor layer 42 is formed on the lower surface of the lower adhesive layer 32. The lower conductor layer 42 exhibits a second height difference h <b> 2 with respect to the lower circuit trace exposure area 221 in the vertical direction I.

少なくとも1つのスルーホール5は、縦方向Iに、上導体層41、上粘着層31、上回路トレース21、第1両面基板12、第1両面基板の中間回路トレース23c、接着層71、第2両面基板の中間回路トレース23d、第2両面基板15、下回路トレース22、下粘着層32、下導体層42を通り延在し、スルーホール壁面51を形成する。
導電性カバー部6は、スルーホール5のスルーホール壁面51、スルーホール5に隣接する第1両面基板12の上導体層41の部分領域、スルーホール5と隣接する第2両面基板15の下導体層42の部分領域を被覆する。
At least one through hole 5 is formed in the vertical direction I in the upper conductor layer 41, the upper adhesive layer 31, the upper circuit trace 21, the first double-sided board 12, the intermediate circuit trace 23c of the first double-sided board, the adhesive layer 71, the second layer. The through-hole wall surface 51 is formed by extending through the intermediate circuit trace 23d of the double-sided substrate, the second double-sided substrate 15, the lower circuit trace 22, the lower adhesive layer 32, and the lower conductor layer 42.
The conductive cover portion 6 includes a through hole wall surface 51 of the through hole 5, a partial region of the upper conductor layer 41 of the first double-sided substrate 12 adjacent to the through hole 5, and a lower conductor of the second double-sided substrate 15 adjacent to the through hole 5. A partial region of layer 42 is covered.

実用化する際には、スルーホール5は、所望に応じて、上回路トレース21、下回路トレース22、第1両面基板の中間回路トレース23c、第2両面基板の中間回路トレース23dに、選択的に電気的に接続されることができる。   In practical use, the through-hole 5 is selectively used as an upper circuit trace 21, a lower circuit trace 22, an intermediate circuit trace 23c on the first double-sided board, and an intermediate circuit trace 23d on the second double-sided board as desired. Can be electrically connected.

図20は、概して参照番号800で表される、1枚の片面基板と1枚の両面基板を含む、本発明の第8実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。図面で示されるように、第8実施形態のキャリア基板は、少なくとも1枚の第1基板11と1枚の第1両面基板12を含む。第1両面基板12は、埋込孔8を含む。
埋込孔8は、図13に示されたスルーホール5の構造と似た構造を有するが、埋込孔8は、第1基板11と第1両面基板12を接着する前に、事前に形成される。第1両面基板12は、中間回路トレース24としての役割を果たす上回路トレースを形成する上面を有する。第1両面基板12は、少なくとも1つの下回路トレース22を形成する下面を有する。第1基板11は、少なくとも1つの上回路トレース21を形成する上面11aを有する。第1両面基板12と第1基板11は、接着層73によって互いに接着される。
FIG. 20 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to an eighth embodiment of the present invention, including a single-sided substrate and a double-sided substrate, generally designated by the reference numeral 800. As shown in the drawings, the carrier substrate of the eighth embodiment includes at least one first substrate 11 and one first double-sided substrate 12. The first double-sided substrate 12 includes a buried hole 8.
The buried hole 8 has a structure similar to the structure of the through hole 5 shown in FIG. 13, but the buried hole 8 is formed in advance before bonding the first substrate 11 and the first double-sided substrate 12. Is done. The first double-sided substrate 12 has an upper surface that forms an upper circuit trace that serves as an intermediate circuit trace 24. The first double-sided substrate 12 has a lower surface that forms at least one lower circuit trace 22. The first substrate 11 has an upper surface 11 a that forms at least one upper circuit trace 21. The first double-sided substrate 12 and the first substrate 11 are bonded to each other by an adhesive layer 73.

第1基板11と第1両面基板12は、接着層73によって纏めて接着された後、スルーホールを作製するために、上記のような製造プロセスが、埋込孔8からシフトした位置で、実行される。これにより、埋込孔と中間回路トレース層を含む3層の電気回路基板の構造が完成して、本発明によるキャリア基板として機能するようになる。   After the first substrate 11 and the first double-sided substrate 12 are bonded together by the adhesive layer 73, the manufacturing process as described above is performed at a position shifted from the embedded hole 8 in order to produce a through hole. Is done. As a result, the structure of the three-layer electric circuit board including the buried hole and the intermediate circuit trace layer is completed, and functions as a carrier substrate according to the present invention.

本実施形態では、キャリア基板800を形成するために、片面基板が、接着層73によって、事前に埋込孔8が形成された両面基板に接着される。キャリア基板800は、従って、第1実施形態のキャリア基板100と置換えて、図2〜図6で説明した製造プロセスを、第1両面基板12の埋込孔8からシフトした位置で、行ってもよい。これにより、埋込孔と中間回路トレース層を含む電気回路基板のビアホールの構造が完成する。   In the present embodiment, in order to form the carrier substrate 800, the single-sided substrate is bonded to the double-sided substrate in which the embedded holes 8 are formed in advance by the adhesive layer 73. Therefore, the carrier substrate 800 may be replaced with the carrier substrate 100 of the first embodiment, and the manufacturing process described in FIGS. 2 to 6 may be performed at a position shifted from the embedded hole 8 of the first double-sided substrate 12. Good. Thereby, the structure of the via hole of the electric circuit board including the buried hole and the intermediate circuit trace layer is completed.

図21は、概して参照番号900で表される、2枚の両面基板を含む、本発明の第9実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。図面で示されるように、第9実施形態のキャリア基板は、予め埋込孔8a、8bを其々形成した少なくとも2枚の両面基板12、15を含む。
第1両面基板12は、少なくとも1つの中間回路トレース24を形成する両面基板上面12aを有する。両面基板は、少なくとも1つの下回路トレース22を形成する両面基板下面12bを有する。第2両面基板15は、少なくとも1つの中間回路トレース25を形成する両面基板下面15bと少なくとも1つの上回路トレース21を形成する両面基板上面15aを有する。2枚の両面基板12、15は、接着層74によって互いに接着される。
FIG. 21 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a ninth embodiment of the present invention that includes two double-sided substrates, generally designated by the reference numeral 900. As shown in the drawings, the carrier substrate of the ninth embodiment includes at least two double-sided substrates 12 and 15 in which embedded holes 8a and 8b are previously formed, respectively.
The first double-sided board 12 has a double-sided board upper surface 12 a that forms at least one intermediate circuit trace 24. The double-sided board has a double-sided board lower surface 12 b that forms at least one lower circuit trace 22. The second double-sided substrate 15 has a double-sided substrate lower surface 15 b that forms at least one intermediate circuit trace 25 and a double-sided substrate upper surface 15 a that forms at least one upper circuit trace 21. The two double-sided substrates 12 and 15 are bonded to each other by the adhesive layer 74.

2枚の両面基板12、15が接着層74によって纏めて接着された後に、上述したスルーホールに関する製造プロセスが、埋込孔と中間回路トレース層を有する4層の電気回路基板の構造を完成して、本発明のキャリア基板として機能させるために、行われることができる。
本実施形態では、予め埋込孔を形成した2枚の両面基板12、15は、接着層74によって纏めて接着されて、キャリア基板900を形成する。従って、キャリア基板900は、第1実施形態のキャリア基板100と置換えて、図2〜図6で説明した製造プロセスを、埋込孔と中間回路トレース層を含む電気回路基板のビアホールの構造を完成するように、埋込孔の位置を避けて行ってもよい。
After the two double-sided boards 12 and 15 are bonded together by the adhesive layer 74, the manufacturing process relating to the through hole described above completes the structure of a four-layer electric circuit board having a buried hole and an intermediate circuit trace layer. In order to function as the carrier substrate of the present invention, it can be performed.
In the present embodiment, the two double-sided substrates 12 and 15 in which the embedding holes are formed in advance are bonded together by the adhesive layer 74 to form the carrier substrate 900. Accordingly, the carrier substrate 900 is replaced with the carrier substrate 100 of the first embodiment, and the manufacturing process described with reference to FIGS. 2 to 6 is completed to complete the via hole structure of the electric circuit substrate including the buried hole and the intermediate circuit trace layer. Thus, the position of the buried hole may be avoided.

図22は、概して参照番号901で表される、1枚の両面基板と2枚の片面基板を含む、本発明の第10実施形態によるキャリア基板を示す断面図である。図面で示されるように、第10実施形態のキャリア基板は、予め形成された埋込孔8を含む少なくとも1枚の第1両面基板12を含む。第1両面基板12は、両面基板上面12aと両面基板下面12bを有し、これらの面には其々、少なくとも1つの中間回路トレース24、26を形成し、其々を接着層75、76によって、第1基板11と第2基板13に接着される。第1基板11と第2基板13は、いずれも片面基板である。第1基板11は、少なくとも1つの上回路トレース21を形成する上面11aを有し、第2基板13は少なくとも1つの下回路トレース22を形成する下面13bを有する。   FIG. 22 is a cross-sectional view illustrating a carrier substrate according to a tenth embodiment of the present invention, including one double-sided substrate and two single-sided substrates, generally designated by reference numeral 901. As shown in the drawings, the carrier substrate of the tenth embodiment includes at least one first double-sided substrate 12 including a pre-formed buried hole 8. The first double-sided board 12 has a double-sided board upper surface 12 a and a double-sided board lower surface 12 b, and at least one intermediate circuit trace 24, 26 is formed on each of these surfaces, and the adhesive layers 75, 76 respectively. The first substrate 11 and the second substrate 13 are bonded. Both the first substrate 11 and the second substrate 13 are single-sided substrates. The first substrate 11 has an upper surface 11 a that forms at least one upper circuit trace 21, and the second substrate 13 has a lower surface 13 b that forms at least one lower circuit trace 22.

第1両面基板12と第1基板11及び第2基板13が、互いに接着層75、76によって接着された後に、図2〜図6で説明した製造プロセスが、埋込孔と中間回路トレース層を含む4層の電気回路基板の構造を完成して、本発明によるキャリア基板として機能させるために、第1両面基板12の埋込孔8を避ける位置で、行われる。   After the first double-sided substrate 12 and the first substrate 11 and the second substrate 13 are bonded to each other by the adhesive layers 75 and 76, the manufacturing process described with reference to FIGS. In order to complete the structure of the four-layer electric circuit board including and to function as a carrier substrate according to the present invention, it is performed at a position avoiding the buried hole 8 of the first double-sided board 12.

上記実施形態から、以下が理解される。本発明では、1枚又は複数枚の片面基板及び両面基板又は多層基板を組合せて、様々な構造のキャリア基板を形成し、片面基板、両面基板、多層基板は、フレキシブル回路基板、リジッド回路基板、及びフレキシブル基板とリジット基板の複合基板等の、異なる特性の回路基板とすることができる。また、様々な実施形態が、本発明に従い、ビアホールの構造と製造プロセスを組合せて、作製することができる。   The following is understood from the above embodiment. In the present invention, one or a plurality of single-sided substrates and double-sided substrates or multilayer substrates are combined to form carrier substrates having various structures. The single-sided substrates, double-sided substrates, and multilayer substrates are flexible circuit boards, rigid circuit boards, In addition, a circuit board having different characteristics such as a composite board of a flexible board and a rigid board can be obtained. Various embodiments can also be made in accordance with the present invention, combining via hole structures and manufacturing processes.

Claims (19)

第1基板上面と第1基板下面を有する片面基板を含む、第1基板と、
前記第1基板上面上に形成される、少なくとも1つの上回路トレースと、
前記上回路トレースの少なくとも部分領域上に形成される上粘着層であって、該上粘着層によって被覆されない前記上回路トレースの部分が、上回路トレース露光区域を形成する、上粘着層と、
前記上粘着層上に形成される上導体層であって、縦方向に、前記上回路トレース露光区域に対して第1高低差を示す、上導体層と、
前記第1基板下面上に形成される下導体層と、
前記縦方向に、前記上導体層、前記上粘着層、前記上回路トレース、前記第1基板、前記下導体層を通り延在し、スルーホール壁面を形成する、少なくとも1つのスルーホールと、
前記スルーホールの前記スルーホール壁面、前記スルーホールに隣接する前記上導体層の部分領域、前記スルーホールに隣接する前記下導体層の部分領域を被覆する、導電性カバー部とを含む、
電気回路基板。
A first substrate comprising a single-sided substrate having a first substrate upper surface and a first substrate lower surface;
At least one upper circuit trace formed on the top surface of the first substrate;
An upper adhesive layer formed on at least a partial region of the upper circuit trace, wherein a portion of the upper circuit trace not covered by the upper adhesive layer forms an upper circuit trace exposure area; and
An upper conductor layer formed on the upper adhesive layer, wherein the upper conductor layer shows a first height difference with respect to the upper circuit trace exposure area in the longitudinal direction; and
A lower conductor layer formed on the lower surface of the first substrate;
At least one through hole extending in the vertical direction through the upper conductor layer, the upper adhesive layer, the upper circuit trace, the first substrate, the lower conductor layer, and forming a through hole wall surface;
A conductive cover portion covering the through hole wall surface of the through hole, a partial region of the upper conductor layer adjacent to the through hole, and a partial region of the lower conductor layer adjacent to the through hole;
Electric circuit board.
前記下導体層と前記第1基板下面は、それらの間に、第2基板上面と第2基板下面を有し、該第2基板上面が、縦方向に、前記第1基板の前記第1基板下面に接着される、第2基板と、前記第2基板下面上に形成される、少なくとも1つの下回路トレースと、前記下回路トレースの少なくとも部分領域上に形成される下粘着層と、前記下粘着層の下に形成される前記下導体層と、前記第2基板、前記下回路トレース、前記下粘着層、前記下導体層を通り延在する前記スルーホールであって、前記導電性カバー部は、前記スルーホールに隣接する前記下導体層の部分領域を更に被覆する、前記スルーホールとを含む、請求項1に記載の電気回路基板。   The lower conductor layer and the lower surface of the first substrate have a second substrate upper surface and a second substrate lower surface between them, and the second substrate upper surface is in the vertical direction, the first substrate of the first substrate. A second substrate bonded to a lower surface; at least one lower circuit trace formed on the lower surface of the second substrate; a lower adhesive layer formed on at least a partial region of the lower circuit trace; The lower conductor layer formed under the adhesive layer, the second substrate, the lower circuit trace, the lower adhesive layer, the through hole extending through the lower conductor layer, and the conductive cover portion The electric circuit board according to claim 1, further comprising: the through hole further covering a partial region of the lower conductor layer adjacent to the through hole. 前記下粘着層によって被覆されない前記下回路トレースの部分は、下回路トレース露光区域を形成し、前記下導体層は、前記縦方向に、前記下回路トレース露光区域に対して第2高低差を示す、請求項2に記載の電気回路基板。   The portion of the lower circuit trace not covered by the lower adhesive layer forms a lower circuit trace exposure area, and the lower conductor layer exhibits a second height difference with respect to the lower circuit trace exposure area in the longitudinal direction. The electric circuit board according to claim 2. 前記第1基板の前記第1基板下面と、前記第2基板の前記第2基板上面は、それらの間に、少なくとも1つの中間回路トレースを含む少なくとも1枚の第3基板を含む、請求項2に記載の電気回路基板。   The lower surface of the first substrate of the first substrate and the upper surface of the second substrate of the second substrate include at least one third substrate including at least one intermediate circuit trace therebetween. The electric circuit board according to 1. 前記第1基板、前記第2基板、前記第3基板は、フレキシブル基板、リジット基板、又はフレキシブル基板とリジット基板を組合せた複合基板である、請求項4に記載の電気回路基板。   The electric circuit board according to claim 4, wherein the first board, the second board, and the third board are a flexible board, a rigid board, or a composite board in which a flexible board and a rigid board are combined. 前記第1基板の前記第1基板下面と、前記第2基板の前記第2基板上面は、それらの間に、少なくとも1枚の第1両面基板を更に含み、該第1両面基板は、両面基板上面と両面基板下面を有し、該面の其々には、中間回路トレースを形成し、前記スルーホールが、前記第1両面基板を通り延在する、請求項2に記載の電気回路基板。   The lower surface of the first substrate of the first substrate and the upper surface of the second substrate of the second substrate further include at least one first double-sided substrate therebetween, and the first double-sided substrate is a double-sided substrate. The electric circuit board according to claim 2, wherein the electric circuit board has an upper surface and a lower surface of the double-sided substrate, each of which forms an intermediate circuit trace, and the through hole extends through the first double-sided substrate. 前記第1両面基板には、前記スルーホールからシフトした位置に、少なくとも1つの埋込孔を形成する、請求項6に記載の電気回路基板。   The electric circuit board according to claim 6, wherein at least one embedded hole is formed in the first double-sided board at a position shifted from the through hole. 前記第1基板の前記第1基板下面は、少なくとも1枚の両面基板に接着され、前記第1両面基板は、両面基板上面と両面基板下面を有し、前記下回路トレースは、前記両面基板下面上に形成され、前記両面基板上面には、少なくとも1つの中間回路トレースを形成し、前記スルーホールが、前記第1両面基板を通り延在する、請求項1に記載の電気回路基板。   The first substrate lower surface of the first substrate is bonded to at least one double-sided substrate, the first double-sided substrate has a double-sided substrate upper surface and a double-sided substrate lower surface, and the lower circuit trace is the double-sided substrate lower surface. The electrical circuit board according to claim 1, wherein the electrical circuit board is formed on the upper surface of the double-sided board, wherein at least one intermediate circuit trace is formed, and the through-hole extends through the first double-sided board. 前記第1両面基板には、前記スルーホールからシフトした位置に、少なくとも1つの埋込孔を形成する、請求項8に記載の電気回路基板。   The electric circuit board according to claim 8, wherein at least one embedded hole is formed in the first double-sided board at a position shifted from the through hole. 前記第1両面基板は、フレキシブル基板、リジット基板、又はフレキシブル基板とリジット基板を組合せた複合基板である、請求項8に記載の電気回路基板。   The electric circuit board according to claim 8, wherein the first double-sided board is a flexible board, a rigid board, or a composite board in which a flexible board and a rigid board are combined. 第1両面基板上面と第1両面基板下面を有する、第1両面基板と、
前記第1両面基板上面上に形成される、少なくとも1つの上回路トレースと、
前記上回路トレースの少なくとも部分領域上に形成される上粘着層であって、該上粘着層によって被覆されない前記上回路トレースの部分が、上回路トレース露光区域を形成する、上粘着層と、
前記上粘着層上に形成される上導体層であって、縦方向に、前記上回路トレース露光区域に対して第1高低差を示す、上導体層と、
前記第1両面基板下面上に形成される、少なくとも1つの下回路トレースと、
前記下回路トレースの少なくとも部分領域上に形成される、下粘着層と、
前記下粘着層上に形成される、下導体層と、
前記縦方向に、前記上導体層、前記粘着層、前記上回路トレース、前記第1両面基板、前記下回路トレース、前記下粘着層、前記下導体層を通り延在し、スルーホール壁面を形成する、少なくとも1つのスルーホールと、
前記スルーホールの前記スルーホール壁面、前記スルーホールに隣接する前記上導体層の部分領域、前記スルーホールに隣接する前記下導体層の部分領域を被覆する、導電性カバー部とを含む、
電気回路基板。
A first double-sided substrate having a first double-sided substrate upper surface and a first double-sided substrate lower surface;
At least one upper circuit trace formed on the upper surface of the first double-sided substrate;
An upper adhesive layer formed on at least a partial region of the upper circuit trace, wherein a portion of the upper circuit trace not covered by the upper adhesive layer forms an upper circuit trace exposure area; and
An upper conductor layer formed on the upper adhesive layer, wherein the upper conductor layer shows a first height difference with respect to the upper circuit trace exposure area in the longitudinal direction; and
At least one lower circuit trace formed on the lower surface of the first double-sided substrate;
A lower adhesive layer formed on at least a partial region of the lower circuit trace;
A lower conductor layer formed on the lower adhesive layer;
Extending in the vertical direction through the upper conductor layer, the adhesive layer, the upper circuit trace, the first double-sided substrate, the lower circuit trace, the lower adhesive layer, and the lower conductor layer to form a through-hole wall surface At least one through hole;
A conductive cover portion covering the through hole wall surface of the through hole, a partial region of the upper conductor layer adjacent to the through hole, and a partial region of the lower conductor layer adjacent to the through hole;
Electric circuit board.
前記第1両面基板の前記下導体層の下面は、接着層によって、少なくとも1枚の第2両面基板に接着され、該第2両面基板は、其々に少なくとも1つの上回路トレースと1つの下回路トレースを形成する両面基板上面と両面基板下面を有し、上粘着層は、前記上回路トレースの少なくとも部分領域上に形成され、前記上粘着層によって被覆されない前記上回路トレースの部分が、上回路トレース露光区域を形成し、下粘着層は、前記下回路トレースの少なくとも部分領域上に形成され、上導体層は、前記上粘着層上に形成され、前記上導体層は、前記縦方向に、前記上回路トレース露光区域に対して、第1高低差を示し、下導体層は、前記下粘着層上に形成され、前記スルーホールは、前記第2両面基板の前記上導体層、前記上粘着層、前記上回路トレース、前記第2両面基板、前記下回路トレース、前記下粘着層、前記下導体層を通り、延在し、前記導電性カバー部は、前記スルーホールに隣接する前記第2両面基板の前記下導体層の部分領域を更に被覆する、請求項11に記載の電気回路基板。   The lower surface of the lower conductor layer of the first double-sided board is bonded to at least one second double-sided board by an adhesive layer, and each of the second double-sided boards has at least one upper circuit trace and one lower circuit trace. A double-sided board upper surface and a double-sided board lower surface forming a circuit trace, and an upper adhesive layer is formed on at least a partial region of the upper circuit trace, and a portion of the upper circuit trace not covered by the upper adhesive layer is Forming a circuit trace exposure area, the lower adhesive layer being formed on at least a partial region of the lower circuit trace, the upper conductor layer being formed on the upper adhesive layer, and the upper conductor layer being in the longitudinal direction; , Showing a first height difference with respect to the upper circuit trace exposure area, a lower conductor layer is formed on the lower adhesive layer, and the through hole is formed on the upper conductor layer of the second double-sided substrate, the upper Adhesive layer, said The circuit trace, the second double-sided board, the lower circuit trace, the lower adhesive layer, and the lower conductor layer extend through the conductive cover portion of the second double-sided board adjacent to the through hole. The electric circuit board according to claim 11, further covering a partial region of the lower conductor layer. 前記第2両面基板には、前記スルーホールからシフトした位置に、少なくとも1つの埋込孔を形成する、請求項12に記載の電気回路基板。   The electric circuit board according to claim 12, wherein at least one embedded hole is formed in the second double-sided board at a position shifted from the through hole. 前記下粘着層によって被覆されない前記第2両面基板の前記下回路トレースの部分は、下回路トレース露光区域を形成し、前記第2両面基板の前記下導体層は、前記縦方向に、前記下回路トレース露光区域に対して、第2高低差を示す、請求項12に記載の電気回路基板。   The portion of the lower circuit trace of the second double-sided substrate not covered by the lower adhesive layer forms a lower circuit trace exposure area, and the lower conductor layer of the second double-sided substrate extends in the vertical direction in the lower circuit. The electric circuit board according to claim 12, wherein the electric circuit board exhibits a second height difference with respect to the trace exposure area. 前記第1両面基板と前記第2両面基板は、フレキシブル基板、リジット基板、又はフレキシブル基板とリジット基板を組合せた複合基板である、請求項12に記載の電気回路基板。   The electric circuit board according to claim 12, wherein the first double-sided board and the second double-sided board are a flexible board, a rigid board, or a composite board in which a flexible board and a rigid board are combined. 第1両面基板上面と第1両面基板下面を有する、第1両面基板と、
前記第1両面基板上面上に形成される、少なくとも1つの上回路トレースと、
前記上回路トレースの少なくとも部分領域上に形成される上粘着層であって、該上粘着層によって被覆されない前記上回路トレースの部分が、上回路トレース露光区域を形成する、上粘着層と、
前記上粘着層上に形成される上導体層であって、縦方向に、前記上回路トレース露光区域に対して第1高低差を示す、上導体層と、
前記第1両面基板下面上に形成される、少なくとも1つの第1両面中間回路トレースと、
第2両面基板上面と第2両面基板下面を有する、第2両面基板と、
前記第2両面基板下面上に形成される、少なくとも1つの下回路トレースと、
前記下回路トレースの少なくとも部分領域上に形成される、下粘着層であって、該下粘着層によって被覆されない前記下回路トレースの部分が、下回路トレース露光区域を形成する、下粘着層と、
前記下粘着層上に形成される下導体層であって、該下導体層は、前記縦方向に、前記下回路トレース露光区域に対して、第2高低差を示す、下導体層と、
前記第2両面基板上面上に形成される、少なくとも1つの第2両面基板の中間回路トレースと、
前記第1両面基板下面と前記第2両面基板上面との間に挿入される接着層と、
前記縦方向に、前記上導体層、前記上粘着層、前記上回路トレース、前記接着層、前記下回路トレース、前記下粘着層、前記下導体層を通り延在し、スルーホール壁面を形成する、少なくとも1つのスルーホールと、
前記スルーホールの前記スルーホール壁面、前記スルーホールに隣接する前記第1両面基板の前記上導体層の部分領域、前記スルーホールに隣接する前記第2両面基板の前記下導体層の部分領域を被覆する、導電性カバー部とを含む、
電気回路基板。
A first double-sided substrate having a first double-sided substrate upper surface and a first double-sided substrate lower surface;
At least one upper circuit trace formed on the upper surface of the first double-sided substrate;
An upper adhesive layer formed on at least a partial region of the upper circuit trace, wherein a portion of the upper circuit trace not covered by the upper adhesive layer forms an upper circuit trace exposure area; and
An upper conductor layer formed on the upper adhesive layer, wherein the upper conductor layer shows a first height difference with respect to the upper circuit trace exposure area in the longitudinal direction; and
At least one first double-sided intermediate circuit trace formed on the lower surface of the first double-sided substrate;
A second double-sided substrate having a second double-sided substrate upper surface and a second double-sided substrate lower surface;
At least one lower circuit trace formed on the lower surface of the second double-sided substrate;
A lower adhesive layer formed on at least a partial region of the lower circuit trace, wherein a portion of the lower circuit trace not covered by the lower adhesive layer forms a lower circuit trace exposure area; and
A lower conductor layer formed on the lower adhesive layer, the lower conductor layer showing a second height difference with respect to the lower circuit trace exposure area in the longitudinal direction; and
An intermediate circuit trace of at least one second double-sided substrate formed on the top surface of the second double-sided substrate;
An adhesive layer inserted between the lower surface of the first double-sided substrate and the upper surface of the second double-sided substrate;
In the vertical direction, the upper conductor layer, the upper adhesive layer, the upper circuit trace, the adhesive layer, the lower circuit trace, the lower adhesive layer, and the lower conductor layer are extended to form a through-hole wall surface. At least one through hole;
Covers the through hole wall surface of the through hole, the partial region of the upper conductor layer of the first double-sided substrate adjacent to the through hole, and the partial region of the lower conductor layer of the second double-sided substrate adjacent to the through hole. Including a conductive cover portion,
Electric circuit board.
前記第1両面基板には、前記スルーホールからシフトした位置に、少なくとも1つの埋込孔を形成する、請求項16に記載の電気回路基板。   The electric circuit board according to claim 16, wherein at least one embedded hole is formed in the first double-sided board at a position shifted from the through hole. 前記第2両面基板には、前記スルーホールからシフトした位置に、少なくとも1つの埋込孔を形成する、請求項16に記載の電気回路基板。   The electric circuit board according to claim 16, wherein at least one embedded hole is formed in the second double-sided board at a position shifted from the through hole. 前記第1両面基板と前記第2両面基板は、フレキシブル基板、リジット基板、又はフレキシブル基板とリジット基板とを組合せた複合基板である、請求項16に記載の電気回路基板。   The electric circuit board according to claim 16, wherein the first double-sided board and the second double-sided board are a flexible board, a rigid board, or a composite board in which a flexible board and a rigid board are combined.
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