JP2013188919A - グラビアオフセット印刷用ブランケット、及び、それを用いた印刷配線基材の製造方法 - Google Patents

グラビアオフセット印刷用ブランケット、及び、それを用いた印刷配線基材の製造方法 Download PDF

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【課題】グラビアオフセット印刷において、ブランケットのインキ溶剤吸収率を維持して長期間安定した印刷を行うことができる技術を提供すること。
【解決手段】グラビアオフセット印刷において転写層として用いられるブランケットにおいて、ブランケットの表面に配置される表面層と、表面層と当接してブランケットの内部に配置される内部層とを備え、内部層のインク溶剤の吸収率は、表面層のインク溶剤の吸収率よりも大きい。
【選択図】図1

Description

本発明は、グラビアオフセット印刷に用いられるブランケット、及びこのブランケットを用いたグラビアオフセット印刷による印刷配線基材の製造方法に関する。
近年、建材分野、パッケージ分野、出版分野、エレクトロニクス分野など、生活系、電気系、情報系のさまざまな分野における工業製品の製造方法として、グラビアオフセット印刷を用いるケースが増加している。グラビアオフセット印刷とは、印刷対象物の表面に、各種インキ、樹脂、導電ペーストなどの各種の粘度の高い塗布材料を用いて、広範囲に高解像力、高寸法精度のある優れた画像を安定的に印刷するための技術である。
グラビアオフセット印刷は、一般に、図3に示すように、ガラス、樹脂、金属などで作製されたグラビアオフセット印刷用凹版101のパターン部104内に、ドクターブレード、スキージまたはスクレーパー103によってインキ102を充填する工程(工程1)と、そのパターン部104内にインキ102が充填されたグラビアオフセット印刷用凹版101上に、表面がシリコーンなどの樹脂で形成された転写層112を備える転写体111を接触させながら回転させ、当該転写層112上にインキ皮膜113を転移(転写)させる工程(工程2)と、当該転写体112を被印刷体121に圧着し、工程2で転写層112上に転移させたインキ皮膜113から成る印刷パターン122を被印刷体112に転写する工程(工程3)とを具備する転写印刷法であり、被印刷体112の表面に各種インキ、樹脂、導電ペーストなどの粘度の高い塗布材料を、高解像、高寸法精度で、広範囲に印刷することが可能である。
ここで、グラビアオフセット印刷により、ICカードアンテナ(コイル状のパターン)や太陽電池バックシートの導配線、電磁波シールド、タッチパネル用の信号取り出し配線等を、導電性インキ、導電性ペースト等を用いて、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル等からなるシート上に、広範囲の面積で高精細で印刷する場合、下記のような機能が要求される。
[1]広範囲に均一かつ安定した高精細な細線の印刷を可能にすること。
[2]被印刷体に印刷された細線が、断線、ショートしないこと。
[3]安定した膜厚の細線を印刷できること。
上記機能を達成するために、例えば、引用文献1には、厚膜印刷、特に微細画像やベタ画像など、ピンホールや断線をきらうパターン形成において、オフセット方式による重ね刷りを採用することにより、不適切な細線の不連続、版の目詰まりによるピンホール、印刷パターンの伸び縮みを防止することが記載されている。
また、グラビアオフセット印刷を長時間安定して連続的に行うには、インキが長時間一定の粘度を保つことによってグラビアオフセット印刷用凹版へのインキ充填性を維持する必要がある。このことから、インキの溶剤は、大気蒸散しにくいものが望ましい。また、グラビアオフセット印刷による印刷配線が細線になるほど、グラビアオフセット印刷用凹版へのインキ充填は困難になり、インキの粘度を下げる必要がある。
特開昭55−5856号公報
しかしながら、低粘度のインキで細線を形成しようとした場合、転写層へのインキ転写時に転写層表面でインキが広がってしまい、細線形成が困難となる。そこで、転写層(以下、ブランケットという場合がある)にインキの溶剤(インキ溶剤)を吸収させてインキを凝集させる必要がある。しかし、先に述べた通り、インキ溶剤は、大気蒸散しにくいものが使用されるため、ブランケットに吸収はされてもブランケットから出て行き難い。
このことから、ブランケット表面にインキ溶剤が堆積してしまい、ブランケットへのインキ溶剤の吸収率が低下してくる。ブランケットにインキ溶剤が吸収されないとインキの凝集性が低下するので、印刷枚数が増えていくに従って印刷配線は太くなっていく。この結果として、印刷配線の太さが管理範囲を超えてしまうといった問題が生じる。
それ故に、本発明の目的は、ブランケットのインキ溶剤吸収率を維持し、長期間安定した印刷を行うことができる技術を提供することである。
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。なお、括弧内の参照符号、説明文言等は、本発明の理解を助けるために後述する実施形態との対応関係を示したものであって、本発明の範囲を何ら限定するものではない。
第1の局面は、グラビアオフセット印刷において転写層(112)として用いられるブランケット(210)であって、ブランケットの表面に配置される表面層(203)と、表面層と当接してブランケットの内部に配置される内部層(202)とを備え、内部層のインク溶剤の吸収率は、表面層のインク溶剤の吸収率よりも大きい。
第1の局面によれば、内部層のインク溶剤の吸収率が表面層のインク溶剤の吸収率よりも大きいので、表面層に吸収されたインク溶剤は内部層の方向に浸透していく。つまり、ブランケットの表面近傍に吸収されたインク溶剤は、ブランケットの内部に方向性を持って浸透していく。このことから、ブランケットのインキ溶剤吸収率を維持でき、長期間安定した印刷を行うことができる。
第2の局面では、表面層と内部層は、ゴムから成り、表面層の架橋率と内部層の架橋率とは異なってもよい。
第2の局面によれば、架橋率を異ならせることによって、ゴムから成る表面層及び内部層のインク溶剤の吸収率を互いに異ならせることができる。
第3の局面では、表面層と内部層は、ゴムから成り、表面層のゴムの材質と内部層のゴムの材質とは異なってもよい。
第3の局面によれば、ゴムの材質を異ならせることによって、表面層及び内部層のインク溶剤の吸収率を互いに異ならせることができる。
第4の局面では、グラビアオフセット印刷によって形成された配線パターンを備える印刷配線基材の製造方法であって、表面に配置される表面層と、当該表面層と当接して内部に配置される内部層とを備え、当該内部層のインク溶剤の吸収率が前記表面層のインク溶剤の吸収率よりも大きいブランケットを、転写層として用いる。
第4の局面によれば、第1の局面と同様の効果を得ることができる。
本発明によれば、ブランケットのインキ溶剤吸収率を維持し、長期間安定した印刷を行うことができる技術を提供することができる。
本発明のブランケットの断面図の一例 具体的実施例のブランケットの断面図の一例 グラビアオフセット印刷の工程図の一例
以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態について説明する。なお、本発明の実施形態は、以下に記載する実施形態に限定されうるものではなく、当業者の知識に基づいて設計変更などの変形を加えることも可能であり、そのような変形が加えられた実施形態も本発明の実施形態の範囲に含まれうるものである。
[グラビアオフセット印刷の工程]
本発明の一実施形態に係るグラビアオフセット印刷の工程について、前述したグラビアオフセット印刷の工程図である図1を再度用いて説明する。
まず、図1の工程1に示すように、グラビアオフセット印刷用の凹版101上にインキ102を乗せ、スクレーパー(ドクターブレード又はスキージ等でもよい)103によって、インキ102を一定の圧力で図中の破線矢印の方向に転がしながら凹版101上を移動させる。このことによって、凹版101のパターン部104内にインキ102が充填される。
この際、凹版101のパターン部104は、幅が10μmから3mm程度で深さが5μmから20μm程度の溝によって形成されている。本発明は、特に幅が10μmから100μm程度の溝を備えるグラビアオフセット印刷用凹版を用いたグラビアオフセット印刷に対して有効であり、ブランケットへのインキ溶剤吸収率が抑えられることで線幅のブレや広がりを小さくすることが出来る。ここで、インキ溶剤吸収率とは、グラビアオフセット印刷に用いるインキの溶剤を一定時間において単位体積あたりどれだけ吸収できるかを示す。インキ溶剤吸収率は、インキに用いられる溶剤の極性や分子量などで異なる為、扱う溶剤ごとに異なる可能性がある。
また、凹版101は、その表面が平滑であることが望ましい。これにより、マスク表面にインキ漏れを起こすこと無く印刷可能である。また、ドクターブレードの欠けなどの異常の抑制にもなる。ここで、凹版101の表面とは、凹版101におけるドクターブレード、スキージまたはスクレーパー103と接触する表面、又は、凹版101のパターン部104(溝)の内側表面のことをいう。なお、凹版101の表面は、租面研磨加工、鏡面研磨加工、超精密研磨加工(ラッピングやポリシング)によって平滑にすることができる。
凹版101のパターン部104の形成方法としては、エッチング法、電鋳法、サンドブラスト法などが挙げられる。これらの形成方法による加工性という点から、凹版101はガラス又は銅、ニッケルなどの金属であることが望ましい。また、凹版101の表面に、クロムやカーボンによる耐擦性皮膜を形成している事が望ましい。
また、ドクターブレード、スキージまたはスクレーパー103は、凹版101のパターン部104内にインキ102を充填し、又、凹版101上のインキ102を掻き取る必要があることから、ある程度のしなりが求められる。よって、ドクターブレード、スキージまたはスクレーパー103は、ステンレスなどの金属、またはウレタンなどの樹脂、セラミックであることが望ましい。
次に、図1の工程2に示すように、転写層(ブランケット)112を有する転写体111を、パターン部104にインキ102が充填された凹版101上で回転移動させて、凹版101のパターン部104内のインキ102を転写層112に転写し、転写層112上にインキ皮膜113を形成する。
この際に、転写層112の表面近傍にインキ溶剤が堆積してしまうことで、印刷回数が増えるにつれて転写層112のインキ溶剤吸収率が低下していく。インキ溶剤吸収率が低下することでインキの凝集性が低くなり、印刷線幅の増加、転写層112と被印刷物間での凝集破壊によるインキの乖離が発生してしまう。印刷線幅が細くなれば成るほどに、上記問題は大きくなり、連続印刷枚数が確保できないという問題が生じる。
そこで、本実施形態では、転写層112として、ブランケットゴム210を使用する。
図1に示すように、ブランケットゴム210は、表面層203と、内部層202と、支持体201とを含み、支持体201の上に内部層202が積層され、内部層202の上に表面層203が積層されている。中間層202と表面層203とは、互いに異なるインキ溶剤吸収率を有するゴムで形成されており、表面層203のインキ溶剤吸収率は、内部層202のインキ溶媒吸収率よりも低い。このことによって、表面層203のインキ溶剤を内部層202に逃がすことが可能である。また、表面層203から内部層202へのインキ溶剤の流れを増化させるために、内部層202は、インキ溶剤吸収率の互いに異なる複数のゴム層から成る積層構造であってもよい。
以上により、ブランケットゴム210の表面近傍のインキ溶剤吸収率の低下が緩やかになり、安定した連続印刷枚数を増加させることができる。
ブランケットゴム210として用いられるゴムは、シリコーンゴムやアクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム(NBR)が望ましい。特にシリコーンゴムの原料としては、ジメチルシロキサン、トリメチルシロキサン、ジメトキシシロキサン、トリメトキシシロキサン、トリエトキシシラン、トリメトキシシランなどが望ましい。また、表面層203の厚さは1μmから200μmが望ましく、特に10〜50μmがより望ましい。内部層202の厚さに関しては特に限定しないが、ブランケットゴム210全体として、厚さ100μm〜5000μmが望ましい。また、表面層203のインキ溶剤吸収率と内部層202のインキ溶剤吸収率とを異ならせる方法としては、材質の違い、架橋状態(架橋率)の差(架橋率の差異)などにより異ならせることが可能であり、これらをインキ溶剤の種類によって使い分ける必要性がある。
最後に、図3の工程3に示すように、転写体111を転がしてインキ皮膜113を被印刷体121上に転写することで印刷パターン122が形成され、印刷配線基材が得られる。
本発明のブランケットゴム210を転写層112として用いることで、単層である従来のブランケットゴムを用いた場合に比べて、連続印刷枚数が1.5〜5倍程度増加する。これは、転写層の表面近傍に滞留するインキ溶剤量が変化した為である。なお、ここで説明した方法は、本発明の実施形態の一例であり、互いに異なるインキ溶剤吸収率を持つブランケットゴムを複数積層することで同様の効果をもたらすことが可能である。
[実施例]
以下では、本発明の具体的な実施例について、図2を参照して説明する。ブランケットゴムの材料としては、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアル・ジャパン合同会社性のTSE3466(A)とTSE3466(B)を使用した。まず、TSE3466(A)に対してTSE3466(B)を100部対8部で混合した未硬化のシリコーン樹脂を、ポリエチレンテレフタレート(支持体)301上にダイコーターにて硬化後厚さ550μmになるように塗布し24時間室温放置して硬化させることによって、硬化したシリコーン樹脂(内部層)302をポリエチレンテレフタレート301上に形成した。次に、TSE3466(A)に対してTSE3466(B)を100部対10部で混合した未硬化のシリコーン樹脂を、上記硬化したシリコーン樹脂302上にダイコーターにて硬化後厚さ50μmになるように塗布し24時間室温放置して硬化させせることによって、硬化したシリコーン樹脂(表面層)303を、硬化したシリコーン樹脂302上に形成した。この様にして、本実施例では、ブランケットゴム310を作成した。
ここで、今回一例として使用した銀インキの溶剤の、表面層303でのインキ溶剤吸収率をAとし、内部層302でのインキ溶剤吸収率をBとすると、A<Bとなることが実験により確認されている。この様に、表面層303よりも内部層302の方がインキ溶剤吸収率が高いため、表面層303に吸収されたインキ溶剤が内部層302に向かい移動しやすくなり、この結果として、ブランケット表面近傍の含有溶剤量が下がり、安定的な連続印刷性が向上することとなる。
そして、作成したブランケットゴム310を転写層112として転写体111巻きつけて、印刷を開始した。
グラビアオフセット印刷用凹版として、ラインアンドスペース=30/30μmを有する凹版を使用した。このグラビアオフセット印刷用凹版は、縦が120mm、横が120mm、高さが3mmのガラスを用いて、エッチングにてパターン部を形成したものである。パターン部の深さは10μmである。このグラビアオフセット印刷用凹版を用いて、ポリエチレンテレフタレート基材上に導電性銀ペーストによる配線パターンを形成するために、グラビアオフセット印刷を行った。
ポリエチレンテレフタレート基材は、厚さが188μm、縦が120mm、横が120mmのものを使用した。また、導電性銀ペーストとして、レオロジー測定装置で角速度10rad/秒で、9.5Pa.sのインキを使用した。また、ブランケットゴムの比較用として、金陽社製のシリコーンゴムを主体とするゴム硬さ(JIS A)45°でゴム厚さ0.6mmのものを円筒に巻いたものを使用した。また、ドクターブレードは、MDC社製ドクターブレードのレギュラータイプを使用した。
グラビアオフセット印刷装置は、一般に使用されている印刷装置を使用した。印刷条件は、ドクターブレードの移動速度が50mm/秒、転写体の移動速度が50mm/秒とし、転写体と凹版の接触幅、転写体とポリエチレンテレフタレート基材の接触幅は、一律で15mmとした。
印刷配線基材は以下の工程により作製した。まず、用意したグラビアオフセット印刷用凹版のパターン部に上記導電性銀ペーストをドクターブレードによって充填した。次に、インキが充填されたグラビアオフセット印刷用凹版上で、グラビアオフセット印刷用凹版の縦方向(Y方向)に上記転写体を回転及び移動させて、シリコーンゴム(ブランケットゴム:転写体)上に導電性銀ペーストの皮膜を形成した。最後に、導電性銀ペーストの皮膜が形成された転写体をポリエチレンテレフタレート基材の縦方向に回転移動させて、ポリエチレンテレフタレート基材上に導電性銀ペーストの皮膜を転写し、配線パターンを形成した。
上記条件において、本実施例のブランケットゴムと比較例用の従来のブランケットにてグラビアオフセット印刷を各100回行い、実施例と比較例の印刷配線基材を各100枚作製した。そして、実施例と比較例の印刷配線基材の配線パターンについて、線幅を測定した。その結果、比較例の狙い配線寸法30μmである印刷配線基材は、30枚目の印刷で配線寸法が40μmを超えて管理範囲外となってしまった。これに対して、本実施例の狙い配線寸法30μmである印刷配線基材は、100枚すべてにおいて配線寸法35μmを超えることなく安定していた。
以上に説明したように、本発明のグラビアオフセット印刷用ブランケットゴムを用いることで、高精細な配線パターンを形成する場合においても収率良く安定して印刷配線基材を作製することが可能となる。
なお、以上では、本発明のブランケットをブランケットゴムと称して説明を行った。しかし、本発明のブランケットの材料はゴム(樹脂)に限定されず、本発明を実現できる上記した特性を有するのであれば他の材料であってもよい。
本発明は、グラビアオフセット印刷等に利用可能であり、ブランケットのインキ溶剤吸収率を維持して長期間安定した印刷を行いたい場合等に有用である。
101・・・凹版
102・・・インキ
103・・・スキージ等
104・・・パターン部
111・・・転写体
112・・・転写層
113・・・インキ皮膜
121・・・被印刷体
122・・・印刷パターン
201、301・・・支持体
202、302・・・内部層
203、303・・・表面層
210、310・・・ブランケットゴム

Claims (4)

  1. グラビアオフセット印刷において転写層として用いられるブランケットであって、
    前記ブランケットの表面に配置される表面層と、
    前記表面層と当接して前記ブランケットの内部に配置される内部層とを備え、
    前記内部層のインク溶剤の吸収率は、前記表面層のインク溶剤の吸収率よりも大きい、ブランケット。
  2. 前記表面層と前記内部層は、ゴムから成り、
    前記表面層の架橋率と前記内部層の架橋率とは異なる、請求項1に記載のブランケット。
  3. 前記表面層と前記内部層は、ゴムから成り、
    前記表面層のゴムの材質と前記内部層のゴムの材質とは異なる、請求項1又は2に記載のブランケット。
  4. グラビアオフセット印刷によって形成された配線パターンを備える印刷配線基材の製造方法であって、
    表面に配置される表面層と、当該表面層と当接して内部に配置される内部層とを備え、当該内部層のインク溶剤の吸収率が前記表面層のインク溶剤の吸収率よりも大きいブランケットを、転写層として用いる、印刷配線基材の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017152668A (ja) * 2016-02-25 2017-08-31 財團法人工業技術研究院Industrial Technology Research Institute 回路印刷装置、回路印刷方法及び印刷方法で製造した回路構造

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06143858A (ja) * 1992-11-11 1994-05-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd ブランケット並びに印刷方法
JPH08252990A (ja) * 1995-03-16 1996-10-01 Toshiba Electron Eng Corp ブランケットおよび印刷方法
JP2005111665A (ja) * 2003-10-02 2005-04-28 Sumitomo Rubber Ind Ltd オフセット印刷用ブランケットおよびそれを用いた電極パターンの印刷方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06143858A (ja) * 1992-11-11 1994-05-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd ブランケット並びに印刷方法
JPH08252990A (ja) * 1995-03-16 1996-10-01 Toshiba Electron Eng Corp ブランケットおよび印刷方法
JP2005111665A (ja) * 2003-10-02 2005-04-28 Sumitomo Rubber Ind Ltd オフセット印刷用ブランケットおよびそれを用いた電極パターンの印刷方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017152668A (ja) * 2016-02-25 2017-08-31 財團法人工業技術研究院Industrial Technology Research Institute 回路印刷装置、回路印刷方法及び印刷方法で製造した回路構造

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