JPH11183936A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JPH11183936A
JPH11183936A JP35647597A JP35647597A JPH11183936A JP H11183936 A JPH11183936 A JP H11183936A JP 35647597 A JP35647597 A JP 35647597A JP 35647597 A JP35647597 A JP 35647597A JP H11183936 A JPH11183936 A JP H11183936A
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liquid crystal
insulating film
interlayer insulating
display device
display
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Kazushige Miyamoto
和茂 宮本
Naoyuki Shimada
尚幸 島田
Yutaka Fujiki
裕 藤木
Kazuyori Mitsumoto
一順 光本
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Sharp Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device suppressed in display unevenness and improved in display quality by positively providing a difference between a cell gap in a peripheral area and a cell gap in a central part. SOLUTION: After dispersing spacers 16 made of plastic bead between an active matrix substrate 20 and an opposed substrate 19, the substrates are stuck together via a sealing agent mixed with spacers made of glass fiber and filled with liquid crystal. Then, in the space between both substrates 19, 20, two or more hues 17 of color filters are laminated in the peripheral area 3, but the display areas 2a and 2b are narrower than the peripheral area 3 by the portion forming an interlayer insulating film 12, and since the cell gap 15 is determined by the spacers 16 existing in the display areas 2a, 2b and those in a sealing part 18, a uniform cell gap 15 can be obtd. in the display areas 2a and 2b.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、テレビ等のAV機
器およびパソコン等の情報機器に用いる液晶表示装置に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device used for AV equipment such as a television and information equipment such as a personal computer.

【0002】[0002]

【従来の技術】図8に従来の液晶表示装置の断面図を示
す。図8に示すように、アクティブマトリクス基板20
と対向基板19とを貼り合わせて、液晶表示装置が構成
される。その際、均一な液晶層の厚み、所謂セルギャッ
プ15を得るために、両基板19および20の間にプラ
スチックビーズ等のスペーサー16を散布した後、ガラ
スファイバー等のスペーサーを混入したシール材を用い
て貼り合わせている。
2. Description of the Related Art FIG. 8 is a sectional view of a conventional liquid crystal display device. As shown in FIG. 8, the active matrix substrate 20
The liquid crystal display device is constituted by bonding the substrate and the counter substrate 19 together. At this time, in order to obtain a uniform thickness of the liquid crystal layer, that is, a so-called cell gap 15, a spacer 16 such as a plastic bead is sprayed between the substrates 19 and 20, and then a sealing material mixed with a spacer such as a glass fiber is used. And stuck together.

【0003】その際、シール部18も含めてアクティブ
マトリクス基板20を平坦化する方法が特開平7−12
8670号公報に開示されている。また、シール部18
の層間絶縁膜12を除去する方法が特開平6−1865
80号公報に開示されている。
At this time, a method for flattening the active matrix substrate 20 including the seal portion 18 is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 7-12 / 1995.
No. 8670 discloses this. Also, the sealing portion 18
A method for removing the interlayer insulating film 12 is disclosed in
No. 80 is disclosed.

【0004】このような液晶表示装置において、カラー
表示を実現するためには、対向基板19上に、カラーフ
ィルターを形成する構成が一般的である。このカラーフ
ィルターには、色の混じりまたは光漏れを防止するため
にブラックマトリクスを形成する方法が用いられてい
る。
In such a liquid crystal display device, a color filter is generally formed on the counter substrate 19 in order to realize color display. For this color filter, a method of forming a black matrix is used to prevent color mixing or light leakage.

【0005】一方、アクティブマトリクス基板20に形
成した配線を遮光膜として用いて、対向基板19上にブ
ラックマトリクスを形成しない構成とした場合では、光
漏れを防止するために周辺領域3の遮光を如何に行うか
が課題となる。
On the other hand, in the case where the wiring formed on the active matrix substrate 20 is used as a light shielding film and the black matrix is not formed on the counter substrate 19, the light shielding of the peripheral region 3 is required to prevent light leakage. Is the issue.

【0006】この解決策として、2つ以上の色相17の
カラーフィルターを重ねることで周辺領域3の遮光を行
う構造がある。従来の液晶表示装置において、対向基板
19上にブラックマトリクスを形成しない構成とした場
合、光漏れを防止して周辺領域3の遮光を行うために、
2つ以上の色相17を対向基板19上で重ねて遮光パタ
ーンを構成すれば、透過率は1%程度となって周辺領域
3の遮光は可能となる。
As a solution to this, there is a structure in which the peripheral region 3 is shielded by superposing two or more color filters of the hue 17. In a conventional liquid crystal display device, when a black matrix is not formed on the counter substrate 19, in order to prevent light leakage and to shield the peripheral region 3,
If two or more hues 17 are overlapped on the opposing substrate 19 to form a light-shielding pattern, the transmittance becomes about 1%, and light-shielding of the peripheral region 3 becomes possible.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、2つ以
上の色相17のカラーフィルターを2層積層して遮光パ
ターンを形成した場合、周辺領域3における対向基板1
9の厚み24bが、表示領域2aおよび2bにおける対
向基板19の厚み24aより厚くなってしまうので、ス
ペーサー16によってセルギャップ15を制御しようと
した場合、表示領域2aおよび2bのギャップ制御が困
難になる。
However, when a light-shielding pattern is formed by laminating two or more color filters of two or more hues 17, the opposing substrate 1 in the peripheral region 3 is formed.
9 becomes thicker than the thickness 24a of the opposing substrate 19 in the display regions 2a and 2b. Therefore, when the cell gap 15 is controlled by the spacer 16, it is difficult to control the gap between the display regions 2a and 2b. .

【0008】また、表示領域2aおよび2bとシール部
18近傍のセルギャップ15がほぼ等しい場合、例えば
表示領域2aおよび2bと周辺領域3とのセルギャップ
15の差が0.3μm以内の場合には、シール部18中
にふくまれる未硬化成分が液晶層に突出し、イオン性の
不純物が液晶の時定数を低下させて表示品位の劣化を引
き起こしてしまう。
When the cell gaps 15 near the display regions 2a and 2b and the seal portion 18 are substantially equal, for example, when the difference between the cell gaps 15 between the display regions 2a and 2b and the peripheral region 3 is within 0.3 μm. In addition, uncured components included in the seal portion 18 protrude into the liquid crystal layer, and ionic impurities lower the time constant of the liquid crystal, causing deterioration in display quality.

【0009】本発明は、以上のような従来の問題点に鑑
みなされたものであって、周辺領域のセルギャップと中
央部分のセルギャップとの差を積極的に設けることによ
り、表示むらを抑制し、表示品位を向上させた液晶表示
装置を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and suppresses display unevenness by positively providing a difference between a cell gap in a peripheral region and a cell gap in a central portion. It is another object of the present invention to provide a liquid crystal display device having improved display quality.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明の請求項1記載の液晶表示装置は、一対
の基板がシール材料を介して貼り合わされ、前記一対の
基板間に液晶層を有し、前記シール材料の近傍が非表示
領域である液晶表示装置において、前記液晶層の厚み
が、表示領域よりも前記非表示領域の方が厚く形成され
ていることを特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: a pair of substrates bonded to each other via a sealing material; In a liquid crystal display device having a layer and a non-display area near the seal material, the thickness of the liquid crystal layer is formed to be thicker in the non-display area than in the display area.

【0011】請求項2記載の液晶表示装置は、請求項1
記載の液晶表示装置において、前記一対の基板のうち何
れか一方は、カラーフィルターが形成されたカラーフィ
ルター基板であり、前記非表示領域は前記カラーフィル
ターの色相のうち異なる色相を積層することで遮光膜と
していることを特徴としている。
The liquid crystal display device according to the second aspect is the first aspect.
In the liquid crystal display device described in the above, one of the pair of substrates is a color filter substrate on which a color filter is formed, and the non-display region is shielded by stacking different hues of the hues of the color filter. It is characterized by being a film.

【0012】請求項3記載の液晶表示装置は、請求項1
または請求項2記載の液晶表示装置において、前記一対
の基板のうち何れか一方は、ゲート信号線、ソース信号
線およびスイッチング素子を覆って層間絶縁膜が設けら
れ、前記層間絶縁膜上にコンタクトホールを介して前記
スイッチング素子に接続される絵素電極が設けられたア
クティブマトリクス基板であり、前記層間絶縁膜は、前
記非表示領域が除去、または前記非表示領域が前記表示
領域よりも薄く形成されていることを特徴としている。
The liquid crystal display device according to the third aspect is the first aspect.
3. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein one of the pair of substrates is provided with an interlayer insulating film covering a gate signal line, a source signal line, and a switching element, and a contact hole is provided on the interlayer insulating film. An active matrix substrate provided with a picture element electrode connected to the switching element through the inter-layer insulating film, wherein the non-display area is removed or the non-display area is formed thinner than the display area. It is characterized by having.

【0013】請求項4記載の液晶表示装置は、請求項3
記載の液晶表示装置において、前記層間絶縁膜が2層以
上で形成され、前記非表示領域の前記層間絶縁膜は、前
記表示領域よりも1層以上少ない層で形成されているこ
とを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device.
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the interlayer insulating film is formed with two or more layers, and the interlayer insulating film in the non-display region is formed with one or more layers smaller than the display region. .

【0014】本発明の液晶表示装置によれば、液晶層の
厚みが表示領域よりも非表示領域の方が厚く形成されて
いることにより、スペーサーによってセルギャップを制
御する際に表示領域のギャップ制御が容易かつ正確に行
うことができる。さらに、表示領域と非表示領域とのセ
ルギャップの差を大きくすることにより、シール樹脂中
に含まれる未硬化成分の突出を防ぐことができる。
According to the liquid crystal display device of the present invention, the thickness of the liquid crystal layer is formed thicker in the non-display area than in the display area. Can be performed easily and accurately. Further, by increasing the difference in cell gap between the display area and the non-display area, it is possible to prevent the uncured component contained in the sealing resin from projecting.

【0015】また、一対の基板のうち何れか一方は、カ
ラーフィルターが形成されたカラーフィルター基板であ
り、非表示領域はカラーフィルターの色相のうち異なる
色相を積層することで遮光膜としている場合であって
も、スペーサーによってセルギャップを制御する際に表
示領域のギャップ制御が容易かつ正確に行うことができ
る。さらに、表示領域と非表示領域とのセルギャップの
差を大きくすることにより、シール樹脂中に含まれる未
硬化成分の突出を防ぐことができる。
One of the pair of substrates is a color filter substrate on which a color filter is formed, and the non-display area is a light-shielding film formed by stacking different hues of the hues of the color filters. Even so, when controlling the cell gap by the spacer, the gap control of the display region can be easily and accurately performed. Further, by increasing the difference in cell gap between the display area and the non-display area, it is possible to prevent the uncured component contained in the sealing resin from projecting.

【0016】また、一対の基板のうち何れか一方は、ゲ
ート信号線、ソース信号線およびスイッチング素子を覆
って層間絶縁膜が設けられ、層間絶縁膜上にコンタクト
ホールを介してスイッチング素子に接続される絵素電極
が設けられたアクティブマトリクス基板であり、層間絶
縁膜は、非表示領域が除去、または非表示領域が表示領
域よりも薄く形成されていることにより、スペーサーに
よってセルギャップを制御する際に表示領域のギャップ
制御が容易かつ正確に行うことができる。さらに、表示
領域と非表示領域とのセルギャップの差を大きくするこ
とにより、シール樹脂中に含まれる未硬化成分の突出を
防ぐことができる。
Further, one of the pair of substrates is provided with an interlayer insulating film covering the gate signal line, the source signal line and the switching element, and is connected to the switching element via a contact hole on the interlayer insulating film. An active matrix substrate provided with a pixel electrode, the non-display region of the interlayer insulating film is removed, or the non-display region is formed thinner than the display region. In addition, the gap control of the display area can be easily and accurately performed. Further, by increasing the difference in cell gap between the display area and the non-display area, it is possible to prevent the uncured component contained in the sealing resin from projecting.

【0017】また、層間絶縁膜が2層以上で形成され、
非表示領域の層間絶縁膜は、表示領域よりも1層以上少
ない層で形成されていることにより、層間絶縁膜の下層
に形成される配線が剥き出しになることが無く、異物の
付着などによる配線間の短絡を防止することができる。
Further, the interlayer insulating film is formed of two or more layers,
Since the interlayer insulating film in the non-display region is formed of one or more layers less than the display region, the wiring formed under the interlayer insulating film does not become exposed, and the wiring due to the adhesion of foreign matter or the like does not occur. A short circuit between them can be prevented.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1乃至図7を用いて、本発明の
実施の形態について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0019】(実施の形態1)図1は本発明に係わる液
晶表示装置の周辺部の構成を示す平面図である。図1に
示すように、周辺領域3の遮光膜は膜厚1.5μmのカ
ラーフィルター4の色相を2層重ねたパターンを設ける
ことによって形成する。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a peripheral portion of a liquid crystal display device according to the present invention. As shown in FIG. 1, the light-shielding film in the peripheral region 3 is formed by providing a pattern in which two hues of the color filter 4 having a thickness of 1.5 μm are overlapped.

【0020】このときの2つの色相としては、赤色と青
色とを重ねる構成としたが、これはこの組み合わせが最
も透過率を小さくできるからである。この組み合わせで
は、ほぼ周辺領域3の透過率を1%程度とすることがで
き、対向基板(カラーフィルター基板)上にブラックマ
トリクスを形成しなくても、周辺領域3を遮光すること
ができる。
At this time, the two hues are configured such that red and blue are superimposed, because this combination can minimize the transmittance. In this combination, the transmittance of the peripheral region 3 can be approximately 1%, and the peripheral region 3 can be shielded from light without forming a black matrix on the counter substrate (color filter substrate).

【0021】また、カラーフィルター4の色相を2層重
ねた部分のアクティブマトリクス基板上では、ソース信
号線と画素電極との間の層間絶縁膜をコンタクトホール
形成時に除去する。
On the active matrix substrate where two hues of the color filter 4 are overlapped, the interlayer insulating film between the source signal line and the pixel electrode is removed when forming the contact hole.

【0022】図2は本発明に係わる液晶表示装置を構成
するアクティブマトリクス基板を示す断面図である。図
2に示すように、アクティブマトリクス基板20は、透
明絶縁性基板上にゲート電極5、ゲート絶縁膜8、チャ
ネル保護膜9、ソース電極6となるN型シリコン層、ド
レイン電極7となるN型シリコン層を形成し、さらにソ
ース信号線10およびドレイン信号線11を順次スパッ
タ法によって形成し、フォトリソ工程によってパターニ
ングする。
FIG. 2 is a sectional view showing an active matrix substrate constituting the liquid crystal display device according to the present invention. As shown in FIG. 2, the active matrix substrate 20 is composed of a gate insulating film 8, a gate insulating film 8, a channel protective film 9, an N-type silicon layer serving as a source electrode 6, and an N-type serving as a drain electrode 7 on a transparent insulating substrate. A silicon layer is formed, and a source signal line 10 and a drain signal line 11 are sequentially formed by a sputtering method, and are patterned by a photolithography process.

【0023】ソース信号線10を構成する層を金属層と
ITO層との2層構造とすることにより、仮に金属層の
一部に欠陥があっても、ITOによって電気的に接続さ
れているため、ソース信号線10の断線を防止できる利
点がある。
Since the source signal line 10 has a two-layer structure of a metal layer and an ITO layer, even if a part of the metal layer has a defect, the source signal line 10 is electrically connected by the ITO. In addition, there is an advantage that disconnection of the source signal line 10 can be prevented.

【0024】さらに、層間絶縁膜12として感光性有機
絶縁膜をスピン塗布法によって3μmの膜厚で形成し、
露光工程と現像工程とによって層間絶縁膜12に図示し
ないコンタクトホールを形成する。さらに、画素電極2
2となる透明導電膜をスパッタ法によって形成し、フォ
トリソ法によってパターニングする。
Further, a photosensitive organic insulating film having a thickness of 3 μm is formed as an interlayer insulating film 12 by a spin coating method.
A contact hole (not shown) is formed in the interlayer insulating film 12 by the exposure step and the development step. Further, the pixel electrode 2
A transparent conductive film to be No. 2 is formed by a sputtering method and patterned by a photolithography method.

【0025】画素電極22は層間絶縁膜12を貫く図示
しないコンタクトホールを介してTFTのドレイン電極
7と接続されている。このような構造とすることによ
り、表示領域の内部おいては、液晶に電界を印加されな
い領域はすべてソース信号線10およびドレイン信号線
11によって遮光されるため、ブラックマトリクスのな
い構造とすることができる。
The pixel electrode 22 is connected to the drain electrode 7 of the TFT via a contact hole (not shown) penetrating the interlayer insulating film 12. With such a structure, in the display region, all regions to which no electric field is applied to the liquid crystal are shielded from light by the source signal lines 10 and the drain signal lines 11, so that a structure without a black matrix can be obtained. it can.

【0026】図3は本発明に係わる液晶表示装置の基板
上の回路図である。図3に示すように、入力端子1の一
方はソース信号線10と、他の一方の入力端子1はゲー
ト信号線23と接続している。アクティブマトリクス基
板は、上記信号線10および23、TFT13並びに補
助容量(Cs)14から構成されている。
FIG. 3 is a circuit diagram on a substrate of the liquid crystal display device according to the present invention. As shown in FIG. 3, one of the input terminals 1 is connected to the source signal line 10 and the other input terminal 1 is connected to the gate signal line 23. The active matrix substrate includes the signal lines 10 and 23, the TFT 13, and the storage capacitor (Cs) 14.

【0027】図4は実施の形態1に係わる液晶表示装置
を示す断面図である。図4に示すように、アクティブマ
トリクス基板20と対向基板19との間に、プラスチッ
クビーズからなるスペーサー16を散布した後、ガラス
ファイバーからなるスペーサーを混入したシール材を介
して貼り合わせ、液晶を注入する。
FIG. 4 is a sectional view showing the liquid crystal display device according to the first embodiment. As shown in FIG. 4, after the spacers 16 made of plastic beads are sprayed between the active matrix substrate 20 and the counter substrate 19, they are bonded via a sealing material mixed with a spacer made of glass fiber, and the liquid crystal is injected. I do.

【0028】このとき、両基板19および20の間隔
は、周辺領域3でカラーフィルターの2つ以上の色相1
7を積層しているが、表示領域2aおよび2bの方が周
辺領域3よりも層間絶縁膜12を形成している分狭くな
っており、セルギャップ15は表示領域2aおよび2b
に存在するスペーサー16およびシール部18内の図示
しないスペーサーによって決定されるため、表示領域2
aおよび2bでは均一なセルギャップ15が得られる。
At this time, the distance between the two substrates 19 and 20 is such that two or more hues 1
7, the display regions 2a and 2b are narrower than the peripheral region 3 by the formation of the interlayer insulating film 12, and the cell gap 15 is smaller than the display regions 2a and 2b.
Is determined by the spacer 16 existing in the display region and the spacer (not shown) in the seal portion 18.
In a and 2b, a uniform cell gap 15 is obtained.

【0029】さらに、表示領域2aおよび2bと周辺領
域3とのセルギャップ15の差を0.3μm以上にすれ
ば、シール部18の未硬化成分が液晶層に突出してイオ
ン性の不純物が液晶の時定数を低下させることで表示品
位の劣化を起こすことがない。
Furthermore, if the difference in cell gap 15 between the display regions 2a and 2b and the peripheral region 3 is set to 0.3 μm or more, the uncured component of the seal portion 18 protrudes into the liquid crystal layer, and ionic impurities are removed from the liquid crystal layer. By lowering the time constant, display quality does not deteriorate.

【0030】(実施の形態2)図5は実施の形態2に係
わる液晶表示装置を示す断面図である。図5に示すよう
に、アクティブマトリクス基板20と対向基板19との
間にプラスチックビーズからなるスペーサー16を散布
した後、ガラスファイバーからなるスペーサーを混入し
たシール材を介して貼り合わせ、液晶を注入する。
(Embodiment 2) FIG. 5 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to Embodiment 2. As shown in FIG. 5, after the spacers 16 made of plastic beads are sprayed between the active matrix substrate 20 and the counter substrate 19, they are bonded together via a sealing material mixed with a spacer made of glass fiber, and the liquid crystal is injected. .

【0031】ここでは、層間絶縁膜を窒化シリコン膜2
1と層間絶縁膜12の2層構造として、周辺領域3の層
間絶縁膜12のみをコンタクトホール形成時に除去す
る。
Here, the interlayer insulating film is formed of a silicon nitride film 2
As a two-layer structure of 1 and the interlayer insulating film 12, only the interlayer insulating film 12 in the peripheral region 3 is removed at the time of forming the contact hole.

【0032】このとき、両基板19および20の間隔
は、周辺領域3でカラーフィルターの2つ以上の色相1
7を積層しているが、表示領域2aおよび2bの方が周
辺領域3よりも層間絶縁膜12を形成している分狭くな
っており、セルギャップ15は表示領域2aおよび2b
に存在するスペーサー16およびシール部18内の図示
しないスペーサーによって決定されるため、表示領域2
aおよび2bでは均一なセルギャップ15が得られる。
At this time, the distance between the two substrates 19 and 20 is such that two or more hues 1
7, the display regions 2a and 2b are narrower than the peripheral region 3 by the formation of the interlayer insulating film 12, and the cell gap 15 is smaller than the display regions 2a and 2b.
Is determined by the spacer 16 existing in the display region and the spacer (not shown) in the seal portion 18.
In a and 2b, a uniform cell gap 15 is obtained.

【0033】さらに、表示領域2aおよび2bと周辺領
域3とのセルギャップ15の差を0.3μm以上にすれ
ば、シール部18の未硬化成分が液晶層に突出してイオ
ン性の不純物が液晶の時定数を低下させることで表示品
位の劣化を起こすことがない。
Further, if the difference in cell gap 15 between the display regions 2a and 2b and the peripheral region 3 is set to 0.3 μm or more, the uncured component of the seal portion 18 protrudes into the liquid crystal layer and ionic impurities are removed from the liquid crystal layer. By lowering the time constant, display quality does not deteriorate.

【0034】さらに、この構造では、層間絶縁膜12が
配線上に形成されるので、配線間の短絡を防止すること
ができる。
Further, in this structure, since the interlayer insulating film 12 is formed on the wiring, a short circuit between the wirings can be prevented.

【0035】(実施の形態3)図6は実施の形態3に係
わる液晶表示装置を示す断面図である。図6に示すよう
に、アクティブマトリクス基板20と対向基板19との
間にプラスチックビーズからなるスペーサー16を散布
した後、ガラスファイバーからなるスペーサーを混入し
たシール材を介して貼り合わせ、液晶を注入する。
(Embodiment 3) FIG. 6 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to Embodiment 3. As shown in FIG. 6, after a spacer 16 made of plastic beads is scattered between the active matrix substrate 20 and the counter substrate 19, they are bonded via a sealing material mixed with a spacer made of glass fiber, and liquid crystal is injected. .

【0036】ここでは、周辺領域3の層間絶縁膜12を
コンタクトホール形成時に除去する。
Here, the interlayer insulating film 12 in the peripheral region 3 is removed when forming the contact hole.

【0037】このとき、両基板19および20の間隔
は、表示領域2aおよび2bの方が周辺領域3よりも層
間絶縁膜12を形成している分狭くなっており、セルギ
ャップ15は表示領域2aおよび2bに存在するスペー
サー16およびシール部18内の図示しないスペーサー
によって決定されるため、表示領域2aおよび2bでは
均一なセルギャップ15が得られる。
At this time, the distance between the substrates 19 and 20 is smaller in the display regions 2a and 2b than in the peripheral region 3 by the formation of the interlayer insulating film 12, and the cell gap 15 is smaller than the display region 2a. And the spacers (not shown) in the seal portion 18 present in the display regions 2a and 2b, a uniform cell gap 15 is obtained in the display regions 2a and 2b.

【0038】さらに、表示領域2aおよび2bと周辺領
域3とのセルギャップ15の差を0.3μm以上にすれ
ば、シール部18の未硬化成分が液晶層に突出してイオ
ン性の不純物が液晶の時定数を低下させることで表示品
位の劣化を起こすことがない。
Further, if the difference in cell gap 15 between the display regions 2a and 2b and the peripheral region 3 is set to 0.3 μm or more, the uncured component of the seal portion 18 protrudes into the liquid crystal layer, and ionic impurities are removed from the liquid crystal. By lowering the time constant, display quality does not deteriorate.

【0039】(実施の形態4)図7は実施の形態4に係
わる液晶表示装置を示す断面図である。図7に示すよう
に、アクティブマトリクス基板20と対向基板19との
間にプラスチックビーズからなるスペーサー16を散布
した後、ガラスファイバーからなるスペーサーを混入し
たシール材を介して貼り合わせ、液晶を注入する。
(Embodiment 4) FIG. 7 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to Embodiment 4. As shown in FIG. 7, after the spacers 16 made of plastic beads are sprayed between the active matrix substrate 20 and the counter substrate 19, they are pasted together via a sealing material mixed with a spacer made of glass fiber, and liquid crystal is injected. .

【0040】ここでは、層間絶縁膜12を感光性有機絶
縁膜を用いて形成し、表示領域2aおよび2bと周辺領
域3とで露光量を変え、周辺領域3の感光性有機絶縁膜
からなる層間絶縁膜12を0.3μm以上表示領域2a
および2bの感光性有機絶縁膜より薄くなるように形成
する。
Here, the interlayer insulating film 12 is formed using a photosensitive organic insulating film, the exposure amount is changed between the display regions 2a and 2b and the peripheral region 3, and the interlayer insulating film composed of the photosensitive organic insulating film in the peripheral region 3 is formed. The insulating film 12 is formed to have a display area
And 2b so as to be thinner than the photosensitive organic insulating film.

【0041】このとき、両基板19および20の間隔
は、表示領域2aおよび2bの方が周辺領域3よりも層
間絶縁膜12が厚い分狭くなっており、セルギャップ1
5は表示領域2aおよび2bに存在するスペーサー16
およびシール部18内の図示しないスペーサーによって
決定されるため、表示領域2aおよび2bでは均一なセ
ルギャップ15が得られる。
At this time, the distance between the substrates 19 and 20 is smaller in the display regions 2a and 2b by the thickness of the interlayer insulating film 12 than in the peripheral region 3 and the cell gap 1
5 is a spacer 16 existing in the display areas 2a and 2b.
And a spacer (not shown) in the seal portion 18, a uniform cell gap 15 is obtained in the display regions 2a and 2b.

【0042】さらに、表示領域2aおよび2bと周辺領
域3とのセルギャップ15の差が0.3μm以上あるの
で、シール部18の未硬化成分が液晶層に突出してイオ
ン性の不純物が液晶の時定数を低下させることで表示品
位の劣化を起こすことがない。
Further, since the difference in cell gap 15 between the display regions 2a and 2b and the peripheral region 3 is 0.3 μm or more, the uncured component of the seal portion 18 projects into the liquid crystal layer and the ionic impurities are liquid crystal. By lowering the constant, display quality does not deteriorate.

【0043】さらに、この構造では、層間絶縁膜12が
配線上に形成されるので、配線間の短絡を防止すること
ができる。
Further, in this structure, since the interlayer insulating film 12 is formed on the wiring, a short circuit between the wirings can be prevented.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上の説明のように、本発明の液晶表示
装置によれば、液晶層の厚みが表示領域よりも非表示領
域の方が厚く形成されていることにより、表示領域のギ
ャップ制御が容易かつ正確に行うことができる。さら
に、シール樹脂中に含まれる未硬化成分の突出による表
示品位の低下を防ぐことができる。
As described above, according to the liquid crystal display device of the present invention, since the thickness of the liquid crystal layer is larger in the non-display area than in the display area, the gap control of the display area is achieved. Can be performed easily and accurately. Further, it is possible to prevent the display quality from deteriorating due to the protrusion of the uncured component contained in the sealing resin.

【0045】また、一対の基板のうち何れか一方は、カ
ラーフィルターが形成されたカラーフィルター基板であ
り、非表示領域はカラーフィルターの色相のうち異なる
色相を積層することで遮光膜としている場合であって
も、表示領域のギャップ制御が容易かつ正確に行うこと
ができる。さらに、シール樹脂中に含まれる未硬化成分
の突出による表示品位の低下を防ぐことができる。
One of the pair of substrates is a color filter substrate on which a color filter is formed, and the non-display area is a light shielding film formed by stacking different hues of the hues of the color filters. Even so, gap control of the display area can be performed easily and accurately. Further, it is possible to prevent the display quality from deteriorating due to the protrusion of the uncured component contained in the sealing resin.

【0046】また、一対の基板のうち何れか一方は、ゲ
ート信号線、ソース信号線およびスイッチング素子を覆
って層間絶縁膜が設けられ、層間絶縁膜上にコンタクト
ホールを介してスイッチング素子に接続される絵素電極
が設けられたアクティブマトリクス基板であり、層間絶
縁膜は、非表示領域が除去、または非表示領域が表示領
域よりも薄く形成されていることにより、表示領域のギ
ャップ制御が容易かつ正確に行うことができる。さら
に、シール樹脂中に含まれる未硬化成分の突出による表
示品位の低下を防ぐことができる。
One of the pair of substrates is provided with an interlayer insulating film covering the gate signal line, the source signal line and the switching element, and is connected to the switching element via a contact hole on the interlayer insulating film. An active matrix substrate provided with a pixel electrode, the non-display region of the interlayer insulating film is removed, or the non-display region is formed thinner than the display region, so that the gap control of the display region is easy and easy. Can be done accurately. Further, it is possible to prevent the display quality from deteriorating due to the protrusion of the uncured component contained in the sealing resin.

【0047】また、層間絶縁膜が2層以上で形成され、
非表示領域の層間絶縁膜は、表示領域よりも1層以上少
ない層で形成されていることにより、層間絶縁膜の下層
に形成される配線が剥き出しになることが無く、異物の
付着などによる配線間の短絡を防止することができる。
Further, the interlayer insulating film is formed of two or more layers,
Since the interlayer insulating film in the non-display region is formed of one or more layers less than the display region, the wiring formed under the interlayer insulating film does not become exposed, and the wiring due to the adhesion of foreign matter or the like does not occur. A short circuit between them can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係わる液晶表示装置の周辺部の構成を
示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a configuration of a peripheral portion of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図2】本発明に係わる液晶表示装置を構成するアクテ
ィブマトリクス基板を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating an active matrix substrate included in the liquid crystal display device according to the present invention.

【図3】本発明に係わる液晶表示装置の基板上の回路図
である。
FIG. 3 is a circuit diagram on a substrate of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図4】実施の形態1に係わる液晶表示装置を示す断面
図である。
FIG. 4 is a sectional view showing the liquid crystal display device according to the first embodiment.

【図5】実施の形態2に係わる液晶表示装置を示す断面
図である。
FIG. 5 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to a second embodiment.

【図6】実施の形態3に係わる液晶表示装置を示す断面
図である。
FIG. 6 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to a third embodiment.

【図7】実施の形態4に係わる液晶表示装置を示す断面
図である。
FIG. 7 is a sectional view showing a liquid crystal display device according to a fourth embodiment.

【図8】従来の液晶表示装置を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing a conventional liquid crystal display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 入力端子 2a 表示領域中央部 2b 表示領域周辺部 3 周辺領域 4 カラーフィルター 5 ゲート電極 6 ソース電極 7 ドレイン電極 8 ゲート絶縁膜 9 チャネル保護膜 10 ソース信号線 11 ドレイン信号線 12 層間絶縁膜 13 TFT 14 補助容量(Cs) 15 セルギャップ 16 スペーサー 17 2つ以上の色相 18 シール部 19 対向基板 20 アクティブマトリクス基板 21 窒化シリコン膜 22 画素電極 23 ゲート信号線 24a 表示領域における対向基板の厚み 24b 周辺領域における対向基板の厚み DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Input terminal 2a Display area center part 2b Display area peripheral part 3 Peripheral area 4 Color filter 5 Gate electrode 6 Source electrode 7 Drain electrode 8 Gate insulating film 9 Channel protective film 10 Source signal line 11 Drain signal line 12 Interlayer insulating film 13 TFT DESCRIPTION OF SYMBOLS 14 Auxiliary capacitance (Cs) 15 Cell gap 16 Spacer 17 Two or more hues 18 Seal part 19 Counter substrate 20 Active matrix substrate 21 Silicon nitride film 22 Pixel electrode 23 Gate signal line 24a Thickness of counter substrate in display area 24b In peripheral area Opposite substrate thickness

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 光本 一順 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Ichijun Mitsumoto 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka City, Osaka Inside Sharp Corporation

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の基板がシール材料を介して貼り合
わされ、前記一対の基板間に液晶層を有し、前記シール
材料の近傍が非表示領域である液晶表示装置において、 前記液晶層の厚みが、表示領域よりも前記非表示領域の
方が厚く形成されていることを特徴とする液晶表示装
置。
1. A liquid crystal display device in which a pair of substrates are bonded to each other with a sealing material interposed therebetween, a liquid crystal layer is provided between the pair of substrates, and a non-display region is in the vicinity of the sealing material. Wherein the non-display area is formed thicker than the display area.
【請求項2】 前記一対の基板のうち何れか一方は、カ
ラーフィルターが形成されたカラーフィルター基板であ
り、前記非表示領域は前記カラーフィルターの色相のう
ち異なる色相を積層することで遮光膜としていることを
特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
2. One of the pair of substrates is a color filter substrate on which a color filter is formed, and the non-display region is formed as a light shielding film by stacking different hues of the hues of the color filters. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記一対の基板のうち何れか一方は、ゲ
ート信号線、ソース信号線およびスイッチング素子を覆
って層間絶縁膜が設けられ、前記層間絶縁膜上にコンタ
クトホールを介して前記スイッチング素子に接続される
絵素電極が設けられたアクティブマトリクス基板であ
り、前記層間絶縁膜は、前記非表示領域が除去、または
前記非表示領域が前記表示領域よりも薄く形成されてい
ることを特徴とする請求項1または請求項2記載の液晶
表示装置。
3. One of the pair of substrates is provided with an interlayer insulating film covering a gate signal line, a source signal line, and a switching element, and the switching element is provided on the interlayer insulating film via a contact hole. An active matrix substrate provided with a pixel electrode connected to the semiconductor device, wherein the interlayer insulating film has the non-display region removed or the non-display region is formed thinner than the display region. The liquid crystal display device according to claim 1 or 2, wherein:
【請求項4】 前記層間絶縁膜が2層以上で形成され、
前記非表示領域の前記層間絶縁膜は、前記表示領域より
も1層以上少ない層で形成されていることを特徴とする
請求項3記載の液晶表示装置。
4. The method according to claim 1, wherein the interlayer insulating film is formed of two or more layers.
4. The liquid crystal display device according to claim 3, wherein the interlayer insulating film in the non-display area is formed of one or more layers less than the display area.
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