JP2013187727A - 固体撮像装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】異なる特性を持つ画素が混在する画素部を備えた固体撮像素子において、高感度、高ダイナミックレンジを実現すること。
【解決手段】垂直走査回路が行番号Liを選択したとき、タイミング制御部22は、φR1_EnOdd及びφR1_EnEven=Hi、φR2_EnOdd及びφR2_EnEven=Loとなる信号を出力する。これにより、列番号Rjでは信号RAMP1が比較器214に入力する。また、列番号Rj+1では信号RAMP1が比較器214に入力する。続いて、垂直走査回路が行番号Li−1を選択したとき、タイミング制御部22は、φR2_EnOdd及びφR1_EnEven=Hi、φR1_EnOdd及びφR2_EnEven=Loとなる信号を出力する。これにより、列番号Rjでは信号RAMP2が比較器214に入力する。また、列番号Rj+1では信号RAMP1が比較器214に入力する。
【選択図】図12

Description

本発明は、異なる特性を持つ2種類の画素が混在した画素部を備える固体撮像装置に関するものである。
近年、画素部を複数の領域に区分する、又は異なる特性の画素を混在させることで様々な効果を上げる固体撮像装置が知られている。特許文献1には、画素アレイ部を第1画素群と第2画素群とに区画し、第1画素群からは低フレームレートでリニア特性の画像信号を読み出し、第2画素群からは高フレームレートでリニアログ特性の画像信号を読み出す固体撮像装置が開示されている。
特許文献2には、偽信号や飽和むらの発生を抑制することを目的とし、大サイズで高感度の第1の受光素子と、小サイズで低感度の第2の受光素子とをハニカム状に配置し、第1の受光素子の飽和レベルを調整し、第2の受光素子と合成するCCDの固体撮像装置が開示されている。
また、特許文献3には、画素回路を構成する受光素子をゼロバイアスモード(太陽電池モード)で駆動させることで、バラツキレスな対数特性出力を得ることができる撮像素子が開示されている。
そして、非特許文献1には、シングルスロープ型のAD変換器を備え、ランプ波形の電圧振幅を画素のCF毎に切り替える固体撮像装置について記載されている。
特開2009−272820号公報 特開2000−125209号公報 EP1354360号公報 杉木忠、外5名、「コラム間FPNのないコラム型AD変換器を搭載したCMOSイメージセンサ」、映像情報メディア学会、2000年6月23日、Vol.24、No.37、p79−84
しかしながら、特許文献1では、第2画素群は各画素の受光素子が固体撮像装置において一般的に用いられている駆動方式である逆バイアスモードで駆動されているため、ログ特性にバラツキが発生するという問題がある。特許文献2は、CCDに関するものであり、また、リニアログ特性の光電変換特性を持たせることが行われていない。
特許文献3は、ダイナミックレンジは確保できるが、入射光量に対して高感度な画像信号を出力することができないという問題がある。
本発明の目的は、異なる特性を持つ画素が混在する画素部を備え、高感度、高ダイナミックレンジを実現し、ばらつきの少ない固体撮像装置を提供することである。
本発明による固体撮像装置は、ノイズ成分を示す基準電位を出力した後にノイズ成分とシグナル成分とを示す信号電位を出力する第1画素と、前記信号電位を出力した後に前記基準電位を出力する第2画素とがマトリクス状に配列された画素部と、前記画素部の各行を順次選択する垂直走査回路と、前記画素部の列毎に設けられ、第1参照波形を用いて前記基準電位をアナログ/デジタル変換し、第2参照波形を用いて前記信号電位をアナログ/デジタル変換するAD変換部と、前記第1参照波形から前記第2参照波形に変化する第1基準信号と、前記第2参照波形から前記第1参照波形に変化する第2基準信号とを生成して出力する基準信号生成部と、前記画素部の列毎であって当該画素部と前記AD変換部の間に設けられ、前記第1基準信号及び前記第2基準信号を取り込み、前記垂直走査回路により選択された行の画素が前記第1画素であるときは前記第1基準信号を前記AD変換部に供給し、前記選択された行の画素が前記第2画素であるときは前記第2基準信号を前記AD変換部に供給する選択部と、を備える。
この構成によれば、基準電位の後に信号電位を出力する第1画素、信号電位の後に基準電位を出力する第2画素のように、特性の異なる画素が混在した画素部であっても、選択部が各画素に応じて第1基準信号、第2基準信号を選択し、その選択された第1基準信号又は第2基準信号を用いてAD変換部がAD変換を行うため、適切なAD変換を行うことができる。
また、上記構成において、前記第1画素は埋め込み型のフォトダイオードを有し、前記第2画素は表面型のフォトダイオードを有することが好ましい。
この構成によれば、埋め込み型フォトダイオードである第1画素からは暗電流の影響の少ない画素信号が得られ、表面型フォトダイオードである第2画素からはS/N比が高い高品位な画素信号を得ることができる。
また、上記構成において、前記第1画素及び前記第2画素は、埋め込み型のフォトダイオードを有することが好ましい。
この構成によれば、画素部から暗電流の影響の少ない高画質の画像信号を得ることができる。
また、上記構成において、前記AD変換部は、シングルスロープ型であり、前記基準信号生成部は、前記第1参照波形及び前記第2参照波形をランプ波形として前記第1基準信号及び前記第2基準信号を生成することが好ましい。
この構成によれば、AD変換部をシングルスロープ型とすることで、回路を簡素化できると共にノイズの影響を受けにくいAD変換を行うことができる。
また、上記構成において、前記第1画素はリニア特性を有し、前記第2画素はログ特性を有することが好ましい。
この構成によれば、リニア特性である第1画素からは高感度なリニア特性を持つ画素信号を得ることができ、ログ特性を持つ第2画素からはばらつきの少ない画素信号を得ることができる。
また、上記構成において、前記垂直走査回路により選択された行の画素の種類に応じた制御信号を生成する制御信号生成部を更に備え、前記基準信号生成部は前記第1基準信号を第1信号線、前記第2基準信号を第2信号線に出力し、前記選択部は第1切替スイッチ及び第2切替スイッチを有し、前記第1切替スイッチは前記第1信号線と前記AD変換部との間に接続され、前記第2切替スイッチは前記第2信号線と前記AD変換部との間に接続され、前記第1切替スイッチ及び前記第2切替スイッチは前記制御信号生成部が生成する制御信号に応じてオン/オフすることが好ましい。
この構成によれば、基準電位の後に信号電位を出力する第1画素、信号電位の後に基準電位を出力する第2画素のように、特性の異なる画素が混在した画素部であっても、選択部が各画素に応じて第1基準信号、第2基準信号を選択し、その選択された第1基準信号又は第2基準信号を用いてAD変換部がAD変換を行うため、適切なAD変換を行うことができる。
本発明によれば、基準電位の後に信号電位を出力する第1画素、信号電位の後に基準電位を出力する第2画素のように、特性の異なる画素が混在した画素部であっても、選択部が各画素に応じて第1基準信号、第2基準信号を選択し、その選択された第1基準信号又は第2基準信号を用いてAD変換部がAD変換を行うため、適切なAD変換を行うことができる。
固体撮像装置と外部装置の構成を示すブロック図。 固体撮像素子の構成を示すブロック図。 第1画素の画素回路の回路図。 第1画素の光電変換特性を示したグラフ。 第1画素のタイミングチャート。 第2画素の画素回路の回路図。 第2画素の光電変換特性を示したグラフ。 第2画素のタイミングチャート。 画素アレイ部における第1画素及び第2画素の配置の一例を示した図。 カラムADCとランプ信号RAMP1及びRAMP2の関係を説明するための図。 カラムADCとランプ信号RAMP1及びRAMP2の関係を説明するための図。 切替回路について説明するための図。 垂直同期信号、ランプ信号及び切替制御信号のタイミングチャート。
図1は、本発明の実施の形態による固体撮像装置1の全体構成を示すブロック図である。固体撮像装置1は、撮像素子110及び画像処理部120を備えている。撮像素子110及び画像処理部120は1つのICチップ内に構成されていても良いし、別のICチップとして構成されても良い。
画像処理部120は、画像信号処理部121及び撮像素子制御部122を備えている。撮像素子制御部122は、SYSCLKとレジスタ制御信号とを撮像素子110に出力し、撮像素子110を制御する。SYSCLKは例えば図略の発振回路により生成される所定の周波数(例えば54MHz)を持つクロック信号である。レジスタ制御信号は、図2に示すタイミング制御部22が備えている各種のレジスタにデータを書き込むための信号である。
撮像素子110は、画像信号を画像信号処理部121に出力する。画像信号処理部121は、画像信号に対して種々の画像処理を施し、画像出力信号として外部装置に出力する。ここで、外部装置としては、液晶パネルや有機ELパネル等の表示装置や、画像出力信号を保持するメモリ等が該当する。
図2は、図1に示す撮像素子110の詳細な構成を示すブロック図である。撮像素子110は、画素アレイ部21(画素部)、タイミング制御部22(制御信号生成部)、ローデコーダ23、カラムADCアレイ部24、カラムデコーダ25、センスアンプ26、LVDSシリアライザ27、出力端子28、ランプ波生成回路29(基準信号生成部)及び入力端子210と211を備えている。
画素アレイ部21は、M(2以上の整数)行×N(2以上の整数)列でマトリックス状に配列された複数の画素により構成されており、特性の異なる第1画素と第2画素とが混在している。第1画素は、完全転送型のフォトダイオード(PD)を有し、リニア特性を持った画素である。第2画素は、表面型のPDを有し、ログ特性を持った画素である。また、第2画素は太陽電池モードで駆動する。各画素については後ほど詳しく説明する。
タイミング制御部22は、PLL、タイミングジェネレータ(TG)及びレジスタを備え、ローデコーダ23、カラムADCアレイ部24、カラムデコーダ25、センスアンプ26、LVDSシリアライザ27及びランプ波生成回路29を制御する。PLLは、必要に応じてSYSCLKを逓倍(例えば2逓倍)してTGに供給する。TGはPLLから供給された信号に従って、水平同期信号及び垂直同期信号等のタイミング信号を生成し、ローデコーダ23、カラムADCアレイ部24、カラムデコーダ25、センスアンプ26、LVDSシリアライザ27及びランプ波生成回路29に供給し、これらの動作を同期させる。
レジスタは、例えばローデコーダ23が各画素に出力する各種の画素制御信号の波形を規定するためのデータを保持している。ここで、レジスタが保持するデータは、撮像素子制御部122から出力されるレジスタ制御信号によって書き込まれている。
ローデコーダ23は、例えば、垂直走査回路とドライバ回路とを備えている。垂直走査回路は、例えば、シフトレジスタにより構成され、タイミング制御部22のTGから出力される垂直同期信号をトリガーとして、画素アレイ部21の各行をサイクリックに選択し、画素アレイ部21を垂直走査する。ドライバ回路は、タイミング制御部22のレジスタに書き込まれたデータに従って画素制御信号を生成し、各画素に供給することで各画素を駆動させる。
カラムADCアレイ部24は、画素アレイ部21の各列に対応するN個のカラムADC212(AD変換部)を備えている。カラムADC212は、画素アレイ部21の各列に対応する垂直信号線L_1を介して各列の画素と接続され、垂直走査回路により選択された行の画素から画素信号を読み出す。
画素アレイ部21の各画素は、1水平期間において、ノイズ成分のみからなる画素信号と、ノイズ成分にシグナル成分が加算された画素信号とを出力する。ここで、ノイズ成分のみからなる画素信号をノイズ成分信号と記述し、ノイズ成分にシグナル成分が加算された画素信号をノイズ・シグナル成分信号と記述する。
カラムADC212は、切替回路213(選択部)を含む。切替回路213は、ランプ波生成回路29が生成する2種類のランプ信号のうち何れか一方を選択する。カラムADC212は、画素からアナログの画素信号を入力すると、切替回路213が選択したランプ信号のレベルが画素信号のレベルを超えるまでの時間をカウントすることでAD変換を行う、所謂シングルスロープ型のAD変換器である。
カラムデコーダ25は、例えばシフトレジスタにより構成され、水平同期信号に同期した列選択信号を出力することで、1水平走査期間において、各列のカラムADC212をサイクリックに選択する。これにより、カラムADCアレイ部24は水平走査され、各列のカラムADC212が保持するデジタルの画像信号をセンスアンプ26に順次に出力する。
センスアンプ26は、カラムADCアレイ部24から水平信号線L_2を介して出力されるデジタルの画像信号を増幅し、LVDSシリアライザ27に出力する。
LVDSシリアライザ27は、LVDS(Low Voltage differential signaling)規格に準拠したシリアライザであり、センスアンプ26から水平信号線L_2を介してパラレルで出力される信号を差動増幅して所定ビットの信号とし、シリアルに変換して出力端子28に出力する。
出力端子28は、LVDSシリアライザ27からの画像信号を画像信号処理部121に出力する。
ランプ波生成回路29は、一定の傾きを持って直線状に変化するランプ信号を2種類(ランプ信号RAMP1及びRAMP2)生成し、カラムADC212に出力する。このランプ信号の種類については後ほど詳しく説明する。
入力端子210は、撮像素子制御部122から供給されるSYSCLKが入力され、タイミング制御部22に出力する。入力端子211は、撮像素子制御部122から供給されるレジスタ制御信号が入力され、タイミング制御部22に出力する。
図3は、第1画素の画素回路の回路図である。図3に示す画素回路は、受光素子(以下“PD”と記述する。)、転送トランジスタTX(以下“TX”と記述する。)、リセットトランジスタRST(以下“RST”と記述する。)、増幅トランジスタSF(以下“SF”と記述する。)、行選択トランジスタSEL(以下“SEL”と記述する。)、及び浮遊拡散層FD(以下“FD”と記述する。FD:Floating Diffusion)を備えている。
PDは埋め込み型(完全転送型)のフォトダイオードにより構成され、アノードに駆動電圧PVSS(以下“PVSS”と記述する)が印加され、カソードに駆動電圧PVDD(以下“PVDD”と記述する)が印加される。
TXは、例えばnMOS(negative channel Metal Oxide Semiconductor)により構成され、PDにより蓄積された信号電荷をFDに転送する。TXのゲートには、TXをオン、オフするための転送制御信号φTX(画素制御信号の一例、以下“φTX”と記述する。)が入力される。TXのドレインは、FDを介してRSTに接続されている。φTXがローレベル(以下“Lo”と記述する。)になるとTXのゲートが閉じてTXがオフし、φTXがハイレベル(以下“Hi”と記述する。)になると、TXのゲートが開いてTXがオンする。尚、φTXは、ローデコーダ23から出力される。
FDは、PDから転送された信号電荷を蓄積する。これにより、FDには信号電荷に応じた電圧が現れる。
RSTは、例えばnMOSにより構成され、FDをリセットし、FDに蓄積された信号電荷をFDの外部に排出する。RSTのゲートには、RSTをオン、オフするためのリセット信号φRST(画素制御信号の一例、以下“φRST”と記述する。)が入力され、ドレインにPVDDが入力され、ソースがFDを介してSFのゲートに接続されている。そして、RSTは、φRST=Hiになると、オンしてFDをリセットし、φRST=Loになるとオフする。
尚、PVDD、PVSSは図略の電圧源から出力され、φRSTは、ローデコーダ23から出力される。
SFは、例えばnMOSにより構成され、ゲートがFDを介してTX及びRSTに接続され、ドレインにPVDDが入力され、ソースがSELに接続されている。そして、SFはFDに現れる電圧を電流増幅してSELに出力する。
SELは、例えばnMOSにより構成され、ゲートに行選択信号φVSEN(画素制御信号の一例、以下“φVSEN”と記述する。)が入力され、ドレインがSFに接続され、ソースが垂直信号線L_1を介して対応する列のカラムADC212に接続されている。そして、SELは、SFにより電流増幅された電圧を画像信号として、垂直信号線L_1を介して対応する列のカラムADC212に出力する。ここで、φVSENはローデコーダ23から出力される。
図4は、第1画素の光電変換特性の一例を示したグラフであり、縦軸(線形軸)はシグナル成分信号を示し、横軸(対数軸)は入射光強度を示している。図4に示すように、第1画素は、入射光強度が増大するにつれて、シグナル成分信号が線形に増大するリニア特性の光電変換特性を持っていることが分かる。更に、所定の入射光強度を超えると、シグナル成分信号が飽和していることが分かる。尚、図4に示すグラフは横軸が対数軸であるため、図4に示すような曲線が入射光強度に対して線形な出力となる。従って、リニア特性は、ダイナミックレンジは小さいが、感度が高いという特性を持っていることが分かる。
従来の固体撮像装置では、図3に示す第1画素において、TXのゲートにHiとLoとの中間のレベルを持つ中間電圧を印加した状態で第1画素を露光させて、リニアログ特性を実現していた。TXのゲートに中間電圧を印加し、TXのゲートを半開状態にすると、PDに蓄積される信号電荷は一定の量を超えるまでは、TXのエネルギー障壁を越えることができず、リニア特性で蓄積される。
一方、PDに蓄積される信号電荷が一定の量を超えると、信号電荷の一部がTXのエネルギー障壁を越えてTX側に漏れ出るため、PDは信号電荷を漏らしつつ蓄積し、ログ特性で信号電荷を蓄積する。これにより、第1画素は、低輝度がリニア特性、高輝度側がログ特性のリニアログ特性を持つことになる。
図5は、第1画素のタイミングチャートである。時刻t0は、露光期間中である。φRST=Hiとしているので、FDは常にPVDDにリセットされている。
そして、φRSTがLoになったとき、FDの電圧がリセットレベルV_PVDDからノイズレベルV_nまで低下している。これは、φRSTをHiからLoに変化させたことによるFDとRSTとの間の寄生容量やFDのktcノイズ等の影響により、FDに信号電荷が発生するからである。このような、FDとRSTとの間の寄生容量やktcノイズは画素毎にばらついているため、ノイズレベルV_nは画素毎にばらついている。また、リセットレベルV_PVDDはPVDDのレベルを示す。
時刻t1では、φVSEN=Hiにされ、FDに発生しているノイズレベルV_nの電圧がノイズ成分信号としてカラムADC212に読み出される。カラムADC212は、ランプ波生成回路29から出力される信号RAMP1(第1基準信号)のレベルがノイズ成分信号のレベルを超えるまでの時間をカウントすることで、アナログのノイズ成分信号をAD変換する。尚、このときの信号RAMP1は、所定電位から第1参照電位Vr1まで予め定められた傾きを持って電位が下がる波形(波形Ref)となっている。
ここで、第1参照電位Vr1は、ノイズ成分信号の想定値よりも所定電圧だけ低い電位であることが好ましい。このように第1参照電位Vr1を設定することで、ノイズ成分信号のAD変換の高速化を図ることができる。
時刻t2では、φTX=Hiにされ、PDに蓄積された信号電荷がFDに転送される。そのため、時刻t2では、FDの電圧はPDから転送された信号電荷量に応じてノイズレベルV_nからシグナルレベルV_sまで低下する。
時刻t3では、φTX=Loにされ、FDに発生しているシグナルレベルV_sの電圧がノイズ・シグナル成分信号としてカラムADC212に読み出される。カラムADC212は、ランプ波生成回路29から出力される信号RAMP1のレベルがノイズ・シグナル成分信号のレベルを超えるまでの時間をカウントすることで、アナログのノイズ・シグナル成分信号をAD変換する。尚、このときの信号RAMP1は、所定電位から第2参照電位Vr2まで予め定められた傾きを持って電位が下がる波形(波形Signal)となっている。
そして、カラムADC212は、デジタルのノイズ・シグナル成分信号からデジタルのノイズ成分信号を除去し、デジタルのシグナル成分信号を画像信号として出力する。
時刻t4では、φRST=Hiとされ、FDがリセットされる。以後、時刻t0〜t4で示す駆動シーケンスが1水平期間に実行され、この駆動シーケンスが繰り返され、1行ずつ画像信号が得られる。
このように、第1画素はノイズ成分信号を出力した後にノイズ・シグナル成分信号を出力する。従って、ランプ波生成回路29は、ノイズ成分信号をAD変換するためのランプ波形Refの後にノイズ・シグナル成分信号をAD変換するためのランプ波形Signalが来る信号RAMP1を生成し、カラムADC212に出力する。そして、カラムADC212は、第1画素から読み出したノイズ・シグナル信号及びノイズ信号のAD変換を行う際は信号RAMP1を用いて行う。
図6は、第2画素の画素回路の回路図である。第2画素は、PD、RST、2個の増幅トランジスタSF1、SF2(以下“SF1”、“SF2”と記述する。)及びSELを備えている。
PDは表面型のフォトダイオードにより構成され、アノードにPVSSが入力され、カソードにRSTが接続されている。ここで、PDはリセット時において、RSTがオンされ、カソードとアノードとには共にPVSSが印加される。これにより、PDはゼロバイアス状態でリセットされ、露光時において入射光強度に応じた電流を流す。この電流によってPDのアノード及びカソード間の電圧が変化する。
RSTは、nMOSにより構成され、ゲートにリセット信号φRSTが印加され、PDと並列接続されている。そして、RSTはφRST=HiになるとオンしてPDをゼロバイアス状態でリセットする。
SF1はpMOSにより構成され、ゲートがPDのカソードに接続され、一方の端子にPVSSが入力され、他方の端子がSELを介して垂直信号線L_1に接続されている。SF2はpMOSにより構成され、ゲートにバイアス電圧Bias(以下“Bias”と記述する。)が印加され、一方の端子にSF1が接続され、他方の端子にPVDDが入力されている。そして、SF1及びSF2は、PDのアノード及びカソード間の電圧を電流増幅して、SELに供給する。
SELは、nMOSにより構成され、ゲートにφVSENが印加され、一方の端子がSF1及びSF2の接続点に接続され、他方の端子が垂直信号線L_1に接続されている。そして、SELは、φVSEN=Hiとなるとオンし、SF1及びSF2により電流増幅されたPDの電圧を画像信号として、垂直信号線L_1に出力する。
図7は、第2画素の光電変換特性を示したグラフであり、縦軸(線形軸)はシグナル成分信号を示し、横軸(対数軸)は入射光強度を示している。図7に示すように、第2画素は、入射光強度が増大するにつれて、シグナル成分信号が対数的に増大するログ特性の光電変換特性を持っていることが分かる。尚、図7では、横軸が対数軸であるため、対数的な変化が直線で表されている。
図8は、第2画素のタイミングチャートである。時刻t0は、露光期間中で、PDのカソードには入射光強度に応じた電圧が現れる。これにより、PDのカソードの電圧はリセットレベルV_PVSSからシグナルレベルV_sまで低下する。
時刻t1では、φVSEN=Hiとされ、PDのカソードに発生しているシグナルレベルV_sの電圧がノイズ・シグナル成分信号としてカラムADC212に読み出される。カラムADC212は、ランプ波生成回路29から出力される信号RAMP2(第2基準信号)のレベルがノイズ・シグナル成分信号のレベルを超えるまでの時間をカウントすることで、アナログのノイズ・シグナル成分信号をAD変換する。尚、このときの信号RAMP2は、所定電位からVr2まで予め定められた傾きを持って電位が下がる波形(波形Signal)となっている。
時刻t2では、φRST=Hiとされ、RST及びSELがオンされ、PDのカソードの電圧がシグナルレベルV_sからリセットレベルV_PVSSまで上昇し、リセットレベルV_PVSSがノイズ成分信号として、カラムADC212に読み出される。カラムADC212は、ランプ波生成回路29から出力される信号RAMP2のレベルがノイズ成分信号のレベルを超えるまでの時間をカウントすることで、アナログのノイズ成分信号をAD変換する。尚、このときの信号RAMP2は、所定電位からVr1まで予め定められた傾きを持って電位が下がる波形(波形Ref)となっている。
そして、カラムADC212は、デジタルのノイズ・シグナル成分信号からデジタルのノイズ成分信号を除去し、デジタルのシグナル成分信号を画像信号として出力する。
時刻t4では、φRST=Lo、φVSEN=Loにされ、RST及びSELがオフされる。
以後、時刻t0〜t4で示す駆動シーケンスが1水平期間で行われ、この駆動シーケンスが繰り返され、1行ずつ画像信号が順次に得られる。
このように、第2画素はノイズ・シグナル成分信号を出力した後にノイズ成分信号を出力する。従って、ランプ波生成回路29は、ノイズ・シグナル成分信号をAD変換するためのランプ波形Signalの後にノイズ成分信号をAD変換するためのランプ波形Refが来る信号RAMP2を生成し、カラムADC212に出力する。カラムADC212は、第2画素から読み出したノイズ・シグナル信号及びノイズ信号のAD変換を行う際は信号RAMP2を用いて行う。
図9は、画素アレイ部21における第1画素及び第2画素の配置の一例を示している。尚、図9においてPDは第1画素、SCは第2画素を示している。リニア特性を有する第1画素とログ特性を有する第2画素を混在させる場合、図9に示すように3つの第1画素と1つの第2画素で構成された4画素をタイル状に配置するパターンが考えられる。以下、図9に示す配置パターンを用いて説明するが、他の配置パターンでも構わない。
上記したように、カラムADC212が第1画素から読み出したノイズ・シグナル信号及びノイズ信号をAD変換する際は信号RAMP1を用い、第2画素から読み出したノイズ・シグナル信号及びノイズ信号をAD変換する際は信号RAMP2を用いる。つまり、カラムADC212は、画素の種類に応じてAD変換の際に用いるランプ信号を切り替える必要がある。このランプ信号の切り替えについて詳しく説明する。
図10及び図11は、図9に示す配置パターンを用いたときのカラムADC212とランプ信号RAMP1及びRAMP2の関係を説明するための図である。図10に示すように、ローデコーダ23の垂直走査回路が画素アレイ部21の行番号Liを選択した場合、行番号Liの画素は全て第1画素であるため、全てのカラムADC212は信号RAMP1を用いて各画素から読み出したアナログ信号をAD変換する。
しかし、図11に示すように、垂直走査回路が画素アレイ部21の行番号Li−1を選択した場合、行番号Li−1の画素は第1画素と第2画素が混在した行であるため、カラムADC212は画素の種類に応じて信号RAMP1又は信号RAMP2を選択し、AD変換する必要がある。
具体的には、行番号Li−1、列番号Rjの画素は第2画素となっている。従って、列番号RjのカラムADC212は信号RAMP2を用いてAD変換を行う。また、列番号Li−1、列番号Rj+1の画素は第1画素となっている。従って、列番号Rj+1のカラムADC212は信号RAMP1を用いてAD変換を行う。このように、カラムADC212は画素の種類に応じたランプ信号を使用する必要があり、切替回路213が使用するランプ信号の選択を行う。
図12は、切替回路213について説明するための図である。ランプ波形生成回路29は、信号RAMP1を信号線RP1に、信号RAMP2を信号線RP2に出力する。切替回路213はトランジスタ等の2つのスイッチSWを有し、信号線RP1は、一方のスイッチを介して比較器214の入力端子に接続される。同様に、信号RP2は、他方のスイッチを介して比較器214の入力端子に接続される。
切替回路213が有する2つのスイッチSWは、タイミング制御部22が出力する切替制御信号に従って動作する。タイミング制御部22は、切替制御信号φR1_EnnOdd、φR1_EnEven、φR2En_Odd及びφR2_EnEvenの4種類の信号を各スイッチSWのゲート端子に入力する。
具体的には、スイッチSW11のゲート端子にはφR1_EnOddが入力され、スイッチSW12のゲート端子にはφR2_EnOddが入力される。更に、スイッチSW21のゲート端子にはφR1_EnEvenが入力され、スイッチSW22のゲート端子にはφR2_EnEvenが入力される。切替回路213が有する2つのスイッチSWは、互いが同時にオンすることはなく、何れか一方がオンとなる。
図13は、水平同期信号、ランプ信号及び切替制御信号のタイミングチャートである。図12及び図13を用いて具体的に説明する。
(パターン1)垂直走査回路が行番号Liを選択したとき、行番号Liの画素は全て第1画素であるため、タイミング制御部22は全ての比較器214に信号RAMP1が入力されるように切替制御信号を出力する。
つまり、タイミング制御部22は、φR1_EnOdd及びφR1_EnEven=Hi、φR2_EnOdd及びφR2_EnEven=Loとなる信号を出力する。これにより、列番号RjにおいてはスイッチSW11がオン、スイッチSW12がオフとなり、信号線RP1と比較器214の入力端子が接続状態となる。つまり、信号RAMP1が比較器214に入力する。また、列番号Rj+1においてはスイッチSW21がオン、スイッチSW22がオフとなり、信号線RP1と比較器214の入力端子が接続状態となる。つまり、信号RAMP1が比較器214に入力する(例えば、図13における期間H1)。
(パターン2)続いて、垂直走査回路が行番号Li−1を選択したとき、行番号Li−1の画素は第1画素と第2画素が交互に配置されているため、タイミング制御部22は、第1画素が選択されている列の比較器214には信号RAMP1が、第2画素が選択されている列の比較器214には信号RAMP2が入力されるよう切替制御信号を出力する。
つまり、タイミング制御部22は、φR2_EnOdd及びφR1_EnEven=Hi、φR1_EnOdd及びφR2_EnEven=Loとなる信号を出力する。これにより、列番号RjにおいてはスイッチSW11がオフ、スイッチSW12がオンとなり、信号線RP2と比較器214の入力端子が接続状態となる。つまり、信号RAMP2が比較器214に入力する。また、列番号Rj+1においては、引き続きスイッチSW21がオン、スイッチSW22がオフとなり、信号線RP1と比較器214の入力端子が接続状態となる。つまり、信号RAMP1が比較器214に入力する(例えば、図13における期間H2)。
本実施の形態では、画素アレイ部21を列毎で見た時、列番号Rjのように第1画素と第2画素が交互に配置されたパターンと、列番号Rj+1のように第1画素のみで構成されたパターンとが交互に組み合わされているため、上記(パターン1)と(パターン2)が交互に繰り返されることで各列の画素の種類に応じたランプ信号が順次比較器214に入力される。つまり、垂直走査回路が各行を選択する度に、図13の期間H1と期間H2における切替制御信号の論理が交互に繰り返されることになる。尚、画素アレイ部21における第1画素及び第2画素の配置パターンによって切替制御信号の数及び論理が変わってくることは言うまでもない。
以上、説明したように、リニア特性を有する第1画素及びログ特性を有する第2画素のように異なる特性を有する画素が混在する場合であっても、ランプ波形生成回路29がそれぞれの画素の特性に対応したランプ信号を生成し、各列に設けられた切替回路213が画素の種類に応じたランプ信号を選択して比較器214に供給することにより、適切にAD変換を行うことができる。従って、特性を異なる画素を混在させることで、高感度、高いダイナミックレンジ、低ばらつきが画像信号を高速、高分解能、低いノイズで出力する固体撮像素子を実現することができる。
尚、本実施の形態では、第1画素を埋め込み型のPDを有し、第2画素を表面型のPDを有することとして説明したが、これに限定されず、第1画素及び第2画素を共に、埋め込み型のPDで構成してもよい。埋め込み型のPDは暗電流の影響を受けにくいため、第1画素及び第2画素を埋め込み型のPDで構成した場合、高品質の画像信号を得ることができる。尚、第2画素を埋め込み型のPDで構成する場合、図6においてPDのカソードとSF1のゲートの間に転送トランジスタを挿入することで実現可能である。
また、図13のタイミングチャートでは、1回の水平走査期間(1H期間)で1行分の画素のAD変換が行われる場合について説明したが、2行同時読み出しセンサのように、1画素のAD変換に2H期間を要する場合でも本実施の形態を適用することができる。
1 固体撮像素子
110 撮像素子
120 画像処理部
121 画像信号処理部
122 撮像素子制御部
21 画素アレイ部
22 タイミング制御部
24 カラムADCアレイ部
212 カラムADC
213 切替回路
29 ランプ波生成回路

Claims (6)

  1. ノイズ成分を示す基準電位を出力した後にノイズ成分とシグナル成分とを示す信号電位を出力する第1画素と、前記信号電位を出力した後に前記基準電位を出力する第2画素とがマトリクス状に配列された画素部と、
    前記画素部の各行を順次選択する垂直走査回路と、
    前記画素部の列毎に設けられ、第1参照波形を用いて前記基準電位をアナログ/デジタル変換し、第2参照波形を用いて前記信号電位をアナログ/デジタル変換するAD変換部と、
    前記第1参照波形から前記第2参照波形に変化する第1基準信号と、前記第2参照波形から前記第1参照波形に変化する第2基準信号とを生成して出力する基準信号生成部と、
    前記画素部の列毎であって当該画素部と前記AD変換部の間に設けられ、前記第1基準信号及び前記第2基準信号を取り込み、前記垂直走査回路により選択された行の画素が前記第1画素であるときは前記第1基準信号を前記AD変換部に供給し、前記選択された行の画素が前記第2画素であるときは前記第2基準信号を前記AD変換部に供給する選択部と、
    を備える固体撮像装置。
  2. 前記第1画素は埋め込み型のフォトダイオードを有し、前記第2画素は表面型のフォトダイオードを有する請求項1に記載の固体撮像装置。
  3. 前記第1画素及び前記第2画素は、埋め込み型のフォトダイオードを有する請求項1に記載の固体撮像装置。
  4. 前記AD変換部は、シングルスロープ型であり、
    前記基準信号生成部は、前記第1参照波形及び前記第2参照波形をランプ波形として前記第1基準信号及び前記第2基準信号を生成する請求項1〜3の何れか一項に記載の固体撮像装置。
  5. 前記第1画素はリニア特性を有し、前記第2画素はログ特性を有する請求項1〜4の何れか一項に記載の固体撮像装置。
  6. 前記垂直走査回路により選択された行の画素の種類に応じた制御信号を生成する制御信号生成部を更に備え、
    前記基準信号生成部は前記第1基準信号を第1信号線、前記第2基準信号を第2信号線に出力し、
    前記選択部は第1切替スイッチ及び第2切替スイッチを有し、前記第1切替スイッチは前記第1信号線と前記AD変換部との間に接続され、前記第2切替スイッチは前記第2信号線と前記AD変換部との間に接続され、前記第1切替スイッチ及び前記第2切替スイッチは前記制御信号生成部が生成する制御信号に応じてオン/オフする請求項1〜5の何れか一項に記載の固体撮像装置。
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US10687003B2 (en) 2016-08-04 2020-06-16 Omnivision Technologies, Inc. Linear-logarithmic image sensor

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