JP2013211413A - Solid state image sensor and image pickup device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、位相差検出画素を搭載した固体撮像素子及び撮像装置に係り、特に、複数の位相差検出画素で1つのマイクロレンズを共有する瞳分割方式で入射光の位相差を検出する固体撮像素子及び撮像装置に関する。 The present invention relates to a solid-state imaging device and an imaging apparatus equipped with phase difference detection pixels, and in particular, solid-state imaging that detects a phase difference of incident light by a pupil division method in which a plurality of phase difference detection pixels share one microlens. The present invention relates to an element and an imaging device.
図19は、1画素に1つのマイクロレンズを搭載した固体撮像素子を示している。隣接2画素の各マイクロレンズ1,2は、夫々の入射光を集光し、対応する電荷蓄積領域(光電変換領域)3,4に入射する様になっている。マイクロレンズ1及び電荷蓄積領域3の配置構造と、マイクロレンズ2及び電荷蓄積領域4の配置構造は同一構造となっているため、各電荷蓄積領域3,4による検出電荷量は同じとなる。
FIG. 19 shows a solid-state imaging device in which one microlens is mounted on one pixel. The
これに対し、図20に示す様に、隣接する2つの電荷蓄積領域5,6に対し1つのマイクロレンズ7を共用する構造にすると、2つの電荷蓄積領域5,6の検出電荷量に差が生じる。この差が位相差量の関数となる。電荷蓄積領域5,6の一方の検出電荷量が右眼で被写体を見た信号量に相当し、他方の検出電荷量が左眼で被写体を見た信号量に相当するからである。この位相差量を検出することで、その被写体までの距離を算出することができる。
On the other hand, as shown in FIG. 20, if one
この様な瞳分割方式を採用して位相差を検出する画素は、例えば下記の特許文献1に記載されており、被写体までの合焦位置を検出するセンサとして既に使用されている。
A pixel that uses such a pupil division method to detect a phase difference is described in, for example,
斯かる位相差検出画素のペアを製造する場合、マイクロレンズ7の中心位置に対し、電荷蓄積領域5と電荷蓄積領域6とを精度良く対称な位置に形成する必要がある。例えば図21に示す様に、電荷蓄積領域5と電荷蓄積領域6との間の中央位置に、マイクロレンズ7の中心位置が来るように製造すれば、図22に示す様に、電荷蓄積領域5と電荷蓄積領域6の光入射角度特性は同じとなる。つまり、光入射角度0度を中心として、入射角度に対する各電荷蓄積領域5,6の受光感度特性V,VIは対称となる。
When manufacturing such a pair of phase difference detection pixels, it is necessary to accurately form the
しかし、図23に示す様に、マイクロレンズ7の中心位置7aと、電荷蓄積領域5,6の画素境界中心位置8とがずれて一方に偏って製造されてしまうと、図24に示す様に、両方の電荷蓄積領域5,6の受光感度に偏りが生じる。即ち、入射角度0度のとき、一方の電荷蓄積領域5の受光感度Vが高く、他方の電荷蓄積領域6の受光感度VIは低くなり、差が生じてしまう。この差は、撮影レンズを絞るほど大きくなってしまう。
However, as shown in FIG. 23, if the
製造時の位置合わせズレによって、位相差検出画素ペアの受光感度特性に差があり、図24の状態になっていると、位相差の無い遠方からの被写体光が位相差検出画素ペアに入射しても、夫々の検出信号量に差が生じてしまう。これは、検出信号量の差で位相差量を求める場合、問題となる。 There is a difference in the light-receiving sensitivity characteristics of the phase difference detection pixel pair due to misalignment at the time of manufacturing. In the state shown in FIG. 24, subject light from a distance with no phase difference is incident on the phase difference detection pixel pair. However, there is a difference between the detection signal amounts. This becomes a problem when the phase difference amount is obtained by the difference in the detection signal amount.
このため、固体撮像素子の各画素の電荷蓄積領域やマイクロレンズの位置を微細加工技術で高精度に製造することが要求される。しかし、近年の固体撮像素子は画素数が1千万画素以上と膨大になってきているため、高精度の位置合わせは困難である。 For this reason, it is required that the charge accumulation region of each pixel of the solid-state imaging device and the position of the microlens be manufactured with high precision by a fine processing technique. However, since recent solid-state imaging devices have become enormous, with 10 million or more pixels, highly accurate alignment is difficult.
そこで従来は、例えば下記の特許文献2に記載されている様に、製造時の位置合わせズレに起因する受光感度差を、信号処理によって補正する様にしている。
Therefore, conventionally, for example, as described in
固体撮像素子の製造時の位置合わせズレは、その固体撮像素子に固有の固定された位置ズレである。このため、その位置合わせズレに起因する特性ズレを予め測定しておけば、信号処理で対処することができる。 The misalignment at the time of manufacturing the solid-state image sensor is a fixed misalignment inherent to the solid-state image sensor. For this reason, if the characteristic deviation resulting from the misalignment is measured in advance, it can be dealt with by signal processing.
しかし、デジタルカメラ等の撮像装置に搭載される制御部は、位相差検出処理だけではなく、オフセット処理やガンマ補正処理などの各種の画像信号処理や、データ圧縮処理,データ転送処理など様々な信号処理を行っている。更に近年では、デジタルカメラに高速連写機能を搭載するのが普通になってきており、高速連写中の各撮像画像の夫々に対し信号処理を施さなければならない。つまり、信号処理の、より一層の高速化が要求されている。 However, a control unit mounted on an imaging apparatus such as a digital camera is not limited to phase difference detection processing, but various signals such as various image signal processing such as offset processing and gamma correction processing, data compression processing, and data transfer processing. Processing is in progress. Furthermore, in recent years, it has become common for digital cameras to be equipped with a high-speed continuous shooting function, and it is necessary to perform signal processing on each captured image during high-speed continuous shooting. That is, there is a demand for higher speed signal processing.
このため、デジタルカメラの制御部には、なるべく、必要な信号処理だけ行わせ、処理負荷の軽減を図って処理の高速化に繋げたいという要望が高い。そこで、製造時の位置合わせズレに起因するペア画素間の特性ズレを、信号処理で補正するのではなく、別の方法で解決することが望まれる。 For this reason, there is a high demand for the control unit of the digital camera to perform only necessary signal processing as much as possible to reduce the processing load and increase the processing speed. Therefore, it is desired to solve the characteristic deviation between the paired pixels caused by the misalignment at the time of manufacture by another method instead of correcting by the signal processing.
本発明の目的は、製造時の位置合わせズレに起因する位相差検出画素ペア間の受光感度特性ズレを解消できる構造を持った固体撮像素子と撮像装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a solid-state imaging device and an imaging apparatus having a structure capable of eliminating a light receiving sensitivity characteristic deviation between phase difference detection pixel pairs caused by a positional deviation at the time of manufacture.
本発明の固体撮像素子は、受光面上に、画素境界部によって隣接画素と分離される複数の画素が二次元アレイ状に形成された半導体基板と、隣接2画素毎または最隣接4画素毎に設けられ該隣接2画素または最隣接4画素を位相差検出画素にする瞳分割用マイクロレンズと、前記瞳分割用マイクロレンズと前記半導体基板との間に積層された中間層と、前記瞳分割用マイクロレンズによって集光された入射光を受光する複数の前記位相差検出画素の画素境界部と前記瞳分割用マイクロレンズの中心位置とを結ぶ光路上且つ前記中間層内に設けられた入射光散乱体とを備える。 The solid-state imaging device of the present invention includes a semiconductor substrate on a light receiving surface on which a plurality of pixels separated from adjacent pixels by a pixel boundary portion are formed in a two-dimensional array, and every two adjacent pixels or every four adjacent pixels. A pupil division microlens that is provided and uses the two adjacent pixels or the four adjacent pixels as phase difference detection pixels, an intermediate layer laminated between the pupil division microlens and the semiconductor substrate, and the pupil division Incident light scattering provided on an optical path connecting the pixel boundary portions of the plurality of phase difference detection pixels that receive incident light collected by the microlens and the center position of the pupil division microlens and in the intermediate layer With body.
本発明の撮像装置は、上記のいずれかの固体撮像素子を搭載したことを特徴とする。 An image pickup apparatus according to the present invention includes any one of the solid-state image pickup elements described above.
本発明によれば、瞳分割用マイクロレンズの中心を通って複数の位相差検出画素間の画素境界部に入射した光を光散乱体で等分割して各位相差検出画素に振り分けることが可能となる。これにより、イメージセンサの製造誤差に起因する各位相差検出画素間の受光感度ズレが補正され、高精度の位相差量の検出が可能となる。 According to the present invention, it is possible to divide the light incident on the pixel boundary portion between the plurality of phase difference detection pixels through the center of the pupil division microlens into the phase difference detection pixels by equally dividing the light by the light scatterer. Become. As a result, the light reception sensitivity deviation between the respective phase difference detection pixels caused by the manufacturing error of the image sensor is corrected, and the phase difference amount can be detected with high accuracy.
以下、本発明の一実施形態について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明の一実施形態に係る撮像装置(デジタルカメラ)10の外観斜視図である。このデジタルカメラ10は、矩形の筐体11の前部に、撮影レンズ12を備える。この撮影レンズ12は、沈胴式のレンズ鏡筒13内に収納されている。筐体11の向かって左肩部分にはシャッタレリーズボタン14が設けられている。筐体11の背面には、撮影画像やスルー画像(ライブビュー画像),カメラメニュー画像等を表示する液晶表示部(図2のLCD16)が設けられている。右肩部分の前部にはフラッシュ発光部44が設けられている。
FIG. 1 is an external perspective view of an imaging apparatus (digital camera) 10 according to an embodiment of the present invention. The
図2は、図1に示すデジタルカメラの機能ブロック構成図である。このデジタルカメラ10は、撮影レンズ12の背部に設けられたイメージセンサ(この実施形態ではCMOS型撮像素子)21と、デジタルカメラ10を統括的に制御するCPU(中央演算処理装置)22を備える。
FIG. 2 is a functional block configuration diagram of the digital camera shown in FIG. The
CPU22は、バス23に接続され、このバス23に、フレームメモリ24と、画像処理を行う信号処理部(DSP)25と、JPEG形式等に圧縮された撮影画像データを外部メモリカード26に保存するカードインタフェース(I/F)27と、カメラ背面のLCD(液晶表示部)16の表示制御を行う表示制御部28と、LCD16に表示する文字情報等のOSD信号を発生させるOSD信号発生部29とが接続される。
The
CPU22には、制御プログラム等を格納したROM22aやRAM22bが接続されており、また、シャッタレリーズボタン14を含む操作部40が接続されている。また、このデジタルカメラ10には、撮影レンズ12のフォーカスレンズ位置等を制御するレンズ駆動部41と、イメージセンサ21の駆動タイミング信号を発生するタイミングジェネレータ(TG)42と、イメージセンサ21を駆動するドライバ43と、発光部44の発光制御を行うフラッシュ制御回路45とが設けられており、これらはCPU22によって制御指示される。
The
CPU22は、配下のDSP25等を用いて、各種制御処理を行う。例えば、詳細は後述する構造を持つイメージセンサ21の位相差検出画素から出力される信号を処理し、被写体までの距離を算出し、撮影レンズ12のフォーカスレンズ位置を調整して、被写体に合焦した画像を撮像する。
The
図3は、イメージセンサ(固体撮像素子)21の表面模式図である。半導体基板に形成されるイメージセンサ21には、各画素(電荷蓄積領域:光電変換部)が二次元アレイ状に、図示の例では正方格子状に配列されている。そして、水平方向に連続する2画素を1単位として、三原色R(赤)G(緑)B(青)のカラーフィルタがベイヤ配列されている。即ち、RRGGRRGG…とカラーフィルタが並ぶ行と、GGBBGGBB…とカラーフィルタが並ぶ行とが交互に配列されている。
FIG. 3 is a schematic diagram of the surface of the image sensor (solid-state imaging device) 21. In the
半導体基板上に形成された画素のうちGフィルタが搭載された画素がRフィルタやBフィルタを搭載した画素より多い。このため、水平方向に連続する2つのGフィルタ搭載画素ペアのうち離散的な位置に在るペア画素を、位相差検出画素ペアとしている。 Of the pixels formed on the semiconductor substrate, the number of pixels on which the G filter is mounted is larger than the number of pixels on which the R filter and the B filter are mounted. For this reason, the pair pixel which exists in a discrete position among the two G filter mounting pixel pairs which continue in a horizontal direction is made into the phase difference detection pixel pair.
本実施形態の位相差検出画素ペアは、瞳分割用のマイクロレンズ(オンチップレンズ)をペア画素で共通とすることで形成されている。図3では、楕円形状のマイクロレンズ50を搭載した2画素が位相差検出画素ペアを構成し、○印で示すマイクロレンズ51を搭載した画素が通常の撮像画像信号を検出する画素である。マイクロレンズ51を搭載した通常画素は、図19に示す画素と同様に、1つのマイクロレンズ51に一つの電荷蓄積領域が対応している。
The phase difference detection pixel pair of the present embodiment is formed by sharing a pupil-dividing microlens (on-chip lens) among the paired pixels. In FIG. 3, two pixels mounted with an
図4は、楕円形状のマイクロレンズ50を搭載した位相差検出画素ペアの水平方向(図3のIV-IV線位置)の断面模式図である。p型半導体基板60には、2つのペアとなる光電変換領域(電荷蓄積領域:n領域)61,62が、素子分離帯63を挟んで隣接して設けられている。そして、半導体基板60の表面に透明な絶縁膜64が積層され、更にその上に、透明な平坦化層(絶縁層)65が積層され、更にその上にカラーフィルタ層66が積層される。このカラーフィルタ層66の上に、平坦化層67を介して図3に示す楕円形状のマイクロレンズ50が設けられる。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view in the horizontal direction (IV-IV line position in FIG. 3) of the phase difference detection pixel pair on which the
図示する例では、半導体基板上に形成された絶縁膜64とマイクロレンズ50との間の中間層は、平坦化層65,67とカラーフィルタ層66で形成される。
In the example shown in the drawing, an intermediate layer between the insulating
本実施形態の固体撮像素子では、平坦化層65の中に、入射光散乱体70を設けている。入射光散乱体70は、2つの画素(電荷蓄積領域)61,62間の境界部分(図4の例では、素子分離帯63が設けられた箇所)と、マイクロレンズ50の中心位置(天頂部)とを結ぶ線の途中に設けられる。入射光散乱体70は、例えば周囲物質より低屈折率物質を埋め込むことで形成される。入射光散乱体70は、境界部分63の幅と同程度あるいはそれより少し広い幅で設けられ、境界部分63を覆う形となる。
In the solid-state imaging device of this embodiment, an incident
マイクロレンズ50の製造位置と、2つのペア画素61,62の製造位置との間に位置合わせズレが生じていたとする。図4の例は、レンズ50の中心位置71と、画素境界63の中心位置72との間にズレが生じて製造された状態を示している。この様な位置合わせズレが存在していても、本実施形態の固体撮像素子21では、画素61,62間の境界部分に入射する光は、入射光散乱体70で散乱されることで拡散される。これにより、境界部分に入射した光は、略1/2づつ、2つの画素61,62に振り分けて入射されることになる。
Assume that a misalignment has occurred between the manufacturing position of the
図5は、入射光散乱体70を光入射側(マイクロレンズ50側)から見た図である。図5にクロスハッチングした部分が入射光散乱体70である。図5(a)では、マイクロレンズ50の入射光が中心部分(境界部分63の中央部分)に集まるため、この中心部分を覆うような円盤状に形成している。図5(b)では、画素61,62の境界部分63に沿って入射光散乱体70を設けている。どちらの入射光散乱体70でも良く、製造が容易な方を採用する。
FIG. 5 is a view of the incident
図6は、マイクロレンズ50と画素61,62との間に位置合わせズレが生じた場合で、且つ入射光散乱体70を設けた場合における特性図である。縦軸は各画素61,62の受光感度であり、横軸は光入射角度である。図24と比較すると分かるが、各画素61,62のピーク感度における入射角度位置は図24と同じである。しかし、入射光散乱体70の影響により、入射角0度で、散乱体70に入射する光が略1/2づつ各画素61,62に振り分けられ、各画素61,62の受光感度はほぼ同じとなる。
FIG. 6 is a characteristic diagram when a misalignment occurs between the
即ち、本実施形態によれば、製造時に位置合わせズレが生じても、ペア画素61,62間では検出信号量に殆ど差が出ないことが分かる。このため、ペア画素61,62間で検出信号量に差が出た場合、この差は、位相差量に起因することになり、高精度に位相差量すなわち被写体までの距離を算出することが可能となる。
That is, according to the present embodiment, it can be seen that there is almost no difference in the amount of detection signal between the pair of
図7は、入射光散乱体70の製造工程図である。半導体基板60に電荷蓄積領域61,62や素子分離帯(画素境界部)63を製造し、半導体基板60の表面を絶縁膜64で覆った後、工程Iで、SiN等の高屈折率材料層65を絶縁膜64に積層する。次の工程IIでは、画素境界部63の上部に当たる部分の高屈折率材料層65をエッチングし、凹所74を設ける。
FIG. 7 is a manufacturing process diagram of the incident
次の工程IIIでは、凹所74が埋まる様に、SiO2等の低屈折材料を積層し、次の工程IVで、表面を平坦化する。そして、工程Vで、表面に高屈折率材料層65を積層する。更に、図4に示すカラーフィルタ層66や平担化層67、マイクロレンズ層を設けて、固体撮像素子21を製造する。
In the next step III, a low refractive material such as SiO 2 is laminated so that the
半導体装置製造技術で膜を製膜する場合、内部に隙間が混入してしまう粗雑な不均質膜を製造するより、隙間のない均質膜を製造する方が難しい。このため、半導体装置の製造技術は、均質膜が製造できる様に発達してきた。 When forming a film by a semiconductor device manufacturing technique, it is more difficult to manufacture a homogeneous film without a gap than to manufacture a rough heterogeneous film in which a gap is mixed. For this reason, semiconductor device manufacturing techniques have been developed so that homogeneous films can be manufactured.
しかし、本実施形態の散乱体70は、内部に隙間が多数入り、入射光が散乱し易い状態の方が好ましい。そこで、入射光散乱体70を製造する場合、図7工程IIIにおけるSiO2の製膜条件の設定を、均質膜の製膜条件からずらして設定する。これにより、入射光散乱体70は容易に製造可能である。
However, it is preferable that the
図8は、本発明の第2の実施形態に係る位相差検出画素ペアの断面模式図である。図4の実施形態に比べて、平坦化層65内に、両画素61,62に共通のインナーレンズ75を設けた点が異なる。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of a phase difference detection pixel pair according to the second embodiment of the present invention. Compared with the embodiment of FIG. 4, a difference is that an
この様なインナーレンズ75を設けた場合、インナーレンズ75の中心位置、マイクロレンズ(トップレンズ)50の中心位置、画素境界63の中心位置の位置合わせは更に困難となる。しかし、図8に示す実施形態の様に、入射光散乱体70を設けることで、高精度に位置合わせを行わなくても、画素境界部63に入射してくる入射光を、2つの位相差検出画素61,62に振り分けることが可能になる。
When such an
入射光散乱体70は、図8の例ではインナーレンズ75の下側(電荷蓄積領域側)に設けたが、インナーレンズ75の上側(トップレンズ50側)に設けても良い。カラーフィルタ層66やその上の平坦化層67に設けることも可能である。
In the example of FIG. 8, the incident
図9は、本発明の第3実施形態に係る位相差検出画素ペアの断面模式図である。図8の実施形態では、位相差検出画素61,62で共通のインナーレンズ75を設けたが、本実施形態では、位相差検出画素61,62で個別のインナーレンズ76,77を設けている。そして、入射光散乱体70を、インナーレンズ76,77間且つ画素境界部63の上部に設けている。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a phase difference detection pixel pair according to the third embodiment of the present invention. In the embodiment of FIG. 8, the common
これにより、本実施形態でも、マイクロレンズ(トップレンズ)50とインナーレンズ76,77と各画素(電荷蓄積領域)61,62との位置合わせズレが生じても、画素境界部63に入射する光を略2等分して各画素61,62に振り分けることが可能になる。
As a result, even in this embodiment, even if misalignment occurs between the microlens (top lens) 50, the
なお、本実施形態でも、入射光散乱体70を、インナーレンズ76,77の下側に設けることができる。
Also in this embodiment, the incident
図10は、本発明の第4実施形態に係る位相差検出画素ペアの断面模式図である。図4の実施形態の構成と殆ど同じであり、異なる点は、マイクロレンズ50の天頂部50aを平坦にしている点だけである。勿論、図8,図9の実施形態と同様に、インナーレンズを設けても良い。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of a phase difference detection pixel pair according to the fourth embodiment of the present invention. The configuration is almost the same as that of the embodiment of FIG. 4, and the only difference is that the
本実施形態の様に、天頂部50aを平坦にすることで、マイクロレンズ50による錯乱円は広がり、これだけでも、レンズ50の中心を通る光はぼけて、画素61,62に略均等に入射する。本実施形態では、更に、入射光散乱体70を画素境界部63の上部に設けているため、更に、レンズ中心を通る光は、2等分されて各画素61,62に振り分けられる。
By flattening the
図11は、この第4実施形態における特性図である。図6の特性図と比較して、入射角度0度における画素61の受光感度と、画素62の受光感度とはほぼ等しくなっている。これにより、画素61,62の検出信号量に差が出たとき、この差は、位相差にだけ起因すると見ることができる。
FIG. 11 is a characteristic diagram in the fourth embodiment. Compared to the characteristic diagram of FIG. 6, the light receiving sensitivity of the
以上述べた実施形態は、位相差検出画素を隣接2画素でペア画素とし、共通に1つのマイクロレンズを搭載した。しかし、例えば、図12に示す様に、最隣接する4画素に1つのマイクロレンズ80を搭載して、4画素を横方向,縦方向の位相差検出画素とすることも可能である。勿論、この4画素に搭載するカラーフィルタの色は同色とする。例えば最隣接する4画素を1単位として、カラーフィルタをベイヤ配列すれば、4画素を位相差検出画素とすることができる。
In the embodiment described above, the phase difference detection pixels are paired with two adjacent pixels, and one microlens is mounted in common. However, for example, as shown in FIG. 12, it is possible to mount one
この様に、最隣接4画素に対して1つの共通マイクロレンズ80を搭載する場合、図13(a)に示す様に、中央部分にのみ円盤状の入射光散乱体70を設ければ良い。或いは、図13(b)に示す様に、最隣接4画素を仕切る十字状の境界部分に、十字状の入射光散乱体70を設ければ良い。位相差検出画素ペアの断面形状及び入射光散乱体70を設ける位置は、図4,図8,図9,図10と同じである。これにより、マイクロレンズ80の中心を通り最隣接4画素の中央部の画素境界部に入射する光は、散乱体70で略4等分され、それぞれの位相差検出画素に割り振られる。
In this way, when one
以上述べた実施形態は、イメージセンサ21の受光面すなわち被写体画像を撮像する撮像面の一部に設ける位相差検出画素ペアについて述べたが、イメージセンサ21ではなく、これとは別に設けた位相差検出専用のセンサに入射光散乱体を設けても良い。
In the above-described embodiment, the phase difference detection pixel pair provided on the light receiving surface of the
図14,図15は、イメージセンサ21の受光面に形成される全画素を位相差検出画素としている例を示している。図14では、隣接2画素ペアを位相差検出画素ペアとしてマイクロレンズ50を共用し、図15では、最隣接4画素を位相差検出画素としてマイクロレンズ80を共用する構成となっている。
14 and 15 show an example in which all pixels formed on the light receiving surface of the
被写体からの入射光を各位相差検出画素で受光し、各検出信号から被写体画像を生成すれば、例えば特開2011―15820号公報記載の様に、被写体の立体画像を撮像することができる。 If incident light from a subject is received by each phase difference detection pixel and a subject image is generated from each detection signal, a stereoscopic image of the subject can be captured as described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-15820.
図16は、本発明の第5実施形態に係るイメージセンサの断面模式図である。イメージセンサでは、中央部の画素に対し周辺部の画素の感度が低下するため、例えば特開平1―213079号公報や特開2007―201090号公報に記載されている様に、マイクロレンズの形成位置を、対応する電荷蓄積領域の形成位置に対して、イメージセンサ中心方向にずらすものがある。 FIG. 16 is a schematic cross-sectional view of an image sensor according to the fifth embodiment of the present invention. In the image sensor, the sensitivity of the peripheral pixels is reduced with respect to the central pixel. Therefore, as described in, for example, JP-A-1-213079 and JP-A-2007-201090, the microlens formation position May be shifted toward the center of the image sensor with respect to the corresponding charge accumulation region formation position.
この様な対策が施されたイメージセンサに、上述した実施形態の入射光散乱体を設ける例を説明する。図1の撮影レンズ12を通った被写体からの入射光は、撮影レンズ12で集光された後、広がってイメージセンサ21に入射する。
An example in which the incident light scatterer according to the above-described embodiment is provided in an image sensor to which such countermeasures have been taken will be described. Incident light from the subject passing through the photographing
イメージセンサ21の中央付近の画素に対して、入射光は、ほぼ垂直に入射する。これに対し、周辺画素に対しては、入射光は斜めに入射することになる。このため、図示する左側周辺画素61L,62Lに対して、マイクロレンズ50Lは、右側の中央方向にずらして形成される。逆に、右側周辺画素61R,62Rに対して、マイクロレンズ50Rは、左側の中央方向にずらして形成される。
Incident light enters the pixel near the center of the
図16の中央領域の画素については、図4,図8,図9,図10で説明した実施形態をそのまま適用できる。これに対し、左側の周辺画素や右側の周辺画素については、各位相差検出画素の垂直上方位置からずれた位置にマイクロレンズ50L,50Rが形成されているため、入射光散乱体70L,70Rの形成位置を、上記実施形態で説明した位置から少しずらす必要が生じる。
For the pixels in the central region of FIG. 16, the embodiments described in FIGS. 4, 8, 9, and 10 can be applied as they are. On the other hand, for the left peripheral pixel and the right peripheral pixel, the
マイクロレンズ50R,50Lの中央位置(天頂部位置)に入射する斜め入射光は、レンズ集光作用の影響はあまり受けずに、そのまま斜めに直進する。この光路を点線81R,81Lで示している。点線81R,81Lが、周辺画素における図6,図11の入射角度0度に対応する。
The obliquely incident light incident on the center position (the zenith portion position) of the
マイクロレンズ50R(50L)と位相差検出画素61R,62Rとを位置合わせして製造する場合、この点線81R(81L)の進む位置が、画素境界部63R(63L)の中央位置と一致する様に製造することになる。
When the
この製造時に位置合わせズレが生じたときの、ペア画素間の受光感度ズレを補償するために、上述した実施形態と同様に、入射光散乱体70R(70L)を設ける。この入射光散乱体70R,70Lは、周辺画素では、斜めの点線81R,81Lに重なる位置に設けることになる。
An incident
入射光散乱体70R(70L)を、画素境界部63R(63L)に近い位置に設けるのであれば、上記実施形態と同様に、画素境界部63R(63L)の直上に設けても良い。しかし、図8のインナーレンズ75の上側やカラーフィルタ層66に散乱体70を設ける場合には、即ち、画素境界部63R(63L)から上方の離れた位置に設ける場合には、点線81R(81L)上に設ける必要がある。つまり、マイクロレンズの中央位置(天頂部)と画素境界位置とを結ぶ線(=入射角度0度に相当する線)上に設ける必要がある。
As long as the incident
なお、上述した図4,図8,図9,図10,図16の実施形態は、裏面照射型のMOS型固体撮像素子21を対象としているため、配線層等が図示する中間層65内に設けられていない。このため、入射光散乱体70の製造が容易であるが、表面照射型すなわち配線層が中間層65内に設けられるイメージセンサにも、上述した実施形態を適用可能である。また、MOS型に限らずに、CCD型のイメージセンサにも適用可能である。
Note that the embodiments shown in FIGS. 4, 8, 9, 10, and 16 described above are for the back-illuminated MOS solid-
以上、本発明の撮影装置の実施形態として、デジタルカメラについて説明してきたが、撮影装置の構成はこれに限定されない。本発明のその他の撮影装置としては、例えば、内蔵型又は外付け型のPC用カメラ、或いは、以下に説明するような、撮影機能を有する携帯端末装置とすることができる。 As described above, the digital camera has been described as the embodiment of the photographing apparatus of the present invention, but the configuration of the photographing apparatus is not limited to this. As another imaging device of the present invention, for example, a built-in type or an external type PC camera or a portable terminal device having a shooting function as described below can be used.
本発明の撮影装置の一実施形態である携帯端末装置としては、例えば、携帯電話機やスマートフォン、PDA(Personal Digital Assistants)、携帯型ゲーム機が挙げられる。以下、スマートフォンを例に挙げ、図面を参照しつつ、詳細に説明する。 Examples of the portable terminal device that is an embodiment of the photographing apparatus of the present invention include a mobile phone, a smartphone, a PDA (Personal Digital Assistants), and a portable game machine. Hereinafter, a smartphone will be described as an example, and will be described in detail with reference to the drawings.
図17は、本発明の撮影装置の一実施形態であるスマートフォン200の外観を示すものである。図17に示すスマートフォン200は、平板状の筐体201を有し、筐体201の一方の面に表示部としての表示パネル202と、入力部としての操作パネル203とが一体となった表示入力部204を備えている。また、この様な筐体201は、スピーカ205と、マイクロホン206、操作部207と、カメラ部208とを備えている。なお、筐体201の構成はこれに限定されず、例えば、表示部と入力部とが独立した構成を採用したり、折り畳み構造やスライド機構を有する構成を採用することもできる。
FIG. 17 shows the appearance of a
図18は、図17に示すスマートフォン200の構成を示すブロック図である。図18に示すように、スマートフォンの主たる構成要素として、無線通信部210と、表示入力部204と、通話部211と、操作部207と、カメラ部208と、記憶部212と、外部入出力部213と、GPS(Global Positioning System)受信部214と、モーションセンサ部215と、電源部216と、主制御部220とを備える。また、スマートフォン200の主たる機能として、図示省略の基地局装置BSと図示省略の移動通信網NWとを介した移動無線通信を行う無線通信機能を備える。
FIG. 18 is a block diagram showing a configuration of the
無線通信部210は、主制御部220の指示にしたがって、移動通信網NWに収容された基地局装置BSに対し無線通信を行うものである。この無線通信を使用して、音声データ、画像データ等の各種ファイルデータ、電子メールデータなどの送受信や、Webデータやストリーミングデータなどの受信を行う。
The
表示入力部204は、主制御部220の制御により、画像(静止画像および動画像)や文字情報などを表示して視覚的にユーザに情報を伝達するとともに、表示した情報に対するユーザ操作を検出する、いわゆるタッチパネルであって、表示パネル202と、操作パネル203とを備える。
The
表示パネル202は、LCD(Liquid Crystal Display)、OELD(Organic Electro-Luminescence Display)などを表示デバイスとして用いたものである。操作パネル203は、表示パネル202の表示面上に表示される画像を視認可能に載置され、ユーザの指や尖筆によって操作される一又は複数の座標を検出するデバイスである。このデバイスをユーザの指や尖筆によって操作すると、操作に起因して発生する検出信号を主制御部220に出力する。次いで、主制御部220は、受信した検出信号に基づいて、表示パネル202上の操作位置(座標)を検出する。
The
図17に示すように、本発明の撮影装置の一実施形態として例示しているスマートフォン200の表示パネル202と操作パネル203とは一体となって表示入力部204を構成しているが、操作パネル203が表示パネル202を完全に覆うような配置となっている。係る配置を採用した場合、操作パネル203は、表示パネル202外の領域についても、ユーザ操作を検出する機能を備えてもよい。換言すると、操作パネル203は、表示パネル202に重なる重畳部分についての検出領域(以下、表示領域と称する)と、それ以外の表示パネル202に重ならない外縁部分についての検出領域(以下、非表示領域と称する)とを備えていてもよい。
As shown in FIG. 17, the
なお、表示領域の大きさと表示パネル202の大きさとを完全に一致させても良いが、両者を必ずしも一致させる必要は無い。また、操作パネル203が、外縁部分と、それ以外の内側部分の2つの感応領域を備えていてもよい。更に、外縁部分の幅は、筐体201の大きさなどに応じて適宜設計されるものである。更にまた、操作パネル203で採用される位置検出方式としては、マトリクススイッチ方式、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式などが挙げられ、いずれの方式を採用することもできる。
Note that the size of the display area and the size of the
通話部211は、スピーカ205やマイクロホン206を備え、マイクロホン206を通じて入力されたユーザの音声を主制御部220にて処理可能な音声データに変換して主制御部220に出力したり、無線通信部210あるいは外部入出力部213により受信された音声データを復号してスピーカ205から出力するものである。また、図17に示すように、例えば、スピーカ205を表示入力部204が設けられた面と同じ面に搭載し、マイクロホン206を筐体201の側面に搭載することができる。
The
操作部207は、キースイッチなどを用いたハードウェアキーであって、ユーザからの指示を受け付けるものである。例えば、図17に示すように、操作部207は、スマートフォン200の筐体201の側面に搭載され、指などで押下されるとオンとなり、指を離すとバネなどの復元力によってオフ状態となる押しボタン式のスイッチである。
The
記憶部212は、主制御部220の制御プログラムや制御データ、アプリケーションソフトウェア、通信相手の名称や電話番号などを対応づけたアドレスデータ、送受信した電子メールのデータ、WebブラウジングによりダウンロードしたWebデータや、ダウンロードしたコンテンツデータを記憶し、またストリーミングデータなどを一時的に記憶するものである。また、記憶部212は、スマートフォン内蔵の内部記憶部217と着脱自在な外部メモリスロットを有する外部記憶部218により構成される。なお、記憶部212を構成するそれぞれの内部記憶部217と外部記憶部218は、フラッシュメモリタイプ(flash memory type)、ハードディスクタイプ(hard disk type)、マルチメディアカードマイクロタイプ(multimedia card micro type)、カードタイプのメモリ(例えば、MicroSD(登録商標)メモリ等)、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)などの格納媒体を用いて実現される。
The storage unit 212 includes a control program and control data of the
外部入出力部213は、スマートフォン200に連結される全ての外部機器とのインターフェースの役割を果たすものであり、他の外部機器に通信等(例えば、ユニバーサルシリアルバス(USB)、IEEE1394など)又はネットワーク(例えば、インターネット、無線LAN、ブルートゥース(Bluetooth)(登録商標)、RFID(Radio Frequency Identification)、赤外線通信(Infrared Data Association:IrDA)(登録商標)、UWB(Ultra Wideband)(登録商標)、ジグビー(ZigBee)(登録商標)など)により直接的又は間接的に接続するためのものである。
The external input /
スマートフォン200に連結される外部機器としては、例えば、有/無線ヘッドセット、有/無線外部充電器、有/無線データポート、カードソケットを介して接続されるメモリカード(Memory card)やSIM(Subscriber Identity Module Card)/UIM(User Identity Module Card)カード、オーディオ・ビデオI/O(Input/Output)端子を介して接続される外部オーディオ・ビデオ機器、無線接続される外部オーディオ・ビデオ機器、有/無線接続されるスマートフォン、有/無線接続されるパーソナルコンピュータ、有/無線接続されるPDA、有/無線接続されるパーソナルコンピュータ、イヤホンなどがある。外部入出力部213は、このような外部機器から伝送を受けたデータをスマートフォン200の内部の各構成要素に伝達することや、スマートフォン200の内部のデータが外部機器に伝送されるようにすることができる。
As an external device connected to the
GPS受信部214は、主制御部220の指示にしたがって、GPS衛星ST1〜STnから送信されるGPS信号を受信し、受信した複数のGPS信号に基づく測位演算処理を実行し、当該スマートフォン200の緯度、経度、高度からなる位置を検出する。GPS受信部214は、無線通信部210や外部入出力部213(例えば、無線LAN)から位置情報を取得できる時には、その位置情報を用いて位置を検出することもできる。
The
モーションセンサ部215は、例えば、3軸の加速度センサなどを備え、主制御部220の指示にしたがって、スマートフォン200の物理的な動きを検出する。スマートフォン200の物理的な動きを検出することにより、スマートフォン200の動く方向や加速度が検出される。係る検出結果は、主制御部220に出力されるものである。
The
電源部216は、主制御部220の指示にしたがって、スマートフォン200の各部に、バッテリ(図示しない)に蓄えられる電力を供給するものである。
The
主制御部220は、マイクロプロセッサを備え、記憶部212が記憶する制御プログラムや制御データにしたがって動作し、スマートフォン200の各部を統括して制御するものである。また、主制御部220は、無線通信部210を通じて、音声通信やデータ通信を行うために、通信系の各部を制御する移動通信制御機能と、アプリケーション処理機能を備える。
The
アプリケーション処理機能は、記憶部212が記憶するアプリケーションソフトウェアにしたがって主制御部220が動作することにより実現するものである。アプリケーション処理機能としては、例えば、外部入出力部213を制御して対向機器とデータ通信を行う赤外線通信機能や、電子メールの送受信を行う電子メール機能、Webページを閲覧するWebブラウジング機能などがある。
The application processing function is realized by the
また、主制御部220は、受信データやダウンロードしたストリーミングデータなどの画像データ(静止画像や動画像のデータ)に基づいて、映像を表示入力部204に表示する等の画像処理機能を備える。画像処理機能とは、主制御部220が、上記画像データを復号し、この復号結果に画像処理を施して、画像を表示入力部204に表示する機能のことをいう。
Further, the
更に、主制御部220は、表示パネル202に対する表示制御と、操作部207、操作パネル203を通じたユーザ操作を検出する操作検出制御を実行する。表示制御の実行により、主制御部220は、アプリケーションソフトウェアを起動するためのアイコンや、スクロールバーなどのソフトウェアキーを表示したり、あるいは電子メールを作成するためのウィンドウを表示する。なお、スクロールバーとは、表示パネル202の表示領域に収まりきれない大きな画像などについて、画像の表示部分を移動する指示を受け付けるためのソフトウェアキーのことをいう。
Further, the
また、操作検出制御の実行により、主制御部220は、操作部207を通じたユーザ操作を検出したり、操作パネル203を通じて、上記アイコンに対する操作や、上記ウィンドウの入力欄に対する文字列の入力を受け付けたり、あるいは、スクロールバーを通じた表示画像のスクロール要求を受け付ける。
In addition, by executing the operation detection control, the
更に、操作検出制御の実行により主制御部220は、操作パネル203に対する操作位置が、表示パネル202に重なる重畳部分(表示領域)か、それ以外の表示パネル202に重ならない外縁部分(非表示領域)かを判定し、操作パネル203の感応領域や、ソフトウェアキーの表示位置を制御するタッチパネル制御機能を備える。
Further, by executing the operation detection control, the
また、主制御部220は、操作パネル203に対するジェスチャ操作を検出し、検出したジェスチャ操作に応じて、予め設定された機能を実行することもできる。ジェスチャ操作とは、従来の単純なタッチ操作ではなく、指などによって軌跡を描いたり、複数の位置を同時に指定したり、あるいはこれらを組み合わせて、複数の位置から少なくとも1つについて軌跡を描く操作を意味する。
The
カメラ部208は、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)やCCD(Charge-Coupled Device)などの撮像素子を用いて電子撮影するデジタルカメラである。また、カメラ部208は、主制御部220の制御により、撮像によって得た画像データを例えばJPEG(Joint Photographic coding Experts Group)などの圧縮した画像データに変換し、記憶部212に記録したり、入出力部213や無線通信部210を通じて出力することができる。図17に示すにスマートフォン200において、カメラ部208は表示入力部204と同じ面に搭載されているが、カメラ部208の搭載位置はこれに限らず、表示入力部204の背面に搭載されてもよいし、あるいは、複数のカメラ部208が搭載されてもよい。なお、複数のカメラ部208が搭載されている場合には、撮影に供するカメラ部208を切り替えて単独にて撮影したり、あるいは、複数のカメラ部208を同時に使用して撮影することもできる。
The
また、カメラ部208はスマートフォン200の各種機能に利用することができる。例えば、表示パネル202にカメラ部208で取得した画像を表示することや、操作パネル203の操作入力のひとつとして、カメラ部208の画像を利用することができる。また、GPS受信部214が位置を検出する際に、カメラ部208からの画像を参照して位置を検出することもできる。更には、カメラ部208からの画像を参照して、3軸の加速度センサを用いずに、或いは、3軸の加速度センサと併用して、スマートフォン200のカメラ部208の光軸方向を判断することや、現在の使用環境を判断することもできる。勿論、カメラ部208からの画像をアプリケーションソフトウェア内で利用することもできる。
The
その他、静止画又は動画の画像データにGPS受信部214により取得した位置情報、マイクロホン206により取得した音声情報(主制御部等により、音声テキスト変換を行ってテキスト情報となっていてもよい)、モーションセンサ部215により取得した姿勢情報等などを付加して記録部212に記録したり、入出力部213や無線通信部210を通じて出力することもできる。
In addition, the position information acquired by the
以上述べた実施形態の固体撮像素子は、受光面上に、画素境界部によって隣接画素と分離される複数の画素が二次元アレイ状に形成された半導体基板と、隣接2画素毎または最隣接4画素毎に設けられ該隣接2画素または最隣接4画素を位相差検出画素にする瞳分割用マイクロレンズと、前記瞳分割用マイクロレンズと前記半導体基板との間に積層された中間層と、前記瞳分割用マイクロレンズによって集光された入射光を受光する複数の前記位相差検出画素の画素境界部と前記瞳分割用マイクロレンズの中心位置とを結ぶ光路上且つ前記中間層内に設けられた入射光散乱体とを備えることを特徴とする。 The solid-state imaging device according to the embodiment described above includes a semiconductor substrate in which a plurality of pixels separated from adjacent pixels by a pixel boundary portion are formed in a two-dimensional array on the light receiving surface, and every two adjacent pixels or the nearest four pixels. A pupil division microlens that is provided for each pixel and uses the adjacent two pixels or the nearest four pixels as a phase difference detection pixel, an intermediate layer laminated between the pupil division microlens and the semiconductor substrate, Provided on the optical path connecting the pixel boundary portions of the plurality of phase difference detection pixels that receive the incident light collected by the pupil division microlens and the center position of the pupil division microlens and in the intermediate layer And an incident light scatterer.
また、実施形態の固体撮像素子の前記入射光散乱体は、少なくとも、前記画素境界部の幅と同じ幅に設けられることを特徴とする。 Further, the incident light scatterer of the solid-state imaging device of the embodiment is provided at least in the same width as the width of the pixel boundary portion.
また、実施形態の固体撮像素子の前記入射光散乱体は、前記中間層よりも低い屈折率の材料を前記中間層内に埋め込むことで形成されることを特徴とする。 Further, the incident light scatterer of the solid-state imaging device according to the embodiment is formed by embedding a material having a refractive index lower than that of the intermediate layer in the intermediate layer.
また、実施形態の固体撮像素子は、前記入射光散乱体の前記瞳分割用マイクロレンズ側または前記半導体基板側にインナーレンズが設けられたことを特徴とする。 In the solid-state imaging device according to the embodiment, an inner lens is provided on the pupil division microlens side or the semiconductor substrate side of the incident light scatterer.
また、実施形態の固体撮像素子は、前記1つの瞳分割用マイクロレンズによって集光される入射光を受光する複数の位相差検出画素に対し共通の1つのインナーレンズが設けられることを特徴とする。 In the solid-state imaging device according to the embodiment, a common inner lens is provided for a plurality of phase difference detection pixels that receive incident light collected by the one pupil division microlens. .
また、実施形態の固体撮像素子は、前記1つの瞳分割用マイクロレンズによって集光される入射光を受光する複数の位相差検出画素毎にインナーレンズが設けられることを特徴とする。 In the solid-state imaging device of the embodiment, an inner lens is provided for each of a plurality of phase difference detection pixels that receive incident light collected by the one pupil division microlens.
また、実施形態の固体撮像素子は、前記瞳分割用マイクロレンズの天頂部が平坦に形成されたことを特徴とする。 In the solid-state imaging device of the embodiment, the zenith portion of the pupil-dividing microlens is formed flat.
また、実施形態の固体撮像素子は、固体撮像素子が裏面照射型であることを特徴とする。 In addition, the solid-state imaging device of the embodiment is characterized in that the solid-state imaging device is a backside illumination type.
また、実施形態の撮像装置は、上記のいずれかに記載の固体撮像素子を搭載したことを特徴とする。 Further, an imaging apparatus according to the embodiment is characterized by mounting any one of the solid-state imaging elements described above.
以上述べた実施形態によれば、瞳分割用マイクロレンズの中心を通って複数の位相差検出画素間の画素境界部に入射した光を光散乱体で等分割して各位相差検出画素に振り分けることが可能となる。これにより、イメージセンサの製造誤差に起因する各位相差検出画素間の受光感度ズレが補正され、高精度の位相差量の検出が可能となる。 According to the embodiment described above, the light incident on the pixel boundary between the plurality of phase difference detection pixels through the center of the pupil division microlens is equally divided by the light scatterer and distributed to each phase difference detection pixel. Is possible. As a result, the light reception sensitivity deviation between the respective phase difference detection pixels caused by the manufacturing error of the image sensor is corrected, and the phase difference amount can be detected with high accuracy.
本発明に係るイメージセンサ(固体撮像素子)は、入射光散乱体を位相差検出画素ペアの境界上に設けたため、高精度に位相差を検出でき、位相差検出方式のAF処理を行う撮像装置や、単眼3Dカメラ等に適用すると有用である。 In the image sensor (solid-state imaging device) according to the present invention, since the incident light scatterer is provided on the boundary of the phase difference detection pixel pair, the imaging device can detect the phase difference with high accuracy and performs AF processing of the phase difference detection method. It is also useful when applied to a monocular 3D camera or the like.
10,200 撮像装置
20 CPU
21 イメージセンサ(固体撮像素子)
50,80 マイクロレンズ(オンチップレンズ)
60 半導体基板
61,62 位相差検出画素(電荷蓄積領域)ペア
63 画素境界部
65 平坦化層(中間層)
70,71R,71L 入射光散乱体
75,76,77 インナーレンズ
81L,81R 斜め入射光の光路
10,200
21 Image sensor (solid-state image sensor)
50,80 micro lens (on-chip lens)
60
70, 71R, 71L Incident
Claims (9)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012080666A JP5750394B2 (en) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | Solid-state imaging device and imaging apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012080666A JP5750394B2 (en) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | Solid-state imaging device and imaging apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013211413A true JP2013211413A (en) | 2013-10-10 |
JP5750394B2 JP5750394B2 (en) | 2015-07-22 |
Family
ID=49529004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012080666A Expired - Fee Related JP5750394B2 (en) | 2012-03-30 | 2012-03-30 | Solid-state imaging device and imaging apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5750394B2 (en) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017098321A (en) * | 2015-11-19 | 2017-06-01 | 凸版印刷株式会社 | Solid state image sensor and electronic apparatus |
KR20170098809A (en) * | 2014-12-18 | 2017-08-30 | 소니 주식회사 | Solid-state image pickup element and electronic device |
US9911777B2 (en) | 2015-10-12 | 2018-03-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Image sensors using different photoconversion region isolation structures for different types of pixel regions |
JP2018056241A (en) * | 2016-09-27 | 2018-04-05 | 東芝情報システム株式会社 | Manufacturing method of solid state image pick-up device |
KR20180101735A (en) * | 2017-03-06 | 2018-09-14 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Image sensor having phase difference detection pixel |
WO2021070431A1 (en) * | 2019-10-07 | 2021-04-15 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Solid-state imaging device and electronic equipment |
WO2021157324A1 (en) | 2020-02-03 | 2021-08-12 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Electronic device |
CN113542639A (en) * | 2013-12-12 | 2021-10-22 | 索尼公司 | Solid-state imaging device, method of manufacturing solid-state imaging device, and electronic apparatus |
KR20220136355A (en) | 2020-02-06 | 2022-10-07 | 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 | Solid-state imaging devices and electronic devices |
WO2023017838A1 (en) * | 2021-08-13 | 2023-02-16 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Imaging device and electronic apparatus |
KR20230092882A (en) | 2020-10-28 | 2023-06-26 | 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 | Solid-state imaging devices and electronic devices |
WO2024053299A1 (en) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Light detection device and electronic apparatus |
JP7573539B2 (en) | 2019-10-07 | 2024-10-25 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Solid-state imaging device and electronic device |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61154164A (en) * | 1984-12-27 | 1986-07-12 | Matsushita Electronics Corp | Solid image sensor element |
JPH0661462A (en) * | 1992-08-04 | 1994-03-04 | Matsushita Electron Corp | Solid-state image sensing device and its manufacture |
JP2007158109A (en) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Nikon Corp | Solid-state imaging device having generation function of focal detection signal, and electronic camera |
JP2007281296A (en) * | 2006-04-10 | 2007-10-25 | Nikon Corp | Solid imaging devise and electronic camera |
JP2013150314A (en) * | 2011-12-22 | 2013-08-01 | Canon Inc | Solid-state imaging device and imaging apparatus |
-
2012
- 2012-03-30 JP JP2012080666A patent/JP5750394B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61154164A (en) * | 1984-12-27 | 1986-07-12 | Matsushita Electronics Corp | Solid image sensor element |
JPH0661462A (en) * | 1992-08-04 | 1994-03-04 | Matsushita Electron Corp | Solid-state image sensing device and its manufacture |
JP2007158109A (en) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Nikon Corp | Solid-state imaging device having generation function of focal detection signal, and electronic camera |
JP2007281296A (en) * | 2006-04-10 | 2007-10-25 | Nikon Corp | Solid imaging devise and electronic camera |
JP2013150314A (en) * | 2011-12-22 | 2013-08-01 | Canon Inc | Solid-state imaging device and imaging apparatus |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113542639A (en) * | 2013-12-12 | 2021-10-22 | 索尼公司 | Solid-state imaging device, method of manufacturing solid-state imaging device, and electronic apparatus |
CN113542639B (en) * | 2013-12-12 | 2024-05-14 | 索尼公司 | Solid-state imaging device, method of manufacturing solid-state imaging device, and electronic apparatus |
US12133007B2 (en) | 2014-12-18 | 2024-10-29 | Sony Group Corporation | Solid-state image pickup device and electronic apparatus |
KR20230104748A (en) * | 2014-12-18 | 2023-07-10 | 소니그룹주식회사 | Solid-state image pickup element and electronic device |
KR20170098809A (en) * | 2014-12-18 | 2017-08-30 | 소니 주식회사 | Solid-state image pickup element and electronic device |
KR102593800B1 (en) | 2014-12-18 | 2023-10-25 | 소니그룹주식회사 | Solid-state image pickup element and electronic device |
US11711629B2 (en) | 2014-12-18 | 2023-07-25 | Sony Group Corporation | Solid-state image pickup device and electronic apparatus |
KR102556653B1 (en) * | 2014-12-18 | 2023-07-18 | 소니그룹주식회사 | Solid-state image pickup element and electronic device |
US9911777B2 (en) | 2015-10-12 | 2018-03-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Image sensors using different photoconversion region isolation structures for different types of pixel regions |
JP2017098321A (en) * | 2015-11-19 | 2017-06-01 | 凸版印刷株式会社 | Solid state image sensor and electronic apparatus |
JP2018056241A (en) * | 2016-09-27 | 2018-04-05 | 東芝情報システム株式会社 | Manufacturing method of solid state image pick-up device |
KR20180101735A (en) * | 2017-03-06 | 2018-09-14 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Image sensor having phase difference detection pixel |
KR102372736B1 (en) * | 2017-03-06 | 2022-03-11 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Image sensor having phase difference detection pixel |
WO2021070431A1 (en) * | 2019-10-07 | 2021-04-15 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Solid-state imaging device and electronic equipment |
JP7573539B2 (en) | 2019-10-07 | 2024-10-25 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Solid-state imaging device and electronic device |
DE112021000853T5 (en) | 2020-02-03 | 2022-12-08 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | ELECTRONIC DEVICE |
KR20220135235A (en) | 2020-02-03 | 2022-10-06 | 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 | Electronics |
US12035058B2 (en) | 2020-02-03 | 2024-07-09 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Electronic equipment |
WO2021157324A1 (en) | 2020-02-03 | 2021-08-12 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Electronic device |
KR20220136355A (en) | 2020-02-06 | 2022-10-07 | 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 | Solid-state imaging devices and electronic devices |
KR20230092882A (en) | 2020-10-28 | 2023-06-26 | 소니 세미컨덕터 솔루션즈 가부시키가이샤 | Solid-state imaging devices and electronic devices |
WO2023017838A1 (en) * | 2021-08-13 | 2023-02-16 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Imaging device and electronic apparatus |
WO2024053299A1 (en) * | 2022-09-09 | 2024-03-14 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | Light detection device and electronic apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5750394B2 (en) | 2015-07-22 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150212 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |