JP2013125554A - Method for manufacturing magnetic recording medium, magnetic recording medium and magnetic recording/reproducing device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium, capable of maintaining high perpendicular orientation of a perpendicular magnetic layer and achieving higher recording density.SOLUTION: A method for manufacturing a magnetic recording medium in which at least a soft magnetic backing layer 31, a seed layer 32, an intermediate layer 33 and a perpendicular magnetic layer 34 are sequentially laminated on a nonmagnetic substrate 30 comprises: forming, as the seed layer 32, an eutectic alloy film including two or more kinds of elements composing an eutectic structure and having columnar crystal nuclei 32a dispersed in dot shapes; and forming a microcrystal film having the crystal nucleus 32a projected from the surface of the eutectic alloy film by applying an etching process to the surface of the eutectic alloy film.

Description

本発明は、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体及び磁気記録再生装置に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium, a magnetic recording medium, and a magnetic recording / reproducing apparatus.

磁気記録再生装置の一種であるハードディスク装置(HDD)は、現在その記録密度が年率50%以上増えており、今後も増加傾向が続くと言われている。ハードディスク装置の記録密度の増加に伴って、高記録密度化に適した磁気ヘッド及び磁気記録媒体の開発が進められている。   A hard disk drive (HDD), which is a kind of magnetic recording / reproducing apparatus, has an increasing recording density of 50% or more per year and is said to continue to increase in the future. With the increase in the recording density of hard disk devices, development of magnetic heads and magnetic recording media suitable for increasing the recording density is in progress.

現在市販されている磁気記録再生装置には、磁気記録媒体として、磁性膜内の磁化容易軸が垂直に配向した、いわゆる垂直磁気記録媒体が搭載されているものがある。垂直磁気記録媒体は、高記録密度化した際にも記録ビット間の境界領域における反磁界の影響が小さく、鮮明なビット境界が形成されるため、ノイズの増加が抑えられる。しかも、垂直磁気記録媒体は、高記録密度化に伴う記録ビット体積の減少が少なくて済むため、熱揺らぎ特性に優れている。   Some commercially available magnetic recording / reproducing apparatuses are equipped with a so-called perpendicular magnetic recording medium in which an easy axis of magnetization in a magnetic film is vertically oriented. Even when the recording density of the perpendicular magnetic recording medium is increased, the influence of the demagnetizing field in the boundary region between the recording bits is small and a clear bit boundary is formed, so that an increase in noise can be suppressed. In addition, the perpendicular magnetic recording medium is excellent in thermal fluctuation characteristics because it requires only a small decrease in recording bit volume as the recording density increases.

また、磁気記録媒体の更なる高記録密度化という要望に応えるべく、磁気ヘッドとして、垂直磁性層に対する書き込み能力に優れた単磁極ヘッドを用いることが検討されている。具体的には、記録層である垂直磁性層と非磁性基板との間に、裏打ち層と称される軟磁性材料からなる層を設けることにより、単磁極ヘッドと磁気記録媒体との間における磁束の出入りの効率を向上させた磁気記録媒体が提案されている。   Further, in order to meet the demand for higher recording density of magnetic recording media, it has been studied to use a single magnetic pole head having excellent writing ability for the perpendicular magnetic layer as a magnetic head. Specifically, by providing a layer made of a soft magnetic material called a backing layer between a perpendicular magnetic layer that is a recording layer and a nonmagnetic substrate, a magnetic flux between a single-pole head and a magnetic recording medium is provided. There has been proposed a magnetic recording medium with improved efficiency of entering and exiting.

また、垂直磁気記録媒体の記録再生特性および熱揺らぎ特性を向上させるために、配向制御層を用い、多層の磁性層を形成して、それぞれの磁性層の結晶粒子を連続した柱状晶とし、これにより磁性層の垂直配向性を高めることが提案されている(例えば、特許文献1を参照)。   In addition, in order to improve the recording / reproducing characteristics and thermal fluctuation characteristics of the perpendicular magnetic recording medium, an orientation control layer is used to form a multi-layered magnetic layer, and the crystal grains of each magnetic layer are formed into continuous columnar crystals. It has been proposed to improve the vertical orientation of the magnetic layer (see, for example, Patent Document 1).

また、磁気記録媒体の配向制御層(下地層)としてRuを用いること、配向制御層を2層構造とし、初期層部分は低ガス圧で形成し、表面部分は初期層部分よりも高いガス圧で成膜することが提案されている(例えば、特許文献2を参照)。   Also, Ru is used as the orientation control layer (underlayer) of the magnetic recording medium, the orientation control layer has a two-layer structure, the initial layer portion is formed at a low gas pressure, and the surface portion has a higher gas pressure than the initial layer portion. Has been proposed (see, for example, Patent Document 2).

また、Ruは、柱状晶の頂部にドーム状の凸部が形成されるものであるため、この凸部上に磁性層等の結晶粒子を成長させ、成長した結晶粒子の分離構造を促進し、結晶粒子を孤立化させて、磁性粒子を柱状に成長させる効果を有することが知られている(例えば、特許文献3を参照)。   In addition, since Ru has a dome-shaped convex portion formed at the top of the columnar crystal, crystal grains such as a magnetic layer are grown on the convex portion, and the separation structure of the grown crystal particles is promoted. It is known to have the effect of isolating crystal grains and growing magnetic grains in a columnar shape (see, for example, Patent Document 3).

特開2004−310910号公報JP 2004-310910 A 特開2004−22138号公報JP 2004-22138 A 特開2007−272990号公報JP 2007-272990 A

ところで、磁気記録媒体に対する高記録密度化の要求は留まることがなく、磁気記録媒体には今まで以上に高い特性の向上が求められている。具体的に、磁気記録媒体の記録密度を高めるためには、上述した配向制御層を構成する結晶を微細化し、この上に形成される柱状構造の磁性粒子を微細化する必要がある。   By the way, the demand for higher recording density for magnetic recording media is not limited, and magnetic recording media are required to have higher characteristics than ever before. Specifically, in order to increase the recording density of the magnetic recording medium, it is necessary to refine the crystal constituting the orientation control layer described above and to refine the magnetic particles having a columnar structure formed thereon.

本発明は、このような従来の事情に鑑みて提案されたものであり、垂直磁性層の高い垂直配向性を維持し、更なる高記録密度化を可能とした磁気記録媒体の製造方法、そのような製造方法を用いて製造された磁気記録媒体、並びにそのような磁気記録媒体を備える磁気記録再生装置を提供することを目的とする。   The present invention has been proposed in view of such a conventional situation, and a method for manufacturing a magnetic recording medium capable of further increasing the recording density while maintaining the high perpendicular orientation of the perpendicular magnetic layer, and its It is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium manufactured by using such a manufacturing method, and a magnetic recording / reproducing apparatus including such a magnetic recording medium.

本発明は、以下の手段を提供する。
(1) 少なくとも非磁性基板の上に、軟磁性裏打ち層と、シード層と、中間層と、垂直磁性層とを順次積層した磁気記録媒体の製造方法であって、
前記シード層として、共晶組織を構成する2種類以上の元素を含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、前記結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
(2) 前記共晶合金膜をスパッタ成膜した後に、フッ素、塩素、水素、酸素の中から選ばれる元素を少なくとも1つ以上含むエッチングガスを用いて、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、前記結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする前項(1)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(3) 前記シード層として、共晶組織を構成する少なくともAl、Si、Ge、Cの中から選ばれる一の元素と、この一の元素よりもエッチングレートの低いAl、Pd、Ag、Au、Sb、Ru、Cu、Pt、Coの中から選ばれる他の元素とを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、前記他の元素を含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする前記(1)又は(2)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(4) 前記シード層として、AlRu、AlCuの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Ru、Cuの何れかを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする前項(3)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(5) 前記シード層として、AlSi、PdSi、AgSi、AuSiの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Al、Pd、Ag、Auの何れかを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする前項(3)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(6) 前記シード層として、AlGe、PdGe、AgGe、AuGe、SbGeの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Al、Pd、Ag、Au、Sbの何れかを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする前項(3)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(7) 前記シード層として、RuC、PtC、CoCの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Ru、Pt、Coの何れかを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする前項(3)に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(8) 前記軟磁性裏打ち層として、アモルファス構造を有するCo合金膜を形成する前項(1)〜(7)の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(9) 前記中間層として、Ru又はRu合金膜を形成することを特徴とする前項(1)〜(8)の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(10) 前記垂直磁性層を構成する結晶粒子が前記中間層を構成する結晶粒子と共に厚み方向に連続した柱状晶を構成するように、前記シード層を起点にして各層を結晶成長させることを特徴とする前項(1)〜(9)の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
(11) 少なくとも非磁性基板の上に、軟磁性裏打ち層と、シード層と、中間層と、垂直磁性層とが、この順で積層された磁気記録媒体であって、
前記シード層は、結晶核が表面から突出した微結晶膜からなり、
前記中間層及び前記垂直磁性層は、前記結晶核を起点にして、それぞれの結晶粒子が厚み方向に連続した柱状晶を構成していることを特徴とする磁気記録媒体。
(12) 前記シード層は、Al、Pd、Ag、Au、Sb、Ru、Pt、Coの中から選ばれる元素を含む結晶核が表面から突出した微結晶膜からなることを特徴とする前項(11)に記載の磁気記録媒体。
(13) 前記軟磁性裏打ち層は、アモルファス構造を有するCo合金膜からなることを特徴とする前項(11)又は(12)に記載の磁気記録媒体。
(14) 前記中間層は、Ru又はRu合金膜からなることを特徴とする前項(12)〜(13)の何れか一項に記載の磁気記録媒体。
(15) 前項(1)〜(10)の何れか一項に記載の製造方法により製造された磁気記録媒体、又は、前項(11)〜(14)の何れか一項に記載の磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体に対する情報の記録再生を行う磁気ヘッドとを備えることを特徴とする磁気記録再生装置。
The present invention provides the following means.
(1) A method of manufacturing a magnetic recording medium in which a soft magnetic backing layer, a seed layer, an intermediate layer, and a perpendicular magnetic layer are sequentially laminated on at least a nonmagnetic substrate,
As the seed layer, after forming a eutectic alloy film containing two or more elements constituting a eutectic structure and in which columnar crystal nuclei are dispersed in a dot shape, the surface of the eutectic alloy film is formed. Etching is performed to form a microcrystalline film in which the crystal nuclei protrude from the surface.
(2) After the eutectic alloy film is formed by sputtering, an etching gas containing at least one element selected from fluorine, chlorine, hydrogen, and oxygen is used for the surface of the eutectic alloy film. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to item (1), wherein a microcrystalline film in which the crystal nuclei protrude from the surface is formed by performing an etching process.
(3) As the seed layer, at least one element selected from Al, Si, Ge, and C constituting the eutectic structure, and Al, Pd, Ag, Au, which have a lower etching rate than this one element, After forming a eutectic alloy film containing other elements selected from Sb, Ru, Cu, Pt, and Co and having columnar crystal nuclei dispersed in a dot shape, the surface of the eutectic alloy film The magnetic recording medium according to (1) or (2), wherein a microcrystalline film in which crystal nuclei containing the other elements protrude from the surface is formed by performing an etching process on Method.
(4) After forming a eutectic alloy film containing either AlRu or AlCu as the seed layer and in which columnar crystal nuclei are dispersed in the form of dots, etching is performed on the surface of the eutectic alloy film. The method for producing a magnetic recording medium according to item (3), wherein the treatment forms a microcrystalline film in which crystal nuclei containing either Ru or Cu protrude from the surface.
(5) After forming a eutectic alloy film containing AlSi, PdSi, AgSi, or AuSi as the seed layer and having columnar crystal nuclei dispersed in the form of dots, the surface of the eutectic alloy film is formed. The magnetic recording medium according to (3) above, wherein a microcrystalline film in which crystal nuclei containing any of Al, Pd, Ag, and Au protrude from the surface is formed by performing an etching process on Manufacturing method.
(6) After forming a eutectic alloy film containing any of AlGe, PdGe, AgGe, AuGe, and SbGe as the seed layer and having columnar crystal nuclei dispersed in a dot shape, the eutectic alloy film (3), wherein the crystal nucleus containing any one of Al, Pd, Ag, Au, and Sb forms a microcrystalline film protruding from the surface by etching the surface of Manufacturing method of magnetic recording medium.
(7) After forming a eutectic alloy film containing any of RuC, PtC, and CoC and having columnar crystal nuclei dispersed in a dot shape as the seed layer, the surface of the eutectic alloy film is formed. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to (3) above, wherein a microcrystalline film in which crystal nuclei containing any one of Ru, Pt, and Co protrude from the surface is formed by performing an etching process.
(8) The method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of (1) to (7), wherein a Co alloy film having an amorphous structure is formed as the soft magnetic backing layer.
(9) The method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of (1) to (8), wherein a Ru or Ru alloy film is formed as the intermediate layer.
(10) The layers are crystal-grown starting from the seed layer so that the crystal grains constituting the perpendicular magnetic layer constitute columnar crystals continuous in the thickness direction together with the crystal grains constituting the intermediate layer. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of (1) to (9) above.
(11) A magnetic recording medium in which a soft magnetic backing layer, a seed layer, an intermediate layer, and a perpendicular magnetic layer are laminated in this order on at least a nonmagnetic substrate,
The seed layer is composed of a microcrystalline film with crystal nuclei protruding from the surface,
The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the intermediate layer and the perpendicular magnetic layer form columnar crystals in which the crystal grains are continuous in the thickness direction starting from the crystal nucleus.
(12) The seed layer is formed of a microcrystalline film in which a crystal nucleus containing an element selected from Al, Pd, Ag, Au, Sb, Ru, Pt, and Co protrudes from the surface. The magnetic recording medium according to 11).
(13) The magnetic recording medium according to (11) or (12), wherein the soft magnetic underlayer is made of a Co alloy film having an amorphous structure.
(14) The magnetic recording medium according to any one of (12) to (13), wherein the intermediate layer is made of Ru or a Ru alloy film.
(15) The magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method according to any one of (1) to (10) or the magnetic recording medium according to any one of (11) to (14) When,
A magnetic recording / reproducing apparatus comprising: a magnetic head for recording / reproducing information with respect to the magnetic recording medium.

以上のように、本発明では、シード層を起点にして、中間層から垂直磁性層の最上層に至るまで厚み方向に連続して結晶成長させた各層の柱状晶を、微細且つ均質な粒径を有する結晶粒子によって構成することができる。これにより、垂直磁性層の高い垂直配向性を維持し、更なる高記録密度化を可能とした磁気記録媒体、並びにそのような磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置を提供することが可能である。   As described above, in the present invention, the columnar crystals of each layer grown continuously in the thickness direction from the seed layer to the uppermost layer of the perpendicular magnetic layer starting from the seed layer have fine and uniform grain sizes. It can comprise by the crystal grain which has. As a result, it is possible to provide a magnetic recording medium capable of maintaining a high perpendicular orientation of the perpendicular magnetic layer and further increasing the recording density, and a magnetic recording / reproducing apparatus including such a magnetic recording medium. is there.

各層の柱状晶が基板面に対して垂直に成長した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which the columnar crystal of each layer grew perpendicularly | vertically with respect to the substrate surface. AlSi合金の状態図である。It is a phase diagram of an AlSi alloy. 56Al−44Si合金の結晶組織を模式的に示した図であり、(a)はその平面図、(b)はその断面図、(c)はそのエッチング後の断面図である。It is the figure which showed typically the crystal structure of 56Al-44Si alloy, (a) is the top view, (b) is the sectional view, (c) is the sectional view after the etching. 87.4Al−12.6Si合金の結晶組織を模式的に示した図であり、(a)はその平面図、(b)はその断面図、(c)はそのエッチング後の断面図である。It is the figure which showed typically the crystal structure of an 87.4Al-12.6Si alloy, (a) is the top view, (b) is the sectional view, (c) is the sectional view after the etching. 92Al−8Si合金の結晶組織を模式的に示した図であり、(a)はその平面図、(b)はその断面図、(c)はそのエッチング後の断面図である。It is the figure which showed typically the crystal structure of 92Al-8Si alloy, (a) is the top view, (b) is the sectional view, (c) is the sectional view after the etching. 本発明を適用した磁気記録媒体の特徴部分を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the characteristic part of the magnetic recording medium to which this invention is applied. 本発明を適用した磁気記録媒体の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the magnetic recording medium to which this invention is applied. 磁性層と非磁性層との積層構造を拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows the laminated structure of a magnetic layer and a nonmagnetic layer. 磁気記録再生装置の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of a magnetic recording / reproducing apparatus.

以下、本発明を適用した磁気記録媒体及び磁気記録再生装置について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らないものとする。   Hereinafter, a magnetic recording medium and a magnetic recording / reproducing apparatus to which the present invention is applied will be described in detail with reference to the drawings. In addition, in the drawings used in the following description, in order to make the features easy to understand, there are cases where the portions that become the features are enlarged for the sake of convenience, and the dimensional ratios of the respective components are not always the same as the actual ones. Make it not exist.

上述したように、多層化した磁性層の垂直配向性を高め、なお且つ、磁性粒子を微細化し、その結晶粒径を均質化する(粒径分布のばらつきを小さくする)ためには、軟磁性裏打ち層(SUL)と垂直磁性層との間に配置される配向制御層(本発明のシード層及び中間層を含む層)を構成する結晶粒子を微細化し、その結晶粒径を均質化する必要がある。   As described above, in order to improve the vertical orientation of the multi-layered magnetic layer and to make the magnetic particles finer and to homogenize the crystal grain size (to reduce variation in the grain size distribution), soft magnetism The crystal grains constituting the orientation control layer (the layer including the seed layer and the intermediate layer of the present invention) disposed between the backing layer (SUL) and the perpendicular magnetic layer must be refined and the crystal grain size must be homogenized. There is.

すなわち、図1に示すように、配向制御層11には、この配向制御層11を構成する各柱状晶S’の頂部をドーム状の凸とする凹凸面11aが形成され、この凹凸面11aから厚み方向に磁性層(又は非磁性層)12の結晶粒子が柱状晶S1’となって成長する。また、この柱状晶S1’の上に形成される非磁性層(又は磁性層)13及び最上層の磁性層14の結晶粒子も、柱状晶S1’に連続した柱状晶S2’,S3’となってエピタキシャル成長する。   That is, as shown in FIG. 1, the orientation control layer 11 is provided with a concavo-convex surface 11a having the top of each columnar crystal S ′ constituting the orientation control layer 11 having a dome-like convexity. Crystal grains of the magnetic layer (or nonmagnetic layer) 12 grow as columnar crystals S1 ′ in the thickness direction. The crystal grains of the nonmagnetic layer (or magnetic layer) 13 and the uppermost magnetic layer 14 formed on the columnar crystal S1 ′ are also columnar crystals S2 ′ and S3 ′ continuous to the columnar crystal S1 ′. Grow epitaxially.

このように、磁性層12〜14を多層化した場合、これら各層12〜14を構成する結晶粒子は、配向制御層11から最上層の磁性層14に至るまで連続した柱状晶S1’〜S3’となってエピタキシャル成長を繰り返す。なお、図1に示す層13は、グラニュラー構造を有する層であり、この層13を形成する柱状晶S2の周囲には酸化物15が形成されている。   Thus, when the magnetic layers 12 to 14 are multilayered, the crystal grains constituting each of the layers 12 to 14 are continuous columnar crystals S 1 ′ to S 3 ′ from the orientation control layer 11 to the uppermost magnetic layer 14. The epitaxial growth is repeated. Note that the layer 13 illustrated in FIG. 1 is a layer having a granular structure, and an oxide 15 is formed around the columnar crystal S <b> 2 forming the layer 13.

したがって、配向制御層11の結晶粒子を微細化し、その結晶粒径を均質化すれば、この配向制御層11を構成する各柱状晶Sを高密度化し、更に、これら各柱状晶S’の頂部から厚み方向に柱状に成長する各層12〜14の柱状晶S1’〜S3’も高密度化することが可能となる。   Therefore, if the crystal grains of the orientation control layer 11 are refined and the crystal grain size is homogenized, the density of the columnar crystals S constituting the orientation control layer 11 is increased, and the top of each of the columnar crystals S ′ is further increased. The columnar crystals S1 ′ to S3 ′ of the layers 12 to 14 that grow in a columnar shape in the thickness direction can also be densified.

ここで、非磁性基板の上に、CoFe合金等からなる軟磁性裏打ち層と、NiWからなるシード層と、Ruからなる中間層と、CoCrPt合金等からなる垂直磁性層とを、この順で積層した構造を有する垂直磁気記録媒体を例示する。   Here, a soft magnetic backing layer made of CoFe alloy or the like, a seed layer made of NiW, an intermediate layer made of Ru, and a perpendicular magnetic layer made of CoCrPt alloy or the like are laminated in this order on a nonmagnetic substrate. A perpendicular magnetic recording medium having the above structure will be exemplified.

この垂直磁気記録媒体において、軟磁性裏打ち層は、アモルファス構造を有している。シード層は、このアモルファス構造を有する軟磁性裏打ち層の面上において、微細な結晶核を形成する。そして、中間層であるRuは、このシード層の結晶核を起点(種結晶)にして、c軸配向した柱状晶を形成する。さらに、この中間層の上に形成される垂直磁性層も、c軸配向した柱状晶となる。   In this perpendicular magnetic recording medium, the soft magnetic underlayer has an amorphous structure. The seed layer forms fine crystal nuclei on the surface of the soft magnetic underlayer having this amorphous structure. Then, Ru as an intermediate layer forms c-axis-oriented columnar crystals starting from the crystal nucleus of the seed layer (seed crystal). Further, the perpendicular magnetic layer formed on this intermediate layer also becomes columnar crystals with c-axis orientation.

したがって、中間層及び垂直磁性層は、シード層の結晶核を起点(種結晶)にして、それぞれの結晶粒子が厚み方向に連続した柱状晶を構成するため、その下にあるシード層の結晶核を微細化し、均質化することができれば、これら中間層及び垂直磁性層の結晶粒子を微細化し、その結晶粒径を均質化することが可能となると考えられる。   Therefore, since the intermediate layer and the perpendicular magnetic layer form a columnar crystal in which each crystal particle starts in the thickness direction with the crystal nucleus of the seed layer as a starting point (seed crystal), the crystal nucleus of the seed layer below the intermediate layer and the perpendicular magnetic layer If it can be refined and homogenized, the crystal grains of these intermediate layer and perpendicular magnetic layer can be refined and the crystal grain size can be homogenized.

しかしながら、本発明者らによる検証の結果、上記NiWを用いたシード層では、軟磁性裏打ち層の面上に
不均質な大きさの結晶膜を形成するために、その上に形成した中間層の柱状晶の均質化に限界があるとの結論に至った。すなわち、上記NiWを用いたシード層では、中間層において大きな柱状晶や小さな柱状晶が生じてしまい、その柱状晶の密度分布にばらつきが生じることがわかった。
However, as a result of verification by the present inventors, in the seed layer using NiW, in order to form a crystal film having a heterogeneous size on the surface of the soft magnetic underlayer, the intermediate layer formed thereon is formed. It was concluded that there is a limit to the homogenization of columnar crystals. That is, it was found that in the seed layer using NiW, large columnar crystals and small columnar crystals are generated in the intermediate layer, and the density distribution of the columnar crystals varies.

そこで、本発明者らは、このような知見に基づいて更なる検討を行った。例えば、上述したアモルファス構造を有する軟磁性裏打ち層の上に、AlSi共晶合金膜を5nm程度の膜厚でスパッタ成膜する。この場合、結晶粒径の揃った微細な共晶合金膜を形成することができる。   Therefore, the present inventors conducted further studies based on such knowledge. For example, an AlSi eutectic alloy film is sputtered to a thickness of about 5 nm on the soft magnetic backing layer having the amorphous structure described above. In this case, a fine eutectic alloy film having a uniform crystal grain size can be formed.

一方、この微細な共晶合金膜の上に中間層としてRu膜を形成した場合、Ru膜は共晶合金膜を構成する結晶粒子からは核発生せず、微細且つ均質な粒径を有する柱状晶とはならないことがわかった。   On the other hand, when a Ru film is formed as an intermediate layer on this fine eutectic alloy film, the Ru film does not nucleate from the crystal particles constituting the eutectic alloy film, and has a columnar shape having a fine and uniform grain size. It turns out that it doesn't become a crystal.

ここで、AlSi合金の状態図を図2に示し、そのAlとSiの組成比(%)が、(1)Al:Si=56:44となる場合と、(2)Al:Si=87.4:12.6となる場合と、(3)Al:Si=92:8となる場合について、それぞれ液相(L)から固層(α+β)まで冷却したときの結晶組織を図3〜図5に示す。   Here, the phase diagram of the AlSi alloy is shown in FIG. 2, where the Al / Si composition ratio (%) is (1) Al: Si = 56: 44, and (2) Al: Si = 87. The crystal structure when cooled from the liquid phase (L) to the solid layer (α + β) in the case of 4: 12.6 and (3) Al: Si = 92: 8 is shown in FIGS. Shown in

なお、図3は、(1)56Al−44Si合金の結晶組織を模式的に示した図であり、(a)はその平面図、(b)はその断面図、(c)はそのエッチング後の断面図である。図4は、(2)87.4Al−12.6Si合金の結晶組織を模式的に示した図であり、(a)はその平面図、(b)はその断面図、(c)はそのエッチング後の断面図である。図5は、(3)92Al−8Si合金の結晶組織を模式的に示した図であり、(a)はその平面図、(b)はその断面図、(c)はそのエッチング後の断面図である。   FIG. 3 is a view schematically showing the crystal structure of (1) 56Al-44Si alloy, (a) is a plan view thereof, (b) is a sectional view thereof, and (c) is a state after the etching. It is sectional drawing. FIG. 4 is a diagram schematically showing the crystal structure of (2) 87.4Al-12.6Si alloy, (a) is a plan view thereof, (b) is a sectional view thereof, and (c) is an etching thereof. FIG. FIG. 5 is a diagram schematically showing the crystal structure of (3) 92Al-8Si alloy, (a) is a plan view thereof, (b) is a sectional view thereof, and (c) is a sectional view after etching. It is.

(1)56Al−44Si合金の場合、図2に示すように、液相(L)から共晶温度(577±1℃)まで冷却される間に、固相Si(初晶β)が析出し、この液相(L)中のSiが12.6%に達するまでAlが濃縮される。そして、共晶温度よりも低い温度まで冷却されることで、固相87.4Al−12.6Si(共晶α+β)が析出する。これにより、図3(a),(b)に示すように、柱状の結晶核(共晶AlSi)がSi結晶(初晶Si)中にドット状(島状)に分散した結晶組織(過共晶組織)が形成される。   (1) In the case of 56Al-44Si alloy, solid phase Si (primary crystal β) precipitates during cooling from the liquid phase (L) to the eutectic temperature (577 ± 1 ° C.) as shown in FIG. Al is concentrated until Si in the liquid phase (L) reaches 12.6%. Then, by cooling to a temperature lower than the eutectic temperature, solid phase 87.4Al-12.6Si (eutectic α + β) precipitates. As a result, as shown in FIGS. 3A and 3B, a crystal structure (hypercoagulant) in which columnar crystal nuclei (eutectic AlSi) are dispersed in dots (islands) in Si crystal (primary crystal Si). Crystal structure) is formed.

そして、このような結晶組織を有する56Al−44Si合金膜をスパッタ成膜した後、その表面に対してCFガスを用いたエッチング処理を施したところ、この合金膜中で相対的にエッチングレートが低いAlを含む結晶核が残存し、この結晶核よりもエッチングレートが高いSi結晶が除去された。その結果、図3(c)に示すような結晶核が表面から突出した微結晶膜が形成された。 Then, after sputter-depositing a 56Al-44Si alloy film having such a crystal structure, the surface was subjected to an etching process using CF 4 gas, and the etching rate was relatively high in the alloy film. Crystal nuclei containing low Al remained, and Si crystals having an etching rate higher than that of the crystal nuclei were removed. As a result, a microcrystalline film having crystal nuclei protruding from the surface as shown in FIG. 3C was formed.

(2)87.4Al−12.6Si合金の場合、図2に示すように、液相(L)から共晶温度よりも低い温度まで冷却されることで、固相87.4Al−12.6Si(共晶α+β)が析出する。これにより、図4(a),(b)に示すように、AlとSiの微結晶が混じり合った結晶組織(共晶組織)が形成される。   (2) In the case of the 87.4Al-12.6Si alloy, as shown in FIG. 2, the solid phase 87.4Al-12.6Si is cooled by cooling from the liquid phase (L) to a temperature lower than the eutectic temperature. (Eutectic α + β) precipitates. As a result, as shown in FIGS. 4A and 4B, a crystal structure (eutectic structure) in which Al and Si microcrystals are mixed is formed.

そして、このような結晶組織を有する87.4Al−12.6Si合金膜をスパッタ成膜した後、その表面に対してCFガスを用いたエッチング処理を施した。その結果、図4(c)に示すように、87.4Al−12.6Si合金膜が除去された。なお、このときのエッチング条件は、上記図3に示す場合よりも除去効果の高い条件でエッチングを行う必要があった。 Then, after the sputtering of 87.4Al-12.6Si alloy film having such a crystal structure, it was subjected to etching treatment using a CF 4 gas to the surface. As a result, as shown in FIG. 4C, the 87.4Al-12.6Si alloy film was removed. It should be noted that the etching conditions at this time needed to be etched under conditions where the removal effect was higher than in the case shown in FIG.

(3)92Al−8Si合金の場合、図2に示すように、液相(L)から共晶温度まで冷却される間に、固相Al(初晶α)が析出し、この液相(L)中のSiが12.6%に達するまでSiが濃縮される。そして、共晶温度よりも低い温度まで冷却されることで、固相87.4Al−12.6Si(共晶α+β)が析出する。これにより、図5(a),(b)に示すように、柱状の結晶核(共晶AlSi)がAl結晶(初晶Al)中にドット状(島状)に分散した結晶組織(亜共晶組織)が形成される。   (3) In the case of 92Al-8Si alloy, solid phase Al (primary crystal α) precipitates during cooling from the liquid phase (L) to the eutectic temperature, as shown in FIG. The Si is concentrated until the Si content in 1) reaches 12.6%. Then, by cooling to a temperature lower than the eutectic temperature, solid phase 87.4Al-12.6Si (eutectic α + β) precipitates. As a result, as shown in FIGS. 5A and 5B, a crystal structure in which columnar crystal nuclei (eutectic AlSi) are dispersed in a dot shape (island shape) in an Al crystal (primary crystal Al) (sub-common). Crystal structure) is formed.

そして、このような結晶組織を有する92Al−8Si合金膜をスパッタ成膜した後、その表面に対してCFガスを用いたエッチング処理を施したところ、この合金膜中で相対的にエッチングレートが低いAl結晶が残存し、このAl結晶よりもエッチングレートが高いSiを含む結晶核が除去された。その結果、図5(c)に示すようなAl結晶の間に凹部を有する微結晶膜が形成された。なお、このときのエッチング条件は、上記図3に示す場合よりも除去効果の高い条件でエッチングを行う必要があった。 Then, after sputtering the 92Al-8Si alloy film having such a crystal structure, the surface was subjected to etching treatment using CF 4 gas, and the etching rate was relatively high in the alloy film. Low Al crystals remained, and crystal nuclei containing Si having a higher etching rate than the Al crystals were removed. As a result, a microcrystalline film having a recess between Al crystals as shown in FIG. 5C was formed. It should be noted that the etching conditions at this time needed to be etched under conditions where the removal effect was higher than in the case shown in FIG.

本発明者らは、上記知見に基づいて、上記(1)の結晶核が表面から突出した微結晶膜上にRu膜を成膜した。その結果、結晶核を起点にしてRuの均一な柱状晶が形成されることを見出し、本発明を完成するに至った。   Based on the above findings, the present inventors formed a Ru film on the microcrystalline film in which the crystal nucleus of (1) protruded from the surface. As a result, it has been found that uniform columnar crystals of Ru are formed starting from the crystal nucleus, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、以上のような知見に基づいてなされたものであり、少なくとも非磁性基板の上に、軟磁性裏打ち層と、シード層と、中間層と、垂直磁性層とを、この順で積層した磁気記録媒体を製造する際に、シード層として、共晶組織を構成する2種類以上の元素を含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする。   That is, the present invention has been made on the basis of the above-described knowledge. At least a soft magnetic backing layer, a seed layer, an intermediate layer, and a perpendicular magnetic layer are arranged in this order on a nonmagnetic substrate. When producing a magnetic recording medium laminated with the above, as a seed layer, an eutectic alloy film containing two or more elements constituting a eutectic structure and having columnar crystal nuclei dispersed in a dot shape was formed. Thereafter, the surface of the eutectic alloy film is etched to form a microcrystalline film having crystal nuclei protruding from the surface.

これにより、シード層が微細且つ均質な結晶核を構成することになり、このシード層を形成する微結晶膜が有する凸状の結晶核を起点(種結晶)にして、中間層から垂直磁性層の最上層に至るまで厚み方向に連続して結晶成長させた各層の柱状晶を、微細且つ均質な粒径を有する結晶粒子によって構成することが可能である。   As a result, the seed layer forms fine and homogeneous crystal nuclei. The convex crystal nuclei of the microcrystalline film forming the seed layer are used as starting points (seed crystals) from the intermediate layer to the perpendicular magnetic layer. The columnar crystals of each layer that are continuously grown in the thickness direction up to the uppermost layer can be constituted by crystal grains having a fine and uniform grain size.

また、シード層としては、共晶組織を構成する少なくともAl、Si、Ge、Cの中から選ばれる一の元素と、この一の元素よりもエッチングレートの低いAl、Pd、Ag、Au、Sb、Ru、Pt、Coの中から選ばれる他の元素とを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することが好ましい。   In addition, as the seed layer, at least one element selected from Al, Si, Ge, and C constituting the eutectic structure, and Al, Pd, Ag, Au, and Sb having a lower etching rate than the one element. , Ru, Pt, and other elements selected from Co, and after forming a eutectic alloy film in which columnar crystal nuclei are dispersed in a dot shape, the surface of the eutectic alloy film is formed. By performing an etching process, it is preferable to form a microcrystalline film in which crystal nuclei protrude from the surface.

このうち、上記一の元素としてAlを含む共晶合金膜を形成する場合は、AlRu、AlCuの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Ru、Cuの何れかを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することが好ましい。   Among these, in the case of forming a eutectic alloy film containing Al as the one element, an eutectic alloy film containing either AlRu or AlCu and having columnar crystal nuclei dispersed in a dot shape was formed. Later, it is preferable to form a microcrystalline film in which crystal nuclei containing either Ru or Cu protrude from the surface by etching the surface of the eutectic alloy film.

一方、上記一の元素としてSiを含む共晶合金膜を形成する場合は、AlSi、PdSi、AgSi、AuSiの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Al、Pd、Ag、Au、Sbの何れかを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することが好ましい。   On the other hand, when forming a eutectic alloy film containing Si as the one element, the eutectic alloy film includes any one of AlSi, PdSi, AgSi, and AuSi, and columnar crystal nuclei are dispersed in dots. After forming the crystal structure, the surface of the eutectic alloy film is etched to form a microcrystalline film in which crystal nuclei containing any of Al, Pd, Ag, Au, and Sb protrude from the surface. Is preferred.

一方、上記一の元素としてGeを含む共晶合金膜を形成する場合は、AlGe、PdGe、AgGe、AuGe、SbGeの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Al、Pd、Ag、Au、Sbの何れかを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することが好ましい。   On the other hand, in the case of forming a eutectic alloy film containing Ge as the one element, a eutectic containing AlGe, PdGe, AgGe, AuGe, or SbGe and having columnar crystal nuclei dispersed in dots. After forming the alloy film, the surface of the eutectic alloy film is etched to form a microcrystalline film in which crystal nuclei containing any of Al, Pd, Ag, Au, and Sb protrude from the surface. It is preferable to do.

一方、上記一の元素としてCを含む共晶合金膜を形成する場合は、RuC、PtC、CoCの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Ru、Pt、Coの何れかを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することが好ましい。   On the other hand, when forming a eutectic alloy film containing C as the one element, a eutectic alloy film containing any of RuC, PtC, and CoC and having columnar crystal nuclei dispersed in a dot shape is formed. Then, it is preferable to form a microcrystalline film in which crystal nuclei including any one of Ru, Pt, and Co protrude from the surface by performing an etching process on the surface of the eutectic alloy film.

これらの共晶合金膜は、その合金組成にも依存するものの、その膜厚を例えば4〜10nmの範囲とすることが好ましい。共晶合金膜の膜厚が4nmより薄くなると、この共晶合金膜が部分的に島状となり、連続膜とならない場合がある。また、共晶合金膜を構成する結晶粒子の粒径が均質とならない場合がある。一方、共晶合金膜の膜厚が10nmより厚くなると、この共晶合金膜を構成する結晶粒子が粗大化してしまい、上記Ruの微細な柱状晶を形成することが困難となる。   Although these eutectic alloy films depend on the alloy composition, the film thickness is preferably in the range of 4 to 10 nm, for example. When the film thickness of the eutectic alloy film is thinner than 4 nm, the eutectic alloy film may be partly island-shaped and not be a continuous film. In addition, the grain size of the crystal grains constituting the eutectic alloy film may not be uniform. On the other hand, when the film thickness of the eutectic alloy film is larger than 10 nm, the crystal grains constituting the eutectic alloy film are coarsened, and it becomes difficult to form the fine columnar crystals of Ru.

本発明では、上記共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施す方法として、例えば、フッ素(F)、塩素(Cl)、水素(H)、酸素(O)の中から選ばれる元素を少なくとも1つ以上含むエッチングガスを用いたドライエッチングを行うことが好ましい。特に、AlSi共晶合金膜の場合、AlとSiのエッチング選択比が高いCFガスやSFガスなどを好適に用いることができる。この場合、Alよりもエッチングレートの低いSiをドライエッチングにより選択的に除去することが可能である。 In the present invention, as a method for etching the surface of the eutectic alloy film, for example, at least an element selected from fluorine (F), chlorine (Cl), hydrogen (H), and oxygen (O) is used. It is preferable to perform dry etching using an etching gas containing one or more. In particular, in the case of an AlSi eutectic alloy film, CF 4 gas or SF 6 gas having a high etching selectivity between Al and Si can be suitably used. In this case, Si having an etching rate lower than that of Al can be selectively removed by dry etching.

また、例えばAlRuやAlSi、AlCuなどの共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施す場合には、塩素(Cl)ガスを好適に用いることができる。特に、AlCu共晶合金膜の場合、AlとCuのエッチング選択比が高いClガスを好適に用いることができる。この場合、RuやSi、Cuよりもエッチングレートの低いAlをドライエッチングにより選択的に除去することが可能である。 In addition, for example, when etching is performed on the surface of a eutectic alloy film such as AlRu, AlSi, or AlCu, chlorine (Cl 2 ) gas can be preferably used. In particular, in the case of an AlCu eutectic alloy film, a Cl 2 gas having a high etching selectivity between Al and Cu can be suitably used. In this case, Al having an etching rate lower than that of Ru, Si, or Cu can be selectively removed by dry etching.

このように、Alを含む共晶合金膜は、その合金組成やエッチングガスの選択によって、上記エッチングより選択的に除去される一の元素となったり、上記エッチング後に凸状の結晶核を形成する他の元素となったりする。   Thus, the eutectic alloy film containing Al becomes one element that is selectively removed by the etching depending on the alloy composition and the etching gas, or forms a convex crystal nucleus after the etching. Or other elements.

なお、共晶合金膜中の結晶核は、複数組成を含む合金であってもよい。一方、共晶合金膜中の結晶核以外の相(マトリックス)については、単一組成からなることが好ましい。また、先に析出する元素(初晶)がマトリックスを形成し易い。   The crystal nucleus in the eutectic alloy film may be an alloy including a plurality of compositions. On the other hand, the phase (matrix) other than the crystal nuclei in the eutectic alloy film preferably has a single composition. Moreover, the element (primary crystal) which precipitates first tends to form a matrix.

また、エッチングガスとしては、希ガス族を用いることも可能である。この場合、共晶合金膜中のエッチング速度の差を利用して上記凸状の結晶核を形成することが可能である。   Further, a rare gas group can be used as the etching gas. In this case, it is possible to form the convex crystal nuclei using the difference in etching rate in the eutectic alloy film.

本発明の特徴部分について、図2を参照しながら更に詳細に説明する。
本発明では、図2において模式的に示すように、非磁性基板30の上に、軟磁性裏打ち層31として、例えばアモルファス構造を有するCo合金膜を形成する。
The features of the present invention will be described in more detail with reference to FIG.
In the present invention, as schematically shown in FIG. 2, for example, a Co alloy film having an amorphous structure is formed on the nonmagnetic substrate 30 as the soft magnetic backing layer 31.

そして、本発明では、この軟磁性裏打ち層31の上に、シード層32として、例えばAlSiやPdSiなどの共晶合金膜をスパッタ成膜した後、この共晶合金膜をドライエッチングすることによって、当該共晶合金膜中のSiを選択的に除去する。これにより、AlやPdを含む結晶核32aが表面から突出した微結晶膜が形成される。   And in this invention, after sputter-depositing eutectic alloy films, such as AlSi and PdSi, for example as seed layer 32 on this soft magnetic backing layer 31, by carrying out dry etching of this eutectic alloy film, Si in the eutectic alloy film is selectively removed. As a result, a microcrystalline film is formed in which crystal nuclei 32a containing Al and Pd protrude from the surface.

その後は、シード層32の上に、例えばRuやRu合金からなる中間層33を形成する。これにより、中間層33を構成する結晶粒子は、シード層32の結晶核32aと1:1で対応しながら、厚み方向に連続した柱状晶S1となってエピタキシャル成長する。   Thereafter, an intermediate layer 33 made of, for example, Ru or a Ru alloy is formed on the seed layer 32. Thereby, the crystal grains constituting the intermediate layer 33 are epitaxially grown as columnar crystals S1 continuous in the thickness direction while corresponding to the crystal nuclei 32a of the seed layer 32 in a 1: 1 ratio.

また、この中間層33を構成する各柱状晶S1の頂部には、ドーム状の凸部33aが形成される。これにより、この凸部33a上に形成される垂直磁性層34の結晶粒子を1:1で対応させながら、厚み方向に連続した柱状晶S2となるようにエピタキシャル成長させることができる。   In addition, a dome-shaped convex portion 33 a is formed at the top of each columnar crystal S <b> 1 constituting the intermediate layer 33. As a result, the crystal grains of the perpendicular magnetic layer 34 formed on the convex portion 33a can be epitaxially grown so as to form a columnar crystal S2 continuous in the thickness direction while corresponding 1: 1.

以上のように、本発明では、上述したシード層32の結晶核を起点(種結晶)にして、中間層33から垂直磁性層34の最上層に至るまで厚み方向に連続して結晶成長させた各層の柱状晶S1,S2を、微細且つ均質な粒径を有する結晶粒子によって構成することが可能である。   As described above, in the present invention, the crystal nucleus is continuously grown in the thickness direction from the intermediate layer 33 to the uppermost layer of the perpendicular magnetic layer 34 using the crystal nucleus of the seed layer 32 as a starting point (seed crystal). The columnar crystals S1 and S2 of each layer can be composed of crystal particles having a fine and uniform particle size.

したがって、本発明によれば、垂直磁性層の高い垂直配向性を維持し、更なる高記録密度化を可能とした磁気記録媒体、並びにそのような磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置を提供することが可能である。   Therefore, according to the present invention, a magnetic recording medium capable of maintaining a high perpendicular orientation of the perpendicular magnetic layer and further increasing the recording density, and a magnetic recording / reproducing apparatus equipped with such a magnetic recording medium are provided. Is possible.

図3は、本発明を適用した磁気記録媒体の一例を示したものである。
この磁気記録媒体は、図3に示すように、非磁性基板1の上に、軟磁性裏打ち層2と、シード層9と、中間層3と、垂直磁性層4と、保護層5と、潤滑層6とを順次積層した構造を有している。
FIG. 3 shows an example of a magnetic recording medium to which the present invention is applied.
As shown in FIG. 3, this magnetic recording medium has a soft magnetic backing layer 2, a seed layer 9, an intermediate layer 3, a perpendicular magnetic layer 4, a protective layer 5, and a lubricant on a nonmagnetic substrate 1. It has a structure in which the layers 6 are sequentially laminated.

垂直磁性層4は、非磁性基板1側から、下層の磁性層4aと、中層の磁性層4bと、上層の磁性層4cとの3層を含み、磁性層4aと磁性層4bとの間に下層の非磁性層7aと、磁性層4bと磁性層4cとの間に上層の非磁性層7bを含むことで、これら磁性層4a〜4cと非磁性層7a,7bとが交互に積層された構造を有している。   The perpendicular magnetic layer 4 includes, from the nonmagnetic substrate 1 side, three layers of a lower magnetic layer 4a, an intermediate magnetic layer 4b, and an upper magnetic layer 4c, and between the magnetic layer 4a and the magnetic layer 4b. By including the upper nonmagnetic layer 7b between the lower nonmagnetic layer 7a and the magnetic layer 4b and the magnetic layer 4c, the magnetic layers 4a to 4c and the nonmagnetic layers 7a and 7b are alternately stacked. It has a structure.

非磁性基板1としては、例えば、アルミニウムやアルミニウム合金などの金属材料からなる金属基板を用いてもよく、例えば、ガラスや、セラミック、シリコン、シリコンカーバイド、カーボンなどの非金属材料からなる非金属基板を用いてもよい。また、これら金属基板や非金属基板の表面に、例えばメッキ法やスパッタ法などを用いて、NiP層又はNiP合金層が形成されたものを用いることもできる。   As the nonmagnetic substrate 1, for example, a metal substrate made of a metal material such as aluminum or an aluminum alloy may be used. For example, a nonmetal substrate made of a nonmetal material such as glass, ceramic, silicon, silicon carbide, or carbon. May be used. In addition, it is also possible to use a substrate in which a NiP layer or a NiP alloy layer is formed on the surface of the metal substrate or nonmetal substrate by using, for example, a plating method or a sputtering method.

ガラス基板としては、例えば、アモルファスガラスや結晶化ガラスなどを用いることができ、アモルファスガラスとしては、例えば、汎用のソーダライムガラスや、アルミノシリケートガラスなどを用いることができる。また、結晶化ガラスとしては、例えば、リチウム系結晶化ガラスなどを用いることができる。セラミック基板としては、例えば、汎用の酸化アルミニウムや、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体、又はこれらの繊維強化物などを用いることができる。   As the glass substrate, for example, amorphous glass or crystallized glass can be used, and as the amorphous glass, for example, general-purpose soda lime glass or aluminosilicate glass can be used. In addition, as the crystallized glass, for example, lithium-based crystallized glass can be used. As the ceramic substrate, for example, general-purpose aluminum oxide, a sintered body mainly composed of aluminum nitride, silicon nitride, or the like, or a fiber reinforced material thereof can be used.

非磁性基板1は、その平均表面粗さ(Ra)が2nm(20Å)以下、好ましくは1nm以下であるとことが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、表面の微小うねり(Wa)が0.3nm以下(より好ましくは0.25nm以下。)であることが、磁気ヘッドを低浮上させた高記録密度記録に適している点から好ましい。また、端面のチャンファー部の面取り部と、側面部との少なくとも一方の表面平均粗さ(Ra)が10nm以下(より好ましくは9.5nm以下。)のものを用いることが、磁気ヘッドの飛行安定性にとって好ましい。なお、微少うねり(Wa)は、例えば、表面荒粗さ測定装置P−12(KLM−Tencor社製)を用い、測定範囲80μmでの表面平均粗さとして測定することができる。   The nonmagnetic substrate 1 preferably has an average surface roughness (Ra) of 2 nm (20 mm) or less, preferably 1 nm or less from the viewpoint of suitable for high recording density recording with a magnetic head flying low. Further, it is preferable that the surface fine waviness (Wa) is 0.3 nm or less (more preferably 0.25 nm or less) from the viewpoint of being suitable for high recording density recording with the magnetic head flying low. In addition, it is possible to use a magnetic head having a chamfered portion at the end face and a surface average roughness (Ra) of at least one of the side surface portion of 10 nm or less (more preferably 9.5 nm or less). Preferred for stability. In addition, microwaviness (Wa) can be measured as surface average roughness in a measuring range of 80 μm, for example, using a surface roughness measuring device P-12 (manufactured by KLM-Tencor).

また、非磁性基板1は、Co又はFeが主成分となる軟磁性裏打ち層2と接することで、表面の吸着ガスや、水分の影響、基板成分の拡散などにより、腐食が進行する可能性がある。この場合、非磁性基板1と軟磁性裏打ち層2の間に密着層を設けることが好ましく、これにより、これらを抑制することが可能となる。なお、密着層の材料としては、例えば、Cr、Cr合金、Ti、Ti合金など適宜選択することが可能である。また、密着層の厚みは2nm(30Å)以上であることが好ましい。   Further, when the nonmagnetic substrate 1 is in contact with the soft magnetic backing layer 2 containing Co or Fe as a main component, there is a possibility that corrosion proceeds due to the influence of surface adsorption gas, moisture, diffusion of substrate components, and the like. is there. In this case, it is preferable to provide an adhesion layer between the nonmagnetic substrate 1 and the soft magnetic backing layer 2, thereby suppressing these. In addition, as a material of the adhesion layer, for example, Cr, Cr alloy, Ti, Ti alloy, or the like can be selected as appropriate. The thickness of the adhesion layer is preferably 2 nm (30 mm) or more.

軟磁性裏打ち層2は、磁気ヘッドから発生する磁束の基板面に対する垂直方向成分を大きくするために、また情報が記録される垂直磁性層4の磁化の方向をより強固に非磁性基板1と垂直な方向に固定するために設けられている。この作用は、特に記録再生用の磁気ヘッドとして垂直記録用の単磁極ヘッドを用いる場合に、より顕著なものとなる。   The soft magnetic underlayer 2 increases the component of the magnetic flux generated from the magnetic head in the direction perpendicular to the substrate surface, and further strengthens the direction of magnetization of the perpendicular magnetic layer 4 on which information is recorded to be perpendicular to the nonmagnetic substrate 1. It is provided to fix in any direction. This effect becomes more conspicuous particularly when a single pole head for perpendicular recording is used as a magnetic head for recording and reproduction.

軟磁性裏打ち層2としては、例えば、Feや、Ni、Coなどを含むアモルファス若しくは微結晶構造の軟磁性材料を用いることができる。具体的な軟磁性材料としては、例えば、CoFe系合金(CoFeTaZr、CoFeZrNbなど。)、FeCo系合金(FeCo、FeCoVなど。)、FeNi系合金(FeNi、FeNiMo、FeNiCr、FeNiSiなど。)、FeAl系合金(FeAl、FeAlSi、FeAlSiCr、FeAlSiTiRu、FeAlOなど。)、FeCr系合金(FeCr、FeCrTi、FeCrCuなど。)、FeTa系合金(FeTa、FeTaC、FeTaNなど。)、FeMg系合金(FeMgOなど。)、FeZr系合金(FeZrNなど。)、FeC系合金、FeN系合金、FeSi系合金、FeP系合金、FeNb系合金、FeHf系合金、FeB系合金などを挙げることができる。   As the soft magnetic backing layer 2, for example, an amorphous or microcrystalline soft magnetic material containing Fe, Ni, Co, or the like can be used. Specific examples of soft magnetic materials include CoFe alloys (CoFeTaZr, CoFeZrNb, etc.), FeCo alloys (FeCo, FeCoV, etc.), FeNi alloys (FeNi, FeNiMo, FeNiCr, FeNiSi, etc.), and FeAl. Alloys (FeAl, FeAlSi, FeAlSiCr, FeAlSiTiRu, FeAlO, etc.), FeCr alloys (FeCr, FeCrTi, FeCrCu, etc.), FeTa alloys (FeTa, FeTaC, FeTaN, etc.), FeMg alloys (FeMgO, etc.), Examples thereof include FeZr alloys (FeZrN, etc.), FeC alloys, FeN alloys, FeSi alloys, FeP alloys, FeNb alloys, FeHf alloys, FeB alloys, and the like.

その他にも、軟磁性裏打ち層2としては、Coを80原子%以上含有し、Zr、Nb、Ta、Cr、Mo等のうち少なくとも1種を含有し、アモルファス若しくは微結晶構造を有するCo合金を用いることができる。この具体的な材料としては、例えば、CoZr、CoZrNb、CoZrTa、CoZrCr、CoZrMo系合金などを好適なものとして挙げることができる。   In addition, the soft magnetic underlayer 2 is made of a Co alloy containing 80 atomic% or more of Co, at least one of Zr, Nb, Ta, Cr, Mo, etc., and having an amorphous or microcrystalline structure. Can be used. Specific examples of the specific material include CoZr, CoZrNb, CoZrTa, CoZrCr, and CoZrMo-based alloys.

軟磁性裏打ち層2は、2層の軟磁性膜から構成されており、2層の軟磁性膜の間にはRu膜を設けることが好ましい。Ru膜の膜厚を0.4〜1.0nm、又は1.6〜2.6nmの範囲で調整することで、2層の軟磁性膜がAFC構造となり、このようなAFC構造を採用することで、いわゆるスパイクノイズを抑制することができる。   The soft magnetic backing layer 2 is composed of two soft magnetic films, and a Ru film is preferably provided between the two soft magnetic films. By adjusting the film thickness of the Ru film in the range of 0.4 to 1.0 nm or 1.6 to 2.6 nm, the two-layer soft magnetic film has an AFC structure, and such an AFC structure is adopted. Thus, so-called spike noise can be suppressed.

シード層9及び中間層3は、直上の層の配向性や結晶サイズを制御する配向制御層として機能するためのものである。これらシード層9及び中間層3には、上述した図2に示すシード層32及び中間層33を順に積層したものを採用できるため、その説明を省略するものとする。   The seed layer 9 and the intermediate layer 3 are for functioning as an orientation control layer for controlling the orientation and crystal size of the layer immediately above. Since the seed layer 9 and the intermediate layer 3 can be formed by sequentially stacking the seed layer 32 and the intermediate layer 33 shown in FIG. 2, the description thereof will be omitted.

また、中間層3と垂直磁性層4の間には、非磁性下地層8を設けることが好ましい。中間層3直上の垂直磁性層4の初期部には、結晶成長の乱れが生じやすく、これがノイズの原因となる。この初期部の乱れた部分を非磁性下地層8で置き換えることで、ノイズの発生を抑制することができる。   Further, it is preferable to provide a nonmagnetic underlayer 8 between the intermediate layer 3 and the perpendicular magnetic layer 4. In the initial portion of the perpendicular magnetic layer 4 directly above the intermediate layer 3, disorder of crystal growth is likely to occur, which causes noise. The occurrence of noise can be suppressed by replacing the disturbed portion of the initial portion with the nonmagnetic underlayer 8.

非磁性下地層8は、Coを主成分とし、さらに酸化物を含んだ材料からなることが好ましい。Crの含有量は、25原子%以上50原子%以下とすることが好ましい。酸化物としては、例えばCr、Si、Ta、Al、Ti、Mg、Coなどの酸化物を用いることが好ましく、その中でも特に、TiO、Cr、SiOなどを好適に用いることができる。酸化物の含有量としては、磁性粒子を構成する、例えばCo、Cr、Pt等の合金を1つの化合物として算出したmol総量に対して、3mol%以上18mol%以下であることが好ましい。 The nonmagnetic underlayer 8 is preferably made of a material mainly containing Co and further containing an oxide. The Cr content is preferably 25 atomic% or more and 50 atomic% or less. As the oxide, for example, oxides such as Cr, Si, Ta, Al, Ti, Mg, and Co are preferably used, and among them, TiO 2 , Cr 2 O 3 , SiO 2, and the like are preferably used. it can. The content of the oxide is preferably 3 mol% or more and 18 mol% or less with respect to the total amount of mol calculated as one compound, for example, an alloy such as Co, Cr, and Pt constituting the magnetic particles.

また、非磁性下地層8は、酸化物を2種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも特に、Cr−SiO、Cr−TiO、Cr−SiO−TiOなどを好適に用いることができる。さらに、CoCr−SiO、CoCr−TiO、CoCr−Cr−SiO、CoCr−TiO−Cr、CoCr−Cr−TiO−SiOなどを好適に用いることができる。また、結晶成長の観点からPtを添加してもよい。 The nonmagnetic underlayer 8 is preferably made of a complex oxide to which two or more kinds of oxides are added. Among these, Cr 2 O 3 —SiO 2 , Cr 2 O 3 —TiO 2 , Cr 2 O 3 —SiO 2 —TiO 2 and the like can be preferably used. Furthermore, CoCr—SiO 2 , CoCr—TiO 2 , CoCr—Cr 2 O 3 —SiO 2 , CoCr—TiO 2 —Cr 2 O 3 , CoCr—Cr 2 O 3 —TiO 2 —SiO 2 or the like is preferably used. Can do. Further, Pt may be added from the viewpoint of crystal growth.

非磁性下地層8の厚みは、0.2nm以上3nm以下であることが好ましい。3nmの厚さを超えると、Hc及びHnの低下が生じるために好ましくない。   The thickness of the nonmagnetic underlayer 8 is preferably 0.2 nm or more and 3 nm or less. If the thickness exceeds 3 nm, Hc and Hn decrease, which is not preferable.

磁性層4aは、Coを主成分とし、さらに酸化物を含んだ材料からなり、この酸化物としては、例えばCr、Si、Ta、Al、Ti、Mg、Coなどの酸化物を用いることが好ましい。その中でも特に、TiO、Cr、SiOなどを好適に用いることができる。また、磁性層4aは、酸化物を2種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも特に、Cr−SiO、Cr−TiO、Cr−SiO−TiOなどを好適に用いることができる。 The magnetic layer 4a is made of a material mainly containing Co and further containing an oxide. As this oxide, for example, an oxide such as Cr, Si, Ta, Al, Ti, Mg, Co is preferably used. . Among them, TiO 2, Cr 2 O 3 , SiO 2 or the like can be suitably used. The magnetic layer 4a is preferably made of a complex oxide to which two or more kinds of oxides are added. Among these, Cr 2 O 3 —SiO 2 , Cr 2 O 3 —TiO 2 , Cr 2 O 3 —SiO 2 —TiO 2 and the like can be preferably used.

磁性層4aは、図4に示すように、酸化物41を含む層中に磁性粒子(磁性を有した結晶粒子)42が分散していることが好ましい。また、磁性粒子42は、磁性層4a,4b、更には磁性層4cを上下に貫いた柱状構造を形成していることが好ましい。このような構造を有することにより、磁性層4aの磁性粒子42の配向及び結晶性を良好なものとし、結果として高密度記録に適した信号/ノイズ比(S/N比)を得ることができる。   As shown in FIG. 4, in the magnetic layer 4 a, it is preferable that magnetic particles (magnetized crystal particles) 42 are dispersed in a layer including the oxide 41. The magnetic particles 42 preferably have a columnar structure that vertically penetrates the magnetic layers 4a and 4b and further the magnetic layer 4c. By having such a structure, the orientation and crystallinity of the magnetic particles 42 of the magnetic layer 4a are improved, and as a result, a signal / noise ratio (S / N ratio) suitable for high-density recording can be obtained. .

このような構造を得るためには、含有させる酸化物41の量及び磁性層4aの成膜条件が重要となる。すなわち、酸化物41の含有量としては、磁性粒子42を構成する、例えばCo、Cr、Pt等の合金を1つの化合物として算出したmol総量に対して、3mol%以上18mol%以下であることが好ましい。さらに好ましくは6mol%以上13mol%以下である。   In order to obtain such a structure, the amount of the oxide 41 to be contained and the film formation conditions of the magnetic layer 4a are important. That is, the content of the oxide 41 is 3 mol% or more and 18 mol% or less with respect to the total mol amount of the magnetic particles 42, for example, an alloy such as Co, Cr, and Pt calculated as one compound. preferable. More preferably, it is 6 mol% or more and 13 mol% or less.

磁性層4a中の酸化物41の含有量として上記範囲が好ましいのは、この磁性層4aを形成した際、磁性粒子42の周りに酸化物41が析出し、磁性粒子42の孤立化及び微細化が可能となるためである。一方、酸化物41の含有量が上記範囲を超えた場合には、酸化物41が磁性粒子42中に残留し、磁性粒子42の配向性及び結晶性を損ね、更には磁性粒子42の上下に酸化物41が析出し、結果として磁性粒子42が磁性層4a〜4cを上下に貫いた柱状構造が形成されなくなるため好ましくない。また、酸化物41の含有量が上記範囲未満である場合には、磁性粒子42の分離及び微細化が不十分となり、結果として記録再生時におけるノイズが増大し、高密度記録に適した信号/ノイズ比(S/N比)が得られなくなるため好ましくない。   The above range is preferable as the content of the oxide 41 in the magnetic layer 4a. When the magnetic layer 4a is formed, the oxide 41 is precipitated around the magnetic particles 42, and the magnetic particles 42 are isolated and refined. This is because it becomes possible. On the other hand, when the content of the oxide 41 exceeds the above range, the oxide 41 remains in the magnetic particle 42, impairs the orientation and crystallinity of the magnetic particle 42, and further above and below the magnetic particle 42. The oxide 41 is deposited, and as a result, a columnar structure in which the magnetic particles 42 penetrate through the magnetic layers 4a to 4c is not formed. In addition, when the content of the oxide 41 is less than the above range, separation and refinement of the magnetic particles 42 are insufficient, resulting in an increase in noise during recording and reproduction, and a signal / This is not preferable because the noise ratio (S / N ratio) cannot be obtained.

磁性層4a中のCrの含有量は、20原子%以下(さらに好ましくは6原子%以上16原子%以下)であることが好ましい。Crの含有量を上記範囲としたのは、磁性粒子42の磁気異方性定数Kuを下げ過ぎず、また、高い磁化を維持し、結果として高密度記録に適した記録再生特性と十分な熱揺らぎ特性が得られるからである。   The content of Cr in the magnetic layer 4a is preferably 20 atomic% or less (more preferably 6 atomic% or more and 16 atomic% or less). The reason why the Cr content is in the above range is that the magnetic anisotropy constant Ku of the magnetic particles 42 is not lowered too much, and high magnetization is maintained. As a result, recording / reproduction characteristics suitable for high-density recording and sufficient heat This is because fluctuation characteristics can be obtained.

一方、Crの含有量が上記範囲を超えた場合には、磁性粒子42の磁気異方性定数Kuが小さくなるため熱揺らぎ特性が悪化し、また、磁性粒子42の結晶性及び配向性が悪化することで、結果として記録再生特性が悪くなるため好ましくない。また、Crの含有量が上記範囲未満である場合には、磁性粒子42の磁気異方性定数Kuが高いため、垂直保磁力が高くなり過ぎ、データを記録する際、磁気ヘッドで十分に書き込むことができず、結果として高密度記録に適さない記録特性(OW)となるため好ましくない。   On the other hand, when the Cr content exceeds the above range, the magnetic anisotropy constant Ku of the magnetic particles 42 becomes small, so that the thermal fluctuation characteristics deteriorate, and the crystallinity and orientation of the magnetic particles 42 deteriorate. As a result, the recording / reproduction characteristics deteriorate, which is not preferable. Further, when the Cr content is less than the above range, the magnetic anisotropy constant Ku of the magnetic particles 42 is high, so that the perpendicular coercive force becomes too high and data is sufficiently written by a magnetic head when data is recorded. This is not preferable because the recording characteristics (OW) are unsuitable for high density recording.

磁性層4a中のPtの含有量は、8原子%以上25原子%以下であることが好ましい。Ptの含有量を上記範囲としたのは、8原子%未満であると、垂直磁性層4に必要な磁気異方性定数Kuが低くなるためである。一方、25原子%を超えると、磁性粒子42の内部に積層欠陥が生じ、その結果磁気異方性定数Kuが低くなる。したがって、高密度記録に適した熱揺らぎ特性及び記録再生特性を得るためには、Ptの含有量を上記範囲とすることが好ましい。   The content of Pt in the magnetic layer 4a is preferably 8 atom% or more and 25 atom% or less. The reason why the Pt content is within the above range is that the magnetic anisotropy constant Ku required for the perpendicular magnetic layer 4 is low when it is less than 8 atomic%. On the other hand, when it exceeds 25 atomic%, a stacking fault occurs inside the magnetic particle 42, and as a result, the magnetic anisotropy constant Ku decreases. Therefore, in order to obtain thermal fluctuation characteristics and recording / reproduction characteristics suitable for high-density recording, the Pt content is preferably set in the above range.

また、Ptの含有量が上記範囲を超えた場合には、磁性粒子42中にfcc構造の層が形成され、結晶性及び配向性が損なわれるおそれがあるため好ましくない。一方、Ptの含有量が上記範囲未満である場合には、高密度記録に適した熱揺らぎ特性を得るための磁気異方性定数Kuが得られないため好ましくない。   In addition, when the Pt content exceeds the above range, an fcc structure layer is formed in the magnetic particles 42, and the crystallinity and orientation may be impaired. On the other hand, if the Pt content is less than the above range, the magnetic anisotropy constant Ku for obtaining thermal fluctuation characteristics suitable for high-density recording cannot be obtained.

磁性層4aは、Co、Cr、Pt、酸化物41の他に、B、Ta、Mo、Cu、Nd、W、Nb、Sm、Tb、Ru、Reの中から選ばれる1種類以上の元素を含むことができる。上記元素を含むことにより、磁性粒子42の微細化を促進、又は結晶性や配向性を向上させることができ、より高密度記録に適した記録再生特性、熱揺らぎ特性を得ることができる。   In addition to Co, Cr, Pt and oxide 41, the magnetic layer 4a contains one or more elements selected from B, Ta, Mo, Cu, Nd, W, Nb, Sm, Tb, Ru, and Re. Can be included. By including the above elements, the miniaturization of the magnetic particles 42 can be promoted or the crystallinity and orientation can be improved, and recording / reproduction characteristics and thermal fluctuation characteristics suitable for higher density recording can be obtained.

また、上記元素の合計の含有量は、8原子%以下であることが好ましい。8原子%を超えた場合、磁性粒子42中にhcp相以外の相が形成されるため、磁性粒子42の結晶性及び配向性が乱れ、結果として高密度記録に適した記録再生特性及び熱揺らぎ特性が得られないため好ましくない。   Further, the total content of the above elements is preferably 8 atomic% or less. If it exceeds 8 atomic%, a phase other than the hcp phase is formed in the magnetic particles 42, so that the crystallinity and orientation of the magnetic particles 42 are disturbed. As a result, recording / reproduction characteristics and thermal fluctuation suitable for high density recording are obtained. Since characteristics cannot be obtained, it is not preferable.

磁性層4aに適した材料としては、例えば、90(Co14Cr18Pt)−10(SiO){Cr含有量14原子%、Pt含有量18原子%、残部Coからなる磁性粒子を1つの化合物として算出したモル濃度が90mol%、SiOからなる酸化物組成が10mol%}、92(Co10Cr16Pt)−8(SiO)、94(Co8Cr14Pt4Nb)−6(Cr)の他、(CoCrPt)−(Ta)、(CoCrPt)−(Cr)−(TiO)、(CoCrPt)−(Cr)−(SiO)、(CoCrPt)−(Cr)−(SiO)−(TiO)、(CoCrPtMo)−(TiO)、(CoCrPtW)−(TiO)、(CoCrPtB)−(Al)、(CoCrPtTaNd)−(MgO)、(CoCrPtBCu)−(Y)、(CoCrPtRu)−(SiO)などの組成物を挙げることができる。 As a material suitable for the magnetic layer 4a, for example, 90 (Co14Cr18Pt) -10 (SiO 2 ) {Cr content of 14 atomic%, Pt content of 18 atomic%, and the balance Co were calculated as one compound. Molar concentration is 90 mol%, oxide composition composed of SiO 2 is 10 mol%}, 92 (Co10Cr16Pt) -8 (SiO 2 ), 94 (Co8Cr14Pt4Nb) -6 (Cr 2 O 3 ), and (CoCrPt)-(Ta 2 O 5), (CoCrPt) - (Cr 2 O 3) - (TiO 2), (CoCrPt) - (Cr 2 O 3) - (SiO 2), (CoCrPt) - (Cr 2 O 3) - (SiO 2) - (TiO 2), (CoCrPtMo) - (TiO), (CoCrPtW) - (TiO 2), (CoCrPtB) - (Al 2 Examples thereof include compositions such as (O 3 ), (CoCrPtTaNd)-(MgO), (CoCrPtBCu)-(Y 2 O 3 ), (CoCrPtRu)-(SiO 2 ).

磁性層4bには、磁性層4aと同様の材料を用いることができるため、説明を省略するものとする。また、磁性層4bは、層中に磁性粒子(磁性を有した結晶粒子)42が分散していることが好ましい。この磁性粒子42は、図4に示すように、磁性層4a,4b、更には磁性層4cを上下に貫いた柱状構造を形成していることが好ましい。このような構造を形成することにより、磁性層4bの磁性粒子42の配向及び結晶性を良好なものとし、結果として高密度記録に適した信号/ノイズ比(S/N比)が得ることができる。   Since the magnetic layer 4b can be made of the same material as the magnetic layer 4a, the description thereof will be omitted. In the magnetic layer 4b, it is preferable that magnetic particles (crystal grains having magnetism) 42 are dispersed in the layer. As shown in FIG. 4, the magnetic particles 42 preferably have a columnar structure that vertically penetrates the magnetic layers 4a and 4b and further the magnetic layer 4c. By forming such a structure, the orientation and crystallinity of the magnetic particles 42 of the magnetic layer 4b are improved, and as a result, a signal / noise ratio (S / N ratio) suitable for high-density recording can be obtained. it can.

磁性層4cは、Coを主成分とするとともに酸化物を含まない材料から構成することが好ましく、図4に示すように、層中の磁性粒子42が磁性層4a中の磁性粒子42から柱状にエピタキシャル成長している構造であることが好ましい。この場合、磁性層4a〜4cの磁性粒子42が、各層において1対1に対応して、柱状にエピタキシャル成長することが好ましい。また、磁性層4bの磁性粒子42が磁性層4a中の磁性粒子42からエピタキシャル成長していることで、磁性層4bの磁性粒子42が微細化され、さらに結晶性及び配向性がより向上したものとなる。   The magnetic layer 4c is preferably made of a material that contains Co as a main component and does not contain an oxide. As shown in FIG. 4, the magnetic particles 42 in the layer form columnar shapes from the magnetic particles 42 in the magnetic layer 4a. The structure is preferably epitaxially grown. In this case, the magnetic particles 42 of the magnetic layers 4a to 4c are preferably epitaxially grown in a columnar shape in a one-to-one correspondence in each layer. Further, the magnetic particles 42 of the magnetic layer 4b are epitaxially grown from the magnetic particles 42 in the magnetic layer 4a, so that the magnetic particles 42 of the magnetic layer 4b are miniaturized and the crystallinity and orientation are further improved. Become.

磁性層4c中のCrの含有量は、10原子%以上24原子%以下であることが好ましい。Crの含有量を上記範囲とすることで、データの再生時における出力が十分確保でき、更に良好な熱揺らぎ特性を得ることができる。一方、Crの含有量が上記範囲を超える場合には、磁性層4cの磁化が小さくなり過ぎるため好ましくない。また、Cr含有量が上記範囲未満である場合には、磁性粒子42の分離及び微細化が十分に生じず、記録再生時のノイズが増大し、高密度記録に適した信号/ノイズ比(S/N比)が得られなくなるため好ましくない。   The content of Cr in the magnetic layer 4c is preferably 10 atomic percent or more and 24 atomic percent or less. By setting the Cr content in the above range, a sufficient output during data reproduction can be ensured, and even better thermal fluctuation characteristics can be obtained. On the other hand, when the content of Cr exceeds the above range, the magnetization of the magnetic layer 4c becomes too small, which is not preferable. When the Cr content is less than the above range, the magnetic particles 42 are not sufficiently separated and refined, noise during recording / reproduction increases, and a signal / noise ratio (S) suitable for high-density recording (S / N ratio) is not obtained.

また、磁性層4cは、Co、Crの他に、Ptを含んだ材料であってもよい。磁性層4c中のPtの含有量は、6原子%以上20原子%以下であることが好ましい。Ptの含有量が上記範囲にある場合には、高記録密度に適した十分な保磁力を得ることができ、更に記録再生時における高い再生出力を維持し、結果として高密度記録に適した記録再生特性および熱揺らぎ特性を得ることができる。   The magnetic layer 4c may be made of a material containing Pt in addition to Co and Cr. The content of Pt in the magnetic layer 4c is preferably 6 atom% or more and 20 atom% or less. When the Pt content is in the above range, a sufficient coercive force suitable for high recording density can be obtained, and a high reproduction output during recording and reproduction can be maintained, resulting in recording suitable for high density recording. Reproduction characteristics and thermal fluctuation characteristics can be obtained.

一方、Ptの含有量が上記範囲を超えた場合には、磁性層4c中にfcc構造の相が形成され、結晶性及び配向性が損なわれるおそれがあるため好ましくない。また、Ptの含有量が上記範囲未満である場合には、高密度記録に適した熱揺らぎ特性を得るための磁気異方性定数Kuが得られないため好ましくない。   On the other hand, when the content of Pt exceeds the above range, an fcc-structured phase is formed in the magnetic layer 4c, which is not preferable because the crystallinity and orientation may be impaired. On the other hand, if the Pt content is less than the above range, the magnetic anisotropy constant Ku for obtaining thermal fluctuation characteristics suitable for high-density recording cannot be obtained.

磁性層4cは、Co、Cr、Ptの他に、B、Ta、Mo、Cu、Nd、W、Nb、Sm、Tb、Ru、Re、Mnの中から選ばれる1種類以上の元素を含むことができる。上記元素を含むことにより、磁性粒子42の微細化を促進、又は結晶性や配向性を向上させることができ、より高密度記録に適した記録再生特性及び熱揺らぎ特性を得ることができる。   The magnetic layer 4c contains one or more elements selected from B, Ta, Mo, Cu, Nd, W, Nb, Sm, Tb, Ru, Re, and Mn in addition to Co, Cr, and Pt. Can do. By including the above elements, the miniaturization of the magnetic particles 42 can be promoted or crystallinity and orientation can be improved, and recording / reproduction characteristics and thermal fluctuation characteristics suitable for higher density recording can be obtained.

また、上記元素の合計の含有量は、16原子%以下であることが好ましい。一方、16原子%を超えた場合には、磁性粒子42中にhcp相以外の相が形成されるため、磁性粒子42の結晶性及び配向性が乱れ、結果として高密度記録に適した記録再生特性、熱揺らぎ特性が得られないため好ましくない。   The total content of the above elements is preferably 16 atomic% or less. On the other hand, when the content exceeds 16 atomic%, a phase other than the hcp phase is formed in the magnetic particles 42, so that the crystallinity and orientation of the magnetic particles 42 are disturbed. As a result, recording / reproduction suitable for high-density recording It is not preferable because characteristics and thermal fluctuation characteristics cannot be obtained.

磁性層4cに適した材料としては、特に、CoCrPt系、CoCrPtB系を挙げることできる。CoCrPtB系の場合、CrとBの合計の含有量は、18原子%以上28原子%以下であることが好ましい。   Examples of suitable materials for the magnetic layer 4c include CoCrPt and CoCrPtB. In the case of the CoCrPtB system, the total content of Cr and B is preferably 18 atom% or more and 28 atom% or less.

磁性層4cに適した材料としては、例えば、CoCrPt系では、Co14〜24Cr8〜22Pt{Cr含有量14〜24原子%、Pt含有量8〜22原子%、残部Co}、CoCrPtB系では、Co10〜24Cr8〜22Pt0〜16B{Cr含有量10〜24原子%、Pt含有量8〜22原子%、B含有量0〜16原子%、残部Co}が好ましい。その他の系でも、CoCrPtTa系では、Co10〜24Cr8〜22Pt1〜5Ta{Cr含有量10〜24原子%、Pt含有量8〜22原子%、Ta含有量1〜5原子%、残部Co}、CoCrPtTaB系では、Co10〜24Cr8〜22Pt1〜5Ta1〜10B{Cr含有量10〜24原子%、Pt含有量8〜22原子%、Ta含有量1〜5原子%、B含有量1〜10原子%、残部Co}の他にも、CoCrPtBNd系、CoCrPtTaNd系、CoCrPtNb系、CoCrPtBW系、CoCrPtMo系、CoCrPtCuRu系、CoCrPtRe系などの材料を挙げることができる。   Suitable materials for the magnetic layer 4c include, for example, Co14-24Cr8-22Pt {Cr content 14-24 atomic%, Pt content 8-22 atomic%, balance Co} in CoCrPt series, Co10 in CoCrPtB series. 24Cr8-22Pt0-16B {Cr content 10-24 atom%, Pt content 8-22 atom%, B content 0-16 atom%, balance Co} is preferred. In other systems, in CoCrPtTa system, Co10-24Cr8-22Pt1-5Ta {Cr content 10-24 atom%, Pt content 8-22 atom%, Ta content 1-5 atom%, balance Co}, CoCrPtTaB system Then, Co10-24Cr8-22Pt1-5Ta1-10B {Cr content 10-24 atomic%, Pt content 8-22 atomic%, Ta content 1-5 atomic%, B content 1-10 atomic%, balance Co }, Other materials such as CoCrPtBNd, CoCrPtTaNd, CoCrPtNb, CoCrPtBW, CoCrPtMo, CoCrPtCuRu, and CoCrPtRe may be used.

垂直磁性層4の垂直保磁力(Hc)は、3000[Oe]以上とすることが好ましい。保磁力が3000[Oe]未満である場合には、記録再生特性、特に周波数特性が不良となり、また、熱揺らぎ特性も悪くなるため、高密度記録媒体として好ましくない。   The perpendicular coercive force (Hc) of the perpendicular magnetic layer 4 is preferably 3000 [Oe] or more. When the coercive force is less than 3000 [Oe], the recording / reproducing characteristics, particularly the frequency characteristics, are deteriorated, and the thermal fluctuation characteristics are also deteriorated, which is not preferable as a high-density recording medium.

垂直磁性層4の逆磁区核形成磁界(−Hn)は、1500[Oe]以上であることが好ましい。逆磁区核形成磁界(−Hn)が1500[Oe]未満である場合には、熱揺らぎ耐性に劣るため好ましくない。   The reverse magnetic domain nucleation magnetic field (-Hn) of the perpendicular magnetic layer 4 is preferably 1500 [Oe] or more. When the reverse domain nucleation magnetic field (-Hn) is less than 1500 [Oe], the thermal fluctuation resistance is poor, which is not preferable.

垂直磁性層4は、磁性粒子の平均粒径が3〜12nmであることが好ましい。この平均粒径は、例えば垂直磁性層4をTEM(透過型電子顕微鏡)で観察し、観察像を画像処理することにより求めることができる。   The perpendicular magnetic layer 4 preferably has an average particle diameter of magnetic particles of 3 to 12 nm. This average particle diameter can be obtained, for example, by observing the perpendicular magnetic layer 4 with a TEM (transmission electron microscope) and image-processing the observed image.

垂直磁性層4の厚みは、5〜20nmとすることが好ましい。垂直磁性層4の厚みが上記未満であると、十分な再生出力が得られず、熱揺らぎ特性も低下する。また、垂直磁性層4の厚さが上記範囲を超えた場合には、垂直磁性層4中の磁性粒子の肥大化が生じ、記録再生時におけるノイズが増大し、信号/ノイズ比(S/N比)や記録特性(OW)に代表される記録再生特性が悪化するため好ましくない。   The thickness of the perpendicular magnetic layer 4 is preferably 5 to 20 nm. If the thickness of the perpendicular magnetic layer 4 is less than the above, sufficient reproduction output cannot be obtained, and the thermal fluctuation characteristics also deteriorate. When the thickness of the perpendicular magnetic layer 4 exceeds the above range, the magnetic particles in the perpendicular magnetic layer 4 are enlarged, increasing noise during recording and reproduction, and a signal / noise ratio (S / N). Ratio) and recording / reproducing characteristics represented by recording characteristics (OW) are not preferable.

保護層5は、垂直磁性層4の腐食を防ぐとともに、磁気ヘッドが媒体に接触したときに媒体表面の損傷を防ぐためのもので、従来公知の材料を使用することができ、例えばC、SiO、ZrOを含むものを使用することが可能である。保護層5の厚みは、1〜10nmとすることがヘッドと媒体の距離を小さくできるので高記録密度の点から好ましい。 The protective layer 5 is for preventing corrosion of the perpendicular magnetic layer 4 and preventing damage to the surface of the medium when the magnetic head comes into contact with the medium, and a conventionally known material can be used, for example, C, SiO 2 and those containing ZrO 2 can be used. The thickness of the protective layer 5 is preferably 1 to 10 nm from the viewpoint of high recording density because the distance between the head and the medium can be reduced.

潤滑層6には、例えば、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などの潤滑剤を用いることが好ましい。   For the lubricating layer 6, it is preferable to use a lubricant such as perfluoropolyether, fluorinated alcohol, fluorinated carboxylic acid, or the like.

本発明では、非磁性基板1側の磁性層をグラニュラー構造の磁性層とし、保護層5側の磁性層を、酸化物を含まない非グラニュラー構造の磁性層とすることが好ましい。このような構成とすることにより、磁気記録媒体の熱揺らぎ特性、記録特性(OW)、S/N比等の各特性の制御・調整をより容易に行うことが可能となる。   In the present invention, the magnetic layer on the nonmagnetic substrate 1 side is preferably a granular magnetic layer, and the magnetic layer on the protective layer 5 side is preferably a non-granular magnetic layer containing no oxide. With this configuration, it is possible to more easily control and adjust each characteristic such as the thermal fluctuation characteristic, recording characteristic (OW), and S / N ratio of the magnetic recording medium.

また、本発明では、上記垂直磁性層4を4層以上の磁性層で構成することも可能である。例えば、上記磁性層4a,4bに加えて、グラニュラー構造の磁性層を3層で構成し、その上に、酸化物を含まない磁性層4cを設けた構成とし、また、酸化物を含まない磁性層4cを2層構造として、磁性層4a,4bの上に設けた構成とすることができる。   In the present invention, the perpendicular magnetic layer 4 can be composed of four or more magnetic layers. For example, in addition to the magnetic layers 4a and 4b, a magnetic layer having a granular structure is composed of three layers, and a magnetic layer 4c not containing an oxide is provided thereon, and a magnetic layer not containing an oxide is also provided. The layer 4c may have a two-layer structure and be provided on the magnetic layers 4a and 4b.

また、本発明では、垂直磁性層4を構成する3層以上の磁性層間に非磁性層7(図5では符号7a,7bで示す。)を設けることが好ましい。非磁性層7を適度な厚みで設けることで、個々の膜の磁化反転が容易になり、磁性粒子全体の磁化反転の分散を小さくすることができる。その結果S/N比をより向上させることが可能である。   In the present invention, it is preferable to provide a nonmagnetic layer 7 (indicated by reference numerals 7a and 7b in FIG. 5) between three or more magnetic layers constituting the perpendicular magnetic layer 4. By providing the nonmagnetic layer 7 with an appropriate thickness, magnetization reversal of individual films can be facilitated, and dispersion of magnetization reversal of the entire magnetic particles can be reduced. As a result, the S / N ratio can be further improved.

垂直磁性層4を構成する磁性層間に設ける非磁性層7としては、hcp構造を有する材料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、Ru、Ru合金、CoCr合金、CoCrX1合金(X1は、Pt、Ta、Zr、Re,Ru、Cu、Nb、Ni、Mn、Ge、Si、O、N、W、Mo、Ti、V、Zr、Bの中から選ばれる少なくとも1種又は2種以上の元素を表す。)などを好適に用いることができる。   As the nonmagnetic layer 7 provided between the magnetic layers constituting the perpendicular magnetic layer 4, it is preferable to use a material having an hcp structure. Specifically, for example, Ru, Ru alloy, CoCr alloy, CoCrX1 alloy (X1 is Pt, Ta, Zr, Re, Ru, Cu, Nb, Ni, Mn, Ge, Si, O, N, W, Mo, Mo. , Ti, V, Zr, or B represents at least one element or two or more elements).

垂直磁性層4を構成する磁性層間に設ける非磁性層7として、CoCr系合金を用いる場合には、Coの含有量は、30〜80原子%の範囲であることが好ましい。この範囲であれば、磁性層間のカップリングを小さく調整することが可能であるからである。   When a CoCr-based alloy is used as the nonmagnetic layer 7 provided between the magnetic layers constituting the perpendicular magnetic layer 4, the Co content is preferably in the range of 30 to 80 atomic%. This is because within this range, the coupling between the magnetic layers can be adjusted to be small.

また、垂直磁性層4を構成する磁性層間に設ける非磁性層7として、hcp構造を有する合金として、Ru以外では、例えばRu、Re、Ti、Y、Hf、Znなどの合金も用いることができる。   Further, as the nonmagnetic layer 7 provided between the magnetic layers constituting the perpendicular magnetic layer 4, as an alloy having an hcp structure, an alloy such as Ru, Re, Ti, Y, Hf, Zn, or the like can be used other than Ru. .

また、垂直磁性層4を構成する磁性層間に設ける非磁性層7として、その上下の磁性層の結晶性や配向性を損ねない範囲で、他の構造をとる金属や合金などを使用することもできる。具体的には、例えば、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Ir、Mo、W、Ta、Nb、V、Bi、Sn、Si、Al、C、B、Cr又はそれらの合金を用いることができる。特に、Cr合金としては、CrX2(X2は、Ti、W、Mo、Nb、Ta、Si、Al、B、C、Zrの中から選ばれる少なくとも1種又は2種以上の元素を表す。)などを好適に用いることが可能である。この場合のCrの含有量は60原子%以上とすることが好ましい。   Further, as the nonmagnetic layer 7 provided between the magnetic layers constituting the perpendicular magnetic layer 4, metals or alloys having other structures may be used as long as the crystallinity and orientation of the upper and lower magnetic layers are not impaired. it can. Specifically, for example, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Ir, Mo, W, Ta, Nb, V, Bi, Sn, Si, Al, C, B, Cr, or an alloy thereof is used. it can. In particular, as a Cr alloy, CrX2 (X2 represents at least one element selected from Ti, W, Mo, Nb, Ta, Si, Al, B, C, and Zr) or the like. Can be suitably used. In this case, the Cr content is preferably 60 atomic% or more.

また、垂直磁性層4を構成する磁性層間に設ける非磁性層7としては、上記合金の金属粒子が酸化物、金属窒化物、又は金属炭化物中に分散した構造のものを用いることが好ましい。さらに、この金属粒子が非磁性層7を上下に貫いた柱状構造を有することがより好ましい。このような構造とするためには、酸化物、金属窒化物、又は金属炭化物を含んだ合金材料を使用することが好ましい。具体的には、酸化物として、例えば、SiO、Al、Ta、Cr、MgO、Y、TiOなど、金属窒化物として、例えば、AlN、Si、TaN、CrNなど、金属炭化物として、例えば、TaC、BC、SiCなどをそれぞれ用いることができる。さらに、例えば、CoCr−SiO、CoCr−TiO、CoCr−Cr、CoCrPt−Ta、Ru−SiO、Ru−Si、Pd−TaCなどを用いることができる。 As the nonmagnetic layer 7 provided between the magnetic layers constituting the perpendicular magnetic layer 4, it is preferable to use a layer having a structure in which metal particles of the above alloy are dispersed in an oxide, a metal nitride, or a metal carbide. Further, it is more preferable that the metal particles have a columnar structure penetrating the nonmagnetic layer 7 vertically. In order to obtain such a structure, it is preferable to use an alloy material containing an oxide, a metal nitride, or a metal carbide. Specifically, as the oxide, for example, SiO 2 , Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , Cr 2 O 3 , MgO, Y 2 O 3 , TiO 2, etc. As the metal nitride, for example, AlN, Si For example, TaC, BC, SiC, or the like can be used as the metal carbide such as 3 N 4 , TaN, or CrN. Further, for example, CoCr—SiO 2 , CoCr—TiO 2 , CoCr—Cr 2 O 3 , CoCrPt—Ta 2 O 5 , Ru—SiO 2 , Ru—Si 3 N 4 , Pd—TaC, and the like can be used.

垂直磁性層4を構成する磁性層間に設ける非磁性層7中の酸化物、金属窒化物、又は金属炭化物の含有量としては、垂直磁性膜の結晶成長や結晶配向を損なわない含有量であることが好ましい。また、酸化物、金属窒化物、又は金属炭化物の含有量としては、合金に対して、4mol%以上30mol%以下であることが好ましい。   The content of the oxide, metal nitride, or metal carbide in the nonmagnetic layer 7 provided between the magnetic layers constituting the perpendicular magnetic layer 4 is a content that does not impair the crystal growth and crystal orientation of the perpendicular magnetic film. Is preferred. In addition, the content of oxide, metal nitride, or metal carbide is preferably 4 mol% or more and 30 mol% or less with respect to the alloy.

この非磁性層7中の酸化物、金属窒化物、又は金属炭化物の含有量が上記範囲を超える場合には、金属粒子中に酸化物、金属窒化物、又は金属炭化物が残留し、金属粒子の結晶性や配向性を損ねるほか、金属粒子の上下にも酸化物、金属窒化物、又は金属炭化物が析出してしまい、金属粒子が非磁性層7を上下に貫く柱状構造となりにくくなり、この非磁性層7の上に形成された磁性層の結晶性や配向性を損ねるおそれがあるため好ましくない。一方、この非磁性層7中の酸化物、金属窒化物、又は金属炭化物の含有量が上記範囲未満である場合には、酸化物、金属窒化物、又は金属炭化物の添加による効果が得られないため好ましくない。   When the content of the oxide, metal nitride, or metal carbide in the nonmagnetic layer 7 exceeds the above range, the oxide, metal nitride, or metal carbide remains in the metal particle, and the metal particle In addition to impairing crystallinity and orientation, oxides, metal nitrides, or metal carbides are also deposited on the top and bottom of the metal particles, making it difficult for the metal particles to have a columnar structure that vertically penetrates the nonmagnetic layer 7. This is not preferable because the crystallinity and orientation of the magnetic layer formed on the magnetic layer 7 may be impaired. On the other hand, when the content of the oxide, metal nitride, or metal carbide in the nonmagnetic layer 7 is less than the above range, the effect of adding the oxide, metal nitride, or metal carbide cannot be obtained. Therefore, it is not preferable.

(磁気記録再生装置)
図5は、本発明を適用した磁気記録再生装置の一例を示すものである。
この磁気記録再生装置は、上記図3に示す構成を有する垂直磁気記録媒体50と、垂直磁気記録媒体50を回転駆動させる媒体駆動部51と、垂直磁気記録媒体50に情報を記録再生する磁気ヘッド52と、この磁気ヘッド52を垂直磁気記録媒体50に対して相対運動させるヘッド駆動部53と、記録再生信号処理系54とを備えている。また、記録再生信号処理系54は、外部から入力されたデータを処理して記録信号を磁気ヘッド52に送り、磁気ヘッド52からの再生信号を処理してデータを外部に送ることが可能となっている。
(Magnetic recording / reproducing device)
FIG. 5 shows an example of a magnetic recording / reproducing apparatus to which the present invention is applied.
This magnetic recording / reproducing apparatus includes a perpendicular magnetic recording medium 50 having the configuration shown in FIG. 3, a medium driving unit 51 that rotationally drives the perpendicular magnetic recording medium 50, and a magnetic head that records and reproduces information on the perpendicular magnetic recording medium 50. 52, a head drive unit 53 that moves the magnetic head 52 relative to the perpendicular magnetic recording medium 50, and a recording / reproducing signal processing system 54. Further, the recording / reproducing signal processing system 54 can process data input from the outside and send a recording signal to the magnetic head 52, process a reproducing signal from the magnetic head 52, and send the data to the outside. ing.

本発明を適用した磁気記録再生装置では、上記垂直磁気記録媒体の更なる高記録密度化という要望に応えるべく、磁気ヘッド52に垂直磁性層5に対する書き込み能力に優れた単磁極ヘッドを用いることが好ましい。そして、上記垂直磁気記録媒体50では、このような単磁極ヘッドに対応するために、非磁性基板1と垂直磁性層4との間に軟磁性裏打ち層2を設けて、単磁極ヘッドと垂直磁性層4との間の磁束の出入りの効率向上を図ることができる。   In the magnetic recording / reproducing apparatus to which the present invention is applied, in order to meet the demand for further increasing the recording density of the perpendicular magnetic recording medium, a single pole head having excellent writing ability for the perpendicular magnetic layer 5 is used as the magnetic head 52. preferable. In the perpendicular magnetic recording medium 50, the soft magnetic backing layer 2 is provided between the nonmagnetic substrate 1 and the perpendicular magnetic layer 4 so as to correspond to such a single magnetic pole head, and the perpendicular magnetic recording medium 50 is perpendicular to the single magnetic pole head. The efficiency of entering and exiting the magnetic flux with the layer 4 can be improved.

また、磁気記録再生装置では、再生素子として巨大磁気抵抗効果(GMR)を利用したGMR素子などを有した、より高記録密度に適した磁気ヘッド52を用いることができる。   In the magnetic recording / reproducing apparatus, a magnetic head 52 having a GMR element using a giant magnetoresistive effect (GMR) as a reproducing element and suitable for higher recording density can be used.

上記磁気記録再生装置によれば、上記磁気記録媒体50に本発明を適用した磁気記録媒体を採用することで、磁性粒子の微細化と磁気的な孤立化が促進され、再生時におけるS/N比を大幅に向上することができ、また熱揺らぎ特性も向上させることができ、さらに優れた記録特性(OW)を有した媒体を得ることができ、このため高密度記録に適した優れた磁気記録再生装置とすることができる。   According to the magnetic recording / reproducing apparatus, by adopting the magnetic recording medium to which the present invention is applied as the magnetic recording medium 50, miniaturization of magnetic particles and magnetic isolation are promoted, and the S / N during reproduction is increased. Ratio can be greatly improved, thermal fluctuation characteristics can be improved, and a medium having excellent recording characteristics (OW) can be obtained. A recording / reproducing apparatus can be obtained.

以下、実施例により本発明の効果をより明らかなものとする。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することができる。   Hereinafter, the effects of the present invention will be made clearer by examples. In addition, this invention is not limited to a following example, In the range which does not change the summary, it can change suitably and can implement.

Figure 2013125554
Figure 2013125554

(実施例1)
実施例1では、先ず、洗浄済みのガラス基板(コニカミノルタ社製、外形2.5インチ)を、DCマグネトロンスパッタ装置(アネルバ社製C−3040)の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度1×10−5Paとなるまで成膜チャンバ内を減圧排気した後、このガラス基板の上に、Crターゲットを用いて、層厚10nmの密着層を成膜した。また、この密着層の上に、基板温度を100℃以下とし、Co−20Fe−5Zr−5Ta{Fe含有量20原子%、Zr含有量5原子%、Ta含有量5原子%、残部Co}のターゲットを用いて、層厚25nmの軟磁性層を成膜し、この上に層厚0.7nmのRu層を成膜した後、再びCo−20Fe−5Zr−5Taのターゲットを用いて、層厚25nmの軟磁性層を成膜して、これを軟磁性裏打ち層とした。
Example 1
In Example 1, first, a cleaned glass substrate (manufactured by Konica Minolta Co., Ltd., 2.5 inch outer diameter) is accommodated in a film forming chamber of a DC magnetron sputtering apparatus (C-3040 made by Anelva Co., Ltd.), and an ultimate vacuum After the inside of the film formation chamber was evacuated to a pressure of 1 × 10 −5 Pa, an adhesion layer having a thickness of 10 nm was formed on the glass substrate using a Cr target. Further, on this adhesion layer, the substrate temperature is set to 100 ° C. or less, and Co-20Fe-5Zr-5Ta {Fe content 20 atomic%, Zr content 5 atomic%, Ta content 5 atomic%, and the balance Co}. A soft magnetic layer having a layer thickness of 25 nm was formed using a target, a Ru layer having a layer thickness of 0.7 nm was formed thereon, and then a Co-20Fe-5Zr-5Ta target was used again to form a layer thickness. A 25 nm soft magnetic layer was formed and used as a soft magnetic backing layer.

次に、軟磁性裏打ち層の上に、56Al−44Si共晶ターゲットを用いて、スパッタ圧力0.5Paとして層厚5nmのシード層を形成した。次いで、AlSi薄膜の表面を、CFガスを40sccm、反応容器内の圧力を0.5Pa、RFパワーを200W、基板バイアスを15Wとして、10秒間ドライエッチングを行った。 Next, a seed layer having a layer thickness of 5 nm was formed on the soft magnetic underlayer using a 56Al-44Si eutectic target at a sputtering pressure of 0.5 Pa. Next, dry etching was performed on the surface of the AlSi thin film with CF 4 gas at 40 sccm, the pressure in the reaction vessel at 0.5 Pa, the RF power at 200 W, and the substrate bias at 15 W for 10 seconds.

次に、Ruターゲットを用いて、層厚20nmの配向制御層を成膜した。なお、配向制御層を成膜する際は、スパッタ圧力を0.8Paとして層厚10nmのRuを成膜した後、スパッタ圧力を1.5Paとして層厚10nmのRuを成膜した。   Next, an alignment control layer having a layer thickness of 20 nm was formed using a Ru target. When forming the orientation control layer, Ru having a layer thickness of 10 nm was formed with a sputtering pressure of 0.8 Pa, and then Ru having a layer thickness of 10 nm was formed with a sputtering pressure of 1.5 Pa.

次に、配向制御層の上に、91(Co15Cr16Pt)−6(SiO)−3(TiO){Cr含有量15原子%、Pt含有量18原子%、残部Coの合金を91mol%、SiOからなる酸化物を6mol%、TiOからなる酸化物を3mol%}のターゲットを用いて、層厚9nmの磁性層を成膜した。なお、このときのスパッタ圧力は2Paとした。 Next, on the orientation control layer, 91 (Co15Cr16Pt) -6 (SiO 2 ) -3 (TiO 2 ) {Cr content of 15 atomic%, Pt content of 18 atomic%, and the remaining Co alloy of 91 mol%, SiO the oxide of 2 6 mol%, the oxide of TiO 2 by using a target of 3 mol%}, was formed a magnetic layer having a thickness of 9 nm. The sputtering pressure at this time was 2 Pa.

次に、磁性層の上に、92(Co11Cr18Pt)−5(SiO)−3(TiO){Cr含有量11原子%、Pt含有量18原子%、残部Coの合金を92mol%、SiOからなる酸化物を5mol%、TiOからなる酸化物を3mol%}のターゲットを用いて、層厚6nmの磁性層を成膜した。なお、このときのスパッタ圧力は2Paとした。 Next, on the magnetic layer, 92 (Co11Cr18Pt) -5 (SiO 2 ) -3 (TiO 2 ) {Cr content of 11 atomic%, Pt content of 18 atomic%, and the balance Co of 92 mol%, SiO 2 A magnetic layer having a thickness of 6 nm was formed using a target of 5 mol% of an oxide composed of 3 mol% and 3 mol% of an oxide composed of TiO 2 . The sputtering pressure at this time was 2 Pa.

この段階で、グラニュラー構造を有する磁性層の平面TEM観察を行い、その磁性粒子の平均粒径<D>[nm]、及び、この平均粒径で規格化した粒径分散σ/<D>[%]を測定した。なおCo20Cr14Pt3Bの磁性層を形成する前に測定を行うのは、磁性粒子の平均粒径を評価し易くするためである。   At this stage, planar TEM observation of the magnetic layer having a granular structure is performed, and the average particle size <D> [nm] of the magnetic particles and the particle size dispersion σ / <D> [ %] Was measured. The measurement is performed before the Co20Cr14Pt3B magnetic layer is formed in order to facilitate evaluation of the average particle diameter of the magnetic particles.

その結果、実施例1では、表1に示すように、<D>は5.5nm、σ/<D>は7.2%であった。   As a result, in Example 1, as shown in Table 1, <D> was 5.5 nm and σ / <D> was 7.2%.

次に、磁性層の上に、Co20Cr14Pt3B{Cr含有量20原子%、Pt含有量14原子%、B含有量3原子%、残部Co}のターゲットを用いて、層厚7nmの磁性層を成膜した。なお、このときのスパッタ圧力は0.6Paとした。   Next, a magnetic layer having a thickness of 7 nm is formed on the magnetic layer using a target of Co20Cr14Pt3B {Cr content 20 atomic%, Pt content 14 atomic%, B content 3 atomic%, balance Co}. did. The sputtering pressure at this time was 0.6 Pa.

次に、磁性層の上に、CVD法により層厚3.0nmの保護層を成膜し、次いで、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑膜を1nm形成することによって、実施例1の磁気記録媒体を得た。   Next, a protective layer having a thickness of 3.0 nm is formed on the magnetic layer by a CVD method, and then a 1 nm thick lubricating film made of perfluoropolyether is formed by a dipping method. A recording medium was obtained.

そして、実施例1の磁気記録媒体について、保磁力分散「ΔHc/Hc」、「SNR[dB]」、オーバーライト特性「OW[dB]」、ビットエラーレート「BER」を測定し、記録再生特性の評価を行った。   For the magnetic recording medium of Example 1, the coercive force dispersion “ΔHc / Hc”, “SNR [dB]”, the overwrite characteristic “OW [dB]”, and the bit error rate “BER” were measured, and the recording / reproduction characteristics were measured. Was evaluated.

なお、SNR、OW、BERの測定については、米国Guzik社製リードライトアナライザ1632及びスピンスタンドS1701MPを用いた。
そして、SNRについては、線記録密度750kFCIでの出力をS、線記録密度1500kFCIでのrms(root mean square)値)をNとして、出力対ノイズ比を算出した。
一方、OWについては、線記録密度750kFCIの信号を記録した後、線記録密度100kFCIの信号を上書きした前後の750kFCIの信号の再生出力比(減衰率)として算出した。
一方、BERについては、同様に線記録密度1500kFCIで信号を記録したときの「−log(エラービット数/総ビット数)」で算出した。
For the measurement of SNR, OW, and BER, a read / write analyzer 1632 and spin stand S1701MP manufactured by Guzik, USA were used.
For the SNR, the output-to-noise ratio was calculated with S as the output at a linear recording density of 750 kFCI and N as the rms (root mean square) value at a linear recording density of 1500 kFCI.
On the other hand, OW was calculated as a reproduction output ratio (attenuation rate) of a 750 kFCI signal before and after overwriting a signal with a linear recording density of 100 kFCI after recording a signal with a linear recording density of 750 kFCI.
On the other hand, BER was similarly calculated by “−log (number of error bits / total number of bits)” when a signal was recorded at a linear recording density of 1500 kFCI.

その結果、実施例1では、上記表1に示すように、ΔHc/Hcは0.067、SNRは20.7dB、OWは35.1dB、BERは5.81であった。   As a result, in Example 1, as shown in Table 1 above, ΔHc / Hc was 0.067, SNR was 20.7 dB, OW was 35.1 dB, and BER was 5.81.

(実施例2〜16)
実施例2〜16では、共晶ターゲットを用いたシード層の組成を上記表1に示す材料とし、同様にエッチングガスを上記表1とした以外は、実施例1と同様にグラニュラー磁性層までを成膜した。
(Examples 2 to 16)
In Examples 2 to 16, the composition of the seed layer using the eutectic target was the material shown in Table 1 above, and the etching gas was changed to Table 1 in the same manner as in Example 1 up to the granular magnetic layer. A film was formed.

そして、実施例1〜16について、作製したグラニュラー磁性層の平面TEM観察を行い、その磁性粒子の平均粒径<D>、及び、この平均粒径で規格化した粒径分散σ/<D>を測定した。   And about Examples 1-16, the planar TEM observation of the produced granular magnetic layer was performed, the average particle diameter <D> of the magnetic particle, and the particle size dispersion | distribution (sigma) / <D> normalized with this average particle diameter Was measured.

その結果、上記表1に示すように、実施例1〜16のうち、実施例1の56Al44Si共晶合金の平均粒径<D>が5.5nmと最も小さい値となった。   As a result, as shown in Table 1 above, among Examples 1 to 16, the average particle diameter <D> of the 56Al44Si eutectic alloy of Example 1 was the smallest value of 5.5 nm.

また、実施例2〜16の「ΔHc/Hc」、「SNR」、「OW」、「BER」の各評価結果を上記表1に示す。   In addition, Table 1 shows the evaluation results of “ΔHc / Hc”, “SNR”, “OW”, and “BER” of Examples 2 to 16.

(比較例1)
比較例1では、実施例1と同様に、洗浄済みのガラス基板(コニカミノルタ社製、外形2.5インチ)を、DCマグネトロンスパッタ装置(アネルバ社製C−3040)の成膜チャンバ内に収容して、到達真空度1×10−5Paとなるまで成膜チャンバ内を減圧排気した後、このガラス基板の上に、Crターゲットを用いて、層厚10nmの密着層を成膜した。また、この密着層の上に、基板温度を100℃以下とし、Co−20Fe−5Zr−5Ta{Fe含有量20原子%、Zr含有量5原子%、Ta含有量5原子%、残部Co}のターゲットを用いて、層厚25nmの軟磁性層を成膜し、この上に層厚0.7nmのRu層を成膜した後、再びCo−20Fe−5Zr−5Taのターゲットを用いて、層厚25nmの軟磁性層を成膜して、これを軟磁性裏打ち層とした。
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, as in Example 1, a cleaned glass substrate (manufactured by Konica Minolta, 2.5 inch outer diameter) is accommodated in a film forming chamber of a DC magnetron sputtering apparatus (C-3040, manufactured by Anelva). Then, after the inside of the film formation chamber was evacuated under reduced pressure until the ultimate vacuum reached 1 × 10 −5 Pa, an adhesion layer having a thickness of 10 nm was formed on the glass substrate using a Cr target. Further, on this adhesion layer, the substrate temperature is set to 100 ° C. or less, and Co-20Fe-5Zr-5Ta {Fe content 20 atomic%, Zr content 5 atomic%, Ta content 5 atomic%, and the balance Co}. A soft magnetic layer having a layer thickness of 25 nm was formed using a target, a Ru layer having a layer thickness of 0.7 nm was formed thereon, and then a Co-20Fe-5Zr-5Ta target was used again to form a layer thickness. A 25 nm soft magnetic layer was formed and used as a soft magnetic backing layer.

次に、軟磁性裏打ち層の上に、92Al−8Si共晶ターゲットを用いて、スパッタ圧力0.5Paとして層厚5nmのシード層を形成した。次いで、AlSi薄膜の表面を、CFガスを40sccm、反応容器内の圧力を0.5Pa、RFパワーを300W、基板バイアスを40Wとして、20秒間ドライエッチングを行った。このとき、実施例1〜16の凸部とは違い、凹部を有する微結晶膜が形成された。 Next, a seed layer having a layer thickness of 5 nm was formed on the soft magnetic underlayer using a 92Al-8Si eutectic target at a sputtering pressure of 0.5 Pa. Next, the surface of the AlSi thin film was dry-etched for 20 seconds at a CF 4 gas of 40 sccm, a pressure in the reaction vessel of 0.5 Pa, an RF power of 300 W, and a substrate bias of 40 W. At this time, unlike the convex portions of Examples 1 to 16, a microcrystalline film having a concave portion was formed.

次に、Ruターゲットを用いて、層厚20nmの配向制御層を成膜した。なお、配向制御層を成膜する際は、スパッタ圧力を0.8Paとして層厚10nmのRuを成膜した後、スパッタ圧力を1.5Paとして層厚10nmのRuを成膜した。   Next, an alignment control layer having a layer thickness of 20 nm was formed using a Ru target. When forming the orientation control layer, Ru having a layer thickness of 10 nm was formed with a sputtering pressure of 0.8 Pa, and then Ru having a layer thickness of 10 nm was formed with a sputtering pressure of 1.5 Pa.

次に、Ruターゲットを用いて、層厚20nmの配向制御層を成膜した。なお、配向制御層を成膜する際は、スパッタ圧力を0.8Paとして層厚10nmのRuを成膜した後、スパッタ圧力を1.5Paとして層厚10nmのRuを成膜した。   Next, an alignment control layer having a layer thickness of 20 nm was formed using a Ru target. When forming the orientation control layer, Ru having a layer thickness of 10 nm was formed with a sputtering pressure of 0.8 Pa, and then Ru having a layer thickness of 10 nm was formed with a sputtering pressure of 1.5 Pa.

次に、配向制御層の上に、91(Co15Cr16Pt)−6(SiO)−3(TiO){Cr含有量15原子%、Pt含有量18原子%、残部Coの合金を91mol%、SiO2からなる酸化物を6mol%、TiOからなる酸化物を3mol%}のターゲットを用いて、層厚9nmの磁性層を成膜した。なお、このときのスパッタ圧力は2Paとした。 Next, on the orientation control layer, 91 (Co15Cr16Pt) -6 (SiO 2 ) -3 (TiO 2 ) {Cr content of 15 atomic%, Pt content of 18 atomic%, and the remaining Co alloy of 91 mol%, SiO 2 A magnetic layer having a thickness of 9 nm was formed using a target of 6 mol% of an oxide made of 3 mol% and 3 mol% of an oxide made of TiO 2 . The sputtering pressure at this time was 2 Pa.

次に、磁性層の上に、92(Co11Cr18Pt)−5(SiO)−3(TiO){Cr含有量11原子%、Pt含有量18原子%、残部Coの合金を92mol%、SiOからなる酸化物を5mol%、TiOからなる酸化物を3mol%}のターゲットを用いて、層厚6nmの磁性層を成膜した。なお、このときのスパッタ圧力は2Paとした。 Next, on the magnetic layer, 92 (Co11Cr18Pt) -5 (SiO 2 ) -3 (TiO 2 ) {Cr content of 11 atomic%, Pt content of 18 atomic%, and the balance Co of 92 mol%, SiO 2 A magnetic layer having a thickness of 6 nm was formed using a target of 5 mol% of an oxide composed of 3 mol% and 3 mol% of an oxide composed of TiO 2 . The sputtering pressure at this time was 2 Pa.

この段階で、グラニュラー構造を有する磁性層の平面TEM観察を行った。その結果、比較例1では、上記表1に示すように、<D>は9.3nm、σ/<D>は16.4%であり、実施例1に比べて、磁性粒子間の境界層が薄く、粒子の分離が十分になされていないことを確認した。   At this stage, planar TEM observation of the magnetic layer having a granular structure was performed. As a result, in Comparative Example 1, as shown in Table 1 above, <D> is 9.3 nm and σ / <D> is 16.4%, which is a boundary layer between magnetic particles as compared with Example 1. Was thin, and it was confirmed that the particles were not sufficiently separated.

次に、磁性層の上に、Co20Cr14Pt3B{Cr含有量20原子%、Pt含有量14原子%、B含有量3原子%、残部Co}のターゲットを用いて、層厚7nmの磁性層を成膜した。なお、このときのスパッタ圧力は0.6Paとした。   Next, a magnetic layer having a thickness of 7 nm is formed on the magnetic layer using a target of Co20Cr14Pt3B {Cr content 20 atomic%, Pt content 14 atomic%, B content 3 atomic%, balance Co}. did. The sputtering pressure at this time was 0.6 Pa.

次に、磁性層の上に、CVD法により層厚3.0nmの保護層を成膜し、次いで、ディッピング法によりパーフルオロポリエーテルからなる潤滑膜を1nm形成することによって、比較例1の磁気記録媒体を得た。   Next, a protective layer having a thickness of 3.0 nm is formed on the magnetic layer by a CVD method, and then a 1 nm thick lubricating film made of perfluoropolyether is formed by a dipping method. A recording medium was obtained.

そして、比較例1の磁気記録媒体について、実施例1と同様に記録再生特性の評価を行ったところ、ΔHc/Hcが0.164、SNRが17.1dB、OWが38.8dB、BERが3.10であった。   When the recording / reproduction characteristics of the magnetic recording medium of Comparative Example 1 were evaluated in the same manner as in Example 1, ΔHc / Hc was 0.164, SNR was 17.1 dB, OW was 38.8 dB, and BER was 3 .10.

(比較例2)
比較例2では、シード層としてNiWを用いた以外は、実施例1と同様に磁気記録媒体を作製した。具体的には、Ni−6W{W含有量6原子%、残部Ni}ターゲットを用いて、スパッタ圧力0.6Paで層厚を5nmとした。なお、シード層を形成した後のドライエッチングは行わなかった。
(Comparative Example 2)
In Comparative Example 2, a magnetic recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that NiW was used as the seed layer. Specifically, using a Ni-6W {W content 6 atom%, remaining Ni} target, the layer thickness was 5 nm at a sputtering pressure of 0.6 Pa. Note that dry etching after forming the seed layer was not performed.

そして、この比較例2の磁気記録媒体についても、実施例1と同様に磁性粒子の大きさ及び記録再生特性の評価を行った。その結果、比較例2では、上記表1に示すように、<D>が8.8nm、σ/<D>が13.8、ΔHc/Hcが0.122、SNRが18.8dB、OWが32.5dB、BERが3.81であった。   The magnetic recording medium of Comparative Example 2 was also evaluated for the size of the magnetic particles and the recording / reproducing characteristics as in Example 1. As a result, in Comparative Example 2, as shown in Table 1 above, <D> is 8.8 nm, σ / <D> is 13.8, ΔHc / Hc is 0.122, SNR is 18.8 dB, and OW is It was 32.5 dB and BER was 3.81.

1…非磁性基板
2…軟磁性裏打ち層
3…中間層
4…垂直磁性層
4a…下層の磁性層
4b…中層の磁性層
4c…上層の磁性層
5…保護層
6…潤滑層
7…非磁性層
7a…下層の非磁性層
7b…上層の非磁性層
8…非磁性下地層
9…シード層
11…配向制御層
11a…凹凸面
12〜14…磁性層又は非磁性層
S,S1〜S3…柱状晶
30…非磁性基板
31…軟磁性裏打ち層
32…シード層
32a…結晶核
33…中間層
34…垂直磁性層
50…磁気記録媒体
51…媒体駆動部
52…磁気ヘッド
53…ヘッド駆動部
54…記録再生信号処理系
1 ... Non-magnetic substrate
2 ... Soft magnetic backing layer
3 ... Middle layer
4 ... perpendicular magnetic layer
4a: lower magnetic layer
4b ... middle magnetic layer
4c ... upper magnetic layer
5 ... Protective layer
6 ... Lubrication layer
7 ... Nonmagnetic layer
7a: lower nonmagnetic layer
7b: upper nonmagnetic layer
8 ... Nonmagnetic underlayer
9 ... Seed layer 11 ... Orientation control layer
11a ... uneven surface
12-14: Magnetic layer or nonmagnetic layer
S, S1 to S3 ... columnar crystals
30 ... Non-magnetic substrate
31 ... Soft magnetic underlayer
32 ... Seed layer
32a ... Crystal nucleus
33 ... Middle layer
34 ... perpendicular magnetic layer
50. Magnetic recording medium
51. Medium drive unit
52. Magnetic head
53. Head drive unit
54. Recording / reproducing signal processing system

Claims (15)

少なくとも非磁性基板の上に、軟磁性裏打ち層と、シード層と、中間層と、垂直磁性層とを順次積層した磁気記録媒体の製造方法であって、
前記シード層として、共晶組織を構成する2種類以上の元素を含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、前記結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
A method of manufacturing a magnetic recording medium in which a soft magnetic backing layer, a seed layer, an intermediate layer, and a perpendicular magnetic layer are sequentially laminated on at least a nonmagnetic substrate,
As the seed layer, after forming a eutectic alloy film containing two or more elements constituting a eutectic structure and in which columnar crystal nuclei are dispersed in a dot shape, the surface of the eutectic alloy film is formed. Etching is performed to form a microcrystalline film in which the crystal nuclei protrude from the surface.
前記共晶合金膜をスパッタ成膜した後に、フッ素、塩素、水素、酸素の中から選ばれる元素を少なくとも1つ以上含むエッチングガスを用いて、前記共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、前記結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。   After the eutectic alloy film is formed by sputtering, an etching process is performed on the surface of the eutectic alloy film using an etching gas containing at least one element selected from fluorine, chlorine, hydrogen, and oxygen. 2. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein a microcrystalline film in which the crystal nuclei protrude from a surface is formed. 前記シード層として、共晶組織を構成する少なくともAl、Si、Ge、Cの中から選ばれる一の元素と、この一の元素よりもエッチングレートの低いAl、Pd、Ag、Au、Sb、Ru、Cu、Pt、Coの中から選ばれる他の元素とを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、前記他の元素を含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする請求項2に記載の磁気記録媒体の製造方法。   As the seed layer, at least one element selected from Al, Si, Ge, and C constituting the eutectic structure, and Al, Pd, Ag, Au, Sb, and Ru having a lower etching rate than this one element. , Cu, Pt, and other elements selected from Co, and after forming a eutectic alloy film in which columnar crystal nuclei are dispersed in the form of dots, the surface of the eutectic alloy film is formed. 3. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 2, wherein a microcrystalline film in which crystal nuclei containing the other elements protrude from the surface is formed by performing an etching process. 前記シード層として、AlRu、AlCuの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Ru、Cuの何れかを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体の製造方法。   After forming a eutectic alloy film containing either AlRu or AlCu as the seed layer and in which columnar crystal nuclei are dispersed in the form of dots, the surface of the eutectic alloy film is etched. 4. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 3, wherein a microcrystalline film in which crystal nuclei containing either Ru or Cu protrude from the surface is formed. 前記シード層として、AlSi、PdSi、AgSi、AuSiの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Si、Si、Si、Siの何れかを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体の製造方法。   After forming a eutectic alloy film containing AlSi, PdSi, AgSi, or AuSi as the seed layer and having columnar crystal nuclei dispersed in a dot shape, the surface of the eutectic alloy film is formed. 4. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 3, wherein a microcrystalline film in which crystal nuclei containing any of Si, Si, Si, and Si protrude from the surface is formed by performing an etching process. 前記シード層として、AlGe、PdGe、AgGe、AuGe、SbGeの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Al、Pd、Ag、Au、Sbを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体の製造方法。   After forming a eutectic alloy film containing any of AlGe, PdGe, AgGe, AuGe, and SbGe as the seed layer and having columnar crystal nuclei dispersed in a dot shape, the surface of the eutectic alloy film is formed. 4. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 3, wherein a microcrystalline film in which crystal nuclei containing Al, Pd, Ag, Au, and Sb protrude from the surface is formed by performing an etching process. . 前記シード層として、RuC、PtC、CoCの何れかを含み、且つ、柱状の結晶核がドット状に分散された共晶合金膜を形成した後に、この共晶合金膜の表面に対してエッチング処理を施すことで、Ru、Pt、Coの何れかを含む結晶核が表面から突出した微結晶膜を形成することを特徴とする請求項3に記載の磁気記録媒体の製造方法。   After forming a eutectic alloy film containing RuC, PtC, or CoC as a seed layer and having columnar crystal nuclei dispersed in a dot shape, the surface of the eutectic alloy film is etched. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 3, wherein a microcrystalline film in which crystal nuclei containing any one of Ru, Pt, and Co protrude from the surface is formed by applying. 前記軟磁性裏打ち層として、アモルファス構造を有するCo合金膜を形成する請求項1〜7の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。   The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein a Co alloy film having an amorphous structure is formed as the soft magnetic backing layer. 前記中間層として、Ru又はRu合金膜を形成することを特徴とする請求項1〜8の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。   The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein a Ru or Ru alloy film is formed as the intermediate layer. 前記垂直磁性層を構成する結晶粒子が前記中間層を構成する結晶粒子と共に厚み方向に連続した柱状晶を構成するように、前記シード層を起点にして各層を結晶成長させることを特徴とする請求項1〜9の何れか一項に記載の磁気記録媒体の製造方法。   Each layer is crystal-grown starting from the seed layer so that the crystal grains constituting the perpendicular magnetic layer constitute columnar crystals continuous in the thickness direction together with the crystal grains constituting the intermediate layer. Item 10. A method for manufacturing a magnetic recording medium according to any one of Items 1 to 9. 少なくとも非磁性基板の上に、軟磁性裏打ち層と、シード層と、中間層と、垂直磁性層とが、この順で積層された磁気記録媒体であって、
前記シード層は、結晶核が表面から突出した微結晶膜からなり、
前記中間層及び前記垂直磁性層は、前記結晶核を起点にして、それぞれの結晶粒子が厚み方向に連続した柱状晶を構成していることを特徴とする磁気記録媒体。
A magnetic recording medium in which a soft magnetic backing layer, a seed layer, an intermediate layer, and a perpendicular magnetic layer are laminated in this order on at least a nonmagnetic substrate,
The seed layer is composed of a microcrystalline film with crystal nuclei protruding from the surface,
The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the intermediate layer and the perpendicular magnetic layer form columnar crystals in which the crystal grains are continuous in the thickness direction starting from the crystal nucleus.
前記シード層は、Al、Pd、Ag、Au、Sb、Ru、Pt、Coの中から選ばれる元素を主成分とした結晶核が表面から突出した微結晶膜からなることを特徴とする請求項11に記載の磁気記録媒体。   The seed layer is formed of a microcrystalline film in which a crystal nucleus mainly composed of an element selected from Al, Pd, Ag, Au, Sb, Ru, Pt, and Co protrudes from the surface. 11. A magnetic recording medium according to 11. 前記軟磁性裏打ち層は、アモルファス構造を有するCo合金膜からなることを特徴とする請求項11又は12に記載の磁気記録媒体。   The magnetic recording medium according to claim 11, wherein the soft magnetic underlayer is made of a Co alloy film having an amorphous structure. 前記中間層は、Ru又はRu合金膜からなることを特徴とする請求項11〜13の何れか一項に記載の磁気記録媒体。   The magnetic recording medium according to claim 11, wherein the intermediate layer is made of Ru or a Ru alloy film. 請求項1〜10の何れか一項に記載の製造方法により製造された磁気記録媒体、又は、請求項11〜14の何れか一項に記載の磁気記録媒体と、
前記磁気記録媒体に対する情報の記録再生を行う磁気ヘッドとを備えることを特徴とする磁気記録再生装置。
The magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method according to any one of claims 1 to 10, or the magnetic recording medium according to any one of claims 11 to 14,
A magnetic recording / reproducing apparatus comprising: a magnetic head for recording / reproducing information with respect to the magnetic recording medium.
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