JP2013211477A - Manufacturing method of printed wiring board - Google Patents

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行紀 太田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To unfailingly remove a seed layer so as to prevent an undercut part from occurring below a wiring pattern even when the seed layer includes a metal other than copper.SOLUTION: A printed wiring board is manufactured in a method described as follows. A seed layer 2 is formed on a surface 1a of a resin base material 1, and a plating resist 3 is patterned. Then, plating process is performed on the exposed seed layer 2 to form a wiring pattern 4. The plating resist 3 is removed to expose unwanted seed layer 2. A laser beam L is radiated to an entire surface 1a of the resin base material 1 to remove the unwanted seed layer 2.

Description

この発明は、電子機器に用いられるプリント配線板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board used in an electronic device.

従来より、プリント配線板の製造方法として、セミアディティブ法が多用されている(特許文献1参照)。セミアディティブ法は、絶縁性の樹脂基材上に無電解めっきによるシード層を形成し、シード層の上に電解銅めっきにより導体回路を形成した後、不要な無電解めっきによるシード層を除去して導体回路の配線パターンを形成する方法である。シード層除去時には、シード層と電解銅めっき層との膜質の違いにより、シード層が余計に除去されて導体回路にアンダーカットが生じることがある。   Conventionally, a semi-additive method has been frequently used as a method of manufacturing a printed wiring board (see Patent Document 1). In the semi-additive method, a seed layer is formed by electroless plating on an insulating resin substrate, a conductor circuit is formed on the seed layer by electrolytic copper plating, and then the seed layer is removed by unnecessary electroless plating. This is a method of forming a wiring pattern of a conductor circuit. When the seed layer is removed, the seed layer may be removed excessively due to the difference in film quality between the seed layer and the electrolytic copper plating layer, and the conductor circuit may be undercut.

特許文献1には、不要な無電解めっきによるシード層を除去するに際し、形成された配線パターンの下方にアンダーカット部分が生じないように無電解銅めっき層と電解銅めっき層のエッチングレートが一致するように調製されたエッチング剤が開示されている。   In Patent Document 1, when removing a seed layer by unnecessary electroless plating, the etching rates of the electroless copper plating layer and the electrolytic copper plating layer match so that an undercut portion does not occur below the formed wiring pattern. An etchant prepared to do so is disclosed.

特開2009−149971号公報JP 2009-149971 A

しかしながら、上記特許文献1に開示されたエッチング剤は、無電解銅めっきにより形成されるシード層の除去に使用されるものであるため、銅以外の金属を含むシード層を除去するには適していないという問題がある。   However, since the etching agent disclosed in Patent Document 1 is used for removing a seed layer formed by electroless copper plating, it is suitable for removing a seed layer containing a metal other than copper. There is no problem.

この発明は、上述した従来技術による問題点を解消し、銅以外の金属を含むシード層に対しても、配線パターンの下方にアンダーカット部分が生じることなく確実に除去することができるプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention eliminates the problems caused by the prior art described above, and can reliably remove a seed layer containing a metal other than copper without causing an undercut portion below the wiring pattern. It aims at providing the manufacturing method of.

本発明に係るプリント配線板の製造方法は、樹脂基材の主面にシード層を形成する工程と、前記シード層上にめっきレジストをパターン形成する工程と、前記めっきレジスト形成箇所以外の前記シード層上にめっきを施す工程と、前記めっきレジストを除去する工程と、前記めっきレジストが除去された箇所の前記シード層を除去する工程とを備えたプリント配線板の製造方法であって、前記シード層を除去する工程では、レーザ光を照射してシード層を除去することを特徴とする。   The method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention includes a step of forming a seed layer on a main surface of a resin base, a step of patterning a plating resist on the seed layer, and the seed other than the plating resist forming portion. A method of manufacturing a printed wiring board, comprising: a step of plating on a layer; a step of removing the plating resist; and a step of removing the seed layer where the plating resist has been removed. In the step of removing the layer, the seed layer is removed by irradiating with laser light.

本発明に係るプリント配線板の製造方法によれば、直進性に優れたレーザ光を照射することでシード層を除去するので、配線パターンの下方にアンダーカット部分が生じることなく確実にシード層を除去することができる。これにより、配線パターン下方のシード層と樹脂基材との密着性を向上させ、これらの間を起点とする剥離等の不具合を防止することができる。   According to the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, the seed layer is removed by irradiating a laser beam excellent in straightness, so that the seed layer is securely formed without an undercut portion below the wiring pattern. Can be removed. Thereby, the adhesiveness of the seed layer under the wiring pattern and the resin base material can be improved, and problems such as peeling starting from these can be prevented.

本発明の一実施形態においては、前記シード層を除去する工程の後に、前記樹脂基材上に接着層又は被覆層を形成する工程を備える。   In one Embodiment of this invention, the process of forming an contact bonding layer or a coating layer on the said resin base material is provided after the process of removing the said seed layer.

また、本発明の他の実施形態においては、前記シード層を除去する工程では、前記レーザ光を前記樹脂基材の主面側の全面に照射する。   In another embodiment of the present invention, in the step of removing the seed layer, the entire surface of the resin substrate is irradiated with the laser light.

本発明の更に他の実施形態においては、前記シード層を除去する工程で照射されるレーザ光の形状は、方形状である。   In still another embodiment of the present invention, the shape of the laser beam irradiated in the step of removing the seed layer is a square shape.

本発明の更に他の実施形態においては、前記シード層を除去する工程で照射されるレーザ光のエネルギー密度分布は、トップハット型である。   In still another embodiment of the present invention, the energy density distribution of the laser light irradiated in the step of removing the seed layer is a top hat type.

本発明の更に他の実施形態においては、前記シード層を除去する工程では、前記レーザ光を前記樹脂基材の主面側のパターン形状に応じて照射する。   In still another embodiment of the present invention, in the step of removing the seed layer, the laser beam is irradiated according to a pattern shape on the main surface side of the resin base material.

本発明によれば、銅以外の金属を含むシード層に対しても、配線パターンの下方にアンダーカット部分が生じることなく確実に除去することができる。   According to the present invention, a seed layer containing a metal other than copper can be reliably removed without causing an undercut portion below the wiring pattern.

本発明の一実施形態に係るプリント配線板の製造方法による製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process by the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on one Embodiment of this invention. 同製造方法によるプリント配線板を製造工程毎に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the printed wiring board by the manufacturing method for every manufacturing process. 同製造方法によるプリント配線板を製造工程毎に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the printed wiring board by the manufacturing method for every manufacturing process. 同製造方法に用いられるレーザの照射範囲を示す平面図である。It is a top view which shows the irradiation range of the laser used for the manufacturing method. 同製造方法に用いられるレーザのエネルギー分布を示す図である。It is a figure which shows the energy distribution of the laser used for the manufacturing method. 同製造方法により製造されたプリント配線板の断面図である。It is sectional drawing of the printed wiring board manufactured by the manufacturing method. 本発明の他の実施形態に係るプリント配線板の一部の製造工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the one part manufacturing process of the printed wiring board which concerns on other embodiment of this invention.

以下、添付の図面を参照して、この発明の実施の形態に係るプリント配線板の製造方法を詳細に説明する。   Hereinafter, a printed wiring board manufacturing method according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の一実施形態に係るプリント配線板の製造方法による製造工程を示すフローチャートである。図2及び図3は、この製造方法によるプリント配線板を製造工程毎に示す断面図である。図6は、この製造方法により製造されたプリント配線板の断面図である。   FIG. 1 is a flowchart showing manufacturing steps according to a method for manufacturing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention. 2 and 3 are cross-sectional views showing the printed wiring board according to this manufacturing method for each manufacturing process. FIG. 6 is a cross-sectional view of a printed wiring board manufactured by this manufacturing method.

まず、図1を参照しながら、本実施形態に係るプリント配線板の製造方法について説明する。図2(a)に示すように、樹脂基材1の表面(主面)1a上に、シード層2を形成する(ステップS100)。樹脂基材1は、例えばポリイミド樹脂等の絶縁樹脂からなる。   First, a method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2A, the seed layer 2 is formed on the surface (main surface) 1a of the resin substrate 1 (step S100). The resin substrate 1 is made of an insulating resin such as a polyimide resin.

シード層2は、例えば銅、ニッケル、クロム、チタン、タングステン、チタン及びタングステンの合金の中から選択される少なくとも1種類の金属を含む材料からなり、例えばスパッタリングや無電解めっき等により樹脂基材1の表面1a上に高い密着性を備えた状態で形成される。   The seed layer 2 is made of a material containing at least one kind of metal selected from, for example, copper, nickel, chromium, titanium, tungsten, an alloy of titanium and tungsten. For example, the resin base material 1 is formed by sputtering, electroless plating, or the like. It is formed in a state with high adhesion on the surface 1a.

次に、図2(b)に示すように、シード層2上に、めっきレジスト3をパターン形成し(ステップS102)、露出したシード層2上に電解銅めっき等のめっき処理を施して(ステップS104)、図2(c)に示すように、配線パターン4を形成する。配線パターン4を形成したら、図2(d)に示すように、めっきレジスト3を剥離等して除去し(ステップS106)、配線パターン4の周囲の不要なシード層2を露出させる。   Next, as shown in FIG. 2B, a plating resist 3 is patterned on the seed layer 2 (step S102), and a plating process such as electrolytic copper plating is performed on the exposed seed layer 2 (step S102). S104), as shown in FIG. 2C, the wiring pattern 4 is formed. When the wiring pattern 4 is formed, as shown in FIG. 2D, the plating resist 3 is removed by peeling or the like (step S106), and the unnecessary seed layer 2 around the wiring pattern 4 is exposed.

その後、図3(e)に示すように、樹脂基材1の表面1a側の全面にレーザ光Lを照射して、不要なシード層2を除去する(ステップS108)。   Thereafter, as shown in FIG. 3E, the unnecessary seed layer 2 is removed by irradiating the entire surface of the resin substrate 1 on the surface 1a side with the laser beam L (step S108).

上記ステップS108にて樹脂基材1の全面に照射されるレーザ光Lは、その形状が方形状であり、例えば短波長(波長400nm以下)のUVレーザや熱の伝搬の少ないパルス時間幅の短いレーザ(ピコ、フェムトレーザ等)が好適である。一般に、レーザ光の波長が短くなればなるほど金属に吸収されるレーザ光の割合が上がるので、短波長のレーザ光を照射することで、シード層2が銅以外の金属を含む場合であっても確実に除去することができる。   The laser light L irradiated on the entire surface of the resin base material 1 in step S108 has a square shape, for example, a short wavelength (wavelength 400 nm or less) UV laser or a short pulse time width with less heat propagation. A laser (pico, femto laser, etc.) is preferred. In general, the shorter the wavelength of the laser light, the higher the proportion of the laser light absorbed by the metal. Therefore, even if the seed layer 2 contains a metal other than copper by irradiating the laser light with a short wavelength. It can be removed reliably.

また、樹脂基材1の全面にレーザ光Lを照射してシード層2を除去することで、複雑な配線パターン4が形成されていたとしても、配線パターン4の下方にアンダーカット部分を生じることなくシード層2を除去することができる。樹脂基材1の面積がレーザ光Lの照射面積よりも大きい場合には、図4に示すように、レーザ光Lの照射位置をステップアンドリピート方式で縦方向及び横方向に移動させるようにすれば良い。   Moreover, even if the complicated wiring pattern 4 is formed by irradiating the entire surface of the resin substrate 1 with the laser light L and removing the seed layer 2, an undercut portion is generated below the wiring pattern 4. The seed layer 2 can be removed without any problem. When the area of the resin substrate 1 is larger than the irradiation area of the laser light L, the irradiation position of the laser light L is moved in the vertical and horizontal directions by a step-and-repeat method as shown in FIG. It ’s fine.

照射領域の端の部分では、エネルギーが低下することが考えられるので、照射領域を移動させるには、照射範囲が僅かに重なるようにすることが望ましい。また、シード層2の均一な除去を行うためには、照射されるレーザ光Lのエネルギー密度分布は、図5(a)のようなガウシアン集光ビームではなく、同図(b)に示すような、均一に照射可能なトップハット型であることが望ましい。   Since it is conceivable that energy is reduced at the end of the irradiation region, it is desirable that the irradiation ranges slightly overlap in order to move the irradiation region. In order to remove the seed layer 2 uniformly, the energy density distribution of the irradiated laser beam L is not a Gaussian focused beam as shown in FIG. 5A, but as shown in FIG. It is desirable that the top hat type can be uniformly irradiated.

なお、図6に示すように、例えば上記ステップS108でのシード層2の除去の後に、樹脂基材1の表面1a上に接着層5を形成するようにしても良い。また、この接着層5の代わりに、図示しないカバーレイフィルム、液状レジスト等の被覆層を形成するようにしても良い。   In addition, as shown in FIG. 6, you may make it form the contact bonding layer 5 on the surface 1a of the resin base material 1 after the removal of the seed layer 2 by said step S108, for example. Further, instead of the adhesive layer 5, a cover layer such as a coverlay film or a liquid resist (not shown) may be formed.

本実施形態に係る製造方法によれば、上記のようなレーザ光Lを照射することでシード層2を除去するので、配線パターン4の下方にアンダーカット部分が生じることなく確実にシード層2を除去可能である。そして、アンダーカット部分が生じないので、配線パターン4の下方のシード層2と樹脂基材1との密着性が向上し、両者間を起点とする剥離等が発生することもない。また、上記ステップS108において、樹脂基材1の表面1a側の全面にレーザ光Lを照射して、不要なシード層2を除去するときに、不要なシード層2が除去された樹脂基材1の表面1a及び/又は配線パターン4の上面4aが粗面化または表面改質される場合がある。そのため、レーザ光を照射した後の厚さが設計厚さとなるように、予め配線パターン4の厚さを厚く形成しておく必要がある。樹脂基材1の表面1a及び/又は配線パターン4の上面4aが粗面化または表面改質されることにより、接着層5や被覆層との密着性が向上する。   According to the manufacturing method according to the present embodiment, since the seed layer 2 is removed by irradiating the laser beam L as described above, the seed layer 2 is surely formed without an undercut portion below the wiring pattern 4. It can be removed. And since an undercut part does not arise, the adhesiveness of the seed layer 2 under the wiring pattern 4 and the resin base material 1 improves, and peeling etc. which originated in both do not generate | occur | produce. Further, in step S108, when the unnecessary seed layer 2 is removed by irradiating the entire surface on the surface 1a side of the resin base material 1 with the laser light L, the resin base material 1 from which the unnecessary seed layer 2 is removed. The surface 1a and / or the upper surface 4a of the wiring pattern 4 may be roughened or surface-modified. For this reason, it is necessary to form the wiring pattern 4 thick in advance so that the thickness after irradiation with laser light becomes the designed thickness. When the surface 1a of the resin substrate 1 and / or the upper surface 4a of the wiring pattern 4 is roughened or surface-modified, the adhesion with the adhesive layer 5 and the coating layer is improved.

図7は、本発明の他の実施形態に係るプリント配線板の一部の製造工程を示す断面図である。図7に示すように、上記ステップS108にてレーザ光Lを樹脂基材1の全面に照射する代わりに、パターンに応じて照射し、シード層2を除去するようにしても良い。なお、シード層2を確実に除去するため、レーザ光Lは、図示のように、パターンに少し重なるように照射することが望ましい。パターンが複雑でない場合は、このようにパターンに応じてレーザ光Lを照射した方がレーザエネルギー等の無駄がなく効率的である。なお、この場合にも、照射されるレーザ光Lは、その形状が方形状であることが好ましく、例えば短波長(波長400nm以下)のUVレーザや熱の伝搬の少ないパルス時間幅の短いレーザ(ピコ、フェムトレーザ等)が好適である。更に、シード層2の均一な除去を行うためには、照射されるレーザ光Lのエネルギー密度分布は、図5(a)のようなガウシアン集光ビームではなく、同図(b)に示すような、均一に照射可能なトップハット型であることが望ましい。また、上記ステップS108において、樹脂基材1の表面1a側のパターンに応じた箇所にレーザ光Lを照射して、不要なシード層2を除去するときに、不要なシード層2が除去された樹脂基材1の表面1a及び/又は配線パターン4の上面4aが粗面化または表面改質される場合がある。そのため、レーザ光を照射した後の厚さが設計厚さとなるように、予め配線パターン4の厚さを厚く形成しておく必要がある。樹脂基材1の表面1a及び/又は配線パターン4の上面4aが粗面化または表面改質されることにより、接着層5や被覆層との密着性が向上する。   FIG. 7 is a cross-sectional view showing a part of the manufacturing process of a printed wiring board according to another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 7, instead of irradiating the entire surface of the resin base material 1 with the laser beam L in step S108, the seed layer 2 may be removed by irradiating according to the pattern. In order to remove the seed layer 2 with certainty, it is desirable to irradiate the laser beam L so as to slightly overlap the pattern as shown. When the pattern is not complicated, it is more efficient to irradiate the laser beam L according to the pattern as described above without waste of laser energy or the like. Also in this case, the shape of the irradiated laser light L is preferably a square shape. For example, a UV laser with a short wavelength (wavelength of 400 nm or less) or a laser with a short pulse time width with little heat propagation ( Pico, femto laser, etc.) are preferred. Furthermore, in order to remove the seed layer 2 uniformly, the energy density distribution of the irradiated laser beam L is not a Gaussian focused beam as shown in FIG. 5A, but as shown in FIG. It is desirable that the top hat type can be uniformly irradiated. Further, in step S108, when the unnecessary seed layer 2 is removed by irradiating the portion corresponding to the pattern on the surface 1a side of the resin base material 1 with the laser beam L, the unnecessary seed layer 2 is removed. The surface 1a of the resin substrate 1 and / or the upper surface 4a of the wiring pattern 4 may be roughened or surface-modified. For this reason, it is necessary to form the wiring pattern 4 thick in advance so that the thickness after irradiation with laser light becomes the designed thickness. When the surface 1a of the resin substrate 1 and / or the upper surface 4a of the wiring pattern 4 is roughened or surface-modified, the adhesion with the adhesive layer 5 and the coating layer is improved.

1 樹脂基材
1a 表面
2 シード層
3 めっきレジスト
4 配線パターン
4a 上面
5 接着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin base material 1a Surface 2 Seed layer 3 Plating resist 4 Wiring pattern 4a Upper surface 5 Adhesive layer

Claims (6)

樹脂基材の主面にシード層を形成する工程と、
前記シード層上にめっきレジストをパターン形成する工程と、
前記めっきレジスト形成箇所以外の前記シード層上にめっきを施す工程と、
前記めっきレジストを除去する工程と、
前記めっきレジストが除去された箇所の前記シード層を除去する工程とを備えたプリント配線板の製造方法であって、
前記シード層を除去する工程では、レーザ光を照射してシード層を除去する
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。
Forming a seed layer on the main surface of the resin substrate;
Patterning a plating resist on the seed layer;
A step of plating on the seed layer other than the plating resist forming portion;
Removing the plating resist;
A method of manufacturing a printed wiring board comprising a step of removing the seed layer where the plating resist is removed,
In the step of removing the seed layer, the seed layer is removed by irradiating a laser beam.
前記シード層を除去する工程の後に、前記樹脂基材上に接着層又は被覆層を形成する工程を備えたことを特徴とする請求項1記載のプリント配線板の製造方法。   The method for producing a printed wiring board according to claim 1, further comprising a step of forming an adhesive layer or a coating layer on the resin base material after the step of removing the seed layer. 前記シード層を除去する工程では、前記レーザ光を前記樹脂基材の主面側の全面に照射することを特徴とする請求項1又は2記載のプリント配線板の製造方法。   3. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein, in the step of removing the seed layer, the laser beam is irradiated on the entire main surface side of the resin base material. 前記シード層を除去する工程で照射されるレーザ光の形状は、方形状であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のプリント配線板の製造方法。   The method of manufacturing a printed wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the shape of the laser beam irradiated in the step of removing the seed layer is a square shape. 前記シード層を除去する工程で照射されるレーザ光のエネルギー密度分布は、トップハット型であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載のプリント配線板の製造方法。   The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the energy density distribution of the laser light irradiated in the step of removing the seed layer is a top hat type. 前記シード層を除去する工程では、前記レーザ光を前記樹脂基材の主面側のパターン形状に応じて照射することを特徴とする請求項1又は2記載のプリント配線板の製造方法。   3. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein, in the step of removing the seed layer, the laser light is irradiated according to a pattern shape on a main surface side of the resin base material.
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