JP2013187000A - Functional liquid discharge method, organic el element manufacturing method, organic el device, and electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a functional liquid discharge method which can apply a coating of a predetermined amount of functional liquid to functional layer formation regions stably, as well as an organic EL element manufacturing method, an organic EL element, and an electronic apparatus for which this method is adopted.SOLUTION: A functional liquid discharge method in the present application example is designed in such a way that, while a discharge head having a plurality of nozzles 52 scans functional layer formation regions A by moving relative thereto a number of times, a functional liquid containing a functional layer formation material is discharged as droplets from a nozzle group including at least two nozzles 52 covering the functional layer formation regions A. At least one of the nozzles 52 out of the nozzle group is unselected, and the same number of nozzles is selected each time a scan is performed.

Description

本発明は、液体中に機能層形成材料を含む機能液の吐出方法、有機EL(Electro Luminescence)素子の製造方法、有機EL装置及び電子機器に関する。   The present invention relates to a method for discharging a functional liquid containing a functional layer forming material in a liquid, a method for manufacturing an organic EL (Electro Luminescence) element, an organic EL device, and an electronic apparatus.

近年、紙などの印刷媒体にインクを液滴として吐出して文字や画像などを印刷する所謂インクジェットプリンターの技術を工業的に応用して、各種の機能層を形成することが実用化されている。
例えば、特許文献1には、複数のノズルを有するインクジェットヘッドを基板に対して相対的に走査して、基板上の同一画素領域に対して複数のノズルから着色層形成用のインクを吐出して塗布を行ってカラーフィルターを製造するカラーフィルター製造方法が開示されている。
また、例えば、特許文献2には、複数のノズルと基板との複数回の走査において液滴を吐出するノズルの選択パターンの組み合わせが膜形成領域ごとに同じである液状体の吐出方法、及びこの吐出方法を適用したカラーフィルターの製造方法ならびに有機EL素子の製造方法が開示されている。
In recent years, it has been put into practical use to form various functional layers by industrially applying a so-called ink jet printer technology that prints characters or images by ejecting ink as droplets onto a printing medium such as paper. .
For example, in Patent Document 1, an inkjet head having a plurality of nozzles is scanned relative to a substrate, and ink for forming a colored layer is ejected from the plurality of nozzles to the same pixel region on the substrate. A color filter manufacturing method for manufacturing a color filter by coating is disclosed.
Further, for example, Patent Document 2 discloses a liquid material ejection method in which the combination of nozzle selection patterns for ejecting droplets in a plurality of scans of a plurality of nozzles and a substrate is the same for each film formation region, and this A manufacturing method of a color filter to which a discharging method is applied and a manufacturing method of an organic EL element are disclosed.

特開2009−122661号公報JP 2009-122661 A 特開2009−148694号公報JP 2009-148694 A

上記特許文献1及び特許文献2に示された吐出方法は、所定の領域に一定量のインクあるいは液状体を安定的に塗布できるとしている。しかしながら、走査ごと且つ所定の領域ごとに液滴が吐出されるノズルの数が変わると、ノズル間の機械的、あるいは電気的なクロストークによる影響で選択されたノズルから吐出される液滴の吐出量がばらついたり、走査ごとに使用するノズル数が変わることで、インクジェットヘッドの温度が走査ごとに変化して液滴の吐出量がばらつくおそれがあった。
すなわち、このような液滴の吐出量のばらつきに起因して機能層の膜厚や膜形状が変動し、所望の光学特性を有するカラーフィルターや所望の電気光学特性を有する有機EL素子をインクジェットヘッドを用いて製造することが難しいという課題があった。
According to the ejection methods disclosed in Patent Document 1 and Patent Document 2, a predetermined amount of ink or liquid can be stably applied to a predetermined region. However, if the number of nozzles from which droplets are ejected changes for each scan and for each predetermined region, ejection of droplets ejected from the selected nozzle due to the influence of mechanical or electrical crosstalk between the nozzles When the amount varies or the number of nozzles used for each scan changes, the temperature of the ink jet head may change for each scan, and the amount of discharged droplets may vary.
That is, the film thickness and film shape of the functional layer fluctuate due to such variations in the discharge amount of droplets, and a color filter having desired optical characteristics or an organic EL element having desired electro-optical characteristics can be used as an inkjet head. There has been a problem that it is difficult to manufacture using the material.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例に係る機能液の吐出方法は、複数のノズルを有する吐出ヘッドを機能層形成領域に対して相対的に移動させる複数回の走査の間に、前記機能層形成領域に掛かる少なくとも2つのノズルを含むノズル群から機能層形成材料を含む機能液を液滴として吐出する機能液の吐出方法であって、前記ノズル群のうち少なくとも1つのノズルを非選択として、選択されるノズル数を前記走査ごとに同数とすることを特徴とする。   [Application Example 1] In the functional liquid discharge method according to this application example, the functional layer formation region is moved between a plurality of scans in which an ejection head having a plurality of nozzles is moved relative to the functional layer formation region. A functional liquid discharging method for discharging a functional liquid containing a functional layer forming material as droplets from a nozzle group including at least two nozzles applied to the nozzle, wherein at least one nozzle of the nozzle group is selected as non-selected. The number of nozzles is the same for each scan.

本適用例によれば、走査ごとに機能層形成領域に対して液滴を吐出する選択されるノズル数が同じであるため、走査ごとに選択されるノズル数が異なる場合に比べて、ノズル間の機械的、あるいは電気的なクロストークが低減される。また、ノズルから液滴を吐出させるために消費されるエネルギー量を複数回の走査に亘って均一にできるので、走査における吐出ヘッドの温度変化が低減される。したがって、走査における液滴の吐出量のばらつきが抑制され、機能層形成領域に所定量の機能液を安定的に塗布することができ、安定した特性を有する機能層を形成することができる。
また、走査ごとに機能層形成領域に掛かるノズル群をすべて使用して液滴を吐出すると、複数回の走査の後に機能層形成領域に塗布される機能液の総量が、所定量に対して過不足を生ずるおそれがある。これを解消する方法として、例えば機能液における機能層形成材料の濃度を調整することが考えられるが、濃度調整に手間が掛かる。
本適用例によれば、走査において機能層形成領域に掛かるノズル群のうち少なくとも1つのノズルを非選択とするので、所定量の機能液を機能層形成領域に塗布するための走査回数が増えるけれども、走査ごとに選択されるノズル数を容易に同数とすることができる。
According to this application example, since the number of nozzles selected to eject droplets to the functional layer formation region for each scan is the same, the number of nozzles selected for each scan is different compared to the case where the number of nozzles selected for each scan is different. The mechanical or electrical crosstalk is reduced. In addition, since the amount of energy consumed for ejecting droplets from the nozzle can be made uniform over a plurality of scans, changes in the temperature of the ejection head during scanning are reduced. Therefore, variation in the discharge amount of droplets during scanning is suppressed, a predetermined amount of functional liquid can be stably applied to the functional layer formation region, and a functional layer having stable characteristics can be formed.
In addition, if droplets are ejected using all the nozzle groups applied to the functional layer formation region for each scan, the total amount of functional liquid applied to the functional layer formation region after a plurality of scans exceeds the predetermined amount. There may be a shortage. As a method for solving this problem, for example, it is conceivable to adjust the concentration of the functional layer forming material in the functional liquid. However, it takes time to adjust the concentration.
According to this application example, since at least one nozzle is not selected from the nozzle group applied to the functional layer formation region in scanning, the number of scans for applying a predetermined amount of functional liquid to the functional layer formation region increases. Thus, the same number of nozzles can be selected for each scan.

[適用例2]上記適用例に係る機能液の吐出方法において、前記走査ごとに前記ノズル群から同一のノズルを選択することが好ましい。
この方法によれば、走査において機能層形成領域に掛かるノズル群の中から同一ノズルを用いて液滴の吐出が行われるので、走査ごとに異なるノズルを用いる場合に比べて、ノズル間における液滴の吐出量のばらつきの影響を受け難い。走査において同一のノズルが掛かる機能層形成領域間では塗布された機能液の総量(所定量)が安定する。
Application Example 2 In the functional liquid ejection method according to the application example described above, it is preferable to select the same nozzle from the nozzle group for each scan.
According to this method, liquid droplets are ejected using the same nozzle from the nozzle group that covers the functional layer formation region in scanning, so that the liquid droplets between the nozzles are different from when different nozzles are used for each scanning. It is difficult to be affected by variations in the discharge amount. The total amount (predetermined amount) of the applied functional liquid is stabilized between the functional layer forming regions where the same nozzle is applied during scanning.

[適用例3]上記適用例に係る機能液の吐出方法において、前記液滴の吐出が適正に行われない不良ノズルを前記非選択のノズルとすることが好ましい。
この方法によれば、例えば、ノズルの目詰まりによって液滴が吐出されない、又は液滴が吐出されても吐出量が極端に少なかったり多かったりする、あるいは液滴が吐出されても飛行曲がりにより所定の位置に着弾しないなどの不良ノズルを除外して、正常な吐出が行われるノズルを用いて走査が行われる。ゆえに、液滴の吐出量のばらつきを抑制して、繰り返し安定的な吐出を実現できる。言い換えれば、不良ノズルが発生しても走査を停めずに済むので、高い生産性を実現できる。
Application Example 3 In the functional liquid discharge method according to the application example described above, it is preferable that a defective nozzle that does not properly discharge the droplets is the non-selected nozzle.
According to this method, for example, a droplet is not ejected due to clogging of the nozzle, or even if a droplet is ejected, the ejection amount is extremely small or large. Scanning is performed using nozzles that perform normal ejection, excluding defective nozzles that do not land at the position. Therefore, variation in the discharge amount of the droplets can be suppressed and repeated and stable discharge can be realized. In other words, even if a defective nozzle occurs, it is not necessary to stop scanning, so that high productivity can be realized.

[適用例4]上記適用例に係る機能液の吐出方法において、前記複数回の走査の間に、前記ノズル群のうち選択されるノズルを変えるとしてもよい。
この方法によれば、ある走査で非選択であったノズルを次の走査で選択とすることができる。つまり、非選択のノズルが固定化することで目詰まりが生じてしまうことを防ぐことができる。
Application Example 4 In the functional liquid ejection method according to the application example described above, a nozzle selected from the nozzle group may be changed during the plurality of scans.
According to this method, a nozzle that was not selected in a certain scan can be selected in the next scan. That is, it is possible to prevent clogging from occurring due to fixing of the non-selected nozzles.

[適用例5]上記適用例に係る機能液の吐出方法において、前記機能層形成領域を囲む隔壁を有し、前記ノズル群のうち前記隔壁際のノズルは選択とすることが好ましい。
この方法によれば、走査によって隔壁際に液滴を着弾させることができ、隔壁際に機能液が濡れ広がり難いことに起因する機能層の膜厚むらを低減できる。
また、走査において隔壁に掛かるノズルは非選択とされることから、隔壁際のノズルを非選択とすると、非選択のノズルが連続することになる。連続した非選択のノズルに隣り合う選択されたノズルにおける液滴の吐出量はばらつき易い。したがって、走査において機能層形成領域に掛かるノズル群のうち隔壁際のノズルを選択とすることで、液滴の吐出量のばらつきをより抑制することができる。
Application Example 5 In the functional liquid ejection method according to the application example described above, it is preferable that a partition wall surrounding the functional layer formation region is provided, and a nozzle at the partition wall in the nozzle group is selected.
According to this method, it is possible to land droplets on the partition walls by scanning, and it is possible to reduce the uneven thickness of the functional layer due to the difficulty of spreading the functional liquid on the partition walls.
Further, since the nozzle applied to the partition during scanning is not selected, if the nozzle at the partition is not selected, the non-selected nozzles are continuous. The amount of droplets discharged from selected nozzles adjacent to consecutive non-selected nozzles is likely to vary. Therefore, by selecting the nozzle at the partition wall among the nozzle groups applied to the functional layer formation region in scanning, it is possible to further suppress variations in the droplet discharge amount.

[適用例6]本適用例に係る有機EL素子の製造方法は、基板上の機能層形成領域に発光層を含む機能層を有する有機EL素子の製造方法であって、上記適用例に記載の機能液の吐出方法を用い、機能層形成材料を含む機能液を前記機能層形成領域に吐出する工程と、吐出された前記機能液を固化して前記機能層のうちの少なくとも1層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、安定した電気光学特性を有する有機EL素子を製造することができる。
[Application Example 6] A method for manufacturing an organic EL element according to this application example is a method for manufacturing an organic EL element having a functional layer including a light emitting layer in a functional layer formation region on a substrate. Using a functional liquid discharging method, a step of discharging a functional liquid containing a functional layer forming material to the functional layer forming region, and solidifying the discharged functional liquid to form at least one of the functional layers And a process.
According to this application example, an organic EL element having stable electro-optical characteristics can be manufactured.

[適用例7]上記適用例に係る有機EL素子の製造方法において、発光層形成材料を含む前記機能液を前記機能層形成領域に吐出して、前記機能層のうち前記発光層を形成することを特徴とする。
この方法によれば、安定した発光特性を有する有機EL素子を製造することができる。
Application Example 7 In the method of manufacturing an organic EL element according to the application example, the functional liquid containing a light emitting layer forming material is discharged to the functional layer forming region to form the light emitting layer among the functional layers. It is characterized by.
According to this method, an organic EL device having stable light emission characteristics can be manufactured.

[適用例8]本適用例に係る有機EL装置は、上記適用例に記載の有機EL素子の製造方法を用いて製造された有機EL素子を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、所望の電気光学特性を有する有機EL装置を提供できる。
Application Example 8 An organic EL device according to this application example includes an organic EL element manufactured using the method for manufacturing an organic EL element described in the application example.
According to this application example, an organic EL device having desired electro-optical characteristics can be provided.

[適用例9]本適用例に係る電子機器は、上記適用例に記載の有機EL装置を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、見栄えのよい表示デバイスや照明装置としての有機EL装置を備えた電子機器を提供できる。
Application Example 9 An electronic apparatus according to this application example includes the organic EL device described in the application example.
According to this application example, it is possible to provide an electronic apparatus including a display device having a good appearance and an organic EL device as a lighting device.

吐出装置の構成を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows the structure of a discharge device. (a)は吐出ヘッドの構造を示す斜視図、(b)はノズルの配置状態を示す平面図。(A) is a perspective view which shows the structure of an ejection head, (b) is a top view which shows the arrangement | positioning state of a nozzle. ヘッドユニットにおける吐出ヘッドの配置を示す概略平面図。FIG. 3 is a schematic plan view showing an arrangement of ejection heads in the head unit. 吐出装置の制御系を示すブロック図。The block diagram which shows the control system of a discharge apparatus. 駆動波形を示すタイミングチャート。The timing chart which shows a drive waveform. 従来例の機能液の吐出方法を説明する図。The figure explaining the discharge method of the functional liquid of a prior art example. 実施例1の機能液の吐出方法を説明する図。FIG. 3 is a diagram illustrating a functional liquid discharge method according to the first embodiment. 実施例2の機能液の吐出方法を説明する図。FIG. 6 is a diagram illustrating a functional liquid discharge method according to the second embodiment. 実施例3の機能液の吐出方法を説明する図。FIG. 6 is a diagram illustrating a functional liquid discharge method according to a third embodiment. 実施例4の機能液の吐出方法を説明する図。FIG. 6 is a diagram illustrating a functional liquid discharge method according to a fourth embodiment. 実施例5の機能液の吐出方法を説明する図。FIG. 10 is a diagram illustrating a functional liquid discharge method according to a fifth embodiment. 有機EL装置を示す概略正面。1 is a schematic front view showing an organic EL device. 有機EL装置の要部概略断面図。The principal part schematic sectional drawing of an organic electroluminescent apparatus. 有機EL装置の製造方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the manufacturing method of an organic electroluminescent apparatus. (a)〜(d)は有機EL素子の製造方法を示す概略断面図。(A)-(d) is a schematic sectional drawing which shows the manufacturing method of an organic EL element. (e)〜(h)は有機EL素子の製造方法を示す概略断面図。(E)-(h) is a schematic sectional drawing which shows the manufacturing method of an organic EL element. (a)はカラーフィルター基板の構成を示す概略平面図、(b)はカラーフィルター基板の構造を示す概略断面図。(A) is a schematic plan view which shows the structure of a color filter board | substrate, (b) is a schematic sectional drawing which shows the structure of a color filter board | substrate.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大又は縮小して表示している。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings to be used are appropriately enlarged or reduced so that the part to be described can be recognized.

なお、以下の形態において、例えば「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、又は基板の上に他の構成物を介して配置される場合、又は基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。   In the following embodiments, for example, when “on the substrate” is described, the substrate is disposed so as to be in contact with the substrate, or is disposed on the substrate via another component, or the substrate. It is assumed that a part is arranged so as to be in contact with each other and a part is arranged via another component.

(第1実施形態)
<機能液の吐出装置>
まず、機能層形成材料を含む機能液を液滴として被吐出物に吐出可能な吐出装置について、図1〜図5を参照して説明する。図1は吐出装置の構成を示す概略斜視図である。
(First embodiment)
<Functional liquid discharge device>
First, a discharge device capable of discharging a functional liquid containing a functional layer forming material as droplets onto an object to be discharged will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic perspective view showing the configuration of the discharge device.

図1に示すように、吐出装置10は、被吐出物である平板状のワークWを第1の方向としての主走査方向(Y軸方向)に移動させるワーク移動機構20と、ヘッドユニット9を主走査方向に直交する第2の方向としての副走査方向(X軸方向)に移動させるヘッド移動機構30とを備えている。   As shown in FIG. 1, the ejection device 10 includes a workpiece moving mechanism 20 that moves a flat workpiece W, which is an object to be ejected, in a main scanning direction (Y-axis direction) as a first direction, and a head unit 9. And a head moving mechanism 30 that moves in the sub-scanning direction (X-axis direction) as a second direction orthogonal to the main scanning direction.

ワーク移動機構20は、一対のガイドレール21と、一対のガイドレール21に沿って移動する移動台22と、移動台22上に回転機構6を介して配設されたワークWを載置するステージ5とを備えている。
移動台22は、ガイドレール21の内部に設けられたエアスライダーとリニアモーター(図示省略)により主走査方向(Y軸方向)に移動する。移動台22には、タイミング信号生成部としてのエンコーダー12(図4参照)が設けられている。
エンコーダー12は、移動台22の主走査方向(Y軸方向)への相対移動に伴って、ガイドレール21に並設されたリニアスケール(図示省略)の目盛を読み取って、タイミング信号としてのエンコーダパルスを生成する。なお、エンコーダー12の配設は、これに限らず、例えば、移動台22を回転軸に沿って主走査方向(Y軸方向)に相対移動するよう構成し、回転軸を回転させる駆動部を設けた場合には、エンコーダー12を駆動部に設けてもよい。駆動部としては、サーボモーターなどが挙げられる。
ステージ5はワークWを吸着固定可能であると共に、回転機構6によってワークW内の基準軸を正確に主走査方向(Y軸方向)、副走査方向(X軸方向)に合わせることが可能となっている。
また、ワークW上において機能液が吐出される機能層形成領域の配置に応じて、ワークWを例えば90度旋回させることも可能である。
The workpiece moving mechanism 20 includes a pair of guide rails 21, a moving table 22 that moves along the pair of guide rails 21, and a stage on which the workpiece W disposed on the moving table 22 via the rotating mechanism 6 is placed. And 5.
The moving table 22 moves in the main scanning direction (Y-axis direction) by an air slider and a linear motor (not shown) provided inside the guide rail 21. The moving table 22 is provided with an encoder 12 (see FIG. 4) as a timing signal generator.
The encoder 12 reads the scale of a linear scale (not shown) arranged in parallel with the guide rail 21 in accordance with the relative movement of the moving base 22 in the main scanning direction (Y-axis direction), and generates an encoder pulse as a timing signal. Is generated. The arrangement of the encoder 12 is not limited to this. For example, the moving table 22 is configured to move relative to the main scanning direction (Y-axis direction) along the rotation axis, and a drive unit that rotates the rotation axis is provided. In such a case, the encoder 12 may be provided in the drive unit. Examples of the drive unit include a servo motor.
The stage 5 can suck and fix the workpiece W, and the rotation mechanism 6 can accurately align the reference axis in the workpiece W with the main scanning direction (Y-axis direction) and the sub-scanning direction (X-axis direction). ing.
Further, it is possible to turn the workpiece W by, for example, 90 degrees in accordance with the arrangement of the functional layer forming region from which the functional liquid is discharged on the workpiece W.

ヘッド移動機構30は、一対のガイドレール31と、一対のガイドレール31に沿って移動する移動台32とを備えている。移動台32には、回転機構7を介して吊設されたキャリッジ8が設けられている。
キャリッジ8には、複数の吐出ヘッド50(図2参照)が搭載されたヘッドユニット9が取り付けられている。
また、吐出ヘッド50に機能液を供給するための機能液供給機構(図示省略)と、複数の吐出ヘッド50の電気的な駆動制御を行うためのヘッドドライバー48(図4参照)とが設けられている。
移動台32がキャリッジ8を副走査方向(X軸方向)に移動させてヘッドユニット9をワークWに対して対向配置する。
The head moving mechanism 30 includes a pair of guide rails 31 and a moving table 32 that moves along the pair of guide rails 31. The moving table 32 is provided with a carriage 8 suspended via a rotation mechanism 7.
A head unit 9 on which a plurality of ejection heads 50 (see FIG. 2) is mounted is attached to the carriage 8.
Further, a functional liquid supply mechanism (not shown) for supplying functional liquid to the ejection head 50 and a head driver 48 (see FIG. 4) for performing electrical drive control of the plurality of ejection heads 50 are provided. ing.
The moving table 32 moves the carriage 8 in the sub-scanning direction (X-axis direction) and disposes the head unit 9 against the workpiece W.

吐出装置10は、上記構成の他にも、ヘッドユニット9に搭載された複数の吐出ヘッド50のノズル目詰まり解消、ノズル面の異物や汚れの除去などのメンテナンスを行うメンテナンス機構が、複数の吐出ヘッド50を臨む位置に配設されている。
また、吐出ヘッド50ごとに吐出された機能液を受けて、その重量を計測する電子天秤などの計測器を有する重量計測機構60(図4参照)を備えている。そして、これらの構成を統括的に制御する制御部40を備えている。なお、図1では、メンテナンス機構及び重量計測機構60は、図示を省略した。
In addition to the above configuration, the discharge device 10 includes a maintenance mechanism that performs maintenance such as nozzle clogging of a plurality of discharge heads 50 mounted on the head unit 9 and removal of foreign matters and dirt on the nozzle surface. It is disposed at a position facing the head 50.
Further, a weight measuring mechanism 60 (see FIG. 4) having a measuring instrument such as an electronic balance that receives the functional liquid discharged from each discharge head 50 and measures the weight thereof is provided. And the control part 40 which controls these structures comprehensively is provided. In FIG. 1, the maintenance mechanism and the weight measurement mechanism 60 are not shown.

図2は吐出ヘッドの構造を示す概略図である。同図(a)は斜視図、同図(b)はノズルの配置状態を示す平面図である。   FIG. 2 is a schematic view showing the structure of the ejection head. FIG. 4A is a perspective view, and FIG. 4B is a plan view showing a nozzle arrangement state.

図2(a)に示すように、吐出ヘッド50は、所謂2連のものであり、2連の接続針54を有する機能液の導入部53と、導入部53に積層されたヘッド基板55と、ヘッド基板55上に配置され内部に機能液のヘッド内流路が形成されたヘッド本体56とを備えている。接続針54は、前述した機能液供給機構(図示省略)に配管を経由して接続され、機能液をヘッド内流路に供給する。ヘッド基板55には、フレキシブルフラットケーブル(図示省略)を介してヘッドドライバー48(図4参照)に接続される2連のコネクター58が設けられている。   As shown in FIG. 2A, the discharge head 50 is a so-called two-unit type, which includes a functional liquid introduction portion 53 having two connection needles 54, and a head substrate 55 stacked on the introduction portion 53. And a head main body 56 which is disposed on the head substrate 55 and in which a flow path in the head of the functional liquid is formed. The connection needle 54 is connected to the above-described functional liquid supply mechanism (not shown) via a pipe, and supplies the functional liquid to the flow path in the head. The head substrate 55 is provided with two connectors 58 connected to the head driver 48 (see FIG. 4) via a flexible flat cable (not shown).

ヘッド本体56は、駆動手段としての圧電素子で構成されたキャビティを有する加圧部57と、ノズル面51aに2つのノズル列52a,52bが相互に平行に形成されたノズルプレート51とを有している。   The head main body 56 includes a pressurizing unit 57 having a cavity formed of a piezoelectric element as a driving unit, and a nozzle plate 51 in which two nozzle rows 52a and 52b are formed in parallel to each other on the nozzle surface 51a. ing.

図2(b)に示すように、2つのノズル列52a,52bは、それぞれ複数(180個)のノズル52がピッチP1でほぼ等間隔に並べられており、互いにピッチP1の半分のピッチP2ずれた状態でノズル面51aに配設されている。本実施形態において、ピッチP1は、例えばおよそ141μmである。よって、ノズル列52cに直交する方向から見ると360個のノズル52がおよそ70.5μmのノズルピッチで配列した状態となっている。また、ノズル52の径は、およそ27μmである。   As shown in FIG. 2B, in the two nozzle rows 52a and 52b, a plurality (180) of nozzles 52 are arranged at substantially equal intervals with a pitch P1, and the pitch P2 is shifted by half of the pitch P1. In this state, it is disposed on the nozzle surface 51a. In the present embodiment, the pitch P1 is approximately 141 μm, for example. Accordingly, when viewed from the direction orthogonal to the nozzle row 52c, 360 nozzles 52 are arranged at a nozzle pitch of approximately 70.5 μm. The diameter of the nozzle 52 is approximately 27 μm.

吐出ヘッド50は、ヘッドドライバー48から電気信号としての駆動信号が圧電素子に印加されると加圧部57のキャビティの体積変動が起こり、これによるポンプ作用でキャビティに充填された機能液が加圧され、ノズル52から機能液を液滴として吐出することができる。   In the ejection head 50, when a drive signal as an electrical signal is applied from the head driver 48 to the piezoelectric element, the volume of the cavity of the pressurizing unit 57 changes, and the functional liquid filled in the cavity is pressurized by the pumping action. Thus, the functional liquid can be discharged from the nozzle 52 as droplets.

吐出ヘッド50における駆動手段は、圧電素子に限らない。アクチュエーターとしての振動板を静電吸着により変位させる電気機械変換素子や、機能液を加熱してノズル52から液滴として吐出させる電気熱変換素子(サーマル方式)でもよい。   The driving means in the ejection head 50 is not limited to a piezoelectric element. An electromechanical conversion element that displaces a vibration plate as an actuator by electrostatic adsorption, or an electrothermal conversion element (thermal method) that heats a functional liquid and discharges it as a droplet from the nozzle 52 may be used.

図3は、ヘッドユニットにおける吐出ヘッドの配置を示す概略平面図である。詳しくは、ワークWに対向する側から見た図である。   FIG. 3 is a schematic plan view showing the arrangement of the ejection heads in the head unit. Specifically, it is a view seen from the side facing the workpiece W.

図3に示すように、ヘッドユニット9は、複数の吐出ヘッド50が配設されるヘッドプレート9aを備えている。ヘッドプレート9aには、3つの吐出ヘッド50からなるヘッド群50Aと、同じく3つの吐出ヘッド50からなるヘッド群50Bの合計6個の吐出ヘッド50が搭載されている。本実施形態では、ヘッド群50AのヘッドR1(吐出ヘッド50)とヘッド群50BのヘッドR2(吐出ヘッド50)とは同種の機能液を吐出する。他のヘッドG1とヘッドG2、ヘッドB1とヘッドB2においても同様である。すなわち、3種の異なる機能液を吐出可能な構成となっている。   As shown in FIG. 3, the head unit 9 includes a head plate 9a on which a plurality of ejection heads 50 are disposed. A total of six ejection heads 50, that is, a head group 50 </ b> A composed of three ejection heads 50 and a head group 50 </ b> B composed of three ejection heads 50 are mounted on the head plate 9 a. In the present embodiment, the head R1 (ejection head 50) of the head group 50A and the head R2 (ejection head 50) of the head group 50B eject the same type of functional liquid. The same applies to the other heads G1 and G2, and heads B1 and B2. That is, it has a configuration capable of discharging three different functional liquids.

1つの吐出ヘッド50によって描画可能な描画幅をL0とし、これをノズル列52cの有効長とする。以降、ノズル列52cとは、360個のノズル52から構成されるものを指す。 The drawing width that can be drawn by one ejection head 50 is L 0, and this is the effective length of the nozzle row 52c. Hereinafter, the nozzle row 52 c refers to a configuration including 360 nozzles 52.

ヘッドR1とヘッドR2は、主走査方向(Y軸方向)から見て隣り合うノズル列52cが主走査方向と直交する副走査方向(X軸方向)に1ノズルピッチを置いて連続するように主走査方向に並列して配設されている。したがって、同種の機能液を吐出するヘッドR1とヘッドR2の有効な描画幅L1は、描画幅L0の2倍となっている。ヘッドG1とヘッドG2、ヘッドB1とヘッドB2においても同様に主走査方向(Y軸方向)に並列して配置されている。 The head R1 and the head R2 are arranged so that the nozzle rows 52c adjacent to each other when viewed from the main scanning direction (Y-axis direction) are continuous with one nozzle pitch in the sub-scanning direction (X-axis direction) orthogonal to the main scanning direction. They are arranged in parallel in the scanning direction. Therefore, the effective drawing width L 1 of the heads R 1 and R 2 that discharge the same type of functional liquid is twice the drawing width L 0 . Similarly, the heads G1 and G2 and the heads B1 and B2 are arranged in parallel in the main scanning direction (Y-axis direction).

なお、吐出ヘッド50に設けられるノズル列52cは、2連に限らず、1連でもよい。また、ヘッドユニット9における吐出ヘッド50の配置は、これに限定されるものではない。   The number of nozzle rows 52c provided in the ejection head 50 is not limited to two, but may be one. Further, the arrangement of the ejection head 50 in the head unit 9 is not limited to this.

次に吐出装置10の制御系について説明する。図4は、吐出装置の制御系を示すブロック図である。図4に示すように、吐出装置10の制御系は、吐出ヘッド50、ワーク移動機構20、ヘッド移動機構30、重量計測機構60などを駆動する各種ドライバーを有する駆動部46と、駆動部46を含め吐出装置10を統括的に制御する制御部40とを備えている。   Next, the control system of the discharge device 10 will be described. FIG. 4 is a block diagram illustrating a control system of the discharge device. As shown in FIG. 4, the control system of the discharge device 10 includes a drive unit 46 having various drivers for driving the discharge head 50, the workpiece moving mechanism 20, the head moving mechanism 30, the weight measuring mechanism 60, and the like, and the drive unit 46. And a control unit 40 that comprehensively controls the discharge device 10 including the control unit 40.

駆動部46は、ワーク移動機構20及びヘッド移動機構30の各リニアモーターをそれぞれ駆動制御する移動用ドライバー47と、吐出ヘッド50を駆動制御するヘッドドライバー48と、重量計測機構60を駆動制御する重量計測用ドライバー49とを備えている。この他にもメンテナンス機構を駆動制御するメンテナンス用ドライバーなどを備えているが図示を省略した。   The drive unit 46 is a moving driver 47 that drives and controls the linear motors of the workpiece moving mechanism 20 and the head moving mechanism 30, a head driver 48 that drives and controls the ejection head 50, and a weight that drives and controls the weight measuring mechanism 60. A measurement driver 49 is provided. In addition, a maintenance driver for driving and controlling the maintenance mechanism is provided, but the illustration is omitted.

制御部40は、CPU41と、ROM42と、RAM43と、P−CON44とを備え、これらは互いにバス45を介して接続されている。P−CON44には、上位コンピューター11が接続されている。ROM42は、CPU41で処理する制御プログラムなどを記憶する制御プログラム領域と、描画動作や機能回復処理などを行うための制御データなどを記憶する制御データ領域とを有している。   The control unit 40 includes a CPU 41, a ROM 42, a RAM 43, and a P-CON 44, which are connected to each other via a bus 45. A host computer 11 is connected to the P-CON 44. The ROM 42 has a control program area for storing a control program to be processed by the CPU 41, and a control data area for storing control data for performing a drawing operation, a function recovery process, and the like.

RAM43は、ワークWに描画を行うための描画データを記憶する描画データ記憶部、ワークW及び吐出ヘッド50(実際には、ノズル列52c)の位置データを記憶する位置データ記憶部などの各種記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。P−CON44には、駆動部46の各種ドライバーなどが接続されており、CPU41の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェイス信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。このため、P−CON44は、上位コンピューター11からの各種指令などをそのままあるいは加工してバス45に取り込むと共に、CPU41と連動して、CPU41などからバス45に出力されたデータや制御信号を、そのままあるいは加工して駆動部46に出力する。   The RAM 43 stores various data such as a drawing data storage unit that stores drawing data for drawing on the workpiece W, and a position data storage unit that stores position data of the workpiece W and the ejection head 50 (actually, the nozzle row 52c). It is used as various work areas for control processing. Various drivers and the like of the drive unit 46 are connected to the P-CON 44, and a logic circuit that complements the functions of the CPU 41 and handles interface signals with peripheral circuits is configured and incorporated. For this reason, the P-CON 44 takes various commands from the host computer 11 as they are or processes them and imports them into the bus 45, and in conjunction with the CPU 41, the data and control signals output from the CPU 41 and the like to the bus 45 are used as they are. Or it processes and outputs to the drive part 46. FIG.

そして、CPU41は、ROM42内の制御プログラムに従って、P−CON44を介して各種検出信号、各種指令、各種データなどを入力し、RAM43内の各種データなどを処理した後、P−CON44を介して駆動部46などに各種の制御信号を出力することにより、吐出装置10全体を制御している。例えば、CPU41は、吐出ヘッド50、ワーク移動機構20及びヘッド移動機構30を制御して、ヘッドユニット9とワークWとを対向配置させる。そして、ヘッドユニット9とワークWとの相対移動に同期して、ヘッドユニット9に搭載された各吐出ヘッド50の複数のノズル52からワークWに機能液を液滴として吐出するようにヘッドドライバー48に制御信号を送出する。本実施形態では、Y軸方向へのワークWの移動に同期して機能液を吐出することを本発明における走査としての主走査と呼び、主走査に対してX軸方向にヘッドユニット9を移動させることを副走査と呼ぶ。本実施形態の吐出装置10は、主走査と副走査とを組み合わせて複数回繰り返すことにより機能液を吐出描画することができる。主走査は、吐出ヘッド50に対して一方向へのワークWの移動に限らず、ワークWを往復させて行うこともできる。   Then, the CPU 41 inputs various detection signals, various commands, various data, etc. via the P-CON 44 according to the control program in the ROM 42, processes various data, etc. in the RAM 43, and then drives via the P-CON 44. The discharge device 10 as a whole is controlled by outputting various control signals to the unit 46 and the like. For example, the CPU 41 controls the ejection head 50, the work moving mechanism 20, and the head moving mechanism 30 so that the head unit 9 and the work W are arranged to face each other. In synchronism with the relative movement between the head unit 9 and the work W, the head driver 48 discharges the functional liquid as droplets from the plurality of nozzles 52 of each discharge head 50 mounted on the head unit 9 to the work W. Send control signal to. In the present embodiment, discharging the functional liquid in synchronization with the movement of the workpiece W in the Y-axis direction is called main scanning as scanning in the present invention, and the head unit 9 is moved in the X-axis direction with respect to main scanning. This is called sub-scanning. The ejection device 10 of the present embodiment can perform functional liquid ejection by repeating a plurality of times by combining main scanning and sub-scanning. The main scanning is not limited to the movement of the workpiece W in one direction with respect to the ejection head 50, but can be performed by reciprocating the workpiece W.

エンコーダー12は、ヘッドドライバー48に電気的に接続され、主走査に伴ってエンコーダパルスを生成する。主走査では、所定の移動速度で移動台22を移動させるので、エンコーダパルスが周期的に発生する。   The encoder 12 is electrically connected to the head driver 48, and generates an encoder pulse with main scanning. In the main scanning, the moving table 22 is moved at a predetermined moving speed, so that encoder pulses are periodically generated.

例えば、主走査における移動台22の移動速度を200mm/sec、吐出ヘッド50を駆動する駆動周波数(言い換えれば、連続して液滴を吐出する場合の吐出タイミング)を20kHzとすると、主走査方向における液滴の吐出分解能は、移動速度を駆動周波数で除することにより得られるので、10μmとなる。すなわち、10μmのピッチで液滴をワークW上に配置することが可能である。実際の液滴の吐出タイミングは、周期的に発生するエンコーダパルスをカウントして生成されるラッチ信号に基づいている。   For example, if the moving speed of the moving table 22 in the main scanning is 200 mm / sec and the driving frequency for driving the discharge head 50 (in other words, the discharge timing when discharging droplets continuously) is 20 kHz, The droplet discharge resolution is 10 μm because it is obtained by dividing the moving speed by the drive frequency. That is, it is possible to arrange the droplets on the workpiece W at a pitch of 10 μm. The actual droplet ejection timing is based on a latch signal generated by counting periodically generated encoder pulses.

上位コンピューター11は、制御プログラムや制御データなどの制御情報を吐出装置10に送出する。また、ワークW上の機能層形成領域ごとに所定量の機能液を液滴として配置する吐出制御データとしての配置情報を生成する配置情報生成部の機能を有している。配置情報は、機能層形成領域における液滴の吐出位置(言い換えれば、ワークWとノズル52との相対位置)、液滴の配置数(言い換えれば、ノズル52ごとの吐出数)、主走査における複数のノズル52のON/OFFすなわち本発明における選択/非選択、吐出タイミングなどの情報を、例えば、ビットマップとして表したものである。上位コンピューター11は、上記配置情報を生成するだけでなく、RAM43に一旦格納された上記配置情報を修正することも可能である。   The host computer 11 sends control information such as a control program and control data to the ejection device 10. Further, it has a function of an arrangement information generation unit that generates arrangement information as ejection control data for arranging a predetermined amount of functional liquid as droplets for each functional layer formation region on the workpiece W. The arrangement information includes the droplet discharge position in the functional layer formation region (in other words, the relative position between the workpiece W and the nozzle 52), the number of droplets disposed (in other words, the number of discharges for each nozzle 52), and a plurality of main scans. The information on ON / OFF of the nozzle 52, that is, selection / non-selection in the present invention, ejection timing, and the like is represented as a bitmap, for example. The host computer 11 can not only generate the arrangement information but also modify the arrangement information once stored in the RAM 43.

図5は駆動波形を示すタイミングチャートである。図5に示すように、複数のノズル52に対応して配設された駆動手段としての圧電素子には、ラッチ信号LATのタイミングでラッチされたノズル52ごとのON/OFFデータ(吐出データ)に従い、3つの駆動波形PL1,PL2,PL3のうちから1つが選択されて供給される。そして、駆動波形が供給されるタイミングで、ノズル52から液滴が吐出される。なお、各駆動波形は、圧電素子に供給されることで規定量の液滴が吐出されるように設計されている。   FIG. 5 is a timing chart showing drive waveforms. As shown in FIG. 5, the piezoelectric element as the driving means disposed corresponding to the plurality of nozzles 52 is in accordance with ON / OFF data (discharge data) for each nozzle 52 latched at the timing of the latch signal LAT. One of the three drive waveforms PL1, PL2 and PL3 is selected and supplied. Then, droplets are ejected from the nozzle 52 at the timing when the drive waveform is supplied. Each drive waveform is designed so that a specified amount of liquid droplets is ejected by being supplied to the piezoelectric element.

駆動波形の選択は、駆動波形の供給タイミングを規定する制御信号CH1〜CH3により行われる。すなわち、制御信号CH1によって第1系統のタイミングの駆動波形PL1が、制御信号CH2によって第2系統のタイミングの駆動波形PL2が、制御信号CH3によって第3系統のタイミングの駆動波形PL3がそれぞれ選択される。   The selection of the drive waveform is performed by control signals CH1 to CH3 that define the supply timing of the drive waveform. That is, the drive waveform PL1 of the first system timing is selected by the control signal CH1, the drive waveform PL2 of the second system timing is selected by the control signal CH2, and the drive waveform PL3 of the third system timing is selected by the control signal CH3. .

本実施形態では、機能層形成領域に掛かる隣り合うノズル52に対応する圧電素子に、駆動波形の供給タイミングの系統(ラッチ信号LATを基準とした相対的な序列)を個々に対応づけることにより、吐出タイミングの重複が起こりえないように駆動波形を印加することが可能である。このような駆動波形の駆動手段(圧電素子)に対する印加の方法を時分割駆動という。時分割駆動により、少なくとも電気的なクロストークが好適に低減され、クロストークに起因するノズル52間の吐出特性(液滴の吐出量や吐出速度など)のバラツキが相対的に緩和される。
また、各系統のタイミングは周期的となっているため、吐出条件が各吐出タイミング間で一様となり、液滴の吐出量を主走査方向に対して安定化させることができる。
また、ラッチ信号LATの1周期内(1ラッチ内)において、3つの駆動波形PL1,PL2,PL3が発生するので、同一の圧電素子に1ラッチ内で3つの駆動波形PL1,PL2,PL3を印加すれば、同一ノズル52から吐出タイミングを変えて3滴の液滴を吐出することができる。
さらに、1ラッチ内の3つの駆動波形PL1,PL2,PL3をそれぞれ別の圧電素子に印加すれば、3つのノズル52から液滴を異なる吐出タイミングで吐出することができる。すなわち、3つのノズル52が時分割駆動される。
また、駆動波形PL1,PL2,PL3において、振幅の幅(実質的には中間電位との間の電位差すなわち駆動電圧)や波形の勾配などをそれぞれ変えることによって、ノズル52から吐出される液滴の吐出量を異ならせることが可能である。言い換えれば、同一ノズル52の圧電素子に異なる形状の駆動波形PL1,PL2,PL3のうち1つを選択して印加すれば液滴の吐出量の補正が可能である。
以降、ノズル52の圧電素子に駆動波形を印加することを、ノズル52に駆動波形を印加すると表現する。
In the present embodiment, the piezoelectric elements corresponding to the adjacent nozzles 52 in the functional layer formation region are individually associated with the drive waveform supply timing system (relative order based on the latch signal LAT). It is possible to apply the drive waveform so that the discharge timing does not overlap. A method of applying such a drive waveform to the drive means (piezoelectric element) is called time-division drive. By time-division driving, at least electrical crosstalk is suitably reduced, and variations in ejection characteristics (e.g., droplet ejection amount and ejection speed) between the nozzles 52 due to the crosstalk are relatively relaxed.
Further, since the timing of each system is periodic, the ejection conditions are uniform between the ejection timings, and the droplet ejection amount can be stabilized in the main scanning direction.
In addition, since three drive waveforms PL1, PL2, and PL3 are generated within one cycle of latch signal LAT (within one latch), three drive waveforms PL1, PL2, and PL3 are applied to the same piezoelectric element within one latch. If so, three droplets can be ejected from the same nozzle 52 at different ejection timings.
Furthermore, if three drive waveforms PL1, PL2, and PL3 in one latch are applied to different piezoelectric elements, droplets can be discharged from the three nozzles 52 at different discharge timings. That is, the three nozzles 52 are time-division driven.
Further, in the drive waveforms PL1, PL2 and PL3, by changing the amplitude width (substantially the potential difference from the intermediate potential, that is, the drive voltage) and the gradient of the waveform, the droplets discharged from the nozzle 52 are changed. It is possible to vary the discharge amount. In other words, the droplet discharge amount can be corrected by selecting and applying one of the drive waveforms PL1, PL2 and PL3 having different shapes to the piezoelectric elements of the same nozzle 52.
Hereinafter, applying a drive waveform to the piezoelectric element of the nozzle 52 is expressed as applying a drive waveform to the nozzle 52.

前述したように吐出装置10において、吐出分解能をおよそ10μmとすると、3つの駆動波形PL1,PL2,PL3を連続的に使用するノズル52に印加したときには、吐出タイミングを変えて主走査方向におよそ3.3μmの最小ピッチで液滴を吐出することが可能である。すなわち、時分割駆動における実質的な吐出分解能は、3.3μmとなる。   As described above, in the ejection device 10, assuming that the ejection resolution is about 10 μm, when three drive waveforms PL 1, PL 2, PL 3 are applied to the nozzle 52 used continuously, the ejection timing is changed to about 3 in the main scanning direction. It is possible to discharge droplets with a minimum pitch of 3 μm. That is, the substantial discharge resolution in the time-division driving is 3.3 μm.

吐出ヘッド50におけるノズル52(圧電素子)の駆動は、前述したように時分割駆動されているので、隣り合うノズル間で吐出タイミングが重複することに伴う電気的なクロストークは低減されている。ところが、複数のノズル52に同じ駆動波形を与えて駆動したときに、各ノズル52から同じ吐出量の液滴が必ず吐出されるとは限らない。
例えば、加圧部57のキャビティに充填された機能液をノズル52に供給する流路は、ノズル列52a,52bを構成する複数のノズル52において同一ではなく、ノズル列52a,52bにおけるノズル52の位置によって違う。つまり、吐出ヘッド50の機械的な構造によってノズル52ごとに液滴の吐出量がばらつくことがある。
また、主走査において機能層形成領域に液滴を吐出するにあたり、選択されたノズル52つまり選択されたアクチュエーター(圧電素子)を駆動すると、アクチュエーター(圧電素子)に与えられたエネルギーに相当する分の熱が生ずる。このような吐出ヘッド50の発熱は、ヘッドプレート9aを介して放熱されるが、その一部は充填された機能液を温めることになる。つまり、主走査における吐出ヘッド50内の機能液の温度によって、ノズル52から吐出される液滴の吐出量がばらつく。言い換えれば、吐出ヘッド50の駆動における電気的な負荷の違いによってノズル52から吐出される液滴の吐出量がばらつく。
Since the drive of the nozzles 52 (piezoelectric elements) in the ejection head 50 is time-division driven as described above, electrical crosstalk associated with overlapping ejection timings between adjacent nozzles is reduced. However, when the same drive waveform is applied to the plurality of nozzles 52 and they are driven, droplets having the same discharge amount are not necessarily discharged from each nozzle 52.
For example, the flow path for supplying the functional liquid filled in the cavity of the pressurizing unit 57 to the nozzle 52 is not the same in the plurality of nozzles 52 constituting the nozzle rows 52a and 52b, but the nozzle 52 in the nozzle rows 52a and 52b. It depends on the position. That is, the discharge amount of droplets may vary for each nozzle 52 depending on the mechanical structure of the discharge head 50.
Further, when the selected nozzle 52, that is, the selected actuator (piezoelectric element) is driven when ejecting droplets to the functional layer forming region in the main scanning, an amount corresponding to the energy given to the actuator (piezoelectric element) is obtained. Heat is generated. Such heat generated by the discharge head 50 is radiated through the head plate 9a, and a part of the heat is used to warm the filled functional liquid. That is, the discharge amount of the liquid droplets discharged from the nozzles 52 varies depending on the temperature of the functional liquid in the discharge head 50 during main scanning. In other words, the amount of droplets ejected from the nozzles 52 varies depending on the difference in electrical load in driving the ejection head 50.

発明者らは、ノズル52から吐出される液滴の吐出量のばらつきを抑制すべく、前述した機械的、あるいは電気的なばらつき要因の影響を受け難い機能液の吐出方法を開発した。   The inventors have developed a functional liquid ejection method that is less susceptible to the above-described mechanical or electrical variation factors in order to suppress variations in the ejection amount of droplets ejected from the nozzle 52.

<機能液の吐出方法>
次に、本実施形態の機能液の吐出方法について、従来例と実施例とを挙げて説明する。
図6は従来例の機能液の吐出方法を説明する図、図7〜図11は実施例1〜実施例5の機能液の吐出方法を説明する図である。
本実施形態の機能液の吐出方法は、前述した吐出装置10を用い、ワークW上においてX軸方向(副走査方向)及びY軸方向(主走査方向)に複数配置された機能層形成領域に機能液を塗布するものである。吐出ヘッド50を備えたヘッドユニット9とワークWとをY軸方向に相対的に移動させる主走査の間に、吐出ヘッド50のノズル52から機能液を液滴として吐出して機能層形成領域に着弾させる。なお、機能層形成領域は、ワークW上において隔壁により区画されている。また、隔壁又は隔壁の表面が機能液に対して撥液性を有している。機能層形成領域内は塗布される機能液の濡れ性を考慮して親液性を付与する表面処理が施されている。
<Functional liquid discharge method>
Next, the functional liquid ejection method of the present embodiment will be described with reference to a conventional example and an example.
FIG. 6 is a diagram for explaining a conventional functional liquid discharging method, and FIGS. 7 to 11 are diagrams for explaining a functional liquid discharging method according to the first to fifth embodiments.
The functional liquid ejection method of the present embodiment uses the above-described ejection device 10 and forms a plurality of functional liquid layers on the workpiece W in the X-axis direction (sub-scanning direction) and the Y-axis direction (main scanning direction). A functional liquid is applied. During the main scanning in which the head unit 9 including the ejection head 50 and the workpiece W are relatively moved in the Y-axis direction, the functional liquid is ejected as droplets from the nozzles 52 of the ejection head 50 to the functional layer formation region. Make it land. The functional layer forming region is partitioned on the workpiece W by a partition wall. Moreover, the partition or the surface of the partition has liquid repellency with respect to the functional liquid. The functional layer forming region is subjected to a surface treatment for imparting lyophilic properties in consideration of the wettability of the applied functional liquid.

(従来例)
まず、従来の機能液の吐出方法の一例について、図6を参照して説明する。図6に示すように、従来例は、ワークW上においてX軸方向とY軸方向とにマトリックス状に配置された矩形状の機能層形成領域Aに吐出ヘッド50のノズル52から機能液を塗布するものである。機能層形成領域Aは長手方向がX軸方向に沿って配置されており、ノズル列52a,52bは同じくX軸方向に延在するように機能層形成領域Aに対して相対的に配置されている。
以降の説明を分かり易くするために、ノズル列52a,52bの各ノズル52にそれぞれ符号(52n1〜52n14)を付して呼ぶこととする。また、複数回の主走査にもそれぞれ符号(SC1〜SC7)を付して呼ぶこととする。
(Conventional example)
First, an example of a conventional functional liquid discharge method will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 6, in the conventional example, the functional liquid is applied from the nozzle 52 of the ejection head 50 to the rectangular functional layer forming region A arranged in a matrix in the X-axis direction and the Y-axis direction on the workpiece W. To do. The functional layer forming region A is arranged with respect to the functional layer forming region A so that the longitudinal direction thereof is arranged along the X axis direction, and the nozzle rows 52a and 52b are also extended in the X axis direction. Yes.
In order to make the following description easy to understand, each nozzle 52 of the nozzle rows 52a and 52b is referred to with a reference numeral (52n1 to 52n14). In addition, a plurality of main scans are also referred to with symbols (SC1 to SC7).

ノズル列52a,52bのうち、Y軸方向への主走査によって機能層形成領域Aに掛かる複数のノズル52(ノズル群)から機能層形成領域Aに機能液が液滴として吐出される。図6では、機能層形成領域Aに着弾した液滴をハッチングした円形で表示し、液滴が吐出されなかった場合をハッチングせずに想像線の円形で表示している。着弾した液滴は機能層形成領域Aに濡れ広がるので、主走査ごとに吐出された液滴の着弾状態だけを示している。なお、液滴の吐出のさせ方を示すものであって、液滴の着弾形状(円形)や着弾径(大きさ)はこれに限定されるものではない。
具体的には、主走査において機能層形成領域Aに掛かる例えば符号52n2〜符号52n6の5つのノズル52から6回の主走査SC1〜SC6を行って合計28滴の液滴を機能層形成領域Aに着弾させる。吐出ヘッド50の描画範囲(吐出可能範囲)において、X軸方向に隣り合う機能層形成領域Aにも符号52n9〜52n13のノズル52から同様に合計28滴の液滴が吐出される。主走査において隔壁に掛かる符号52n1、52n7、52n8、52n14のノズル52は非選択になっている。
主走査SC1〜SC5では、それぞれ機能層形成領域Aに掛かる5つのノズル52が選択されて液滴が吐出されるので、1回の主走査では5滴の液滴が機能層形成領域Aに着弾する。5回の主走査で機能層形成領域Aには合計25滴の液滴が吐出される。6回目の主走査SC6では、機能層形成領域Aに掛かる5つのノズル52のうち、例えば符号52n3〜52n5の3つのノズル52が選択されて3滴の液滴が機能層形成領域Aに着弾する。5回目までの主走査では、機能層形成領域Aに掛かるすべてのノズル52が選択されて液滴が吐出されるが、6回目の主走査では、機能層形成領域Aに掛かるノズル群のうち3つのノズル52だけが選択されて液滴が吐出される。
Among the nozzle rows 52a and 52b, the functional liquid is ejected as droplets from the plurality of nozzles 52 (nozzle group) applied to the functional layer formation region A by main scanning in the Y-axis direction to the functional layer formation region A. In FIG. 6, the droplets that have landed on the functional layer formation region A are indicated by hatched circles, and the case where the droplets are not ejected is indicated by an imaginary circle without hatching. Since the landed liquid droplets wet and spread in the functional layer formation region A, only the landed state of the liquid droplets discharged for each main scanning is shown. In addition, it shows how to discharge a droplet, and the landing shape (circular shape) and the landing diameter (size) of the droplet are not limited to this.
Specifically, for example, six main scans SC1 to SC6 are performed from five nozzles 52 of reference numeral 52n2 to reference numeral 52n6 which are applied to the functional layer formation area A in the main scan, and a total of 28 droplets are dropped into the functional layer formation area A. To land on. In the drawing range (dischargeable range) of the discharge head 50, a total of 28 droplets are similarly discharged from the nozzles 52n9 to 52n13 to the functional layer forming region A adjacent in the X-axis direction. The nozzles 52n1, 52n7, 52n8, and 52n14 applied to the partition in the main scanning are not selected.
In the main scans SC1 to SC5, the five nozzles 52 that are respectively applied to the functional layer formation region A are selected and liquid droplets are ejected, so that five droplets land on the functional layer formation region A in one main scan. To do. A total of 25 droplets are ejected to the functional layer formation region A by five main scans. In the sixth main scan SC6, among the five nozzles 52 applied to the functional layer formation region A, for example, the three nozzles 52n3 to 52n5 are selected, and three droplets land on the functional layer formation region A. . In the main scan up to the fifth time, all the nozzles 52 applied to the functional layer formation region A are selected and droplets are ejected. In the sixth main scan, three of the nozzle groups applied to the functional layer formation region A are selected. Only one nozzle 52 is selected and a droplet is ejected.

したがって、主走査SC6では選択されるノズル数が他の主走査SC1〜SC5よりも減少するので、5つのノズル52をすべて選択して液滴を吐出する場合に比べて、機能層形成領域Aに掛かるノズル52間の機械的、あるいは電気的なクロストークの状態が変化する。それゆえに、他の主走査SC1〜SC5に比べて主走査SC6で吐出された液滴の吐出量がばらつくおそれがある。より具体的には、6回目の主走査SC6においてそれまで選択されていた符号52n2と符号52n6のノズル52が非選択となるので、非選択のノズル52に隣り合う符号52n3及び符号52n5のノズル52から吐出される液滴の吐出量がそれまでの5回の主走査に比べて増減するおそれがある。隣り合うノズル52間の電気的なクロストークに関しては、前述したように3つの駆動波形PL1,PL2,PL3のうちからそれぞれ異なる駆動波形を選択すれば緩和することができる。しかしながら、機能層形成領域AのY軸方向における幅が狭くなると機能層形成領域Aに確実に機能液を塗布するために精度よく液滴を着弾させる必要性が生じ、液滴を吐出させるノズル52は同一の駆動波形を選択する方が好ましい。言い換えれば、液滴の着弾位置がY軸方向にずれる異なる駆動波形の選択をし難くなるという問題がある。
また、6回目の主走査SC6だけ選択されるノズル数が減少するので、吐出ヘッド50のアクチュエーター(圧電素子)における発熱量が低下して液滴の吐出量がばらつくおそれがある。
すなわち、6回の主走査によって1つの機能層形成領域Aに28滴の液滴を吐出したとしても、選択されたノズル52から吐出された液滴の吐出量がばらつくことによって所定量の機能液を量的に安定した状態で各機能層形成領域Aに塗布することが困難となる。
Accordingly, the number of nozzles selected in the main scan SC6 is smaller than those in the other main scans SC1 to SC5. Therefore, compared to the case where all the five nozzles 52 are selected and droplets are ejected, the functional layer forming region A is selected. The state of mechanical or electrical crosstalk between the applied nozzles 52 changes. Therefore, there is a possibility that the ejection amount of the droplets ejected in the main scan SC6 varies as compared with the other main scans SC1 to SC5. More specifically, since the nozzles 52n2 and 52n6 selected so far in the sixth main scan SC6 are not selected, the nozzles 52n3 and 52n5 adjacent to the non-selected nozzle 52 are selected. There is a risk that the discharge amount of the liquid droplets discharged from the nozzle will increase or decrease compared to the previous five main scans. As described above, electrical crosstalk between adjacent nozzles 52 can be alleviated by selecting different drive waveforms from the three drive waveforms PL1, PL2, and PL3. However, if the width of the functional layer formation region A in the Y-axis direction becomes narrower, it is necessary to land the liquid droplets accurately in order to reliably apply the functional liquid to the functional layer formation region A, and the nozzle 52 that discharges the liquid droplets. It is preferable to select the same drive waveform. In other words, there is a problem that it becomes difficult to select a different driving waveform in which the landing position of the droplet is shifted in the Y-axis direction.
In addition, since the number of nozzles selected for the sixth main scan SC6 is reduced, the amount of heat generated by the actuator (piezoelectric element) of the ejection head 50 may be reduced, and the amount of ejected droplets may vary.
That is, even when 28 droplets are ejected to one functional layer formation region A by six main scans, the ejection amount of the droplets ejected from the selected nozzle 52 varies, thereby causing a predetermined amount of functional liquid to be ejected. Is difficult to apply to each functional layer forming region A in a quantitatively stable state.

以降に説明する実施例は従来例と比較し易くするために、従来例と同じく機能層形成領域Aに28滴の液滴を吐出して塗布する例を示すものである。   The embodiment described below shows an example in which 28 droplets are ejected and applied to the functional layer forming region A in the same manner as in the conventional example in order to facilitate comparison with the conventional example.

(実施例1)
図7を参照して実施例1の機能液の吐出方法について説明する。実施例1の機能液の吐出方法は、従来例に対して主走査において機能層形成領域Aに掛かる5つのノズル52のうち1つのノズル52を非選択として、残り4つのノズル52から液滴を吐出する。また、主走査ごとに選択されるノズル数は同数であり、且つ選択されるノズルも同じである。
Example 1
With reference to FIG. 7, the functional liquid discharging method of the first embodiment will be described. The functional liquid ejection method of the first embodiment is different from the conventional example in that one nozzle 52 is not selected from the five nozzles 52 applied to the functional layer formation region A in the main scanning, and droplets are discharged from the remaining four nozzles 52. Discharge. The number of nozzles selected for each main scan is the same, and the selected nozzles are also the same.

具体的には、図7に示すように、機能層形成領域Aに掛かる5つのノズル52のうち、4つのノズル52n2,52n3,52n5,52n6を選択し、機能層形成領域Aのほぼ中央を相対的に通過するノズル52n4を非選択とする。1回の主走査によって4滴の液滴を吐出して機能層形成領域Aに着弾させる。前述したように合計28滴の液滴を着弾させる必要があるので、7回の主走査SC1〜SC7を行う。X軸方向において隣り合う機能層形成領域Aにおいても同様に、ノズル52n11を非選択として残り4つのノズル52n9,52n10,52n12,52n13が選択され、主走査ごとに液滴が吐出される。   Specifically, as shown in FIG. 7, among the five nozzles 52 applied to the functional layer formation region A, four nozzles 52n2, 52n3, 52n5, 52n6 are selected, and the approximate center of the functional layer formation region A is relatively Therefore, the nozzle 52n4 that passes therethrough is not selected. Four droplets are ejected and landed on the functional layer forming region A by one main scanning. As described above, since it is necessary to land a total of 28 droplets, seven main scans SC1 to SC7 are performed. Similarly, in the functional layer forming region A adjacent in the X-axis direction, the nozzles 52n11 are not selected and the remaining four nozzles 52n9, 52n10, 52n12, 52n13 are selected, and droplets are ejected for each main scan.

実施例1の機能液の吐出方法によれば、従来例に比べて主走査の回数が1回増えるけれども、主走査ごとに選択されるノズル数が同数であり、且つ選択されるノズル52が同一である。また、同一の機能液が吐出される機能層形成領域Aでは選択されるノズル52(以降、ノズル52の選択パターンとも言う)が同一である。したがって、各主走査におけるノズル間の機械的、あるいは電気的なクロストロークの状態が一定になると共に、吐出ヘッド50の発熱量が一定となるため、ノズル群から吐出される液滴の吐出量のばらつきを従来例に比べて抑えることができる。ゆえに、各機能層形成領域Aに所定量(28滴の液滴に相当する)の機能液を安定的に塗布することができる。   According to the functional liquid ejection method of the first embodiment, the number of main scans is increased by one compared to the conventional example, but the number of nozzles selected for each main scan is the same, and the selected nozzles 52 are the same. It is. Further, in the functional layer formation region A where the same functional liquid is discharged, the nozzles 52 selected (hereinafter also referred to as a selection pattern of the nozzles 52) are the same. Accordingly, the state of mechanical or electrical cross stroke between the nozzles in each main scan becomes constant, and the heat generation amount of the discharge head 50 becomes constant. The variation can be suppressed as compared with the conventional example. Therefore, a predetermined amount (corresponding to 28 droplets) of the functional liquid can be stably applied to each functional layer forming region A.

(実施例2)
次に、図8を参照して実施例2の機能液の吐出方法について説明する。実施例2は実施例1に対して主走査ごとに選択されるノズル数を同数としつつ、ノズル52の選択パターンを変えたものである。また、以降、図中で上方に位置する機能層形成領域Aに符号A1を付与し、下方に位置する機能層形成領域Aに符号A2を付与して説明する。もちろん、機能層形成領域A1及び機能層形成領域A2は形状や大きさが同じである。
(Example 2)
Next, a functional liquid discharging method according to the second embodiment will be described with reference to FIG. In the second embodiment, the selection pattern of the nozzles 52 is changed while the same number of nozzles are selected for each main scan as in the first embodiment. In the following description, reference numeral A1 is given to the functional layer formation region A located in the upper part in the figure, and reference numeral A2 is given to the functional layer formation region A located in the lower part. Of course, the functional layer formation region A1 and the functional layer formation region A2 have the same shape and size.

具体的には、図8に示すように、機能層形成領域A1に掛かるノズル群のうちノズル52n2,52n3,52n5,52n6を選択し、ノズル52n4を非選択とする。また、機能層形成領域A2に掛かるノズル群のうちノズル52n9,52n10,52n11,52n13を選択し、ノズル52n12を非選択として7回の主走査SC1〜SC7を行う。機能層形成領域A1,A2にはいずれも28滴の液滴が吐出される。主走査ごとに選択されるノズル数はいずれの機能層形成領域A1,A2も同数である。主走査ごとの機能層形成領域A1におけるノズル52の選択パターンは同じである。主走査ごとの機能層形成領域A2におけるノズル52の選択パターンは同じである。一方、機能層形成領域A1におけるノズル52の選択パターンと、機能層形成領域A2におけるノズル52の選択パターンとは異なる。   Specifically, as shown in FIG. 8, nozzles 52n2, 52n3, 52n5, and 52n6 are selected from the nozzle group applied to the functional layer formation region A1, and the nozzle 52n4 is not selected. In addition, the nozzles 52n9, 52n10, 52n11, and 52n13 are selected from the nozzle group applied to the functional layer formation region A2, and the main scanning SC1 to SC7 is performed seven times with the nozzle 52n12 not selected. In each of the functional layer formation regions A1 and A2, 28 droplets are discharged. The number of nozzles selected for each main scan is the same for all functional layer formation regions A1 and A2. The selection pattern of the nozzles 52 in the functional layer formation region A1 for each main scan is the same. The selection pattern of the nozzles 52 in the functional layer formation region A2 for each main scan is the same. On the other hand, the nozzle 52 selection pattern in the functional layer formation region A1 is different from the nozzle 52 selection pattern in the functional layer formation region A2.

実施例2の機能液の吐出方法によれば、主走査によって機能層形成領域A1,A2に掛かるノズル群の中に、例えば、ノズル52の目詰まりによって液滴が吐出されない、又は液滴が吐出されても吐出量が極端に少なかったり多かったりする、あるいは液滴が吐出されても飛行曲がりにより所定の位置に着弾しないなどの不良ノズルがあるとき、当該不良ノズルを非選択として主走査を行うことができる。例えば、実施例2は実施例1に対してノズル52n12が不良ノズルであってこれを非選択とし、その代わりにノズル52n11を選択としたと考えればよい。
主走査ごとに選択されるノズル数は実施例1と同じで同数であり、主走査方向(Y軸方向)に配列する機能層形成領域Aには同じ選択パターンのノズル52から液滴が吐出される。すなわち、少なくとも主走査方向に配列する機能層形成領域Aに対して吐出量のばらつきを抑えて液滴を吐出することができる。
加えて、不良ノズルを非選択のノズルとすることができ、不良ノズルが発生しても主走査を止めずに対応できるため、機能液の吐出において高い生産性を実現できる。
なお、図8では説明の都合上、同じ機能液が塗布される機能層形成領域A1と機能層形成領域A2とがX軸方向に隣り合って配置された例を示したが、これに限定されるものではなく、主走査によって不良ノズルが掛かる機能層形成領域Aにおいて、当該不良ノズルを非選択のノズル52とすればよい。
According to the functional liquid ejection method of the second embodiment, droplets are not ejected due to, for example, clogging of the nozzles 52 in the nozzle groups applied to the functional layer formation regions A1 and A2 by main scanning, or droplets are ejected. If there is a defective nozzle such that the discharge amount is extremely small or large, or even if a droplet is ejected, it does not land at a predetermined position due to flight bending, the main scanning is performed with the defective nozzle not selected. be able to. For example, in the second embodiment, it may be considered that the nozzle 52n12 is a defective nozzle and the nozzle 52n11 is selected instead of the defective nozzle.
The number of nozzles selected for each main scan is the same as that in the first embodiment, and droplets are ejected from the nozzles 52 of the same selection pattern to the functional layer formation region A arranged in the main scan direction (Y-axis direction). The That is, it is possible to discharge droplets while suppressing variation in the discharge amount to at least the functional layer formation region A arranged in the main scanning direction.
In addition, the defective nozzle can be a non-selected nozzle, and even if a defective nozzle occurs, it is possible to respond without stopping the main scanning, so that high productivity can be realized in discharging the functional liquid.
For convenience of explanation, FIG. 8 shows an example in which the functional layer formation region A1 and the functional layer formation region A2 to which the same functional liquid is applied are arranged adjacent to each other in the X-axis direction. In the functional layer forming region A where the defective nozzle is applied by the main scanning, the defective nozzle may be the non-selected nozzle 52.

(実施例3)
次に、図9を参照して実施例3の機能液の吐出方法について説明する。実施例3は実施例1に対して、主走査ごとに選択されるノズル数を同数としつつ、複数回の主走査の間に、ノズル52の選択パターンを変化させたものである。
(Example 3)
Next, with reference to FIG. 9, the functional liquid discharge method of Example 3 will be described. The third embodiment is different from the first embodiment in that the selection pattern of the nozzles 52 is changed during a plurality of main scans while the same number of nozzles are selected for each main scan.

具体的には、図9に示すように、1回目の主走査SC1では、機能層形成領域A1に掛かるノズル群のうち例えば端に位置するノズル52n2を非選択として残り4つのノズル52から液滴を吐出する。以降、2回目〜7回目の主走査SC2〜SC7では、該ノズル群のうち端から順にノズル52を非選択として液滴を吐出する。7回の主走査のうち1回目の主走査SC1と6回目の主走査SC6、2回目の主走査SC2と7回目の主走査SC7におけるノズル52の選択パターンが同一となり、3回目〜5回目の主走査SC3〜SC5ではノズル52の選択パターンが異なる。   Specifically, as shown in FIG. 9, in the first main scan SC <b> 1, for example, the nozzle 52 n <b> 2 located at the end of the nozzle group applied to the functional layer formation region A <b> 1 is not selected and droplets are discharged from the remaining four nozzles 52. Is discharged. Thereafter, in the second to seventh main scans SC <b> 2 to SC <b> 7, the nozzles 52 are not selected in order from the end of the nozzle group, and droplets are ejected. Of the seven main scans, the selection patterns of the nozzles 52 in the first main scan SC1 and the sixth main scan SC6, the second main scan SC2 and the seventh main scan SC7 are the same, and the third to fifth times. The main scanning SC3 to SC5 have different nozzle 52 selection patterns.

このようなノズル52の選択パターンの違いは、他の機能層形成領域A2において同様に適用してもよいし、図9に示すように、主走査ごとに機能層形成領域A1と機能層形成領域A2とで異ならせてもよい。   Such a difference in the selection pattern of the nozzles 52 may be similarly applied to the other functional layer formation region A2, or, as shown in FIG. 9, the functional layer formation region A1 and the functional layer formation region for each main scan. It may be different from A2.

実施例3の機能液の吐出方法によれば、主走査ごとに選択されるノズル数が同数であるため、吐出ヘッド50の駆動に係る電気的な負荷を複数回(7回)の主走査に亘って均一化して、機能層形成領域A1,A2に掛かるノズル群から吐出量のばらつきを抑制して液滴を吐出できる。
また、複数回の主走査の間に、ノズル群における非選択のノズル52を変えるので、非選択のノズル52が固定化される場合に比べて、ノズル52内の機能液が乾燥して目詰まりを起こすなどの不具合を低減できる。
According to the functional liquid ejection method of the third embodiment, since the same number of nozzles are selected for each main scan, the electrical load related to the driving of the ejection head 50 is performed a plurality of times (seven times). The liquid droplets can be discharged while being uniformed and suppressing variations in the discharge amount from the nozzle group applied to the functional layer formation regions A1 and A2.
Further, since the non-selected nozzles 52 in the nozzle group are changed during a plurality of main scans, the functional liquid in the nozzles 52 is dried and clogged as compared with the case where the non-selected nozzles 52 are fixed. Such as causing problems.

ノズル52の目詰まりを低減する観点では、前述したように非選択のノズル52を主走査ごとに且つノズル52の配列に対応して順に(周期的に)変えることが望ましい。なお、前後の主走査においてノズル52の選択パターンを変えなくてもよく、ノズル群におけるノズル数に対して主走査の回数が上回る分は同じ選択パターンを繰り返してもよい。言い換えれば、機能層形成領域Aに掛かるノズル群を構成する複数のノズル52がそれぞれ複数回の主走査のうち少なくとも1回非選択となればよい。   From the viewpoint of reducing clogging of the nozzles 52, it is desirable to change the non-selected nozzles 52 in order (periodically) corresponding to the arrangement of the nozzles 52 for each main scan as described above. Note that the selection pattern of the nozzles 52 may not be changed in the main scanning before and after, and the same selection pattern may be repeated as long as the number of main scannings exceeds the number of nozzles in the nozzle group. In other words, the plurality of nozzles 52 constituting the nozzle group applied to the functional layer formation region A may be deselected at least once out of the plurality of main scans.

(実施例4)
次に、図10を参照して実施例4の機能液の吐出方法について説明する。実施例4は実施例3に対して、機能層形成領域Aに掛かるノズル群のうちX軸方向において隔壁際に位置するノズル52を常に選択する構成としたものである。
Example 4
Next, with reference to FIG. 10, a functional liquid discharge method according to the fourth embodiment will be described. The fourth embodiment is configured to always select the nozzle 52 located at the partition wall in the X-axis direction from the nozzle group applied to the functional layer formation region A, as compared with the third embodiment.

実施例3では、例えば図9に示すように主走査SC5において、機能層形成領域A1に掛かるノズル52n6から機能層形成領域A2に掛かるノズル52n9までの4つのノズル52が連続して非選択となる。隔壁に掛かる2つのノズル52n7,52n8は当然ながら非選択となるため、機能層形成領域A1,A2のX軸方向における隔壁際のノズル52の少なくとも1つを非選択とすると、非選択のノズル52が少なくとも3つ連続することが起り得る。連続した非選択のノズル52に隣り合う選択されたノズル52から吐出される液滴は吐出ヘッド50の構造における機械的あるいは電気的なクロストークの影響を受け易くなり、吐出量がばらつくおそれがある。   In the third embodiment, for example, as shown in FIG. 9, in the main scanning SC5, the four nozzles 52 from the nozzle 52n6 applied to the functional layer formation region A1 to the nozzle 52n9 applied to the functional layer formation region A2 are continuously unselected. . The two nozzles 52n7 and 52n8 applied to the partition walls are naturally not selected. Therefore, if at least one of the nozzles 52 at the partition wall in the X-axis direction of the functional layer formation regions A1 and A2 is not selected, the non-selected nozzle 52 Can occur at least three consecutive. The droplets ejected from the selected nozzle 52 adjacent to the consecutive non-selected nozzles 52 are easily affected by mechanical or electrical crosstalk in the structure of the ejection head 50, and the ejection amount may vary. .

そこで、実施例4では図10に示すように機能層形成領域A1,A2に掛かるノズル群のうちX軸方向の隔壁際に位置するノズル52を常に選択として、残るノズル52の中から1つを非選択とする。これによって、隔壁に掛かるノズル52を除いては、主走査ごとに非選択なノズル52が連続しない。よって、非選択のノズル52が連続することに起因する液滴の吐出量のばらつきを抑制できる。また、隔壁際のノズル52を常に選択とするので、着弾した液滴を確実に隔壁まで濡れ広げて塗布ムラを低減できる。もちろん、主走査ごとに選択されるノズル数が同数であることから吐出ヘッド50の駆動に係る電気的な負荷に起因する液滴の吐出量ばらつきは抑制される。   Therefore, in the fourth embodiment, as shown in FIG. 10, the nozzle 52 positioned at the partition wall in the X-axis direction is always selected from the nozzle groups applied to the functional layer formation regions A1 and A2, and one of the remaining nozzles 52 is selected. Not selected. As a result, the non-selected nozzles 52 do not continue every main scan except for the nozzles 52 that are applied to the partition walls. Therefore, it is possible to suppress variations in the discharge amount of liquid droplets due to the continuous non-selected nozzles 52. Further, since the nozzle 52 at the partition wall is always selected, it is possible to reliably spread the landed droplets to the partition wall and reduce coating unevenness. Of course, since the number of nozzles selected for each main scan is the same, variations in the discharge amount of droplets due to an electrical load related to driving of the discharge head 50 are suppressed.

(実施例5)
次に、図11を参照して実施例5の機能液の吐出方法について説明する。実施例5は実施例1又は実施例2と実施例4とを組み合わせたものである。
具体的には、図11に示すように、機能層形成領域A1に掛かるノズル群のうちノズル52n4を非選択として、残りのノズル52から液滴を吐出する。また、機能層形成領域A2に掛かるノズル群のうちX軸方向における隔壁際のノズル52を常に選択として、残りのノズル52の中から主走査ごとに1つのノズル52を非選択とする。
実施例5の機能液の吐出方法によれば、実施例4の効果を得る一方で、不良ノズルが発生した場合には、主走査により不良ノズルが掛かる機能層形成領域Aにおいて、当該不良ノズルを非選択のノズル52として扱うことができる。つまり、液滴の吐出量のばらつきを抑制すると共に高い生産性を実現できる。
(Example 5)
Next, a functional liquid discharging method according to the fifth embodiment will be described with reference to FIG. Example 5 is a combination of Example 1 or Example 2 and Example 4.
Specifically, as shown in FIG. 11, the nozzle 52n4 is not selected from the nozzle group applied to the functional layer formation region A1, and droplets are ejected from the remaining nozzles 52. Further, the nozzle 52 at the partition wall in the X-axis direction is always selected from the nozzle group applied to the functional layer formation region A2, and one nozzle 52 is not selected for each main scan from the remaining nozzles 52.
According to the functional liquid ejection method of the fifth embodiment, while obtaining the effect of the fourth embodiment, when a defective nozzle occurs, the defective nozzle is detected in the functional layer forming region A where the defective nozzle is applied by the main scanning. It can be handled as a non-selected nozzle 52. That is, it is possible to suppress variations in the discharge amount of droplets and realize high productivity.

総括すると、本実施形態の機能液の吐出方法は、主走査により機能層形成領域Aに掛かるノズル群のうち1つを非選択として残り4つの選択されたノズル52から液滴を吐出する。且つ主走査ごとに選択されたノズル数を同数として、所定量の機能液が機能層形成領域Aごとに塗布されるように、主走査の回数を設定する。
これによれば、主走査において機能層形成領域Aに掛かるノズル群のノズル間の機械的、あるいは電気的なクロストークの影響を受け難くすることができる。さらに、主走査ごとに選択されたノズル数を同数とするので、吐出ヘッド50の駆動における電気的な負荷を複数回の主走査に亘って均一化して、液滴の吐出量のばらつきを抑制できる。つまりは、所定量の機能液が各機能層形成領域Aに安定的に塗布されるので、塗布された機能液を固化した後に、膜厚や膜形状が安定した機能層を形成することができる。
In summary, the functional liquid ejection method of the present embodiment ejects liquid droplets from the remaining four selected nozzles 52 without selecting one of the nozzle groups applied to the functional layer formation region A by main scanning. The number of nozzles selected for each main scan is the same, and the number of main scans is set so that a predetermined amount of functional liquid is applied to each functional layer forming region A.
According to this, it is possible to make it difficult to be affected by mechanical or electrical crosstalk between the nozzles of the nozzle group applied to the functional layer forming region A in the main scanning. Furthermore, since the same number of nozzles are selected for each main scan, the electrical load in driving the ejection head 50 can be made uniform over a plurality of main scans, and variations in droplet discharge amount can be suppressed. . That is, since a predetermined amount of functional liquid is stably applied to each functional layer forming region A, a functional layer having a stable film thickness and film shape can be formed after the applied functional liquid is solidified. .

なお、機能層形成領域Aに塗布すべき機能液の所定量を液滴として吐出する際の吐出数(液滴数)が主走査の回数つまり整数で除したときに割り切れないときには、整数で割り切れる吐出数(液滴数)に調整する。調整方法としては、例えば液滴の吐出量を予め所望の吐出数となるように補正する。また、機能液における機能層形成材料(固形分)の濃度を調整することでも液滴の吐出数(液滴数)を調整することができる。   If the number of droplets (the number of droplets) when a predetermined amount of the functional liquid to be applied to the functional layer formation region A is discharged as droplets is not divisible by the number of main scans, that is, an integer, it is divisible by an integer. The discharge number (the number of droplets) is adjusted. As an adjustment method, for example, a droplet discharge amount is corrected in advance so as to have a desired discharge number. The number of droplets ejected (number of droplets) can also be adjusted by adjusting the concentration of the functional layer forming material (solid content) in the functional liquid.

本発明の機能液の吐出方法は、上記実施形態の実施例1〜実施例5に限定されるものではなく、実施例1〜実施例4を適宜組み合わせて前述した液滴の配置情報(ビットマップ)を構成してもよい。   The functional liquid ejection method of the present invention is not limited to Examples 1 to 5 of the above embodiment, and the above-described droplet arrangement information (bitmap) by appropriately combining Examples 1 to 4 ) May be configured.

(第2実施形態)
<有機EL装置>
次に、本実施形態の有機EL(エレクトロルミネセンス)素子の製造方法を適用して製造された有機EL素子を有する有機EL装置について図12及び図13を参照して説明する。図12は有機EL装置を示す概略正面図、図13は有機EL装置の要部概略断面図である。
(Second Embodiment)
<Organic EL device>
Next, an organic EL device having an organic EL element manufactured by applying the organic EL (electroluminescence) element manufacturing method of the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 12 is a schematic front view showing the organic EL device, and FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of the main part of the organic EL device.

図12に示すように、本実施形態の有機EL装置100は、R(赤)、G(緑)、B(青)、3色の発光画素107を備えた素子基板101と、素子基板101に所定の間隔を置いて対向配置された封止基板102とを備えている。封止基板102は、複数の発光画素107が設けられた発光領域106を封着するように、高い気密性を有する封着剤を用いて素子基板101に貼り合わされている。   As shown in FIG. 12, the organic EL device 100 according to this embodiment includes an element substrate 101 including R (red), G (green), B (blue), and three-color light emitting pixels 107, and an element substrate 101. And a sealing substrate 102 arranged to face each other at a predetermined interval. The sealing substrate 102 is bonded to the element substrate 101 by using a sealing agent having high airtightness so as to seal the light emitting region 106 in which the plurality of light emitting pixels 107 are provided.

発光画素107は、後述する発光素子としての有機EL素子112(図13参照)を備えるものであって、同色の発光が得られる発光画素107が、図面上の縦方向に配列した所謂ストライプ方式となっている。なお、実際には、発光画素107は微細なものであり、図示の都合上拡大して現している。   The light-emitting pixel 107 includes an organic EL element 112 (see FIG. 13) as a light-emitting element to be described later, and a so-called stripe method in which the light-emitting pixels 107 that can emit light of the same color are arranged in the vertical direction in the drawing. It has become. Actually, the light emitting pixels 107 are minute and are enlarged for convenience of illustration.

素子基板101は、封止基板102よりも一回り大きく、額縁状に張り出した部分には、発光画素107を駆動する2つの走査線駆動回路部103と1つのデータ線駆動回路部104が設けられている。走査線駆動回路部103、データ線駆動回路部104は、例えば、電気回路が集積されたICとして素子基板101に実装してもよいし、走査線駆動回路部103及びデータ線駆動回路部104を素子基板101の表面に直接形成してもよい。   The element substrate 101 is slightly larger than the sealing substrate 102, and two scanning line driving circuit portions 103 for driving the light emitting pixels 107 and one data line driving circuit portion 104 are provided in a portion protruding in a frame shape. ing. The scanning line driving circuit unit 103 and the data line driving circuit unit 104 may be mounted on the element substrate 101 as an IC in which an electric circuit is integrated, for example, or the scanning line driving circuit unit 103 and the data line driving circuit unit 104 may be mounted. It may be formed directly on the surface of the element substrate 101.

素子基板101の端子部101aには、これらの走査線駆動回路部103やデータ線駆動回路部104と外部駆動回路とを接続するための中継基板105が実装されている。中継基板105は、例えば、フレキシブル回路基板などを用いることができる。   A relay substrate 105 for connecting the scanning line driving circuit unit 103 or the data line driving circuit unit 104 and an external driving circuit is mounted on the terminal portion 101 a of the element substrate 101. For example, a flexible circuit board can be used as the relay board 105.

図13に示すように、有機EL装置100において、有機EL素子112は、画素電極としての陽極131と、陽極131を区画する隔壁133と、陽極131上に形成された有機膜からなる発光層を含む機能層132とを有している。また、機能層132を介して陽極131と対向するように形成された共通電極としての陰極134を有している。   As shown in FIG. 13, in the organic EL device 100, the organic EL element 112 includes an anode 131 as a pixel electrode, a partition wall 133 that partitions the anode 131, and a light emitting layer made of an organic film formed on the anode 131. And a functional layer 132 including the functional layer 132. In addition, a cathode 134 as a common electrode is formed so as to face the anode 131 with the functional layer 132 interposed therebetween.

隔壁133は、フェノール又はポリイミドなどの絶縁性を有する感光性樹脂からなり、発光画素107を構成する陽極131の周囲を一部覆って、複数の陽極131をそれぞれ区画するように設けられている。   The partition wall 133 is made of a photosensitive resin having an insulating property such as phenol or polyimide, and is provided so as to partially cover the periphery of the anode 131 constituting the light emitting pixel 107 and partition the plurality of anodes 131.

陽極131は、素子基板101上に形成されたTFT素子108の3端子のうちの1つに接続しており、例えば、透明電極材料であるITO(Indium Tin Oxide)を厚さ100nm程度に成膜した電極である。   The anode 131 is connected to one of the three terminals of the TFT element 108 formed on the element substrate 101. For example, ITO (Indium Tin Oxide), which is a transparent electrode material, is formed to a thickness of about 100 nm. Electrode.

陰極134は、例えばAlやAgなどの光反射性を有する金属材料や、該金属材料と他の金属(例えばMg)との合金などにより形成されている。   The cathode 134 is formed of a metal material having light reflectivity such as Al or Ag, or an alloy of the metal material and another metal (for example, Mg).

本実施形態の有機EL装置100は、所謂ボトムエミッション型の構造となっており、陽極131と陰極134との間に駆動電流を流して機能層132で発光した光を陰極134で反射させて素子基板101側から取り出す。したがって、素子基板101はガラスなどの透明基板を用いる。また、封止基板102は、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。   The organic EL device 100 according to the present embodiment has a so-called bottom emission type structure, in which a drive current is passed between the anode 131 and the cathode 134 and light emitted from the functional layer 132 is reflected by the cathode 134 so as to be an element. Remove from the substrate 101 side. Therefore, a transparent substrate such as glass is used for the element substrate 101. As the sealing substrate 102, either a transparent substrate or an opaque substrate can be used. Examples of the opaque substrate include a thermosetting resin and a thermoplastic resin in addition to a ceramic sheet such as alumina and a metal sheet such as stainless steel that has been subjected to an insulation treatment such as surface oxidation.

素子基板101には、有機EL素子112を駆動する回路部111が設けられている。すなわち、素子基板101の表面にはSiO2を主体とする下地保護層121が下地として形成され、その上には例えばポリシリコンなどからなる半導体層122が形成されている。この半導体層122の表面には、SiO2及び/又はSiNを主体とするゲート絶縁膜123が形成されている。 The element substrate 101 is provided with a circuit unit 111 for driving the organic EL element 112. That is, a base protective layer 121 mainly composed of SiO 2 is formed on the surface of the element substrate 101 as a base, and a semiconductor layer 122 made of, for example, polysilicon is formed thereon. A gate insulating film 123 mainly composed of SiO 2 and / or SiN is formed on the surface of the semiconductor layer 122.

また、半導体層122のうち、ゲート絶縁膜123を挟んでゲート電極126と重なる領域がチャネル領域122aとされている。なお、このゲート電極126は、図示しない走査線の一部である。一方、半導体層122を覆い、ゲート電極126を形成したゲート絶縁膜123の表面には、SiO2を主体とする第1層間絶縁層127が形成されている。 In the semiconductor layer 122, a region overlapping with the gate electrode 126 with the gate insulating film 123 interposed therebetween is a channel region 122a. The gate electrode 126 is a part of a scanning line (not shown). On the other hand, a first interlayer insulating layer 127 mainly composed of SiO 2 is formed on the surface of the gate insulating film 123 covering the semiconductor layer 122 and having the gate electrode 126 formed thereon.

また、半導体層122のうち、チャネル領域122aのソース側には、低濃度ソース領域及び高濃度ソース領域122cが設けられる一方、チャネル領域122aのドレイン側には低濃度ドレイン領域及び高濃度ドレイン領域122bが設けられて、所謂LDD(Light Doped Drain)構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域122cは、ゲート絶縁膜123と第1層間絶縁層127とにわたって開孔するコンタクトホール125aを介して、ソース電極125に接続されている。このソース電極125は、電源線(図示せず)の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域122bは、ゲート絶縁膜123と第1層間絶縁層127とにわたって開孔するコンタクトホール124aを介して、ソース電極125と同一層からなるドレイン電極124に接続されている。   In the semiconductor layer 122, a low concentration source region and a high concentration source region 122c are provided on the source side of the channel region 122a, while a low concentration drain region and a high concentration drain region 122b are provided on the drain side of the channel region 122a. Are provided to form a so-called LDD (Light Doped Drain) structure. Among these, the high-concentration source region 122c is connected to the source electrode 125 through a contact hole 125a that opens over the gate insulating film 123 and the first interlayer insulating layer 127. The source electrode 125 is configured as a part of a power supply line (not shown). On the other hand, the high-concentration drain region 122b is connected to the drain electrode 124 formed of the same layer as the source electrode 125 through a contact hole 124a opened over the gate insulating film 123 and the first interlayer insulating layer 127.

ソース電極125及びドレイン電極124が形成された第1層間絶縁層127の上層には、平坦化層128が形成されている。この平坦化層128は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、TFT素子108やソース電極125、ドレイン電極124などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。   A planarization layer 128 is formed on the first interlayer insulating layer 127 on which the source electrode 125 and the drain electrode 124 are formed. The planarization layer 128 is formed of a heat-resistant insulating resin such as acrylic or polyimide, and is formed to eliminate surface irregularities due to the TFT element 108, the source electrode 125, the drain electrode 124, and the like. Are known.

そして、陽極131が、この平坦化層128の表面上に形成されると共に、該平坦化層128に設けられたコンタクトホール128aを介してドレイン電極124に接続されている。すなわち、陽極131は、ドレイン電極124を介して、半導体層122の高濃度ドレイン領域122bに接続されている。陰極134は、GNDに接続されている。したがって、スイッチング素子としてのTFT素子108により、上記電源線から陽極131に供給され陰極134との間で流れる駆動電流を制御する。これにより、回路部111は、所望の有機EL素子112を発光させカラー表示を可能としている。   An anode 131 is formed on the surface of the planarization layer 128 and is connected to the drain electrode 124 through a contact hole 128 a provided in the planarization layer 128. That is, the anode 131 is connected to the high concentration drain region 122 b of the semiconductor layer 122 through the drain electrode 124. The cathode 134 is connected to GND. Therefore, the TFT element 108 as a switching element controls the drive current supplied from the power supply line to the anode 131 and flowing between the cathode 134. Thereby, the circuit unit 111 emits light from the desired organic EL element 112 to enable color display.

なお、有機EL素子112を駆動する回路部111の構成は、これに限定されるものではない。   The configuration of the circuit unit 111 that drives the organic EL element 112 is not limited to this.

機能層132は、有機膜からなる正孔注入層、中間層、発光層を含む複数の薄膜層からなり、陽極131側からこの順で積層されている。本実施形態において、これらの薄膜層は液滴吐出法(インクジェット法)を用いて成膜されている。   The functional layer 132 includes a plurality of thin film layers including a hole injection layer made of an organic film, an intermediate layer, and a light emitting layer, and is stacked in this order from the anode 131 side. In this embodiment, these thin film layers are formed using a droplet discharge method (inkjet method).

正孔注入層の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸(PSS)を加えた混合物(PEDOT/PSS)や、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。   As a material for the hole injection layer, for example, a mixture (PEDOT / PSS) obtained by adding polystyrene sulfonate (PSS) as a dopant to a polythiophene derivative such as polyethylenedioxythiophene (PEDOT), polystyrene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene, or the like. Or a derivative thereof may be used.

中間層は、正孔注入層と発光層との間に設けられ、発光層に対する正孔の輸送性(注入性)を向上させると共に、発光層から正孔注入層に電子が浸入することを抑制するために設けられている。すなわち、発光層における正孔と電子との結合による発光の効率を改善するものである。中間層の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なトリフェニルアミン系ポリマーを含んだものが挙げられる。   The intermediate layer is provided between the hole injection layer and the light-emitting layer, improves the hole transportability (injection) to the light-emitting layer, and suppresses the penetration of electrons from the light-emitting layer into the hole injection layer. Is provided to do. That is, the efficiency of light emission by the combination of holes and electrons in the light emitting layer is improved. Examples of the material for the intermediate layer include those containing a triphenylamine polymer having a good hole transport property.

発光層の材料としては、例えば、赤色、緑色、青色の発光が得られるポリフルオレン誘導体(PF)、ポリパラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、PEDOT等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン(PMPS)等を用いることができる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。   Examples of the material of the light emitting layer include polyfluorene derivatives (PF), polyparaphenylene vinylene derivatives (PPV), polyphenylene derivatives (PP), polyparaphenylene derivatives (PPP), polyvinyl which can emit red, green, and blue light. Polythiophenylene derivatives such as carbazole (PVK) and PEDOT, polymethylphenylenesilane (PMPS), and the like can be used. In addition, polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, nile red, coumarin 6, quinacrine, etc. A low molecular material may be doped.

このような有機EL素子112を有する素子基板101は、熱硬化型エポキシ樹脂等を封着部材として用いた封着層135を介して封止基板102と隙間なくベタ封止されている。   The element substrate 101 having such an organic EL element 112 is solid-sealed with the sealing substrate 102 without a gap through a sealing layer 135 using a thermosetting epoxy resin or the like as a sealing member.

本実施形態の有機EL装置100は、後述する有機EL素子112の製造方法を用いて製造されており、発光層がほぼ一定の膜厚と安定した膜形状(断面形状)を有しているため、異なる発光色が得られる機能層132R,132G,132Bにおいてそれぞれ所望の発光特性が得られる。   The organic EL device 100 of the present embodiment is manufactured using a method for manufacturing the organic EL element 112 described later, and the light emitting layer has a substantially constant film thickness and a stable film shape (cross-sectional shape). In the functional layers 132R, 132G, and 132B that can obtain different emission colors, desired emission characteristics can be obtained.

なお、本実施形態の有機EL装置100は、ボトムエミッション型に限定されず、例えば陽極131を光反射性の導電材料を用いて形成し、共通電極としての陰極134を透明な導電材料を用いて形成して、有機EL素子112の発光を陽極131で反射させて、封止基板102側から取り出すトップエミッション型の構造としてもよい。また、トップエミッション型とする場合、有機EL素子112の発光色に対応させたカラーフィルターを封止基板102側に設ける構成としてもよい。さらには、封止基板102側にカラーフィルターを有する場合、有機EL素子112から白色発光が得られる構成としてもよい。   The organic EL device 100 of the present embodiment is not limited to the bottom emission type. For example, the anode 131 is formed using a light-reflective conductive material, and the cathode 134 as a common electrode is formed using a transparent conductive material. A top emission type structure in which light emission from the organic EL element 112 is reflected by the anode 131 and extracted from the sealing substrate 102 side may be employed. In the case of a top emission type, a color filter corresponding to the emission color of the organic EL element 112 may be provided on the sealing substrate 102 side. Further, when a color filter is provided on the sealing substrate 102 side, white light emission may be obtained from the organic EL element 112.

<有機EL素子の製造方法>
次に、本実施形態の有機EL素子の製造方法を適用した有機EL装置の製造方法について図14〜図16を参照して説明する。図14は有機EL装置の製造方法を示すフローチャート、図15(a)〜(d)及び図16(e)〜(h)は有機EL素子の製造方法を示す概略断面図である。
<Method for producing organic EL element>
Next, a method for manufacturing an organic EL device to which the method for manufacturing an organic EL element of the present embodiment is applied will be described with reference to FIGS. FIG. 14 is a flowchart illustrating a method for manufacturing an organic EL device, and FIGS. 15A to 15D and 16E to 16H are schematic cross-sectional views illustrating a method for manufacturing an organic EL element.

図14に示すように、本実施形態の有機EL装置100の製造方法は、隔壁形成工程(ステップS1)と、隔壁が形成された基板に表面処理を施す表面処理工程(ステップS2)と、正孔注入層形成工程(ステップS3)と、中間層形成工程(ステップS4)と、発光層形成工程(ステップS5)と、陰極形成工程(ステップS6)と、有機EL素子112が形成された素子基板101と封止基板102とを接合する封止基板接合工程(ステップS7)とを少なくとも備えている。なお、素子基板101上に回路部111(図13参照)を形成する工程や回路部111に電気的に接続した陽極131を形成する工程は、公知の製造方法を用いればよく、本実施形態では詳細の説明は省略する。したがって、図15(a)〜(d)及び図16(e)〜(h)では、回路部111の図示を省略している。   As shown in FIG. 14, the manufacturing method of the organic EL device 100 of this embodiment includes a partition wall forming step (Step S1), a surface treatment step (Step S2) for performing a surface treatment on the substrate on which the partition wall is formed, Element substrate on which hole injection layer forming step (step S3), intermediate layer forming step (step S4), light emitting layer forming step (step S5), cathode forming step (step S6), and organic EL element 112 are formed At least a sealing substrate bonding step (step S7) for bonding 101 and the sealing substrate 102 to each other. A known manufacturing method may be used for the step of forming the circuit portion 111 (see FIG. 13) on the element substrate 101 and the step of forming the anode 131 electrically connected to the circuit portion 111. In this embodiment, Detailed description is omitted. Accordingly, the circuit portion 111 is not shown in FIGS. 15A to 15D and FIGS. 16E to 16H.

図14のステップS1は、隔壁形成工程である。ステップS1では、図15(a)に示すように、陽極131の周囲の一部を覆って陽極131ごとを区画するように隔壁133を形成する。形成方法としては、例えば、陽極131が形成された素子基板101の表面に、感光性のフェノール樹脂又はポリイミド樹脂をおよそ1μm〜3μm程度の厚みで塗布する。塗布方法としては、転写法、スリットコート法などが挙げられる。そして、発光画素107の形状に対応したマスクを用いて露光し、現像することにより隔壁133を形成する。以降、隔壁133により区画された発光画素107の領域を機能層形成領域Aと呼ぶ。そして、ステップS2へ進む。   Step S1 in FIG. 14 is a partition forming process. In step S <b> 1, as shown in FIG. 15A, the partition wall 133 is formed so as to cover the anode 131 and partition the anode 131. As a forming method, for example, a photosensitive phenol resin or polyimide resin is applied to the surface of the element substrate 101 on which the anode 131 is formed with a thickness of about 1 μm to 3 μm. Examples of the coating method include a transfer method and a slit coating method. Then, exposure is performed using a mask corresponding to the shape of the light emitting pixel 107 and development is performed, so that the partition wall 133 is formed. Hereinafter, the region of the light emitting pixel 107 partitioned by the partition wall 133 is referred to as a functional layer formation region A. Then, the process proceeds to step S2.

図14のステップS2は、表面処理工程である。ステップS2では、隔壁133が形成された素子基板101の表面に親液処理と撥液処理とを施す。まず、酸素を処理ガスとするプラズマ処理を行い、主に無機材料からなる陽極131の表面に親液処理を施す。次に、CF4などのフッ素系ガスを処理ガスとするプラズマ処理を行い、有機材料からなる隔壁133の表面にフッ素を導入して撥液処理を施す。
なお、撥液性を有する隔壁133の形成は、これに限定されず。例えば、隔壁133の頭頂部に撥液性材を転写して撥液層を形成したり、上記感光性樹脂自体に撥液性材を含ませて隔壁133を形成してもよい。そして、ステップS3へ進む。
Step S2 in FIG. 14 is a surface treatment process. In step S2, lyophilic treatment and lyophobic treatment are performed on the surface of the element substrate 101 on which the partition wall 133 is formed. First, plasma processing using oxygen as a processing gas is performed, and lyophilic processing is performed on the surface of the anode 131 made mainly of an inorganic material. Next, plasma treatment is performed using a fluorine-based gas such as CF 4 as a treatment gas, and fluorine is introduced into the surface of the partition wall 133 made of an organic material to perform a liquid repellent treatment.
Note that the formation of the partition 133 having liquid repellency is not limited to this. For example, a liquid repellent material may be transferred to the top of the partition wall 133 to form a liquid repellent layer, or the photosensitive resin itself may contain a liquid repellent material to form the partition wall 133. Then, the process proceeds to step S3.

図14のステップS3は、正孔注入層形成工程である。ステップS3では、まず、図15(b)に示すように、正孔注入層形成材料を含む機能液70を機能層形成領域Aに塗布する。機能液70は、例えば、溶媒としてジエチレングリコールと水(純水)とを含んでおり、正孔注入層形成材料としてPEDOT/PSSを重量比で0.5%程度含んだものを用いた。粘度がおよそ20mPa・s以下となるように溶媒の割合が調整されている。
機能液70を塗布する方法としては、第1実施形態において説明した機能液(インク)を吐出ヘッド50のノズル52から吐出可能な吐出装置10を用いる。吐出ヘッド50とワークWである素子基板101とを対向させ、吐出ヘッド50から機能液70を吐出する。吐出された機能液70は、液滴として親液処理された陽極131に着弾して濡れ拡がる。また、乾燥後の正孔注入層の膜厚がおよそ50nm〜70nmとなるように、機能層形成領域Aの面積に応じた必要量を液滴として吐出した。そして乾燥工程へ進む。
Step S3 in FIG. 14 is a hole injection layer forming step. In step S3, first, as shown in FIG. 15B, the functional liquid 70 containing the hole injection layer forming material is applied to the functional layer forming region A. The functional liquid 70 contains, for example, diethylene glycol and water (pure water) as a solvent, and contains about 0.5% by weight of PEDOT / PSS as a hole injection layer forming material. The ratio of the solvent is adjusted so that the viscosity is about 20 mPa · s or less.
As a method of applying the functional liquid 70, the ejection device 10 that can eject the functional liquid (ink) described in the first embodiment from the nozzles 52 of the ejection head 50 is used. The functional head 70 is ejected from the ejection head 50 with the ejection head 50 and the element substrate 101 being the workpiece W facing each other. The discharged functional liquid 70 lands on the anode 131 that has been treated as a lyophilic liquid droplet and spreads out. Further, a required amount corresponding to the area of the functional layer formation region A was discharged as droplets so that the thickness of the hole injection layer after drying was about 50 nm to 70 nm. Then, the process proceeds to the drying process.

乾燥工程では、素子基板101を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、機能液70の溶媒成分を乾燥させて除去し、図15(c)に示すように機能層形成領域Aの陽極131上に正孔注入層132aを形成する。なお、本実施形態では、各機能層形成領域Aに同一材料からなる正孔注入層132aを形成したが、後に形成される発光層に対応して正孔注入層132aの材料を発光色ごとに変えてもよい。そしてステップS4へ進む。   In the drying process, the element substrate 101 is heated by a method such as lamp annealing to dry and remove the solvent component of the functional liquid 70, and the anode 131 in the functional layer formation region A as shown in FIG. A hole injection layer 132a is formed thereon. In the present embodiment, the hole injection layer 132a made of the same material is formed in each functional layer formation region A. However, the material of the hole injection layer 132a corresponding to the light emitting layer to be formed later is set for each emission color. You may change it. Then, the process proceeds to step S4.

図14のステップS4は、中間層形成工程である。ステップS4では、図15(d)に示すように、中間層形成材料を含む機能液80を機能層形成領域Aに塗布する。
機能液80は、例えば、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを含み、中間層形成材料として、前述したトリフェニルアミン系ポリマーを重量比で0.1%程度含んだものを用いた。粘度はおよそ6mPa・sである。
機能液80を塗布する方法としては、機能液70を塗布する場合と同様に、第1実施形態の吐出装置10を用いる。乾燥後の中間層の膜厚がおよそ10nm〜20nmとなるように、機能層形成領域Aの面積に応じた必要量を液滴として吐出した。そして乾燥工程へ進む。
Step S4 in FIG. 14 is an intermediate layer forming process. In step S4, as shown in FIG. 15D, the functional liquid 80 containing the intermediate layer forming material is applied to the functional layer forming region A.
As the functional liquid 80, for example, a liquid containing cyclohexylbenzene as a solvent and containing about 0.1% by weight of the above-mentioned triphenylamine polymer as an intermediate layer forming material was used. The viscosity is approximately 6 mPa · s.
As a method of applying the functional liquid 80, the ejection device 10 of the first embodiment is used as in the case of applying the functional liquid 70. A necessary amount corresponding to the area of the functional layer formation region A was discharged as droplets so that the film thickness of the intermediate layer after drying was approximately 10 nm to 20 nm. And it progresses to a drying process.

乾燥工程では、素子基板101を例えばランプアニール等の方法で加熱することにより、機能液80の溶媒成分を乾燥させて除去し、図16(e)に示すように機能層形成領域Aの正孔注入層132a上に中間層132cを形成する。そしてステップS5へ進む。   In the drying step, the element substrate 101 is heated by a method such as lamp annealing to dry and remove the solvent component of the functional liquid 80, and as shown in FIG. An intermediate layer 132c is formed on the injection layer 132a. Then, the process proceeds to step S5.

図14のステップS5は、発光層形成工程である。ステップS5では、図16(f)に示すように、発光層形成材料を含む機能液90R,90G,90Bをそれぞれ対応する機能層形成領域Aに塗布する。
機能液90R,90G,90Bは、例えば、溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを含んでおり、発光層形成材料としてPFを重量比で0.7%含んだものを用いた。粘度はおよそ14mPa・sである。
機能液90R,90G,90Bを塗布する方法は、やはり第1実施形態の吐出装置10を用い、それぞれ異なる吐出ヘッド50に充填されて吐出される。
発光層の成膜にあたり、機能液90R,90G,90Bを機能層形成領域Aに吐出ムラなく、且つ必要量を安定的に吐出することができる第1実施形態の機能液の吐出方法を用いた。すなわち、主走査により機能層形成領域Aに掛かるノズル群のうち少なくとも1つのノズル52を非選択として残りのノズル52から液滴を吐出した。そして、主走査ごとに選択されるノズル数が同数となるように非選択のノズル52と主走査の回数を設定した。また、乾燥後の発光層の膜厚がおよそ50nm〜100nmとなるように、機能層形成領域Aの面積に応じた必要量を液滴として吐出した。そして乾燥工程へ進む。
Step S5 in FIG. 14 is a light emitting layer forming step. In step S5, as shown in FIG. 16F, functional liquids 90R, 90G, and 90B containing the light emitting layer forming material are applied to the corresponding functional layer forming regions A.
The functional liquids 90R, 90G, and 90B include, for example, cyclohexylbenzene as a solvent and 0.7% by weight of PF as a light emitting layer forming material. The viscosity is approximately 14 mPa · s.
In the method of applying the functional liquids 90R, 90G, and 90B, the discharge device 10 according to the first embodiment is used, and different discharge heads 50 are filled and discharged.
In forming the light emitting layer, the functional liquid discharging method according to the first embodiment that can discharge the functional liquids 90R, 90G, and 90B to the functional layer formation region A without causing unevenness and stably discharge the required amount was used. . That is, at least one nozzle 52 out of the nozzle group applied to the functional layer formation region A by main scanning was not selected and droplets were ejected from the remaining nozzles 52. The non-selected nozzles 52 and the number of main scans are set so that the same number of nozzles are selected for each main scan. Further, a necessary amount corresponding to the area of the functional layer formation region A was discharged as droplets so that the thickness of the light emitting layer after drying was approximately 50 nm to 100 nm. And it progresses to a drying process.

本実施形態における吐出された機能液90R,90G,90Bの乾燥工程は、一般的な加熱乾燥に比べて溶媒成分を比較的均一に乾燥可能な減圧乾燥法を用いている。機能層形成領域Aに満遍なく必要量の機能液90R,90G,90Bが塗布されている。したがって、図16(g)に示すように、乾燥後に形成された発光層132r,132g,132bは機能層形成領域Aごとにほぼ一定の膜厚と安定した膜形状(断面形状)を有する。そして、ステップS6へ進む。   The drying process of the discharged functional liquids 90R, 90G, and 90B in the present embodiment uses a reduced-pressure drying method that can dry the solvent component relatively uniformly as compared with general heat drying. A necessary amount of functional liquids 90R, 90G, and 90B are uniformly applied to the functional layer forming region A. Therefore, as shown in FIG. 16G, the light emitting layers 132r, 132g, and 132b formed after drying have a substantially constant film thickness and a stable film shape (cross-sectional shape) for each functional layer formation region A. Then, the process proceeds to step S6.

図14のステップS6は、陰極形成工程である。ステップS6では、図16(h)に示すように、隔壁133と各機能層132R,132G,132Bとを覆うように陰極134を形成する。これにより有機EL素子112が構成される。
陰極134の材料としては、アルミニウム(Al)や銀(Ag)とマグネシウム(Mg)の合金などが用いられる。機能層132R,132G,132Bに近い側に仕事関数が小さいCa、Ba、LiFの膜を形成してもよい。また、陰極134の上にSiO2、SiN等の保護層を積層してもよい。このようにすれば、陰極134の酸化を防止することができる。陰極134の形成方法としては、蒸着法、スパッタ法、CVD法等が挙げられる。特に機能層132R,132G,132Bの熱による損傷を防止できるという点では、蒸着法が好ましい。ここまでが、有機EL素子112の製造工程を示すものである。そして、ステップS7へ進む。
Step S6 in FIG. 14 is a cathode forming step. In step S6, as shown in FIG. 16H, the cathode 134 is formed so as to cover the partition wall 133 and the functional layers 132R, 132G, and 132B. Thereby, the organic EL element 112 is configured.
As the material of the cathode 134, aluminum (Al), an alloy of silver (Ag) and magnesium (Mg), or the like is used. A Ca, Ba, or LiF film having a small work function may be formed on the side close to the functional layers 132R, 132G, and 132B. A protective layer such as SiO 2 or SiN may be laminated on the cathode 134. In this way, oxidation of the cathode 134 can be prevented. Examples of the method for forming the cathode 134 include vapor deposition, sputtering, and CVD. In particular, the vapor deposition method is preferable in that the functional layers 132R, 132G, and 132B can be prevented from being damaged by heat. Up to here, the manufacturing process of the organic EL element 112 is shown. Then, the process proceeds to step S7.

図14のステップS7は、封止基板接合工程である。ステップS7では、有機EL素子112が形成された素子基板101に封着層135を塗布して、封止基板102と隙間なくベタ封止する(図13参照)。さらに封止基板102の外周領域において水分や酸素等の進入を防ぐ接着層を設けて接合することが望ましい。   Step S7 in FIG. 14 is a sealing substrate bonding step. In step S7, the sealing layer 135 is applied to the element substrate 101 on which the organic EL element 112 is formed, and is solid-sealed with no gap from the sealing substrate 102 (see FIG. 13). Furthermore, it is desirable to provide and bond an adhesive layer that prevents entry of moisture, oxygen, and the like in the outer peripheral region of the sealing substrate 102.

以上のような有機EL素子112の製造方法によれば、液滴吐出法により成膜された機能層132R,132G,132Bは、成膜ムラが低減され、それぞれほぼ一定の膜厚と安定した膜形状(断面形状)の発光層132r,132g,132bを有している。したがって、成膜ムラに起因する輝度ムラが低減された有機EL素子112を製造することができる。
なお、上記実施形態の機能液の吐出方法は、発光層形成材料を含む機能液90R,90G,90Bの塗布に適用するだけでなく、もちろん、正孔注入層形成材料を含む機能液70や中間層形成材料を含む機能液80の塗布においても適用することができる。
According to the manufacturing method of the organic EL element 112 as described above, the functional layers 132R, 132G, and 132B formed by the droplet discharge method have reduced film formation unevenness, and each has a substantially constant film thickness and a stable film. The light-emitting layers 132r, 132g, and 132b have a shape (cross-sectional shape). Accordingly, it is possible to manufacture the organic EL element 112 in which luminance unevenness due to film formation unevenness is reduced.
The functional liquid ejection method of the above embodiment is not only applied to the application of the functional liquids 90R, 90G, and 90B including the light emitting layer forming material, and of course, the functional liquid 70 including the hole injection layer forming material and the intermediate liquid. The present invention can also be applied to the application of the functional liquid 80 including the layer forming material.

このようにして製造された異なる発光が得られる有機EL素子112を備えた有機EL装置100は、所望の発光特性が実現され、見映えのよいカラー表示が可能である。   The organic EL device 100 including the organic EL element 112 that can produce different light emission manufactured in this manner realizes desired light emission characteristics and enables a good-looking color display.

<電子機器>
本発明の有機EL素子112の製造方法を用いて製造された有機EL装置100は、様々な電子機器の表示部として好適に用いることができる。
電子機器としては、携帯電話機やパーソナルコンピューター、PDA、POSなどの携帯型情報端末、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーションシステム、テレビ、HMD(ヘッドマウントディスプレイ)、HUD(ヘッドアップディスプレイ)などを挙げることができる。
また、有機EL装置100は、表示部として用いられるだけでなく、例えば有機EL素子112を白色発光が得られる構成として電子機器の照明装置として用いてもよい。
<Electronic equipment>
The organic EL device 100 manufactured using the method for manufacturing the organic EL element 112 of the present invention can be suitably used as a display unit of various electronic devices.
Examples of electronic devices include portable information terminals such as mobile phones, personal computers, PDAs and POS, digital cameras, digital video cameras, car navigation systems, televisions, HMDs (head-mounted displays), HUDs (head-up displays), and the like. be able to.
Further, the organic EL device 100 may be used not only as a display unit, but also as an illumination device for an electronic device, for example, with the organic EL element 112 configured to obtain white light emission.

本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う機能液の吐出方法及び有機EL素子の製造方法ならびに該有機EL素子の製造方法を用いて製造された有機EL素子を適用する有機EL装置や電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist or concept of the invention that can be read from the claims and the entire specification. The technical scope of the present invention also includes a method, a method for manufacturing an organic EL element, and an organic EL device and an electronic apparatus to which the organic EL element manufactured using the method for manufacturing the organic EL element is applied. Various modifications other than the above embodiment are conceivable. Hereinafter, a modification will be described.

(変形例1)上記実施形態の機能液の吐出方法は、有機EL素子112の製造方法に用いることに限定されない。図17(a)はカラーフィルター基板の構成を示す概略平面図、同図(b)はカラーフィルター基板の構造を示す概略断面図である。図17に示すように、カラーフィルター基板200は、ガラスなどの透明な基材201と、基材201に形成された隔壁202と、隔壁202によって区画された機能層形成領域に形成された赤(R)、緑(G)、青(B)の各色に対応した着色層203R,203G,203Bを有している。したがって、色ごとに用意される着色層形成材料を含む機能液を機能層形成領域に塗布する際にも、本実施形態の機能液の吐出方法を適用できる。これにより、所望の膜厚と膜形状を有する着色層203R,203G,203Bを備えたカラーフィルター基板200を製造することができる。   (Modification 1) The method of discharging the functional liquid according to the above embodiment is not limited to the method for manufacturing the organic EL element 112. FIG. 17A is a schematic plan view showing the configuration of the color filter substrate, and FIG. 17B is a schematic sectional view showing the structure of the color filter substrate. As shown in FIG. 17, the color filter substrate 200 includes a transparent base material 201 such as glass, a partition wall 202 formed on the base material 201, and a red ( Colored layers 203R, 203G, and 203B corresponding to the respective colors of R), green (G), and blue (B) are provided. Therefore, the functional liquid ejection method of the present embodiment can also be applied when a functional liquid containing a colored layer forming material prepared for each color is applied to the functional layer forming region. Thereby, the color filter substrate 200 provided with the colored layers 203R, 203G, and 203B having a desired film thickness and film shape can be manufactured.

(変形例2)上記実施形態の機能液の吐出方法では、ワークW上においてマトリックス状に配置された矩形状の機能層形成領域Aの長手方向(X軸方向)に並行するようにノズル列52a,52b(吐出ヘッド50)を配置したが、これに限定されない。例えば、機能層形成領域Aの長手方向(X軸方向)と交差するようにノズル列52a,52bを傾けて配置してもよい。これによれば、主走査における実質的なノズルピッチをさらに狭くして液滴を着弾させることができる。言い換えれば、機能層形成領域Aの面積が小さくなっても、機能層形成領域Aに掛かるノズル数を増やすことができ、本発明の機能液の吐出方法を適用し易くなる。なお、主走査において機能層形成領域Aに掛かるノズル数を少なくとも2つとすれば、本発明の機能液の吐出方法を適用することができる。   (Modification 2) In the functional liquid ejection method of the above embodiment, the nozzle row 52a is parallel to the longitudinal direction (X-axis direction) of the rectangular functional layer forming region A arranged in a matrix on the workpiece W. , 52b (discharge head 50) is disposed, but is not limited thereto. For example, the nozzle rows 52a and 52b may be tilted so as to intersect the longitudinal direction (X-axis direction) of the functional layer formation region A. According to this, the substantial nozzle pitch in the main scanning can be further narrowed to cause the droplets to land. In other words, even if the area of the functional layer formation region A is reduced, the number of nozzles applied to the functional layer formation region A can be increased, and the functional liquid ejection method of the present invention can be easily applied. If the number of nozzles applied to the functional layer formation region A in the main scanning is at least two, the functional liquid ejection method of the present invention can be applied.

(変形例3)上記実施形態の機能液の吐出方法において、1回の主走査で機能層形成領域Aの主走査方向(Y軸方向)に着弾させる液滴の数は、1滴に限定されない。吐出タイミングを変えて複数の液滴を吐出してもよい。これによれば、機能層形成領域Aに所定量の機能液を塗布する主走査の回数を減らすことができる。   (Modification 3) In the functional liquid ejection method of the above embodiment, the number of liquid droplets to be landed in the main scanning direction (Y-axis direction) of the functional layer forming region A in one main scanning is not limited to one. . A plurality of droplets may be discharged at different discharge timings. According to this, the number of main scans for applying a predetermined amount of functional liquid to the functional layer forming region A can be reduced.

(変形例4)上記実施形態の機能液の吐出方法において、機能層形成領域Aの形状及び配置は、これに限定されない。例えば、ストライプ方式の配置だけでなく、モザイク方式やデルタ方式の配置においても適用できる。   (Modification 4) In the functional liquid ejection method of the above embodiment, the shape and arrangement of the functional layer formation region A are not limited to this. For example, the present invention can be applied not only to the stripe type arrangement but also to the mosaic type or delta type arrangement.

(変形例5)上記実施形態の機能液の吐出方法において、時分割駆動を実現する駆動波形PL1,PL2,PL3の構成は、これに限定されない。例えば、2種類の波形構成としても時分割駆動は可能である。   (Modification 5) In the functional liquid ejection method of the above-described embodiment, the configuration of the drive waveforms PL1, PL2, and PL3 for realizing time-division driving is not limited to this. For example, time-division driving is possible even with two types of waveform configurations.

(変形例6)上記実施形態における吐出装置10の構成は、これに限定されない。例えば、ヘッドプレート9aに搭載される吐出ヘッド50の配置は、吐出される機能液の種類によってその配置を変えてもよい。   (Modification 6) The configuration of the ejection device 10 in the above embodiment is not limited to this. For example, the arrangement of the ejection heads 50 mounted on the head plate 9a may be changed depending on the type of functional liquid to be ejected.

50…吐出ヘッド、52…ノズル、90R,90G,90B…発光層形成材料を含む機能液、100…有機EL装置、101…基板としての素子基板、112…有機EL素子、132r,132g,132b…発光層、132R,132G,132B…機能層、133…隔壁、A,A1,A2…機能層形成領域。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 50 ... Discharge head, 52 ... Nozzle, 90R, 90G, 90B ... Functional liquid containing light emitting layer forming material, 100 ... Organic EL device, 101 ... Element substrate as a substrate, 112 ... Organic EL element, 132r, 132g, 132b ... Light emitting layer, 132R, 132G, 132B ... functional layer, 133 ... partition, A, A1, A2 ... functional layer forming region.

Claims (9)

複数のノズルを有する吐出ヘッドを機能層形成領域に対して相対的に移動させる複数回の走査の間に、前記機能層形成領域に掛かる少なくとも2つのノズルを含むノズル群から機能層形成材料を含む機能液を液滴として吐出する機能液の吐出方法であって、
前記ノズル群のうち少なくとも1つのノズルを非選択として、選択されるノズル数を前記走査ごとに同数とすることを特徴とする機能液の吐出方法。
A functional layer forming material is included from a nozzle group including at least two nozzles applied to the functional layer forming region during a plurality of scans in which a discharge head having a plurality of nozzles is moved relative to the functional layer forming region. A functional liquid ejection method for ejecting functional liquid as droplets,
A functional liquid ejection method, wherein at least one nozzle in the nozzle group is not selected, and the same number of nozzles is selected for each scan.
前記走査ごとに前記ノズル群から同一のノズルを選択することを特徴とする請求項1に記載の機能液の吐出方法。   The functional liquid ejection method according to claim 1, wherein the same nozzle is selected from the nozzle group for each scanning. 前記液滴の吐出が適正に行われない不良ノズルを前記非選択のノズルとすることを特徴とする請求項1又は2に記載の機能液の吐出方法。   The functional liquid ejection method according to claim 1, wherein a defective nozzle that does not properly eject the liquid droplets is used as the non-selected nozzle. 前記複数回の走査の間に、前記ノズル群のうち選択されるノズルを変えることを特徴とする請求項1に記載の機能液の吐出方法。   The functional liquid ejection method according to claim 1, wherein a nozzle selected from the nozzle group is changed during the plurality of scans. 前記機能層形成領域を囲む隔壁を有し、前記ノズル群のうち前記隔壁際のノズルは選択とすることを特徴とする請求項1又は2、4に記載の機能液の吐出方法。   The functional liquid ejection method according to claim 1, further comprising a partition wall surrounding the functional layer forming region, wherein a nozzle at the partition wall is selected from the nozzle group. 基板上の機能層形成領域に発光層を含む機能層を有する有機EL素子の製造方法であって、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の機能液の吐出方法を用い、機能層形成材料を含む機能液を前記機能層形成領域に吐出する工程と、
吐出された前記機能液を固化して前記機能層のうちの少なくとも1層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
A method for producing an organic EL element having a functional layer including a light emitting layer in a functional layer forming region on a substrate,
A step of discharging a functional liquid containing a functional layer forming material to the functional layer forming region using the functional liquid discharging method according to claim 1;
And a step of solidifying the discharged functional liquid to form at least one of the functional layers. A method for manufacturing an organic EL element, comprising:
発光層形成材料を含む前記機能液を前記機能層形成領域に吐出して、前記機能層のうち前記発光層を形成することを特徴とする請求項6に記載の有機EL素子の製造方法。   The method for producing an organic EL element according to claim 6, wherein the functional liquid containing a light emitting layer forming material is discharged to the functional layer forming region to form the light emitting layer in the functional layer. 請求項6又は7に記載の有機EL素子の製造方法を用いて製造された有機EL素子を備えたことを特徴とする有機EL装置。   An organic EL device comprising the organic EL element manufactured using the method for manufacturing an organic EL element according to claim 6. 請求項8に記載の有機EL装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the organic EL device according to claim 8.
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