JP2009288413A - Method for manufacturing hard coat film, hard coat film, antireflection film, polarizing plate, and image displaying device - Google Patents

Method for manufacturing hard coat film, hard coat film, antireflection film, polarizing plate, and image displaying device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a hard coat film which has a hard coat layer and is excellent both in hardness and in prevention of curling, the hard coat film being especially excellent both in high hardness and in prevention of curling after the film is stored at a high temperature and humidity for a long period of time, a hard coat film manufactured by the manufacturing method, an antireflection films using the hard coat film, a polarizing plate using the hard coat film and the antireflection film, and an image-displaying device. <P>SOLUTION: In the method for manufacturing the hard coat film having a hard coat layer, directly or via another layer, on a film base material, the film thickness of the hard coat layer is 10 μm or larger, and an alkaline solution is applied onto the surface opposite to the side at which the hard coat layer is formed. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、ハードコートフィルムの製造方法、ハードコートフィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置に関する。   The present invention relates to a method for producing a hard coat film, a hard coat film, an antireflection film, a polarizing plate, and an image display device.

近年、ハードコート材を保護層にしたフィルム(以下、ハードコートフィルムという)を表面に設けた液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の表示体が、急速に普及している。とりわけ、液晶ディスプレイは大型化し、かつ不特定多数の消費者に使用されるようになったため、それに用いるハードコート材は、より高い硬度が要求されている。   In recent years, display bodies such as a liquid crystal display and a plasma display provided with a film having a hard coat material as a protective layer (hereinafter referred to as a hard coat film) on the surface are rapidly spreading. In particular, since the liquid crystal display is enlarged and used by an unspecified number of consumers, the hard coat material used for the liquid crystal display is required to have higher hardness.

しかし、高い硬度を得ようとすると、ハードコート層の割れや剥がれが生じやすくなると同時に、ハードコート層の硬化収縮によるカールが大きくなり、実用上の使用において問題があった。その予防策として、ハードコート層裏面に溶剤処理を行う技術(例えば、特許文献1参照。)、バックコート層を形成する技術(例えば、特許文献2参照。)等が開示されている。   However, when trying to obtain a high hardness, the hard coat layer is liable to be cracked or peeled off, and at the same time, the curl due to curing shrinkage of the hard coat layer is increased, causing a problem in practical use. As preventive measures, a technique for performing solvent treatment on the back surface of the hard coat layer (for example, see Patent Document 1), a technique for forming a back coat layer (for example, see Patent Document 2), and the like are disclosed.

一方、一般的にハードコートフィルムのハードコート層は、熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂を用いてフィルム基材上に2〜10μm程度の塗膜として形成される。しかし、前記厚みでは、ガラス上に塗工した場合の鉛筆硬度が、4H以上の特性を有するハードコート樹脂であっても、下地であるフィルム基材の影響を受け、フィルム基材上に形成したハードコート層の表面硬度は鉛筆硬度にて2H以下となる。   On the other hand, the hard coat layer of a hard coat film is generally formed as a coating film of about 2 to 10 μm on a film substrate using an ionizing radiation curable resin such as a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin. However, with the above thickness, even when a hard coat resin having a pencil hardness of 4H or more when coated on glass, it was affected by the film base material as a base and formed on the film base material. The surface hardness of the hard coat layer is 2H or less in pencil hardness.

このため、より高い硬度を得ようとして、単純にハードコート層の厚みを増加させることが考えられる。しかし、10μm以上の厚みでハードコート層を形成した場合、特に夏季の高温、高湿保管や輸送等の長期保管を想定した条件では、特許文献1及び2に開示される技術では、硬度とカール抑制のバランスをとることが困難であった。   For this reason, it is conceivable to simply increase the thickness of the hard coat layer in order to obtain higher hardness. However, when the hard coat layer is formed with a thickness of 10 μm or more, the techniques disclosed in Patent Documents 1 and 2 are particularly suitable for hardness and curl, especially under conditions assuming long-term storage such as high temperatures in summer and high humidity storage and transportation. It was difficult to balance suppression.

10μm以上のハードコート層を有するハードコートフィルムにおける硬度とカール抑制を両立する技術については、例えば特許文献3に技術開示されている。   For example, Patent Document 3 discloses a technique for achieving both hardness and curl suppression in a hard coat film having a hard coat layer of 10 μm or more.

特許文献3は、ハードコート層を特定のアクリレート及び無機微粒子で形成することで、前記課題を改善する技術である。   Patent Document 3 is a technique for improving the above problem by forming a hard coat layer with a specific acrylate and inorganic fine particles.

ハードコートフィルムを特に液晶ディスプレイの保護フィルムとして使用する場合、液晶部材である偏光膜に積層して偏光板保護フィルムとして用いられる。この場合、偏光膜基材フィルムであるPVAとの密着性を得るため、ハードコートフィルムをアルカリ鹸化処理してから積層される。   When using a hard coat film especially as a protective film of a liquid crystal display, it is laminated | stacked on the polarizing film which is a liquid-crystal member, and is used as a polarizing plate protective film. In this case, in order to obtain adhesion with PVA which is a polarizing film base film, the hard coat film is laminated after alkali saponification treatment.

しかしながら、アルカリ鹸化処理後における特許文献3のハードコートフィルムでは、アルカリ鹸化処理により無機微粒子が反応してしまい、ハードコート層の膜が劣化し、高硬度が得られない問題があった。
特開平9−218302号公報 特開2005−266231号公報 特開2006−106427号公報
However, the hard coat film of Patent Document 3 after the alkali saponification treatment has a problem in that the inorganic fine particles react with each other due to the alkali saponification treatment, the hard coat layer is deteriorated, and high hardness cannot be obtained.
JP-A-9-218302 JP 2005-266231 A JP 2006-106427 A

従って本発明の目的は、ハードコート層を有するハードコートフィルムにおいて硬度とカール抑制を両立するハードコートフィルムの製造方法を提供するものであり、特に、高温、高湿の長期保管後の高硬度とカール抑制とを両立するハードコートフィルムの製造方法を提供するものである。また、該製造方法によって得られるハードコートフィルム、それを用いる反射防止フィルム、更には、該ハードコートフィルム、及び該反射防止フィルムを用いる偏光板、及び画像表示装置を提供するものである。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a hard coat film that achieves both hardness and curl suppression in a hard coat film having a hard coat layer, and in particular, high hardness after long-term storage at high temperature and high humidity. The present invention provides a method for producing a hard coat film that achieves both curl suppression. The present invention also provides a hard coat film obtained by the production method, an antireflection film using the hard coat film, a polarizing plate using the hard coat film, the antireflection film, and an image display device.

本発明の上記課題は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.フィルム基材上に直接又は他の層を介してハードコート層を有するハードコートフィルムの製造方法において、該ハードコート層の膜厚が10μm以上であって、該ハードコート層を設けた側と反対側の面にアルカリ溶液を塗布することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。   1. In a method for producing a hard coat film having a hard coat layer directly or via another layer on a film substrate, the thickness of the hard coat layer is 10 μm or more, opposite to the side on which the hard coat layer is provided The manufacturing method of the hard coat film characterized by apply | coating an alkaline solution to the side surface.

2.前記ハードコート層の膜厚が12μm以上、20μm以下であることを特徴とする前記1に記載のハードコートフィルムの製造方法。   2. 2. The method for producing a hard coat film according to 1 above, wherein the thickness of the hard coat layer is 12 μm or more and 20 μm or less.

3.前記ハードコート層の鉛筆硬度が3H以上であることを特徴とする前記1又は2に記載のハードコートフィルムの製造方法。   3. 3. The method for producing a hard coat film according to 1 or 2, wherein the hard coat layer has a pencil hardness of 3H or more.

4.前記ハードコート層の鉛筆硬度が4H以上であることを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。   4). 4. The method for producing a hard coat film according to any one of 1 to 3, wherein the hard coat layer has a pencil hardness of 4H or more.

5.前記アルカリ溶液が、フッ素系化合物或いはシリコーン化合物を含有することを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。   5). The method for producing a hard coat film according to any one of 1 to 4, wherein the alkaline solution contains a fluorine compound or a silicone compound.

6.前記フィルム基材が、セルロースエステル樹脂を含有することを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。   6). The said film base material contains cellulose-ester resin, The manufacturing method of the hard coat film of any one of said 1-5 characterized by the above-mentioned.

7.前記フィルム基材がセルロースエステル樹脂、及びアクリル樹脂を含有することを特徴とする前記1〜6のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。   7. The said film base material contains a cellulose-ester resin and an acrylic resin, The manufacturing method of the hard coat film of any one of said 1-6 characterized by the above-mentioned.

8.前記フィルム基材がセルロースエステル樹脂、アクリル樹脂及びアクリル粒子を含有することを特徴とする前記1〜7のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。   8). The said film base material contains a cellulose-ester resin, an acrylic resin, and an acrylic particle, The manufacturing method of the hard coat film of any one of said 1-7 characterized by the above-mentioned.

9.前記1〜8のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法を用いて作製したことを特徴とするハードコートフィルム。   9. The hard coat film produced using the manufacturing method of the hard coat film of any one of said 1-8.

10.前記9に記載のハードコートフィルムのハードコート層上に直接又は他の層を介して、低屈折率層が積層されていることを特徴とする反射防止フィルム。   10. 10. An antireflection film, wherein a low refractive index layer is laminated directly or via another layer on the hard coat layer of the hard coat film as described in 9 above.

11.前記9に記載のハードコートフィルム、または前記10に記載の反射防止フィルムを偏光膜の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。   11. 10. A polarizing plate comprising the hard coat film described in 9 or the antireflection film described in 10 on at least one surface of a polarizing film.

12.前記9に記載のハードコートフィルム、前記10に記載の反射防止フィルム、または前記11に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。   12 10. An image display device comprising the hard coat film according to 9, the antireflection film according to 10, or the polarizing plate according to 11.

本発明によれば、ハードコート層を有するハードコートフィルムにおいて硬度とカール抑制を両立するハードコートフィルムの製造方法を提供でき、特に、高温、高湿の長期保管後の高硬度とカール抑制とを両立するハードコートフィルムの製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a hard coat film having both hardness and curl suppression in a hard coat film having a hard coat layer, and in particular, high hardness and curl suppression after long-term storage at high temperature and high humidity. A method for producing a compatible hard coat film can be provided.

また、該製造方法によって得られるハードコートフィルム、それを用いる反射防止フィルム、更には、該ハードコートフィルム、及び該反射防止フィルムを用いる偏光板、及び画像表示装置を提供することができる。   Moreover, the hard coat film obtained by this manufacturing method, the anti-reflective film using the same, Furthermore, the polarizing plate using this hard coat film and this anti-reflective film, and an image display apparatus can be provided.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

請求項1に係る本発明のハードコートフィルムの製造方法は、フィルム基材上に直接又は他の層を介してハードコート層を有し、該ハードコート層の膜厚が10μm以上であって、該ハードコート層を設けた側と反対側の面にアルカリ溶液を塗布することを特徴とするものである。偏光膜に積層して偏光板保護フィルムを形成する場合でも、アルカリ鹸化処理を必要とせず、生産性に優れ、高温、高湿の長期保管後も高い硬度とカール抑制の両立に優れたハードコートフィルムを提供できる。   The method for producing a hard coat film of the present invention according to claim 1 has a hard coat layer directly on the film substrate or via another layer, and the film thickness of the hard coat layer is 10 μm or more, An alkaline solution is applied to the surface opposite to the side on which the hard coat layer is provided. Even when laminated on a polarizing film to form a polarizing plate protective film, it does not require alkali saponification treatment, is excellent in productivity, and has a high hardness and curl suppression even after long-term storage at high temperature and high humidity. Can provide film.

本発明は、高い硬度を得るため、ハードコート層の膜厚を10μm以上とした際のカール、特に高温、高湿の長期保管後のカールを、ハードコート層を設けた側と反対側の面にアルカリ溶液を塗布することで調整でき、高硬度とカール抑制の両立する課題を解決できることを見出し、本発明に至った。   In the present invention, in order to obtain high hardness, the curl when the thickness of the hard coat layer is 10 μm or more, particularly the curl after long-term storage at high temperature and high humidity, the surface opposite to the side on which the hard coat layer is provided. It has been found that it can be adjusted by applying an alkaline solution to the solution, and the problem of achieving both high hardness and curl suppression can be solved, and the present invention has been achieved.

従来の溶剤処理等では、基材フィルムに含まれる、添加剤(例えば、後述する紫外線吸収剤、可塑剤等)が基材フィルム内で局在化しやすく、特に高温、高湿で保管しておくと、その影響でカールが生じやすく、高い硬度を得るため、ハードコート層の膜厚を10μm以上とした際に、前記課題が顕著あった。アルカリ溶液では、添加剤の基材フィルム内での局在化を抑制でき、高温、高湿で保管してもカール抑制できるものと推定している。   In conventional solvent treatment, etc., additives (for example, ultraviolet absorbers, plasticizers, etc. described later) contained in the base film are likely to be localized in the base film, and are stored particularly at high temperature and high humidity. In order to obtain high hardness, the above-mentioned problem is conspicuous when the thickness of the hard coat layer is 10 μm or more in order to easily curl due to the influence. It is estimated that the alkaline solution can suppress the localization of the additive in the base film, and can suppress the curling even when stored at high temperature and high humidity.

請求項2に係る発明は、前記ハードコート層の膜厚が12μm以上、20μm以下であることを特徴とするハードコートフィルムの製造方法であり、高い硬度とカール抑制の両立に優れているものである。   The invention according to claim 2 is a method for producing a hard coat film, wherein the thickness of the hard coat layer is 12 μm or more and 20 μm or less, and is excellent in both high hardness and curl suppression. is there.

請求項3に係る発明は、前記ハードコート層の鉛筆硬度が3H以上であることを特徴とするハードコートフィルムの製造方法であり、高い硬度とカール抑制の両立に優れているものである。   The invention according to claim 3 is a method for producing a hard coat film, wherein the hard coat layer has a pencil hardness of 3H or more, and is excellent in both high hardness and curl suppression.

請求項4に係る発明は、前記ハードコート層の鉛筆硬度が4H以上であることを特徴とするハードコートフィルムの製造方法であり、高い硬度とカール抑制の両立に優れているものである。   The invention according to claim 4 is a method for producing a hard coat film, wherein the hard coat layer has a pencil hardness of 4H or more, and is excellent in both high hardness and curl suppression.

請求項5に係る発明は、前記アルカリ溶液が、フッ素系化合物或いはシリコーン化合物を含有することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法であり、高い硬度とカール抑制の両立に優れているものである。   The invention according to claim 5 is a method for producing a hard coat film, wherein the alkaline solution contains a fluorine-based compound or a silicone compound, and is excellent in both high hardness and curl suppression. .

請求項6に係る発明は、前記フィルム基材が、セルロースエステル樹脂を含有することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法であり、高い硬度とカール抑制の両立に優れているものである。   The invention according to claim 6 is a method for producing a hard coat film, wherein the film base material contains a cellulose ester resin, and is excellent in both high hardness and curl suppression.

請求項7に係る発明は、前記フィルム基材がセルロースエステル樹脂、及びアクリル樹脂を含有することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法であり、高い硬度とカール抑制の両立に優れているものである。   The invention according to claim 7 is a method for producing a hard coat film, wherein the film base material contains a cellulose ester resin and an acrylic resin, and is excellent in both high hardness and curl suppression. is there.

請求項8に係る発明は、前記フィルム基材がセルロースエステル樹脂、アクリル樹脂及びアクリル粒子を含有することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法であり、高い硬度とカール抑制の両立に優れているものである。   The invention according to claim 8 is a method for producing a hard coat film, wherein the film substrate contains a cellulose ester resin, an acrylic resin, and acrylic particles, and is excellent in both high hardness and curl suppression. Is.

請求項9に係る発明は.請求項1〜8のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法を用いて作製したことを特徴とするハードコートフィルムであり、高い硬度とカール抑制の両立に優れているものである。   The invention according to claim 9 is. It is the hard coat film produced using the manufacturing method of the hard coat film of any one of Claims 1-8, and is excellent in coexistence of high hardness and curl suppression.

請求項10に係る発明は、請求項9に記載のハードコートフィルムのハードコート層上に直接又は他の層を介して、低屈折率層が積層されていることを特徴とする反射防止フィルムであり、高い硬度とカール抑制の両立に優れているものである。   The invention according to claim 10 is an antireflection film characterized in that a low refractive index layer is laminated directly or via another layer on the hard coat layer of the hard coat film according to claim 9. Yes, it is excellent in achieving both high hardness and curl suppression.

請求項11に係る発明は.請求項9に記載のハードコートフィルム、または請求項10に記載の反射防止フィルムを偏光膜の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板である。   The invention according to claim 11 is. A polarizing plate having the hard coat film according to claim 9 or the antireflection film according to claim 10 on at least one surface of the polarizing film.

請求項12に係る発明は、請求項9に記載のハードコートフィルム、請求項10に記載の反射防止フィルム、または請求項11に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置である。   An invention according to claim 12 is an image display device comprising the hard coat film according to claim 9, the antireflection film according to claim 10, or the polarizing plate according to claim 11.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<アルカリ溶液>
先ずは、本発明の特徴であるアルカリ溶液について説明する。本発明のアルカリ溶液をハードコート層を設けた側と反対側の面(以下、バックコート面、バックコート層とも言う)に塗布することで、高硬度ハードコートフィルムにおいても良好なカール抑制効果が得られ、高硬度とカール抑制の両立ができる。先ずは、アルカリ溶液に含まれるアルカリ剤について説明する。
<Alkaline solution>
First, the alkaline solution that is a feature of the present invention will be described. By applying the alkaline solution of the present invention to the surface opposite to the side on which the hard coat layer is provided (hereinafter also referred to as a back coat surface or a back coat layer), a good curl suppressing effect can be obtained even in a high hardness hard coat film. As a result, both high hardness and curl suppression can be achieved. First, the alkaline agent contained in the alkaline solution will be described.

アルカリ剤としては、例えば、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ剤を挙げることができる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、DBU(1,8−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ウンデセン)、DBN(1,5−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ノネン)、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルブチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて併用することもでき、一部を例えばハロゲン化したような塩の形で添加してもよい。   Examples of the alkaline agent include trisodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, Inorganic alkaline agents such as sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium can be mentioned. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, DBU (1,8-diazabicyclo [4,3,0] -5-undecene), DBN (1,5-diazabicyclo [5,4,0] -7-nonene), tetramethylammonium Hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, triethylbutylammonium Organic alkali agents such as Dorokishido be used. These alkali agents can be used alone or in combination of two or more, and a part of them may be added in the form of a salt, for example, halogenated.

これらアルカリ剤の中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由は、これらの量を調整することにより広いpH領域でのpH調整が可能となるためである。   Among these alkali agents, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. The reason is that the pH can be adjusted in a wide pH range by adjusting these amounts.

アルカリ溶液の濃度は、使用するアルカリの種類、塗布量に応じて決定されるが、アルカリ溶液の安定性から、アルカリ溶液中のアルカリ濃度は0.1〜25質量%が好ましく、1〜15質量%がより好ましい。   Although the density | concentration of an alkaline solution is determined according to the kind and application amount of the alkali to be used, 0.1-25 mass% is preferable and, as for the alkali concentration in an alkaline solution, the alkali concentration in an alkaline solution is 1-15 mass. % Is more preferable.

アルカリ溶液は、本発明の目的効果が発揮されやすい点から、フッ素系化合物或いはシリコーン化合物を含有する事が好ましい。   The alkaline solution preferably contains a fluorine compound or a silicone compound from the viewpoint that the object effect of the present invention is easily exhibited.

フッ素系化合物としては、パーフルオロアルキル基を含有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを母核としたもので、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン等の誘導体等が挙げられる。市販品としては、例えばサーフロン「S−381」、「S−382」、「SC−101」、「SC−102」、「SC−103」、「SC−104」(何れも旭硝子株式会社製)、フロラード「FC−430」、「FC−431」、「FC−173」(何れもフロロケミカル−住友スリーエム製)、エフトップ「EF352」、「EF301」、「EF303」(何れも新秋田化成株式会社製)、シュベゴーフルアー「8035」、「8036」(何れもシュベグマン社製)、「BM1000」、「BM1100」(いずれもビーエム・ヒミー社製)、メガファック「F−114」、「F−470」、「F−443」、(いずれも大日本インキ化学工業株式会社製)等を挙げることができる。   The fluorine-based compound is a monomer, oligomer, or polymer containing a perfluoroalkyl group as a mother nucleus, and includes derivatives such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl allyl ether, polyoxyethylene, and the like. Examples of commercially available products include Surflon “S-381”, “S-382”, “SC-101”, “SC-102”, “SC-103”, and “SC-104” (all manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.). FLORARD "FC-430", "FC-431", "FC-173" (all made by Fluorochemicals-Sumitomo 3M), F-top "EF352", "EF301", "EF303" (all Shin-Akita Kasei Co., Ltd.) Company made), Schwegaufur "8035", "8036" (both made by Schwegman), "BM1000", "BM1100" (both made by BM Himmy), Megafuck "F-114", "F -470 "," F-443 "(all manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) and the like.

また、フッ素化合物としては、フッ素系樹脂に、シロキサン及び/またはオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び/またはオルガノポリシロキサンをグラフト化により共重合して得られるフッ素−シロキサングラフトポリマー等も挙げることができる。フッ素−シロキサングラフトポリマーの市販品としては、富士化成工業株式会社製のZX−022H、ZX−007C、ZX−049、ZX−047−D等を挙げることができる。   Examples of the fluorine compound also include a fluorine-siloxane graft polymer obtained by copolymerizing polysiloxane containing siloxane and / or organosiloxane alone and / or organopolysiloxane by grafting to a fluorine-based resin. . Examples of commercially available fluorine-siloxane graft polymers include ZX-022H, ZX-007C, ZX-049, and ZX-047-D manufactured by Fuji Chemical Industry Co., Ltd.

フッ素系化合物の濃度は、アルカリ溶液中0.01〜5質量%、好ましくは0.05〜2質量%である。フッ素系化合物は、1種または2種以上を併用することができる。   The density | concentration of a fluorine-type compound is 0.01-5 mass% in an alkaline solution, Preferably it is 0.05-2 mass%. One or two or more fluorine compounds can be used in combination.

次にシリコーン化合物について説明する。シリコーン化合物は、ストレートシリコーンオイルと変性シリコーンオイルが好ましい。   Next, the silicone compound will be described. The silicone compound is preferably straight silicone oil or modified silicone oil.

ここで、ストレートシリコーンオイルとは、メチル基、フェニル基、水素原子を置換基として結合したものをいう。変性シリコーンオイルとは、ストレートシリコーンオイルから二次的に誘導された構成部分をもつものである。一方、シリコーンオイルの反応性からも分類することができる。これらをまとめると、以下のようになる。   Here, the straight silicone oil refers to one in which a methyl group, a phenyl group, or a hydrogen atom is bonded as a substituent. A modified silicone oil is one having a component that is secondarily derived from a straight silicone oil. On the other hand, it can be classified from the reactivity of silicone oil. These are summarized as follows.

(シリコーンオイル)
1.ストレートシリコーンオイル
1−1.非反応性シリコーンオイル:ジメチル、メチルフェニル置換等。
(Silicone oil)
1. Straight silicone oil 1-1. Non-reactive silicone oil: dimethyl, methylphenyl substitution, etc.

1−2.反応性シリコーンオイル:メチル水素置換等。
2.変性シリコーンオイル
ジメチルシリコーンオイルに、さまざまな有機基を導入することで生まれたものが変性シリコーンオイルである。
1-2. Reactive silicone oil: methyl hydrogen substitution and the like.
2. Modified silicone oil Modified silicone oil is born by introducing various organic groups into dimethyl silicone oil.

2−1.非反応性変性シリコーンオイル:アルキル、アルキル/アラルキル、アルキル/ポリエーテル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル置換等。   2-1. Non-reactive modified silicone oil: alkyl, alkyl / aralkyl, alkyl / polyether, polyether, higher fatty acid ester substitution, etc.

アルキル/アラルキル変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を長鎖アルキル基或いはフェニルアルキル基が置換したシリコーンオイルである。   The alkyl / aralkyl-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of the methyl group of dimethyl silicone oil is substituted with a long-chain alkyl group or a phenylalkyl group.

ポリエーテル変性シリコーンオイルは、親水性のポリオキシアルキレンを疎水性のジメチルシリコーンを導入した界面活性剤である。   The polyether-modified silicone oil is a surfactant in which hydrophobic dimethyl silicone is introduced into hydrophilic polyoxyalkylene.

高級脂肪酸変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を高級脂肪酸エステルに置換えたシリコーンオイルである。   The higher fatty acid-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of the methyl group of dimethyl silicone oil is replaced with a higher fatty acid ester.

アミノ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をアミノアルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。   The amino-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with an aminoalkyl group.

エポキシ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をエポキシ基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。   The epoxy-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with an epoxy group-containing alkyl group.

カルボキシル変性或いはアルコール変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をカルボキシル基或いは水酸基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。   The carboxyl-modified or alcohol-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with a carboxyl group or a hydroxyl group-containing alkyl group.

これらのうち、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましい。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば1,000〜100,000、好ましくは2,000〜50,000が適当であり、数平均分子量が1,000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100,000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる。   Of these, polyether-modified silicone oil is preferred. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2,000 to 50,000. When the number average molecular weight is less than 1,000, the drying property of the coating film is low. Conversely, if the number average molecular weight exceeds 100,000, bleeding out to the coating surface becomes difficult.

具体的な商品としては、東レダウコーニング社のL−45、L−9300、FZ−3704、FZ−3703、FZ−3720、FZ−3786、FZ−3501、FZ−3504、FZ−3508、FZ−3705、FZ−3707、FZ−3710、FZ−3750、FZ−3760、FZ−3785、FZ−3785、Y−7499、信越化学社のKF96L、KF96、KF96H、KF99、KF54、KF965、KF968、KF56、KF995、KF351、KF351A、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、FL100、ビックケミージャパン社製のBYKシリーズ、BYK−300/302、BYK−306、BYK−307、BYK−310、BYK−315、BYK−320、BYK−322、BYK−323、BYK−325、BYK−330、BYK−331、BYK−333、BYK−337、BYK−340、BYK−344、BYK−370、BYK−375、BYK−377、BYK−352、BYK−354、BYK−355/356、BYK−358N/361N、BYK−357、BYK−390、BYK−392、BYK−UV3500、BYK−UV3510、BYK−UV3570、BYK−Silclean3700、GE東芝シリコーン社製のジメチルシリコーンシリーズ、XC96−723、YF3800、XF3905、YF3057、YF3807、YF3802、YF3897等が挙げられる。   Specific products include L-45, L-9300, FZ-3704, FZ-3703, FZ-3720, FZ-3786, FZ-3501, FZ-3504, FZ-3508, FZ- from Toray Dow Corning. 3705, FZ-3707, FZ-3710, FZ-3750, FZ-3760, FZ-3785, FZ-3785, Y-7499, Shin-Etsu Chemical KF96L, KF96, KF96H, KF99, KF54, KF965, KF968, KF56, KF995, KF351, KF351A, KF352, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, FL100, BYK series manufactured by BYK Japan, BYK-300 / 302, BYK-306, BYK-3307 BYK-315, BYK-320, BYK-322, BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-337, BYK-340, BYK-344, BYK-370, BYK- 375, BYK-377, BYK-352, BYK-354, BYK-355 / 356, BYK-358N / 361N, BYK-357, BYK-390, BYK-392, BYK-UV3500, BYK-UV3510, BYK-UV3570, BYK-Silclean 3700, dimethyl silicone series manufactured by GE Toshiba Silicone, XC96-723, YF3800, XF3905, YF3057, YF3807, YF3802, YF3897, and the like.

また、シリコーン化合物は、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換した化合物でもよい。置換の位置は、シリコーンオイルの側鎖、両末端、片末端、両末端側鎖等がある。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、4級塩等がある。   The silicone compound may be a compound in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with a hydrophilic group. The position of substitution includes a side chain of silicone oil, both ends, one end, both end side chains, and the like. Examples of the hydrophilic group include polyether, polyglycerin, pyrrolidone, betaine, sulfate, phosphate, and quaternary salt.

具体例としては、例えば東レダウコーニング社のシリコーン界面活性剤SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191、SUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805等が挙げられる。   Specific examples include silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101, FZ-2104, FZ- from Toray Dow Corning. 2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ-2163, FZ-2164, FZ-2166, FZ-2191, SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, etc. are mentioned.

これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される化合物の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアル 具体例としては、例えば東レダウコーニング社のシリコーン界面活性剤ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208、FZ−2222等が挙げられる。   As a preferable structure of the compound in which the hydrophobic group is composed of dimethylpolysiloxane and the hydrophilic group is composed of polyoxyalkylene, a dimethylpolysiloxane structure portion and polyoxyal. Specific examples include, for example, silicone surfactant ABN SILWET manufactured by Toray Dow Corning. FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208, FZ-2222, etc. are mentioned.

また、シリコーン化合物としては以下に説明する反応性変性シリコーン樹脂(反応性変性シリコーンオイルともいう)を含有してもよい。   Moreover, as a silicone compound, you may contain the reactive modified silicone resin (it is also called reactive modified silicone oil) demonstrated below.

2−2.反応性変性シリコーンオイル:アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコール置換等。   2-2. Reactive modified silicone oil: amino, epoxy, carboxyl, alcohol substitution, etc.

反応性変性シリコーン樹脂としては、ポリシロキサンの側鎖、片末端または両末端にアミノ、エポキシ、カルボキシル、水酸基、メタクリル、メルカプト、フェノール等で置換された反応性タイプの変性シリコーン樹脂である。アミノ変性シリコーン樹脂として、具体的にはKF−860,KF−861,X−22−161A、X−22−161B(以上、信越化学工業株式会社製)、FM−3311,FM−3325(以上、チッソ株式会社製)、エポキシ変性シリコーン樹脂としては、KF−105、X−22−163A、X−22−163B、KF−101、KF−1001(以上、信越化学工業株式会社製)、ポリエーテル変性シリコーン樹脂としてはX−22−4272、X−22−4952、カルボキシル変性シリコーン樹脂としてはX−22−3701E、X−22−3710(以上、信越化学工業株式会社製)、カルビノール変性シリコーン樹脂としてはKF−6001、KF−6003(以上、信越化学工業株式会社製)、メタクリル変性シリコーン樹脂としてはX−22−164C(以上、信越化学工業株式会社製)、メルカプト変性シリコーン樹脂としてはKF−2001(以上、信越化学工業株式会社製)、フェノール変性シリコーン樹脂としてはX−22−1821(以上、信越化学工業株式会社製)等が挙げられる。水酸基変性シリコーン樹脂としては、FM−4411、FM−4421、FM−DA21,FM−DA26(以上、チッソ株式会社製)等が挙げられる。その他、片末端反応性シリコーン樹脂のX−22−170DX、X−22−2426、X−22−176F(信越化学工業株式会社製)等も含まれる。   The reactive modified silicone resin is a reactive type modified silicone resin in which the side chain, one end or both ends of polysiloxane is substituted with amino, epoxy, carboxyl, hydroxyl group, methacryl, mercapto, phenol or the like. As amino-modified silicone resins, specifically, KF-860, KF-861, X-22-161A, X-22-161B (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), FM-3311, FM-3325 (above, Chisso Corporation), epoxy-modified silicone resins such as KF-105, X-22-163A, X-22-163B, KF-101, KF-1001 (above, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polyether-modified X-22-4272, X-22-4952 as silicone resins, X-22-3701E, X-22-3710 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as carboxyl-modified silicone resins, and carbinol-modified silicone resins KF-6001, KF-6003 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), methacryl-modified silicone X-22-164C (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as the resin, KF-2001 (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as the mercapto-modified silicone resin, and X-22-1821 as the phenol-modified silicone resin (The above is manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Examples of the hydroxyl group-modified silicone resin include FM-4411, FM-4421, FM-DA21, FM-DA26 (manufactured by Chisso Corporation). In addition, X-22-170DX, X-22-2426, X-22-176F (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like are also included.

上記したシリコーン化合物の濃度は、アルカリ溶液中0.01〜5.0質量%であるこが好ましく、更に好ましくは0.05〜2質量%である。シリコーン化合物は、1種または2種以上を併用することができる。   The concentration of the silicone compound described above is preferably 0.01 to 5.0% by mass in the alkaline solution, more preferably 0.05 to 2% by mass. A silicone compound can use together 1 type (s) or 2 or more types.

アルカリ溶液は溶剤を含有してもよい。溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルオキシド、メチル−n−アミルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、安息香酸エチル、アセト酢酸メチル等のエステル類、ジオキソラン、ジオキサン、メチルセロソルブ、メチルカルビトール等のエーテル類、メチルセロソルブアセテート、セロソルブアセテート等の多価アルコールエステル類、テトラヒドロフラン、フルフラール等のフラン類、氷酢酸等の酸類、メチレンクロライド、エチレンジクロライド、テトラクロロエタン等のハロゲン炭化水素類、ニトロメタン、ニトロエタン、ピリジン、ジメチルホルムアミド、ニトロベンゼン等の窒素化合物、ジメチルスルホキサイド等のスルホン酸類等を挙げることができる。   The alkaline solution may contain a solvent. Solvents include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl oxide, methyl-n-amyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol, diisobutyl ketone, methylcyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, butyl lactate, benzoate Esters such as ethyl acetate and methyl acetoacetate, ethers such as dioxolane, dioxane, methyl cellosolve and methyl carbitol, polyhydric alcohol esters such as methyl cellosolve acetate and cellosolve acetate, furans such as tetrahydrofuran and furfural, glacial acetic acid Acids such as methylene chloride, ethylene dichloride, tetrachloroethane, nitromethane, nitroethane, pyridine, dimethylformamide, nitric acid Nitrogen compounds such as Robenzen, and sulfonic acids such as dimethyl sulfoxide and the like.

塗布後の乾燥を考慮すると、揮発し易い溶剤が好ましく、沸点が200℃以下のものが好ましい。また、溶剤としては、高沸点側の溶剤と、低沸点側溶剤を少なくとも1種づつ含有してもよい。   In consideration of drying after coating, a solvent that easily volatilizes is preferable, and a solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower is preferable. Moreover, as a solvent, you may contain a high boiling point side solvent and a low boiling point side solvent at least 1 type each.

上記高沸点の溶剤として、例えば、シクロヘキサノン(bp155.65℃)、ジアセトンアルコール(bp169.2℃)、乳酸エチル(bp154.1℃)、ジメチルホルムアミド(bp153℃)、メチルセルソルブ(bp145℃)、ジオキサン(101.4℃)等を挙げることができる。   Examples of the high boiling point solvent include cyclohexanone (bp 155.65 ° C.), diacetone alcohol (bp 169.2 ° C.), ethyl lactate (bp 154.1 ° C.), dimethylformamide (bp 153 ° C.), and methyl cellosolve (bp 145 ° C.). , Dioxane (101.4 ° C.) and the like.

低沸点側の溶媒としては、例えば、アセトン(bp56.12℃)、メチルエチルケトン(bp79.6℃)、酢酸メチル(bp56.87℃)、酢酸エチル(bp77.11℃)、ジオキソラン(bp75.6℃)等を挙げることができる。   Examples of the low boiling point solvent include acetone (bp 56.12 ° C.), methyl ethyl ketone (bp 79.6 ° C.), methyl acetate (bp 56.87 ° C.), ethyl acetate (bp 77.11 ° C.), dioxolane (bp 75.6 ° C.). And the like.

その他、メタノール、エタノール、プロパノール、n−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノールなどのアルコール類、グリコールエーテル類(プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテル(具体的にはプロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノn−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等)、プロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステル(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート))、水、その他の溶剤も用いることができる。アルカリ溶液の溶剤濃度としては、アルカリ溶液中50〜99.8質量%が好ましい。   In addition, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, 2-butanol, tert-butanol, glycol ethers (propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether (specifically, propylene glycol monomethyl ether (PGME)) , Propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, etc.), propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether esters (propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl) Ether acetate)), water and other solvents can also be used. The solvent concentration of the alkaline solution is preferably 50 to 99.8% by mass in the alkaline solution.

また、アルカリ溶液は、アクリル樹脂またはセルロースエステル樹脂を含有してもよい。先ずは、セルロースエステル樹脂(以下、セルロースエステルとも言う)について説明する。セルロースエステルは、セルロースエステルのアセチル基の平均置換度をX、アセチル基を含まないアシル基の平均置換度をYとするときX+Yの範囲が2.0≦X+Y<2.4でかつ、0.1≦Y≦2.2の範囲の物が好ましい。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに3個の水酸基がある。この3個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度という。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの3個の水酸基全てにアセチル基が結合している。   Moreover, the alkaline solution may contain an acrylic resin or a cellulose ester resin. First, cellulose ester resin (hereinafter also referred to as cellulose ester) will be described. The cellulose ester has an X + Y range of 2.0 ≦ X + Y <2.4 when the average substitution degree of the acetyl group of the cellulose ester is X, and the average substitution degree of the acyl group not containing the acetyl group is Y. The thing of the range of 1 <= Y <= 2.2 is preferable. Cellulose molecules are composed of many glucose units linked together, and the glucose unit has three hydroxyl groups. The number of acyl groups derived from these three hydroxyl groups is called the degree of substitution. For example, cellulose triacetate has an acetyl group bonded to all three hydroxyl groups of the glucose unit.

セルロースエステルは、炭素数2〜22程度のカルボン酸エステルであり、芳香族カルボン酸のエステルでもよく、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味している。水酸基に結合するアシル基は、直鎖であっても分岐してもよく、また環を形成してもよい。更に別の置換基が置換してもよい。同じ置換度である場合、前記炭素数が多いと複屈折性が低下するため、炭素数としては炭素数2〜6のアシル基の中で選択することが好ましい。更に該アシル基は炭素数が2〜4であることが好ましく、特に炭素数が2または3であることが好ましく、プロピオニル基またはブチリル基であることが好ましい。尚、アシル基の置換度の測定方法はASTM−D817−96の規定に準じて測定することができる。   The cellulose ester is a carboxylic acid ester having about 2 to 22 carbon atoms, and may be an aromatic carboxylic acid ester, and is particularly preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. The acyl group bonded to the hydroxyl group may be linear or branched or may form a ring. Furthermore, another substituent may be substituted. When the degree of substitution is the same, birefringence decreases when the number of carbon atoms is large, and therefore, the number of carbon atoms is preferably selected from acyl groups having 2 to 6 carbon atoms. Further, the acyl group preferably has 2 to 4 carbon atoms, particularly preferably 2 or 3 carbon atoms, and is preferably a propionyl group or a butyryl group. In addition, the measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to the prescription | regulation of ASTM-D817-96.

セルロースエステルの例としては、特開平10−45804号、同8−231761号、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート等の混合脂肪酸エステルが挙げられる。これらの中では、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましい。上記セルロースエステルは公知の方法で合成することができる。   Examples of cellulose esters include cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate as described in JP-A Nos. 10-45804, 8-231761, U.S. Pat. No. 2,319,052, and the like. Examples include mixed fatty acid esters such as phthalate. Among these, cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate are preferable. The cellulose ester can be synthesized by a known method.

また、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等も用いることができる。   Moreover, diacetylcellulose, triacetylcellulose, etc. can also be used.

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることもできる。特に、綿花リンター(以下、単にリンターとすることがある)から合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。   As the cellulose ester, a cellulose ester synthesized from cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to use a cellulose ester synthesized from cotton linter (hereinafter sometimes referred to simply as linter) alone or in combination.

一般にセルロースエステルの分子量が大きいと、熱による弾性率の変化率が小さくなるが、分子量を上げ過ぎると、セルロースエステルの溶解液の粘度が高くなり過ぎ、生産性が低下する。セルロースエステルの分子量は、数平均分子量(Mn)で30000〜200000のものが好ましく、40000〜170000のものが更に好ましい。   In general, when the molecular weight of the cellulose ester is large, the rate of change of the elastic modulus due to heat becomes small. However, when the molecular weight is excessively increased, the viscosity of the cellulose ester solution becomes too high and the productivity is lowered. The molecular weight of the cellulose ester is preferably 30000-200000 in terms of number average molecular weight (Mn), more preferably 40000-170000.

高速液体クロマトグラフィーを用いたセルロースエステルの数平均分子量、重量平均分子量の測定条件は以下の通りである。
溶媒:メチレンクロライド
カラム:Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度:0.1質量%
検出器:RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ:L6000(日立製作所(株)製)
流量:1.0ml/min
校正曲線:標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に得ることが好ましい。また、2種類以上のセルロースエステルを併用してもよい。
The measurement conditions of the number average molecular weight and the weight average molecular weight of the cellulose ester using high performance liquid chromatography are as follows.
Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G (Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (GL Science Co., Ltd.)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0 ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000 to 500 samples were used. It is preferable to obtain 13 samples at approximately equal intervals. Two or more types of cellulose esters may be used in combination.

次にアクリル樹脂について説明する。アクリル樹脂としては、熱可塑性アクリル樹脂が好ましく、例えば、分子量数万〜数十万、ガラス転移点20〜105℃の熱可塑性アクリル樹脂が好ましい。これらタイプの市販品としては、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レイヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レイヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどを挙げることができる。また、ガラス転移点はJIS−K7121に記載の方法にて求めることができる。   Next, the acrylic resin will be described. As the acrylic resin, a thermoplastic acrylic resin is preferable. For example, a thermoplastic acrylic resin having a molecular weight of tens of thousands to hundreds of thousands and a glass transition point of 20 to 105 ° C. is preferable. As these types of commercial products, Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M-4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001 , M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR-80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR- 105, BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) acrylic and Methacrylic monomers there may be cited various homopolymers and copolymers were prepared as raw materials. The glass transition point can be determined by the method described in JIS-K7121.

アルカリ溶液中のアクリル樹脂及びセルロースエステル樹脂の濃度としては、0.05〜50質量%、更に好ましくは0.1〜20質量%である。これら範囲で用いることで、アルカリ溶液中で安定に存在し、本発明の目的効果も発揮されやすい。   The concentration of the acrylic resin and cellulose ester resin in the alkaline solution is 0.05 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 20% by mass. By using in these ranges, it exists stably in an alkaline solution, and the objective effect of this invention is easy to be exhibited.

更にその他のバインダーとして、例えば塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル/塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル/アクリロニトリル共重合体、エチレン/ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体或いは共重合体、マレイン酸及び/またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル/スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル/塩素化ポリエチレン/スチレン共重合体、メチルメタクリレート/ブタジエン/スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン/ブタジエン樹脂、ブタジエン/アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を併用することができる。   Other binders include, for example, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate / vinyl alcohol copolymer, partially hydrolyzed vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, vinyl chloride / Vinyl polymers such as vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride / acrylonitrile copolymer, ethylene / vinyl alcohol copolymer, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene / vinyl chloride copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, or Copolymer, copolymer of maleic acid and / or acrylic acid, acrylate copolymer, acrylonitrile / styrene copolymer, chlorinated polyethylene, acrylonitrile / chlorinated polyethylene / styrene copolymer, methyl methacrylate / butadiene / Styrene copolymer, acrylic resin, poly Nyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin, amino resin, styrene / butadiene resin, rubber-based resin such as butadiene / acrylonitrile resin, silicone Resin, fluorine resin and the like can be used in combination.

アルカリ溶液には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子を添加してもよい。添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。   Fine particles may be added to the alkaline solution in order to provide an antiblocking function. Examples of inorganic fine particles added include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, indium oxide, and zinc oxide. And ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate.

これらの微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上、日本アエロジル株式会社製)、シーホスターKE−P10、同KE−P30、同KE−P50、同KE−P100、同KE−P150、同KE−P250(以上、日本触媒株式会社製)の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でもでアエロジル200V、アエロジルR972V、シーホスターKE−P30、同KE−P50、及び同KE−P100がヘーズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。   These fine particles include, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), Seahoster KE-P10, KE-P30, KE- P50, KE-P100, KE-P150, and KE-P250 (above, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) are commercially available and can be used. Among these, Aerosil 200V, Aerosil R972V, Seahoster KE-P30, KE-P50, and KE-P100 are particularly preferably used because they have a large anti-blocking effect while keeping haze low.

アルカリ溶液中に含まれる微粒子の濃度は、0.1〜50質量%が好ましく、更に好ましくは0.1〜30質量%である。   The concentration of fine particles contained in the alkaline solution is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass.

アルカリ溶液を塗布した場合のヘーズの増加は、1%以下であることが好ましく0.5%以下であることが好ましく、特に0.0〜0.1%であることが好ましい。   The increase in haze when an alkaline solution is applied is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.0 to 0.1%.

また、アルカリ溶液塗布面の動摩擦係数は0.9以下、特に0.1〜0.9であることが好ましい。   Further, the coefficient of dynamic friction of the surface coated with the alkaline solution is preferably 0.9 or less, particularly preferably 0.1 to 0.9.

アルカリ溶液の塗布方法としてはグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いてフィルム基材のハードコート層を設けた側と反対側の面にウェット膜厚1〜100μmで塗布するのが好ましいが、特に5〜30μmであることが、カール抑制が良好に発揮されやすい点から、好ましい。   As an application method of the alkaline solution, a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or spray coating, ink jet coating, etc. Although it is preferable to apply with a wet film thickness of 1 to 100 μm, it is particularly preferable that the thickness is 5 to 30 μm from the viewpoint that curl suppression is easily exhibited well.

塗布後、加熱乾燥し、必要に応じて硬化処理してもよい。また、アルカリ溶液塗布は2回以上に分けて塗布することもできる。   After application, it may be heat-dried and cured as necessary. The alkaline solution application can be applied in two or more steps.

また、フィルム基材を、アルカリ溶液を塗布する前に予め所定の温度に調整する工程を有してもよい。フィルム基材を温度調整する手段としては、例えば、熱風の衝突(吹き付け)による直接加熱、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、或いは赤外線ヒーターによる輻射熱加熱等を利用できる。また、フィルム基材の温度調整後、維持する手段を有してもよく、具体的には、塗布の反対面への熱風の衝突(吹き付け)、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、赤外線ヒーターによる輻射熱加熱等が好ましく利用できる。赤外線ヒーターは、電気式、ガス式、オイル式或いはスチーム式の遠赤外セラミックヒーターが利用できる。   Moreover, you may have the process of adjusting a film base material to predetermined temperature beforehand, before apply | coating an alkaline solution. As means for adjusting the temperature of the film substrate, for example, direct heating by hot air collision (blowing), contact heat transfer by a heating roll, induction heating by microwaves, or radiant heat heating by an infrared heater can be used. Moreover, after adjusting the temperature of the film substrate, it may have a means for maintaining, specifically, collision of hot air against the opposite surface of the coating (blowing), contact heat transfer with a heating roll, induction heating with microwaves Radiant heat heating with an infrared heater can be preferably used. As the infrared heater, an electric, gas, oil or steam far infrared ceramic heater can be used.

また、アルカリ溶液を基材フィルムから掻き取る工程を有してもよい。尚、ここで言う掻き取る工程とは、アルカリ溶液を塗布後、アルカリ溶液を希釈しつつ、フィルム表面に存在する液量を減少させる工程を言う。具体的には、アルカリ希釈液を塗布、アルカリ希釈液を吹き付ける方法を挙げる事ができる。アルカリ希釈液は、表面張力が35℃で20〜60mN/m以下であるのが好ましく、35〜60mN/mであることがより好ましい。表面張力がこの範囲であるとアルカリ溶液を塗布した基材フィルム表面上に濡れ広がりやすくなり、塗布ビードが安定化するからである。   Moreover, you may have the process of scraping off an alkaline solution from a base film. In addition, the scraping process said here means the process of reducing the liquid quantity which exists on the film surface, diluting an alkaline solution after apply | coating an alkaline solution. Specifically, a method of applying an alkali diluent and spraying the alkali diluent can be mentioned. The alkali dilution liquid preferably has a surface tension of 20 to 60 mN / m or less at 35 ° C., more preferably 35 to 60 mN / m. If the surface tension is within this range, the surface of the base film coated with the alkaline solution tends to wet and spread, and the coated bead is stabilized.

更には掻き取りによっても落としきれなかったアルカリ溶液を基材フィルムから洗い落とす工程(洗浄工程)を有してもよい。   Furthermore, you may have the process (washing | cleaning process) of washing off the alkaline solution which could not be removed by scraping off from a base film.

洗浄工程は、洗浄水を塗布する方法、洗浄水を吹き付ける方法、或いは、洗浄水の入った容器に基材フィルムごと浸漬する方法で実施できる。洗浄水を塗布する方法と吹き付ける方法が、基材フィルムを連続搬送しながら実施するために好ましい。洗浄水を吹き付ける方法は、噴流によって基材フィルム上の洗浄水とアルカリ性塗布液との乱流混合が得られるために、特に好ましい。   The washing step can be performed by a method of applying washing water, a method of spraying washing water, or a method of immersing the base film together in a container containing washing water. The method of applying the washing water and the method of spraying are preferable for carrying out the substrate film while carrying it continuously. The method of spraying the washing water is particularly preferable because turbulent mixing of the washing water on the base film and the alkaline coating liquid can be obtained by a jet.

また、アルカリ溶液塗布前後で後述するアルカリ鹸化処理を行ってもよい。   Moreover, you may perform the alkali saponification process mentioned later before and behind alkali solution application | coating.

<ハードコート層>
次に本発明に関わるハードコート層について説明する。
<Hard coat layer>
Next, the hard coat layer according to the present invention will be described.

先ずは、ハードコート層を形成する樹脂バインダーについて説明する。樹脂バインダーとしては、活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化樹脂や電子線硬化樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、特に、紫外線硬化樹脂が機械的膜強度(耐擦性、鉛筆硬度)に優れる点から好ましい。   First, the resin binder for forming the hard coat layer will be described. As the resin binder, an active energy ray curable resin is preferable. The active energy ray-curable resin refers to a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active rays such as ultraviolet rays or electron beams. As the active energy ray curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and the active energy ray curable resin layer is cured by irradiation with an active ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. It is formed. Typical examples of the active energy ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and the ultraviolet curable resin is particularly preferable from the viewpoint of excellent mechanical film strength (abrasion resistance, pencil hardness).

紫外線硬化樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、及びジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基及び/またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。   As the ultraviolet curable resin, a polyfunctional acrylate is preferable. The polyfunctional acrylate is preferably selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. Here, the polyfunctional acrylate is a compound having two or more acryloyloxy groups and / or methacryloyloxy groups in the molecule.

多官能アクリレートのモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、イソボロニルアクリレート等が好ましく挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または2種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの2量体、3量体等のオリゴマーであってもよい。活性エネルギー線硬化樹脂の添加量は、ハードコート層形成組成物中(以下、ハードコート層塗布液とも言う。)では、固形分中の15質量%以上70質量%未満であることが好ましい。   Examples of the polyfunctional acrylate monomer include ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, and tetramethylolmethane triacrylate. , Tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, glycerol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol Ritolol hexaacrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, Tetramethylol methane trimethacrylate, tetramethylol methane tetramethacrylate, pentaglycerol trimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, glycerol trimethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate Acrylate, dipentaerythritol penta methacrylate, dipentaerythritol hexa methacrylate, isobornyl acrylate and the like preferably. These compounds are used alone or in admixture of two or more. Moreover, oligomers, such as a dimer and a trimer of the said monomer, may be sufficient. The addition amount of the active energy ray-curable resin is preferably 15% by mass or more and less than 70% by mass in the solid content in the hard coat layer forming composition (hereinafter also referred to as hard coat layer coating solution).

また、ハードコート層には活性エネルギー線硬化樹脂の硬化促進のため、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤量としては、質量比で、光重合開始剤;エネルギー活性線硬化性樹脂=20:100〜0.01:100で含有することが好ましい。   The hard coat layer preferably contains a photopolymerization initiator to accelerate the curing of the active energy ray curable resin. The amount of the photopolymerization initiator is preferably a mass ratio of photopolymerization initiator; energy active ray curable resin = 20: 100 to 0.01: 100.

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto.

ハードコート層には、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂またはゼラチン等の親水性樹脂等のバインダーを用いることもできる。また、ハードコート層には滑り性や屈折率を調整するために無機化合物または有機化合物の粒子を含んでもよい。   For the hard coat layer, a binder such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or a hydrophilic resin such as gelatin can also be used. Further, the hard coat layer may contain particles of an inorganic compound or an organic compound in order to adjust slipperiness and refractive index.

ハードコート層に使用される無機粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム等が好ましく用いられる。   Inorganic particles used for the hard coat layer include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin And calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, magnesium oxide and the like are preferably used.

また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物を加えることができる。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子(例えば、綜研化学製SX−130H、SX−200H、SX−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(例えば、綜研化学製MX150、MX300)、フッ素含有アクリル樹脂微粒子が挙げられる。フッ素含有アクリル樹脂微粒子としては、例えば日本ペイント製:FS−701等の市販品が挙げられる。また、アクリル粒子として、例えば日本ペイント製:S−4000、アクリル−スチレン粒子として、例えば日本ペイント製:S−1200、MG−251等が挙げられる。   Organic particles include polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder. An ultraviolet curable resin composition such as polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluoroethylene resin powder can be added. Particularly preferred are cross-linked polystyrene particles (for example, SX-130H, SX-200H, SX-350H, manufactured by Soken Chemical), polymethyl methacrylate-based particles (for example, MX150, MX300, manufactured by Soken Chemical), and fluorine-containing acrylic resin fine particles. . Examples of the fluorine-containing acrylic resin fine particles include commercial products such as FS-701 manufactured by Nippon Paint. Examples of the acrylic particles include Nippon Paint: S-4000, and examples of the acrylic-styrene particles include Nippon Paint: S-1200, MG-251.

これらの微粒子粉末の平均粒径としては、0.01〜5μmが好ましく0.1〜5.0μm、更に、0.1〜4.0μmであることが特に好ましい。また、粒径の異なる2種以上の微粒子を含有することが好ましい。硬化性樹脂組成物と微粒子の割合は、硬化性樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜30質量部となるように配合することが望ましい。   The average particle diameter of these fine particle powders is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.1 to 5.0 μm, and particularly preferably 0.1 to 4.0 μm. Moreover, it is preferable to contain 2 or more types of microparticles | fine-particles from which a particle size differs. The ratio of the curable resin composition and the fine particles is desirably blended so as to be 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin composition.

ハードコート層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、4,4′−チオビス(6−tert−3−メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)メシチレン、ジ−オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。   In order to increase the heat resistance of the hard coat layer, an antioxidant that does not inhibit the photocuring reaction can be selected and used. Examples include hindered phenol derivatives, thiopropionic acid derivatives, phosphite derivatives, and the like. Specifically, for example, 4,4′-thiobis (6-tert-3-methylphenol), 4,4′-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) mesitylene, di-octadecyl-4- Examples thereof include hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl phosphate.

ハードコート層形成組成物には、溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   The hard coat layer forming composition may contain a solvent, or may be appropriately contained and diluted as necessary. Examples of the organic solvent contained in the coating solution include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), It can be appropriately selected from esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents, or a mixture thereof can be used. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

ハードコート層は、JIS B 0601で規定される中心線平均粗さ(Ra)が0.001〜0.1μmのクリアハードコート層、または微粒子等を添加しRaが0.1〜1μmに調整された防眩性ハードコート層であってもよい。中心線平均粗さ(Ra)は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばWYKO社製非接触表面微細形状計測装置WYKO NT−2000を用いて測定することができる。   The hard coat layer has a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 0.001 to 0.1 μm, or a fine hard coat layer and Ra is adjusted to 0.1 to 1 μm. An antiglare hard coat layer may also be used. The center line average roughness (Ra) is preferably measured by an optical interference type surface roughness measuring instrument, and can be measured, for example, using a non-contact surface fine shape measuring device WYKO NT-2000 manufactured by WYKO.

また、防眩性ハードコート層では、ハードコート表面にロールや原盤でエンボスにて凹凸形状を形成してもよい。   Further, in the antiglare hard coat layer, an uneven shape may be formed on the hard coat surface by embossing with a roll or a master.

ハードコート層は前記フッ素系化合物やシリコーン化合物を含有してもよい。また、以下に示す界面活性剤を含有してもよい。具体的には、花王株式会社製:エマルゲン102KG(6.3)、エマルゲン103(8.1)、エマルゲン104P(9.6)、エマルゲン105(9.7)、エマルゲン106(10.5)、エマルゲン108(12.1)、エマルゲン109P(13.6)、エマルゲン120(15.3)、エマルゲン123P(16.9)、エマルゲン147(16.3)、エマルゲン210P(10.7)、エマルゲン220(14.2)、エマルゲン306P(9.4)、エマルゲン320P(13.9)、エマルゲン404(8.8)、エマルゲン408(10.0)、エマルゲン409PV(12.0)、エマルゲン420(13.6)、エマルゲン430(16.2)、エマルゲン705(10.5)、エマルゲン707(12.1)、エマルゲン709(13.3)、エマルゲン1108(13.5)、エマルゲン1118S−70(16.4)、エマルゲン1135S−70(17.9)、エマルゲン2020G−HA(13.0)、エマルゲン2025G(15.7)、エマルゲンLS−106(12.5)、エマルゲンLS−110(13.4)、エマルゲンLS−114(14.0)、エマルゲンMS−110(12.7)、エマルゲンA−60(12.8)、エマルゲンA−90(14.5)、エマルゲンA−500(18.0)、エマルゲンB−66(13.2)、ラテムルPD−420(12.6)、ラテムルPD−430(14.4)、ラテムルPD−430S(14.4)、ラテムルPD−450(16.2)、レオドールSP−L10(8.6)、レオドールSP−P10(6.7)、レオドールSP−S10V(4.7)、レオドールSP−S20(4.4)、レオドールSP−O10V(4.3)、レオドールスーパーSP−L10(8.6)、レオドールAS10V(4.7)、レオドールAO−10V(4.3)、レオドールAO−15V(3.7)、エマゾールL−10V(8.6)、エマゾールP−10V(6.7)、エマゾールS−10V(4.7)、エマゾールO−10V(4.3)、レオドールTW−L120(16.7)、レオドールTW−L106(13.3)、レオドールTW−P120(15.6)、レオドールTW−S120V(14.9)、レオドールTW−S106V(9.6)、レオドールTW−S320V(10.5)、レオドールTW−O120V(15.0)、レオドールTW−O106V(10.0)、レオドールTW−O320V(11.0)、レオドールスーパーTW−L120(16.7)、レオドール430V(10.5)、レオドール440V(11.8)、レオドール460V(13.8)、レオドールMS−60(3.5)、レオドールMS−165V(11.0)、エキセルT−95(3.8)、エキセルVS−95(3.8)、エキセルO−95R(3.5)、エキセル200(3.5)、エキセル122V(3.5)、エマノーン1112(13.7)、エマノーン4110(11.6)、エマノーンCH−25(10.7)、エマノーンCH−40(12.5)、エマノーンCH−60(K)(14.0)、エマノーンCH−80(15.0)、アミート102(6.3)、アミート105(9.8)、アミート105A(10.8)、アミート302(5.1)、アミート320(15.4)、アミノーンPK−02S(5.5)、アミノーンL−02(5.8)、日信化学工業株式会社製:サーフィノール104E(4)、サーフィノール104H(4)、サーフィノール104A(4)、サーフィノール104BC(4)、サーフィノール104DPM(4)、サーフィノール104PA(4)、サーフィノール104PG−50(4)、サーフィノール104S(4)、サーフィノール420(4)、サーフィノール440(8)、サーフィノール465(13)、サーフィノール485(17)、サーフィノールSE(6)、サーフィノールSE−F(6)、サーフィノール61(6)、サーフィノール604(8)、サーフィノール2502(8)、サーフィノール82(4)、サーフィノールDF110D(3)、サーフィノールCT111(8〜11)、サーフィノールCT121(11〜15)、サーフィノールCT136(13)、サーフィノールTG(9)、サーフィノールGA(13)、オルフィンSTG(9〜10)、オルフィンE1004(7〜9)、オルフィンE1010(13〜14)、信越化学工業株式会社製:X−22−4272(7)、X−22−6266(8)、KF−351(12)、KF−352(7)、KF−353(10)、KF−354L(16)、KF−355A(12)、KF−615A(10)、KF−945(4)、KF−618(11)、KF−6011(12)、KF−6015(4)、KF−6004(5)等が挙げられる。( )内はHLB値を示す。HLB値とは、Hydrophile−Lipophile−Balance、親水性−親油性−バランスのことであり、化合物の親水性又は親油性の大きさを示す値である。HLB値が小さいほど親油性が高く、値が大きいほど親水性が高くなる。   The hard coat layer may contain the fluorine compound or the silicone compound. Moreover, you may contain the surfactant shown below. Specifically, Kao Corporation make: Emulgen 102KG (6.3), Emulgen 103 (8.1), Emulgen 104P (9.6), Emulgen 105 (9.7), Emulgen 106 (10.5), Emulgen 108 (12.1), Emulgen 109P (13.6), Emulgen 120 (15.3), Emulgen 123P (16.9), Emulgen 147 (16.3), Emulgen 210P (10.7), Emulgen 220 (14.2), Emulgen 306P (9.4), Emulgen 320P (13.9), Emulgen 404 (8.8), Emulgen 408 (10.0), Emulgen 409PV (12.0), Emulgen 420 (13 .6), Emulgen 430 (16.2), Emulgen 705 (10.5), Emulgen 707 (12.1), Margen 709 (13.3), Emulgen 1108 (13.5), Emulgen 1118S-70 (16.4), Emulgen 1135S-70 (17.9), Emulgen 2020G-HA (13.0), Emulgen 2025G (15 .7), Emulgen LS-106 (12.5), Emulgen LS-110 (13.4), Emulgen LS-114 (14.0), Emulgen MS-110 (12.7), Emulgen A-60 (12) .8), Emulgen A-90 (14.5), Emulgen A-500 (18.0), Emulgen B-66 (13.2), Latemul PD-420 (12.6), Latemulu PD-430 (14 .4), Latemul PD-430S (14.4), Latemul PD-450 (16.2), Rheodor SP-L10 (8.6), Leo SP-P10 (6.7), Rhedol SP-S10V (4.7), Rhedol SP-S20 (4.4), Rhedol SP-O10V (4.3), Rhedol Super SP-L10 (8. 6), Rheodor AS10V (4.7), Rheodor AO-10V (4.3), Rhedol AO-15V (3.7), Emazole L-10V (8.6), Emazole P-10V (6.7) , Emazole S-10V (4.7), Emazole O-10V (4.3), Rhedol TW-L120 (16.7), Rhedol TW-L106 (13.3), Rhedol TW-P120 (15.6) , Rhedol TW-S120V (14.9), Rheodor TW-S106V (9.6), Rhedol TW-S320V (10.5), Rhedol TW-O120V (1 5.0), Rheodor TW-O106V (10.0), Rheodor TW-O320V (11.0), Rheodor Super TW-L120 (16.7), Rheodor 430V (10.5), Rheodor 440V (11. 8), Rhedol 460V (13.8), Rhedol MS-60 (3.5), Rhedol MS-165V (11.0), Excel T-95 (3.8), Excel VS-95 (3.8) , Excel O-95R (3.5), Excel 200 (3.5), Excel 122V (3.5), Emanon 1112 (13.7), Emanon 4110 (11.6), Emanon CH-25 (10. 7), Emanon CH-40 (12.5), Emanon CH-60 (K) (14.0), Emanon CH-80 (15.0), Amite 102 ( .3), Amit 105 (9.8), Amit 105A (10.8), Amit 302 (5.1), Amit 320 (15.4), Aminone PK-02S (5.5), Aminone L-02 (5.8), manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd .: Surfinol 104E (4), Surfinol 104H (4), Surfinol 104A (4), Surfinol 104BC (4), Surfinol 104DPM (4), Surfy Nord 104PA (4), Surfinol 104PG-50 (4), Surfinol 104S (4), Surfinol 420 (4), Surfinol 440 (8), Surfinol 465 (13), Surfinol 485 (17), Surfinol SE (6), Surfinol SE-F (6), Surfinol 61 (6), Sir Inol 604 (8), Surfinol 2502 (8), Surfinol 82 (4), Surfinol DF110D (3), Surfinol CT111 (8-11), Surfinol CT121 (11-15), Surfinol CT136 (13 ), Surfinol TG (9), Surfinol GA (13), Orphine STG (9-10), Orphin E1004 (7-9), Orphin E1010 (13-14), Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: X-22 -4272 (7), X-22-6266 (8), KF-351 (12), KF-352 (7), KF-353 (10), KF-354L (16), KF-355A (12), KF-615A (10), KF-945 (4), KF-618 (11), KF-6011 (12), KF-601 5 (4), KF-6004 (5), and the like. Figures in parentheses indicate HLB values. The HLB value is Hydrophile-Lipophile-Balance, hydrophilic-lipophilic-balance, and is a value indicating the hydrophilicity or lipophilicity of a compound. The smaller the HLB value, the higher the lipophilicity, and the higher the value, the higher the hydrophilicity.

前記フッ素系化合物、シリコーン化合物及び界面活性剤は、前記活性エネルギー線硬化性樹脂との含有質量比率をフッ素系化合物、シリコーン化合物及び界面活性剤:活性エネルギー線硬化樹脂=0.05:100〜5.00:100で用いることがハードコート層形成組成物中及びハードコート層で安定して存在する。   The fluorine compound, silicone compound and surfactant have a mass ratio of the fluorine compound, silicone compound and surfactant: active energy ray curable resin = 0.05: 100 to 5 with respect to the active energy ray curable resin. It is stably used in the hard coat layer forming composition and in the hard coat layer.

ハードコート層には更に、硬化助剤としてポリウレタン樹脂の側鎖にビニル基とカルボキシル基を有し、重量平均分子量が10000以上30000以下であり、且つ、二重結合当量が500以上2000以下であるポリマーやポリマーの側鎖にビニル基を有し、重量平均分子量(Mw)が10000以上100000以下であり、二重結合当量が1000以下、ポリマーTgが−50℃以上120℃以下であるアクリルポリマー、他官能チオール化合物等を含有させてもよい。他官能チオール化合物としては例えば1,4−ビス(3−メルカプトブチリルオキシ)ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)、1,3,5−トリス(3−メルカブトブチルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン等が挙げられる。市販品としては昭和電工社製、商品名カレンズMTシリーズ等が挙げられる。   The hard coat layer further has a vinyl group and a carboxyl group in the side chain of the polyurethane resin as a curing aid, has a weight average molecular weight of 10,000 to 30,000, and a double bond equivalent of 500 to 2,000. An acrylic polymer having a vinyl group in a polymer or a side chain of the polymer, having a weight average molecular weight (Mw) of 10,000 or more and 100,000 or less, a double bond equivalent of 1,000 or less, and a polymer Tg of −50 ° C. or more and 120 ° C. or less, Other functional thiol compounds may be included. Examples of other functional thiol compounds include 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl)- 1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione and the like. Commercially available products include Showa Denko Co., Ltd., trade name Karenz MT series, and the like.

また、フッ素−アクリル共重合体樹脂を含有してもよい。フッ素−アクリル共重合体樹脂とは、フッ素単量体とアクリル単量体とからなる共重合体樹脂で、特にフッ素単量体セグメントとアクリル単量体セグメントとから成るブロック共重合体が好ましい。フッ素−アクリル共重合体樹脂の分子量は、数平均分子量で5000〜1000000がよく、好ましくは10000〜300000、更に好ましくは10000〜100000である。フッ素−アクリル共重合体樹脂の製造は、ポリメリックペルオキシドを重合開始剤とした。公知の製造プロセス(例えば特公平5−41668号公報、特公平5−59942号公報)により製造できる。ポリメリックペルオキシドとは1分子中に2個以上のペルオキシ結合を持つ化合物である。ポリメリックペルオキシドとしては、特公平5−59942号公報に記載されている各種ポリメリックペルオキシドの一種または二種以上を使用することができる。フッ素−アクリル共重合体樹脂の市販品としては、日本油脂株式会社の商品名、モディパーF−200、モディパーF−600、モディパーF−2020等が挙げられる。   Moreover, you may contain a fluorine-acrylic copolymer resin. The fluorine-acrylic copolymer resin is a copolymer resin composed of a fluorine monomer and an acrylic monomer, and a block copolymer composed of a fluorine monomer segment and an acrylic monomer segment is particularly preferable. The molecular weight of the fluorine-acrylic copolymer resin may be 5,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 300,000, and more preferably 10,000 to 100,000 in terms of number average molecular weight. In the production of the fluorine-acrylic copolymer resin, polymeric peroxide was used as a polymerization initiator. It can be produced by a known production process (for example, Japanese Patent Publication No. 5-41668 and Japanese Patent Publication No. 5-59942). Polymeric peroxide is a compound having two or more peroxy bonds in one molecule. As the polymer peroxide, one or more of various polymer peroxides described in JP-B-5-59942 can be used. As a commercial item of fluorine-acrylic copolymer resin, the brand name of Nippon Oil & Fat Co., Ltd. Modiper F-200, Modiper F-600, Modiper F-2020, etc. are mentioned.

また、ハードコート層の屈折率は23℃、波長550nm測定で、屈折率を1.4〜2.2の範囲に調整することが好ましい。屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子等を添加することで達成できる。金属酸化また、用いる金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60であるものが好ましく、1.85〜2.50であるものが更に好ましい。   Moreover, it is preferable that the refractive index of a hard-coat layer is adjusted to the range of 1.4-2.2 by 23 degreeC and wavelength 550nm measurement. The means for adjusting the refractive index can be achieved by adding metal oxide fine particles and the like. Metal oxide The metal oxide fine particles used preferably have a refractive index of 1.80 to 2.60, more preferably 1.85 to 2.50.

金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はAl、In、Sn、Sb、Nb、ハロゲン元素、Taなどの微量の原子をドープしてあってもよい。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。   The kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S A metal oxide having at least one element selected from the group consisting of Al, In, Sn, Sb, Nb, a halogen element, Ta and the like is doped with a minute amount of atoms. May be. A mixture of these may also be used. In the present invention, at least one metal oxide fine particle selected from among zirconium oxide, antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and zinc antimonate is used. It is particularly preferable to use it as the main component. In particular, it is preferable to contain zinc antimonate particles.

これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は10nm〜200nmの範囲であり、10〜150nmであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡(SEM)等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘーズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。   The average particle diameter of the primary particles of these metal oxide fine particles is in the range of 10 nm to 200 nm, particularly preferably 10 to 150 nm. The average particle diameter of the metal oxide fine particles can be measured from an electron micrograph taken with a scanning electron microscope (SEM) or the like. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc. If the particle size is too small, aggregation tends to occur and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze is remarkably increased, which is not preferable. The shape of the metal oxide fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a needle shape, or an indefinite shape.

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して0.1質量%〜5質量%、より好ましくは0.5質量%〜3質量%である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。   The metal oxide fine particles may be surface-treated with an organic compound. By modifying the surface of the metal oxide fine particles with an organic compound, the dispersion stability in an organic solvent is improved, the dispersion particle size can be easily controlled, and aggregation and sedimentation over time can be suppressed. . For this reason, the surface modification amount with a preferable organic compound is 0.1 mass%-5 mass% with respect to metal oxide particle, More preferably, it is 0.5 mass%-3 mass%. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, silane coupling agents are preferred. Two or more kinds of surface treatments may be combined.

ハードコート層はπ共役系導電性ポリマーを含有してもよい。π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。   The hard coat layer may contain a π-conjugated conductive polymer. The π-conjugated conductive polymer can be used as long as it is an organic polymer having a main chain composed of a π-conjugated system. Examples thereof include polythiophenes, polypyrroles, polyanilines, polyphenylenes, polyacetylenes, polyphenylene vinylenes, polyacenes, polythiophene vinylenes, and copolymers thereof. From the viewpoint of ease of polymerization and stability, polythiophenes, polyanilines, and polyacetylenes are preferable.

π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性が得られるが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。   The π-conjugated conductive polymer can provide sufficient conductivity and solubility in a binder resin even if it is not substituted, but in order to further improve conductivity and solubility, an alkyl group, a carboxy group, a sulfo group, an alkoxy group. A functional group such as a group, a hydroxy group, or a cyano group may be introduced.

また、イオン性化合物を含有してもよい。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンとBF 、PF 等の無機イオン系、CFSO 、(CFSO、CFCO 等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。また、イオン性化合物としては、特公昭49−23828号、同49−23827号、同47−28937号にみられるようなアニオン性高分子化合物、特公昭55−734号、特開昭50−54672号、特公昭59−14735号、同57−18175号、同57−18176号、同57−56059号などにみられるような、主鎖中に解離基を持つアイオネン型ポリマー、特公昭53−13223号、同57−15376号、特公昭53−45231号、同55−145783号、同55−65950号、同55−67746号、同57−11342号、同57−19735号、特公昭58−56858号、特開昭61−27853号、同62−9346号にみられるような、側鎖中にカチオン性解離基を持つカチオン性ペンダント型ポリマー等を挙げることができる。また、特開平9−203810号に記載されているアイオネン導電性ポリマー或いは分子間架橋を有する第4級アンモニウムカチオン導電性ポリマー(例えば、以下に示すP−1)などを含有することも望ましい。上記したポリマー化合物は、一般に約0.05μm〜0.5μmの粒子サイズ範囲にあり、好ましくは0.05μm〜0.2μmの範囲の粒子サイズである。該ポリマーとバインダーの比率はポリマー100質量部に対して、バインダーが10〜400質量部が基材フィルムとの密着性の点で好ましく、特に好ましくは、ポリマー100質量部に対して、バインダーが100〜200質量部である。 Moreover, you may contain an ionic compound. The ionic compounds, imidazolium, pyridinium-based, alicyclic amine-based, aliphatic amine, cations and BF 4 aliphatic phosphonium -, PF 6 - inorganic ion system such, CF 3 SO 2 - , (CF 3 SO 2 ) 2 N , CF 3 CO 2 —, etc. Examples of the ionic compound include anionic polymer compounds such as those described in JP-B-49-23828, JP-A-49-23827, and JP-A-47-28937, JP-B-55-734, and JP-A-50-54672. Ionene type polymer having a dissociating group in the main chain, as shown in JP-B-59-14735, JP-B-57-18175, JP-B-57-18176, 57-56059, etc. No. 57-15376, No. 53-45231, No. 55-145783, No. 55-65950, No. 55-67746, No. 57-11342, No. 57-19735, No. 58-56858. No., JP-A 61-27853, 62-9346, and a cationic pendant type having a cationic dissociation group in the side chain And the like can be given Rimmer. It is also desirable to contain an ionene conductive polymer described in JP-A-9-203810 or a quaternary ammonium cation conductive polymer having intermolecular crosslinking (for example, P-1 shown below). The polymer compounds described above are generally in the particle size range of about 0.05 μm to 0.5 μm, preferably in the range of 0.05 μm to 0.2 μm. The ratio of the polymer to the binder is preferably 10 to 400 parts by mass of the binder with respect to 100 parts by mass of the polymer, particularly preferably 100 parts by mass of the binder with respect to 100 parts by mass of the polymer. -200 parts by mass.

Figure 2009288413
Figure 2009288413

その他、種々の表示素子に対する色補正用フィルターとして色調調整機能を有する色調調整剤(染料もしくは顔料等)、電磁波遮断剤または赤外線吸収剤等を含有させてもよい。   In addition, as a color correction filter for various display elements, a color tone adjusting agent (dye or pigment) having a color tone adjusting function, an electromagnetic wave blocking agent, an infrared absorbing agent, or the like may be included.

ハードコート層塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、またはスプレー塗布、インクジェット塗布等を挙げることができる。   Examples of the coating method of the hard coat layer coating liquid include a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, spray coating, and inkjet coating.

前記塗布方法を用いて基材フィルムの一方の面にウェット膜厚0.1〜100μmで塗布することが好ましい。   It is preferable to apply a wet film thickness of 0.1 to 100 μm on one surface of the base film using the coating method.

本発明では、高硬度とカール抑制が良好に発揮される点から、ハードコート層の膜厚(ドライ膜厚)は10μm以上、好ましくは10μm以上、40μm以下であり、更に好ましくは12μm以上、20μm以下である。   In the present invention, the film thickness (dry film thickness) of the hard coat layer is not less than 10 μm, preferably not less than 10 μm and not more than 40 μm, more preferably not less than 12 μm and not more than 20 μm, because high hardness and curl suppression are satisfactorily exhibited. It is as follows.

高い硬度は、LCD等の表示装置の表面における使用や偏光板化工程において傷が付きにくいことからも望まれおり、本発明における高硬度条件としては、硬度の指標で有る鉛筆硬度が、好ましくは3H以上であり、より好ましくは4H以上である。   High hardness is also desired from the use on the surface of a display device such as an LCD, and because it is difficult to be scratched in the polarizing plate forming step, and as a high hardness condition in the present invention, a pencil hardness which is an index of hardness is preferably 3H or more, more preferably 4H or more.

鉛筆硬度は、作製したハードコートフィルムを温度23℃、相対湿度55%の条件で2時間以上調湿した後、JIS S 6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS K 5400が規定する鉛筆硬度評価方法に従い測定した値である。   For the pencil hardness, the prepared hard coat film is conditioned at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% for 2 hours or more, and then using a test pencil specified by JIS S 6006, the pencil hardness specified by JIS K 5400. It is the value measured according to the evaluation method.

本発明のハードコート層は上記した方法での塗布後、加熱乾燥し、必要に応じて硬化して形成してもよい。硬化工程は、加熱処理或いはUV硬化処理によって行われるのが好ましい。UV硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常5〜1000mJ/cm、好ましくは50〜500mJ/cmである。また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜500N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または2軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性優れたフィルムを得ることができる。ハードコート層は1層でも2層以上の多層構造でもよい。 The hard coat layer of the present invention may be formed by heating and drying after application by the above-described method, and curing as necessary. The curing step is preferably performed by heat treatment or UV curing treatment. As a light source for UV curing treatment, any light source that generates ultraviolet rays can be used without limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 5 to 1000 mJ / cm 2 , preferably 50 to 500 mJ / cm 2 . Moreover, when irradiating actinic radiation, it is preferable to carry out while applying tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performing applying tension | tensile_strength also in the width direction. The tension to be applied is preferably 30 to 500 N / m. The method for applying tension is not particularly limited, and tension may be applied in the conveying direction on the back roll, or tension may be applied in the width direction or biaxial direction by a tenter. This makes it possible to obtain a film with further excellent flatness. The hard coat layer may be a single layer or a multilayer structure of two or more layers.

加熱処理は40℃以上、更に好ましくは60℃以上である。また、上限温度としては基材フィルムの特性等から適宜設定される。   The heat treatment is 40 ° C. or higher, more preferably 60 ° C. or higher. Further, the upper limit temperature is appropriately set from the characteristics of the base film.

加熱処理する際に、フィルムの搬送方向または幅手方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、付与する張力は50〜500N/mが好ましく、更に好ましくは、250〜500N/mである。   The heat treatment is preferably performed while applying a tension in the film transport direction or the width direction, and the applied tension is preferably 50 to 500 N / m, and more preferably 250 to 500 N / m.

幅手張力付与方法は特に限定されず、フリースパン、バックロール上などでしてもよい。また、幅手方向に幅規制装置を用いて張力を付与する方法も効果があり、好ましくは3.0%以下での延伸、更に好ましくは0.05%〜1.0%延伸することで効果がより発揮される。これによってブロッキング耐性に優れたフィルムを得ることができる。   The width tension applying method is not particularly limited, and may be a free span, a back roll or the like. In addition, a method of applying tension using a width regulating device in the width direction is also effective, preferably stretching by 3.0% or less, more preferably by stretching by 0.05% to 1.0%. Is more effective. Thereby, a film excellent in blocking resistance can be obtained.

ハードコート層は以下の表面処理を行って良い。表面処理方法の方法としては、洗浄法、アルカリ鹸化処理法、プラズマ処理法、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられる。   The hard coat layer may be subjected to the following surface treatment. Examples of the surface treatment method include a cleaning method, an alkali saponification treatment method, a plasma treatment method, an electron beam method, an ion beam method, a sputtering method, an acid treatment, a corona treatment method, and an atmospheric pressure glow discharge plasma method.

アルカリ鹸化処理方法としては、フィルムをアルカリ溶液に浸潰した後、水洗して乾燥するサイクルで行われるのが、一般的である。また、アルカリ処理後、酸性水工程で中和してから、水洗、及び乾燥を行ってもよい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液があげられ、水酸化イオンの規定濃度は0.1〜3Nであることが好ましく、0.5N〜2Nであることが更に好ましい。前記範囲とすることで優れたハードコート層と低屈折率層との接着性が得られる。アルカリ溶液の温度は、アルカリ溶液の析出性等の点から、25〜90℃の範囲が好ましく、40〜70℃が更に好ましい。アルカリ処理時間は5秒〜5分、好ましくは30秒〜3分である。   The alkali saponification treatment is generally carried out in a cycle in which the film is immersed in an alkali solution, washed with water and dried. Further, after the alkali treatment, neutralization in an acidic water step may be performed, followed by washing with water and drying. Examples of the alkaline solution include a potassium hydroxide solution and a sodium hydroxide solution, and the prescribed concentration of hydroxide ions is preferably 0.1 to 3N, and more preferably 0.5N to 2N. Adhesiveness between the hard coat layer and the low refractive index layer can be obtained by setting the content in the above range. The temperature of the alkaline solution is preferably in the range of 25 to 90 ° C., more preferably 40 to 70 ° C., from the viewpoint of precipitation of the alkaline solution. The alkali treatment time is 5 seconds to 5 minutes, preferably 30 seconds to 3 minutes.

また、アルカリ鹸化処理は、ハードコート層面にアルカリ溶液を塗布する方式でもよく、例えば特開2003−313326号公報、特開2007−332253号公報に記載の方法を用いてもよい。   The alkali saponification treatment may be performed by applying an alkali solution to the hard coat layer surface, and for example, the methods described in JP-A Nos. 2003-313326 and 2007-332253 may be used.

プラズマ処理としては、フレームプラズマ処理、大気圧プラズマ処理、常圧プラズマ処理等が挙げられる。   Examples of the plasma treatment include flame plasma treatment, atmospheric pressure plasma treatment, and atmospheric pressure plasma treatment.

また、プラズマ処理としては、特開2004−352777号公報、特開2004−352777号公報、特開2007−314707号公報等に開示されているプラズマ処理技術も参考にすることができる。   As plasma treatment, plasma treatment techniques disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2004-352777, 2004-352777, 2007-314707, and the like can also be referred to.

また、表面処理後のハードコート層表面の純水接触角は、60°以下が、例えば低屈折率層をハードコート層上に設けた場合、とハードコート層との密着性が向上する点から好ましい。接触角はJIS K 2396に基づいて測定を行うことができる。   Moreover, the pure water contact angle of the hard coat layer surface after the surface treatment is 60 ° or less, for example, when a low refractive index layer is provided on the hard coat layer, the adhesion between the hard coat layer and the hard coat layer is improved. preferable. The contact angle can be measured based on JIS K 2396.

<反射防止フィルム>
本発明に係るハードコートフィルムは、ハードコート層上に直接又は他の層を介して低屈折率層が積層され反射防止フィルムとすることも、画像表示装置に組み込んだ場合の視認性を高めるために好ましい態様である。
<Antireflection film>
In the hard coat film according to the present invention, a low refractive index layer is laminated on the hard coat layer directly or via another layer to form an antireflection film, in order to increase the visibility when incorporated in an image display device. This is a preferred embodiment.

(低屈折率層)
低屈折率層とは、フィルム基材の屈折率よりも低い層をいう。具体的な屈折率としては、23℃、波長550nmで1.20〜1.45の範囲のものが好ましい。また、低屈折率層の膜厚は、光学干渉層としての特性から、5nm〜0.5μmが好ましく、10nm〜0.3μmがより好ましく、30nm〜0.2μmであることが更に好ましい。
(Low refractive index layer)
A low refractive index layer means a layer lower than the refractive index of a film base material. A specific refractive index is preferably in the range of 1.20 to 1.45 at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. Further, the film thickness of the low refractive index layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and further preferably 30 nm to 0.2 μm, from the characteristics as an optical interference layer.

低屈折率層は、有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂、フルオロアクリレート、含フッ素ポリマー等から形成される。フッ素ポリマーとしては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。これらの中で好ましくは、炭素数が1〜4の有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物であり、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン等もしくはこれらの加水分解物或いは重縮合物が挙げられる。   The low refractive index layer is composed of an organic silicon compound or a hydrolyzate thereof or a polycondensate thereof, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin, It is formed from fluoroacrylate, fluorine-containing polymer or the like. Examples of the fluoropolymer include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, perfluorooctylethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) (meta ) A part of acrylic acid or a fully fluorinated alkyl ester derivative (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemical) or M-2020 (manufactured by Daikin)), a fully or partially fluorinated vinyl ether or the like. Among these, an organic silicon compound having 1 to 4 carbon atoms, a hydrolyzate thereof, or a polycondensate thereof, specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, etc., or these A hydrolyzate or a polycondensate is mentioned.

低屈折率層には、フッ化マグネシウム、または外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ系粒子よりなる群の中から選ばれた少なくとも1種の無機粒子を含有することが好ましい。   The low refractive index layer contains magnesium fluoride or at least one inorganic particle selected from the group consisting of hollow silica-based particles having an outer shell layer and porous or hollow inside. Is preferred.

フッ化マグネシウムとしては、例えば日産化学工業社のイソプロパノール分散フッ化マグネシウムゾルや、シーアイ化成社のナノテックシリーズ等が挙げられる。   Examples of magnesium fluoride include isopropanol-dispersed magnesium fluoride sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Nanotech series manufactured by CI Kasei.

外殻層を有しかつ内部が多孔質または空洞である中空シリカ系粒子の具体例としては、(1)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層からなる複合粒子、または(2)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。   Specific examples of hollow silica-based particles having an outer shell layer and having a porous or hollow interior include (1) composite particles comprising porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, or ( 2) Cavity particles having a cavity inside and filled with a solvent, gas or porous substance.

空洞粒子は、内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質等の内容物で充填されている。このような中空シリカ系粒子の平均粒径は5〜200nm、好ましくは10〜70nmが望ましい。中空シリカ系粒子の粒径は変動係数が1〜40%の単分散であることが好ましい。   A hollow particle is a particle having a cavity inside, and the cavity is surrounded by a particle wall. The cavity is filled with contents such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. The average particle size of such hollow silica-based particles is 5 to 200 nm, preferably 10 to 70 nm. The particle size of the hollow silica particles is preferably monodispersed with a coefficient of variation of 1 to 40%.

本発明で用いられる中空シリカ系粒子の平均粒径は、走査電子顕微鏡(SEM)等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。   The average particle diameter of the hollow silica particles used in the present invention can be measured from an electron micrograph taken with a scanning electron microscope (SEM) or the like. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc.

中空シリカ系粒子の平均粒径は、形成される低屈折率層の透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、透明被膜の膜厚の3/2〜1/10、好ましくは2/3〜1/10が望ましい。これらの中空シリカ系粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。   The average particle diameter of the hollow silica-based particles is appropriately selected according to the thickness of the transparent film of the low refractive index layer to be formed, and is 3/2 to 1/10, preferably 2/3, of the film thickness of the transparent film. 1/10 is desirable. These hollow silica particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer.

分散媒としては、水、アルコール(例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)、及びケトン(例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)、プロピレンモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好ましい。   As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), ketone alcohol (for example, diacetone alcohol), propylene monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate and the like are preferable. .

複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜40nm、好ましくは1〜20nm、更に好ましくは2〜15nmが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することができないことがあり、塗布液成分が容易に複合粒子の内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率化の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、塗布液成分が内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率化の効果が十分得られなくなることがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is 1 to 40 nm, preferably 1 to 20 nm, more preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, if the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and the coating liquid component can easily enter the composite particles to reduce the internal porosity. However, the effect of lowering the refractive index may not be obtained sufficiently. In addition, when the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the coating liquid component does not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of lowering the refractive index cannot be sufficiently obtained. Sometimes.

また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持できないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率化の効果が十分に現れないことがある。   In the case of hollow particles, when the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even when the thickness exceeds 20 nm, the effect of lowering the refractive index may not be sufficiently exhibited. is there.

複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。   The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica.

また、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的にはAl、B、TiO、ZrO、SnO、CeO、P、Sb、Sb、SbO、MoO、ZnO、WO等が挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF、NaF、NaAlF、MgF等からなるものが挙げられる。このうち特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。 Moreover, components other than silica may be contained, specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , sb 2 O 5, SbO 2, MoO 3, ZnO 2, WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Of these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly suitable.

シリカ以外の無機化合物としては、Al、B、TiO、ZrO、SnO、CeO、P、Sb、Sb、SbO、MoO、ZnO、WOとの1種または2種以上を挙げることができる。このような多孔質粒子では、シリカをSiOで表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOx)で表したときのモル比:MOx/SiOが、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。 Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , Sb 2 O 5 , SbO 2 and MoO 3. , ZnO 2 , WO 3 or one or more of them can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio when the silica is represented by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is represented by oxide (MOx): MOx / SiO 2 is 0.0001 to 1.0, preferably Is preferably in the range of 0.001 to 0.3.

多孔質粒子のモル比:MOx/SiOが、0.0001未満のものは、得ることが困難であり、得られたとしても細孔容積が小さく、屈折率の低い粒子が得られない。また多孔質粒子のモル比:MOx/SiOが1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が大きくなり、更に屈折率が低いものを得ることが難しいことがある。 A porous particle having a molar ratio of MOx / SiO 2 of less than 0.0001 is difficult to obtain, and even if obtained, a pore volume is small and particles having a low refractive index cannot be obtained. Further, when the molar ratio of the porous particles: MOx / SiO 2 exceeds 1.0, the ratio of silica decreases, so that the pore volume increases and it may be difficult to obtain a material having a lower refractive index.

このような多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. When the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained, and when the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the particles is lowered and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.

尚、このような多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることができる。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質等が挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒等が含まれていてもよい。   Incidentally, the pore volume of such porous particles can be determined by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous substance used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used when preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like.

また多孔質物質としては、多孔質粒子で例示した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   Moreover, what consists of the compound illustrated by the porous particle as a porous substance is mentioned. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

このような中空粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第1工程〜第3工程を実施するこれによって中空粒子を製造することができる。   As a method for producing such hollow particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is preferably employed. Specifically, when the composite particles are composed of silica and an inorganic compound other than silica, hollow particles can be produced by carrying out the following first to third steps.

(第1工程:多孔質粒子前駆体の調製)
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
(First step: Preparation of porous particle precursor)
In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a mixed aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is prepared in advance. According to the composite ratio of the target composite oxide, a porous particle precursor is prepared by gradually adding it to an alkaline aqueous solution having a pH of 10 or more while stirring.

シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム(水ガラス)やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩等の第4級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミン類を挙げることができる。尚、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第4級アンモニウム水酸化物、アミン化合物等を添加したアルカリ性溶液も含まれる。   As the silica raw material, alkali metal, ammonium or organic base silicate is used. Sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used as the alkali metal silicate. Examples of the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The ammonium silicate or the organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound or the like to a silicic acid solution.

また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物が用いられる。具体的には、Al、B、Ti、Zr、Sn、Ce、P、Sb、Mo、Zn、W等から選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩を挙げることができる。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。   In addition, alkali-soluble inorganic compounds are used as raw materials for inorganic compounds other than silica. Specifically, an oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc., an alkali metal salt or alkaline earth metal salt of the oxo acid, ammonium And salts and quaternary ammonium salts. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, zirconyl ammonium carbonate, potassium antimonate, potassium acid, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, cerium ammonium nitrate, and sodium phosphate are suitable.

これら水溶液の添加と同時に混合水溶液のpH値は変化するが、このpH値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類、及びその混合割合によって定まるpH値となる。このときの水溶液の添加速度には特に制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。   Although the pH value of the mixed aqueous solution changes simultaneously with the addition of these aqueous solutions, an operation for controlling the pH value within a predetermined range is not particularly required. The aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction | limiting in particular in the addition rate of the aqueous solution at this time. Further, in the production of composite oxide particles, a dispersion of seed particles can be used as a starting material.

当該シード粒子としては、特に制限はないが、SiO、Al、TiO、またはZrO等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることができる。更に上記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。 The seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used, and usually these sols are used. be able to. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion.

シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のpHを10以上に調整した後、該シード粒子分散液中に上記化合物の水溶液を、アルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のpH制御を行う必要はない。このようにしてシード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることができる。   When the seed particle dispersion is used, the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or more, and then an aqueous solution of the above compound is added to the alkaline aqueous solution while stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion. When seed particles are used in this way, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles with uniform particle sizes can be obtained.

上記したシリカ原料、及び無機化合物原料は、アルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいpH領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン、及びアルミン酸イオン等のオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して粒子に成長したり、またはシード粒子上に析出して粒子成長が起る。従って、粒子の析出、成長に際して、従来法のようなpH制御は必ずしも行う必要がない。   The silica raw material and the inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side. However, when both are mixed in this highly soluble pH region, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into particles, or seed particles. It grows on the top and particle growth occurs. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of particles.

第1工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物(MOx)に換算し、MOx/SiOのモル比が、0.05〜2.0、好ましくは0.2〜2.0の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が2.0を越えても、多孔質粒子の細孔の容積はほとんど増加しない。他方、モル比が0.05未満の場合は、細孔容積が小さくなる。 The composite ratio of silica and an inorganic compound other than silica in the first step is that the inorganic compound relative to silica is converted to oxide (MOx), and the molar ratio of MOx / SiO 2 is 0.05 to 2.0, preferably It is desirable to be within the range of 0.2 to 2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the silica proportion decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small.

空洞粒子を調製する場合、MOx/SiOのモル比は、0.25〜2.0の範囲内にあることが望ましい。 When preparing hollow particles, the molar ratio of MOx / SiO 2 is preferably in the range of 0.25 to 2.0.

(第2工程:多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去)
第2工程では、第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、または、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
(Second step: removal of inorganic compounds other than silica from porous particles)
In the second step, at least a part of inorganic compounds other than silica (elements other than silicon and oxygen) is selectively removed from the porous particle precursor obtained in the first step. As a specific removal method, the inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.

尚、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。このように多孔質粒子前駆体から無機化合物(珪素と酸素以外の元素)を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物(珪素と酸素以外の元素)を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することができる。   The porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded via oxygen. By removing the inorganic compound (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor in this way, porous particles having a larger porosity and a larger pore volume can be obtained. Further, if the amount of removing the inorganic oxide (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be prepared.

また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られる、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有するケイ酸液または加水分解性の有機珪素化合物を添加して、シリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは0.5〜40nm、好ましくは0.5〜15nmの厚さであればよい。尚、シリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり、厚さが薄いので、上記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。   In addition, prior to removing inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor, fluorine-substituted, obtained by dealkalizing an alkali metal salt of silica into the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. It is preferable to add a silicic acid solution containing an alkyl group-containing silane compound or a hydrolyzable organosilicon compound to form a silica protective film. The thickness of the silica protective film may be 0.5 to 40 nm, preferably 0.5 to 15 nm. Even if a silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so it is possible to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. is there.

このようなシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、上記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することができる。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく、後述するシリカ被覆層を形成することができる。尚、除去する無機化合物の量が少ない場合は、粒子が壊れることがないので、必ずしも保護膜を形成する必要はない。   By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Further, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. be able to. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, the particles are not broken, and thus it is not always necessary to form a protective film.

また、空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。   Further, when preparing hollow particles, it is desirable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor composed of a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid content. When a coating layer to be described later is formed on the body, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.

上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持できる範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多過ぎると、シリカ保護膜が厚くなり過ぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。   The amount of the silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor.

シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、下記の一般式(1)で表されるアルコキシシランを用いることができる。   As the hydrolyzable organosilicon compound used for forming the silica protective film, an alkoxysilane represented by the following general formula (1) can be used.

R”Si(OR’)4−m ・・・(1)
(式中、R”とR’は、アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、mは0、1、2または3を表す。)
特に、フッ素置換したテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシ
ランが好ましく用いられる。
R ″ m Si (OR ′) 4-m (1)
(In the formula, R ″ and R ′ represent a hydrocarbon group such as an alkyl group, an aryl group, a vinyl group, and an acrylic group, and m represents 0, 1, 2, or 3.)
In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane substituted with fluorine are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。   As a method of addition, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of porous particles, and then alkoxysilane, pure water, and alcohol are added. A solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of the above is added to a dispersion of porous particles, and a silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of inorganic oxide particles. .

このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。   At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。尚、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。   When the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or when the ratio of water to the organic solvent is high, a silica protective film can be formed using a silicic acid solution. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, you may produce a silica protective film together using a silicic acid liquid and the said alkoxysilane.

(第3工程:シリカ被覆層の形成)
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に、フッ素置換アルキル基含有シラン化合物を含有する加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
(3rd process: Formation of a silica coating layer)
In the third step, a hydrolyzable organosilicon compound or silica containing a fluorine-substituted alkyl group-containing silane compound is added to the porous particle dispersion (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor dispersion) prepared in the second step. By adding an acid solution or the like, the surface of the particles is coated with a hydrolyzable organosilicon compound or a polymer such as a silicic acid solution to form a silica coating layer.

尚、ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。   The silicic acid solution is an aqueous solution of a low silicic acid polymer obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.

被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆できる程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが1〜40nm、好ましくは1〜20nmとなるように量で、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中で添加される。またシリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが1〜40nm、好ましくは1〜20nmの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。   The addition amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer only needs to be sufficient to cover the surface of the colloidal particles, and the finally obtained silica coating layer has a thickness of 1 to 40 nm, Preferably, it is added in an amount of 1 to 20 nm in a dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor). When the silica protective film is formed, the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 40 nm, preferably 1 to 20 nm. The

次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。   Next, the dispersion liquid of the particles on which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained. In the case of a hollow particle precursor, the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.

このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞できる程度であれば特に制限はなく、80〜300℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が80℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化できないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が300℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率化の効果が得られないことがある。   The heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C. When the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time. Further, when the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, fine particles may be formed, and the effect of lowering the refractive index may not be obtained.

このようにして得られた中空シリカ系粒子の屈折率は、1.42未満と低い。このような中空シリカ系粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。   The refractive index of the hollow silica particles thus obtained is as low as less than 1.42. Such hollow silica-based particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow.

また、塗布組成物時の安定性から、中空シリカ系粒子としては、表面に炭化水素主鎖を有するポリマーが共有結合しているものが好ましい。   Further, from the viewpoint of stability at the time of the coating composition, the hollow silica-based particles are preferably those in which a polymer having a hydrocarbon main chain is covalently bonded to the surface.

次に、炭化水素主鎖を有するポリマーが共有結合している中空シリカ系粒子について説明する。   Next, hollow silica particles in which a polymer having a hydrocarbon main chain is covalently bonded will be described.

炭化水素主鎖を有するポリマーとは、直接共有結合、または中空シリカ系粒子の表面のシリカと炭化水素主鎖を有するポリマーとの間に結合剤を介在させ、シリカと結合剤とを共有結合し、結合剤とポリマーとが共有結合しているものも言う。結合剤としては、カップリング剤が好ましく用いられる。   The polymer having a hydrocarbon main chain is a direct covalent bond, or a binder is interposed between the silica on the surface of the hollow silica-based particle and the polymer having the hydrocarbon main chain, and the silica and the binder are covalently bonded. It also refers to those in which the binder and the polymer are covalently bonded. As the binder, a coupling agent is preferably used.

炭化水素主鎖を有するポリマーが共有結合している中空粒子は、(1)中空シリカ系粒子表面を未処理、もしくはカップリング剤などで処理した状態で、中空シリカ系粒子表面と共有結合を形成可能な官能基を有するポリマーを反応させ、中空シリカ系粒子表面にポリマーをグラフトさせる方法、或いは(2)中空シリカ系粒子表面を未処理、もしくはカップリング剤などで処理した状態で、中空シリカ系粒子表面から単量体を重合することでポリマー鎖を生長させ、表面グラフトさせる方法等により製造することができる。具体的な製造方法としては、特開2006−257308号公報に記載の方法を用いることができる。   Hollow particles to which a polymer having a hydrocarbon main chain is covalently bonded (1) Forms a covalent bond with the surface of the hollow silica particle in the state where the surface of the hollow silica particle is untreated or treated with a coupling agent or the like. A method in which a polymer having a functional group is reacted and the polymer is grafted on the surface of the hollow silica particle; or (2) the hollow silica system in a state where the surface of the hollow silica particle is untreated or treated with a coupling agent or the like. It can be produced by a method of polymerizing a monomer from the particle surface to grow a polymer chain and surface grafting. As a specific manufacturing method, the method described in JP-A-2006-257308 can be used.

上記製造方法では、表面修飾率向上の観点から、中空シリカ系粒子表面から単量体を重合することでポリマー鎖を生長させ、表面グラフトさせる方法が好ましい。重合開始能、もしくは連鎖移動能を有する官能基を含むカップリング剤で中空シリカ系粒子を表面処理し、そこから単量体を重合し、ポリマー鎖を生長させて表面グラフトさせる方法が更に好ましい。重合開始能もしくは連鎖移動能を有する官能基を、中空シリカ系粒子に導入するための表面処理剤(カップリング剤)としては、アルコキシ金属化合物(例えばチタンカップリング剤、アルコキシシラン化合物(シランカップリング剤))が好ましく用いられる。   In the above production method, from the viewpoint of improving the surface modification rate, a method of polymerizing a monomer from the surface of the hollow silica-based particle to grow a polymer chain and grafting the surface is preferable. More preferred is a method in which hollow silica-based particles are surface-treated with a coupling agent containing a functional group having a polymerization initiating ability or a chain transfer ability, monomers are polymerized therefrom, polymer chains are grown, and surface grafting is performed. As a surface treatment agent (coupling agent) for introducing a functional group having a polymerization initiating ability or a chain transfer ability into hollow silica particles, an alkoxy metal compound (for example, a titanium coupling agent, an alkoxysilane compound (silane coupling) Agent)) is preferably used.

中空シリカ系粒子は平均粒径の異なる2種以上の中空シリカ系粒子を含有していてもよい。   The hollow silica particles may contain two or more kinds of hollow silica particles having different average particle diameters.

更に中空シリカ系粒子の中では、導電性金属酸化物被覆層を有する中空シリカ系粒子が本発明の目的効果がより良く発揮される点で好ましい。導電性金属酸化物被覆層を形成する金属酸化物としては特に制限はないが、例えば、酸化スズ、アンチモンスズ酸化物、インジウムスズ酸化物、酸化アンチモン、アルミニウム亜鉛酸化物、ガリウム亜鉛酸化物及びこれらの混合物から選ばれるものが挙げられる。この中でも、酸化アンチモンにより被覆されている中空シリカ系粒子が特に好ましい。   Further, among the hollow silica-based particles, hollow silica-based particles having a conductive metal oxide coating layer are preferable in that the object and effects of the present invention are better exhibited. The metal oxide for forming the conductive metal oxide coating layer is not particularly limited. For example, tin oxide, antimony tin oxide, indium tin oxide, antimony oxide, aluminum zinc oxide, gallium zinc oxide, and these The thing chosen from the mixture of these is mentioned. Among these, hollow silica particles coated with antimony oxide are particularly preferable.

導電性金属酸化物被覆層の平均厚さとしては、1〜40nm、より好ましくは1〜20nmの範囲であり、中空シリカ系粒子を十分に被覆でき、得られる導電性金属酸化物被覆中空シリカ系粒子の導電性が十分となる点で、被覆層の厚さは1nm以上が好ましい。導電性の向上効果が十分で、導電性金属酸化物被覆中空シリカ系粒子の平均粒子径が小さい場合にも屈折率が十分である点で、被覆層の厚さは40nm以下が好ましい。   The average thickness of the conductive metal oxide coating layer is in the range of 1 to 40 nm, more preferably 1 to 20 nm, the hollow silica-based particles can be sufficiently coated, and the resulting conductive metal oxide-coated hollow silica system The thickness of the coating layer is preferably 1 nm or more in that the conductivity of the particles is sufficient. The thickness of the coating layer is preferably 40 nm or less in that the effect of improving the conductivity is sufficient and the refractive index is sufficient even when the average particle size of the conductive metal oxide-coated hollow silica-based particles is small.

導電性金属酸化物被覆層を有する中空シリカ系粒子の中でも特に好ましくは、酸化アンチモン被覆層を有する中空シリカ系粒子である。次に酸化アンチモン被覆層を有する中空シリカ系粒子について説明する。   Among the hollow silica particles having a conductive metal oxide coating layer, hollow silica particles having an antimony oxide coating layer are particularly preferable. Next, hollow silica-based particles having an antimony oxide coating layer will be described.

酸化アンチモンは、Sb、Sb、SbO等いずれでもよく、酸化アンチモン被覆層中には酸化スズなどを含有していてもよい。酸化アンチモン被覆層中のこれらの酸化アンチモンの合計含有率は10%以上が好ましい。また、酸化アンチモン被覆層は、更にシリカ等で被覆されていてもよい。 The antimony oxide may be any of Sb 2 O 3 , Sb 2 O 5 , SbO 2, etc., and the antimony oxide coating layer may contain tin oxide or the like. The total content of these antimony oxides in the antimony oxide coating layer is preferably 10% or more. The antimony oxide coating layer may be further coated with silica or the like.

酸化アンチモン被覆中空シリカ粒子の体積抵抗値は、10〜5000Ω/cmが好ましく、10〜2000Ω/cmの範囲にあることがより好ましい。体積抵抗値をこの範囲にすることで、粒子の屈折率を低く保ちつつ、低屈折率塗膜の表面抵抗を低下せしめることが可能となる。体積抵抗値は、核粒子の粒子サイズ、表面被覆金属酸化物層の膜厚、組成を調整することにより制御できる。   The volume resistance value of the antimony oxide-coated hollow silica particles is preferably 10 to 5000 Ω / cm, and more preferably 10 to 2000 Ω / cm. By setting the volume resistance value within this range, the surface resistance of the low refractive index coating film can be lowered while keeping the refractive index of the particles low. The volume resistance value can be controlled by adjusting the particle size of the core particles, the film thickness of the surface-coated metal oxide layer, and the composition.

体積抵抗値については、以下の方法で測定できる。   The volume resistance value can be measured by the following method.

内部に円柱状のくりぬき(断面積0.5cm)を有するセラミック製セルを用い、架台電極上にセルを置き、内部に試料粉体0.6gを充填し、円柱状突起を有する上部電極の突起を挿入し、油圧機にて上下電極を加圧し、100kg/cm加圧時の抵抗値(Ω)と試料の高さ(cm)を測定し、抵抗値に高さを乗することによって求めた。 Using a ceramic cell with a cylindrical hollow (cross-sectional area 0.5 cm 2 ) inside, place the cell on the gantry electrode, fill it with 0.6 g of sample powder, By inserting protrusions, pressurizing the upper and lower electrodes with a hydraulic machine, measuring the resistance value (Ω) and the sample height (cm) when 100 kg / cm 2 is applied, and multiplying the resistance value by the height Asked.

酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子の製造方法について説明する。   A method for producing antimony oxide-coated hollow silica particles will be described.

まず、多孔質シリカ系粒子、または内部に空洞を有するシリカ系粒子の分散液を前述の方法等により調製する。分散液の固形分濃度として0.1〜40質量%、更に0.5〜20質量%の範囲にあることが好ましい。固形分濃度が0.1質量%未満の場合は、生産効率が低く、固形分濃度が40質量%を超えると、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子が凝集することがあり、被膜の透明性が低下したり、ヘーズが悪化することがある。   First, a dispersion of porous silica-based particles or silica-based particles having cavities inside is prepared by the method described above. The solid content concentration of the dispersion is preferably in the range of 0.1 to 40% by mass, more preferably 0.5 to 20% by mass. When the solid content concentration is less than 0.1% by mass, the production efficiency is low, and when the solid content concentration exceeds 40% by mass, the resulting antimony oxide-coated hollow silica-based particles may agglomerate, and the transparency of the film May decrease or haze may deteriorate.

また、アンチモン酸の分散液(水溶液)を調製する。アンチモン酸の調製方法としては、多孔質シリカ系粒子または内部に空洞を有するシリカ系粒子の細孔や空洞を埋めることなく、粒子表面に酸化アンチモンの被覆層を形成することができれば特に制限はないが、以下に示す方法は均一で薄い酸化アンチモン被覆層を形成することができるので好ましい。   Also, an antimonic acid dispersion (aqueous solution) is prepared. The antimonic acid preparation method is not particularly limited as long as the antimony oxide coating layer can be formed on the particle surface without filling the pores and cavities of the porous silica particles or the silica particles having cavities inside. However, the following method is preferable because a uniform and thin antimony oxide coating layer can be formed.

具体的には、アンチモン酸アルカリ水溶液を陽イオン交換樹脂で処理してアンチモン酸(ゲル)分散液を調製し、次いで陰イオン交換樹脂で処理する。アンチモン酸アルカリ水溶液としては、例えば特開平2−180717号公報に記載されている、酸化アンチモンゾルの製造方法に用いるアンチモン酸アルカリ水溶液は好適である。   Specifically, an alkali antimonate aqueous solution is treated with a cation exchange resin to prepare an antimonic acid (gel) dispersion, and then treated with an anion exchange resin. As the alkali antimonate aqueous solution, for example, an alkali antimonate aqueous solution used in a method for producing an antimony oxide sol described in JP-A-2-180717 is suitable.

アンチモン酸アルカリ水溶液は、三酸化アンチモン(Sb)、アルカリ物質及び過酸化水素を反応させて得たものであることが好ましく、酸化アンチモンとアルカリ物質と過酸化水素のモル比を1:2.0〜2.5:0.8〜1.5、好ましくは1:2.1〜2.3:0.9〜1.2とし、三酸化アンチモンとアルカリ物質を含む系に、過酸化水素を三酸化アンチモン1モル当たり、0.2モル/hr以下の速度で添加して得られる。 The alkali antimonate aqueous solution is preferably obtained by reacting antimony trioxide (Sb 2 O 3 ), an alkali substance and hydrogen peroxide, and the molar ratio of antimony oxide, alkali substance and hydrogen peroxide is 1: 2.0 to 2.5: 0.8 to 1.5, preferably 1: 2.1 to 2.3: 0.9 to 1.2, and the system containing antimony trioxide and an alkaline substance is peroxidized. It is obtained by adding hydrogen at a rate of 0.2 mol / hr or less per mol of antimony trioxide.

この時使用される三酸化アンチモンは、粉末、特に平均粒子径が10μm以下の微粉末のものが好ましく、また、アルカリ物質としては、LiOH、KOH、NaOH、Mg(OH)、Ca(OH)等を挙げることができ、中でもKOH、NaOHなどのアルカリ金属水酸化物が好ましい。これらのアルカリ物質は、得られるアンチモン酸溶液を安定化させる効果を有する。 The antimony trioxide used at this time is preferably a powder, particularly a fine powder having an average particle size of 10 μm or less, and examples of the alkaline substance include LiOH, KOH, NaOH, Mg (OH) 2 , and Ca (OH). 2, etc. Among them, alkali metal hydroxides such as KOH and NaOH are preferable. These alkaline substances have the effect of stabilizing the resulting antimonic acid solution.

まず、水に所定量のアルカリ物質と三酸化アンチモンを加えて三酸化アンチモン懸濁液を調製する。この三酸化アンチモン懸濁液の三酸化アンチモン濃度は、Sb2O3として3〜15質量%の範囲とすることが望ましい。次いで、この懸濁液を50℃以上、好ましくは80℃以上に加温し、これに濃度が5〜35質量%の過酸化水素水を三酸化アンチモン、1モル当たり0.2モル/hr以下の速度で添加する。過酸化水素水の添加速度が0.2モル/hrより速い場合は、得られる酸化アンチモン粒子の粒子径が大きくなり、粒子径分布が広がるので好ましくない。また、過酸化水素水の添加速度が非常に遅い場合は生産性が悪いので、好ましい添加速度範囲としては、0.04〜0.2モル/hrの範囲である。   First, a predetermined amount of an alkaline substance and antimony trioxide are added to water to prepare an antimony trioxide suspension. The antimony trioxide concentration of the antimony trioxide suspension is desirably in the range of 3 to 15% by mass as Sb2O3. Next, this suspension is heated to 50 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or higher, and hydrogen peroxide water having a concentration of 5 to 35% by mass is added to antimony trioxide at 0.2 mol / hr or less per mol. Add at a rate of When the hydrogen peroxide solution is added at a rate higher than 0.2 mol / hr, the particle size of the obtained antimony oxide particles is increased, and the particle size distribution is widened, which is not preferable. Moreover, since productivity is bad when the addition rate of hydrogen peroxide water is very slow, a preferable addition rate range is 0.04 to 0.2 mol / hr.

上記反応で得られたアンチモン酸アルカリ(MHSbO:Mがアルカリ金属の場合)水溶液を、必要に応じて未溶解の残渣を分離した後、更に必要に応じて希釈し、陽イオン交換樹脂で処理し、アルカリイオンを除去することによってアンチモン酸ゲル(HSbO )n分散液を調製する。 The alkali antimonate aqueous solution (when MHSbO 3 : M is an alkali metal) obtained by the above reaction is separated from an undissolved residue as necessary, and further diluted as necessary, and treated with a cation exchange resin. Then, an antimonic acid gel (HSbO 3 ) n dispersion is prepared by removing alkali ions.

また、アンチモン酸アルカリ水溶液には、スズ酸アルカリ水溶液、リン酸ナトリウム水溶液等のドーピング剤を含む水溶液が含まれていてもよい。このようなドーピング剤が含まれていると更に導電性の高い酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子が得られる。   The alkali antimonate aqueous solution may contain an aqueous solution containing a doping agent such as an alkali stannate aqueous solution or a sodium phosphate aqueous solution. When such a doping agent is contained, antimony oxide-coated hollow silica-based particles having higher conductivity can be obtained.

ここで、アンチモン酸は、(HSbO )n(n=2以上の重合体)で表すことができ、粒子径が1〜5nm程度のアンチモン酸(HSbO )の重合物からなり、微粒子が凝集し、ゲル状態を呈している。 Here, antimonic acid can be represented by (HSbO 3 ) n (polymer of n = 2 or more), and is composed of a polymer of antimonic acid (HSbO 3 ) having a particle diameter of about 1 to 5 nm, and is a fine particle Are aggregated to form a gel state.

陽イオン交換樹脂で処理する際のアンチモン酸アルカリ水溶液の濃度は、固形分Sb2O5として0.01〜5質量%、更に0.1〜3質量%の範囲にあることが好ましい。固形分として0.01質量%未満の場合は生産効率が低く、5質量%を超えるとアンチモン酸の大きな凝集体が生成することがあり、アンチモン酸による中空シリカ系粒子の被覆ができにくく、できたとしても不均一になることがある。   The concentration of the alkali antimonate aqueous solution when it is treated with the cation exchange resin is preferably in the range of 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass as the solid content Sb2O5. If the solid content is less than 0.01% by mass, the production efficiency is low, and if it exceeds 5% by mass, large aggregates of antimonic acid may be formed, and it is difficult to coat the hollow silica particles with antimonic acid. In some cases, it may become non-uniform.

陽イオン交換樹脂の使用量は、得られるアンチモン酸分散液のpHが1〜4、更に1.5〜3.5の範囲とすることが好ましい。pH1未満の場合は鎖状粒子にならず凝集粒子が生成する傾向にあり、pH4を超えると単分散粒子が生成する傾向がある。また、pH1未満の場合は、酸化アンチモンの溶解度が高いために所定量の酸化アンチモンの被覆が困難になり、pH4を超えると、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子が凝集体となることがあり、被膜中での分散性が低下したり、帯電防止効果が不十分となることがある。   The amount of the cation exchange resin used is preferably such that the pH of the resulting antimonic acid dispersion is in the range of 1 to 4, and more preferably in the range of 1.5 to 3.5. When the pH is less than 1, there is a tendency that aggregated particles are generated instead of chain particles, and when the pH exceeds 4, monodispersed particles tend to be generated. In addition, when the pH is less than 1, the solubility of antimony oxide is high, so that it is difficult to coat a predetermined amount of antimony oxide. When the pH exceeds 4, the obtained antimony oxide-coated hollow silica-based particles may be aggregated. In some cases, the dispersibility in the film may be reduced, and the antistatic effect may be insufficient.

次いで、アンチモン酸分散液と多孔質シリカ系粒子、または内部に空洞を有するシリカ系粒子の分散液とを混合し、50〜250℃、好ましくは70〜120℃で、通常1〜24時間熟成を行うことによって酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子分散液を得ることができる。   Next, the antimonic acid dispersion and porous silica-based particles or a dispersion of silica-based particles having cavities inside are mixed and aged at 50 to 250 ° C., preferably 70 to 120 ° C., usually for 1 to 24 hours. By performing this, an antimony oxide-coated hollow silica-based particle dispersion can be obtained.

アンチモン酸分散液とシリカ系粒子分散液との混合比率は、シリカ系粒子を固形分として100質量部に、アンチモン酸をSbとして1〜200質量部、好ましくは5〜100質量部となるように添加する。アンチモン酸の混合比率が1質量部未満の場合は、被覆が不均一であったり被覆層の厚さが不十分となり、酸化アンチモンで被覆する効果、砂割、導電性を付与、向上する効果が十分に得られないことがある。アンチモン酸の混合比率が200質量部を超えても、被覆に寄与しない酸化アンチモンが増加したり、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子の導電性が更に向上することも無く、屈折率が1.60を超えて高くなることがある。 The mixing ratio of the antimonic acid dispersion and the silica-based particle dispersion is 1 to 200 parts by weight, preferably 5 to 100 parts by weight, with silica-based particles as solids and 100 parts by weight, and antimonic acid as Sb 2 O 5. Add as follows. When the mixing ratio of antimonic acid is less than 1 part by mass, the coating is uneven or the thickness of the coating layer is insufficient, and the effect of coating with antimony oxide, sand splitting, and the effect of imparting and improving conductivity are obtained. You may not get enough. Even when the mixing ratio of antimonic acid exceeds 200 parts by mass, the antimony oxide that does not contribute to the coating does not increase, and the conductivity of the obtained antimony oxide-coated hollow silica-based particles is not further improved. May be higher than 60.

混合した分散液の濃度は固形分として1〜40質量%、更に2〜30質量%の範囲にあることが好ましい。混合分散液の濃度が1質量%未満の場合は、酸化アンチモンの被覆効率が不十分であったり、生産効率が低下する。一方40質量%を超えるとアンチモン酸の使用量が多い場合に、得られる酸化アンチモン被覆中空シリカ系粒子が凝集することがある。   It is preferable that the density | concentration of the mixed dispersion exists in the range of 1-40 mass% as solid content, and also 2-30 mass%. When the concentration of the mixed dispersion is less than 1% by mass, the coating efficiency of antimony oxide is insufficient or the production efficiency is lowered. On the other hand, when it exceeds 40 mass%, when the amount of antimonic acid used is large, the resulting antimony oxide-coated hollow silica-based particles may aggregate.

その他、低屈折率層には以下のコロイダルシリカを含有してもよい。   In addition, the low refractive index layer may contain the following colloidal silica.

コロイダルシリカとは、二酸化ケイ素をコロイド状に水または有機溶媒に分散させたものであり、特に限定はされないが球状、針状または数珠状である。   Colloidal silica is obtained by dispersing silicon dioxide in water or an organic solvent in a colloidal form, and is not particularly limited, and is spherical, acicular or beaded.

コロイダルシリカの平均粒径は50〜300nmの範囲が好ましく、変動係数が1〜40%の単分散であることが好ましい。平均粒径は、走査電子顕微鏡(SEM)等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。   The average particle size of the colloidal silica is preferably in the range of 50 to 300 nm, and is preferably monodispersed with a coefficient of variation of 1 to 40%. The average particle diameter can be measured from an electron micrograph taken with a scanning electron microscope (SEM) or the like. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc.

コロイダルシリカは、市販されており、例えば日産化学工業社のスノーテックスシリーズ、触媒化成工業社のカタロイド−Sシリーズ、バイエル社のレバシルシリーズ等が挙げられる。また、アルミナゾルや水酸化アルミニウムでカチオン変性したコロイダルシリカやシリカの一次粒子を2価以上の金属イオンで粒子間を結合し、数珠状に連結した数珠状コロイダルシリカも好ましく用いられる。数珠状コロイダルシリカは日産化学工業社のスノーテックス−AKシリーズ、スノーテックス−PSシリーズ、スノーテックス−UPシリーズ等があり、具体的にはIPS−ST−L(イソプロパノール分散、粒子径40〜50nm、固形分30%)、MEK−ST−MS(メチルエチルケトン分散、粒子径17〜23nm、固形分35)等が挙げられる。   Colloidal silica is commercially available, and examples thereof include the Snowtex series of Nissan Chemical Industries, the Cataloid-S series of Catalytic Chemical Industry, and the Lebasil series of Bayer. Further, bead-like colloidal silica in which primary particles of colloidal silica or silica cation-modified with alumina sol or aluminum hydroxide are bonded to each other with metal ions having a valence of 2 or more and connected in a bead shape is also preferably used. There are beaded colloidal silicas such as SNOWTEX-AK series, SNOWTEX-PS series, SNOWTEX-UP series of NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, and specifically IPS-ST-L (isopropanol dispersion, particle size 40-50 nm, Solid content 30%), MEK-ST-MS (methyl ethyl ketone dispersion, particle diameter 17-23 nm, solid content 35) and the like.

低屈折率層には、触媒を含有することが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸等の有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類、後述する金属キレート化合物等が挙げられるが、中でも酸触媒及び金属キレート化合物が好ましく用いられる。   The low refractive index layer preferably contains a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid, organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid and methanesulfonic acid, inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia, and organic acids such as triethylamine and pyridine. Examples include bases, metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium, metal chelate compounds described later, and the like. Among them, acid catalysts and metal chelate compounds are preferably used.

酸触媒では塩酸、硫酸、シュウ酸、酢酸、フタル酸等が好ましく用いられる。金属キレート化合物としては、Zr、Ti、Alから選ばれる金属を中心金属とするキレート化合物が、特に制限なく好適に用いることができる。   As the acid catalyst, hydrochloric acid, sulfuric acid, oxalic acid, acetic acid, phthalic acid and the like are preferably used. As the metal chelate compound, a chelate compound having a metal selected from Zr, Ti, and Al as a central metal can be suitably used without particular limitation.

具体例としては、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−n−ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n−ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n−プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物、ジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナートビス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。   Specific examples include tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethyl acetoacetate) zirconium, n-butoxy tris (ethyl acetoacetate) zirconium, tetrakis (n-propyl acetoacetate) zirconium, tetrakis ( Zirconium chelate compounds such as acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium, diisopropoxybis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxybis (acetylacetate) titanium, diisopropoxybis (acetylacetone) titanium, etc. Titanium chelate compound, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diisopropoxyacetylacetonate aluminum , Isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonato) aluminum, monoacetylacetonatobis (ethylacetoacetate) aluminum, etc. Examples of the aluminum chelate compound.

これらの金属キレート化合物のうち、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムが特に好ましく用いられる。また、これらの金属キレート化合物は、単独でも併用でも使用することができる。   Of these metal chelate compounds, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, and tris (ethyl acetoacetate) aluminum are particularly preferably used. These metal chelate compounds can be used either alone or in combination.

また、低屈折率層には、下記一般式(2)で表される有機珪素化合物もしくはその加水分解物或いはその重縮合物を含有することが好ましい。   The low refractive index layer preferably contains an organosilicon compound represented by the following general formula (2), a hydrolyzate thereof, or a polycondensate thereof.

R2SiX24−m (2)
式中、R2は置換もしくは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基、X2は水酸基または加水分解可能な置換基であり、mは0〜3の整数である。
R2 m SiX2 4-m (2)
In the formula, R2 is a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group, X2 is a hydroxyl group or a hydrolyzable substituent, and m is an integer of 0 to 3.

アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、s−ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ヘキサデシル基等が挙げられる。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, t-butyl group, s-butyl group, hexyl group, decyl group, hexadecyl group and the like. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.

X2の加水分解可能な置換基としては、アルコキシ基、ハロゲン基、カルボキシル基等が挙げられる。   Examples of the hydrolyzable substituent for X2 include an alkoxy group, a halogen group, and a carboxyl group.

具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、2−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−アミノエチル−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−アミノエチル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−トリエトキシシリル−N−1,3−ジメチルブチリデンプロピルアミン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、ジエチルシラン等が挙げられ、これらを単独または2種以上を混合して用いられる。   Specific examples include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane. , Hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltri Methoxyethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropi Trimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ) Ethyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxy Silane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2-aminoethyl-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimeth Sisilane, N-2-aminoethyl-3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-1,3-dimethylbutylidenepropylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercapto Examples thereof include propyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, diethylsilane and the like, and these are used alone or in admixture of two or more.

低屈折率層を形成する塗布組成物には、有機溶媒を含有することが好ましい。具体的な有機溶媒の例としては、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エタノール、イソプロパノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテルが特に好ましい。   The coating composition for forming the low refractive index layer preferably contains an organic solvent. Specific examples of organic solvents include alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate). , Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Group hydrocarbon (eg, benzene, toluene, xylene), amide (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol), propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate. Of these, toluene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethanol, isopropanol, and propylene glycol monomethyl ether are particularly preferable.

低屈折率層を形成する塗布組成物中の固形分濃度は、1〜4質量%であることが好ましく、固形分濃度を4質量%以下とすることによって、塗布ムラが生じにくくなり、1質量%以上とすることによって、乾燥負荷が軽減される。   The solid content concentration in the coating composition for forming the low refractive index layer is preferably 1 to 4% by mass. By setting the solid content concentration to 4% by mass or less, coating unevenness is less likely to occur, and 1% by mass. By setting it as% or more, the drying load is reduced.

低屈折率層を形成する塗布組成物には、フッ素系化合物またはシリコーン系界面活性剤を含有することが好ましい。上記界面活性剤を含有させることで、塗布ムラを低減したり膜表面の防汚性を向上させるのに有効である。   The coating composition for forming the low refractive index layer preferably contains a fluorine compound or a silicone surfactant. Inclusion of the surfactant is effective for reducing coating unevenness and improving the antifouling property of the film surface.

フッ素系化合物としては、パーフルオロアルキル基を含有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを母核としたもので、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン等の誘導体等が挙げられる。市販品としては、例えばサーフロン「S−381」、「S−382」、「SC−101」、「SC−102」、「SC−103」、「SC−104」(何れも旭硝子株式会社製)、フロラード「FC−430」、「FC−431」、「FC−173」(何れもフロロケミカル−住友スリーエム製)、エフトップ「EF352」、「EF301」、「EF303」(何れも新秋田化成株式会社製)、シュベゴーフルアー「8035」、「8036」(何れもシュベグマン社製)、「BM1000」、「BM1100」(いずれもビーエム・ヒミー社製)、メガファック「F−171」、「F−470」(いずれも大日本インキ化学工業株式会社製)、等を挙げることができる。   The fluorine-based compound is a monomer, oligomer, or polymer containing a perfluoroalkyl group as a mother nucleus, and includes derivatives such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl allyl ether, polyoxyethylene, and the like. Examples of commercially available products include Surflon “S-381”, “S-382”, “SC-101”, “SC-102”, “SC-103”, and “SC-104” (all manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.). FLORARD "FC-430", "FC-431", "FC-173" (all made by Fluorochemicals-Sumitomo 3M), F-top "EF352", "EF301", "EF303" (all Shin-Akita Kasei Co., Ltd.) Company made), Schwegower "8035", "8036" (both made by Schwegman), "BM1000", "BM1100" (both made by BM Himmy), Megafuck "F-171", "F -470 "(all manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.).

フッ素系化合物の含有割合は、塗布組成物中0.05〜5質量%、好ましくは0.1〜2質量%である。フッ素系化合物は、1種または2種以上を併用することができる。   The content rate of a fluorine-type compound is 0.05-5 mass% in a coating composition, Preferably it is 0.1-2 mass%. One or two or more fluorine compounds can be used in combination.

次に、シリコーン界面活性剤について説明する。   Next, the silicone surfactant will be described.

シリコーン界面活性剤は、ケイ素原子に結合した有機基の種類により、ストレートシリコーンオイルと変性シリコーンオイルに大別できる。   Silicone surfactants can be broadly classified into straight silicone oils and modified silicone oils depending on the type of organic group bonded to the silicon atom.

ここで、ストレートシリコーンオイルとは、メチル基、フェニル基、水素原子を置換基として結合したものをいう。変性シリコーンオイルとは、ストレートシリコーンオイルから二次的に誘導された構成部分をもつものである。一方、シリコーンオイルの反応性からも分類することができる。これらをまとめると、以下のようになる。   Here, the straight silicone oil refers to one in which a methyl group, a phenyl group, or a hydrogen atom is bonded as a substituent. A modified silicone oil is one having a component that is secondarily derived from a straight silicone oil. On the other hand, it can be classified from the reactivity of silicone oil. These are summarized as follows.

(シリコーンオイル)
1.ストレートシリコーンオイル
1−1.非反応性シリコーンオイル:ジメチル、メチルフェニル置換等。
(Silicone oil)
1. Straight silicone oil 1-1. Non-reactive silicone oil: dimethyl, methylphenyl substitution, etc.

1−2.反応性シリコーンオイル:メチル水素置換等。
2.変性シリコーンオイル
ジメチルシリコーンオイルに、さまざまな有機基を導入することで生まれたものが変性シリコーンオイルである。
1-2. Reactive silicone oil: methyl hydrogen substitution and the like.
2. Modified silicone oil Modified silicone oil is born by introducing various organic groups into dimethyl silicone oil.

2−1.非反応性変性シリコーンオイル:アルキル、アルキル/アラルキル、アルキル/ポリエーテル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル置換等。   2-1. Non-reactive modified silicone oil: alkyl, alkyl / aralkyl, alkyl / polyether, polyether, higher fatty acid ester substitution, etc.

アルキル/アラルキル変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を長鎖アルキル基或いはフェニルアルキル基が置換したシリコーンオイルである。   The alkyl / aralkyl-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of the methyl group of dimethyl silicone oil is substituted with a long-chain alkyl group or a phenylalkyl group.

ポリエーテル変性シリコーンオイルは、親水性のポリオキシアルキレンを疎水性のジメチルシリコーンを導入した界面活性剤である。   The polyether-modified silicone oil is a surfactant in which hydrophobic dimethyl silicone is introduced into hydrophilic polyoxyalkylene.

高級脂肪酸変性シリコーンオイルは、ジメチルシリコーンオイルのメチル基の一部を高級脂肪酸エステルに置換えたシリコーンオイルである。   The higher fatty acid-modified silicone oil is a silicone oil in which a part of the methyl group of dimethyl silicone oil is replaced with a higher fatty acid ester.

アミノ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をアミノアルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。   The amino-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with an aminoalkyl group.

エポキシ変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をエポキシ基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。   The epoxy-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with an epoxy group-containing alkyl group.

カルボキシル変性或いはアルコール変性シリコーンオイルは、シリコーンオイルのメチル基の一部をカルボキシル基或いは水酸基含有アルキル基に置換えた構造をもつシリコーンオイルである。   The carboxyl-modified or alcohol-modified silicone oil is a silicone oil having a structure in which a part of the methyl group of the silicone oil is substituted with a carboxyl group or a hydroxyl group-containing alkyl group.

これらのうち、ポリエーテル変性シリコーンオイルが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば1,000〜100,000、好ましくは2,000〜50,000が適当であり、数平均分子量が1,000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100,000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる。   Of these, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1,000 to 100,000, preferably 2,000 to 50,000. When the number average molecular weight is less than 1,000, the drying property of the coating film is low. Conversely, if the number average molecular weight exceeds 100,000, bleeding out to the coating surface becomes difficult.

具体的な商品としては、東レダウコーニング社のL−45、L−9300、FZ−3704、FZ−3703、FZ−3720、FZ−3786、FZ−3501、FZ−3504、FZ−3508、FZ−3705、FZ−3707、FZ−3710、FZ−3750、FZ−3760、FZ−3785、FZ−3785、Y−7499、信越化学社のKF96L、KF96、KF96H、KF99、KF54、KF965、KF968、KF56、KF995、KF351、KF351A、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、FL100、ビックケミージャパン社製の界面活性剤BYKシリーズ、BYK−300/302、BYK−306、BYK−307、BYK−310、BYK−315、BYK−320、BYK−322、BYK−323、BYK−325、BYK−330、BYK−331、BYK−333、BYK−337、BYK−340、BYK−344、BYK−370、BYK−375、BYK−377、BYK−352、BYK−354、BYK−355/356、BYK−358N/361N、BYK−357、BYK−390、BYK−392、BYK−UV3500、BYK−UV3510、BYK−UV3570、BYK−Silclean3700、GE東芝シリコーン社製のジメチルシリコーンシリーズ、XC96−723、YF3800、XF3905、YF3057、YF3807、YF3802、YF3897等が挙げられる。   Specific products include L-45, L-9300, FZ-3704, FZ-3703, FZ-3720, FZ-3786, FZ-3501, FZ-3504, FZ-3508, FZ- from Toray Dow Corning. 3705, FZ-3707, FZ-3710, FZ-3750, FZ-3760, FZ-3785, FZ-3785, Y-7499, Shin-Etsu Chemical KF96L, KF96, KF96H, KF99, KF54, KF965, KF968, KF56, KF995, KF351, KF351A, KF352, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, FL100, surfactants BYK series manufactured by BYK Japan, BYK-300 / 302, BYK-306, BYK-307, BY -310, BYK-315, BYK-320, BYK-322, BYK-323, BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-337, BYK-340, BYK-344, BYK-370 BYK-375, BYK-377, BYK-352, BYK-354, BYK-355 / 356, BYK-358N / 361N, BYK-357, BYK-390, BYK-392, BYK-UV3500, BYK-UV3510, BYK -UV3570, BYK-Silklean 3700, dimethyl silicone series manufactured by GE Toshiba Silicone, XC96-723, YF3800, XF3905, YF3057, YF3807, YF3802, YF3897 and the like.

また、シリコーン界面活性剤は、シリコーンオイルのメチル基の一部を親水性基に置換した界面活性剤である。置換の位置は、シリコーンオイルの側鎖、両末端、片末端、両末端側鎖等がある。親水性基としては、ポリエーテル、ポリグリセリン、ピロリドン、ベタイン、硫酸塩、リン酸塩、4級塩等がある。   The silicone surfactant is a surfactant obtained by substituting a part of the methyl group of the silicone oil with a hydrophilic group. The position of substitution includes a side chain of silicone oil, both ends, one end, both end side chains, and the like. Examples of the hydrophilic group include polyether, polyglycerin, pyrrolidone, betaine, sulfate, phosphate, and quaternary salt.

シリコーン界面活性剤としては、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤が好ましい。   As the silicone surfactant, a nonionic surfactant having a hydrophobic group composed of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group composed of polyoxyalkylene is preferable.

非イオン界面活性剤は、水溶液中でイオンに解離する基を有しない界面活性剤を総称していうが、疎水基のほか親水性基として多価アルコール類の水酸基、また、ポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン)等を親水基として有するものである。親水性はアルコール性水酸基の数が多くなるに従って、またポリオキシアルキレン鎖(ポリオキシエチレン鎖)が長くなるに従って強くなる。疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤を用いると、低屈折率層のムラや膜表面の防汚性が向上する。ポリメチルシロキサンからなる疎水基が表面に配向し汚れにくい膜表面を形成するものと考えられる。   A nonionic surfactant is a generic term for surfactants that do not have a group capable of dissociating into ions in an aqueous solution. Oxyethylene) or the like as a hydrophilic group. Hydrophilicity increases as the number of alcoholic hydroxyl groups increases and as the polyoxyalkylene chain (polyoxyethylene chain) becomes longer. When a nonionic surfactant composed of dimethylpolysiloxane as a hydrophobic group and polyoxyalkylene as a hydrophilic group is used, unevenness of the low refractive index layer and antifouling property of the film surface are improved. It is thought that the hydrophobic group made of polymethylsiloxane is oriented on the surface and forms a film surface that is not easily soiled.

非イオン界面活性剤の具体例としては、例えば東レダウコーニング社のシリコーン界面活性剤SILWET L−77、L−720、L−7001、L−7002、L−7604、Y−7006、FZ−2101、FZ−2104、FZ−2105、FZ−2110、FZ−2118、FZ−2120、FZ−2122、FZ−2123、FZ−2130、FZ−2154、FZ−2161、FZ−2162、FZ−2163、FZ−2164、FZ−2166、FZ−2191、SUPERSILWET SS−2801、SS−2802、SS−2803、SS−2804、SS−2805等が挙げられる。   Specific examples of the nonionic surfactant include silicone surfactants SILWET L-77, L-720, L-7001, L-7002, L-7604, Y-7006, FZ-2101 from Toray Dow Corning, FZ-2104, FZ-2105, FZ-2110, FZ-2118, FZ-2120, FZ-2122, FZ-2123, FZ-2130, FZ-2154, FZ-2161, FZ-2162, FZ-2163, FZ- 2164, FZ-2166, FZ-2191, SUPERSILWET SS-2801, SS-2802, SS-2803, SS-2804, SS-2805, and the like.

これら、疎水基がジメチルポリシロキサン、親水基がポリオキシアルキレンから構成される非イオン界面活性剤の好ましい構造としては、ジメチルポリシロキサン構造部分とポリオキシアルキレン鎖が交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマーであることが好ましい。低屈折率層を形成する塗布組成物を塗布した際のムラ抑制やレベリング性から好ましい。これらの具体例としては、例えば東レダウコーニング社のシリコーン界面活性剤ABN SILWET FZ−2203、FZ−2207、FZ−2208、FZ−2222等が挙げられる。   Preferred structures of these nonionic surfactants comprising a hydrophobic group of dimethylpolysiloxane and a hydrophilic group of polyoxyalkylene include linear structures in which dimethylpolysiloxane structural portions and polyoxyalkylene chains are alternately and repeatedly bonded. A block copolymer is preferred. It is preferable from unevenness suppression and leveling properties when a coating composition for forming a low refractive index layer is applied. Specific examples thereof include silicone surfactants ABN SILWET FZ-2203, FZ-2207, FZ-2208, and FZ-2222 manufactured by Toray Dow Corning.

低屈折率層を形成する塗布組成物には、より過酷な条件下での耐久試験後に本発明の目的効果を発揮しやすい点から、以下に説明する反応性変性シリコーン樹脂(反応性変性シリコーンオイルともいう)を含有することが好ましい。   The coating composition for forming the low refractive index layer has a reactive modified silicone resin (reactive modified silicone oil) to be described below from the viewpoint of easily exerting the object effect of the present invention after a durability test under more severe conditions. (Also referred to as).

2−2.反応性変性シリコーンオイル:アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコール置換等。   2-2. Reactive modified silicone oil: amino, epoxy, carboxyl, alcohol substitution, etc.

反応性変性シリコーン樹脂としては、ポリシロキサンの側鎖、片末端または両末端にアミノ、エポキシ、カルボキシル、水酸基、メタクリル、メルカプト、フェノール等で置換された反応性タイプの変性シリコーン樹脂である。アミノ変性シリコーン樹脂として、具体的にはKF−860,KF−861,X−22−161A、X−22−161B(以上、信越化学工業株式会社製)、FM−3311,FM−3325(以上、チッソ株式会社製)、エポキシ変性シリコーン樹脂としては、KF−105、X−22−163A、X−22−163B、KF−101、KF−1001(以上、信越化学工業株式会社製)、ポリエーテル変性シリコーン樹脂としてはX−22−4272、X−22−4952、カルボキシル変性シリコーン樹脂としてはX−22−3701E、X−22−3710(以上、信越化学工業株式会社製)、カルビノール変性シリコーン樹脂としてはKF−6001、KF−6003(以上、信越化学工業株式会社製)、メタクリル変性シリコーン樹脂としてはX−22−164C(以上、信越化学工業株式会社製)、メルカプト変性シリコーン樹脂としてはKF−2001(以上、信越化学工業株式会社製)、フェノール変性シリコーン樹脂としてはX−22−1821(以上、信越化学工業株式会社製)等が挙げられる。水酸基変性シリコーン樹脂としては、FM−4411、FM−4421、FM−DA21,FM−DA26(以上、チッソ株式会社製)等が挙げられる。その他、片末端反応性シリコーン樹脂のX−22−170DX、X−22−2426、X−22−176F(信越化学工業株式会社製)等も含まれる。   The reactive modified silicone resin is a reactive type modified silicone resin in which the side chain, one end or both ends of polysiloxane is substituted with amino, epoxy, carboxyl, hydroxyl group, methacryl, mercapto, phenol or the like. As amino-modified silicone resins, specifically, KF-860, KF-861, X-22-161A, X-22-161B (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), FM-3311, FM-3325 (above, Chisso Corporation), epoxy-modified silicone resins such as KF-105, X-22-163A, X-22-163B, KF-101, KF-1001 (above, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polyether-modified X-22-4272, X-22-4952 as silicone resins, X-22-3701E, X-22-3710 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as carboxyl-modified silicone resins, and carbinol-modified silicone resins KF-6001, KF-6003 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), methacryl-modified silicone X-22-164C (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as the resin, KF-2001 (made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as the mercapto-modified silicone resin, and X-22-1821 as the phenol-modified silicone resin (The above is manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Examples of the hydroxyl group-modified silicone resin include FM-4411, FM-4421, FM-DA21, FM-DA26 (manufactured by Chisso Corporation). In addition, X-22-170DX, X-22-2426, X-22-176F (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like are also included.

上記した界面活性剤は他の界面活性剤と併用して用いてもよく、また、適宜、例えばスルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、リン酸エステル塩系等のアニオン界面活性剤、また、リオキシエチレン鎖親水基として有するエーテル型、エーテルエステル型等の非イオン界面活性剤等と併用してもよい。上記した界面活性剤の添加量は、低屈折率層塗布組成物中、0.05〜5.0質量%であることが、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する点から好ましい。   The above-mentioned surfactants may be used in combination with other surfactants. Also, for example, anionic surfactants such as sulfonate, sulfate, phosphate, etc. You may use together with nonionic surfactants, such as an ether type | mold and ether ester type | mold which have as an oxyethylene chain hydrophilic group. The addition amount of the surfactant described above is 0.05 to 5.0% by mass in the low refractive index layer coating composition, not only improving the water repellency, oil repellency and antifouling property of the coating film. From the viewpoint of exerting an effect also on the scratch resistance of the surface.

低屈折率層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、低屈折率層を形成する上記塗布組成物を塗布し、塗布後、加熱乾燥し、必要に応じてUV等で硬化処理することで形成される。   The low refractive index layer is a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, a known method such as an inkjet method, and the above coating composition for forming the low refractive index layer is applied, and after coating, It is formed by heat drying and curing treatment with UV or the like as necessary.

塗布量は、ウェット膜厚として0.05〜100μmが適当で、好ましくは、0.1〜50μmである。また、ドライ膜厚が上記膜厚となるように塗布組成物の固形分濃度は調整される。   The coating amount is suitably 0.05 to 100 μm, preferably 0.1 to 50 μm, as the wet film thickness. Further, the solid content concentration of the coating composition is adjusted so that the dry film thickness becomes the above film thickness.

硬化方法としては、加熱することによって熱硬化させる方法、紫外線等の光照射によって硬化させる方法などが挙げられる。熱硬化させる場合は、加熱温度は50〜300℃が好ましく、好ましくは60〜250℃、更に好ましくは80〜150℃である。光照射によって硬化させる場合は、照射光の露光量は10mJ/cm〜10J/cmであることが好ましく、100mJ/cm〜500mJ/cmがより好ましい。 Examples of the curing method include a method of thermosetting by heating, a method of curing by irradiation with light such as ultraviolet rays, and the like. When thermosetting, the heating temperature is preferably 50 to 300 ° C, preferably 60 to 250 ° C, and more preferably 80 to 150 ° C. When curing by light irradiation, exposure of the irradiation light is preferably, 100mJ / cm 2 ~500mJ / cm 2 and more preferably 10mJ / cm 2 ~10J / cm 2 .

ここで、照射される光の波長域としては特に限定されないが、紫外線領域の波長を有する光が好ましく用いられる。具体的には、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常5〜500mJ/cm、好ましくは5〜150mJ/cmであるが、特に好ましくは20〜100mJ/cmである。 Here, the wavelength range of the irradiated light is not particularly limited, but light having a wavelength in the ultraviolet region is preferably used. Specifically, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation amount of active rays is usually 5 to 500 mJ / cm 2 , preferably 5 to 150 mJ / cm 2 , and particularly preferably 20 to 100 mJ / cm 2 .

また、低屈折率層を形成後、温度50〜160℃で加熱処理を行う工程を含んでもよい。加熱処理の期間は、設定される温度によって適宜決定すればよく、例えば50℃であれば、好ましくは3日間以上30日未満の期間、160℃であれば10分以上1日以下の範囲が好ましい。   Moreover, you may include the process of heat-processing at the temperature of 50-160 degreeC after forming a low-refractive-index layer. The period of the heat treatment may be appropriately determined depending on the set temperature. For example, if it is 50 ° C., it is preferably a period of 3 days or more and less than 30 days, and if it is 160 ° C., a range of 10 minutes or more and 1 day or less is preferable .

また、ハードコート層上に低屈折率層を積層する際、ハードコート層を前述したアルカリ鹸化処理、アルカリ溶液塗布、或いは後述するプラズマ処理するのが好ましい。   Further, when the low refractive index layer is laminated on the hard coat layer, it is preferable that the hard coat layer is subjected to the alkali saponification treatment, the alkali solution coating described above, or the plasma treatment described later.

(導電層)
導電層はフィルム基材上と低屈折率層との間、または該低屈折率層とは反対の面に塗設することができる。
(Conductive layer)
The conductive layer can be applied between the film base and the low refractive index layer, or on the surface opposite to the low refractive index layer.

導電層は、フィルムの取り扱いの際に、帯電するのを防ぐ機能を付与するものであり、具体的には、導電性化合物を含有する層を設けることによって行う。   The conductive layer imparts a function of preventing charging when the film is handled. Specifically, the conductive layer is formed by providing a layer containing a conductive compound.

導電層の屈折率としては、波長550nm測定で、1.45〜1.60の範囲であることが好ましい。また、導電層は、表面比抵抗が1013Ω/cm(25℃、55%RH)以下に調整された層であることが好ましく。更に好ましくは、1010Ω/cm(25℃、55%RH)以下であり、特に好ましくは、109Ω/cm(25℃、55%RH)以下である。 The refractive index of the conductive layer is preferably in the range of 1.45 to 1.60 as measured at a wavelength of 550 nm. The conductive layer is preferably a layer whose surface specific resistance is adjusted to 1013 Ω / cm 2 (25 ° C., 55% RH) or less. More preferably, it is 1010 Ω / cm 2 (25 ° C., 55% RH) or less, and particularly preferably 109 Ω / cm 2 (25 ° C., 55% RH) or less.

ここで、表面比抵抗の測定は、試料を25℃、55%RHの条件にて24時間調湿し、抵抗率計を用いて測定した値である。また、抵抗率計装置としては、例えば三菱化学株式会社製ハイレスタUP MCP−HT450を用いることができる。   Here, the measurement of the surface specific resistance is a value measured using a resistivity meter after conditioning the sample for 24 hours under the conditions of 25 ° C. and 55% RH. Moreover, as a resistivity meter device, for example, Hiresta UP MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation can be used.

また、導電層上に、オーバーコート層を設けた場合の表面比抵抗値の測定は、導電層が設けられている側の最表面層における表面比抵抗値を実質的に導電層の表面比抵抗値として定義する。   In addition, the measurement of the surface specific resistance value when the overcoat layer is provided on the conductive layer is substantially the same as the surface specific resistance value of the outermost surface layer on the side where the conductive layer is provided. Define as a value.

導電性化合物としては、金属酸化物微粒子又はπ共役系導電性ポリマーが好ましい化合物である。   As the conductive compound, metal oxide fine particles or π-conjugated conductive polymers are preferable compounds.

金属酸化物微粒子は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はAl、In、Sn、Sb、Nb、ハロゲン元素、Ta等の微量の原子をドープしてあってもよい。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが好ましく、本発明の目的効果の点から、特に好ましくはアンチモンドープ酸化スズ(ATO)、アンチモン酸亜鉛といったアンチモン化合物である。   The metal oxide fine particles are not particularly limited, and are selected from Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S Metal oxides having at least one element can be used, and these metal oxide fine particles may be doped with a trace amount of atoms such as Al, In, Sn, Sb, Nb, halogen elements, Ta, etc. Good. A mixture of these may also be used. In the present invention, at least one metal oxide fine particle selected from among zirconium oxide, antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and zinc antimonate is used. An antimony compound such as antimony-doped tin oxide (ATO) or zinc antimonate is particularly preferred from the viewpoint of the object and effects of the present invention.

これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒径は10〜200nmが好ましく、10〜150nmがより好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒径は、走査電子顕微鏡(SEM)等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘーズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。   The average particle size of primary particles of these metal oxide fine particles is preferably 10 to 200 nm, more preferably 10 to 150 nm. The average particle diameter of the metal oxide fine particles can be measured from an electron micrograph taken with a scanning electron microscope (SEM) or the like. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc. If the particle size is too small, aggregation tends to occur and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze is remarkably increased, which is not preferable. The shape of the metal oxide fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a needle shape, or an indefinite shape.

π共役系導電性ポリマーとは、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用することができる。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリアニリン類、ポリフェニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体が挙げられる。重合の容易さ、安定性、及び本発明の目的効果の点からは、ポリチオフェン類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類が好ましい。   The π-conjugated conductive polymer can be used as long as it is an organic polymer having a main chain composed of a π-conjugated system. Examples thereof include polythiophenes, polypyrroles, polyanilines, polyphenylenes, polyacetylenes, polyphenylene vinylenes, polyacenes, polythiophene vinylenes, and copolymers thereof. Polythiophenes, polyanilines, and polyacetylenes are preferred from the standpoints of ease of polymerization, stability, and object effects of the present invention.

π共役系導電性ポリマーは、無置換のままでも十分な導電性やバインダー樹脂への溶解性が得られるが、導電性や溶解性をより高めるために、アルキル基、カルボキシ基、スルホ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基等の官能基を導入してもよい。   The π-conjugated conductive polymer can provide sufficient conductivity and solubility in a binder resin even if it is not substituted, but in order to further improve conductivity and solubility, an alkyl group, a carboxy group, a sulfo group, an alkoxy group. A functional group such as a group, a hydroxy group, or a cyano group may be introduced.

このようなπ共役系導電性ポリマーの具体例としては、ポリチオフェン、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ(3−エチルチオフェン)、ポリ(3−プロピルチオフェン)、ポリ(3−ブチルチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(3−デシルチオフェン)、ポリ(3−ドデシルチオフェン)、ポリ(3−ブロモチオフェン)、ポリ(3−クロロチオフェン)、ポリ(3−シアノチオフェン)、ポリ(3−フェニルチオフェン)、ポリ(3,4−ジメチルチオフェン)、ポリ(3,4−ジブチルチオフェン)、ポリ(3−ヒドロキシチオフェン)、ポリ(3−メトキシチオフェン)、ポリ(3−エトキシチオフェン)、ポリ(3−ブトキシチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3−オクチルオキシチオフェン)、ポリ(3−デシルオキシチオフェン)、ポリ(3−ドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヒドロキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジメトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジエトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジプロポキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジブトキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジオクチルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ジドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−プロピレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4−ブテンジオキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−メトキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−エトキシチオフェン)、ポリ(3−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルチオフェン)、ポリピロール、ポリ(N−メチルピロール)、ポリ(3−メチルピロール)、ポリ(3−エチルピロール)、ポリ(3−N−プロピルピロール)、ポリ(3−ブチルピロール)、ポリ(3−オクチルピロール)、ポリ(3−デシルピロール)、ポリ(3−ドデシルピロール)、ポリ(3,4−ジメチルピロール)、ポリ(3,4−ジブチルピロール)、ポリ(3−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルピロール)、ポリ(3−ヒドロキシピロール)、ポリ(3−メトキシピロール)、ポリ(3−エトキシピロール)、ポリ(3−ブトキシピロール)、ポリ(3−ヘキシルオキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−ヘキシルオキシピロール)、ポリアニリン、ポリ(2−メチルアニリン)、ポリ(3−イソブチルアニリン)、ポリ(2−アニリンスルホン酸)、ポリ(3−アニリンスルホン酸)、ポリフェニルアセチレン等が挙げられる。これらはそれぞれ単独でもよいし、2種からなる共重合体でも好適に用いることができる。   Specific examples of such π-conjugated conductive polymers include polythiophene, poly (3-methylthiophene), poly (3-ethylthiophene), poly (3-propylthiophene), poly (3-butylthiophene), poly (3-hexylthiophene), poly (3-octylthiophene), poly (3-decylthiophene), poly (3-dodecylthiophene), poly (3-bromothiophene), poly (3-chlorothiophene), poly (3 -Cyanothiophene), poly (3-phenylthiophene), poly (3,4-dimethylthiophene), poly (3,4-dibutylthiophene), poly (3-hydroxythiophene), poly (3-methoxythiophene), poly (3-ethoxythiophene), poly (3-butoxythiophene), poly (3-hexyloxythio) ), Poly (3-octyloxythiophene), poly (3-decyloxythiophene), poly (3-dodecyloxythiophene), poly (3,4-dihydroxythiophene), poly (3,4-dimethoxythiophene) , Poly (3,4-diethoxythiophene), poly (3,4-dipropoxythiophene), poly (3,4-dibutoxythiophene), poly (3,4-dihexyloxythiophene), poly (3,4 -Dioctyloxythiophene), poly (3,4-didecyloxythiophene), poly (3,4-didodecyloxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene), poly (3,4-propylenedi) Oxythiophene), poly (3,4-butenedioxythiophene), poly (3-methyl-4-methoxythiophene), poly Li (3-methyl-4-ethoxythiophene), poly (3-carboxythiophene), poly (3-methyl-4-carboxythiophene), poly (3-methyl-4-carboxyethylthiophene), poly (3-methyl -4-carboxybutylthiophene), polypyrrole, poly (N-methylpyrrole), poly (3-methylpyrrole), poly (3-ethylpyrrole), poly (3-N-propylpyrrole), poly (3-butylpyrrole) ), Poly (3-octylpyrrole), poly (3-decylpyrrole), poly (3-dodecylpyrrole), poly (3,4-dimethylpyrrole), poly (3,4-dibutylpyrrole), poly (3- Carboxypyrrole), poly (3-methyl-4-carboxypyrrole), poly (3-methyl-4-carboxyethylpyrrole) Poly (3-methyl-4-carboxybutylpyrrole), poly (3-hydroxypyrrole), poly (3-methoxypyrrole), poly (3-ethoxypyrrole), poly (3-butoxypyrrole), poly (3-hexyl) Oxypyrrole), poly (3-methyl-4-hexyloxypyrrole), polyaniline, poly (2-methylaniline), poly (3-isobutylaniline), poly (2-anilinesulfonic acid), poly (3-anilinesulfone) Acid), polyphenylacetylene and the like. Each of these may be used alone, or two types of copolymers can be suitably used.

これらのπ共役系導電性ポリマーには、ドーパント成分が添加されていてもよい。ドーパント成分としては、例えば、ハロゲン類、ルイス酸、プロトン酸、遷移金属ハライドなどの低分子量ドーパントや、ポリアニオンのようなポリマー等が挙げられる。   A dopant component may be added to these π-conjugated conductive polymers. Examples of the dopant component include low molecular weight dopants such as halogens, Lewis acids, proton acids, transition metal halides, and polymers such as polyanions.

ポリアニオンとは、π共役系導電性ポリマーに対するドーパントとして機能するアニオン基を有する高分子であり、置換もしくは未置換のポリアルキレン、置換もしくは未置換のポリアルケニレン、置換もしくは未置換のポリイミド、置換もしくは未置換のポリアミド、置換もしくは未置換のポリエステル及びこれらの共重合体であって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位からなるものである。   A polyanion is a polymer having an anionic group that functions as a dopant for a π-conjugated conductive polymer, and is a substituted or unsubstituted polyalkylene, a substituted or unsubstituted polyalkenylene, a substituted or unsubstituted polyimide, a substituted or unsubstituted Substituted polyamides, substituted or unsubstituted polyesters, and copolymers thereof, comprising a structural unit having an anionic group and a structural unit having no anionic group.

ポリアルキレンとは主鎖がメチレンの繰り返しで構成されているポリマーであり、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリヘキセン、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール、ポリアクリロニトリル、ポリアクリレート、ポリスチレン等が挙げられる。   Polyalkylene is a polymer whose main chain is composed of repeating methylene, and examples thereof include polyethylene, polypropylene, polybutene, polypentene, polyhexene, polyvinyl alcohol, polyvinylphenol, polyacrylonitrile, polyacrylate, polystyrene, and the like.

ポリアルケニレンとは主鎖に不飽和結合が1個以上含まれる構成単位からなるポリマーであり、例えば、プロペニレン、1−メチルプロペニレン、1−ブチルプロペニレン、1−デシルプロペニレン、1−シアノプロペニレン、1−フェニルプロペニレン、1−ヒドロキシプロペニレン、1−ブテニレン、1−メチル−1−ブテニレン、1−エチル−1−ブテニレン、1−オクチル−1−ブテニレン、2−メチル−1−ブテニレン、2−エチル−1−ブテニレン、2−ブチル−1−ブテニレン、2−ヘキシル−1−ブテニレン、2−オクチル−1−ブテニレン、2−デシル−1−ブテニレン、2−フェニル−1−ブテニレン、2−ブテニレン、1−メチル−2−ブテニレン、1−エチル−2−ブテニレン、1−オクチル−2−ブテニレン、2−メチル−2−ブテニレン、2−エチル−2−ブテニレン、2−ブチル−2−ブテニレン、2−ヘキシル−2−ブテニレン、2−オクチル−2−ブテニレン、2−デシル−2−ブテニレン、2−フェニル−2−ブテニレン、2−プロピレンフェニル−2−ブテニレン、2−ペンテニレン、4−エチル−2−ペンテニレン、4−プロピル−2−ペンテニレン、4−ブチル−2−ペンテニレン、4−ヘキシル−2−ペンテニレン、4−シアノ−2−ペンテニレン、3−メチル−2−ペンテニレン、3−フェニル−2−ペンテニレン、4−ヒドロキシ−2−ペンテニレン、ヘキセニレン等から選ばれる1種以上の構成単位を含む重合体が挙げられる。   Polyalkenylene is a polymer composed of structural units containing one or more unsaturated bonds in the main chain. For example, propenylene, 1-methylpropenylene, 1-butylpropenylene, 1-decylpropenylene, 1-cyanopropene. Nylene, 1-phenylpropenylene, 1-hydroxypropenylene, 1-butenylene, 1-methyl-1-butenylene, 1-ethyl-1-butenylene, 1-octyl-1-butenylene, 2-methyl-1-butenylene, 2-ethyl-1-butenylene, 2-butyl-1-butenylene, 2-hexyl-1-butenylene, 2-octyl-1-butenylene, 2-decyl-1-butenylene, 2-phenyl-1-butenylene, 2- Butenylene, 1-methyl-2-butenylene, 1-ethyl-2-butenylene, 1-octyl-2-butenylene, 2 Methyl-2-butenylene, 2-ethyl-2-butenylene, 2-butyl-2-butenylene, 2-hexyl-2-butenylene, 2-octyl-2-butenylene, 2-decyl-2-butenylene, 2-phenyl- 2-butenylene, 2-propylenephenyl-2-butenylene, 2-pentenylene, 4-ethyl-2-pentenylene, 4-propyl-2-pentenylene, 4-butyl-2-pentenylene, 4-hexyl-2-pentenylene, 4 Examples include polymers containing one or more structural units selected from -cyano-2-pentenylene, 3-methyl-2-pentenylene, 3-phenyl-2-pentenylene, 4-hydroxy-2-pentenylene, hexenylene, and the like.

ポリイミドとしてはピロメリット酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−テトラカルボキシジフェニルエーテル二無水物、2,2’−[4,4’−ジ(ジカルボキシフェニルオキシ)フェニル]プロパン二無水物等の無水物と、オキシジアミン、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンゾフェノンジアミン等のジアミンとからなるポリイミドが挙げられる。   As polyimide, pyromellitic dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-tetracarboxydiphenyl ether dianhydride, 2,2 ′-[4 , 4′-di (dicarboxyphenyloxy) phenyl] propane dianhydride and the like, and polyimides composed of diamines such as oxydiamine, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, and benzophenonediamine.

ポリアミドとしてはポリアミド6、ポリアミド6,6、ポリアミド6,10等が挙げられる。   Examples of the polyamide include polyamide 6, polyamide 6,6, polyamide 6,10 and the like.

ポリエステルとしてはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等が挙げられる。   Examples of the polyester include polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate.

ポリアニオンのアニオン基としては、π共役系導電性ポリマーへの化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよいが、製造の容易さや安定性の観点から、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。更に、官能基のπ共役系導電性ポリマーへのドープ効果の観点から、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。   The anion group of the polyanion may be a functional group that can undergo chemical oxidation doping to the π-conjugated conductive polymer. From the viewpoint of ease of production and stability, a monosubstituted sulfate group and a monosubstituted phosphate ester Group, phosphoric acid group, carboxy group, sulfo group and the like are preferable. Furthermore, from the viewpoint of the doping effect of the functional group on the π-conjugated conductive polymer, a sulfo group, a monosubstituted sulfate group, and a carboxy group are more preferable.

ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ(2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸)、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ(2−アクリルアミド−2−メチルプロパンカルボン酸)、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体でもよく、2種以上の共重合体でもよい。これらのうち、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリアニオンは、バインダー樹脂との相溶性が高く、得られる導電層の導電性をより高めることができる。   Specific examples of polyanions include polyvinyl sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, polyacrylic acid ethyl sulfonic acid, polyacrylic acid butyl sulfonic acid, poly (2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid), polyisoprene. Sulfonic acid, polyvinyl carboxylic acid, polystyrene carboxylic acid, polyallyl carboxylic acid, polyacryl carboxylic acid, polymethacryl carboxylic acid, poly (2-acrylamido-2-methylpropane carboxylic acid), polyisoprene carboxylic acid, polyacrylic acid, etc. Can be mentioned. These homopolymers may be used, or two or more types of copolymers may be used. Among these, polystyrene sulfonic acid, polyisoprene sulfonic acid, polyacrylic acid ethyl sulfonic acid, and polyacrylic acid butyl sulfonic acid are preferable. These polyanions have high compatibility with the binder resin, and can further increase the conductivity of the obtained conductive layer.

ポリアニオンの他にも、π共役系導電性ポリマーを酸化還元することができれば、以下のようなドナー性或いはアクセプタ性のドーパントを用いることができる。   In addition to the polyanion, the following donor or acceptor dopant can be used as long as the π-conjugated conductive polymer can be oxidized and reduced.

ドナー性ドーパントとしては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、メチルトリエチルアンモニウム、ジメチルジエチルアンモニウム等の4級アミン化合物等が挙げられる。   Donor dopants include alkali metals such as sodium and potassium, alkaline earth metals such as calcium and magnesium, quaternary compounds such as tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrapropylammonium, tetrabutylammonium, methyltriethylammonium and dimethyldiethylammonium. An amine compound etc. are mentioned.

アクセプタ性ドーパントとしては、Cl2、Br2、I2、ICl、IBr、IF等のハロゲン化合物、PF5、AsF5、SbF5、BF5、BCl5、BBr5、SO3等のルイス酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノエチレンオキサイド、テトラシアノベンゼン、ジクロロジシアノベンゾキノン、テトラシアノキノジメタン、テトラシアノアザナフタレン等の有機シアノ化合物、プロトン酸、有機金属化合物、フラーレン、水素化フラーレン、水酸化フラーレン、カルボン酸化フラーレン、スルホン酸化フラーレン等を使用できる。   Acceptable dopants include halogen compounds such as Cl2, Br2, I2, ICl, IBr and IF, Lewis acids such as PF5, AsF5, SbF5, BF5, BCl5, BBr5 and SO3, tetracyanoethylene, tetracyanoethylene oxide, tetra Use organic cyano compounds such as cyanobenzene, dichlorodicyanobenzoquinone, tetracyanoquinodimethane, tetracyanoazanaphthalene, proton acids, organometallic compounds, fullerene, hydrogenated fullerene, hydroxylated fullerene, carboxylated fullerene, sulfonated fullerene, etc. it can.

プロトン酸としては無機酸、有機酸が挙げられる。無機酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、フッ化水素酸、過塩素酸等が挙げられる。また、有機酸としては、有機カルボン酸、有機スルホン酸等が挙げられる。   Examples of the protonic acid include inorganic acids and organic acids. Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, hydrofluoric acid, perchloric acid and the like. Examples of organic acids include organic carboxylic acids and organic sulfonic acids.

有機カルボン酸としては、脂肪族、芳香族、環状脂肪族等にカルボキシ基を1つまたは2つ以上を含むものを使用できる。例えば、ギ酸、酢酸、シュウ酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、酒石酸、クエン酸、乳酸、コハク酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ニトロ酢酸、トリフェニル酢酸等が挙げられる。   As organic carboxylic acid, what contains 1 or 2 or more of carboxy groups in aliphatic, aromatic, cycloaliphatic, etc. can be used. For example, formic acid, acetic acid, oxalic acid, benzoic acid, phthalic acid, maleic acid, fumaric acid, malonic acid, tartaric acid, citric acid, lactic acid, succinic acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, nitroacetic acid, And triphenylacetic acid.

有機スルホン酸としては、脂肪族、芳香族、環状脂肪族等にスルホ基を1つまたは2つ以上含むもの、またはスルホ基を含む高分子を使用できる。   As the organic sulfonic acid, aliphatic, aromatic, cycloaliphatic or the like containing one or more sulfo groups or a polymer containing sulfo groups can be used.

スルホ基を1つ含むものとしては、例えば、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、1−プロパンスルホン酸、1−ブタンスルホン酸、1−ヘキサンスルホン酸、1−ヘプタンスルホン酸、1−オクタンスルホン酸、1−ノナンスルホン酸、1−デカンスルホン酸、1−ペンタデカンスルホン酸、2−ブロモエタンスルホン酸、3−クロロ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロエタンスルホン酸、コリスチンメタンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、アミノメタンスルホン酸、1−アミノ−2−ナフトール−4−スルホン酸、2−アミノ−5−ナフトール−7−スルホン酸、3−アミノプロパンスルホン酸、N−シクロヘキシル−3−アミノプロパンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、プロピルベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、ペンチルベンゼンスルホン酸、ヘキシルベンゼンスルホン酸、ヘプチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ノニルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸、2,4−ジメチルベンゼンスルホン酸、ジプロピルベンゼンスルホン酸、4−アミノベンゼンスルホン酸、o−アミノベンゼンスルホン酸、m−アミノベンゼンスルホン酸、4−アミノ−2−クロロトルエン−5−スルホン酸、4−アミノ−3−メチルベンゼン−1−スルホン酸、4−アミノ−5−メトキシ−2−メチルベンゼンスルホン酸、2−アミノ−5−メチルベンゼン−1−スルホン酸、4−アミノ−2−メチルベンゼン−1−スルホン酸、5−アミノ−2−メチルベンゼン−1−スルホン酸、4−アミノ−3−メチルベンゼン−1−スルホン酸、4−アセトアミド−3−クロロベンゼンスルホン酸、4−クロロ−3−ニトロベンゼンスルホン酸、p−クロロベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メチルナフタレンスルホン酸、プロピルナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ペンチルナフタレンスルホン酸、4−アミノ−1−ナフタレンスルホン酸、8−クロロナフタレン−1−スルホン酸、ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物、メラミンスルホン酸ホルマリン重縮合物、アントラキノンスルホン酸、ピレンスルホン酸等が挙げられる。また、これらの金属塩も使用できる。   Examples of those containing one sulfo group include methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, 1-propanesulfonic acid, 1-butanesulfonic acid, 1-hexanesulfonic acid, 1-heptanesulfonic acid, 1-octanesulfonic acid, 1-nonanesulfonic acid, 1-decanesulfonic acid, 1-pentadecanesulfonic acid, 2-bromoethanesulfonic acid, 3-chloro-2-hydroxypropanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, trifluoroethanesulfonic acid, colistin methanesulfone Acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, aminomethanesulfonic acid, 1-amino-2-naphthol-4-sulfonic acid, 2-amino-5-naphthol-7-sulfonic acid, 3-aminopropanesulfonic acid N-cyclohexyl-3-aminopropanesulfone Benzenesulfonic acid, alkylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, ethylbenzenesulfonic acid, propylbenzenesulfonic acid, butylbenzenesulfonic acid, pentylbenzenesulfonic acid, hexylbenzenesulfonic acid, heptylbenzenesulfonic acid, octylbenzene Sulfonic acid, nonylbenzenesulfonic acid, decylbenzenesulfonic acid, hexadecylbenzenesulfonic acid, 2,4-dimethylbenzenesulfonic acid, dipropylbenzenesulfonic acid, 4-aminobenzenesulfonic acid, o-aminobenzenesulfonic acid, m- Aminobenzenesulfonic acid, 4-amino-2-chlorotoluene-5-sulfonic acid, 4-amino-3-methylbenzene-1-sulfonic acid, 4-amino-5-methoxy-2-methylbenze Sulfonic acid, 2-amino-5-methylbenzene-1-sulfonic acid, 4-amino-2-methylbenzene-1-sulfonic acid, 5-amino-2-methylbenzene-1-sulfonic acid, 4-amino-3 -Methylbenzene-1-sulfonic acid, 4-acetamido-3-chlorobenzenesulfonic acid, 4-chloro-3-nitrobenzenesulfonic acid, p-chlorobenzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, methylnaphthalenesulfonic acid, propylnaphthalenesulfonic acid, butyl Naphthalenesulfonic acid, pentylnaphthalenesulfonic acid, 4-amino-1-naphthalenesulfonic acid, 8-chloronaphthalene-1-sulfonic acid, naphthalenesulfonic acid formalin polycondensate, melaminesulfonic acid formalin polycondensate, anthraquinonesulfonic acid, pyrene Examples include sulfonic acid It is done. These metal salts can also be used.

スルホ基を2つ以上含むものとしては、例えば、エタンジスルホン酸、ブタンジスルホン酸、ペンタンジスルホン酸、デカンジスルホン酸、o−ベンゼンジスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン酸、p−ベンゼンジスルホン酸、トルエンジスルホン酸、キシレンジスルホン酸、クロロベンゼンジスルホン酸、フルオロベンゼンジスルホン酸、ジメチルベンゼンジスルホン酸、ジエチルベンゼンジスルホン酸、アニリン−2,4−ジスルホン酸、アニリン−2,5−ジスルホン酸、3,4−ジヒドロキシ−1,3−ベンゼンジスルホン酸、ナフタレンジスルホン酸、メチルナフタレンジスルホン酸、エチルナフタレンジスルホン酸、ペンタデシルナフタレンジスルホン酸、3−アミノ−5−ヒドロキシ−2,7−ナフタレンジスルホン酸、1−アセトアミド−8−ヒドロキシ−3,6−ナフタレンジスルホン酸、2−アミノ−1,4−ベンゼンジスルホン酸、1−アミノ−3,8−ナフタレンジスルホン酸、3−アミノ−1,5−ナフタレンジスルホン酸、8−アミノ−1−ナフトール−3,6−ジスルホン酸、4−アミノ−5−ナフトール−2,7−ジスルホン酸、4−アセトアミド−4’−イソチオシアノトスチルベン−2,2’−ジスルホン酸、4−アセトアミド−4’−マレイミジルスチルベン−2,2’−ジスルホン酸、ナフタレントリスルホン酸、ジナフチルメタンジスルホン酸、アントラキノンジスルホン酸、アントラセンスルホン酸等が挙げられる。また、これらの金属塩も使用できる。   Examples of those containing two or more sulfo groups include ethanedisulfonic acid, butanedisulfonic acid, pentanedisulfonic acid, decanedisulfonic acid, o-benzenedisulfonic acid, m-benzenedisulfonic acid, p-benzenedisulfonic acid, and toluenedisulfonic acid. Xylene disulfonic acid, chlorobenzene disulfonic acid, fluorobenzene disulfonic acid, dimethylbenzene disulfonic acid, diethylbenzene disulfonic acid, aniline-2,4-disulfonic acid, aniline-2,5-disulfonic acid, 3,4-dihydroxy-1,3 Benzene disulfonic acid, naphthalene disulfonic acid, methyl naphthalene disulfonic acid, ethyl naphthalene disulfonic acid, pentadecyl naphthalene disulfonic acid, 3-amino-5-hydroxy-2,7-naphthalene disulfonic acid, 1- Cetamide-8-hydroxy-3,6-naphthalenedisulfonic acid, 2-amino-1,4-benzenedisulfonic acid, 1-amino-3,8-naphthalenedisulfonic acid, 3-amino-1,5-naphthalenedisulfonic acid, 8-amino-1-naphthol-3,6-disulfonic acid, 4-amino-5-naphthol-2,7-disulfonic acid, 4-acetamido-4′-isothiocyanotostilbene-2,2′-disulfonic acid, Examples include 4-acetamido-4′-maleimidyl stilbene-2,2′-disulfonic acid, naphthalene trisulfonic acid, dinaphthylmethane disulfonic acid, anthraquinone disulfonic acid, and anthracene sulfonic acid. These metal salts can also be used.

また、導電性化合物として、イオン性化合物を含有してもよい。イオン性化合物としては、イミダゾリウム系、ピリジウム系、脂環式アミン系、脂肪族アミン系、脂肪族ホスホニウム系の陽イオンとBF 、PF 等の無機イオン系、CFSO 、(CFSO、CFCO 等のフッ素系の陰イオンとからなる化合物等が挙げられる。 Moreover, you may contain an ionic compound as a conductive compound. The ionic compounds, imidazolium, pyridinium-based, alicyclic amine-based, aliphatic amine, cations and BF 4 aliphatic phosphonium -, PF 6 - inorganic ion system such, CF 3 SO 2 - , (CF 3 SO 2 ) 2 N , CF 3 CO 2 —, etc.

導電性化合物は後述する導電層バインダーとして用いられる樹脂100質量部に対して、0.01質量部〜300質量部が好ましく、更に好ましくは0.1質量部〜100質量部である。   The conductive compound is preferably 0.01 part by weight to 300 parts by weight, and more preferably 0.1 part by weight to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin used as the conductive layer binder described later.

次に樹脂について説明する。導電層の樹脂バインダーとしては硬化性樹脂が好ましく、中でも塗膜の製膜性や物理的特性、及び積層膜との密着性に優れる点から、活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化して活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、特に、紫外線硬化樹脂が好ましい。   Next, the resin will be described. As the resin binder of the conductive layer, a curable resin is preferable, and an active energy ray curable resin is preferable from the viewpoint of excellent film-forming properties and physical characteristics of the coating film and adhesion to the laminated film. The active energy ray-curable resin refers to a resin that is cured through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active rays such as ultraviolet rays or electron beams. As the active energy ray curable resin, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used, and the active energy ray curable resin layer is cured by irradiation with an active ray such as an ultraviolet ray or an electron beam. It is formed. Typical examples of the active energy ray curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and an ultraviolet curable resin is particularly preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used. Of these, ultraviolet curable acrylate resins are preferred.

紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば特開昭59−151110号公報に記載のもの、ユニディック17−806(大日本インキ化学工業株式会社製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン株式会社製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   The UV curable urethane acrylate resin generally includes 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate) in addition to a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, as described in JP-A-59-151110, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) is preferably used. It is done.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭59−151112号公報に記載のものを用いることができる。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those which are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyols. JP-A-59-151112 Those described in the publication can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光重合開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平1−105738号に記載のものを用いることができる。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photopolymerization initiator added thereto, and reacted to form an oligomer. Those described in US Pat. No. 105738 can be used.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。   Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. Can be mentioned.

これら紫外線硬化性樹脂は反応促進の点から光重合開始剤と合わせて用いる事が好ましい。   These ultraviolet curable resins are preferably used in combination with a photopolymerization initiator from the viewpoint of promoting the reaction.

光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等、及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。上記光重合開始剤も光増感剤として使用できる。   Specific examples of the photopolymerization initiator include benzoin and derivatives thereof, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and the like. You may use with a photosensitizer. The photopolymerization initiator can also be used as a photosensitizer.

また、エポキシアクリレート系の光重合開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光重合開始剤または光増感剤は硬化性樹脂100質量部に対して0.1〜20質量部であり、好ましくは1〜15質量部である。   In addition, when using an epoxy acrylate photopolymerization initiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine can be used. The photopolymerization initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 20 parts by mass, preferably 1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin.

その他モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることができる。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、イソボルニルアクリレート等を挙げることができる。また、特開2006−3647号公報記載のモノマー等も好ましく用いることができる。   Examples of other monomers include, for example, general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene. As monomers having two or more unsaturated double bonds, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, isobornyl acrylate, etc. Can be mentioned. Moreover, the monomer etc. of Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-3647 can also be used preferably.

紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化株式会社製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学株式会社製);セイカビームPHC2210(S)、PHCX−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業株式会社製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー株式会社製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業株式会社製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料株式会社製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業株式会社製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子株式会社製);RCC−15C(グレース・ジャパン株式会社製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成株式会社製);NKハードB−420、NKエステルA−IB、B−500(新中村化学工業株式会社製)等を適宜選択して利用できる。   Commercially available UV curable resins include Adekaoptomer KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.); A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS-101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHCX-9 (K-3), PHC2213, DP-10, DP-20, DP- 30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.); KRM7033, RM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (manufactured by Daicel UC Corporation); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120, RC-5122 RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sun Rad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (Sanyo Chemical Industries Co., Ltd.); SP-1509 , SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.); NK Hard B-420 , NK ester A-IB, B-500 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and the like can be appropriately selected and used.

また、硬化性樹脂には熱硬化性樹脂も含まれる。熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、熱硬化性ポリアミドイミドなどを挙げることができる。   The curable resin also includes a thermosetting resin. Examples of the thermosetting resin include unsaturated polyester resins, epoxy resins, vinyl ester resins, phenol resins, thermosetting polyimide resins, thermosetting polyamide imides, and the like.

不飽和ポリエステル樹脂としては、例えばオルソフタル酸系樹脂、イソフタル酸系樹脂、テレフタル酸系樹脂、ビスフェノール系樹脂、プロピレングリコール−マレイン酸系樹脂、ジシクロペンタジエンないしその誘導体を不飽和ポリエステル組成に導入して低分子量化した、或いは被膜形成性のワックスコンパウンドを添加した低スチレン揮発性樹脂、熱可塑性樹脂(ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、ポリスチレン、飽和ポリエステルなど)を添加した低収縮性樹脂、不飽和ポリエステルを直接Br2でブロム化する、或いはヘット酸、ジブロムネオペンチルグリコールを共重合するなどした反応性タイプ、塩素化パラフィン、テトラブロムビスフェノール等のハロゲン化物と三酸化アンチモン、燐化合物の組み合わせや水酸化アルミニウムなどを添加剤として用いる添加タイプの難燃性樹脂、ポリウレタンやシリコーンとハイブリッド化、またはIPN化した強靭性(高強度、高弾性率、高伸び率)の強靭性樹脂等がある。   As unsaturated polyester resin, for example, orthophthalic acid resin, isophthalic acid resin, terephthalic acid resin, bisphenol resin, propylene glycol-maleic acid resin, dicyclopentadiene or derivatives thereof are introduced into the unsaturated polyester composition. Low-shrinkage resin with low styrene volatile resin and thermoplastic resin (polyvinyl acetate resin, styrene / butadiene copolymer, polystyrene, saturated polyester, etc.) with low molecular weight or film-forming wax compound added Reactive types such as direct bromination of unsaturated polyester with Br2 or copolymerization of heptic acid and dibromoneopentyl glycol, halides such as chlorinated paraffin and tetrabromobisphenol, antimony trioxide, and phosphorus compounds Combination Addition-type flame retardant resin that uses aluminum or aluminum hydroxide as an additive, toughness resin that is hybridized with polyurethane or silicone, or IPN (high strength, high elastic modulus, high elongation), etc. .

エポキシ樹脂としては、例えばビスフェノールA型、ノボラックフェノール型、ビスフェノールF型、臭素化ビスフェノールA型を含むグリシジルエーテル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系、グリシジルエステル系、環式脂肪系、複素環式エポキシ系を含む特殊エポキシ樹脂等を挙げることができる。   Examples of the epoxy resin include glycidyl ether type epoxy resins including bisphenol A type, novolak phenol type, bisphenol F type, brominated bisphenol A type, glycidyl amine type, glycidyl ester type, cyclic aliphatic type, and heterocyclic epoxy type. The special epoxy resin containing etc. can be mentioned.

ビニルエステル樹脂としては、例えば普通エポキシ樹脂とメタクリル酸等の不飽和一塩基酸とを開環付加反応して得られるオリゴマーを、スチレン等のモノマーに溶解した物がある。また分子末端や側鎖にビニル基を持ちビニルモノマーを含有する等の特殊タイプもある。   Examples of vinyl ester resins include those obtained by dissolving an oligomer obtained by a ring-opening addition reaction between an ordinary epoxy resin and an unsaturated monobasic acid such as methacrylic acid in a monomer such as styrene. There are also special types such as vinyl monomers having vinyl groups at the molecular ends and side chains.

グリシジルエーテル系エポキシ樹脂のビニルエステル樹脂としては、例えばビスフェノール系、ノボラック系、臭素化ビスフェノール系等があり、特殊ビニルエステル樹脂としては、ビニルエステルウレタン系、イソシアヌル酸ビニル系、側鎖ビニルエステル系等がある。フェノール樹脂は、フェノール類とホルムアルデヒド類を原料として重縮合して得られ、レゾール型とノボラック型がある。   Examples of vinyl ester resins of glycidyl ether type epoxy resins include bisphenol type, novolak type, brominated bisphenol type, etc., and special vinyl ester resins include vinyl ester urethane type, isocyanuric acid vinyl type, side chain vinyl ester type, etc. There is. The phenol resin is obtained by polycondensation using phenols and formaldehydes as raw materials, and there are a resol type and a novolac type.

熱硬化性ポリイミド樹脂としては、例えばマレイン酸系ポリイミド、例えばポリマレイミドアミン、ポリアミノビスマレイミド、ビスマレイミド・O,O’−ジアリルビスフェノール−A樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂等、またナジック酸変性ポリイミド、及びアセチレン末端ポリイミド等がある。   Examples of thermosetting polyimide resins include maleic acid-based polyimides such as polymaleimide amine, polyamino bismaleimide, bismaleimide / O, O′-diallyl bisphenol-A resin, bismaleimide / triazine resin, nadic acid-modified polyimide, And acetylene-terminated polyimide.

導電層には、前記無機粒子や有機粒子を含有してもよい。これら粒子の平均粒径としては、0.01〜5μmが好ましく0.1〜5.0μm、更に、0.1〜4.0μmであることが特に好ましい。また、粒径の異なる2種以上の粒子を含有してもよい。粒子は硬化性樹脂100質量部に対して、0.1〜30質量部となるように配合することが望ましい。   The conductive layer may contain the inorganic particles or organic particles. The average particle size of these particles is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.1 to 5.0 μm, and particularly preferably 0.1 to 4.0 μm. Moreover, you may contain 2 or more types of particle | grains from which a particle size differs. The particles are desirably blended so as to be 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin.

また、導電層には硬化助剤としてポリウレタン樹脂の側鎖にビニル基とカルボキシル基を有し、重量平均分子量が10000以上30000以下であり、且つ、二重結合当量が500以上2000以下であるポリマーやポリマーの側鎖にビニル基を有し、重量平均分子量(Mw)が10000以上100000以下であり、二重結合当量が1000以下、ポリマーTgが−50℃以上120℃以下であるアクリルポリマー、他官能チオール化合物等を含有させてもよい。他官能チオール化合物としては例えば1,4−ビス(3−メルカプトブチリルオキシ)ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)、1,3,5−トリス(3−メルカブトブチルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン等が挙げられる。市販品としては昭和電工社製、商品名カレンズMTシリーズ等が挙げられる。   The conductive layer has a vinyl group and a carboxyl group in the side chain of the polyurethane resin as a curing aid, a weight average molecular weight of 10,000 to 30,000, and a double bond equivalent of 500 to 2,000. And an acrylic polymer having a vinyl group in the side chain of the polymer, a weight average molecular weight (Mw) of 10,000 to 100,000, a double bond equivalent of 1,000 or less, and a polymer Tg of −50 ° C. to 120 ° C. A functional thiol compound or the like may be included. Examples of other functional thiol compounds include 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl)- 1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione and the like. Commercially available products include Showa Denko Co., Ltd., trade name Karenz MT series, and the like.

また、前記フッ素−アクリル共重合体樹脂を含有してもよい。フッ素−アクリル共重合体樹脂とは、フッ素単量体とアクリル単量体とからなる共重合体樹脂で、特にフッ素単量体セグメントとアクリル単量体セグメントとから成るブロック共重合体が好ましい。フッ素−アクリル共重合体樹脂の分子量は、数平均分子量で5000〜1000000がよく、好ましくは10000〜300000、更に好ましくは10000〜100000である。フッ素−アクリル共重合体樹脂の製造は、ポリメリックペルオキシドを重合開始剤とした。公知の製造プロセス(例えば特公平5−41668号公報、特公平5−59942号公報)により製造できる。   Moreover, you may contain the said fluorine-acryl copolymer resin. The fluorine-acrylic copolymer resin is a copolymer resin composed of a fluorine monomer and an acrylic monomer, and a block copolymer composed of a fluorine monomer segment and an acrylic monomer segment is particularly preferable. The molecular weight of the fluorine-acrylic copolymer resin may be 5,000 to 1,000,000 in terms of number average molecular weight, preferably 10,000 to 300,000, and more preferably 10,000 to 100,000. In the production of the fluorine-acrylic copolymer resin, polymeric peroxide was used as a polymerization initiator. It can be produced by a known production process (for example, Japanese Patent Publication No. 5-41668 and Japanese Patent Publication No. 5-59942).

ポリメリックペルオキシドとは1分子中に2個以上のペルオキシ結合を持つ化合物である。ポリメリックペルオキシドとしては、特公平5−59942号公報に記載されている各種ポリメリックペルオキシドの一種または二種以上を使用することができる。   Polymeric peroxide is a compound having two or more peroxy bonds in one molecule. As the polymer peroxide, one or more of various polymer peroxides described in JP-B-5-59942 can be used.

フッ素−アクリル共重合体樹脂の市販品としては、日本油脂株式会社の商品名、モディパーF−200、モディパーF−600、モディパーF−2020等が挙げられる。   As a commercial item of fluorine-acrylic copolymer resin, the brand name of Nippon Oil & Fat Co., Ltd. Modiper F-200, Modiper F-600, Modiper F-2020, etc. are mentioned.

更に導電層には、低屈折率層で記載のシリコーン系界面活性剤、フッ素系化合物、及びポリオキシエーテル化合物等を含有させることが、面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高められる点で好ましい。   Further, the conductive layer contains the silicone surfactant, fluorine compound, polyoxyether compound, etc. described in the low refractive index layer, so that the surface uniformity is improved and high-speed coating suitability is imparted. This is preferable in that the productivity can be improved.

フッ素系化合物の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体が挙げられ、具体的には特開2007−45142号公報の段落0053〜0082に記載の化合物である。その他、特開2000−119354号公報の段落0008〜0031に記載の化合物も用いることができる。これら成分は、導電層組成物中の固形成分に対し、0.01〜5質量%の範囲で添加することが、塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良できる点で、好ましい。   Preferable examples of the fluorine-based compound include a fluoroaliphatic group-containing copolymer, specifically, compounds described in paragraphs 0053 to 0082 of JP-A-2007-45142. In addition, the compounds described in paragraphs 0008 to 0031 of JP 2000-119354 A can also be used. These components are preferably added in the range of 0.01 to 5% by mass with respect to the solid component in the conductive layer composition, from the viewpoint that surface defects such as coating unevenness, drying unevenness, and point defects can be improved. .

また、フッ素系化合物としては、フッ素樹脂に、シロキサン(ポリシロキサンを含む)及び/またはオルガノシロキサン(オルガノポリシロキサンを含む)をグラフト化等により共重合させて得られるポリマーを好ましく用いることができる。具体的には、富士化成工業株式会社製のZX−022H、ZX−007C、ZX−049、ZX−047−D等を挙げることができる。これら化合物は混合して用いてもよい。   As the fluorine-based compound, a polymer obtained by copolymerizing a fluororesin with siloxane (including polysiloxane) and / or organosiloxane (including organopolysiloxane) by grafting or the like can be preferably used. Specific examples include ZX-022H, ZX-007C, ZX-049, and ZX-047-D manufactured by Fuji Chemical Industry Co., Ltd. These compounds may be used as a mixture.

ポリオキシエーテル化合物としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル化合物、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等のポリオキシアルキルフェニルエーテル化合物、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル等が挙げられる。ポリオキシエチレンアルキルエーテルの市販品としては、エマルゲン1108、エマルゲン1118S−70(以上、花王社製)、ポリオキシエチレンラウリルエーテルの市販品としては、エマルゲン103、エマルゲン104P、エマルゲン105、エマルゲン106、エマルゲン108、エマルゲン109P、エマルゲン120、エマルゲン123P、エマルゲン147、エマルゲン150、エマルゲン130K(以上、花王社製)、ポリオキシエチレンセチルエーテルの市販品としては、エマルゲン210P、エマルゲン220(以上、花王社製)、ポリオキシエチレンステアリルエーテルの市販品としては、エマルゲン220、エマルゲン306P(以上、花王社製)、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルの市販品としては、エマルゲンLS−106、エマルゲンLS−110、エマルゲンLS−114、エマルゲンMS−110(以上、花王社製)ポリオキシエチレン高級アルコールエーテルの市販品としては、エマルゲン705,エマルゲン707、エマルゲン709等が挙げられる。   Examples of the polyoxyether compound include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene alkyl ether compounds such as polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene Polyoxyalkyl phenyl ether compounds such as ethylene octyl phenyl ether, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyethylene higher alcohol ether, polyoxyethylene octyldodecyl ether and the like can be mentioned. Commercially available products of polyoxyethylene alkyl ether include Emulgen 1108, Emulgen 1118S-70 (above, manufactured by Kao Corporation), and commercially available products of polyoxyethylene lauryl ether include Emulgen 103, Emulgen 104P, Emulgen 105, Emulgen 106, Emulgen 108, Emulgen 109P, Emulgen 120, Emulgen 123P, Emulgen 147, Emulgen 150, Emulgen 130K (above, manufactured by Kao Corporation), and polyoxyethylene cetyl ether are commercially available products of Emulgen 210P, Emulgen 220 (above, manufactured by Kao Corporation) As commercially available products of polyoxyethylene stearyl ether, Emulgen 220, Emulgen 306P (above, manufactured by Kao Corporation), and commercially available products of polyoxyalkylene alkyl ether include Examples of commercially available products of Rugen LS-106, Emulgen LS-110, Emulgen LS-114, Emulgen MS-110 (manufactured by Kao Corporation) polyoxyethylene higher alcohol ether include Emulgen 705, Emulgen 707, and Emulgen 709. .

これらのポリオキシエーテル化合物の中でも好ましくは、ポリオキシエチレンオレイルエーテル化合物であり、下記の一般式(3)で表される化合物である。   Among these polyoxyether compounds, a polyoxyethylene oleyl ether compound is preferable, and a compound represented by the following general formula (3).

1835−O(CO)nH ・・・(3)
式中、nは2〜40を表す。
C 18 H 35 -O (C 2 H 4 O) nH ··· (3)
In the formula, n represents 2 to 40.

オレイル部分に対するエチレンオキシドの平均付加個数(n)は、2〜40であり、好ましくは2〜10である。また、上記一般式(H)の化合物はエチレンオキシドとオレイルアルコールとを反応させて得られる。具体的商品としては、エマルゲン404〔ポリオキシエチレン(4)オレイルエーテル〕、エマルゲン408〔ポリオキシエチレン(8)オレイルエーテル〕、エマルゲン409P〔ポリオキシエチレン(9)オレイルエーテル〕、エマルゲン420〔ポリオキシエチレン(13)オレイルエーテル〕、エマルゲン430〔ポリオキシエチレン(30)オレイルエーテル〕(以上、花王社製)、日本油脂製、NOFABLEEAO−9905(ポリオキシエチレン(5)オレイルエーテル)等が挙げられる。尚、( )がnの数字を表す。ポリオキシエーテル化合物は単独或いは2種以上を併用してもよい。   The average addition number (n) of ethylene oxide with respect to the oleyl part is 2 to 40, preferably 2 to 10. Moreover, the compound of the said general formula (H) is obtained by making ethylene oxide and oleyl alcohol react. Specific products include Emulgen 404 [polyoxyethylene (4) oleyl ether], Emulgen 408 [polyoxyethylene (8) oleyl ether], Emulgen 409P [polyoxyethylene (9) oleyl ether], Emulgen 420 [polyoxy Ethylene (13) oleyl ether], Emulgen 430 [polyoxyethylene (30) oleyl ether] (above, manufactured by Kao Corporation), NOFBLEEAO-9905 (polyoxyethylene (5) oleyl ether), and the like. Note that () represents the number n. The polyoxyether compounds may be used alone or in combination of two or more.

また、アセチレングリコール系化合物または非イオン性界面活性剤、ラジカル重合性の非イオン性界面活性剤等を併用してもよい。   Moreover, you may use together an acetylene glycol type compound, a nonionic surfactant, a radically polymerizable nonionic surfactant, etc.

非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンモノラウレート、ポリオキシエチレンモノステアレート、ポリオキシエチレンモノオレート等のポリオキシアルキルエステル化合物、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレート等のソルビタンエステル化合物、等が挙げられる。アセチレングリコール系化合物としてはサーフィノール104E、サーフィノール104PA、サーフィノール420、サーフィノール440、ダイノール604(以上、日信化学工業株式会社製)などが挙げられる。ラジカル重合性の非イオン性界面活性剤としては、例えば、「RMA−564」、「RMA−568」、「RMA−1114」[以上、商品名、日本乳化剤株式会社製]等のポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル(メタ)アクリレート系重合性界面活性剤などを挙げることができる。   Nonionic surfactants include polyoxyethylene monolaurate, polyoxyethylene monostearate, polyoxyalkyl ester compounds such as polyoxyethylene monooleate, sorbitan monolaurate, sorbitan monostearate, sorbitan monooleate, etc. Sorbitan ester compounds, and the like. Examples of the acetylene glycol compounds include Surfinol 104E, Surfinol 104PA, Surfinol 420, Surfinol 440, and Dynal 604 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.). Examples of the radical polymerizable nonionic surfactant include polyoxyalkylene alkyl such as “RMA-564”, “RMA-568”, “RMA-1114” [trade name, manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.]. Examples include phenyl ether (meth) acrylate polymerizable surfactants.

導電層は、種々の表示素子に対する色補正用フィルターとして色調調整機能を有する色調調整剤(染料もしくは顔料等)、電磁波遮断剤、または赤外線吸収剤等を含有してもよい。   The conductive layer may contain a color tone adjusting agent (dye or pigment, etc.) having a color tone adjusting function as a color correction filter for various display elements, an electromagnetic wave blocking agent, an infrared absorber, or the like.

導電性層はオーバーコート層との易接着性を保持するため、セルロースエステル系樹脂またはアクリル系樹脂を含有することが好ましい。   The conductive layer preferably contains a cellulose ester resin or an acrylic resin in order to maintain easy adhesion with the overcoat layer.

セルロースエステル系樹脂としては、例えばセルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、またはセルロースナイトレート等のセルロース誘導体が挙げられる。   Examples of the cellulose ester resin include cellulose derivatives such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose nitrate.

また、アクリル系樹脂としては、例えば、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レーヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが好ましく用いられる。   Examples of the acrylic resin include Acrypet MD, VH, MF, V (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M -5001, M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR- 79, BR-80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105, BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) Various homopolymers and copolymers to produce Le and methacrylic monomer as a raw material is preferably used.

ここで使用する樹脂は、導電性層で使用している樹脂全体の60質量%以上、更に好ましくは80質量%以上であることが好ましく、必要に応じて活性光線硬化性樹脂或いは熱硬化樹脂を添加することもできる。これらの樹脂はバインダーとして下記のような溶剤に溶解した状態で塗設される。   The resin used here is preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of the total resin used in the conductive layer, and an actinic ray curable resin or thermosetting resin is used as necessary. It can also be added. These resins are coated as a binder in a state dissolved in the following solvent.

導電性層を塗設するための塗布組成物には、次の溶剤が好ましく用いられる。溶剤としては、炭化水素、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒(メチレンクロライド)を適宜混合して使用することができるが特にこれらに限定されるものではない。   For the coating composition for coating the conductive layer, the following solvents are preferably used. As the solvent, hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, glycol ethers, and other solvents (methylene chloride) can be appropriately mixed and used, but are not particularly limited thereto.

上記炭化水素類としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等が挙げられ、アルコール類としては、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、iso−プロピルアルコール、n−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、ペンタノール、2−メチル−2−ブタノール、シクロヘキサノール等が挙げられ、ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等が挙げられ、エステル類としては、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸メチル等が挙げられ、グリコールエーテル(C1〜C4)類としては、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGME)、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、またはプロピレングリコールモノ(C1〜C4)アルキルエーテルエステル類としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、その他の溶媒としてメチレンクロライド、N−メチルピロリドンなどが挙げられる。特にこれらに限定されるものではないが、これらを適宜混合した溶媒も好ましく用いられる。   Examples of the hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, hexane, cyclohexane and the like, and examples of alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, iso-propyl alcohol, n-butanol, 2-butanol, tert- Examples include butanol, pentanol, 2-methyl-2-butanol, and cyclohexanol. Examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Examples of esters include methyl formate, ethyl formate, Examples thereof include methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, amyl acetate, ethyl lactate, and methyl lactate. Examples of glycol ethers (C1 to C4) include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ester. As terrestrial (PGME), propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, or propylene glycol mono (C1-C4) alkyl ether esters, propylene glycol monomethyl Examples of ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and other solvents include methylene chloride and N-methylpyrrolidone. Although not particularly limited to these, a solvent in which these are appropriately mixed is also preferably used.

導電性層塗布組成物の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、ワイヤーバーコーター、リバースコーター、押出しコーター等を用いて、塗布液膜厚(ウェット膜厚ということもある)を1〜100μmとすることが好ましく、特に5〜30μmが好ましい。   As a coating method of the conductive layer coating composition, using a gravure coater, dip coater, wire bar coater, reverse coater, extrusion coater, etc., the coating solution film thickness (sometimes referred to as wet film thickness) is 1 to 100 μm. In particular, 5 to 30 μm is preferable.

<高屈折率層>
反射防止フィルムは、フィルム基材と低屈折率層との間に外光反射防止機能が、より得られる点から、フィルム基材よりも屈折率の高い高屈折率層を設けることが好ましい。
<High refractive index layer>
The antireflection film is preferably provided with a high refractive index layer having a higher refractive index than that of the film substrate, from the point that an external light reflection preventing function can be more obtained between the film substrate and the low refractive index layer.

高屈折率層は、屈折率調整の点から、高屈折率層には金属酸化物微粒子が含有されることが好ましい。金属酸化物微粒子の種類は特に限定されるものではなく、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物を用いることができ、これらの金属酸化物微粒子はAl、In、Sn、Sb、Nb、ハロゲン元素、Taなどの微量の原子をドープしてあってもよい。また、これらの混合物でもよい。本発明においては、中でも酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム−スズ(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、及びアンチモン酸亜鉛から選ばれる少なくとも1種の金属酸化物微粒子を主成分として用いることが特に好ましい。特にアンチモン酸亜鉛粒子を含有することが好ましい。   The high refractive index layer preferably contains metal oxide fine particles in terms of refractive index adjustment. The kind of metal oxide fine particles is not particularly limited, and Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P and S A metal oxide having at least one element selected from the group consisting of Al, In, Sn, Sb, Nb, a halogen element, Ta and the like is doped with a minute amount of atoms. May be. A mixture of these may also be used. In the present invention, at least one metal oxide fine particle selected from among zirconium oxide, antimony oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), and zinc antimonate is used. It is particularly preferable to use it as the main component. In particular, it is preferable to contain zinc antimonate particles.

これら金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒子径は10nm〜200nmの範囲であり、10〜150nmであることが特に好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は、走査電子顕微鏡(SEM)等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。粒径が小さ過ぎると凝集しやすくなり、分散性が劣化する。粒径が大き過ぎるとヘーズが著しく上昇し好ましくない。金属酸化物微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、針状或いは不定形状であることが好ましい。   The average particle diameter of the primary particles of these metal oxide fine particles is in the range of 10 nm to 200 nm, particularly preferably 10 to 150 nm. The average particle diameter of the metal oxide fine particles can be measured from an electron micrograph taken with a scanning electron microscope (SEM) or the like. You may measure by the particle size distribution meter etc. which utilize a dynamic light scattering method, a static light scattering method, etc. If the particle size is too small, aggregation tends to occur and the dispersibility deteriorates. If the particle size is too large, the haze is remarkably increased, which is not preferable. The shape of the metal oxide fine particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a needle shape, or an indefinite shape.

高屈折率層の屈折率は、具体的には、基材フィルムの屈折率より高く、23℃、波長550nm測定で、1.5〜2.2の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60であることが好ましく、1.85〜2.50であることが更に好ましい。   Specifically, the refractive index of the high refractive index layer is higher than the refractive index of the base film, and is preferably in the range of 1.5 to 2.2 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. The means for adjusting the refractive index of the high refractive index layer is that the kind and addition amount of the metal oxide fine particles are dominant, so that the refractive index of the metal oxide fine particles is preferably 1.80 to 2.60, More preferably, it is 1.85 to 2.50.

金属酸化物微粒子は有機化合物により表面処理してもよい。金属酸化物微粒子の表面を有機化合物で表面修飾することによって、有機溶媒中での分散安定性が向上し、分散粒径の制御が容易になるとともに、経時での凝集、沈降を抑えることもできる。このため、好ましい有機化合物での表面修飾量は金属酸化物粒子に対して0.1質量%〜5質量%、より好ましくは0.5質量%〜3質量%である。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が含まれる。この中でもシランカップリング剤が好ましい。二種以上の表面処理を組み合わせてもよい。   The metal oxide fine particles may be surface-treated with an organic compound. By modifying the surface of the metal oxide fine particles with an organic compound, the dispersion stability in an organic solvent is improved, the dispersion particle size can be easily controlled, and aggregation and sedimentation over time can be suppressed. . For this reason, the surface modification amount with a preferable organic compound is 0.1 mass%-5 mass% with respect to metal oxide particle, More preferably, it is 0.5 mass%-3 mass%. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, silane coupling agents are preferred. Two or more kinds of surface treatments may be combined.

高屈折率層の屈折率は、具体的には、基材フィルムの屈折率より高く、23℃、波長550nm測定で、1.5〜2.2の範囲であることが好ましい。高屈折率層の屈折率を調整する手段は、金属酸化物微粒子の種類、添加量が支配的である為、金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60であることが好ましく、1.85〜2.50であることが更に好ましい。   Specifically, the refractive index of the high refractive index layer is higher than the refractive index of the base film, and is preferably in the range of 1.5 to 2.2 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. The means for adjusting the refractive index of the high refractive index layer is that the kind and addition amount of the metal oxide fine particles are dominant, so that the refractive index of the metal oxide fine particles is preferably 1.80 to 2.60, More preferably, it is 1.85 to 2.50.

使用する金属酸化物微粒子と後述する活性光線硬化性樹脂等のバインダーとの比は、金属酸化物微粒子の種類、粒子サイズなどにより異なるが体積比で前者1に対して後者2から前者2に対して後者1程度が好ましい。   The ratio of the metal oxide fine particles to be used and a binder such as actinic ray curable resin to be described later varies depending on the kind of metal oxide fine particles, the particle size, etc., but the volume ratio of the former 1 to the latter 2 to the former 2 The latter one is preferable.

金属酸化物微粒子の使用量は高屈折率層中に5質量%〜85質量%が好ましく、10質量%〜80質量%であることがより好ましく、20〜75質量%が最も好ましい。使用量が少ないと所望の屈折率や本発明の効果が得られず、多過ぎると膜強度の劣化などが発生する。   The amount of the metal oxide fine particles used is preferably 5% by mass to 85% by mass, more preferably 10% by mass to 80% by mass, and most preferably 20% by mass to 75% by mass in the high refractive index layer. If the amount used is small, the desired refractive index and the effect of the present invention cannot be obtained, and if it is too large, the film strength deteriorates.

上記金属酸化物微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、ケトンアルコール(例、ジアセトンアルコール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The metal oxide fine particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol). , Esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene) Chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol), propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate. Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

また金属酸化物微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することができる。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。分散剤を含有させることも好ましい。   The metal oxide fine particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder. It is also preferable to contain a dispersant.

更にコア/シェル構造を有する金属酸化物微粒子を含有させてもよい。シェルはコアの周りに1層形成させてもよいし、耐光性を更に向上させるために複数層形成させてもよい。コアは、シェルにより完全に被覆されていることが好ましい。   Furthermore, metal oxide fine particles having a core / shell structure may be contained. One layer of the shell may be formed around the core, or a plurality of layers may be formed in order to further improve the light resistance. The core is preferably completely covered by the shell.

コアは酸化チタン(ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等)、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることができるが、ルチル型の酸化チタンを主成分としてもよい。   For the core, titanium oxide (rutile type, anatase type, amorphous type, etc.), zirconium oxide, zinc oxide, cerium oxide, indium oxide doped with tin, tin oxide doped with antimony, etc. can be used. Titanium may be the main component.

シェルは酸化チタン以外の無機化合物を主成分とし、金属の酸化物または硫化物から形成することが好ましい。例えば、二酸化珪素(シリカ)、酸化アルミニウム(アルミナ)酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化鉄、硫化亜鉛等を主成分とした無機化合物が用いられる。この内アルミナ、シリカ、ジルコニア(酸化ジルコニウム)であることが好ましい。また、これらの混合物でもよい。   The shell is preferably formed of a metal oxide or sulfide containing an inorganic compound other than titanium oxide as a main component. For example, an inorganic compound mainly composed of silicon dioxide (silica), aluminum oxide (alumina) zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, iron oxide, zinc sulfide, or the like is used. Of these, alumina, silica, and zirconia (zirconium oxide) are preferable. A mixture of these may also be used.

コアに対するシェルの被覆量は、平均の被覆量で2〜50質量%である。好ましくは3〜40質量%、更に好ましくは4〜25質量%である。シェルの被覆量が多いと微粒子の屈折率が低下し、被覆量が少な過ぎると耐光性が劣化する。二種以上の無機微粒子を併用してもよい。   The coating amount of the shell with respect to the core is 2 to 50% by mass as an average coating amount. Preferably it is 3-40 mass%, More preferably, it is 4-25 mass%. When the coating amount of the shell is large, the refractive index of the fine particles is lowered, and when the coating amount is too small, the light resistance is deteriorated. Two or more inorganic fine particles may be used in combination.

コアとなる酸化チタンは、液相法または気相法で作製されたものを使用できる。また、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば、米国特許第3,410,708号、特公昭58−47061号、米国特許第2,885,366号、同第3,437,502号、英国特許第1,134,249号、米国特許第3,383,231号、英国特許第2,629,953号、同第1,365,999号に記載されている方法等を用いることができる。   The titanium oxide used as a core can use what was produced by the liquid phase method or the gaseous-phase method. As a method for forming the shell around the core, for example, U.S. Pat. No. 3,410,708, JP-B-58-47061, U.S. Pat. No. 2,885,366, and U.S. Pat. No. 1, British Patent No. 1,134,249, US Pat. No. 3,383,231, British Patent No. 2,629,953, No. 1,365,999, etc. Can do.

高屈折率層もしくは前述の低屈折率層には、下記一般式(CL1)で表される化合物またはそのキレート化合物を含有することができ、硬度などの物性を改善させることができる。   The high refractive index layer or the low refractive index layer described above can contain a compound represented by the following general formula (CL1) or a chelate compound thereof, and can improve physical properties such as hardness.

一般式(CL1) AnMBx−n
式中、Mは金属原子、Aは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Bは金属原子Mに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。xは金属原子Mの原子価、nは2以上でx以下の整数を表す。
General formula (CL1) AnMBx-n
In the formula, M represents a metal atom, A represents a hydrolyzable functional group or a hydrocarbon group having a hydrolyzable functional group, and B represents an atomic group covalently or ionically bonded to the metal atom M. x represents the valence of the metal atom M, and n represents an integer of 2 or more and x or less.

加水分解可能な官能基Aとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記一般式(CL1)に属する金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を2個以上有するアルコキシド、または、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシドまたはそれらのキレート化合物を挙げることができる。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁し易いため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化性樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることができる。   Examples of the hydrolyzable functional group A include halogens such as alkoxyl groups and chloro atoms, ester groups and amide groups. The metal compound belonging to the general formula (CL1) includes an alkoxide having two or more alkoxyl groups directly bonded to a metal atom, or a chelate compound thereof. Preferable metal compounds include titanium alkoxide, zirconium alkoxide, or chelate compounds thereof. Titanium alkoxide has a high reaction rate and a high refractive index and is easy to handle. However, since it has a photocatalytic action, its light resistance deteriorates when added in a large amount. Zirconium alkoxide has a high refractive index but tends to become cloudy, so care must be taken in dew point management during coating. Moreover, since titanium alkoxide has the effect of promoting the reaction of the ultraviolet curable resin and metal alkoxide, the physical properties of the coating film can be improved by adding a small amount.

チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−iso−プロポキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタン等が挙げられる。   Examples of the titanium alkoxide include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-iso-propoxy titanium, tetra-n-propoxy titanium, tetra-n-butoxy titanium, tetra-sec-butoxy titanium, tetra-tert-butoxy titanium, and the like. Is mentioned.

ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−iso−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−ブトキシジルコニウム、テトラ−sec−ブトキシジルコニウム、テトラ−tert−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。   Examples of the zirconium alkoxide include tetramethoxy zirconium, tetraethoxy zirconium, tetra-iso-propoxy zirconium, tetra-n-propoxy zirconium, tetra-n-butoxy zirconium, tetra-sec-butoxy zirconium, tetra-tert-butoxy zirconium and the like. Is mentioned.

遊離の金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量1万以下のものを挙げることができる。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成できる。   Preferred chelating agents for coordination with free metal compounds to form chelate compounds include alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol and propylene glycol, acetylacetone and acetoacetate Examples thereof include ethyl and the like having a molecular weight of 10,000 or less. By using these chelating agents, it is possible to form a chelate compound that is stable against water mixing and is excellent in the effect of reinforcing the coating film.

金属化合物の添加量は、高屈折率層に含まれる該金属化合物由来の金属酸化物の含有量が0.3〜5質量%であるように調整することが好ましい。0.3質量%未満では耐擦り傷性が不足し、5質量%を超えると耐光性が劣化する傾向がある。   The addition amount of the metal compound is preferably adjusted so that the content of the metal oxide derived from the metal compound contained in the high refractive index layer is 0.3 to 5% by mass. If it is less than 0.3% by mass, the scratch resistance is insufficient, and if it exceeds 5% by mass, the light resistance tends to deteriorate.

高屈折率層には、活性光線硬化性樹脂を、金属酸化物微粒子のバインダーとして、塗膜の製膜性や物理的特性の向上のために含有させることが好ましい。活性光線硬化性樹脂としては、紫外線や電子線のような活性光線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を2個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。ポリオールアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートもしくはそれらの混合物が好ましく、例えば前記ハードコート層で説明した多官能アクリレート系化合物が好ましい。   The high refractive index layer preferably contains an actinic ray curable resin as a binder for the metal oxide fine particles in order to improve the film formability and physical properties of the coating film. Examples of the actinic ray curable resin include monomers or oligomers having two or more functional groups that cause polymerization reaction directly by irradiation of actinic rays such as ultraviolet rays and electron beams or indirectly by the action of a photopolymerization initiator. Can be used. Polyol acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate or a mixture thereof is preferable, for example, the polyfunctional acrylate compound described in the hard coat layer is preferable.

活性光線硬化性樹脂の添加量は、高屈折率組成物では固形分中の15質量%以上50質量%未満であることが好ましい。   The addition amount of the actinic ray curable resin is preferably 15% by mass or more and less than 50% by mass in the solid content in the high refractive index composition.

活性光線硬化性樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤と分子中に重合可能な不飽和結合を2個以上有するアクリル系化合物とを質量比で3:7〜1:9含有することが好ましい。   In order to accelerate the curing of the actinic ray curable resin, it may contain a photopolymerization initiator and an acrylic compound having two or more polymerizable unsaturated bonds in the molecule in a mass ratio of 3: 7 to 1: 9. preferable.

光重合開始剤としては、具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto.

高屈折率層を塗布する際に用いられる有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。   Examples of the organic solvent used for coating the high refractive index layer include alcohols (for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol). , Benzyl alcohol, etc.), polyhydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thio Diglycol, etc.), polyhydric alcohol ethers (eg, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol) Cole monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether , Ethylene glycol monophenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (for example, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ethylenedi) Mines, diethylenediamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.) Heterocycles (for example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide, etc.), Examples include sulfones (for example, sulfolane), urea, acetonitrile, acetone, and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable.

高屈折率層の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、高屈折率層を形成する上記塗布組成物を塗布し、塗布後、加熱乾燥し、必要に応じて硬化処理することで形成される。塗布量は、ウェット膜厚として0.05〜100μmが適当で、好ましくは、0.1〜50μmである。また、ドライ膜厚が上記膜厚となるように塗布組成物の固形分濃度は調整される。高屈折率層は2層以上であってもよい。   As a coating method of the high refractive index layer, the coating composition for forming the high refractive index layer is applied using a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, and an ink jet method. After the coating, it is dried by heating and, if necessary, is cured. The coating amount is suitably 0.05 to 100 μm, preferably 0.1 to 50 μm, as the wet film thickness. Further, the solid content concentration of the coating composition is adjusted so that the dry film thickness becomes the above film thickness. Two or more high refractive index layers may be used.

(反射率)
反射防止フィルムの反射率(反射防止層の反射率)は、分光光度計、分光測色計により測定を行うことができる。その際、サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色スプレー、黒色アクリル板の貼り付け等して光吸収処理を行ってから、可視光領域(400〜700nm)の反射光を測定する。
(Reflectance)
The reflectance of the antireflection film (the reflectance of the antireflection layer) can be measured with a spectrophotometer or a spectrocolorimeter. At that time, after the surface on the measurement side of the sample is roughened, the light absorption treatment is performed by attaching a black spray, a black acrylic plate, etc., and then the reflected light in the visible light region (400 to 700 nm) is measured. To do.

反射率は低いほど好ましいが、可視光領域の波長における平均値が1.5%以下であることが、LCD等の画像表示装置の最表面に用いた場合の外光反射防止機能が好適に得られる点から好ましい。また、最低反射率は0.8%以下であることが好ましい。   The lower the reflectivity, the better. However, the average value in the visible light region wavelength of 1.5% or less suitably obtains an external light antireflection function when used on the outermost surface of an image display device such as an LCD. It is preferable from the point of being. Further, the minimum reflectance is preferably 0.8% or less.

また、可視光の波長領域において平坦な形状の反射スペクトルを有することが好ましい。また、反射防止処理を施した表示装置表面の反射色相は、反射防止膜の設計上可視光領域において短波長域や長波長域の反射率が高くなることから赤や青に色づくことが多いが、反射光の色味は用途によって要望が異なり、薄型テレビ等の最表面に使用する場合にはニュートラルな色調が好まれる。この場合、一般に好まれる反射色相範囲は、XYZ表色系(CIE1931表色系)上で0.17≦x≦0.27、0.07≦y≦0.17である。また、xy平面上の(x、y)=(0.31、0.31)の距離Δxyが、0.05以下となる範囲がより色味がないニュートラルに近いため好ましく、0.03以下が更に好ましい。   Moreover, it is preferable to have a flat reflection spectrum in the visible light wavelength region. In addition, the reflection hue on the surface of the display device that has been subjected to the antireflection treatment is often colored red or blue because the reflectance in the short wavelength region and the long wavelength region is high in the visible light region due to the design of the antireflection film. The color tone of the reflected light varies depending on the application, and when used on the outermost surface of a flat-screen television or the like, a neutral color tone is preferred. In this case, generally preferred reflection hue ranges are 0.17 ≦ x ≦ 0.27 and 0.07 ≦ y ≦ 0.17 on the XYZ color system (CIE1931 color system). Further, the range in which the distance Δxy of (x, y) = (0.31, 0.31) on the xy plane is 0.05 or less is preferable because it is closer to neutral with no color, and 0.03 or less is preferable. Further preferred.

色調は、各層の屈折率より、反射率、反射光の色味を考慮して膜厚を常法に従って計算して調整することで達成できる。   The color tone can be achieved by calculating and adjusting the film thickness according to a conventional method in consideration of the reflectance and the color of reflected light from the refractive index of each layer.

(表面処理及び塗設)
各層を塗布する前に表面処理することが好ましい。表面処理方法としては、洗浄法、アルカリ鹸化処理法、アルカリ液塗布、プラズマ処理法(例えば、フレームプラズマ処理法、高周波放電プラズマ法)、電子ビーム法、イオンビーム法、スパッタリング法、酸処理、コロナ処理法、大気圧グロー放電プラズマ法等が挙げられる。
(Surface treatment and coating)
It is preferable to perform a surface treatment before applying each layer. Surface treatment methods include cleaning methods, alkali saponification methods, alkaline solution coating, plasma treatment methods (eg flame plasma treatment method, radio frequency discharge plasma method), electron beam method, ion beam method, sputtering method, acid treatment, corona Examples thereof include a treatment method and an atmospheric pressure glow discharge plasma method.

<基材フィルム>
本発明に用いられる基材フィルムは、製造が容易であること、ハードコート層と接着し易いこと、光学的に等方性であることが好ましい。これらの性質を有していれば何れでもよく、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートオネートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム等のセルロースエステル系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン(ポリエーテルスルホンも含む)系フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。これらの内、セルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタックKC8UX2M、KC4UX2M、KC4UY、KC8UT、KC5UN、KC12UR、KC8UCR−3、KC8UCR−4(以上、コニカミノルタオプト(株)製))、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルムが好ましく、特にセルロースエステル系フィルムが、製造上、コスト面、等方性、接着性、及び本発明の目的効果が好適に得られることから好ましい。
<Base film>
The base film used in the present invention is preferably easy to produce, easy to adhere to the hard coat layer, and optically isotropic. Any of these may be used, for example, cellulose ester films such as triacetyl cellulose film, cellulose acetate propionate ionate film, cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc. Polyester film such as phthalate, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film, Shinji Otectic polystyrene film, norbornene resin film, polymethylpentene Examples include, but are not limited to, film, polyether ketone film, polyether ketone imide film, polyamide film, fluororesin film, nylon film, cycloolefin polymer film, polymethyl methacrylate film or acrylic film. Absent. Among these, cellulose ester films (for example, Konica Minoltak KC8UX2M, KC4UX2M, KC4UY, KC8UT, KC5UN, KC12UR, KC8UCR-3, KC8UCR-4 (above, manufactured by Konica Minolta Opto), polycarbonate film, cycloolefin A polymer film and a polyester film are preferred, and a cellulose ester film is particularly preferred from the viewpoint of production, cost, isotropy, adhesiveness, and the object effects of the present invention.

(セルロースエステル系フィルム)
次にセルロースエステル系フィルム(以下、セルロースエステルフィルムともいう)について説明する。
(Cellulose ester film)
Next, a cellulose ester film (hereinafter also referred to as a cellulose ester film) will be described.

セルロースエステル樹脂(以下セルロースエステルともいう)は、セルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等や、特開平10−45804号、同08−231761号、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることができる。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは単独或いは混合して用いることができる。   The cellulose ester resin (hereinafter also referred to as cellulose ester) is preferably a lower fatty acid ester of cellulose. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. For example, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate and the like, and JP-A Nos. 10-45804 and 08-231761. , Mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate as described in US Pat. No. 2,319,052 can be used. Among the above descriptions, the lower fatty acid esters of cellulose particularly preferably used are cellulose triacetate and cellulose acetate propionate. These cellulose esters can be used alone or in combination.

セルローストリアセテートの場合には、平均酢化度(結合酢酸量)54.0〜62.5%のものが好ましく用いられ、更に好ましいのは、平均酢化度が58.0〜62.5%のセルローストリアセテートである。平均酢化度が小さいと寸法変化が大きく、また偏光板の偏光度が低下する。平均酢化度が大きいと溶剤に対する溶解度が低下し生産性が下がる。   In the case of cellulose triacetate, those having an average degree of acetylation (bound acetic acid amount) of 54.0 to 62.5% are preferably used, and more preferably an average degree of acetylation of 58.0 to 62.5%. Cellulose triacetate. When the average degree of acetylation is small, the dimensional change is large, and the polarization degree of the polarizing plate is lowered. When the average acetylation degree is large, the solubility in a solvent is lowered and the productivity is lowered.

セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロースエステルである。   Preferred cellulose esters other than cellulose triacetate have an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, the substitution degree of acetyl group is X, and the substitution degree of propionyl group or butyryl group is Y, the following formula ( It is a cellulose ester containing the cellulose ester which satisfy | fills I) and (II) simultaneously.

式(I) 2.6≦X+Y≦3.0
式(II) 0≦X≦2.5
この内特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。アシル基の置換度の測定方法はASTM−D817−96に準じて測定することができる。
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Of these, cellulose acetate propionate is preferably used, and it is particularly preferable that 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9. The portion that is not substituted with an acyl group usually exists as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods. The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to ASTM-D817-96.

セルロースエステルの分子量は数平均分子量(Mn)で60000〜300000のものが好ましく、70000〜200000のものが更に好ましく、100000〜200000のものが特に好ましい。本発明で用いられるセルロースエステルは重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)比が4.0以下であることが好ましく、更に好ましくは1.4〜2.3である。   The molecular weight of the cellulose ester is preferably a number average molecular weight (Mn) of 60,000 to 300,000, more preferably 70,000 to 200,000, particularly preferably 100,000 to 200,000. The cellulose ester used in the present invention preferably has a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) ratio of 4.0 or less, more preferably 1.4 to 2.3.

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定できるので、これを用いて数平均分子量(Mn)、重量平均分子量(Mw)を算出し、その比を計算することができる。   Since the average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured using high performance liquid chromatography, the number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) can be calculated using this, and the ratio can be calculated.

測定条件は以下の通りである。   The measurement conditions are as follows.

溶媒:メチレンクロライド
カラム:Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度:0.1質量%
検出器:RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ:L6000(日立製作所(株)製)
流量:1.0ml/min
校正曲線:標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)
Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
Solvent: Methylene chloride Column: Shodex K806, K805, K803G (Used by connecting three Showa Denko Co., Ltd.)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (GL Science Co., Ltd.)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0 ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation)
A calibration curve with 13 samples from Mw = 100000 to 500 was used. The 13 samples are preferably used at approximately equal intervals.

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることができる。特に綿花リンター(以下、単にリンターとすることがある)から合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。   As the cellulose ester, a cellulose ester synthesized using cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to use a cellulose ester synthesized from cotton linter (hereinafter sometimes simply referred to as linter) alone or in combination.

また、セルロースエステルフィルムは、本発明の目的効果がより良く発揮されるほか、鉛筆硬度にも優れる点から、アクリル樹脂を含有することが好ましい。   In addition, the cellulose ester film preferably contains an acrylic resin from the viewpoint that the object and effects of the present invention are better exhibited and that the pencil hardness is also excellent.

(アクリル樹脂、アクリル粒子)
アクリル樹脂としては、メタクリル樹脂も含まれる。樹脂としては特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位50〜99質量%、及びこれと共重合可能な他の単量体単位1〜50質量%からなるものが好ましい。
(Acrylic resin, acrylic particles)
Acrylic resin also includes methacrylic resin. Although it does not restrict | limit especially as resin, What consists of 50-99 mass% of methyl methacrylate units and 1-50 mass% of other monomer units copolymerizable with this is preferable.

共重合可能な他の単量体としては、アルキル数の炭素数が2〜18のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が1〜18のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα,β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα,β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、N−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、或いは2種以上を併用して用いることができる。   Other monomers that can be copolymerized include alkyl methacrylates having 2 to 18 carbon atoms, alkyl acrylates having 1 to 18 carbon atoms, acrylic acid, methacrylic acid, and the like. Saturated acids, maleic acids, fumaric acids, unsaturated divalent carboxylic acids such as itaconic acid, aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, and nucleus-substituted styrene, α, β- such as acrylonitrile, methacrylonitrile, etc. Examples thereof include unsaturated nitrile, maleic anhydride, maleimide, N-substituted maleimide, glutaric anhydride, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、s−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやn−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。   Among these, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, s-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like are preferable from the viewpoint of thermal decomposition resistance and fluidity of the copolymer. n-Butyl acrylate is particularly preferably used.

アクリル樹脂は、フィルムとしての機械的強度、フィルムを生産する際の流動性の点から重量平均分子量(Mw)が80000〜1000000であることが好ましい。重量平均分子量(Mw)は上記の高速液体クロマトグラフィーを用い測定できる。   The acrylic resin preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 80000 to 1000000 from the viewpoint of mechanical strength as a film and fluidity when producing the film. A weight average molecular weight (Mw) can be measured using said high performance liquid chromatography.

アクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、或いは溶液重合等の公知の方法のいずれを用いてもよい。ここで、重合開始剤としては、通常のパーオキサイド系及びアゾ系のものを用いることができ、また、レドックス系とすることもできる。重合温度については、懸濁または乳化重合では30〜100℃、塊状または溶液重合では80〜160℃で実施しうる。更に、生成共重合体の還元粘度を制御するために、アルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用いて重合を実施することもできる。この分子量とすることで、耐熱性と脆性の両立を図ることができる。アクリル樹脂としては、市販のものも使用することができる。例えば、デルペット60N、80N(旭化成ケミカルズ(株)製)、ダイヤナールBR52、BR80,BR83,BR85,BR88(三菱レイヨン(株)製)、KT75(電気化学工業(株)製)等が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of an acrylic resin, You may use any well-known methods, such as suspension polymerization, emulsion polymerization, block polymerization, or solution polymerization. Here, as a polymerization initiator, a normal peroxide type and an azo type can be used, and a redox type can also be used. Regarding the polymerization temperature, suspension or emulsion polymerization may be performed at 30 to 100 ° C, and bulk or solution polymerization may be performed at 80 to 160 ° C. Further, in order to control the reduced viscosity of the produced copolymer, polymerization can be carried out using alkyl mercaptan or the like as a chain transfer agent. With this molecular weight, both heat resistance and brittleness can be achieved. A commercially available thing can also be used as an acrylic resin. For example, Delpet 60N, 80N (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.), Dialal BR52, BR80, BR83, BR85, BR88 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), KT75 (Electrochemical Industry Co., Ltd.) and the like can be mentioned. .

次に、セルロースエステルフィルムは、本発明の目的効果が良好に発揮されるほか、特に鉛筆硬度にも優れることから、アクリル樹脂と更にアクリル粒子を含有することが好ましい。   Next, since the cellulose ester film exhibits the objective effect of the present invention well and is particularly excellent in pencil hardness, it is preferable to contain an acrylic resin and further acrylic particles.

アクリル粒子は、例えば、作製したアクリル樹脂含有フィルムを所定量採取し、溶媒に溶解させて攪拌し、十分に溶解・分散させたところで、アクリル粒子の平均粒子径未満の孔径を有するPTFE製のメンブレンフィルターを用いて濾過し、濾過捕集された不溶物の重さが、アクリル樹脂含有フィルムに添加したアクリル粒子の90質量%以上あることが好ましい。   Acrylic particles, for example, a PTFE membrane having a pore diameter less than the average particle diameter of acrylic particles when a predetermined amount of the prepared acrylic resin-containing film is collected, dissolved in a solvent, stirred, and sufficiently dissolved and dispersed. It is preferable that the weight of the insoluble matter filtered and collected using a filter is 90% by mass or more of the acrylic particles added to the acrylic resin-containing film.

アクリル粒子は特に限定されるものではないが、2層以上の層構造を有するアクリル粒子であることが好ましく、特に下記多層構造アクリル系粒状複合体であることが好ましい。   The acrylic particles are not particularly limited, but are preferably acrylic particles having a layer structure of two or more layers, and particularly preferably the following multilayer structure acrylic granular composite.

多層構造アクリル系粒状複合体とは、中心部から外周部に向かって最内硬質層重合体、ゴム弾性を示す架橋軟質層重合体、及び最外硬質層重合体が、層状に重ね合わされてなる構造を有する粒子状のアクリル系重合体を言う。   The multilayer structure acrylic granular composite is formed by laminating the innermost hard layer polymer, the cross-linked soft layer polymer exhibiting rubber elasticity, and the outermost hard layer polymer from the central portion toward the outer peripheral portion. This refers to a particulate acrylic polymer having a structure.

アクリル系樹脂組成物に用いられる多層構造アクリル系粒状複合体の好ましい態様としては、以下の様なものが挙げられる。(a)メチルメタクリレート80〜98.9質量%、アルキル基の炭素数が1〜8のアルキルアクリレート1〜20質量%、及び多官能性グラフト剤0.01〜0.3質量%からなる単量体混合物を重合して得られる最内硬質層重合体、(b)上記最内硬質層重合体の存在下に、アルキル基の炭素数が4〜8のアルキルアクリレート75〜98.5質量%、多官能性架橋剤0.01〜5質量%及び多官能性グラフト剤0.5〜5質量%からなる単量体混合物を重合して得られる架橋軟質層重合体、(c)上記最内硬質層及び架橋軟質層からなる重合体の存在下に、メチルメタクリレート80〜99質量%とアルキル基の炭素数が1〜8であるアルキルアクリレート1〜20質量%とからなる単量体混合物を重合して得られる最外硬層重合体、よりなる3層構造を有し、且つ得られた3層構造重合体が最内硬質層重合体(a)5〜40質量%、軟質層重合体(b)30〜60質量%、及び最外硬質層重合体(c)20〜50質量%からなり、アセトンで分別したときに不溶部があり、その不溶部のメチルエチルケトン膨潤度が1.5〜4.0であるアクリル系粒状複合体、が挙げられる。   Preferred embodiments of the multilayer structure acrylic granular composite used in the acrylic resin composition include the following. (A) Monomer comprising 80 to 98.9% by mass of methyl methacrylate, 1 to 20% by mass of alkyl acrylate having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group, and 0.01 to 0.3% by mass of polyfunctional grafting agent An innermost hard layer polymer obtained by polymerizing the body mixture, (b) in the presence of the innermost hard layer polymer, 75 to 98.5% by mass of an alkyl acrylate having an alkyl group with 4 to 8 carbon atoms, A crosslinked soft layer polymer obtained by polymerizing a monomer mixture composed of 0.01 to 5% by mass of a multifunctional crosslinking agent and 0.5 to 5% by mass of a multifunctional grafting agent, (c) the innermost hard In the presence of a polymer comprising a layer and a crosslinked soft layer, a monomer mixture composed of 80 to 99% by mass of methyl methacrylate and 1 to 20% by mass of alkyl acrylate having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group is polymerized. Outermost hard layer polymer obtained by And the obtained three-layer structure polymer has an innermost hard layer polymer (a) of 5 to 40% by mass, a soft layer polymer (b) of 30 to 60% by mass, and an outermost layer polymer. The hard granular polymer (c) comprises 20 to 50% by mass, has an insoluble part when fractionated with acetone, and an acrylic granular composite having a methyl ethyl ketone swelling degree of 1.5 to 4.0 in the insoluble part. Can be mentioned.

尚、特公昭60−17406号或いは特公平3−39095号において開示されている様に、多層構造アクリル系粒状複合体の各層の組成や粒子径を規定しただけでなく、多層構造アクリル系粒状複合体の引張り弾性率やアセトン不溶部のメチルエチルケトン膨潤度を特定範囲内に設定することにより、更に十分な耐衝撃性と耐応力白化性のバランスを実現することが可能となる。   As disclosed in Japanese Patent Publication No. 60-17406 or Japanese Patent Publication No. 3-39095, not only the composition and particle diameter of each layer of the multilayer acrylic granular composite are defined, but also the multilayer acrylic granular composite. By setting the tensile modulus of the body and the degree of swelling of methyl ethyl ketone in the acetone-insoluble part within a specific range, it becomes possible to realize a further sufficient balance between impact resistance and stress whitening resistance.

ここで、多層構造アクリル系粒状複合体を構成する最内硬質層重合体(a)は、メチルメタクリレート80〜98.9質量%、アルキル基の炭素数が1〜8のアルキルアクリレート1〜20質量%及び多官能性グラフト剤0.01〜0.3質量%からなる単量体混合物を重合して得られるものが好ましい。   Here, the innermost hard layer polymer (a) constituting the multi-layer structure acrylic granular composite is 80 to 98.9% by mass of methyl methacrylate and 1 to 20% of alkyl acrylate having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group. % And a polyfunctional grafting agent obtained by polymerizing a monomer mixture consisting of 0.01 to 0.3% by mass.

ここで、アルキル基の炭素数が1〜8のアルキルアクリレートとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、s−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート等が挙げられ、メチルアクリレートやn−ブチルアクリレートが好ましく用いられる。   Here, examples of the alkyl acrylate having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, s-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and the like. And n-butyl acrylate are preferably used.

最内硬質層重合体(a)におけるアルキルアクリレート単位の割合は1〜20質量%であり、該単位が1質量%未満では、重合体の熱分解性が大きくなり、一方、該単位が20質量%を越えると、最内硬質層重合体(c)のガラス転移温度が低くなり、3層構造アクリル系粒状複合体の耐衝撃性付与効果が低下するので、いずれも好ましくない。   The proportion of the alkyl acrylate unit in the innermost hard layer polymer (a) is 1 to 20% by mass. When the unit is less than 1% by mass, the thermal decomposability of the polymer is increased, while the unit is 20% by mass. If it exceeds 50%, the glass transition temperature of the innermost hard layer polymer (c) is lowered, and the impact resistance imparting effect of the three-layer structure acrylic granular composite is lowered.

多官能性グラフト剤としては、異なる重合可能な官能基を有する多官能性単量体、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸のアリルエステル等が挙げられ、アリルメタクリレートが好ましく用いられる。多官能性グラフト剤は、最内硬質層重合体と軟質層重合体を化学的に結合するために用いられ、その最内硬質層重合時に用いる割合は0.01〜0.3質量%である。   Examples of the polyfunctional grafting agent include polyfunctional monomers having different polymerizable functional groups, such as allyl esters of acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, and fumaric acid, and allyl methacrylate is preferably used. . The polyfunctional grafting agent is used to chemically bond the innermost hard layer polymer and the soft layer polymer, and the ratio used during the innermost hard layer polymerization is 0.01 to 0.3% by mass. .

アクリル系粒状複合体を構成する架橋軟質層重合体(b)は、上記最内硬質層重合体(a)の存在下に、アルキル基の炭素数が1〜8のアルキルアクリレート75〜98.5質量%、多官能性架橋剤0.01〜5質量%及び多官能性グラフト剤0.5〜5質量%からなる単量体混合物を重合して得られるものが好ましい。   The crosslinked soft layer polymer (b) constituting the acrylic granular composite is an alkyl acrylate 75-98.5 having 1 to 8 carbon atoms in the presence of the innermost hard layer polymer (a). What is obtained by polymerizing a monomer mixture consisting of mass%, polyfunctional crosslinking agent 0.01 to 5 mass% and polyfunctional grafting agent 0.5 to 5 mass% is preferable.

ここで、アルキル基の炭素数が4〜8のアルキルアクリレートとしては、n−ブチルアクリレートや2−エチルヘキシルアクリレートが好ましく用いられる。   Here, as the alkyl acrylate having 4 to 8 carbon atoms in the alkyl group, n-butyl acrylate or 2-ethylhexyl acrylate is preferably used.

また、これらの重合性単量体と共に、25質量%以下の共重合可能な他の単官能性単量体を共重合させることも可能である。   In addition to these polymerizable monomers, it is possible to copolymerize 25% by mass or less of other monofunctional monomers capable of copolymerization.

共重合可能な他の単官能性単量体としては、スチレン及び置換スチレン誘導体が挙げられる。アルキル基の炭素数が4〜8のアルキルアクリレートとスチレンとの比率は、前者が多いほど生成重合体(b)のガラス転移温度が低下し、即ち軟質化できるのである。一方、樹脂組生物の透明性の観点からは、軟質層重合体(b)の常温での屈折率を最内硬質層重合体(a)、最外硬質層重合体(c)、及び硬質熱可塑性アクリル樹脂に近づけるほうが有利であり、これらを勘案して両者の比率を選定する。   Examples of other monofunctional monomers that can be copolymerized include styrene and substituted styrene derivatives. As the ratio of the alkyl acrylate having 4 to 8 carbon atoms in the alkyl group and styrene increases, the glass transition temperature of the produced polymer (b) decreases as the former increases, that is, it can be softened. On the other hand, from the viewpoint of the transparency of the resin assembly, the refractive index of the soft layer polymer (b) at room temperature is set to the innermost hard layer polymer (a), the outermost hard layer polymer (c), and the hard heat. It is more advantageous to make it closer to the plastic acrylic resin, and the ratio between them is selected in consideration of these.

例えば、被覆層厚みの小さな用途においては、必ずしもスチレンを共重合しなくともよい。   For example, in applications where the coating layer thickness is small, it is not always necessary to copolymerize styrene.

多官能性グラフト剤としては、前記の最内層硬質重合体(a)の項で挙げたものを用いることができる。ここで用いる多官能性グラフト剤は、軟質層重合体(b)と最外硬質層重合体(c)を化学的に結合するために用いられ、その最内硬質層重合時に用いる割合は耐衝撃性付与効果の観点から0.5〜5質量%が好ましい。   As the polyfunctional grafting agent, those mentioned in the item of the innermost layer hard polymer (a) can be used. The polyfunctional grafting agent used here is used to chemically bond the soft layer polymer (b) and the outermost hard layer polymer (c), and the proportion used during the innermost hard layer polymerization is impact resistance. 0.5-5 mass% is preferable from a viewpoint of the property provision effect.

多官能性架橋剤としては、ジビニル化合物、ジアリル化合物、ジアクリル化合物、ジメタクリル化合物などの一般に知られている架橋剤が使用できるが、ポリエチレングリコールジアクリレート(分子量200〜600)が好ましく用いられる。   As the polyfunctional crosslinking agent, generally known crosslinking agents such as divinyl compounds, diallyl compounds, diacrylic compounds, and dimethacrylic compounds can be used, and polyethylene glycol diacrylate (molecular weight 200 to 600) is preferably used.

ここで用いる多官能性架橋剤は、軟質層(b)の重合時に架橋構造を生成し、耐衝撃性付与の効果を発現させるために用いられる。ただし、先の多官能性グラフト剤を軟質層の重合時に用いれば、ある程度は軟質層(b)の架橋構造を生成するので、多官能性架橋剤は必須成分ではないが、多官能性架橋剤を軟質層重合時に用いる割合は耐衝撃性付与効果の観点から0.01〜5質量%が好ましい。   The polyfunctional cross-linking agent used here is used to generate a cross-linked structure at the time of polymerization of the soft layer (b) and develop an effect of imparting impact resistance. However, if the above-mentioned polyfunctional grafting agent is used during the polymerization of the soft layer, the polyfunctional crosslinking agent is not an essential component because the crosslinked structure of the soft layer (b) is generated to some extent. Is preferably 0.01 to 5% by mass from the viewpoint of imparting impact resistance.

多層構造アクリル系粒状複合体を構成する最外硬質層重合体(c)は、上記最内硬質層重合体(a)及び軟質層重合体(b)の存在下に、メチルメタクリレート80〜99質量%及びアルキル基の炭素数が1〜8であるアルキルアクリレート1〜20質量%からなる単量体混合物を重合して得られるものが好ましい。   In the presence of the innermost hard layer polymer (a) and the soft layer polymer (b), the outermost hard layer polymer (c) constituting the multilayer structure acrylic granular composite is 80 to 99 mass% of methyl methacrylate. % And a monomer mixture comprising 1 to 20% by mass of an alkyl acrylate having 1 to 8 carbon atoms in the alkyl group is preferred.

ここで、アクリルアルキレートとしては、前述したものが用いられるが、メチルアクリレートやエチルアクリレートが好ましく用いられる。最外硬質層(c)におけるアルキルアクリレート単位の割合は、1〜20質量%が好ましい。   Here, as the acrylic alkylate, those described above are used, and methyl acrylate and ethyl acrylate are preferably used. The ratio of the alkyl acrylate unit in the outermost hard layer (c) is preferably 1 to 20% by mass.

また、最外硬質層(c)の重合時に、アクリル樹脂との相溶性向上を目的として、分子量を調節するためアルキルメルカプタン等を連鎖移動剤として用い、実施することも可能である。   Further, for the purpose of improving the compatibility with the acrylic resin during the polymerization of the outermost hard layer (c), an alkyl mercaptan or the like can be used as a chain transfer agent to adjust the molecular weight.

とりわけ、最外硬質層に、分子量が内側から外側へ向かって次第に小さくなるような勾配を設けることは、伸びと耐衝撃性のバランスを改良するうえで好ましい。具体的な方法としては、最外硬質層を形成するための単量体混合物を2つ以上に分割し、各回ごとに添加する連鎖移動剤量を順次増加するような手法によって、分子量を内側から外側へ向かって小さくすることが可能である。この際に形成される分子量は、各回に用いられる単量体混合物をそれ単独で同条件にて重合し、得られた重合体の分子量を測定することによって調べることもできる。多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体の粒子径については、特に限定されるものではないが、10nm以上、1000nm以下であることが好ましく、更に、20nm以上、500nm以下であることがより好ましく、特に50nm以上、400nm以下であることが最も好ましい。   In particular, it is preferable to provide the outermost hard layer with a gradient such that the molecular weight gradually decreases from the inside toward the outside in order to improve the balance between elongation and impact resistance. As a specific method, the monomer mixture for forming the outermost hard layer is divided into two or more, and the molecular weight is increased from the inside by a method of sequentially increasing the amount of chain transfer agent added each time. It is possible to make it smaller toward the outside. The molecular weight formed at this time can also be examined by polymerizing the monomer mixture used each time under the same conditions and measuring the molecular weight of the obtained polymer. The particle diameter of the acrylic granular composite that is a multilayer structure polymer is not particularly limited, but is preferably 10 nm or more and 1000 nm or less, and more preferably 20 nm or more and 500 nm or less. In particular, the thickness is most preferably from 50 nm to 400 nm.

多層構造重合体であるアクリル系粒状複合体において、コアとシェルの質量比は、特に限定されるものではないが、多層構造重合体全体を100質量部としたときに、コア層が50質量部以上、90質量部以下であることが好ましく、更に、60質量部以上、80質量部以下であることがより好ましい。   In the acrylic granular composite which is a multilayer structure polymer, the mass ratio of the core and the shell is not particularly limited, but when the total multilayer structure polymer is 100 parts by mass, the core layer is 50 parts by mass. The content is preferably 90 parts by mass or less, and more preferably 60 parts by mass or more and 80 parts by mass or less.

このような多層構造アクリル系粒状複合体の市販品の例としては、例えば、三菱レイヨン社製“メタブレン”、鐘淵化学工業社製“カネエース”、呉羽化学工業社製“パラロイド”、ロームアンドハース社製“アクリロイド”、ガンツ化成工業社製“スタフィロイド”及びクラレ社製“パラペットSA”などが挙げられ、これらは、単独ないし2種以上を用いることができる。   Examples of such commercially available multilayered acrylic granular composites include, for example, “Metablene” manufactured by Mitsubishi Rayon Co., “Kane Ace” manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd., “Paraloid” manufactured by Kureha Chemical Co., Ltd., Rohm and Haas “Acryloid” manufactured by KK, “Staffyroid” manufactured by Ganz Kasei Kogyo Co., Ltd., “Parapet SA” manufactured by Kuraray Co., Ltd., and the like can be used.

アクリル粒子として好適に使用されるグラフト共重合体であるアクリル粒子(c−1)の具体例としては、ゴム質重合体の存在下に、不飽和カルボン酸エステル系単量体、不飽和カルボン酸系単量体、芳香族ビニル系単量体、及び必要に応じてこれらと共重合可能な他のビニル系単量体からなる単量体混合物を共重合せしめたグラフト共重合体が挙げられる。   Specific examples of acrylic particles (c-1) which are graft copolymers suitably used as acrylic particles include unsaturated carboxylic acid ester monomers and unsaturated carboxylic acids in the presence of a rubbery polymer. Examples thereof include a graft copolymer obtained by copolymerizing a monomer mixture comprising a monomer, an aromatic vinyl monomer, and, if necessary, other vinyl monomers copolymerizable therewith.

グラフト共重合体であるアクリル粒子(c−1)に用いられるゴム質重合体には特に制限はないが、ジエン系ゴム、アクリル系ゴム及びエチレン系ゴムなどが使用できる。具体例としては、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエンのブロック共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリル酸ブチル−ブタジエン共重合体、ポリイソプレン、ブタジエン−メタクリル酸メチル共重合体、アクリル酸ブチル−メタクリル酸メチル共重合体、ブタジエン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−プロピレン−ジエン系共重合体、エチレン−イソプレン共重合体、及びエチレン−アクリル酸メチル共重合体などが挙げられる。これらのゴム質重合体は、1種または2種以上の混合物で使用することが可能である。   Although there is no restriction | limiting in particular in the rubbery polymer used for the acrylic particle (c-1) which is a graft copolymer, Diene rubber, acrylic rubber, ethylene rubber, etc. can be used. Specific examples include polybutadiene, styrene-butadiene copolymer, block copolymer of styrene-butadiene, acrylonitrile-butadiene copolymer, butyl acrylate-butadiene copolymer, polyisoprene, butadiene-methyl methacrylate copolymer. , Butyl acrylate-methyl methacrylate copolymer, butadiene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-propylene copolymer, ethylene-propylene-diene copolymer, ethylene-isoprene copolymer, and ethylene-acrylic acid Examples thereof include a methyl copolymer. These rubbery polymers can be used alone or in a mixture of two or more.

また、アクリル樹脂及びアクリル粒子のそれぞれの屈折率が近似している場合、基材フィルムの透明性を得ることができるため、好ましい。具体的には、アクリル粒子とアクリル樹脂の屈折率差が0.05以下であることが好ましく、より好ましくは0.02以下、とりわけ0.01以下であることが好ましい。   Moreover, since the transparency of a base film can be obtained when each refractive index of an acrylic resin and an acrylic particle is approximated, it is preferable. Specifically, the refractive index difference between the acrylic particles and the acrylic resin is preferably 0.05 or less, more preferably 0.02 or less, and particularly preferably 0.01 or less.

このような屈折率条件を満たすためには、アクリル樹脂の各単量体単位組成比を調整する方法、及び/またはアクリル粒子に使用されるゴム質重合体或いは単量体の組成比を調製する方法などにより、屈折率差を小さくすることができ、透明性に優れたアクリル樹脂含有フィルムを得ることができる。   In order to satisfy such a refractive index condition, a method for adjusting the composition ratio of each monomer unit of the acrylic resin and / or a composition ratio of the rubbery polymer or monomer used for the acrylic particles is prepared. Depending on the method, the difference in refractive index can be reduced, and an acrylic resin-containing film excellent in transparency can be obtained.

尚、ここで言う屈折率差とは、アクリル樹脂が可溶な溶媒に、アクリル樹脂含有フィルムを適当な条件で十分に溶解させ白濁溶液とし、これを遠心分離等の操作により、溶媒可溶部分と不溶部分に分離し、この可溶部分(アクリル樹脂)と不溶部分(アクリル粒子)をそれぞれ精製した後、測定した屈折率(23℃、測定波長:550nm)の差を示す。   The difference in refractive index referred to here means that the acrylic resin-containing film is sufficiently dissolved in a solvent in which the acrylic resin is soluble to obtain a cloudy solution, which is then subjected to an operation such as centrifugation, to obtain a solvent-soluble portion. And the soluble part (acrylic resin) and the insoluble part (acrylic particles) are purified respectively, and the difference in the measured refractive index (23 ° C., measurement wavelength: 550 nm) is shown.

アクリル樹脂に、アクリル粒子を配合する方法には、特に制限はなく、アクリル樹脂とその他の任意成分を予めブレンドした後、通常200〜350℃において、アクリル粒子を添加しながら一軸または二軸押出機により均一に溶融混練する方法が好ましく用いられる。   There is no restriction | limiting in particular in the method of mix | blending an acrylic particle with an acrylic resin, After blending an acrylic resin and another arbitrary component previously, it is a single screw or a twin screw extruder, adding an acrylic particle normally at 200-350 degreeC. Thus, a method of uniformly melting and kneading is preferably used.

アクリル粒子としては、市販のものも使用することができる。例えば、メタブレンW−341(C2)(三菱レイヨン(株)製)を、ケミスノーMR−2G(C3)、MS−300X(C4)(綜研化学(株)製)等を挙げることができる。   A commercially available thing can also be used as an acrylic particle. For example, metabrene W-341 (C2) (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Chemisnow MR-2G (C3), MS-300X (C4) (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.

アクリル粒子はセルロースエステル樹脂とアクリル樹脂の総質量に対して、0.5〜45質量%のアクリル粒子を含有することが好ましい。   The acrylic particles preferably contain 0.5 to 45% by mass of acrylic particles with respect to the total mass of the cellulose ester resin and the acrylic resin.

また、セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルム(以下、セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムとも言う)は、張力軟化点が105〜145℃で、且つ延性破壊が起こらないフィルムが好ましい。延性破壊とは、ある材料が有する強度よりも、大きな応力が作用することで生じるものであり、最終破断までに材料の著しい伸びや絞りを伴う破壊と定義される。張力軟化点温度の具体的な測定方法としては、例えば、テンシロン試験機(ORIENTEC社製、RTC−1225A)を用いて、アクリル樹脂含有フィルムを120mm(縦)×10mm(幅)で切り出し、10Nの張力で引っ張りながら30℃/minの昇温速度で昇温を続け、9Nになった時点での温度を3回測定し、その平均値により求めることができる。   Moreover, the film which consists of a cellulose-ester resin and an acrylic resin (henceforth a cellulose-ester resin and an acrylic resin film) has a tension softening point of 105-145 degreeC, and a film with which ductile fracture does not occur is preferable. Ductile fracture is caused by the application of a greater stress than the strength of a certain material, and is defined as a fracture that involves significant elongation or drawing of the material before final fracture. As a specific measurement method of the tension softening point temperature, for example, using a Tensilon tester (ORIENTEC Co., RTC-1225A), the acrylic resin-containing film is cut out at 120 mm (length) × 10 mm (width), and 10N The temperature can be raised at a rate of 30 ° C./min while pulling with tension, and the temperature at 9 N is measured three times, and the average value can be obtained.

また、セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムは、ガラス転移温度(Tg)が110℃以上であることが好ましい。より好ましくは120℃以上である。特に好ましくは150℃以上である。   Moreover, it is preferable that the film consisting of a cellulose ester resin and an acrylic resin has a glass transition temperature (Tg) of 110 ° C. or higher. More preferably, it is 120 ° C. or higher. Especially preferably, it is 150 degreeC or more.

ガラス転移温度とは、示差走査熱量測定器(Perkin Elmer社製DSC−7型)を用いて、昇温速度20℃/分で測定し、JIS K7121(1987)に従い求めた中間点ガラス転移温度(Tmg)である。   The glass transition temperature is determined by using a differential scanning calorimeter (DSC-7, manufactured by Perkin Elmer) at a heating rate of 20 ° C./min, and determined in accordance with JIS K7121 (1987). Tmg).

セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムは、JIS−K7127−1999に準拠した測定において、少なくとも一方向の破断伸度が、10%以上であることが好ましく、より好ましくは20%以上である。破断伸度の上限は特に限定されるものではないが、現実的には250%程度である。破断伸度を大きくするには異物や発泡に起因するフィルム中の欠点を抑制することが有効である。セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムの厚みは、20μm以上であることが好ましい。   A film composed of a cellulose ester resin and an acrylic resin preferably has a breaking elongation in at least one direction of 10% or more, more preferably 20% or more, in the measurement based on JIS-K7127-1999. The upper limit of the elongation at break is not particularly limited, but is practically about 250%. In order to increase the elongation at break, it is effective to suppress defects in the film caused by foreign matter and foaming. The thickness of the film made of cellulose ester resin and acrylic resin is preferably 20 μm or more.

より好ましくは30μm以上である。厚みの上限は特に限定される物ではないが、溶液製膜法でフィルム化する場合は、塗布性、発泡、溶媒乾燥などの観点から、上限は250μm程度である。尚、フィルムの厚みは用途により適宜選定することができる。   More preferably, it is 30 μm or more. The upper limit of the thickness is not particularly limited, but in the case of forming a film by a solution casting method, the upper limit is about 250 μm from the viewpoint of applicability, foaming, solvent drying, and the like. The thickness of the film can be appropriately selected depending on the application.

セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムは、加工性及び耐熱性の両立の点から、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂を95:5〜30:70の質量比で含有することが好ましく、またセルロースエステル樹脂のアシル基の総置換度(T)が2.00〜3.00、アセチル基置換度(ac)が0〜1.89、アセチル基以外のアシル基の炭素数が3〜7であり、重量平均分子量(Mw)が75000〜280000であることが好ましい。また、アクリル樹脂とセルロースエステル樹脂の総質量は、アクリル樹脂含有フィルムの55〜100質量%であり、好ましくは60〜99質量%である。   The film comprising a cellulose ester resin and an acrylic resin preferably contains an acrylic resin and a cellulose ester resin in a mass ratio of 95: 5 to 30:70 from the viewpoint of both workability and heat resistance. The total substitution degree (T) of the acyl group is 2.00 to 3.00, the acetyl group substitution degree (ac) is 0 to 1.89, the number of carbons of the acyl group other than the acetyl group is 3 to 7, and the weight The average molecular weight (Mw) is preferably 75,000 to 280000. Moreover, the total mass of an acrylic resin and a cellulose-ester resin is 55-100 mass% of an acrylic resin containing film, Preferably it is 60-99 mass%.

セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムは、その他のアクリル樹脂を含有して構成されていてもよい。   A film made of a cellulose ester resin and an acrylic resin may contain other acrylic resins.

セルロースエステルフィルムやセルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなるフィルムは、溶液流延法で製造されたものでも、溶融流延法で製造されたものでもよいが、少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残溶量が3〜40質量%である時に幅手方向に1.01〜1.5倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に2軸延伸することであり、剥離残溶量が3〜40質量%である時に幅手方向及び長手方向に、各々1.01〜1.5倍に延伸されることが望ましい。このときの延伸倍率としては特に好ましくは、1.03〜1.45倍である。   A cellulose ester film or a film made of a cellulose ester resin and an acrylic resin may be produced by a solution casting method or a melt casting method, but preferably at least stretched in the width direction. In particular, when the amount of residual peeling is 3 to 40% by mass in the solution casting step, it is preferably stretched 1.01 to 1.5 times in the width direction. More preferably, it is biaxially stretched in the width direction and the lengthwise direction, and when the amount of residual dissolution is 3 to 40% by mass, it is stretched by 1.01 to 1.5 times in the width direction and the lengthwise direction, respectively. It is desirable that The draw ratio at this time is particularly preferably 1.03 to 1.45.

また、基材フィルムの長さは100m〜5000m、幅は1.2m以上が好ましく、更に好ましくは1.4〜4mである。基材フィルムの長さ及び幅を前記範囲とすることで、取り扱い性や生産性に優れる。   The length of the base film is preferably 100 m to 5000 m, and the width is preferably 1.2 m or more, more preferably 1.4 to 4 m. By making the length and width of the base film within the above ranges, the handleability and productivity are excellent.

セルロースエステルフィルムは、光透過率が90%以上、より好ましくは93%以上の透明支持体であることが好ましい。   The cellulose ester film is preferably a transparent support having a light transmittance of 90% or more, more preferably 93% or more.

(可塑剤)
セルロースエステルフィルムやセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムには、下記のような可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
(Plasticizer)
The cellulose ester film or cellulose ester resin / acrylic resin film preferably contains the following plasticizer. Examples of plasticizers include phosphate ester plasticizers, phthalate ester plasticizers, trimellitic acid ester plasticizers, pyromellitic acid plasticizers, glycolate plasticizers, citrate ester plasticizers, and polyesters. A plasticizer, a polyhydric alcohol ester plasticizer, and the like can be preferably used.

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ−n−(2−エチルヘキシル)シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。   For phosphate plasticizers, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenylbiphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, etc. For phthalate ester plasticizers, diethyl phthalate, dimethoxy For trimellitic acid plasticizers such as ethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diphenyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, tributyl trimellitate, triphenyl trimellitate, triethyl For pyromellitic acid ester plasticizers such as trimellitate, tetrabutylpyromellitate, In the case of glycolate plasticizers such as lupyromelitate and tetraethylpyromellitate, triacetin, tributyrin, ethylphthalylethyl glycolate, methylphthalylethyl glycolate, butylphthalylbutyl glycolate, etc. Citrate, tri-n-butyl citrate, acetyl triethyl citrate, acetyl tri-n-butyl citrate, acetyl tri-n- (2-ethylhexyl) citrate and the like can be preferably used. Examples of other carboxylic acid esters include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and various trimellitic acid esters.

ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、1,4−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,3−ブチレングリコール、1,2−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。   As the polyester plasticizer, a copolymer of a dibasic acid and a glycol such as an aliphatic dibasic acid, an alicyclic dibasic acid, or an aromatic dibasic acid can be used. The aliphatic dibasic acid is not particularly limited, and adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexyl dicarboxylic acid, and the like can be used. As glycol, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,2-butylene glycol and the like can be used. These dibasic acids and glycols may be used alone or in combination of two or more.

多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる。好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2ープロパンジオール、1,3ープロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2ーブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5ーペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール、等を上げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトール、であることが好ましい。多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸などを用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを上げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。脂肪族モノカルボン酸としては炭素数1〜32の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数1〜20であることが更に好ましく、炭素数1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを上げることができる。好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を上げることができる。好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を2個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を上げることができる。特に安息香酸であることが好ましい。多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、分子量300〜1500の範囲であることが好ましく、350〜750の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The polyhydric alcohol ester plasticizer comprises an ester of a divalent or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid. Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, 2-n-butyl-2-ethyl-1, 3-propanediol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, xylitol, and the like can be raised. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable. There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid used for polyhydric alcohol ester, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention. Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto. As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. It is more preferable that it is C1-C20, and it is especially preferable that it is C1-C10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid. Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanecarboxylic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, and laccelic acid, undecylenic acid, olein Unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid and arachidonic acid can be raised. Examples of preferable alicyclic monocarboxylic acid include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and derivatives thereof. Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenyl carboxylic acid, naphthalene carboxylic acid, and tetralin carboxylic acid. Aromatic monocarboxylic acids or derivatives thereof can be raised. Particularly preferred is benzoic acid. The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably in the range of 300 to 1500, and more preferably in the range of 350 to 750. The larger one is preferable in terms of improving the retention, and the smaller one is preferable in terms of moisture permeability and compatibility with the cellulose ester.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基はカルボン酸で全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して1〜20質量%が好ましく、特に好ましくは、3〜13質量%である。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified with carboxylic acid, or a part of the OH groups may be left as they are. These plasticizers are preferably used alone or in combination. The amount of these plasticizers used is preferably from 1 to 20% by mass, particularly preferably from 3 to 13% by mass, based on the cellulose ester, in terms of film performance, processability and the like.

(紫外線吸収剤)
基材フィルムには紫外線吸収剤を含有させてもよい。次に紫外線吸収剤について説明する。
(UV absorber)
You may make a base film contain a ultraviolet absorber. Next, the ultraviolet absorber will be described.

紫外線吸収剤としては、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ良好な液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。   As the ultraviolet absorber, those excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display properties.

具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples include, but are not limited to, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, and the like.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては以下の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Although the following specific examples are given as a benzotriazole type ultraviolet absorber, this invention is not limited to these.

UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171、チバ・ジャパン(株)製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109、チバ・ジャパン(株)製)
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては以下の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6 (Linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN171, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.)
UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- Mixture of 4-hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (TINUVIN109, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.)
Moreover, although the following specific examples are shown as a benzophenone series ultraviolet absorber, this invention is not limited to these.

UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
上記紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
As the UV absorber, a benzotriazole UV absorber and a benzophenone UV absorber, which are highly transparent and excellent in preventing the deterioration of polarizing plates and liquid crystals, are preferable, and benzotriazole UV absorption with less unnecessary coloring is preferable. An agent is particularly preferably used.

また、特願平11−295209号に記載されている分配係数が9.2以上の紫外線吸収剤を用いることができ、特に分配係数が10.1以上の紫外線吸収剤が基材フィルムの面品質を良好に維持できる点から好ましい。   In addition, an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 9.2 or more described in Japanese Patent Application No. 11-295209 can be used, and in particular, an ultraviolet absorber having a distribution coefficient of 10.1 or more is the surface quality of the base film. Is preferable from the standpoint of maintaining good.

また、特開平6−148430号の一般式(1)または一般式(2)、特願2000−156039の一般式(3)、(6)、(7)記載の高分子紫外線吸収剤(または紫外線吸収性ポリマー)も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、PUVA−30M(大塚化学(株)製)等が市販されている。   Further, the polymer ultraviolet absorber (or ultraviolet ray) described in the general formula (1) or general formula (2) of JP-A-6-148430 and the general formulas (3), (6), and (7) of Japanese Patent Application No. 2000-156039. Absorbable polymers) are also preferably used. As a polymer ultraviolet absorber, PUVA-30M (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) and the like are commercially available.

また、基材フィルムには、内部ヘーズを付与させてもよい。   Moreover, you may give an internal haze to a base film.

(粒子)
内部ヘーズは、例えば基材フィルムに基材フィルムと屈折率の異なる粒子を添加し、添加量や粒子の粒径等をコントロールすることで、内部散乱によるヘーズを発生させ、これを調整することで達成できる。粒子としては、無機粒子と有機粒子に区別される。無機粒子としては特に限定されず、例えば、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等が挙げられる。また、有機粒子としては特に限定されず、例えば、フッ素化アクリル樹脂粉末、ポリスチレン樹脂粉末、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、シリコーン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、更にポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリ弗化エチレン樹脂粉末等が挙げられる。これらの無機粒子及び有機粒子は、種類、平均粒子径が異なる2種以上を併用してもよく、粒子の表面を有機物により表面処理したものも好ましく用いられる。
(particle)
Internal haze, for example, by adding particles with a refractive index different from that of the base film to the base film, and controlling the addition amount and particle size of the particles, generating haze due to internal scattering, and adjusting this Can be achieved. The particles are classified into inorganic particles and organic particles. The inorganic particles are not particularly limited, and examples thereof include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, calcium carbonate, barium sulfate, talc, kaolin, and calcium sulfate. The organic particles are not particularly limited. For example, fluorinated acrylic resin powder, polystyrene resin powder, polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, silicone resin powder, polycarbonate resin powder, acrylic styrene resin powder, benzoguanamine resin Examples thereof include powder, melamine resin powder, polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, and polyfluoroethylene resin powder. These inorganic particles and organic particles may be used in combination of two or more different types and average particle diameters, and those obtained by surface-treating the surface of the particles with an organic substance are also preferably used.

特に好ましい無機粒子は、これらの中でも二酸化珪素である。二酸化珪素の具体例としては、アエロジル200V、アエロジルR972V、アエロジルR972、R974、R812、200、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)、シーホスターKEP−10、シーホスターKEP−30、シーホスターKEP−50(以上、株式会社日本触媒製)、サイロホービック100(富士シリシア製)、ニップシールE220A(日本シリカ工業製)、アドマファインSO(アドマテックス製)等の商品名を有する市販品などが好ましく使用できる。粒子の形状としては、不定形、針状、扁平、球状等特に制限なく使用できるが、特に球状の粒子を用いるとヘーズを調整するのが容易であり好ましい。有機粒子としては、フッ素含有アクリル樹脂粒子が特に好適である。   Particularly preferred inorganic particles are silicon dioxide. Specific examples of silicon dioxide include Aerosil 200V, Aerosil R972V, Aerosil R972, R974, R812, 200, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.), Sea Hoster KEP-10, Sea Hoster KEP-30, Commercial products having trade names such as Seahoster KEP-50 (above, made by Nippon Shokubai Co., Ltd.), Silo Hovic 100 (made by Fuji Silysia), Nip Seal E220A (made by Nippon Silica Kogyo), Admafine SO (made by Admatechs), etc. Can be preferably used. The shape of the particles can be used without any particular limitation, such as indefinite shape, needle shape, flat shape, spherical shape, etc. However, the use of spherical particles is particularly preferable because it is easy to adjust the haze. As the organic particles, fluorine-containing acrylic resin particles are particularly suitable.

フッ素含有アクリル樹脂粒子としては、例えばフッ素含有のアクリル酸エステル或いはメタクリル酸エステルのモノマーまたはポリマーから形成された粒子である。フッ素含有のアクリル酸エステル或いはメタクリル酸エステルの具体例としては、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−パーフルオロデシルエチル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−3−メチルブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチル(メタ)アクリレート、3−(パーフルオロ−3−メチルブチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−(パーフルオロ−5−メチルヘキシル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−(パーフルオロ−7−メチルオクチル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、1H−1−(トリフルオロメチル)トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、1H,1H,3H−ヘキサフルオロブチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルアクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル−α−フルオロアクリレートが挙げられる。また、フッ素含有アクリル樹脂粒子の中でも、2−(パーフルオロブチル)エチル−α−フルオロアクリレートからなる粒子、フッ素含有ポリメチルメタクリレート粒子、フッ素含有メタアクリル酸を架橋剤の存在下にビニル単量体と共重合させた粒子が好ましく、更に好ましくはフッ素含有ポリメチルメタクリレート粒子である。   The fluorine-containing acrylic resin particles are, for example, particles formed from a fluorine-containing acrylic ester or methacrylic ester monomer or polymer. Specific examples of the fluorine-containing acrylic ester or methacrylic ester include 1H, 1H, 3H-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 7H- Dodecafluoroheptyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (Meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2-perfluorodecylethyl (Meth) acrylate, 3-perf Orobutyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-3-methylbutyl ) Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-5-methylhexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl (meth) acrylate, 3- (perfluoro-3-methylbutyl) 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3- (perfluoro-5-methylhexyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3- (perfluoro-7-methyloctyl) -2-hydroxypropyl (meth) Acrylate, 1H-1- ( (Rifluoromethyl) trifluoroethyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 3H-hexafluorobutyl (meth) acrylate, trifluoroethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, perfluorooctylethyl acrylate, 2- (perfluorobutyl) ethyl In addition, among the fluorine-containing acrylic resin particles, particles made of 2- (perfluorobutyl) ethyl-α-fluoroacrylate, fluorine-containing polymethyl methacrylate particles, and fluorine-containing methacrylic acid are cross-linked. Particles copolymerized with a vinyl monomer in the presence of an agent are preferred, and fluorine-containing polymethyl methacrylate particles are more preferred.

フッ素含有(メタ)アクリル酸と共重合可能なビニル単量体としては、ビニル基を有するものであればよく、具体的にはメタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸アルキルエステル、及びスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類等が挙げられ、これらは単独でまたは混合して用いることができる。重合反応の際に用いられる架橋剤としては、特に限定されないが、2個以上の不飽和基を有するものを用いることが好ましく、例えばエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等の2官能性ジメタクリレートや、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジビニルベンゼン等が挙げられる。   The vinyl monomer copolymerizable with fluorine-containing (meth) acrylic acid is not particularly limited as long as it has a vinyl group. Specifically, alkyl methacrylates such as methyl methacrylate and butyl methacrylate, and methyl acrylate. , Alkyl acrylates such as ethyl acrylate, and styrenes such as styrene and α-methylstyrene. These may be used alone or in combination. The crosslinking agent used in the polymerization reaction is not particularly limited, but those having two or more unsaturated groups are preferably used. For example, bifunctional dimethacrylates such as ethylene glycol dimethacrylate and polyethylene glycol dimethacrylate are used. And trimethylolpropane trimethacrylate, divinylbenzene and the like.

尚、フッ素含有ポリメチルメタクリレート粒子を製造するための重合反応は、ランダム共重合及びブロック共重合のいずれでもよい。具体的には、例えば特開2000−169658号公報に記載の方法なども挙げることができる。   The polymerization reaction for producing the fluorine-containing polymethyl methacrylate particles may be either random copolymerization or block copolymerization. Specifically, for example, the method described in JP-A No. 2000-169658 can also be mentioned.

市販品としては、根上工業製:MF−0043等の市販品が挙げられる。尚、これらのフッ素含有アクリル樹脂粒子は、単独で用いてもよいが、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、これらのフッ素含有アクリル樹脂粒子の状態は、粉体或いはエマルジョン等、どのような状態で加えられてもよい。   As a commercial item, commercial items, such as Negami Industries make: MF-0043, are mentioned. In addition, these fluorine-containing acrylic resin particles may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the state of these fluorine-containing acrylic resin particles may be added in any state such as powder or emulsion.

また、特開2004−83707号公報の段落0028〜0055に記載のフッ素含有架橋粒子を用いてもよい。   Moreover, you may use the fluorine-containing crosslinked particle of Paragraphs 0028-0055 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-83707.

ポリスチレン粒子としては、例えば綜研化学製;SX−130H、SX−200H、SX−350H)、積水化成品工業製、SBXシリーズ(SBX−6、SBX−8)等の市販品を挙げられる。   Examples of polystyrene particles include commercially available products such as those manufactured by Soken Chemicals; SX-130H, SX-200H, SX-350H), Sekisui Plastics, SBX series (SBX-6, SBX-8).

メラミン系粒子としては、例えば、日本触媒製:ベンゾグアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合物(商品名:エポスター、グレード;M30、商品名:エポスターGP、グレード;H40〜H110)、日本触媒製:メラミン・ホルムアルデヒド縮合物(商品名:エポスター、グレード;S12、S6、S、SC4)等の市販品を挙げられる。また、コアがメラミン系樹脂からなり、シェルがシリカで充填されたコア−シェル型の球状複合硬化メラミン樹脂粒子等も挙げられる。具体的には特開2006−171033号公報に記載の方法で作製することができ、日産化学工業製:メラミン樹脂・シリカ複合粒子(商品名;オプトビーズ)等の市販品を挙げられる。   Examples of the melamine-based particles include a product made by Nippon Shokubai: benzoguanamine / melamine / formaldehyde condensate (trade name: eposter, grade; M30, product name: eposter GP, grade; H40 to H110), and made by Nippon Shokubai: melamine / formaldehyde condensation. Commercial products such as products (trade name: eposter, grade; S12, S6, S, SC4) can be mentioned. Moreover, the core-shell type spherical composite cured melamine resin particles in which the core is made of a melamine resin and the shell is filled with silica are also exemplified. Specifically, it can be produced by the method described in JP-A-2006-171033, and commercially available products such as melamine resin / silica composite particles (trade name: Opto Beads) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. can be mentioned.

ポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子としては、例えば、綜研化学製;MX150、MX300、日本触媒製;エポスターMA、グレード;MA1002、MA1004、MA1006、MA1010、エポスターMX(エマルジョン)、グレード;MX020W、MX030W、MX050W、MX100W、積水化成品工業製:MBXシリーズ(MBX−8、MBX12)等の市販品を挙げられる。   Examples of the poly ((meth) acrylate) particles and the crosslinked poly ((meth) acrylate) particles include, for example, Soken Chemicals; MX150, MX300, Nippon Shokubai; Eposta MA, Grades; MA1002, MA1004, MA1006, MA1010, Epostor MX (Emulsion), grade: MX020W, MX030W, MX050W, MX100W, manufactured by Sekisui Plastics: MBX series (MBX-8, MBX12), and other commercial products.

架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子の具体例としては、例えば日本ペイント製:FS−201、MG−351等の市販品が挙げられる。ベンゾグアナミン系粒子としては、例えば日本触媒製:ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合物(商品名:エポスター、グレード;L15、M05、MS、SC25)等が挙げられる。   Specific examples of the crosslinked poly (acryl-styrene) particles include commercial products such as FS-201 and MG-351 manufactured by Nippon Paint. Examples of the benzoguanamine-based particles include a product manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd .: benzoguanamine / formaldehyde condensate (trade name: eposter, grade; L15, M05, MS, SC25).

支持体に添加する粒子の平均粒子径は0.3〜1μmが好ましく、0.4〜0.7μmが更に好ましい。   The average particle size of the particles added to the support is preferably from 0.3 to 1 μm, more preferably from 0.4 to 0.7 μm.

上記平均粒子径は、500個の粒子を走査型電子顕微鏡(SEM)等により得られる二次電子放出のイメージ写真からの目視やイメージ写真を画像処理することにより、または動的光散乱法、静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により計測することができる。ここでいう平均粒子径は、個数平均粒子径をさす。尚、平均粒子径は、粒子が1次粒子の凝集体の場合は凝集体の平均粒子径を意味する。また、粒子が球状でない場合は、その投影面積に相当する円の直径を意味する。   The average particle size can be determined by visual observation from an image photograph of secondary electron emission obtained by scanning electron microscope (SEM) or the like of 500 particles or by image processing, or by dynamic light scattering, static It can be measured by a particle size distribution meter using an automatic light scattering method or the like. The average particle diameter here refers to the number average particle diameter. In addition, an average particle diameter means the average particle diameter of an aggregate, when particle | grains are the aggregates of a primary particle. Moreover, when a particle is not spherical, it means the diameter of a circle corresponding to the projected area.

また、粒子の屈折率は、1.45〜1.70であることが好ましく、より好ましくは1.45〜1.65である。尚、粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定できる。   The refractive index of the particles is preferably 1.45 to 1.70, more preferably 1.45 to 1.65. In addition, the refractive index of the particles is measured by measuring the turbidity by dispersing the same amount of particles in the solvent in which the refractive index is changed by changing the mixing ratio of two kinds of solvents having different refractive indexes. The refractive index of the solvent can be measured by measuring with an Abbe refractometer.

また、支持体に用いる樹脂と該粒子の屈折率差は、0.02以上0.20以下であることが光散乱効果を利用して内部ヘーズを高める上で好ましい。屈折率差のより好ましい範囲は、0.05以上0.15以下である。   In addition, the refractive index difference between the resin used for the support and the particles is preferably 0.02 or more and 0.20 or less in order to increase the internal haze using the light scattering effect. A more preferable range of the refractive index difference is 0.05 or more and 0.15 or less.

上記無機または有機粒子の含有量は、フィルム基材の作製用の樹脂100質量部に対して、1質量部〜30質量部が好ましく、内部ヘーズを得る上でより好ましくは5質量部〜25質量部である。   The content of the inorganic or organic particles is preferably 1 part by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin for producing the film base material, and more preferably 5 parts by mass to 25 parts by mass for obtaining the internal haze. Part.

前記粒子は、基材フィルムを作製する組成物(ドープ)の調製時にセルロースエステル、他の添加剤及び有機溶媒とともに含有させて分散させてもよく、また、単独で溶液中に分散させてもよい。粒子の分散方法としては、前もって有機溶媒に浸してから高剪断力を有する分散機(高圧分散装置)で細分散させておくのが好ましい。   The particles may be dispersed together with cellulose ester, other additives and an organic solvent when preparing the composition (dope) for producing the base film, or may be dispersed alone in the solution. . As a method for dispersing the particles, it is preferable that the particles are preliminarily dispersed in an organic solvent and then finely dispersed by a disperser (high pressure disperser) having a high shearing force.

ドープ調製方法としては、多量の有機溶媒に粒子を分散しておき、セルロースエステル溶液と合流させ、インラインミキサーで混合してドープにすることが好ましい。この場合、粒子分散液に紫外線吸収剤を加え紫外線吸収剤液としてもよい。   As a dope preparation method, it is preferable to disperse particles in a large amount of an organic solvent, merge with a cellulose ester solution, and mix with an in-line mixer to form a dope. In this case, an ultraviolet absorbent may be added to the particle dispersion to form an ultraviolet absorbent liquid.

また、上記の劣化防止剤、紫外線吸収剤は、セルロースエステルやセルロースエステル樹脂とアクリル樹脂からなる溶液の調製の際に、セルロースエステル、セルロースエステル樹脂とアクリル樹脂は溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。   In addition, in the preparation of a solution composed of cellulose ester or cellulose ester resin and an acrylic resin, the above-mentioned deterioration inhibitor and ultraviolet absorber may be added together with a solvent, cellulose ester, cellulose ester resin and acrylic resin, It may be added during or after solution preparation.

(有機溶媒)
ドープには、製膜性や生産性の点から、有機溶媒を含有することが好ましい。有機溶媒としては、セルロースエステル、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。例えば、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができる。これら有機溶媒の中でも塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンが好ましく用いられる。
(Organic solvent)
The dope preferably contains an organic solvent from the viewpoint of film forming properties and productivity. Any organic solvent can be used without limitation as long as it dissolves cellulose ester and other additives simultaneously. For example, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3 , 3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3 , 3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane and the like. Among these organic solvents, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, and acetone are preferably used.

ドープには、上記有機溶媒の他に、1〜40質量%の炭素原子数1〜4のアルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭素原子数1〜4のアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、且つ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。   The dope preferably contains 1 to 40% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms in addition to the organic solvent. When the proportion of alcohol in the dope increases, the web gels, facilitating peeling from the metal support, and when the proportion of alcohol is small, the role of promoting dissolution of cellulose esters in non-chlorine organic solvent systems There is also. Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, sec-butanol, and tert-butanol. Ethanol is preferred because of the stability, boiling point of these inner dopes, relatively good drying, and no toxicity.

ドープ中のセルロースエステルの濃度は15〜40質量%、ドープ粘度は100〜500ポアズ(P)の範囲に調整されることが良好なフィルム面品質を得る上で好ましい。   The concentration of the cellulose ester in the dope is preferably adjusted to 15 to 40% by mass, and the dope viscosity is preferably adjusted to a range of 100 to 500 poise (P) in order to obtain good film surface quality.

(溶液流延法)
セルロースエステルフィルム、及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムは、溶液流延法による製造では、セルロースエステル或いはセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂、及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状もしくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻き取る工程により行われる。
(Solution casting method)
Cellulose ester film, and cellulose ester resin / acrylic resin film are produced by a solution casting method. A step of preparing a dope by dissolving cellulose ester or cellulose ester resin / acrylic resin and an additive in a solvent, and belting the dope A step of casting on a metal support in the form of a drum or a drum, a step of drying the cast dope as a web, a step of peeling from the metal support, a step of stretching or maintaining the width, a step of further drying, and a finished film It is performed by a winding process.

ドープ中のセルロースエステル、及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂の濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、更に好ましくは、15〜25質量%である。   The concentration of cellulose ester in the dope, and the concentration of cellulose ester resin / acrylic resin is preferably higher because the drying load after casting on a metal support can be reduced. The load increases, and the filtration accuracy deteriorates. As a density | concentration which makes these compatible, 10-35 mass% is preferable, More preferably, it is 15-25 mass%.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface. As the metal support, a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set to −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferable because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or the flatness may deteriorate. The preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、更に好ましくは20〜40質量%または60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%または70〜120質量%である。   In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%.

残留溶媒量は下記式で定義される。   The amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
尚、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

また、セルロースエステルフィルム或いはセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂のからなるフィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%以下である。   Further, in the drying step of the cellulose ester film or the film made of cellulose ester resin / acrylic resin, it is preferable that the web is peeled off from the metal support and further dried to make the residual solvent amount 1% by mass or less. Preferably it is 0.1 mass% or less, Most preferably, it is 0-0.01 mass%.

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a tenter method is used while drying the web.

フィルム乾燥工程では、雰囲気置換率を12回/時間以上、好ましくは12〜45回/時間の雰囲気下で搬送しながら処理することが好ましい。   In the film drying step, it is preferable to carry out the treatment while transporting in an atmosphere with an atmosphere substitution rate of 12 times / hour or more, preferably 12 to 45 times / hour.

雰囲気置換率は、熱処理室の雰囲気容量をV(m)、Fresh−air送風量をFA(m/hr)とした場合、下式によって求められる単位時間あたり熱処理室の雰囲気をFresh−airで置換する回数である。Fresh−airは熱処理室に送風される風のうち、循環再利用している風ではなく、揮発した溶媒もしくは可塑剤などを含まない、もしくはそれらが除去された新鮮な風のことを意味している。 The atmosphere substitution rate is defined as follows. When the atmosphere capacity of the heat treatment chamber is V (m 3 ) and the fresh air flow rate is FA (m 3 / hr), the atmosphere of the heat treatment chamber per unit time determined by the following formula is Fresh-air. Is the number of replacements by. “Fresh-air” means that the wind blown into the heat treatment chamber is not a wind that is recycled and reused, and it means a fresh wind that does not contain volatilized solvent or plasticizer or has been removed. Yes.

雰囲気置換率=FA/V(回/時間)
12回/時間以上の雰囲気置換率では、セルロースエステルフィルムから揮発した可塑剤による雰囲気中の可塑剤濃度を十分に低減することができ、フィルムへの再付着が低減でき好ましい。
Atmosphere replacement rate = FA / V (times / hour)
An atmosphere substitution rate of 12 times / hour or more is preferable because the plasticizer concentration in the atmosphere due to the plasticizer volatilized from the cellulose ester film can be sufficiently reduced, and reattachment to the film can be reduced.

(溶融製膜法)
セルロースエステルフィルム、及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムは、溶融製膜法によって製膜されることも好ましい。溶融製膜法は、セルロースエステル及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂、及び可塑剤などの添加剤を含む組成物を、流動性を示す温度まで加熱溶融し、その後、流動性のセルロースエステルを含む溶融物を流延することをいう。
(Melting method)
The cellulose ester film and the cellulose ester resin / acrylic resin film are also preferably formed by a melt film forming method. In the melt film-forming method, a composition containing a cellulose ester, a cellulose ester resin / acrylic resin, and an additive such as a plasticizer is heated and melted to a temperature showing fluidity, and then a melt containing a fluid cellulose ester. It means to cast.

加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れるセルロースエステルフィルム、及びセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルムを得るためには、溶融押出し法が優れている。   More specifically, the heat melting molding method can be classified into a melt extrusion molding method, a press molding method, an inflation method, an injection molding method, a blow molding method, a stretch molding method, and the like. Among these, in order to obtain a cellulose ester film excellent in mechanical strength and surface accuracy, and a cellulose ester resin / acrylic resin film, the melt extrusion method is excellent.

溶融押出しに用いる複数の原材料は、通常予め混錬してペレット化しておくことが好ましい。   It is preferable that a plurality of raw materials used for melt extrusion are usually kneaded in advance and pelletized.

ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥セルロースエステルや可塑剤、その他添加剤をフィーダーで押出し機に供給し1軸や2軸の押出し機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることでできる。   Pelletization may be performed by a known method. For example, dry cellulose ester, plasticizer, and other additives are fed to an extruder with a feeder and kneaded using a single-screw or twin-screw extruder, and formed into a strand from a die. It can be done by extrusion, water cooling or air cooling and cutting.

添加剤は、押出し機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。粒子や酸化防止剤等少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。   The additives may be mixed before being supplied to the extruder, or may be supplied by individual feeders. A small amount of additives such as particles and antioxidants are preferably mixed in advance in order to mix uniformly.

押出し機は、剪断力を抑え、樹脂が劣化(分子量低下、着色、ゲル生成等)しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、2軸押出し機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。   The extruder is preferably processed at as low a temperature as possible so as to be able to be pelletized so that the shear force is suppressed and the resin does not deteriorate (decrease in molecular weight, coloring, gel formation, etc.). For example, in the case of a twin screw extruder, it is preferable to rotate in the same direction using a deep groove type screw. From the uniformity of kneading, the meshing type is preferable.

以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。もちろんペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出し機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。   A film is formed using the pellets obtained as described above. Of course, the raw material powder can be directly fed to the extruder by a feeder without being pelletized to form a film as it is.

上記ペレットを1軸や2軸タイプの押出し機を用いて、押出す際の溶融温度を200〜300℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどで濾過し異物を除去した後、Tダイからフィルム状に流延し、冷却ロール上で固化させる。   Using a single or twin screw extruder, the pellets are melted at a temperature of about 200 to 300 ° C., filtered through a leaf disk filter, etc. to remove foreign matter, and then formed into a film from a T die. And solidified on a cooling roll.

供給ホッパーから押出し機へ導入する際は真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。   When introducing from the supply hopper to the extruder, it is preferable to prevent oxidative decomposition or the like under vacuum, reduced pressure, or inert gas atmosphere.

押出し流量は、ギヤポンプを導入するなどして安定に行うことが好ましい。また、異物の除去に用いるフィルターは、ステンレス繊維焼結フィルターが好ましく用いられる。   The extrusion flow rate is preferably performed stably by introducing a gear pump or the like. Further, a stainless fiber sintered filter is preferably used as a filter used for removing foreign substances.

ステンレス繊維焼結フィルターは、ステンレス繊維体を複雑に絡み合った状態を作り出した上で圧縮し接触箇所を焼結し一体化したもので、その繊維の太さと圧縮量により密度を変え、濾過精度を調整できる。   The stainless steel fiber sintered filter is a united stainless steel fiber body that is intricately intertwined and compressed, and the contact points are sintered and integrated. The density of the fiber is changed depending on the thickness of the fiber and the amount of compression, and the filtration accuracy is improved. Can be adjusted.

可塑剤や粒子などの添加剤は、予め樹脂と混合しておいてもよいし、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサーなどの混合装置を用いることが好ましい。   Additives such as plasticizers and particles may be mixed with the resin in advance, or may be kneaded in the middle of the extruder. In order to add uniformly, it is preferable to use a mixing apparatus such as a static mixer.

冷却ロールと弾性タッチロールでフィルムをニップする際のタッチロール側のフィルム温度はフィルムのTg以上Tg+110℃以下にすることが好ましい。このような目的で使用する弾性体表面を有するロールは、公知のロールが使用できる。   The film temperature on the touch roll side when the film is nipped between the cooling roll and the elastic touch roll is preferably Tg or more and Tg + 110 ° C. or less of the film. A well-known roll can be used for the roll which has the elastic body surface used for such a purpose.

冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。   When peeling the film from the cooling roll, it is preferable to control the tension to prevent deformation of the film.

また、上記のようにして得られたフィルムは、冷却ロールに接する工程を通過後、前記延伸操作により延伸することが好ましい。   Moreover, it is preferable that the film obtained as described above is stretched by the stretching operation after passing through the step of contacting the cooling roll.

延伸する方法は、公知のロール延伸機やテンターなどを好ましく用いることができる。延伸温度は、通常フィルムを構成する樹脂のTg〜Tg+60℃の温度範囲で行われることが好ましい。巻き取る前に、製品となる幅に端部をスリットして裁ち落とし、巻き中の貼り付きや擦り傷防止のために、ナール加工(エンボッシング加工)を両端に施してもよい。ナール加工の方法は凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。尚、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、フィルムが変形しており製品として使用できないので切除されて、再利用される。   As a method of stretching, a known roll stretching machine or tenter can be preferably used. The stretching temperature is usually preferably performed in the temperature range of Tg to Tg + 60 ° C. of the resin constituting the film. Before winding, the end may be slit and cut to the width to be the product, and knurling (embossing) may be applied to both ends to prevent sticking and scratching during winding. The knurling method can process a metal ring having an uneven pattern on its side surface by heating or pressing. In addition, since the film has deform | transformed and cannot use as a product normally, the holding part of the clip of both ends of a film is cut out and reused.

(偏光板保護フィルム)
本発明の製造方法を用いて作製したハードコートフィルムを偏光板保護フィルムとした場合、該保護フィルムの厚さは10〜500μmが好ましい。特に20μm以上、更に35μm以上が好ましい。また、150μm以下、更に120μm以下が好ましい。特に好ましくは25以上〜90μmが好ましい。上記領域よりも反射防止フィルムが厚いと偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的には適さない。一方、上記領域よりも薄いと、リターデーションの発現が困難となること、フィルムの透湿性が高くなり偏光子に対して湿度から保護する能力が低下してしまうために好ましくない。
(Polarizing plate protective film)
When the hard coat film produced using the production method of the present invention is used as a polarizing plate protective film, the thickness of the protective film is preferably 10 to 500 μm. In particular, it is preferably 20 μm or more, and more preferably 35 μm or more. Moreover, 150 micrometers or less, Furthermore 120 micrometers or less are preferable. Most preferably, it is 25 or more and 90 micrometers. If the antireflection film is thicker than the above region, the polarizing plate after polarizing plate processing becomes too thick, and is not suitable for the purpose of thin and light in liquid crystal displays used for notebook personal computers and mobile electronic devices. On the other hand, if it is thinner than the above-mentioned region, it is not preferable because it becomes difficult to develop retardation, the moisture permeability of the film becomes high, and the ability to protect the polarizer from humidity decreases.

(偏光板)
本発明の製造方法で作製したハードコートフィルム、及び該ハードコートフィルムのハードコート層上に低屈折率層を積層した反射防止フィルムを用いた偏光板について述べる。偏光板は一般的な方法で作製する際、アルカリ鹸化処理したハードコートフィルム又は反射防止フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせて作製されるが、本発明の製造方法で作製したハードコートフィルム、及び該ハードコートフィルムのハードコート層上に低屈折率層を積層した反射防止フィルムでは、アルカリ鹸化処理をせずに偏光膜と貼り合せることができるため、アルカリ鹸化工程で発生する異物付着等もなく、画像表示装置に用いた際の異物による表示欠陥の発生が抑制される点から好ましい。
(Polarizer)
A hard coat film produced by the production method of the present invention and a polarizing plate using an antireflection film in which a low refractive index layer is laminated on the hard coat layer of the hard coat film will be described. When a polarizing plate is produced by a general method, a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution is formed on at least one surface of a polarizing film produced by immersing and stretching an alkali saponified hard coat film or antireflection film in an iodine solution. In the antireflection film in which the low refractive index layer is laminated on the hard coat layer of the hard coat film and the hard coat layer of the hard coat film, an alkali saponification treatment is performed. Since it can be bonded to the polarizing film without causing any adhesion of foreign matter that occurs in the alkali saponification step, it is preferable from the viewpoint of suppressing the occurrence of display defects due to foreign matter when used in an image display device.

また、アルカリ鹸化処理において、異物付着やハードコート層又は低屈折率層の劣化を防止するため、鹸化前にハードコート層及び低屈折率層に、予め剥離性の保護フィルムを張り付けて保護することが一般的に行われるが、本発明の製造方法で作製したハードコートフィルム、及び該ハードコートフィルムのハードコート層上に低屈折率層を積層した反射防止フィルムでは、剥離性の保護フィルムを貼り付ける工程や剥離工程を必要としないため、設備負荷がなく、生産性にも優れる。   In addition, in alkali saponification treatment, in order to prevent foreign matter adhesion and deterioration of the hard coat layer or the low refractive index layer, a protective film that can be peeled off is previously applied to the hard coat layer and the low refractive index layer for protection. In general, a hard coat film produced by the production method of the present invention and an antireflection film in which a low refractive index layer is laminated on the hard coat layer of the hard coat film are coated with a peelable protective film. Since no attaching process or peeling process is required, there is no equipment load and the productivity is excellent.

また、偏光板は通常、ハードコートフィルム又は反射防止フィルムを貼りあわせたもう一方の面に偏光板保護フィルムも貼りあわされる。偏光板保護フィルムとしては、面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、Rtが70〜400nmの位相差を有する光学補償フィルム(位相差フィルム)を好ましく用いられる。これらは例えば、特開2002−71957号、特願2002−155395号記載の方法で作製することができる。または、更にディスコチック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348号記載の方法で光学異方性層を形成することができる。或いは、特開2003−12859号記載のリターデーションRoが590nmで0〜5nm、Rtが−20〜+20nmの無配向フィルムも好ましく用いられる。上記作製した本発明の偏光板は、安定した視野角拡大効果を有する。   Moreover, a polarizing plate protective film is usually affixed on the other surface which bonded the hard coat film or the antireflection film. As the polarizing plate protective film, an optical compensation film (retardation film) having an in-plane retardation Ro of 590 nm, a retardation of 20 to 70 nm, and an Rt of 70 to 400 nm is preferably used. These can be prepared, for example, by the methods described in JP-A No. 2002-71957 and Japanese Patent Application No. 2002-155395. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in JP-A-2003-98348. Alternatively, a non-oriented film having a retardation Ro of 590 nm of 0 to 5 nm and an Rt of -20 to +20 nm described in JP-A No. 2003-12859 is also preferably used. The produced polarizing plate of the present invention has a stable viewing angle expansion effect.

偏光板保護フィルムの市販品として、KC8UX2MW、KC4UX、KC5UX、KC4UY、KC8UY、KC12UR、KC4UEW、KC8UCR−3、KC8UCR−4、KC8UCR−5、KC4FR−1、KC4FR−2、KC8UE、KC4UE(コニカミノルタオプト(株)製)等を挙げることができる。   Commercially available polarizing plate protective films include KC8UX2MW, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC4UEW, KC8UCR-3, KC8UCR-4, KC8UCR-5, KC4FR-1, KC4FR-2, KC8UE, K4T For example).

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがあるがこれのみに限定されるものではない。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の膜厚は5〜30μm、好ましくは8〜15μmの偏光膜が好ましく用いられる。該偏光膜の面上に、本発明の反射防止フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are ones in which iodine is dyed on a system film and ones in which a dichroic dye is dyed, but it is not limited to this. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. A polarizing film having a thickness of 5 to 30 μm, preferably 8 to 15 μm, is preferably used. On the surface of the polarizing film, one side of the antireflection film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

(画像表示装置)
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた画像表示装置を作製することができる。
(Image display device)
By incorporating the polarizing plate of the present invention into a display device, various image display devices with excellent visibility can be produced.

具体的には、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置またはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型、OCB型等の各種駆動方式の液晶表示装置、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種画像表示装置に組み込まれる。   Specifically, a reflective type, a transmissive type, a transflective type liquid crystal display device, or various driving methods such as a TN type, STN type, OCB type, HAN type, VA type (PVA type, MVA type), IPS type, OCB type, etc. Embedded in various image display devices such as liquid crystal display devices, plasma displays, field emission displays, organic EL displays, inorganic EL displays, and electronic paper.

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
(基材フィルム1;セルロースエステルフィルム1の製造)
(ドープ液組成1)
下記の材料を、順次密閉容器中に投入し、容器内温度を20℃から80℃まで昇温した後、温度を80℃に保ったままで3時間攪拌を行って、セルロースエステルを完全に溶解した。酸化ケイ素微粒子は予め添加する溶媒と少量のセルロースエステルの溶液中に分散して添加した。このドープを濾紙(安積濾紙株式会社製、安積濾紙No.244)を使用して濾過し、ドープ液組成1を得た。
Example 1
(Base film 1; production of cellulose ester film 1)
(Dope solution composition 1)
The following materials were sequentially put into a sealed container, the temperature in the container was raised from 20 ° C. to 80 ° C., and the mixture was stirred for 3 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. to completely dissolve the cellulose ester. . The silicon oxide fine particles were added dispersed in a solution of a solvent to be added in advance and a small amount of cellulose ester. This dope was filtered using filter paper (Azumi filter paper No. 244, manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd.) to obtain a dope solution composition 1.

セルローストリアセテート(アセチル基置換度2.95) 100質量部
トリメチロールプロパントリベンゾエート 5質量部
エチルフタリルエチルグリコレート 5質量部
酸化ケイ素微粒子 0.2質量部
(アエロジルR972V、日本アエロジル株式会社製)
チヌビン109(チバ・ジャパン(株)社製) 1質量部
チヌビン171(チバ・ジャパン(株)社製) 1質量部
メチレンクロライド 300質量部
エタノール 40質量部
ブタノール 5質量部
次に、得られたドープ液組成1を、温度35℃に保温した流延ダイを通より、ステンレス鋼製エンドレスベルトよりなる温度35℃の支持体上に流延して、ウェブを形成した。次いで、ウェブを支持体上で乾燥させ、ウェブの残留溶媒量が80質量%になった段階で、剥離ロールによりウェブを支持体から剥離した。
Cellulose triacetate (acetyl group substitution degree 2.95) 100 parts by weight Trimethylolpropane tribenzoate 5 parts by weight Ethylphthalylethyl glycolate 5 parts by weight Fine particles of silicon oxide 0.2 parts by weight (Aerosil R972V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Japan) 1 part by weight Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Japan) 1 part by weight Methylene chloride 300 parts by weight Ethanol 40 parts by weight Butanol 5 parts by weight Next, the obtained dope The liquid composition 1 was cast through a casting die kept at a temperature of 35 ° C. onto a support having a temperature of 35 ° C. made of a stainless steel endless belt to form a web. Next, the web was dried on the support, and the web was peeled from the support with a peeling roll when the residual solvent amount of the web reached 80% by mass.

剥離後のウェブを、上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で90℃の乾燥風にて乾燥させながら搬送し、続いてテンターでウェブ両端部を把持した後、温度130℃で幅方向に延伸前の1.1倍となるように延伸した。テンターでの延伸の後、ウェブを上下に複数配置したロールによる搬送乾燥工程で、温度135℃の乾燥風にて乾燥させた。乾燥工程の雰囲気置換率15(回/時間)とした雰囲気内で15分間熱処理した後、室温まで冷却して巻き取り、幅1.5m、膜厚40μm、長さ3500m、屈折率1.49の長尺のセルロースエステルフィルム1を作製した。またフィルムは、両端部に幅2cm、平均高さ20μmのナーリング加工を施して巻き取った。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出される剥離直後のウェブ搬送方向の延伸倍率は、1.1倍であった。   The web after peeling is transported while being dried with 90 ° C drying air in a transport drying process using a plurality of rolls arranged on the top and bottom, and then grips both ends of the web with a tenter and then stretches in the width direction at a temperature of 130 ° C. The film was stretched to 1.1 times the previous size. After stretching with a tenter, the web was dried with a drying air at a temperature of 135 ° C. in a transport drying process using a plurality of rolls arranged vertically. After heat-treating for 15 minutes in an atmosphere with an atmosphere substitution rate of 15 (times / hour) in the drying step, the film was cooled to room temperature and wound up. A long cellulose ester film 1 was produced. Further, the film was wound by applying a knurling process with a width of 2 cm and an average height of 20 μm at both ends. The draw ratio in the web conveyance direction immediately after peeling calculated from the rotational speed of the stainless steel band support and the operating speed of the tenter was 1.1 times.

〈雰囲気置換率〉
上記雰囲気置換率とは、熱処理室の雰囲気容量をV(m)、Fresh−air送風量をFA(m/hr)とした場合、下式によって求められる単位時間あたり熱処理室の雰囲気をFresh−airで置換する回数である。Fresh−airは熱処理室に送風される風のうち、循環再利用している風ではなく、揮発した溶媒もしくは可塑剤などを含まない、もしくはそれらが除去された新鮮な風のことを意味している。
<Atmosphere replacement rate>
The atmosphere replacement rate is defined as the atmosphere of the heat treatment chamber per unit time determined by the following formula when the atmosphere capacity of the heat treatment chamber is V (m 3 ) and the fresh air flow rate is FA (m 3 / hr). The number of replacements with -air. “Fresh-air” means that the wind blown into the heat treatment chamber is not a wind that is recycled and reused, and it means a fresh wind that does not contain volatilized solvent or plasticizer or has been removed. Yes.

雰囲気置換率=FA/V(回/時間)
(ハードコートフィルム1の作製)
上記作製したセルロースエステルフィルム1に下記手順によりハードコートフィルム1を作製した。
Atmosphere replacement rate = FA / V (times / hour)
(Preparation of hard coat film 1)
A hard coat film 1 was produced on the produced cellulose ester film 1 by the following procedure.

(ハードコートフィルム1の作製)
セルロースエステルフィルム1上に、下記のハードコート層組成物1を、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、ハードコート層塗布液を調製し、これを押出しコーターを用いて、セルロースエステルフィルム1の表面に塗布し、温度80℃・50秒条件で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が300mW/cmで、照射量を0.3J/cmとして塗布層を硬化させ、ドライ膜厚10μmのハードコート層を形成後、連続塗布で下記アルカリ溶液1をハードコート層を設けた側と反対側の面(尚、表1では、バックコート層と記載する)に、ウェット膜厚8μmとなるように、セルロースエステルフィルム1のハードコート層を塗布した面とは反対の面に押出しコーターで塗布し、温度100℃・50秒の条件で乾燥後、ロール状に巻き取り、ハードコートフィルム1を作製した。
(Preparation of hard coat film 1)
On the cellulose ester film 1, the following hard coat layer composition 1 is filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a hard coat layer coating solution, which is extruded using a coater, and the cellulose ester film After coating on the surface of 1 and drying at a temperature of 80 ° C. for 50 seconds, the irradiance of the irradiated part is 300 mW / cm 2 using an ultraviolet lamp, the irradiation amount is 0.3 J / cm 2 and the coating layer is cured, After forming a hard coat layer having a dry film thickness of 10 μm, a wet film is formed on the surface opposite to the side on which the hard coat layer is provided with the following alkaline solution 1 by continuous coating (in Table 1, it is described as a back coat layer). The surface of the cellulose ester film 1 is coated on the surface opposite to the surface on which the hard coat layer is coated with an extrusion coater so that the thickness is 8 μm, and the temperature is 100 ° C. for 50 seconds. In dried, taken up in a roll form to prepare a hard coat film 1.

(ハードコート層組成物1)
下記材料を攪拌、混合しハードコート層組成物1とした。
(Hard coat layer composition 1)
The following materials were stirred and mixed to obtain hard coat layer composition 1.

ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 180質量部
(NKエステルA−DPH、新中村化学工業株式会社製)
イルガキュア184 6質量部
(チバ・ジャパン(株)社製)
イルガキュア907 8質量部
(チバ・ジャパン(株)社製)
ポリエーテル変性シリコーン化合物(商品名;KF−355A、信越化学工業株式会社製) 9質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
酢酸エチル 80質量部
メチルエチルケトン 100質量部
(アルカリ溶液1)
水酸化カリウム 8.6質量部
純水 24.4質量部
アセトン 56.0質量部
イソプロパノール 10.0質量部
超微粒子シリカ2%アセトン分散液 0.2質量部
(日本アエロジル株式会社製アエロジル200V)
(ハードコートフィルム2〜5の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート層のドライ膜厚を表1に記載するように変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム2〜5を作製した。
180 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (NK ester A-DPH, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Irgacure 184 6 parts by mass (Ciba Japan Co., Ltd.)
Irgacure 907 8 parts by mass (Ciba Japan Co., Ltd.)
Polyether-modified silicone compound (trade name: KF-355A, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 9 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 10 parts by mass Ethyl acetate 80 parts by mass Methyl ethyl ketone 100 parts by mass (Alkaline solution 1)
Potassium hydroxide 8.6 parts by weight Pure water 24.4 parts by weight Acetone 56.0 parts by weight Isopropanol 10.0 parts by weight Ultrafine silica 2% acetone dispersion 0.2 parts by weight (Aerosil 200V manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
(Preparation of hard coat films 2-5)
In the production of the hard coat film 1, hard coat films 2 to 5 were produced in the same manner except that the dry film thickness of the hard coat layer was changed as described in Table 1.

(ハードコートフィルム6及びハードコートフィルム7の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート層のドライ膜厚を表1に記載するようにし、かつアルカリ溶液1を下記アルカリ溶液2に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム6及びハードコートフィルム7を作製した。
(Preparation of hard coat film 6 and hard coat film 7)
In the production of the hard coat film 1, the hard coat film 6 and the hard coat film were similarly prepared except that the dry film thickness of the hard coat layer was as shown in Table 1 and the alkaline solution 1 was changed to the following alkaline solution 2. 7 was produced.

(アルカリ溶液2)
水酸化ナトリウム 8.6質量部
純水 24.4質量部
アセトン 56.0質量部
イソプロパノール 10.0質量部
セルロースアセテートプロピオネート 0.6質量部
(アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8)
超微粒子シリカ2%アセトン分散液 0.2質量部
(日本アエロジル株式会社製アエロジル200V)
(ハードコートフィルム8〜11の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート層のドライ膜厚を表1に記載するようにし、かつアルカリ溶液1を下記バックコート溶液1に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム6〜11を作製した。
(Alkaline solution 2)
Sodium hydroxide 8.6 parts by weight Pure water 24.4 parts by weight Acetone 56.0 parts by weight Isopropanol 10.0 parts by weight Cellulose acetate propionate 0.6 parts by weight (acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree) 0.8)
0.2 parts by mass of ultrafine silica 2% acetone dispersion (Aerosil 200V manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
(Preparation of hard coat films 8-11)
In the production of the hard coat film 1, the hard coat films 6 to 11 were similarly formed except that the dry film thickness of the hard coat layer was described in Table 1 and the alkaline solution 1 was changed to the following back coat solution 1. Produced.

(バックコート溶液1)
アセトン 89.0質量部
イソプロパノール 10.0質量部
セルロースアセテートプロピオネート 0.6質量部
(アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8)
超微粒子シリカ2%アセトン分散液 0.2質量部
(日本アエロジル株式会社製アエロジル200V)
(ハードコートフィルム12〜16の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート層のドライ膜厚を表1に記載するようにし、かつアルカリ溶液1を下記バックコート溶液2に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム12〜16を作製した。
(Backcoat solution 1)
Acetone 89.0 parts by mass Isopropanol 10.0 parts by mass Cellulose acetate propionate 0.6 parts by mass (acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.8)
0.2 parts by mass of ultrafine silica 2% acetone dispersion (Aerosil 200V manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
(Preparation of hard coat films 12-16)
In the production of the hard coat film 1, the hard coat films 12 to 16 were similarly formed except that the dry film thickness of the hard coat layer was described in Table 1 and the alkaline solution 1 was changed to the following back coat solution 2. Produced.

(バックコート溶液2)
アセトン 89.0質量部
イソプロパノール 10.8質量部
(ハードコートフィルム17の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート層のドライ膜厚を8μmに変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム17を作製した。
(Backcoat solution 2)
Acetone 89.0 parts by mass Isopropanol 10.8 parts by mass (Preparation of hard coat film 17)
In the production of the hard coat film 1, a hard coat film 17 was produced in the same manner except that the dry film thickness of the hard coat layer was changed to 8 μm.

(ハードコートフィルム18の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート層のドライ膜厚を8μmに変更し、アルカリ溶液1を上記バックコート溶液1に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム18を作製した。
(Preparation of hard coat film 18)
In the production of the hard coat film 1, a hard coat film 18 was produced in the same manner except that the dry film thickness of the hard coat layer was changed to 8 μm and the alkaline solution 1 was changed to the back coat solution 1.

(ハードコートフィルム19の作製)
ハードコートフィルム1の作製において、ハードコート層のドライ膜厚を8μmに変更し、アルカリ溶液1を上記バックコート溶液2に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム19を作製した。
(Preparation of hard coat film 19)
In the production of the hard coat film 1, the hard coat film 19 was produced in the same manner except that the dry film thickness of the hard coat layer was changed to 8 μm and the alkaline solution 1 was changed to the back coat solution 2.

《評価》
上記作製したハードコートフィルム1〜19について、夏季の高温・高湿保管、及び輸送等の長期保管を想定した条件で湿熱処理を実施し、下記方法により評価した。得られた結果を表1に示した。
<Evaluation>
About the produced said hard coat films 1-19, the wet heat processing was implemented on the conditions which assumed long-term storage, such as high temperature and high humidity storage of summer, and transportation, and the following method evaluated. The obtained results are shown in Table 1.

(湿熱処理)
50℃80%の条件で7日間保存し、湿熱処理を実施した。次に湿熱処理した3500mのハードコートフィルムのロールから5m切り出し、切り出したハードコートフィルムを、温度23℃、相対湿度55%の条件で24時間調湿後、下記の鉛筆硬度、及びカールについて評価した。
(Humid heat treatment)
It was stored for 7 days under conditions of 50 ° C. and 80%, and wet heat treatment was performed. Next, 5 m was cut out from a 3500 m hard coat film roll that had been heat-moisture treated, and the cut out hard coat film was conditioned for 24 hours under conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%, and then evaluated for the following pencil hardness and curl. .

(鉛筆硬度)
JIS−S6006が規定する試験用鉛筆を用いて、JIS−K5400が規定する鉛筆硬度評価法に従い、500gのおもりを用いて各硬度の鉛筆でハードコート層表面を5回繰り返し引っ掻き、傷が1本までの硬度を測定した。数字か高いほど、高硬度を示し、硬度3H以上が本発明における高硬度であり、4H以上が実用上好ましい。
(Pencil hardness)
Using the test pencil specified by JIS-S6006, according to the pencil hardness evaluation method specified by JIS-K5400, the surface of the hard coat layer was scratched 5 times with a pencil of each hardness using a weight of 500 g, and one scratch was found. The hardness was measured. The higher the number, the higher the hardness, and the hardness of 3H or higher is the high hardness in the present invention, and 4H or higher is practically preferable.

(カール)
1.カール
ハードコートフィルムのカールの測定を、JIS K7619−1988の「写真フィルムのカールの測定法」中の方法Aのカール測定用型板を用いて行った。ここで、カールがプラスとはフィルムのハードコート層塗設側が湾曲の内側になるカールを言い、マイナスとは塗設側が湾曲の外側になるカールをいう。また、カールは以下の数式Aで表される。
(curl)
1. Curl The curl of the hard coat film was measured using the curl measurement template of Method A in “Measurement Method of Curling of Photographic Film” of JIS K7619-1988. Here, “curl plus” means a curl where the hard coat layer coating side of the film is inside the curve, and “minus” means a curl where the coating side is outside the curve. Further, the curl is expressed by the following formula A.

(数式A) カール=1/R Rは曲率半径(m)
測定結果のカール量により、以下のようにランク付した。
(Formula A) Curl = 1 / R R is the radius of curvature (m)
The ranking was as follows according to the curl amount of the measurement result.

マイナス5〜プラス5:◎(非常に優れる)
マイナス10〜マイナス5、プラス5〜プラス10:○(優れる)
マイナス15〜マイナス10、プラス10〜プラス15:×(やや劣り、実用上問題が 有る)
マイナス15以下、プラス15以上:××(劣る)
2.端部カール
水平台の上にハードコート層面を上にして置き、5mのハードコートフィルムから2m引き出し、2m引き出した端部のナーリング加工を施して部分にテープ止め、そこから引き出した先頭に向かって1mの位置の両端部の水平台から距離(浮き上がり距離)を測定した。その浮き上がり距離の合計長さが、30mm未満を◎、30mm以上、50mm未満を○、50mm以上、70mm未満を×(実用上問題が有る)、70mm以上を××として評価した。
Minus 5 to plus 5: ◎ (very good)
Minus 10 to minus 5, plus 5 to plus 10: ○ (excellent)
Minus 15 to minus 10, plus 10 to plus 15: x (somewhat inferior, there is a problem in practical use)
Minus 15 or less, plus 15 or more: XX (Inferior)
2. End curl Place the hard coat layer face up on a horizontal base, pull out 2m from the 5m hard coat film, tape the end of the 2m pull out end, tape it to the part, and head out from there The distance (lifting distance) was measured from the horizontal platform at both ends at a position of 1 m. The total length of the lifting distance was evaluated as ◎, less than 30 mm, ○, 30 mm, less than 50 mm, 50, 50 mm, less than 70 mm (practically problematic), and 70 mm or more as xx.

なお、目的効果の高硬度とカール抑制の両立を総合評価として以下、基準で評価し、表1に示した。
◎:硬度3H以上(高硬度)でカール及び端部カールが◎
○:硬度3H以上(高硬度)でカール或いは端部カールのどちらかが○
×:硬度が3H未満、或いはカール或いは端部カールのどちらかが×以下
In addition, as a comprehensive evaluation, the compatibility between the high hardness of the target effect and curl suppression was evaluated as a standard below and shown in Table 1.
◎: Curling and end curl with hardness 3H or higher (high hardness) ◎
○: Hardness is 3H or higher (high hardness) and either curl or end curl is ○
X: Hardness is less than 3H, or either curl or end curl is less than x

Figure 2009288413
Figure 2009288413

表1から判る様に、ハードコート層の厚みが10μ以上の鉛筆硬度3H以上の高硬度ハードコートフィルムでは、バックコート塗布液が、アルカリを含有しない溶液(バックコート液1・2)では、カールの抑制が劣化しており、高硬度とカール抑制の両立ができない(総合評価×のハードコートフィルムNo.8〜16)。それに対して、アルカリを含有する溶液をバックコート塗布に用いた本発明のハードコートフィルムでは、高硬度とカール抑制の両立に優れる(総合評価○のハードコートフィルムNo.8〜16)。   As can be seen from Table 1, in the case of a high-hardness hard coat film having a hard coat layer thickness of 10 μm or more and a pencil hardness of 3H or more, the backcoat coating solution is a curl-free solution (backcoat solution 1 or 2). The deterioration of the hardness is deteriorated, and both high hardness and curl suppression cannot be achieved (hard coating film Nos. 8 to 16 of comprehensive evaluation). In contrast, the hard coat film of the present invention using an alkali-containing solution for back coat application is excellent in both high hardness and curl suppression (Hard coat film Nos. 8 to 16 of comprehensive evaluation ◯).

特にハードコート層の厚みが12μm以上、20μm以下の鉛筆硬度4H以上の本発明のハードコートフィルム(ハードコートフィルムNo.2〜4)では、同膜厚の比較のハードコートフィルム(ハードコートフィルムNo.8〜10、13〜15)に比べ、特に優れた硬度とカール抑制効果が得られる。ハードコート層の厚みが24μmでは、同膜厚の比較のハードコートフィルムに比べ、特に優れた高硬度とカール抑制の効果が得られるものの、本発明内のハードコートフィルムでは、カールの抑制効果が若干弱い。   In particular, in the hard coat film (hard coat film Nos. 2 to 4) of the present invention having a hard coat layer thickness of 12 μm or more and 20 μm or less and a pencil hardness of 4H or more (hard coat film No. 2 to 4), a comparative hard coat film (hard coat film no. .8 to 10 and 13 to 15), particularly excellent hardness and curl suppressing effect can be obtained. When the thickness of the hard coat layer is 24 μm, a particularly excellent high hardness and curling suppression effect can be obtained as compared with the comparative hard coat film of the same film thickness, but the hard coat film in the present invention has the curling suppression effect. Somewhat weak.

実施例2
(ハードコートフィルム20の作製)
ハードコートフィルム2の作製において、アルカリ溶液1を下記アルカリ溶液3に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム20を作製した。
Example 2
(Preparation of hard coat film 20)
In the production of the hard coat film 2, a hard coat film 20 was produced in the same manner except that the alkaline solution 1 was changed to the following alkaline solution 3.

(アルカリ溶液3)
水酸化ナトリウム 8.6質量部
純水 24.4質量部
アセトン 56.0質量部
イソプロパノール 10.0質量部
セルロースアセテートプロピオネート 0.6質量部
(アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8)
超微粒子シリカ2%アセトン分散液 0.2質量部
(日本アエロジル株式会社製アエロジル200V)
フッ素系化合物(パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー、商品名:F−477、DIC株式会社社製) 1.5質量部
(ハードコートフィルム21の作製)
ハードコートフィルム2の作製において、アルカリ溶液1を下記アルカリ溶液4に変更した以外は、同様にしてハードコートフィルム21を作製した。
(Alkaline solution 3)
Sodium hydroxide 8.6 parts by weight Pure water 24.4 parts by weight Acetone 56.0 parts by weight Isopropanol 10.0 parts by weight Cellulose acetate propionate 0.6 parts by weight (acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree) 0.8)
0.2 parts by mass of ultrafine silica 2% acetone dispersion (Aerosil 200V manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
Fluorine compound (perfluoroalkyl group / hydrophilic group / lipophilic group-containing oligomer, trade name: F-477, manufactured by DIC Corporation) 1.5 parts by mass (production of hard coat film 21)
In the production of the hard coat film 2, a hard coat film 21 was produced in the same manner except that the alkaline solution 1 was changed to the following alkaline solution 4.

(アルカリ溶液4)
水酸化ナトリウム 8.6質量部
純水 24.4質量部
アセトン 56.0質量部
イソプロパノール 10.0質量部
セルロースアセテートプロピオネート 0.6質量部
(アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8)
超微粒子シリカ2%アセトン分散液 0.2質量部
(日本アエロジル株式会社製アエロジル200V)
ポリエーテル変性シリコーン化合物(商品名;KF−351A、信越化学工業株式会社製) 1.5質量部
《評価》
上記作製したハードコートフィルム2、20及び21について、湿熱処理を下記条件に変更した以外は、実施例1と同様にして評価した。得られた結果を表2に示した。
(Alkaline solution 4)
Sodium hydroxide 8.6 parts by weight Pure water 24.4 parts by weight Acetone 56.0 parts by weight Isopropanol 10.0 parts by weight Cellulose acetate propionate 0.6 parts by weight (acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree) 0.8)
0.2 parts by mass of ultrafine silica 2% acetone dispersion (Aerosil 200V manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
Polyether-modified silicone compound (trade name; KF-351A, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 1.5 parts by mass << Evaluation >>
The produced hard coat films 2, 20 and 21 were evaluated in the same manner as in Example 1 except that the wet heat treatment was changed to the following conditions. The obtained results are shown in Table 2.

(湿熱処理)
50℃80%の条件で14日間保存し、湿熱処理を実施した。次に湿熱処理した3500mのハードコートフィルムのロールから5m切り出し、切り出したハードコートフィルムを、温度23℃、相対湿度55%の条件で24時間調湿後、下記の鉛筆硬度、及びカールについて評価した。
(Humid heat treatment)
It was stored for 14 days under conditions of 50 ° C. and 80%, and was subjected to wet heat treatment. Next, 5 m was cut out from a 3500 m hard coat film roll that had been heat-moisture treated, and the cut out hard coat film was conditioned for 24 hours under conditions of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55%, and then evaluated for the following pencil hardness and curl. .

Figure 2009288413
Figure 2009288413

表2の結果から判るように、より過酷な湿熱処理を実施したハードコートフィルムでは、バックコート層にフッ素系化合物或いは、シリコーン化合物を含有させることで、特に
優れたカール抑制効果が得られることが判る。
As can be seen from the results in Table 2, in a hard coat film subjected to more severe wet heat treatment, a particularly excellent curling suppression effect can be obtained by including a fluorine compound or a silicone compound in the back coat layer. I understand.

実施例3
ハードコートフィルム2の作製において、基材フィルムを下記の基材フィルム2及び3に変更した以外は、同様にして、ハードコートフィルム22及び23を作製した。
Example 3
In the production of the hard coat film 2, hard coat films 22 and 23 were produced in the same manner except that the base film was changed to the following base film 2 and 3.

〈基材フィルム2の作製〉
〈セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルム1の作製〉
(ドープ液組成2)
アクリル樹脂ダイヤナールBR80(三菱レイヨン(株)製) 70質量部
(MW95000)
CAP482−20(アシル基総置換度2.75、アセチル基置換度0.19、プロピオニル基置換度2.56、Mw=200000 イーストマンケミカル(株)製)
30質量部
チヌビン109(チバ・ジャパン(株)製) 1質量部
チヌビン171(チバ・ジャパン(株)製) 1質量部
メチレンクロライド 300質量部
エタノール 40質量部
ブタノール 5質量部
上記組成物を、加熱しながら十分に溶解し、ドープ液を作製した。尚、CAPとはセルロースアセテートプロピオネート樹脂のことである。
<Preparation of base film 2>
<Production of Cellulose Ester Resin / Acrylic Resin Film 1>
(Dope solution composition 2)
Acrylic resin Dianal BR80 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) 70 parts by mass (MW95000)
CAP482-20 (acyl group total substitution degree 2.75, acetyl group substitution degree 0.19, propionyl group substitution degree 2.56, Mw = 200000 manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.)
30 parts by weight Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Japan) 1 part by weight Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Japan) 1 part by weight Methylene chloride 300 parts by weight Ethanol 40 parts by weight Butanol 5 parts by weight The above composition is heated. While fully dissolved, a dope solution was prepared. In addition, CAP is a cellulose acetate propionate resin.

(セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルム1の製膜)
上記作製したドープ液を、ベルト流延装置を用い、温度22℃、2m幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が100%になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力162N/mでステンレスバンド支持体上から剥離した。
(Film formation of cellulose ester resin / acrylic resin film 1)
The produced dope solution was uniformly cast on a stainless steel band support at a temperature of 22 ° C. and a width of 2 m using a belt casting apparatus. With the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the amount of residual solvent reached 100%, and peeling was performed from the stainless steel band support with a peeling tension of 162 N / m.

剥離したアクリル樹脂のウェブを35℃で溶媒を蒸発させ、1.6m幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に1.1倍に延伸しながら、135℃の乾燥温度で乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は10%であった。   The peeled acrylic resin web was evaporated at 35 ° C., slit to 1.6 m width, and then dried at a drying temperature of 135 ° C. while being stretched 1.1 times in the width direction by a tenter. At this time, the residual solvent amount when starting stretching with a tenter was 10%.

テンターで延伸後130℃で5分間緩和を行った後、120℃、130℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、1.5m幅にスリットし、フィルム両端に幅2cm高さ20μmのナーリング加工を施し、巻き取り、膜厚40μm、長さ3500m、屈折率1.50のセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルム1を得た。   After stretching with a tenter and relaxing at 130 ° C. for 5 minutes, drying is completed while transporting a drying zone at 120 ° C. and 130 ° C. with many rolls, slitting to a width of 1.5 m, and a height of 2 cm on both ends of the film. A knurling process having a thickness of 20 μm was applied and wound up to obtain a cellulose ester resin / acrylic resin film 1 having a film thickness of 40 μm, a length of 3500 m, and a refractive index of 1.50.

ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるMD方向の延伸倍率は1.1倍であった。   The draw ratio in the MD direction calculated from the rotational speed of the stainless steel band support and the operating speed of the tenter was 1.1 times.

〈基材フィルム3の作製〉
基材フィルム2の作製において、以下のドープ液組成3に変更した以外は、同様にして基材フィルム3(セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルム2)を作製した。
<Preparation of base film 3>
A base film 3 (cellulose ester resin / acrylic resin film 2) was prepared in the same manner except that the base film 2 was changed to the following dope solution composition 3 in the preparation of the base film 2.

〈アクリル粒子の調製〉
内容積60リットルの還流冷却器付反応器に、イオン交換水38.2リットル、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム111.6gを投入し、250rpmの回転数で攪拌しながら、窒素雰囲気下75℃に昇温し、酸素の影響が事実上無い状態にした。APS0.36gを投入し、5分間攪拌後にMMA1657g、BA21.6g、及びALMA1.68gからなる単量体混合物を一括添加し、発熱ピークの検出後更に20分間保持して最内硬質層の重合を完結させた。次に、APS3.48gを投入し、5分間攪拌後にBA8105g、PEGDA(200)31.9g、及びALMA264.0gからなる単量体混合物を120分間かけて連続的に添加し、添加終了後更に120分間保持して,軟質層の重合を完結させた。
<Preparation of acrylic particles>
A reactor with a reflux condenser with an internal volume of 60 liters was charged with 38.2 liters of ion-exchanged water and 111.6 g of sodium dioctylsulfosuccinate, and the temperature was raised to 75 ° C. under a nitrogen atmosphere while stirring at a rotational speed of 250 rpm. The effect of oxygen was virtually eliminated. 0.36 g of APS was added, and after stirring for 5 minutes, a monomer mixture consisting of 1657 g of MMA, 21.6 g of BA, and 1.68 g of ALMA was added all at once. Completed. Next, 3.48 g of APS was added, and after stirring for 5 minutes, a monomer mixture consisting of BA 8105 g, PEGDA (200) 31.9 g, and ALMA 264.0 g was continuously added over 120 minutes. Hold for a minute to complete the soft layer polymerization.

次に、APS1.32gを投入し、5分間攪拌後にMMA2106g、BA201.6gからなる単量体混合物を20分間かけて連続的に添加し、添加終了後更に20分間保持して最外硬質層1の重合を完結した。   Next, 1.32 g of APS was added, and after stirring for 5 minutes, a monomer mixture consisting of 2106 g of MMA and 201.6 g of BA was continuously added over 20 minutes. The polymerization of was completed.

次いで、APS1.32gを投入し、5分後にMMA3148g、BA201.6g、及びn−OM10.1gからなる単量体混合物を20分間かけて連続的に添加し、添加終了後に更に20分間保持した。次いで95℃に昇温し60分間保持して、最外硬質層2の重合を完結させた。   Next, 1.32 g of APS was added, and after 5 minutes, a monomer mixture consisting of 3148 g of MMA, 201.6 g of BA, and 10.1 g of n-OM was continuously added over 20 minutes, and the mixture was held for another 20 minutes after the addition was completed. Next, the temperature was raised to 95 ° C. and held for 60 minutes to complete the polymerization of the outermost hard layer 2.

このようにして得られた重合体ラテックスを少量採取し、吸光度法により平粒子径を求めたところ0.10μmであった。残りのラテックスを3質量%硫酸ナトリウム温水溶液中へ投入して、塩析・凝固させ、次いで、脱水・洗浄を繰り返したのち乾燥し、3層構造のアクリル粒子を得た。   A small amount of the polymer latex thus obtained was collected, and the flat particle diameter was determined by the absorbance method. As a result, it was 0.10 μm. The remaining latex was put into a 3% by mass aqueous solution of sodium sulfate, salted out and coagulated, and then repeatedly dehydrated and washed, and then dried to obtain acrylic particles having a three-layer structure.

上記の略号は各々下記材料である。   The above abbreviations are the following materials.

MMA;メチルメタクリレート
MA;メチルアクリレート
BA;n−ブチルアクリレート
ALMA;アリルメタクリレート
PEGDA;ポリエチレングリコールジアクリレート(分子量200)
n−OM;n−オクチルメルカプタン
APS;過硫酸アンモニウム
〈アクリル粒子含有のセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂フィルム2の作製〉
(ドープ液組成3)
ダイヤナールBR80(三菱レイヨン(株)製) 70質量部
CAP482−20 30質量部
上記調製したアクリル粒子 20質量部
チヌビン109(チバ・ジャパン(株)製) 1質量部
チヌビン171(チバ・ジャパン(株)製) 1質量部
メチレンクロライド 300質量部
エタノール 40質量部
ブタノール 5質量部
上記組成物を、加熱しながら十分に溶解し、ドープ液を作製した。
MMA; methyl methacrylate MA; methyl acrylate BA; n-butyl acrylate ALMA; allyl methacrylate PEGDA; polyethylene glycol diacrylate (molecular weight 200)
n-OM; n-octyl mercaptan APS; ammonium persulfate <Preparation of acrylic ester film-containing cellulose ester resin / acrylic resin film 2>
(Dope solution composition 3)
Dianar BR80 (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) 70 parts by mass CAP482-20 30 parts by mass The above prepared acrylic particles 20 parts by mass Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Japan) 1 part by mass Tinuvin 171 (Ciba Japan Co., Ltd.) 1 part by mass Methylene chloride 300 parts by mass Ethanol 40 parts by mass Butanol 5 parts by mass The above composition was sufficiently dissolved while heating to prepare a dope solution.

《評価》
上記作製したハードコートフィルム2、22及び23について、実施例2と同様の湿熱処理を実施し、実施例1と同様にして評価した。得られた結果を表3に示した。
<Evaluation>
The produced hard coat films 2, 22 and 23 were subjected to the same wet heat treatment as in Example 2 and evaluated in the same manner as in Example 1. The obtained results are shown in Table 3.

Figure 2009288413
Figure 2009288413

表3の結果から判るように、より過酷な湿熱処理を実施したハードコートフィルムでは、基材フィルムをセルロースエステルフィルムよりもセルロースエステル樹脂・アクリル樹脂からなるフィルムにすることで特に優れたカール抑制効果が得られることが判る。更に、セルロースエステル樹脂・アクリル樹脂から構成され、且つアクリル粒子を含有する基材フィルム3は、特に優れたカール抑制と高硬度の両立効果が得られる。   As can be seen from the results in Table 3, the hard coat film subjected to more severe wet heat treatment is particularly excellent in curling suppression effect by making the base film a film made of cellulose ester resin / acrylic resin rather than cellulose ester film. It can be seen that Further, the base film 3 made of cellulose ester resin / acrylic resin and containing acrylic particles can achieve particularly excellent curling suppression and high hardness.

実施例4
〈反射防止フィルム1、2の作製〉
上記ハードコートフィルム2及び8のハードコート層上に下記条件でプラズマ処理を実施した。次にハードコート層面上に、下記低屈折率層塗布組成物1を押出しコーターで塗布し、100℃で1分間乾燥させた後、紫外線を照射部の照度が100mW/cmで0.3J/cm照射して硬化させ、厚さ85nmとなるように低屈折率層を設け、ロール状に巻き取った。次いで、60℃で2日間加熱エージング処理して反射防止フィルム1及び2を作製した。
Example 4
<Preparation of antireflection films 1 and 2>
Plasma treatment was performed on the hard coat layers of the hard coat films 2 and 8 under the following conditions. Next, on the surface of the hard coat layer, the following low refractive index layer coating composition 1 was applied by an extrusion coater, dried at 100 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays at an irradiation intensity of 100 mW / cm 2 and 0.3 J / It was cured by irradiating cm 2 , a low refractive index layer was provided so as to have a thickness of 85 nm, and the film was wound into a roll. Subsequently, the film was subjected to heat aging treatment at 60 ° C. for 2 days to produce antireflection films 1 and 2.

得られた反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は1.37であった。   The refractive index of the low refractive index layer of the obtained antireflection film was 1.37.

(プラズマ処理)
図1に示すプラズマ処理装置を用い、電極間距離を1.8mmに設定した。パルス電界を発生する電源回路10のDC電源に210〜230Vの直流電圧を印加し、下記の放電ガスを放電空間に供給し、電極間に周波数10kHz、Vpp16.09kVのパルス電界を印加してプラズマ処理を行った。
(Plasma treatment)
The distance between electrodes was set to 1.8 mm using the plasma processing apparatus shown in FIG. A DC voltage of 210 to 230 V is applied to the DC power supply of the power supply circuit 10 that generates a pulsed electric field, the following discharge gas is supplied to the discharge space, and a pulse electric field of 10 kHz frequency and Vpp 16.09 kV is applied between the electrodes. Processed.

(低屈折率層塗布組成物1)
プロピレングリコールモノメチルエーテル 200質量部
イソプロピルアルコール 660質量部
テトラエトキシシラン加水分解物A 120質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 4質量部
(商品名:KBM503、信越化学工業社製)
イソプロピルアルコール分散中空シリカ粒子ゾル 30質量部
(固形分20%、触媒化成工業社製のシリカゾル、商品名:ELCOM V−8209)
アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート 2質量部
シリコーン系界面活性剤(FZ−2207、日本ユニカー株式会社製)の
10%プロピレングリコールモノメチルエーテル液 3質量部
酢酸 4質量部
《評価》
上記作製した反射防止フィルム1及び2について、実施例1と同様にして湿熱処理及び評価した。得られた結果を表4に示した。
(Low refractive index layer coating composition 1)
Propylene glycol monomethyl ether 200 parts by mass Isopropyl alcohol 660 parts by mass Tetraethoxysilane hydrolyzate A 120 parts by mass γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 4 parts by mass (trade name: KBM503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
30 parts by mass of isopropyl alcohol-dispersed hollow silica particle sol (solid content 20%, silica sol manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name: ELCOM V-8209)
Aluminum ethyl acetoacetate / diisopropylate 2 parts by mass Silicone surfactant (FZ-2207, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 10% propylene glycol monomethyl ether solution 3 parts by mass Acetic acid 4 parts by mass << Evaluation >>
The antireflection films 1 and 2 produced above were subjected to wet heat treatment and evaluation in the same manner as in Example 1. The results obtained are shown in Table 4.

Figure 2009288413
Figure 2009288413

表4の結果から判るように、本発明の反射防止フィルムは、優れたカール抑制と高硬度の両立効果ができる。   As can be seen from the results in Table 4, the antireflection film of the present invention can achieve both excellent curl suppression and high hardness.

実施例5
実施例1で作製したハードコートフィルム1〜19、実施例4で作製した反射防止フィルム1及び2を用いて、下記のようにして偏光板を作製し、これら偏光板を液晶表示パネル(画像表示装置)に組み込み、平面性、視認性を評価した。
Example 5
Using the hard coat films 1 to 19 produced in Example 1 and the antireflection films 1 and 2 produced in Example 4, polarizing plates were prepared as follows, and these polarizing plates were used as liquid crystal display panels (image display). The device was incorporated into a device, and the flatness and visibility were evaluated.

下記方法に従って、実施例1で作製したハードコートフィルム1〜19、実施例4で作製した反射防止フィルム1及び2をセルロースエステル系光学補償フィルムであるKC8UCR5(コニカミノルタオプト株式会社製)各々1枚を偏光板保護フィルムとして用いて、偏光板101〜121をそれぞれ作製した。   According to the following method, the hard coat films 1 to 19 produced in Example 1 and the antireflection films 1 and 2 produced in Example 4 were each one of KC8UCR5 (manufactured by Konica Minolta Opto), which is a cellulose ester-based optical compensation film. Were used as polarizing plate protective films to prepare polarizing plates 101 to 121, respectively.

(a)偏光膜の作製
けん化度99.95モル%、重合度2400のポリビニルアルコール(以下、PVAと略記する)100質量部に、グリセリン10質量部、及び水170質量部を含浸させたものを溶融混練し、脱泡後、Tダイから金属ロール上に溶融押出し、製膜した。その後、乾燥・熱処理して、PVAフィルムを得た。得られたPVAフィルムは、平均厚みが25μm、水分率が4.4%、フィルム幅が3mであった。
(A) Production of Polarizing Film What was impregnated with 10 parts by mass of glycerin and 170 parts by mass of water in 100 parts by mass of polyvinyl alcohol (hereinafter abbreviated as PVA) having a saponification degree of 99.95 mol% and a polymerization degree of 2400. After melt-kneading and defoaming, it was melt-extruded from a T-die onto a metal roll to form a film. Then, it dried and heat-processed and obtained the PVA film. The obtained PVA film had an average thickness of 25 μm, a moisture content of 4.4%, and a film width of 3 m.

次に、得られたPVAフィルムを、予備膨潤、染色、湿式法による一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で、連続的に処理して、偏光膜を作製した。即ち、PVAフィルムを温度30℃の水中に30秒間浸して予備膨潤し、ヨウ素濃度0.4g/リットル、ヨウ化カリウム濃度40g/リットルの温度35℃の水溶液中に3分間浸した。続いて、ホウ酸濃度4%の50℃の水溶液中でフィルムにかかる張力が700N/mの条件下で、6倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度40g/リットル、ホウ酸濃度40g/リットル、塩化亜鉛濃度10g/リットルの温度30℃の水溶液中に5分間浸漬して固定処理を行った。その後、PVAフィルムを取り出し、温度40℃で熱風乾燥し、更に温度100℃で5分間熱処理を行った。得られた偏光膜は、平均厚みが13μm、偏光性能については透過率が43.0%、偏光度が99.5%、2色性比が40.1であった。
(b)偏光板の作製
次いで、下記工程1〜4に従って、偏光膜と、偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて実施例1で作製したハードコートフィルム1〜19、実施例4で作製した反射防止フィルム1及び2に対応する偏光板101〜121を作製した。
Next, the obtained PVA film was continuously processed in the order of preliminary swelling, dyeing, uniaxial stretching by a wet method, fixing treatment, drying, and heat treatment to prepare a polarizing film. That is, the PVA film was pre-swelled by immersing in water at a temperature of 30 ° C. for 30 seconds, and immersed in an aqueous solution having an iodine concentration of 0.4 g / liter and a potassium iodide concentration of 40 g / liter at a temperature of 35 ° C. for 3 minutes. Subsequently, the film was uniaxially stretched 6 times in a 50% aqueous solution with a boric acid concentration of 4% under the condition that the tension applied to the film was 700 N / m, and the potassium iodide concentration was 40 g / liter and the boric acid concentration was 40 g / liter. Then, it was immersed in an aqueous solution having a zinc chloride concentration of 10 g / liter and a temperature of 30 ° C. for 5 minutes for fixing. Thereafter, the PVA film was taken out, dried with hot air at a temperature of 40 ° C., and further heat-treated at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes. The obtained polarizing film had an average thickness of 13 μm, a polarizing performance of a transmittance of 43.0%, a polarization degree of 99.5%, and a dichroic ratio of 40.1.
(B) Production of Polarizing Plate Next, according to the following steps 1 to 4, the polarizing film and the protective film for polarizing plate were bonded together, and the hard coat films 1 to 19 produced in Example 1 and the reflection produced in Example 4 were used. Polarizing plates 101 to 121 corresponding to the prevention films 1 and 2 were produced.

工程1:前述の偏光膜を、固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤溶液の貯留槽中に1〜2秒間浸漬した。   Process 1: The above-mentioned polarizing film was immersed for 1 to 2 seconds in the storage tank of the polyvinyl alcohol adhesive agent solution of 2 mass% of solid content.

工程2:工程1で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、この偏光膜と2mol/Lの水酸化ナトリウム溶液に、温度60℃で、90秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させ、アルカリ鹸化処理した光学補償フィルムと、実施例1で作製したハードコートフィルム1〜19、実施例4で作製した反射防止フィルム1及び2とを挟み込んで、積層配置した。   Step 2: Excess adhesive adhered to the polarizing film in Step 1 is lightly removed, immersed in this polarizing film and 2 mol / L sodium hydroxide solution at a temperature of 60 ° C. for 90 seconds, then washed with water and dried, The saponified optical compensation film, the hard coat films 1 to 19 prepared in Example 1, and the antireflection films 1 and 2 prepared in Example 4 were sandwiched and laminated.

工程3:積層物を、2つの回転するローラにて20〜30N/cmの圧力で約2m/minの速度で貼り合わせた。このとき、気泡が入らないように注意して実施した。 Step 3: The laminate was bonded at a speed of about 2 m / min at a pressure of 20 to 30 N / cm 2 with two rotating rollers. At this time, it was carried out with care to prevent bubbles from entering.

工程4:工程3で作製した試料を、温度80℃の乾燥機中にて2分間乾燥処理し、偏光板101〜121を作製した。   Step 4: The sample prepared in Step 3 was dried in a dryer at a temperature of 80 ° C. for 2 minutes to prepare polarizing plates 101 to 121.

次に、市販の液晶表示パネル(VA型)の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた各偏光板101〜121を図2で示す構成で張り付けた。こうして得られた液晶パネル201〜221を、床から80cmの高さの机上に配置し、床から3mの高さの天井部に、昼色光直管蛍光灯(FLR40S・D/M−X 松下電器産業株式会社製)40W×2本を1セットとして、1.5m間隔で10セット配置した。この場合、評価者が液晶表示パネルの表示面の正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に蛍光灯がくるように配置した。各液晶パネルは机に対する垂直方向から25°傾けて、蛍光灯が写り込むようにして下記のランクに分けて評価した。   Next, the polarizing plate on the outermost surface of a commercially available liquid crystal display panel (VA type) was carefully peeled off, and the polarizing plates 101 to 121 whose polarization directions were matched were pasted in the configuration shown in FIG. The liquid crystal panels 201 to 221 thus obtained were placed on a desk 80 cm high from the floor, and a daylight direct fluorescent lamp (FLR40S • D / MX Matsushita Electric) was placed on the ceiling 3 m high from the floor. Sangyo Co., Ltd.) 40W × 2 were set as one set, and 10 sets were arranged at intervals of 1.5 m. In this case, when the evaluator is in front of the display surface of the liquid crystal display panel, the fluorescent lamp is arranged so that the fluorescent lamp comes to the ceiling portion from the evaluator's overhead to the rear. Each liquid crystal panel was tilted by 25 ° from the vertical direction with respect to the desk, and was evaluated according to the following ranks so that a fluorescent lamp was reflected.

ハードコートフィルムを貼合した偏光板については、カールによる平面性の劣化を以下の基準で評価した。   About the polarizing plate which bonded the hard coat film, the deterioration of the planarity by curl was evaluated on the following references | standards.

◎:蛍光灯が真っ直ぐに見える
○:蛍光灯が若干曲がったように見えるところがある
△:蛍光灯が曲がって見える。
◎: Fluorescent lamp looks straight ○: Fluorescent lamp appears to be slightly bent △: Fluorescent lamp appears to be bent

×:蛍光灯が大きく畝って見える。   X: A fluorescent lamp appears to swell greatly.

反射防止フィルムを貼合した偏光板については、画面の見易さ(視認性)を以下の基準で評価した。   About the polarizing plate which bonded the anti-reflective film, the following reference | standard evaluated the visibility (visibility) of a screen.

A:最も近い蛍光灯の写り込みが気にならず、フォントの大きさ8以下の文字もはっきりと読める
B:近くの蛍光灯の写り込みはやや気になるが、遠くは気にならず、フォントの大きさ8以下の文字もなんとかと読める
C:遠くの蛍光灯の写り込みも気になり、フォントの大きさ8以下の文字を読むのは困難である
D:蛍光灯の写り込みがかなり気になり、写り込みの部分はフォントの大きさ8以下の文字を読むことはできない
評価の結果、比較例のハードコートフィルム及び反射防止フィルムを貼合した比較例の偏光板を用いた液晶パネルは上記評価が平面性評価が×〜△、また視認性評価がC以下であったのに対して、本発明のハードコートフィルム及び反射防止フィルムを貼合した偏光板を用いた液晶パネルは、何れも平面性評価が◎、及び視認性評価がAの評価結果であり良好であった。
A: I don't care about the reflection of the nearest fluorescent lamp, and I can clearly read characters with a font size of 8 or less. B: The reflection of a nearby fluorescent lamp is a little anxious, but I don't care about the distance. Can manage to read characters with a font size of 8 or less C: It is difficult to read characters with a font size of 8 or less. The part of the reflection is anxious and cannot read characters with a font size of 8 or less. As a result of evaluation, a liquid crystal panel using a polarizing plate of a comparative example in which a hard coat film and an antireflection film of a comparative example are bonded Whereas the above evaluation is that the flatness evaluation is x to Δ, and the visibility evaluation is C or less, the liquid crystal panel using the polarizing plate on which the hard coat film and the antireflection film of the present invention are bonded, Both have flatness evaluation , And the visibility evaluation was good and the evaluation result of A.

大気圧プラズマ処理装置の別の模式図である。It is another schematic diagram of an atmospheric pressure plasma processing apparatus. 本発明に好ましい液晶表示装置の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the liquid crystal display device preferable for this invention.

符号の説明Explanation of symbols

A 放電空間
101a 大気圧プラズマ処理装置
101 高周波高電圧電源
102 ロール電極
103 曲面電極
104 プラズマガス供給装置
104b プラズマガス供給口
104d プラズマガス温度調整装置
105a 第1温度計測装置
105b 第2温度計測装置
106 制御手段
122 フィルム
123 ニップロール
300 視認側偏光板
301 本発明に係るハードコートフィルム、または反射防止フィルム
302 二色性偏光子
303 偏光板保護フィルム
304 光拡散板
305 導光板
306 バックライト
307 反射板
308 液晶表示セル
309 バックライト側偏光板
A discharge space 101a atmospheric pressure plasma processing apparatus 101 high frequency high voltage power supply 102 roll electrode 103 curved surface electrode 104 plasma gas supply apparatus 104b plasma gas supply port 104d plasma gas temperature adjustment apparatus 105a first temperature measurement apparatus 105b second temperature measurement apparatus 106 control Means 122 Film 123 Nip roll 300 Viewing-side polarizing plate 301 Hard coat film or antireflection film 302 Dichroic polarizer 303 Polarizing plate protective film 304 Light diffusing plate 305 Light guide plate 306 Backlight 307 Reflecting plate 308 Liquid crystal display Cell 309 Backlight side polarizing plate

Claims (12)

フィルム基材上に直接又は他の層を介してハードコート層を有するハードコートフィルムの製造方法において、該ハードコート層の膜厚が10μm以上であって、該ハードコート層を設けた側と反対側の面にアルカリ溶液を塗布することを特徴とするハードコートフィルムの製造方法。 In a method for producing a hard coat film having a hard coat layer directly or via another layer on a film substrate, the thickness of the hard coat layer is 10 μm or more, opposite to the side on which the hard coat layer is provided The manufacturing method of the hard coat film characterized by apply | coating an alkaline solution to the side surface. 前記ハードコート層の膜厚が12μm以上、20μm以下であることを特徴とする請求項1に記載のハードコートフィルムの製造方法。 The method for producing a hard coat film according to claim 1, wherein the hard coat layer has a thickness of 12 μm or more and 20 μm or less. 前記ハードコート層の鉛筆硬度が3H以上であることを特徴とする請求項1又は2に記載のハードコートフィルムの製造方法。 The method for producing a hard coat film according to claim 1 or 2, wherein the hard coat layer has a pencil hardness of 3H or more. 前記ハードコート層の鉛筆硬度が4H以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。 The method for producing a hard coat film according to any one of claims 1 to 3, wherein the hard coat layer has a pencil hardness of 4H or more. 前記アルカリ溶液が、フッ素系化合物或いはシリコーン化合物を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。 The said alkaline solution contains a fluorine-type compound or a silicone compound, The manufacturing method of the hard coat film of any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 前記フィルム基材が、セルロースエステル樹脂を含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。 The said film base material contains cellulose-ester resin, The manufacturing method of the hard coat film of any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. 前記フィルム基材がセルロースエステル樹脂、及びアクリル樹脂を含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。 The said film base material contains a cellulose-ester resin and an acrylic resin, The manufacturing method of the hard coat film of any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 前記フィルム基材がセルロースエステル樹脂、アクリル樹脂及びアクリル粒子を含有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法。 The said film base material contains a cellulose-ester resin, an acrylic resin, and an acrylic particle, The manufacturing method of the hard coat film of any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜8のいずれか1項に記載のハードコートフィルムの製造方法を用いて作製したことを特徴とするハードコートフィルム。 A hard coat film produced using the method for producing a hard coat film according to claim 1. 請求項9に記載のハードコートフィルムのハードコート層上に直接又は他の層を介して、低屈折率層が積層されていることを特徴とする反射防止フィルム。 An antireflection film, wherein a low refractive index layer is laminated directly or via another layer on the hard coat layer of the hard coat film according to claim 9. 請求項9に記載のハードコートフィルム、または請求項10に記載の反射防止フィルムを偏光膜の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising the hard coat film according to claim 9 or the antireflection film according to claim 10 on at least one surface of a polarizing film. 請求項9に記載のハードコートフィルム、請求項10に記載の反射防止フィルム、または請求項11に記載の偏光板を有することを特徴とする画像表示装置。 An image display device comprising the hard coat film according to claim 9, the antireflection film according to claim 10, or the polarizing plate according to claim 11.
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