JP2013222734A - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】試料に荷電粒子線を照射して二次荷電粒子を検出する荷電粒子線光学系と、二次荷電粒子から得られた複数の被検査画像から、被検査画像内の所定の領域ごとに欠陥候補の発生頻度を求める画像処理部と、欠陥候補の発生頻度の分布をパターンとの位置関係が分かるように表示する表示部とを有し、結果確認ウィンドウ901の内部には、ウェハ上の画像取得箇所を表示するウェハマップ画面902、テンプレート画像903、取得画像904、グループリスト905、頻度表示ボタン906、選択範囲変更ボタン907、取得画像サムネイル表示及び選択GUI908から構成されている。使用者は頻度表示ボタン906をクリックすることで、テンプレート画像上に頻度を表す図を重ね合わせて発生頻度を確認することができる。
【選択図】図9
Description
まずステップ201でウェハ上の画像を取得する場所を指定する。この場所を指示する手段は入力装置120から直接座標を入力するか、図3のようにチップを選択して複数箇所を一度に登録できるような補助入力のためのGUIを搭載しておき、これを通して入力される。補助入力のためのGUIを用いることで使用者の入力の負担が軽減する。図3は座標入力GUIを示し、ウェハ上のダイ構成を示し、観察するダイの選択にも使用するウェハマップ画面302、実際にダイ内部の座標を入力する座標入力部303、登録ボタン304、キャンセルボタン305、登録した観察箇所の一覧を示すリスト306から構成されている。使用者は、ダイ内部の座標を座標入力部303に入力装置により入力し、観察するダイをウェハマップ画面302で直接クリックして選択する。ウェハマップ画面302は選択されたダイを灰色で表示しており、また、選択ダイ内部の点は、実際の観察箇所を示している。入力した内容が問題なければ、登録ボタンをクリックすると、リスト306に登録される。入力した内容を削除したい場合はキャンセルボタン305をクリックする。リスト306は入力した観察箇所の一覧を表示しており、本表示例では括弧内にダイ内部のX座標、Y座標、その隣に観察箇所数を記載している。このような入力補助GUIを用意し使用者に入力させてもよいし、ほかの装置またはパーソナルコンピュータで作成された座標の記載されたファイルを外部入出力部121から読み込ませてもよい。
102 レンズ
103 偏向器
104 対物レンズ
105 試料
106 試料台
107 電子線
108 二次電子
109 反射電子
110 レンズ制御回路
111 偏向制御回路
112 対物レンズ制御回路
113 アナログ/デジタル変換器
114 アドレス制御回路
115 画像メモリ
116 機構制御回路
117 表示部
118 制御部
119 画像処理部
120 入力部
121 外部入出力部
122 二次電子検出器
123 反射電子検出器
124 移動ステージ
Claims (14)
- 荷電粒子線を照射して試料のパターンの欠陥を検査する荷電粒子線装置であって、
前記試料に前記荷電粒子線を照射して二次荷電粒子を検出する荷電粒子線光学系と、
前記二次荷電粒子から得られた複数の被検査画像から、前記被検査画像内の所定の領域ごとに欠陥候補の発生頻度を求める画像処理部と、
前記欠陥候補の発生頻度の分布を前記パターンと合わせて表示する表示部とを有することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記画像処理部は画素単位で欠陥候補の発生頻度を求めることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記画像処理部は、
前記複数の被検査画像を複数のグループに分類する分類部と、
前記複数のグループそれぞれの画像に基づいて得られるテンプレート画像を生成するテンプレート画像生成部と、
前記被検査画像を前記被検査画像に対応する部分の前記テンプレート画像と比較して欠陥候補を検出する欠陥検出部と、
前記テンプレート画像上の各画素において前記欠陥候補と判断された回数をカウントすることで前記欠陥候補の発生頻度を求める演算部とを有することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3に記載の荷電粒子線装置において、
前記分類部は前記被検査画像が取得された座標値、または前記被検査画像どうしの類似度のいずれか、または両方に基づいて分類することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
ウェハまたはダイまたは観察箇所を選択する選択手段を有し、
前記選択手段によって選択されたウェハまたはダイまたは観察箇所の画像を用いて前記欠陥候補の発生頻度を求めることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
複数のウェハから得られた被検査画像を用いて、前記欠陥候補の発生頻度を求めることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記欠陥候補の発生頻度と前記被検査画像の欠陥候補の位置から、欠陥の種類を分類することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項7に記載の荷電粒子線装置において、
前記欠陥候補の発生頻度が一定以上となる領域と前記被検査画像の欠陥候補の領域との重なり具合から、システマティック欠陥かランダム欠陥かを判別することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3に記載の荷電粒子線装置において、
前記テンプレート画像は、複数の前記被検査画像を加算した画像であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3に記載の荷電粒子線装置において、
前記分類部は前記複数の被検査画像のうち、回転対称または反転対称の回路パターンを含む画像を1つの同じグループに分類することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記表示部は、前記欠陥候補の発生頻度を前記所定の領域ごとに前記発生頻度に応じた色により表示することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子線装置において、
前記表示部は、前記欠陥候補の発生頻度を前記欠陥候補ごとに前記発生頻度に応じた色により表示することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3に記載の荷電粒子線装置において、
前記欠陥の発生頻度は、前記テンプレート画像、または前記被検査画像、または前記被検査画像に対応する設計データと重ね合わせて表示されることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子線装置において、
画素単位で求められた前記欠陥候補の発生頻度を複数画素で統合して、当該複数画素ごとの欠陥候補の発生頻度として表示することを特徴とする荷電粒子線装置。
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