JP2013219343A - 発光ダイオード - Google Patents
発光ダイオード Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013219343A JP2013219343A JP2013049079A JP2013049079A JP2013219343A JP 2013219343 A JP2013219343 A JP 2013219343A JP 2013049079 A JP2013049079 A JP 2013049079A JP 2013049079 A JP2013049079 A JP 2013049079A JP 2013219343 A JP2013219343 A JP 2013219343A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flat surface
- light emitting
- emitting diode
- active layer
- upper flat
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 110
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 10
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 claims description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract description 7
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract description 7
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 2
- 240000008042 Zea mays Species 0.000 abstract 5
- 235000005824 Zea mays ssp. parviglumis Nutrition 0.000 abstract 5
- 235000002017 Zea mays subsp mays Nutrition 0.000 abstract 5
- 235000005822 corn Nutrition 0.000 abstract 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 12
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 10
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 230000001808 coupling effect Effects 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 6
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 3-morpholin-4-yl-1-oxa-3-azonia-2-azanidacyclopent-3-en-5-imine;hydrochloride Chemical compound Cl.[N-]1OC(=N)C=[N+]1N1CCOCC1 NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 AlGaInP Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N dimethylzinc Chemical compound C[Zn]C AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Abstract
【解決手段】第1導電型の障壁層、発光層となる活性層、第2導電型の障壁層を少なくとも備える発光ダイオードにおいて、前記発光ダイオードの光取り出し側の表面に一つの平坦面と少なくとも三つの傾斜面によって構成される角錐台構造、又は円錐台構造を備え、(1)前記角錐台構造の上部平坦面の最も長い対角線の長さ若しくは辺の長さが2λ(λ:発光波長)以下、又は前記円錐台構造の直径が2λ以下であり、(2)前記活性層の面積が前記角錐台構造又は円錐台構造の上部平坦面の面積より小さい微小領域であり、(3)前記活性層が基板面内方向(結晶成長方向に垂直)において前記角錐台構造または円錐台構造の上部平坦面に対応する場所に配置されている。
【選択図】図3
Description
この場合、ある方向に放射される光の強度Iは、以下の式で表わされる。
式: I= I0cosθ
この技術において、LEDの活性層を上下一対の分布ブラッグ反射鏡によって構成される光学キャビティの中に置き、活性層の発光をキャビティの共振モードと共鳴させることによって、キャビティの軸方向(通常半導体表面に垂直な方向)の発光の強度を増強させることができる(非特許文献1)。
この他、本発明者が出願した特許文献1、2を参考として、下記に挙げる。
例えば、Jorayらは6周期のAl0.53Ga0.47As/Al0.95Ga0.05As多層膜を分布ブラッグ反射鏡として用いたAlGaInP系共鳴キャビティLEDを作製し、半値全角度幅100度程度の指向性が得られている(非特許文献1)。
本発明は、従来技術の問題点に鑑み成されたもので、その目的は微細表面リッジ構造または錐台構造におけるエバネッセント光の結合現象を利用し、動作温度や注入電流の変化による影響を受けにくい高指向性・高効率発光ダイオードを提供することである。
1.第1導電型の障壁層、発光層となる活性層、第2導電型の障壁層を少なくとも備える発光ダイオードにおいて、前記発光ダイオードの光取り出し側の表面に一つの平坦面と少なくとも二つの傾斜面によって構成されるリッジ構造を備え、(1)前記リッジ構造の上部平坦面の幅が2λ(λ:発光波長)以下であり、(2)前記活性層が、幅が前記リッジ構造の上部平坦面の幅より狭いストライプ状の微小領域であり、(3)前記活性層が基板面内方向(結晶成長方向に垂直)において前記リッジ構造の上部平坦面に対応する場所に配置されていることを特徴とする発光ダイオード、を提供する。
2.第1導電型の障壁層、発光層となる活性層、第2導電型の障壁層を少なくとも備える発光ダイオードにおいて、前記発光ダイオードの光取り出し側の表面に一つの平坦面と少なくとも二つの傾斜面によって構成されるリッジ構造を備え、(1) 前記リッジ構造の上部平坦面の幅が2λ(λ:発光波長)以下であること、(2)前記活性層が、幅が前記リッジ構造の上部平坦面の幅より狭いストライプ状の微小領域であること、(3)前記活性層が基板面内方向(結晶成長方向に垂直)において前記リッジ構造の上部平坦面に対応する場所に配置されていること、(4)前記活性層の中心から発生した光が前記リッジ構造の傾斜面と空気との界面にて全反射を開始する地点から平坦面となる地点までの最短距離がλ(λ:発光波長)以下であることを特徴とする発光ダイオード、を提供する。
ここで、「全反射を開始する地点」とは、傾斜面の法線方向に対してθc= sin−1(1/n)(θc:全反射の臨界角、n:半導体の屈折率)の角度をなす、活性層の中心から傾斜面に向かう線と傾斜面・空気界面との交点を意味する。
また、「界面にて全反射を開始する地点から平坦面となる地点までの最短距離」とは、傾斜面の法線の両側に存在する二つの全反射を開始する地点の内、上部平坦面に近い地点から上部平坦面となる地点までの長さを意味する。
3.第1導電型の障壁層、発光層となる活性層、第2導電型の障壁層を少なくとも備える発光ダイオードにおいて、前記発光ダイオードの光取り出し側の表面に一つの平坦面と少なくとも三つの傾斜面によって構成される角錐台構造、または円錐台構造を備え、(1)前記角錐台構造の上部平坦面の最も長い対角線の長さ若しくは辺の長さが2λ(λ:発光波長)以下、又は前記円錐台構造の上部平坦面の直径が2λ(λ:発光波長)であり、(2)前記活性層が、面積が前記角錐台構造又は円錐台構造の上部平坦面の面積より小さい微小領域であること、(3)前記活性層が基板面内方向(結晶成長方向に垂直)において前記角錐台構造または円錐台構造の上部平坦面に対応する場所に配置されていることを特徴とする発光ダイオード、を提供する。
ここで、錐台構造とは、錐体から頂点を共有し相似に縮小した錐体を取り除いた立体構造と定義する(フリー百科事典「ウィキペディア」より)。角錐台および円錐台はそれぞれ上部平坦面の形状が三角形、四角形、六角形などの多角形および円形である錐台構造を指す。また、円錐台について、作製技術の精度等により上部平坦面の形状が正確な円形からずれた構造および楕円錐台構造を含むこととする。
4.第1導電型の障壁層、発光層となる活性層、第2導電型の障壁層を少なくとも備える発光ダイオードにおいて、前記発光ダイオードの光取り出し側の表面に一つの平坦面と少なくとも三つの傾斜面によって構成される角錐台構造、または円錐台構造を備え、(1)前記角錐台構造の上部平坦面の最も長い対角線の長さ若しくは辺の長さが2λ(λ:発光波長)以下、又は前記円錐台構造の上部平坦面の直径が2λ(λ:発光波長)であること、(2)前記活性層が、面積が前記角錐台構造又は円錐台構造の上部平坦面の面積より小さい微小領域であること、(3)前記活性層が基板面内方向(結晶成長方向に垂直)において前記角錐台構造または円錐台構造の上部平坦面に対応する場所に配置されていること、(4)前記活性層の中心から発生した光が前記角錐台構造又は円錐台構造の傾斜面と空気との界面にて全反射を開始する地点から上部平坦面となる地点までの距離がλ以下であることを特徴とする発光ダイオード、を提供する。
5.前記リッジ構造がアレイ状に複数配列していることを特徴とする前記1又は2記載の発光ダイオード、を提供する。
また、本願発明は、
6.前記角錐台構造又は円錐台構造がアレイ状に複数配列していることを特徴とする前記3又は4記載の発光ダイオード、を提供する。
また、本願発明は、
7.前記活性層が量子ドットを含むことを特徴とする前記1〜6のいずれかに記載の発光ダイオード、を提供する。
また、本願発明は、
また、本願発明は、
9.前記透明導電膜は前記リッジ構造又は前記角錐台構造若しくは円錐台構造の少なくとも一部を覆うように形成されていることを特徴とする前記8に記載の発光ダイオード、を提供する。
本発明の発光ダイオードによれば、従来技術より優れた空間指向性が容易に得られる。また、高い指向性は、発光ダイオードの動作温度や注入電流による影響をほとんど受けることなく、安定的に得られる。
ここで、図1を用いてこの現象について簡単に説明する。図1において、リッジ構造1は一つの上部平坦面と左右対称の二つの傾斜面によって構成されている。
この現象についてさらに研究を進めた結果、活性層のサイズ・位置を制御することによって発光の空間指向性を制御することが可能であることを判明し、本発明に至った。
すなわち、前記個々のストライプ状の活性層を、さらに長さ方向に微小領域に分割し、それらを錐台構造の上部平坦面下に配置することができる。これによって、基板面と直交する全ての面内において発光強度の空間分布に高い指向性を持たせることが可能となる。3次元的に見て放射パターンは錐台構造の上部平坦面の法線方向に指向する細いビームになる。活性層のストライプの長さ方向への分割の形状と数は任意であり、必要に応じて調整することができる。
図3(b)、3(c)はそれぞれ円錐台の中心を切断した面(図3(a)のAA'切断面)における電界強度分布(1波長積分値)および円錐台の上部平坦面から1μm離れた場所における放射パターン12を示す。同図から、この場合、光は円錐台の上部平坦面の法線方向11に3次元的に高い指向性を持って放射されているのが分かる。
また、上部平坦面のサイズ、すなわち、3角錐台の場合は最も長い辺の長さ、3角錐台以外の角錐台の場合は最も長い対角線の長さ、円錐台の場合は円の直径、楕円錐台の場合は楕円の長辺の長さを2λ(λ:発光波長)以下にすることによって、すべての傾斜面において発生したエバネッセント光に対して結合効果を発現させることが可能である。
さらに、活性層の形状も円形や正方形などの対称形状のほか、楕円形や長方形などの非対称形状を用いることも可能である。特に、非対称形状を用いることによって、光の放射パターンを様々な形状に制御することが可能である。
以下に、図4を用いて、本発明に係る第1の実施例について説明する。
まず、図4(a)に示すように、有機金属気相エピタキシー法(MOCVD)を用いて、サファイアー基板20上にGaN低温バッファー層、Siドープn型GaN層障壁層21(〜4μm、n=2x1018cm−3)、GaN(10nm)/In0.15Ga0.85N(3nm)多重量子井戸(3〜5周期)活性層22、MgドープAl0.1Ga0.9N電子ブロック層(20nm)、MgドープGaN障壁層23(〜40nm)を順次成長させる。なお、図において、簡単のため、低温バッファー層および電子ブロック層が省略されている。
次に、ITO透明導電膜(厚さ〜150nm)をスパッター法により試料全面に成膜した後、550℃で20分間アニール処理を行い、p型オーミック電極28を形成する(図4(e))。ここで、ITO透明導電膜はオーミック電極として機能すると同時に、エバネッセント光の二重結合効果の発現に必要な低屈折率膜としても働く。
最後に、図4には書いていないが、n−GaN表面上の所定の場所にn型オーミック電極(Ti/Al/Ni/Au)、ITO膜表面上にp型ボンディングパッド(Cr/AuまたはNi/Au)をそれぞれ従来の方法で形成する。
以下に、図5を用いて本発明に係る第2の実施例について説明する。
まず、図5(a)に示すように、MOCVD法を用いて(001)面方位のn型GaAs基板上30に、AlGaInP第1障壁層31、GaInP量子井戸層32、AlGaInP第2障壁層34を少なくとも有する量子井戸構造を成長する。ここで、説明を簡単にするため、ドーピング構造やバッファー層、キャップ層などを省略した。
また、必要に応じて[110]方向に5度〜15度傾斜するGaAs基板を使用し、MOCVD成長における秩序化現象によるバンドギャップエネルギーの縮小現象を抑える。また、量子井戸層から試料表面までの距離を100程度nmとする。次に、試料表面上に実施例1と同様なプロセスを用いて直径100〜200nm程度の円形のSiO2パターン33を形成する。また、この工程において、次の工程で露光マスクの位置合わせに必要なアライメントマークを試料の適当な場所に同時に形成する。
次にi線露光装置により、図5(a)の工程で形成したアライメントマークを利用し、試料表面上に直径500〜600nm程度の円形のフォトレジストパターン37をその中心が図5(b)の工程で形成した微小領域化された量子井戸活性層の中心と一致するように形成する。ここで、フォトレジストとして例えば住友化学製のi線露光用フォトレジストPFI38Aを使用する。
次に、p型オーミック電極およびエバネッセント光の二重結合効果の発現に必要な低屈折率膜としてITO透明導電膜を試料表面全面に成膜する。最後に、図5に示していないが、表面にボンディングパッド、裏面にn型オーミック電極をそれぞれ形成する。
2:エバネッセント光
3:量子井戸活性層
4:全反射の臨界角
5:傾斜面の法線
6:伝播光
7:量子井戸発光層
8:リッジ構造と空気との境界線
9.光の放射方向(主ピーク)を示す黒い点線
10.点光源
11.光の放射方向を示す点線
12.光の放射パターン(ファーフィールドパターン)
20.サファイアー基板
21.SiドープGaN
22.InGaN/GaN量子井戸活性層
23.MgドープGaN
24.SiO2マスクパターン
25.再成長MgドープGaN
26.SiO2マスクパターン
27.円錐台構造
28.ITO透明導電膜
30.GaAs基板
31.AlGaInP
32.GaInP量子井戸層
33.SiO2マスク
34.AlGaInP
35.Zn拡散領域
36.再成長AlGaInP層
37.フォトレジストマスク
38.円錐台構造
39.ITO透明導電膜
Claims (9)
- 第1導電型の障壁層、発光層となる活性層、第2導電型の障壁層を少なくとも備える発光ダイオードにおいて、前記発光ダイオードの光取り出し側の表面に一つの平坦面と少なくとも二つの傾斜面によって構成されるリッジ構造を備え、(1)前記リッジ構造の上部平坦面の幅が2λ(λ:発光波長)以下であり、(2)前記活性層が、幅が前記リッジ構造の上部平坦面の幅より狭いストライプ状の微小領域であり、(3)前記活性層が基板面内方向(結晶成長方向に垂直)において前記リッジ構造の上部平坦面に対応する場所に配置されていることを特徴とする発光ダイオード。
- 第1導電型の障壁層、発光層となる活性層、第2導電型の障壁層を少なくとも備える発光ダイオードにおいて、前記発光ダイオードの光取り出し側の表面に一つの平坦面と少なくとも二つの傾斜面によって構成されるリッジ構造を備え、(1) 前記リッジ構造の上部平坦面の幅が2λ(λ:発光波長)以下であること、(2)前記活性層が、幅が前記リッジ構造の上部平坦面の幅より狭いストライプ状の微小領域であること、(3)前記活性層が基板面内方向(結晶成長方向に垂直)において前記リッジ構造の上部平坦面に対応する場所に配置されていること、(4)前記活性層の中心から発生した光が前記リッジ構造の傾斜面と空気との界面にて全反射を開始する地点から平坦面となる地点までの最短距離がλ(λ:発光波長)以下であることを特徴とする発光ダイオード。
- 第1導電型の障壁層、発光層となる活性層、第2導電型の障壁層を少なくとも備える発光ダイオードにおいて、前記発光ダイオードの光取り出し側の表面に一つの平坦面と少なくとも三つの傾斜面によって構成される角錐台構造、又は円錐台構造を備え、(1)前記角錐台構造の上部平坦面の最も長い対角線の長さ若しくは辺の長さが2λ(λ:発光波長)以下、又は前記円錐台構造の直径が2λ(λ:発光波長)以下であり、(2)前記活性層の面積が前記角錐台構造又は円錐台構造の上部平坦面の面積より小さい微小領域であり、(3)前記活性層が基板面内方向(結晶成長方向に垂直)において前記角錐台構造または円錐台構造の上部平坦面に対応する場所に配置されていることを特徴とする発光ダイオード。
- 第1導電型の障壁層、発光層となる活性層、第2導電型の障壁層を少なくとも備える発光ダイオードにおいて、前記発光ダイオードの光取り出し側の表面に一つの平坦面と少なくとも三つの傾斜面によって構成される角錐台構造、又は円錐台構造を備え、(1)前記角錐台構造の上部平坦面の最も長い対角線の長さ若しくは辺の長さが2λ(λ:発光波長)以下、又は前記円錐台構造の直径が2λ(λ:発光波長)以下であること、(2)前記活性層の面積が前記角錐台構造又は円錐台構造の上部平坦面の面積より小さい微小領域であること、(3)前記活性層が基板面内方向(結晶成長方向に垂直)において前記角錐台構造または円錐台構造の上部平坦面に対応する場所に配置されていること、(4)前記活性層の中心から発生した光が前記角錐台構造又は円錐台構造の傾斜面と空気との界面にて全反射を開始する地点から上部平坦面となる地点までの最短距離がλ以下であることを特徴とする発光ダイオード。
- 前記リッジ構造が、アレイ状に複数配列していることを特徴とする請求項1〜2のいずれか一項に記載の発光ダイオード。
- 前記角錐台構造又は円錐台構造が、アレイ状に複数配列していることを特徴とする請求項3〜4のいずれか一項に記載の発光ダイオード。
- 前記活性層が、量子ドットを含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の発光ダイオード。
- 前記発光ダイオードの電流注入のための第1導電型のオーミック電極は、前記リッジ構造又は角錐台構造若しくは円錐台構造の最表面層より屈折率の小さい透明導電膜であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の発光ダイオード。
- 前記透明導電膜は、前記リッジ構造又は前記角錐台構造若しくは円錐台構造の少なくとも一部を覆うように形成されていることを特徴とする請求項8に記載の発光ダイオード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013049079A JP6041265B2 (ja) | 2012-03-14 | 2013-03-12 | 発光ダイオード |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012056750 | 2012-03-14 | ||
JP2012056750 | 2012-03-14 | ||
JP2013049079A JP6041265B2 (ja) | 2012-03-14 | 2013-03-12 | 発光ダイオード |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013219343A true JP2013219343A (ja) | 2013-10-24 |
JP6041265B2 JP6041265B2 (ja) | 2016-12-07 |
Family
ID=49591069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013049079A Active JP6041265B2 (ja) | 2012-03-14 | 2013-03-12 | 発光ダイオード |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6041265B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2018189998A1 (ja) * | 2017-04-14 | 2020-05-21 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 蛍光成形体、固体光源及びこれを用いた電子機器 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63143889A (ja) * | 1986-12-08 | 1988-06-16 | Ricoh Co Ltd | 半導体発光装置 |
JPH0433380A (ja) * | 1990-05-30 | 1992-02-04 | Omron Corp | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2000068600A (ja) * | 1998-08-20 | 2000-03-03 | Nec Corp | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2005228899A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Kyoto Univ | 半導体量子ドット及び微細配線形成方法、及びこれらを用いた半導体デバイスとその製造方法 |
JP2009059851A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 半導体発光ダイオード |
WO2010095531A1 (ja) * | 2009-02-18 | 2010-08-26 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 半導体発光ダイオード |
JP2012038977A (ja) * | 2010-08-09 | 2012-02-23 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 半導体発光ダイオード |
-
2013
- 2013-03-12 JP JP2013049079A patent/JP6041265B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63143889A (ja) * | 1986-12-08 | 1988-06-16 | Ricoh Co Ltd | 半導体発光装置 |
JPH0433380A (ja) * | 1990-05-30 | 1992-02-04 | Omron Corp | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2000068600A (ja) * | 1998-08-20 | 2000-03-03 | Nec Corp | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2005228899A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Kyoto Univ | 半導体量子ドット及び微細配線形成方法、及びこれらを用いた半導体デバイスとその製造方法 |
JP2009059851A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 半導体発光ダイオード |
WO2010095531A1 (ja) * | 2009-02-18 | 2010-08-26 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 半導体発光ダイオード |
JP2012038977A (ja) * | 2010-08-09 | 2012-02-23 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 半導体発光ダイオード |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2018189998A1 (ja) * | 2017-04-14 | 2020-05-21 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 蛍光成形体、固体光源及びこれを用いた電子機器 |
US11193651B2 (en) | 2017-04-14 | 2021-12-07 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Illumination device including laser light source, molded body with obtusely inclined side surfaces, and phosphor layer |
JP7004699B2 (ja) | 2017-04-14 | 2022-02-04 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 蛍光成形体、固体光源及びこれを用いた電子機器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6041265B2 (ja) | 2016-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8124985B2 (en) | Semiconductor light emitting device and method for manufacturing the same | |
US9041005B2 (en) | Solid state lighting devices with cellular arrays and associated methods of manufacturing | |
JP5354622B2 (ja) | 半導体発光ダイオード | |
US7795631B2 (en) | Light-emitting device | |
US8704227B2 (en) | Light emitting diode and fabrication method thereof | |
KR101515100B1 (ko) | 발광 다이오드 및 그 제조 방법 | |
CN110620169B (zh) | 一种基于共振腔的横向电流限制高效率发光二极管 | |
JP2019012744A (ja) | 半導体発光素子および半導体発光素子の製造方法 | |
TWI467805B (zh) | 具寬視角的發光二極體及其製造方法 | |
JP2008311317A (ja) | 半導体発光素子 | |
JPWO2014126016A1 (ja) | Led素子及びその製造方法 | |
TWI689109B (zh) | 垂直式紫外線發光裝置及其製造方法 | |
TWI730079B (zh) | 深紫外線發光元件 | |
US8890185B2 (en) | Nitride-based semiconductor light-emitting element | |
KR101368687B1 (ko) | 초격자 구조를 이용한 질화물계 반도체 발광 소자의 제조 방법 | |
JP2009059851A (ja) | 半導体発光ダイオード | |
KR101933761B1 (ko) | 수평형 발광다이오드 소자 및 이의 제조방법 | |
JP6041265B2 (ja) | 発光ダイオード | |
US20220158032A1 (en) | Light emitting device and method of making the same | |
JP6429626B2 (ja) | 層成長のためのパターンを有する基板の設計 | |
US8441023B2 (en) | Semiconductor light emitting device | |
CN105940505A (zh) | 具有结构化衬底的发光二极管 | |
KR101303589B1 (ko) | 질화물계 반도체 발광 소자 및 그의 제조 방법 | |
JP5123221B2 (ja) | 発光装置 | |
CN117501461A (zh) | 具有改进的光提取的微型发光二极管 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151016 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160621 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160823 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161018 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161031 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6041265 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |