JP2013207009A - Euvマスク製造方法およびeuvマスク製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実施形態に係るEUVマスク製造方法は、基板200上に、EUV光を反射する反射層201と、前記反射層を保護する保護層202と、前記反射層と前記保護層をパターニングする際のマスクとなるレジスト層204とがこの順に積層されたEUVマスクブランクを準備する工程と、レジスト層を除去する工程と、を含み、前記レジスト層を除去する工程において、前記レジスト層を水素と不活性ガスを含むガスを用いてプラズマアッシングすることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
[第一の実施形態](EUVマスク製造方法)
以下、図1を用いて第1の実施形態に係るEUVマスク製造方法について例示する。
[第二の実施形態](EUVマスク製造装置)
以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
のではない。
行ったもの、または、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の特徴
を備えている限り、本発明の範囲に包含される。
ができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
Claims (8)
- 基板上に、EUV光を反射する反射層と、前記反射層を保護する保護層と、前記反射層と前記保護層をパターニングする際のマスクとなるレジスト層とがこの順に積層されたEUVマスクブランクを準備する工程と、
レジスト層を除去する工程と、を含み、
前記レジスト層を除去する工程において、前記レジスト層を水素と不活性ガスを含むガスを用いてプラズマアッシングすることを特徴とするEUVマスク製造方法。 - 前記保護層はルテニウム(Ru)または窒化クロム(CrN)であることを特徴とする請求項1記載のEUVマスク製造方法。
- 前記不活性ガスは、窒素またはヘリウムまたはアルゴンであることを特徴とする請求項1または2に記載のEUVマスク製造方法。
- 前記レジスト層を除去する工程において、
前記水素ガスの添加量が3vol%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載のEUVマスク製造方法。 - 前記保護層とレジスト層との間に吸収体層を形成したことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載のEUVマスク製造方法。
- 前記反射層は多層反射膜であり、シリコン(Si)膜と(モリブデン)Mo膜が交互に積層された膜であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載のEUVマスク製造方法。
- 前記基板の温度は100℃になるように制御することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1つに記載のEUVマスク製造方法。
- 基板上に、EUV光を反射する反射層と、前記反射層を保護する保護層と、前記反射層と前記保護層をパターニングする際のマスクとなるレジスト層とがこの順に積層されたEUVマスクブランクを載置する載置台と、
前記載置台を内部に有し大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な処理容器と、
前記処理容器に設けられた排気口を介して前記処理容器内を減圧する減圧手段と、
前記処理容器にガス搬送部を介して接続され、内部にプラズマ発生領域を有する放電管と、
前記プラズマ発生領域に水素ガスと不活性ガスの混合ガスを導入するガス導入手段と、
前記プラズマ発生領域にマイクロ波を導入するマイクロ波導入手段と、を備えることを特徴としたEUVマスク製造装置。
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