JP2013211477A - Manufacturing method of printed wiring board - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、電子機器に用いられるプリント配線板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board used in an electronic device.
従来より、プリント配線板の製造方法として、セミアディティブ法が多用されている(特許文献1参照)。セミアディティブ法は、絶縁性の樹脂基材上に無電解めっきによるシード層を形成し、シード層の上に電解銅めっきにより導体回路を形成した後、不要な無電解めっきによるシード層を除去して導体回路の配線パターンを形成する方法である。シード層除去時には、シード層と電解銅めっき層との膜質の違いにより、シード層が余計に除去されて導体回路にアンダーカットが生じることがある。 Conventionally, a semi-additive method has been frequently used as a method of manufacturing a printed wiring board (see Patent Document 1). In the semi-additive method, a seed layer is formed by electroless plating on an insulating resin substrate, a conductor circuit is formed on the seed layer by electrolytic copper plating, and then the seed layer is removed by unnecessary electroless plating. This is a method of forming a wiring pattern of a conductor circuit. When the seed layer is removed, the seed layer may be removed excessively due to the difference in film quality between the seed layer and the electrolytic copper plating layer, and the conductor circuit may be undercut.
特許文献1には、不要な無電解めっきによるシード層を除去するに際し、形成された配線パターンの下方にアンダーカット部分が生じないように無電解銅めっき層と電解銅めっき層のエッチングレートが一致するように調製されたエッチング剤が開示されている。
In
しかしながら、上記特許文献1に開示されたエッチング剤は、無電解銅めっきにより形成されるシード層の除去に使用されるものであるため、銅以外の金属を含むシード層を除去するには適していないという問題がある。
However, since the etching agent disclosed in
この発明は、上述した従来技術による問題点を解消し、銅以外の金属を含むシード層に対しても、配線パターンの下方にアンダーカット部分が生じることなく確実に除去することができるプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention eliminates the problems caused by the prior art described above, and can reliably remove a seed layer containing a metal other than copper without causing an undercut portion below the wiring pattern. It aims at providing the manufacturing method of.
本発明に係るプリント配線板の製造方法は、樹脂基材の主面にシード層を形成する工程と、前記シード層上にめっきレジストをパターン形成する工程と、前記めっきレジスト形成箇所以外の前記シード層上にめっきを施す工程と、前記めっきレジストを除去する工程と、前記めっきレジストが除去された箇所の前記シード層を除去する工程とを備えたプリント配線板の製造方法であって、前記シード層を除去する工程では、レーザ光を照射してシード層を除去することを特徴とする。 The method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention includes a step of forming a seed layer on a main surface of a resin base, a step of patterning a plating resist on the seed layer, and the seed other than the plating resist forming portion. A method of manufacturing a printed wiring board, comprising: a step of plating on a layer; a step of removing the plating resist; and a step of removing the seed layer where the plating resist has been removed. In the step of removing the layer, the seed layer is removed by irradiating with laser light.
本発明に係るプリント配線板の製造方法によれば、直進性に優れたレーザ光を照射することでシード層を除去するので、配線パターンの下方にアンダーカット部分が生じることなく確実にシード層を除去することができる。これにより、配線パターン下方のシード層と樹脂基材との密着性を向上させ、これらの間を起点とする剥離等の不具合を防止することができる。 According to the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, the seed layer is removed by irradiating a laser beam excellent in straightness, so that the seed layer is securely formed without an undercut portion below the wiring pattern. Can be removed. Thereby, the adhesiveness of the seed layer under the wiring pattern and the resin base material can be improved, and problems such as peeling starting from these can be prevented.
本発明の一実施形態においては、前記シード層を除去する工程の後に、前記樹脂基材上に接着層又は被覆層を形成する工程を備える。 In one Embodiment of this invention, the process of forming an contact bonding layer or a coating layer on the said resin base material is provided after the process of removing the said seed layer.
また、本発明の他の実施形態においては、前記シード層を除去する工程では、前記レーザ光を前記樹脂基材の主面側の全面に照射する。 In another embodiment of the present invention, in the step of removing the seed layer, the entire surface of the resin substrate is irradiated with the laser light.
本発明の更に他の実施形態においては、前記シード層を除去する工程で照射されるレーザ光の形状は、方形状である。 In still another embodiment of the present invention, the shape of the laser beam irradiated in the step of removing the seed layer is a square shape.
本発明の更に他の実施形態においては、前記シード層を除去する工程で照射されるレーザ光のエネルギー密度分布は、トップハット型である。 In still another embodiment of the present invention, the energy density distribution of the laser light irradiated in the step of removing the seed layer is a top hat type.
本発明の更に他の実施形態においては、前記シード層を除去する工程では、前記レーザ光を前記樹脂基材の主面側のパターン形状に応じて照射する。 In still another embodiment of the present invention, in the step of removing the seed layer, the laser beam is irradiated according to a pattern shape on the main surface side of the resin base material.
本発明によれば、銅以外の金属を含むシード層に対しても、配線パターンの下方にアンダーカット部分が生じることなく確実に除去することができる。 According to the present invention, a seed layer containing a metal other than copper can be reliably removed without causing an undercut portion below the wiring pattern.
以下、添付の図面を参照して、この発明の実施の形態に係るプリント配線板の製造方法を詳細に説明する。 Hereinafter, a printed wiring board manufacturing method according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
図1は、本発明の一実施形態に係るプリント配線板の製造方法による製造工程を示すフローチャートである。図2及び図3は、この製造方法によるプリント配線板を製造工程毎に示す断面図である。図6は、この製造方法により製造されたプリント配線板の断面図である。 FIG. 1 is a flowchart showing manufacturing steps according to a method for manufacturing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention. 2 and 3 are cross-sectional views showing the printed wiring board according to this manufacturing method for each manufacturing process. FIG. 6 is a cross-sectional view of a printed wiring board manufactured by this manufacturing method.
まず、図1を参照しながら、本実施形態に係るプリント配線板の製造方法について説明する。図2(a)に示すように、樹脂基材1の表面(主面)1a上に、シード層2を形成する(ステップS100)。樹脂基材1は、例えばポリイミド樹脂等の絶縁樹脂からなる。
First, a method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2A, the
シード層2は、例えば銅、ニッケル、クロム、チタン、タングステン、チタン及びタングステンの合金の中から選択される少なくとも1種類の金属を含む材料からなり、例えばスパッタリングや無電解めっき等により樹脂基材1の表面1a上に高い密着性を備えた状態で形成される。
The
次に、図2(b)に示すように、シード層2上に、めっきレジスト3をパターン形成し(ステップS102)、露出したシード層2上に電解銅めっき等のめっき処理を施して(ステップS104)、図2(c)に示すように、配線パターン4を形成する。配線パターン4を形成したら、図2(d)に示すように、めっきレジスト3を剥離等して除去し(ステップS106)、配線パターン4の周囲の不要なシード層2を露出させる。
Next, as shown in FIG. 2B, a
その後、図3(e)に示すように、樹脂基材1の表面1a側の全面にレーザ光Lを照射して、不要なシード層2を除去する(ステップS108)。
Thereafter, as shown in FIG. 3E, the
上記ステップS108にて樹脂基材1の全面に照射されるレーザ光Lは、その形状が方形状であり、例えば短波長(波長400nm以下)のUVレーザや熱の伝搬の少ないパルス時間幅の短いレーザ(ピコ、フェムトレーザ等)が好適である。一般に、レーザ光の波長が短くなればなるほど金属に吸収されるレーザ光の割合が上がるので、短波長のレーザ光を照射することで、シード層2が銅以外の金属を含む場合であっても確実に除去することができる。
The laser light L irradiated on the entire surface of the
また、樹脂基材1の全面にレーザ光Lを照射してシード層2を除去することで、複雑な配線パターン4が形成されていたとしても、配線パターン4の下方にアンダーカット部分を生じることなくシード層2を除去することができる。樹脂基材1の面積がレーザ光Lの照射面積よりも大きい場合には、図4に示すように、レーザ光Lの照射位置をステップアンドリピート方式で縦方向及び横方向に移動させるようにすれば良い。
Moreover, even if the
照射領域の端の部分では、エネルギーが低下することが考えられるので、照射領域を移動させるには、照射範囲が僅かに重なるようにすることが望ましい。また、シード層2の均一な除去を行うためには、照射されるレーザ光Lのエネルギー密度分布は、図5(a)のようなガウシアン集光ビームではなく、同図(b)に示すような、均一に照射可能なトップハット型であることが望ましい。
Since it is conceivable that energy is reduced at the end of the irradiation region, it is desirable that the irradiation ranges slightly overlap in order to move the irradiation region. In order to remove the
なお、図6に示すように、例えば上記ステップS108でのシード層2の除去の後に、樹脂基材1の表面1a上に接着層5を形成するようにしても良い。また、この接着層5の代わりに、図示しないカバーレイフィルム、液状レジスト等の被覆層を形成するようにしても良い。
In addition, as shown in FIG. 6, you may make it form the
本実施形態に係る製造方法によれば、上記のようなレーザ光Lを照射することでシード層2を除去するので、配線パターン4の下方にアンダーカット部分が生じることなく確実にシード層2を除去可能である。そして、アンダーカット部分が生じないので、配線パターン4の下方のシード層2と樹脂基材1との密着性が向上し、両者間を起点とする剥離等が発生することもない。また、上記ステップS108において、樹脂基材1の表面1a側の全面にレーザ光Lを照射して、不要なシード層2を除去するときに、不要なシード層2が除去された樹脂基材1の表面1a及び/又は配線パターン4の上面4aが粗面化または表面改質される場合がある。そのため、レーザ光を照射した後の厚さが設計厚さとなるように、予め配線パターン4の厚さを厚く形成しておく必要がある。樹脂基材1の表面1a及び/又は配線パターン4の上面4aが粗面化または表面改質されることにより、接着層5や被覆層との密着性が向上する。
According to the manufacturing method according to the present embodiment, since the
図7は、本発明の他の実施形態に係るプリント配線板の一部の製造工程を示す断面図である。図7に示すように、上記ステップS108にてレーザ光Lを樹脂基材1の全面に照射する代わりに、パターンに応じて照射し、シード層2を除去するようにしても良い。なお、シード層2を確実に除去するため、レーザ光Lは、図示のように、パターンに少し重なるように照射することが望ましい。パターンが複雑でない場合は、このようにパターンに応じてレーザ光Lを照射した方がレーザエネルギー等の無駄がなく効率的である。なお、この場合にも、照射されるレーザ光Lは、その形状が方形状であることが好ましく、例えば短波長(波長400nm以下)のUVレーザや熱の伝搬の少ないパルス時間幅の短いレーザ(ピコ、フェムトレーザ等)が好適である。更に、シード層2の均一な除去を行うためには、照射されるレーザ光Lのエネルギー密度分布は、図5(a)のようなガウシアン集光ビームではなく、同図(b)に示すような、均一に照射可能なトップハット型であることが望ましい。また、上記ステップS108において、樹脂基材1の表面1a側のパターンに応じた箇所にレーザ光Lを照射して、不要なシード層2を除去するときに、不要なシード層2が除去された樹脂基材1の表面1a及び/又は配線パターン4の上面4aが粗面化または表面改質される場合がある。そのため、レーザ光を照射した後の厚さが設計厚さとなるように、予め配線パターン4の厚さを厚く形成しておく必要がある。樹脂基材1の表面1a及び/又は配線パターン4の上面4aが粗面化または表面改質されることにより、接着層5や被覆層との密着性が向上する。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a part of the manufacturing process of a printed wiring board according to another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 7, instead of irradiating the entire surface of the
1 樹脂基材
1a 表面
2 シード層
3 めっきレジスト
4 配線パターン
4a 上面
5 接着層
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記シード層上にめっきレジストをパターン形成する工程と、
前記めっきレジスト形成箇所以外の前記シード層上にめっきを施す工程と、
前記めっきレジストを除去する工程と、
前記めっきレジストが除去された箇所の前記シード層を除去する工程とを備えたプリント配線板の製造方法であって、
前記シード層を除去する工程では、レーザ光を照射してシード層を除去する
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 Forming a seed layer on the main surface of the resin substrate;
Patterning a plating resist on the seed layer;
A step of plating on the seed layer other than the plating resist forming portion;
Removing the plating resist;
A method of manufacturing a printed wiring board comprising a step of removing the seed layer where the plating resist is removed,
In the step of removing the seed layer, the seed layer is removed by irradiating a laser beam.
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