JP2013216567A - ガラスバブル、それを含むマスターバッチ、及び表面に金属膜が形成された樹脂粒子 - Google Patents
ガラスバブル、それを含むマスターバッチ、及び表面に金属膜が形成された樹脂粒子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013216567A JP2013216567A JP2013081328A JP2013081328A JP2013216567A JP 2013216567 A JP2013216567 A JP 2013216567A JP 2013081328 A JP2013081328 A JP 2013081328A JP 2013081328 A JP2013081328 A JP 2013081328A JP 2013216567 A JP2013216567 A JP 2013216567A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass bubble
- resin
- surface treatment
- metal
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 107
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 61
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 125
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 125
- 239000002245 particle Substances 0.000 title description 40
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract description 51
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract description 51
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 34
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims abstract description 33
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 51
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims description 31
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 30
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 30
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 18
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 claims description 16
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 14
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 6
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 66
- 238000000034 method Methods 0.000 description 54
- 239000000463 material Substances 0.000 description 36
- 230000008569 process Effects 0.000 description 33
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 22
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 16
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 9
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 8
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 5
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical group [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002677 Pd–Sn Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- HWSZZLVAJGOAAY-UHFFFAOYSA-L lead(II) chloride Chemical compound Cl[Pb]Cl HWSZZLVAJGOAAY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000007591 painting process Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001690 polydopamine Polymers 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
- C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
- C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
- C08K7/28—Glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C11/00—Multi-cellular glass ; Porous or hollow glass or glass particles
- C03C11/002—Hollow glass particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
Abstract
【課題】 本発明は、表面処理が施されており、メタル質感を具現することができ、その比重がプラスチックと似ており、プラスチックとコンパウンディングして射出しても外観不良の発生率が低いガラスバブルを提供する。また、ガラスバブルとプラスチックの混練性を向上させることができるように、前記ガラスバブルとプラスチックを含むマスターバッチを提供する。
【解決手段】 本発明の一側面に係るガラスバブルは、球状のシェル（Ｓｈｅｌｌ）と；前記シェルの表面に形成される表面処理層と；を含み、前記球状のシェルは、比重が減少するようにその内部に中空が形成され、前記表面処理層は、メタル質感を具現する表面処理によって形成される。
【選択図】 図３
【解決手段】 本発明の一側面に係るガラスバブルは、球状のシェル（Ｓｈｅｌｌ）と；前記シェルの表面に形成される表面処理層と；を含み、前記球状のシェルは、比重が減少するようにその内部に中空が形成され、前記表面処理層は、メタル質感を具現する表面処理によって形成される。
【選択図】 図３
Description
本発明は、製品の外装材として使用される樹脂素材がメタル質感を有することができるように添加されるガラスバブル、及びそれを含むマスターバッチに関する。
一般に、携帯電話、ノートブック、ＰＤＡなどの製品に使用される外装材はプラスチックなどの樹脂で構成されるが、外観上にはメタル質感が出るように具現される場合が多い。
プラスチックのような樹脂にメタル質感を付与するために、プラスチックの表面に二度塗りまたは三度塗りをしたり、パール／メタル粒子などのメタル質感を出すことができる粒子をプラスチックとコンパウンディングして製品化する射出工法が主に用いられた。
しかし、プラスチックの表面に塗装をする方法は、有毒性溶媒と二酸化炭素の発生のため、環境への優しさの面において問題があり、添加剤をプラスチックとコンパウンディングして射出する方法は、添加剤とプラスチックの比重の差によって、射出時に二つの物質の流動パターンが異なるため、外観不良が発生するという問題がある。
本発明は、表面処理が施されており、メタル質感を具現することができ、その比重がプラスチックと似ており、プラスチックとコンパウンディングして射出しても外観不良の発生率が低いガラスバブルを提供する。
また、ガラスバブルとプラスチックの混練性を向上させることができるように、前記ガラスバブルとプラスチックを含むマスターバッチ、及び前記マスターバッチまたは前記ガラスバブルを含む射出品を提供する。
また、本発明は、その表面自体がメタル質感を具現するように表面処理された樹脂粒子、樹脂粒子の製造方法、及び前記樹脂粒子を含む射出品の製造方法を提供する。
本発明の一側面に係るガラスバブルは、球状のシェル（Ｓｈｅｌｌ）と、前記シェルの表面に形成される表面処理層とを含み、前記球状のシェルは、比重が減少するようにその内部に中空が形成され、前記表面処理層は、メタル質感を具現する表面処理によって形成される。
前記表面処理層は、金属粒子を含む。前記表面処理は、金属物質を用いたスパッタリング、めっき、及び蒸着のうち少なくとも一つを含むことができる。
前記ガラスバブルの比重は、０．２〜２．５であるとよい。前記ガラスバブルの直径は、５〜７００μmであるとよい。前記ガラスバブルの比重は、０．９５〜１．４であるとよい。
本発明の一側面に係るマスターバッチは、球状のシェル（Ｓｈｅｌｌ）と、前記シェルの表面に形成される表面処理層とを含み、前記球状のシェルは、比重が減少するようにその内部に中空が形成され、前記表面処理層は、メタル質感を具現する表面処理によって形成されるガラスバブルと；前記ガラスバブルが分散されている樹脂と；を含む。
前記樹脂は、プラスチックであるとよい。前記ガラスバブルの比重は、０．２〜２．５であるとよい。
前記表面処理は、メタル物質を用いたスパッタリング、めっき、及び蒸着のうち少なくとも一つを含むことができる。
前記ガラスバブルの重量比は、０．１〜５０重量％であるとよい。
本発明の一側面に係る射出品は、球状のシェル（Ｓｈｅｌｌ）と、前記シェルの表面に形成される表面処理層とを含み、前記球状のシェルは、比重が減少するようにその内部に中空が形成され、前記表面処理層は、メタル質感を具現する表面処理によって形成されるガラスバブルと、前記ガラスバブルが分散されている樹脂と、を含むマスターバッチ及び前記樹脂がコンパウンディングされて射出され得る。
前記マスターバッチは、前記ガラスバブルの重量比が０．１〜５０重量％であるとよい。前記ガラスバブルの比重は、０．２〜２．５であるとよい。
前記表面処理は、メタル物質を用いたスパッタリング、めっき、及び蒸着のうち少なくとも一つを含むことができる。
本発明の一側面に係る樹脂粒子は、メタル質感の具現のために、その表面に金属膜が形成されたことを特徴とする。
前記樹脂は、プラスチックであるとよい。前記樹脂粒子は、ペレット状であるとよい。前記金属膜は、銅、ニッケル、アルミニウム、亜鉛、クロム、及びチタンのうち少なくとも一つを含むことができる。
本発明の一側面に係る樹脂粒子の製造方法は、樹脂粒子の表面に金属膜を形成することを含む。本発明の一側面に係る樹脂射出品の製造方法は、樹脂粒子の表面に金属膜を形成し、前記表面に金属膜が形成された樹脂粒子を射出することを含む。
前記樹脂は、プラスチックであるとよい。前記樹脂粒子は、ペレット状であるとよい。前記金属膜は、銅、ニッケル、アルミニウム、亜鉛、クロム、及びチタンのうち少なくとも一つを含むことができる。
前記樹脂粒子の表面に金属膜を形成することは、無電解めっき、イオンめっき、スパッタリング、真空蒸着、浸漬めっき、及びスプレーめっきのうち少なくとも一つの工程を用いることができる。
前記樹脂粒子の表面に金属めっき膜を形成することは、樹脂粒子を洗浄し；前記洗浄された樹脂粒子の表面に凹凸を形成し；前記凹凸が形成された樹脂粒子の表面に触媒粒子をコーティングし；前記触媒粒子がコーティングされた樹脂粒子を、めっきイオンが含まれためっき溶液に露出させることを含む。
前記触媒粒子は、Ｐｄ−Ｓｎ化合物を含むことができる。前記射出品の製造方法は、前記樹脂粒子をめっき溶液に露出させる前に、ＳｎとＰｂをイオン化させることをさらに含むことができる。前記めっき溶液は、還元剤及びＰＨ調整剤をさらに含むことができる。
本発明の実施例に係るガラスバブルによれば、工程の簡素化によるコスト節減を図ることができ、外装材の素材との比重の差を極小化することによって、流動パターンの差による外観不良を防止することができ、配向現象による外観不良を防止することができる。
また、本発明の実施例に係るマスターバッチによれば、外装材の素材として使用される樹脂との混練性が向上して、より一層優れたメタル質感を具現することができる。また、本発明の実施例に係る射出品は再利用可能であり、環境に優しい。
本発明の実施例に係る樹脂粒子及びそれを含む射出品の製造方法によれば、外装材の製造のための射出成形時に、樹脂粒子とその表面にコーティングされた金属粒子が共に溶融しながら、樹脂粒子どうし間に金属粒子が均一に分布し、流動パターンの差による外観不良現象を防止することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
図１には、プラスチック外装材の表面に塗装処理を行う過程が示されており、図２Ａ及び図２Ｂには、プラスチックとパール／メタル粒子をコンパウンディングして射出する場合に発生する現象が示されている。図１に示すように、従来はプラスチック外装材の表面にメタル質感を具現するために、プラスチック外装材の表面の異物を除去し、スプレーガンにメタル質感を出す塗装原料を注入した後に、プライマをコーティングする下塗り、上塗り面が平滑性を有するようにする中塗り、及び美粧と耐候性のための上塗りを経て、外装材の表面にメタル質感を出す塗装原料をコーティングした。
この場合、塗装の過程で有毒性溶媒と二酸化炭素が発生するという問題点があり、メタル質感を出すメタリックカラー原料の場合、ベースコートとトップコートをコーティングしなければならないため、コーティングされた原料の厚さが厚くなるという問題点がある。また、二度または三度の塗装工程を経なければならないため、多段階の工程によるコスト上昇もまた伴われることがある。
これによって、塗装を代替することができる方法として開発されたのが、図２Ａ及び図２Ｂに示されたメタル粒子のコンパウンディングによる射出工程である。
図２Ａに示すように、外装材の材料となるプラスチックにパール／メタル粒子をコンパウンディング（ｃｏｍｐｏｕｎｄｉｎｇ）した物質をモールドの左／右の両方向から注入すると、両方向から注入された物質は反対方向に流れるようになる。このとき、プラスチックとパール／メタル粒子はその比重に差があるため、流動パターンが異なる。これは、プラスチック外装材の外観不良をもたらす。
また、図２Ｂに示すように、板状のパール／メタル粒子は、両方向から注入された物質が会う地点で配向が発生し、これによって、外装材の表面において光が反射される面積が互いに異なる部分が発生してしまい、これもまた外観不良につながる。
図３には、本発明の一実施例に係るガラスバブルの構造が示されている。図３を参照すると、本発明の一実施例に係るガラスバブル１００は、球状のシェル（Ｓｈｅｌｌ）１２０と、前記シェルの表面に形成される表面処理層１３０とを含み、前記球状のシェル１２０は、比重が減少するようにその内部に中空１１０が形成され、前記表面処理層１３０は、メタル質感を具現する表面処理によって形成される。
ここで、表面処理は、ガラスバブル１００が既存のパール／メタル粒子の機能を代替することができるようにメタル質感を付与するためのもので、ガラスバブル１００の表面にめっき（ｐｌａｔｉｎｇ）、蒸着、スパッタリング（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）などの処理を行うことを意味し、これについての詳細な説明は後述する。
上述したように、既存のパール／メタル粒子は、プラスチックとコンパウンディングされて射出される時に、プラスチックとの縦横比の差による配向現象が発生した。しかし、本発明の一実施例に係るガラスバブル１００は球状であるので、配向現象が発生せず、配向現象による外観不良を防止できるようになる。
また、本発明の一実施例に係るガラスバブル１００は、その内部に中空１１０を含むので、既存のパール／メタル粒子に比べて比重を低くすることができる。ガラスバブル１００の比重を、外装材として使用される樹脂の比重と同一または類似の水準に合わせると、ガラスバブル１００と樹脂の流動パターンの差を效果的に防止することができる。
本発明の一実施例に係るガラスバブル１００は、０．２〜２．５の比重を有する。製品の外装材を構成する樹脂、特に、合成樹脂であるプラスチックの比重は、０．２〜２．５の範囲を有するので、本発明の一実施例に係るガラスバブル１００をプラスチックとコンパウンディングして射出する場合、流動パターンの差による外観不良を防止できるようになる。
また、中空の大きさを調節するなどの様々な方式でガラスバブル１００の比重を制御することによって、外装材として使用しようとする素材とガラスバブル１００との比重の差を極小化させることができる。ガラスバブル１００の比重を０．９５〜１．４の範囲に調節すると、０．９５〜１．４の比重を有するプラスチックとコンパウンディングして射出させる時にも、流動パターンの差を防止することができる。
図３に示すように、ガラスバブル１００は、多様な大きさに製造することができ、ガラスバブル１００の直径は、５〜７００μmの範囲で多様な大きさに制御することができる。
図４Ａ乃至図４Ｃには、本発明の一実施例に係るガラスバブル１００の表面処理工程が示されている。
めっき（ｐｌａｔｉｎｇ）は、めっきさせようとする物質の表面を他の物質の薄い層で被覆するものであって、ガラスバブル１００の表面をアルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）などの金属物質からなる薄い層で被覆して、メタル質感を具現することができる。めっきは、湿式めっきと乾式めっきとに大別することができ、ガラスバブル１００の表面処理方法としては、湿式めっき及び乾式めっきの両方とも適用可能である。
例えば、湿式めっきの一つである浸漬めっきを適用して、溶融された金属物質が含まれているめっき槽の中にガラスバブル１００を入れ、その表面に溶融金属の被膜を形成することができる。
以下、乾式めっきに該当するスパッタリング、真空蒸着及びイオンめっきを適用してガラスバブルを表面処理する工程について具体的に説明する。
図４Ａには、スパッタリングによるガラスバブル１００の表面処理工程が示されており、図４Ｂには、真空蒸着によるガラスバブル１００の表面処理工程が示されており、図４Ｃには、イオンめっきによるガラスバブル１００の表面処理工程が示されている。
スパッタリング（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）は、真空チャンバの中で気体をイオン化加速して固体試料に衝突させ、衝突時に発生するエネルギーにより固体試料から原子が飛び出すようにする方法である。
図４Ａを参照すると、スパッタリング装置４００は、スパッタリングが起こる真空チャンバ４２０と、真空チャンバ内にガスを供給するガス供給システム４１０とを含む。ガス供給システムのうちガスチャンバ４１２には、イオン化させる気体が貯蔵され、当該実施例では、アルゴン（Ａｒ）ガスを貯蔵することとする。真空チャンバ４２０は、真空ポンプ４２３によって真空状態に維持され、真空チャンバ４２０とガスチャンバ４１２とを連結する質量流量計４１１を調節して、真空チャンバ４２０内にアルゴンガスを注入する。
一般的には、真空チャンバの上部に表面処理される基板が装着され、下部にターゲット試料が位置するが、図４Ａの実施例では、表面処理される物質が粒子形状のガラスバブル１００である点を勘案して、真空チャンバ４２０の上部にターゲット試料が装着され、下部にガラスバブル１００が位置することとする。ガラスバブル１００は、真空チャンバ４２０の下部に装着された試片ホルダー４２４に収容することができる。
ガン（ｇｕｎ）４２２は、電源供給部４２１を介して負極に連結されており、電源供給部４２１がガン４２２に電源を供給すると、負の電場が生成され、放電が開始されてプラズマが発生するようになる。このとき、真空チャンバ４２０に注入されたアルゴンガスは、一次及び二次電子との衝突によりイオン化されて、陽イオンであるＡｒ＋と電子とに分離される。そして、Ａｒ＋は、電場の力を受けて、負極として作用するターゲット試料Ｍの側に加速されて引っ張られるようになり、加速されたＡｒ＋がターゲット試料Ｍに衝突して、ターゲット試料Ｍの表面にエネルギーを伝達し、そのエネルギーによってターゲット試料Ｍの原子が飛び出す。飛び出した原子は、真空チャンバ４２０の下部に位置するガラスバブル１００の表面に付着される。
ターゲット試料Ｍとして、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）などの金属物質を使用すると、ガラスバブル１００の表面にメタル質感の具現のための表面処理を行うことができるようになる。
真空蒸着（ｖａｃｕｕｍ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）は、真空状態で気体に蒸発した原子や分子が低い温度の他の物体に会って、その表面に再び固体状態で凝縮される原理を用いたものである。以下、図４Ｂを参照して、真空蒸着の方法によりガラスバブル１００を表面処理する実施例を説明する。
図４Ｂを参照すると、真空ポンプ５１０によって高真空状態が維持される真空チャンバ５２０の下部に、ガラスバブル１００が収容された試片ホルダー５２２を位置させ、上部にガラスバブル１００の表面にコーティングするターゲット試料Ｍが装着された試料ホルダー５２１を位置させる。電気的抵抗を与えたり、電子ビームで打撃してターゲット試料Ｍを加熱すると、ターゲット試料Ｍは気体化されて蒸発しながら分散される。ガラスバブル１００は、気体化されたターゲット試料Ｍに比べて非常に低い温度を有しているので、ガラスバブル１００に到達した気体原子Ｍは、ガラスバブル１００の表面で凝縮し、薄膜化がなされるようになる。
同様に、ターゲット試料Ｍとして、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）などの金属物質を使用すると、ガラスバブル１００の表面にメタル質感の具現のための表面処理を行うことができるようになる。
図４Ｃを参照すると、アルゴンガスが収容されたガスチャンバ６１２を、ガス供給システム６１０の質量流量計６１１を介して真空チャンバ６２０に連結し、真空ポンプ６２３によって真空状態に維持された真空チャンバ６２０の下部には、ガラスバブル１００が収容された試片ホルダー６２２を位置させ、真空チャンバ６２０の上部には、ガラスバブル１００の表面に被覆するターゲット試料Ｍが装着された試料ホルダー６２１を位置させる。電源供給部６２４を介して試片ホルダー６２２に負電圧をかけ、真空チャンバ６２０内にアルゴンガスを注入すると、プラズマが発生する。そして、上述した真空蒸着方法で用いたものと同一の方法によりターゲット試料Ｍを加熱して蒸発させると、蒸発した金属粒子はプラズマによってイオン化状態に励起され、イオン化された金属粒子（Ｍ＋）は、負電圧がかかった試片ホルダー６２２に収容されたガラスバブル１００の表面に衝突することによって、非常に大きなエネルギーを有した状態で吸着されて薄膜を形成するようになる。
同様に、ターゲット試料Ｍとして、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）などの金属物質を使用すると、ガラスバブル１００の表面にメタル質感の具現のための表面処理を行うことができるようになる。
上述した図４Ａ乃至図４Ｃの実施例では、ガラスバブル１００をチャンバの下部に位置させ、ターゲット試料をチャンバの上部に位置させることとしたが、本発明の実施例がこれに限定されるものではなく、ガラスバブルの表面をターゲット試料の原子またはイオンによって效率的に表面処理できるようにする様々な方式を適用することができる。
また、上述した図４Ａ乃至図４Ｃの実施例において、ガラスバブル１００が収容されたホルダー４２４，５２２，６２２を振動または回転させることで、球状であるガラスバブル１００の表面全体が均一に表面処理されるようにすることができる。
上述した表面処理方法は、本発明に係るガラスバブル１００に表面処理層１３０を形成する一実施例に過ぎず、上記の方法以外にも、様々な表面処理方法を適用してガラスバブル１００の表面がメタル質感の特性を有するようにすることができる。
本発明の一実施例に係るガラスバブル１００は、プラスチックとコンパウンディングして射出することができる。このとき、ガラスバブル１００とプラスチックの混練性のために、プラスチック原料にガラスバブル１００を高濃度に濃縮してマスターバッチの形態に製造した後に、製造されたマスターバッチをプラスチック原料と共にコンパウンディング（ｃｏｍｐｏｕｎｄｉｎｇ）することができる。
図５Ａには、本発明の一実施例に係るマスターバッチ２００の構造を示しており、図５Ｂには、本発明の一実施例に係るマスターバッチ２００をプラスチックとコンパウンディングする工程を示している。
本発明の一実施例に係るマスターバッチ２００は、０．１〜５０重量％のガラスバブル１００をプラスチック原料１１と均一に混合することによって製造され、前記マスターバッチ２００は、０．５〜２．３の比重を有することができる。このとき、ガラスバブル１００とプラスチック原料１１とが均一によく混合できるように分散補助剤を共に添加することができ、プラスチック射出品の耐候性及び耐久性を向上させるために、酸化防止剤やＵＶ安定剤などのその他の添加剤を共に混合することができる。
図５Ａに示すように、本発明の一実施例に係るマスターバッチ２００は、プラスチック原料１１にガラスバブル１００が均一に分散された形態に製造することができ、ペレット（ｐｅｌｌｅｔ）形状に製造してもよく、板状またはフレーク状などに製造してもよい。また、前記ガラスバブル１００は、プラスチック以外にも様々な種類の樹脂に分散されてマスターバッチを構成することができる。
製造されたマスターバッチ２００は、図５Ｂに示すように、プラスチック原料１１と共にコンパウンディングして、射出成形（ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ ｍｏｌｄｉｎｇ）に用いることができる。このとき、マスターバッチ２００及びプラスチック原料１１を含むコンパウンド（ｃｏｍｐｏｕｎｄ）３００は、数ｍｍの円筒形または四角形のチップに作ることができる。
前記実施例は、ガラスバブル１００がプラスチック素材にメタル質感を付与することとしたが、本発明の実施例がこれに限定されるものではなく、本発明の実施例に係るガラスバブル１００は、プラスチック以外にも、製品の外装材として使用される様々な素材に適用されて、メタル質感を付与することができる。
前述した実施例は、メタル質感の具現のための金属粒子を樹脂と直接コンパウンディングすることではなく、金属粒子を樹脂と似た比重を有するガラスバブルの表面にコーティングした後に、前記ガラスバブルと樹脂をコンパウンディングすることによって、金属粒子と樹脂の混練性の不良による問題点を解決しようとした。
以下、詳述する実施例は、樹脂粒子自体を金属粒子を用いて表面処理することによって、射出時に樹脂が溶融しながら、前記表面処理に使用された金属粒子が樹脂粒子どうし間に均一に分布して、均一なメタル質感を具現できるようにする。
図６には、本発明の一実施例に係る樹脂粒子の断面図が示されている。射出成形に使用される樹脂粒子は、ペレット（ｐｅｌｌｅｔ）形状であってもよい。以下、詳述する実施例では、樹脂粒子が樹脂ペレットであるものとして説明する。図６を参照すると、本発明の一実施例に係る樹脂ペレット５０は、金属粒子によって表面処理され、その表面に金属膜５１が形成される。表面処理に使用される金属は、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、亜鉛（Ｚｎ）などのメタル質感を具現することができる金属であればよく、その種類に制限はない。
図６に示すように、本発明の一実施例に係る樹脂ペレット５０は、その表面に金属膜５１が形成されているので、射出のために樹脂ペレット５０を溶融させると、金属膜５１を形成していた金属粒子が樹脂に均一に分布され、樹脂と共に流動するようになり、樹脂と金属粒子の流動パターンの差による金属粒子の集中、不足現象などの外観不良を減少させることができる。
樹脂ペレット５０の表面に金属膜を形成するための一実施例として、めっき（ｐｌａｔｉｎｇ）工程を適用することができる。以下、樹脂ペレット５０の表面に金属膜５１を形成するための工程を具体的に説明する。
前述したように、めっき（ｐｌａｔｉｎｇ）は、めっきさせようとする物質の表面を他の物質の薄い層で被覆するものであって、樹脂ペレット５０の表面をアルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ)、亜鉛（Ｚｎ）などの金属物質からなる薄い層で被覆して金属膜５１を形成することができる。
本発明の実施例では、真空蒸着、スパッタリング、イオンめっきなどの乾式めっきと、浸漬めっき、スプレーめっき、無電解めっきなどの湿式めっきのいずれも適用することができる。
図７には、本発明の一実施例に係る樹脂ペレットの表面に金属膜を形成するための無電解めっき工程をフローチャートで示している。
無電解めっきは、化学変化を用いて金属または非金属の表面に他の金属の被膜を形成する方法であって、外部から直接電気の供給を受けずに、化学的な還元作用により金属イオンを被覆する方法である。下記の実施例では、樹脂ペレットの表面５０に銅膜を形成する工程を説明する。
図７を参照すると、まず、樹脂ペレット５０を洗浄するために、樹脂ペレット５０の表面に存在する酸化物や異物などを、酸またはアルカリ界面活性剤が含まれた薬品で除去する（Ｓ６１）。除去した後には、界面活性剤を完全に水洗する。洗浄工程に応じて樹脂ペレット５０の表面粗さが変わり、これは、以後に進行する触媒処理においてパラジウム（ｐａｌｌａｄｉｕｍ）溶液の蒸着に重要な影響を与える。
その後、エッチング工程を行う。そのために、クロム酸などを用いて樹脂ペレット５０の表面を化学的に粗化させて、鋸歯状などの凹凸を形成する（Ｓ６２）。樹脂ペレット５０の表面に形成された凹凸は、接触面積を増加させて、めっき膜と表面の密着性を向上させる。
エッチング工程を経た樹脂ペレット５０の表面に触媒粒子をコーティングして触媒処理を行う（Ｓ６３）。触媒粒子は、めっきを促進する核の役割をし、Ｐｄ−Ｓｎ化合物が主に用いられる。触媒粒子中のＰｄ２−は、めっきされる粒子であるＣｕ２＋と結合することによって、めっきを促進する。触媒処理の一実施例として、樹脂ペレット５０をＳｎＣｌ２溶液に１分程度露出させた後に洗浄し、再びＰｄＣｌ２で１分間露出させると、樹脂ペレット５０の表面にＰｄ−Ｓｎ核が形成される。
その後、触媒処理を通じて樹脂ペレット５０の表面にＰｄ−Ｓｎ化合物がコーティングされた状態で、ＳｎとＰｂを強制的にイオン化させる活性化処理を行う（Ｓ６４）。これは、銅めっきの伝導性及び親和力を高めるためのもので、イオン化されたＳｎ成分は、ろ過システムによって樹脂ペレット５０から除去され、金属パラジウム（Ｐｂ）のみが残るようになる。
次に、活性化処理された樹脂ペレット５０をめっき溶液に露出させて、樹脂ペレット５０の表面にめっき膜、すなわち、銅膜５１を形成する（Ｓ６５）。めっき溶液は、めっきされる金属イオンを提供する硫酸銅（ＣｕＳＯ４）、還元剤であるホルマリン（ＨＣＨＯ）、及びＰＨ調整剤であるＮａＯＨまたはＴＭＡＨ（Ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）を含む。還元剤としては、Ｎａ３Ｃ６Ｈ５Ｏ７、ＮａＣＯ２ＣＨ３、ヒドラジンまたは水素化ホウ素化合物などを用いることも可能であり、ＰＨ調整剤は、場合によって、アンモニア水（ＮＨ４ＯＨ）を用いたり、塩酸（ＨＣｌ）を用いることもできる。
また、めっき溶液中の金属イオンが、触媒面でのみ金属析出反応を起こすものではなく、溶液と接触する全ての面及び溶液中のコロイド粒子の表面で金属析出反応を起こして急激に溶液が分解される自発的分解を防止するための安定剤をさらに含むことができる。安定剤は、主に鉛の塩化物、硫化物、窒化物、チオ尿素などを用いる。
前記工程を全て経ると、無電解銅めっきによって、表面に銅めっき膜５１が形成された樹脂ペレット５０を得ることができる。ただし、必要によって、前記工程中の一部を省略したり、他の工程をさらに追加することができる。
前記図７の実施例では、樹脂ペレット５０の表面に銅めっき膜を形成することとしたが、これは本発明の一実施例に過ぎず、銅以外にも様々な金属イオンをめっき溶液に含ませて、樹脂ペレット５０の表面にめっき膜５１を形成することができる。また、前記図７の実施例で使用された各種添加剤及び溶液もまた例示に過ぎず、本発明に係る樹脂ペレットの表面処理方法がこれに限定されるものではない。
本発明の一実施例に係る樹脂ペレット５０の表面処理には、前述した無電解めっきなどの湿式めっき以外に乾式めっきも適用することができる。以下、乾式めっきによって樹脂ペレット５０を表面処理するいくつかの実施例について説明する。
図８Ａには、樹脂ペレット５０の表面をスパッタリングによりめっきする工程が示されており、図８Ｂには、樹脂ペレット５０の表面を真空蒸着によりめっきする工程が示されており、図８Ｃには、樹脂ペレット５０の表面をイオンめっきによりめっきする工程が示されている。
スパッタリング、真空蒸着、及びイオンめっきの具体的な工程については前述したガラスバブルの表面処理で説明したので、図８Ａ乃至図８Ｃでは簡略に説明することにし、各工程に使用される装置の図面符号は、図４Ａ乃至図４Ｃで使用したものと同じ符号を使用する。
図８Ａを参照すると、真空チャンバ４２０の上部にはめっきされる物質であるターゲット試料Ｍが装着され、下部には樹脂ペレット５０が収容された試片ホルダー４２４が位置する。ターゲット試料Ｍと樹脂ペレット５０の位置は、樹脂ペレット５０が粒子の形状であることを勘案したもので、樹脂ペレット５０を真空チャンバ４２０の上部に固定させることができれば、ターゲット試料Ｍとその位置が変わっても関係ない。
ガン４２２は、電源供給部４２１を介して負極に連結され、電源供給部４２１がガン４２２に電源を供給すると、負の電場が生成されて放電が開始され、プラズマが発生するようになる。
このとき、真空チャンバ４２０に注入されたアルゴンガスは、一次及び二次電子との衝突によりイオン化され、陽イオンであるＡｒ＋と電子とに分離される。そして、Ａｒ＋は、電場の力を受けて、負極として作用するターゲット試料Ｍの側に加速されて引っ張られるようになり、加速されたＡｒ＋がターゲット試料Ｍに衝突して、ターゲット試料Ｍの表面にエネルギーを伝達し、そのエネルギーによってターゲット試料Ｍの原子が飛び出す。飛び出した原子は、真空チャンバ４２０の下部に位置する樹脂ペレット５０の表面に付着される。
図８Ｂを参照すると、真空ポンプ５１０によって高真空状態が維持される真空チャンバ５２０の下部に、樹脂ペレット５０が収容された試片ホルダー５２２を位置させ、上部に樹脂ペレット５０の表面にコーティングするターゲット試料Ｍが装着された試料ホルダー５２１を位置させる。電気的抵抗を与えたり、電子ビームで打撃してターゲット試料Ｍを加熱すると、ターゲット試料Ｍは気体化されて蒸発しながら分散される。樹脂ペレット５０は、気体化されたターゲット試料Ｍに比べて非常に低い温度を有しているので、樹脂ペレット５０に到達した気体原子Ｍは、樹脂ペレット５０の表面で凝縮し、薄膜化がなされるようになる。
図８Ｃを参照すると、アルゴンガスが収容されたガスチャンバ６１２を、ガス供給システム６１０の質量流量計６１１を介して真空チャンバ６２０に連結し、真空ポンプ６２３によって真空状態に維持される真空チャンバ６２０の下部には、樹脂ペレット５０が収容された試片ホルダー６２２を位置させ、真空チャンバ６２０の上部には、樹脂ペレット５０の表面に被覆するターゲット試料Ｍが装着された試料ホルダー６２１を位置させる。電源供給部６２４を介して試片ホルダー６２２に負電圧をかけ、真空チャンバ６２０内にアルゴンガスを注入すると、プラズマが発生する。そして、上述した真空蒸着方法で用いたものと同一の方法によりターゲット試料Ｍを加熱して蒸発させると、蒸発した金属粒子はプラズマによってイオン化状態に励起され、イオン化された金属粒子（Ｍ＋）は、負電圧がかかった試片ホルダー６２２に収容された樹脂ペレット５０の表面に衝突することによって、非常に大きなエネルギーを有した状態で吸着されて薄膜を形成するようになる。
樹脂ペレット５０の表面にめっきしようとする金属物質をターゲット試料Ｍとすると、前記図８Ａ乃至図８Ｃに示された工程によって所望の金属物質を樹脂ペレット５０の表面にめっきすることができる。
また、上述した図８Ａ乃至図８Ｃの実施例において、樹脂ペレット５０が収容されたホルダー４２４，５２２，６２２を振動または回転させることで、樹脂ペレット５０の表面全体が均一にめっきされるようにすることができる。
図９には、本発明の一実施例に係るマスターバッチと樹脂原料、または本発明の一実施例に係る樹脂ペレット５０を含む射出品の製造例が示されている。図９を参照すると、マスターバッチ２００と樹脂原料１１とを含むコンパウンド３００または樹脂ペレット５０を、射出成形機７００のホッパー７２０に入れて加熱シリンダー７４０に供給する。使用される樹脂原料の溶融点を考慮して、ヒーターがコンパウンド３００または樹脂ペレット５０を加熱すると、コンパウンドまたは樹脂ペレット５０は溶融状態に変化し、油圧モータ７１０がスクリュー７３０を押すと、溶融されたコンパウンドまたは樹脂ペレット５０は、スクリュー７３０によって金型７５０に流れ込む。金型７５０は、射出品の用途に応じて多様な形状を有することができ、図９の実施例では、射出品８００として、メタル質感が出るプラスチックの携帯電話外装材を製造するために、携帯電話外装材の形状の金型が使用された。
マスターバッチ２００と樹脂原料１１とを含むコンパウンド３００を射出した場合には、マスターバッチ２００に含まれたガラスバブル１００の比重が樹脂、特にプラスチックと似ており、流動パターンの差による射出品の外観不良現象を防止することができる。
表面に金属膜５１が形成された樹脂ペレット５０を射出した場合には、樹脂ペレット５０が溶融されながら、金属膜５１に含まれた金属粒子が樹脂ペレット５０どうし間に均一に分布して、金属粒子の集中、不足現象を防止することができる。これによって、本発明の実施例に係る射出品８００は、射出品自体として均一なメタル質感を具現できるようになる。
図９の実施例は、本発明の実施例に係る射出品を製造するための一実施例に過ぎず、射出品の種類によって様々な方式で射出成形を行うことができる。
また、ガラスバブル１００が外装材の素材とコンパウンディングされて射出に利用されること以外にも、様々な方式で外装材にメタル質感を付与することができる。上述した実施例に係るガラスバブル１００によれば、工程の簡素化によるコスト節減を図ることができ、上述した実施例に係る射出品８００は、環境に優しく、再利用可能である。
また、外装材の素材との比重の差を極小化することによって、流動パターンの差による外観不良を防止でき、ガラスバブル１００の形状は球状であるので、配向現象による外観不良を防止することができる。
また、上述した実施例に係るマスターバッチによれば、外装材の素材として使用される樹脂との混練性が向上して、より一層優れたメタル質感を具現することができる。また、上述した実施例に係る樹脂ペレットによれば、射出時に別途の金属粒子をコンパウンディングしなくても、樹脂自体としてメタル質感を具現することができるので、樹脂と金属粒子の流動パターンの差による外観不良現象を防止することができる。
５０ 樹脂ペレット
１００ ガラスバブル
１１０ 中空
１２０ シェル
１３０ 表面処理層
２００ マスターバッチ
１００ ガラスバブル
１１０ 中空
１２０ シェル
１３０ 表面処理層
２００ マスターバッチ
Claims (15)
- 球状のシェル（Ｓｈｅｌｌ）と、
前記シェルの表面に形成される表面処理層とを含み、
前記球状のシェルは、比重が減少するようにその内部に中空が形成され、前記表面処理層は、メタル質感を具現する表面処理によって形成される、ガラスバブル。 - 前記表面処理層は、金属粒子を含む、請求項１に記載のガラスバブル。
- 前記表面処理は、
金属物質を用いたスパッタリング、めっき、及び蒸着のうち少なくとも一つを含む、請求項１に記載のガラスバブル。 - 前記ガラスバブルの比重は、０．２〜２．５である、請求項１に記載のガラスバブル。
- 前記ガラスバブルの直径は、５〜７００μmである、請求項１に記載のガラスバブル。
- 前記ガラスバブルの比重は、０．９５〜１．４である、請求項４に記載のガラスバブル。
- 球状のシェル（Ｓｈｅｌｌ）と、前記シェルの表面に形成される表面処理層とを含み、前記球状のシェルは、比重が減少するようにその内部に中空が形成され、前記表面処理層は、メタル質感を具現する表面処理によって形成されるガラスバブルと、
前記ガラスバブルが分散されている樹脂と、を含む、マスターバッチ。 - 前記樹脂は、プラスチックである、請求項７に記載のマスターバッチ。
- 前記ガラスバブルの比重は、０．２〜２．５である、請求項８に記載のマスターバッチ。
- 前記表面処理は、
金属物質を用いたスパッタリング、めっき、及び蒸着のうち少なくとも一つを含む、請求項８に記載のマスターバッチ。 - 前記ガラスバブルの重量比は、０．１〜５０重量％である、請求項８に記載のマスターバッチ。
- 球状のシェル（Ｓｈｅｌｌ）と、前記シェルの表面に形成される表面処理層とを含み、前記球状のシェルは、比重が減少するようにその内部に中空が形成され、前記表面処理層は、メタル質感を具現する表面処理によって形成されるガラスバブルと、前記ガラスバブルが分散されている樹脂と、を含むマスターバッチ及び前記樹脂がコンパウンディングされて射出された、射出品。
- 前記マスターバッチは、
前記ガラスバブルの重量比が０．１〜５０重量％である、請求項１２に記載の射出品。 - 前記ガラスバブルの比重は、０．２〜２．５である、請求項１２に記載の射出品。
- 前記表面処理は、
金属物質を用いたスパッタリング、めっき、及び蒸着のうち少なくとも一つを含む、請求項１２に記載の射出品。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2012-0036870 | 2012-04-09 | ||
| KR20120036870 | 2012-04-09 | ||
| KR10-2012-0063961 | 2012-06-14 | ||
| KR1020120063961A KR20130114551A (ko) | 2012-04-09 | 2012-06-14 | 글라스 버블, 이를 포함하는 마스터 배치 및 표면에 금속막이 형성된 수지 입자 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013216567A true JP2013216567A (ja) | 2013-10-24 |
Family
ID=48190704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013081328A Pending JP2013216567A (ja) | 2012-04-09 | 2013-04-09 | ガラスバブル、それを含むマスターバッチ、及び表面に金属膜が形成された樹脂粒子 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20130267630A1 (ja) |
| EP (1) | EP2650265A1 (ja) |
| JP (1) | JP2013216567A (ja) |
| CN (1) | CN103360627A (ja) |
| WO (1) | WO2013154291A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3162800A4 (en) | 2014-06-24 | 2018-01-10 | Tets, Viktor Veniaminovich | Fungicidal agent |
| US9809493B2 (en) * | 2015-04-27 | 2017-11-07 | Ford Global Technologies, Llc | Surface treatment of glass bubbles |
| KR101886537B1 (ko) * | 2016-12-28 | 2018-08-07 | 현대자동차주식회사 | Sls 방식 3d 프린터를 이용한 물성이 균등한 3차원 입체 형상 제품의 제조 방법 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3769831A (en) * | 1971-10-13 | 1973-11-06 | Itt | Densitometer |
| GB2056502B (en) * | 1979-08-21 | 1983-11-02 | Rolls Royce | Metal coated glass particles for flame spraying |
| US4459145A (en) * | 1982-09-30 | 1984-07-10 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Fabrication of glass microspheres with conducting surfaces |
| US4618525A (en) * | 1985-06-03 | 1986-10-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated glass microbubbles and article incorporating them |
| US5182318A (en) * | 1991-01-10 | 1993-01-26 | Savin Roland R | Coating composition containing metal-coated microspheres exhibiting improved resistance to environmental attack of metallic substrates |
| WO1996007538A1 (en) * | 1994-09-06 | 1996-03-14 | Thermacell Technologies, Inc. | Insulation microspheres and method of manufacture |
| US7531583B2 (en) * | 2005-05-28 | 2009-05-12 | Valeo, Inc. | Composition useful in manufacturing automotive components |
| US8962130B2 (en) * | 2006-03-10 | 2015-02-24 | Rohr, Inc. | Low density lightning strike protection for use in airplanes |
| KR20110017086A (ko) * | 2009-08-13 | 2011-02-21 | 한일이화주식회사 | 금속안료를 첨가한 경량 합성수지 조성물 |
| KR101144110B1 (ko) * | 2009-11-30 | 2012-05-24 | 현대자동차주식회사 | Ｔｐｏ 나노복합재 조성물 |
| KR20110114213A (ko) * | 2010-04-13 | 2011-10-19 | 한일이화주식회사 | 불소처리된 글래스 버블을 포함하는 고분자 합성수지 조성물 및 이를 이용한자동차 내외장재 |
-
2013
- 2013-04-02 WO PCT/KR2013/002724 patent/WO2013154291A1/en active Application Filing
- 2013-04-05 EP EP13162487.6A patent/EP2650265A1/en not_active Withdrawn
- 2013-04-08 CN CN2013101193543A patent/CN103360627A/zh active Pending
- 2013-04-09 US US13/859,090 patent/US20130267630A1/en not_active Abandoned
- 2013-04-09 JP JP2013081328A patent/JP2013216567A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2013154291A1 (en) | 2013-10-17 |
| CN103360627A (zh) | 2013-10-23 |
| EP2650265A1 (en) | 2013-10-16 |
| US20130267630A1 (en) | 2013-10-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100494050B1 (ko) | 고분자 소재 표면의 금속피막 도금방법 및 이를 이용한전자파 차폐방법 | |
| CN104911568B (zh) | 一种选择性化学镀的方法 | |
| Equbal et al. | Investigations on metallization in FDM build ABS part using electroless deposition method | |
| JPH0299170A (ja) | 結晶性熱可塑性樹脂成形品の静電塗装方法並びに塗装プラスチックス成形品 | |
| JP2019526711A (ja) | ポリマー物品表面に導電性トレースを形成する方法 | |
| JP2013216567A (ja) | ガラスバブル、それを含むマスターバッチ、及び表面に金属膜が形成された樹脂粒子 | |
| EP2087147A1 (fr) | Procede non electrolytique perfectionne de metallisation d'un substrat par voie de reduction de sel(s) metallique(s) et par projection d'aerosol(s) | |
| US20160097128A1 (en) | Method of forming a conductive image using high speed electroless plating | |
| JP6072330B2 (ja) | パターンめっき用無電解めっき前処理インキ組成物及び無電解めっき皮膜の形成方法 | |
| Chen et al. | Tough bonding of metallic layers to hydrocarbon surfaces by depositing Ag films | |
| KR20130114551A (ko) | 글라스 버블, 이를 포함하는 마스터 배치 및 표면에 금속막이 형성된 수지 입자 | |
| WO2015093165A1 (ja) | 熱硬化性樹脂成形品及びその製造方法 | |
| KR102232079B1 (ko) | 비 전도성 플라스틱의 표면특성 개선을 위한 도금방법 | |
| Praveen | Electroplating of 3D-Printed Components | |
| CN106048610A (zh) | 一种在abs制品表面制备纳米陶瓷涂层界面的方法 | |
| KR20030094867A (ko) | 도전성 수지 분말의 제조방법 | |
| KR20060037928A (ko) | 도전성 수지 분말의 제조 방법 | |
| CN110424013B (zh) | 一种塑料制品表面金属化方法及制品 | |
| JP5618282B1 (ja) | 熱硬化性樹脂成形品及びその製造方法 | |
| Schlesinger | Deposition on Nonconductors | |
| CN103596380A (zh) | 一种在绝缘导热板上镀铜的方法 | |
| JP2012126956A (ja) | 基材への無機材料付与による表面改質方法及び装置 | |
| CN113560736A (zh) | 一种使用激光选择性活化绝缘材料制造导电图案的方法 | |
| CN111101095A (zh) | 一种塑料基材无铬金属化的方法 | |
| Equbal et al. | Electroplating of FDM Parts: A comparison via two different routes |