JP2013138124A - Multilayer printed board manufacturing method, multilayer printed board manufactured by the manufacturing method, and curable resin composition used in the manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プリント配線板の両面板や多層基板のスルーホールなどの貫通穴に充填された硬化性樹脂組成物の充填部の平坦化を硬化前に行うことによって、硬化後の充填部表面の研磨工程を省き、研磨による基板の変形(寸法変化)や銅箔まで削る事態等を避けることができ、また例えばプレス成型等の加熱、加圧工程で外層を一括形成することにより、工程を簡略化できる多層プリント配線板の製造方法に関する。さらに本発明は、このような製造方法にて製造される多層プリント配線板、及びこのような製造方法に好適に使用される硬化型樹脂組成物に関する。 The present invention provides the surface of the filled portion after curing by flattening the filling portion of the curable resin composition filled in the through-holes such as the double-sided board of the printed wiring board and the through-hole of the multilayer substrate before curing. Eliminates the polishing process and avoids deformation of the substrate (dimensional change) due to polishing and scraping of copper foil. Simplify the process by forming the outer layer all at once in the heating and pressurizing processes such as press molding. The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board that can be manufactured. Furthermore, this invention relates to the multilayer printed wiring board manufactured by such a manufacturing method, and the curable resin composition used suitably for such a manufacturing method.
近年、電子機器の小型化・高機能化に伴い、プリント配線板のパターンの微細化、実装面積の縮小化、部品実装の高密度化が要求されている。そのため、スルーホールが設けられた両面基板や、コア材上に絶縁層、導体回路が順次形成され、ビアホールなどで層間接続されて多層化されたビルドアップ配線板などの多層基板が用いられる。そして、BGA(ボール・グリッド・アレイ)、LGA(ランド・グリッド・アレイ)などのエリアアレイ実装が行われる。 In recent years, with the miniaturization and high functionality of electronic devices, there is a demand for miniaturization of printed wiring board patterns, reduction of mounting area, and high density of component mounting. Therefore, a double-sided board provided with a through hole, or a multilayer board such as a build-up wiring board in which an insulating layer and a conductor circuit are sequentially formed on a core material and are connected in layers by via holes or the like are used. Then, area array mounting such as BGA (ball grid array) and LGA (land grid array) is performed.
このようなプリント配線板において、表面の導体回路間の凹部や、内壁面に導電層が形成されたスルーホール、ビアホールなどの穴部には、印刷法などにより熱硬化性樹脂組成物が充填される。一般に、プリント配線板の永久穴埋め用組成物としては、その硬化物が機械的、電気的、化学的性質に優れ、接着性も良好であることから、熱硬化型のエポキシ樹脂組成物が広く用いられている。かかるエポキシ樹脂組成物を用いるプリント配線板の永久穴埋め加工は、一般に、図2に示されるように、例えば、図2(A)に示されるように導体パターン12が形成された絶縁基板11のめっきされたスルーホール13にエポキシ樹脂組成物を充填する工程(図2(B)に示す状態)、該充填された組成物を加熱して研磨可能な状態に予備硬化する工程、予備硬化した組成物の穴部表面からはみ出している部分をバフ研磨等により研磨・除去する工程(図2(C)に示す状態)、及び予備硬化した組成物をさらに加熱して本硬化(後硬化)する工程からなり、その後、銅箔16にエポキシ樹脂組成物からなる硬化性樹脂17が貼り合わされた樹脂付き銅箔15をラミネートして両面銅張り積層板を形成し(図2(D)に示す状態)、次いで銅箔16をパターンエッチングして外層の導体パターン18を形成する(図2(E)に示す状態)方法が一般に採用されている。
In such a printed wiring board, the concave portions between the conductor circuits on the surface, and the holes such as through holes and via holes in which the conductive layer is formed on the inner wall surface are filled with the thermosetting resin composition by a printing method or the like. The In general, thermosetting epoxy resin compositions are widely used as permanent hole filling compositions for printed wiring boards because their cured products have excellent mechanical, electrical, and chemical properties and good adhesion. It has been. In general, the permanent hole filling of a printed wiring board using such an epoxy resin composition is performed by plating an
しかしながら、このような方法によれば、研磨による基板の変形(寸法変化)や銅箔まで削る事態を生じるという問題がある。
このような問題を解決するために、特開2007−49106号公報(特許文献1)には、光・熱硬化型樹脂組成物を、貫通穴を有するプリント配線板の一方の表面及び貫通穴に塗布し、(1)塗布樹脂表面を加圧ロールにより平坦化する工程及び(2)塗布樹脂を光硬化させる工程を順次に行い、次いで、光・熱硬化型樹脂組成物をプリント配線板の他方の表面に塗布し、上記工程(1)及び(2)を順次に行った後、(3)上記樹脂組成物を熱硬化させて完全硬化することを特徴とする多層プリント配線板の製造法が提案されている。
However, according to such a method, there is a problem in that the substrate is deformed (dimensional change) due to polishing and a situation where the copper foil is scraped off is caused.
In order to solve such a problem, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-49106 (Patent Document 1) discloses that a photo / thermosetting resin composition is applied to one surface and a through hole of a printed wiring board having a through hole. (1) The step of flattening the surface of the coating resin with a pressure roll and (2) the step of photocuring the coating resin are sequentially performed, and then the photo / thermosetting resin composition is applied to the other side of the printed wiring board A method for producing a multilayer printed wiring board is characterized in that after the steps (1) and (2) are sequentially performed, the resin composition is thermally cured and completely cured. Proposed.
また、特開2006−303398号公報(特許文献2)には、両面プリント配線板の貫通穴に二段階硬化型樹脂組成物を充填し、100〜200℃の加熱若しくはUV照射により上記充填樹脂の第一段硬化を行い、次いで、両面プリント配線板を(ア)樹脂付き銅箔と樹脂付き銅箔、又は(イ)樹脂付き銅箔とプリプレグとの間に挟んで、第二段硬化温度以上にて積層プレスした後、表層の銅箔にエッチング法により導体パターンを形成することを特徴とする穴埋め多層プリント配線板の製造方法が提案されている。
しかしながら、前記したいずれの方法も、穴部に充填された硬化性樹脂組成物の穴部表面からはみ出している部分のかき取りを行わない為、樹脂組成物が穴埋め部以外にも残存し、穴埋めの平坦性の調整が困難であり、且つ、その後のレーザー加工性、デスミア耐性にも劣るという問題がある。
Japanese Patent Laid-Open No. 2006-303398 (Patent Document 2) describes a method of filling a through-hole of a double-sided printed wiring board with a two-stage curable resin composition, and heating the resin at 100 to 200 ° C. or UV irradiation. First stage curing is performed, and then the double-sided printed wiring board is sandwiched between (a) a copper foil with resin and a copper foil with resin, or (b) a copper foil with resin and a prepreg, and the second stage curing temperature or higher. A method for manufacturing a hole-filled multilayer printed wiring board is proposed, in which a conductor pattern is formed on a surface copper foil by an etching method after laminating and pressing.
However, none of the above-described methods scrapes off the portion of the curable resin composition filled in the hole from the surface of the hole, so that the resin composition remains other than the hole-filled portion. There is a problem that it is difficult to adjust the flatness of the film and that the subsequent laser processability and desmear resistance are inferior.
さらに、特開2007−235121号公報(特許文献3)には、反転機構を有する非接触ロール及びドクターを基板面に対して水平方向に直線移動させ、真空チャンバー内に配置された基板の穴部に樹脂ペーストを充填すると共に、少なくとも穴部上に樹脂層を形成する工程(a)と、非接触ロール及びドクターを反転させて逆方向に直線移動させて樹脂層を除去する工程(b)とを含むことを特徴とする樹脂充填基板の製造方法が提案されている。しかしながら、この方法は、真空中での塗布作業であり、且つ、粘着性PETフィルムを基板の裏面に張り、擬似有底ビア状態にして、ローラー部の回転によって樹脂の充填が行われる方法であり、スルーホールの下端部がPETフィルムにより閉鎖されているため、気泡の逃げ場が無く、気泡が発生してしまうという問題がある。また、塗布及び硬化後の表面状態は、印刷面及びフィルム面は樹脂の硬化収縮により凹みが発生し(尚、フィルム剥離は樹脂ペースト硬化後に行う)、この凹みが、プリプレグなどと積層及びプレスした時にデラミネーションを発生させる原因となる。また、このデラミネーションの発生が、はんだ耐熱性の不良へとつながる。さらに、穴埋め樹脂の充填時に完全真空状態でないため、底面部で充填性が悪い箇所が発生し、これが気泡を発生させる原因となる、という問題もある。 Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-235121 (Patent Document 3) discloses that a non-contact roll and a doctor having a reversing mechanism are linearly moved in a horizontal direction with respect to the substrate surface, and a hole portion of the substrate disposed in the vacuum chamber. A step (a) of forming a resin layer on at least the hole, and a step (b) of removing the resin layer by reversing the non-contact roll and doctor and moving them linearly in the opposite direction. There has been proposed a method for manufacturing a resin-filled substrate characterized by including: However, this method is a coating operation in a vacuum, and is a method in which an adhesive PET film is stretched on the back surface of the substrate to make a pseudo bottomed via state, and the resin is filled by rotating the roller portion. Since the lower end portion of the through hole is closed by the PET film, there is no problem of bubbles escaping and bubbles are generated. In addition, as for the surface state after coating and curing, the printed surface and the film surface are dented due to the curing shrinkage of the resin (the film peeling is performed after the resin paste is cured), and this dent was laminated and pressed with a prepreg or the like. Sometimes it causes delamination. Moreover, the occurrence of this delamination leads to poor solder heat resistance. Furthermore, since the vacuum is not completely filled when filling the hole-filling resin, there is a problem in that a portion with poor fillability is generated at the bottom portion, which causes bubbles to be generated.
また、従来、プリント基板中のスルーホールやビアホールなどの穴部に硬化性樹脂組成物を充填する場合、その径に適した条件(インキの粘度やTI値、又は印刷条件など)にて充填される。一般的に、一枚の基板中のスルーホールなどの径は、同一であることが多い。そのため、通常は、硬化性樹脂組成物の粘度やTI値を調整したり、印刷条件(スキージの速度、角度又は印圧など)を調整することによって、径の大小に適応させることができる。 Conventionally, when filling a hole such as a through hole or a via hole in a printed board with a curable resin composition, it is filled under conditions suitable for the diameter (ink viscosity, TI value, printing conditions, etc.). The In general, the diameter of a through hole or the like in one substrate is often the same. Therefore, it is usually possible to adapt to the size of the diameter by adjusting the viscosity or TI value of the curable resin composition or adjusting the printing conditions (squeegee speed, angle, printing pressure, etc.).
しかしながら、近年のプリント基板の高密度化に伴い、スルーホールなどの径も微小化されている。スルーホールの形成には、ドリルや炭酸ガスレーザー等が用いられているが、スルーホールなどの径が微小化されるほど、その加工費も大きく増加していく。そのため、加工費を低く抑えるための手段として、必ず微少でなければならない部分のみを微少な径とし、その他の部分は大きな径で加工された基板が作成されている。つまり、一枚のプリント基板中に異径のスルーホールが複数存在している。この場合、基板の加工費(スルーホールの作成)は目的通りに低く抑えられるが、硬化性樹脂組成物の充填が、非常に困難となる。これは、異径の複数のスルーホールに1回の印刷で適切に充填することが困難なためである。その結果、基板の製造費を低く抑える目的だったのにも拘らず、硬化性樹脂組成物の充填の困難化によって、製造費を低く抑えられず、逆に高くなる場合もあり得る。さらには、硬化性樹脂組成物の充填の困難化は、基板の品質にも悪影響を及ぼしているのが現状である。 However, with the recent increase in the density of printed circuit boards, the diameters of through holes and the like are also miniaturized. A drill, a carbon dioxide laser, or the like is used to form the through hole. However, as the diameter of the through hole is reduced, the processing cost increases greatly. For this reason, as a means for keeping the processing cost low, a substrate is produced in which only a portion that must be very small has a small diameter and the other portions are processed with a large diameter. That is, there are a plurality of through holes having different diameters in one printed circuit board. In this case, the processing cost of the substrate (creation of the through hole) can be kept low as intended, but filling of the curable resin composition becomes very difficult. This is because it is difficult to appropriately fill a plurality of through holes having different diameters by one printing. As a result, in spite of the objective of keeping the manufacturing cost of the substrate low, the manufacturing cost cannot be kept low due to the difficulty in filling the curable resin composition, and it may be increased. Furthermore, the current situation is that the difficulty in filling the curable resin composition has an adverse effect on the quality of the substrate.
即ち、1回の印刷で、微小な径のスルーホールに適した印刷条件で印刷した場合、印刷条件が適している微小な径のスルーホールには、適切に充填される。しかしながら、印刷条件が合っていない大きな径のスルーホールは、硬化性樹脂組成物が過剰に充填されるため、印刷面とは反対側の硬化性樹脂組成物の突出部分が、過剰に突出してしまう。一方、大きな径のスルーホールに適した印刷条件で印刷した場合、印刷条件が適している大きな径のスルーホールには、適切に充填される。しかしながら、微小な径のスルーホールは、印刷条件が合っていないため、硬化性樹脂組成物が底部まで充分に充填されず、スルーホール中に硬化性樹脂組成物の未充填部分が発生する可能性がある。あるいは、スルーホール中に完全に充填された場合でも、突出部分の量が、大径のスルーホールと比べて少なくなる。つまり、スルーホールの径の大きさによって、突出量が異なった状態となる。
このように突出量が異なることによって、別の問題点が発生する。即ち、硬化性樹脂組成物は、一般に充填及び硬化後にバフ研磨などを実施することにより、スルーホールから突出している部分を研磨し、基板の表面の平坦化を行うが、突出量が多すぎる場合には、研磨に要する時間が長くなることで、コスト面でのデメリットがある。また、研磨時間が長すぎる場合や突出量が異なる場合には、突出部分以外の基板の表面まで研磨により傷付けたり、寸法の変化及び基板に歪みが発生したりしてしまう。
That is, when printing is performed under a printing condition suitable for a through hole having a small diameter by one printing, the through hole having a small diameter suitable for the printing condition is appropriately filled. However, since the through hole having a large diameter that does not meet the printing conditions is excessively filled with the curable resin composition, the protruding portion of the curable resin composition on the side opposite to the printing surface excessively protrudes. . On the other hand, when printing is performed under printing conditions suitable for a large-diameter through-hole, the large-diameter through-hole suitable for the printing condition is appropriately filled. However, because the through hole with a small diameter does not meet the printing conditions, the curable resin composition is not sufficiently filled to the bottom, and an unfilled portion of the curable resin composition may occur in the through hole. There is. Alternatively, even when the through hole is completely filled, the amount of the protruding portion is smaller than that of the large diameter through hole. In other words, the amount of protrusion varies depending on the diameter of the through hole.
Thus, another problem arises because the amount of protrusion differs. That is, the curable resin composition is generally subjected to buffing or the like after filling and curing, thereby polishing the portion protruding from the through hole and flattening the surface of the substrate. Has a disadvantage in terms of cost because the time required for polishing becomes longer. In addition, when the polishing time is too long or the protruding amount is different, the surface of the substrate other than the protruding portion may be damaged by polishing, the size may be changed, and the substrate may be distorted.
このような問題を解決するために、径の数に応じて複数回印刷する方法が考えられる。例えば、径A、B、・・・等の異径のスルーホールが複数存在している基板の場合、径Aの大きさと配置に適したスクリーン印刷用の版(ドットパターン)を用意及びセットし、径Aに適した印刷条件にて充填を行う。次に、径Bに応じた版(ドットパターン)をセットし、径Bに適した印刷条件にて充填を行う。これを径の数の分だけ、繰り返し行う。この充填方法では、品質上の問題は解決できるが、充填に非常に手間がかかり、加工費の削減という目的を達成することができないという問題がある。 In order to solve such a problem, a method of printing a plurality of times according to the number of diameters can be considered. For example, in the case of a substrate having a plurality of through holes having different diameters such as diameters A, B,..., A screen printing plate (dot pattern) suitable for the size and arrangement of the diameter A is prepared and set. Filling is performed under printing conditions suitable for the diameter A. Next, a plate (dot pattern) corresponding to the diameter B is set, and filling is performed under printing conditions suitable for the diameter B. This is repeated for the number of diameters. This filling method can solve the quality problem, but has a problem that filling takes much time and the purpose of reducing the processing cost cannot be achieved.
本発明は、前記したような事情に鑑みなされたものであり、その主たる目的は、穴埋め表面の研磨工程を省くことにより、研磨コストを削減し、製造工程を短縮し、研磨による基板の変形(寸法変化)や銅箔まで削る事態を避けることができ、また、例えばプレス成型等の加熱、加圧工程で外層を一括形成することにより、工程を簡略化できる多層プリント配線板の製造方法を提供することにある。
また、本発明の目的は、径の大きさが異なる複数のスルーホールなどの貫通穴を持つ基板に対しも、1回の印刷で適切に充填することができる多層プリント配線板の製造方法を提供することにある。
さらに本発明の目的は、気泡の発生が無く、基板の平坦性、レーザー加工性、デスミア耐性に優れると共に、はんだ耐熱性等の諸特性にも優れたプリント配線板を製造できる方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、このような製造方法により製造された前記諸特性に優れるプリント配線板、及びこのような製造方法に好適に用いることができる硬化性樹脂組成物を提供することにある。
The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and its main purpose is to reduce the polishing cost by omitting the polishing process of the hole filling surface, to shorten the manufacturing process, and to deform the substrate by polishing ( Dimensional change) and the situation of scraping to copper foil can be avoided, and a method for manufacturing a multilayer printed wiring board that can simplify the process by forming the outer layer at once by heating and pressing processes such as press molding is provided. There is to do.
Another object of the present invention is to provide a method for producing a multilayer printed wiring board that can be appropriately filled with a single printing even on a substrate having a plurality of through holes such as through holes having different diameters. There is to do.
Furthermore, an object of the present invention is to provide a method capable of producing a printed wiring board that is free of bubbles, has excellent substrate flatness, laser processability, and desmear resistance, and also has excellent characteristics such as solder heat resistance. It is in.
Another object of the present invention is to provide a printed wiring board that is manufactured by such a manufacturing method and has excellent characteristics, and a curable resin composition that can be suitably used for such a manufacturing method. .
前記目的を達成するために、本発明によれば、硬化性樹脂組成物をプリント配線板の両面板又は多層基板の貫通穴に充填し、前記硬化性樹脂組成物を硬化する前に、前記硬化性樹脂組成物表面を研磨以外の方法により平坦化する工程を含むことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法が提供される。
好適な態様においては、前記貫通穴が、同一径及び/又は複数の異なる径を有する複数の貫通穴である。また、別の好適な態様においては、前記平坦化する工程を、ドクターを用いて前記貫通穴表面から前記硬化性樹脂組成物がはみ出している部分をかきとることにより行う。
In order to achieve the above object, according to the present invention, the curable resin composition is filled into the double-sided board of the printed wiring board or the through hole of the multilayer board, and the curable resin composition is cured before being cured. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board characterized by including the process of planarizing the surface of a conductive resin composition by methods other than grinding | polishing is provided.
In a preferred aspect, the through holes are a plurality of through holes having the same diameter and / or a plurality of different diameters. Moreover, in another suitable aspect, the said planarization process is performed by scraping the part which the said curable resin composition protrudes from the said through-hole surface using a doctor.
本発明の多層プリント配線板の製造方法は、より具体的な好適な態様においては、(a)硬化性樹脂組成物をプリント配線板の両面板又は多層基板の貫通穴に充填する工程、
(b)穴部に充填された硬化性樹脂組成物表面を研磨以外の物理的方法により平坦化する工程、
(c)穴部に充填された硬化性樹脂組成物を硬化する工程、及び
(d)プリプレグ又はドライフィルムタイプの絶縁材及び/又は樹脂付き金属箔を積層し、加熱及び加圧して成形する工程
の各工程を上記順序で行うことを特徴とする。
好適な態様においては、前記(b)工程を、ドクターによるかきとり又はフィルム転写により行い、穴部に充填された硬化性樹脂組成物の穴部表面からはみ出している部分を取り除き、基板の表面を平坦化する。
The method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention is, in a more specific preferred embodiment, (a) a step of filling a curable resin composition into a double-sided board of a printed wiring board or a through hole of a multilayer board,
(B) a step of flattening the surface of the curable resin composition filled in the hole by a physical method other than polishing,
(C) a step of curing the curable resin composition filled in the hole, and (d) a step of laminating a prepreg or dry film type insulating material and / or metal foil with resin, and molding by heating and pressing. These steps are performed in the above order.
In a preferred embodiment, the step (b) is performed by scraping with a doctor or film transfer to remove the portion of the curable resin composition filled in the hole from the surface of the hole, thereby flattening the surface of the substrate. Turn into.
さらに本発明によれば、前記製造方法により製造されたことを特徴とする多層プリント配線板が提供され、また、前記硬化性樹脂組成物が、熱硬化性樹脂組成物、又は光硬化性熱硬化性樹脂組成物である、前記多層プリント配線板の製造方法に使用されることを特徴とする硬化性樹脂組成物も提供される。 Furthermore, according to the present invention, there is provided a multilayer printed wiring board produced by the production method, and the curable resin composition is a thermosetting resin composition or a photocurable thermosetting. There is also provided a curable resin composition which is a curable resin composition and is used in the method for producing a multilayer printed wiring board.
本発明の多層プリント配線板の製造方法は、前記したように、プリント配線板の両面板や多層基板のスルーホールなどの貫通穴に充填された硬化性樹脂組成物の充填部の平坦化を硬化前に行うことによって、硬化後の充填部表面の研磨工程を省き、研磨による基板の変形(寸法変化)や銅箔まで削る事態等を避けることができ、さらには基板に歪みを発生したりすることがなく、また、硬化後に、プリプレグ又はドライフィルムタイプの絶縁材及び/又は樹脂付き金属箔を積層し、例えばプレス成型等により加熱、加圧することにより、外層を一括形成することができ、それによって工程を簡略化できる。
さらに、硬化性樹脂組成物の充填部の平坦化を硬化前に行うことによって、径の大きさが異なる複数のスルーホールなどの貫通穴を持つ基板に対し、1回の印刷で適切に充填することができる。即ち、従来とは異なり、充填後の穴部から突出している部分の量の違いを気にせずに、最も充填しにくい微小な径のスルーホールなどの貫通穴に適した印刷条件で充填することにより、1回の印刷で、未充填部分を発生させずに硬化性樹脂組成物を充填することができる。
また、本発明の多層プリント配線板の製造方法を用いることにより、気泡の発生が無く、基板の平坦性、レーザー加工性、デスミア耐性に優れると共に、はんだ耐熱性等の諸特性にも優れたプリント配線板を生産性良く製造することができる。
As described above, the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention cures flattening of a filling portion of a curable resin composition filled in a through hole such as a double-sided board of a printed wiring board or a through hole of a multilayer board. By performing before, it is possible to omit the polishing process of the surface of the filled portion after curing, avoid the deformation (dimension change) of the substrate due to polishing, the situation of scraping to the copper foil, etc., and further generate distortion in the substrate In addition, after curing, a prepreg or dry film type insulating material and / or metal foil with resin can be laminated and heated and pressed by, for example, press molding to form an outer layer at one time. Can simplify the process.
Further, by flattening the filling portion of the curable resin composition before curing, the substrate having through holes such as a plurality of through holes having different diameters is appropriately filled by one printing. be able to. In other words, unlike the conventional case, filling is performed under printing conditions suitable for through holes such as through holes with a small diameter that are most difficult to fill without worrying about the difference in the amount of the portion protruding from the hole after filling. Thus, the curable resin composition can be filled with one printing without generating an unfilled portion.
In addition, by using the method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention, there is no generation of bubbles, and the printed circuit board has excellent substrate flatness, laser workability, desmear resistance, and excellent characteristics such as solder heat resistance. A wiring board can be manufactured with high productivity.
前記したように、本発明の多層プリント配線板の製造方法は、硬化性樹脂組成物をプリント配線板の両面板又は多層基板の貫通穴に充填し、前記硬化性樹脂組成物を硬化する前に、前記硬化性樹脂組成物表面を研磨以外の方法により平坦化する工程を含むことを特徴としている。より具体的な好適な態様においては、
(a)硬化性樹脂組成物をプリント配線板の両面板又は多層基板の貫通穴に充填する工程、
(b)穴部に充填された硬化性樹脂組成物表面を研磨以外の物理的方法により平坦化する工程、
(c)穴部に充填された硬化性樹脂組成物を硬化する工程、及び
(d)プリプレグ又はドライフィルムタイプの絶縁材及び/又は樹脂付き金属箔を積層し、加熱及び加圧して成形する工程
の各工程を上記順序で行うこと、すなわち、プリント配線板の両面板や多層基板のスルーホールなどの貫通穴に充填された硬化性樹脂組成物の充填部の平坦化を硬化前に行う点、及び、硬化後に、プリプレグ又はドライフィルムタイプの絶縁材及び/又は樹脂付き金属箔を積層し、例えばプレス成型等による加熱、加圧工程を行い、外層を一括形成する点を特徴としている。なお泡抜けに留意すれば、プリント配線板の凹部に充填することもできる。以下、添付図面を参照しながら、本発明の多層プリント配線板の製造方法について詳しく説明する。
As described above, in the method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention, the curable resin composition is filled in the double-sided board of the printed wiring board or the through hole of the multilayer board, and before the curable resin composition is cured. The method further comprises a step of planarizing the surface of the curable resin composition by a method other than polishing. In a more specific preferred embodiment,
(A) filling a curable resin composition into a double-sided board of a printed wiring board or a through-hole of a multilayer board;
(B) a step of flattening the surface of the curable resin composition filled in the hole by a physical method other than polishing,
(C) a step of curing the curable resin composition filled in the hole, and (d) a step of laminating a prepreg or dry film type insulating material and / or metal foil with resin, and molding by heating and pressing. Performing the above steps in the above order, that is, performing the planarization of the filling portion of the curable resin composition filled in the through holes such as the double-sided board of the printed wiring board and the through-hole of the multilayer board before curing, And after hardening, it is characterized by laminating a prepreg or dry film type insulating material and / or a metal foil with resin, and performing a heating and pressurizing process, for example, by press molding or the like to form an outer layer at once. If attention is paid to bubble removal, the concave portion of the printed wiring board can be filled. Hereinafter, a method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
まず、例えば、貫通穴を有する両面プリント配線板の導電層にパターンエッチングを行い、図1(A)に示されるように導体パターン2が形成された基板1を従来公知の方法で準備する。貫通穴としては、プリント配線板中を貫通するあらゆる種類の穴が含まれ、具体的には、スルーホール、貫通バイアホール、部品穴等が挙げられる。両面プリント配線板としては、リジッドプリント配線板、フレキシブルプリント配線板、リジッド・フレックスプリント配線板等が挙げられる。尚、貫通穴を有する両面プリント配線板は、導電層と樹脂層との密着性向上等のために、導電層表面が粗化処理されているものが好ましい。粗化処理としては、黒化処理、所謂CZ(メックエッチボンド社製の化学粗化処理剤)処理、黒化還元処理、針状合金めっき、物理的処理(サンドブラスト、ショットブラスト、バフ研磨等)が挙げられる。
First, for example, pattern etching is performed on a conductive layer of a double-sided printed wiring board having through holes, and a
導体パターン2が形成された基板1の製造の具体例としては、例えば、銅箔をラミネートした基板にドリルで貫通孔を明け、貫通孔の壁面及び銅箔表面に無電解めっきを施してスルーホール3を形成する。基板としては、ガラスエポキシ基板やポリイミド基板、ビスマレイミド−トリアジン樹脂基板、フッ素樹脂基板などの樹脂基板、あるいはこれらの樹脂基板の銅張積層板、セラミック基板などを用いることができる。フッ素樹脂基板のようにめっきのつきまわりが悪い基板の場合は、有機金属ナトリウムからなる前処理剤、プラズマ処理などの表面改質を行なう。次に、厚付けのために電解めっきを行ない、基板表面及びスルーホール内壁にめっき膜を形成した後、パターンエッチングにより図1(A)に示されるように導体パターン2が形成された基板1を得る。電解めっきとしては銅めっきが好ましい。尚、図1(A)には、両面プリント配線板を用いた例が示されているが、多層基板であってもよいことは勿論である。
As a specific example of manufacturing the
(a)硬化性樹脂組成物を基板の貫通穴に充填する工程
前記のような基板1のめっきされたスルーホール3に、例えば硬化性樹脂組成物4を充填し、図1(B)に示すような状態とする。充填工程(a)は、例えば、スキージ印刷法又はロールコート法にて、好ましくはドットパターンによるスクリーン印刷にて行う。
径の大きさが異なる複数のスルーホールなどの貫通穴を持つ基板の場合、例えば、最も充填しにくい最小径のスルーホールに適した印刷条件にて充填を行う。これによって、1回の印刷で、どの大きさの径のスルーホールでも、未充填部分を発生させずに底部まで充填される条件で印刷を行うことが可能となる。また、従来の方法とは異なり、穴部からの突出量の違いを気にせずに、充填を行うことができる。
(A) Step of filling the through hole of the substrate with the curable resin composition The plated through hole 3 of the
In the case of a substrate having through holes such as a plurality of through holes having different diameters, for example, filling is performed under printing conditions suitable for the through hole having the smallest diameter that is most difficult to fill. As a result, it is possible to perform printing under the condition that a through hole of any size is filled to the bottom without generating an unfilled portion by one printing. Further, unlike the conventional method, filling can be performed without worrying about the difference in the amount of protrusion from the hole.
(b)穴部に充填された硬化性樹脂組成物表面を研磨以外の物理的方法により平坦化する工程
次に、穴部表面からはみ出している硬化性樹脂組成物の部分を、研磨以外の物理的方法、例えばドクターでかきとったり、支持フィルムとロールラミネーターを使用して、充填された硬化性樹脂組成物の穴部表面からはみ出している部分を支持フィルムに転写させることにより、硬化性樹脂組成物の穴部表面からはみ出している部分を取り除き、図1(C)に示されるように、基板1の表面を平坦化する。ドクターを用いる場合、ドクターの先端部が基板面に接触させて行うことが好ましい。この場合、ドクターを基板面に対して水平方向に直線移動させることで、充填された硬化性樹脂組成物の穴部表面からはみ出している部分を取り除くことができる。この工程の段階では、硬化性樹脂組成物はまだ硬化されていないため、穴部表面からはみ出している突出部分を容易に取り除くことができる。
尚、径の大きさが異なる複数のスルーホールなどの貫通穴を持つ基板の場合、印刷面の反対側に発生する突出部分の突出量が、径の大きさによって異なる状態となる(大径部分は突出量が多く、微少の径の部分は突出量が少なくなる。)が、この突出部分を、硬化前にスキージやフィルムへの転写などの手法により、基板の表面からかきとることで、基板の表面を傷付けたり、寸法が変化したり、さらには基板に歪みを発生したりすることなく、基板の表面が平坦化される。
(B) Step of flattening the surface of the curable resin composition filled in the hole by a physical method other than polishing Next, the portion of the curable resin composition protruding from the surface of the hole is physically removed by polishing. Curable resin composition by transferring the portion protruding from the surface of the hole portion of the filled curable resin composition to the support film using a method such as scratching with a doctor or using a support film and a roll laminator The portion protruding from the surface of the hole is removed, and the surface of the
In the case of a substrate having a plurality of through-holes such as through-holes having different diameters, the protruding amount of the protruding part generated on the opposite side of the printing surface is different depending on the size of the diameter (large diameter part The amount of protrusion is large, and the amount of protrusion is small in the small diameter part.) However, by scratching the protruding part from the surface of the substrate by a method such as transfer to a squeegee or film before curing, The surface of the substrate is flattened without damaging the surface of the substrate, changing the dimensions, or causing distortion of the substrate.
(c)穴部に充填された硬化性樹脂組成物を硬化する工程
次いで、穴部に充填された硬化性樹脂組成物を硬化する。硬化は、用いた硬化性樹脂組成物の種類に応じて選定すればよく、例えば、硬化性樹脂組成物として熱硬化性樹脂組成物を用いた場合には約100℃〜200℃に加熱することにより、また光硬化性熱硬化性樹脂組成物を用いた場合には活性エネルギー線の照射により行い、充填された硬化性樹脂組成物を半硬化又は本硬化させる。この硬化は、硬化性樹脂組成物を完全硬化(本硬化)した状態とすることもできるが、好ましくは、半硬化した状態とする。例えば、熱硬化性樹脂組成物としてエポキシ樹脂組成物を用いた場合には、約100℃〜130℃に加熱してエポキシ反応率が80%〜97%程度になるように、また、光硬化性熱硬化性樹脂組成物を用いた場合には活性エネルギー線の照射量を調節してエチレン性不飽和二重結合の光反応率が80%〜97%程度になるように行う。また、気泡を確実に除去し、ボイドの残留や硬化時のクラックの発生を抑制し易くするために、多段階硬化を行なうこともできる。
(C) Step of curing the curable resin composition filled in the hole Next, the curable resin composition filled in the hole is cured. Curing may be selected according to the type of curable resin composition used. For example, when a thermosetting resin composition is used as the curable resin composition, it is heated to about 100 ° C. to 200 ° C. In addition, when a photocurable thermosetting resin composition is used, it is performed by irradiation with active energy rays, and the filled curable resin composition is semi-cured or main-cured. Although this hardening can also be made into the state which carried out complete hardening (main hardening) of the curable resin composition, Preferably it is set as the semi-hardened state. For example, when an epoxy resin composition is used as the thermosetting resin composition, it is heated to about 100 ° C. to 130 ° C. so that the epoxy reaction rate becomes about 80% to 97%. When the thermosetting resin composition is used, the irradiation amount of the active energy ray is adjusted so that the photoreaction rate of the ethylenically unsaturated double bond is about 80% to 97%. Also, multi-stage curing can be performed in order to reliably remove bubbles and to easily suppress the residual voids and the occurrence of cracks during curing.
(d)プリプレグ又はドライフィルムタイプの絶縁材及び/又は樹脂付き金属箔を積層し、加熱及び加圧して成形する工程
前記のように、穴部に半硬化又は本硬化状態の硬化性樹脂組成物4が充填された基板1の両面(又は片面)にプリプレグ又はドライフィルムタイプの絶縁材及び/又は樹脂付き金属箔を積層し、加熱及び加圧して一体化する。例えば、銅箔6にエポキシ樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物7が貼り合わされた樹脂付き銅箔5をラミネートして両面銅張り積層板を形成し、加熱及び加圧して、図1(D)に示されるように成形する。
(D) A step of laminating a prepreg or dry film type insulating material and / or a metal foil with resin, and molding by heating and pressing As described above, a curable resin composition in a semi-cured or fully cured state in the hole portion A prepreg or dry film type insulating material and / or metal foil with resin is laminated on both surfaces (or one surface) of the
次いで、得られた両面銅張り積層板の表面にエッチングレジストを形成し、レジスト非形成部分をエッチングすることにより銅箔6をパターンエッチングして、図1(E)に示されるように外層の導体パターン8を形成する。さらに前記した工程を繰り返すことにより、さらに多層のプリント配線板を製造することができる。
Next, an etching resist is formed on the surface of the obtained double-sided copper-clad laminate, and the copper foil 6 is pattern-etched by etching the non-resist-formed portion, and as shown in FIG.
前記したように、プリント配線板の両面板や多層基板のスルーホールなどの貫通穴に充填される硬化性樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂組成物及び光硬化性熱硬化性樹脂組成物を用いることができるが、その粘度が25±1℃で100dPa・s以上、1000dPa・s以下であることが好ましい。熱硬化性樹脂組成物としては種々の熱硬化性樹脂組成物を用いることができるが、その硬化物が機械的、電気的、化学的性質に優れ、接着性も良好である点から、エポキシ樹脂組成物が好ましい。エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤を含有し、必要に応じてフィラー等の他の成分を配合したものであり、光硬化性熱硬化性樹脂組成物はこれらの成分のほかにさらに光硬化性成分や光ラジカル重合開始剤を配合したものである。 As described above, as the curable resin composition filled in the through-holes such as the double-sided board of the printed wiring board and the through-hole of the multilayer board, the thermosetting resin composition and the photocurable thermosetting resin composition are used. Although it can be used, the viscosity is preferably 100 dPa · s or more and 1000 dPa · s or less at 25 ± 1 ° C. Various thermosetting resin compositions can be used as the thermosetting resin composition, but the epoxy resin is excellent in that the cured product has excellent mechanical, electrical and chemical properties and good adhesiveness. Compositions are preferred. The epoxy resin composition contains an epoxy resin and an epoxy resin curing agent, and is blended with other components such as a filler as necessary. The photocurable thermosetting resin composition is in addition to these components. Further, a photocurable component and a radical photopolymerization initiator are blended.
前記硬化性樹脂組成物に用いるエポキシ樹脂としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するものであればよく、公知のものを使用することができる。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ジナフトール型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ポリエチレングリコールもしくはポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、フェニル−1,3−ジグリシジルエーテル、ビフェニル−4,4’−ジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレングリコール又はプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリス(2,3−エポキシプロピル)イソシアヌレート、トリグリシジルトリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートなどの1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物や、テトラグリシジルアミノジフェニルメタン、テトラグリシジルメタキシリレンジアミン、トリグリシジルパラアミノフェノール、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルオルトトルイジンなどのアミン型エポキシ樹脂などが挙げられるが、常温、例えば20℃で液状のエポキシ樹脂が好ましい。 As an epoxy resin used for the said curable resin composition, what has a 2 or more epoxy group in 1 molecule should just be used, and a well-known thing can be used. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, dinaphthol type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, polyethylene glycol or polypropylene glycol diester Glycidyl ether, polytetramethylene glycol diglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, phenyl-1,3-diglycidyl ether, biphenyl-4,4′-diglycidyl ether, 1,6-hexanediol Diglycidyl ether, diglycidyl ether of ethylene glycol or propylene glycol, sorbitol polyglycidyl ether, Compounds having two or more epoxy groups in one molecule such as rubitan polyglycidyl ether, tris (2,3-epoxypropyl) isocyanurate, triglycidyltris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, tetraglycidylaminodiphenylmethane Amine type epoxy resins such as tetraglycidyl metaxylylene diamine, triglycidyl paraaminophenol, diglycidyl aniline, diglycidyl orthotoluidine, etc., and epoxy resins that are liquid at room temperature, for example, 20 ° C. are preferred.
これらの市販品としては、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂として、三菱化学社製jER828、新日鐵化学社製YD128、ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂として、三菱化学社製jER807、新日鐵化学社製YDF−170、フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、ダウ・ケミカル社製DEN431、アミン型液状エポキシ樹脂(パラアミノフェノール型液状エポキシ樹脂)として、三菱化学社製jER−630、住友化学社製ELM−100、ハンツマン・アドバンテスト・マテリアルズ社製MY0510などが挙げられる。 These commercially available products include bisphenol A type liquid epoxy resin, jER828 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YD128 manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., and bisphenol F type liquid epoxy resin, jER807 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, YDF manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. -170, as a phenol novolac type epoxy resin, DEN431 manufactured by Dow Chemical Company, as an amine type liquid epoxy resin (paraaminophenol type liquid epoxy resin), jER-630 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, ELM-100 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., Huntsman Examples include MY0510 manufactured by Advantest Materials.
これらのうち、粘度が低くペーストを作製した際に無機フィラーの配合量を増やすことができ、また耐熱骨格であるベンゼン環を含む液状エポキシ樹脂などが好ましい。
前記したようなエポキシ樹脂は、単独で又は2種以上を組合せて使用することができる。エポキシ樹脂の配合割合は、組成物が熱硬化性樹脂組成物か光硬化性熱硬化性樹脂組成物であるかによって異なるが、一般に、組成物の固形分中5質量%以上、70質量%以下、さらに好ましくは10質量%以上、60質量%以下が適当である。
Among these, when the paste has a low viscosity, the amount of the inorganic filler can be increased, and a liquid epoxy resin containing a benzene ring which is a heat-resistant skeleton is preferable.
The epoxy resins as described above can be used alone or in combination of two or more. The blending ratio of the epoxy resin varies depending on whether the composition is a thermosetting resin composition or a photocurable thermosetting resin composition, but generally 5% by mass or more and 70% by mass or less in the solid content of the composition. More preferably, 10 mass% or more and 60 mass% or less are suitable.
エポキシ樹脂硬化剤は、エポキシ樹脂を硬化させるために用いられるものである。エポキシ樹脂硬化剤としては、エポキシ樹脂の硬化反応を促進する効果があれば何れのものも使用でき、特定のものには限定されないが、イミダゾール誘導体が好ましく、例えば2−メチルイミダゾール、4−メチル−2−エチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、4−メチル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾールなどが挙げられる。市販されているものの具体例としては、商品名2E4MZ、C11Z、C17Z、2PZ等のイミダゾール類や、商品名2MZ−A、2E4MZ−A等のイミダゾールのAZ INE化合物、商品名2MZ−OK、2PZ−OK等のイミダゾールのイソシアヌル酸塩、商品名2PHZ、2P4MHZ等のイミダゾールヒドロキシメチル体(前記商品名はいずれも四国化成工業(株)製)などが挙げられる。 The epoxy resin curing agent is used for curing the epoxy resin. Any epoxy resin curing agent can be used as long as it has an effect of accelerating the curing reaction of the epoxy resin, and is not limited to a specific one, but imidazole derivatives are preferable, for example, 2-methylimidazole, 4-methyl- 2-ethylimidazole, 2-phenylimidazole, 4-methyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-isopropylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl Examples include 2-ethyl-4-methylimidazole and 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole. Specific examples of commercially available products include imidazoles such as trade names 2E4MZ, C11Z, C17Z, and 2PZ, and AZ INE compounds of imidazoles such as trade names 2MZ-A and 2E4MZ-A, trade names 2MZ-OK, and 2PZ-. Examples thereof include isocyanurate of imidazole such as OK, and imidazole hydroxymethyl compounds such as trade names 2PHZ and 2P4MHZ (the trade names are all manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.).
前記イミダゾール以外にも、ジシアンジアミドとその誘導体、メラミンとその誘導体、ジアミノマレオニトリルとその誘導体、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラメチレンペンタミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエタノーアミン、ジアミノジフェニルメタン、有機酸ヒドラジッド等のアミン類、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(商品名DBU、サンアプロ(株)製)、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン(商品名ATU、味の素(株)製)、又は、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン等の有機ホスフィン化合物などを、単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。これらの硬化触媒の中でも、ジシアンジアミド、メラミンや、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、3,9−ビス[2−(3,5−ジアミノ−2,4,6−トリアザフェニル)エチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン等のグアナミン及びその誘導体、及びこれらの有機酸塩やエポキシアダクトなどは、銅との密着性や防錆性を有することが知られており、エポキシ樹脂の硬化触媒として働くばかりでなく、プリント配線板の銅の変色防止に寄与することができる。 Besides imidazole, dicyandiamide and its derivatives, melamine and its derivatives, diaminomaleonitrile and its derivatives, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetramethylenepentamine, bis (hexamethylene) triamine, triethanolamine, diaminodiphenylmethane, organic acid Amines such as hydrazide, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (trade name DBU, manufactured by San Apro), 3,9-bis (3-aminopropyl) -2,4,8 , 10-tetraoxaspiro [5.5] undecane (trade name ATU, manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) or organic phosphine compounds such as triphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, tributylphosphine, and methyldiphenylphosphine alone Or two It can be used in combination with the above. Among these curing catalysts, dicyandiamide, melamine, acetoguanamine, benzoguanamine, 3,9-bis [2- (3,5-diamino-2,4,6-triazaphenyl) ethyl] -2,4,8 , 10-tetraoxaspiro [5.5] undecane and derivatives thereof, and their organic acid salts and epoxy adducts are known to have adhesion and rust prevention properties with copper. In addition to acting as a curing catalyst for the resin, it can contribute to the prevention of discoloration of copper in the printed wiring board.
また、変性脂肪族ポリアミン及び変性脂環式ポリアミンは、エポキシ樹脂の硬化剤として作用し、エポキシ樹脂と混合した場合、混合後は一液型樹脂組成物として使用でき、しかも、一液型でありながら室温下で長期間の保管が可能であり(ポットライフが長い)、例えば25℃で180日以上ゲル化することなく保管でき、室温での貯蔵安定性に優れている点、及び毒性や皮膚刺激性が少なく、作業性が改善される点から好ましい。また、他のアミン系硬化剤、例えば、ジシアンジアミド及びその誘導体、三フッ化ホウ素−アミンコンプレックス等のアミン化合物に比べ、比較的低温で硬化反応を開始すると共に、高い耐熱性、耐水性の硬化物を製造できる。 In addition, the modified aliphatic polyamine and the modified alicyclic polyamine act as a curing agent for the epoxy resin. When mixed with the epoxy resin, the modified aliphatic polyamine and the modified alicyclic polyamine can be used as a one-component resin composition after mixing, and are one-component. However, it can be stored at room temperature for a long time (long pot life). For example, it can be stored at 25 ° C. for 180 days or longer without gelation, has excellent storage stability at room temperature, and has toxicity and skin properties. This is preferable from the viewpoint of less irritation and improved workability. In addition, compared with other amine-based curing agents such as dicyandiamide and its derivatives, and amine compounds such as boron trifluoride-amine complex, the curing reaction starts at a relatively low temperature, and has high heat resistance and water resistance. Can be manufactured.
さらに本発明者らの研究によれば、エポキシ樹脂硬化剤として、上記変性脂肪族ポリアミン及び変性脂環式ポリアミンよりなる群から選ばれた少なくとも1種と組み合わせて、さらに他のアミン化合物、特にジシアンジアミドを併用した熱硬化性樹脂組成物の場合、室温下での保管時の増粘率が抑えられるので、さらに長期間の保管が可能となり、また、少量のポリアミンでも硬化するので、上記変性脂肪族ポリアミンと変性脂環式ポリアミンの使用量を低減できる。 Further, according to the study by the present inventors, as an epoxy resin curing agent, in combination with at least one selected from the group consisting of the above-mentioned modified aliphatic polyamine and modified alicyclic polyamine, further amine compounds, particularly dicyandiamide In the case of the thermosetting resin composition used in combination, since the viscosity increase rate during storage at room temperature can be suppressed, it can be stored for a longer period of time, and it can be cured even with a small amount of polyamine. The amount of polyamine and modified alicyclic polyamine used can be reduced.
上記ポリアミン系硬化剤は、炭素数2以上6以下のアルキレンジアミン、炭素数2以上6以下のポリアルキレンポリアミン、炭素数8以上15以下である芳香環含有脂肪族ポリアミンなどの脂肪族ポリアミンのアダクト化合物、又はイソホロンジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンなどの脂環式ポリアミンのアダクト化合物、又は上記脂肪族ポリアミンのアダクト化合物と上記脂環式ポリアミンのアダクト化合物との混合物を主成分とするものが好ましい。特に、キシリレンジアミン又はイソホロンジアミンのアダクト化合物を主成分とする硬化剤が好ましい。 The polyamine-based curing agent is an adduct compound of an aliphatic polyamine such as an alkylene diamine having 2 to 6 carbon atoms, a polyalkylene polyamine having 2 to 6 carbon atoms, or an aromatic ring-containing aliphatic polyamine having 8 to 15 carbon atoms. Or an adduct compound of an alicyclic polyamine such as isophoronediamine or 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, or a mixture of the adduct compound of the aliphatic polyamine and the adduct compound of the alicyclic polyamine as a main component. Those are preferred. In particular, a curing agent mainly composed of an adduct compound of xylylenediamine or isophoronediamine is preferable.
上記脂肪族ポリアミンのアダクト化合物としては、当該脂肪族ポリアミンにアリールグリシジルエーテル(特にフェニルグリシジルエーテル又はトリルグリシジルエーテル)又はアルキルグリシジルエーテルを付加反応させて得られるものが好ましい。また、上記脂環式ポリアミンのアダクト化合物としては、当該脂環式ポリアミンにn−ブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル等を付加反応させて得られるものが好ましい。 As the above-mentioned aliphatic polyamine adduct compound, an aliphatic polyamine obtained by addition reaction of aryl glycidyl ether (particularly phenyl glycidyl ether or tolyl glycidyl ether) or alkyl glycidyl ether is preferable. The alicyclic polyamine adduct compound is preferably a compound obtained by subjecting the alicyclic polyamine to an addition reaction of n-butyl glycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, or the like.
脂肪族ポリアミンとしては、エチレンジアミン、プロピレンジアミンなど炭素数2以上6以下のアルキレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレントリアミンなど炭素数2以上6以下のポリアルキレンポリアミン、キシリレンジアミンなど炭素数8以上15以下の芳香環含有脂肪族ポリアミンなどが挙げられる。脂肪族ポリアミンの市販品の例としては、例えばFXE−1000又はFXR−1020、フジキュアFXR−1030、フジキュアFXR−1080、FXR−1090M2(富士化成工業社製)、アンカミン(登録商標)2089K、サンマイド(登録商標)P−117、サンマイドX−4150、アンカミン2422、サーウェットR、サンマイドTX−3000、サンマイドA−100(エアープロダクツジャパン社製)等が挙げられる。 Aliphatic polyamines include alkylenediamines having 2 to 6 carbon atoms such as ethylenediamine and propylenediamine, polyalkylene polyamines having 2 to 6 carbon atoms such as diethylenetriamine and triethylenetriamine, and aromatics having 8 to 15 carbon atoms such as xylylenediamine. Examples thereof include ring-containing aliphatic polyamines. Examples of commercially available aliphatic polyamines include FXE-1000 or FXR-1020, Fujicure FXR-1030, Fujicure FXR-1080, FXR-1090M2 (Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.), Ancamine (registered trademark) 2089K, Sanmide ( (Registered trademark) P-117, Sanmide X-4150, Ancamine 2422, Thurwet R, Sunmide TX-3000, Sunmide A-100 (manufactured by Air Products Japan), and the like.
脂環式ポリアミンとしては、イソホロンジアミン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ノルボルネンジアミン、1,2−ジアミノシクロヘキサン、ラロミン等を例示することができる。脂環式ポリアミンの市販品としては、例えばアンカミン1618、アンカミン2074、アンカミン2596、アンカミン2199、サンマイドIM−544、サンマイドI−544、アンカミン2075、アンカミン2280、アンカミン1934、アンカミン2228(エアープロダクツジャパン社製)、ダイトクラール(登録商標)F−5197、ダイトクラールB−1616(大都産業社製)、フジキュアーFXD−821、フジキュア4233(富士化成工業社製)、jERキュア(登録商標)113(三菱化学社製)、ラロミン(登録商標)C−260(BASF社製)等が挙げられる。 Examples of alicyclic polyamines include isophorone diamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, norbornene diamine, 1,2-diaminocyclohexane, and laromine. Examples of commercially available alicyclic polyamines include Ancamine 1618, Ancamine 2074, Ancamine 2596, Ancamine 2199, Sanmide IM-544, Sanmide I-544, Ancamine 2075, Ancamine 2280, Ancamine 1934, Ancamine 2228 (produced by Air Products Japan). ), Daitokural (registered trademark) F-5197, Daitokural B-1616 (manufactured by Daito Sangyo Co., Ltd.), Fuji Cure FXD-821, Fuji Cure 4233 (manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd.), jER Cure (registered trademark) 113 (Mitsubishi Chemical Corporation) Product), Lalomin (registered trademark) C-260 (manufactured by BASF) and the like.
前記したようなエポキシ樹脂硬化剤の配合割合は、エポキシ樹脂100質量部に対して、0.1質量部以上、30質量部以下、好ましくは1質量部以上、20質量部以下が適当である。エポキシ樹脂硬化剤の配合割合が、エポキシ樹脂100質量部に対して0.1質量部未満の場合、一般にエポキシ樹脂組成物の硬化速度が遅くなり、硬化物にボイドの残留とクラックの発生を生じ易くなるので好ましくない。他方、配合割合が30質量部を超えて多量に配合すると、室温下での貯蔵安定性が得られ難くなる。 The blending ratio of the epoxy resin curing agent as described above is suitably 0.1 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, preferably 1 part by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin. When the blending ratio of the epoxy resin curing agent is less than 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin, the curing rate of the epoxy resin composition is generally slowed down, and voids remain and cracks occur in the cured product Since it becomes easy, it is not preferable. On the other hand, if the blending ratio exceeds 30 parts by mass, it becomes difficult to obtain storage stability at room temperature.
硬化性樹脂組成物が光硬化性熱硬化性樹脂組成物の場合、さらに、分子中にエチレン性不飽和二重結合を有する感光性樹脂や、感光性化合物(光重合性モノマー)を光硬化に必要な量で併用する必要がある。
感光性樹脂の具体例としては、以下に列挙するような化合物(オリゴマー及びポリマーのいずれでもよい)が好ましい。
In the case where the curable resin composition is a photocurable thermosetting resin composition, the photosensitive resin having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule or a photosensitive compound (photopolymerizable monomer) is photocured. It is necessary to use together in the required amount.
As specific examples of the photosensitive resin, the following compounds (any of oligomers and polymers) are preferable.
(1)(メタ)アクリル酸等の不飽和カルボン酸と、スチレン、α−メチルスチレン、低級アルキル(メタ)アクリレート、イソブチレン等の不飽和基含有化合物との共重合により得られるカルボキシル基含有樹脂に分子内に1つ以上のエチレン性不飽和基と1つのエポキシ基を有する化合物を反応させてなるカルボキシル基含有感光性樹脂。 (1) A carboxyl group-containing resin obtained by copolymerization of an unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid and an unsaturated group-containing compound such as styrene, α-methylstyrene, lower alkyl (meth) acrylate, and isobutylene. A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting a compound having one or more ethylenically unsaturated groups and one epoxy group in a molecule.
(2)ジイソシアネートと、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂等の2官能エポキシ樹脂の(メタ)アクリレートもしくはその部分酸無水物変性物、カルボキシル基含有ジアルコール化合物及びジオール化合物の重付加反応によるカルボキシル基含有感光性ウレタン樹脂。 (2) Diisocyanate and bifunctional epoxy resin such as bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bixylenol type epoxy resin, biphenol type epoxy resin ( A carboxyl group-containing photosensitive urethane resin obtained by a polyaddition reaction of (meth) acrylate or a partially acid anhydride-modified product thereof, a carboxyl group-containing dialcohol compound, and a diol compound.
(3)前記(2)の樹脂の合成中に、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等の分子内に1つの水酸基と1つ以上の(メタ)アクリル基を有する化合物を加え、末端(メタ)アクリル化したカルボキシル基含有感光性ウレタン樹脂。 (3) During the synthesis of the resin of (2), a compound having one hydroxyl group and one or more (meth) acrylic groups in a molecule such as hydroxyalkyl (meth) acrylate is added, and terminal (meth) acrylated Carboxyl group-containing photosensitive urethane resin.
(4)前記(2)の樹脂の合成中に、イソホロンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの等モル反応物など、分子内に1つのイソシアネート基と1つ以上の(メタ)アクリル基を有する化合物を加え末端(メタ)アクリル化したカルボキシル基含有感光性ウレタン樹脂。 (4) During the synthesis of the resin of (2), a compound having one isocyanate group and one or more (meth) acryl groups in the molecule, such as an equimolar reaction product of isophorone diisocyanate and pentaerythritol triacrylate, was added. Terminal (meth) acrylated carboxyl group-containing photosensitive urethane resin.
(5)2官能又はそれ以上の多官能エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させ、側鎖に存在する水酸基に無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸等の2塩基酸無水物を付加させたカルボキシル基含有感光性樹脂。 (5) A dibasic acid anhydride such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, etc. is reacted with a hydroxyl group present in the side chain by reacting a bifunctional or higher polyfunctional epoxy resin with (meth) acrylic acid. A carboxyl group-containing photosensitive resin to which is added.
(6)2官能エポキシ樹脂の水酸基をさらにエピクロロヒドリンでエポキシ化した多官能エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸を反応させ、生じた水酸基に2塩基酸無水物を付加させたカルボキシル基含有感光性樹脂。 (6) Carboxyl group-containing photosensitivity in which (meth) acrylic acid is reacted with a polyfunctional epoxy resin obtained by epoxidizing the hydroxyl group of a bifunctional epoxy resin with epichlorohydrin, and a dibasic acid anhydride is added to the resulting hydroxyl group. Resin.
(7)ノボラックのごとき多官能フェノール化合物にエチレンオキサイドのごとき環状エーテル、プロピレンカーボネートのごとき環状カーボネートを付加させ、得られた水酸基を(メタ)アクリル酸で部分エステル化し、残りの水酸基に無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の多塩基酸無水物を反応させたカルボキシル基含有感光性樹脂。 (7) A cyclic ether such as ethylene oxide or a cyclic carbonate such as propylene carbonate is added to a polyfunctional phenolic compound such as novolak, and the resulting hydroxyl group is partially esterified with (meth) acrylic acid, and the remaining hydroxyl group is treated with maleic anhydride. Carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by reacting polybasic acid anhydrides such as tetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride and pyromellitic anhydride.
(8)上記(1)〜(7)の樹脂にさらにグリシジル(メタ)アクリレート、α−メチルグリシジル(メタ)アクリレート等の分子中に1つのエポキシ基と1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物を付加してなるカルボキシル基含有感光性樹脂。
なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート、メタクリレート及びそれらの混合物を総称する用語であり、他の類似の表現についても同様である。
(8) The resin of the above (1) to (7) further has one epoxy group and one or more (meth) acryloyl groups in the molecule such as glycidyl (meth) acrylate and α-methylglycidyl (meth) acrylate. A carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by adding a compound.
In the present specification, (meth) acrylate is a term that collectively refers to acrylate, methacrylate, and mixtures thereof, and the same applies to other similar expressions.
本発明の光硬化性熱硬化性樹脂組成物に用いる感光性化合物としては、慣用公知のポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、カーボネート(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレートなどが使用でき、具体的には、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレートなどのヒドロキシアルキルアクリレート類;エチレングリコール、メトキシテトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコールなどのグリコールのジアクリレート類;N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミドなどのアクリルアミド類;N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリレートなどのアミノアルキルアクリレート類;ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどの多価アルコール又はこれらのエチレオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物、もしくはε−カプロラクトン付加物などの多価アクリレート類;フェノキシアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、及びこれらのフェノール類のエチレンオキサイド付加物もしくはプロピレンオキサイド付加物などの多価アクリレート類;グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレートなどのグリシジルエーテルの多価アクリレート類;上記に限らず、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートジオール、水酸基末端ポリブタジエン、ポリエステルポリオールなどのポリオールを直接アクリレート化、もしくは、ジイソシアネートを介してウレタンアクリレート化したアクリレート類及びメラミンアクリレート、及び/又は上記アクリレートに対応する各メタクリレート類などが挙げられる。 As a photosensitive compound used for the photocurable thermosetting resin composition of this invention, conventionally well-known polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, carbonate (meth) acrylate, epoxy ( (Meth) acrylates can be used. Specifically, hydroxyalkyl acrylates such as 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxypropyl acrylate; diacrylates of glycols such as ethylene glycol, methoxytetraethylene glycol, polyethylene glycol and propylene glycol Acrylamides such as N, N-dimethylacrylamide, N-methylolacrylamide, N, N-dimethylaminopropylacrylamide; N, N-dimethylaminoethyl acetate , Aminoalkyl acrylates such as N, N-dimethylaminopropyl acrylate; polyhydric alcohols such as hexanediol, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, tris-hydroxyethyl isocyanurate, or their ethylene oxide adducts; Polyvalent acrylates such as propylene oxide adduct or ε-caprolactone adduct; phenoxy acrylate, bisphenol A diacrylate, and polyvalent acrylates such as ethylene oxide adduct or propylene oxide adduct of these phenols; Glycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate Polyglycerides of any glycidyl ether; not limited to the above, acrylates and melamine acrylates obtained by directly acrylated polyols such as polyether polyol, polycarbonate diol, hydroxyl-terminated polybutadiene, polyester polyol, or urethane acrylate via diisocyanate And / or methacrylates corresponding to the acrylate.
さらに、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂などの多官能エポキシ樹脂に、アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート樹脂や、さらにそのエポキシアクリレート樹脂の水酸基に、ペンタエリスリトールトリアクリレートなどのヒドロキシアクリレートとイソホロンジイソシアネートなどのジイソシアネートのハーフウレタン化合物を反応させたエポキシウレタンアクリレート化合物などが、挙げられる。このようなエポキシアクリレート系樹脂は、指触乾燥性を低下させることなく、光硬化性を向上させることができる。 Further, an epoxy acrylate resin obtained by reacting acrylic acid with a polyfunctional epoxy resin such as a cresol novolac type epoxy resin, or a hydroxy acrylate such as pentaerythritol triacrylate and a diisocyanate such as isophorone diisocyanate on the hydroxyl group of the epoxy acrylate resin. Examples thereof include an epoxy urethane acrylate compound obtained by reacting a half urethane compound. Such an epoxy acrylate resin can improve photocurability without deteriorating the touch drying property.
このような分子中に複数のエチレン性不飽和基を有する感光性成分の配合量は、組成物の固形分中5質量%以上、70質量%以下、さらに好ましくは10質量%以上、60質量%以下が適当である。前記配合量が、5質量%未満の場合、光硬化性が低下し、一方、70質量%を超えた場合、皮膜が脆くなるので、好ましくない。 The compounding quantity of the photosensitive component which has several ethylenically unsaturated groups in such a molecule | numerator is 5 to 70 mass% in solid content of a composition, More preferably, it is 10 to 60 mass% The following are appropriate. When the blending amount is less than 5% by mass, the photocurability is lowered. On the other hand, when it exceeds 70% by mass, the coating becomes fragile, which is not preferable.
本発明で用いる光ラジカル重合開始剤としては、オキシムエステル基を有するオキシムエステル系光重合開始剤、α−アミノアセトフェノン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤、ベンゾイン化合物、アセトフェノン化合物、アントラキノン化合物、チオキサントン化合物、ケタール化合物、ベンゾフェノン化合物、3級アミン化合物、及びキサントン化合物など、従来公知の光ラジカル重合開始剤を挙げることができ、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、上記のような光ラジカル重合開始剤は、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の三級アミン類のような光増感剤の1種あるいは2種以上と組み合わせて用いることができる。さらに、より深い光硬化深度を要求される場合、必要に応じて、可視領域でラジカル重合を開始するチバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製CGI784等のチタノセン系光重合開始剤、ロイコ染料等を硬化助剤として組み合わせて用いることができる。 As the photo radical polymerization initiator used in the present invention, an oxime ester photopolymerization initiator having an oxime ester group, an α-aminoacetophenone photopolymerization initiator, an acylphosphine oxide photopolymerization initiator, a benzoin compound, an acetophenone compound, A conventionally well-known radical photopolymerization initiator, such as an anthraquinone compound, a thioxanthone compound, a ketal compound, a benzophenone compound, a tertiary amine compound, and a xanthone compound, can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more. Further, the radical photopolymerization initiator as described above may be N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, triethanolamine, etc. It can be used in combination with one or more photosensitizers such as tertiary amines. In addition, when a deeper photocuring depth is required, a titanocene photopolymerization initiator such as CGI784 manufactured by Ciba Specialty Chemicals, which initiates radical polymerization in the visible region, and a leuco dye can be used as needed. It can be used in combination as an agent.
光ラジカル重合開始剤、光増感剤の配合量は、組成物全体量の0.02質量%以上、10質量%以下とすることが好ましい。0.02質量%未満であると、銅上での光硬化性が不足し、一方、10質量%を超えると、皮膜表面での光吸収が激しくなり、深部硬化性が低下する傾向がある。 The blending amount of the radical photopolymerization initiator and the photosensitizer is preferably 0.02% by mass or more and 10% by mass or less of the total amount of the composition. If it is less than 0.02% by mass, the photocurability on copper is insufficient. On the other hand, if it exceeds 10% by mass, the light absorption on the surface of the film becomes intense and the deep curability tends to be lowered.
本発明で用いる硬化性樹脂組成物において、無機フィラーは、硬化収縮による応力緩和や線膨張係数の調整のために用いられるものである。このような無機フィラーとしては、通常の樹脂組成物に用いられる公知の無機フィラーを用いることができる。具体的には、例えば、シリカ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、ノイブルク珪土、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、アルミナ、酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化チタン、マイカ、タルク、有機ベントナイトなどの非金属フィラーや、銅、金、銀、パラジウム、シリコーンなどの金属フィラーが挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて使用することができる。 In the curable resin composition used in the present invention, the inorganic filler is used for stress relaxation due to curing shrinkage and adjustment of the linear expansion coefficient. As such an inorganic filler, the well-known inorganic filler used for a normal resin composition can be used. Specifically, for example, silica, barium sulfate, calcium carbonate, Neuburg silica, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, alumina, magnesium oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, titanium oxide, mica, talc, organic bentonite Nonmetallic fillers such as copper, metallic fillers such as copper, gold, silver, palladium, and silicone. These can be used alone or in combination of two or more.
これらの無機フィラーのなかでも、低吸湿性、低体積膨張性に優れるシリカや、炭酸カルシウムが好適に用いられる。シリカとしては、非晶質、結晶のいずれであってもよく、これらの混合物でもよい。特に非晶質(溶融)シリカが好ましい。また、炭酸カルシウムとしては、天然の重質炭酸カルシウム、合成の沈降炭酸カルシウムのいずれであってもよい。 Among these inorganic fillers, silica and calcium carbonate excellent in low hygroscopicity and low volume expansibility are preferably used. Silica may be either amorphous or crystalline, or a mixture thereof. In particular, amorphous (fused) silica is preferred. The calcium carbonate may be either natural heavy calcium carbonate or synthetic precipitated calcium carbonate.
このような無機フィラーの形状は、球状、針状、板状、鱗片状、中空状、不定形状、六角状、キュービック状、薄片状などが挙げられるが、無機フィラーの高配合の観点から球状が好ましい。 Examples of the shape of such an inorganic filler include a spherical shape, a needle shape, a plate shape, a scale shape, a hollow shape, an indefinite shape, a hexagonal shape, a cubic shape, and a flake shape. preferable.
また、これら無機フィラーの平均粒径は、0.1μm以上、25μm以下、好ましくは0.1μm以上、15μm以下の範囲が適当である。平均粒径が0.1μm未満では、比表面積が大きくフィラー同士の凝集作用の影響により分散不良が発生し易く、またフィラーの充填量を増やすのが困難になる。一方、25μmを超えると、プリント配線板の穴部への充填性が悪くなるうえ、穴埋めした部分に導体層を形成したときに平滑性が悪くなるという問題がある。より好ましくは、1μm以上、10μm以下である。 The average particle size of these inorganic fillers is in the range of 0.1 μm or more and 25 μm or less, preferably 0.1 μm or more and 15 μm or less. When the average particle diameter is less than 0.1 μm, the specific surface area is large, and dispersion failure is likely to occur due to the influence of the aggregating action between the fillers, and it is difficult to increase the filling amount of the filler. On the other hand, when the thickness exceeds 25 μm, there is a problem that the filling property to the hole of the printed wiring board is deteriorated and the smoothness is deteriorated when the conductor layer is formed in the filled portion. More preferably, they are 1 micrometer or more and 10 micrometers or less.
このような無機フィラーの配合割合は、硬化性樹脂組成物全体量に対して40質量%以上、90質量%以下、好ましくは40質量%以上、80質量%以下が適当である。40質量%未満の場合、得られる硬化物の熱膨張が大きくなり過ぎ、さらに十分な研磨性や密着性を得ることが困難となる。一方、90質量%を超えると、ペースト化が困難になり、良好な印刷性や穴埋め充填性を得ることが困難となる。より好ましくは、50質量%以上75質量%以下である。 The blending ratio of such an inorganic filler is suitably 40% by mass or more and 90% by mass or less, preferably 40% by mass or more and 80% by mass or less, based on the total amount of the curable resin composition. If it is less than 40% by mass, the resulting cured product will have too much thermal expansion, and it will be difficult to obtain sufficient abrasiveness and adhesion. On the other hand, when it exceeds 90% by mass, it becomes difficult to form a paste, and it becomes difficult to obtain good printability and hole filling. More preferably, it is 50 mass% or more and 75 mass% or less.
本発明の硬化性樹脂組成物には、チキソ性を付与するために脂肪酸で処理したフィラー、又は有機ベントナイト、タルクなどの不定形フィラーを添加することができる。 In the curable resin composition of the present invention, a filler treated with a fatty acid for imparting thixotropy, or an amorphous filler such as organic bentonite and talc can be added.
上記脂肪酸としては、一般式:(R1COO)n−R2(置換基R1は炭素数が5以上の炭化水素、置換基R2は水素又は金属アルコキシド、金属であり、nは1以上、4以下である)で表される化合物を用いることができる。当該脂肪酸は、置換基R1の炭素数が5以上のとき、チキソ性付与の効果を発現させることができる。より好ましくはnが7以上である。 The fatty acid is represented by the general formula: (R 1 COO) n-R 2 (substituent R 1 is a hydrocarbon having 5 or more carbon atoms, substituent R 2 is hydrogen, metal alkoxide, or metal, and n is 1 or more. 4 or less) can be used. The fatty acid can exhibit an effect of imparting thixotropy when the substituent R 1 has 5 or more carbon atoms. More preferably, n is 7 or more.
脂肪酸としては、炭素鎖中に二重結合あるいは三重結合を有する不飽和脂肪酸であってもよいし、それらを含まない飽和脂肪酸であってもよい。例えば、ステアリン酸(炭素数と不飽和結合の数及び括弧内はその位置による数値表現とする。18:0)、ヘキサン酸(6:0)、オレイン酸(18:1(9))、イコサン酸(20:0)、ドコサン酸(22:0)、メリシン酸(30:0)などが挙げられる。これら脂肪酸の置換基R1の炭素数は5以上、30以下が好ましい。より好ましくは、炭素数5以上、20以下である。また、例えば、置換基R2を、アルコキシル基でキャッピングされたチタネート系の置換基とした金属アルコキシドなど、カップリング剤系の構造で長い(炭素数が5以上の)脂肪鎖を有する骨格のものであってもよい。例えば、商品名KR−TTS(味の素ファインテクノ社製)などを用いることができる。その他、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸バリウム(それぞれ川村化成工業社製)など金属石鹸を用いることができる。その他の金属石鹸の元素としては、Ca、Zn、Li、Mg,Naなどがある。 As a fatty acid, the unsaturated fatty acid which has a double bond or a triple bond in a carbon chain may be sufficient, and the saturated fatty acid which does not contain them may be sufficient. For example, stearic acid (the number of carbon atoms and the number of unsaturated bonds and the value in parentheses is a numerical expression depending on the position. 18: 0), hexanoic acid (6: 0), oleic acid (18: 1 (9)), icosane Examples include acid (20: 0), docosanoic acid (22: 0), and melicic acid (30: 0). These fatty acid substituents R 1 preferably have 5 or more and 30 or less carbon atoms. More preferably, it has 5 or more and 20 or less carbon atoms. In addition, for example, metal alkoxides in which the substituent R 2 is a titanate-based substituent capped with an alkoxyl group, etc., having a skeleton having a long (5 or more carbon atoms) fatty chain with a coupling agent structure It may be. For example, trade name KR-TTS (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) can be used. In addition, metal soaps such as aluminum stearate and barium stearate (each manufactured by Kawamura Kasei Kogyo Co., Ltd.) can be used. Examples of other metal soap elements include Ca, Zn, Li, Mg, and Na.
このような脂肪酸の配合割合は、無機フィラー100質量部に対して0.1質量部以上、2質量部以下の割合が適当である。0.1質量部未満であると、十分なチキソ性を付与することできず、一方、2質量部を超えると、熱硬化性樹脂組成物の見かけの粘度が高くなりすぎ、プリント配線板の穴部への埋め込み性が低下する。また、穴部に充填・硬化した後、穴部内に気泡が残存するなど、消泡性が悪化し、ボイドやクラックを生じ易くなる。より好ましくは、0.1質量部以上1質量部以下である。 The proportion of such fatty acid is suitably 0.1 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler. If it is less than 0.1 parts by mass, sufficient thixotropy cannot be imparted. On the other hand, if it exceeds 2 parts by mass, the apparent viscosity of the thermosetting resin composition becomes too high, resulting in holes in the printed wiring board. The embeddability in the part is reduced. In addition, after filling and curing in the hole portion, bubbles remain in the hole portion, so that the defoaming property is deteriorated, and voids and cracks are likely to occur. More preferably, they are 0.1 mass part or more and 1 mass part or less.
脂肪酸は、予め脂肪酸で表面処理をした無機フィラーを用いることにより配合されてもよく、より効果的に熱硬化性樹脂組成物にチキソ性を付与することが可能となる。この場合、脂肪酸の配合割合は、未処理フィラーを用いた場合より低減することができ、無機フィラーを全て脂肪酸処理フィラーとした場合、脂肪酸の配合割合は、無機フィラー100質量部に対して0.1質量部以上、1質量部以下とすることが好ましい。 A fatty acid may be mix | blended by using the inorganic filler surface-treated with the fatty acid previously, and it becomes possible to provide thixotropy to a thermosetting resin composition more effectively. In this case, the blending ratio of the fatty acid can be reduced as compared with the case where the untreated filler is used. When all the inorganic fillers are used as the fatty acid-treated filler, the blending ratio of the fatty acid is 0. It is preferable to be 1 part by mass or more and 1 part by mass or less.
また、本発明の硬化性樹脂組成物においては、さらにシラン系カップリング剤を用いることができる。シラン系カップリング剤を配合することにより、無機フィラーとエポキシ樹脂との密着性を向上させ、その硬化物におけるクラックの発生を抑えることが可能となる。 In the curable resin composition of the present invention, a silane coupling agent can be further used. By mix | blending a silane coupling agent, it becomes possible to improve the adhesiveness of an inorganic filler and an epoxy resin, and to suppress generation | occurrence | production of the crack in the hardened | cured material.
シラン系カップリング剤としては、例えば、エポキシシラン、ビニルシラン、イミダゾールシラン、メルカプトシラン、メタクリロキシシラン、アミノシラン、スチリルシラン、イソシアネートシラン、スルフィドシラン、ウレイドシランなどが挙げられる。また、シラン系カップリング剤は、予めシラン系カップリング剤で表面処理をした無機フィラーを用いることにより配合されてもよい。 Examples of the silane coupling agent include epoxy silane, vinyl silane, imidazole silane, mercapto silane, methacryloxy silane, amino silane, styryl silane, isocyanate silane, sulfide silane, ureido silane, and the like. Moreover, a silane coupling agent may be mix | blended by using the inorganic filler surface-treated with the silane coupling agent previously.
このようなシラン系カップリング剤の配合割合は、無機フィラー100質量部に対して0.05質量部以上、2.5質量部以下とすることが好ましい。0.05質量部未満であると、十分な密着性が得られず、クラックの発生を招き易い。一方、2.5質量部を超えると、熱硬化性樹脂組成物をプリント配線板の穴部に充填・硬化した後、穴部内に気泡が残存するなど、消泡性が悪化し、ボイドやクラックを生じ易くなる。 The mixing ratio of such a silane coupling agent is preferably 0.05 parts by mass or more and 2.5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the inorganic filler. If it is less than 0.05 parts by mass, sufficient adhesion cannot be obtained, and cracks are likely to occur. On the other hand, when the amount exceeds 2.5 parts by mass, after filling and curing the thermosetting resin composition in the hole of the printed wiring board, bubbles remain in the hole and the defoaming property deteriorates, resulting in voids and cracks. Is likely to occur.
本発明の硬化性樹脂組成物は、室温で液状のエポキシ樹脂や感光性化合物を用いている場合、必ずしも希釈溶剤を用いる必要はないが、組成物の粘度を調整するため、少量の希釈溶剤を添加してもよい。希釈溶剤としては、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類;メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、及び上記グリコールエーテル類の酢酸エステル化物などのエステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール類;オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石油系溶剤などの有機溶剤が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて使用することができる。 The curable resin composition of the present invention does not necessarily use a diluting solvent when a liquid epoxy resin or a photosensitive compound is used at room temperature, but a small amount of diluting solvent is used to adjust the viscosity of the composition. It may be added. Examples of the diluent solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; methyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol monomethyl ether , Glycol ethers such as dipropylene glycol monoethyl ether and triethylene glycol monoethyl ether; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, and acetates of the above glycol ethers; ethanol, propanol, ethylene glycol, propylene glycol, etc. Alcohols; aliphatic hydrocarbons such as octane and decane; petroleum oils such as petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated petroleum naphtha, and solvent naphtha Organic solvents such as solvents. These can be used alone or in combination of two or more.
希釈溶剤の配合割合は、硬化性樹脂組成物の全体量の10質量%以下、好ましくは5質量%以下、より好ましくは3質量%以下であることが望ましい。希釈溶剤の配合割合が、10質量%を超えると、硬化時に、揮発成分の蒸発の影響により、硬化後の穴部絶縁層に泡やクラックが発生し易くなる。従って、特に望ましいのは無溶剤の硬化性樹脂組成物である。 The blending ratio of the dilution solvent is 10% by mass or less, preferably 5% by mass or less, more preferably 3% by mass or less of the total amount of the curable resin composition. If the blending ratio of the dilution solvent exceeds 10% by mass, bubbles and cracks are likely to occur in the hole insulating layer after curing due to the effect of evaporation of volatile components during curing. Therefore, a solvent-less curable resin composition is particularly desirable.
本発明の硬化性樹脂組成物には、その他必要に応じて、フェノール化合物、ホルマリン及び第一級アミンを反応させて得られるオキサジン環を有するオキサジン化合物を配合してもよい。オキサジン化合物を含有することにより、プリント配線板の穴部に充填された硬化性樹脂組成物を硬化した後、形成された硬化物上に無電解めっきを行なう際、過マンガン酸カリウム水溶液などによる硬化物の粗化を容易にし、めっきとのピール強度を向上させることができる。 If necessary, the curable resin composition of the present invention may contain an oxazine compound having an oxazine ring obtained by reacting a phenol compound, formalin and a primary amine. By hardening the curable resin composition filled in the hole of the printed wiring board by containing the oxazine compound, when performing electroless plating on the formed cured product, curing with aqueous potassium permanganate solution or the like The roughening of the object can be facilitated and the peel strength with the plating can be improved.
また、通常のスクリーン印刷用レジストインキに使用されているフタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、ジスアゾイエロー、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラックなどの公知の着色剤を添加してもよい。 Further, known colorants such as phthalocyanine blue, phthalocyanine green, disazo yellow, titanium oxide, carbon black, and naphthalene black, which are used in ordinary resist inks for screen printing, may be added.
また、保管時の保存安定性を付与するために、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、tert−ブチルカテコール、ピロガロール、フェノチアジンなどの公知の熱重合禁止剤や、粘度などの調整のために、クレー、カオリン、有機ベントナイト、モンモリロナイトなどの公知の増粘剤、チキソトロピー剤を添加することができる。その他、シリコーン系、フッ素系、高分子系などの消泡剤、レベリング剤やイミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤などの密着性付与剤のような公知の添加剤類を配合することができる。 In order to impart storage stability during storage, known thermal polymerization inhibitors such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butylcatechol, pyrogallol, and phenothiazine, and clay, kaolin, Known thickeners such as organic bentonite and montmorillonite, and thixotropic agents can be added. In addition, known additives such as antifoaming agents such as silicones, fluorines, and polymers, leveling agents, and adhesion-imparting agents such as imidazoles, thiazoles, triazoles, and silane coupling agents are blended. be able to.
得られる硬化性樹脂組成物において、回転式粘度計により測定される粘度は、25℃、5rpmの30Sec値で、100dPa・Sec以上、1000dPa・Sec以下であることが好ましい。100dPa・Sec未満であると、形状保持が困難となり、ダレが発生する。一方、1000dPa・Secを超えると、プリント配線板の穴部への埋め込み性が低下する。より好ましくは200dPa・Sec以上、800dPa・Sec以下である。 In the obtained curable resin composition, the viscosity measured by a rotary viscometer is preferably 100 dPa · Sec or more and 1000 dPa · Sec or less at a 30 Sec value of 25 ° C. and 5 rpm. If it is less than 100 dPa · Sec, shape retention becomes difficult and sagging occurs. On the other hand, when it exceeds 1000 dPa · Sec, the embedding property in the hole of the printed wiring board is lowered. More preferably, it is 200 dPa · Sec or more and 800 dPa · Sec or less.
粘度は、JIS Z 8803に記載されているコーンローター(円錐ロータ)とプレートから成るコーンプレート型粘度計で、たとえばTV−30型(東機産業製、ロータ3°×R9.7)で測定される。 The viscosity is measured with a cone plate viscometer composed of a cone rotor (conical rotor) and a plate described in JIS Z 8803, for example, TV-30 type (manufactured by Toki Sangyo, rotor 3 ° × R9.7). The
以下、実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明が下記実施例に限定されるものでないことはもとよりである。尚、以下において「部」及び「%」とあるのは、特に断りのない限り全て質量基準である。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the following Example. In the following description, “parts” and “%” are based on mass unless otherwise specified.
<熱硬化性樹脂組成物の調製>
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製jER828)40部、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製jER807)30部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(住友化学(株)製ELM−100H)30部、エポキシ樹脂硬化剤(四国化成工業(株)製2MZ−AP)6部、及び無機フィラー(丸尾カルシウム(株)製スーパー#2000)120部を撹拌機にて予備混合した後、3本ロールミルにて分散を行い、下記実施例1〜4及び比較例2、3で用いた熱硬化性樹脂組成物のペーストを調製した。
<Preparation of thermosetting resin composition>
40 parts of bisphenol A type epoxy resin (Mitsubishi Chemical Co., Ltd. jER828), 30 parts of bisphenol F type epoxy resin (Mitsubishi Chemical Co., Ltd. jER807), aminophenol type epoxy resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd. ELM-100H) 30 parts, 6 parts of epoxy resin curing agent (2MZ-AP manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), and 120 parts of inorganic filler (Super # 2000 manufactured by Maruo Calcium Co., Ltd.) were premixed with a stirrer and then 3 Dispersion was performed with a roll mill to prepare pastes of thermosetting resin compositions used in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 2 and 3 below.
<光・熱硬化型樹脂組成物の調製>
ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂の40%メタクリル酸付加物100部、ジシクロペンタニルメタクリレート30部、トリメチロールプロパントリアクリレート70部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート80部、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン10部、ジエチルチオキサントン1部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂80部、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂20部、ジシアンジアミド10部、シリカ250部、表面処理コロイダルシリカ6部、及びポリジメチルシロキサン3部を撹拌混合した後、3本ロールミルにて均一に分散させた。得られた均一分散物を真空脱泡して、比較例1で用いた光・熱硬化型樹脂組成物のペーストを調製した。
<Preparation of light / thermosetting resin composition>
100 parts of 40% methacrylic acid adduct of dicyclopentadiene phenol type epoxy resin, 30 parts of dicyclopentanyl methacrylate, 70 parts of trimethylolpropane triacrylate, 80 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 2-methyl-1 [4- ( Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one 10 parts,
<基板の調製例1>
絶縁基板(厚さ0.930mm)の両面に導体パターン2が形成され、且つ同一径のスルーホール3の内壁が銅めっきされた、図1(A)に示されるような両面プリント配線基板(スルーホール径が0.25mm、銅回路厚が40μm、ライン/スペース(L/S)=20μm/40μm、スルーホール径がめっき後で100μm)を使用した。尚、導電層表面が、「メックエッチボンドCZ−8101」(メック社製、化学粗化薬品)にて予め粗化処理されているものを使用した。
<Preparation Example 1 of Substrate>
A double-sided printed wiring board (through-hole) as shown in FIG. 1A, in which a conductor pattern 2 is formed on both sides of an insulating board (thickness 0.930 mm) and the inner wall of a through hole 3 having the same diameter is plated with copper. A hole diameter of 0.25 mm, a copper circuit thickness of 40 μm, a line / space (L / S) = 20 μm / 40 μm, and a through hole diameter of 100 μm after plating were used. The surface of the conductive layer that had been roughened in advance with “MEC etch bond CZ-8101” (manufactured by MEC, chemical roughening chemical) was used.
実施例1
前記両面プリント配線基板のめっきされたスルーホールに、ドットパターンによる1回のスクリーン印刷にて前記熱硬化性樹脂組成物4を充填し(図1(B)に示す状態)、穴部表面からはみ出している熱硬化性樹脂組成物の部分をスキージによりかきとり、基板の表面を平坦化した(図1(C)に示す状態)。次いで、150℃で30分加熱して穴部に充填された熱硬化性樹脂組成物を硬化した。次いで、基板1の両面にプリプレグ又は樹脂付き銅箔5を積層し、25kgf/cm2、170℃、30分の条件でプレスして一体化し、評価基板を製造した(図1(D)に示す状態)。
Example 1
The plated through hole of the double-sided printed wiring board is filled with the thermosetting resin composition 4 by a single screen printing with a dot pattern (as shown in FIG. 1 (B)), and protrudes from the hole surface. The portion of the thermosetting resin composition that had been removed was scraped with a squeegee to flatten the surface of the substrate (the state shown in FIG. 1C). Next, the thermosetting resin composition filled in the holes was cured by heating at 150 ° C. for 30 minutes. Next, the prepreg or the resin-coated copper foil 5 was laminated on both surfaces of the
実施例2
実施例1において、基板表面の平坦化を、支持フィルムとロールラミネーターの間に基板をはさみ、充填された硬化性樹脂組成物の穴部表面からはみ出している部分を支持フィルムに転写させることにより取り除く以外、実施例1と同様にして図1(D)に示す状態に成形し、評価基板を製造した。
Example 2
In Example 1, the flattening of the substrate surface is removed by sandwiching the substrate between the support film and the roll laminator, and transferring the portion protruding from the hole surface of the filled curable resin composition to the support film. Except for the above, in the same manner as in Example 1, it was molded into the state shown in FIG.
実施例3
実施例1において、スルーホールへの前記熱硬化性樹脂組成物4の充填を、ドットパターンによるロール印刷により行う以外、実施例1と同様にして図1(D)に示す状態に成形し、評価基板を製造した。
Example 3
In Example 1, the thermosetting resin composition 4 was filled into the through hole by roll printing with a dot pattern, and molded into the state shown in FIG. A substrate was manufactured.
実施例4
実施例1において、スルーホールへの前記熱硬化性樹脂組成物4の充填を、ロール印刷により全面塗布して行う以外、実施例1と同様にして図1(D)に示す状態に成形し、評価基板を製造した。
Example 4
In Example 1, the thermosetting resin composition 4 is filled into the through holes by molding in the same manner as in Example 1 except that the entire surface is applied by roll printing, as shown in FIG. An evaluation board was manufactured.
比較例1
前記光・熱硬化型樹脂組成物を、ロール印刷により基板11の一方の片面(先行面)に全面塗布し、スルーホール及び回路間の凹部を充填した(図3(B)に示す状態)。次いで、この基板を水平ラックに載せ、BOX乾燥機で80℃、30分間加熱した。次いで、この基板を、図3(C)に示すように膜厚100μmのPETフィルム19で挟んで、ラミネータにかけた。即ち、このフィルム被覆基板を、図3(D)に示すように2本のステンレススチール製ローラー20の間に挟み、ラミネート圧力0.1MPa、ラミネート速度0.5m/min、ラミネート温度100℃の条件で、ローラー20をフィルム19上にて移動させ、基板の表面上の塗布樹脂層を平坦・薄膜化させた。次いで、上記基板を、高圧水銀ランプを用いて、露光量1200mJ/cm2にて光照射して、塗布樹脂層を光硬化させた後、上記両面のPETフィルム19を剥がして除去した(図3(E)に示す状態)。次いで、上記基板11の裏面(後行面)についても先行面と同様に処理した。即ち、光・熱硬化型樹脂組成物を、ロール印刷により基板11の裏面(後行面)に全面塗布し、回路間の凹部に充填した(図3(F)に示す状態)。次いで、この基板を水平ラックに載せ、BOX乾燥機で80℃30分間加熱し、次いで、膜厚100μmのPETフィルム19で挟んだ。このフィルム基板を、図3(G)に示すように2本のステンレススチール製ローラー20に挟み、ラミネート圧力0.1MPa、ラミネート速度0.5m/min、ラミネート温度100℃の条件で、ローラーをフィルム上にて移動させ、基板の表面上の塗布樹脂層を平坦・薄膜化させた(図3(H)に示す状態)。次いで、上記基板を、高圧水銀ランプを用いて、露光量1200mJ/cm2にて光照射して、塗布樹脂層を光硬化させた後、上記両面のPETフィルム19を剥がして除去した。その後、この基板を150℃、30分間加熱して熱硬化を行って、評価基板を製造した(図3(I)に示す状態)。
Comparative Example 1
The photo / thermosetting resin composition was applied onto one surface (preceding surface) of the
比較例2
前記基板11のめっきされたスルーホール13に、ドットパターンによるスクリーン印刷にて前記熱硬化性樹脂組成物14を充填し(図4(B)に示す状態)、加熱炉により150℃まで加熱し、この温度下で30分間、一次硬化を行った。次いで、図4(C)に示すように、上記基板の両表面上に、樹脂付き銅箔15をラミネートして両面銅張り積層板を形成した。なお、図4(C)において、16は樹脂付き銅箔の銅箔、17は樹脂付き銅箔の樹脂層である。次いで、上記両面銅張り積層板を加熱真空プレスし、樹脂付き銅箔15の樹脂層の熱硬化と、一次熱硬化物の二次熱硬化を同時に行い、穴埋両面銅張り積層板を製造した(図4(C)に示す状態)。次いで、上記穴埋両面銅張り積層板の両表面上に、ドライフィルムをラミネートし、ネガ型フィルム(パターンマスク)を重ね合わせ、超高圧水銀灯にて、露光・硬化した。次いで、ドライフィルムのキャリアフィルムを剥離し、露出したレジスト面へ現像液(1%炭酸ナトリウム溶液)をスプレーノズルから吹き付け現像し、その後水洗して、レジストパターンを形成した。次いで、上記レジスト被覆両面銅張り積層板の両面に、塩化第二鉄溶液(36重量%)をスプレーノズルから吹き付けて、不要銅箔を溶解除去した。上記エッチング完了後、3%水酸化ナトリウム水溶液をスプレーノズルから噴射して、エッチングレジストを膨潤させながら洗い流し、評価基板を製造した(図4(D)に示す状態)。
Comparative Example 2
The plated through
比較例3
離型フィルム21[基板11と同じサイズのポリエステルフィルム(パナック株式会社製、再剥離フィルムGS、厚み50μm)]を基板11の裏面に貼り付けた。これを、図5(A)に示すように、真空チャンバー22内の基板固定台23の凹部(基板厚みと離型フィルム厚み合計と同じ深さ)にはめ込み、排気口24から排気吸引して固定した。次いで、図5(B)に示すように、前記熱硬化性樹脂組成物14を基板11の端部に載せた後、真空チャンバー22内を0.15kPaまで減圧にし、移動速度(ia)30.0mm/秒、周速度(va)75.0mm/秒、非接触ロール25と基板11との最短間隔1.2mm、ドクター26の先端部と基板11との間隔0.5mm、ドクター面と基板面との角度(図中、右側の角度)が15°になるようにして充填を行った後、真空チャンバー22内を大気圧に戻し、樹脂層を有する基板を得た。引き続き(基板を取り除かないでそのまま)、図5(C)に示すように、ドクター26を、非接触ロール25の回転軸Xを中心軸として反転させ、非接触ロール25に対し反対側に配置し、大気圧の真空チャンバー内で、図5(D)に示すように、前記移動方向とは反対方向に移動速度(i)20mm/秒、周速度(v)50mm/秒、ドクター26の先端部の基板面への接触圧800N/m、ドクター面と基板面との角度(図中、左側の角度)が45°になるようにして、基板上の過剰の樹脂をかき取り、充填基板を製造した(図5(E)に示す状態)。得られた充填基板を、循風式加熱オーブン中で130℃、30分間加熱硬化させた後、離型フィルム21を取り除き、硬化基板を得た。次いで、1軸不繊布バフ研磨装置(商品名「IDB−600」石井表記株式会社製、粗さ600番バフ2回)を用い研磨して表面を平坦化した後、循風式加熱オーブン中で150℃、30分間加熱硬化させて、評価基板を製造した。
Comparative Example 3
A release film 21 [polyester film having the same size as the substrate 11 (manufactured by Panac Co., Ltd., re-peeling film GS, thickness 50 μm)] was attached to the back surface of the
<性能評価>
前記のようにして得られた各評価基板について、以下に列挙するような性能評価を行った。その結果を表1にまとめて示す。
<Performance evaluation>
Performance evaluation as listed below was performed for each evaluation substrate obtained as described above. The results are summarized in Table 1.
気泡の発生:
評価基板を断面観察用に研磨した後、光学顕微鏡で観察し、スルーホール部内の硬化物に気泡が発生していないかどうかを確認した。判定基準は以下のとおりである。
○:気泡の発生無し。
×:気泡の発生有り。
Bubble generation:
After polishing the evaluation substrate for cross-sectional observation, it was observed with an optical microscope to confirm whether bubbles were generated in the cured product in the through-hole portion. The judgment criteria are as follows.
○: No generation of bubbles.
×: Bubbles are generated.
デラミネーションの発生(プレス後):
評価基板の穴埋め部とプリプレグ又は樹脂付き銅箔の界面にデラミネーション(はんだレベリング時にスルーホールの周辺部が浮きあがってしまうという現象、以下、「デラミ」と略称する)が発生しているか否か観察し、以下の判定基準により評価した。
○:デラミの発生なし。
×:穴部絶縁層のまわりにデラミの状態が観察された。
Occurrence of delamination (after pressing):
Whether or not delamination (a phenomenon in which the periphery of the through hole is lifted during solder leveling, hereinafter abbreviated as “delamination”) occurs at the interface between the hole filling portion of the evaluation board and the prepreg or copper foil with resin. Observed and evaluated according to the following criteria.
○: No delamination occurred.
X: A delamination state was observed around the hole insulating layer.
デラミネーションの発生(はんだ耐熱後):
評価基板を288℃のはんだ液中に10秒間、5回浸漬した後、室温まで放冷した。断面観察用に研磨した後、光学顕微鏡で観察し、穴埋め樹脂とプリプレグ又は樹脂付き銅箔のデラミの有無を評価した。
○:デラミ発生無し。
×:穴部絶縁層のまわりにデラミの状態が観察された。
Generation of delamination (after solder heat resistance):
The evaluation board was immersed in a solder liquid at 288 ° C. for 5 seconds for 10 seconds, and then allowed to cool to room temperature. After being polished for cross-sectional observation, it was observed with an optical microscope, and the presence or absence of delamination between the hole-filling resin and the prepreg or the copper foil with resin was evaluated.
○: No delamination occurred.
X: A delamination state was observed around the hole insulating layer.
基板の平坦性:
評価基板の表裏絶縁層の厚みに5μm以上の差が発生しているかにより判定した。
○:表裏絶縁層の厚みの差が5μm未満である。
×:表裏絶縁層の厚みの差が5μm以上である。
Substrate flatness:
The determination was made based on whether a difference of 5 μm or more occurred in the thicknesses of the front and back insulating layers of the evaluation substrate.
A: The thickness difference between the front and back insulating layers is less than 5 μm.
X: The thickness difference between the front and back insulating layers is 5 μm or more.
レーザー加工性:
評価基板に、炭酸ガスレーザーを用いてビア形成後、断面の開口形状を顕微鏡で観察し、下記判定基準によりレーザー加工性を評価した。
○:形成されたビアの形状が一定、かつビアの底部が導体パターン面まで到達している。
×:形成されたビアの形状が不均一、又はビアの底部が導体パターン面まで到達していない。
Laser processability:
After forming vias on the evaluation substrate using a carbon dioxide laser, the opening shape of the cross section was observed with a microscope, and laser workability was evaluated according to the following criteria.
○: The shape of the formed via is constant, and the bottom of the via reaches the conductor pattern surface.
X: The shape of the formed via is not uniform, or the bottom of the via does not reach the conductor pattern surface.
スミアの残渣:
評価基板に炭酸ガスレーザーを用いてビア形成後、デスミア処理をローム&ハース(株)製の薬液を用いて行った。具体的にはMLB−211に80℃で10分間浸漬した後(膨潤処理)、MLB−213に80℃で20分浸漬し(粗化処理)、ついでMLB−216−2に50℃で5分間浸漬した。
デスミア処理後、ビアの底部、壁面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察し、スミアの残渣の有無を確認した。
○:残渣無し。
×:残渣有り。
Smear residue:
After forming vias on the evaluation substrate using a carbon dioxide laser, desmear treatment was performed using a chemical solution manufactured by Rohm & Haas Co., Ltd. Specifically, after being immersed in MLB-211 at 80 ° C. for 10 minutes (swelling treatment), immersed in MLB-213 at 80 ° C. for 20 minutes (roughening treatment), and then in MLB-216-2 at 50 ° C. for 5 minutes. Soaked.
After the desmear treatment, the bottom and wall surface of the via were observed with a scanning electron microscope (SEM) to confirm the presence or absence of smear residues.
○: No residue.
X: Residue present.
表1に示すように、実施例1〜4の場合、気泡やデラミの発生が無く、基板の平坦性、レーザー加工性、デスミア耐性に優れていた。
これに対し、比較例1及び2の場合、基板の平坦性に問題が発生した。充填量により調整しようとすると、各種要因に影響されやすく、その調整が困難である。例えば、充填量が多い場合、加圧しても充填部を完全に平坦化させることが困難となり、充填部とその他の部分で、基板の厚みに差が生じてしまう。また、上記の問題の解消のために、充填量を少なくした場合、プリプレグがめっきスルーホール内部に流れ込み、表裏でプリプレグの厚みが変わってしまう。基板の厚みを平坦化するためには、充填量を正確に調整する必要があるが、充填量は、穴埋め樹脂の粘度やTI値、スルーホール径や基板の厚みなどによって、大きく影響を受けるため、充填量の調整が難しい。
As shown in Table 1, in the case of Examples 1 to 4, there was no generation of bubbles or delamination, and the flatness of the substrate, laser processability, and desmear resistance were excellent.
On the other hand, in the case of Comparative Examples 1 and 2, there was a problem with the flatness of the substrate. If an adjustment is made according to the filling amount, it is easily influenced by various factors, and the adjustment is difficult. For example, when the filling amount is large, it is difficult to completely flatten the filling portion even if pressure is applied, and a difference occurs in the thickness of the substrate between the filling portion and other portions. Further, in order to solve the above problem, when the filling amount is decreased, the prepreg flows into the plated through hole, and the thickness of the prepreg changes between the front and back sides. In order to flatten the substrate thickness, it is necessary to accurately adjust the filling amount, but the filling amount is greatly affected by the viscosity and TI value of the hole filling resin, the through-hole diameter, the thickness of the substrate, and the like. It is difficult to adjust the filling amount.
また、比較例1及び2の場合、レーザー加工性、スミアの残渣についても問題が発生した。これは、回路の高密度化に伴い、スルーホールの真上やすぐ側にビアを形成することが多くなっており、この場合、比較例1及び2では、ビアの形成する部分に穴埋め樹脂成分(充填部)とその他の樹脂成分(プリプレグなど)が混在するようになる。穴埋め樹脂成分とプリプレグなどでは、その組成が異なるため、ビアの形成条件(レーザー加工の条件)が同じ場合、形成状態に影響を受けてしまうことによるものと考えられる。その結果、異なった状態のビアが形成される可能性が高くなる。 In Comparative Examples 1 and 2, problems also occurred with respect to laser processability and smear residues. This is because with the increase in circuit density, vias are often formed immediately above or immediately adjacent to the through holes. In this case, in Comparative Examples 1 and 2, the via-filling resin component is formed in the portions where vias are formed. (Filling part) and other resin components (such as prepreg) come to coexist. Since the composition of the hole filling resin component and the prepreg is different, it is considered that the formation state is affected when the via formation conditions (laser processing conditions) are the same. As a result, there is a high possibility that vias in different states are formed.
一方、比較例3においては、気泡とデラミが発生し、またはんだ耐熱性にも劣っていた。これは、比較例3の印刷、充填機構は、真空中での塗布作業であり、且つ、粘着性PETフィルムを基板の裏面に張り、擬似有底ビア状態にして、ローラー部の回転によって樹脂の充填が行われる方法であり、スルーホールの下端部がPETフィルムにより閉鎖されているため、気泡の逃げ場が無く、気泡が発生してしまったものと考えられる。また、塗布及び硬化後の表面状態は、印刷面及びフィルム面は樹脂の硬化収縮により凹みが発生し(尚、フィルム剥離は樹脂ペースト硬化後に行う)、この凹みが、プリプレグなどと積層及びプレスした時にデラミネーションを発生させる原因になったものと考えられる。また、このデラミネーションの発生が、はんだ耐熱性の不良へとつながったのと考えられる。さらに、穴埋め樹脂の充填時に完全真空状態でないため、底面部で充填性が悪い箇所が発生し、これが気泡を発生させる原因になったものと考えられる。 On the other hand, in Comparative Example 3, bubbles and delamination occurred, or the heat resistance was poor. This is because the printing and filling mechanism of Comparative Example 3 is a coating operation in a vacuum, and an adhesive PET film is stretched on the back surface of the substrate to make a pseudo bottomed via state. This is a method of filling, and since the lower end portion of the through hole is closed by the PET film, it is considered that there is no escape space for bubbles and bubbles are generated. In addition, as for the surface state after coating and curing, the printed surface and the film surface are dented due to the curing shrinkage of the resin (the film peeling is performed after the resin paste is cured), and this dent was laminated and pressed with a prepreg or the like. It is thought that it sometimes caused delamination. In addition, the occurrence of this delamination is thought to have led to poor solder heat resistance. Furthermore, since it is not in a completely vacuum state when filling the hole filling resin, it is considered that a portion having poor fillability is generated at the bottom surface, which causes bubbles to be generated.
<基板の調製例2>
絶縁基板(厚さ0.8mm)の両面に導体パターン2が形成され、且つ複数の異径のスルーホール3が形成されている以外は、前記基板の調製例1と同様にして作製した図1(A)に示されるような両面プリント配線基板(スルーホール径1が0.25mm、スルーホール径2が0.15mm、銅回路厚が40μm、ライン/スペース(L/S)=20μm/40μm)を使用した。
<Example 2 of substrate preparation>
FIG. 1 was produced in the same manner as in Preparation Example 1 of the substrate except that the conductor pattern 2 was formed on both surfaces of the insulating substrate (thickness 0.8 mm), and a plurality of through holes 3 having different diameters were formed. Double-sided printed wiring board as shown in (A) (through
実施例5
前記実施例1において、前記基板の調製例2で作製した両面プリント配線基板を用いた以外は、実施例1と同様にして評価基板を製造した。
Example 5
In Example 1, an evaluation board was produced in the same manner as in Example 1 except that the double-sided printed wiring board produced in Preparation Example 2 of the board was used.
実施例6
前記実施例2において、前記基板の調製例2で作製した両面プリント配線基板を用いた以外は、実施例2と同様にして評価基板を製造した。
Example 6
In Example 2, an evaluation board was produced in the same manner as in Example 2 except that the double-sided printed wiring board produced in Preparation Example 2 of the board was used.
実施例7
前記実施例4において、前記基板の調製例2で作製した両面プリント配線基板を用いた以外は、実施例4と同様にして評価基板を製造した。
Example 7
In Example 4, an evaluation board was produced in the same manner as in Example 4 except that the double-sided printed wiring board produced in Preparation Example 2 of the board was used.
比較例4
前記実施例5において、穴部表面からはみ出している熱硬化性樹脂組成物の部分を硬化前にスキージによりかきとり、基板の表面を平坦化することに代えて、加熱硬化後にバフ研磨により基板の表面を平坦化した以外は、実施例5と同様にして評価基板を製造した。
Comparative Example 4
In Example 5, the surface of the substrate was buffed after heat curing instead of scraping the portion of the thermosetting resin composition protruding from the surface of the hole with a squeegee before curing and flattening the surface of the substrate. An evaluation substrate was produced in the same manner as in Example 5 except that the surface was flattened.
比較例5
前記比較例1において、前記基板の調製例2で作製した両面プリント配線基板を用いた以外は、比較例1と同様にして評価基板を製造した。
Comparative Example 5
In Comparative Example 1, an evaluation board was produced in the same manner as in Comparative Example 1, except that the double-sided printed wiring board produced in Preparation Example 2 of the board was used.
比較例6
前記比較例2において、前記基板の調製例2で作製した両面プリント配線基板を用いた以外は、比較例2と同様にして評価基板を製造した。
Comparative Example 6
In Comparative Example 2, an evaluation board was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the double-sided printed wiring board produced in Preparation Example 2 of the board was used.
<性能評価>
前記のようにして得られた各評価基板について、前記と同様にして性能評価を行った。その結果を表2にまとめて示す。
<Performance evaluation>
For each evaluation substrate obtained as described above, performance evaluation was performed in the same manner as described above. The results are summarized in Table 2.
表2に示すように、実施例5〜7の場合、径の大きさが異なる複数のスルーホールを持つ基板であっても、1回の印刷で、未充填部分を発生させずに硬化性樹脂組成物を充填することができ、また、気泡やデラミの発生が無く、基板の平坦性、レーザー加工性、デスミア耐性に優れていた。
これに対し、硬化後の研磨方式(比較例4)の場合、径の大きさが異なるスルーホールに対し、1回の印刷で充填すると、穴部からの突出量に違いが発生する(印刷条件を大径のスルーホールに合わせると、小径のスルーホールには未充填の部分が発生し、印刷条件を小径のスルーホールに合わせると、大径のスルーホールからの突出量が小径よりも多くなる)ため、気泡やデラミが発生した。また、このようにスルーホールの径によって突出量が異なるため、研磨残りが発生し、それに伴い、レーザー加工性、スミアの残渣について問題が発生し、あるいは過剰に研磨することにより、基板表面への傷付け、さらに基板の寸法変化や歪みが発生した。尚、このような基板の平坦化での問題点を解消すべく、複数回印刷した場合、それぞれの径の大きさに適したドットパターンを用い、かつ径の大きさに適した印刷条件にて充填を行うこと、つまり径の数に応じた印刷回数が必要となる。この場合の穴部からの突出量は、径の大きさに関係なく、ほぼ一定となる。そのため、硬化後の研磨において、上記のような問題は発生せず、基板の品質を維持できる。しかし、印刷工程に手間がかかり、基板の作成の時間や加工費が増加する。
As shown in Table 2, in the case of Examples 5 to 7, even in the case of a substrate having a plurality of through holes having different diameters, the curable resin does not generate an unfilled portion by one printing. The composition could be filled, and there was no generation of bubbles or delamination, and the substrate flatness, laser processability, and desmear resistance were excellent.
On the other hand, in the case of the polishing method after curing (Comparative Example 4), if the through holes having different diameters are filled by one printing, a difference occurs in the protruding amount from the hole (printing conditions). If you match with a large-diameter through-hole, an unfilled part will occur in the small-diameter through-hole, and if you adjust the printing conditions to the small-diameter through-hole, the amount of protrusion from the large-diameter through-hole will be larger than the small-diameter through-hole. Therefore, bubbles and delamination occurred. In addition, since the amount of protrusion varies depending on the diameter of the through hole as described above, a polishing residue is generated, and accordingly, a problem occurs with laser processability and smear residue, or excessive polishing causes the substrate surface to be polished. Scratching and substrate dimensional changes and distortions occurred. In addition, in order to eliminate such problems in the flattening of the substrate, when printing is performed a plurality of times, a dot pattern suitable for the size of each diameter is used and printing conditions suitable for the size of the diameter are used. It is necessary to perform filling, that is, the number of times of printing corresponding to the number of diameters. In this case, the amount of protrusion from the hole is substantially constant regardless of the size of the diameter. Therefore, the above problems do not occur in polishing after curing, and the quality of the substrate can be maintained. However, the printing process takes time, and the time and processing cost for creating the substrate increase.
一方、加圧式による突出部の平坦化方法(比較例5及び6)では、比較例4と同様に、径の大きさが異なるスルーホールに対して1回の印刷で充填すると、穴部からの突出量に違いが発生する(印刷条件を小径のスルーホールに合わせると、大径のスルーホールの突出量が小径よりも多くなる)。突出量が異なる状態で、加圧式にて平坦化を試みた場合、完全には平坦とはならない。突出量が多い部分の基板の厚さは大きくなり、突出量が少ない部分の厚さは薄くなる。その結果、レーザー加工性、スミアの残渣についても問題が発生した。尚、印刷条件を大径のスルーホールに合わせると、小径のスルーホールには未充填の部分が発生する。この場合、気泡やデラミの発生の原因となる。
尚、比較例6の場合、複数回印刷は可能であるが、その場合、それぞれの径の大きさに適したドットパターンを用い、かつ径の大きさに適した印刷条件にて充填を行うこと、つまり径の数に応じた印刷回数が必要となる。この場合の穴部からの突出量は、径の大きさに関係なく、ほぼ一定となるが、印刷工程に手間がかかり、基板の作成の時間や加工費が増加する。一方、比較例5の場合、ベタ印刷のため、複数回に分けて印刷することは不可能である。
On the other hand, in the method of flattening the protruding portion by the pressurization method (Comparative Examples 5 and 6), as in Comparative Example 4, when filling through holes with different diameters by one printing, There is a difference in the amount of protrusion (when the printing conditions are matched to a small-diameter through hole, the protrusion amount of the large-diameter through hole becomes larger than the small diameter). When flattening is attempted with a pressure type in a state where the protruding amount is different, the flattening is not completely flat. The thickness of the substrate with a large amount of protrusion increases, and the thickness of the portion with a small amount of protrusion decreases. As a result, there were problems with laser processability and smear residues. When the printing conditions are matched with a large-diameter through hole, an unfilled portion is generated in the small-diameter through hole. In this case, bubbles and delamination are generated.
In the case of Comparative Example 6, printing can be performed a plurality of times. In that case, the dot pattern suitable for the size of each diameter is used, and filling is performed under the printing conditions suitable for the size of the diameter. That is, the number of times of printing corresponding to the number of diameters is required. The amount of protrusion from the hole in this case is substantially constant regardless of the size of the diameter, but it takes time for the printing process and increases the time and processing cost for creating the substrate. On the other hand, in the case of the comparative example 5, since it is solid printing, it is impossible to print in multiple times.
1,11 基板
2,12,8,18 導体パターン
3,13 スルーホール
4,14 硬化性樹脂組成物
5,15 樹脂付き銅箔
6,16 銅箔
7,17 硬化性樹脂組成物
19 PETフィルム
20 ローラー
21 離型フィルム
22 真空チャンバー
23 基板固定台
24 排気口
25 非接触ロール
26 ドクター
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