JP2013117720A - Liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a high-performance liquid crystal display device while suppressing reduction in yield resulting from initial failure of a VLSI chip, and the liquid crystal display device.SOLUTION: Excellent and independent VLSI chips 6 with no functional failure are exclusively selected from a plurality of VLSI chips cut from a mother VLSI substrate. Thereafter, the chips 6 are fixed on a single independent-VLSI-chip-mounted substrate 11 in a matrix pattern so that a chip-mounted complex substrate 16 is prepared. The substrate 16 is used as one mother substrate to be employed for manufacturing a liquid crystal display device.

Description

本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.

小型高精細化が進んだ液晶表示装置は、通称マイクロディスプレイと呼ばれ、画素や配線が小さいこと、さらに、画素数が増加することにより、例えば8インチWaferからなる母VLSI(集積回路)基板から取れる良品の単個VLSIチップの数が減少し、つまり歩留りが低下してしまう。そのため、液晶表示装置を母VLSI基板と同サイズのガラス基板を利用して作製する場合には、不良の単個VLSIチップが実装された部分のガラス基板、シール材等が無駄となってしまう。さらに高精細化が進む、あるいは、開発当初の母VLSI基板の歩留りが悪い場合には、その問題がより顕著となる。   A liquid crystal display device that has become smaller and more detailed is commonly called a microdisplay, and has a small pixel and wiring, and an increase in the number of pixels, for example, from a mother VLSI (integrated circuit) substrate made of 8-inch wafer. The number of good single VLSI chips that can be taken decreases, that is, the yield decreases. Therefore, when a liquid crystal display device is manufactured using a glass substrate having the same size as the mother VLSI substrate, the glass substrate, the sealing material, etc., where the defective single VLSI chip is mounted are wasted. The problem becomes more prominent when the resolution is further increased or the yield of the mother VLSI substrate at the beginning of development is poor.

このような問題に対しては、以下に示す従来技術が知られている。図13−a、図13−b、図13−cは、それぞれ、従来技術を示す断面図である。この従来技術では、母VLSI基板から取り出した良品単個VLSIチップ6と、その他の良品部品87のみを粘着シート86を介して搭載基板(ガラス基板)85上に移載し、移載した良品単個VLSIチップ6と良品部品87を樹脂89で埋めた後、それらを樹脂89ごと搭載基板85から剥離することで、樹脂89に複数の良品単個VLSIチップ6と良品部品87が一体的に固定された樹脂フィルム(樹脂89)を作製し、それを、予め貫通電極92や配線93等が設けられた回路基板(マザーボード)91上に実装している。(特許文献1参照)   The following conventional techniques are known for such problems. 13-a, 13-b, and 13-c are cross-sectional views showing the prior art. In this prior art, only the good single VLSI chip 6 taken out from the mother VLSI substrate and the other good parts 87 are transferred onto the mounting substrate (glass substrate) 85 via the adhesive sheet 86, and the transferred good single unit is transferred. After the individual VLSI chip 6 and the non-defective part 87 are filled with the resin 89, the resin 89 and the non-defective part 87 are peeled off from the mounting substrate 85, so that a plurality of the non-defective VLSI chips 6 and the non-defective part 87 are integrally fixed to the resin 89. A resin film (resin 89) is produced and mounted on a circuit board (motherboard) 91 provided with a through electrode 92, wiring 93, and the like in advance. (See Patent Document 1)

この従来技術では、母VLSI基板から取り出した良品の単個VLSIチップのみを使用しているため、不良の単個VLSIチップに起因する他の良品部材の廃棄の問題を解決することができる。   In this prior art, only a good single VLSI chip taken out from the mother VLSI substrate is used, so that it is possible to solve the problem of discarding other good members caused by a defective single VLSI chip.

特開2002−110714号公報JP 2002-110714 A

従来技術を液晶表示装置の製造に適用した場合には、樹脂フィルムに固定された良品単個VLSIチップをシール材を介して対向基板に接着することとなるが、液晶表示装置において対向基板に対する良品単個VLSIチップの平坦性、即ち、良品単個VLSIチップと対向基板との間隙(ギャップ)の均一性や、良品単個VLSIチップと対向基板との密着性は非常に重要となる中で、良品単個VLSIチップ同士は樹脂のみで固定されているため、良品単個VLSIチップを対向基板に接着する際に、複数の良品単個VLSIチップ間でばらつきが発生しやすいという問題がある。   When the prior art is applied to the manufacture of a liquid crystal display device, a good single VLSI chip fixed to a resin film is bonded to the counter substrate through a sealing material. The flatness of a single VLSI chip, that is, the uniformity of the gap (gap) between a good single VLSI chip and the counter substrate, and the adhesion between the single good VLSI chip and the counter substrate are very important. Since the non-defective single VLSI chips are fixed only by the resin, there is a problem that when the non-defective single VLSI chip is bonded to the counter substrate, a variation easily occurs between the non-defective single VLSI chips.

特に、液晶に強誘電性液晶を用いた液晶表示装置の場合には、スーパーツイストネマティック(STN)液晶、ツイストネマティック(TN)液晶、垂直配向液晶等を用いた場合と比較して、液晶層の厚さが非常に薄いため、良品単個VLSIチップと対向基板との間隙の均一性はより重要である。   In particular, in the case of a liquid crystal display device using a ferroelectric liquid crystal as the liquid crystal, the liquid crystal layer has a layer thickness that is higher than that in the case of using a super twist nematic (STN) liquid crystal, a twist nematic (TN) liquid crystal, a vertical alignment liquid crystal, or the like. Since the thickness is very thin, the uniformity of the gap between the single good VLSI chip and the counter substrate is more important.

本発明は、以上の従来技術における問題点に鑑みたもので、VLSIチップの初期不良に起因する歩留りの低下を抑えつつ品質の良い液晶表示装置を作製することが可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems in the prior art, and a liquid crystal display device capable of manufacturing a high-quality liquid crystal display device while suppressing a decrease in yield due to an initial failure of a VLSI chip and its manufacture. It aims to provide a method.

機能的に良品である良品VLSIチップを選択的にVLSIチップ積載基板上に複数配置する工程と、前記VLSIチップ積載基板上に配置された複数の前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に固定する工程と、前記VLSIチップ積載基板上に固定された複数の前記良品VLSIチップ上に単個シール部を設ける工程と、前記単個シール部を介して前記VLSIチップ積載基板に対向基板を接着する工程と、互いに接着された前記VLSIチップ積載基板と前記対向基板を、前記良品VLSIチップが設けられた領域毎に切断する工程と、前記単個シール部で囲まれた領域に液晶を注入する工程と、を有する液晶表示装置の製造方法とする。   A step of selectively placing a plurality of non-defective VLSI chips that are functionally good on the VLSI chip mounting substrate, and fixing the plurality of non-defective VLSI chips arranged on the VLSI chip mounting substrate on the VLSI chip mounting substrate. A step of providing a single sealing portion on the plurality of non-defective VLSI chips fixed on the VLSI chip mounting substrate, and bonding a counter substrate to the VLSI chip mounting substrate via the single sealing portion. A step of cutting the VLSI chip mounting substrate and the counter substrate bonded to each other in each region where the non-defective VLSI chip is provided, and a step of injecting liquid crystal into a region surrounded by the single seal portion And a manufacturing method of a liquid crystal display device.

前記VLSIチップ積載基板にチップアライメントマークを形成し、該チップアライメントマークを基準にして、前記VLSIチップ積載基板上に前記良品VLSIチップを移載する液晶表示装置の製造方法とすることができる。   A method of manufacturing a liquid crystal display device can be provided in which a chip alignment mark is formed on the VLSI chip mounting substrate, and the non-defective VLSI chip is transferred onto the VLSI chip mounting substrate based on the chip alignment mark.

前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に表面活性化接合法により固定する液晶表示装置の製造方法とすることができる。   A method for manufacturing a liquid crystal display device in which the non-defective VLSI chip is fixed onto the VLSI chip mounting substrate by a surface activated bonding method can be employed.

前記良品VLSIチップの裏面と前記VLSIチップ積載基板の表面を研磨し、研磨した面同士を表面活性化接合法により固定する液晶表示装置の製造方法とすることができる。   A manufacturing method of a liquid crystal display device in which the back surface of the non-defective VLSI chip and the surface of the VLSI chip mounting substrate are polished, and the polished surfaces are fixed by a surface activated bonding method.

前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に接着材により固定する液晶表示装置の製造方法とすることができる。   A method for manufacturing a liquid crystal display device in which the non-defective VLSI chip is fixed onto the VLSI chip mounting substrate with an adhesive can be used.

前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に配置する際に、近接する前記良品VLSIチップ間に間隙が生じるように前記良品VLSIチップを配置すると共に、該間隙に充填材を充填する液晶表示装置の製造方法とすることができる。   A liquid crystal display device in which the non-defective VLSI chip is arranged so that a gap is formed between the non-defective VLSI chips when the non-defective VLSI chip is arranged on the VLSI chip mounting substrate, and the gap is filled with a filler. It can be set as the manufacturing method of this.

前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に配置する前に、前記良品VLSIチップの厚さが前記VLSIチップ積載基板の厚みよりも薄くなるように、前記良品VLSIチップの裏面を研磨する液晶表示装置の製造方法とすることができる。   Before disposing the non-defective VLSI chip on the VLSI chip mounting substrate, a liquid crystal display that polishes the back surface of the non-defective VLSI chip so that the thickness of the non-defective VLSI chip is smaller than the thickness of the VLSI chip mounting substrate. It can be set as the manufacturing method of an apparatus.

前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に固定した後、近接する前記良品VLSIチップ間の間隙を埋めるように前記良品VLSIチップを充填材で被覆し、該充填材の表面を前記良品VLSIチップの表面が露出するまで研磨する液晶表示装置の製造方法とすることができる。   After fixing the non-defective VLSI chip on the VLSI chip mounting substrate, the non-defective VLSI chip is covered with a filler so as to fill a gap between the non-defective VLSI chips, and the surface of the non-defective VLSI chip is covered. It can be set as the manufacturing method of the liquid crystal display device grind | polished until the surface of this is exposed.

前記充填材の表面を研磨すると同時に、前記VLSIチップ積載基板の裏面を研磨する液晶表示装置の製造方法とすることができる。   A method of manufacturing a liquid crystal display device in which the back surface of the VLSI chip mounting substrate is polished at the same time as the surface of the filler is polished.

互いに接着された前記VLSIチップ積載基板と前記対向基板を切断する前に、前記VLSIチップ積載基板と前記対向基板との間に、前記単個シール部を囲む外周シール部を設ける液晶表示装置の製造方法とすることができる。   Manufacture of a liquid crystal display device in which an outer peripheral seal portion surrounding the single seal portion is provided between the VLSI chip stack substrate and the counter substrate before the VLSI chip stack substrate and the counter substrate bonded to each other are cut. It can be a method.

機能的に良品である良品VLSIチップと、該良品VLSIチップを搭載するVLSIチップ積載基板と、前記良品VLSIチップ上に単個シール部を介して接着された対向基板と、前記単個シール部で囲まれた領域に注入された液晶と、を備える液晶表示装置とする。   A non-defective VLSI chip that is functionally non-defective, a VLSI chip mounting substrate on which the non-defective VLSI chip is mounted, a counter substrate bonded on the non-defective VLSI chip via a single seal portion, and the single seal portion A liquid crystal display device including liquid crystal injected into the enclosed region.

前記良品VLSIチップの熱膨張係数と前記VLSIチップ積載基板の熱膨張係数は、同じである液晶表示装置とすることができる。   A liquid crystal display device in which the thermal expansion coefficient of the non-defective VLSI chip and the thermal expansion coefficient of the VLSI chip mounting substrate are the same can be obtained.

前記良品VLSIチップの材質と前記VLSIチップ積載基板の材質は、同じである液晶表示装置とすることができる。   The material of the non-defective VLSI chip and the material of the VLSI chip mounting substrate can be the same liquid crystal display device.

前記良品VLSIチップの熱膨張係数と前記対向基板の熱膨張係数は、同じである液晶表示装置とすることができる。   A liquid crystal display device in which the thermal expansion coefficient of the non-defective VLSI chip and the thermal expansion coefficient of the counter substrate are the same can be obtained.

前記良品VLSIチップの外周部に回路基板が接続され、該回路基板が接続された前記良品VLSIチップの外周部に対向する前記VLSIチップ積載基板の外周部は、前記回路基板が接続された前記良品VLSIチップの外周部よりも外周側へ張り出し、該張り出した前記VLSIチップ積載基板の外周部と前記FPCとの間に、充填材が充填されている液晶表示装置とすることができる。   A circuit board is connected to an outer periphery of the non-defective VLSI chip, and an outer periphery of the VLSI chip mounting substrate facing the outer periphery of the non-defective VLSI chip to which the circuit board is connected is the non-defective product to which the circuit board is connected. A liquid crystal display device can be provided in which the outer peripheral portion of the VLSI chip extends to the outer peripheral side, and a filler is filled between the protruding outer peripheral portion of the VLSI chip mounting substrate and the FPC.

前記良品VLSIチップと前記VLSIチップ積載基板との間に、前記液晶を加熱するためのヒーター部が形成されている液晶表示装置とすることができる。   A liquid crystal display device in which a heater unit for heating the liquid crystal is formed between the non-defective VLSI chip and the VLSI chip mounting substrate can be provided.

前記VLSIチップ積載基板の前記良品VLSIチップを搭載しない面に、前記液晶を加熱するためのヒーター部が形成されている液晶表示装置とすることができる。   A liquid crystal display device in which a heater unit for heating the liquid crystal is formed on a surface of the VLSI chip mounting substrate on which the non-defective VLSI chip is not mounted.

本発明によれば、母VLSI基板より複数の良品単個VLSIチップのみを取り出し、単個VLSIチップ積載基板上に固定することで、良品単個VLSIチップのみから構成された擬似的な集合基板を作製し、それを用いて液晶表示装置を作製することとしているため、従来発生していた不良の単個VLSIチップに起因する対向基板、シール材、液晶等の廃棄をなくすことができると共に、母VLSI基板を個々の良品単個VLSIチップとすることにより、大判のVLSI基板から発生する応力を個々のレベルに小さくすることができると同時に、単個VLSIチップ積載基板により良品単個VLSIチップの反り等を補正することができ、平坦度を改善することができるため、良品単個VLSIチップと対向基板とのギャップが適正に保たれ、表示品質を改善することができる。   According to the present invention, only a plurality of non-defective single VLSI chips are taken out from the mother VLSI substrate and fixed on the single VLSI chip mounting substrate, whereby a pseudo collective substrate composed only of non-defective single VLSI chips is obtained. Since the liquid crystal display device is manufactured by using this, it is possible to eliminate the discard of the counter substrate, the sealing material, the liquid crystal, and the like caused by the defective single VLSI chip, which has been generated conventionally, and By making each VLSI substrate an individual good VLSI chip, the stress generated from a large VLSI substrate can be reduced to an individual level, and at the same time, warping of a good single VLSI chip by a single VLSI chip mounting substrate. Etc. can be corrected and the flatness can be improved, so the gap between a good VLSI chip and the counter substrate is appropriate. Kept, it is possible to improve the display quality.

また、母VLSI基板の配線パターンの微細化により応力が増加しても、良品単個VLSIチップの単個化により応力を分散(単個当たりの応力に分割)でき、さらに、単個VLSIチップ積載基板に積載することで補強ができるため、シール材の幅を太くすることなく、単個VLSIチップ積載基板と対向基板との密着性を向上させることができる。   Even if the stress increases due to the miniaturization of the wiring pattern of the mother VLSI substrate, the stress can be dispersed (divided into stresses per unit) by making a single good VLSI chip, and further, a single VLSI chip can be mounted. Since it can be reinforced by mounting on the substrate, the adhesion between the single VLSI chip mounting substrate and the counter substrate can be improved without increasing the width of the sealing material.

また、単個VLSIチップ積載基板にチップアライメントマークを設け、良品単個VLSIチップを積載する際に、チップアライメントマークを基準とすれば、複数の良品単個VLSIチップをマトリクス状に正確に配置することができる。さらに、チップアライメントマークを単個VLSIチップ積載基板の裏面側に設ければ、良品単個VLSIチップの積載への影響、対向電極との密着力、均一性の問題を解消することができる。   In addition, when a chip alignment mark is provided on a single VLSI chip mounting substrate and a good single VLSI chip is loaded, if the chip alignment mark is used as a reference, a plurality of good single VLSI chips are accurately arranged in a matrix. be able to. Further, if the chip alignment mark is provided on the back side of the single VLSI chip mounting substrate, it is possible to solve the problems of stacking the non-defective single VLSI chip, the adhesion with the counter electrode, and the uniformity.

また、良品単個VLSIチップを表面活性化接合にて単個VLSIチップ積載基板に接合すれば、単個VLSIチップ積載基板上の良品単個VLSIチップの平坦性、良品単個VLSIチップ単体の面内平坦性、さらには、良品単個VLSIチップと単個VLSIチップ積載基板との密着性を向上させることができ、さらに、低温で表面活性化接合を行うことで、熱的応力を非常に低減することができるため、液晶表示装置の表示均一性の向上、信頼性の向上が可能となる。   Also, if a good single VLSI chip is bonded to a single VLSI chip mounting substrate by surface activation bonding, the flatness of the single good VLSI chip on the single VLSI chip mounting substrate, the surface of the single good VLSI chip, The inner flatness, and the adhesion between a good single VLSI chip and a single VLSI chip mounting board can be improved, and thermal stress is greatly reduced by surface activation bonding at a low temperature. Therefore, it is possible to improve display uniformity and reliability of the liquid crystal display device.

本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の母VLSI基板の平面図1 is a plan view of a mother VLSI substrate of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. 図1−aのA−A断面図A-A sectional view of FIG. 本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の良品単個VLSIチップを単個VLSIチップ積載基板に積載した状態を示す平面図FIG. 2 is a plan view showing a state in which a non-defective single VLSI chip of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention is stacked on a single VLSI chip mounting substrate. 図2−aのB−B断面図BB sectional view of Fig. 2-a 本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 1st Embodiment of this invention 本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 1st Embodiment of this invention 本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 1st Embodiment of this invention 本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 1st Embodiment of this invention 本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 1st Embodiment of this invention 本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の平面図The top view of the liquid crystal display device in the 1st Embodiment of this invention 図4−aのC−C断面図CC sectional view of FIG. 本発明の第2の実施形態における液晶表示装置の平面図The top view of the liquid crystal display device in the 2nd Embodiment of this invention 図5−aのD−D断面図DD sectional view of FIG. 本発明の第3の実施形態における液晶表示装置の断面図Sectional drawing of the liquid crystal display device in the 3rd Embodiment of this invention 本発明の第4の実施形態における液晶表示装置の断面図Sectional drawing of the liquid crystal display device in the 4th Embodiment of this invention 本発明の第5の実施形態における液晶表示装置の断面図Sectional drawing of the liquid crystal display device in the 5th Embodiment of this invention 本発明の第6の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 6th Embodiment of this invention. 本発明の第6の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 6th Embodiment of this invention. 本発明の第6の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 6th Embodiment of this invention. 本発明の第7の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 7th Embodiment of this invention. 本発明の第7の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 7th Embodiment of this invention. 本発明の第7の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 7th Embodiment of this invention. 本発明の第7の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 7th Embodiment of this invention. 本発明の第7の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図Sectional drawing which shows the manufacturing process of the liquid crystal display device in the 7th Embodiment of this invention. 本発明の第8の実施形態における液晶表示装置の断面図Sectional drawing of the liquid crystal display device in the 8th Embodiment of this invention 本発明の第9の実施形態における液晶表示装置の断面図Sectional drawing of the liquid crystal display device in the 9th Embodiment of this invention 従来技術を示す断面図Sectional view showing the prior art 従来技術を示す断面図Sectional view showing the prior art 従来技術を示す断面図Sectional view showing the prior art

図1−aは、本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の母VLSI基板の平面図、図1−bは、図1−aのA−A断面図である。図2−aは、本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の良品単個VLSIチップを単個VLSIチップ積載基板に積載した状態を示す平面図、図2−bは、図2−aのB−B断面図である。図3−a、図3−b、図3−c、図3−d、図3−eは、それぞれ、本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図である。図4−aは、本発明の第1の実施形態における液晶表示装置の平面図、図4−bは、図4−aのC−C断面図である。   FIG. 1A is a plan view of the mother VLSI substrate of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. FIG. 2A is a plan view showing a state in which a non-defective single VLSI chip of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention is stacked on a single VLSI chip mounting substrate, and FIG. It is BB sectional drawing of. 3A, 3B, 3C, 3D, and 3E are cross-sectional views illustrating manufacturing steps of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. 4A is a plan view of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 4-B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 4-A.

本発明の第1の実施形態では、まず、図1−a、図1−bに示すように、複数個の単個VLSI(大規模集積回路)チップ5がマトリクス状に一体的に配置されている母VLSI基板1をダイシングテープ10(図1−aでは不図示)上に接着して、ダイシング装置にて各単個VLSIチップ5の間にダイシング溝7(図1−aでは不図示)を入れ、ダイシングテープ10を水平方向へ引き伸ばすことで、各単個VLSIチップ5を個片に分割する。さらに、その工程の前後において、各単個VLSIチップ5の機能を検査し、検査に合格したものを良品単個VLSIチップ6として選別する。   In the first embodiment of the present invention, first, as shown in FIGS. 1A and 1B, a plurality of single VLSI (large scale integrated circuit) chips 5 are integrally arranged in a matrix. The mother VLSI substrate 1 is bonded on a dicing tape 10 (not shown in FIG. 1A), and a dicing groove 7 (not shown in FIG. 1A) is formed between each single VLSI chip 5 by a dicing apparatus. The dicing tape 10 is stretched in the horizontal direction to divide each single VLSI chip 5 into individual pieces. Further, before and after the process, the function of each single VLSI chip 5 is inspected, and those that pass the inspection are selected as non-defective single VLSI chips 6.

次に、図2−a、図2−bに示すように、予めレーザー加工によりチップアライメントマーク13を裏面に形成し、さらに、表面に鏡面加工を施したシリコン基板からなる単個VLSIチップ積載基板11を準備し、その上に、良品単個VLSIチップ6のみを、表面活性化接合法にて、表面活性化接合層15を介して接合する。   Next, as shown in FIGS. 2-a and 2-b, a single VLSI chip mounting substrate made of a silicon substrate in which a chip alignment mark 13 is previously formed on the back surface by laser processing and the surface is mirror-finished. 11 is prepared, and only the non-defective VLSI chip 6 is bonded via the surface activated bonding layer 15 by the surface activated bonding method.

表面活性化接合層15を形成するためには、良品単個VLSIチップ6と単個VLSIチップ積載基板11の接する面の両方の面を研磨などにより鏡面としておくと良い。さらに、両面にアルゴンプラズマ処理、および、水素プラズマ処理を施し、表面の汚れを除去しておくと良い。   In order to form the surface activation bonding layer 15, it is preferable that both the surfaces of the non-defective single VLSI chip 6 and the single VLSI chip mounting substrate 11 that are in contact with each other are made mirror surfaces by polishing or the like. Further, it is preferable to remove dirt on the surface by performing argon plasma treatment and hydrogen plasma treatment on both sides.

表面活性化接合を行う際には、真空中で表面の汚れを除去し、接合する双方の面を活性化した上で、チップアライメントマーク13を基準に所定のピッチで複数の良品単個VLSIチップ6をマトリクス状に単個VLSIチップ積載基板11上に移載し、加圧しながら熱を掛けることで接合する。これにより、単個VLSIチップ積載基板11上に表面活性化接合層15を介して複数の良品単個VLSIチップ6がマトリクス状に配列されたチップ積載複合基板16が作製される。尚、表面活性化接合は、分子間接合のため、チップ積載複合基板16は非常に堅牢なものになる。   When surface activated bonding is performed, surface contamination is removed in vacuum, both surfaces to be bonded are activated, and a plurality of non-defective VLSI chips are formed at a predetermined pitch with reference to the chip alignment mark 13. 6 are transferred onto a single VLSI chip mounting substrate 11 in a matrix and bonded by applying heat while applying pressure. As a result, a chip stacking composite substrate 16 in which a plurality of non-defective single VLSI chips 6 are arranged in a matrix on the single VLSI chip mounting substrate 11 via the surface activation bonding layer 15 is produced. Since the surface activated bonding is an intermolecular bonding, the chip-carrying composite substrate 16 becomes very robust.

図3−aに示すように、チップ積載複合基板16は、近接する良品単個VLSIチップ6間にチップ間ギャップ17を有し、このチップ間ギャップ17を埋めるために、プラズマCVD(化学気相形成)法により、窒化シリコン(SiNx)膜からなる初期チップ間ギャップ充填材21を、良品単個VLSIチップ6を覆うようにチップ積載複合基板16の上面全体に一様に設ける。   As shown in FIG. 3A, the chip stacking composite substrate 16 has an inter-chip gap 17 between adjacent good VLSI chips 6, and plasma CVD (chemical vapor phase) is used to fill the inter-chip gap 17. The initial inter-chip gap filling material 21 made of a silicon nitride (SiNx) film is uniformly provided on the entire upper surface of the chip stacking composite substrate 16 so as to cover the non-defective VLSI chip 6.

このままでも初期チップ間ギャップ充填材21の表面は大分平坦化しているが、良品単個VLSIチップ6の画素電極上に初期チップ間ギャップ充填材21が形成されていると、良品単個VLSIチップ6と単個対向基板との間で液晶36に電圧を印加する際に、初期チップ間ギャップ充填材21に電圧が印加されるため、効率良く液晶36に電圧を印加することができない。   The surface of the initial inter-chip gap filling material 21 is flattened even if it is left as it is. However, if the initial inter-chip gap filling material 21 is formed on the pixel electrode of the non-defective single VLSI chip 6, the non-defective single VLSI chip 6. When the voltage is applied to the liquid crystal 36 between the single counter substrate and the single counter substrate, the voltage is applied to the initial inter-chip gap filling material 21, and thus the voltage cannot be efficiently applied to the liquid crystal 36.

そのため、図3−bに示すように、良品単個VLSIチップ6の面が露出するかそれに近い状態となるまでCMP(化学機械研磨)法により初期チップ間ギャップ充填材21の表面を研磨する。これにより、各良品単個VLSIチップ6の間に、初期チップ間ギャップ充填材21の一部が、加工後チップ間ギャップ充填材23として残った状態となる。   Therefore, as shown in FIG. 3B, the surface of the initial inter-chip gap filler 21 is polished by CMP (chemical mechanical polishing) until the surface of the single good VLSI chip 6 is exposed or close to it. As a result, a part of the initial inter-chip gap filler 21 remains as the inter-chip gap filler 23 after processing between each good VLSI chip 6.

次に、図3−cに示すように、加工後チップ間ギャップ充填材23を有するチップ積載複合基板16と、対向電極を有するガラス基板からなる対向基板31とを、概ね1マイクロメートル(μm)の間隙となるように、概ね1マイクロメートル(μm)の石英からなるスペーサーボールを樹脂材料に混合してなる複数の単個シール部33と、それらを囲むように配置された、スペーサーボールを含まない樹脂材料のみからなる外周シール部37とを介して接着し、加工前複数液晶表示パネル40を作製する。   Next, as shown in FIG. 3C, a chip-carrying composite substrate 16 having a post-chip gap filler 23 and a counter substrate 31 made of a glass substrate having a counter electrode are approximately 1 micrometer (μm). A plurality of single seal portions 33 formed by mixing a spacer ball made of quartz of approximately 1 micrometer (μm) with a resin material so as to be a gap of the spacer, and a spacer ball arranged so as to surround them The plurality of liquid crystal display panels 40 before processing are manufactured by bonding them with an outer peripheral seal portion 37 made of only a non-resin material.

ここで、各単個シール部33には、液晶注入空間35に液晶36を注入するための開口部(液晶注入口)が設けられている。従って、水を使用するダイシング加工では、開口部より水が液晶注入空間35に浸入してしまうため、外周シール部37で単個シール部33の外周をシールして水の浸入を防止する。なお、外周シール部37は、同心円状に複数設けると良い。   Here, each single seal portion 33 is provided with an opening (liquid crystal injection port) for injecting the liquid crystal 36 into the liquid crystal injection space 35. Accordingly, in the dicing process using water, since water enters the liquid crystal injection space 35 from the opening, the outer periphery of the single seal portion 33 is sealed by the outer peripheral seal portion 37 to prevent water from entering. A plurality of outer peripheral seal portions 37 are preferably provided concentrically.

次に、図3−dに示すように、単個VLSIチップ積載基板6の表面に、単個VLSIチップ積載基板用ダイシング溝41をダイシング法で形成し、対向基板31の表面に、対向基板用ダイシング溝42をダイシング法で形成する。単個VLSIチップ積載基板用ダイシング溝41を形成する位置は、隣接する良品単個VLSIチップ6の間の領域であり、対向基板用ダイシング溝42を形成する位置は、隣接する単個シール部33間の領域である。   Next, as shown in FIG. 3D, a single VLSI chip mounting substrate dicing groove 41 is formed on the surface of the single VLSI chip mounting substrate 6 by the dicing method, and the counter substrate 31 is formed on the surface of the counter substrate 31. The dicing groove 42 is formed by a dicing method. The position where the single VLSI chip mounting substrate dicing groove 41 is formed is an area between adjacent non-defective single VLSI chips 6, and the position where the counter substrate dicing groove 42 is formed is adjacent single seal portion 33. It is an area between.

次に、単個VLSIチップ積載基板用ダイシング溝41と対向基板用ダイシング溝42が形成された部分をゴムで加圧し、単個VLSIチップ積載基板用ダイシング溝41を境に、単個VLSIチップ積載基板6と加工後チップ間ギャップ充填材23を分割し、さらに、対向基板用ダイシング溝42を境に、対向基板31を分割することで、図3−eに示すような単個液晶表示パネル39を作製する。   Next, the portion where the dicing groove 41 for the single VLSI chip mounting substrate and the dicing groove 42 for the counter substrate are pressed with rubber, and the single VLSI chip mounting is performed with the dicing groove 41 for the single VLSI chip mounting substrate as a boundary. A single liquid crystal display panel 39 as shown in FIG. 3E is obtained by dividing the substrate 6 and the inter-chip gap filling material 23 after processing, and further dividing the counter substrate 31 with the counter substrate dicing groove 42 as a boundary. Is made.

加工後チップ間ギャップ充填材23は、単個液晶表示パネル39を作製した後に除去しても良いが、単個VLSIチップ積載基板6の外周に付着させたままにしておいても良い。この場合、単個VLSIチップ積載基板6の外周に付着した加工後チップ間ギャップ充填材23は、単個VLSIチップ積載基板6の外周を保護する保護膜としての役割を果たす。なお、本実施形態では、加工後チップ間ギャップ充填材23は、単個液晶表示パネル39を作製した後に除去するものとする。   After processing, the inter-chip gap filler 23 may be removed after the single liquid crystal display panel 39 is manufactured, but may be left attached to the outer periphery of the single VLSI chip mounting substrate 6. In this case, the post-process gap filling material 23 attached to the outer periphery of the single VLSI chip mounting substrate 6 serves as a protective film for protecting the outer periphery of the single VLSI chip mounting substrate 6. In the present embodiment, the processed inter-chip gap filler 23 is removed after the single liquid crystal display panel 39 is manufactured.

その後、単個加工後単個VLSIチップ積載基板12と、単個加工後対向基板32との間の液晶注入空間35に、単個シール部33の一部に設けられた開口部から強誘電性液晶からなる液晶36を注入し、開口部を封口材38で封止する。   Thereafter, the ferroelectric liquid crystal is introduced into the liquid crystal injection space 35 between the single VLSI chip mounting substrate 12 after single processing and the counter substrate 32 after single processing through an opening provided in a part of the single seal portion 33. Liquid crystal 36 made of liquid crystal is injected, and the opening is sealed with a sealing material 38.

次に、図4−a、図4−bに示すように、単個液晶表示パネル39を、周辺回路との接続を行うコネクタ52を有する外部回路基板51と両面接着テープにより接着し、外部回路基板51と良品単個VLSIチップ6との間にアルミニウム細線からなるアルミニウムワイヤ55を超音波ワイヤボンディング法により取り付け、アルミニウムワイヤ55をワイヤ保護樹脂56で被覆し、さらに、単個加工後対向基板32上の透明電極と外部回路基板51上の電極端子との間に導電性接着材からなる対向電極導通部58を設ける。   Next, as shown in FIG. 4-a and FIG. 4-b, the single liquid crystal display panel 39 is bonded to the external circuit board 51 having the connector 52 for connecting to the peripheral circuit by the double-sided adhesive tape, An aluminum wire 55 made of an aluminum thin wire is attached between the substrate 51 and the single good VLSI chip 6 by an ultrasonic wire bonding method, the aluminum wire 55 is covered with a wire protective resin 56, and the counter substrate 32 is further processed after single processing. A counter electrode conducting portion 58 made of a conductive adhesive is provided between the upper transparent electrode and the electrode terminal on the external circuit board 51.

次に第2の実施形態を図5−aと図5−bを用いて説明する。図5−aは、本発明の第2の実施形態における液晶表示装置の平面図、図5−bは、図5−aのD−D断面図である。第2の実施形態では、単個液晶表示パネル39と外部回路との電気的接続をフレキシブルプリント基板(以下、FPC)61にて行っている。FPC61は、良品単個VLSIチップ11の外周部の一辺側に接続され、さらに、その一辺側において、単個加工後単個VLSIチップ積載基板12の外周部は、良品単個VLSIチップ11の外周部よりも外周側へ張り出し、その張り出した部分によりFPC補強段差65が形成されている。FPC補強段差65には、FPC裏面保護樹脂63が塗布され、FPC裏面保護樹脂63とFPC補強段差65によりFPC61の裏面が補強されている。FPC補強段差65の効果を大きくするには、良品単個VLSIチップ6の厚さを薄くし、FPC6の裏面をFPC補強段差65に近づけると良い。また、FPC61の表面(上面)には、FPC表面保護樹脂62が塗布され、それによりFPC61の接続部がさらに補強されている。   Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 5-a is a plan view of a liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 5-b is a cross-sectional view taken along the line DD in FIG. In the second embodiment, the single liquid crystal display panel 39 and an external circuit are electrically connected by a flexible printed circuit board (hereinafter referred to as FPC) 61. The FPC 61 is connected to one side of the outer peripheral portion of the single good VLSI chip 11, and further, on the one side, the outer peripheral portion of the single VLSI chip mounting substrate 12 after single processing is the outer periphery of the single good VLSI chip 11. The FPC reinforcing step 65 is formed by projecting to the outer peripheral side from the portion and the projecting portion. An FPC back surface protective resin 63 is applied to the FPC reinforcing step 65, and the back surface of the FPC 61 is reinforced by the FPC back surface protective resin 63 and the FPC reinforcing step 65. In order to increase the effect of the FPC reinforcing step 65, it is preferable to reduce the thickness of the non-defective VLSI chip 6 and bring the back surface of the FPC 6 closer to the FPC reinforcing step 65. Further, the FPC surface protection resin 62 is applied to the surface (upper surface) of the FPC 61, and thereby the connection portion of the FPC 61 is further reinforced.

FPC61が接続される1辺を除く3辺において、単個加工後単個VLSIチップ積載基板12、表面活性化接合層15、良品単個VLSIチップ11、及び単個加工後対向基板32の各端面は、互いに同一面となるように加工されている。FPC補強段差65の形成を含め、各端面の調整は、図3−dの工程において、単個VLSIチップ積載基板用ダイシング溝41と対向基板用ダイシング溝42の位置を調整することで行い、さらに、必要に応じて、分断した後に各端面を加工することなどにより行う。   On the three sides except one side to which the FPC 61 is connected, each end face of the single VLSI chip mounting substrate 12, the surface activated bonding layer 15, the single good VLSI chip 11, and the counter substrate 32 after the single processing after single processing. Are processed so as to be flush with each other. The adjustment of each end face including the formation of the FPC reinforcing step 65 is performed by adjusting the positions of the single VLSI chip mounting substrate dicing groove 41 and the counter substrate dicing groove 42 in the step of FIG. If necessary, it is performed by processing each end face after dividing.

単個加工後対向基板32上の透明電極への電圧の印加は、良品単個VLSIチップ11上に設けた電極とFPC61とを異方性導電フィルム(ACF)を介して接続し、さらに、透明電極と良品単個VLSIチップ6上の電極とを絶縁性シール材に導電粒を含有させてなる異方性導電性シール部67を介して接続することにより行われる。   After single processing, the voltage is applied to the transparent electrode on the counter substrate 32 by connecting the electrode provided on the non-defective single VLSI chip 11 and the FPC 61 via an anisotropic conductive film (ACF), and further transparent This is done by connecting the electrode and the electrode on the single good VLSI chip 6 through an anisotropic conductive seal portion 67 made of an insulating seal material containing conductive particles.

次に図6を用いて実施形態3を説明する。図6は、本発明の第3の実施形態における液晶表示装置の断面図で、図3−cの断面図に示す液晶表示装置の別の実施形態を示している。なお、同様の部材には、同一の符号を用いてある。第3の実施形態では、良品単個VLSIチップ6を積載するための基板として、光透過性を有するガラス基板からなる単個VLSIチップ積載基板11を使用し、単個VLSIチップ積載基板11上に良品単個VLSIチップ6を光硬化型エポキシ樹脂からなるチップ接着材25を介して固定する。   Next, Embodiment 3 will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention, and shows another embodiment of the liquid crystal display device shown in the cross-sectional view of FIG. In addition, the same code | symbol is used for the same member. In the third embodiment, a single VLSI chip mounting substrate 11 made of a light-transmitting glass substrate is used as a substrate for mounting a non-defective single VLSI chip 6 on the single VLSI chip mounting substrate 11. A single good VLSI chip 6 is fixed via a chip adhesive 25 made of a photo-curable epoxy resin.

より具体的には、まず、光硬化型エポキシ樹脂からなるチップ接着材25を単個VLSIチップ積載基板11上に一様に塗布し、その上に複数の良品単個VLSIチップ6を移載機(マウンター)を使用して、単個VLSIチップ積載基板11の裏面にあるチップアライメントマーク13を基準に、精度良くマトリクス状に配置する。その後、透明なステージ上に単個VLSIチップ積載基板11を載せ、良品単個VLSIチップ6側から加圧しながら、透明なステージ側より紫外線を照射し、光硬化型エポキシ樹脂からなるチップ接着剤25を硬化し、単個VLSIチップ積載基板11上にチップ接着材25を介して良品単個VLSIチップ6を固着させることで、チップ搭載複合基板16を作製する。   More specifically, first, a chip adhesive 25 made of a photo-curable epoxy resin is uniformly applied on the single VLSI chip mounting substrate 11, and a plurality of non-defective single VLSI chips 6 are transferred thereon. (Mounter) is used to accurately arrange in a matrix with reference to the chip alignment mark 13 on the back surface of the single VLSI chip mounting substrate 11. Thereafter, the single VLSI chip mounting substrate 11 is placed on a transparent stage, and the chip adhesive 25 made of a photocurable epoxy resin is irradiated with ultraviolet rays from the transparent stage side while applying pressure from the good VLSI chip 6 side. Is hardened, and the non-defective single VLSI chip 6 is fixed on the single VLSI chip mounting substrate 11 via the chip adhesive 25 to produce the chip-mounted composite substrate 16.

チップ接着材25を利用することで、表面活性化接合に適さない材料で構成された単個VLSIチップ積載基板11に対しても、良品単個VLSIチップ6を確実に固着させることができる。なお、チップ接着材25の接着力の強度、および、チップ間ギャップ17に樹脂を充填することによる応力発生を考慮し、チップ間ギャップ17には、樹脂等を充填していない。   By using the chip adhesive 25, the non-defective single VLSI chip 6 can be securely fixed to the single VLSI chip mounting substrate 11 made of a material not suitable for surface activation bonding. In consideration of the strength of the adhesive force of the chip adhesive 25 and the generation of stress caused by filling the inter-chip gap 17 with resin, the inter-chip gap 17 is not filled with resin or the like.

本第3の実施形態では、チップ間ギャップ17により、良品単個VLSIチップ6の厚さ分の段差が発生するため、液晶の配向膜は、無機膜を斜方蒸着法により堆積させた配向膜、あるいは、有機膜(ポリマー)をスプレイ塗布して回転させて均一化した後、光配向処理を行った配向膜とするのが良い。   In the third embodiment, a gap corresponding to the thickness of the single good VLSI chip 6 is generated by the gap 17 between the chips. Therefore, the alignment film of the liquid crystal is an alignment film in which an inorganic film is deposited by oblique vapor deposition. Alternatively, an organic film (polymer) may be spray-coated and rotated to be uniform, and then an alignment film subjected to a photo-alignment treatment may be used.

また、単個VLSIチップ積載基板11は、シリコン基板の熱膨張係数とほぼ同じ熱膨張係数を有するガラス、例えば、アヴァンストレート(株)製のNA32SGガラスを使用する。単個VLSIチップ積載基板11と良品単個VLSIチップ6の熱膨張係数が互いに同じであれば、熱処理等での応力発生を小さくすることができる。さらに、単個VLSIチップ積載基板11と良品単個VLSIチップ6と対向基板31の3つの部材の熱膨張係数を同じにするのがより効果的である。   The single VLSI chip mounting substrate 11 uses glass having a thermal expansion coefficient substantially the same as the thermal expansion coefficient of the silicon substrate, for example, NA32SG glass manufactured by Avant Straight Co., Ltd. If the single VLSI chip mounting substrate 11 and the non-defective single VLSI chip 6 have the same thermal expansion coefficient, the generation of stress during heat treatment or the like can be reduced. Furthermore, it is more effective to make the three members of the single VLSI chip mounting substrate 11, the non-defective single VLSI chip 6, and the counter substrate 31 have the same thermal expansion coefficient.

次に図7を用いて実施形態4を説明する。図7は、本発明の第4の実施形態における液晶表示装置の断面図で、図6の断面図に示す液晶表示装置の別の実施形態を示している。なお、同様な部材には、同一の符号を用いてある。第4の実施形態では、液晶の低温での粘度増加による応答速度の低下を防止するために、熱を発生する裏面ヒーター回路部71を、ガラス基板からなる単個VLSIチップ積載基板11の裏面に形成している。   Next, Embodiment 4 will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the fourth embodiment of the present invention, and shows another embodiment of the liquid crystal display device shown in the cross-sectional view of FIG. In addition, the same code | symbol is used for the same member. In the fourth embodiment, in order to prevent a decrease in response speed due to an increase in viscosity of liquid crystal at a low temperature, a back heater circuit portion 71 that generates heat is provided on the back surface of a single VLSI chip mounting substrate 11 made of a glass substrate. Forming.

裏面ヒーター回路部71の配線パターン形状は、細線の折り返しとし、細線と細線の間に間隙を設けることで、光を透過できるようにしている。細線の材質は、金属でも良いが、光の透過性を良くするためには、酸化インジウムスズ(ITO)などの透明材料が好ましい。その他の構成は第3の実施形態と同様である。   The wiring pattern shape of the back surface heater circuit portion 71 is a thin line folded back, and a gap is provided between the thin lines so that light can be transmitted. The material of the thin wire may be a metal, but a transparent material such as indium tin oxide (ITO) is preferable in order to improve light transmission. Other configurations are the same as those of the third embodiment.

次に図8を用いて実施形態5を説明する。図8は、本発明の第5の実施形態における液晶表示装置の断面図で、図6の断面図に示す液晶表示装置の別の実施形態を示す断面図である。なお、同様の部材には、同一の符号を用いてある。第5の実施形態では、液晶の低温での粘度増加による応答速度の低下を防止するために、熱を発生する表面ヒーター回路部73と、その動作を制御するヒーター制御回路部75とを、シリコン基板からなる単個VLSIチップ積載基板11の表面(上面)に形成する。   Next, Embodiment 5 will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the fifth embodiment of the present invention, and is a cross-sectional view showing another embodiment of the liquid crystal display device shown in the cross-sectional view of FIG. In addition, the same code | symbol is used for the same member. In the fifth embodiment, the surface heater circuit unit 73 that generates heat and the heater control circuit unit 75 that controls the operation thereof are formed of silicon in order to prevent a decrease in response speed due to an increase in viscosity of the liquid crystal at a low temperature. It is formed on the surface (upper surface) of a single VLSI chip mounting substrate 11 made of a substrate.

表面ヒーター回路部73上には、熱伝導性樹脂からなるチップ接着剤25を介して、良品単個VLSIチップ6を接着する。さらに、配向膜塗布及び、配向処理時のチップ接着剤25からのガスの発生を防止するために、良品単個VLSIチップ6と重なる部分以外のチップ接着材25を除去し、隣接する良品単個VLSIチップ6間にチップ接着材除去部26を設ける。その他の構成は、実施例4と同様である。   A good VLSI chip 6 is bonded onto the surface heater circuit portion 73 via a chip adhesive 25 made of a heat conductive resin. Further, in order to prevent the generation of gas from the chip adhesive 25 during alignment film coating and alignment processing, the chip adhesive 25 other than the portion overlapping the non-defective VLSI chip 6 is removed, and the adjacent non-defective single unit A chip adhesive removing unit 26 is provided between the VLSI chips 6. Other configurations are the same as those in the fourth embodiment.

次に図9−aから図9−cを用いて第6の実施形態を説明する。図9−a、図9−b、図9−cは、それぞれ、本発明の第6の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図で、図2−bに示すチップ搭載複合基板16の製造工程の別の実施形態を示している。なお、同様の部材には、同一の符号を用いてある。本第6の実施形態では、まず、図9−aに示すように、良品単個VLSIチップ6を表面活性化接合層15を介して単個VLSIチップ積載基板11上に接合し、続いて、図9−bに示すように、近接する良品単個VLSIチップ6間のチップ間ギャップ17を埋めるために、プラズマCVD(化学気相形成)法により、窒化シリコン(SiNx)膜からなる初期チップ間ギャップ充填材21をチップ積載複合基板16の上面全体に形成する。   Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIGS. 9A to 9C. FIG. 9A, FIG. 9B, and FIG. 9C are cross-sectional views showing the manufacturing process of the liquid crystal display device according to the sixth embodiment of the present invention, respectively. The chip-mounted composite substrate 16 shown in FIG. 3 shows another embodiment of the manufacturing process. In addition, the same code | symbol is used for the same member. In the sixth embodiment, first, as shown in FIG. 9A, the non-defective single VLSI chip 6 is bonded onto the single VLSI chip mounting substrate 11 via the surface activation bonding layer 15, and then, As shown in FIG. 9B, in order to fill the inter-chip gap 17 between the adjacent good VLSI chips 6, the initial inter-chip gap made of a silicon nitride (SiNx) film is formed by a plasma CVD (chemical vapor deposition) method. The gap filling material 21 is formed on the entire top surface of the chip stacking composite substrate 16.

その後、初期チップ間ギャップ充填材21の表面(上面)と単個VLSIチップ積載基板11の裏面(下面)を同時に化学機械研磨(CMP)により研磨することで、図9−cに示すように、良品単個VLSIチップ6上の初期チップ間ギャップ充填材21を全て除去して、近接する良品単個VLSIチップ6間に加工後チップ間ギャップ充填材23を形成し、それと同時に、単個VLSIチップ積載基板11を通常の半分程度の厚みとなった研磨後単個VLSIチップ積載基板14として形成する。   Thereafter, the front surface (upper surface) of the initial inter-chip gap filler 21 and the back surface (lower surface) of the single VLSI chip mounting substrate 11 are simultaneously polished by chemical mechanical polishing (CMP), as shown in FIG. All the initial inter-chip gap filling material 21 on the non-defective VLSI chip 6 is removed to form a post-chip gap filling material 23 between the adjacent non-defective VLSI chips 6, and at the same time, the single VLSI chip. The loaded substrate 11 is formed as a single VLSI chip loaded substrate 14 after polishing, which is about half the normal thickness.

このように、チップ間ギャップ充填材21と単個VLSIチップ積載基板11を同時に研磨することで、反り等の応力の発生や蓄積を低減することができる。また、単個VLSIチップ積載基板11を薄くすることで、液晶表示装置全体の厚さも薄くなるため、小型で軽量な液晶表示装置を作製することができる。   Thus, by simultaneously polishing the inter-chip gap filler 21 and the single VLSI chip mounting substrate 11, it is possible to reduce the generation and accumulation of stresses such as warping. Moreover, since the thickness of the entire liquid crystal display device is reduced by making the single VLSI chip mounting substrate 11 thinner, a small and lightweight liquid crystal display device can be manufactured.

次に図10−aから図10−eを用いて第7の実施形態を説明する。図10−a、図10−b、図10−c、図10−d、図10−eは、それぞれ、本発明の第7の実施形態における液晶表示装置の製造工程を示す断面図で、図2−bに示すチップ搭載複合基板16の製造工程の別の実施形態を示している。なお、同様の部材には、同一の符号を用いてある。本第7の実施形態では、予め母VLSI基板1の裏面を研磨することで、良品単個VLSIチップ6よりも薄型の良品薄型単個VLSIチップ9を作製する。良品薄型単個VLSIチップ9を用いれば、それを覆うための初期チップ間ギャップ充填材21も薄く積層するだけで良く、さらに、単個VLSIチップ積載基板11に対する良品薄型単個VLSIチップ9とチップ間ギャップ充填材23による応力も大きく低減できる。具体的な工程は、例えば、以下の通りである。   Next, the seventh embodiment will be described with reference to FIGS. 10A to 10E. 10A, FIG. 10B, FIG. 10C, FIG. 10D, and FIG. 10E are cross-sectional views showing the manufacturing process of the liquid crystal display device according to the seventh embodiment of the present invention. Another embodiment of the manufacturing process of the chip mounting composite substrate 16 shown to 2-b is shown. In addition, the same code | symbol is used for the same member. In the seventh embodiment, the back surface of the mother VLSI substrate 1 is polished in advance to produce a good thin single VLSI chip 9 that is thinner than the good single VLSI chip 6. If the good thin single VLSI chip 9 is used, the gap filling material 21 between the initial chips for covering it may be thinly laminated, and the good thin single VLSI chip 9 and the chip for the single VLSI chip mounting substrate 11 may be used. The stress due to the gap filling material 23 can also be greatly reduced. Specific steps are as follows, for example.

図10−aに示すように、母VLSI基板の表面に研磨用保護樹脂3を一様に塗布した状態で、母VLSI基板の裏面の研磨を行い、100マイクロメートル(μm)まで薄型化することで、裏面研磨加工後母VLSI基板2を作製する。   As shown in FIG. 10-a, the back surface of the mother VLSI substrate is polished with the polishing protective resin 3 uniformly applied to the surface of the mother VLSI substrate to reduce the thickness to 100 micrometers (μm). Thus, the mother VLSI substrate 2 is manufactured after the back surface polishing.

次に、図10−bに示すように、裏面研磨加工後母VLSI基板2の裏面をダイシングテープ10上に接着し、裏面研磨加工後母VLSI基板2の表面に所定のピッチでダイシング溝7を形成することで、複数の薄型単個VLSIチップ8を作製する。   Next, as shown in FIG. 10B, the back surface of the mother VLSI substrate 2 after back polishing is bonded onto the dicing tape 10, and dicing grooves 7 are formed at a predetermined pitch on the surface of the mother VLSI substrate 2 after back polishing. As a result, a plurality of thin single VLSI chips 8 are produced.

次に、図10−cに示すように、複数の薄型単個VLSIチップ8から選別した機能的に良品である良品薄型単個VLSIチップ9のみを、それと熱膨張係数がほぼ等しいガラス基板からなる単個VLSIチップ積載基板11上に、互いの間にチップ間ギャップ17を設けてマトリクス状に、チップ接着剤25を介して固定し、さらに、良品薄型単個VLSIチップ9を覆うように、単個VLSIチップ積載基板11上に初期チップ間ギャップ充填材21を一様に塗布する。   Next, as shown in FIG. 10-c, only the good thin single VLSI chip 9 which is functionally good and selected from the plurality of thin single VLSI chips 8 is made of a glass substrate having a thermal expansion coefficient substantially equal to that. On the single VLSI chip mounting substrate 11, an inter-chip gap 17 is provided between the single VLSI chip mounting substrates 11 and fixed in a matrix form via a chip adhesive 25, and further, the single VLSI chip 9 is covered so as to cover the non-defective thin single VLSI chip 9. An initial inter-chip gap filling material 21 is uniformly applied on the individual VLSI chip mounting substrate 11.

ここで、単個VLSIチップ積載基板11には、レーザーマーキング装置により、予めレーザーマーク19を形成しておく。レーザーマーク19は、焦点深度とレーザーのエネルギーを調整することで、単個VLSIチップ積載基板11の内部に形成することができるため、単個VLSIチップ積載基板11の表面を損傷することは無い。良品薄型単個VLSIチップ9を単個VLSIチップ積載基板11上に移載する際には、このレーザーマーク19を位置決め基準として用い、複数の良品薄型単個VLSIチップ9を精度良く整列させる。   Here, a laser mark 19 is previously formed on the single VLSI chip mounting substrate 11 by a laser marking device. Since the laser mark 19 can be formed inside the single VLSI chip mounting substrate 11 by adjusting the depth of focus and the laser energy, the surface of the single VLSI chip mounting substrate 11 is not damaged. When the good thin single VLSI chip 9 is transferred onto the single VLSI chip mounting substrate 11, the laser mark 19 is used as a positioning reference, and a plurality of good thin single VLSI chips 9 are aligned with high accuracy.

なお、本実施形態では、良品薄型単個VLSIチップ9は薄く、初期チップ間ギャップ充填材21も薄いため、良品薄型単個VLSIチップ9を単個VLSIチップ積載基板11上に固定する手段として、表面活性化接合法ではなく、チップ接着剤25を用いたとしても、確実に固定することが可能である。   In this embodiment, since the good thin single VLSI chip 9 is thin and the initial inter-chip gap filling material 21 is also thin, as means for fixing the good thin single VLSI chip 9 on the single VLSI chip mounting substrate 11, Even if the chip adhesive 25 is used instead of the surface activated bonding method, it can be securely fixed.

次に、図10−dに示すように、初期チップ間ギャップ充填材21の表面に対して乾式反応性化学エッチング(RIE)法によるエッチング処理を行い、良品薄型単個VLSIチップ9の表面を露出させると同時に、チップ間ギャップ17に残った初期チップ間ギャップ充填材21を加工後チップ間ギャップ充填材23として形成することで、チップ積載複合基板16を作製する。   Next, as shown in FIG. 10-d, the surface of the initial interchip gap filler 21 is etched by dry reactive chemical etching (RIE) to expose the surface of the good thin single VLSI chip 9. At the same time, by forming the initial inter-chip gap filler 21 remaining in the inter-chip gap 17 as the inter-chip gap filler 23 after processing, the chip stacking composite substrate 16 is manufactured.

RIE法では、チップ接着剤25に機械的力がかからないため、初期チップ間ギャップ充填材21を除去する手段として好適である。なお、チップ接着剤25は、RIEを行っている最中にエッチングガスにほとんど触れることがないため、汚染ガスを発生することはない。   The RIE method is suitable as a means for removing the initial inter-chip gap filler 21 because no mechanical force is applied to the chip adhesive 25. Note that since the chip adhesive 25 hardly comes into contact with the etching gas during the RIE, no contamination gas is generated.

次に、図10−eに示すように、チップ積載複合基板16上に複数の単個シール部33とそれらを囲む周辺シール部37とを介して対向基板31を接着した後、単個VLSIチップ積載基板11に単個VLSIチップ積載基板用ダイシング溝41を形成し、さらに、対向基板31に対向基板用ダイシング溝42を形成する。その後の工程は、図3−eに示す工程と同様である。   Next, as shown in FIG. 10E, after the counter substrate 31 is bonded onto the chip stacking composite substrate 16 via a plurality of single seal portions 33 and a peripheral seal portion 37 surrounding them, a single VLSI chip is formed. A single VLSI chip mounting substrate dicing groove 41 is formed on the mounting substrate 11, and a counter substrate dicing groove 42 is formed on the counter substrate 31. The subsequent steps are the same as the steps shown in FIG.

本実施形態では、良品薄型単個VLSIチップ9が薄く、加工後チップ間ギャップ充填材23も薄く、さらに、単個VLSIチップ積載基板11と対向基板31が同じ材質(ガラス)であるため、液晶注入空間35の均一性が良好であり、ダイシングなどによる分断が容易に行える。   In the present embodiment, the non-defective thin single VLSI chip 9 is thin, the inter-chip gap filling material 23 is thin, and the single VLSI chip mounting substrate 11 and the counter substrate 31 are made of the same material (glass). The uniformity of the injection space 35 is good and can be easily divided by dicing or the like.

次に図11を用いて第8の実施形態を説明する。図11は、本発明の第8の実施形態における液晶表示装置の断面図で、図3−cに示す加工前複数液晶表示パネル40の別の実施形態を示す断面図である。なお、同様の部材には、同一の符号を用いてある。第8の実施形態では、液晶を注入する際に滴下注入(One Drop Filling:ODF)法を用いており、単個シール部33は開口部(液晶注入口)を有することなく閉じた形状をしている。加工前複数液晶表示パネル40から単個液晶表示パネル39を作製する際には、加工前複数液晶表示パネル40をダイシングテープ10上に接着し、対向基板31と単個VLSIチップ積載基板11を厚さ方向に全て切断するフルダイシングを行う。フルダイシングでは、切断する際に、単個液晶表示パネル39の外周の欠けあるいは、破損を防止できるため、液晶表示装置の品質改善となる。   Next, an eighth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 11 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the eighth embodiment of the present invention, and is a cross-sectional view showing another embodiment of the pre-processing multiple liquid crystal display panel 40 shown in FIG. In addition, the same code | symbol is used for the same member. In the eighth embodiment, one drop sealing (ODF) method is used when injecting liquid crystal, and the single seal portion 33 has a closed shape without having an opening (liquid crystal injection port). ing. When the single liquid crystal display panel 39 is manufactured from the multiple liquid crystal display panels 40 before processing, the multiple liquid crystal display panels 40 before processing are bonded onto the dicing tape 10, and the counter substrate 31 and the single VLSI chip mounting substrate 11 are thickened. Perform full dicing to cut everything in the vertical direction. In full dicing, since the chipping or breakage of the outer periphery of the single liquid crystal display panel 39 can be prevented when cutting, the quality of the liquid crystal display device is improved.

また、単個液晶表示パネル39の対向基板31上の電極と良品単個VLSIチップ6上の電極との電気的接続をおこなうため、単個シール部33とは別に、導電性樹脂などからなるシール部別体導通部45を設けている。シール部別体導通部45は、単個シール部33とは別体であるため、位置の制約がなく応用範囲が広い。   Further, in order to make electrical connection between the electrode on the counter substrate 31 of the single liquid crystal display panel 39 and the electrode on the non-defective single VLSI chip 6, a seal made of conductive resin or the like is provided separately from the single seal portion 33. A separate body conducting portion 45 is provided. Since the seal part separate conduction part 45 is a separate body from the single seal part 33, there is no restriction on the position and the application range is wide.

第8の実施形態では、まず、複数の良品薄型単個VLSIチップ6を表面活性化接合層15を介して、チップアライメントマーク13を有する単個VLSIチップ積載基板11上に接合したチップ積載複合基板16上に、複数の単個シール部33とシール部別体導通部45を設け、単個シール部33で囲まれた領域に液晶36を滴下し、対向基板31を重ね、加圧と加熱を行いながら、紫外線(UV光)を対向基板31側から照射し、単個シール部33を硬化することで、加工前複数液晶表示パネル40を作製する。シール部別体導通部45は、液晶に触れない方が良いため、単個シール部33で囲まれた領域の外側に設けるのが良い。その後、加工前複数液晶表示パネル40の外周に紫外線硬化型樹脂を塗布して外周シール部37を設け、紫外線を対向基板31側から照射して硬化する。   In the eighth embodiment, first, a chip mounting composite substrate in which a plurality of non-defective thin single VLSI chips 6 are bonded onto a single VLSI chip mounting substrate 11 having a chip alignment mark 13 via a surface activation bonding layer 15. 16, a plurality of single seal portions 33 and separate seal portion conductive portions 45 are provided, the liquid crystal 36 is dropped on a region surrounded by the single seal portions 33, the counter substrate 31 is stacked, and pressurization and heating are performed. While performing, the ultraviolet-ray (UV light) is irradiated from the counter substrate 31 side, the single seal part 33 is hardened, and the multiple liquid crystal display panel 40 before a process is produced. Since it is better not to touch the liquid crystal, the separate seal portion conductive portion 45 is preferably provided outside the region surrounded by the single seal portion 33. Thereafter, an ultraviolet curable resin is applied to the outer periphery of the plurality of liquid crystal display panels 40 before processing to provide an outer peripheral seal portion 37, and ultraviolet rays are irradiated from the counter substrate 31 side to be cured.

次に、加工前複数液晶表示パネル40の単個VLSIチップ積載基板11側をダイシングテープ10上に接着し、対向基板31側より、所定の位置にフルダイシング溝27を形成する。フルダイシング溝27は、対向基板31と単個VLSIチップ積載基板11を厚さ方向に全て切断する。その後、良品単個VLSIチップ6の端子部を単個加工後対向基板32の端面から張り出す構造とするために、対向基板31にフルダイシング溝28を形成する。   Next, the single VLSI chip mounting substrate 11 side of the plurality of liquid crystal display panels 40 before processing is bonded onto the dicing tape 10 to form a full dicing groove 27 at a predetermined position from the counter substrate 31 side. The full dicing grooves 27 cut all the counter substrate 31 and the single VLSI chip mounting substrate 11 in the thickness direction. Thereafter, a full dicing groove 28 is formed in the counter substrate 31 so that the terminal portion of the single good VLSI chip 6 is processed so as to project from the end surface of the counter substrate 32.

以上により、開口部のない単個シール部33を有し、外形精度が良く、さらに、外周の欠け、破損のない、表示品質の良好な単個液晶表示パネル39を作製することができる。さらに、対向基板31側からのみのダイシング処理で良いため、加工前複数液晶表示パネル40を複数回、ダイシングテープ10に接着、剥離、接着、剥離を繰り返すことがないため、液晶表示パネルに与える機械的応力を低減することができる。   As described above, it is possible to manufacture a single liquid crystal display panel 39 having a single seal portion 33 having no opening, good outer shape accuracy, and having good display quality with no outer peripheral chipping or breakage. Furthermore, since the dicing process can be performed only from the counter substrate 31 side, the plurality of liquid crystal display panels 40 before processing are not repeatedly bonded, peeled, bonded, and peeled to the dicing tape 10 multiple times. Stress can be reduced.

また、シール部別体導通部45を単個シール部33とは別体とすることで、シール部別体導通部45を液晶36と触れない部分に形成できるため、液晶表示装置の信頼性が向上し、さらに、シール部別体導通部45による液晶36の厚さばらつきを低減できるため、表示品質も改善できる。   Further, by making the seal part separate conduction part 45 separate from the single seal part 33, the seal part separate conduction part 45 can be formed in a portion where it does not come into contact with the liquid crystal 36, so the reliability of the liquid crystal display device is improved. Furthermore, since the thickness variation of the liquid crystal 36 due to the seal-part-specific body conducting portion 45 can be reduced, the display quality can also be improved.

次に図12を用いて第9の実施形態を説明する。図12は、本発明の第9の実施形態における液晶表示装置の断面図で、図11に示す加工前複数液晶表示パネル40の別の実施形態を示している。なお、同様の部材には、同一の符号を用いてある。第9の実施形態では、液晶を注入する際に滴下注入(One Drop Filling:ODF)法を用いており、単個シール部33は絶縁性シール材と導電性シール材の2種類のシール材を連結して構成されると共に、開口部(液晶注入口)を有することなく閉じた形状をしている。この構成では、単個シール部33とは別の位置に対向基板31上の電極と良品単個VLSIチップ6上の電極との電気的接続を行う上下導通部を単個シール部33とは別に設ける必要がないため、良品単個VLSIチップ6の表示面積の比率を大きくすることができる。   Next, a ninth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 12 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device according to the ninth embodiment of the present invention, and shows another embodiment of the pre-processing multiple liquid crystal display panel 40 shown in FIG. In addition, the same code | symbol is used for the same member. In the ninth embodiment, a drop injection (ODF) method is used when injecting liquid crystal, and the single seal portion 33 is made of two types of seal materials, an insulating seal material and a conductive seal material. It is configured to be connected and has a closed shape without having an opening (liquid crystal injection port). In this configuration, the vertical conduction part that electrically connects the electrode on the counter substrate 31 and the electrode on the non-defective VLSI chip 6 at a position different from the single seal part 33 is separated from the single seal part 33. Since it is not necessary to provide it, the ratio of the display area of the non-defective VLSI chip 6 can be increased.

第9の実施形態では、まず、複数の良品単個VLSIチップ6を表面活性化接合層15を介して、チップアライメントマーク13を有する単個VLSIチップ積載基板11上に接合したチップ積載複合基板16上に、複数の絶縁性シール材と絶縁性シール材に導電粒子を含む導電性シール材30の2種類が連結された単個シール部33を設け、単個シール部33で囲まれた領域に液晶36を滴下し、対向基板31を重ね、加圧と加熱を行いながら、紫外線(UV光)を対向基板31側から照射し、単個シール部33を硬化することで、加工前複数液晶表示パネル40を作製する。   In the ninth embodiment, first, a chip mounting composite substrate 16 in which a plurality of non-defective single VLSI chips 6 are bonded onto a single VLSI chip mounting substrate 11 having a chip alignment mark 13 via a surface activation bonding layer 15. A single seal portion 33 in which two kinds of conductive seal materials 30 including conductive particles are connected to a plurality of insulating seal materials and an insulating seal material is provided on a region surrounded by the single seal portion 33. The liquid crystal 36 is dropped, the counter substrate 31 is overlapped, and ultraviolet (UV light) is irradiated from the counter substrate 31 side while applying pressure and heating, and the single seal portion 33 is cured, thereby a plurality of liquid crystal displays before processing. Panel 40 is produced.

その後、加工前複数液晶表示パネル40の外周に紫外線硬化型樹脂を塗布して外周シール部37を設け、紫外線光を対向基板31側から照射して硬化する。本実施形態では、外周シール部37に紫外線を照射する際に、単個シール部33の導電性シール材30に対応する部分に開口を有するマスクを、加工前複数液晶表示パネル40の対向基板31上に載せ、単個シール部33の導電性シール材30にも紫外線を照射する。これは、導電性シール材30に含まれる導電粒子が紫外線の透過率を低下させることによる、導電性シール材30の硬化不良を改善することを目的としている。   Thereafter, an ultraviolet curable resin is applied to the outer periphery of the plurality of liquid crystal display panels 40 before processing to provide an outer peripheral seal portion 37, and cured by irradiating ultraviolet light from the counter substrate 31 side. In the present embodiment, when the outer peripheral seal portion 37 is irradiated with ultraviolet rays, a mask having an opening at a portion corresponding to the conductive seal material 30 of the single seal portion 33 is used as the counter substrate 31 of the plurality of liquid crystal display panels 40 before processing. The conductive sealing material 30 of the single seal portion 33 is irradiated with ultraviolet rays. This is intended to improve poor curing of the conductive sealing material 30 due to the conductive particles contained in the conductive sealing material 30 reducing the transmittance of ultraviolet rays.

次に、加工前複数液晶表示パネル40の単個VLSIチップ積載基板11側を粘着材付きダイシングテープ10上に接着し、対向基板31側より、所定の位置にフルダイシング溝27を形成する。フルダイシング溝27は、対向基板31と単個VLSIチップ積載基板11を厚さ方向に全て切断する。その後、良品単個VLSIチップ6の端子部を単個加工後対向基板32の端面から張り出す構造とするために、対向基板31にフルダイシング溝28を設ける。   Next, the single VLSI chip mounting substrate 11 side of the plurality of liquid crystal display panels 40 before processing is bonded onto the dicing tape 10 with an adhesive material, and a full dicing groove 27 is formed at a predetermined position from the counter substrate 31 side. The full dicing grooves 27 cut all the counter substrate 31 and the single VLSI chip mounting substrate 11 in the thickness direction. Thereafter, a full dicing groove 28 is provided in the counter substrate 31 so that the terminal portion of the single good VLSI chip 6 is processed so as to project from the end surface of the counter substrate 32.

以上により、絶縁性シール材と導電性シール材30が連結された開口部(液晶注入口)のない単個シール部33を有し、外形精度が良く、さらに、外周の欠け、破損のない、表示品質の良好な単個液晶表示パネルができる。さらに、対向基板31側からのみのダイシング処理で良いため、加工前複数液晶表示パネル40を複数回、ダイシングテープ10に接着、剥離、接着、剥離を繰り返すことがないため、液晶表示パネルに与える機械的応力を低減することができる。   As described above, it has a single seal portion 33 without an opening (liquid crystal injection port) where the insulating seal material and the conductive seal material 30 are connected, and the outer shape accuracy is good, and the outer periphery is not chipped or damaged. A single liquid crystal display panel with good display quality can be produced. Furthermore, since the dicing process can be performed only from the counter substrate 31 side, the plurality of liquid crystal display panels 40 before processing are not repeatedly bonded, peeled, bonded, and peeled to the dicing tape 10 multiple times. Stress can be reduced.

1 母VLSI基板
2 裏面研磨加工後母VLSI基板
5 単個VLSIチップ
6 良品単個VLSIチップ
7 ダイシング溝
8 薄型単個VLSIチップ
9 良品薄型単個VLSIチップ
10 ダイシングテープ
11 単個VLSIチップ積載基板
13 チップアライメントマーク
15 表面活性化接合層
16 チップ積載複合基板
17 チップ間ギャップ
20 レーザーマーク
23 加工後チップ間ギャップ充填材
25 チップ接着剤
27 フルダイシング溝
30 導電性シール材
31 対向基板
33 単個シール部
36 液晶
39 単個液晶表示パネル
40 加工前複数液晶表示パネル
45 シール部別体導通部
51 外部回路基板
55 アルミニウムワイヤ
58 対向電極導通部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Mother VLSI substrate 2 Back surface polished mother VLSI substrate 5 Single VLSI chip 6 Good single VLSI chip 7 Dicing groove 8 Thin single VLSI chip 9 Good single thin VLSI chip 10 Dicing tape 11 Single VLSI chip mounting substrate 13 Chip alignment mark 15 Surface activated bonding layer 16 Chip-laden composite substrate 17 Inter-chip gap 20 Laser mark 23 Inter-chip gap filling material 25 Chip adhesive 27 Full dicing groove 30 Conductive sealing material 31 Counter substrate 33 Single seal part 36 Liquid crystal 39 Single liquid crystal display panel 40 Multiple liquid crystal display panels 45 before processing 45 Separate conductive part 51 for sealing part External circuit board 55 Aluminum wire 58 Conductive part for counter electrode

Claims (17)

機能的に良品である良品VLSIチップを選択的にVLSIチップ積載基板上に複数配置する工程と、
前記VLSIチップ積載基板上に配置された複数の前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に固定する工程と、
前記VLSIチップ積載基板上に固定された複数の前記良品VLSIチップ上に単個シール部を設ける工程と、
前記単個シール部を介して前記VLSIチップ積載基板に対向基板を接着する工程と、
互いに接着された前記VLSIチップ積載基板と前記対向基板を、前記良品VLSIチップが設けられた領域毎に切断する工程と、
前記単個シール部で囲まれた領域に液晶を注入する工程と、
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A step of selectively placing a plurality of non-defective VLSI chips that are functionally non-defective on a VLSI chip mounting substrate;
Fixing the plurality of non-defective VLSI chips arranged on the VLSI chip mounting substrate on the VLSI chip mounting substrate;
Providing a single seal part on the plurality of non-defective VLSI chips fixed on the VLSI chip mounting substrate;
Bonding a counter substrate to the VLSI chip mounting substrate through the single seal portion;
Cutting the VLSI chip mounting substrate and the counter substrate bonded to each other in each region where the non-defective VLSI chip is provided;
Injecting liquid crystal into a region surrounded by the single seal part;
A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising:
前記VLSIチップ積載基板にチップアライメントマークを形成し、該チップアライメントマークを基準にして、前記VLSIチップ積載基板上に前記良品VLSIチップを移載することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。   2. The liquid crystal display according to claim 1, wherein a chip alignment mark is formed on the VLSI chip mounting substrate, and the non-defective VLSI chip is transferred onto the VLSI chip mounting substrate based on the chip alignment mark. Device manufacturing method. 前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に表面活性化接合法により固定することを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置の製造方法。   3. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the non-defective VLSI chip is fixed on the VLSI chip mounting substrate by a surface activation bonding method. 前記良品VLSIチップの裏面と前記VLSIチップ積載基板の表面を研磨し、研磨した面同士を表面活性化接合法により固定することを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装置の製造方法。   4. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 3, wherein the back surface of the non-defective VLSI chip and the surface of the VLSI chip mounting substrate are polished, and the polished surfaces are fixed by a surface activated bonding method. 前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に接着材により固定することを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶表示装置の製造方法。   3. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the non-defective VLSI chip is fixed on the VLSI chip mounting substrate with an adhesive. 前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に配置する際に、近接する前記良品VLSIチップ間に間隙が生じるように前記良品VLSIチップを配置すると共に、該間隙に充填材を充填することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1つに記載の液晶表示装置の製造方法。   When the non-defective VLSI chip is disposed on the VLSI chip mounting substrate, the non-defective VLSI chip is disposed so that a gap is generated between the adjacent non-defective VLSI chips, and the gap is filled with a filler. A method for manufacturing a liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 5. 前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に配置する前に、前記良品VLSIチップの厚さが前記VLSIチップ積載基板の厚みよりも薄くなるように、前記良品VLSIチップの裏面を研磨することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1つに記載の液晶表示装置の製造方法。   Before placing the non-defective VLSI chip on the VLSI chip mounting substrate, the back surface of the non-defective VLSI chip is polished so that the thickness of the non-defective VLSI chip is smaller than the thickness of the VLSI chip mounting substrate. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is a liquid crystal display device. 前記良品VLSIチップを前記VLSIチップ積載基板上に固定した後、近接する前記良品VLSIチップ間の間隙を埋めるように前記良品VLSIチップを充填材で被覆し、該充填材の表面を前記良品VLSIチップの表面が露出するまで研磨することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1つに記載の液晶表示装置の製造方法。   After fixing the non-defective VLSI chip on the VLSI chip mounting substrate, the non-defective VLSI chip is covered with a filler so as to fill a gap between the adjacent non-defective VLSI chips, and the surface of the filler is covered with the non-defective VLSI chip. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the surface is polished until the surface of the liquid crystal display device is exposed. 前記充填材の表面を研磨すると同時に、前記VLSIチップ積載基板の裏面を研磨することを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置の製造方法。   9. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 8, wherein the back surface of the VLSI chip mounting substrate is polished simultaneously with the polishing of the surface of the filler. 互いに接着された前記VLSIチップ積載基板と前記対向基板を切断する前に、前記VLSIチップ積載基板と前記対向基板との間に、前記単個シール部を囲む外周シール部を設けることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1つに記載の液晶表示装置の製造方法。   Before cutting the VLSI chip mounting substrate and the counter substrate bonded to each other, an outer peripheral seal portion surrounding the single seal portion is provided between the VLSI chip mounting substrate and the counter substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1. 機能的に良品である良品VLSIチップと、
該良品VLSIチップを搭載するVLSIチップ積載基板と、
前記良品VLSIチップ上に単個シール部を介して接着された対向基板と、
前記単個シール部で囲まれた領域に注入された液晶と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置。
A good VLSI chip that is functionally good,
A VLSI chip mounting board on which the non-defective VLSI chip is mounted;
A counter substrate bonded on the non-defective VLSI chip through a single seal part;
Liquid crystal injected into a region surrounded by the single seal part;
A liquid crystal display device comprising:
前記良品VLSIチップの熱膨張係数と前記VLSIチップ積載基板の熱膨張係数は、同じであることを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。   12. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein a thermal expansion coefficient of the non-defective VLSI chip and a thermal expansion coefficient of the VLSI chip mounting substrate are the same. 前記良品VLSIチップの材質と前記VLSIチップ積載基板の材質は、同じであることを特徴とする請求項11又は12に記載の液晶表示装置。   13. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein a material of the non-defective VLSI chip and a material of the VLSI chip mounting substrate are the same. 前記良品VLSIチップの熱膨張係数と前記対向基板の熱膨張係数は、同じであることを特徴とする請求項11乃至13のいずれか1つに記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 11, wherein a thermal expansion coefficient of the non-defective VLSI chip and a thermal expansion coefficient of the counter substrate are the same. 前記良品VLSIチップの外周部に回路基板が接続され、該回路基板が接続された前記良品VLSIチップの外周部に対向する前記VLSIチップ積載基板の外周部は、前記回路基板が接続された前記良品VLSIチップの外周部よりも外周側へ張り出し、該張り出した前記VLSIチップ積載基板の外周部と前記FPCとの間に、充填材が充填されていることを特徴とする請求項11乃至14のいずれか1つに記載の液晶表示装置。   A circuit board is connected to an outer periphery of the non-defective VLSI chip, and an outer periphery of the VLSI chip mounting substrate facing the outer periphery of the non-defective VLSI chip to which the circuit board is connected is the non-defective product to which the circuit board is connected. 15. The method according to any one of claims 11 to 14, wherein a filler is filled between the outer peripheral portion of the VLSI chip and the FPC between the outer peripheral portion of the VLSI chip mounting substrate and the FPC. A liquid crystal display device according to any one of the above. 前記良品VLSIチップと前記VLSIチップ積載基板との間に、前記液晶を加熱するためのヒーター部が形成されていることを特徴とする請求項11乃至15のいずれか1つに記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 11, wherein a heater unit for heating the liquid crystal is formed between the non-defective VLSI chip and the VLSI chip mounting substrate. . 前記VLSIチップ積載基板の前記良品VLSIチップを搭載しない面に、前記液晶を加熱するためのヒーター部が形成されていることを特徴とする請求項11乃至16のいずれか1つに記載の液晶表示装置。   17. The liquid crystal display according to claim 11, wherein a heater portion for heating the liquid crystal is formed on a surface of the VLSI chip mounting substrate on which the non-defective VLSI chip is not mounted. apparatus.
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001100235A (en) * 1999-09-28 2001-04-13 Yokogawa Electric Corp Liquid crystal display device
JP2002110714A (en) * 2000-10-02 2002-04-12 Sony Corp Chip-integrating board, its manufacturing method, chip- like electronic component, its manufacturing method, and electronic equipment and its manufacturing method
JP2002250930A (en) * 2001-02-27 2002-09-06 Citizen Watch Co Ltd Display device and method for manufacturing the same
JP2003197659A (en) * 2001-12-21 2003-07-11 Sony Corp Chip-like electronic part and their manufacturing method, and pseudo-wafer used for manufacturing the part and its manufacturing method
JP2006011353A (en) * 2004-05-25 2006-01-12 Seiko Epson Corp Method of manufacturing electro-optical device
JP2009058564A (en) * 2007-08-30 2009-03-19 Seiko Epson Corp Manufacturing apparatus and manufacturing method for electro-optical device

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001100235A (en) * 1999-09-28 2001-04-13 Yokogawa Electric Corp Liquid crystal display device
JP2002110714A (en) * 2000-10-02 2002-04-12 Sony Corp Chip-integrating board, its manufacturing method, chip- like electronic component, its manufacturing method, and electronic equipment and its manufacturing method
JP2002250930A (en) * 2001-02-27 2002-09-06 Citizen Watch Co Ltd Display device and method for manufacturing the same
JP2003197659A (en) * 2001-12-21 2003-07-11 Sony Corp Chip-like electronic part and their manufacturing method, and pseudo-wafer used for manufacturing the part and its manufacturing method
JP2006011353A (en) * 2004-05-25 2006-01-12 Seiko Epson Corp Method of manufacturing electro-optical device
JP2009058564A (en) * 2007-08-30 2009-03-19 Seiko Epson Corp Manufacturing apparatus and manufacturing method for electro-optical device

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