JP2013155128A - イリジウム錯体及びその製造方法 - Google Patents

イリジウム錯体及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2013155128A
JP2013155128A JP2012016407A JP2012016407A JP2013155128A JP 2013155128 A JP2013155128 A JP 2013155128A JP 2012016407 A JP2012016407 A JP 2012016407A JP 2012016407 A JP2012016407 A JP 2012016407A JP 2013155128 A JP2013155128 A JP 2013155128A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
iridium complex
same
different
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012016407A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadashi Murakami
正 村上
Takashi Honma
貴志 本間
Natsuko Kashiwabara
奈津子 柏原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Industries Ltd filed Critical Ube Industries Ltd
Priority to JP2012016407A priority Critical patent/JP2013155128A/ja
Publication of JP2013155128A publication Critical patent/JP2013155128A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子の発光材料等の合成中間体として有用なイリジウム錯体の提供。
【解決手段】下式で表されるイリジウム錯体:
Figure 2013155128

(式中、R、R、R、R、R、R及びRは特定の基を表し、nは0又は1を表す。)。
【選択図】なし

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子と称することもある。)の発光材料等の合成中間体として有用なイリジウム錯体及びその製造方法に関するものである。
有機EL素子は、次世代ディスプレイ及び次世代照明として有望視され、国内外で活発にその研究開発が行われている。有機EL素子の発光材料として、種々のカルベン配位子を有するイリジウム錯体が報告されている(例えば、特許文献1及び2参照)。
そして従来、ヨウ素原子を含有するイリジウム錯体を製造する方法としては、塩基及びヨウ化カリウムの存在下、ヨード塩とイリジウム化合物との反応により製造する方法が知られているが(例えば、非特許文献1参照)、その方法では、前記ヨウ素原子を含有するイリジウム錯体は、収率18%で副生成物として得られていた。また、それが発光材料等の合成中間体として使用できることは、非特許文献1には何ら記載されていない。
また、特許文献1及び非特許文献2には、ヨード塩を原料として塩素原子を含有するイリジウム錯体を合成する方法が開示されている。
しかしながら、非特許文献1についてはヨード塩を原料としてヨウ化カリウムを除いても反応が進行すること、特許文献1及び非特許文献2については特定のプロセスにより反応原料のカウンターイオン(I)が最終物に含有されること、ましてや、前記最終物に対応する塩素原子を有するイリジウム錯体よりも簡便な操作で高収率で最終物を得ることができることは全く知られていなかった。
US2009/0149653号明細書 US2006/0024522号明細書
Organometallics,vol.28,4028(2009) Angewandte Chemie,International Edition,47,4542(2008)
本発明の課題は、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光材料等の合成中間体として有用なイリジウム錯体、及び簡便で高収率を達成することができる、当該イリジウム錯体の製造方法を提供することにある。
本発明の課題は、下記一般式(1):
Figure 2013155128

(式中、四つ存在するRは、それぞれ同一又は異なっていてもよく、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリ−ル基又は置換されていてもよいヘテロアリール基を示し、
四つずつ存在するR及びRは、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子又はハロゲン原子を示し、あるいはR及びRは互いに結合して環状構造を形成していてもよく、
四つずつ存在するR、R、R及びRは、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子又は置換基を表し、あるいはR、R、R及びRの隣接した二つは、互いに結合して環状構造を形成していてもよく、
四つ存在するnは、それぞれ同一又は異なっていてもよく、0又は1を表す。)で表されるイリジウム錯体、ならびに、
下記一般式(2):
Figure 2013155128

(式中、R、R、R、R、R、R、R及びnは前記と同義である。)で表されるイミダゾリウム塩と、
下記式(3):
Figure 2013155128

(式中、codはシクロオクタジエンを表す)
あるいは、下記式(4):
Figure 2013155128

(式中、coeはシクロオクテンを表す)で表されるイリジウム化合物とを塩基の存在下において反応させ、
該反応により得られた生成物を溶媒の存在下に加熱することを特徴とする、下記一般式(1):
Figure 2013155128

(式中、R、R、R、R、R、R、R及びnは前記と同義である。)で表されるイリジウム錯体の製造方法によって解決される。
本発明により、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光材料等の合成中間体として有用なイリジウム錯体、及び簡便で高収率を達成することができるその製造方法が提供される。
以下、本発明の実施態様について詳細に説明する。
[イリジウム錯体]
本発明のイリジウム錯体は下記一般式(1)で表される。
Figure 2013155128

以下、このイリジウム錯体におけるそれぞれの可変基及びnについて説明する。
<Rについて>
前記一般式(1)においてRは、四つ存在するが、それぞれ同一又は異なっていてもよく、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリ−ル基又は置換されていてもよいヘテロアリール基を表す。
前記アルキル基は、通常その炭素数が1〜7であり、好ましくは炭素数は1〜3である。そのようなアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の鎖状アルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。
前記アリール基は、通常その炭素数が6〜14であり、好ましくは炭素数は6〜10である。そのようなアリール基の例としては、フェニル基、トリル基、フルオロフェニル基、キシリル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基及びそれらの各種異性体が挙げられる。
前記ヘテロアリール基は、通常その炭素数が1〜13であり、好ましくは炭素数は1〜9である。そのようなヘテロアリール基の例としては、キノリル基、ピリジル基、ピロリジル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基及びそれらの各種異性体が挙げられる。
また、これらアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基は置換されていてもよく、その置換基の例としては、炭素原子を介して結合できる置換基、酸素原子を介して結合できる置換基、窒素原子を介して結合できる置換基、硫黄原子を介して結合できる置換基、ハロゲン原子等が挙げられる。
前記炭素原子を介して結合できる置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基;ビニル基、アリル基、プロペニル基、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基等のアルケニル基;キノリル基、ピリジル基、ピロリジル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基等のヘテロアリール基;フェニル基、トリル基、フルオロフェニル基、キシリル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等のアリール基;アセチル基、プロピオニル基、アクリロイル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、トルオイル基等のアシル基(アセタール化されていてもよい);カルボキシル基;メトキシルカルボニル基、エトキシルカルボニル基等のアルコキシルカルボニル基;フェノキシルカルボニル基等のアリールオキシルカルボニル基;トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基;シアノ基及びそれらの各種異性体が挙げられる。
前記酸素原子を介して結合できる置換基としては、例えば、ヒドロキシル基;メトキシル基、エトキシル基、プロポキシル基、ブトキシル基、ペンチルオキシル基、ヘキシルオキシル基、ヘプチルオキシル基、ベンジルオキシル基等のアルコキシル基;フェノキシル基、トルイルオキシル基、ナフチルオキシル基等のアリールオキシル基及びそれらの各種異性体が挙げられる。
前記窒素原子を介して結合できる置換基としては、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロへキシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基等の第一アミノ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、メチルブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、N−メチル−N−メタンスルホニルアミノ基等の第二アミノ基;モルホリノ基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、ピラゾリジニル基、ピロリジノ基、インドリル基等の複素環式アミノ基;イミノ基及びそれらの各種異性体が挙げられる。
前記硫黄原子を介して結合できる置換基としては、例えば、メルカプト基;チオメチル基、チオエチル基、チオプロピル基等のチオアルキル基;チオフェニル基、チオトルイル基、チオナフチル基等のチオアリール基及びそれらの各種異性体が挙げられる。
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
なお、これら置換基の炭素数は、前記アルキル基、アリール基及びヘテロアリール基における炭素数にカウントしない。
これらの中でも、原料の入手の容易さの観点から、Rとして好ましくは炭素数1〜3のアルキル基であり、更に好ましくはメチル基である。
<R及びRについて>
上記一般式(1)において、R及びRは、それぞれ四つずつ存在するが、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子又はハロゲン原子を表す。前記ハロゲン原子は、Rに関して説明したハロゲン原子と同様である。
あるいは、R及びRは互いに結合して環状構造を形成していてもよい。なお、ここでいうR及びRは、同一のジヒドロイミダゾール環に結合しているものを指している。
前記R及びRが互いに結合して環状構造を形成する場合の環状構造の例としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタンなどのシクロアルカン類;シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテンなどのシクロアルケン類;ベンゼン、ナフタレンなどのアリール環;キノリン、ピリジンなどのヘテロアリール環が挙げられる。
また、一般式(1)において、R及びRの1〜3組が環状構造を形成し、残りの組が水素原子又はハロゲン原子であるというように、一般式(1)における複数のR及びRについて、水素原子又はハロゲン原子であるものと、環状構造を形成しているものとが混在していてもよい。
原料の入手の容易さの観点からは、R及びRとして好ましくは水素原子又はハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子である。
<R〜Rについて>
上記一般式(1)において、R、R、R、及びRは、それぞれ4つずつ存在するが、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子又は置換基を表す。前記置換基は、Rの説明においてアルキル基、アリール基及びヘテロアリール基に置換する置換基として説明したものと同様である。
あるいはR、R、R及びRの隣接した二つは、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。なお、ここでいうR、R、R及びRは、同一のベンゼン環に結合しているものを指している。
前記環状構造の例としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタンなどのシクロアルカン類;シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテンなどのシクロアルケン類;ベンゼン、ナフタレンなどのアリール環;キノリン、ピリジンなどのヘテロアリール環が挙げられる。
また、一般式(1)において、R〜Rの隣接した二つの1〜11組が環状構造を形成し、残りの組が水素原子又は置換基であるというように、一般式(1)における複数のR〜Rについて、水素原子又は置換基であるものと、環状構造を形成しているものとが混在していてもよい。
以上説明したR、R、R及びRは、原料の入手の容易さの観点から、好ましくは全て水素原子であるか、あるいは、R及びRが水素原子であり、かつR及びRが、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子又はハロゲン原子である。
このような観点から特に好ましくは、R、R、R及びRが全て水素原子であるか、あるいは、R及びRが水素原子であり、かつR及びRがフッ素原子である。
<nについて>
上記一般式(1)において、nは4つ存在するが、それぞれ同一又は異なっていてもよく、0又は1である。原料の入手の容易さの観点から、nは好ましくは0である。
[イリジウム錯体の製造方法]
次に、以上説明した本発明のイリジウム錯体の製造方法について説明する。本発明者らは、以下に説明する特定の試薬及び反応条件を採用することにより、本発明のイリジウム錯体を、従来法に比べて簡便にかつ高収率で得ることができることを見出した。
本発明のイリジウム錯体の製造方法では、下記一般式(2):
Figure 2013155128

(式中、R〜R及びnは、上記で定義したとおりである。)で表されるイミダゾリウム塩と、下記式(3):
Figure 2013155128

(式中、codはシクロオクタジエンを表す)
あるいは、下記式(4)
Figure 2013155128

(式中、coeはシクロオクテンを表す)で表されるイリジウム化合物とを塩基の存在下において反応させ、当該反応により得られた生成物を溶媒の存在下に加熱することで、本発明の一般式(1)で表されるイリジウム錯体を製造する。
前記イミダゾリウム塩のうち、例えば、3−メチル−1−フェニルイミダゾリウムヨージドは、1−フェニルイミダゾールとヨードメタンを反応させることによって得ることが出来る化合物である(後述の参考例2に記載)。
同様に、ヨードメタンのアルカン部分を種々変更することにより、一般式(2)におけるRのアルキル基を変更することができる。また、Rとして種々のアリール基を導入したイミダゾリウム塩は、公知の方法に従って、例えば、Bulletin of Chemical Society of Japan,44,826(1971)に記載の方法や、Angewandte Chemie,International Edition,39,1602(2000)に記載の方法において使用しているテトラフルオロボレート塩をヨード塩に変えることにより合成可能である。
その他、一般式(2)で表されるイミダゾリウム塩は、市販もされており、また市販品から種々の公知の方法により合成可能である。
本発明のイリジウム錯体の製造方法において、前記イミダゾリウム塩は、単独又は二種以上を混合して使用してもよい。
前記化学式(3)又は(4)で表されるイリジウム化合物の使用量は、前記イミダゾリウム塩1モルに対して、好ましくは0.01〜10モル、更に好ましくは0.1〜1モルである。
本発明のイリジウム錯体の製造方法における、前記イミダゾリウム塩とイリジウム化合物との反応において使用する塩基としては、特に限定されず、例えば、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン等のアミン類;カリウムヘキサメチルジシラジド(以下、KHMDSとも略記する)等の金属アミド;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム−t−ブトキシド、カリウム−t−ブトキシド等の金属アルコキシド;メチルリチウム、ブチルリチウム、t-ブチルリチウム等のアルキルリチウム;水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の金属水酸化物;炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の金属炭酸塩;水素化ナトリウムなどの金属水素化物が挙げられる。
これらの中でも好ましくは金属アミドであり、更に好ましくはカリウムヘキサメチルジシラジドが使用される。なお、これらの塩基は、単独又は二種以上を混合して使用してもよい。
前記塩基の使用量は、イミダゾリウム塩1モルに対して、好ましくは0.1〜100モル、更に好ましくは0.5〜10モルである。
イミダゾリウム塩とイリジウム化合物との反応は、溶媒の存在下で行うことが望ましい。使用される溶媒としては、前記反応を阻害しないものならば特に限定されず、例えば、水;ギ酸メチル、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル等のエステル類;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;N,N’−ジメチルイミダゾリジノン等の尿素類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;スルホラン等のスルホン類;メタノール、エタノール、プロパノール、2−エトキシエタノール等のアルコール類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。
これらの中でも、好ましくは芳香族炭化水素類及びアルコール類であり、更に好ましくはトルエン及び2−エトキシエタノールが使用される。
なお、以上説明した溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用してもよい。
前記溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性により適宜調節するが、イミダゾリウム塩1gに対して、好ましくは0.1〜200ml、更に好ましくは0.1〜100mlである。
以上説明した反応は、例えば、イミダゾリウム塩、イリジウム化合物、塩基及び溶媒を混合し、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは0〜200℃、更に好ましくは30〜150℃であり、反応圧力は特に制限されず、反応時間は通常0.5〜20時間である。反応温度が前記範囲よりも低い場合には反応速度が極めて低下し、又、高い場合には副反応が起こりやすくなる。
本発明のイリジウム錯体の製造方法では、以上説明した反応により得られた反応生成物を、溶媒の存在下に加熱することによって、本発明のイリジウム錯体を得る。この加熱における反応系には出発原料たるイミダゾリウム塩のカウンターイオンであるIが存在し、これが効果的に取り込まれて、収率よく本発明のイリジウム錯体を得ることができる。
なお、前記反応生成物を得た時点で、例えば、濾過、中和、抽出、濃縮、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法を組み合わせることによって、前記反応生成物を単離・精製してもよい。
前記溶媒としては、イミダゾリウム塩とイリジウム化合物との反応で使用される溶媒と同様の溶媒を使用することができ、好ましくはトルエン及び2−エトキシエタノールである。
前記溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性により適宜調節するが、イミダゾリウム塩1gに対して、好ましくは0.1〜200ml、更に好ましくは0.1〜100mlである。
また、前記加熱の温度は、通常0〜200℃、好ましくは30〜150℃、より好ましくは70〜150℃であり、加熱時間は通常0.5〜24時間である。
なお、イミダゾリウム塩とイリジウム化合物との反応、及び反応生成物の加熱工程は、1工程で実施してもよい。
以上説明した本発明のイリジウム錯体の製造方法により、上記一般式(1)で表されるイリジウム錯体が得られるが、前記製造方法の工程終了後、例えば、濾過、中和、抽出、濃縮、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法を組み合わせることによって、前記錯体を単離・精製してもよい。
このように本発明のイリジウム錯体の製造方法で製造されたイリジウム錯体は、一般的な方法により簡単に単離・精製することができ、しかも高い収率を達成することができる。[背景技術]で説明した方法では、このような一般的な方法により簡単な単離・精製を行うことは非常に困難である。
[イリジウム錯体の用途]
以上説明した本発明のイリジウム錯体は、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光材料等の合成中間体として有用であり、例えば、本発明のイリジウム錯体、ビイミダゾール、水素化ナトリウム及びテトラヒドロフランを混合し、反応させることで、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光材料として使用可能なテトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)(μ−ビイミダゾリル)ジイリジウム(III)を得ることができる。
以下に実施例を挙げて更に本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
[比較例1](ジ−μ−クロロテトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム(III)の合成(特許文献1に記載の方法))
Figure 2013155128
温度計、還流冷却器及び攪拌装置を備えた300mlのガラス製四つ口フラスコに、N−メチル−N’−フェニルイミダゾリウムヨージド2.82g(9.84mmol)及び2−エトキシエタノール180mlを加え、混合溶液をアルゴン置換した。
次いで、フラスコをアルミ箔で覆った後、三塩化イリジウム三水和物1.06g(3.00mmol)及び酸化銀1.27g(5.49mmol)を加え、攪拌しながら120〜130℃で16時間反応させた。
反応終了後、反応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物に塩化メチレンを加えて不溶物を濾別し、濾液を減圧留去した。得られた固体を塩化メチレンに溶かし、メタノールで再結晶することにより、白色固体として目的物であるジ−μ−クロロテトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム(III)および不純物を合計で215.8mg得た(収率:13.3%)。このような一般的な精製操作では、目的物を単離することはできなかった。
なお、得られた(ジ−μ−クロロテトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム(III)の物性値は、下記の通りであった。
H−NMR(400MHz,CDCl,δ(ppm));7.58(d,4H),7.16(d,4H),6.98(dd,4H),6.72(dt,4H),6.44(dt,4H),6.09(dd,4H)3.91(s,12H)
FAB−MS(M/Z);542(M/2)
[実施例1](ジ−μ−ヨードテトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム(III)の合成)
Figure 2013155128
温度計、還流冷却器及び攪拌装置を備えた100mlのガラス製二口フラスコに、アルゴン雰囲気下、N−メチル−N’ −フェニルイミダゾリウムヨージド721mg(2.52mmol)、トルエン60ml及びカリウムヘキサメチルジシラジド(0.5Mトルエン溶液) 5.04ml(2.52mmol)を加え、撹拌しながら室温で一時間反応させた後、クロロ−1,5−シクロオクタジエンイリジウムダイマー403mg(0.6mmol)を加え攪拌しながら80℃で7時間反応させた。
反応終了後、反応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。得られた固体を酢酸エチルで洗浄した後、塩化メチレンを加えて不溶物を濾別し、濾液を減圧留去し、中間体として橙色固体を得た。
温度計、還流冷却器及び攪拌装置を備えた100mlのガラス製二口フラスコに、アルゴン雰囲気下、得られた橙色固体742mg及び2−エトキシエタノール75mlを加え、攪拌しながら120℃で7時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。
得られた固体にメタノール60mlを加え、洗浄し、茶白色固体としてジ−μ−ヨードテトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム(III)を471.9mg(単離収率:67%)得た。
なお、前記2−エトキシエタノールを加えて加熱して得られた反応生成物について、濾過及び再結晶によってジ−μ−ヨードテトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム(III)を精製することも可能であった。
また、得られたジ−μ−ヨードテトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム(III)の物性値は下記の通りであった。
H−NMR(400MHz,CDCl,δ(ppm));7.59(d,J=1.94Hz,4H),7.25(d,J=2.21Hz,4H),7.00(dd,J=1.33,7.70Hz,4H),6.72(dt,J=1.39,7.50Hz,4H),6.47(dt,J=1.46,7.44Hz,4H),6.16(dd,J=1.22,7.56Hz,4H),4.31(s,12H)
元素分析;理論値(C,37.92;H,2.86;N,8.84;Ir,30.34)
測定値(C,38.1;H,2.9;N,8.9;Ir,30)
FD−MS(M/Z):1266,634
なお、中間体として取得した橙色固体の物性値は下記の通りであり、イリジウム1個に対して、フェニルカルベン部2個、シクロオクタジエン部1個の存在が示唆された。
H−NMR(400MHz,CDCl,δ(ppm));7.57(m,6H),7.21(m,4H),6.99(d,J=1.98Hz,2H),6.94(d,J=1.98Hz,2H),4.51(m,2H),3.50(m,2H),3.01(s,6H),2.36〜2.00(m,6H),1.72〜1.64(m,2H)
元素分析;理論値(C,45.2;H,4.3;N,7.5;Ir,25.9)
測定値(C,45.1;H,4.2;N,7.5;Ir,26)
FD−MS(M/Z):634、617
[実施例2](ジ−μ−ヨードテトラキス(3−メチル−1−(3,5−ジフルオロフェニル)イミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム(III)の合成)
Figure 2013155128
温度計、還流冷却器及び攪拌装置を備えた30mlのガラス製シュレンク管に、アルゴン雰囲気下、N−メチル−N’−(3,5−ジフルオロフェニル)イミダゾリウムヨージド135.2mg(0.42mmol)、トルエン10ml及びカリウムヘキサメチルジシラジド(0.5Mトルエン溶液) 840μl(0.42mmol)を加えた。
次に、クロロ−1,5−シクロオクタジエンイリジウムダイマー67mg(0.1mmol)を加え攪拌しながら室温で3時間反応させた。
反応終了後、溶媒を減圧留去し、得られた固体を酢酸エチルで洗浄した後、塩化メチレンを加えて不溶物を濾別し、濾液を減圧留去し、中間体である橙色固体を60.5mg得た。
温度計、還流冷却器及び攪拌装置を備えた100mlのガラス製二口フラスコに、アルゴン雰囲気下、得られた橙色固体61mg及び2−エトキシエタノール10mlを加え、攪拌しながら120℃で18時間反応させた。
反応終了後、反応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。得られた固体をジエチルエーテルで洗浄し、茶白色固体としてジ−μ−ヨードテトラキス(3−メチル−1−(3,5−ジフルオロフェニル)イミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム(III)を6.4mg(単離収率13%)得た。
なお、前記2−エトキシエタノールを加えて加熱して得られた反応生成物について、濾過及び再結晶によってジ−μ−ヨードテトラキス(3−メチル−1−(3,5−ジフルオロフェニル)イミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム(III)を精製することも可能であった。
また、得られた(ジ−μ−ヨードテトラキス(3−メチル−1−(3,5−ジフルオロフェニル)イミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム)(III)の物性値は下記の通りであった。
H−NMR(400MHz,CDCl,δ(ppm));7.51(d,J=2.18Hz,4H),7.20(d,J=1.94Hz,4H),6.73(dd,J=2.10,8.90Hz,4H),6.05(dt,J=2.45,9.64Hz,4H),4.11(s,12H)
FD−MS(M/Z):1410,706
[参考例1](テトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)(μ−ビイミダゾリル)ジイリジウム(III)の合成)
Figure 2013155128
アルゴン雰囲気下、撹拌装置を備えた30mlシュレンク管に、実施例1で得られたジ−μ−ヨードテトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)ジイリジウム(III)130mg(0.10mmol)、2,2’−ビイミダゾール13mg(0.10mmol)およびテトラヒドロフラン20mlを加え、撹拌しながら室温で4時間反応させた。次いで、水素化ナトリウム8.4mg(0.21mmol)を加え、さらに19時間撹拌した。
反応終了後、溶媒を減圧留去し、溶媒が3ml程度になるまで濃縮した。そこにジエチルエーテル20mlを加え、ろ過を行い、ろ物を回収し、減圧下で乾燥させ、茶白色固体としてテトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)(μ−ビイミダゾリル)ジイリジウム(III)92.6mgを得た(収率;81%)。
得られた目的物は異性体混合物で、その生成比は異性体1(主生成物):異性体2=53:43であった。
なお、テトラキス(3−メチル−1−フェニルイミダゾリン−2−イリデン)(μ−ビイミダゾリル)ジイリジウム(III)は下記の物性値を有していた。
H−NMR(400MHz,CDCl,δ(ppm));
異性体1:7.45(d,4H),7.04(dd,4H),6.93(d,4H),6.80(dt,4H),6.62−6.44(m,8H),6.15(s,4H),3.03(s,12H)
異性体2:7.43(d,4H),7.03(dd,4H),6.91(d,4H),6.79(dt,4H),6.62−6.44(m,8H),6.14(s,4H),3.41(s,12H)
[参考例2](3−メチル−1−フェニルイミダゾリウムヨージドの合成)
Figure 2013155128
温度計、還流冷却器及び攪拌装置を備えた200ml二口ナスフラスコに、アルゴン雰囲気下、1−フェニルイミダゾール10.6g (74mmol)、塩化メチレン60mlおよびヨードメタン8ml(130mmol)を加え、撹拌しながら50℃で5時間反応させた。
反応終了後、反応溶液を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。得られた固体を塩化メチレン11mlに溶かして、そこに酢酸エチル60mlを加え、桐山ろ過を行い、ろ物を回収し、減圧下乾燥させ、黄色固体として3−メチル−1−フェニルイミダゾリウムヨージド20.3mg(96%)が得られた。
なお、得られた3−メチル−1−フェニルイミダゾリウムヨージドの物性値は下記の通りであった。
H−NMR(400MHz,CDCl,δ(ppm));10.47(s,1H),7.84−7.52(m,7H),4.23(s,3H)

Claims (11)

  1. 下記一般式(1)で表されるイリジウム錯体:
    Figure 2013155128

    (式中、四つ存在するRは、それぞれ同一又は異なっていてもよく、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリ−ル基又は置換されていてもよいヘテロアリール基を表し、
    四つずつ存在するR及びRは、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子又はハロゲン原子を表し、あるいはR及びRは互いに結合して環状構造を形成していてもよく、
    四つずつ存在するR、R、R及びRは、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子又は置換基を表し、あるいはR、R、R及びRの隣接した二つは、互いに結合して環状構造を形成していてもよく、
    四つ存在するnは、それぞれ同一又は異なっていてもよく、0又は1を表す。)。
  2. 前記一般式(1)において、nが0である、請求項1に記載のイリジウム錯体。
  3. 前記一般式(1)において、Rが、それぞれ同一又は異なっていてもよく、炭素数1〜7のアルキル基、炭素数6〜14のアリール基又は炭素数1〜13のヘテロアリール基である、請求項1又は2に記載のイリジウム錯体。
  4. 前記一般式(1)において、R及びRが、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子又はハロゲン原子である、請求項1〜3のいずれかに記載のイリジウム錯体。
  5. 前記一般式(1)において、R、R、R及びRが、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ヘテロアリール基、アリール基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシルカルボニル基、アリールオキシルカルボニル基、ハロゲン化アルキル基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシル基、アリールオキシル基、第一アミノ基、第二アミノ基、複素環式アミノ基、イミノ基、メルカプト基、チオアルキル基、チオアリール基又はハロゲン原子である、請求項1〜4のいずれかに記載のイリジウム錯体。
  6. 前記一般式(1)において、R及びRが水素原子であり、R及びRが、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子又はハロゲン原子である、請求項1〜5のいずれかに記載のイリジウム錯体。
  7. 前記一般式(1)において、Rがメチル基であり、
    及びRが水素原子であり、
    、R、R及びRが水素原子であるか、あるいは
    及びRが水素原子であり、かつR及びRがフッ素原子である、
    請求項1〜6のいずれかに記載のイリジウム錯体。
  8. 下記一般式(2):
    Figure 2013155128

    (式中、Rは置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリ−ル基又はヘテロアリール基を表し、
    及びRは、同一又は異なっていてもよく、水素原子又はハロゲン原子を表し、あるいはR及びRは互いに結合して環状構造を形成していてもよく、
    、R、R及びRは、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子又は置換基を表し、あるいはR、R、R及びRの隣接した二つは、互いに結合して環状構造を形成していてもよく、
    nは0又は1を表す。)で表されるイミダゾリウム塩と、
    下記式(3):
    Figure 2013155128

    (式中、codはシクロオクタジエンを表す)
    あるいは、下記式(4)
    Figure 2013155128

    (式中、coeはシクロオクテンを表す)
    で表されるイリジウム化合物とを塩基の存在下において反応させ、
    該反応により得られた生成物を溶媒の存在下に加熱することを特徴とする、下記一般式(1):
    Figure 2013155128

    (式中、R、R、R、R、R、R、R及びnは前記と同義である。)で表されるイリジウム錯体の製造方法。
  9. 前記一般式(1)及び(2)において、nが0である、請求項8に記載のイリジウム錯体の製造方法。
  10. 前記一般式(1)及び(2)において、R及びRが水素原子であり、R及びRが、それぞれ同一又は異なっていてもよく、水素原子又はハロゲン原子である、請求項8又は9に記載のイリジウム錯体の製造方法。
  11. 前記一般式(1)及び(2)において、Rがメチル基であり、
    及びRが水素原子であり、
    、R、R及びRが水素原子であるか、あるいは
    及びRが水素原子であり、かつR及びRがフッ素原子であり、
    nが0である、請求項8又は9に記載のイリジウム錯体の製造方法。
JP2012016407A 2012-01-30 2012-01-30 イリジウム錯体及びその製造方法 Pending JP2013155128A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012016407A JP2013155128A (ja) 2012-01-30 2012-01-30 イリジウム錯体及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012016407A JP2013155128A (ja) 2012-01-30 2012-01-30 イリジウム錯体及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013155128A true JP2013155128A (ja) 2013-08-15

Family

ID=49050693

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012016407A Pending JP2013155128A (ja) 2012-01-30 2012-01-30 イリジウム錯体及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013155128A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106084188A (zh) * 2016-06-23 2016-11-09 福建师范大学 一种咪唑基多孔有机离子聚合物的制备方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106084188A (zh) * 2016-06-23 2016-11-09 福建师范大学 一种咪唑基多孔有机离子聚合物的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5940548B2 (ja) 新規なスピロビフルオレン化合物
JP2007045742A (ja) 遷移金属錯体の製造方法及び遷移金属錯体
CN102030770A (zh) 一种芳香硼酸酯化合物的制备方法
JP2008056615A (ja) ビニルエチニルアリールカルボン酸類、その製造方法及びそれを用いた熱架橋性化合物の製造方法
Hurtado et al. Palladium (II) complexes bearing the new pincer ligand 3, 5-bis (indazol-2-ylmethyl) toluene; synthesis and catalytic properties
Fan et al. Salen-type nickel (II), palladium (II) and copper (II) complexes having chiral and racemic camphoric diamine components
JP2013155128A (ja) イリジウム錯体及びその製造方法
JP2015003875A (ja) リン系化合物及びその製造方法
CN109988108B (zh) 一种卡博替尼的制备方法
Su et al. The supramolecular assemblies of 7-amino-2, 4-dimethylquinolinium salts and the effect of a variety of anions on their luminescent properties
JP4706320B2 (ja) N,n−ジメチルアミノアルケノン化合物の製法
JP2012176928A (ja) ピレン誘導体、ピレン誘導体の製造方法、錯体、触媒、電子材料、発光材料および色素
CN107216300A (zh) 合成手性二氢吡喃环类化合物的方法
JP5407332B2 (ja) クォータピリジン誘導体の製造方法及びその中間体
JP2010120926A (ja) 多環系ペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物及びその製造方法
JP4070370B2 (ja) 多環式芳香族化合物の製造方法
JP6344003B2 (ja) イリジウム錯体化合物の製造方法、及びその製造方法で得られたイリジウム錯体化合物
JP2008143857A (ja) ベンゾフルオレン誘導体の製造方法およびその中間体
JP5577794B2 (ja) ビベンゾイミダゾール化合物の製造方法
JP6566085B2 (ja) イリジウム錯体化合物の製造方法、及びその製造方法で得られたイリジウム錯体化合物
JP5610464B2 (ja) 含パラジウム化合物、その製造方法及びこれを用いる有機化合物の製造法
JP5439745B2 (ja) ハロゲノメチルペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物及びその製造方法
JP4505876B2 (ja) 4−ハロベンゾフラン誘導体及びその製造方法
WO2018025590A1 (ja) 含窒素複素環化合物の製造方法及び含窒素複素環化合物
JP2022017658A (ja) 化合物