JP2013167902A - Manufacturing method of liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent reduction of reliability of a seal portion resulting from degradation of an overcoat film in a portion having no alignment layer by ultraviolet radiation in optical alignment treatment in an IPS type liquid crystal display device.SOLUTION: In an IPS type liquid crystal display device, a light shielding film 202, a red color filter 201R, an overcoat film 203, and an alignment film 113 are formed in this order on a counter substrate 200. However, the alignment film 113 is not formed in a seal portion. When the alignment film 113 is subjected to photo-alignment with ultraviolet radiation, a portion of an overcoat film 2031 not covered with the alignment film 113 is degraded by the ultraviolet radiation. In order to prevent moisture penetrating from the degraded overcoat film 2031 from reaching the light shielding film 202 to alter the light shielding film 202 and from causing peeling of the light shielding film 202, the red color filter 201R is disposed below the overcoat film 203 to block the moisture.

Description

本発明は表示装置に係り、特に、シール部の信頼性を改善した、IPS方式の液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a display device, and more particularly to an IPS liquid crystal display device in which the reliability of a seal portion is improved.

液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ(TFT)等がマトリクス状に形成されたTFT基板と、TFT基板に対向して、TFT基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板が設置され、TFT基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。   In a liquid crystal display device, there are a TFT substrate in which pixel electrodes and thin film transistors (TFTs) are formed in a matrix, and a counter substrate in which color filters are formed at locations corresponding to the pixel electrodes of the TFT substrate, facing the TFT substrate. The liquid crystal is sandwiched between the TFT substrate and the counter substrate. An image is formed by controlling the light transmittance of the liquid crystal molecules for each pixel.

液晶表示装置はフラットで軽量であることから、TV等の大型表示装置から、携帯電話やDSC(Digital Still Camera)等の小型の表示装置まで、色々な分野で用途が広がっている。一方、液晶表示装置では視野角特性が問題である。視野角特性は、画面を正面から見た場合と、斜め方向から見た場合に、輝度が変化したり、色度が変化したりする現象である。視野角特性は、液晶分子を水平方向の電界によって動作させるIPS(In Plane Switching)方式が優れた特性を有している。   Since the liquid crystal display device is flat and lightweight, its application is expanding in various fields from a large display device such as a TV to a small display device such as a mobile phone and a DSC (Digital Still Camera). On the other hand, viewing angle characteristics are a problem in liquid crystal display devices. The viewing angle characteristic is a phenomenon in which luminance changes or chromaticity changes when the screen is viewed from the front and when viewed from an oblique direction. The viewing angle characteristic is excellent in an IPS (In Plane Switching) system in which liquid crystal molecules are operated by a horizontal electric field.

IPS方式では、配向膜付近の液晶分子に対してプレティルト角を形成する必要がない。このため、配向膜に対する配向軸の形成を、ラビング方式によらず、光配向方式によって行うことが出来る。光配向は、ラビング方式に比べて、静電気の発生が無い等の利点を有している。   In the IPS system, it is not necessary to form a pretilt angle for the liquid crystal molecules in the vicinity of the alignment film. For this reason, the alignment axis can be formed on the alignment film by the photo-alignment method, not by the rubbing method. The photo-alignment has advantages such as no generation of static electricity compared to the rubbing method.

光配向は、配向膜に偏光した紫外線を照射することによって、配向膜に対し所定の方向に液晶分子を配向させるような異方性をもたせるものである。このような光配向に関する技術を記載したものとして、「特許文献1」が挙げられる。   In the photo-alignment, the alignment film is irradiated with polarized ultraviolet rays so that the alignment film has anisotropy to align liquid crystal molecules in a predetermined direction. “Patent Document 1” is mentioned as a technique describing such a technique relating to photo-alignment.

特開2005−351924号公報JP-A-2005-351924

光配向は、ポリマーで形成された配向膜に対して特定の方向に偏光した紫外線を照射することによって行われる。例えば、網目状に形成されたポリマーに対して、偏光した紫外線を照射すると、紫外線の偏光方向に対する特定の方向のポリマーが破壊される。これによって、配向膜に液晶分子を配向させるための異方性を形成することが出来る。光配向させる偏光紫外線が配向膜のみに照射されるのであれば、問題は無いが、配向膜以外の部分に照射されると、照射された部分が紫外線によって劣化し、問題を生ずる。   Photo-alignment is performed by irradiating an alignment film formed of a polymer with ultraviolet rays polarized in a specific direction. For example, when a polymer formed in a network is irradiated with polarized ultraviolet rays, the polymer in a specific direction with respect to the polarization direction of the ultraviolet rays is destroyed. Thereby, anisotropy for aligning liquid crystal molecules in the alignment film can be formed. There is no problem if the polarized ultraviolet light to be photo-aligned is irradiated only to the alignment film, but if the portion other than the alignment film is irradiated, the irradiated portion deteriorates due to the ultraviolet light, causing a problem.

IPS方式の液晶表示装置は、小型の液晶表示装置についても使用されている。小型の液晶表示装置は、1個ずつ製作したのでは、効率が悪いので、マザー基板に多数の液晶表示装置を形成し、多数の液晶表示装置を同時に製造することが行われる。   IPS liquid crystal display devices are also used for small liquid crystal display devices. If small liquid crystal display devices are manufactured one by one, the efficiency is poor. Therefore, a large number of liquid crystal display devices are formed on a mother substrate, and a large number of liquid crystal display devices are manufactured simultaneously.

図13は、マザー基板に35枚の小型の液晶表示セル1が作られている例である。TFTや画素電極を有するTFT基板100が多数形成されたマザーTFT基板1000とカラーフィルタ等が形成された対向基板200が多数形成されたマザー対向基板2000を貼り合わせる。マザーTFT基板1000とマザー対向基板2000はシール材15およびマザー基板シール材151で接着される。図13において、シール材15で囲まれた斜線を施した長方形は配向膜113が形成される範囲を示している。   FIG. 13 shows an example in which 35 small liquid crystal display cells 1 are formed on a mother substrate. A mother TFT substrate 1000 on which a large number of TFTs and TFT substrates 100 having pixel electrodes are formed is bonded to a mother counter substrate 2000 on which a large number of counter substrates 200 on which color filters and the like are formed. The mother TFT substrate 1000 and the mother counter substrate 2000 are bonded together with the sealing material 15 and the mother substrate sealing material 151. In FIG. 13, the hatched rectangle surrounded by the sealing material 15 indicates the range in which the alignment film 113 is formed.

小型の液晶表示装置は薄いことが要求されており、例えば、TFT基板および対向基板の板厚は0.2mm程度の薄さになる。しかし、このような薄いガラスは規格品としては存在しない。また、このような薄いガラス基板を工程内に通すことは現状では不可能である。したがって、マザー対向基板2000あるいはマザーTFT基板1000の状態では、板厚が0.5mm程度の厚さのガラスを用い、マザー対向基板2000とマザーTFT基板1000を貼り合わせてマザー基板にした後、マザー対向基板2000あるいはマザーTFT基板1000の外側を研磨する。   Small liquid crystal display devices are required to be thin. For example, the thicknesses of the TFT substrate and the counter substrate are as thin as about 0.2 mm. However, such a thin glass does not exist as a standard product. In addition, it is impossible to pass such a thin glass substrate through the process. Therefore, in the state of the mother counter substrate 2000 or the mother TFT substrate 1000, glass having a thickness of about 0.5 mm is used, and the mother counter substrate 2000 and the mother TFT substrate 1000 are bonded to form a mother substrate, and then the mother substrate is used. The outside of the counter substrate 2000 or the mother TFT substrate 1000 is polished.

研磨は機械研磨と化学研磨を併用して行われることが多い。機械研磨にせよ化学研磨にせよ、研磨剤がマザー基板の内部に侵入すると、内部の液晶セル1が不良になるので、マザー基板シール材151によってマザー基板の内部を保護する。マザー基板周辺に形成されたマザー基板シール材151は、マザー基板封止材161によって封止される。図13に示すマザー基板は、研磨後、各液晶セルに分離される。
図14は図13に示すマザー基板を構成するマザー対向基板2000の状態を示したものであり、図13の液晶セル1に対応して対向基板200が35枚形成されている。図14は、マザー対向基板2000にシール材15あるいはマザー基板シール材151を形成する前の段階である。図14において、配向膜113が各対向基板200毎に形成されている。シール部に配向膜が存在すると、シール材15の接着力が低下するので、配向膜113は、シール部を避けて、かつ表示領域を覆うように形成される。
Polishing is often performed using both mechanical polishing and chemical polishing. Whether the polishing is mechanical polishing or chemical polishing, if the abrasive enters the inside of the mother substrate, the liquid crystal cell 1 inside becomes defective. Therefore, the mother substrate sealing material 151 protects the inside of the mother substrate. The mother board sealing material 151 formed around the mother board is sealed with the mother board sealing material 161. The mother substrate shown in FIG. 13 is separated into liquid crystal cells after polishing.
FIG. 14 shows a state of the mother counter substrate 2000 constituting the mother substrate shown in FIG. 13, and 35 counter substrates 200 are formed corresponding to the liquid crystal cell 1 of FIG. FIG. 14 shows a stage before the seal material 15 or the mother substrate seal material 151 is formed on the mother counter substrate 2000. In FIG. 14, an alignment film 113 is formed for each counter substrate 200. When the alignment film is present in the seal portion, the adhesive force of the sealing material 15 is reduced. Therefore, the alignment film 113 is formed so as to avoid the seal portion and cover the display area.

図14において、配向膜113は、フレキソ印刷によって形成される。配向膜113を形成した後、偏光紫外線を使用して配向膜113に対して光配向を行う。このときの偏光紫外線の照射は、マザー対向基板2000全面に対して行う。個々の配向膜毎に偏光紫外線を照射すると製造コストが上昇するからである。したがって、配向膜が形成されていない部分にも偏光紫外線が照射されることになる。   In FIG. 14, the alignment film 113 is formed by flexographic printing. After the alignment film 113 is formed, the alignment film 113 is optically aligned using polarized ultraviolet rays. At this time, irradiation of polarized ultraviolet rays is performed on the entire surface of the mother counter substrate 2000. This is because the manufacturing cost increases when polarized ultraviolet rays are irradiated to each alignment film. Therefore, the polarized ultraviolet rays are also irradiated to the portion where the alignment film is not formed.

図15は、個々の対向基板200の端部における断面構造であり、光配向のための偏光紫外線が照射されている状態を示している。対向基板200の端部には、後で説明するように、遮光膜202、カラーフィルタ201、オーバーコート膜203等が形成されている。遮光膜202は画面のコントラストを向上させたり、画面周辺の見栄えをよくさせたりする役割を有し、ブラックマトリクスとも呼ばれているが、本明細書では遮光膜という用語を用いる。図15に示すように、配向膜113が存在していない部分では、オーバーコート膜203の斜線で示す部分2031に紫外線が直接照射されるために、この部分のオーバーコート膜2031が劣化し、オーバーコート膜203が容易に水分を通すようになる。   FIG. 15 is a cross-sectional structure at the end portion of each counter substrate 200 and shows a state in which polarized ultraviolet rays for photo-alignment are irradiated. As will be described later, a light shielding film 202, a color filter 201, an overcoat film 203, and the like are formed on the end portion of the counter substrate 200. The light shielding film 202 has a role of improving the contrast of the screen and improving the appearance of the periphery of the screen, and is also referred to as a black matrix, but in this specification, the term “light shielding film” is used. As shown in FIG. 15, in the portion where the alignment film 113 does not exist, the portion 2031 indicated by the oblique lines of the overcoat film 203 is directly irradiated with ultraviolet rays, so that the overcoat film 2031 in this portion is deteriorated and overcoated. The coating film 203 can easily pass moisture.

図16は、偏光紫外線によって光配向を行った後、シール材15を形成した状態を示す対向基板200の端部断面図である。オーバーコート膜203の斜線で示した部分2031は紫外線によって劣化しているために、この部分のオーバーコート膜2031を通して水分が遮光膜202の表面に浸透する。   FIG. 16 is an end cross-sectional view of the counter substrate 200 showing a state in which the sealing material 15 is formed after performing photo-alignment with polarized ultraviolet rays. Since a portion 2031 indicated by hatching in the overcoat film 203 is deteriorated by ultraviolet rays, moisture permeates the surface of the light shielding film 202 through the overcoat film 2031 of this portion.

図17は、TFT基板100と対向基板200を接着し、内部に液晶300を封入した状態の液晶表示パネルの端部の断面図である。図17において、TFT基板100には、無機パッシベーション膜106、有機パッシベーション膜107、および、配向膜113が形成されている。また、対向基板200には、遮光膜202、カラーフィルタ201、オーバーコート膜203、および、配向膜113が形成されている。図17において、対向基板200におけるオーバーコート膜203のうち、斜線で示した部分2031は、光配向時の、紫外線によって劣化しているので、この部分において、外部から水分が容易に浸入する。   FIG. 17 is a cross-sectional view of the end portion of the liquid crystal display panel in a state where the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are bonded and the liquid crystal 300 is sealed inside. In FIG. 17, an inorganic passivation film 106, an organic passivation film 107, and an alignment film 113 are formed on the TFT substrate 100. In addition, a light shielding film 202, a color filter 201, an overcoat film 203, and an alignment film 113 are formed on the counter substrate 200. In FIG. 17, a portion 2031 indicated by hatching in the overcoat film 203 on the counter substrate 200 is deteriorated by ultraviolet rays at the time of photo-alignment, so that moisture easily enters from this portion into this portion.

劣化したオーバーコート膜2031から水分が浸入すると、この水分は遮光膜202に達し、遮光膜202を変質させる。特に、遮光膜202に水分が作用すると、遮光膜202と基板200との接着力が低下し、シール部における信頼性が低下する。また、遮光膜202に水分が作用すると、遮光膜202の電気抵抗が低下し、遮光膜202の影響によって液晶層300における電界が乱れ、光漏れによってコントラストが低下する。   When moisture enters from the deteriorated overcoat film 2031, the moisture reaches the light shielding film 202 and alters the light shielding film 202. In particular, when moisture acts on the light shielding film 202, the adhesive force between the light shielding film 202 and the substrate 200 decreases, and the reliability of the seal portion decreases. Further, when moisture acts on the light shielding film 202, the electric resistance of the light shielding film 202 is reduced, the electric field in the liquid crystal layer 300 is disturbed by the influence of the light shielding film 202, and the contrast is lowered by light leakage.

本発明の課題は、光配向時に紫外線照射によって劣化したオーバーコート膜に起因して外部から浸入する水分が、遮光膜へ影響を及ぼすことを防止することである。   An object of the present invention is to prevent moisture entering from the outside due to an overcoat film deteriorated by ultraviolet irradiation during photo-alignment from affecting the light shielding film.

本発明は、以上のような課題を解決するものであり、具体的な構成は次のとおりである。   The present invention solves the above-described problems, and a specific configuration is as follows.

(1)TFTおよび画素電極を有する画素がマトリクス状に形成された表示領域を有するTFT基板と、遮光膜と3色のカラーフィルタが形成され、3色のカラーフィルタを覆ってオーバーコート膜が形成され、前記オーバーコート膜を覆って配向膜が形成された表示領域を有する対向基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、前記TFT基板と前記対向基板の間に液晶が封入された液晶表示装置であって、前記対向基板において、前記配向膜は光配向によって配向処理が施され、前記配向膜は前記シール部には形成されておらず。前記対向基板の前記シール部には、遮光膜と前記3色のカラーフィルタのうちの一色のカラーフィルタとオーバーコート膜がこの順で積層して形成され、前記オーバーコート膜の上に前記シール材が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。   (1) A TFT substrate having a display area in which pixels having TFTs and pixel electrodes are formed in a matrix, a light shielding film and three color filters are formed, and an overcoat film is formed to cover the three color filters A liquid crystal display in which a counter substrate having a display region in which an alignment film is formed so as to cover the overcoat film is bonded by a sealing material at a peripheral seal portion, and liquid crystal is sealed between the TFT substrate and the counter substrate In the counter substrate, the alignment film is subjected to an alignment process by photo-alignment, and the alignment film is not formed on the seal portion. A light shielding film, one color filter of the three color filters, and an overcoat film are laminated in this order on the seal portion of the counter substrate, and the seal material is formed on the overcoat film. A liquid crystal display device, wherein:

(2)TFTおよび画素電極を有する画素がマトリクス状に形成された表示領域を有するTFT基板と、遮光膜と3色のカラーフィルタが形成され、3色のカラーフィルタを覆ってオーバーコート膜が形成され、前記オーバーコート膜を覆って配向膜が形成された表示領域を有する対向基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、前記TFT基板と前記対向基板の間に液晶が封入された液晶表示装置であって、前記対向基板において、前記配向膜は光配向によって配向処理が施され、前記配向膜は前記シール部には形成されておらず。前記対向基板の前記シール部には、遮光膜と前記3色のカラーフィルタのうちの複数の色のカラーフィルタが積層して形成され、前記積層されたカラーフィルタを覆ってオーバーコート膜が形成され、前記オーバーコート膜の上に前記シール材が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。   (2) A TFT substrate having a display area in which pixels having TFTs and pixel electrodes are formed in a matrix, a light shielding film and three color filters are formed, and an overcoat film is formed to cover the three color filters A liquid crystal display in which a counter substrate having a display region in which an alignment film is formed so as to cover the overcoat film is bonded by a sealing material at a peripheral seal portion, and liquid crystal is sealed between the TFT substrate and the counter substrate In the counter substrate, the alignment film is subjected to an alignment process by photo-alignment, and the alignment film is not formed on the seal portion. The seal portion of the counter substrate is formed by laminating a light shielding film and a plurality of color filters of the three color filters, and an overcoat film is formed covering the laminated color filters. A liquid crystal display device, wherein the sealing material is formed on the overcoat film.

(3)前記シール部に形成された複数のカラーフィルタのうちのひとつは前記表示領域に形成されたカラーフィルタと連続して形成され、前記複数のカラーフィルタのうちの他のカラーフィルタは前記表示領域に形成されたカラーフィルタとは連続していないことを特徴とする(2)に記載の液晶表示装置。   (3) One of the plurality of color filters formed on the seal portion is formed continuously with the color filter formed on the display area, and the other color filter of the plurality of color filters is the display. The liquid crystal display device according to (2), wherein the color filter formed in the region is not continuous.

(4)TFTおよび画素電極を有する画素がマトリクス状に形成された表示領域を有するTFT基板と、遮光膜と3色のカラーフィルタが形成され、3色のカラーフィルタを覆ってオーバーコート膜が形成され、前記オーバーコート膜を覆って配向膜が形成された表示領域を有する対向基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、前記TFT基板と前記対向基板の間に液晶が封入された液晶表示装置であって、前記対向基板において、前記配向膜は光配向によって配向処理が施され、前記配向膜は前記シール部には形成されておらず。前記対向基板の前記シール部には、遮光膜と前記3色のカラーフィルタのうちの一色のカラーフィルタとオーバーコート膜がこの順で積層して形成され、前記シール部に形成された前記一色のカラーフィルタは、前記表示領域に形成された3色のカラーフィルタのいずれとも連続して形成されておらず、前記シール部に形成された一色のカラーフィルタの端部に対応して、前記オーバーコート膜には段差が形成されており、前記オーバーコート膜の上に前記シール材が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。   (4) A TFT substrate having a display area in which pixels having TFTs and pixel electrodes are formed in a matrix, a light shielding film and three color filters are formed, and an overcoat film is formed covering the three color filters. A liquid crystal display in which a counter substrate having a display region in which an alignment film is formed so as to cover the overcoat film is bonded by a sealing material at a peripheral seal portion, and liquid crystal is sealed between the TFT substrate and the counter substrate In the counter substrate, the alignment film is subjected to an alignment process by photo-alignment, and the alignment film is not formed on the seal portion. On the seal portion of the counter substrate, a light-shielding film, one color filter of the three color filters, and an overcoat film are laminated in this order, and the one color of the one color formed on the seal portion is formed. The color filter is not formed continuously with any of the three color filters formed in the display area, and corresponds to the end of the one color filter formed on the seal portion. The liquid crystal display device is characterized in that a step is formed on the film, and the sealing material is formed on the overcoat film.

(5)TFTおよび画素電極を有する画素がマトリクス状に形成された表示領域を有するTFT基板と、遮光膜と3色のカラーフィルタが形成され、3色のカラーフィルタを覆ってオーバーコート膜が形成され、前記オーバーコート膜を覆って配向膜が形成された表示領域を有する対向基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、前記TFT基板と前記対向基板の間に液晶が封入された液晶表示装置であって、前記対向基板において、前記配向膜は光配向によって配向処理が施され、前記配向膜は前記シール部には形成されておらず。前記対向基板の前記シール部には、遮光膜と前記3色のカラーフィルタのうちの複数の色のカラーフィルタが積層して形成され、前記積層されたカラーフィルタを覆ってオーバーコート膜が形成され、前記シール部に形成された前記複数のカラーフィルタは、前記表示領域に形成された3色のカラーフィルタのいずれとも連続して形成されておらず、前記シール部に形成された複数のカラーフィルタの端部に対応して、前記オーバーコート膜には段差が形成されており、前記オーバーコート膜の上に前記シール材が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。   (5) A TFT substrate having a display region in which pixels having TFTs and pixel electrodes are formed in a matrix, a light shielding film and three color filters are formed, and an overcoat film is formed to cover the three color filters A liquid crystal display in which a counter substrate having a display region in which an alignment film is formed so as to cover the overcoat film is bonded by a sealing material at a peripheral seal portion, and liquid crystal is sealed between the TFT substrate and the counter substrate In the counter substrate, the alignment film is subjected to an alignment process by photo-alignment, and the alignment film is not formed on the seal portion. The seal portion of the counter substrate is formed by laminating a light shielding film and a plurality of color filters of the three color filters, and an overcoat film is formed covering the laminated color filters. The plurality of color filters formed in the seal portion are not continuously formed with any of the three color filters formed in the display area, and the plurality of color filters formed in the seal portion. A step is formed in the overcoat film corresponding to the end of the liquid crystal display device, and the sealing material is formed on the overcoat film.

(6)TFTおよび画素電極を有する画素がマトリクス状に形成された表示領域を有するTFT基板と、遮光膜と3色のカラーフィルタが形成され、3色のカラーフィルタを覆ってオーバーコート膜が形成され、前記オーバーコート膜を覆って配向膜が形成された表示領域を有する対向基板が周辺のシール部においてシール材によって接着し、前記TFT基板と前記対向基板の間に液晶が封入された液晶表示装置であって、前記対向基板において、前記配向膜は光配向によって配向処理が施され、前記配向膜は前記シール部には形成されておらず。前記対向基板の前記シール部には、遮光膜とオーバーコート膜がこの順で積層して形成され、前記シール部における前記オーバーコート膜の厚さは前記表示領域におけるオーバーコート膜の膜厚よりも大きく、前記オーバーコート膜の上に前記シール材が形成されていることを特徴とする液晶表示装置。   (6) A TFT substrate having a display area in which pixels having TFTs and pixel electrodes are formed in a matrix, a light shielding film and three color filters are formed, and an overcoat film is formed to cover the three color filters A liquid crystal display in which a counter substrate having a display region in which an alignment film is formed so as to cover the overcoat film is bonded by a sealing material at a peripheral seal portion, and liquid crystal is sealed between the TFT substrate and the counter substrate In the counter substrate, the alignment film is subjected to an alignment process by photo-alignment, and the alignment film is not formed on the seal portion. A light shielding film and an overcoat film are laminated in this order on the seal portion of the counter substrate, and the thickness of the overcoat film in the seal portion is larger than the film thickness of the overcoat film in the display region. A liquid crystal display device characterized in that the sealing material is formed on the overcoat film.

(7)前記シール部における前記オーバーコート膜の膜厚は、前記表示領域における前記オーバーコート膜の膜厚の1.5倍以上であることを特徴とする(6)に記載の液晶表示装置。   (7) The liquid crystal display device according to (6), wherein a film thickness of the overcoat film in the seal portion is 1.5 times or more of a film thickness of the overcoat film in the display region.

本発明によれば、光配向において、紫外線によってシール部のオーバーコート膜が劣化しても、オーバーコート膜の下にカラーフィルタを配置することによって、水分が劣化したオーバーコート膜に透過してきても、水分がカラーフィルタによってブロックされ、遮光膜に到達しにくくなるので、遮光膜の剥がれを防止することが出来る。また、遮光膜の電気抵抗が低下することを防止することが出来るので、液晶層の光漏れによるコントラストの低下を防止することが出来る。   According to the present invention, in the photo-alignment, even if the overcoat film of the seal portion deteriorates due to the ultraviolet rays, even if the color filter is disposed under the overcoat film, the moisture can permeate the overcoat film. Since moisture is blocked by the color filter and hardly reaches the light shielding film, peeling of the light shielding film can be prevented. In addition, since it is possible to prevent the electric resistance of the light shielding film from being lowered, it is possible to prevent a reduction in contrast due to light leakage of the liquid crystal layer.

また、本発明の別な態様によれば、シール部のオーバーコート膜を表示領域のオーバーコート膜よりも厚く形成するので、オーバーコート膜全体が光配向時の紫外線によって劣化することを防止することによって、水分が遮光膜に到達することを防止することが出来る。また、表示領域のオーバーコート膜の膜厚は厚くしないので、表示画面の輝度の低下は防止することが出来る。   According to another aspect of the present invention, since the overcoat film of the seal portion is formed thicker than the overcoat film of the display area, the entire overcoat film is prevented from being deteriorated by ultraviolet rays during photo-alignment. Therefore, it is possible to prevent moisture from reaching the light shielding film. In addition, since the thickness of the overcoat film in the display area is not increased, a reduction in the luminance of the display screen can be prevented.

液晶表示装置の平面図である。It is a top view of a liquid crystal display device. 液晶表示装置の表示領域の断面図である。It is sectional drawing of the display area of a liquid crystal display device. 実施例1の液晶表示装置のシール部の断面図である。3 is a cross-sectional view of a seal portion of the liquid crystal display device of Example 1. FIG. 光配向時の対向基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the counter substrate at the time of photo-alignment. 実施例1の対向基板の断面図である。2 is a cross-sectional view of a counter substrate of Example 1. FIG. 実施例2の対向基板の断面図である。6 is a cross-sectional view of a counter substrate of Example 2. FIG. 実施例2の他の形態による対向基板の断面図である。6 is a cross-sectional view of a counter substrate according to another embodiment of Example 2. FIG. 実施例3の対向基板の断面図である。6 is a cross-sectional view of a counter substrate of Example 3. FIG. 実施例4の対向基板の断面図である。7 is a cross-sectional view of a counter substrate of Example 4. FIG. 実施例2の他の形態による対向基板の断面図である。6 is a cross-sectional view of a counter substrate according to another embodiment of Example 2. FIG. 実施例5の対向基板の断面図である。10 is a cross-sectional view of a counter substrate of Example 5. FIG. 実施例5の他の形態による対向基板の断面図である。10 is a cross-sectional view of a counter substrate according to another embodiment of Example 5. FIG. マザー基板の平面図である。It is a top view of a mother board. マザー対向基板の平面図である。It is a top view of a mother counter substrate. 従来例における光配向時の対向基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the counter substrate at the time of the photo-alignment in a prior art example. 従来例におけるシール材が形成された状態の対向基板を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the counter substrate in the state in which the sealing material in the prior art example was formed. 従来例における液晶表示装置の端部の断面図である。It is sectional drawing of the edge part of the liquid crystal display device in a prior art example.

以下、実施例によって本発明の内容を詳細に説明する。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail by way of examples.

図1は、本発明が適用される製品の例である、携帯電話等に使用される小型の液晶表示装置の平面図である。図1において、TFT基板100上に対向基板200が設置されている。TFT基板100と対向基板200の間に液晶層が挟持されている。TFT基板100と対向基板200とは額縁部に形成されたシール材15によって接着している。図1においてシール材15には封入孔が形成され、封入孔から液晶が封入される。その後封入孔は封止材16によって封止される。   FIG. 1 is a plan view of a small liquid crystal display device used in a mobile phone or the like, which is an example of a product to which the present invention is applied. In FIG. 1, a counter substrate 200 is installed on the TFT substrate 100. A liquid crystal layer is sandwiched between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200. The TFT substrate 100 and the counter substrate 200 are bonded together by a sealing material 15 formed on the frame portion. In FIG. 1, a sealing hole is formed in the sealing material 15, and liquid crystal is sealed from the sealing hole. Thereafter, the sealing hole is sealed with a sealing material 16.

TFT基板100は対向基板200よりも大きく形成されており、TFT基板100が対向基板200よりも大きくなっている部分には、液晶表示パネルに電源、映像信号、走査信号等を供給するための端子部150が形成されている。また、端子部150には、走査線、映像信号線等を駆動するためのICドライバ50が設置されている。ICドライバ50は3つの領域に分かれており、中央には映像信号駆動回路52が設置され、両脇には走査信号駆動回路51が設置されている。   The TFT substrate 100 is formed larger than the counter substrate 200, and a terminal for supplying power, a video signal, a scanning signal, etc. to the liquid crystal display panel in a portion where the TFT substrate 100 is larger than the counter substrate 200. A portion 150 is formed. The terminal unit 150 is provided with an IC driver 50 for driving scanning lines, video signal lines, and the like. The IC driver 50 is divided into three regions, a video signal driving circuit 52 is installed at the center, and a scanning signal driving circuit 51 is installed on both sides.

図1の表示領域10において、横方向には走査線30が延在し、縦方向に配列している。また、縦方向には映像信号線40が延在し、横方向に配列している。走査線30は走査線引出し線31によって、ICドライバ50の走査信号駆動回路51と接続している。図1において、表示領域10を液晶表示装置の中央に配置するために、走査線引出し線31は表示領域10の両側に配置され、このために、ICドライバ50には、走査信号駆動回路51が両脇に設置されている。一方映像信号線40とICドライバ50を接続する映像信号線引出し線41は画面下側に集められている。映像信号線引出し線41はICドライバ50の中央部に配置されている映像信号駆動回路52と接続する。   In the display area 10 of FIG. 1, scanning lines 30 extend in the horizontal direction and are arranged in the vertical direction. The video signal lines 40 extend in the vertical direction and are arranged in the horizontal direction. The scanning line 30 is connected to the scanning signal driving circuit 51 of the IC driver 50 by a scanning line lead line 31. In FIG. 1, in order to arrange the display area 10 in the center of the liquid crystal display device, the scanning line lead lines 31 are arranged on both sides of the display area 10. For this reason, the IC driver 50 includes a scanning signal driving circuit 51. It is installed on both sides. On the other hand, the video signal line lead line 41 connecting the video signal line 40 and the IC driver 50 is gathered on the lower side of the screen. The video signal line lead line 41 is connected to a video signal drive circuit 52 disposed at the center of the IC driver 50.

図1の表示領域10よりも若干広い領域に配向膜113が形成されている。この配向膜113には光配向がなされている。シール材15が形成された部分には配向膜113は形成されていない。配向膜が113存在すると、シール材113と基板との接着力が低下するからである。   An alignment film 113 is formed in a region slightly wider than the display region 10 in FIG. This alignment film 113 is photo-aligned. The alignment film 113 is not formed on the portion where the sealing material 15 is formed. This is because when the alignment film 113 is present, the adhesive force between the sealing material 113 and the substrate decreases.

図2はIPS方式の液晶表示装置の表示領域における構造を示す断面図である。IPS方式の液晶表示装置の電極構造は種々のものが提案され、実用化されている。図1の構造は、現在広く使用されている構造であって、簡単に言えば、平面ベタで形成された対向電極108の上に層間絶縁膜109を挟んで櫛歯状の画素電極110が形成されている。そして、画素電極110と対向電極108の間の電圧によって液晶分子301を回転させることによって画素毎に液晶層300の光の透過率を制御することにより画像を形成するものである。以下に図1の構造を詳しく説明する。なお、本発明は、図1の構成を例にとって説明するが、図2以外のIPSタイプの液晶表示装置にも適用することが出来る。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing a structure in a display region of an IPS liquid crystal display device. Various electrode structures of IPS liquid crystal display devices have been proposed and put into practical use. The structure shown in FIG. 1 is a structure that is widely used at present. To put it simply, a comb-like pixel electrode 110 is formed on a counter electrode 108 formed of a flat solid with an interlayer insulating film 109 interposed therebetween. Has been. Then, an image is formed by controlling the light transmittance of the liquid crystal layer 300 for each pixel by rotating the liquid crystal molecules 301 by the voltage between the pixel electrode 110 and the counter electrode 108. The structure of FIG. 1 will be described in detail below. Although the present invention will be described by taking the configuration of FIG. 1 as an example, the present invention can also be applied to IPS type liquid crystal display devices other than FIG.

図2において、ガラスで形成されるTFT基板100の上に、ゲート電極101が形成されている。ゲート電極101は走査線と同層で形成されている。ゲート電極101はAlNd合金の上にMoCr合金が積層されている。   In FIG. 2, a gate electrode 101 is formed on a TFT substrate 100 made of glass. The gate electrode 101 is formed in the same layer as the scanning line. The gate electrode 101 has a MoCr alloy laminated on an AlNd alloy.

ゲート電極101を覆ってゲート絶縁膜102がSiNによって形成されている。ゲート絶縁膜102の上に、ゲート電極101と対向する位置に半導体層103がa−Si膜によって形成されている。a−Si膜はプラズマCVDによって形成される。a−Si膜はTFTのチャネル部を形成するが、チャネル部を挟んでa−Si膜上にソース電極104とドレイン電極105が形成される。なお、a−Si膜とソース電極104あるいはドレイン電極105との間には図示しないn+Si層が形成される。半導体層とソース電極104あるいはドレイン電極105とのオーミックコンタクトを取るためである。   A gate insulating film 102 is formed of SiN so as to cover the gate electrode 101. A semiconductor layer 103 is formed of an a-Si film on the gate insulating film 102 at a position facing the gate electrode 101. The a-Si film is formed by plasma CVD. The a-Si film forms the channel portion of the TFT, and the source electrode 104 and the drain electrode 105 are formed on the a-Si film with the channel portion interposed therebetween. Note that an n + Si layer (not shown) is formed between the a-Si film and the source electrode 104 or the drain electrode 105. This is for making ohmic contact between the semiconductor layer and the source electrode 104 or the drain electrode 105.

ソース電極104は映像信号線が兼用し、ドレイン電極105は画素電極110と接続される。ソース電極104もドレイン電極105も同層で同時に形成される。本実施例では、ソース電極104あるいはドレイン電極105はMoCr合金で形成される。ソース電極104あるいはドレイン電極105の電気抵抗を下げたい場合等は、例えば、AlNd合金をMoCr合金でサンドイッチした電極構造が用いられる。   The source electrode 104 is also used as a video signal line, and the drain electrode 105 is connected to the pixel electrode 110. The source electrode 104 and the drain electrode 105 are simultaneously formed in the same layer. In this embodiment, the source electrode 104 or the drain electrode 105 is made of a MoCr alloy. When it is desired to lower the electrical resistance of the source electrode 104 or the drain electrode 105, for example, an electrode structure in which an AlNd alloy is sandwiched between MoCr alloys is used.

TFTを覆って無機パッシベーション膜106がSiNによって形成される。無機パッシベーション膜106はTFTの、特にチャネル部を不純物401から保護する。無機パッシベーション膜106の上には有機パッシベーション膜107が形成される。有機パッシベーション膜107はTFTの保護と同時に表面を平坦化する役割も有するので、厚く形成される。厚さは1μmから4μmである。   An inorganic passivation film 106 is formed of SiN so as to cover the TFT. The inorganic passivation film 106 protects the TFT, particularly the channel portion, from the impurities 401. An organic passivation film 107 is formed on the inorganic passivation film 106. The organic passivation film 107 has a role of flattening the surface at the same time as protecting the TFT, and thus is formed thick. The thickness is 1 μm to 4 μm.

有機パッシベーション膜107の上には対向電極108が形成される。対向電極108は透明導電膜であるITO(Indium Tin Oxide)を表示領域全体にスパッタリングすることによって形成される。すなわち、対向電極108は面状に形成される。対向電極108を全面にスパッタリングによって形成した後、画素電極110とドレイン電極105を導通するためのスルーホール111部だけは対向電極108をエッチングによって除去する。   A counter electrode 108 is formed on the organic passivation film 107. The counter electrode 108 is formed by sputtering ITO (Indium Tin Oxide), which is a transparent conductive film, over the entire display region. That is, the counter electrode 108 is formed in a planar shape. After the counter electrode 108 is formed on the entire surface by sputtering, the counter electrode 108 is removed by etching only in the through hole 111 portion for conducting the pixel electrode 110 and the drain electrode 105.

対向電極108を覆って層間絶縁膜109がSiNによって形成される。層間絶縁膜109が形成された後、スルーホール111を形成する。その後、層間絶縁膜109およびスルーホール111を覆って画素電極110となるITOを被着形成する。被着したITOをパターニングして画素電極110を形成する。画素電極110となるITOはスルーホール111にも被着される。スルーホール111において、TFTから延在してきたドレイン電極105と画素電極110が導通し、映像信号が画素電極110に供給されることになる。   An interlayer insulating film 109 is formed of SiN so as to cover the counter electrode 108. After the interlayer insulating film 109 is formed, a through hole 111 is formed. Thereafter, ITO that will be the pixel electrode 110 is deposited so as to cover the interlayer insulating film 109 and the through hole 111. The pixel electrode 110 is formed by patterning the deposited ITO. ITO serving as the pixel electrode 110 is also deposited on the through hole 111. In the through hole 111, the drain electrode 105 extending from the TFT and the pixel electrode 110 become conductive, and a video signal is supplied to the pixel electrode 110.

画素電極はいわゆる櫛歯状の電極となっている。櫛歯状の電極と櫛歯状の電極の間は図2に示すスリット112となっている。対向電極108には一定電圧が印加され、画素電極110には映像信号による電圧が印加される。画素電極110に電圧が印加されると図1に示すように、電気力線が発生して液晶分子301を電気力線の方向に回転させてバックライトからの光の透過を制御する。画素毎にバックライトからの透過が制御されるので、画像が形成されることになる。なお、画素電極110の上には液晶分子301を配向させるためのTFT基板側配向膜113が形成されている。配向膜に対する配向処理は偏光紫外線による光配向が用いられる。   The pixel electrode is a so-called comb-like electrode. A slit 112 shown in FIG. 2 is formed between the comb-shaped electrode and the comb-shaped electrode. A constant voltage is applied to the counter electrode 108, and a voltage based on a video signal is applied to the pixel electrode 110. When a voltage is applied to the pixel electrode 110, as shown in FIG. 1, the lines of electric force are generated, and the liquid crystal molecules 301 are rotated in the direction of the lines of electric force to control the transmission of light from the backlight. Since transmission from the backlight is controlled for each pixel, an image is formed. A TFT substrate-side alignment film 113 for aligning the liquid crystal molecules 301 is formed on the pixel electrode 110. For the alignment treatment on the alignment film, photo-alignment using polarized ultraviolet rays is used.

図2の例では、有機パッシベーション膜107の上に、面状に形成された対向電極108が配置され、層間絶縁膜109の上に櫛歯電極110が配置されている。しかしこれとは逆に、有機パッシベーション膜107の上に面状に形成された画素電極110を配置し、層間絶縁膜109の上に櫛歯状の対向電極108が配置される場合もある。   In the example of FIG. 2, a counter electrode 108 formed in a planar shape is disposed on the organic passivation film 107, and a comb electrode 110 is disposed on the interlayer insulating film 109. However, on the contrary, the pixel electrode 110 formed in a planar shape may be disposed on the organic passivation film 107, and the comb-like counter electrode 108 may be disposed on the interlayer insulating film 109.

図2において、液晶層300を挟んで対向基板200が設置されている。対向基板200の内側には、カラーフィルタが形成されている。図2においては、赤カラーフィルタ201Rが形成されている。カラーフィルタの下の、画像を形成しない領域には遮光膜202が形成されている。遮光膜202は、画像のコントラストを向上させるとともに、TFTの遮光膜としての役割を有し、TFTに光電流が流れることを防止している。   In FIG. 2, the counter substrate 200 is installed with the liquid crystal layer 300 interposed therebetween. A color filter is formed inside the counter substrate 200. In FIG. 2, a red color filter 201R is formed. A light shielding film 202 is formed in a region below the color filter where an image is not formed. The light shielding film 202 improves the contrast of the image and has a role as a light shielding film of the TFT to prevent a photocurrent from flowing through the TFT.

カラーフィルタ201および遮光膜202を覆ってオーバーコート膜203が形成されている。カラーフィルタ201および遮光膜202の表面は凹凸となっているために、オーバーコート膜203によって表面を平らにしている。オーバーコート膜203の上には、液晶の初期配向を決めるための配向膜113が形成されている。配向膜113は光配向処理されている。   An overcoat film 203 is formed to cover the color filter 201 and the light shielding film 202. Since the surfaces of the color filter 201 and the light shielding film 202 are uneven, the surface is flattened by the overcoat film 203. On the overcoat film 203, an alignment film 113 for determining the initial alignment of the liquid crystal is formed. The alignment film 113 is subjected to photo-alignment processing.

図2はIPSであるから、対向電極108はTFT基板100側に形成されており、対向基板200側には形成されていない。このように、IPSでは、対向基板200の内側には導電膜が形成されていない。そうすると、対向基板200の電位が不安定になる。また、外部からの電磁ノイズが液晶層300に侵入し、画像に対して影響を与える。このような問題を除去するために、対向基板200の外側に表面導電膜210が形成される。表面導電膜210は、透明導電膜であるITOをスパッタリングすることによって形成される。   Since FIG. 2 shows IPS, the counter electrode 108 is formed on the TFT substrate 100 side, and is not formed on the counter substrate 200 side. Thus, in IPS, the conductive film is not formed inside the counter substrate 200. Then, the potential of the counter substrate 200 becomes unstable. Further, external electromagnetic noise enters the liquid crystal layer 300 and affects the image. In order to eliminate such a problem, a surface conductive film 210 is formed outside the counter substrate 200. The surface conductive film 210 is formed by sputtering ITO, which is a transparent conductive film.

図3は図1に示す液晶表示装置の端部における断面図である。図3において、TFT基板100には無機パッシベーション膜106と有機パッシベーション膜107と配向膜113が形成されている。TFT基板100のその他の構成は図3では省略している。対向基板200には、遮光膜202、赤カラーフィルタ201R、オーバーコート膜203、配向膜113が形成されている。端部はシール材15によってシールされ、TFT基板100と対向基板200の間隔はグラスファイバによるスペーサー350によって規定されている。   FIG. 3 is a cross-sectional view at the end of the liquid crystal display device shown in FIG. In FIG. 3, an inorganic passivation film 106, an organic passivation film 107, and an alignment film 113 are formed on the TFT substrate 100. The other configuration of the TFT substrate 100 is omitted in FIG. On the counter substrate 200, a light shielding film 202, a red color filter 201R, an overcoat film 203, and an alignment film 113 are formed. The ends are sealed with a sealing material 15, and the distance between the TFT substrate 100 and the counter substrate 200 is defined by a spacer 350 made of glass fiber.

図3において、配向膜113は光配向によって配向処理されている。図3に示す本発明の特徴は、端部において、オーバーコート膜203の下に赤カラーフィルタ201Rを配置していることとである。図3では赤カラーフィルタ210Rが形成されているが、緑カラーフィルタでも青カラーフィルタでも良い。図3の対向基板200において、配向膜113が存在していない部分のオーバーコート膜203は、光配向時の紫外線によって劣化し、水分が浸入し易い状態となっている。   In FIG. 3, the alignment film 113 is subjected to an alignment process by photo-alignment. A feature of the present invention shown in FIG. 3 is that a red color filter 201R is disposed under the overcoat film 203 at the end. Although the red color filter 210R is formed in FIG. 3, it may be a green color filter or a blue color filter. In the counter substrate 200 of FIG. 3, the portion of the overcoat film 203 where the alignment film 113 is not present is deteriorated by ultraviolet rays during photo-alignment, and moisture is likely to enter.

オーバーコート膜203が紫外線によって劣化していても、オーバーコート膜203の下には赤カラーフィルタ201Rが存在している。したがって、オーバーコート膜203に進入して来た水分は、赤カラーフィルタ201Rによってブロックされ、下層の遮光膜202に到達しないか、到達までに長時間かかる。したがって、遮光膜202が水分と反応することによる接着力の低下、あるいは、遮光膜202の電気抵抗の低下は防止することが出来る。   Even if the overcoat film 203 is deteriorated by ultraviolet rays, the red color filter 201R exists under the overcoat film 203. Therefore, the moisture that has entered the overcoat film 203 is blocked by the red color filter 201R and does not reach the lower light shielding film 202 or takes a long time to reach. Accordingly, it is possible to prevent a decrease in adhesive force due to the reaction of the light shielding film 202 with moisture or a decrease in electric resistance of the light shielding film 202.

図4および図5は以上の説明を図に示すものである。図4は対向基板200に遮光膜202、赤カラーフィルタ201R、オーバーコート膜203、配向膜113がこの順で形成された状態を示している。遮光膜202の膜厚は1μm程度、赤カラーフィルタ201Rの膜厚は1〜2μm、オーバーコート膜203の膜厚は1〜2μm、配向膜113の膜厚は0.1μm程度である。緑カラーフィルタ、青カラーフィルタ等の膜厚も1〜2μmである。   4 and 5 illustrate the above description. FIG. 4 shows a state in which the light shielding film 202, the red color filter 201R, the overcoat film 203, and the alignment film 113 are formed in this order on the counter substrate 200. The light shielding film 202 has a thickness of about 1 μm, the red color filter 201R has a thickness of 1 to 2 μm, the overcoat film 203 has a thickness of 1 to 2 μm, and the alignment film 113 has a thickness of about 0.1 μm. The film thickness of a green color filter, a blue color filter, etc. is also 1-2 micrometers.

配向膜113は、端部には形成されていない。配向膜113によってシール材15の接着力が低下することを防止するためである。図4において、配向膜113に配向処理するために、紫外線UVを照射する。配向膜113は、紫外線によって配向処理をうけるが、配向膜113が存在しない、端部における、斜線を施したオーバーコート膜2031は紫外線によって劣化する。   The alignment film 113 is not formed at the end. This is to prevent the adhesion force of the sealing material 15 from being lowered by the alignment film 113. In FIG. 4, ultraviolet rays UV are irradiated to the alignment film 113 for alignment treatment. The alignment film 113 is subjected to alignment treatment with ultraviolet rays, but the overcoat film 2031 that is shaded at the end portion where the alignment film 113 does not exist is deteriorated by ultraviolet rays.

その後、図5に示すように、配向膜113が存在していない、端部におけるオ−バーコート膜203の上にシール材15が形成される。図5において、紫外線によって劣化したオーバーコート膜の斜線で示す部分2031には水分が容易に浸透する。しかし、斜線で示したオーバーコート膜2031の下には赤カラーフィルタ201Rが存在しているので、侵入した水分は赤カラーフィルタ201Rによってブロックされ、遮光膜202には容易に到達しない。したがって、シール部の信頼性を確保することが出来る。   Thereafter, as shown in FIG. 5, the sealing material 15 is formed on the overcoat film 203 at the end portion where the alignment film 113 does not exist. In FIG. 5, moisture easily penetrates into a portion 2031 indicated by oblique lines of the overcoat film deteriorated by ultraviolet rays. However, since the red color filter 201R exists under the overcoat film 2031 indicated by the oblique lines, the intruded moisture is blocked by the red color filter 201R and does not easily reach the light shielding film 202. Therefore, the reliability of the seal portion can be ensured.

従来は、カラーフィルタは表示領域のみに形成されていたが、本発明では、これを対向基板200の端部にまで延在させている。カラーフィルタはフォトリソグラフィによって形成される。つまり、カラーフィルタの形成範囲は露光マスクによって規定することが出来る。したがって、カラーフィルタを対向基板の端部にまで形成するとしても、工程が増加することは無い。   Conventionally, the color filter is formed only in the display region, but in the present invention, this is extended to the end of the counter substrate 200. The color filter is formed by photolithography. That is, the formation range of the color filter can be defined by the exposure mask. Therefore, even if the color filter is formed up to the end portion of the counter substrate, the number of steps does not increase.

このように、本実施例によれば、光配向処理においてオーバーコート膜203が紫外線によって劣化しても、オーバーコート膜203を浸透して来た水分の影響をカラーフィルタがブロックするので、シール部の信頼性が低下することは無い。また、水分が遮光膜202と反応することによる遮光膜202の電気抵抗の低下も防止することが出来るので、液晶の光漏れに起因するコントラストの低下を防止することが出来る。   As described above, according to the present embodiment, even if the overcoat film 203 is deteriorated by ultraviolet rays in the photo-alignment process, the color filter blocks the influence of moisture that has permeated the overcoat film 203. There will be no decrease in reliability. In addition, since a decrease in electrical resistance of the light shielding film 202 due to moisture reacting with the light shielding film 202 can be prevented, a decrease in contrast due to light leakage of liquid crystal can be prevented.

以上の実施例においては、シール部に形成されるカラーフィルタは赤カラーフィルタ201Rであるとしているが、これは、例であって、他のカラーフィルタ、すなわち、緑カラーフィルタであっても青カラーフィルタであっても良い。   In the above embodiment, the color filter formed in the seal portion is the red color filter 201R. However, this is an example, and other color filters, that is, the green color filter even if it is a blue color filter. It may be a filter.

図6は、本発明の第2の実施例による対向基板200の端部付近における断面図である。図6において、対向基板200には、遮光膜202、赤カラーフィルタ201R、オーバーコート膜203、配向膜113がこの順で形成されている。ただし、配向膜113が存在しないシール部には、赤カラーフィルタ201Rと緑カラーフィルタ201Gが積層して形成されている。配向膜113は光配向処理される。したがって、配向膜113が存在していない部分のオーバーコート膜203は紫外線によって劣化する。   FIG. 6 is a cross-sectional view in the vicinity of the end of the counter substrate 200 according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 6, a light shielding film 202, a red color filter 201R, an overcoat film 203, and an alignment film 113 are formed in this order on the counter substrate 200. However, the red color filter 201R and the green color filter 201G are laminated on the seal portion where the alignment film 113 does not exist. The alignment film 113 is subjected to photo-alignment processing. Therefore, the portion of the overcoat film 203 where the alignment film 113 is not present is deteriorated by ultraviolet rays.

図6においては、紫外線によって劣化したオーバーコート膜203の下には、緑カラーフィルタ201Gと赤カラーフィルタ201Rの2層のカラーフィルタが形成されている。したがって、たとえ、劣化したオーバーコート膜203に水分は浸透してきても、浸透してきた水分は、緑カラーフィルタ201Gおよび赤カラーフィルタ201Rによってブロックされ、遮光膜202に到達しない。   In FIG. 6, two layers of color filters, a green color filter 201G and a red color filter 201R, are formed under the overcoat film 203 deteriorated by ultraviolet rays. Therefore, even if moisture penetrates into the deteriorated overcoat film 203, the penetrated moisture is blocked by the green color filter 201G and the red color filter 201R and does not reach the light shielding film 202.

図6の構成は、シール部においてカラーフィルタが2層形成されているので、実施例1の構成よりも水分に対する防御効果は大きい。各層の膜厚は、実施例1と同様である。つまり、緑カラーフィルタも赤カラーフィルタも実施例1と同様に1〜2μmの厚さに形成される。   6 has two layers of color filters in the seal portion, and therefore has a greater protective effect against moisture than the configuration of the first embodiment. The film thickness of each layer is the same as in Example 1. That is, both the green color filter and the red color filter are formed to a thickness of 1 to 2 μm as in the first embodiment.

図6の構成における別の効果は、配向膜113を塗布したとき、配向膜113がシール部に侵入することを防止することが出来る点である。図6に示すように、端部付近において、緑カラーフィルタ201Gが形成されているので、オーバーコート膜203に段差が生じ、この段差が表示領域から流れてきた配向膜203に対するストッパーとしての役割を持つ。   Another effect of the configuration of FIG. 6 is that the alignment film 113 can be prevented from entering the seal portion when the alignment film 113 is applied. As shown in FIG. 6, since the green color filter 201G is formed in the vicinity of the end portion, a step is generated in the overcoat film 203, and this step serves as a stopper for the alignment film 203 flowing from the display region. Have.

配向膜203は、塗布されるときは、液体であるので、流動性をもっており、塗布面積を正確に規定することは困難である。特に配向膜113がシール材15の下に存在すると、シール材15の接着力を低下させる。本実施例では、図6に示すように、緑蛍光体201Gによって段差を形成することによって配向膜113の範囲を規定することができるので、シール部における信頼性を高く保つことが出来る。なお、周辺に形成する緑カラーフィルタ201Gはフォトリソグラフィによって形成するので、正確な寸法を維持することが出来る。また、段差の高さは、緑カラーフィルタの厚さである1〜2μm程度である。   Since the alignment film 203 is a liquid when applied, it has fluidity and it is difficult to accurately define the application area. In particular, when the alignment film 113 exists under the sealing material 15, the adhesive force of the sealing material 15 is reduced. In this embodiment, as shown in FIG. 6, since the range of the alignment film 113 can be defined by forming a step with the green phosphor 201G, the reliability in the seal portion can be kept high. In addition, since the green color filter 201G formed in the periphery is formed by photolithography, accurate dimensions can be maintained. The height of the step is about 1-2 μm, which is the thickness of the green color filter.

図7は本実施例における他の態様である。図7の左側の表示領域は図6で説明したのと同様であるが、端部は図6とは異なり、遮光膜202とオーバーコート膜203との間には、順番に赤カラーフィルタ201R、緑カラーフィルタ201G、青カラーフィルタ201Bの3層のカラーフィルタが形成されている。配向膜113が光配向処理を受けることは実施例1あるいは図6と同様である。   FIG. 7 shows another aspect of this embodiment. The display area on the left side of FIG. 7 is the same as that described with reference to FIG. 6, but the end portion is different from FIG. 6, and the red color filter 201 </ b> R is sequentially placed between the light shielding film 202 and the overcoat film 203. Three layers of color filters, green color filter 201G and blue color filter 201B, are formed. The alignment film 113 is subjected to a photo-alignment process as in the first embodiment or FIG.

図7において、配向膜113に覆われていない部分のオーバーコート膜203が光配向時の紫外線によって劣化することは実施例1と同様である。本実施例では劣化したオーバーコート膜203に浸透して来た水分が遮光膜202に達するまでには3層のカラーフィルタが存在しているので、図6の場合よりも、さらにシール部の信頼性を向上させることが出来る。   In FIG. 7, the portion of the overcoat film 203 that is not covered with the alignment film 113 is deteriorated by ultraviolet rays during photo-alignment, as in the first embodiment. In this embodiment, since the three layers of color filters exist before the moisture that has permeated the deteriorated overcoat film 203 reaches the light shielding film 202, the reliability of the seal portion is further increased than in the case of FIG. Can be improved.

また、図7に示すように、シール部付近には、緑カラーフィルタ201G、青カラーフィルタ201Bの2層のカラーフィルタによって段差が形成されているので、この段差によって配向膜113の形成範囲を規定することが出来る。本実施例では、2層のカラーフィルタによって段差を形成しおり、段差の大きさは、2μmから4μm程度に形成することが出来るので、配向膜の塗布範囲をより確実に規定することが出来る。   Further, as shown in FIG. 7, a step is formed in the vicinity of the seal portion by the two color filters of the green color filter 201G and the blue color filter 201B, and the formation range of the alignment film 113 is defined by this step. I can do it. In this embodiment, the step is formed by two layers of color filters, and the size of the step can be formed to about 2 μm to 4 μm. Therefore, the coating range of the alignment film can be more reliably defined.

本実施例では、図6においては、赤カラーフィルタ201Rと緑カラーフィルタ201Gが順に積層されているが、2層のカラーフィルタはこれに限らず、他のカラーフィルタでもよいし、積層する順番も異なっていても良い。また、図7においては、積層するカラーフィルタの順番は、赤カラーフィルタ201R、緑カラーフィルタ201G、青カラーフィルタ201Bの順番であるが、カラーフィルタの積層の順番はこれに限らず、カラーフィルタの製造条件によって任意に決めることが出来る。   In this embodiment, in FIG. 6, the red color filter 201R and the green color filter 201G are sequentially stacked. However, the two-layer color filter is not limited to this, and other color filters may be used, and the order of stacking may also be determined. It may be different. In FIG. 7, the order of the color filters to be stacked is the order of the red color filter 201R, the green color filter 201G, and the blue color filter 201B. However, the order of stacking the color filters is not limited to this, It can be arbitrarily determined according to the manufacturing conditions.

図8は実施例3の対向基板200の端部付近の断面図である。図8において、対向基板200の上には、遮光膜202、赤カラーフィルタ201R、オーバーコート膜203、配向膜113がこの順で形成されている。配向膜113は光配向処理されている。したがって、光配向時に、配向膜113に覆われていない部分のオーバーコート膜203が紫外線によって劣化する。   FIG. 8 is a cross-sectional view of the vicinity of the end portion of the counter substrate 200 according to the third embodiment. In FIG. 8, a light shielding film 202, a red color filter 201R, an overcoat film 203, and an alignment film 113 are formed in this order on the counter substrate 200. The alignment film 113 is subjected to photo-alignment processing. Therefore, the portion of the overcoat film 203 that is not covered with the alignment film 113 is deteriorated by the ultraviolet rays during the photo-alignment.

紫外線によって劣化したオーバーコート膜203と遮光膜202の間に赤カラーフィルタ201Rを配置することによって、劣化したオーバーコート膜203に浸透して来た水分を赤蛍光体201Rによってブロックすることは、実施例1と同様である。本実施例では、実施例1とは異なり、赤カラーフィルタ201Rを端部まで連続して形成するのではなく、表示領域とシール部との間に赤蛍光体を除去した領域、すなわち、図8におけるA部を設ける。   By disposing the red color filter 201R between the overcoat film 203 deteriorated by the ultraviolet rays and the light shielding film 202, it is possible to block the water that has penetrated into the deteriorated overcoat film 203 with the red phosphor 201R. Similar to Example 1. In this embodiment, unlike the first embodiment, the red color filter 201R is not continuously formed up to the end portion, but the red phosphor is removed between the display region and the seal portion, that is, FIG. A part in is provided.

A部の存在によって、赤カラーフィルタ1層のみをシール部に形成する場合も配向膜113に対する段差を形成して、この段差を配向膜の広がりに対するストッパーとして使用することが出来る。また、A部は、配向膜113に対する、いわば液溜りとして作用し、配向膜113の外側への広がりを、段差とともに、より確実に防止することが出来る。   Even when only one red color filter layer is formed in the seal portion due to the presence of the A portion, a step with respect to the alignment film 113 can be formed, and this step can be used as a stopper against the spread of the alignment film. In addition, the A part acts as a liquid pool with respect to the alignment film 113, and can more reliably prevent the alignment film 113 from spreading outward along with the step.

本実施例においては、シール部に形成されるカラーフィルタは赤カラーフィルタ210Rであるとしているが、これは、例であって、他のカラーフィルタ、すなわち、緑カラーフィルタ201Gであっても青カラーフィルタ201Bであっても良い。   In the present embodiment, the color filter formed in the seal portion is the red color filter 210R. However, this is an example, and other color filters, that is, the green color filter 201G may be blue. The filter 201B may be used.

図9は実施例4の対向基板200の端部付近の断面図である。図9において、対向基板200の上には、遮光膜202、赤カラーフィルタ201R、オーバーコート膜203、配向膜113がこの順で形成されている。但し、シール部においてはオーバーコート膜203と遮光膜202の間に赤カラーフィルタ201Rと緑カラーフィルタ201Gが存在している。配向膜113は光配向処理されている。したがって、光配向時に、配向膜113に覆われていない部分のオーバーコート膜203が紫外線によって劣化する。   FIG. 9 is a cross-sectional view of the vicinity of the end portion of the counter substrate 200 according to the fourth embodiment. In FIG. 9, a light shielding film 202, a red color filter 201R, an overcoat film 203, and an alignment film 113 are formed in this order on the counter substrate 200. However, the red color filter 201R and the green color filter 201G exist between the overcoat film 203 and the light shielding film 202 in the seal portion. The alignment film 113 is subjected to photo-alignment processing. Therefore, the portion of the overcoat film 203 that is not covered with the alignment film 113 is deteriorated by the ultraviolet rays during the photo-alignment.

紫外線によって劣化したオーバーコート膜203と遮光膜の間に赤カラーフィルタ201Rおよび緑カラーフィルタ201Gを配置することによって、劣化したオーバーコート膜203に浸透して来た水分をブロックすることは、実施例2における図6と同様である。本実施例では、図6とは異なり、赤カラーフィルタ201Rを端部まで連続して形成するのではなく、表示領域とシール部との間に赤カラーフィルタ201Rを除去した領域、図8におけるA部を設ける。   The arrangement of the red color filter 201R and the green color filter 201G between the overcoat film 203 deteriorated by ultraviolet rays and the light-shielding film blocks the water that has permeated the deteriorated overcoat film 203. This is the same as FIG. In this embodiment, unlike FIG. 6, the red color filter 201R is not continuously formed up to the end portion, but the red color filter 201R is removed between the display region and the seal portion, A in FIG. Provide a part.

A部の存在によって、シール部付近に形成される段差は赤カラーフィルタ201Rと緑カラーフィルタ201Gの2層分となり、段差の大きさは2μmから4μmとすることが出来る。したがって、外側へ広がろうとする配向膜113をより効果的に規制することが出来る。また、A部は、配向膜113に対する、いわば液溜りとして作用し、配向膜113の外側への広がりを、段差とともに、より確実に防止することが出来る。   Due to the presence of the A portion, the step formed in the vicinity of the seal portion becomes two layers of the red color filter 201R and the green color filter 201G, and the size of the step can be set to 2 μm to 4 μm. Therefore, the alignment film 113 that attempts to spread outward can be more effectively regulated. In addition, the A part acts as a liquid pool with respect to the alignment film 113, and can more reliably prevent the alignment film 113 from spreading outward along with the step.

図10は実施例4の、他の態様を示す、対向基板200の端部付近の断面図である。図10は、シール部において、オーバーコート膜203と遮光膜202の間に、赤カラーフィルタ201R、緑カラーフィルタ201G、青カラーフィルタ201Bの3層のカラーフィルタが存在している他は図9と同様である。   FIG. 10 is a cross-sectional view of the vicinity of the end portion of the counter substrate 200 showing another aspect of the fourth embodiment. FIG. 10 is the same as FIG. 9 except that there are three color filters of red color filter 201R, green color filter 201G, and blue color filter 201B between the overcoat film 203 and the light shielding film 202 in the seal portion. It is the same.

図10の構成において、光配向時の紫外線によって劣化したオーバーコート膜203と遮光膜202の間に赤カラーフィルタ201R、緑カラーフィルタ201Gおよび青カラーフィルタ201Bを配置することによって、劣化したオーバーコート膜203に浸透して来た水分をブロックすることは実施例2の図7と同様である。但し、本実施例では、図7とは異なり、赤カラーフィルタ201Rを端部まで連続して形成するのではなく、表示領域とシール部との間に赤蛍光体201Rを除去した領域、図8におけるA部を設ける。   In the configuration of FIG. 10, the red overcoat film 203R, the green color filter 201G, and the blue color filter 201B are disposed between the overcoat film 203 and the light-shielding film 202 that are deteriorated due to ultraviolet rays at the time of photo-alignment. Blocking the moisture that has permeated 203 is the same as in FIG. However, in this embodiment, unlike FIG. 7, the red color filter 201R is not formed continuously to the end, but the red phosphor 201R is removed between the display region and the seal portion, FIG. A part in is provided.

A部の存在によって、シール部付近に形成される段差は赤カラーフィルタ201R、緑カラーフィルタ201Gおよび青カラーフィルタ201Bの3層分となり、外側へ広がろうとする配向膜113をより効果的に規制することが出来る。3層分の段差であるから、段差は3μmから6μm程度とすることが出来、配向膜113の粘度が小さい場合であっても、ストッパーとして役割を十分に果たすことが出来る。また、A部は、配向膜113に対する、いわば液溜りとして作用し、配向膜113の外側への広がりを、段差とともに、より確実に防止することが出来る。   Due to the presence of the A portion, the step formed in the vicinity of the seal portion is equivalent to three layers of the red color filter 201R, the green color filter 201G, and the blue color filter 201B, and the alignment film 113 that attempts to spread outward is more effectively regulated. I can do it. Since it is a step for three layers, the step can be about 3 μm to 6 μm, and even when the viscosity of the alignment film 113 is small, it can sufficiently serve as a stopper. In addition, the A part acts as a liquid pool with respect to the alignment film 113, and can more reliably prevent the alignment film 113 from spreading outward along with the step.

このように、本実施例では、実施例3の場合よりも、劣化したオーバーコート膜203に浸透して来た水分の影響をより確実に防止できる。また、配向膜113の外形の規定も本実施例の構成によれば、より確実に行うことができる。   Thus, in the present embodiment, the influence of moisture that has permeated into the deteriorated overcoat film 203 can be prevented more reliably than in the case of the third embodiment. Also, the outer shape of the alignment film 113 can be defined more reliably according to the configuration of this embodiment.

本実施例では、図9においては、赤カラーフィルタ201Rと緑カラーフィルタ201Gが順に積層されているが、2層のカラーフィルタはこれに限らず、他のカラーフィルタでもよいし、積層する順番も異なっていても良い。また、図10においては、積層するカラーフィルタの順番は、赤カラーフィルタ、緑カラーフィルタ、青カラーフィルタの順番であるが、カラーフィルタの積層の順番はこれに限らず、カラーフィルタの製造条件によって任意に決めることが出来る。   In the present embodiment, the red color filter 201R and the green color filter 201G are sequentially stacked in FIG. 9, but the two-layer color filter is not limited to this, and other color filters may be used, and the stacking order may also be different. It may be different. In FIG. 10, the order of the color filters to be stacked is the order of the red color filter, the green color filter, and the blue color filter, but the order of the color filter stacking is not limited to this, and depends on the manufacturing conditions of the color filter. It can be decided arbitrarily.

図11は、本発明の第5の実施例を示す対向基板200の端部付近の断面図である。図11において、対向基板200の上には、遮光膜202、赤カラーフィルタ201R、オーバーコート膜203、配向膜113がこの順で形成されている。但し、シール部では、対向基板200の上に遮光膜202、オーバーコート膜203が形成され、その上にシール材15が形成されている。図11においては、カラーフィルタはシール部には形成されていない。   FIG. 11 is a cross-sectional view of the vicinity of the end of the counter substrate 200 showing the fifth embodiment of the present invention. In FIG. 11, on the counter substrate 200, a light shielding film 202, a red color filter 201R, an overcoat film 203, and an alignment film 113 are formed in this order. However, in the seal portion, the light shielding film 202 and the overcoat film 203 are formed on the counter substrate 200, and the seal material 15 is formed thereon. In FIG. 11, the color filter is not formed on the seal portion.

本実施例においても、配向膜113は光配向処理が施されている。したがって、配向膜113が存在していない部分のオーバーコート膜203は光配向時の紫外線によって劣化している。この劣化したオーバーコート膜の部分から水分が浸透してくることは実施例1〜4と同様である。   Also in this embodiment, the alignment film 113 is subjected to a photo-alignment process. Therefore, the portion of the overcoat film 203 where the alignment film 113 does not exist is deteriorated by ultraviolet rays during photo-alignment. The penetration of moisture from the deteriorated overcoat film is the same as in Examples 1 to 4.

本実施例の特徴は、オーバーコート膜203の膜厚をシール部において、表示領域における膜厚よりも大きくしていることである。図11において、シール部におけるオーバーコート膜203の膜厚はd2であり、表示領域の膜厚はd1である。オーバーコート膜203の表示領域における膜厚d1とシール部における膜厚d2の比としては、d2はd1の2倍以上であることが好ましいが、1.5倍以上でも効果をあげることが出来る。d2がd1の2倍とした場合、表示領域での厚さd1を1〜2μmとすると、d2は2〜4μmとなる。表示領域において、オーバーコート膜203の膜厚を大きくすると、光の透過率が減少し、画面の明るさが低下するので、表示領域におけるオーバーコート膜203の厚さd1は1〜2μmに抑えておく必要がある。   The feature of this embodiment is that the film thickness of the overcoat film 203 is larger than the film thickness in the display area in the seal portion. In FIG. 11, the film thickness of the overcoat film 203 in the seal portion is d2, and the film thickness of the display area is d1. As a ratio of the film thickness d1 in the display area of the overcoat film 203 to the film thickness d2 in the seal portion, d2 is preferably at least twice as large as d1, but the effect can be obtained even at 1.5 times or more. When d2 is twice d1, if the thickness d1 in the display region is 1 to 2 μm, d2 is 2 to 4 μm. In the display area, if the thickness of the overcoat film 203 is increased, the light transmittance is reduced and the brightness of the screen is lowered. Therefore, the thickness d1 of the overcoat film 203 in the display area is suppressed to 1 to 2 μm. It is necessary to keep.

光配向時において、配向膜113に覆われていないオーバーコート膜203は紫外線によって劣化する。しかし、紫外線によって劣化する領域は、表面付近が主であり、膜の深部では、紫外線の影響を大きく受けない。本実施例では、紫外線が直接照射される部分のオーバーコート膜203を厚くすることによって、オーバーコート膜203の深部は、紫外線によって破壊されないようにしている。   During the photo-alignment, the overcoat film 203 not covered with the alignment film 113 is deteriorated by ultraviolet rays. However, the region deteriorated by ultraviolet rays is mainly near the surface and is not greatly affected by ultraviolet rays in the deep part of the film. In this embodiment, the thick portion of the overcoat film 203 that is directly irradiated with ultraviolet rays is thickened so that the deep portion of the overcoat film 203 is not destroyed by the ultraviolet rays.

したがって、オーバーコート膜203の表面が紫外線によって破壊されて水分が浸透する事態が生じても、オーバーコート膜203の深部は破壊されていないので、水分は、オーバーコート膜203の深部においてブロックされ、遮光膜202に到達しない。したがって、水分が遮光膜202と反応して、遮光膜202に剥がれが発生したり、遮光膜202の電気抵抗が小さくなったりするような現象を防止することが出来る。   Therefore, even if the surface of the overcoat film 203 is destroyed by ultraviolet rays and moisture penetrates, the deep part of the overcoat film 203 is not destroyed, so that the water is blocked in the deep part of the overcoat film 203, It does not reach the light shielding film 202. Accordingly, it is possible to prevent a phenomenon in which moisture reacts with the light shielding film 202 to cause peeling of the light shielding film 202 or an electrical resistance of the light shielding film 202 is reduced.

遮光膜202を周辺のみ厚く形成する方法は、ハーフ露光の技術を使用することが出来る。例えば、オーバーコート膜203にポジ型の感光性の材料を用いた場合、露光された部分が現像液に溶けるので、オーバーコート膜に対する露光量をシール部において、少なくするような露光マスクを使用することによって、シール部のみでオーバーコート膜の膜厚を大きくすることが出来る。   A half exposure technique can be used as a method of forming the light shielding film 202 thick only at the periphery. For example, when a positive photosensitive material is used for the overcoat film 203, the exposed portion is dissolved in the developer, and therefore an exposure mask that reduces the exposure amount of the overcoat film at the seal portion is used. Thus, the thickness of the overcoat film can be increased only by the seal portion.

また、本実施例においても、オーバーコート膜203の薄い部分と厚い部分とで段差が形成されるので、この段差を配向膜113のストッパーとして使用することが出来る。この場合形成する段差は1μm〜2μmである。また、赤カラーフィルタ201Rの端部と、オーバーコート膜203の段部との間に形成される凹部は、配向膜113の液溜りとしての役割を持つことが出来るので、オーバーコート膜203の段差とあいまって、配向膜113の外形規定に寄与させることが出来る。   Also in this embodiment, a step is formed between the thin portion and the thick portion of the overcoat film 203, and this step can be used as a stopper for the alignment film 113. In this case, the step to be formed is 1 μm to 2 μm. In addition, since the concave portion formed between the end portion of the red color filter 201R and the step portion of the overcoat film 203 can serve as a liquid reservoir for the alignment film 113, a step difference in the overcoat film 203 is obtained. In combination with this, it is possible to contribute to defining the outer shape of the alignment film 113.

図12は、本実施例の変形例であり、本実施例を実施例1の構成と組み合わせた例である。すなわち、シール部においては、オーバーコート膜203の膜厚を表示領域よりも大きくするとともに、オーバーコート膜203の下側に赤カラーフィルタ201Rを配置していることである。これによって、紫外線によって劣化したオーバーコート膜203の表面に浸透する水分の影響から遮光膜202を保護する作用をより確実にすることが出来る。   FIG. 12 is a modification of the present embodiment, and is an example in which the present embodiment is combined with the configuration of the first embodiment. That is, in the seal portion, the film thickness of the overcoat film 203 is made larger than that of the display area, and the red color filter 201R is disposed below the overcoat film 203. As a result, the action of protecting the light shielding film 202 from the influence of moisture penetrating the surface of the overcoat film 203 deteriorated by ultraviolet rays can be further ensured.

図12は、実施例5を実施例1と組み合わせた例であるが、実施例5を実施例2〜実施例4と組み合わせることも可能である。実施例5を実施例2〜実施例4と組み合わせると、配向膜113のストッパーとして作用させる段差の高さをより大きくすることが出来、粘度の小さい配向膜を使用することが出来る。   FIG. 12 is an example in which the fifth embodiment is combined with the first embodiment, but the fifth embodiment can be combined with the second to fourth embodiments. When Example 5 is combined with Examples 2 to 4, the height of the step that acts as a stopper for the alignment film 113 can be increased, and an alignment film having a low viscosity can be used.

なお、配向膜113の形成方法としては、フレキソ印刷の他に、インクジェット法で形成する方法もある。インクジェット法で配向膜を形成する場合は、配向膜の粘度を小さくする必要がある。配向膜の粘度が小さいと、配向膜が周辺に広がりやすくなり、配向膜の形成範囲を正確に規定することが難しくなる。このような場合、実施例2以後で説明している本発明を用いれば、オーバーコート膜203に段差が形成されるので、配向膜の外側への広がりを防止することが出来る。すなわち、本発明を用いることによって、粘度の低い配向膜の塗布が可能になり、配向膜の形成プロセスの選択肢を広げることが出来る。   Note that as a method of forming the alignment film 113, there is a method of forming by an inkjet method in addition to flexographic printing. When forming an alignment film by the inkjet method, it is necessary to reduce the viscosity of the alignment film. When the viscosity of the alignment film is small, the alignment film tends to spread around the periphery, and it becomes difficult to accurately define the formation range of the alignment film. In such a case, if the present invention described in Embodiment 2 and later is used, a step is formed in the overcoat film 203, so that the alignment film can be prevented from spreading outward. That is, by using the present invention, it is possible to apply an alignment film having a low viscosity, and the options for the formation process of the alignment film can be expanded.

尚、上述した実施形態では、シール領域に形成したカラーフィルタを対向基板の端部にまで形成しているが、対向基板端部手前で階段状に終端させてもよい。これにより、基板端部でのカラーフィルタ等の剥れを防止することが可能となる。また、シール領域全域にカラーフィルタを形成するのではなく、シール領域においてカラーフィルタの一部を除去することも可能である。除去部分の形状は島状であっても、基板の辺に平行な細いストライプ状であってもよい。これにより、上記シール領域の一部でオーバーコート膜と遮光膜とが接触する領域が形成される。また、カラーフィルタの段差部がシール部に存在することによって、シール材の接着面積が増大することで、シール材と対向基板の接着強度を高めることが可能となり、シール部の信頼性が向上する。   In the above-described embodiment, the color filter formed in the seal region is formed up to the end of the counter substrate. However, the color filter may be terminated stepwise before the end of the counter substrate. As a result, it is possible to prevent peeling of the color filter or the like at the edge of the substrate. Further, instead of forming the color filter over the entire seal area, it is possible to remove a part of the color filter in the seal area. The shape of the removed portion may be an island shape or a thin stripe shape parallel to the side of the substrate. Thereby, a region where the overcoat film and the light shielding film are in contact with each other is formed in a part of the seal region. Further, since the step portion of the color filter is present in the seal portion, the adhesion area of the seal material is increased, so that the adhesive strength between the seal material and the counter substrate can be increased, and the reliability of the seal portion is improved. .

1…液晶セル、10…表示領域、15…シール材、16…封止材、 30…走査線、 31…走査線引出し線、 40…映像信号線、 41…映像信号線引き出し線、 50…ICドライバ、 51…走査信号駆動回路、 52…映像信号駆動回路、 100…TFT基板、 101…ゲート電極、 102…ゲート絶縁膜、 103…半導体層、 104…ソース電極、 105…ドレイン電極、 106…無機パッシベーション膜、 107…有機パッシベーション膜、 108…対向電極、 109…層間絶縁膜、 110…画素電極、 111…スルーホール、 112…スリット、 113…配向膜、 150…端子部、151…マザー基板シール材、161…マザー基板封止材、 200…対向基板、 201…カラーフィルタ、 201R…赤カラーフィルタ、 201G…緑カラーフィルタ、 201B…青カラーフィルタ、 202…遮光膜、 203…オーバーコート膜、 210…外部導電膜、 300…液晶層、 301…液晶分子、 350…スペーサー、 1000…マザーTFT基板、 2000…マザー対向基板、 2031…オーバーコート膜の劣化部   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal cell, 10 ... Display area, 15 ... Sealing material, 16 ... Sealing material, 30 ... Scan line, 31 ... Scan line lead line, 40 ... Video signal line, 41 ... Video signal line lead line, 50 ... IC Driver 51: Scanning signal driving circuit 52 ... Video signal driving circuit 100 ... TFT substrate 101 ... Gate electrode 102 ... Gate insulating film 103 ... Semiconductor layer 104 ... Source electrode 105 ... Drain electrode 106 ... Inorganic Passivation film, 107 ... Organic passivation film, 108 ... Counter electrode, 109 ... Interlayer insulating film, 110 ... Pixel electrode, 111 ... Through hole, 112 ... Slit, 113 ... Alignment film, 150 ... Terminal part, 151 ... Mother substrate sealing material 161 ... Mother substrate sealing material, 200 ... Counter substrate, 201 ... Color filter, 201R ... Red Lar filter, 201G ... green color filter, 201B ... blue color filter, 202 ... light shielding film, 203 ... overcoat film, 210 ... external conductive film, 300 ... liquid crystal layer, 301 ... liquid crystal molecule, 350 ... spacer, 1000 ... mother TFT Substrate, 2000 ... Mother counter substrate, 2031 ... Degraded part of overcoat film

Claims (7)

第1の基板にTFTと画素電極を形成する工程と、
表示領域とシール部を有する第2の基板の表示領域に遮光膜と3色のカラーフィルタを形成し、前記3色のカラーフィルタの上にオーバーコート膜を形成し、前記シール部には前記遮光膜と、前記カラーフィルタのうちの一色のカラーフィルタと、オーバーコート膜を積層して形成する工程と、
前記表示領域の前記オーバーコート膜の上に配向膜用材料を形成し、前記シール部には前記配向膜用材料を形成しない工程と、
前記第2の基板の前記表示領域の前記配向膜材料と前記シール部に光配向処理を行う紫外線を照射する工程と、
前記シール部において、シール材によって、前記第1の基板と前記第2の基板を接着する工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Forming a TFT and a pixel electrode on a first substrate;
A light shielding film and three color filters are formed on the display area of the second substrate having a display area and a seal portion, an overcoat film is formed on the three color filters, and the light shield is formed on the seal portion. A step of laminating a film, a color filter of one color of the color filters, and an overcoat film;
Forming an alignment film material on the overcoat film in the display region, and not forming the alignment film material on the seal portion;
Irradiating the alignment film material in the display area of the second substrate and ultraviolet rays for performing photo-alignment treatment on the seal portion;
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of bonding the first substrate and the second substrate with a sealing material in the seal portion.
第1の基板にTFTと画素電極を形成する工程と、
表示領域とシール部を有する第2の基板の表示領域に遮光膜と3色のカラーフィルタを形成し、前記3色のカラーフィルタの上にオーバーコート膜を形成し、前記シール部には前記遮光膜と、前記カラーフィルタのうちの複数の色のカラーフィルタと、オーバーコート膜を積層して形成する工程と、
前記表示領域の前記オーバーコート膜の上に配向膜用材料を形成し、前記シール部には前記配向膜材料を形成しない工程と、
前記第2の基板の前記表示領域の前記配向膜材料と前記シール部に光配向処理を行う紫外線を照射する工程と、
前記シール部において、シール材によって、前記第1の基板と前記第2の基板を接着する工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Forming a TFT and a pixel electrode on a first substrate;
A light shielding film and three color filters are formed on the display area of the second substrate having a display area and a seal portion, an overcoat film is formed on the three color filters, and the light shield is formed on the seal portion. A step of laminating a film, a color filter of a plurality of colors among the color filters, and an overcoat film;
Forming an alignment film material on the overcoat film in the display region, and not forming the alignment film material on the seal portion;
Irradiating the alignment film material in the display area of the second substrate and ultraviolet rays for performing photo-alignment treatment on the seal portion;
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of bonding the first substrate and the second substrate with a sealing material in the seal portion.
前記シール部に形成する複数のカラーフィルタのうちのひとつは前記表示領域に形成するカラーフィルタと連続して形成し、前記複数のカラーフィルタのうちの他のカラーフィルタは前記表示領域に形成するカラーフィルタとは連続しないように形成することを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置の製造方法。   One of the plurality of color filters formed on the seal portion is formed continuously with the color filter formed on the display area, and the other color filter of the plurality of color filters is formed on the display area. 3. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 2, wherein the liquid crystal display device is formed so as not to be continuous with the filter. 第1の基板にTFTと画素電極を形成する工程と、
表示領域とシール部を有する第2の基板の表示領域に遮光膜と3色のカラーフィルタを形成し、前記3色のカラーフィルタの上にオーバーコート膜を形成し、前記シール部には前記遮光膜と、前記カラーフィルタのうちの一色のカラーフィルタと、オーバーコート膜を積層し、前記一色のカラーフィルタは前記表示領域の前記3色のカラーフィルタのいずれとも連続しないように形成することによって、前記オーバーコート膜に前記一色のカラーフィルタの端部に対応して段部を形成する工程と、
前記表示領域の前記オーバーコート膜の上に配向膜用材料を形成し、前記シール部には前記配向膜用材料を形成しない工程と、
前記第2の基板の前記表示領域の前記配向膜材料と前記シール部に光配向処理を行う紫外線を照射する工程と、
前記シール部において、シール材によって、前記第1の基板と前記第2の基板を接着する工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Forming a TFT and a pixel electrode on a first substrate;
A light shielding film and three color filters are formed on the display area of the second substrate having a display area and a seal portion, an overcoat film is formed on the three color filters, and the light shield is formed on the seal portion. By laminating a film, a color filter of one color among the color filters, and an overcoat film, the one color filter is formed so as not to be continuous with any of the three color filters in the display region. Forming a step portion corresponding to an end portion of the one color filter in the overcoat film;
Forming an alignment film material on the overcoat film in the display region, and not forming the alignment film material on the seal portion;
Irradiating the alignment film material in the display area of the second substrate and ultraviolet rays for performing photo-alignment treatment on the seal portion;
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of bonding the first substrate and the second substrate with a sealing material in the seal portion.
第1の基板にTFTと画素電極を形成する工程と、
表示領域とシール部を有する第2の基板の表示領域に遮光膜と3色のカラーフィルタを形成し、前記3色のカラーフィルタの上にオーバーコート膜を形成し、前記シール部には前記遮光膜と、前記カラーフィルタのうちの複数の色のカラーフィルタと、オーバーコート膜を積層し、前記複数の色のカラーフィルタは前記表示領域の前記3色のカラーフィルタのいずれとも連続しないように形成することによって、前記オーバーコート膜に前記複数の色のカラーフィルタの端部に対応して段部を形成する工程と、
前記表示領域の前記オーバーコート膜の上に配向膜用材料を形成し、前記シール部には前記配向膜用材料を形成しない工程と、
前記第2の基板の前記表示領域の前記配向膜材料と前記シール部に光配向処理を行う紫外線を照射する工程と、
前記シール部において、シール材によって、前記第1の基板と前記第2の基板を接着する工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Forming a TFT and a pixel electrode on a first substrate;
A light shielding film and three color filters are formed on the display area of the second substrate having a display area and a seal portion, an overcoat film is formed on the three color filters, and the light shield is formed on the seal portion. A film, a color filter of a plurality of colors among the color filters, and an overcoat film are stacked, and the color filters of the plurality of colors are formed so as not to be continuous with any of the three color filters of the display area Forming a step portion corresponding to an end portion of the color filters of the plurality of colors in the overcoat film,
Forming an alignment film material on the overcoat film in the display region, and not forming the alignment film material on the seal portion;
Irradiating the alignment film material in the display area of the second substrate and ultraviolet rays for performing photo-alignment treatment on the seal portion;
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of bonding the first substrate and the second substrate with a sealing material in the seal portion.
第1の基板にTFTと画素電極を形成する工程と、
表示領域とシール部を有する第2の基板の表示領域に遮光膜と3色のカラーフィルタを形成し、前記3色のカラーフィルタの上にオーバーコート膜を形成し、前記シール部には前記遮光膜と、前記カラーフィルタのうちの一色のカラーフィルタと、前記表示領域よりも厚くオーバーコート膜を積層して形成する工程と、
前記表示領域の前記オーバーコート膜の上に配向膜用材料を形成し、前記シール部には前記配向膜用材料を形成しない工程と、
前記第2の基板の前記表示領域の前記配向膜材料と前記シール部に光配向処理を行う紫外線を照射する工程と、
前記シール部において、シール材によって、前記第1の基板と前記第2の基板を接着する工程を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Forming a TFT and a pixel electrode on a first substrate;
A light shielding film and three color filters are formed on the display area of the second substrate having a display area and a seal portion, an overcoat film is formed on the three color filters, and the light shield is formed on the seal portion. A film, a color filter of one color among the color filters, and a step of laminating an overcoat film thicker than the display region;
Forming an alignment film material on the overcoat film in the display region, and not forming the alignment film material on the seal portion;
Irradiating the alignment film material in the display area of the second substrate and ultraviolet rays for performing photo-alignment treatment on the seal portion;
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of bonding the first substrate and the second substrate with a sealing material in the seal portion.
前記シール部における前記オーバーコート膜の膜厚を、前記表示領域における前記オーバーコート膜の膜厚の1.5倍以上となるように形成することを特徴とする請求項6に記載の液晶表示装置の製造方法。   The liquid crystal display device according to claim 6, wherein a film thickness of the overcoat film in the seal portion is formed to be 1.5 times or more of a film thickness of the overcoat film in the display region. Manufacturing method.
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