JP2013161404A - Conductive film and touch panel - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は導電性フィルム及びタッチパネルに関する。 The present invention relates to a conductive film and a touch panel.
近年、液晶表示装置等の画像表示装置が注目され、その用途の1つとして、携帯用電子手帳、携帯用マルチメディア機器などへの応用が期待されている。これらの携帯用電子手帳、携帯用マルチメディア機器などの入力装置としては、画像表示装置の表示素子の上にタッチパネルを載せたものが主流となっている。タッチパネルとしては、例えば静電容量方式等が挙げられ、静電容量方式タッチパネルの導電性フィルムは、一般に基材フィルムの一方の面に、酸化錫又は酸化インジウム錫の金属酸化物を主成分とした導電性層が、レーザーアブレーション法やケミカルエッチング等によりパターニングされた2つの導電性フィルムから構成されている。 In recent years, image display devices such as liquid crystal display devices have attracted attention, and as one of their uses, application to portable electronic notebooks, portable multimedia devices, and the like is expected. As input devices such as these portable electronic notebooks and portable multimedia devices, those in which a touch panel is placed on a display element of an image display device are mainly used. As the touch panel, for example, a capacitance method or the like can be mentioned, and the conductive film of the capacitance method touch panel generally has a metal oxide of tin oxide or indium tin oxide as a main component on one surface of the base film. The conductive layer is composed of two conductive films patterned by a laser ablation method, chemical etching, or the like.
近年、短波長領域の透過率が低いことに起因した黄色味問題から酸化錫又は酸化インジウム錫に代わる導電性層として、透明性、低抵抗性に優れる銀などの金属ナノワイヤなどの透明導電性材料を含む導電性層が提案されている(特許文献1参照)。 Transparent conductive materials such as metal nanowires such as silver, which are excellent in transparency and low resistance, as a conductive layer that replaces tin oxide or indium tin oxide due to the yellowness problem caused by low transmittance in the short wavelength region in recent years There has been proposed a conductive layer containing (see Patent Document 1).
一方、基材フィルムは加工適性や取扱性に優れる点から、通常、ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)が使われている。 On the other hand, a polyethylene terephthalate film (PET film) is usually used as the base film because it is excellent in processability and handleability.
ところが、タッチパネルなどにPETフィルムから構成される導電性フィルムを用いると、黒字表示などで、虹色模様(干渉縞)が発生しやすかった。 However, when a conductive film composed of a PET film is used for a touch panel or the like, a rainbow pattern (interference fringes) is likely to occur due to black display.
このため、PETフィルムに代わって等方性に優れるセルロースアシレートフィルムを基材フィルムとして用いたところ、虹色模様(干渉縞)の改善だけでは無く、銀などの金属ナノワイヤなどの透明導電性材料から構成される導電性層との密着性に優れる事が判った。 For this reason, when a cellulose acylate film excellent in isotropy is used as a base film instead of PET film, not only the improvement of iridescent patterns (interference fringes) but also transparent conductive materials such as metal nanowires such as silver It was found that the adhesive layer was excellent in adhesion with the conductive layer.
これは、透明導電性材料の組成物に分散剤として含まれるセルロースエステル化合物により導電性層が親水性を有し、親水性を有するセルロース化合物を含む層同士が積層されるため、密着性に優れると推定される。 This is because the conductive layer has hydrophilicity by the cellulose ester compound contained as a dispersant in the composition of the transparent conductive material, and the layers containing the hydrophilic cellulose compound are laminated to each other, so that the adhesiveness is excellent. It is estimated to be.
しかしながら、セルロースアシレートフィルム上に銀などの金属ナノワイヤなどの透明導電性材料からなる導電性層を有する導電性フィルムは、長期使用を想定した耐熱試験後に、カールが発生したり、ヘイズの上昇や全光線透過率が低下する等の問題がることが判明した。光学特性が劣化し、タッチパネルなどの画像表示装置に用いた際に視認性の低下が著しいことから、これらの問題の解決が望まれていた。 However, a conductive film having a conductive layer made of a transparent conductive material such as a metal nanowire such as silver on a cellulose acylate film may cause curling or increase in haze after a heat test assuming long-term use. It has been found that there are problems such as a decrease in total light transmittance. Since optical characteristics are deteriorated and the visibility is remarkably lowered when used in an image display device such as a touch panel, it has been desired to solve these problems.
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、導電性が良好で、耐熱性の優れた導電性フィルムを提供することである。また、その導電性フィルムを具備した視認性の優れたタッチパネルを提供することである。 This invention is made | formed in view of the said problem and the situation, The solution subject is providing electroconductivity film with favorable electroconductivity and excellent heat resistance. Moreover, it is providing the touch panel excellent in visibility provided with the electroconductive film.
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、セルロースアシレートフィルムに特定構造の化合物を含有させることで、導電性層との相溶性をコントロールでき、耐熱試験後のカール及びヘイズ等の上昇を抑性できることがわかり、本発明に至った次第である。 As a result of examining the cause of the above-mentioned problem in order to solve the above problems, the present inventor can control the compatibility with the conductive layer by including a compound having a specific structure in the cellulose acylate film, and a heat resistance test. It has been found that subsequent increases in curling, haze and the like can be suppressed, and it is up to the present invention.
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。 That is, the said subject which concerns on this invention is solved by the following means.
1.セルロースアシレートフィルム上に透明導電性材料とセルロースアシレート以外のセルロースエステル化合物とを含有する導電性層を有する導電性フィルムであって、前記透明導電性材料が、導電性高分子、導電性金属又はカーボンナノチューブから選ばれる少なくとも一種の透明導電性材料であり、かつ前記セルロースアシレートフィルムが、前記セルロースエステル化合物とは異なる、下記一般式(X)で表されるエステル化合物、糖エステル化合物、グリコール酸エステル化合物、フタル酸エステル化合物、リン酸エステル化合物又は多価アルコールエステル化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする導電性フィルム。 1. A conductive film having a conductive layer containing a transparent conductive material and a cellulose ester compound other than cellulose acylate on a cellulose acylate film, wherein the transparent conductive material is a conductive polymer, a conductive metal Or an ester compound represented by the following general formula (X), a sugar ester compound, a glycol, which is at least one transparent conductive material selected from carbon nanotubes, and wherein the cellulose acylate film is different from the cellulose ester compound A conductive film comprising at least one of an acid ester compound, a phthalic acid ester compound, a phosphoric acid ester compound or a polyhydric alcohol ester compound.
一般式(X) B−(G−A)n−G−B
(式中、Bはヒドロキシ基又はカルボン酸残基を表す。Gは炭素数2〜12のアルキレングリコール残基、炭素数6〜12のアリーレングリコール残基又は炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基を表す。Aは炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数6〜12のアリーレンジカルボン酸残基を表す。nは1以上の整数を表す。)
2.前記透明導電性材料が、導電性金属であることを特徴とする前記第1項に記載の導電性フィルム。
Formula (X) B- (GA) n -GB
(In the formula, B represents a hydroxy group or a carboxylic acid residue. G represents an alkylene glycol residue having 2 to 12 carbon atoms, an arylene glycol residue having 6 to 12 carbon atoms, or an oxyalkylene glycol having 4 to 12 carbon atoms. Represents a residue, A represents an alkylene dicarboxylic acid residue having 4 to 12 carbon atoms or an arylene dicarboxylic acid residue having 6 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)
2. 2. The conductive film according to
3.前記導電性金属が、金属ナノワイヤであることを特徴とする前記第1項又は2項に記載の導電性フィルム。
3. 3. The conductive film according to
4.前記セルロースアシレートフィルムが、前記一般式(X)で表されるエステル化合物又は前記糖エステル化合物を含有することを特徴とする前記第1項〜3項のいずれか一項に記載の導電性フィルム。 4). The said cellulose acylate film contains the ester compound or the said sugar ester compound represented by the said general formula (X), The electroconductive film as described in any one of said Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. .
5.前記セルロースアシレートフィルムの膜厚が5〜34μmであることを特徴とする前記第1項〜4項のいずれか一項に記載の導電性フィルム。 5. The film thickness of the said cellulose acylate film is 5-34 micrometers, The electroconductive film as described in any one of said 1st-4 characterized by the above-mentioned.
6.前記導電性層とは、反対の面にハードコート層を有することを特徴とする前記第1項〜5項のいずれか一項に記載の導電性フィルム。
6). The conductive film according to any one of
7.前記ハードコート層が、活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体を含有することを特徴とする前記第6項に記載の導電性フィルム。 7). 7. The conductive film according to item 6, wherein the hard coat layer contains an active energy ray-curable isocyanurate derivative.
8.前記導電性フィルムが、温度23℃・相対湿度55%の環境下、光波長590nmでリターデーション値を測定したとき、面内リターデーション値Roが0〜10nmの範囲内であり、厚さ方向のリターデーション値Rtが−10〜10nmの範囲内であることを特徴とする前記第1項〜7項のいずれか一項に記載の導電性フィルム。 8). When the retardation value was measured at an optical wavelength of 590 nm under an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%, the in-plane retardation value Ro was in the range of 0 to 10 nm, and the conductive film was in the thickness direction. Retardation value Rt exists in the range of -10-10nm, The electroconductive film as described in any one of said 1st term | claim 7-7 characterized by the above-mentioned.
9.前記導電性フィルムが、透明導電性フィルムであることを特徴とする前記第1項〜8項のいずれか一項に記載の導電性フィルム。
9. The conductive film according to any one of
10.前記第1項〜9項のいずれか一項に記載の導電性フィルムを具備することを特徴とするタッチパネル。 10. A conductive film comprising the conductive film according to any one of the first to ninth aspects.
本発明の上記手段により、導電性が良好で、耐熱性の優れた導電性フィルムを提供することができる。また、その導電性フィルムを具備した視認性の優れたタッチパネルを提供することができる。 By the above means of the present invention, a conductive film having good conductivity and excellent heat resistance can be provided. Moreover, the touch panel excellent in visibility provided with the electroconductive film can be provided.
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。 The expression mechanism or action mechanism of the effect of the present invention is not clear, but is presumed as follows.
耐熱試験後発生するカールは、親水性を有した層同士を積層しているため、熱で水分のバランス変化が生じ、発生すると推定している。また耐熱試験後上昇するヘイズや全光線透過率の低下は、導電性層とセルロースアシレートフィルムとの相溶性が高すぎて、層間での反応等が生じるためと推定している。このような課題に対し、セルロースアシレートフィルムに特定構造の化合物を含有させることで、水分コントロールや銀ナノワイヤなどの透明導電性材料を含む導電性層との相溶性をコントロールでき、耐熱試験後のカール及びヘイズの上昇や全光線透過率の低下を抑性できると考えられる。 It is presumed that the curl generated after the heat resistance test is generated due to a change in the balance of moisture caused by heat because the layers having hydrophilicity are laminated. In addition, it is estimated that the haze and the decrease in the total light transmittance that increase after the heat resistance test are due to the fact that the compatibility between the conductive layer and the cellulose acylate film is so high that reactions between the layers occur. For such a problem, by adding a compound having a specific structure to the cellulose acylate film, it is possible to control the compatibility with a conductive layer containing a transparent conductive material such as moisture control or silver nanowire, and after the heat test It is considered that curl and haze increase and total light transmittance decrease can be suppressed.
本発明の導電性フィルムは、セルロースアシレートフィルム上に透明導電性材料とセルロースアシレート以外のセルロースエステル化合物とを含有する導電性層を有する導電性フィルムであって、前記透明導電性材料が、導電性高分子、導電性金属又はカーボンナノチューブから選ばれる少なくとも一種の透明導電性材料であり、かつ前記セルロースアシレートフィルムが、前記セルロースエステル化合物とは異なる、下記一般式(X)で表されるエステル化合物、糖エステル化合物、グリコール酸エステル化合物、フタル酸エステル化合物、リン酸エステル化合物又は多価アルコールエステル化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項10までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
The conductive film of the present invention is a conductive film having a conductive layer containing a transparent conductive material and a cellulose ester compound other than cellulose acylate on a cellulose acylate film, wherein the transparent conductive material is It is at least one transparent conductive material selected from a conductive polymer, a conductive metal, or a carbon nanotube, and the cellulose acylate film is represented by the following general formula (X), which is different from the cellulose ester compound. It contains at least one of an ester compound, a sugar ester compound, a glycolic acid ester compound, a phthalic acid ester compound, a phosphoric acid ester compound or a polyhydric alcohol ester compound. This feature is a technical feature common to the inventions according to
本発明の実施態様としては、本発明の導電性の観点から、前記透明導電性材料が、導電性金属であることであることが好ましい。 As an embodiment of the present invention, it is preferable that the transparent conductive material is a conductive metal from the viewpoint of the conductivity of the present invention.
本発明の実施態様としては、本発明の導電性の観点から、前記導電性金属が、金属ナノワイヤであることが好ましい。 As an embodiment of the present invention, from the viewpoint of conductivity of the present invention, the conductive metal is preferably a metal nanowire.
また、前記セルロースアシレートフィルムが、前記一般式(X)で表されるエステル化合物又は前記糖エステル化合物を含有することが、寸法安定性や本発明の効果発現の観点から好ましい。 Moreover, it is preferable that the said cellulose acylate film contains the ester compound or the said sugar ester compound represented by the said general formula (X) from a viewpoint of dimensional stability and the effect expression of this invention.
また、前記セルロースアシレートフィルムの膜厚が5〜34μmであることが、より過酷な耐熱試験において本発明の発現効果が好適に得られる事から好ましい。 Moreover, it is preferable that the film thickness of the said cellulose acylate film is 5-34 micrometers from the expression effect of this invention being acquired suitably in a more severe heat test.
さらに、前記導電性層とは、反対の面にハードコート層を有することが好ましい。これにより、カール抑制の効果が大きくなる。 Furthermore, it is preferable to have a hard coat layer on the surface opposite to the conductive layer. Thereby, the effect of curl suppression is increased.
本発明の実施態様としては、特に優れた光学特性(ヘイズ・全光線透過率)やカール抑制の効果が得られることから、前記ハードコート層が、活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体を含有することが好ましい。 As an embodiment of the present invention, the hard coat layer contains an active energy ray-curable isocyanurate derivative because particularly excellent optical properties (haze and total light transmittance) and curling suppression effects can be obtained. Is preferred.
また、前記導電性フィルムが、温度23℃・相対湿度55%の環境下、光波長590nmでリターデーション値を測定したとき、面内リターデーション値Roが0〜10nmの範囲内であり、厚さ方向のリターデーション値Rtが−10〜10nmの範囲内であることが、タッチパネルに用いたとき優れた視認性が得られるため好ましい。 Further, when the conductive film was measured for a retardation value at an optical wavelength of 590 nm under an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%, the in-plane retardation value Ro was in the range of 0 to 10 nm, and the thickness was It is preferable that the retardation value Rt in the direction is in the range of −10 to 10 nm because excellent visibility is obtained when used in a touch panel.
本発明の実施態様としては、タッチパネルに用いたときの視認性に優れることから、前記導電性フィルムが透明導電性フィルムであることが好ましい。 As an embodiment of the present invention, since the visibility when used in a touch panel is excellent, the conductive film is preferably a transparent conductive film.
本発明の導電性フィルムは、タッチパネルに好適に具備され得る。 The conductive film of the present invention can be suitably included in a touch panel.
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。 Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning which includes the numerical value described before and behind that as a lower limit and an upper limit.
本発明に係る透明導電性材料を含有する導電性層について先ずは説明する。本発明において、透明導電性材料は、導電性高分子、導電性金属又はカーボンナノチューブから選ばれる少なくとも一種の透明導電性材料である。 First, the conductive layer containing the transparent conductive material according to the present invention will be described. In the present invention, the transparent conductive material is at least one transparent conductive material selected from a conductive polymer, a conductive metal, or a carbon nanotube.
ここで透明とは全光線透過率が50%以上をいう。好ましくは全光線透過率が85%以上、より好ましくは90%以上である。 Here, transparent means that the total light transmittance is 50% or more. The total light transmittance is preferably 85% or more, more preferably 90% or more.
<透明導電性材料>
〔導電性高分子〕
本発明において用いられる導電性高分子としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子が好ましく、例えばポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体等が挙げられる。これらの中でも、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ(N−メチルピロール)、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ(3−メトキシチオフェン)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)から選ばれる重合体、又は共重合体が好適に用いられる。特にポリピロール、ポリチオフェン、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)が好ましい。
<Transparent conductive material>
[Conductive polymer]
The conductive polymer used in the present invention is preferably an organic polymer having a π-conjugated main chain, such as polypyrroles, polythiophenes, polyacetylenes, polyphenylenes, polyphenylene vinylenes, polyanilines, polyacene. , Polythiophene vinylenes, and copolymers thereof. Among these, a polymer selected from polypyrrole, polythiophene, poly (N-methylpyrrole), poly (3-methylthiophene), poly (3-methoxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene), or A copolymer is preferably used. Polypyrrole, polythiophene, and poly (3,4-ethylenedioxythiophene) are particularly preferable.
さらに本発明の導電性高分子には、ポリアニオンやそれ以外のドーパントを含むことができる。ポリアニオンとしては、高分子状カルボン酸塩、高分子状スルホン酸が挙げられる。高分子状カルボン酸としては、例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリマレイン酸などが挙げられる。高分子状スルホン酸としては、リスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸などが挙げられる。 Furthermore, the conductive polymer of the present invention can contain a polyanion and other dopants. Examples of polyanions include polymeric carboxylates and polymeric sulfonic acids. Examples of the polymeric carboxylic acid include polyacrylic acid, polymethacrylic acid, and polymaleic acid. Examples of the polymeric sulfonic acid include restyrene sulfonic acid and polyvinyl sulfonic acid.
これらの高分子状カルボン酸及びスルホン酸類は、ビニルカルボン酸及びビニルスルホン酸類と他の重合可能な低分子化合物、例えばアクリレート類及びスチレンなどとの共重合体であってもよい。具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリルスルホン酸、ポリメタクリルスルホン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−2−アクリルアミド−2−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、2種以上の共重合体であってもよい。これらポリアニオンの中でもポリアクリルスルホン酸、ポリメタクリルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、及びその全て若しくは一部が金属塩であるものが好ましく用いられる。特にポリスチレンスルホン酸が最も好ましい。かかるポリアニオンの数平均分子量は、1,000〜2,000,000の範囲内が適当であり、2,000〜500,000の範囲内が好ましい。 These polymeric carboxylic acids and sulfonic acids may be copolymers of vinyl carboxylic acids and vinyl sulfonic acids with other polymerizable low molecular compounds such as acrylates and styrene. Specific examples include polyvinyl sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, polyacryl sulfonic acid, polymethacryl sulfonic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid, polyisoprene sulfonic acid, polyvinyl carboxylic acid, Examples thereof include polystyrene carboxylic acid, polyallyl carboxylic acid, polyacryl carboxylic acid, polymethacryl carboxylic acid, poly-2-acrylamido-2-methylpropane carboxylic acid, polyisoprene carboxylic acid, and polyacrylic acid. These homopolymers may be sufficient and 2 or more types of copolymers may be sufficient. Among these polyanions, polyacrylsulfonic acid, polymethacrylsulfonic acid, polystyrenesulfonic acid, and all or part of which are metal salts are preferably used. In particular, polystyrene sulfonic acid is most preferable. The number average molecular weight of such a polyanion is suitably in the range of 1,000 to 2,000,000, and preferably in the range of 2,000 to 500,000.
ポリアニオンと導電性高分子の比率は、塗膜強度、導電性等の観点から、導電性高分子1gに対してポリアニオンが0.5〜10gの範囲内であることが好ましく、1〜5gの範囲内であることがより好ましい。他ドーパントとしては、導電性高分子を酸化還元できればドナー性のものでも、アクセプタ性のものでも良い。ドナー性ドーパントとしては、例えば、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、メチルトリエチルアンモニウム、ジメチルジエチルアンモニウム等の4級アミン化合物等が挙げられ、アクセプタ性ドーパントとしては、例えば、ハロゲン化合物、ルイス酸、プロトン酸、有機シアノ化合物、有機金属化合物、フラーレン、水素化フラーレン、水酸化フラーレン、カルボン酸化フラーレン、スルホン酸化フラーレン等を使用できる。さらに、導電性高分子含有の組成物には、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホオキシド等の極性有機溶媒を少量添加しておくことが組成物の安定性から好ましい。 The ratio between the polyanion and the conductive polymer is preferably within the range of 0.5 to 10 g of the polyanion with respect to 1 g of the conductive polymer, from the viewpoint of coating film strength, conductivity and the like, and within the range of 1 to 5 g. More preferably, it is within. Other dopants may be donor or acceptor as long as the conductive polymer can be oxidized and reduced. Examples of the donor dopant include alkali metals such as sodium and potassium, alkaline earth metals such as calcium and magnesium, tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrapropylammonium, tetrabutylammonium, methyltriethylammonium, dimethyldiethylammonium, and the like. Examples of acceptor dopants include halogen compounds, Lewis acids, proton acids, organic cyano compounds, organometallic compounds, fullerenes, hydrogenated fullerenes, hydroxylated fullerenes, carboxylated fullerenes, and sulfonated oxides. Fullerenes can be used. Furthermore, it is preferable from the stability of the composition that a small amount of a polar organic solvent such as diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide or the like is added to the conductive polymer-containing composition.
極性有機溶媒の添加量としては、膜の耐久性、透明性等の観点から、π共役高分子1%水溶液に対して0.5%から50%、好ましくは1%から10%がよい。 The addition amount of the polar organic solvent is 0.5% to 50%, preferably 1% to 10% with respect to the 1% aqueous solution of π-conjugated polymer from the viewpoint of film durability and transparency.
〔導電性金属〕
導電性金属としては、金属ナノ粒子や、金属ナノワイヤ、導電性高分子により酸化され導電性高分子内に酸化物として取り込まれた金属酸化物等を挙げることができる。
[Conductive metal]
Examples of the conductive metal include metal nanoparticles, metal nanowires, and metal oxides oxidized by a conductive polymer and incorporated as an oxide in the conductive polymer.
(金属ナノ粒子)
金属ナノ粒子を構成する金属元素としては、金、白金、銀、銅、亜鉛、パラジウム、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、ニッケル、アルミニウム、すず、鉛、炭素、チタンから選択される元素が好ましい。また、これらの元素を含む化合物を含有しても良い。特に、金、白金、銀、銅、亜鉛、パラジウム、ロジウム、イリジウム、ルテニウムが好ましい。
(Metal nanoparticles)
As the metal element constituting the metal nanoparticles, an element selected from gold, platinum, silver, copper, zinc, palladium, rhodium, iridium, ruthenium, nickel, aluminum, tin, lead, carbon, and titanium is preferable. Moreover, you may contain the compound containing these elements. In particular, gold, platinum, silver, copper, zinc, palladium, rhodium, iridium, and ruthenium are preferable.
金属ナノ粒子は透明である。本願において、金属ナノ粒子とは、表面プラズモン吸収が消失するか、又は表面プラズモン吸収が波長シフトし、すなわち、可視光波長域(380〜780nm)の外へ吸収波長域(又は吸収極大波長)がシフトし、可視光波長域に表面プラズモン吸収を有さない状態となり、上記全光線透過率が50%以上である金属ナノ粒子のことをいう。 The metal nanoparticles are transparent. In the present application, the metal nanoparticles mean that the surface plasmon absorption disappears or the surface plasmon absorption is wavelength-shifted, that is, the absorption wavelength range (or absorption maximum wavelength) is outside the visible wavelength range (380 to 780 nm). This refers to a metal nanoparticle that shifts and has no surface plasmon absorption in the visible light wavelength region, and has a total light transmittance of 50% or more.
金属ナノ粒子の製造方法には特に制限は無く、例えば、液相法や気相法などの公知の方法を用いて製造することができる。液相法としては、例えば液相還元法やアルコキシド法、逆ミセル法、ホットソープ法、水熱反応法のような化学的液相法や、噴霧乾燥法のような物理的液相法などを用いることができる。気相法としては、例えば一般的な化学気相析出法(CVD法)や物理気相析出法(PVD)などを用いることができる。 There is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of a metal nanoparticle, For example, it can manufacture using well-known methods, such as a liquid phase method and a gaseous-phase method. Examples of the liquid phase method include a chemical liquid phase method such as a liquid phase reduction method, an alkoxide method, a reverse micelle method, a hot soap method, a hydrothermal reaction method, and a physical liquid phase method such as a spray drying method. Can be used. As the vapor phase method, for example, a general chemical vapor deposition method (CVD method), a physical vapor deposition method (PVD), or the like can be used.
一般に、金属ナノ粒子の表面プラズモン吸収は、同一元素であってもそのサイズや形状により吸収スペクトルが変化する。例えば金ナノ粒子では、530nm近辺の吸収極大波長が、粒子径が大きくなるに従い長波長側に移動することが知られている。また、棒状の金ナノロッドでは長軸と短軸の比(アスペクト比)の違いによって、可視から近赤外領域にかけて特異的な吸収を持つことが知られている。金属ナノ粒子の表面プラズモン吸収を消失させる、又は表面プラズモン吸収の波長シフト、すなわち、可視光波長域外へ吸収波長域(又は吸収極大波長)をシフトさせる方法について特に制限は無いが、有機化合物との複合化や2種類以上の金属の複合化を好ましく適用することができる。 In general, the absorption spectrum of surface plasmon absorption of metal nanoparticles varies depending on the size and shape of the same element. For example, in gold nanoparticles, it is known that the absorption maximum wavelength near 530 nm moves to the longer wavelength side as the particle diameter increases. It is also known that rod-shaped gold nanorods have specific absorption from the visible to the near-infrared region due to the difference between the major axis and minor axis ratio (aspect ratio). There is no particular limitation on the method for eliminating the surface plasmon absorption of the metal nanoparticles or shifting the wavelength of the surface plasmon absorption, that is, shifting the absorption wavelength range (or absorption maximum wavelength) to outside the visible light wavelength range. Composite and composite of two or more metals can be preferably applied.
有機化合物との複合化には、金属ナノ粒子をπ共役系高分子で部分被覆する方法や、金属ナノ粒子の表面をチオール基を有する化合物で部分修飾する方法などがある。2種類以上の金属の複合化には、金属ナノ粒子を異なる金属で部分的あるいは完全に被覆する方法などがある。 Compounding with an organic compound includes a method of partially coating metal nanoparticles with a π-conjugated polymer and a method of partially modifying the surface of metal nanoparticles with a compound having a thiol group. The composite of two or more kinds of metals includes a method in which metal nanoparticles are partially or completely covered with different metals.
また、金属ナノ粒子を導電性高分子内に均一に分散させるために、金属錯体を導電性高分子の重合酸化剤として用いて、導電性高分子の重合と同時に金属ナノ粒子を生成させてもよい。用いられる金属錯体としては、塩化金酸、塩化白金酸、塩化パラジウム、塩化ロジウム、ヘキサクロロイリジウム塩等が好ましい。特に塩化金酸、塩化白金酸が好ましい。導電性高分子の重合反応を早く、十分に行うためには金属錯体の他にさらに別の酸化重合剤、例えば過硫酸アンモニウム、塩化鉄等を追加添加しても良い。 Also, in order to uniformly disperse the metal nanoparticles in the conductive polymer, the metal complex may be used as a polymerization oxidant for the conductive polymer to generate the metal nanoparticles simultaneously with the polymerization of the conductive polymer. Good. As the metal complex used, chloroauric acid, chloroplatinic acid, palladium chloride, rhodium chloride, hexachloroiridium salt and the like are preferable. Particularly preferred are chloroauric acid and chloroplatinic acid. In order to perform the polymerization reaction of the conductive polymer quickly and sufficiently, another oxidation polymerization agent such as ammonium persulfate or iron chloride may be added in addition to the metal complex.
金属ナノ粒子の平均粒径としては、2〜100nmの範囲内が好ましく、3〜80nmの範囲内がより好ましく、5〜50nmの範囲内が特に好ましい。粒径が100nm以下であれば、光散乱の影響を軽減でき、粒径がより小さい方が光透過率低下やヘイズ劣化を抑制することができるため好ましい。一方で、安定性の観点から2nmより大きいことが好ましく、さらに導電性の観点から3nmより大きいことが好ましく、5nm以上であることがより好ましい。2種類以上の金属ナノ粒子を複合化して用いる場合には、複合化前の少なくとも1種の金属ナノ粒子の平均粒径、及び/又は複合化後の金属ナノ粒子の平均粒径が3nmより大きいことが好ましく、5nm以上であることがより好ましい。 The average particle diameter of the metal nanoparticles is preferably in the range of 2 to 100 nm, more preferably in the range of 3 to 80 nm, and particularly preferably in the range of 5 to 50 nm. If the particle size is 100 nm or less, the influence of light scattering can be reduced, and a smaller particle size is preferable because a decrease in light transmittance and haze deterioration can be suppressed. On the other hand, it is preferably larger than 2 nm from the viewpoint of stability, more preferably larger than 3 nm from the viewpoint of conductivity, and more preferably 5 nm or more. When two or more kinds of metal nanoparticles are used in combination, the average particle diameter of at least one kind of metal nanoparticles before combination and / or the average particle diameter of metal nanoparticles after combination is larger than 3 nm. It is preferably 5 nm or more.
導電性層における金属ナノ粒子の体積分率は、10%以上90%以下であることが好ましく、20%以上80%以下がより好ましい。金属ナノ粒子の体積分率が10%以上であれば、金属ナノ粒子を添加することによる導電性改良効果を有意に発現させることができ、体積分率が高くなるに従いより導電性を向上できるため好ましい。一方で、透明性の観点から、金属ナノ粒子の体積分率は90%以下が好ましく、80%以下であることがより好ましい。 The volume fraction of metal nanoparticles in the conductive layer is preferably 10% or more and 90% or less, and more preferably 20% or more and 80% or less. If the volume fraction of the metal nanoparticles is 10% or more, the conductivity improvement effect by adding the metal nanoparticles can be significantly expressed, and the conductivity can be improved as the volume fraction increases. preferable. On the other hand, from the viewpoint of transparency, the volume fraction of metal nanoparticles is preferably 90% or less, and more preferably 80% or less.
(金属ナノワイヤ)
金属ナノワイヤの金属元素としては、バルク状態での導電率が1×106S/m以上の元素を用いることができる。具体的には、Ag,Cu,Au,Al,Rh,Ir,Co,Zn,Ni,In,Fe,Pd,Pt,Sn、Ti等の金属原子を挙げることができる。また、2種類以上の金属ナノワイヤを組み合わせて用いることもできるが、導電性の観点から、Ag,Cu,Au,Al及びCoより選択される元素を用いることが好ましい。特に、Ag(以下、銀ともいう)からなる金属ナノワイヤが好ましい。
(Metal nanowires)
As a metal element of the metal nanowire, an element having a bulk conductivity of 1 × 10 6 S / m or more can be used. Specific examples include metal atoms such as Ag, Cu, Au, Al, Rh, Ir, Co, Zn, Ni, In, Fe, Pd, Pt, Sn, and Ti. Two or more kinds of metal nanowires can be used in combination, but from the viewpoint of conductivity, an element selected from Ag, Cu, Au, Al, and Co is preferably used. In particular, a metal nanowire made of Ag (hereinafter also referred to as silver) is preferable.
金属ナノワイヤの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状等の任意の形状をとることができるが、金属ナノワイヤの長軸平均長さとしては、1μm以上であり、5μm以上が好ましく、10μm以上がより好ましい。金属ナノワイヤの長軸長さが、1μm未満であると、導電性層を作製した場合、金属同士の接合点が減少し、導通が取りにくくなり、その結果、抵抗が高くなってしまうことがある。金属ナノワイヤの短軸平均長さφ(nm)としては、5〜200nmの範囲内が好ましい。金属ナノワイヤの前記φ(nm)が、5nm未満であると、十分な耐熱性を発揮せず、200nmを超えると、金属の散乱によるヘイズが増加してしまい、金属ナノワイヤを含有する導電性層の光線透過性及び視認性が低下してしまうことがある。金属ナノワイヤの長軸及び短軸の各々の平均長さは、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて観察することにより求めることができる。 The shape of the metal nanowire is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.For example, it can take any shape such as a columnar shape, a rectangular parallelepiped shape, a columnar shape with a polygonal cross section, The average long axis length of the metal nanowire is 1 μm or more, preferably 5 μm or more, and more preferably 10 μm or more. When the long axis length of the metal nanowire is less than 1 μm, when the conductive layer is produced, the number of metal-to-metal junctions is reduced, making it difficult to conduct, and as a result, the resistance may be increased. . The minor axis average length φ (nm) of the metal nanowire is preferably in the range of 5 to 200 nm. If the φ (nm) of the metal nanowire is less than 5 nm, sufficient heat resistance is not exhibited. If it exceeds 200 nm, haze due to metal scattering increases, and the conductive layer containing the metal nanowire Light transmittance and visibility may be reduced. The average length of each of the major axis and the minor axis of the metal nanowire can be determined by observing using a transmission electron microscope (TEM), for example.
金属ナノワイヤにおける各金属原子の含有量は、例えば、試料を酸などにより溶解後、ICP(高周波誘導結合プラズマ)により測定することができる。 The content of each metal atom in the metal nanowire can be measured by, for example, ICP (High Frequency Inductively Coupled Plasma) after dissolving the sample with acid or the like.
(金属ナノワイヤの製造方法)
金属ナノワイヤの製造方法は特に制限が無く、液相法や気相法などの公知の手段を用いることができる。特に銀ナノワイヤは、エチレングリコールやポリビニルピロリドンなどのポリオール中で、硝酸銀などの銀塩を還元する液相法により形状の揃ったAgナノワイヤーを大量に合成することができるために好ましい。合成方法としては、例えばXia.Y,et.al.,Chem.Ma ter.誌14巻,2002,p.4736−4745や、Xia.Y,et.al.,Nanolette rs誌3巻,2003,p.955−960に記載されている。
(Method for producing metal nanowires)
There is no restriction | limiting in particular in the manufacturing method of metal nanowire, Well-known means, such as a liquid phase method and a gaseous-phase method, can be used. Silver nanowires are particularly preferable because Ag nanowires having a uniform shape can be synthesized in a large amount by a liquid phase method in which a silver salt such as silver nitrate is reduced in a polyol such as ethylene glycol or polyvinylpyrrolidone. Examples of the synthesis method include Xia. Y, et. al. , Chem. Mater.
また、銀と銀以外の金属を含有する金属ナノワイヤは、銀ナノワイヤ分散組成物に銀以外の金属塩を添加して酸化還元反応を行うことで製造できる。銀と銀以外の金属を含有する金属ナノワイヤでは、銀以外の金属としては、金及び白金のいずれか、又は両方が好ましい。銀ナノワイヤの分散液の溶媒としては、特に制限することなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水、プロパノール、アセトン、エチレングリコールなどが挙げられる。これらは、1種を単独あるいは2種以上併用してもよい。 Moreover, the metal nanowire containing metals other than silver and silver can be manufactured by adding metal salts other than silver to a silver nanowire dispersion composition, and performing oxidation-reduction reaction. In the metal nanowire containing silver and a metal other than silver, the metal other than silver is preferably either gold or platinum, or both. The solvent of the silver nanowire dispersion liquid is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include water, propanol, acetone, and ethylene glycol. These may be used alone or in combination of two or more.
酸化還元反応後の分散物に対しては、更に脱塩処理が行われる。脱塩処理は、金属ナノワイヤを形成した後、限外ろ過、透析、ゲルろ過、デカンテーション、遠心分離などの手法により行うことができる。 The dispersion after the oxidation-reduction reaction is further desalted. The desalting treatment can be performed by a method such as ultrafiltration, dialysis, gel filtration, decantation, and centrifugation after forming the metal nanowires.
(金属ナノワイヤ含有導電性組成物)
金属ナノワイヤ含有導電性組成物における銀などの金属の含有量としては、特に制限はないが、組成物中に0.1〜99質量%の範囲内で含有することが好ましく、0.3〜95質量%の範囲内がより好ましい。含有量が0.1質量%未満であると、製造時、乾燥工程における負荷が大きく、99質量%を超えると、粒子の凝集が起こりやすくなる。長軸の長さが10μm以上の金属ナノワイヤを0.01質量%以上、より好ましくは0.05質量%以上含有することが、透明性の観点から好ましい。
(Conductive composition containing metal nanowires)
Although there is no restriction | limiting in particular as content of metals, such as silver, in a metal nanowire containing electrically conductive composition, It is preferable to contain in the range of 0.1-99 mass% in a composition, 0.3-95 More preferably within the range of mass%. When the content is less than 0.1% by mass, the load in the drying process is large during production, and when it exceeds 99% by mass, the particles tend to aggregate. From the viewpoint of transparency, it is preferable to contain metal nanowires having a major axis length of 10 μm or more in an amount of 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more.
金属ナノワイヤ含有導電性組成物における分散溶媒としては、主として水が用いられ、水と混和する有機溶媒を50容量%以下の割合で併用することが好ましい。有機溶媒としては、例えば、沸点が50〜250℃、より好ましくは55〜200℃の範囲内アルコール系化合物が好適に用いられる。このようなアルコール系化合物を併用することにより、塗布により導電性層を形成する際、乾燥負荷の低減をすることができる。 As a dispersion solvent in the metal nanowire-containing conductive composition, water is mainly used, and it is preferable to use an organic solvent miscible with water in a proportion of 50% by volume or less. As the organic solvent, for example, an alcohol compound having a boiling point of 50 to 250 ° C., more preferably 55 to 200 ° C., is preferably used. By using such an alcohol compound in combination, the drying load can be reduced when the conductive layer is formed by coating.
アルコール系化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばメタノール、エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール200、ポリエチレングリコール300、グリセリン、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1−エトキシ−2−プロパノール、エタノールアミン、ジエタノールアミン、2−(2−アミノエトキシ)エタノール、2−ジメチルアミノイソプロパノールなどが挙げられ、好ましくはエタノール、エチレングリコールである。これらは、1種あるいは2種以上を併用してもよい。 The alcohol compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, methanol, ethanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol 200, polyethylene glycol 300, glycerin, propylene glycol, diester Propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1-ethoxy-2-propanol, ethanolamine, diethanolamine, 2- (2-amino Ethoxy) ethanol, 2-dimethylaminoisopropanol and the like are mentioned, and ethanol and ethylene glycol are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
金属ナノワイヤ含有導電性組成物の電気伝導度としては、1mS/cm以下が好ましく、0.1mS/cm以下がより好ましく、0.05mS/cm以下が更に好ましい。また20℃における粘度は0.5〜100mPa・sの範囲内が好ましく、1〜50mPa・sの範囲内がより好ましい。金属ナノワイヤの導電性組成物は必要に応じて、各種添加剤、例えば界面活性剤、重合性化合物、酸化防止剤、硫化防止剤、腐食防止剤、粘度調整剤、防腐剤などを含有することができる。 The electrical conductivity of the metal nanowire-containing conductive composition is preferably 1 mS / cm or less, more preferably 0.1 mS / cm or less, and even more preferably 0.05 mS / cm or less. The viscosity at 20 ° C. is preferably in the range of 0.5 to 100 mPa · s, and more preferably in the range of 1 to 50 mPa · s. The conductive composition of the metal nanowire may contain various additives, for example, a surfactant, a polymerizable compound, an antioxidant, an antisulfurizing agent, a corrosion inhibitor, a viscosity modifier, an antiseptic, and the like as necessary. it can.
腐食防止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、アゾール類が好適である。アゾール類としては、例えばベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、メルカプトベンゾチアゾール、メルカプトベンゾトリアゾール、メルカプトベンゾテトラゾール、(2−ベンゾチアゾリルチオ)酢酸、3−(2−ベンゾチアゾリルチオ)プロピオン酸、及びこれらのアルカリ金属塩、アンモニウム塩、並びにアミン塩から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。腐食防止剤を含有することで、優れた防錆効果を発揮することができる。次にカーボンナノチューブについて説明する。 There is no restriction | limiting in particular as a corrosion inhibitor, According to the objective, it can select suitably, An azole is suitable. Examples of azoles include benzotriazole, tolyltriazole, mercaptobenzothiazole, mercaptobenzotriazole, mercaptobenzotetrazole, (2-benzothiazolylthio) acetic acid, 3- (2-benzothiazolylthio) propionic acid, and these Examples thereof include at least one selected from alkali metal salts, ammonium salts, and amine salts. By containing a corrosion inhibitor, an excellent rust prevention effect can be exhibited. Next, the carbon nanotube will be described.
〔カーボンナノチューブ〕
カーボンナノチューブは、一般に知られているものであり、厚さ数原子層のグラファイト状炭素原子面(グラフェンシート)が筒形に巻かれた形状からなる炭素系繊維材料であり、その周壁の構成数から単層ナノチューブ(SWNT)と多層ナノチューブ(MWNT)とに大別され、また、グラフェンシートの構造の違いからカイラル(らせん)型、ジグザグ型、アームチェア型に分けられ、各種のものが知られている。本発明には、このようなカーボンナノチューブと称されるものであれば、いずれのタイプのカーボンナノチューブも用いることができる。また、これらの種々のカーボンナノチューブを複数混合して用いても良い。
〔carbon nanotube〕
Carbon nanotubes are generally known, and are carbon-based fiber materials having a shape in which a graphite-like carbon atomic surface (graphene sheet) having a thickness of several atomic layers is wound into a cylindrical shape, and the number of peripheral walls thereof Are broadly divided into single-walled nanotubes (SWNT) and multi-walled nanotubes (MWNT), and are divided into chiral, helical, zigzag, and armchair types based on the difference in the structure of graphene sheets. ing. Any type of carbon nanotube can be used in the present invention as long as it is referred to as such a carbon nanotube. A mixture of these various carbon nanotubes may be used.
カーボンナノチューブは、アスペクト比が大きい、すなわち細くて長い単層ナノチューブを用いることが好ましい。例えば、アスペクト比が103以上、好ましくは104以上のカーボンナノチューブが挙げられる。カーボンナノチューブの長さは、通常1μm以上、好ましくは50μm以上、更に好ましくは500μm以上であり、長さの上限は特に限定されないが、例えば10mm程度である。外径としてはnmオーダーの極めて微小なカーボンナノチューブが知られている。カーボンナノチューブが有機化合物によって表面処理されていることが好ましく、具体的には、界面活性剤を使用して1次粒子ごとの分散性を向上させることが好ましい。 The carbon nanotubes are preferably single-walled nanotubes having a large aspect ratio, that is, thin and long. For example, carbon nanotubes having an aspect ratio of 10 3 or more, preferably 10 4 or more can be mentioned. The length of the carbon nanotube is usually 1 μm or more, preferably 50 μm or more, more preferably 500 μm or more, and the upper limit of the length is not particularly limited, but is, for example, about 10 mm. As the outer diameter, extremely minute carbon nanotubes on the order of nm are known. The carbon nanotubes are preferably surface-treated with an organic compound, and specifically, it is preferable to improve the dispersibility of each primary particle using a surfactant.
カーボンナノチューブの製造方法は、特に限定されるものではない。具体的には、二酸化炭素の接触水素還元、アーク放電法、レーザー蒸発法、CVD法、気相成長法及び一酸化炭素を高温高圧化で鉄触媒と共に反応させて気相で成長させるHiPco法等が挙げられる。また、副生成物や触媒金属等の残留物を除去するために、洗浄法、遠心分離法、ろ過法、酸化法、クロマトグラフ法等の種々の精製法によって、より高純度化されたカーボンナノチューブの方が、各種機能を十分に発現することから好ましい。 The method for producing the carbon nanotube is not particularly limited. Specifically, catalytic hydrogen reduction of carbon dioxide, arc discharge method, laser evaporation method, CVD method, vapor phase growth method, HiPco method in which carbon monoxide is reacted with an iron catalyst at high temperature and high pressure to grow in the gas phase, etc. Is mentioned. Moreover, in order to remove residues such as by-products and catalytic metals, carbon nanotubes that have been further purified by various purification methods such as washing methods, centrifugal separation methods, filtration methods, oxidation methods, chromatographic methods, etc. Is more preferable because various functions are sufficiently exhibited.
本発明に係る透明導電性材料である導電性高分子、導電性金属及びカーボンナノチューブは単独で用いても、併用しても良い。また、本発明の効果発現から、本発明に係る透明導電性材料は、導電性金属が好ましく、更に好ましくは金属ナノワイヤである。 The conductive polymer, the conductive metal, and the carbon nanotube which are the transparent conductive materials according to the present invention may be used alone or in combination. Moreover, from the manifestation of the effect of the present invention, the transparent conductive material according to the present invention is preferably a conductive metal, more preferably a metal nanowire.
〔イオン液体〕
本発明に係る透明導電性材料は、イオン液体を含有していても良い。イオン液体としては、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウム、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム、1−エチルピリジニウム、1−ブチルピリジニウム、1−ヘキシルピリジニウム、N,N,N−トリメチル−N−プロピルアンモニウム、N−メチル−N−プロピルピペリジニウム、N,N,N−トリメチル−N−プロピルホスホニウム等を挙げることができる。
[Ionic liquid]
The transparent conductive material according to the present invention may contain an ionic liquid. Examples of the ionic liquid include 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1-hexyl-3-methylimidazolium, 1-butyl-3-methylimidazolium, 1-ethylpyridinium, 1-butylpyridinium, 1-hexylpyridinium, Examples thereof include N, N, N-trimethyl-N-propylammonium, N-methyl-N-propylpiperidinium, N, N, N-trimethyl-N-propylphosphonium and the like.
〔その他の添加剤〕
本発明に係る透明導電性材料を含有する導電性層には、必要に応じて任意に添加剤を含有することができる。具体的には、界面活性剤、有機溶媒、紫外線吸収剤、酸化防止剤、劣化防止剤、pH調整剤、重合禁止剤、表面改質剤、脱泡剤、可塑剤、抗菌剤などが挙げられる。これらは、1種単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。
[Other additives]
The conductive layer containing the transparent conductive material according to the present invention can optionally contain an additive as necessary. Specific examples include surfactants, organic solvents, ultraviolet absorbers, antioxidants, deterioration inhibitors, pH adjusters, polymerization inhibitors, surface modifiers, defoamers, plasticizers, and antibacterial agents. . These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
界面活性剤としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤などを挙げることができる。 Examples of the surfactant include an anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, and a nonionic surfactant.
次に、これら界面活性剤の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。アニオン系界面活性剤としては、アルキルスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸、アルキルカルボン酸、アルキルナフタレンスルホン酸、α−オレフィンスルホン酸、ジアルキルスルホコハク酸、α−スルホン化脂肪酸、N−メチル−N−オレイルタウリン、石油スルホン酸、アルキル硫酸、硫酸化油脂、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸、アルキルリン酸、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、メチルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ブチルナフタレン/ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ナフトールメチレンスルホン酸ホルマリン縮合物、クレオソート油スルホン酸ホルマリン縮合物、ナフタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物、ポリスチレンスルホン酸及びこれらの塩などを挙げることができる。 Next, specific examples of these surfactants are shown, but the present invention is not limited thereto. Examples of the anionic surfactant include alkyl sulfonic acid, alkyl benzene sulfonic acid, alkyl carboxylic acid, alkyl naphthalene sulfonic acid, α-olefin sulfonic acid, dialkyl sulfosuccinic acid, α-sulfonated fatty acid, N-methyl-N-oleyl taurine, Petroleum sulfonic acid, alkyl sulfuric acid, sulfated oil and fat, polyoxyethylene alkyl ether sulfuric acid, polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfuric acid, alkyl phosphoric acid, polyoxyethylene alkyl ether phosphoric acid, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphoric acid, naphthalene sulfone Acid formalin condensate, methyl naphthalene sulfonic acid formalin condensate, butyl naphthalene / naphthalene sulfonic acid formalin condensate, naphthol methylene sulfonic acid formalin condensate, Creoso Examples thereof include tart oil sulfonic acid formalin condensate, naphthalene sulfonic acid formaldehyde condensate, polystyrene sulfonic acid and salts thereof.
カチオン系界面活性剤としては、第一〜第三脂肪アミン、四級アンモニウム、テトラアルキルアンモニウム、トリアルキルベンジルアンモニウムアルキルピリジニウム、2−アルキル−1−アルキル−1−ヒドロキシエチルイミダゾリニウム、N,N−ジアルキルモルホリニウム、ポリエチレンポリアミン脂肪酸アミド、ポリエチレンポリアミン脂肪酸アミドの尿素縮合物、ポリエチレンポリアミン脂肪酸アミドの尿素縮合物の第四級アンモニウム及びこれらの塩などを挙げることができる。 Cationic surfactants include primary to tertiary fatty amines, quaternary ammonium, tetraalkylammonium, trialkylbenzylammonium alkylpyridinium, 2-alkyl-1-alkyl-1-hydroxyethylimidazolinium, N, N -Dialkylmorpholinium, polyethylene polyamine fatty acid amide, urea condensate of polyethylene polyamine fatty acid amide, quaternary ammonium of urea condensate of polyethylene polyamine fatty acid amide, and salts thereof.
両イオン性界面活性剤としては、N,N−ジメチル−N−アルキル−N−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、N,N,N−トリアルキル−N−スルホアルキレンアンモニウムベタイン、N,N−ジアルキル−N,N−ビスポリオキシエチレンアンモニウム硫酸エステルベタイン、2−アルキル−1−カルボキシメチル−1−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインなどのベタイン類及びN,N−ジアルキルアミノアルキレンカルボン酸塩などのアミノカルボン酸類などを挙げることができる。 Examples of amphoteric surfactants include N, N-dimethyl-N-alkyl-N-carboxymethyl ammonium betaine, N, N, N-trialkyl-N-sulfoalkylene ammonium betaine, N, N-dialkyl-N, N-bispolyoxyethylene ammonium sulfate betaine, betaines such as 2-alkyl-1-carboxymethyl-1-hydroxyethylimidazolinium betaine, and aminocarboxylic acids such as N, N-dialkylaminoalkylenecarboxylate Can be mentioned.
非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンアルキルエーテル、多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン化ヒマシ油、脂肪酸ジエタノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸部分エステル及びトリアルキルアミンオキサイドなどを挙げることができる。また、フルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸及びパーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノールなどのフッ素系界面活性剤を用いても良い。市販品としては、DIC社製メガファックF−477、F−410、F−114等を挙げることができる。 Nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene polystyryl phenyl ether, polyoxyethylene-polyoxypropylene glycol, polyoxyethylene-polyoxypropylene alkyl ether, many Polyhydric alcohol fatty acid partial ester, polyoxyethylene polyhydric alcohol fatty acid partial ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyglycerin fatty acid ester, polyoxyethylenated castor oil, fatty acid diethanolamide, polyoxyethylene alkylamine, triethanolamine fatty acid partial ester And trialkylamine oxide. Moreover, you may use fluorine-type surfactants, such as fluoroalkyl carboxylic acid, perfluoroalkyl carboxylic acid, perfluoroalkyl benzenesulfonic acid, and perfluoroalkyl polyoxyethylene ethanol. Examples of commercially available products include Megafac F-477, F-410, and F-114 manufactured by DIC.
界面活性剤の含有量としては、使用される界面活性剤の分子量や能力にもより一律に規定できるものではないが、1〜100質量%の範囲内が好ましく、1〜50質量%の範囲内がより好ましい。溶媒の種類としては、親水性溶媒や疎水性溶媒を任意に使用可能だが、透明導電性材料を含有する導電性組成物の取り扱い性や塗布形成において、環境性に優れる水系塗布法が適用できる点で、親水性溶媒を使用することが好ましい。 As the content of the surfactant, it is not possible to uniformly define the molecular weight and ability of the surfactant used, but it is preferably in the range of 1 to 100% by mass, and in the range of 1 to 50% by mass. Is more preferable. As the type of solvent, a hydrophilic solvent or a hydrophobic solvent can be arbitrarily used, but an aqueous coating method having excellent environmental properties can be applied in handling and coating formation of a conductive composition containing a transparent conductive material. It is preferable to use a hydrophilic solvent.
親水性溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、エチルイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;エチレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル等のエチレングリコール類;プロピレングリコール、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル等のプロピレングリコール類;テトラヒドロフランなどのエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類;N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン等のピロリドン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチルのようなエステル類;ジメチルスルオキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル、β−メトキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシエステル類;アニリン、N−メチルアニリン等のアニリン類;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネートなどのカーボネート類などが挙げられる。 Hydrophilic solvents include water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, propyl alcohol, butanol and other alcohols; acetone, methyl ethyl ketone, ethyl isobutyl ketone, methyl isobutyl ketone and other ketones; ethylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol Ethylene glycols such as mono-n-propyl ether; propylene glycols such as propylene glycol, propylene glycol methyl ether, propylene glycol ethyl ether, propylene glycol butyl ether, propylene glycol propyl ether; ethers such as tetrahydrofuran; dimethylformamide, dimethylacetamide Amides such as N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, etc. Lorridones; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, methyl propionate; dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate, methyl β-methoxyisobutyrate, methyl α-hydroxyisobutyrate Hydroxy esters such as aniline, anilines such as N-methylaniline, and carbonates such as ethylene carbonate, propylene carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, methyl ethyl carbonate, propylene carbonate, and butylene carbonate.
疎水性溶媒としては、4−メチルペンタン−2−オンなどの炭素数5〜10のケトン類、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族又は脂環式炭化水素類が挙げられる。 Examples of the hydrophobic solvent include ketones having 5 to 10 carbon atoms such as 4-methylpentan-2-one, halogenated hydrocarbons such as chloroform and methylene chloride, aromatic hydrocarbons such as toluene, benzene and xylene, Aliphatic or alicyclic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane are exemplified.
〔導電性層の形成方法〕
本発明に係る透明導電性材料とセルロースエステル化合物とをセルロースアシレートフィルム(以下、基材フィルムともいう)上に成膜して、導電性層を形成する方法としては、高生産性と生産コスト低減の両立、及び環境負荷軽減の観点から、塗布法や印刷法などの液相成膜法を用いることが好ましい。塗布法としては、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法などを用いることができる。印刷法としては、凸版(活版)印刷法、孔版(スクリーン)印刷法、平版(オフセット)印刷法、凹版(グラビア)印刷法、スプレー印刷法、インクジェット印刷法などを用いることができる。
[Method of forming conductive layer]
As a method for forming a conductive layer by forming a transparent conductive material and a cellulose ester compound according to the present invention on a cellulose acylate film (hereinafter also referred to as a base film), high productivity and production cost are available. It is preferable to use a liquid phase film forming method such as a coating method or a printing method from the viewpoints of both reduction and environmental load reduction. As coating methods, roll coating method, bar coating method, dip coating method, spin coating method, casting method, die coating method, blade coating method, bar coating method, gravure coating method, curtain coating method, spray coating method, doctor coating method Etc. can be used. As the printing method, a letterpress (letter) printing method, a stencil (screen) printing method, a lithographic (offset) printing method, an intaglio (gravure) printing method, a spray printing method, an ink jet printing method, and the like can be used.
導電性層を形成した後、適宜乾燥処理を施すことができる。乾燥処理の条件として特に制限はないが基材フィルムや導電性層が損傷しない範囲の温度で処理することが好ましい。 After forming the conductive layer, a drying treatment can be appropriately performed. Although there is no restriction | limiting in particular as conditions of a drying process, It is preferable to process at the temperature of the range which does not damage a base film or an electroconductive layer.
<導電性層>
導電性層は透明導電性材料とセルロースエステル化合物とを含有した導電性組成物により形成される。例えば、導電性組成物を、セルロースアシレートフィルム上に塗工、乾燥して形成されたものなどが挙げられる。
<Conductive layer>
The conductive layer is formed of a conductive composition containing a transparent conductive material and a cellulose ester compound. For example, what formed the electroconductive composition by coating on a cellulose acylate film, and drying is mentioned.
導電性層は透明であることが好ましい。透明とは全光線透過率が50%以上をいう。好ましくは全光線透過率が85%以上、より好ましくは90%以上である。 The conductive layer is preferably transparent. Transparent means that the total light transmittance is 50% or more. The total light transmittance is preferably 85% or more, more preferably 90% or more.
導電性層を用いる各種デバイスの製造プロセスにおいて、一般に150℃以上の熱可塑性樹脂による貼り合せ(パネル化)の工程や、220℃以上の配線部のはんだリフロー工程に耐え得る耐熱性が要求される。前記製造プロセスに対して、信頼性の高い導電性層を提供する観点から、240℃、30分間の加熱に対する耐熱性を有することが好ましく、60分間の加熱に対する耐熱性を有することが特に好ましい。導電性層の膜厚としては、10nm〜5μmの範囲内が好ましく、より好ましくは50nm〜1μmの範囲内である。また、屈折率は1.3から2.3の範囲内が好ましく、より好ましくは1.35から1.8の範囲内である。屈折率は、JIS K7142−2008に準じて測定することができる。 In the manufacturing process of various devices using a conductive layer, heat resistance that can withstand the process of bonding (paneling) with a thermoplastic resin of 150 ° C. or higher and the solder reflow process of wiring portions of 220 ° C. or higher is generally required. . From the viewpoint of providing a highly reliable conductive layer for the manufacturing process, it preferably has heat resistance against heating at 240 ° C. for 30 minutes, and particularly preferably has heat resistance against heating for 60 minutes. The film thickness of the conductive layer is preferably in the range of 10 nm to 5 μm, more preferably in the range of 50 nm to 1 μm. The refractive index is preferably in the range of 1.3 to 2.3, and more preferably in the range of 1.35 to 1.8. The refractive index can be measured according to JIS K7142-2008.
導電性層は、1層又は2層以上の複数層であっても良い。また、導電性層の表面抵抗率は、1000Ω/□以下が好ましく、更に好ましくは500Ω/□以下である。また、導電性層を3層設ける場合は、第一導電性層の屈折率をn1、第二導電性層の屈折率をn2、第三導電性層の屈折率をn3とした場合、n2<n3≦n1、の関係を満足するものが好ましい。 The conductive layer may be a single layer or a plurality of layers of two or more layers. Further, the surface resistivity of the conductive layer is preferably 1000Ω / □ or less, and more preferably 500Ω / □ or less. Further, when three conductive layers are provided, when the refractive index of the first conductive layer is n1, the refractive index of the second conductive layer is n2, and the refractive index of the third conductive layer is n3, n2 < Those satisfying the relationship of n3 ≦ n1 are preferable.
第三導電性層の屈折率n3が、1.9〜2.1である場合には、第一導電性層の屈折率n1は、1.9〜2.3、さらには2.0〜2.2が好ましい。また、第二導電性層の屈折率n2は、1.3〜1.7、さらには1.4〜1.6が好ましい。 When the refractive index n3 of the third conductive layer is 1.9 to 2.1, the refractive index n1 of the first conductive layer is 1.9 to 2.3, and further 2.0 to 2 .2 is preferred. The refractive index n2 of the second conductive layer is preferably 1.3 to 1.7, and more preferably 1.4 to 1.6.
第一導電性層の厚さは10〜200nmが好ましく、さらには15〜60nmが好ましい。第二導電性層の厚さは、10nm以上が好ましく、より好ましくは10〜300nm、特に好ましくは20〜120nmである。第三導電性層の厚さは特に制限されないが、表面抵抗を1000Ω/□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚さ10nm以上とするのが好ましい。 The thickness of the first conductive layer is preferably 10 to 200 nm, more preferably 15 to 60 nm. The thickness of the second conductive layer is preferably 10 nm or more, more preferably 10 to 300 nm, and particularly preferably 20 to 120 nm. The thickness of the third conductive layer is not particularly limited, but it is preferably 10 nm or more in order to obtain a continuous film having a good conductivity of 1000Ω / □ or less in surface resistance.
<セルロースエステル化合物>
次に本発明に係るセルロースエステル化合物について説明する。導電性層に透明導電性材料に加えてセルロースエステル化合物を含有させることで、本発明の効果発現が得られる。セルロースエステル化合物としては、カルボキシメチルセルロース(CMC)、2−ヒドロキシエチルセルロース(HEC)、ヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC)、メチルセルロース(MC)、などを挙げることができる。これらセルロースエステル化合物は、導電性組成物中に、0.01〜20質量部の範囲内で添加することで、導電性組成物の安定性や本発明の効果発現の観点から好ましく、更には導電性組成物中に、0.01〜10質量部の範囲内で添加することが好ましい。
<Cellulose ester compound>
Next, the cellulose ester compound according to the present invention will be described. The effect expression of this invention is acquired by making a conductive layer contain a cellulose-ester compound in addition to a transparent conductive material. Examples of the cellulose ester compound include carboxymethylcellulose (CMC), 2-hydroxyethylcellulose (HEC), hydroxypropylmethylcellulose (HPMC), methylcellulose (MC), and the like. These cellulose ester compounds are preferably added to the conductive composition within a range of 0.01 to 20 parts by mass from the viewpoint of the stability of the conductive composition and the manifestation of the effects of the present invention. It is preferable to add in the range of 0.01-10 mass parts in an ionic composition.
<アンカー層>
導電性層とセルロースアシレートフィルムの層間にアンカー層を設けてもよい。アンカー層は1層又は2層以上設けることができる。アンカー層としては、無機物、有機物又は無機物と有機物との混合物により形成する。アンカー層の形成は、基材フィルムと導電性層との屈折率差で生じる光学干渉縞(虹模様)の抑制に有効である。
<Anchor layer>
An anchor layer may be provided between the conductive layer and the cellulose acylate film. One or two or more anchor layers can be provided. The anchor layer is formed of an inorganic material, an organic material, or a mixture of an inorganic material and an organic material. The formation of the anchor layer is effective for suppressing optical interference fringes (rainbow patterns) generated by the difference in refractive index between the base film and the conductive layer.
アンカー層を形成する無機材料としては、例えば、無機物として、SiO2、MgF2、A12O3などが好ましく用いられる。また有機物としてはアクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマーなどの有機物が挙げられる。特に、有機物としては、メラミン樹脂とアルキド樹脂と有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用するのが望ましい。 As the inorganic material for forming the anchor layer, for example, SiO 2 , MgF 2 , A1 2 O 3 or the like is preferably used as an inorganic material. Examples of organic substances include organic substances such as acrylic resins, urethane resins, melamine resins, alkyd resins, and siloxane polymers. In particular, as the organic substance, it is desirable to use a thermosetting resin made of a mixture of a melamine resin, an alkyd resin, and an organosilane condensate.
アンカー層は、上記の材料を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、塗工法などにより形成できる。 The anchor layer can be formed by using the above materials by a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a coating method, or the like.
アンカー層の厚さは、通常、100nm以下、好ましくは15〜100nmの範囲内、さらに好ましくは20〜60nmの範囲内であるのがよい。併用してもよい。 The thickness of the anchor layer is usually 100 nm or less, preferably in the range of 15 to 100 nm, more preferably in the range of 20 to 60 nm. You may use together.
アンカー層が2層構成の場合第一層目のアンカー層は、屈折率(n)は1.5〜1.7の範囲内が好ましく、さらには1.5〜1.65、さらには1.5〜1.6の範囲内であるのが好ましい。厚さは100〜220nmの範囲内が好ましく、より好ましくは120〜215nm、さらには130〜210nmの範囲内であるのが好ましい。第二層目のアンカー層は、屈折率(n)は1.4〜1.5の範囲内が好ましく、さらには1.41〜1.49、より好ましくは1.42〜1.48の範囲内であるのが好ましい。厚さ(d)は20〜80nmの範囲内が好ましく、より好ましくは20〜70nm、さらには20〜60nmの範囲内であるのが好ましい。 When the anchor layer has a two-layer structure, the first anchor layer preferably has a refractive index (n) in the range of 1.5 to 1.7, more preferably 1.5 to 1.65, and It is preferably within the range of 5 to 1.6. The thickness is preferably within the range of 100 to 220 nm, more preferably 120 to 215 nm, and even more preferably within the range of 130 to 210 nm. The second anchor layer preferably has a refractive index (n) in the range of 1.4 to 1.5, more preferably in the range of 1.41 to 1.49, more preferably in the range of 1.42 to 1.48. Is preferably within. The thickness (d) is preferably in the range of 20 to 80 nm, more preferably 20 to 70 nm, and even more preferably in the range of 20 to 60 nm.
次いで、セルロースアシレートフィルムについて説明する。 Next, the cellulose acylate film will be described.
<セルロースアシレートフィルム>
セルロースアシレートフィルムは、前記エステル化合物とは異なる、前記一般式(X)で表されるエステル化合物、糖エステル化合物、グリコール酸エステル化合物、フタル酸エステル化合物、リン酸エステル化合物又は多価アルコールエステル化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする。先ずはセルロースアシレートフィルムを構成するセルロースアシレート樹脂について説明する。
<Cellulose acylate film>
The cellulose acylate film is different from the ester compound, and the ester compound, sugar ester compound, glycolic acid ester compound, phthalic acid ester compound, phosphoric acid ester compound or polyhydric alcohol ester compound represented by the general formula (X) It contains at least one of the above. First, the cellulose acylate resin constituting the cellulose acylate film will be described.
(セルロースアシレート樹脂)
本発明に係るセルロースアシレートフィルムを構成するセルロースアシレート樹脂(以下、セルロースアシレートともいう)は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、セルロースアセテートプロピオネート及びセルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。
(Cellulose acylate resin)
The cellulose acylate resin constituting the cellulose acylate film according to the present invention (hereinafter also referred to as cellulose acylate) is preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. For example, cellulose acetate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, etc. Also, mixed fatty acid esters such as cellulose acetate butyrate can be used.
セルロースアシレート樹脂としては上記の中でも、セルロースの低級脂肪酸エステルはセルロースジアセテート、セルローストリアセテート及びセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。これらのセルロースアシレートは単独あるいは混合して用いることができる。 Among the cellulose acylate resins mentioned above, cellulose diacetate, cellulose triacetate and cellulose acetate propionate are preferably used as the lower fatty acid ester of cellulose. These cellulose acylates can be used alone or in combination.
セルロースジアセテートは、平均酢化度(結合酢酸量)51.0〜56.0%の範囲内が好ましく用いられる。市販品としては、(株)ダイセル製のL20、L30、L40、L50、イーストマンケミカルジャパン(株)製のCa398−3、Ca398−6、Ca398−10、Ca398−30及びCa394−60Sが挙げられる。 Cellulose diacetate is preferably used in an average acetylation degree (bound acetic acid amount) in the range of 51.0 to 56.0%. Examples of commercially available products include L20, L30, L40, and L50 manufactured by Daicel Corporation, and Ca398-3, Ca398-6, Ca398-10, Ca398-30, and Ca394-60S manufactured by Eastman Chemical Japan Co., Ltd. .
セルローストリアセテートは、平均酢化度(結合酢酸量)54.0〜62.5%の範囲内のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が58.0〜62.5%の範囲内のセルローストリアセテートである。 Cellulose triacetate preferably has an average degree of acetylation (bound acetic acid amount) in the range of 54.0 to 62.5%, and more preferably has an average degree of acetylation of 58.0 to 62.5%. Cellulose triacetate within the range.
セルローストリアセテートとしては、アセチル基置換度が2.80〜2.95の範囲内であり、数平均分子量(Mn)が125000以上、155000未満、重量平均分子量(Mw)は、265000以上310000未満、Mw/Mnが1.9〜2.1の範囲内であるセルローストリアセテートA、アセチル基置換度が2.75〜2.90の範囲内であり、数平均分子量(Mn)が155000以上、180000未満、Mwは290000以上360000未満、Mw/Mnは、1.8〜2.0の範囲内であるセルローストリアセテートBを含有することが好ましい。 The cellulose triacetate has a degree of acetyl group substitution in the range of 2.80 to 2.95, a number average molecular weight (Mn) of 125,000 or more and less than 155000, a weight average molecular weight (Mw) of 265,000 or more and less than 310,000, Mw / Mn is in the range of 1.9 to 2.1, cellulose triacetate A, acetyl group substitution degree is in the range of 2.75 to 2.90, number average molecular weight (Mn) is 155000 or more, less than 180,000, Mw is preferably 290000 or more and less than 360,000, and Mw / Mn preferably contains cellulose triacetate B in the range of 1.8 to 2.0.
セルロースアセテートプロピオネートは、炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすものが好ましい。 Cellulose acetate propionate has an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent. When the substitution degree of acetyl group is X and the substitution degree of propionyl group or butyryl group is Y, the following formula (I ) And (II) are preferably satisfied at the same time.
式(I) 2.6≦X+Y≦3.0
式(II) 0≦X≦2.5
中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。セルロースアシレートの数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw)は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。測定条件は以下のとおりである。
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Among them, it is preferable that 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9. The number average molecular weight (Mn) and molecular weight distribution (Mw) of cellulose acylate can be measured using high performance liquid chromatography. The measurement conditions are as follows.
溶媒:メチレンクロライド
カラム:Shodex K806、K805、K803G
(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度:0.1質量%
検出器:RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ:L6000(日立製作所(株)製)
流量:1.0ml/min
校正曲線:標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G
(Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (GL Science Co., Ltd.)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0 ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000 to 500 samples were used. The 13 samples are preferably used at approximately equal intervals.
(熱可塑性アクリル樹脂)
セルロースアシレートフィルムは、熱可塑性アクリル樹脂を併用しても良い。併用する場合には、熱可塑性アクリル樹脂とセルロースアシレート樹脂の含有質量比が、熱可塑性アクリル樹脂:セルロースアシレート樹脂=95:5〜50:50の範囲内が好ましい。
(Thermoplastic acrylic resin)
The cellulose acylate film may be used in combination with a thermoplastic acrylic resin. When used in combination, the mass ratio of the thermoplastic acrylic resin to the cellulose acylate resin is preferably in the range of thermoplastic acrylic resin: cellulose acylate resin = 95: 5 to 50:50.
熱可塑性アクリル樹脂には、熱可塑性メタクリル樹脂も含まれる。熱可塑性アクリル樹脂としては、特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位50〜99質量%の範囲内、及びこれと共重合可能な他の単量体単位1〜50質量%の範囲内からなるものが好ましい。共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が2〜18のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が1〜18のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα,β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα,β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、N−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独あるいは2種以上を併用してよい。 Thermoplastic acrylic resins also include thermoplastic methacrylic resins. Although it does not restrict | limit especially as a thermoplastic acrylic resin, From within the range of 50-99 mass% of methyl methacrylate units, and within the range of 1-50 mass% of other monomer units copolymerizable with this. Is preferred. Other monomers that can be copolymerized include alkyl methacrylates having 2 to 18 carbon atoms, alkyl acrylates having 1 to 18 carbon atoms, acrylic acid, methacrylic acid, and the like. Unsaturated group-containing divalent carboxylic acids such as saturated acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid, aromatic vinyl compounds such as styrene and α-methylstyrene, α, β-unsaturated nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile, Maleic anhydride, maleimide, N-substituted maleimide, glutaric anhydride and the like may be mentioned, and these may be used alone or in combination of two or more.
これらの中でも共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、s−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやn−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。また、重量平均分子量(Mw)は80000〜500000の範囲内であることが好ましく、更に好ましくは110000〜500000の範囲内である。 Among these, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, s-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like are preferable from the viewpoint of thermal decomposition resistance and fluidity of the copolymer, and methyl acrylate and n -Butyl acrylate is particularly preferably used. Moreover, it is preferable that a weight average molecular weight (Mw) exists in the range of 80000-500000, More preferably, it exists in the range of 110000-500000.
アクリル樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。アクリル樹脂の市販品としては、例えばデルペット60N、80N(旭化成ケミカルズ(株)製)、ダイヤナールBR52、BR80、BR83、BR85、BR88(三菱レイヨン(株)製)、KT75(電気化学工業(株)製)等が挙げられる。アクリル樹脂は2種以上を併用することもできる。 The weight average molecular weight of the acrylic resin can be measured by gel permeation chromatography. Commercially available acrylic resins include, for example, Delpet 60N, 80N (Asahi Kasei Chemicals Corporation), Dialnal BR52, BR80, BR83, BR85, BR88 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), KT75 (Electrochemical Industry Co., Ltd.) )) And the like. Two or more acrylic resins can be used in combination.
次いで、セルロースアシレートフィルムに含有される本発明に係る化合物について説明する。本発明に係る化合物は、環境変化での寸法安定性や本発明の目的効果が良好に発揮される点から、前記セルロースエステル化合物とは異なる、一般式(X)で表されるエステル化合物、糖エステル化合物、グリコール酸エステル化合物、フタル酸エステル化合物、リン酸エステル化合物又は多価アルコールエステル化合物の少なくとも一種をセルロースアシレートフィルムに含有する。先ずは一般式(X)で表されるエステル化合物について説明する。 Subsequently, the compound which concerns on this invention contained in a cellulose acylate film is demonstrated. The compound according to the present invention is an ester compound represented by the general formula (X), which is different from the cellulose ester compound, in that the dimensional stability under environmental changes and the object effect of the present invention are exhibited well. The cellulose acylate film contains at least one of an ester compound, a glycolic acid ester compound, a phthalic acid ester compound, a phosphoric acid ester compound or a polyhydric alcohol ester compound. First, the ester compound represented by the general formula (X) will be described.
〈一般式(X)で表されるエステル化合物〉
一般式(X) B−(G−A)n−G−B
(式中、Bはヒドロキシ基又はカルボン酸残基、Gは炭素数2〜12のアルキレングリコール残基又は炭素数6〜12のアリーレングリコール残基又は炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数6〜12のアリーレンジカルボン酸残基を表す。nは1以上の整数を表す。)
なお、一般式(X)において、BはGに含まれる末端の原子又は官能基であってもよい。
<Ester compound represented by general formula (X)>
Formula (X) B- (GA) n -GB
(In the formula, B is a hydroxy group or carboxylic acid residue, G is an alkylene glycol residue having 2 to 12 carbon atoms, an arylene glycol residue having 6 to 12 carbon atoms, or an oxyalkylene glycol residue having 4 to 12 carbon atoms. , A represents an alkylene dicarboxylic acid residue having 4 to 12 carbon atoms or an arylene dicarboxylic acid residue having 6 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)
In general formula (X), B may be a terminal atom or functional group contained in G.
一般式(X)において、カルボン酸残基を有する化合物としては、特に制限はなく、公知の脂肪族カルボン酸、脂環族カルボン酸、芳香族カルボン酸等を用いることができる。 In the general formula (X), the compound having a carboxylic acid residue is not particularly limited, and known aliphatic carboxylic acids, alicyclic carboxylic acids, aromatic carboxylic acids and the like can be used.
炭素数2〜12のアルキレングリコール残基を有する化合物としては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,2−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールペンタン)、2−n−ブチル−2−エチル−1,3プロパンジオール(3,3−ジメチロールヘプタン)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、1種又は2種以上の混合物として使用される。特に炭素数2〜12のアルキレングリコールがセルロースアセテートとの相溶性に優れているため、特に好ましい。
Examples of the compound having an alkylene glycol residue having 2 to 12 carbon atoms include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,2 -Propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol), 2,2 -Diethyl-1,3-propanediol (3,3-dimethylolpentane), 2-n-butyl-2-ethyl-1,3propanediol (3,3-dimethylolheptane), 3-methyl-1, 5-
炭素数6〜12のアリーレングリコール残基を有する化合物としては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノール等があり、これらのグリコールは、1種又は2種以上の混合物として使用できる。 Examples of the compound having an arylene glycol residue having 6 to 12 carbon atoms include hydroquinone, resorcin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol and the like, and these glycols can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
また、炭素数4〜12のオキシアルキレングリコール残基を有する化合物としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、1種又は2種以上の混合物として使用できる。 Examples of the compound having an oxyalkylene glycol residue having 4 to 12 carbon atoms include diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, and the like. It can be used as a mixture of two or more.
炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基を有する化合物としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ1種又は2種以上の混合物として使用される。 Examples of the compound having an alkylenedicarboxylic acid residue having 4 to 12 carbon atoms include succinic acid, maleic acid, fumaric acid, glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedicarboxylic acid, and the like. Each is used as one or a mixture of two or more.
炭素数6〜12のアリーレンジカルボン酸残基を有する化合物としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸等がある。 Examples of the compound having an arylenedicarboxylic acid residue having 6 to 12 carbon atoms include phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, and the like.
以下に、一般式(X)で表される化合物の具体例を示すが、これに限定されない。 Although the specific example of a compound represented by general formula (X) below is shown, it is not limited to this.
〈糖エステル化合物〉
次に糖エステル化合物について説明する。糖エステル化合物としては、下記単糖、二糖、三糖又はオリゴ糖などの糖のOH基の全て若しくは一部をエステル化した化合物である。糖としては例えば、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、1F−フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース及びケストースを挙げることができる。このほか、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。
<Sugar ester compound>
Next, the sugar ester compound will be described. The sugar ester compound is a compound obtained by esterifying all or part of the OH group of a sugar such as the following monosaccharide, disaccharide, trisaccharide or oligosaccharide. Examples of the sugar include glucose, galactose, mannose, fructose, xylose, arabinose, lactose, sucrose, nystose, 1F-fructosyl nystose, stachyose, maltitol, lactitol, lactulose, cellobiose, maltose, cellotriose, maltotriose, raffinose And kestose. In addition, gentiobiose, gentiotriose, gentiotetraose, xylotriose, galactosyl sucrose, and the like are also included.
なお、糖エステル化合物は、前記セルロースエステル化合物、セルロースアシレート樹脂とは異なるものである。 The sugar ester compound is different from the cellulose ester compound and the cellulose acylate resin.
これらの化合物の中で、特にフラノース構造及びピラノース構造を有する化合物が好ましい。これらの中でも、スクロース、ケストース、ニストース、1F−フラクトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、さらに好ましくは、スクロースである。また、オリゴ糖として、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖も好ましく使用することができる。 Among these compounds, compounds having a furanose structure and a pyranose structure are particularly preferable. Among these, sucrose, kestose, nystose, 1F-fructosyl nystose, stachyose and the like are preferable, and sucrose is more preferable. As oligosaccharides, maltooligosaccharides, isomaltooligosaccharides, fructooligosaccharides, galactooligosaccharides, and xylo-oligosaccharides can also be preferably used.
糖をエステル化するのに用いられるモノカルボン酸は、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。使用するカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。 The monocarboxylic acid used for esterifying the sugar is not particularly limited, and known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid and the like can be used. The carboxylic acid to be used may be one kind or a mixture of two or more kinds.
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。 Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanecarboxylic acid, undecylic acid, lauric acid , Saturated fatty acids such as tridecylic acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, and laccelic acid, Examples include unsaturated fatty acids such as undecylenic acid, oleic acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachidonic acid and octenoic acid.
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。 Examples of preferred alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentane carboxylic acid, cyclohexane carboxylic acid, cyclooctane carboxylic acid, or derivatives thereof.
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができ、より具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ−イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α−イソジュリル酸、クミン酸、α−トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、o−、m、p−アニス酸、クレオソート酸、o−、m、p−ホモサリチル酸、o−ピロカテク酸、β−レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、o−ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、o−ホモベラトルム酸、フタロン酸、p−クマル酸を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。 Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include benzoic acid, aromatic monocarboxylic acids having an alkyl group or alkoxy group introduced into the benzene ring of benzoic acid, cinnamic acid, benzylic acid, biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, tetralin An aromatic monocarboxylic acid having two or more benzene rings such as carboxylic acid, or a derivative thereof can be mentioned, and more specifically, xylic acid, hemelic acid, mesitylene acid, planicylic acid, γ-isojurylic acid, Julylic acid, mesitic acid, α-isoduric acid, cumic acid, α-toluic acid, hydroatropic acid, atropic acid, hydrocinnamic acid, salicylic acid, o-, m, p-anisic acid, creosote acid, o-, m, p-homosalicylic acid, o-pyrocatechuic acid, β-resorcylic acid, vanillic acid, isovanillic acid, veratrum acid o- veratric acid, gallic acid, asarone acid, mandelic acid, homoanisic acid, homovanillic acid, homoveratric acid, o- homoveratric acid, Futaron acid, can be mentioned p- coumaric acid, especially benzoic acid.
エステル化したエステル化合物の中では、エステル化によりアセチル基が導入されたアセチル化合物が好ましい。以下に本発明に用いられ得る糖エステル化合物の具体例を示すが、これらに限定されない。 Among the ester compounds esterified, an acetyl compound into which an acetyl group has been introduced by esterification is preferable. Although the specific example of the sugar ester compound which can be used for this invention below is shown, it is not limited to these.
糖エステル化合物は、一般式(Y)で示される化合物が好ましい。以下に、一般式(Y)で示される化合物について説明する。 The sugar ester compound is preferably a compound represented by the general formula (Y). Below, the compound shown by general formula (Y) is demonstrated.
(式中、R1〜R8は、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数2〜22のアルキルカルボニル基、又は置換若しくは無置換の炭素数2〜22のアリールカルボニル基を表し、R1〜R8は、同じであっても、異なっていてもよい。)
以下に一般式(Y)で示される化合物をより具体的(化合物Y−1〜Y−23)に示すが、これらに限定はされない。
(Wherein, R 1 to R 8 is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having a carbon number of 2 to 22, or a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having a carbon number of 2 to 22, R 1 ~ R 8 may be the same or different.)
Although the compound shown with general formula (Y) below is shown more concretely (compound Y-1-Y-23), it is not limited to these.
置換度分布は、エステル化反応時間の調節、又は置換度違いの化合物を混合することにより目的の置換度に調整できる。 The substitution degree distribution can be adjusted to the desired substitution degree by adjusting the esterification reaction time or mixing compounds having different substitution degrees.
〈グリコール酸エステル化合物〉
次にグリコール酸エステル化合物(以下グリコレート化合物ともいう)について説明する。グリコレート化合物は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられ、好ましくはエチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートである。
<Glycolic acid ester compound>
Next, a glycolic acid ester compound (hereinafter also referred to as a glycolate compound) will be described. The glycolate compound is not particularly limited, but alkylphthalylalkyl glycolates can be preferably used. Examples of alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl Glycolate, ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycol Butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalate Ethyl glycolate and the like, preferably ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate.
〈フタル酸エステル化合物〉
フタル酸エステル化合物は、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。
<Phthalic acid ester compound>
Examples of the phthalic acid ester compound include diethyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, dioctyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, and dicyclohexyl terephthalate.
〈リン酸エステル化合物〉
リン酸エステル系化合物としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。
<Phosphate ester compound>
Examples of the phosphate ester compound include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, and the like.
〈多価アルコールエステル化合物〉
多価アルコールエステル化合物としては、2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステル化合物である。以下に、具体的例を示すが、これらに限定されるものではない。
<Polyhydric alcohol ester compound>
The polyhydric alcohol ester compound is a plasticizer comprising an ester of a divalent or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferably it is a 2-20 valent aliphatic polyhydric alcohol ester compound. Specific examples are shown below, but are not limited thereto.
これら化合物のうち、より過酷な耐熱試験後に本発明の目的効果をより良く発揮する点から、前記一般式(X)で表される化合物又は糖エステル化合物が好ましい。 Among these compounds, the compound represented by the general formula (X) or the sugar ester compound is preferable from the viewpoint that the objective effect of the present invention is better exhibited after a more severe heat resistance test.
前記一般式(X)で表されるエステル化合物、糖エステル化合物、グリコール酸エステル化合物、フタル酸エステル化合物、リン酸エステル化合物又は多価アルコールエステル化合物は単独又は2種類以上を併用しても良い。また添加量は、基材フィルムに1〜30質量%含有させることが好ましく、5〜25質量%含有させることがより好ましく、5〜20質量%含有させることが特に好ましい。 The ester compound, sugar ester compound, glycolic acid ester compound, phthalic acid ester compound, phosphoric acid ester compound or polyhydric alcohol ester compound represented by the general formula (X) may be used alone or in combination of two or more. Moreover, it is preferable to contain 1-30 mass% of addition amounts in a base film, It is more preferable to make 5-25 mass% contain, It is especially preferable to make 5-20 mass% contain.
また、本発明に係る基材フィルムは、後述するリターデーション値にセルロースアシレートフィルムを制御しやすい点から、アクリル系可塑剤を含有することが好ましい。 Moreover, it is preferable that the base film which concerns on this invention contains an acrylic plasticizer from the point which is easy to control a cellulose acylate film to the retardation value mentioned later.
アクリル系可塑剤はセルロースアセテートに対し、1〜50質量%含有させることが好ましく、5〜35質量%含有させることがより好ましく、5〜25質量%含有させることが特に好ましい。 The acrylic plasticizer is preferably contained in an amount of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 35% by mass, and particularly preferably 5 to 25% by mass with respect to cellulose acetate.
アクリル系可塑剤としてはアクリル系ポリマーが好ましく、アクリル系ポリマーはアクリル酸又はメタクリル酸アルキルエステルのホモポリマー又はコポリマーが好ましい。 The acrylic plasticizer is preferably an acrylic polymer, and the acrylic polymer is preferably a homopolymer or copolymer of acrylic acid or alkyl methacrylate.
アクリル酸エステルのモノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル(i−、n−)、アクリル酸ブチル(n−、i−、s−、t−)、アクリル酸ペンチル(n−、i−、s−)、アクリル酸ヘキシル(n−、i−)、アクリル酸ヘプチル(n−、i−)、アクリル酸オクチル(n−、i−)、アクリル酸ノニル(n−、i−)、アクリル酸ミリスチル(n−、i−)、アクリル酸(2−エチルヘキシル)、アクリル酸(ε−カプロラクトン)、アクリル酸(2−ヒドロキシエチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(3−ヒドロキシプロピル)、アクリル酸(4−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−ヒドロキシブチル)、アクリル酸(2−メトキシエチル)、アクリル酸(2−エトキシエチル)等、又は上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。 Examples of the acrylate monomer include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate (i-, n-), butyl acrylate (n-, i-, s-, t-), pentyl acrylate ( n-, i-, s-), hexyl acrylate (n-, i-), heptyl acrylate (n-, i-), octyl acrylate (n-, i-), nonyl acrylate (n-, i-), myristyl acrylate (n-, i-), acrylic acid (2-ethylhexyl), acrylic acid (ε-caprolactone), acrylic acid (2-hydroxyethyl), acrylic acid (2-hydroxypropyl), acrylic Acid (3-hydroxypropyl), acrylic acid (4-hydroxybutyl), acrylic acid (2-hydroxybutyl), acrylic acid (2-methoxyethyl), acrylic acid 2-ethoxyethyl), etc., or the acrylic acid ester may include those obtained by changing the methacrylic acid ester.
アクリル系ポリマーは上記モノマーのホモポリマー又はコポリマーであるが、アクリル酸メチルエステルモノマー単位が30質量%以上を有していることが好ましく、またメタクリル酸メチルエステルモノマー単位が40質量%以上有することが好ましい。特にアクリル酸メチル又はメタクリル酸メチルのホモポリマーが好ましい。 The acrylic polymer is a homopolymer or copolymer of the above-mentioned monomers, but the acrylic acid methyl ester monomer unit preferably has 30% by mass or more, and the methacrylic acid methyl ester monomer unit has 40% by mass or more. preferable. In particular, a homopolymer of methyl acrylate or methyl methacrylate is preferred.
なお、本発明に係る基材フィルムに、上述アクリル系可塑剤を含有させる場合、その使用量はセルロースアシレートに対し、1〜50質量%含有させることが好ましく、5〜35質量%含有させることがより好ましく、5〜25質量%含有させることが特に好ましい。 In addition, when making the base film which concerns on this invention contain the said acrylic plasticizer, it is preferable to make the usage-amount contain 1-50 mass% with respect to a cellulose acylate, and make it contain 5-35 mass%. Is more preferable, and 5 to 25% by mass is particularly preferable.
(紫外線吸収剤)
本発明に係る基材フィルムは、紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収するため、耐久性を向上させるができる。紫外線吸収剤は、特に波長370nmでの透過率が10%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以下、更に好ましくは2%以下である。紫外線吸収剤の具体例としては特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。
(UV absorber)
The base film according to the present invention may contain an ultraviolet absorber. Since the ultraviolet absorber absorbs ultraviolet rays of 400 nm or less, durability can be improved. In particular, the ultraviolet absorber preferably has a transmittance of 10% or less at a wavelength of 370 nm, more preferably 5% or less, and still more preferably 2% or less. Specific examples of the ultraviolet absorber are not particularly limited. For example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex salts, inorganic powders. Examples include the body.
より具体的には、例えば、5−クロロ−2−(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、(2−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン等を用いることができる。これらは、市販品を用いてもよく、例えば、BASFジャパン社製のチヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328等のチヌビン類を好ましく使用できる。 More specifically, for example, 5-chloro-2- (3,5-di-sec-butyl-2-hydroxylphenyl) -2H-benzotriazole, (2-2H-benzotriazol-2-yl) -6 -(Linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2,4-benzyloxybenzophenone, etc. can be used. Commercially available products may be used. For example, TINUVIN such as TINUVIN 109, TINUVIN 171, TINUVIN 234, TINUVIN 326, TINUVIN 327, and TINUVIN 328 manufactured by BASF Japan Ltd. can be preferably used.
好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤などである。 Preferred ultraviolet absorbers are benzotriazole ultraviolet absorbers, benzophenone ultraviolet absorbers, and triazine ultraviolet absorbers, and particularly preferred are benzotriazole ultraviolet absorbers and benzophenone ultraviolet absorbers.
この他、1,3,5トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特にポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。 In addition, a discotic compound such as a compound having a 1,3,5 triazine ring is also preferably used as the ultraviolet absorber. As the UV absorber, a polymer UV absorber can be preferably used, and a polymer type UV absorber is particularly preferably used.
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、市販品であるBASFジャパン社製のTINUVIN 109(オクチル−3−[3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−[3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートの混合物)、TINUVIN 928(2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(1−メチル−1−フェニルエチル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール)などを用いることができる。トリアジン系紫外線吸収剤としては、市販品であるBASFジャパン社製のTINUVIN 400(2−(4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−ヒドロキシフェニルとオキシランとの反応生成物)、TINUVIN 460(2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル]−6−(2,4−ジブトキシフェニル)−1,3−5−トリアジン)、TINUVIN 405(2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジンと(2−エチルヘキシル)−グリシド酸エステルの反応生成物)などを用いることができる。 As a benzotriazole ultraviolet absorber, TINUVIN 109 (octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazole-2-) manufactured by BASF Japan Ltd., which is a commercial product, is available. Yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate), TINUVIN 928 (2 -(2H-benzotriazol-2-yl) -6- (1-methyl-1-phenylethyl) -4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol) and the like can be used. As the triazine-based ultraviolet absorber, TINUVIN 400 (2- (4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl) -manufactured by BASF Japan Ltd., which is a commercial product, is available. Reaction product of 5-hydroxyphenyl and oxirane), TINUVIN 460 (2,4-bis [2-hydroxy-4-butoxyphenyl] -6- (2,4-dibutoxyphenyl) -1,3-5 Triazine), TINUVIN 405 (2- (2,4-dihydroxyphenyl) -4,6-bis- (2,4-dimethylphenyl) -1,3,5-triazine and (2-ethylhexyl) -glycidic acid ester Reaction products) and the like.
紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してから、基材フィルムとなる樹脂溶液(ドープ)に添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースアセテート中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。 The ultraviolet absorber is added by dissolving the ultraviolet absorber in an alcohol such as methanol, ethanol, butanol or the like, an organic solvent such as methylene chloride, methyl acetate, acetone, dioxolane, or a mixed solvent thereof, and then becomes a base film. It may be added to the resin solution (dope) or directly during the dope composition. For an inorganic powder that does not dissolve in an organic solvent, a dissolver or a sand mill is used in the organic solvent and cellulose acetate to disperse and then added to the dope.
紫外線吸収剤の使用量は、基材フィルムに対して0.5〜10質量%の範囲内が好ましく、0.6〜4質量%の範囲内が更に好ましい。 The usage-amount of a ultraviolet absorber has the preferable inside of the range of 0.5-10 mass% with respect to a base film, and the inside of the range of 0.6-4 mass% is still more preferable.
(酸化防止剤)
本発明に係る基材フィルムは、さらに酸化防止剤(劣化防止剤)を含有していてもよい。酸化防止剤は、セルロースアセテートフィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等によりセルロースアセテートフィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有する。
(Antioxidant)
The base film according to the present invention may further contain an antioxidant (deterioration inhibitor). The antioxidant has a role of delaying or preventing the cellulose acetate film from being decomposed by a residual solvent amount of halogen in the cellulose acetate film, phosphoric acid of a phosphoric acid plasticizer, or the like.
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート等を挙げることができる。 As the antioxidant, hindered phenol compounds are preferably used. For example, 2,6-di-tert-butyl-p-cresol, pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl). -4-hydroxyphenyl) propionate], triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) -1,3 5-triazine, 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamamide), 1,3 5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate Etc.
これら化合物の添加量は、セルロースアセテートフィルムに対して、質量割合で1〜10000ppmが好ましく、10〜1000ppmの範囲内が更に好ましい。 The addition amount of these compounds is preferably 1 to 10,000 ppm, more preferably in the range of 10 to 1000 ppm by mass ratio with respect to the cellulose acetate film.
(微粒子)
本実施形態に係る基材フィルムには、取扱性を向上させるため、例えばアクリル粒子、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子などのマット剤を含有させることが好ましい。またアクリル粒子は、特に限定されるものではないが、多層構造アクリル系粒状複合体であることが好ましい。これらの中でも二酸化ケイ素がセルロースアシレートフィルムのヘイズを小さくできる点で好ましい。
(Fine particles)
The base film according to the present embodiment has, for example, acrylic particles, silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, and hydrated silicic acid in order to improve handling properties. It is preferable to contain matting agents such as inorganic fine particles such as calcium, aluminum silicate, magnesium silicate, and calcium phosphate, and a crosslinked polymer. The acrylic particles are not particularly limited, but are preferably multi-layered acrylic granular composites. Among these, silicon dioxide is preferable in that the haze of the cellulose acylate film can be reduced.
微粒子の1次平均粒子径としては、20nm以下が好ましく、更に好ましくは、5〜16nmの範囲内であり、特に好ましくは、5〜12nmの範囲内である。 The primary average particle diameter of the fine particles is preferably 20 nm or less, more preferably in the range of 5 to 16 nm, and particularly preferably in the range of 5 to 12 nm.
(欠点)
本発明に係る基材フィルムは、直径5μm以上の欠点が、1個/10cm四方以下であることが好ましい。更に好ましくは0.5個/10cm四方以下、一層好ましくは0.1個/10cm四方以下である。ここで欠点の直径とは、欠点が円形の場合はその直径を示し、円形でない場合は欠点の範囲を下記方法により顕微鏡で観察して決定し、その最大径(外接円の直径)とする。
(Disadvantage)
The substrate film according to the present invention preferably has a defect of 5 μm or more in diameter of 1/10 cm square or less. More preferably, it is 0.5 piece / 10 cm square or less, more preferably 0.1 piece / 10 cm square or less. Here, the diameter of the defect indicates the diameter when the defect is circular, and when the defect is not circular, the range of the defect is determined by observing with a microscope by the following method, and the maximum diameter (diameter of circumscribed circle) is determined.
欠点の範囲は、欠点が気泡や異物の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の透過光で観察したときの影の大きさである。欠点が、ロール傷の転写や擦り傷など、表面形状の変化の場合は、欠点を微分干渉顕微鏡の反射光で観察して大きさを確認できる。 The range of the defect is the size of the shadow when the defect is observed with the transmitted light of the differential interference microscope when the defect is a bubble or a foreign object. When the defect is a change in surface shape, such as transfer of a roll flaw or an abrasion, the size can be confirmed by observing the defect with reflected light of a differential interference microscope.
欠点の個数が1個/10cm四方より多いと、例えば後工程での加工時などでフィルムに張力がかかると、欠点を基点としてフィルムが破断して生産性が低下する場合がある。また、欠点の直径が5μm以上になると、偏光板観察などにより目視で確認でき、光学部材として用いたとき輝点が生じる場合がある。 When the number of defects is greater than 1/10 cm square, for example, when the film is tensioned during processing in a later process, the film may break with the defects as a starting point, and productivity may decrease. Moreover, when the diameter of a defect becomes 5 micrometers or more, it can confirm visually by polarizing plate observation etc., and when used as an optical member, a bright spot may arise.
また、目視で確認できない場合でも、ハードコート層を形成したときに、塗膜が均一に形成できず欠点(塗布抜け)となる場合がある。ここで、欠点とは、溶液製膜の乾燥工程において溶媒の急激な蒸発に起因して発生するフィルム中の空洞(発泡欠点)や、製膜原液中の異物や製膜中に混入する異物に起因するフィルム中の異物(異物欠点)をいう。また、基材フィルムは、JIS−K7127−1999に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、10%以上であることが好ましく、より好ましくは20%以上である。破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には250%程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。 Moreover, even when it cannot confirm visually, when a hard-coat layer is formed, a coating film cannot be formed uniformly and it may become a fault (coating omission). Here, the defect is a void in the film (foaming defect) generated due to the rapid evaporation of the solvent in the drying process of the solution casting, a foreign matter in the film forming stock solution, or a foreign matter mixed in the film forming. This refers to foreign matter (foreign matter defect) in the film. In addition, the base film preferably has a breaking elongation of at least one direction of 10% or more, more preferably 20% or more, in the measurement based on JIS-K7127-1999. The upper limit of the elongation at break is not particularly limited, but is practically about 250%. In order to increase the elongation at break, it is effective to suppress defects in the film caused by foreign matter and foaming.
(光学特性)
基材フィルムは、その全光線透過率が90%以上であることが好ましく、より好ましくは93%以上である。また、現実的な上限としては、99%程度である。ヘイズ値は2%以下が好ましく、より好ましくは1.5%以下である。全光線透過率、ヘイズ値はJIS K7361及びJIS K7136に準じて測定することができる。
(optical properties)
The base film preferably has a total light transmittance of 90% or more, more preferably 93% or more. Moreover, as a realistic upper limit, it is about 99%. The haze value is preferably 2% or less, more preferably 1.5% or less. The total light transmittance and haze value can be measured according to JIS K7361 and JIS K7136.
また、本発明に係る導電性フィルムのヘイズは、タッチパネルなどの画像表示装置に用いた場合の視認性から、6%以下が好ましく、より好ましくは3.5%以下、特に好ましくは2.5%以下である。全光線透過率は85%以上が好ましい。 Further, the haze of the conductive film according to the present invention is preferably 6% or less, more preferably 3.5% or less, and particularly preferably 2.5% from the viewpoint of visibility when used in an image display device such as a touch panel. It is as follows. The total light transmittance is preferably 85% or more.
基材フィルムのリターデーションは、波長590nmにおける、面内リターデーション値Roが0〜5nmの範囲内、厚さ方向のリターデーション値Rtが−10〜10nmの範囲内が好ましい。更にRtは−5〜5nmの範囲内であることがより好ましい。 The retardation of the base film is preferably in the range where the in-plane retardation value Ro is 0 to 5 nm and the retardation value Rt in the thickness direction is -10 to 10 nm at a wavelength of 590 nm. Further, Rt is more preferably within a range of −5 to 5 nm.
Ro及びRtは下記式(I)及び(II)で定義された値である。 Ro and Rt are values defined by the following formulas (I) and (II).
式(I) Ro=(nx−ny)×d
式(II) Rt={(nx+ny)/2−nz}×d
(式中、nxは基材フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyは基材フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、nzは基材フィルムの厚さ方向の屈折率、dは基材フィルムの厚さ(nm)をそれぞれ表す。)
上記リターデーションは、例えばKOBRA−21ADH(王子計測機器(株)製)を用いて、23℃、55%RH(相対湿度)の環境下で、波長が590nmで求めることができる。上記リターデーションに制御した基材フィルムを用いることで、タッチパネルなどの画像表示装置に用いた際の視認性に優れる点から好ましい。リターデーションは、前述した可塑剤の種類や添加量及び基材フィルムの膜厚や延伸条件等で調整できる。
Formula (I) Ro = (n x -ny) × d
Formula (II) Rt = {(n x + n y) / 2-n z} × d
(Wherein, n x is a refractive index in a slow axis direction in the substrate film surface, n y is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the base film surface, the thickness of the n z is a substrate film (The refractive index in the direction, d represents the thickness (nm) of the substrate film, respectively.)
The retardation can be determined at a wavelength of 590 nm in an environment of 23 ° C. and 55% RH (relative humidity) using, for example, KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments). It is preferable to use a base film controlled to the above-mentioned retardation from the viewpoint of excellent visibility when used in an image display device such as a touch panel. Retardation can be adjusted by the kind and addition amount of a plasticizer mentioned above, the film thickness of a base film, stretching conditions, and the like.
基材フィルムの屈折率は、1.45〜1.55の範囲内であることが好ましい。屈折率は、JIS K7142−2008に準じて測定することができる。 The refractive index of the base film is preferably in the range of 1.45 to 1.55. The refractive index can be measured according to JIS K7142-2008.
(基材フィルムの製膜)
次に、基材フィルムの製膜方法の例を説明するが、これに限定されるものではない。基材フィルムの製膜方法としては、インフレーション法、T−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できる。
(Formation of base film)
Next, although the example of the film forming method of a base film is demonstrated, it is not limited to this. As a method for forming the base film, a production method such as an inflation method, a T-die method, a calendar method, a cutting method, a casting method, an emulsion method, or a hot press method can be used.
(有機溶媒)
基材フィルムを溶液流延製膜法で製造する場合の樹脂溶液(ドープ組成物)を形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースアシレート樹脂、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。前記溶媒はセルロースアシレート樹脂、その他添加剤を計15〜45質量%の範囲内で溶解させたドープ組成物であることが好ましい。
(Organic solvent)
An organic solvent useful for forming a resin solution (dope composition) in the case of producing a base film by a solution casting film forming method can be used as long as it dissolves cellulose acylate resin and other additives at the same time. Can be used without limitation. For example, as the chlorinated organic solvent, methylene chloride, as the non-chlorinated organic solvent, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro- 2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, tert-butanol, etc. Can, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, may be used preferably acetone. The solvent is preferably a dope composition in which a cellulose acylate resin and other additives are dissolved within a total range of 15 to 45% by mass.
(溶液流延製膜法〕
溶液流延製膜法では、樹脂及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったセルロースアシレートフィルムを巻き取る工程により行われる。
(Solution casting film forming method)
In the solution casting film forming method, a step of preparing a dope by dissolving a resin and an additive in a solvent, a step of casting the dope on a belt-shaped or drum-shaped metal support, and drying the cast dope as a web It is performed by the step of performing, the step of peeling from the metal support, the step of stretching or maintaining the width, the step of further drying, and the step of winding up the finished cellulose acylate film.
金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。 As the metal support, a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used.
キャストの幅は1〜4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃の範囲内で適宜決定され、5〜30℃の範囲内が更に好ましい。又は、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。 The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set to −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferred because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate. A preferable support temperature is appropriately determined within a range of 0 to 100 ° C, and more preferably within a range of 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing warm air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short.
温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。 When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. .
特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。 In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.
基材フィルムが良好な平面性を得るためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量が10〜150質量%の範囲内であることが好ましく、更に好ましくは20〜40質量%又は60〜130質量%の範囲内であり、特に好ましくは、20〜30質量%又は70〜120質量%の範囲内である。残留溶媒量は下記式で定義される。 In order for the base film to obtain good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably within the range of 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass. Or in the range of 60-130 mass%, Most preferably, it exists in the range of 20-30 mass% or 70-120 mass%. The amount of residual solvent is defined by the following formula.
残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
なお、Mはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
Note that M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.
また基材フィルムの乾燥工程は、ウェブを金属支持体より剥離し、乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%の範囲内である。 Further, in the drying process of the base film, the web is peeled off from the metal support and dried, and the residual solvent amount is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, particularly preferably. It is in the range of 0 to 0.01% by mass.
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。延伸工程では、フィルムの長手方向(MD方向)、及び幅手方向(TD方向)に対して、逐次又は同時に延伸することができる。互いに直交する2軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはMD方向に1.0〜2.0倍、TD方向に1.05〜2.0倍の範囲内とすることが好ましく、MD方向に1.0〜1.5倍、TD方向に1.05〜2.0倍の範囲内で行うことが好ましい。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用してMD方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてMD方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてTD方向に延伸する方法、あるいはMD方向及びTD方向を同時に広げて両方向に延伸する方法等が挙げられる。 In the film drying step, generally, a roll drying method (a method in which webs are alternately passed through a plurality of rolls arranged above and below) and a method in which the web is dried while being conveyed by a tenter method are employed. In the stretching step, the film can be sequentially or simultaneously stretched in the longitudinal direction (MD direction) and the width direction (TD direction) of the film. The draw ratios in the biaxial directions perpendicular to each other are preferably finally in the range of 1.0 to 2.0 times in the MD direction and 1.05 to 2.0 times in the TD direction, respectively. It is preferable to carry out within 1.0 to 1.5 times and 1.05 to 2.0 times in the TD direction. For example, a method in which peripheral speed differences are applied to a plurality of rolls and a roll peripheral speed difference is used to stretch in the MD direction, both ends of the web are fixed with clips and pins, and the distance between the clips and pins is increased in the traveling direction. And a method of stretching in the MD direction, a method of stretching in the transverse direction and stretching in the TD direction, a method of stretching the MD direction and the TD direction at the same time, and stretching in both directions.
製膜工程のこれらの幅保持あるいは幅手方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。 These width maintenance or width direction stretching in the film forming process is preferably performed by a tenter, and may be a pin tenter or a clip tenter.
テンター等の製膜工程でのフィルム搬送張力は温度にもよるが、120〜200N/mの範囲内が好ましく、140〜200N/mの範囲内が更に好ましい。140〜160N/mの範囲内が最も好ましい。 The film transport tension in the film forming process such as a tenter depends on the temperature, but is preferably in the range of 120 to 200 N / m, and more preferably in the range of 140 to 200 N / m. The most preferable range is 140 to 160 N / m.
延伸する際の温度は、基材フィルムのガラス転移温度をTgとすると(Tg−30)〜(Tg+100)℃、より好ましくは(Tg−20)〜(Tg+80)℃、更に好ましく(Tg−5)〜(Tg+20)℃の範囲内である。 The temperature during stretching is (Tg-30) to (Tg + 100) ° C., more preferably (Tg-20) to (Tg + 80) ° C., more preferably (Tg-5), where the glass transition temperature of the base film is Tg. It is in the range of ~ (Tg + 20) ° C.
基材フィルムのTgは、フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。基材フィルムの乾燥時のTgは、110℃以上が好ましく、更に120℃以上が好ましい。特に好ましくは150℃以上である。ガラス転移温度は190℃以下、より好ましくは170℃以下であることが好ましい。セルロースアシレートフィルムのTgはJIS K7121に記載の方法等によって求めることができる。延伸する際の温度は、150℃以上、延伸倍率は1.15倍以上にすると、表面が適度に粗れるため、好ましい。基材フィルム表面を粗らすことにより、滑り性が向上するとともに、表面加工性が向上するため好ましい。 The Tg of the base film can be controlled by the material type constituting the film and the ratio of the constituting materials. The Tg at the time of drying the base film is preferably 110 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher. Especially preferably, it is 150 degreeC or more. The glass transition temperature is preferably 190 ° C. or lower, more preferably 170 ° C. or lower. The Tg of the cellulose acylate film can be determined by the method described in JIS K7121. The stretching temperature is preferably 150 ° C. or more and the stretching ratio is 1.15 times or more because the surface is appropriately roughened. Roughening the surface of the base film is preferable because it improves slipperiness and improves surface processability.
〔溶融流延製膜法〕
基材フィルムは、溶融流延製膜法によって製膜しても良い。溶融流延製膜法は、セルロースアシレート樹脂、可塑剤等のその他の添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースアシレートを含む溶融物を流延することをいう。
[Melt casting method]
The base film may be formed by a melt casting film forming method. In the melt casting film forming method, a composition containing other additives such as cellulose acylate resin and plasticizer is heated and melted to a temperature exhibiting fluidity, and then a melt containing fluid cellulose acylate is obtained. It means casting.
溶融流延製膜法では、機械的強度及び表面精度等の点から、溶融押出し法が好ましい。溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。 In the melt casting film forming method, the melt extrusion method is preferable from the viewpoint of mechanical strength and surface accuracy. A plurality of raw materials used for melt extrusion are usually preferably kneaded and pelletized in advance.
ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースアシレートや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し1軸や2軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷又は空冷し、カッティングすることでできる。 Pelletization may be performed by a known method. For example, dry cellulose acylate, plasticizer, and other additives are fed to an extruder using a feeder and kneaded using a single or twin screw extruder, and then formed into a strand from a die. Can be extruded, water-cooled or air-cooled, and then cut.
添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。 The additives may be mixed before being supplied to the extruder, or may be supplied by individual feeders.
粒子や酸化防止剤等の少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。 A small amount of additives such as particles and antioxidants are preferably mixed in advance in order to mix uniformly.
押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化(分子量低下、着色、ゲル生成等)しないように、ペレット化できる程度になるべく低温で加工することが好ましい。例えば、2軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。 The extruder is preferably processed at a temperature as low as possible so that it can be pelletized so that the shearing force is suppressed and the resin does not deteriorate (molecular weight reduction, coloring, gel formation, etc.). For example, in the case of a twin screw extruder, it is preferable to rotate in the same direction using a deep groove type screw. From the uniformity of kneading, the meshing type is preferable.
以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。 A film is formed using the pellets obtained as described above. Of course, the raw material powder can be directly fed to the extruder by a feeder without being pelletized to form a film as it is.
上記ペレットを1軸や2軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を200〜300℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルター等で濾過し異物を除去した後、Tダイからフィルム状に流延し、冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップし、冷却ロール上で固化させることにより、セルロースアシレートフィルムを製膜する。 Using a single or twin screw extruder, the pellets are melted at a temperature of about 200 to 300 ° C., filtered through a leaf disk type filter or the like to remove foreign matter, and then formed into a film from a T die. The cellulose acylate film is formed by niping the film with a cooling roll and an elastic touch roll and solidifying the film on the cooling roll.
供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下又は減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。 When introducing into the extruder from the supply hopper, it is preferable to prevent oxidative decomposition or the like under vacuum, reduced pressure, or inert gas atmosphere.
押出し流量は、ギヤポンプを導入する等して安定に調整することが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。 The extrusion flow rate is preferably adjusted stably by introducing a gear pump or the like. Further, a stainless fiber sintered filter is preferably used as a filter used for removing foreign substances. The stainless steel fiber sintered filter is a united stainless steel fiber body that is intricately intertwined and compressed, and the contact points are sintered and integrated. The density of the fiber is changed depending on the thickness of the fiber and the amount of compression, and the filtration accuracy is improved. Can be adjusted.
可塑剤や粒子等の添加剤は、あらかじめ樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー等の混合装置を用いることが好ましい。 Additives such as plasticizers and particles may be mixed with the resin in advance, or may be kneaded in the middle of the extruder. In order to add uniformly, it is preferable to use a mixing apparatus such as a static mixer.
冷却ロールと弾性タッチロールでセルロースアシレートフィルムをニップする際のタッチロール側のセルロースアシレートフィルム温度はフィルムのTg以上(Tg+110℃)以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。 The temperature of the cellulose acylate film on the touch roll side when the cellulose acylate film is nipped between the cooling roll and the elastic touch roll is preferably not less than Tg (Tg + 110 ° C.) of the film. A well-known roll can be used for the roll which has the elastic body surface used for such a purpose.
弾性タッチロールは挟圧回転体ともいう。弾性タッチロールとしては、市販されているものを用いることもできる。 The elastic touch roll is also called a pinching rotator. As the elastic touch roll, a commercially available one can be used.
冷却ロールから基材フィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。 When peeling the base film from the cooling roll, it is preferable to control the tension to prevent deformation of the film.
また、上記のようにして得られた基材フィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。 Moreover, it is preferable to stretch | stretch the base film obtained as mentioned above by the said stretching operation after passing the process which contact | connects a cooling roll.
延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンター等を好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のTg〜(Tg+60)℃の温度範囲で行われることが好ましい。 As a stretching method, a known roll stretching machine, a tenter or the like can be preferably used. The stretching temperature is preferably carried out in the temperature range of Tg to (Tg + 60) ° C. of the resin that usually constitutes the film.
巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きやすり傷防止のために、ナール加工(エンボッシング加工)を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凹凸のパターンを側面に有する金属リングを用いて加熱や加圧をすることにより加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、セルロースアシレートフィルムが変形しており製品として使用できないので切除され、再利用される。 Prior to winding, the ends may be slit and cut to the width of the product, and knurling (embossing) may be applied to both ends to prevent sticking or scratching during winding. The knurling method can be performed by heating or pressurizing using a metal ring having an uneven pattern on the side surface. In addition, since the cellulose acylate film is deformed and cannot be used as a product, the clip holding portions at both ends of the film are usually cut out and reused.
(セルロースアシレートフィルム物性)
セルロースアシレートフィルムの膜厚は、5〜200μmの範囲内が一般的であり、好ましくは、10〜60μmである。更に好ましくは5〜34μmの範囲内である。セルロースアシレートフィルムの膜厚が、5〜34μmの範囲内において、より過酷な耐熱試験において、本発明の効果発現から、好適に発揮される。
(Physical properties of cellulose acylate film)
The film thickness of the cellulose acylate film is generally within the range of 5 to 200 μm, and preferably 10 to 60 μm. More preferably, it exists in the range of 5-34 micrometers. When the film thickness of the cellulose acylate film is in the range of 5 to 34 μm, it is suitably exhibited from the manifestation of the effects of the present invention in a more severe heat resistance test.
セルロースアシレートフィルムの幅は、1〜4mの範囲内のものが好ましく用いられる。4mを超えると搬送が困難となる。 The width of the cellulose acylate film is preferably within the range of 1 to 4 m. If it exceeds 4 m, conveyance becomes difficult.
また、セルロースアシレートフィルムの長さは、1000〜10000mの範囲内が好ましく、より好ましくは1000〜8000mの範囲内である。前記長さの範囲とすることで、基材フィルムの生産性やハンドリング性に優れる。また、基材フィルムの算術平均粗さRaは、好ましくは2〜10nm、より好ましくは2〜5nmの範囲内である。算術平均粗さRaは、JIS B0601:1994に準じて測定できる。 The length of the cellulose acylate film is preferably in the range of 1000 to 10000 m, more preferably in the range of 1000 to 8000 m. By setting it as the range of the said length, it is excellent in the productivity and handling property of a base film. Moreover, arithmetic mean roughness Ra of a base film becomes like this. Preferably it is 2-10 nm, More preferably, it exists in the range of 2-5 nm. The arithmetic average roughness Ra can be measured according to JIS B0601: 1994.
(ハードコート層)
本発明に係る導電性フィルムの基材フィルムの膜厚が、薄膜で、より過酷な耐熱試験後において、導電性層とは反対の面にハードコート層を有することがカール抑制の観点から特に好ましい。またハードコート層は、導電性層上あるいは基材フィルムとの間に設けても良い。
(Hard coat layer)
The film thickness of the base film of the conductive film according to the present invention is a thin film, and after a more severe heat resistance test, it is particularly preferable from the viewpoint of curling suppression to have a hard coat layer on the surface opposite to the conductive layer. . The hard coat layer may be provided on the conductive layer or between the base film.
ハードコート層は、活性線硬化樹脂を含有することが機械的膜強度(耐擦傷性、鉛筆硬度)に優れる点から好ましい。すなわち、紫外線や電子線のような活性線(活性エネルギー線ともいう)照射により、架橋反応を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層である。活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化樹脂層が形成される。活性線硬化樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が特に機械的膜強度(耐擦傷性、鉛筆硬度)に優れる点から好ましい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリレート系樹脂、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられ、中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。 The hard coat layer preferably contains an actinic radiation curable resin from the viewpoint of excellent mechanical film strength (abrasion resistance, pencil hardness). That is, it is a layer mainly composed of a resin that is cured through a crosslinking reaction by irradiation with active rays (also called active energy rays) such as ultraviolet rays and electron beams. As the actinic radiation curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and an actinic radiation curable resin layer is formed by curing by irradiation with actinic radiation such as ultraviolet rays or electron beams. The Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, but a resin curable by ultraviolet irradiation is particularly excellent in mechanical film strength (abrasion resistance, pencil hardness). It is preferable from the point. Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable acrylate resin, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, and an ultraviolet curable resin. A curable epoxy resin or the like is preferably used, and an ultraviolet curable acrylate resin is particularly preferable.
紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクロイルオキシ基を有する化合物である。 As the ultraviolet curable acrylate resin, a polyfunctional acrylate is preferable. The polyfunctional acrylate is preferably selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. Here, the polyfunctional acrylate is a compound having two or more acryloyloxy groups or methacryloyloxy groups in the molecule.
多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体等が好ましく挙げられる。 Examples of the polyfunctional acrylate monomer include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethane triacrylate. , Tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tri / tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerol triacrylate relay , Dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol di Methacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, tetramethylolmethane trimethacrylate, tetramethylolmethane tetramethacrylate, pentaglycerol trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pen Pentaerythritol tetramethacrylate, glycerol trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate, etc. isocyanurate derivatives of the active energy ray-curable are preferably exemplified.
本発明の目的効果から、ハードコート層は、活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体を含有することが好ましい。 From the object effect of the present invention, the hard coat layer preferably contains an active energy ray-curable isocyanurate derivative.
活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、イソシアヌル酸骨格に1個以上のエチレン性不飽和基が結合した構造を有する化合物であればよく、特に制限はないが、下記一般式(1)で示される同一分子内に3個以上のエチレン性不飽和基及び1個以上のイソシアヌレート環を有する化合物が本発明の目的効果の点から好ましい。エチレン性不飽和基の種類は、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基であり、より好ましくはメタクリロイル基又はアクリロイル基であり、特に好ましくはアクリロイル基である。 The active energy ray-curable isocyanurate derivative is not particularly limited as long as it is a compound having a structure in which one or more ethylenically unsaturated groups are bonded to an isocyanuric acid skeleton. A compound having three or more ethylenically unsaturated groups and one or more isocyanurate rings in the same molecule shown is preferable from the viewpoint of the object effect of the present invention. The kind of ethylenically unsaturated group is an acryloyl group, a methacryloyl group, a styryl group, and a vinyl ether group, more preferably a methacryloyl group or an acryloyl group, and particularly preferably an acryloyl group.
式中L2は、2価の連結基であり、好ましくは、イソシアヌレート環に炭素原子が結合している置換若しくは無置換の炭素原子数7以下のアルキレンオキシ基又はポリアルキレンオキシ基が好ましく、特に好ましくはアルキレンオキシ基であり、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。R2は、水素原子又はメチル基を表し、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。一般式(1)で示される具体的化合物を以下に示すが、これらに限られない。 In the formula, L 2 is a divalent linking group, preferably a substituted or unsubstituted alkyleneoxy group or polyalkyleneoxy group having 7 or less carbon atoms in which a carbon atom is bonded to the isocyanurate ring, Particularly preferred are alkyleneoxy groups, which may be the same or different. R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and may be the same or different. Although the specific compound shown by General formula (1) is shown below, it is not restricted to these.
その他の化合物としては、イソシアヌル酸ジアクリレート化合物が挙げられ、下記一般式(2)で表されるイソシアヌル酸エトキシ変性ジアクリレートが好ましい。 Examples of the other compounds include isocyanuric acid diacrylate compounds, and isocyanuric acid ethoxy-modified diacrylates represented by the following general formula (2) are preferable.
またその他として、ε−カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体を挙げることもでき、具体的には下記一般式(3)で表される化合物である。 Other examples include ε-caprolactone-modified active energy ray-curable isocyanurate derivatives, specifically, compounds represented by the following general formula (3).
上記化学構造式のR1〜R3の一には、下記a,b,cで示される官能基が付くが、R1〜R3の少なくとも一つはbの官能基である。 One of R 1 to R 3 in the chemical structural formula is attached with a functional group represented by the following a, b and c, and at least one of R 1 to R 3 is a functional group of b.
a:−H、若しくは−(CH2)n−OH(n=1〜10、好ましくはn=2〜6)
b:−(CH2)n−O−(COC5H10)m−COCH=CH2(n=1〜10、好ましくはn=2〜6、m=2〜8)
c:−(CH2)n−O−R(Rは(メタ)アクリロイル基、n=1〜10、好ましくはn=2〜6)
一般式(3)で示される具体的化合物を以下に示すが、これらに限られない。
a: -H, or - (CH 2) n -OH ( n = 1~10, preferably n = 2 to 6)
b: — (CH 2 ) n —O— (COC 5 H 10 ) m —COCH═CH 2 (n = 1 to 10, preferably n = 2 to 6, m = 2 to 8)
c: — (CH 2 ) n —O—R (R is a (meth) acryloyl group, n = 1 to 10, preferably n = 2 to 6)
Although the specific compound shown by General formula (3) is shown below, it is not restricted to these.
イソシアヌル酸トリアクリレート化合物の市販品としては、例えば新中村化学工業株式会社製A−9300などが挙げられる。イソシアヌル酸ジアクリレート化合物の市販品としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスM−215などが挙げられる。イソシアヌル酸トリアクリレート化合物及びイソシアヌル酸ジアクリレート化合物の混合物としては、例えば東亞合成株式会社製アロニックスM−315、アロニックスM−313などが挙げられる。ε−カプロラクトン変性の活性エネルギー線硬化型のイソシアヌレート誘導体としては、ε−カプロラクトン変性トリス−(アクリロキシエチル)イソシアヌレートである新中村化学工業株式会社製A−9300−1CL、東亞合成株式会社製アロニックスM−327などを挙げることができるが、これらに限定されない。 As a commercial item of an isocyanuric acid triacrylate compound, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. A-9300 etc. are mentioned, for example. As a commercial item of an isocyanuric acid diacrylate compound, Toagosei Co., Ltd. Aronix M-215 etc. are mentioned, for example. Examples of the mixture of the isocyanuric acid triacrylate compound and the isocyanuric acid diacrylate compound include Aronix M-315 and Aronix M-313 manufactured by Toagosei Co., Ltd. As the ε-caprolactone-modified active energy ray-curable isocyanurate derivative, A-9300-1CL manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., which is ε-caprolactone-modified tris- (acryloxyethyl) isocyanurate, manufactured by Toagosei Co., Ltd. Examples include, but are not limited to, Aronix M-327.
これらの市販品としては、アデカオプトマーNシリーズ、サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060、アロニックスM−215、アロニックスM−315、アロニックスM−313、アロニックスM−327(東亞合成(株)製)、NK−エステルA−TMM−3L、NK−エステルAD−TMP、NK−エステルATM−35E、NKエステルA−DOG、NKエステルA−IBD−2E、A−9300、A−9300−1CL(新中村化学工業(株))、PE−3A(共栄社化学)などが挙げられる。上記活性線硬化樹脂を単独又は2種以上混合しても良い。また、活性線硬化型樹脂の25℃における粘度は、好ましくは20mPa・s以上、2000mPa・s以下である。このような低粘度の樹脂を用いることで、後述する突起形状が得られやすい。具体的には前記樹脂の粘度範囲であれば、乾燥工程において樹脂組成物(活性線硬化型樹脂と溶剤以外の添加剤からなる組成物)の十分な流動性が得られやすく、突起形状が得られやすい。 As these commercial products, Adekaoptomer N series, Sun Rad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) , Aronix M-6100, M-8030, M-8060, Aronix M-215, Aronix M-315, Aronix M-313, Aronix M-327 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK-ester A-TMM-3L , NK-ester AD-TMP, NK-ester ATM-35E, NK ester A-DOG, NK ester A-IBD-2E, A-9300, A-9300-1CL (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), PE- 3A (Kyoeisha Chemical) etc. are mentioned. You may mix the said active ray curable resin individually or in mixture of 2 or more types. The viscosity at 25 ° C. of the actinic radiation curable resin is preferably 20 mPa · s or more and 2000 mPa · s or less. By using such a low-viscosity resin, a protrusion shape described later can be easily obtained. Specifically, within the viscosity range of the resin, sufficient fluidity of the resin composition (composition comprising an active ray curable resin and an additive other than a solvent) can be easily obtained in the drying step, and a protrusion shape can be obtained. It is easy to be done.
活性線硬化型樹脂の粘度は、樹脂をディスパーにて撹拌混合し25℃の条件にてB型粘度計を用いて粘度測定を行うことができる。また、単官能アクリレートを用いても良い。 The viscosity of the actinic radiation curable resin can be measured using a B-type viscometer under the condition of 25 ° C. with the resin stirred and mixed with a disper. A monofunctional acrylate may also be used.
単官能アクリレートとしては、イソボロニルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、イソステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ラウリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベヘニルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどが挙げられる。このような単官能アクリレートは、日本化成工業株式会社、新中村化学工業株式会社、大阪有機化学工業株式会社等から入手できる。 Monofunctional acrylates include isobornyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, isostearyl acrylate, benzyl acrylate, ethyl carbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, lauryl acrylate, isooctyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, behenyl Examples include acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and cyclohexyl acrylate. Such monofunctional acrylates can be obtained from Nippon Kasei Kogyo Co., Ltd., Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Osaka Organic Chemical Co., Ltd., etc.
単官能アクリレートを用いる場合には、多官能アクリレートと単官能アクリレートの含有質量比で、多官能アクリレート:単官能アクリレート=80:20〜99:2の範囲内で含有することが好ましい。 When using a monofunctional acrylate, it is preferable to contain in the range of polyfunctional acrylate: monofunctional acrylate = 80: 20-99: 2 by the mass ratio of polyfunctional acrylate and monofunctional acrylate.
(光重合開始剤)
また、ハードコート層には活性線硬化樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤:活性線硬化樹脂=20:100〜0.01:100の範囲内で含有することが好ましい。光重合開始剤としては、具体的には、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及び、これらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。
(Photopolymerization initiator)
The hard coat layer preferably contains a photopolymerization initiator to accelerate the curing of the actinic radiation curable resin. The amount of the photopolymerization initiator is preferably contained in a mass ratio in the range of photopolymerization initiator: active ray curable resin = 20: 100 to 0.01: 100. Specific examples of the photopolymerization initiator include alkylphenone series, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone and the like, and derivatives thereof. In particular, it is not limited to these.
このような光重合開始剤は市販品を用いてもよく、例えば、例えば、BASFジャパン(株)製のイルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア651などが好ましい例示として挙げられる。 A commercial item may be used for such a photoinitiator, for example, Irgacure 184, Irgacure 907, Irgacure 651, etc. by BASF Japan Ltd. are mentioned as a preferable illustration.
(導電剤)
ハードコート層には、帯電防止性を付与するために導電剤が含まれていても良い。好ましい導電剤としては、金属酸化物粒子又はπ共役系導電性ポリマーが挙げられる。また、イオン液体も導電性化合物として好ましく用いられる。
(Conductive agent)
The hard coat layer may contain a conductive agent in order to impart antistatic properties. Preferred conductive agents include metal oxide particles or π-conjugated conductive polymers. An ionic liquid is also preferably used as the conductive compound.
(添加剤)
ハードコート層は塗布性の観点から、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素−シロキサングラフト化合物、フッ素系化合物、アクリル共重合物などの添加剤を含有させても良い。また、HLB値が3〜18の化合物を含有しても良い。HLB値とは、Hydrophile−Lipophile−Balance、親水性−親油性−バランスのことであり、化合物の親水性又は親油性の大きさを示す値である。HLB値が小さいほど親油性が高く、値が大きいほど親水性が高くなる。また、HLB値は以下のような計算式によって求めることができる。
(Additive)
From the viewpoint of coatability, the hard coat layer contains additives such as silicone surfactants, fluorine surfactants, anionic surfactants, and fluorine-siloxane graft compounds, fluorine compounds, and acrylic copolymers. Also good. Moreover, you may contain the compound whose HLB value is 3-18. The HLB value is Hydrophile-Lipophile-Balance, hydrophilic-lipophilic-balance, and is a value indicating the hydrophilicity or lipophilicity of a compound. The smaller the HLB value, the higher the lipophilicity, and the higher the value, the higher the hydrophilicity. The HLB value can be obtained by the following calculation formula.
HLB=7+11.7Log(Mw/Mo)
式中、Mwは親水基の分子量、Moは親油基の分子量を表し、Mw+Mo=M(化合物の分子量)である。あるいはグリフィン法によれば、HLB値=20×親水部の式量の総和/分子量(J.Soc.Cosmetic Chem.,5(1954),294)等が挙げられる。HLB値が3〜18の化合物の具体的化合物を下記に挙げるが、本発明はこれに限定されるものでない。( )内はHLB値を示す。
HLB = 7 + 11.7Log (Mw / Mo)
In the formula, Mw represents the molecular weight of the hydrophilic group, Mo represents the molecular weight of the lipophilic group, and Mw + Mo = M (molecular weight of the compound). Alternatively, according to the Griffin method, HLB value = 20 × total formula weight of hydrophilic part / molecular weight (J. Soc. Cosmetic Chem., 5 (1954), 294) and the like. Specific examples of the compound having an HLB value of 3 to 18 are listed below, but the present invention is not limited thereto. Figures in parentheses indicate HLB values.
花王株式会社製:エマルゲン102KG(6.3)、エマルゲン103(8.1)、エマルゲン104P(9.6)、エマルゲン105(9.7)、エマルゲン106(10.5)、エマルゲン108(12.1)、エマルゲン109P(13.6)、エマルゲン120(15.3)、エマルゲン123P(16.9)、エマルゲン147(16.3)、エマルゲン210P(10.7)、エマルゲン220(14.2)、エマルゲン306P(9.4)、エマルゲン320P(13.9)、エマルゲン404(8.8)、エマルゲン408(10.0)、エマルゲン409PV(12.0)、エマルゲン420(13.6)、エマルゲン430(16.2)、エマルゲン705(10.5)、エマルゲン707(12.1)、エマルゲン709(13.3)、エマルゲン1108(13.5)、エマルゲン1118S−70(16.4)、エマルゲン1135S−70(17.9)、エマルゲン2020G−HA(13.0)、エマルゲン2025G(15.7)、エマルゲンLS−106(12.5)、エマルゲンLS−110(13.4)、エマルゲンLS−114(14.0)、日信化学工業株式会社製:サーフィノール104E(4)、サーフィノール104H(4)、サーフィノール104A(4)、サーフィノール104BC(4)、サーフィノール104DPM(4)、サーフィノール104PA(4)、サーフィノール104PG−50(4)、サーフィノール104S(4)、サーフィノール420(4)、サーフィノール440(8)、サーフィノール465(13)、サーフィノール485(17)、サーフィノールSE(6)、信越化学工業株式会社製:X−22−4272(7)、X−22−6266(8)、KF−351(12)、KF−352(7)、KF−353(10)、KF−354L(16)、KF−355A(12)、KF−615A(10)、KF−945(4)、KF−618(11)、KF−6011(12)、KF−6015(4)、KF−6004(5)。シリコーン系界面活性剤としては、ポリエーテル変性シリコーンなどを挙げることができ、上記信越化学工業社製のKFシリーズなどを挙げることができる。アクリル共重合物としては、ビックケミー・ジャパン社製のBYK−350、BYK−352などの市販品化合物を挙げることができる。フッ素系界面活性剤としては、DIC株式会社製のメガファック RSシリーズ、メガファックF−444メガファックF−556などを挙げることができる。フッ素−シロキサングラフト化合物とは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び/又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び/又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体の化合物をいう。このようなフッ素−シロキサングラフト化合物は、後述の実施例に記載されているような方法で調製することができる。あるいは、市販品としては、富士化成工業株式会社製のZX−022H、ZX−007C、ZX−049、ZX−047−D等を挙げることができる。またフッ素系化合物としては、ダイキン工業株式会社製のオプツールDSX、オプツールDACなどを挙げることができる。 Made by Kao Corporation: Emulgen 102KG (6.3), Emulgen 103 (8.1), Emulgen 104P (9.6), Emulgen 105 (9.7), Emulgen 106 (10.5), Emulgen 108 (12. 1), Emulgen 109P (13.6), Emulgen 120 (15.3), Emulgen 123P (16.9), Emulgen 147 (16.3), Emulgen 210P (10.7), Emulgen 220 (14.2) , Emulgen 306P (9.4), Emulgen 320P (13.9), Emulgen 404 (8.8), Emulgen 408 (10.0), Emulgen 409PV (12.0), Emulgen 420 (13.6), Emulgen 430 (16.2), Emulgen 705 (10.5), Emulgen 707 (12.1), Emulgen 7 9 (13.3), Emulgen 1108 (13.5), Emulgen 1118S-70 (16.4), Emulgen 1135S-70 (17.9), Emulgen 2020G-HA (13.0), Emulgen 2025G (15. 7), Emulgen LS-106 (12.5), Emulgen LS-110 (13.4), Emulgen LS-114 (14.0), manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd .: Surfynol 104E (4), Surfynol 104H (4), Surfinol 104A (4), Surfinol 104BC (4), Surfinol 104DPM (4), Surfinol 104PA (4), Surfinol 104PG-50 (4), Surfinol 104S (4), Surfi Knoll 420 (4), Surfynol 440 (8), Surfynol 46 (13), Surfinol 485 (17), Surfinol SE (6), manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: X-22-4272 (7), X-22-6266 (8), KF-351 (12), KF-352 (7), KF-353 (10), KF-354L (16), KF-355A (12), KF-615A (10), KF-945 (4), KF-618 (11), KF -6011 (12), KF-6015 (4), KF-6004 (5). Examples of the silicone surfactant include polyether-modified silicone, and the KF series manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be used. Examples of the acrylic copolymer include commercially available compounds such as BYK-350 and BYK-352 manufactured by BYK Japan. Examples of the fluorosurfactant include Megafac RS series manufactured by DIC Corporation, Megafac F-444 Megafac F-556, and the like. The fluorine-siloxane graft compound refers to a compound of a copolymer obtained by grafting polysiloxane and / or organopolysiloxane containing siloxane and / or organosiloxane alone on at least a fluorine-based resin. Such a fluorine-siloxane graft compound can be prepared by a method as described in Examples described later. Or as a commercial item, Fuji Chemical Industries Ltd. ZX-022H, ZX-007C, ZX-049, ZX-047-D etc. can be mentioned. Moreover, as a fluorine-type compound, Daikin Industries Ltd. OPTOOL DSX, OPTOOL DAC, etc. can be mentioned.
これら成分は、ハードコート組成物中の固形分成分に対し、0.005質量部以上、5質量部以下の範囲で添加することが好ましい。 These components are preferably added in the range of 0.005 parts by mass or more and 5 parts by mass or less with respect to the solid component in the hard coat composition.
(紫外線吸収剤)
ハードコート層は、前述する基材フィルムで説明する紫外線吸収剤をさらに含有しても良い。紫外線吸収剤を含有する場合のフィルムの構成としては、2層以上で構成される場合には、かつセルロースアシレートフィルムと接するハードコート層に紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
(UV absorber)
A hard-coat layer may further contain the ultraviolet absorber demonstrated with the base film mentioned above. As a structure of the film in the case of containing the ultraviolet absorber, when it is constituted by two or more layers, it is preferable that the hard coat layer in contact with the cellulose acylate film contains the ultraviolet absorber.
紫外線吸収剤の含有量としては質量比で、紫外線吸収剤:ハードコート層構成樹脂=0.01:100〜10:100の範囲内で含有することが好ましい。2層以上設ける場合、セルロースフィルムと接するハードコート層の膜厚は、0.05〜2μmの範囲内であることが好ましい。2層以上の積層は同時重層で形成しても良い。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に2層以上のハードコート層をwet on wetで塗布して、ハードコート層を形成することである。第1ハードコート層の上に乾燥工程を経ずに、第2ハードコート層をwet on wetで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。 The content of the ultraviolet absorber is preferably in the range of mass ratio and ultraviolet absorber: hard coat layer constituting resin = 0.01: 100 to 10: 100. When two or more layers are provided, the thickness of the hard coat layer in contact with the cellulose film is preferably in the range of 0.05 to 2 μm. Two or more layers may be formed as a simultaneous multilayer. The simultaneous multi-layer is to form a hard coat layer by applying two or more hard coat layers on a base material without going through a drying step. In order to laminate the second hard coat layer on the first hard coat layer without a drying process, the layers are stacked one after another by an extrusion coater or simultaneously by a slot die having a plurality of slits. Can be done.
(溶剤)
ハードコート層は、上記したハードコート層を形成する成分を、セルロースアシレートフィルムを膨潤又は一部溶解をする溶剤で希釈してハードコート層組成物として、以下の方法でセルロースアシレートフィルム上に塗布、乾燥、硬化してハードコート層を設けることが好ましい。溶剤としては、ケトン(メチルエチルケトン、アセトンなど)及び/又は酢酸エステル(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど)、アルコール(エタノール、メタノール)、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどが好ましい。ハードコート層の塗布量はウェット膜厚として0.1〜40μmの範囲内が適当で、好ましくは0.5〜30μmの範囲内である。また、ドライ膜厚としては平均膜厚0.01〜20μm、好ましくは0.5〜10μmの範囲内である。ハードコート層の塗布方法は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。
(solvent)
The hard coat layer is prepared by diluting the components forming the hard coat layer with a solvent that swells or partially dissolves the cellulose acylate film, and forms the hard coat layer composition on the cellulose acylate film by the following method. It is preferable to provide a hard coat layer by coating, drying and curing. As the solvent, ketone (methyl ethyl ketone, acetone, etc.) and / or acetate ester (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), alcohol (ethanol, methanol), propylene glycol monomethyl ether, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, etc. are preferable. The coating amount of the hard coat layer is suitably in the range of 0.1 to 40 μm, preferably in the range of 0.5 to 30 μm, as the wet film thickness. Further, the dry film thickness is in the range of 0.01 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm. As a method for applying the hard coat layer, known methods such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and an ink jet method can be used.
(ハードコート層形成方法)
ハードコート層組成物塗布後、乾燥し、硬化(活性線を照射(UV硬化処理ともいう))し、更に必要に応じて、UV硬化後に加熱処理しても良い。UV硬化後の加熱処理温度としては80℃以上が好ましく、更に好ましくは100℃以上であり、特に好ましくは120℃以上である。このような高温でUV硬化後の加熱処理を行うことで、膜強度に優れたハードコート層を得ることができる。
(Hard coat layer forming method)
After applying the hard coat layer composition, it may be dried and cured (irradiated with active rays (also referred to as UV curing treatment)), and if necessary, may be subjected to heat treatment after UV curing. The heat treatment temperature after UV curing is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and particularly preferably 120 ° C. or higher. By performing the heat treatment after UV curing at such a high temperature, a hard coat layer having excellent film strength can be obtained.
乾燥は、減率乾燥区間の温度を90℃以上の高温処理で行うことが好ましい。更に好ましくは、減率乾燥区間の温度は90℃以上、125℃以下である。減率乾燥区間の温度を高温処理とすることで、ハードコート層の形成時に塗膜樹脂中で対流が生じ、その結果、ハードコート層表面に不規則な表面粗れが発現しやすく、後述した算術平均粗さRaに制御しやすい。 Drying is preferably performed by a high-temperature treatment in which the temperature in the decreasing rate drying section is 90 ° C. or higher. More preferably, the temperature in the decreasing rate drying section is 90 ° C. or higher and 125 ° C. or lower. By setting the temperature of the rate-decreasing drying section to a high temperature treatment, convection occurs in the coating resin during the formation of the hard coat layer, and as a result, irregular surface roughness tends to appear on the hard coat layer surface, which will be described later. It is easy to control the arithmetic average roughness Ra.
一般に乾燥プロセスは、乾燥が始まると、乾燥速度が一定の状態から徐々に減少する状態へと変化していくことが知られており、乾燥速度が一定の区間を恒率乾燥区間、乾燥速度が減少していく区間を減率乾燥区間と呼ぶ。恒率乾燥区間においては流入する熱量は全て塗膜表面の溶媒蒸発に費やされており、塗膜表面の溶媒が少なくなると蒸発面が表面から内部に移動して減率乾燥区間に入る。これ以降は塗膜表面の温度が上昇し熱風温度に近づいていくため、活性線硬化型樹脂組成物の温度が上昇し、樹脂粘度が低下して流動性が増すと考えられる。 In general, it is known that the drying process changes from a constant state to a gradually decreasing state when drying starts. The decreasing section is called the decreasing rate drying section. In the constant rate drying section, the amount of heat flowing in is all consumed for solvent evaporation on the coating film surface, and when the solvent on the coating film surface decreases, the evaporation surface moves from the surface to the inside and enters the decreasing rate drying section. Thereafter, the temperature of the coating film surface rises and approaches the hot air temperature, so that the temperature of the actinic radiation curable resin composition rises, the resin viscosity decreases, and the fluidity increases.
UV硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。 As a light source for UV curing treatment, any light source that generates ultraviolet rays can be used without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used.
照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常50〜1000mJ/cm2、好ましくは50〜300mJ/cm2の範囲内である。また、UV硬化処理では酸素による反応阻害を防止するため、酸素除去(例えば、窒素パージなどの不活性ガスによる置換)を行うこともできる。酸素濃度の除去量を調整することで、表面の硬化状態を制御できる。これにより、前述した添加剤のハードコート層面での存在状態をコントロールでき、その結果、θΔを前記範囲に制御しやすい。活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜300N/mの範囲内が好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、又は2軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性の優れたフィルムを得ることができる。 Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually within a range of 50 to 1000 mJ / cm 2 , preferably 50 to 300 mJ / cm 2 . In the UV curing treatment, oxygen removal (for example, replacement with an inert gas such as nitrogen purge) can be performed to prevent reaction inhibition by oxygen. The cured state of the surface can be controlled by adjusting the removal amount of the oxygen concentration. This makes it possible to control the presence state of the additive on the hard coat layer surface, and as a result, it is easy to control θΔ within the above range. When irradiating actinic radiation, it is preferably performed while applying tension in the film transport direction, and more preferably while applying tension in the width direction. The tension to be applied is preferably within a range of 30 to 300 N / m. The method for applying the tension is not particularly limited, and the tension may be applied in the conveying direction on the back roll, or the tension may be applied in the width direction or biaxial direction by a tenter. Thereby, a film having further excellent flatness can be obtained.
(表面形状)
ハードコート層の算術平均粗さRa(JIS B0601:1994)は、2〜100nmの範囲内が好ましく、特に好ましくは5〜80nmの範囲内である。
(Surface shape)
The arithmetic average roughness Ra (JIS B0601: 1994) of the hard coat layer is preferably in the range of 2 to 100 nm, particularly preferably in the range of 5 to 80 nm.
該算術平均粗さRaとするための突起形状の高さは2nm〜4μmの範囲内が好ましい。また突起形状の幅は50nm〜300μm、好ましくは、50nm〜100μmの範囲内である。ハードコート層の10点平均粗さRzは、中心線平均粗さRaの10倍以下、平均山谷距離Smは5〜150μmの範囲内が好ましく、より好ましくは20〜100μmの範囲内、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差は0.5μm以下の範囲内、中心線を基準とした平均山谷距離Smの標準偏差が20μm以下、傾斜角0〜5度の面は10%以上が好ましい。前記した算術平均粗さRa、Sm、Rzは、JIS B0601:1994に準じて光学干渉式表面粗さ計(ZYGO社製、NewView)で測定した値である。 The height of the protrusion shape for obtaining the arithmetic average roughness Ra is preferably in the range of 2 nm to 4 μm. The width of the protrusion shape is in the range of 50 nm to 300 μm, preferably 50 nm to 100 μm. The 10-point average roughness Rz of the hard coat layer is 10 times or less of the center line average roughness Ra, and the average mountain valley distance Sm is preferably within the range of 5 to 150 μm, more preferably within the range of 20 to 100 μm, It is preferable that the standard deviation of the height of the convex portion from within a range of 0.5 μm or less, the standard deviation of the average mountain-valley distance Sm with respect to the center line is 20 μm or less, and the surface having an inclination angle of 0 to 5 degrees is 10% or more. The above-mentioned arithmetic average roughness Ra, Sm, Rz is a value measured with an optical interference type surface roughness meter (manufactured by ZYGO, NewView) according to JIS B0601: 1994.
(硬度)
本発明のハードコート層を有した導電性フィルムは、硬度の指標である鉛筆硬度がHB以上、より好ましくはH以上である。HB以上であれば、偏光板化工程で、傷が付きにくい。鉛筆硬度は、作製した光学性フィルムを温度23℃、相対湿度55%の条件で2時間以上調湿した後、加重500g条件でJIS S 6006が規定する試験用鉛筆を用いて、ハードコート層及び又は機能性層をJIS K5400が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。
(hardness)
The conductive film having the hard coat layer of the present invention has a pencil hardness, which is an index of hardness, of HB or more, more preferably H or more. If it is more than HB, it is hard to be damaged in the polarizing plate forming step. The pencil hardness is determined by adjusting the humidity of the produced optical film at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% for 2 hours or more, and then using a test pencil specified by JIS S 6006 under a load of 500 g. Or it is the value which measured the functional layer according to the pencil hardness evaluation method which JISK5400 prescribes | regulates.
<その他の層>
本発明の導電性フィルムは、導電性層又はハードコート層上に反射防止層を設けることができる。
<Other layers>
In the conductive film of the present invention, an antireflection layer can be provided on the conductive layer or the hard coat layer.
〈反射防止層〉
反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体である保護フィルムよりも屈折率の低い低屈折率層、若しくは支持体である保護フィルムよりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層を組み合わせて構成されていることが好ましい。
<Antireflection layer>
The antireflection layer is preferably laminated in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, and the like so that the reflectance is reduced by optical interference. The antireflection layer is composed of a low refractive index layer having a lower refractive index than the protective film as the support, or a combination of a high refractive index layer and a low refractive index layer having a higher refractive index than the protective film as the support. Preferably it is.
特に好ましくは、3層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる3層を、中屈折率層(支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。又は、2層以上の高屈折率層と2層以上の低屈折率層とを交互に積層した4層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。 Particularly preferably, it is an antireflection layer composed of three or more refractive index layers, and three layers having different refractive indexes from the support side are divided into medium refractive index layers (high refractive index layers having a higher refractive index than the support). Are preferably laminated in the order of a layer having a lower refractive index) / a high refractive index layer / a low refractive index layer. Alternatively, an antireflection layer having a layer structure of four or more layers in which two or more high refractive index layers and two or more low refractive index layers are alternately laminated is also preferably used.
(低屈折率層)
低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、23℃、波長550nm測定で、1.30〜1.45の範囲内であることが好ましい。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer preferably contains silica-based fine particles, and the refractive index is preferably in the range of 1.30 to 1.45 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm.
低屈折率層の膜厚は、5nm〜0.5μmの範囲内であることが好ましく、10nm〜0.3μmであることが更に好ましく、30nm〜0.2μmの範囲内であることが最も好ましい。 The film thickness of the low refractive index layer is preferably in the range of 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably in the range of 30 nm to 0.2 μm.
低屈折率層形成用組成物については、シリカ系微粒子として、特に外殻層を有し内部が多孔質又は空洞の粒子を少なくとも1種類以上含むことが好ましい。特に該外殻層を有し内部が多孔質又は空洞である粒子が、中空シリカ系微粒子であることが好ましい。 The composition for forming a low refractive index layer preferably contains at least one kind of particles having an outer shell layer and porous or hollow inside as silica-based fine particles. In particular, the particles having the outer shell layer and having a porous or hollow inside are preferably hollow silica-based fine particles.
なお、低屈折率層形成用組成物には、下記一般式(OSi−1)で表される有機珪素化合物若しくはその加水分解物、あるいは、その重縮合物を併せて含有させても良い。 The composition for forming a low refractive index layer may contain an organosilicon compound represented by the following general formula (OSi-1) or a hydrolyzate thereof, or a polycondensate thereof.
一般式(OSi−1):Si(OR)4
一般式で表される有機珪素化合物は、式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基を表す。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が好ましく用いられる。
General formula (OSi-1): Si (OR) 4
In the organic silicon compound represented by the general formula, R represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane and the like are preferably used.
他に溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。またフッ素原子を35〜80質量%の範囲内で含み、且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素化合物を主としてなる熱硬化性及び/又は光硬化性を有する化合物を含有しても良い。具体的には含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル化合物などである。含フッ素ポリマーとしては、例えばパーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。その他、溶剤、必要に応じて、シランカップリング剤、硬化剤、界面活性剤等を添加してもよい。 In addition, a silane coupling agent, a curing agent, a surfactant and the like may be added as necessary. Further, it may contain a compound having a thermosetting property and / or a photocuring property mainly containing a fluorine-containing compound containing a fluorine atom in a range of 35 to 80% by mass and containing a crosslinkable or polymerizable functional group. . Specifically, a fluorine-containing polymer or a fluorine-containing sol-gel compound is used. As the fluorine-containing polymer, for example, a hydrofluorinated monomer in addition to a hydrolyzate or dehydration condensate of a perfluoroalkyl group-containing silane compound [eg (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane] Examples thereof include fluorine-containing copolymers having units and cross-linking reactive units as constituent units. In addition, you may add a solvent, a silane coupling agent, a hardening | curing agent, surfactant, etc. as needed.
(高屈折率層)
高屈折率層の屈折率は、23℃、波長550nm測定で、屈折率を1.4〜2.2の範囲内に調整することが好ましい。また、高屈折率層の厚さは5nm〜1μmの範囲内が好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmの範囲内であることが最も好ましい。屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。金属酸化また、用いる金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60の範囲内であるものが好ましく、1.85〜2.50の範囲内であるものが更に好ましい。
(High refractive index layer)
The refractive index of the high refractive index layer is preferably adjusted to a refractive index in the range of 1.4 to 2.2 by measuring at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. The thickness of the high refractive index layer is preferably in the range of 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably in the range of 30 nm to 0.1 μm. The means for adjusting the refractive index can be achieved by adding metal oxide fine particles and the like. Metal oxide The metal oxide fine particles used preferably have a refractive index in the range of 1.80 to 2.60, more preferably in the range of 1.85 to 2.50.
金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができる。 The kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S A metal oxide having at least one element selected from can be used.
<画像表示装置>
本発明の導電性フィルムを用いたタッチパネルについて説明する。タッチパネルとしては、例えば、表面型静電容量方式タッチパネル、投射型静電容量方式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネル等が挙げられる。
<Image display device>
A touch panel using the conductive film of the present invention will be described. Examples of the touch panel include a surface capacitive touch panel, a projection capacitive touch panel, and a resistive touch panel.
表面型静電容量方式タッチパネルの一例を図1を用いて説明する。図1において、タッチパネル10は、基材フィルム11上に導電性層12を配してなり、基材フィルム11の端部の導電性層12上に、図示しない外部検知回路との電気接続のための電極端子18が形成されている。13はシールド電極となる導電性層、14と17は保護膜を示し、15は中間保護膜を示し、16はグレア防止膜を示す。
An example of a surface capacitive touch panel will be described with reference to FIG. In FIG. 1, the
表面型静電容量方式タッチパネル図1において、導電性層12上の任意の点を指等でタッチすると、タッチされた点で電極端子18と導電性層12の接地点との間の抵抗値に変化が生じる。表面型静電容量方式タッチパネルはこの抵抗値の変化を前記外部検知回路によって検知し、タッチした点の座標を特定する方式である。
Surface-type capacitive touch panel In FIG. 1, when an arbitrary point on the
表面型静電容量方式タッチパネルの他の一例を図2を用いて説明する。図2においてタッチパネル20は、基材フィルム21上に導電性層22、基材フィルム25上に導電性層23と、導電性層22と導電性層23とを絶縁する絶縁層24と、指等の接触対象27と導電性層22又は導電性層23の間に静電容量を生じる絶縁カバー層(図示無し)からなり、指等の接触対象に対して位置検知する。構成によっては、導電性層22,23を一体として構成することもでき、また、絶縁層24は空気層で構成してもよい。
Another example of the surface capacitive touch panel will be described with reference to FIG. In FIG. 2, the
また表面型静電容量方式タッチパネルは、絶縁カバー層(図示無し)に指等でタッチすると、指等と導電性層22又は導電性層23の間の静電容量の値に変化が生じる。この静電容量値の変化を外部検知回路によって検知し、タッチした点の座標を特定する方式である。
Further, when a surface-type capacitive touch panel is touched with a finger or the like on an insulating cover layer (not shown), the capacitance value between the finger and the
具体的には、図3に示したようにタッチパネル20の導電性層22と、導電性層23とによる導電パターンで構成され、X軸方向の位置を検出可能とする複数の導電性層22と、Y軸方向の複数の導電性層23とが、外部端子に接続可能に配され、電層22と導電性層23とが、指先等の接触対象に対し複数接触して、接触情報が多点入力され、X軸方向及びY軸方向の座標位置を特定する。
Specifically, as shown in FIG. 3, a plurality of
次に、タッチパネルの他の一例である抵抗膜式タッチパネルの一例を図4を用いて説明する。図4において、タッチパネル30は、導電性層32が配された基材フィルム31と、導電性層32上に複数配されたスペーサ36と、空気層34を介して、導電性層32と接触可能な導電性層33と、導電性層33の基材フィルム35から構成される。抵抗膜式タッチパネルは、基材フィルム35側から指等でタッチすると、基材フィルム35が押圧され、押し込まれた導電性層32と導電性層33とが接触し、この位置での電位変化を図示しない外部検知回路で検出することで、タッチした点の座標が特定される。
Next, an example of a resistive touch panel, which is another example of the touch panel, will be described with reference to FIG. In FIG. 4, the
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.
実施例1
(セルロースアシレートフィルム1の作製)
・二酸化珪素分散液の調整
アエロジルR812(日本アエロジル(株)製) (一次粒子の平均径7nm)
10質量部
エタノール 90質量部
以上をディゾルバーで30分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に88質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで30分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。微粒子分散希釈液濾過器(アドバンテック東洋(株):ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターTCW−PPS−1N)で濾過した。
・ドープ組成物1の調整
(セルロースアシレート樹脂)
セルローストリアセテートA(リンター綿から合成されたセルローストリアセテート、アセチル基置換度2.88、Mn=140000) 90質量部
(添加剤)
例示化合物 X−1 5質量部
例示化合物 X−12 4質量部
(紫外線吸収剤)
TINUVIN 928(BASFジャパン(株)製) 3質量部
(微粒子)
二酸化珪素分散希釈液 4質量部
(溶媒)
メチレンクロライド 432質量部
エタノール 38質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープ(ドープ組成物1)を調製した。
Example 1
(Preparation of cellulose acylate film 1)
-Adjustment of silicon dioxide dispersion Aerosil R812 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) (average primary particle diameter 7 nm)
10 parts by mass Ethanol 90 parts by mass The above was stirred and mixed with a dissolver for 30 minutes, and then dispersed with Manton Gorin. 88 parts by mass of methylene chloride was added to the silicon dioxide dispersion while stirring, and the mixture was stirred and mixed for 30 minutes with a dissolver to prepare a silicon dioxide dispersion dilution. It filtered with the fine particle dispersion | distribution dilution liquid filter (Advantech Toyo Co., Ltd .: Polypropylene wind cartridge filter TCW-PPS-1N).
-Preparation of dope composition 1 (cellulose acylate resin)
Cellulose triacetate A (cellulose triacetate synthesized from linter cotton, acetyl group substitution degree 2.88, Mn = 14000) 90 parts by mass (additive)
Exemplified Compound X-1 5 parts by mass Exemplified Compound X-12 4 parts by mass (UV absorber)
TINUVIN 928 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 3 parts by mass (fine particles)
Silicon dioxide dispersion dilution 4 parts by mass (solvent)
Methylene chloride 432 parts by mass Ethanol 38 parts by mass The above was put into a sealed container, heated and stirred, and dissolved completely. Azumi filter paper No. Azumi filter paper No. 24 was used to prepare a dope (dope composition 1).
次に、ベルト流延装置を用い、ステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が100%になるまで溶剤を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。セルロースアシレートフィルムのウェブを35℃で溶剤を蒸発させ、1.15m幅にスリットし、テンターでTD方向(フィルムの幅手方向)に1.15倍に延伸しながら、150℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、120℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら15分間乾燥させた後、1.3m幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm、高さ5μmのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、セルロースアシレートフィルム1を得た。セルロースアシレートフィルム1の膜厚は30μm、巻長は5000mであった。
Next, the belt casting apparatus was used to uniformly cast on a stainless steel band support. With the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount reached 100%, and the stainless steel band support was peeled off. The cellulose acylate film web was evaporated at 35 ° C., slit to 1.15 m width, and stretched 1.15 times in the TD direction (film width direction) with a tenter at a drying temperature of 150 ° C. Dried. Then, it was dried for 15 minutes while being transported in a drying device at 120 ° C. with a number of rolls, slitted to a width of 1.3 m, knurled with a width of 10 mm and a height of 5 μm at both ends of the film, and wound around a core. The
なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるMD方向の延伸倍率は1.01倍であった。 In addition, the draw ratio of MD direction computed from the rotational speed of a stainless steel band support body and the driving speed of a tenter was 1.01 times.
(セルロースアシレートフィルム2〜7の作製)
セルロースアシレートフィルム1の作製において、添加剤を表1のセルロースアシレートフィルムの欄に記載したように変化させた以外は、同様にしてセルロースアシレートフィルム2〜7を作製した。
(Production of
[導電性組成物の作製]
(分散剤(1)の調製)
・モノマーAの合成
2−チオバルビツール酸45質量部、水酸化ナトリウム14質量部をジメチルスルホキシド200質量部に溶解させ、25℃に加熱した。これにクロロメチルスチレン57.5質量部を滴下し、55℃でさらに5時間加熱攪拌を行った。加熱攪拌後、この反応液にメタノール150質量部、蒸留水150質量部を加えて1時間攪拌した。続いてこの溶液を蒸留水2質量部に攪拌しながら注ぎ、得られた析出物を濾別、洗浄することでモノマーAを80質量部得た。
・重合性オリゴマーAの合成
JEFFAMINE M−2005(Huntsman社製)500質量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.06質量部を500質量部の1−メチル−2−ピロリドンに溶解させ、10℃に冷却した。これに、カレンズMOI(昭和電工(株)製)38質量部と38質量部の1−メチル−2−ピロリドンを滴下した。滴下終了後、25℃で1時間攪拌することで、50質量%の重合性オリゴマーAの1−メチル−2−ピロリドン溶液を1100質量部得た。
・添加剤(1)の調整
下記モノマー溶液を窒素置換した三口フラスコに導入し、攪拌機にて攪拌し、窒素をフラスコ内に流しながら加熱して80℃まで昇温し30分間攪拌した。
[Preparation of conductive composition]
(Preparation of dispersant (1))
Synthesis of Monomer A 45 parts by mass of 2-thiobarbituric acid and 14 parts by mass of sodium hydroxide were dissolved in 200 parts by mass of dimethyl sulfoxide and heated to 25 ° C. To this was added dropwise 57.5 parts by mass of chloromethylstyrene, and the mixture was further heated and stirred at 55 ° C. for 5 hours. After heating and stirring, 150 parts by mass of methanol and 150 parts by mass of distilled water were added to the reaction solution and stirred for 1 hour. Subsequently, this solution was poured into 2 parts by mass of distilled water while stirring, and the obtained precipitate was filtered and washed to obtain 80 parts by mass of monomer A.
Synthesis of polymerizable oligomer A 500 parts by mass of JEFFAMINE M-2005 (manufactured by Huntsman) and 0.06 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether were dissolved in 500 parts by mass of 1-methyl-2-pyrrolidone and cooled to 10 ° C. To this, 38 parts by mass of Karenz MOI (manufactured by Showa Denko KK) and 38 parts by mass of 1-methyl-2-pyrrolidone were added dropwise. 1100 mass parts of 1-methyl- 2-pyrrolidone solutions of 50 mass% polymerizable oligomer A were obtained by stirring at 25 degreeC after completion | finish of dripping for 1 hour.
-Preparation of additive (1) The following monomer solution was introduced into a nitrogen-substituted three-necked flask, stirred with a stirrer, heated while flowing nitrogen into the flask, heated to 80 ° C, and stirred for 30 minutes.
続いて、下記の開始剤溶液を添加し、2時間80℃で加熱攪拌した。加熱攪拌後、さらに下記開始剤溶液を添加し、80℃にて2時間加熱攪拌した。最後の2時間撹拌後、1−メチル−2−ピロリドンを7.3質量部添加し、下記構造式で表されるグラフト重合体(分散剤(1))の25質量%1−メチル−2−ピロリドン溶液を得た。 Then, the following initiator solution was added, and it heat-stirred at 80 degreeC for 2 hours. After the heating and stirring, the following initiator solution was further added, followed by heating and stirring at 80 ° C. for 2 hours. After stirring for the last 2 hours, 7.3 parts by mass of 1-methyl-2-pyrrolidone was added, and 25% by mass of 1-methyl-2-methylated graft polymer (dispersant (1)) represented by the following structural formula: A pyrrolidone solution was obtained.
モノマー溶液
・モノマーA 2.0質量部
・重合性オリゴマーA(50質量%1−メチル−2−ピロリドン溶液)
32.0質量部
・メタクリル酸 2.0質量部
・n−ドデシルメルカプタン 0.2質量部
・1−メチル−2−ピロリドン 30.7質量部
開始剤溶液
・2,2′−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル(和光純薬(株)製V−601)
0.2質量部
・1−メチル−2−ピロリドン 3.0質量部
(非水溶性ポリマー(1)の調製)
反応容器中に1−メトキシ−2−プロパノール8.6質量部をあらかじめ加え90℃に昇温し、モノマーとしてシクロヘキシルメタクリレート、メチルメタクリレート、メタクリル酸及びグリシジルメタクリレート(添加質量比は、順に46mol%:2mol%:19mol%:34mol%)を添加して撹拌した。続いて、アゾ系重合開始剤(和光純薬社製、V−601)1質量部及び1−メトキシ−2−プロパノール8.6質量部からなる混合溶液を窒素ガス雰囲気下、90℃の反応容器中に2時間かけて滴下した。滴下後4時間反応させて、アクリル樹脂溶液を得た。
Monomer solution / monomer A 2.0 mass parts / polymerizable oligomer A (50 mass% 1-methyl-2-pyrrolidone solution)
32.0 parts by mass, methacrylic acid 2.0 parts by mass, n-dodecyl mercaptan 0.2 parts by mass, 1-methyl-2-pyrrolidone 30.7 parts by mass initiator solution, 2,2'-azobis (isobutyric acid) Dimethyl (V-601 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
0.2 parts by mass 1-methyl-2-pyrrolidone 3.0 parts by mass (Preparation of water-insoluble polymer (1))
8.6 parts by mass of 1-methoxy-2-propanol was added in advance to the reaction vessel, the temperature was raised to 90 ° C., and cyclohexyl methacrylate, methyl methacrylate, methacrylic acid and glycidyl methacrylate as monomers (addition mass ratio was 46 mol%: 2 mol in order) %: 19 mol%: 34 mol%) was added and stirred. Subsequently, a mixed solution consisting of 1 part by mass of an azo polymerization initiator (V-601, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 8.6 parts by mass of 1-methoxy-2-propanol was reacted at 90 ° C. in a nitrogen gas atmosphere. It was dripped in over 2 hours. Reaction was performed for 4 hours after the dropwise addition to obtain an acrylic resin solution.
次いで、アクリル樹脂溶液にハイドロキノンモノメチルエーテル0.03質量部及びテトラエチルアンモニウムブロマイド0.08質量部を加え、更に4時間反応させて、固形分濃度が45%になるように溶媒を添加し、不飽和基を有する非水溶性ポリマー(1)の溶液(重量平均分子量(Mw);30,000、1−メトキシ−2−プロパノール 45%溶液)を得た。なお、重量平均分子量の測定方法としては、ゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)を用いて測定した。 Next, 0.03 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether and 0.08 parts by mass of tetraethylammonium bromide were added to the acrylic resin solution, and the mixture was further reacted for 4 hours. A solution of a water-insoluble polymer (1) having a group (weight average molecular weight (Mw); 30,000, 1-methoxy-2-propanol 45% solution) was obtained. In addition, as a measuring method of a weight average molecular weight, it measured using gel permeation chromatography (GPC).
(導電性組成物1の調製)
・添加液Aの調整
硝酸銀粉末0.55gを純水50mlに溶解した硝酸銀溶液を調製した。次に、硝酸銀溶液に1Nのアンモニア水を透明になるまで添加し、全量が100mlになるように、純水を添加して、添加液Aを調製した。
・添加液Bの調整
グルコース粉末0.55gを140mlの純水で溶解して、添加液Gを調製した。
・添加液Cの調整
HTAB(ヘキサデシル−トリメチルアンモニウムブロミド)0.55gを28mlの純水で溶解して、添加液Cを調製した。
・ヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC)溶液の調整
ヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC)0.55gを95mlの純水を加え、85℃で加熱しながら撹拌して溶解した。HPMC溶液を調製した。
(Preparation of conductive composition 1)
-Preparation of additive solution A A silver nitrate solution was prepared by dissolving 0.55 g of silver nitrate powder in 50 ml of pure water. Next, 1N ammonia water was added to the silver nitrate solution until it became transparent, and pure water was added so that the total amount became 100 ml to prepare an additive solution A.
-Preparation of additive solution B 0.55 g of glucose powder was dissolved in 140 ml of pure water to prepare additive solution G.
-Preparation of Additive Solution C Additive Solution C was prepared by dissolving 0.55 g of HTAB (hexadecyl-trimethylammonium bromide) in 28 ml of pure water.
-Preparation of hydroxypropylmethylcellulose (HPMC) solution 95 ml of pure water was added to 0.55 g of hydroxypropylmethylcellulose (HPMC), and the mixture was dissolved by stirring at 85 ° C while heating. An HPMC solution was prepared.
続いて、添加液A21mlを三口フラスコ内に入れた。室温にて攪拌しながら、この液に純水41ml、添加液C21ml及び溶液B17mlを、この順で添加し、90℃で5時間、200rpmで攪拌しながら加熱した。得られた銀ナノワイヤ分散物を冷却し、銀ナノワイヤ分散物の銀1gに対し、プロピレングリコールモノメチルエーテル0.05gを撹拌しながら添加し、遠心分離して水を除去した。水を除去後、この銀ナノワイヤ分散物8質量部、HPMC溶液8質量部、及びメガファックF−477(フッ素系界面活性剤、DIC(株)製)を0.25質量部加えて撹拌し、銀ナノワイヤ含有の導電性組成物1を調製した。
Subsequently, 21 ml of additive solution A was placed in a three-necked flask. While stirring at room temperature, 41 ml of pure water, 21 ml of additive liquid C and 17 ml of solution B were added in this order, and the mixture was heated at 90 ° C. for 5 hours with stirring at 200 rpm. The obtained silver nanowire dispersion was cooled, 0.05 g of propylene glycol monomethyl ether was added with stirring to 1 g of silver in the silver nanowire dispersion, and water was removed by centrifugation. After removing water, 8 parts by mass of this silver nanowire dispersion, 8 parts by mass of HPMC solution, and Megafac F-477 (fluorine surfactant, manufactured by DIC Corporation) were added and stirred, A
(導電性組成物2〜4の調製)
導電性組成物1の調製において、セルロースエステル化合物であるヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC)を表1の導電性層の欄に記載したように変化させた以外は、同様にして銀ナノワイヤ含有導電性組成物2〜4を作製した。
(Preparation of
In the preparation of the
(導電性組成物5の調製)
硫酸第一鉄とクエン酸ソーダを含む水溶液に、硝酸銀水溶液を添加して銀イオンを還元することにより、平均粒径が10nmの銀ナノ粒子のコロイド分散液を調製した。
(Preparation of conductive composition 5)
A silver nitrate aqueous solution was added to an aqueous solution containing ferrous sulfate and sodium citrate to reduce silver ions, thereby preparing a colloidal dispersion of silver nanoparticles having an average particle diameter of 10 nm.
硫酸第一鉄とクエン酸ソーダを含む水溶液に、酢酸パラジウム水溶液を添加してパラジウムイオンを還元することにより、平均粒径が2.4nmのパラジウムナノ粒子のコロイド分散液を調製した。上記銀ナノ粒子のコロイド分散液とパラジウムナノ粒子のコロイド分散液を、1:3のモル比で混合攪拌して自己組織化反応により複合化を行い銀−パラジウム(Pd)複合ナノ粒子コロイド分散液を得た。銀−Pd複合ナノ粒子コロイド分散液8質量部に導電性組成物1で調整したHPMC溶液8質量部、及びメガファックF−477(フッ素系界面活性剤、DIC(株)製)を0.25質量部加えて撹拌した。
A colloidal dispersion of palladium nanoparticles having an average particle diameter of 2.4 nm was prepared by adding an aqueous palladium acetate solution to an aqueous solution containing ferrous sulfate and sodium citrate to reduce palladium ions. The colloidal dispersion of silver nanoparticles and the colloidal dispersion of palladium nanoparticles are mixed and stirred at a molar ratio of 1: 3 to form a composite by a self-organization reaction, and a silver-palladium (Pd) composite nanoparticle colloid dispersion. Got. 8 parts by mass of the HPMC solution prepared with the
銀−Pd複合ナノ粒子コロイド分散液を、限外濾過膜を用いて水洗処理と濃縮処理(濃度30質量部)を施した後、導電性高分子(PEDOT/PSS:ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホナート))1.3質量部分散液(BaytronPH500:H.C.Starck社製)に、ジメチルスルホキシド(DMSO:和光純薬社製)をPEDOT/PSSに対して5質量部となるよう添加したものを加え、各成分が均一になるまで十分に攪拌混合し、導電性組成物5を得た。
The silver-Pd composite nanoparticle colloidal dispersion was subjected to water washing treatment and concentration treatment (
(導電性組成物6の調製)
3,4−エチレンジオキシチオフェンモノマーとポリスチレンスルホン酸の1:2.5水溶液に塩化金酸(HAuCl4・4H2O)と硫酸鉄水溶液をAuの含有量が1.0質量%になるように加えてポリエチレンジオキシチオフェンの重合と金ナノ粒子の形成を同時に行い、金ナノ粒子含有の導電性高分子溶液を得た。次いでこの溶液中の生成物を取り出し、蒸留水で精製した後、再度蒸留水に分散した。蒸留水で分散した金属ナノ粒子含有導電性高分子溶液8質量部に導電性組成物1で調整したHPMC溶液8質量部、及びメガファックF−477(フッ素系界面活性剤、DIC(株)製)を0.25質量部加えて撹拌し、導電性組成物6を得た。
(Preparation of conductive composition 6)
Chloroauric acid (HAuCl 4 .4H 2 O) and aqueous iron sulfate solution in a 1: 2.5 aqueous solution of 3,4-ethylenedioxythiophene monomer and polystyrene sulfonic acid so that the Au content is 1.0 mass% In addition to polymerization of polyethylenedioxythiophene and formation of gold nanoparticles, a conductive polymer solution containing gold nanoparticles was obtained. Next, the product in this solution was taken out, purified with distilled water, and then dispersed again in distilled water. 8 parts by mass of a metal nanoparticle-containing conductive polymer solution dispersed with distilled water, 8 parts by mass of an HPMC solution prepared with the
(導電性組成物7の調製)
導電性高分子(PEDOT/PSS:ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホナート))1.3質量部分散液(BaytronPH500:H.C.Starck社製)8質量部に導電性組成物1で調整したHPMC溶液8質量部、及びメガファックF−477(フッ素系界面活性剤、DIC(株)製)を0.25質量部加えて撹拌し、導電性高分子含有の導電性組成物7を得た。
(Preparation of conductive composition 7)
Conductive polymer (PEDOT / PSS: poly (3,4-ethylenedioxythiophene) / poly (styrene sulfonate)) 1.3 parts by mass Dispersion (BaytronPH500: manufactured by HC Starck) 8 parts by mass 8 parts by mass of the HPMC solution prepared with the
(導電性組成物8の調製)
高純度単層カーボンナノチューブ(カーボン・ナノテクノロジーズ・インコーポレーテッド社製;以下「SWNT」)13質量部を、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの20%水溶液87質量部に、100rpmの条件で撹拌しながら添加し、引き続き、超音波処理を1時間行った。次に、アクリルアミドゲルを用い、泳動用バッファーのpHを8に調整し、泳動温度20℃、印加電圧200Vの条件でゲル電気泳動を行い、カーボンナノチューブの分画を行った。続いて、泳動方向に垂直な方向に電圧を印加して繊維長約1μm以上のカーボンナノチューブのみをゲル中から回収し、10質量%のカーボンナノチューブ分散液を調製した。次いで、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの20%水溶液にイオン液体として1−エチル−3−メチルイミダゾリウム:BF4(以下「EMIBF4」)を添加して得たEMIBF4の40%水溶液50質量部にエチレングリコール10質量部を撹拌下で添加し、ポリマー溶液を調製した。このポリマー溶液100質量部に、前記カーボンナノチューブ分散液100質量部を撹拌下で添加し、その後1時間撹拌した。得られたカーボンナノチューブ含有の導電性組成物8質量部に、導電性組成物1で調整したHPMC溶液8質量部、及びメガファックF−477(フッ素系界面活性剤、DIC(株)製)を0.25質量部加えて撹拌し、導電性高分子含有の導電性組成物8を得た。
(Preparation of conductive composition 8)
13 parts by mass of high-purity single-walled carbon nanotubes (manufactured by Carbon Nanotechnology Inc .; hereinafter referred to as “SWNT”) were added to 87 parts by mass of a 20% aqueous solution of sodium dodecylbenzenesulfonate with stirring at 100 rpm. Subsequently, sonication was performed for 1 hour. Next, using acrylamide gel, the pH of the electrophoresis buffer was adjusted to 8, and gel electrophoresis was performed under the conditions of an electrophoresis temperature of 20 ° C. and an applied voltage of 200 V to fractionate carbon nanotubes. Subsequently, a voltage was applied in a direction perpendicular to the migration direction, and only the carbon nanotubes having a fiber length of about 1 μm or more were recovered from the gel to prepare a 10 mass% carbon nanotube dispersion. Next, 50 parts by mass of 40% aqueous solution of EMIBF 4 obtained by adding 1-ethyl-3-methylimidazolium: BF 4 (hereinafter “EMIBF 4 ”) as an ionic liquid to a 20% aqueous solution of sodium dodecylbenzenesulfonate was added. 10 parts by mass of ethylene glycol was added with stirring to prepare a polymer solution. To 100 parts by mass of this polymer solution, 100 parts by mass of the carbon nanotube dispersion was added with stirring, and then stirred for 1 hour. To 8 parts by mass of the obtained carbon nanotube-containing conductive composition, 8 parts by mass of the HPMC solution prepared with the
[導電性フィルム1の作製]
導電性組成物1と前記調整した非水溶性ポリマー(1)及び添加剤(1)を含有比(導電性組成物1/非水溶性ポリマー/添加剤)が100/100/5となるように撹拌混合した。この塗布組成物1をセルロースアシレートフィルム1のB面(流延ベルト面)上に乾燥後の平均厚さが0.5μmとなるようにダイコートで塗布し、乾燥温度150℃で10分間乾燥し、導電性層1を設けた。また乾燥後、巻き取り、導電性フィルム1を作製した。
[Preparation of Conductive Film 1]
The content ratio (
[導電性フィルム2〜14の作製]
透明導電性フィルム1の作製において、導電性組成物1及びセルロースアシレートフィルム1を表1に記載したように変化させた以外は、同様にして透明導電性フィルム2〜14を作製した。
[Preparation of Conductive Films 2-14]
Transparent
なお、表1の導電性層のセルロースエステル化合物について、ヒドロキシプロピルメチルセルロースはHPMC、カルボキシメチルセルロースはCMC、2−ヒドロキシエチルセルロースはHECと示した。 In addition, about the cellulose ester compound of the electroconductive layer of Table 1, hydroxypropyl methylcellulose was shown as HPMC, carboxymethylcellulose was shown as CMC, and 2-hydroxyethylcellulose was shown as HEC.
また、セルロースアシレートフィルムに含まれるグリコール酸エステル化合物であるエチルフタリルエチルグリコレートはEPEG、フタル酸エステル化合物であるフタル酸ジブチルはDBP、リン酸エステル化合物であるトリフェニルホスフェートはTPPと示した。また多価アルコールエステル化合物である化合物A(上述の例示化合物B−9)及び化合物B(上述の例示化合物B−6)は以下のとおり。また比較化合物であるアセチルクエン酸トリエチルを比較化合物A、オレイン酸ブチルを比較化合物Bと示した。 Further, ethyl phthalyl ethyl glycolate, which is a glycolic acid ester compound contained in a cellulose acylate film, is indicated as EPEG, dibutyl phthalate, which is a phthalic acid ester compound, is DBP, and triphenyl phosphate, which is a phosphoric acid ester compound, is indicated as TPP. . Moreover, the compound A (above-mentioned exemplary compound B-9) and compound B (above-mentioned exemplary compound B-6) which are polyhydric alcohol ester compounds are as follows. Comparative compound triethyl acetyl citrate was shown as comparative compound A, and butyl oleate was shown as comparative compound B.
上記作製した導電性フィルム1〜14について耐熱試験を実施後、以下の内容について評価した。得られた結果を表1に示した。
・耐熱試験
上記作製した導電性フィルム1〜14を、各30cm×30cmサイズで切り出し、切り出した各サンプルを110℃の高温サーモに500時間投入した。
After the heat resistance test was conducted on the produced
-Heat resistance test The produced
a.ヘイズ・全光線透過率
耐熱試験後の導電性フィルム1〜14を23℃55%RHの雰囲気下で4時間調湿後、ヘイズ及び全光線透過率をJIS K7361及びJIS K7136に準じたヘイズメーター(NDH5000、日本電色工業(株)製)を用いて測定し、得られた結果を表1に示した。ヘイズ値は低いほど、クリア性に優れ、6%を超えるものは、画像表示装置に用いた場合の視認性が劣化する点から好ましくない。また、全光線透過率は高いほど好ましく、具体的には85%以上のものが好ましい。
a. Haze / total light transmittance The
b.カール
耐熱試験後の導電性フィルム1〜14を23℃55%RHの雰囲気下で基材フィルムに対し導電性層側を表にし、5分間放置後、導電性フィルム1〜14の四隅の浮き(H)を、ステンレス定規(JIS1級)を用いて測定し、平均値(n=4)の測定結果から、以下の基準で評価した。
b. Curl The
[評価基準]
◎:フィルムの浮きが1mm以下
○:フィルムの浮きが1mm超過、5mm以下
△:フィルムの浮きが5mm超過、10mm以下
×:10mm超過。実用上問題のあるレベル
10mmを超えるものは、導電性フィルムをタッチパネルに組み込む際に貼り合わせなどの後工程等で問題が発生するレベル。
[Evaluation criteria]
A: The film float is 1 mm or less. B: The film float exceeds 1 mm, 5 mm or less. Δ: The film float exceeds 5 mm, 10 mm or less. Levels with practical problems Levels exceeding 10 mm are levels at which problems occur in subsequent processes such as bonding when a conductive film is incorporated into a touch panel.
c.密着評価
耐熱試験後の導電性フィルム1〜14を23℃55%RHの雰囲気下で4時間調湿後、JISK5400に準拠する方法で、1mmの間隔で縦横に11本の切れ目を入れ、1mm角、100個の碁盤目を作製し、セロハンテープを貼り付けて90度の角度ですばやくはがし、剥れずに残っている碁盤目の数を数えた。以下の基準で評価した。
c. Adhesion
[評価基準]
◎:全く剥離されなかった。
[Evaluation criteria]
(Double-circle): It did not peel at all.
○:剥離された面積割合が5%未満であった
△:剥離された面積割合が10%未満であった
×:剥離された面積割合が10%以上であった。実用上問題のあるレベル
得られた結果を表1に示した。
◯: The peeled area ratio was less than 5%. Δ: The peeled area ratio was less than 10%. X: The peeled area ratio was 10% or more. Table 1 shows the results of practical problems.
d.表面抵抗
導電性フィルム1〜14の表面抵抗(Ω/□)を JIS K 7194:1994(導電性プラスチックの4探針法による抵抗率試験方法)に準拠して、Loresta−GP MCP−T610(三菱化学株式会社製)を用いて測定した。続いて、耐熱試験後の導電性フィルム1〜14の表面抵抗(Ω/□)をLoresta−GP MCP−T610を用いて測定し、以下の基準で評価した。
d. Surface resistance The surface resistance (Ω / □) of the
[評価基準]
R1(経時後抵抗率)/R0(経時前抵抗率)×100=抵抗率変化(%)
◎:抵抗率変化が80%未満
○:抵抗率変化が120%未満、80%以上
△:抵抗率変化が150%未満、120%以上
×:抵抗率変化が150%以上で、実用上問題のあるレベル。
[Evaluation criteria]
R1 (Resistivity after aging) / R0 (Resistivity before aging) × 100 = Resistivity change (%)
◎: Resistivity change is less than 80% ○: Resistivity change is less than 120%, 80% or more △: Resistivity change is less than 150%, 120% or more ×: Resistivity change is 150% or more A level.
実施例2
実施例1で作製した導電性フィルム1、及び導電性フィルム7〜9について耐熱試験の条件を下記に変更した以外は同様にして耐久試験を実施後、実施例1と同様にして評価した。得られた結果を表2に示した。
・耐熱試験
各導電性フィルムを、各30cm×30cmサイズで切り出し、切り出した各サンプルを120℃の高温サーモに750時間投入した。
Example 2
The
Heat resistance test Each conductive film was cut out in a size of 30 cm x 30 cm, and each cut out sample was put in a high-temperature thermostat at 120 ° C for 750 hours.
実施例3
実施例1で作製した導電性フィルム1及び導電性フィルム2について、以下の方法で、導電性層が設けられている面とは逆の面にハードコート層を形成し、それぞれ巻き取り導電性フィルム15〜18を作製した。続いて、導電性フィルム1、導電性フィルム15〜18について、耐熱試験の条件を下記に変更した以外は同様にして耐久試験を実施後、実施例1と同様にして評価した。得られた結果を表3に示した。
・耐熱試験
各導電性フィルムを、30cm×30cmサイズで切り出し、切り出した各サンプルを150℃の高温サーモに1000時間投入した。
Example 3
About the
Heat resistance test Each conductive film was cut out in a size of 30 cm × 30 cm, and each cut out sample was put into a high temperature thermostat at 150 ° C. for 1000 hours.
[導電性フィルム15及び16の作製]
上記作製した導電性フィルム1及び導電性フィルム2の導電性層形成面とは反対の面のそれぞれに、下記ハードコート層組成物1を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、押し出しコーターを用いて塗布し、80℃で乾燥の後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を0.2J/cm2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚2μmのハードコート層1を形成して巻き取り、導電性フィルム15及び16を作製した。
[Production of
Extruded with the following hard
《ハードコート層組成物1》
(活性線硬化樹脂)
ペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレート
(NKエステルA−TMM−3L、新中村化学工業(株)製) 100質量部
(光重合開始剤)
イルガキュア184(BASFジャパン(株)製) 6質量部
(添加剤)
KF−354L(ポリエーテル変性シリコーンオイル、信越化学工業株式会社製)
2質量部
(溶剤)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 20質量部
酢酸メチル 30質量部
メチルエチルケトン 70質量部
[導電性フィルム17及び18の作製]
上記作製した導電性フィルム1及び導電性フィルム2の導電性層形成面とは反対の面のそれぞれに、下記のハードコート層組成物2を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、押し出しコーターを用いて塗布し、80℃で乾燥の後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、紫外線ランプを用い照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を0.2J/cm2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚2μmのハードコート層2を形成して巻き取り、導電性フィルム17及び18を作製した。
<< Hard
(Actinic radiation curable resin)
Pentaerythritol tri / tetraacrylate (NK ester A-TMM-3L, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 100 parts by mass (photopolymerization initiator)
Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan) 6 parts by mass (additive)
KF-354L (polyether-modified silicone oil, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
2 parts by mass (solvent)
Propylene glycol monomethyl
What filtered the following hard-
《ハードコート層組成物2》
(活性線硬化樹脂)
トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート(イソシアヌル酸エトキシ変性ジアクリレートの混合物(アロニックスM−315、東亞合成(株)製))
100質量部
(光重合開始剤)
イルガキュア184(BASFジャパン(株)製) 6質量部
(添加剤)
KF−354L(ポリエーテル変性シリコーンオイル、信越化学工業株式会社製)
2質量部
(溶剤)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 20質量部
酢酸メチル 30質量部
メチルエチルケトン 70質量部
なお、ペンタエリスリトールトリ/テトラアクリレートをPETA、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレートとイソシアヌル酸エトキシ変性ジアクリレートの混合物をTHEICと表3に示した。
<< Hard
(Actinic radiation curable resin)
Tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate (mixture of isocyanuric acid ethoxy-modified diacrylate (Aronix M-315, manufactured by Toagosei Co., Ltd.))
100 parts by mass (photopolymerization initiator)
Irgacure 184 (manufactured by BASF Japan) 6 parts by mass (additive)
KF-354L (polyether-modified silicone oil, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
2 parts by mass (solvent)
Propylene glycol monomethyl
表3の結果から判るように、本発明の導電性フィルムの導電性層とは、反対の面にハードコート層を有することで、非常に過酷な耐熱試験後でも優れた光学特性(ヘイズ・全光線透過率)やカール抑制の効果が得られる観点から好ましいことがわかる。更には、ハードコート層が、活性線硬化樹脂として、活性エネルギー線硬化型イソシアヌレート誘導体を含有することで特に優れた光学特性(ヘイズ・全光線透過率)やカール抑制の効果が得られる観点からより好ましいことがわかる。なお、耐熱試験前のハードコート層を有した導電性フィルム15〜18について、鉛筆硬度試験で硬度を確認した。JIS−S6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS−K5400が規定する鉛筆硬度評価法に従い、500gのおもりを用いて各硬度の鉛筆でハードコート層面を5回繰り返し引っ掻き、傷が1本までの硬度を測定した結果、全てH以上であった。 As can be seen from the results in Table 3, the conductive layer of the conductive film of the present invention has a hard coat layer on the opposite side, so that excellent optical properties (haze / total) even after a very severe heat test. It can be seen that it is preferable from the viewpoint of obtaining the effect of suppressing light transmittance and curling. Furthermore, the hard coat layer contains an active energy ray-curable isocyanurate derivative as an actinic ray curable resin, from the viewpoint of obtaining particularly excellent optical properties (haze / total light transmittance) and curling suppression effects. It turns out that it is more preferable. In addition, about the conductive films 15-18 which had the hard-coat layer before a heat test, the hardness was confirmed by the pencil hardness test. Using the test pencil specified by JIS-S6006, according to the pencil hardness evaluation method specified by JIS-K5400, the surface of the hard coat layer is scratched 5 times with a pencil of each hardness using a weight of 500 g, up to one scratch. As a result of measuring the hardness, all were H or more.
実施例4
実施例1のセルロースアシレートフィルム1のドープ組成物1の調整において、添加剤のX−12の4質量部に変えて、以下に合成したアクリル系ポリマーを8質量部添加した以外は同様にしてドープ組成物2を調整した。次いで、セルロースアシレートフィルム1の作製において、テンターによるTD方向の延伸条件を表4に記載したように変更した以外は、同様にしてセルロースアシレートフィルム8〜11を作製した。
Example 4
In the preparation of the
(アクリル系ポリマーの合成)
メチルアクリレート 10質量部
2−ヒドロキシエチルアクリレート 1質量部
アゾビスイソブチロニトリル(AIBN) 1質量部
トルエン 30質量部
上記組成物を四つ口フラスコ(投入口、温度計、環流冷却管、窒素導入口、攪拌機を装着)に投入し、徐々に80℃まで昇温し、攪拌しながら5時間重合を行い、重合終了後ポリマー溶液を多量のメタノールに投入して沈殿させ、更にメタノールで洗浄し、精製して乾燥し重量平均分子量5,000(GPCにて測定)のアクリル系ポリマーを得た。
(Synthesis of acrylic polymer)
次に、前記作製したセルロースアシレートフィルム8〜11に実施例1の導電性層組成物1を両面に設けた以外は同様にして、導電性フィルム19〜23を作製した。
Next, the conductive films 19-23 were produced similarly except having provided the
続いて、これら導電性フィルム19〜23について、実施例1と同様にして耐熱試験を実施後、実施例1と同様にして評価した。 Subsequently, these conductive films 19 to 23 were evaluated in the same manner as in Example 1 after performing a heat resistance test in the same manner as in Example 1.
次に、セルロースアシレートフィルム1、及び8〜11の面内リターデーション値Ro及び厚さ方向リターデーション値Rtを以下の方法で測定した。
Next, the in-plane retardation value Ro and the thickness direction retardation value Rt of the
測定自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器(株)製)を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波長590nmにおいて、3次元屈折率測定を行い、縦、横、厚さの各方向の屈折率nx、ny、nzを求め、下記式よりセルロースアシレートフィルムのRo及びRtを求めた。 Using a measurement automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments), three-dimensional refractive index measurement is performed at a wavelength of 590 nm in an environment of 23 ° C. and 55% RH. each direction of the refractive indices n x a, n y, seek n z, were determined Ro and Rt of the cellulose acylate film from the following equation.
Ro=(nx−ny)×d
Rt=((nx+ny)/2−nz)×dである。
Ro = (n x -n y) × d
Rt = a ((n x + n y) / 2-n z) × d.
(式中、nxは基材フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、nyは基材フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、nzは基材フィルムの厚さ方向の屈折率、dは基材フィルムの厚さ(nm)をそれぞれ表す。)
これら得られた結果を表4に示した。
(Wherein, n x is a refractive index in a slow axis direction in the substrate film surface, n y is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the base film surface, the thickness of the n z is a substrate film (The refractive index in the direction, d represents the thickness (nm) of the substrate film, respectively.)
These obtained results are shown in Table 4.
次いで、上記作製した導電性フィルム19〜23を各二枚ずつ用いて、インナータッチパネルを作製した(図5)。二枚のうちの片方の導電性フィルムの導電層膜(1A)にあらかじめドット・スペーサを形成してから、二枚の導電層膜を対向させてインナータッチパネルを作製した。得られたインナータッチパネルを、上面側偏光板/液晶セル/下面側偏光板の構成を有する液晶表示装置の上面側偏光板の下に組み込んで液晶表示装置を作製し、暗室にて、インナータッチパネルを黒表示画面で正面方向や視野方向を変えて観察し、視認性を以下の基準で評価した。得られた結果を表4に示した。 Next, an inner touch panel was produced using each of the produced conductive films 19 to 23 (FIG. 5). A dot spacer was previously formed on the conductive layer film (1A) of one of the two conductive films, and then the two conductive layer films were opposed to produce an inner touch panel. The obtained inner touch panel is assembled under the upper surface side polarizing plate of the liquid crystal display device having the configuration of the upper surface side polarizing plate / liquid crystal cell / lower surface side polarizing plate to produce a liquid crystal display device, and the inner touch panel is mounted in the dark room. The black display screen was observed by changing the front direction and the visual field direction, and the visibility was evaluated according to the following criteria. The results obtained are shown in Table 4.
タッチパネルの作製に際しては、『最新タッチパネル技術』(2009年7月6日発行(株))テクノタイムズ社)、三谷雄二監修“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版(2004,12)、FPD International 2009 Forum T−11講演テキストブック、Cypress Semiconductor CorporationアプリケーションノートAN2292に記載の方法を参考にした。 For the production of touch panels, "latest touch panel technology" (issued July 6, 2009, Techno Times), supervised by Yuji Mitani, "Touch Panel Technology and Development", CMC Publishing (2004, 12), FPD International The method described in the 2009 Forum T-11 Lecture Textbook, Cypress Semiconductor Corporation Application Note AN2292 was referred to.
なお、表4において、セルロースアシレートフィルム中のアクリル系ポリマーをAPと示した。 In Table 4, the acrylic polymer in the cellulose acylate film was indicated as AP.
《評価》
視認性評価
○:タッチパネルの色味変化が無い
Δ:タッチパネルの色味変化が多少観察される
×:タッチパネルの色味変化が大きい
Visibility evaluation ○: No change in color of touch panel Δ: Some change in color of touch panel is observed ×: Large change in color of touch panel
実施例5
実施例1の導電性フィルム1の作製において、セルロースアシレートフィルム1の膜厚を表5に記載したように変更した以外は、同様にして導電性フィルム24〜27を作製した。続いて導電性フィルム1及び導電性フィルム24〜27について耐熱試験の条件を下記に変更した以外は同様にして耐久試験を実施後、実施例1と同様にして評価した。得られた結果を表5に示した。
・耐熱試験
各導電性フィルムを、各30cm×30cmサイズで切り出し、切り出した各サンプルを110℃の高温サーモに750時間投入した。
Example 5
In the production of the
-Heat resistance test Each conductive film was cut out in a size of 30 cm x 30 cm, and each cut out sample was put in a high temperature thermostat at 110 ° C for 750 hours.
10 タッチパネル
11 基材フィルム
12 導電性層
13 導電性層
14 保護膜
15 中間保護膜
16 グレア防止膜
17 保護膜
18 電極端子
20 タッチパネル
21 基材フィルム
22 導電性層
23 導電性層
24 絶縁層
26 駆動回路
27 指等の接触対象
30 タッチパネル
31 基材フィルム
32 導電性層
33 導電性層
34 空気層
35 基材フィルム
36 スペーサ
A インナータッチパネル
1A 導電性層
1B 導電性層
1C セルロースアシレートフィルム
1E 液晶セル
1F1 上面側偏光板
1F2 下面側偏光板
1G 反射板
DS ドット・スペーサ
DESCRIPTION OF
Claims (10)
一般式(X) B−(G−A)n−G−B
(式中、Bはヒドロキシ基又はカルボン酸残基を表す。Gは炭素数2〜12のアルキレングリコール残基、炭素数6〜12のアリーレングリコール残基又は炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基を表す。Aは炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数6〜12のアリーレンジカルボン酸残基を表す。nは1以上の整数を表す。) A conductive film having a conductive layer containing a transparent conductive material and a cellulose ester compound other than cellulose acylate on a cellulose acylate film, wherein the transparent conductive material is a conductive polymer, a conductive metal Or an ester compound represented by the following general formula (X), a sugar ester compound, a glycol, which is at least one transparent conductive material selected from carbon nanotubes, and wherein the cellulose acylate film is different from the cellulose ester compound A conductive film comprising at least one of an acid ester compound, a phthalic acid ester compound, a phosphoric acid ester compound or a polyhydric alcohol ester compound.
Formula (X) B- (GA) n -GB
(In the formula, B represents a hydroxy group or a carboxylic acid residue. G represents an alkylene glycol residue having 2 to 12 carbon atoms, an arylene glycol residue having 6 to 12 carbon atoms, or an oxyalkylene glycol having 4 to 12 carbon atoms. Represents a residue, A represents an alkylene dicarboxylic acid residue having 4 to 12 carbon atoms or an arylene dicarboxylic acid residue having 6 to 12 carbon atoms, and n represents an integer of 1 or more.)
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014069624A1 (en) * | 2012-11-02 | 2014-05-08 | 日東電工株式会社 | Transparent conductive film |
JPWO2013065307A1 (en) * | 2011-11-01 | 2015-04-02 | コニカミノルタ株式会社 | Retardation film, polarizing plate and liquid crystal display device |
JP2015069267A (en) * | 2013-09-27 | 2015-04-13 | デクセリアルズ株式会社 | Capacitive curved touch panel and method for fabrication thereof |
WO2015075876A1 (en) * | 2013-11-20 | 2015-05-28 | デクセリアルズ株式会社 | Transparent conductor and method for producing transparent conductor |
WO2015102112A1 (en) * | 2014-01-06 | 2015-07-09 | 富士フイルム株式会社 | Production method for cellulose acylate film, cellulose acylate film, and polarizing plate and image display device including same |
WO2016031948A1 (en) * | 2014-08-29 | 2016-03-03 | デクセリアルズ株式会社 | Touch panel and display device equipped with touch panel |
JP2018160448A (en) * | 2016-09-30 | 2018-10-11 | 大日本印刷株式会社 | Conductive film, touch panel, and image display device |
TWI643919B (en) * | 2015-01-30 | 2018-12-11 | 信越化學工業股份有限公司 | Conductive polymer composition, coated article, patterning process, and substrate |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003233461A (en) * | 2002-02-08 | 2003-08-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Movable board for touch panel and image display apparatus |
WO2009017852A2 (en) * | 2007-04-20 | 2009-02-05 | Cambrios Technologies Corporation | High contrast transparent conductors and methods of forming the same |
JP2009271510A (en) * | 2008-04-11 | 2009-11-19 | Konica Minolta Opto Inc | Cellulose ester film, optical film, polarizing plate, liquid crystal display, and melt-cast film forming method of the cellulose ester film |
JP2010139941A (en) * | 2008-12-15 | 2010-06-24 | Konica Minolta Opto Inc | Hard coat film, method of manufacturing hard coat film, sheet polarizer and display device |
WO2011114884A1 (en) * | 2010-03-15 | 2011-09-22 | コニカミノルタオプト株式会社 | Hard coat film, production method therefor, polarizing plate, and liquid crystal display device |
-
2012
- 2012-02-08 JP JP2012024944A patent/JP5857771B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003233461A (en) * | 2002-02-08 | 2003-08-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Movable board for touch panel and image display apparatus |
WO2009017852A2 (en) * | 2007-04-20 | 2009-02-05 | Cambrios Technologies Corporation | High contrast transparent conductors and methods of forming the same |
JP2009271510A (en) * | 2008-04-11 | 2009-11-19 | Konica Minolta Opto Inc | Cellulose ester film, optical film, polarizing plate, liquid crystal display, and melt-cast film forming method of the cellulose ester film |
JP2010139941A (en) * | 2008-12-15 | 2010-06-24 | Konica Minolta Opto Inc | Hard coat film, method of manufacturing hard coat film, sheet polarizer and display device |
WO2011114884A1 (en) * | 2010-03-15 | 2011-09-22 | コニカミノルタオプト株式会社 | Hard coat film, production method therefor, polarizing plate, and liquid crystal display device |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2013065307A1 (en) * | 2011-11-01 | 2015-04-02 | コニカミノルタ株式会社 | Retardation film, polarizing plate and liquid crystal display device |
JP2014112510A (en) * | 2012-11-02 | 2014-06-19 | Nitto Denko Corp | Transparent conductive film |
WO2014069624A1 (en) * | 2012-11-02 | 2014-05-08 | 日東電工株式会社 | Transparent conductive film |
JP2015069267A (en) * | 2013-09-27 | 2015-04-13 | デクセリアルズ株式会社 | Capacitive curved touch panel and method for fabrication thereof |
WO2015075876A1 (en) * | 2013-11-20 | 2015-05-28 | デクセリアルズ株式会社 | Transparent conductor and method for producing transparent conductor |
CN105899343B (en) * | 2014-01-06 | 2017-07-28 | 富士胶片株式会社 | The manufacture method of cellulose acylate film, cellulose acylate film, polarizer and image display device comprising cellulose acylate film |
WO2015102112A1 (en) * | 2014-01-06 | 2015-07-09 | 富士フイルム株式会社 | Production method for cellulose acylate film, cellulose acylate film, and polarizing plate and image display device including same |
CN105899343A (en) * | 2014-01-06 | 2016-08-24 | 富士胶片株式会社 | Production method for cellulose acylate film, cellulose acylate film, and polarizing plate and image display device including same |
WO2016031948A1 (en) * | 2014-08-29 | 2016-03-03 | デクセリアルズ株式会社 | Touch panel and display device equipped with touch panel |
TWI643919B (en) * | 2015-01-30 | 2018-12-11 | 信越化學工業股份有限公司 | Conductive polymer composition, coated article, patterning process, and substrate |
JP2018160448A (en) * | 2016-09-30 | 2018-10-11 | 大日本印刷株式会社 | Conductive film, touch panel, and image display device |
US11298925B2 (en) | 2016-09-30 | 2022-04-12 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Electroconductive film, touch panel, and image display device |
JP7206585B2 (en) | 2016-09-30 | 2023-01-18 | 大日本印刷株式会社 | Conductive film, touch panel, and image display device |
US11648759B2 (en) | 2016-09-30 | 2023-05-16 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Electroconductive film, touch panel, and image display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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