JP2013175563A

JP2013175563A - ウエハステージの洗浄装置およびウエハステージの洗浄方法

Info

Publication number: JP2013175563A
Application number: JP2012038673A
Authority: JP
Inventors: Hideo Eto; 英雄江藤; Makoto Saito; 誠齋藤
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 2012-02-24
Filing date: 2012-02-24
Publication date: 2013-09-05

Abstract

【課題】ウエハステージの上面の溝の目詰まりを防止する。
【解決手段】本実施形態のウエハステージの洗浄装置は、ウエハステージの上面に接触して研磨するクリーニングストーンを有する研磨機構と、前記ウエハステージの上面にドライアイスを吹き付けるドライアイス吹き付け機構とを備え、前記ウエハステージの上面にドライアイスを吹き付けながら、前記ウエハステージの上面を前記クリーニングストーンにより研磨可能なように構成されている。
【選択図】図２

Description

本発明の実施形態は、ウエハステージの洗浄装置およびウエハステージの洗浄方法に関する。

露光装置によって露光する場合や、ＲＩＥ（reactive ion etching）装置によってＲＩＥする場合、ウエハステージ上にウエハを載置固定して露光処理やＲＩＥ処理を実行する。ウエハステージの上面に塵やごみ等の異物が付着することがあり、ウエハステージ上にウエハを載置したときに上記異物によりウエハの平面度が悪化して、露光処理やＲＩＥ処理が良好に実行されないことがあった。

そこで、従来より、所定の間隔でウエハステージの上面に付着した異物を除去する洗浄処理を実行するようにしている。この洗浄処理では、クリーニングストーン（砥石、例えば御影石）を用いてウエハステージの上面を拭く（磨く）ことにより上記異物を除去している。クリーニングストーンでウエハステージの上面を拭く場合、作業者が手でクリーニングストーンを動かしたり、ロボットでクリーニングストーンを動かしたりしている。

しかし、ウエハステージの上面には、多数のエンボスが形成されていると共に、溝（凹部）が形成されているため、上記クリーニングストーンを用いる洗浄を行うと、ウエハステージの上面の溝内に付着物（異物）が溜まり、溝が目詰まりすることがあった。ウエハステージの上面の溝の目詰まりが発生すると、露光時にデフォーカス等の露光不良が発生するおそれがあった。

特開平８−１１５８６８号公報

そこで、ウエハステージの上面の溝の目詰まりを防止することができるウエハステージの洗浄装置およびウエハステージの洗浄方法を提供する。

本実施形態のウエハステージの洗浄装置は、ウエハステージの上面に接触して研磨するクリーニングストーンを有する研磨機構と、前記ウエハステージの上面にドライアイスを吹き付けるドライアイス吹き付け機構とを備え、前記ウエハステージの上面にドライアイスを吹き付けながら、前記ウエハステージの上面を前記クリーニングストーンにより研磨可能なように構成されたところに特徴を有する。

本実施形態のウエハステージの洗浄方法は、ウエハステージの上面にドライアイスを吹き付けながら、前記ウエハステージの上面をクリーニングストーンにより研磨し、前記ウエハステージの上面上の空気及び洗浄により除去された異物を吸引する第１の洗浄運転と、前記ウエハステージの上面から前記クリーニングストーンを離間させた状態で、前記ウエハステージの上面に前記ドライアイスを吹き付けて洗浄し、前記ウエハステージの上面上の空気及び洗浄により除去された異物を吸引する第２の洗浄運転とを備えたところに特徴を有する。

第１実施形態を示す露光装置の概略構成の斜視図洗浄装置の概略構成を示す断面図及び斜視図（ａ）は第１の洗浄運転を説明する断面図、（ｂ）は第２の洗浄運転を説明する断面図第２実施形態を示す図３（ｂ）相当図

以下、複数の実施形態について、図面を参照して説明する。尚、各実施形態において、実質的に同一の構成部位には同一の符号を付し、説明を省略する。但し、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なる。

（第１実施形態）
図１は、本実施形態の露光装置１の概略構成を示す斜視図である。この図１に示すように、露光装置１は、移動ステージ２と、ウエハステージ３と、投影光学系４と、光源５と、レチクル６及びレチクルホルダ７と、レーザー干渉計８、９とを含んだ構成となっている。

光源５から射出された露光用の光は、回路パターン等が描かれたパターン領域を有するレチクル６をほぼ均一な照度で照明する。レチクル６は、レチクルホルダ７上に保持されている。レチクルホルダ７は、レチクル６のパターン領域の中心（レチクルセンター）が投影光学系４の光軸を通るようにレチクル６の位置決めを行う。

レチクル６のパターンの縮小像が投影光学系４を介してフォトレジストが塗布されたウエハＷ上に結像投影される。ウエハＷは、表面が投影光学系４の結像面と平行に設定されたウエハステージ３上に真空吸着される。前記移動ステージ２は、Ｚステージ１０、Ｘステージ１１及びＹステージ１２を備える。

ウエハステージ３は、上記光軸方向に上下動可能なＺステージ１０上に取付けられる。Ｚステージ１０は、Ｘ方向に直線移動可能なＸステージ１１上に設けられる。このＸステージ１１は、Ｘ方向と直交するＹ方向に直線移動可能なＹステージ１２上に設けられる。Ｘステージ１１及びＹステージ１２によってウエハＷはＸＹ平面内で２次元移動し、Ｚステージ１０によって焦点合わせのための上下動を行う。Ｘステージ１１の移動は駆動部１３によって行われ、Ｙステージ１２の移動は駆動部１４によって行われる。

また、Ｚステージ１０の直交する２辺には移動鏡１５及び１６が設けられ、レーザー干渉計８からＸ方向に射出された平行な２本のレーザービーム（図示しない）は、それぞれ投影光学系４の固定鏡（図示しない）及びＹ方向に伸びた移動鏡１５に垂直に入射する。レーザー干渉計９からＹ方向に射出された平行な２本のレーザービーム（図示しない）は、それぞれ投影光学系４の固定鏡（図示しない）及びＸ方向に伸びた移動鏡１６に垂直に入射する。これらレーザー干渉計８及び９によってウエハＷの２次元的な位置（座標）が計測される。

また、投影光学系４の露光フィールド内にウエハＷが位置したとき、ウエハＷの表面のＺ方向（光軸方向）の位置を検出するために、斜入射方式の焦点検出系（図示しない）が設けられている。更に、ウエハＷの表面の凹凸の分布を求める検出系（図示しない）が設けられている。また、露光装置１全体を制御するための制御装置（図示しない）が設けられている。

さて、ウエハステージ３の上面を清掃（洗浄）する場合、Ｘステージ１１及びＹステージ１２を駆動してＺステージ１０を移動させて、ウエハステージ３（Ｚステージ１０）を清掃位置に移動させる。そして、ウエハステージ３を清掃位置に位置させた状態で、図２に示す洗浄装置１７を用いてウエハステージ３の上面を洗浄する。ここで、洗浄装置１７について、図２を参照して説明する。

洗浄装置１７は、図２に示すように、洗浄装置本体（研磨機構）１８と、ドライアイスブラスト洗浄機１９と、吸引機２０とを含んで構成されている。洗浄装置本体１８は、下面が開口した有底短円筒状（カップ状）の外ケース２１と、この外ケース２１内に所定の間隙を介して設けられ下面が開口した有底短円筒状（カップ状）の内ケース２２と、この内ケース２２内に取り付けられたクリーニングストーン２３とを有する。

外ケース２１の上面部の中心部には、貫通孔２１ａが形成されている。外ケース２１と内ケース２２との間の隙間が、吸引流路２５を構成している。内ケース２２の上面部の中心部には、貫通孔２２ａが形成されると共に、この貫通孔２２ａに連通するように径小な円筒状の連結用筒部２６が突設されている。径小な連結用筒部２６は、外ケース２１の径大な貫通孔２１ａの内部に同心状に配置されている。外ケース２１の周壁部２１ｂの下端には、リング状の封止ゴム２７が取り付けられている。

クリーニングストーン２３の中心部には、内ケース２２の貫通孔２２ａよりも径大な貫通孔２３ａが形成され、この貫通孔２３ａの下端部には徐々に径大となるテーパー部２３ｂが形成されている。クリーニングストーン２３の内部には、ヒータ２８が埋設されている。クリーニングストーン２３の貫通孔２３ａの内部には、粒状のドライアイス（直径が例えば０．３〜３ｍｍ程度のドライアイス）を細かく粉状に粉砕するディフューザー２９が配設されている。ディフューザー２９は、例えば金属製のメッシュで構成されている。

尚、クリーニングストーン２３は、ウエハステージ３よりも少し柔らかい材料であって、摩擦帯電で異物（ダスト）が吸着しない電気伝導率が高い材料で形成されている。例えば、ウエハステージ３がＳｉＣで形成されている場合には、クリーニングストーン２３はＺｒＢ_２で形成されていることが好ましい。また、ウエハステージ３がＡｌ_２Ｏ_３で形成されている場合には、クリーニングストーン２３は（Ｓｉ_３Ｎ_４＋微量のＴｉＯ_２）で形成されていることが好ましい。

また、クリーニングストーン２３の下面は、平面状に形成されているが、例えば１〜１０μｍ程度の大きさの凹凸部３ｃが存在する。尚、凹凸部３ｃの大きさは、例えば１００μｍ以下であることが好ましい。また、ウエハステージ３の上面には、例えば数十μｍ〜数ｍｍ程度の大きさのエンボス３ａが多数形成されている。この構成の場合、クリーニングストーン２３の下面の凹凸部３ｃの大きさは、ウエハステージ３のエンボス３ａの大きさよりも小さい。また、外ケース２１の封止ゴム２７の下端の位置は、クリーニングストーン２３の下面の位置よりも若干上に位置するように構成されている。

一方、ドライアイスブラスト洗浄機１９は、粒状のドライアイスを貯留する貯留部（図示しない）と、粒状のドライアイスを空気と一緒に送出する送風装置（図示しない）とを備える。ドライアイスブラスト洗浄機１９のドライアイス送出部１９ａには、送出ホース３０の一端部が接続されている。送出ホース３０の他端部は、２重筒状のホース３１の内側ホース３１ａ内に連通するように接続されている。

吸引機２０は、空気を吸引するポンプ（図示しない）を備えており、その空気吸引部２０ａには、吸引ホース３２の一端部が接続されている。吸引ホース３２の他端部は、２重筒状のホース３１の外側ホース３１ｂ内に連通するように接続されている。

そして、２重筒状のホース３１の他端部には、連結部材３３が取り付けられており、ホース３１の他端部は、連結部材３３を介して洗浄装置本体１８の外ケース２１の貫通孔２１ａ及び内ケース２２の連結用筒部２６に接続される。この場合、２重筒状のホース３１の内側ホース３１ａを連結用筒部２６に接続し、外側ホース３１ｂを外ケース２１の貫通孔２１ａに接続する。

上記構成においては、ドライアイスブラスト洗浄機１９から粒状のドライアイスを送出すると、粒状のドライアイスは、送出ホース３０及び２重筒状のホース３１の内側ホース３１ａを通り、連結用筒部２６を通り、ディフューザー２９により粉砕され、粉砕されたドライアイスは、クリーニングストーン２３の貫通孔２３ａのテーパー部２３ｂから下方へ吐出され、ウエハステージ３の上面に吹き付けられる。この構成の場合、ドライアイスブラスト洗浄機１９、送出ホース３０、２重筒状のホース３１の内側ホース３１ａ、連結用筒部２６、ディフューザー２９、クリーニングストーン２３の貫通孔２３ａ、テーパー部２３ｂ等からドライアイス吹き付け機構が構成される。

そして、吸引機２０を吸引動作させると、ウエハステージ３の上面上の空気及び異物（吹き付けられたドライアイスにより清掃された異物（ダスト））は、外ケース２１と内ケース２２の間の吸引流路２５の下端開口から該吸引流路２５内へ吸引される。そして、吸引された空気及び異物は、外ケース２１の貫通孔２１ａを通り、２重筒状のホース３１の外側ホース３１ｂ及び吸引ホース３２を通り、吸引機２０内に吸引される。この構成の場合、吸引流路２５、外ケース２１の貫通孔２１ａ、２重筒状のホース３１の外側ホース３１ｂ、吸引ホース３２、吸引機２０等から吸引機構が構成される。

また、上記した構成の洗浄装置１７によってウエハステージ３を洗浄する場合、洗浄装置本体１８をウエハステージ３の上面上に載せて該上面上で水平方向（ＸＹ方向）または上下方向（Ｚ方向）に移動させて洗浄を実行する。この場合、洗浄装置本体１８の移動操作は、作業者が手操作で実行しても良いし、ロボット（例えばアーム型ロボット）によって洗浄装置本体１８を移動操作するように構成しても良い。

ここで、上記洗浄装置本体１８によってウエハステージ３の上面を洗浄する方法について、図３を参照して説明する。まず、図３（ａ）に示すように、洗浄装置本体１８をウエハステージ３の上面上に載せると共に、ドライアイスブラスト洗浄機１９を動作させ、粒状のドライアイスを送出ホース３０、２重筒状のホース３１の内側ホース３１ａ及び連結用筒部２６を通して送出する。これにより、粒状のドライアイスは、ディフューザー２９により粉砕され、粉砕されたドライアイスは、クリーニングストーン２３の貫通孔２３ａのテーパー部２３ｂから下方へ吐出され、ウエハステージ３の上面に吹き付けられる。このとき、同時に吸引機２０を動作させ、ウエハステージ３の上面上及び周辺の空気（及びダスト）を、吸引流路２５内へ吸引し、外ケース２１の貫通孔２１ａ、２重筒状のホース３１の外側ホース３１ｂ及び吸引ホース３２を通し、吸引機２０内に吸引する。

そして、上記状態で、洗浄装置本体１８をウエハステージ３上で水平方向に移動させることにより、クリーニングストーン２３の下面により、ウエハステージ３の上面、即ち、エンボス３ａの上面を研磨して洗浄する。このとき、クリーニングストーン２３による研磨と同時に、粉砕されたドライアイスがウエハステージ３の上面に吹き付けられることから、エンボス３ａの上面並びにエンボス３ａ間の溝の内部が上記ドライアイスの吹き付けにより洗浄される。そして、クリーニングストーン２３による研磨洗浄並びにドライアイスの吹き付け洗浄により生じた異物（ダスト）は、吸引流路２５、外ケース２１の貫通孔２１ａ、２重筒状のホース３１の外側ホース３１ｂ及び吸引ホース３２を通り、吸引機２０内に吸引される。この場合、外ケース２１の周壁部２１ｂの下端に封止ゴム２７が設けられているから、上記洗浄により生じた異物が洗浄装置本体１８の外部へ漏れることを極力防止できる。

次に、クリーニングストーン２３による研磨を止め、ドライアイスの吹き付けだけで洗浄する方法について述べる。この場合、図３（ｂ）に示すように、ウエハステージ３の上面上に載せた洗浄装置本体１８を上方へ若干移動させ、クリーニングストーン２３とウエハステージ３との間に所定距離のギャップを設ける。そして、ドライアイスブラスト洗浄機１９及び吸引機２０を動作させて、ドライアイスをウエハステージ３の上面に吹き付けて洗浄する。このとき、上記ギャップを設けたまま、洗浄装置本体１８を水平方向に移動させて、ウエハステージ３の上面全体にドライアイスを吹き付けて洗浄する。尚、ドライアイスの吹き付け洗浄により生じた異物（ダスト）は、周辺の空気とともに吸引機２０内に吸引する。尚、図３（ｂ）に示すドライアイスの吹き付け洗浄を実行する場合、ウエハステージ３の上面、即ち、エンボス３ａの上面及びエンボス３ａ間の溝の内面（溝の目詰まり）が洗浄されると共に、ウエハステージ３の上面で反射したドライアイスがクリーニングストーン２３の下面にも吹き付けられるから、クリーニングストーン２３の下面についてもドライアイスの吹き付け洗浄が実行される。これにより、クリーニングストーン２３の下面の凹凸部２３ｃの目詰まりが洗浄される。

また、本実施形態では、図３（ａ）に示す洗浄方法と、図３（ｂ）に示す洗浄方法とを交互に繰り返すようにしている。更に、図３（ｂ）に示す洗浄方法を実行するときには、クリーニングストーン２３とウエハステージ３との間のギャップの大きさを可変させることが好ましい。

尚、上記したようにしてドライアイスを吹き付けて洗浄している間は、クリーニングストーン２３内のヒータ２８を適宜通電制御して発熱させることにより、ウエハステージ３の上面等を加熱して該上面等に結露が発生することを防止する。

ここで、ドライアイスを吹き付けて洗浄する方法の洗浄作用について簡単に説明する。粉砕された粉状のドライアイスを高速でウエハステージ３の上面に吹き付けると、ドライアイスがウエハステージ３の上面に付着した付着物（異物）に接触し、その接触の衝撃力により付着物が破壊され、剥離される。また、低温（−７９℃）のドライアイスが付着物に接触することから、付着物にサーマルショック（熱収縮）が作用し、付着物が割れて分解し、剥離されるという効果もある。更に、剥離した付着物とウエハステージ３との間にドライアイスが入りこみ、その後、ドライアイスが気化すると、体積が急激に膨張（７５０倍）するため、付着物の剥離が促進される。更にまた、ドライアイスによってウエハステージ３の表面が傷付くことがないという効果も奏する。

このような構成の本実施形態によれば、ウエハステージ３の上面にドライアイスを吹き付けながら、ウエハステージ３の上面をクリーニングストーンにより研磨して洗浄するように構成したので、ウエハステージ３の上面の溝の目詰まりを防止することができる。

また、上記実施形態では、ウエハステージ３の上面にドライアイスを吹き付けながら、ウエハステージ３の上面をクリーニングストーンにより研磨して洗浄するときに、ウエハステージ３の上面上及び周辺の空気及び異物（ダスト）を、吸引流路２５内へ吸引し、外ケース２１の貫通孔２１ａ、２重筒状のホース３１の外側ホース３１ｂ及び吸引ホース３２を通し、吸引機２０内に吸引するように構成したので、洗浄により生じた異物が洗浄装置本体１８の外部へ漏れることを極力防止できる。

更に、本実施形態では、図３（ｂ）に示すようにして、ドライアイスの吹き付け洗浄を実行する場合、ウエハステージ３の上面、即ち、エンボス３ａの上面及びエンボス３ａ間の溝の内面（溝の目詰まり）を洗浄できると共に、ウエハステージ３の上面で反射したドライアイスがクリーニングストーン２３の下面にも吹き付けられることから、クリーニングストーン２３の下面の凹凸部２３ｃの内面（凹凸部２３ｃの目詰まり）を洗浄することができる。

また、上記実施形態では、図３（ａ）に示す洗浄方法（ドライアイスの吹き付け洗浄及びクリーニングストーン２３による研磨洗浄を行う）と、図３（ｂ）に示す洗浄方法（ドライアイスの吹き付け洗浄を行う）とを交互に繰り返すように構成したので、ウエハステージ３の上面を洗浄ができると共に、クリーニングストーン２３の下面を洗浄でき、更に、ウエハステージ３の上面の溝の目詰まりを防止できる。

更にまた、上記実施形態では、クリーニングストーン２３を、ウエハステージ３よりも少し柔らかい材料であって、摩擦帯電で異物（ダスト）が吸着しない電気伝導率が高い材料で形成したので、クリーニングストーン２３で研磨するときに、クリーニングストーン２３の下面から微小な欠けが発生しても、この欠けによりウエハステージ３の上面が傷付くことを防止でき、また、異物（ダスト）がクリーニングストーン２３に静電吸着することを防止できる。

（第２実施形態）
図４は、第２実施形態を示すものである。尚、第１実施形態と同一構成には、同一符号を付している。この第２実施形態では、図４に示すように、クリーニングストーン２３にヒータ２８を埋設することを止め、代わりに、赤外線ランプ３４を内ケース２２内に配設した。

具体的には、内ケース２２の周壁部の内部における複数箇所に複数個の赤外線ランプ３４を断熱材３５を介して取り付けている。これら赤外線ランプ３４から発光された赤外線は、ウエハステージ３の上面に照射されることにより、ウエハステージ３の上面等が加熱され、該上面等に結露が発生することを防止できる。

尚、上述した以外の第２実施形態の構成は、第１実施形態とほぼ同じ構成となっている。従って、第２実施形態においても、第１実施形態とほぼ同様な作用効果を得ることができる。

（その他の実施形態）
以上説明した複数の実施形態に加えて以下のような構成を採用しても良い。
上記した各実施形態では、外ケース２１の周壁部の下端に封止ゴム２７を設けたが、封止ゴム２７を省いても良い。また、各実施形態では、２重筒状のホース３１を用いたが、これに限られるものではなく、２本のホースを横に並べて一体化したホースを用いても良いし、ばらばらの２本のホースを用いても良い。このように構成する場合には、外ケース２１に径大な貫通孔２１ａを形成することを止め、内ケース２２の貫通孔２２ａ及び連結用筒部２６とほぼ同じ構成の貫通孔及び連結用筒部を、外ケース２１に吸引流路２５内と連通するように形成し、該連結用筒部と吸引機２０（の空気吸引部２０ａ）とをホースで接続するように構成すれば良い。

また、上記各実施形態では、吸引機構を設けたが、吸引機構を省いても良い。更に、上記各実施形態では、ヒータ２８や赤外線ランプ３４を設けたが、これに限られるものではなく、他の加熱装置を設けても良い。

更にまた、上記各実施形態では、露光装置１のウエハステージ３を洗浄する構成に適用したが、これに代えて、ＲＩＥ（reactive ion etching）装置のウエハステージを洗浄する構成に適用しても良い。

以上のように、本実施形態の洗浄装置によると、ウエハステージの上面にドライアイスを吹き付けながら、ウエハステージの上面をクリーニングストーンにより研磨するように構成したので、ウエハステージの上面の溝の目詰まりを防止することができる。

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

図面中、３はウエハステージ、４は投影光学系、１７は洗浄装置、１８は洗浄装置本体（研磨機構）、１９はドライアイスブラスト洗浄機、２０は吸引機、２１は外ケース、２２は内ケース、２３はクリーニングストーン、２５は吸引流路、２７は封止ゴム、２８はヒータ、２９はディフューザー、３４は赤外線ランプである。

Claims

ウエハステージの上面に接触して研磨するクリーニングストーンを有する研磨機構と、
前記ウエハステージの上面にドライアイスを吹き付けるドライアイス吹き付け機構と、
前記ウエハステージの上面上の空気及び洗浄により除去された異物を吸引する吸引機構とを備え、
前記研磨機構は、前記クリーニングストーンを収容するカップ状の内ケースを備え、
前記ドライアイス吹き付け機構は、前記内ケースの底部に形成された第１の貫通孔と、前記クリーニングストーンに形成され前記第１の貫通孔と連通する第２の貫通孔とを備え、前記ドライアイスを前記第１の貫通孔及び前記第２の貫通孔を通して吹き出すように構成され、
前記第２の貫通孔内には、前記ドライアイスを粉砕するディフューザーが配設され、
前記吸引機構は、前記内ケースを覆うように設けられたカップ状の外ケースを備え、前記外ケースと前記内ケースとの間にもうけられた吸引流路を通して吸引するように構成され、そして、
前記クリーニングストーンまたは前記内ケースに配設され、前記ウエハステージの上面を加熱する加熱手段を備えたことを特徴とするウエハステージの洗浄装置。
ウエハステージの上面に接触して研磨するクリーニングストーンを有する研磨機構と、
前記ウエハステージの上面にドライアイスを吹き付けるドライアイス吹き付け機構とを備え、
前記ウエハステージの上面にドライアイスを吹き付けながら、前記ウエハステージの上面を前記クリーニングストーンにより研磨可能なように構成されたウエハステージの洗浄装置。
前記ウエハステージの上面上の空気及び洗浄により除去された異物を吸引する吸引機構を備えたことを特徴とする請求項２記載のウエハステージの洗浄装置。
前記研磨機構は、前記クリーニングストーンを収容するカップ状の内ケースを備え、
前記ドライアイス吹き付け機構は、前記内ケースの底部に形成された第１の貫通孔と、前記クリーニングストーンに形成され前記第１の貫通孔と連通する第２の貫通孔とを備え、前記ドライアイスを前記第１の貫通孔及び前記第２の貫通孔を通して吹き出すように構成されていることを特徴とする請求項２または３記載のウエハステージの洗浄装置。
前記第２の貫通孔内には、前記ドライアイスを粉砕するディフューザーが配設されていることを特徴とする請求項４記載のウエハステージの洗浄装置。
前記吸引機構は、前記内ケースを覆うように設けられたカップ状の外ケースを備え、前記外ケースと前記内ケースとの間にもうけられた吸引流路を通して吸引することを特徴とする請求項３記載のウエハステージの洗浄装置。
前記クリーニングストーンまたは前記内ケースに配設され、前記ウエハステージの上面を加熱する加熱手段を備えたことを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに記載のウエハステージの洗浄装置。
ウエハステージの上面にドライアイスを吹き付けながら、前記ウエハステージの上面をクリーニングストーンにより研磨し、前記ウエハステージの上面上の空気及び洗浄により除去された異物を吸引する第１の洗浄運転と、
前記ウエハステージの上面から前記クリーニングストーンを離間させた状態で、前記ウエハステージの上面に前記ドライアイスを吹き付けて洗浄し、前記ウエハステージの上面上の空気及び洗浄により除去された異物を吸引する第２の洗浄運転と
を備えたことを特徴とするウエハステージの洗浄方法。