JP2002110714A - Chip-integrating board, its manufacturing method, chip- like electronic component, its manufacturing method, and electronic equipment and its manufacturing method - Google Patents

Chip-integrating board, its manufacturing method, chip- like electronic component, its manufacturing method, and electronic equipment and its manufacturing method

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JP2002110714A
JP2002110714A JP2000302034A JP2000302034A JP2002110714A JP 2002110714 A JP2002110714 A JP 2002110714A JP 2000302034 A JP2000302034 A JP 2000302034A JP 2000302034 A JP2000302034 A JP 2000302034A JP 2002110714 A JP2002110714 A JP 2002110714A
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pseudo
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wafer
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亜由美 金本
Toru Tanaka
徹 田中
Kazuo Nishiyama
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide electronic equipment which enables packaging, reducing man-hours, such as a mount process, superior in reliability and easy at a low cost by utilizing the characteristic of wafer batch processing, dispensing with a mother board and the packaging using till now, and performing cutting after pseudo-wafers are collectively mounted in batch on a wiring board having the similar functions as this. SOLUTION: An adhesive sheet 2 is stuck on the board 1, a plurality of nondefective bare chips are fixed on the adhesive sheet 2 by setting the face of the A1 electrode pad 5 upside down, a resin 4 is adhered on the whole face including a part between the plurality of the good product bare chips 3, the pseudo-wafer 29 fixing the nondefective bare chips 3 are peeled, integrated with a pseudo mother board 80 providing corresponding wiring or the like, the resin 4 is cut between the nondefective bare chips 3 to separate each nondefective chip module 82, and electronic equipment is made, by using it.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明が属する技術分野】本発明は、チップ集積ボード
及びその製造方法、チップ状電子部品及びその製造方
法、並びに電子機器及びその製造方法に関するものであ
る。
The present invention relates to a chip integrated board and a method of manufacturing the same, a chip-shaped electronic component and a method of manufacturing the same, and an electronic device and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、デジタルビデオカメラやデジタル
携帯電話、更にノートPC(PersonalComputer)等に代
表される携帯用電子機器の、小型化や薄型化、軽量化に
対する要求は強く、半導体部品の表面実装密度をいかに
向上させるかが重要なポイントである。このため、パッ
ケージIC(QFP(Quad flat package)等)に代
る、より小型のCSP(Chip Scale Package)の開発や
一部での採用が既に進められている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there has been a strong demand for smaller, thinner and lighter portable electronic devices such as digital video cameras, digital cellular phones, and notebook PCs (Personal Computers). The key point is how to increase the density. For this reason, development of a smaller CSP (Chip Scale Package) instead of a package IC (QFP (Quad flat package) or the like) and its use in some parts have already been advanced.

【0003】CSPはベアチップ実装に近い実装サイズ
にもかかわらず、従来パッケージと同様にリペアが可能
という特徴がある。このCSPの製法として代表的なも
のに、バンプによってインターポーザー基板にフリップ
チップ実装する製法がある。
[0003] The CSP is characterized in that it can be repaired in the same manner as a conventional package despite its mounting size close to bare chip mounting. A typical method of manufacturing the CSP is a method of flip-chip mounting on an interposer substrate by using a bump.

【0004】フリップチップ実装におけるバンプ形成技
術には、一般にAl電極パッド上にAu-Stud Bump法や電
解めっき法によってAuバンプを形成する方法や、電解
めっき法や蒸着法等ではんだバンプを一括して形成する
方法が代表的である。しかし、民生用では、より低コス
トのフリップチップ実装の場合に、チップにしてからバ
ンプを形成(Au-Stud Bump法がその代表例である)する
のではなく、ウエーハ状態で一括してバンプを形成する
方法が生産タクトの点で望ましい。
[0004] The bump formation technology in flip chip mounting generally includes a method of forming an Au bump on an Al electrode pad by an Au-Stud Bump method or an electrolytic plating method, or a method of collectively forming solder bumps by an electrolytic plating method or a vapor deposition method. A typical example is a method of forming by using the method described above. However, for consumer use, in the case of flip-chip mounting at lower cost, instead of forming bumps after forming chips (Au-Stud Bump method is a typical example), bumps are collectively formed in a wafer state. A forming method is desirable in terms of production tact.

【0005】このようなウエーハ一括処理法は、近年の
ウエーハの大口径化(150mmφ→200mmφ→3
00mmφ)と、LSI(大規模集積回路)チップの接
続ピン数の増加傾向とを考えれば、当然の方向性であ
る。
[0005] Such a wafer batch processing method is intended to increase the diameter of a recent wafer (150 mmφ → 200 mmφ → 3
00 mmφ) and the tendency to increase the number of connection pins of an LSI (Large Scale Integrated Circuit) chip is a natural direction.

【0006】以下に、従来のバンプ形成方法を説明す
る。
Hereinafter, a conventional bump forming method will be described.

【0007】図11は、Auスタッドバンプ(Stud Bum
p)24の一例である。各々、個片に切り出された半導
体チップ25のAl電極パッド55面にワイヤーボンデ
ィング手法を用いてAuスタッドバンプ(Stud Bump)
24が形成されている。図12は、例えば入出力回路2
2、素子領域(メモリー)23が形成されたSi基板
(ウエーハ)51を、ウエーハレベルで一括処理して形
成した時のはんだバンプ62の一例である(なお、図中
の21はスクライブラインである)。
FIG. 11 shows an Au stud bump (Stud Bum).
p) 24 is an example. Au stud bumps (Stud Bumps) are formed on the surfaces of the Al electrode pads 55 of the semiconductor chip 25 cut into individual pieces by using a wire bonding method.
24 are formed. FIG. 12 shows, for example, the input / output circuit 2
2. This is an example of a solder bump 62 when the Si substrate (wafer) 51 on which the element region (memory) 23 is formed is formed by batch processing at the wafer level (21 in the figure is a scribe line). ).

【0008】また、図13には、より低コストを目指し
て、Ni無電解めっきとはんだペーストの印刷とでウエ
ーハ一括でバンプを形成する工程を示す。図13(a)
は、SiO2膜が形成されたSi基板(ウエーハ)を示
して、同図(b)はその電極を含むチップ部分を拡大し
たものである。図13(a)、(b)において、51は
Si基板(ウエーハ)、55はAl電極パッド、その他
はSiO2膜、Si3 4、SiO2膜やポリイミド膜から
成るパッシベーション膜である。
FIG. 13 shows that the cost is reduced.
The wafer with Ni electroless plating and solder paste printing.
This shows a step of forming bumps all at once. FIG. 13 (a)
Is SiOTwoShows the Si substrate (wafer) with the film formed
Then, FIG. 2B shows an enlarged chip portion including the electrode.
It is something. 13A and 13B, reference numeral 51 denotes
Si substrate (wafer), 55 is Al electrode pad, etc.
Is SiOTwoFilm, SiThreeN Four, SiOTwoFilm or polyimide film
Is a passivation film.

【0009】図13(c)では、Ni無電解めっき法に
より、開口されたAl電極パッド55の上面のみに、選
択的にNi無電解めっき層(UBM:Under Bump Meta
l)が形成されている。このNi無電解めっき層(UB
M)は、Al電極パッド55面をリン酸系エッチ液で前
処理した後に、Zn処理によりZnを置換析出させ、さ
らに、Ni−Pめっき槽に浸漬することによって容易に
形成でき、Al電極パッド55とはんだバンプとの接続
を助けるUBMとして作用する。
In FIG. 13C, a Ni electroless plating layer (UBM: Under Bump Meta) is selectively formed only on the upper surface of the opened Al electrode pad 55 by the Ni electroless plating method.
l) is formed. This Ni electroless plating layer (UB
M) can be easily formed by pretreating the surface of the Al electrode pad 55 with a phosphoric acid-based etchant, substituting and depositing Zn by Zn treatment, and further immersing the Ni electrode in a Ni-P plating bath. It acts as a UBM to help connect 55 with the solder bumps.

【0010】図13(d)は、メタルスクリーンマスク
52を当てて、はんだペースト59を印刷法によりNi
無電解めっき層(UBM)上に転写した状態を示す。図
13(e)は、ウエットバック(加熱溶融)法ではんだ
ペースト59を溶融して、はんだバンプ62を形成した
ものである。このように、Ni無電解めっき法及びはん
だペーストスクリーン印刷法等を用いることにより、フ
ォトプロセスを用いずに、簡単にはんだバンプ62を形
成することができる。
FIG. 13D shows a state in which a metal screen mask 52 is applied, and a solder paste 59 is formed by a printing method using Ni.
The state transferred to the electroless plating layer (UBM) is shown. FIG. 13E shows a state in which the solder bumps 62 are formed by melting the solder paste 59 by a wet back (heating and melting) method. As described above, by using the Ni electroless plating method and the solder paste screen printing method, the solder bumps 62 can be easily formed without using a photo process.

【0011】他方、CSPは、1ケ1ケのLSIをいか
に小さくして高密度で実装するかのアプローチである
が、デジタル機器の回路ブロックを見た場合、いくつか
の共通回路ブロックで成り立っており、これらをマルチ
チップパッケージとしたり、モジュール化(MCM:Mu
lti Chip Module)する技術も登場している。デジタル
携帯電話におけるSRAM(スタティック・ラム)、フ
ラッシュメモリー、マイコンの1パッケージ化等はその
一例である。
[0011] On the other hand, the CSP is an approach of reducing the size of each LSI and mounting it at a high density. However, when looking at circuit blocks of digital equipment, CSP is composed of several common circuit blocks. These are multi-chip packages or modularized (MCM: Mu
lti Chip Module) technology has also emerged. One example is a package of an SRAM (Static RAM), a flash memory, and a microcomputer in a digital mobile phone.

【0012】このMCM技術は、最近の1チップシステ
ムLSIにおいても大きな利点を発揮するものと期待さ
れている。即ち、メモリーやロジック、更にアナログL
SIを1チップ化する場合は、異なったLSI加工プロ
セスを同一ウエーハプロセスで処理することとなり、マ
スク数や工程数の著しい増加と開発TAT(Turn aroun
d time)の増加が問題となり、歩留りの低下も大きな懸
念材料である。
The MCM technology is expected to exert a great advantage even in recent one-chip system LSI. That is, memory and logic, and analog L
When the SI is integrated into one chip, different LSI processing processes are processed by the same wafer process, and the number of masks and the number of processes are significantly increased, and the development TAT (Turn aroun
The increase in d time) is a problem, and the decrease in yield is also a major concern.

【0013】このために、各LSIを個別に作り、MC
M化する方式が有力視されている。
For this purpose, each LSI is individually manufactured and MC
The method of M conversion is considered promising.

【0014】また図14(a)、(b)、(c)はフリ
ップチップ方式であって、回路基板60上の電極63に
フェイスダウンでチップ64を接続している。より小型
化、薄型化を考えた場合には、図18のフリップチップ
が有利な方式となっている。今後の高速化での接続距離
の縮小や各接続インピーダンスのバラツキを考えても、
フリップチップ方式に変わっていくものと思われる。
FIGS. 14A, 14B, and 14C show a flip-chip system in which a chip 64 is connected face-down to an electrode 63 on a circuit board 60. FIG. In consideration of further miniaturization and thinning, the flip chip shown in FIG. 18 is an advantageous method. Even considering the reduction of the connection distance and the variation of each connection impedance in future high speed,
It seems that it will change to the flip chip method.

【0015】また、図15に示すフリップチップタイプ
のCSPは、バンプが形成されたLSIチップ40と、
インターポーザー基板41とで構成されており、同図
(a)はFan in&Fan outタイプ(CSPの
接続電極53、54をLSIチップの内側及び外側の双
方に配置したもの)、同図(b)はFan inタイプ
(CSPの接続電極53、54をLSIチップの内側だ
けに配置したもの)を示す。いずれもLSIの電極面と
インターポーザー基板41との間の隙間部分に高弾性率
のアンダーフィル材42を充填し、バンプ接合部を固定
することによって、バンプ接合部に応力が集中すること
を防止し、インターポーザー基板41で応力を緩和する
ように設計されている。
A flip-chip type CSP shown in FIG. 15 has an LSI chip 40 on which bumps are formed,
FIG. 3A is a Fan in & Fan out type (where the connection electrodes 53 and 54 of the CSP are arranged on both the inside and outside of the LSI chip), and FIG. The Fan in type (the connection electrodes 53 and 54 of the CSP are arranged only inside the LSI chip) is shown. In any case, a gap between the electrode surface of the LSI and the interposer substrate 41 is filled with an underfill material 42 having a high elastic modulus to fix the bump joint, thereby preventing stress from being concentrated on the bump joint. The interposer substrate 41 is designed to relieve stress.

【0016】なお、図16は、上記CSPが、インター
ポーザー基板41を介して、たとえばはんだ等45によ
り実装基板43の電極44に接続された実装構造を示
す。
FIG. 16 shows a mounting structure in which the CSP is connected to the electrodes 44 of the mounting substrate 43 via, for example, solder 45 via the interposer substrate 41.

【0017】フリップチップ方式のMCMは、複数の異
種のLSIについて各々のLSIのAl電極パッド55
の面にAu−Stud Bumpを形成し、異方性導電
フィルム(ACF:Anisotropic Conductive Film)を
介して回路基板と接続する方法や、樹脂ペーストを用い
て圧接する方法、更にバンプとしてAuめっきバンプや
Ni無電解めっきバンプ、はんだバンプを用いる方法
等、種々のものが提案されている。図14(c)は、は
んだバンプ65による基板60との金属間接合で、より
低抵抗で確実に接合させた例である。
The flip-chip type MCM uses a plurality of heterogeneous LSIs for each of the Al electrode pads 55 of the respective LSIs.
A method of forming an Au-Stud Bump on the surface of the substrate and connecting it to a circuit board via an anisotropic conductive film (ACF), a method of press-contacting with a resin paste, and a method of forming an Au plated bump or a bump as a bump Various methods have been proposed, such as a method using Ni electroless plating bumps and solder bumps. FIG. 14C shows an example in which the metal is bonded to the substrate 60 with the solder bump 65 and the bonding is performed with lower resistance.

【0018】上記した各バンプ形成法は既に完成されて
いて、量産ベースの技術として活用が始まっている。例
えば、図11に示したAuスタッドバンプ24はチップ
単位のバンプ形成法であり、既存の設備を用いて、より
簡便にバンプを形成する方法として広く用いられている
が、各端子毎にバンプ形成処理を行うので、多ピンにな
る程、バンプ形成に要するコストが上昇してしまう。
Each of the above-described bump forming methods has already been completed, and has begun to be used as a mass production-based technique. For example, the Au stud bump 24 shown in FIG. 11 is a bump forming method for each chip, and is widely used as a method for forming bumps more easily using existing equipment. Since the process is performed, the cost required for bump formation increases as the number of pins increases.

【0019】また、最近のLSIの低電圧駆動において
は、Al配線層の電圧降下の問題が生じることから、配
線長を短くするために、周辺の電極パッドの配置だけで
なく、アクティブ素子上にも電極パッドを配置したエリ
アパッドが必要とされるが、図11のAuスタッドバン
プ24はボンディング荷重とダメージの面からエリアパ
ッドには不向きである。更に、Auスタッドバンプチッ
プの実装は、1個ずつの圧接工法であることや、両面実
装に難がある等の問題を抱えている。
In recent low-voltage driving of LSIs, a problem of voltage drop in the Al wiring layer occurs. In order to shorten the wiring length, not only the arrangement of peripheral electrode pads but also the active element Also, an area pad having an electrode pad is required, but the Au stud bump 24 in FIG. 11 is not suitable for the area pad from the viewpoint of bonding load and damage. Further, the mounting of the Au stud bump chip has problems such as the pressure welding method for each one and difficulty in mounting on both sides.

【0020】一方、ウエーハ一括のはんだバンプ形成法
は実装面でエリアパッド配置にも適用でき、一括リフロ
ーや両面実装が可能である等の利点がある。しかし、最
先端の歩留まりが低いウエーハに対して処理をすると、
良品チップ1個当たりのコストは極めて高くなる。
On the other hand, the batch solder bump forming method for a wafer can be applied to the area pad arrangement on the mounting surface, and has advantages such as batch reflow and double-side mounting. However, when processing wafers with low cutting-edge yields,
The cost per good chip becomes extremely high.

【0021】即ち、図17には、従来のウエーハ一括処
理における半導体ウエーハ53を示すが、最先端LSI
では高歩留りが必要とされるにも拘らず、スクライブラ
イン21で仕切られたチップの内、×印で示す不良品チ
ップ20の数が○印で示す良品チップ3の数より多くな
るのが実情である。
FIG. 17 shows a semiconductor wafer 53 in a conventional wafer batch process.
Although the high yield is required, among the chips partitioned by the scribe line 21, the number of defective chips 20 indicated by the mark x is larger than the number of non-defective chips 3 indicated by the mark ○. It is.

【0022】また、チップをベアチップの形で他所から
入手した場合のバンプ形成は極めて難しいという問題が
あった。即ち、上記した2種類のバンプ形成方法は各々
特徴を持つが、全ての領域に使える技術ではなく、各々
の特徴を活かした使い分けをされるのが現状である。ウ
エーハ一括バンプ処理法は、歩留まりが高く、ウエーハ
1枚の中に占める端子数が多い場合(例えば50000
端子/ウエーハ)や、エリアパッド対応の低ダメージバ
ンプ形成に特徴を発揮する。又、Auスタッドバンプ
は、チップ単位で入手した場合のバンプ処理や、簡便な
バンプ処理に特徴を発揮している。
Further, there is a problem that it is extremely difficult to form bumps when a chip is obtained from another place in the form of a bare chip. That is, the above-described two types of bump forming methods have their respective characteristics, but are not technologies that can be used for all regions, and at present, they are selectively used utilizing each characteristic. The wafer batch bump processing method has a high yield and a large number of terminals in one wafer (for example, 50,000).
It is effective for forming low damage bumps for terminals / wafers and area pads. Au stud bumps are characterized by bump processing when obtained in chip units and simple bump processing.

【0023】なお、図17に示した半導体ウエーハ53
をスクライブライン21に沿って切断すると、切断の影
響でチップにストレス、亀裂等のダメージが生じて、故
障の原因になることがある。さらに、良品チップ3及び
不良品チップ20を共に半導体ウエーハ53として一括
ではんだバンプ形成まで工程を進行させると、不良品チ
ップ20に施した工程が無駄になり、これもコストアッ
プの原因となる。
The semiconductor wafer 53 shown in FIG.
Is cut along the scribe line 21, the chip may be damaged by stress, cracks and the like due to the cutting, which may cause a failure. Furthermore, if the process for forming the non-defective chip 3 and the defective chip 20 together as the semiconductor wafer 53 is performed in a lump until the formation of the solder bumps, the steps performed on the defective chip 20 are wasted, which also causes an increase in cost.

【0024】また、特開平9−260581号公報に
は、Siウエーハ上に複数の半導体チップを接着固定
し、これをアルミナの如き基板上に設けた樹脂に加圧下
で埋め込んでから剥離することにより、ウエーハの表面
を平坦にし、ホトリソグラフィの技術によりこのウエー
ハ上で素子間の接続用の配線層を形成する方法が示され
ている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-260581 discloses a method in which a plurality of semiconductor chips are bonded and fixed on a Si wafer, embedded in a resin provided on a substrate such as alumina under pressure, and then peeled off. Discloses a method of flattening the surface of a wafer and forming a wiring layer for connection between elements on the wafer by photolithography.

【0025】この公知の方法によれば、ウエーハの一括
処理が可能となり、大量生産による低価格化を達成でき
るとしているが、ウエーハにおいて個々の半導体チップ
の裏面側には上記のアルミナの如き硬質の基板が存在し
ているために、スクライビング時にチップ間の樹脂と共
に、裏面側の硬質の基板も切断しなければならず、切断
用のブレードが破損するおそれがある。しかもチップの
側面は樹脂で覆われてはいるが、裏面は樹脂とは異質の
硬質の基板が存在しているだけであるため、チップの裏
面側は有効に保護されないことがあり、また両者間の密
着性が悪くなる。
According to this known method, wafers can be batch-processed and a low price can be achieved by mass production. However, a hard surface such as the above-mentioned alumina is provided on the back side of each semiconductor chip in the wafer. Since the substrate is present, the hard substrate on the back side must be cut together with the resin between the chips during scribing, and the cutting blade may be damaged. Moreover, although the side surface of the chip is covered with resin, the back surface only has a hard substrate different from the resin, so the back surface of the chip may not be effectively protected, and between the two. Of the adhesive becomes poor.

【0026】[0026]

【発明に至る過程】本出願人は、上記のような従来の問
題を解決するため、先願発明として、ウエーハ一括処理
の特徴を生かしつつ、最先端のLSIやベアチップで入
手した場合でも、高歩留り、低コストにして信頼性良く
提供可能な半導体チップ等のチップ状電子部品及びその
製造方法、並びにその製造に用いる疑似ウエーハ及びそ
の製造方法を提案した(特願2000−122112
号)。
Processes leading to the present invention To solve the above-mentioned conventional problems, the present applicant has taken advantage of the features of the batch processing of wafers as a prior application, and even if it is obtained with the most advanced LSI or bare chip, A chip-like electronic component such as a semiconductor chip and the like, which can be provided with high yield and low cost and with high reliability, and a method for manufacturing the same, and a pseudo wafer used for the manufacture and a method for manufacturing the same are proposed (Japanese Patent Application No. 2000-122112).
issue).

【0027】即ち、先願発明は、少なくとも電極が一方
の面側にのみ設けられ、この一方の面以外の全面が連続
した保護物質で覆われている半導体チップの如きチップ
状電子部品及びこのチップ状電子部品の複数個又は複数
種が、これらの間及びその裏面に連続して被着された保
護物質によって互いに固着されている疑似ウエーハに係
るものである。
That is, the prior invention discloses a chip-like electronic component such as a semiconductor chip in which at least electrodes are provided only on one surface side, and the entire surface other than the one surface is covered with a continuous protective material. The present invention relates to a pseudo wafer in which a plurality or a plurality of kinds of electronic components are adhered to each other by a protective substance continuously applied between them and on the back surface thereof.

【0028】又、先願発明は、基板上に、処理前は粘着
力を持つが処理後は粘着力が低下する粘着手段を貼り付
ける工程と、この粘着手段の上に複数個又は複数種の半
導体チップをその電極面を下にして固定する工程と、保
護物質を前記複数個又は複数種の半導体チップ間を含む
全面に被着する工程と、前記粘着手段に所定の処理を施
して前記粘着手段の粘着力を低下させ、前記半導体チッ
プを固定した疑似ウエーハを剥離する工程とを有する、
疑似ウエーハの製造方法に係り、更にこれに加えて、前
記複数個又は複数種の半導体チップ間において前記保護
物質を切断して各半導体チップ又はチップ状電子部品を
分離する工程とを有する、チップ状電子部品の製造方法
も提供するものである。
Further, the invention of the prior application relates to a step of adhering an adhesive means on a substrate, which has an adhesive force before treatment but decreases in adhesive force after the treatment, and a plurality or plural kinds of adhesive means on the adhesive means. Fixing the semiconductor chip with its electrode surface down, applying a protective substance to the entire surface including between the plurality of or plural kinds of semiconductor chips, and performing a predetermined treatment on the adhesive means to apply the adhesive. Reducing the adhesive force of the means, peeling off the pseudo wafer fixed the semiconductor chip,
A method of manufacturing a pseudo wafer, further comprising the step of cutting the protective material between the plurality of or plural kinds of semiconductor chips to separate each semiconductor chip or chip-shaped electronic component. A method of manufacturing an electronic component is also provided.

【0029】先願発明によれば、半導体チップ等のチッ
プ状電子部品(以下、半導体チップを代表例として説明
する。)の電極面以外(即ち、チップ側面及び裏面)が
連続した保護物質によって保護されるので、チップ化後
のハンドリングにおいてチップが保護され、ハンドリン
グが容易となり、良好な実装信頼性が得られる。
According to the invention of the prior application, a chip-like electronic component such as a semiconductor chip (hereinafter, a semiconductor chip is described as a representative example) is protected by a continuous protective material except for the electrode surface (ie, the chip side surface and the back surface). Therefore, the chip is protected in handling after chip formation, handling becomes easy, and good mounting reliability is obtained.

【0030】又、半導体ウエーハから切出されて良品の
みを選択したチップを基板に貼り付け、保護物質を全面
に被着した後に剥離することにより、あたかも全品が良
品チップからなる疑似ウエーハを得るため、良品チップ
に対するウエーハ一括でのバンプ処理等が可能となり、
低コストのバンプチップを形成できると共に、半導体チ
ップを疑似ウエーハから切り出す際にチップ間の保護物
質の部分を切断することになるので、半導体チップ本体
への悪影響(歪みやばり、亀裂等のダメージ)を抑えて
容易に切断することができる。
Further, a chip cut out from a semiconductor wafer and selected only of non-defective products is attached to a substrate, and a protective substance is applied over the entire surface and then peeled off, so that a pseudo wafer composed of all non-defective chips is obtained. , Bump processing etc. of wafers for non-defective chips at the same time becomes possible,
A low-cost bump chip can be formed, and a portion of the protective material between the chips is cut when the semiconductor chip is cut out from the dummy wafer, so that the semiconductor chip body is adversely affected (strain, burrs, cracks, etc.). And can be easily cut.

【0031】しかも、保護物質によってチップの側面及
び裏面が覆われていることから、Ni無電解めっき処理
も可能である。そして、自社製ウエーハのみならず、他
社から購入したベアチップでも、容易にはんだバンプ処
理等が可能になる。また、MCMに搭載される異種LS
Iチップを全て同一半導体メーカーから供給されるケー
スは少なく、最先端の半導体ラインの投資が大きくなっ
てきているために、SRAM、フラッシュメモリーやマ
イコン、更にCPU(中央演算処理ユニット)を同一半
導体メーカーで供給するのではなく、各々得意とする半
導体メーカーから別々にチップで供給してもらい、これ
らをMCM化することもできる。なお、上記の基板は繰
り返し使用できる、耐久性のあるものを選べば、バンプ
形成のコストや環境面でも有利である。
Further, since the side and back surfaces of the chip are covered with the protective substance, Ni electroless plating can be performed. In addition to a wafer manufactured in-house, a bare chip purchased from another company can be easily solder bumped. In addition, different LS installed in MCM
In many cases, all I-chips are supplied by the same semiconductor maker, and investment in cutting-edge semiconductor lines is increasing, so SRAM, flash memory, microcomputers, and CPUs (Central Processing Units) are used by the same semiconductor maker. Instead of supplying them in the form of a chip, they can be separately supplied in the form of chips from a semiconductor maker that is good at each of them, and these can be converted into MCMs. In addition, if the above-mentioned substrate is selected from durable ones that can be used repeatedly, it is advantageous in terms of bump formation cost and environment.

【0032】以下、先願発明の特徴を、好ましい実施の
形態に基づいて図面の参照下に具体的に説明する。
Hereinafter, the features of the invention of the prior application will be specifically described based on preferred embodiments with reference to the drawings.

【0033】まず図22は、図17に示した如き半導体
ウエーハ53より切り出された後、オープン/ショート
或いはDC(直流)電圧測定で良品と確認された良品の
半導体ベアチップ3(又はLSIチップ)のみを、円形
の石英基板1上にアクリル系等の粘着シート2を介して
等間隔に配列して貼り付けた一例である。また、図23
は、円形の石英基板1ではなく、角型のより大きなガラ
ス基板19を用いることにより、限られた面積に多数の
良品チップ3を粘着シート2によって貼り付けた例であ
り、その後の工程におけるコストメリットをより発揮出
来るようにしたものである。
First, FIG. 22 shows only the non-defective semiconductor bare chip 3 (or LSI chip) which is cut out from the semiconductor wafer 53 as shown in FIG. 17 and is confirmed as non-defective by open / short or DC (DC) voltage measurement. Are arranged and attached at equal intervals on a circular quartz substrate 1 via an adhesive sheet 2 made of acrylic or the like. FIG.
Is an example in which a large number of non-defective chips 3 are adhered to the limited area by the adhesive sheet 2 by using a rectangular glass substrate 19 instead of the circular quartz substrate 1, and the cost in the subsequent steps is reduced. It is something that can show the merit more.

【0034】以下に、チップを貼り付ける基板として図
22の如き石英基板1を用い、一括してはんだバンプを
形成する方法を図18〜図20について順を追って説明
する。
Hereinafter, a method of forming solder bumps collectively using the quartz substrate 1 as shown in FIG. 22 as a substrate to which a chip is to be attached will be described with reference to FIGS.

【0035】図18(a)は、仮の支持基板となる石英
基板1を示す。但し、基板への加熱プロセスは400℃
以下のため、より安価なガラス基板も使用できる。ま
た、この石英基板1は繰り返し使用できる。
FIG. 18A shows a quartz substrate 1 serving as a temporary support substrate. However, the heating process for the substrate is 400 ° C
Less expensive glass substrates can also be used for: The quartz substrate 1 can be used repeatedly.

【0036】次に、図18(b)のように、石英基板1
上に、通常のダイシングで用いられていて、紫外線を照
射されると粘着力が低下する例えばアクリル系の粘着シ
ート2を貼り付ける。
Next, as shown in FIG.
An acrylic pressure-sensitive adhesive sheet 2 that is used in normal dicing and has a reduced adhesive strength when irradiated with ultraviolet light is attached thereon.

【0037】次に、図18(c)のように、上記した如
くに良品と確認された複数の良品ベアチップ3をチップ
表面(デバイス面)28を下にして配列して粘着シート
2に貼り付ける。なお、良品ベアチップ3は、図17に
示した通常のウエーハ工程でダイシングして、使用した
ダイシングシート(図示せず)の延伸状態から取り出し
てもよいし、チップトレイから移載してもよい。ここで
重要なことは、自社、他社製のチップに関わらず、良品
ベアチップ3のみを基板1上に再配列させることであ
る。
Next, as shown in FIG. 18C, a plurality of non-defective bare chips 3 which have been confirmed as non-defective as described above are arranged with the chip surface (device surface) 28 facing down and attached to the adhesive sheet 2. . The good bare chip 3 may be diced in the normal wafer process shown in FIG. 17 and taken out of the stretched state of the used dicing sheet (not shown), or may be transferred from a chip tray. What is important here is to rearrange only the non-defective bare chips 3 on the substrate 1 irrespective of chips made by the company or other companies.

【0038】次に、図18(d)のように、チップ3上
から有機系絶縁性樹脂、例えばアクリル系等の樹脂4を
均一に塗布する。この塗布はスピンコート法か印刷法で
容易に実現できる。
Next, as shown in FIG. 18D, an organic insulating resin, for example, an acrylic resin 4 is uniformly applied on the chip 3. This application can be easily realized by spin coating or printing.

【0039】次に、図18(e)のように、石英基板1
の裏側31より紫外線を照射して、粘着シート2の粘着
力を弱くして、樹脂4で側面及び裏面が連続して固めら
れた複数の良品のベアチップ3からなる疑似ウエーハ2
9を石英基板1から接着面30で剥離する。
Next, as shown in FIG.
The pseudo wafer 2 is composed of a plurality of non-defective bare chips 3 whose side and back surfaces are continuously solidified with the resin 4 by irradiating ultraviolet rays from the back side 31 of the adhesive sheet 2 to weaken the adhesive force of the adhesive sheet 2.
9 is peeled off from the quartz substrate 1 at the bonding surface 30.

【0040】次に、図19(f)のように、良品ベアチ
ップ表面28(デバイス面)が上になるように疑似ウエ
ーハ29をひっくり返す。疑似ウエーハ29は同図に拡
大して示すように、Si基板上にSiO2膜を介してA
l電極パッド5及びパッシベーション膜が形成されたも
のである。
Next, as shown in FIG. 19 (f), the dummy wafer 29 is turned over so that the non-defective bare chip surface 28 (device surface) faces upward. The pseudo wafer 29 is formed on a Si substrate via an SiO 2 film as shown in an enlarged scale in FIG.
The electrode pad 5 and the passivation film are formed.

【0041】次に、図19(g)〜図20(i)のよう
に、既述した図13(c)〜(e)と同じ処理を施す。
図19(g)はUBMとなるNi無電解めっき処理、図
2(h)は印刷マスク8を用いたはんだペースト9の印
刷転写、図20(i)はウエットバック法によるはんだ
バンプ12の形成状況である。
Next, as shown in FIGS. 19 (g) to 20 (i), the same processing as in FIGS. 13 (c) to 13 (e) is performed.
FIG. 19 (g) shows a Ni electroless plating process for forming a UBM, FIG. 2 (h) shows a print transfer of a solder paste 9 using a print mask 8, and FIG. 20 (i) shows a state of formation of a solder bump 12 by a wet back method. It is.

【0042】即ち、図19(g)では、Ni無電解めっ
き法にて、開口されたAl電極パッド5面の上のみに、
選択的にNi無電解めっき層(UBM)が形成されてい
る。なお、このNi無電解めっき層(UBM)は、Al
電極パッド5の上面をリン酸系エッチ液で前処理した後
に、Zn処理によりZnを置換析出させ、さらにNi−
Pめっき槽に浸漬させることにより、容易に形成でき、
Al電極パッド5とはんだバンプとの接続を助けるUB
M(Under Bump Metal)として作用する。
That is, in FIG. 19 (g), only the surface of the opened Al electrode pad 5 is formed by Ni electroless plating.
A Ni electroless plating layer (UBM) is selectively formed. The Ni electroless plating layer (UBM) is made of Al
After pretreatment of the upper surface of the electrode pad 5 with a phosphoric acid-based etchant, Zn treatment is performed to replace and precipitate Zn, and further, Ni-
By immersing in a P plating tank, it can be easily formed,
UB to help connect Al electrode pad 5 and solder bump
Acts as M (Under Bump Metal).

【0043】図19(h)は、印刷マスク8を当てて、
はんだペースト9を印刷法によりNi無電解めっき層
(UBM)上に転写した状態である。図20(i)で
は、ウエットバック法ではんだペースト9を溶融して、
はんだバンプ12を形成した状態である。このように、
Ni無電解めっき法及びはんだペーストスクリーン印刷
法等を用いることにより、フォトプロセスを用いずに簡
単にはんだバンプ12を形成できる。
FIG. 19H shows a state in which the print mask 8 is applied to
This is a state in which the solder paste 9 is transferred onto a Ni electroless plating layer (UBM) by a printing method. In FIG. 20 (i), the solder paste 9 is melted by a wet back method,
This is a state in which the solder bumps 12 have been formed. in this way,
By using a Ni electroless plating method, a solder paste screen printing method, or the like, the solder bumps 12 can be easily formed without using a photo process.

【0044】上記のようにして、低歩留まりの最先端の
LSIや他社から入手したチップであっても、良品のチ
ップ3のみを再び石英基板1に貼り付けて、あたかも1
00%良品ベアチップ3のみで構成された疑似ウエーハ
29を作製し、ウエーハ一括の低コストのバンプ形成が
可能になる。
As described above, even if the chip is obtained from a cutting-edge LSI with a low yield or obtained from another company, only the good chip 3 is pasted again on the quartz substrate 1 as if
By manufacturing the pseudo wafer 29 composed of only the bare chip 3 of the non-defective product 100%, the bumps can be formed at a low cost in a batch of wafers.

【0045】そして、図20(i)において、プローブ
検査による電気的特性の測定やバーンインを行って、図
1(c)の工程前に良品ベアチップ3を選別したことに
加えて、更により確実に良品チップのみを選別できる。
In FIG. 20 (i), the electrical characteristics are measured by probe inspection and burn-in is performed to select non-defective bare chips 3 before the step of FIG. 1 (c). Only good chips can be sorted out.

【0046】図20(j)は、チップ3を樹脂4で保護
して補強してなる良品チップ部品26の単位でブレード
32(又はレーザ)でスクライブライン33に沿ってダ
イシング11して、個々の個片とする工程を示す。
FIG. 20 (j) shows a dicing 11 along a scribe line 33 with a blade 32 (or laser) in units of non-defective chip parts 26 obtained by protecting and reinforcing the chip 3 with a resin 4. The process of making individual pieces is shown.

【0047】次に、図20(k)のように、配線基板1
6上のソルダー(はんだ)レジスト15で囲まれかつソ
ルダー(はんだ)ペースト13を被着した電極14を設
けた実装基板27に、個片化された良品チップ部品26
をマウントする。
Next, as shown in FIG.
6 is mounted on a mounting substrate 27 provided with electrodes 14 covered with a solder (solder) resist 15 and coated with a solder (solder) paste 13.
To mount.

【0048】この際、良品チップ部品26の側面と裏面
は樹脂4で覆われているため、実装基板27への実装時
の良品チップ部品26の吸着等のハンドリング等で、直
接良品チップ部品26がダメージを受けることがなく、
そのために、高い信頼性を持つフリップチップ実装が期
待できる。
At this time, the side surface and the back surface of the non-defective chip component 26 are covered with the resin 4, so that the non-defective chip component 26 is directly handled by handling such as suction of the non-defective chip component 26 during mounting on the mounting board 27. Without taking any damage,
Therefore, flip-chip mounting with high reliability can be expected.

【0049】なお、上記の記述は半導体チップのフリッ
プチップ実装技術に関するものであるが、フリップチッ
プ高密度実装における接続用はんだバンプの形成技術と
その製造方法に関するものでもあり、良品ベアチップ3
をその表面(デバイス面)28を下にして石英基板1上
に等間隔で並べて貼り付け、その後に樹脂4を裏面等に
均一に塗布して、良品チップ3同士を固定する。
Although the above description relates to the flip chip mounting technology of a semiconductor chip, it also relates to the connection solder bump forming technology in flip chip high density mounting and its manufacturing method.
Are adhered on the quartz substrate 1 with their front surfaces (device surfaces) 28 facing down at regular intervals, and then the resin 4 is uniformly applied to the back surface or the like to fix the non-defective chips 3 to each other.

【0050】しかる後に、貼着シート2から剥がして、
良品チップ3のみが配列された疑似ウエーハ29を作製
し、この疑似ウエーハ29に一括でバンプ形成をして、
低コストでバンプチップを製造できる。このバンプチッ
プは、小型・軽量の携帯用電子機器のみならず、全ての
エレクトロニクス機器に利用され得る。
After that, peel off from the adhesive sheet 2,
A pseudo wafer 29 in which only good chips 3 are arranged is produced, and bumps are formed on the pseudo wafer 29 at one time.
Bump chips can be manufactured at low cost. This bump chip can be used not only for small and lightweight portable electronic devices but also for all electronic devices.

【0051】図21は、上記のはんだペースト9に代え
て、はんだボール17を用いた変形例によるバンプの形
成方法を示す。
FIG. 21 shows a bump forming method according to a modification using solder balls 17 in place of the solder paste 9 described above.

【0052】即ち、まず、疑似ウエーハ上に形成された
Al電極パッド5を被覆するパッシベーション膜に対し
て、バンプ電極を形成する箇所を開口して、そこにNi
無電解めっき層(UBM)を形成する。
That is, first, a portion for forming a bump electrode is opened in the passivation film covering the Al electrode pad 5 formed on the pseudo wafer, and Ni is formed there.
An electroless plating layer (UBM) is formed.

【0053】次に、このNi無電解めっき層(UBM)
の上にフラックス18を印刷法等により塗布する。その
フラックス18の材料としては、はんだボール17を転
写し易いように粘着力の高いものが好ましい。なお、フ
ラックス18の塗布は印刷法に強いて限定しなくてもよ
いが、現実的には印刷法が好ましい。それは、他の方法
に比べ、フラックス18を所望のパターンに簡便な操作
で効率よく塗布することができるからである。
Next, the Ni electroless plating layer (UBM)
The flux 18 is applied on the substrate by a printing method or the like. As a material of the flux 18, a material having a high adhesive strength is preferable so that the solder balls 17 can be easily transferred. The application of the flux 18 is not limited to the printing method because it is strong. However, in practice, the printing method is preferable. This is because the flux 18 can be efficiently applied to a desired pattern with a simple operation as compared with other methods.

【0054】さらに、はんだボール17をフラックス1
8上に載置してはんだボール17のリフロー(加熱溶
融)を行う。これにより、はんだボール17はNi無電
解めっき層(UBM)に強く付着する。最後にフラック
ス18の洗浄を行う。これを以ってバンプ電極の形成は
完了する。
Further, the solder balls 17 were changed to flux 1
The solder balls 17 are placed on the solder balls 8 and reflowed (heated and melted). Thereby, the solder balls 17 strongly adhere to the Ni electroless plating layer (UBM). Finally, the flux 18 is washed. This completes the formation of the bump electrode.

【0055】上述したように、先願発明によれば、良品
の半導体チップをウエーハより切り出して、基板に等間
隔で再配列して貼り付け、樹脂の塗布後に剥離して、あ
たかも全品が良品チップである疑似ウエーハを得るた
め、良品チップに対するウエーハ一括でのはんだバンプ
処理等が可能となり、低コストのフリップチップ用はん
だバンプチップを形成できる。又、自社製ウエーハのみ
ならず、他社から購入したベアチップでも容易にはんだ
バンプ処理等が可能になる。
As described above, according to the prior application, a non-defective semiconductor chip is cut out from a wafer, rearranged and adhered to a substrate at regular intervals, peeled off after resin is applied, and as if all products were non-defective chips. In order to obtain a pseudo wafer, it is possible to perform solder bump processing or the like on the non-defective chip in a batch of wafers, and to form a low-cost flip-chip solder bump chip. Also, solder bump processing and the like can be easily performed not only on in-house manufactured wafers but also on bare chips purchased from other companies.

【0056】又、樹脂によって少なくともチップ側面、
好ましくはチップ側面及び裏面が覆われているので、N
i無電解めっき処理も可能であると共に、樹脂によって
チップ側面及び裏面を保護されているので、チップの個
片後の実装ハンドリングにおいてもチップが保護され
て、良好な実装信頼性が得られる。良品チップを貼り付
ける基板はウエーハ剥離後は繰り返し使用できて、バン
プ形成のコストや環境面で有利である。
Further, at least the side of the chip,
Preferably, since the chip side and back surfaces are covered,
Since i-electroless plating is possible, and the side and back surfaces of the chip are protected by the resin, the chip is protected in the mounting handling after the chip is separated, and good mounting reliability is obtained. The substrate to which the good chip is attached can be used repeatedly after the wafer is separated, which is advantageous in terms of bump formation cost and environment.

【0057】又、ウエーハ一括処理による低コストバン
プ処理の特徴を活かして、最先端のLSIやベアチップ
の形で入手したチップでも使え、汎用性の高い新しいバ
ンプ形成法を提供できる。又、半導体チップを疑似ウエ
ーハから切り出す際に、樹脂の部分のみを切断するの
で、切断を容易に行え、ブレードの破損もなく、半導体
チップ本体への悪影響(歪みやばり、亀裂等のダメー
ジ)を抑えることができる。
Also, by utilizing the feature of low-cost bump processing by batch processing of wafers, it is possible to use a chip obtained in the form of a state-of-the-art LSI or bare chip, and to provide a highly versatile new bump forming method. In addition, when the semiconductor chip is cut from the pseudo wafer, only the resin portion is cut, so that the cutting can be easily performed, the blade is not damaged, and the semiconductor chip body is not adversely affected (strain, burrs, cracks, etc.). Can be suppressed.

【0058】[0058]

【発明が解決しようとする課題】ところで、前述した先
願発明や従来技術によると、電子機器製品を組立てる際
に、シングルチップ又はマルチチップはインターポーザ
ーを用いてパッケージングした後、マザーボードに実装
するか、あるいはベアで入手したチップもしくはチップ
製品をマザーボードに直接実装(あるいは埋め込み)す
るか、更には電気的な入出力端子等の電子部品をマザー
ボードに直接実装しており、電子機器製品の組立てには
マザーボードが不可欠であった。
According to the above-mentioned prior invention and prior art, when assembling an electronic device product, a single chip or a multi-chip is packaged using an interposer and then mounted on a motherboard. Either the chip or chip product obtained by bare is directly mounted (or embedded) on the motherboard, or electronic components such as electrical input / output terminals are directly mounted on the motherboard, and are used for assembling electronic device products. The motherboard was indispensable.

【0059】たとえば、図24に示す例に基づいて説明
すると、同図(i’)、(j’)は図20(i)、
(j)に対応するもの(但し、マルチチップ方式で種類
又はサイズの異なるチップ3が一体化されたもの)であ
る。図24(i’)でバンプ12(場合によっては配
線)を形成した疑似ウエーハ29は、図24(j’)で
チップ部品26にダイシング加工した後、このチップ部
品26を図24(k’)のようにマザーボード70に実
装する。この際、他の電子部品71や、液晶素子などの
ユーザーインターフェース72、他の電子製品との接続
のための電気的入出力端子など73もマザーボード70
に実装し、更に全体が外装材74で覆われている。
For example, referring to the example shown in FIG. 24, FIGS. 20 (i ') and (j') show FIGS.
(J) (however, chips 3 of different types or sizes are integrated in a multi-chip system). The dummy wafer 29 on which the bumps 12 (in some cases, wiring) are formed in FIG. 24 (i ′) is diced into the chip component 26 in FIG. As shown in FIG. At this time, other electronic components 71, a user interface 72 such as a liquid crystal element, and electrical input / output terminals 73 for connection with other electronic products are also provided on the motherboard 70.
And the whole is covered with an exterior material 74.

【0060】ところが、こうした電子機器の製品の大き
さは、部品と部品同士をつなぐマザーボード70の基板
回路の配線、チップ及びチップ部品のパッケージングサ
イズに左右され、小型化が難しかった。例えば、チップ
26及びチップ部品71の配線には0.2μm前後の微
細化のプロセスが使用できるにも関わらず、マザーボー
ド70や、更にはインターポーザーの配線は数十μmが
標準で、チップ及びチップ部品が小さく薄くなってもイ
ンターポーザー、特にマザーボードの小型化が難しく、
でき上がる電子機器製品の小型化にはマザーボードの微
細化が課題であった。
However, the size of such an electronic device product is affected by the wiring of the substrate circuit of the motherboard 70 connecting the components and the packaging size of the chips and chip components, and it is difficult to reduce the size. For example, although a process of miniaturization of about 0.2 μm can be used for the wiring of the chip 26 and the chip component 71, the wiring of the motherboard 70 and further the interposer is tens of μm as a standard. Even if the parts are small and thin, it is difficult to downsize the interposer, especially the motherboard,
The miniaturization of the motherboard was an issue in miniaturizing the resulting electronic equipment products.

【0061】また、重量についても同様のことが言え
る。さらに、製品の製造工程から見ても、全てのチップ
及びチップ部品がベアで実装できればよいが、実際は、
チップ及びチップ部品を実装し易く、また配線し易くす
るために、パッケージングという再配線の工程が必要で
あり、このパッケージングが多くのコストと時間を必要
とし、電子機器本体の体積、重量の増加の原因となって
いた。
The same can be said for the weight. Furthermore, from the viewpoint of the manufacturing process of the product, it is sufficient that all the chips and chip components can be mounted by bare, but in fact,
In order to facilitate mounting and wiring of chips and chip components, a re-wiring process called packaging is required, and this packaging requires a lot of cost and time, and the volume and weight of the electronic device itself are reduced. Was causing the increase.

【0062】さらに、電子機器製品本体の外装材74に
樹脂や金属を使用し、内部のマザーボードや電子部品が
露出しないようにしている。この外装材の使用も、パッ
ケージングやマザーボードへの樹脂や金属の使用と構造
的に重複し、体積や重量増大化への影響が大きく、製品
のコスト増大、プロセスの増加の原因となっている。
Further, resin or metal is used for the exterior material 74 of the electronic device product main body so that the internal motherboard and electronic components are not exposed. The use of this exterior material also structurally overlaps with the use of resin and metal for packaging and motherboards, greatly affecting the volume and weight, causing increased product costs and processes. .

【0063】そして、現段階では環境対策として鉛フリ
ーはんだ、ハロゲンフリーマザーボードが推奨されてい
るが、全ての製品が環境に対応できる段階には至ってい
ない。
At this stage, lead-free soldering and halogen-free motherboards are recommended as environmental measures, but not all products have reached the stage where they can cope with the environment.

【0064】従って、電子機器製品を製造する際、チッ
プ及びチップ部品のパッケージング、マザーボードの使
用、電子機器製品本体の外装材の使用によるプロセス増
加、コスト増大、開発及び製造時間の長期化、製品の体
積及び重量増加、環境対応(鉛フリー化、ハロゲンフリ
ー化)等を解決することが強く望まれていた。
Therefore, when manufacturing an electronic device product, packaging of chips and chip parts, use of a motherboard, an increase in processes due to the use of an exterior material of the electronic device product body, an increase in cost, a prolonged development and manufacturing time, and It has been strongly desired to solve such problems as increasing the volume and weight of the product, and responding to environmental concerns (lead-free and halogen-free).

【0065】一方、ウエーハ一括バンプ形成方式でバン
プを形成したLSIチップをCSP化する際は、通常、
まずダイシングによって疑似ウエーハをチップに個片化
し、これを一チップづつ、多数のインターポーザー基板
からなる大型基板にマウントし、リフロー、洗浄、樹脂
封止、樹脂硬化を経た後に基板をダイシングすることに
よりCSPを得る。
On the other hand, when an LSI chip on which bumps are formed by the wafer batch bump formation method is converted into a CSP, usually,
First, the dummy wafer is diced into chips by dicing, and each chip is mounted on a large substrate consisting of a large number of interposer substrates, and the substrate is diced after reflow, cleaning, resin sealing, and resin curing. Get the CSP.

【0066】ここで、疑似ウエーハにバンプを形成した
後に、インターポーザー基板に一括マウントしようとす
ると、必然的にLSIチップの大きさとインターポーザ
ー基板の大きさを同じにする必要がある。この場合、イ
ンターポーザー基板に対して以下のような問題を全てク
リアにする必要がある。
Here, if the bumps are formed on the pseudo wafer and then mounted on the interposer substrate at the same time, the size of the LSI chip and the size of the interposer substrate must necessarily be the same. In this case, it is necessary to clear all the following problems with respect to the interposer substrate.

【0067】(イ)CSP(インターポーザー)の外部
電極ピッチはマザーボードとの整合性をとる必要がある
ため、CSP側だけで自由に設計できない。(ロ)CS
Pの外部電極をLSIチップの内側だけに配置するいわ
ゆる図15(b)に示したFan in構造しかできな
いため、外部電極を配置できる上限数が制限される。F
an in構造で設計上電極を必要数配置できたとして
も、非常に高度なプロセスを要するため、コスト的に高
くなり、その結果、基板のコストが高くなってしまう。
(A) Since the external electrode pitch of the CSP (interposer) must be matched with the motherboard, it cannot be freely designed only on the CSP side. (B) CS
Since only the so-called Fan-in structure shown in FIG. 15B, in which the P external electrodes are arranged only inside the LSI chip, the maximum number of external electrodes that can be arranged is limited. F
Even if the required number of electrodes can be arranged by design in an an-in structure, a very high-level process is required, so that the cost is increased, and as a result, the cost of the substrate is increased.

【0068】一般には、以上のような問題をクリアでき
ないため、インターポーザー基板の電極としては図15
(a)に示すようなFan in&Fan outを混在
させることになり、その結果としてインターポーザー基
板のサイズはLSIチップより大きくなってしまう。こ
のため、ウエーハと基板を一括マウントすることはでき
ない。また、逆にインターポーザー基板のサイズに合わ
せて、LSIチップを製造することは、無駄が多くなる
ため、非常に高価なLSIプロセスに適応することは無
理である。
Generally, since the above problems cannot be solved, the electrodes of the interposer substrate are not shown in FIG.
Fan in & Fan out as shown in (a) is mixed, and as a result, the size of the interposer substrate becomes larger than that of the LSI chip. Therefore, the wafer and the substrate cannot be mounted collectively. Conversely, manufacturing an LSI chip in accordance with the size of the interposer substrate is wasteful, and it is impossible to adapt to an extremely expensive LSI process.

【0069】一方、先願発明に基づいてCSPを製造す
る場合は、まず疑似ウエーハをダイシングしてLSIチ
ップを個片化する(他社などからチップで供給された場
合はダイシングなし)。そして、マウンター装置を使用
して良品チップのみを再配置して疑似基板を形成し、次
いで、疑似基板一括処理によりバンプを形成する。次
に、再度ダイシングによってチップを個片化する。そし
て、再びマウンター装置を使用して、多数のインターポ
ーザー基板からなる大型基板に1チップづつマウント
し、リフロー、洗浄、樹脂封止、樹脂硬化を経た後に基
板をダイシングすることにより、1つのCSPを得る。
このように、特に先願発明の方法でCSPを作成する
と、ダイシングとチップマウンターをそれぞれ2度使用
することになり、工程が複雑であった。
On the other hand, in the case of manufacturing a CSP based on the invention of the prior application, first, a pseudo wafer is diced into individual LSI chips (no dicing is performed when chips are supplied from other companies or the like). Then, only the non-defective chips are rearranged using a mounter device to form a pseudo substrate, and then bumps are formed by pseudo substrate batch processing. Next, the chips are singulated again by dicing. Then, using the mounter device again, one chip is mounted on a large substrate composed of a large number of interposer substrates, and after dicing the substrate after reflow, cleaning, resin sealing, and resin curing, one CSP is formed. obtain.
As described above, especially when the CSP is formed by the method of the prior application, the dicing and the chip mounter are used twice, and the process is complicated.

【0070】また、パッケージ厚さを薄くする必要があ
る場合は、例えば疑似基板の状態でチップ裏面から研削
するが、チップが樹脂で接続されているので、チップ裏
面側の樹脂が研削されてなくなってしまうと、チップ側
面でしか樹脂で接着していないため、接着力が弱くな
り、研削時にチップが剥れてしまう危険性があった。
When it is necessary to reduce the thickness of the package, the chip is ground from the back surface of the chip, for example, in the state of a pseudo substrate. However, since the chips are connected by resin, the resin on the back surface of the chip is not ground. In such a case, since the resin is bonded only on the side surface of the chip, the bonding force is weakened, and there is a risk that the chip may peel off during grinding.

【0071】また、この後にダイシングすることによっ
てチップを個片化した後に、非常に薄いチップをダイシ
ング用のテープから剥離したり、ハンドリングするのは
厄介であった。
Further, after dicing the chips into individual pieces, it is troublesome to peel off and handle the very thin chips from the dicing tape.

【0072】そこで、本発明の目的は、上記した先願発
明の有する特長を生かしながら、これまで用いていたマ
ザーボードやパッケージングを不要として、これと同様
の機能をなす配線基板に疑似ウエーハを一括マウントし
た後に切断することによりパッケージングを可能とし、
マウント工程などの工数を減らし、信頼性良く、容易か
つ低コストに電子機器を得ることにある。
Therefore, an object of the present invention is to make use of the features of the above-mentioned prior application, eliminate the need for a motherboard and packaging used up to now, and package a pseudo wafer on a wiring board having a similar function. Packaging is possible by cutting after mounting,
An object of the present invention is to reduce the number of steps such as a mounting process and obtain an electronic device with good reliability, easily and at low cost.

【0073】[0073]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、少なく
とも電極が一方の面側に設けられたチップ部品の複数個
又は複数種が、少なくとも側面に被着された保護物質に
より固着してなる疑似ウエーハと、この疑似ウエーハの
電極面側に対応する配線を有する配線ボードとが、電気
的接続状態で一体化されたチップ集積ボードに係るもの
である。
That is, according to the present invention, a plurality or a plurality of types of chip components having at least one electrode provided on one surface side are fixed by a protective substance adhered to at least the side surface. The present invention relates to a chip integrated board in which a pseudo wafer and a wiring board having wiring corresponding to an electrode surface side of the pseudo wafer are integrated in an electrically connected state.

【0074】また、本発明は、基板上に設けた粘着手段
に、複数個又は複数種のチップ部品をその電極が下にな
るように固定する工程と、保護物質を前記チップ部品の
少なくとも側面に被着する工程と、前記保護物質が被着
されて一体化された前記チップ部品と前記基板とを分離
して疑似ウエーハを得る工程と、前記疑似ウエーハの電
極面側に対応する配線を有する配線ボードと前記疑似ウ
エーハとを電気的接続状態で一体化する工程と、を具備
するチップ集積ボードの製造方法に係るものである。
The present invention also provides a step of fixing a plurality of or a plurality of types of chip parts to an adhesive means provided on a substrate so that the electrodes thereof face down, and a step of applying a protective substance to at least side surfaces of the chip parts. A step of depositing, a step of separating the chip component and the substrate on which the protective substance is deposited and integrated to obtain a pseudo wafer, and a wiring having a wiring corresponding to an electrode surface side of the pseudo wafer Integrating the board and the pseudo wafer in an electrically connected state.

【0075】また、本発明は、前記疑似ウエーハと前記
配線ボードとが、電気的接続状態で一体化されたチップ
集積ボードが、前記保護物質の位置で切断されて得られ
る、チップ状電子部品に係るものである。
Further, the present invention provides a chip-like electronic component obtained by cutting a chip integrated board in which the pseudo wafer and the wiring board are integrated in an electrically connected state at the position of the protective substance. It is related.

【0076】この本発明のチップ状電子部品は、前記の
方法で得られたチップ集積ボードを前記保護物質の位置
で切断する工程によって製造されるものである。
The chip-shaped electronic component of the present invention is manufactured by a step of cutting the chip integrated board obtained by the above-described method at the position of the protective substance.

【0077】また、本発明は、前記疑似ウエーハと前記
配線ボードとが、電気的接続状態で一体化されたチップ
集積ボードが、前記保護物質の位置で切断されて得られ
るチップ状電子部品が組み込まれている電子機器も提供
するものである。
The present invention also provides a chip-like electronic component obtained by cutting a chip integrated board in which the pseudo wafer and the wiring board are integrated in an electrically connected state at the position of the protective substance. It also provides electronic devices that are being used.

【0078】この本発明の電子機器は、前記チップ集積
ボードを前記保護物質の位置で切断することによって得
られたチップ状電子部品を組み込む工程によって製造さ
れるものである。
The electronic apparatus according to the present invention is manufactured by a step of incorporating a chip-shaped electronic component obtained by cutting the chip integrated board at the position of the protective substance.

【0079】本発明によれば、前記保護物質が被着され
て一体化された前記チップ部品と前記基板とを分離して
疑似ウエーハを得、この疑似ウエーハの電極面側に対応
する配線を有する配線ボードと前記疑似ウエーハとを電
気的接続状態で一体化してチップ集積ボードを得、更に
このチップ集積ボードを前記保護物質の位置で切断して
チップ状電子部品を製造し、更にこれを組み込んで電子
機器を製造しているので、これまで用いていたマザーボ
ードと同様の機能をなす前記配線ボードとしての疑似マ
ザーボードに前記疑似ウエーハを一括マウントした後に
切断し、このままでパッケージを構成でき、マウント工
程などの工数を減らし、信頼性良く、容易かつ低コスト
に電子機器を得ることができる。
According to the present invention, the chip component and the substrate, on which the protective substance is adhered and integrated, are separated from each other to obtain a pseudo wafer, and a wiring corresponding to the electrode surface side of the pseudo wafer is provided. The wiring board and the pseudo wafer are integrated in an electrically connected state to obtain a chip integrated board, and further the chip integrated board is cut at the position of the protective material to produce a chip-shaped electronic component, and further incorporating the chip-shaped electronic component. Since electronic devices are manufactured, the pseudo wafer is cut and mounted on the pseudo motherboard as the wiring board that performs the same function as the motherboard used so far, and then cut, and the package can be configured as it is, such as a mounting process. The number of steps can be reduced, and an electronic device can be obtained with good reliability, easily and at low cost.

【0080】本発明はまた、上述した先願発明と同様の
特長を有していて、半導体ウエーハから切出されて良品
のみを選択したチップを基板に貼り付け、保護物質を被
着した後に剥離することにより、あたかも全品が良品チ
ップからなる疑似ウエーハを得るようにできるため、良
品チップに対するウエーハ一括でのバンプ処理等が可能
となり、低コストのバンプ部品を形成できると共に、半
導体チップを疑似ウエーハから切り出す際にチップ間の
保護物質の部分を切断することになるので、半導体チッ
プ本体への悪影響(歪みやばり、亀裂等のダメージ)を
抑えて容易に切断することができる。
The present invention also has the same features as the above-mentioned prior invention, in which a chip cut out from a semiconductor wafer and only non-defective products are selected is adhered to a substrate, and after a protective material is applied, the chip is peeled off. By doing so, it is possible to obtain a pseudo wafer composed of good chips from all the products.This makes it possible to perform bump processing and the like on wafers for good chips at the same time, to form low-cost bump components, and to remove semiconductor chips from pseudo wafers. Since the portion of the protective material between the chips is cut at the time of cutting, the semiconductor chip can be cut easily without adverse effects on the semiconductor chip body (damage such as distortion, burrs, and cracks).

【0081】しかも、保護物質によってチップの少なく
とも側面が覆われていることから、取扱い性が向上す
る。そして、自社製ウエーハのみならず、他社から購入
したベアチップでも、容易にはんだバンプ処理等が可能
になる。また、MCMに搭載される異種LSIチップを
全て同一半導体メーカーから供給されるケースは少な
く、最先端の半導体ラインの投資が大きくなってきてい
るために、SRAM、フラッシュメモリーやマイコン、
更にCPU(中央演算処理ユニット)を同一半導体メー
カーで供給するのではなく、各々得意とする半導体メー
カーから別々にチップで供給してもらい、これらをMC
M化することもできる。なお、上記の基板は繰り返し使
用できて、バンプ形成のコストや環境面でも有利であ
る。
In addition, since at least the side surface of the chip is covered with the protective substance, the handling is improved. In addition to a wafer manufactured in-house, a bare chip purchased from another company can be easily solder bumped. In addition, there are few cases where all the different LSI chips mounted on the MCM are supplied from the same semiconductor maker, and investment in the most advanced semiconductor lines is increasing.
Furthermore, instead of supplying CPUs (Central Processing Units) by the same semiconductor maker, they are supplied separately by chips from their respective semiconductor manufacturers,
It can be converted to M. The above substrate can be used repeatedly, which is advantageous in terms of bump formation cost and environment.

【0082】[0082]

【発明の実施の形態】本発明においては、LSIチッ
プ、チップ抵抗、チップコンデンサーなどマザーボード
に実装する良品チップ部品を有する前記疑似ウエーハと
しての良品チップモジュールと一体化されてデバイス表
面上で再配線、回路形成する前記配線ボードとしての疑
似マザーボードに、電子機器(エレクトロニクス製品)
として使用するために必要な液晶、キーパネル、スピー
カーなどのユーザーインターフェース、他の電子機器と
の電気的な入出力端子、又はチップ形状でない電子部品
が取り付けられてよい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, a non-defective chip module as a pseudo wafer having non-defective chip components mounted on a motherboard such as an LSI chip, a chip resistor, and a chip capacitor is integrated with a rewiring on a device surface. Electronic devices (electronic products) on the pseudo motherboard as the wiring board for forming a circuit
A liquid crystal display, a key panel, a user interface such as a speaker, an electric input / output terminal with another electronic device, or an electronic component that is not a chip shape may be attached.

【0083】また、本発明のチップ集積ボードは、前記
保護物質の位置で切断されて、単一の半導体チップ、又
は複数個又は複数種の半導体チップが前記配線ボードと
しての疑似マザーボード又はインターポーザー基板と一
体化されたチップに加工されることが好ましい。
Further, the chip integrated board of the present invention is cut at the position of the protective substance, and a single semiconductor chip or a plurality of or a plurality of types of semiconductor chips is simulated motherboard or interposer substrate as the wiring board. It is preferable to be processed into a chip integrated with the above.

【0084】前記保護物質として好ましいのは、有機系
絶縁性樹脂又は無機系絶縁性物質である。
As the protective substance, an organic insulating resin or an inorganic insulating substance is preferable.

【0085】前記疑似ウエーハは前記疑似マザーボード
又はインターポーザー基板にマウントし、しかる後にリ
フロー、洗浄、樹脂封入を行い、この後にダイシングで
個片化するのが望ましい。
It is preferable that the pseudo wafer is mounted on the pseudo motherboard or the interposer substrate, then reflowed, washed, and sealed with resin, and then diced into individual pieces.

【0086】更に、前記疑似ウエーハの裏面側から保護
物質とチップを研削して厚さを薄くしてから、ブレード
又はレーザーによって個片に切断を行なうのがよい。
Further, the protective material and the chip are preferably ground from the back side of the pseudo wafer to reduce the thickness, and then cut into individual pieces by a blade or a laser.

【0087】本発明の電子機器は、前記チップ状電子部
品が組込まれているものであり、このチップ状電子部品
は筐体内に収容されるか、又は前記保護物質が外装構造
を形成していることが好ましい。
The electronic device according to the present invention incorporates the chip-shaped electronic component, and the chip-shaped electronic component is housed in a housing, or the protective substance forms an exterior structure. Is preferred.

【0088】次に、本発明の好ましい実施の形態を図面
の参照下に具体的に説明する。
Next, a preferred embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

【0089】第1の実施の形態 図1〜図4は、本発明の第1の実施の形態を示すもので
ある。
First Embodiment FIGS. 1 to 4 show a first embodiment of the present invention.

【0090】まず、図17に示した如き半導体ウエーハ
53より切り出された後、オープン/ショート或いはD
C(直流)電圧測定で良品と確認された良品の半導体ベ
アチップ3(又はLSIチップ)のみを選別し、図1
(a)に示す石英基板1上に図1(b)のように貼り付
けられたアクリル系等の粘着シート2の上に、図1
(c)のように等間隔に配列して貼り付ける。
First, after being cut out from the semiconductor wafer 53 as shown in FIG.
Only non-defective semiconductor bare chips 3 (or LSI chips) confirmed as non-defective by C (direct current) voltage measurement are selected, and FIG.
FIG. 1A shows an acrylic adhesive sheet 2 attached on a quartz substrate 1 shown in FIG. 1A as shown in FIG.
As shown in (c), they are arranged at equal intervals and pasted.

【0091】仮の支持基板としては、基板への加熱プロ
セスは400℃以下のため、石英基板1やより安価なガ
ラス基板も使用できる。また、この石英基板1は繰り返
し使用できる。また、粘着シート2からなる粘着性物質
は、通常のダイシングで用いられていて、例えば紫外線
を照射されると粘着力が低下する例えばアクリル系、シ
リコン系、ポリスチレン系、ポリエーテル系の粘着シー
ト2又は溶媒溶解性、離型性をもつ粘着物質を用いる。
粘着性物質がフィルムであれば、ローラーラミネートな
どの手法で、液状の物であれば、スピンコートや印刷な
どの手法で貼り付ける。
As a temporary supporting substrate, the quartz substrate 1 or a cheaper glass substrate can be used because the heating process for the substrate is 400 ° C. or less. The quartz substrate 1 can be used repeatedly. Further, the pressure-sensitive adhesive material composed of the pressure-sensitive adhesive sheet 2 is used in ordinary dicing, and for example, the pressure-sensitive adhesive strength is reduced when irradiated with ultraviolet rays, for example, an acrylic, silicon, polystyrene, or polyether-based pressure-sensitive adhesive sheet 2 Alternatively, an adhesive substance having solvent solubility and releasability is used.
If the adhesive substance is a film, it is applied by a method such as roller lamination, and if it is a liquid substance, it is applied by a technique such as spin coating or printing.

【0092】上記した如くに良品と確認された複数の良
品ベアチップ3をチップ表面(デバイス面)28を下に
して配列し、粘着シート2に貼り付けるが、良品ベアチ
ップ3は、通常のウエーハ工程でダイシングして、使用
したダイシングシート(図示せず)の延伸状態から取り
出してもよいし、チップトレイから移載してもよい。こ
こで重要なことは、自社、他社製のチップに関わらず、
良品ベアチップのみを基板1上に再配列させることであ
る。
As described above, a plurality of non-defective bare chips 3 confirmed to be non-defective are arranged with the chip surface (device surface) 28 facing down and affixed to the adhesive sheet 2. The non-defective bare chips 3 are processed in a normal wafer process. The sheet may be diced and removed from the stretched state of a used dicing sheet (not shown), or may be transferred from a chip tray. The important thing here is whether you own or a third-party chip,
The purpose is to rearrange only good bare chips on the substrate 1.

【0093】次に、図1(d)のように、チップ3上か
ら有機系絶縁性樹脂、例えばエポキシ系、ポリイミド
系、ポリエステル系等の樹脂4を均一に塗布する。この
塗布はスピンコート法か印刷法で容易に実現できる。こ
の場合、粘着性物質2に対し離型作用を持つ樹脂4であ
れば、チップ裏面より均一に流し込んで硬化してよい
が、この時、チップは粘着性物質の粘着性により保持固
定されているので、動くことはない。
Next, as shown in FIG. 1D, an organic insulating resin, for example, a resin 4 such as an epoxy-based, polyimide-based, or polyester-based resin is uniformly applied on the chip 3. This application can be easily realized by spin coating or printing. In this case, as long as the resin 4 has a releasing effect on the adhesive substance 2, the resin may be uniformly poured from the back surface of the chip and cured, but at this time, the chip is held and fixed by the adhesive property of the adhesive substance. So it doesn't move.

【0094】次に、図1(e)のように、例えば石英基
板1の側より紫外線を照射して、粘着シート2の粘着力
を弱くしたり、或いは粘着性物質2の離型作用により、
樹脂4で側面及び裏面が連続して固められた複数の良品
のベアチップ3からなる疑似ウエーハ29を石英基板1
(具体的には粘着シート2)から剥離する。疑似ウエー
ハ29は図19に示したように、Si基板上にSiO2
膜を介してAl電極パッド5及びパッシベーション膜が
形成されたものである。
Next, as shown in FIG. 1 (e), for example, ultraviolet rays are irradiated from the side of the quartz substrate 1 to weaken the adhesive force of the adhesive sheet 2, or by the releasing action of the adhesive substance 2.
A pseudo wafer 29 comprising a plurality of non-defective bare chips 3 whose side and back surfaces are continuously hardened with resin 4 is placed on a quartz substrate 1.
(Specifically, it is peeled off from the adhesive sheet 2). As shown in FIG. 19, the pseudo wafer 29 is made of SiO 2 on a Si substrate.
An Al electrode pad 5 and a passivation film are formed via a film.

【0095】次に、既述した図19(g)〜図20
(i)と同じ処理を施したり、或いはチップ間で必要な
配線を施し、ウエーハ一括で所定のバンプ、配線形成を
行う。
Next, FIG. 19 (g) to FIG.
The same processing as in (i) is performed, or necessary wiring is provided between chips, and predetermined bumps and wiring are formed collectively on the wafer.

【0096】ここで、先願発明においては、良品チップ
のみが多数配列され、デバイス面が露出した樹脂基板か
らなる疑似ウエーハ29に配線や端子をつけてカットし
(図20(j))、マザーボードに実装していた(図2
0(k))が、本実施の形態では、マザーボードを使用
せず、この樹脂基板にさらに付加価値をつけるのであ
る。
Here, in the invention of the prior application, a dummy wafer 29 composed of a resin substrate having a large number of non-defective chips arranged thereon and having an exposed device surface is cut with wiring and terminals attached thereto (FIG. 20 (j)). (Fig. 2
0 (k)) in the present embodiment does not use a motherboard, but adds additional value to this resin substrate.

【0097】即ち、マザーボードやパッケージのインタ
ーポーザーで行っていた再配線、回路形成を、従来のウ
エーハプロセスの工程を用いて、図1(e)で得られた
疑似ウエーハ29のデバイス面上に形成する。この場
合、疑似マザーボード80は、図2(f)のように疑似
ウエーハ29のデバイス面上に一体に形成され、対応す
る配線や電極83同士が対応して一体化して、全体とし
てチップモジュール用ボード81を形成するものであ
る。ここで疑似ウエーハ29の各チップを覆う樹脂4は
ポリエステル系、エポキシ系等の透明樹脂とすれば、チ
ップの位置を外部から判別し易く、配線の位置合せを行
い易くなる。
That is, the rewiring and circuit formation performed by the interposer of the motherboard and the package are formed on the device surface of the pseudo wafer 29 obtained in FIG. 1E by using the conventional wafer process. I do. In this case, the pseudo motherboard 80 is integrally formed on the device surface of the pseudo wafer 29 as shown in FIG. 2 (f), and the corresponding wirings and electrodes 83 are integrated correspondingly to form a chip module board as a whole. 81 are formed. Here, if the resin 4 covering each chip of the pseudo wafer 29 is made of a transparent resin such as polyester or epoxy, the position of the chip can be easily determined from the outside and the wiring can be easily aligned.

【0098】疑似マザーボード80の配線素材としては
デバイス表面との接続信頼性を考え、鉛フリーはんだ、
Cu、Au、Alなどで形成することが望ましく、また
絶縁膜としてはポリイミド等が望ましい。この際の配線
は単層でも複数層でもよい。
The wiring material of the pseudo motherboard 80 is made of lead-free solder, considering connection reliability with the device surface.
Desirably, the insulating film is formed of Cu, Au, Al, or the like, and polyimide or the like is preferable as the insulating film. The wiring at this time may be a single layer or a plurality of layers.

【0099】次に、図2(g)のように、この樹脂基板
29を個片又は複数個のチップ、チップ部品からなるモ
ジュール82にカットし、低コストの良品チップモジュ
ール又は電子機器製品用の疑似マザーボードを提供す
る。
Next, as shown in FIG. 2 (g), the resin substrate 29 is cut into a module 82 composed of individual pieces or a plurality of chips and chip parts, and is used for a low-cost non-defective chip module or an electronic device product. Provide a pseudo motherboard.

【0100】こうして得られたモジュール82は、例え
ば多層化され、良品チップモジュール又は良品チップモ
ジュールからなる疑似マザーボードとして、図3(A)
のようにチップモジュール82とは反対側の面におい
て、電子機器製品として使用するために必要な液晶、キ
ーパネル、スピーカーなどのユーザーインターフェース
72、チップ形状(又は非チップ形状)の電子部品7
1、更には他の電子機器製品との電気的な入出力端子7
3を取り付ける。これまでは図24(k’)に示したよ
うにマザーボードに取り付けて実装していたが、本実施
の形態では、チップモジュール82を配線された疑似マ
ザーボードのように扱い、その上に他の部品をダイレク
トに取り付け、実装する。この実装方法は例えば、フレ
キシブルプリント回路を利用したACF接続や、鉛フリ
ーはんだによるはんだ接続が可能である。
The module 82 thus obtained is, for example, multi-layered, and is used as a non-defective chip module or a pseudo motherboard composed of non-defective chip modules as shown in FIG.
On the side opposite to the chip module 82, the user interface 72 such as a liquid crystal, a key panel, and a speaker necessary for use as an electronic device product, and the chip-shaped (or non-chip-shaped) electronic component 7
1, furthermore, electrical input / output terminals 7 with other electronic equipment products
3 is attached. Until now, the chip module 82 was mounted and mounted on the motherboard as shown in FIG. 24 (k ′). However, in this embodiment, the chip module 82 is treated as a wired pseudo motherboard, and other components are placed thereon. Is mounted directly and mounted. In this mounting method, for example, ACF connection using a flexible printed circuit or solder connection using lead-free solder is possible.

【0101】図3(A)では、更に外装材84を設けて
いるが、この外装材を省略するために、良品チップモジ
ュール又は良品チップモジュールからなる疑似マザーボ
ードにおいて、チップを覆って硬化した(チップ裏面側
の)樹脂の表面側部分を電子機器製品本体の外装樹脂と
して兼用することができる。
In FIG. 3A, an exterior material 84 is further provided. In order to omit the exterior material, the chip is covered and cured on a non-defective chip module or a pseudo mother board made of a non-defective chip module (chip). The front side portion of the resin (on the back side) can also be used as the exterior resin of the electronic device product body.

【0102】即ち、図3(B)のように、例えば、2枚
の異なる良品チップモジュール82、82’(疑似マザ
ーボード)に各種電子部品を取りつけたものをデバイス
面をそれぞれ内側にして対向して貼り合わせる。貼り合
わせる方法は接着剤や機械的に貼り合わせる構造にして
もよく、或いは、樹脂などで実装面を覆う方法もある。
これにより、本来のガラスエポキシのような材料のマザ
ーボードや外装材を使用しなくてはならない部分が減
り、必要なマルチチップ、部品がすべて入った電子機器
本体が出来上がる。
That is, as shown in FIG. 3B, for example, two different non-defective chip modules 82 and 82 '(pseudo motherboards) each having various electronic components mounted thereon are opposed to each other with the device surfaces inside. to paste together. The bonding method may be a structure of mechanically bonding with an adhesive, or a method of covering the mounting surface with a resin or the like.
This reduces the necessity of using a motherboard or an exterior material made of a material such as glass epoxy, thereby producing an electronic device body including all necessary multichips and components.

【0103】図4には、図3(B)の電子機器を得るた
めに、他方のモジュール82’を形成する方法を示すも
のである。
FIG. 4 shows a method for forming the other module 82 'in order to obtain the electronic device shown in FIG. 3B.

【0104】まず、図4(a)のように、良品ベアチッ
プ3(又はLSIチップ)や他の電子部品71、ユーザ
ーインターフェース部品72をアクリル系等の粘着シー
ト2上に配列して貼り付ける。
First, as shown in FIG. 4A, non-defective bare chips 3 (or LSI chips), other electronic components 71, and user interface components 72 are arranged and adhered on an acrylic adhesive sheet 2 or the like.

【0105】次に、図4(b)のように、チップ3等の
上から有機系絶縁性樹脂、例えばエポキシ系等の樹脂
4’を均一に塗布する。この塗布はスピンコート法、デ
ィスペンス法か印刷法で容易に実現できる。
Next, as shown in FIG. 4B, an organic insulating resin, for example, an epoxy resin 4 'is uniformly applied on the chip 3 and the like. This coating can be easily realized by spin coating, dispensing or printing.

【0106】次に、図4(c)のように、例えば石英基
板1の側より紫外線を照射して、粘着シート2の粘着力
を弱くしたり、或いは粘着性物質2の離型作用により、
樹脂4’で少なくとも側面が連続して固められた複数の
良品のベアチップ3や他の部品72等からなる疑似ウエ
ーハ29’を石英基板1(具体的には粘着シート2)か
ら剥離する。
Next, as shown in FIG. 4C, for example, ultraviolet rays are irradiated from the side of the quartz substrate 1 to weaken the adhesive force of the adhesive sheet 2 or to release the adhesive substance 2 by a releasing action.
The pseudo wafer 29 'composed of a plurality of non-defective bare chips 3 and other parts 72, etc., whose at least side surfaces are continuously solidified with the resin 4', is peeled off from the quartz substrate 1 (specifically, the adhesive sheet 2).

【0107】次に、図4(d)のように、図4(c)で
得られた疑似ウエーハ29’のデバイス面上に配線等を
形成し、疑似マザーボード80’を一体化する。これ
は、疑似ウエーハ29’のデバイス面上に形成され、対
応する配線や電極83’同士が対応して一体化して、全
体としてチップモジュール用ボード81’を形成するも
のである。
Next, as shown in FIG. 4D, wirings and the like are formed on the device surface of the pseudo wafer 29 'obtained in FIG. 4C, and the pseudo motherboard 80' is integrated. This is formed on the device surface of the pseudo wafer 29 ', and the corresponding wirings and electrodes 83' are correspondingly integrated with each other to form the chip module board 81 'as a whole.

【0108】この後の工程は、図1(g)と同様に個片
に切断してチップモジュール82’とし、これを図3
(B)のように上記の一方のチップモジュール82と貼
り合せて一体化し、更に側面を接着材等85で固める。
In the subsequent steps, chip modules 82 'are cut into individual pieces in the same manner as in FIG.
As shown in (B), the chip module 82 is bonded to and integrated with the one chip module 82, and the side surfaces are further hardened with an adhesive 85 or the like.

【0109】以上の説明から、本実施の形態によれば、
従来のパッケージング、マザーボード、外装材を極力使
用せずに電子機器製品を組立てることができ、従来のチ
ップ及びチップ部品のパッケージング、マザーボードの
使用、エレクトロニクス製品本来の外装材の使用による
プロセス増加、コスト増大、開発及び製造時間の肥大
化、製品の体積及び重量増加、環境対応(鉛フリー化、
ハロゲンフリー化)をまとめて改善することができる。
現在のところチップ形状に作ることのできない各種電子
部品が、今後ますますシステムオンチップ化されていけ
ば、本実施の形態の方法によって、最初の基本プロセス
であるチップ部品を並べる工程に入れ込むことが可能と
なり、より製造し易くなる。
As described above, according to the present embodiment,
Electronic equipment products can be assembled without using conventional packaging, motherboards, and exterior materials as much as possible.Conventional packaging of chips and chip components, use of motherboards, increased processes due to the use of electronic products' original packaging materials, Increased cost, bloated development and manufacturing time, increased product volume and weight, environmentally friendly (lead-free,
Halogen-free) can be improved together.
If various electronic components that cannot be made into a chip shape at present are increasingly system-on-a-chip in the future, the method according to the present embodiment will be used in the first basic process of arranging chip components. Becomes possible, and it becomes easier to manufacture.

【0110】また、先願発明と同様に、樹脂4によって
モジュールの少なくとも側面が覆われて保護されている
ので、実装ハンドリングにおいて良好な実装信頼性が得
られる。なお、良品チップを貼り付ける基板はウエーハ
剥離後は繰り返し使用できて、バンプ形成のコストや環
境面で有利である。
Further, since at least the side surface of the module is covered and protected by the resin 4 as in the prior invention, good mounting reliability can be obtained in mounting handling. The substrate to which the good chip is attached can be used repeatedly after the wafer is separated, which is advantageous in terms of bump formation cost and environment.

【0111】また、ウエーハ一括処理による低コストバ
ンプ処理の特徴を活かして、最先端のLSIやベアチッ
プの形で入手したチップでも使え、汎用性の高い新しい
バンプ形成法を提供できる。チップモジュール用ボード
から切り出す際に、樹脂の部分のみを切断するので、切
断を容易に行え、ブレードの破損もなく、半導体チップ
本体への悪影響(歪みやばり、亀裂等のダメージ)を抑
えることができる。
Further, by utilizing the feature of low-cost bump processing by batch processing of wafers, it is possible to use a chip obtained in the form of a state-of-the-art LSI or bare chip, and to provide a highly versatile new bump forming method. When cutting out from the chip module board, only the resin part is cut, so cutting can be done easily, there is no damage to the blade, and the adverse effect on the semiconductor chip body (damage such as distortion, burrs, cracks, etc.) is suppressed. it can.

【0112】ここで、本実施の形態で得られる作用効果
をまとめると、次の(1)〜(5)の通りである。
Here, the functions and effects obtained in the present embodiment are summarized as follows (1) to (5).

【0113】(1)従来の半導体チップだけではなく、
チップコンデンサーやチップ抵抗といったチップ部品、
システムオンチップも一緒にデバイス面を下にして並
べ、樹脂で硬化することにより得られた樹脂基板29
は、より機能上の付加価値が付き、電子機器製品本体に
近い構造になる。
(1) In addition to the conventional semiconductor chip,
Chip components such as chip capacitors and chip resistors,
A resin substrate 29 obtained by arranging the system-on-chip together with the device side down and curing with resin.
Has a more functional added value, and has a structure closer to the electronic device product itself.

【0114】(2)(1)のように、より機能上の高付
加価値のついたデバイス面を、一括バンプだけでなく、
ウエーハ工程の配線方法を用いて、単層又は多層配線を
形成していくので、この樹脂基板はこれまでのマザーボ
ードに単に「実装するもの」ではなく、この樹脂基板自
体が他の電子部品を実装される疑似マザーボードの構造
になりうる。
(2) As shown in (1), a device surface with a higher added value in terms of function can be formed not only by a batch bump but also by a bump.
Since a single-layer or multi-layer wiring is formed by using the wiring method of the wafer process, this resin substrate is not simply "mounting" on a conventional motherboard, but this resin substrate itself mounts other electronic components Can be the structure of a pseudo motherboard.

【0115】(3)(2)の疑似マザーボード上にこれ
までのマザーボードに実装されるべき電子製品の各種部
品(ユーザーインターフェース又は電気的入出力端子
等)を実装して取り付けることにより、従来使用してい
たマザーボードは不要になる。
(3) Various parts (user interface, electrical input / output terminal, etc.) of electronic products to be mounted on the conventional motherboard are mounted and mounted on the pseudo motherboard of (2), so that the conventional motherboard can be used. The old motherboard is no longer needed.

【0116】(4)良品チップモジュール又は良品チッ
プモジュールからなる疑似マザーボードのチップを覆う
硬化した(チップ裏面側の)樹脂の表面側部分を、電子
製品本体の外装樹脂材として兼用できるので、従来の外
装材が不要になる。
(4) The front side portion of the hardened resin (on the back side of the chip) which covers the chip of the non-defective chip module or the pseudo motherboard composed of the non-defective chip module can also be used as the exterior resin material of the electronic product body. Exterior materials are not required.

【0117】(5)(1)〜(4)で、これまでのチッ
プ又はチップ部品のパッケージングのインターポーザ
ー、さらに、マザーボード、外装材が不要となるので、
これらによって生じていたプロセス増加、コスト増大、
開発及び製造時間の肥大化、製品の体積及び重量増加、
環境対応(鉛フリー化、ハロゲンフリー化)をまとめて
改善することができる。
(5) In (1) to (4), an interposer for packaging a chip or a chip component, a motherboard, and an exterior material are not required.
These have resulted in increased processes, increased costs,
Enlargement of development and production time, increase of product volume and weight,
Environmental measures (lead-free, halogen-free) can be improved collectively.

【0118】第2の実施の形態 図5〜図10は、本発明の第2の実施の形態を示すもの
である。
Second Embodiment FIGS. 5 to 10 show a second embodiment of the present invention.

【0119】本実施の形態では、上述した第1の実施の
形態において図1(a)〜(e)の工程で作製した疑似
ウエーハ29を図1(f)の工程と同様に、図5
(a)、(b)、(c)のように電極又は配線を対応さ
せながら一体化する。ここでは、インターポーザー基板
80は上述の疑似マザーボードに対応するものであり、
疑似ウエーハ29のバンプ電極12と対向してクリーム
はんだ92が設けられた両面基板とする。
In the present embodiment, the pseudo wafer 29 manufactured in the steps of FIGS. 1A to 1E in the first embodiment described above is
As shown in (a), (b), and (c), the electrodes or wirings are integrated while corresponding to each other. Here, the interposer substrate 80 corresponds to the above-described pseudo motherboard,
The double-sided substrate is provided with the cream solder 92 facing the bump electrode 12 of the pseudo wafer 29.

【0120】インターポーザー基板80は両面基板であ
り、表面のランドから裏面のランド面へスルーホールに
より貫通されている。表面のランドには、この後のはん
だづけ用に、例えばクリームはんだ92が印刷されてい
る。
The interposer substrate 80 is a double-sided substrate, and is penetrated from the land on the front surface to the land surface on the rear surface by through holes. For example, a cream solder 92 is printed on the land on the surface for subsequent soldering.

【0121】ダイシング後のインターポーザー基板80
の個片のサイズは、LSIチップより大きいサイズとな
っている。インターポーザー基板の材質としては、例え
ばガラスエポキシ、セラミック等が好適である。一方、
疑似基板29には、シリコン、ガリウム砒素基板等にて
製造されたLSIチップ3が配列されている。配列のピ
ッチは上記インターポーザー基板の各基板ブロックのピ
ッチと同一にする。
The interposer substrate 80 after dicing
Are larger in size than the LSI chip. As the material of the interposer substrate, for example, glass epoxy, ceramic or the like is suitable. on the other hand,
On the pseudo substrate 29, the LSI chips 3 manufactured by silicon, gallium arsenide substrate or the like are arranged. The pitch of the arrangement is the same as the pitch of each substrate block of the interposer substrate.

【0122】図5(b)、(c)に示したように、疑似
基板29をフェイスダウンしてインターポーザー基板8
0に搭載し、リフロー加熱、はんだ付け、フラックス洗
浄を行う。この時、図7(e)に示すように、インター
ポーザー基板80のダイシングライン上に貫通したミシ
ン目のスリット90を形成しておけば、フラックス洗浄
剤が浸透し易くなり、高い洗浄性を実現できる。
As shown in FIGS. 5B and 5C, the pseudo substrate 29 is face down and the interposer substrate 8 is turned down.
0, and perform reflow heating, soldering, and flux cleaning. At this time, if a perforated slit 90 is formed on the dicing line of the interposer substrate 80 as shown in FIG. 7E, the flux detergent easily penetrates, and high cleaning performance is realized. it can.

【0123】次に、図7(d)に示すように、アンダー
フィル樹脂91により隙間を封止し、加熱硬化させる。
ここでも、上述したダイシングライン上の貫通のスリッ
ト90を設けておくことにより、ボイド等が抜け易くな
る。また、真空脱泡機等を使用すれば、このスリット部
から強制的にボイドを抜くことも可能である。従って、
残留ボイドが無くなり、後の工程で加熱してもクラック
等の発生を防止することができる。更に、このスリット
90はインターポーザー基板の反りを低減する効果もあ
る。図8(f)に示すように、このスリット90から直
接アンダーフィル材を充填することも可能である。
Next, as shown in FIG. 7D, the gap is sealed with an underfill resin 91, and is cured by heating.
Also in this case, by providing the through slit 90 on the dicing line described above, voids and the like can be easily removed. If a vacuum defoamer or the like is used, it is possible to forcibly remove the void from the slit. Therefore,
The residual voids are eliminated, and the generation of cracks and the like can be prevented even when heating is performed in a later step. Further, the slit 90 has an effect of reducing the warpage of the interposer substrate. As shown in FIG. 8F, the underfill material can be filled directly from the slit 90.

【0124】次いで、図9(g)に示すように、インタ
ーポーザー基板80をブレード92(又はレーザー)を
用いてダイシングする。以上の工程によりCSP93が
完成する。
Next, as shown in FIG. 9G, the interposer substrate 80 is diced using a blade 92 (or a laser). The CSP 93 is completed through the above steps.

【0125】また、図10(h)、(i)に示すよう
に、疑似基板29側を砥石94で研削して、LSI部分
のみを薄くしておけば、薄型のCSP95を得ることが
できる。
Further, as shown in FIGS. 10 (h) and 10 (i), a thin CSP 95 can be obtained by grinding only the LSI portion by grinding the pseudo substrate 29 side with a grindstone 94.

【0126】この時、厚みのあるインターポーザー基板
80を固定して研削できるので、機械的強度が許す範囲
までLSI部分を薄くすることができる。例えばLSI
部分の厚さを20μm程度まで薄くすることも可能であ
る。LSIチップ側面の樹脂部分もアンダーフィル樹脂
91と強固に接着されているので、研削時も、この後の
ダイシング工程においても、接着力不足で剥がれる危険
性もない。
At this time, since the thick interposer substrate 80 can be fixed and ground, the LSI portion can be thinned to the extent permitted by mechanical strength. For example, LSI
The thickness of the portion can be reduced to about 20 μm. Since the resin portion on the side surface of the LSI chip is also firmly bonded to the underfill resin 91, there is no danger of peeling due to insufficient bonding force both in grinding and in the subsequent dicing process.

【0127】以上説明したように、本実施の形態によれ
ば、上述の第1の実施の形態と同様に疑似基板一括処理
での低コストバンプ処理の特長を生かしながら、CSP
を製造する上で、次の(1)〜(4)の効果を得ること
ができる。
As described above, according to this embodiment, the CSP can be used while taking advantage of the low-cost bump processing in the pseudo-substrate batch processing as in the first embodiment.
Can be obtained the following effects (1) to (4).

【0128】(1)インターポーザー基板のピッチに合
わせて、LSIを配置した疑似基板を用意することによ
り、疑似基板とインターポーザー基板の一括マウントが
可能になる。これにより、マウントの工程が大幅に削減
できる。
(1) By preparing a pseudo substrate on which an LSI is arranged in accordance with the pitch of the interposer substrate, the pseudo substrate and the interposer substrate can be mounted collectively. Thereby, the mounting process can be greatly reduced.

【0129】(2)インターポーザー基板側に貫通スリ
ットを形成することにより、フラックス洗浄性とアンダ
ーフィル樹脂充填性が改善される。この結果、残留ボイ
ドに起因するクラック発生を抑制でき、信頼性が向上す
る。
(2) By forming a through slit on the interposer substrate side, the flux cleaning property and the underfill resin filling property are improved. As a result, generation of cracks due to residual voids can be suppressed, and reliability is improved.

【0130】(3)多数のインターポーザー基板によっ
て構成される大型基板に、疑似基板としてLSIチップ
がアンダーフィル樹脂にて強固に密着しているので、L
SIチップを極限まで薄く研削することができ、結果と
して極薄のCSPを得ることができる。
(3) Since an LSI chip as a pseudo substrate is firmly adhered to a large substrate composed of a large number of interposer substrates with an underfill resin,
The SI chip can be ground as thin as possible, resulting in an extremely thin CSP.

【0131】(4)チップマウントとダイシングの工程
を削減できるので、CSPの加工時間を短縮でき、結果
として低コストのCSPを得ることができる。
(4) Since the steps of chip mounting and dicing can be reduced, the processing time of the CSP can be reduced, and as a result, a low-cost CSP can be obtained.

【0132】以上に説明した実施の形態は、本発明の技
術的思想に基づいて種々に変形が可能である。
The embodiments described above can be variously modified based on the technical idea of the present invention.

【0133】例えば、疑似マザーボードやインターポー
ザー基板の層構成や、疑似ウエーハに対する一体化方法
は、貼り合わせは勿論、他の方法でもよい。良品ベアチ
ップを貼り付ける基板は、石英やガラスの他に同様の効
果や強度があるならば、他の素材を用いてよい。また、
基板の形や厚さも自由に変更できる。上記した石英基板
1等の基板は、何回でも繰り返して使用することがで
き、コストや環境面で有利である。
For example, the layer structure of the pseudo motherboard or the interposer substrate or the method of integrating the pseudo wafer with the pseudo wafer may be of course other methods. As a substrate to which a good bare chip is attached, other materials may be used as long as they have the same effect and strength in addition to quartz and glass. Also,
The shape and thickness of the substrate can be freely changed. Substrates such as the quartz substrate 1 described above can be used repeatedly as many times as possible, which is advantageous in terms of cost and environment.

【0134】また、粘着シート2等の粘着物質もアクリ
ル系等や、これと同様の目的を果たせば種々の素材でよ
いが、剥離性の良いものや、溶剤溶解性のものが、疑似
ウエーハの分離の上で望ましい。
The pressure-sensitive adhesive material such as the pressure-sensitive adhesive sheet 2 may be made of an acrylic material or any of various other materials which can achieve the same purpose. Desirable on separation.

【0135】樹脂4等の絶縁性保護物質の材質も広範囲
のものから選択してよく、樹脂4に代えて、SOG(Sp
in on Glass)によるSiOx膜を用いてもよい。加え
て、良品ベアチップは、同種又は複数種や、サイズも同
一又は異なるものを配列してよく、並べる間隔も任意で
よい。また、上記のはんだペーストに代えて、金属ボー
ル(はんだボール)を用いたバンプの形成も可能であ
る。
The material of the insulating protective material such as the resin 4 may be selected from a wide range of materials.
An in-glass (SiO x film) may be used. In addition, non-defective bare chips may be of the same type or a plurality of types, and may be the same or different in size, and may be arranged at any intervals. Further, it is also possible to form bumps using metal balls (solder balls) instead of the above-mentioned solder paste.

【0136】なお、本発明を適用する対象は半導体チッ
プに限ることはなく、個々のチップへの切断を伴う他の
各種チップ状電子部品であってもよい。
The object to which the present invention is applied is not limited to a semiconductor chip, but may be various other chip-shaped electronic components that involve cutting into individual chips.

【0137】[0137]

【発明の作用効果】本発明によれば、前記保護物質が被
着されて一体化された前記チップ部品と前記基板とを分
離して疑似ウエーハを得、この疑似ウエーハの電極面側
に対応する配線を有する配線ボードと前記疑似ウエーハ
とを電気的接続状態で一体化してチップ集積ボードを
得、更にこのチップ集積ボードを前記保護物質の位置で
切断してチップ状電子部品を製造し、更にこれを組み込
んで電子機器を製造しているので、従来用いていたマザ
ーボードと同様の機能をなす前記配線ボードとしての前
記疑似マザーボードに前記疑似ウエーハを一括マウント
した後に切断し、このままでパッケージを構成でき、マ
ウント工程などの工数を減らし、信頼性良く、容易かつ
低コストに電子機器を得ることができる。
According to the present invention, the chip component and the substrate, on which the protective substance is adhered and integrated, are separated from each other to obtain a pseudo wafer, which corresponds to the electrode surface side of the pseudo wafer. A wiring board having wiring and the pseudo wafer are integrated in an electrically connected state to obtain a chip integrated board, and the chip integrated board is cut at the position of the protective material to produce a chip-shaped electronic component. Since the electronic device is manufactured by incorporating the above, the pseudo wafer can be cut and mounted on the pseudo motherboard as the wiring board having the same function as the conventionally used motherboard, and then the package can be configured as it is. The number of steps such as a mounting process can be reduced, and an electronic device can be obtained with good reliability, easily and at low cost.

【0138】また、半導体ウエーハから切出されて良品
のみを選択したチップを基板に貼り付け、保護物質を被
着した後に剥離することにより、あたかも全品が良品チ
ップからなる疑似ウエーハを得るようにできるため、良
品チップに対するウエーハ一括でのバンプ処理等が可能
となり、低コストのバンプ部品を形成できると共に、疑
似ウエーハから切り出す際にチップ間の保護物質の部分
を切断することになるので、半導体チップ本体への悪影
響(歪みやばり、亀裂等のダメージ)を抑えて容易に切
断することができる。
Further, a chip cut out of a semiconductor wafer and selected only for non-defective products is attached to a substrate, and a protective substance is applied and then peeled off, so that a pseudo wafer composed of all non-defective chips can be obtained. Therefore, it is possible to perform bump processing on non-defective chips in a batch of wafers, and it is possible to form low-cost bump parts, and to cut the protective material between chips when cutting out from a pseudo wafer. It is possible to cut easily, while suppressing the adverse effect on the surface (damage such as distortion, burrs and cracks).

【0139】しかも、保護物質によってチップの少なく
とも側面が覆われていることから、取扱い性が向上す
る。そして、自社製ウエーハのみならず、他社から購入
したベアチップでも、容易にはんだバンプ処理等が可能
になる。また、MCMに搭載される異種LSIチップを
全て同一半導体メーカーから供給されるケースは少な
く、最先端の半導体ラインの投資が大きくなってきてい
るために、SRAM、フラッシュメモリーやマイコン、
更にCPU(中央演算処理ユニット)を同一半導体メー
カーで供給するのではなく、各々得意とする半導体メー
カーから別々にチップで供給してもらい、これらをMC
M化することもできる。なお、上記の基板は繰り返し使
用できて、バンプ形成のコストや環境面でも有利であ
る。
In addition, since at least the side surface of the chip is covered with the protective substance, the handling is improved. In addition to a wafer manufactured in-house, a bare chip purchased from another company can be easily solder bumped. In addition, there are few cases where all the different LSI chips mounted on the MCM are supplied from the same semiconductor maker, and investment in the most advanced semiconductor lines is increasing.
Furthermore, instead of supplying CPUs (Central Processing Units) by the same semiconductor maker, they are supplied separately by chips from their respective semiconductor manufacturers,
It can be converted to M. The above substrate can be used repeatedly, which is advantageous in terms of bump formation cost and environment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態によるモジュール部
品の作製工程を順次示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view sequentially showing a manufacturing process of a module component according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同、モジュール部品の作製工程を順次示す断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view sequentially showing a manufacturing process of the module component.

【図3】同、作製工程により得られたモジュール部品を
組み込んだ電子機器の断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of an electronic device incorporating the module component obtained by the manufacturing process.

【図4】同、電子機器に用いるモジュール部品の作製工
程を順次示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view sequentially showing a manufacturing process of a module component used in the electronic device.

【図5】本発明の第2の実施の形態による電子部品の作
製工程を順次示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view sequentially showing a manufacturing process of an electronic component according to a second embodiment of the present invention.

【図6】同、電子部品の作製工程を順次示す断面図であ
る。
FIG. 6 is a cross-sectional view sequentially showing a manufacturing process of the electronic component.

【図7】同、電子部品の作製工程を順次示す断面図であ
る。
FIG. 7 is a cross-sectional view sequentially showing a manufacturing process of the electronic component.

【図8】同、電子部品の作製工程を示す斜視図である。FIG. 8 is a perspective view showing a manufacturing process of the electronic component.

【図9】同、電子部品の作製工程を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a manufacturing process of the electronic component.

【図10】同、電子部品の作製工程を順次示す斜視図で
ある。
FIG. 10 is a perspective view sequentially showing a manufacturing process of the electronic component.

【図11】従来例におけるAuスタッドバンプ(Stud B
ump)の一例を示す斜視図である。
FIG. 11 shows an Au stud bump (Stud B) in a conventional example.
FIG. 4 is a perspective view showing an example of a ump).

【図12】同、ウエーハレベルで一括はんだでバンプ処
理をした半導体ウエーハの部分平面図である。
FIG. 12 is a partial plan view of the semiconductor wafer which has been subjected to bump processing by batch soldering at the wafer level.

【図13】同、半導体チップの作製工程を順次示す断面
図である。
FIG. 13 is a cross-sectional view sequentially showing the steps of manufacturing the semiconductor chip.

【図14】同、MCM化された実装構造の他の例の斜視
図(a)とその一部断面側面図(b)、(c)である。
14A and 14B are a perspective view and a partial cross-sectional side view of another example of a mounting structure converted into an MCM.

【図15】同、実装構造の例の断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view of the example of the mounting structure.

【図16】同、実装構造の他の例の断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view of another example of the mounting structure.

【図17】同、ウエーハ一括処理に対処する半導体ウエ
ーハの斜視図である。
FIG. 17 is a perspective view of a semiconductor wafer for coping with wafer batch processing.

【図18】先願発明の実施の形態による半導体チップの
作製工程を順次示す断面図である。
FIG. 18 is a sectional view sequentially showing a manufacturing step of the semiconductor chip according to the embodiment of the prior application;

【図19】同、作製工程を順次示す断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view sequentially showing the manufacturing process.

【図20】同、作製工程とその実装工程とを順次示す断
面図である。
FIG. 20 is a cross-sectional view sequentially showing a manufacturing step and a mounting step thereof.

【図21】同、他の疑似ウエーハの断面図である。FIG. 21 is a cross-sectional view of another pseudo wafer.

【図22】同、良品ベアチップを貼り付けた基板の斜視
図である。
FIG. 22 is a perspective view of the substrate to which the conforming bare chip is attached.

【図23】同、良品ベアチップを貼り付けた基板の斜視
図である。
FIG. 23 is a perspective view of the substrate to which the conforming bare chip is attached.

【図24】同、疑似ウエーハとこれから切り出されたチ
ップモジュールを組み込んだ電子機器の断面図である。
FIG. 24 is a cross-sectional view of an electronic device incorporating the pseudo wafer and a chip module cut out therefrom.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…石英基板、2…粘着シート、3…良品ベアチップ、
4、4’…樹脂(保護物質)、5…Al電極パッド、8
…印刷マスク、9…はんだペースト、11…ダイシン
グ、12…はんだバンプ、13…ソルダー(はんだ)ペ
ースト、14…電極、16…配線基板、19…大型ガラ
ス基板、20…不良品ベアチップ、26…良品チップ部
品、27…実装基板、28…良品ベアチップ表面(デバ
イス面)、29、29’…疑似ウエーハ、32…ブレー
ド、33…スクライブライン、71…他の電子部品、7
2…ユーザーインターフェース、80…疑似マザーボー
ド又はインターポーザー基板、81、81’…チップモ
ジュール用ボード、82、82’…モジュール、83、
83’…電極(配線)、84…外装材、90…スリッ
ト、91…アンダーフィル樹脂、92…クリームはんだ
1: Quartz substrate, 2: Adhesive sheet, 3: Good bare chip,
4, 4 ': resin (protective substance), 5: Al electrode pad, 8
... Print mask, 9 ... Solder paste, 11 ... Dicing, 12 ... Solder bump, 13 ... Solder (solder) paste, 14 ... Electrode, 16 ... Wiring board, 19 ... Large glass substrate, 20 ... Defective bare chip, 26 ... Good product Chip parts, 27: mounting board, 28: non-defective bare chip surface (device surface), 29, 29 ': pseudo wafer, 32: blade, 33: scribe line, 71: other electronic parts, 7
2: User interface, 80: Pseudo motherboard or interposer board, 81, 81 ': Chip module board, 82, 82': Module, 83,
83 ': electrode (wiring), 84: exterior material, 90: slit, 91: underfill resin, 92: cream solder

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西山 和夫 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5F061 AA01 BA07 CA05 CA10 CA12 CB02 CB13  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Kazuo Nishiyama 6-35 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation F-term (reference) 5F061 AA01 BA07 CA05 CA10 CA12 CB02 CB13

Claims (34)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも電極が一方の面側に設けられ
たチップ部品の複数個又は複数種が、少なくとも側面に
被着された保護物質により固着してなる疑似ウエーハ
と、この疑似ウエーハの電極面側に対応する配線を有す
る配線ボードとが、電気的接続状態で一体化されたチッ
プ集積ボード。
1. A pseudo wafer in which a plurality or a plurality of types of chip components having at least one electrode provided on one surface side are fixed by a protective substance adhered to at least a side surface, and an electrode surface of the pseudo wafer. A chip integrated board in which a wiring board having wiring corresponding to the side is integrated in an electrically connected state.
【請求項2】 LSIチップ、チップ抵抗、チップコン
デンサーなどマザーボードに実装する良品チップ部品を
有する前記疑似ウエーハとしての良品チップモジュール
と一体化されてデバイス表面上で再配線、回路形成する
前記配線ボードとしての疑似マザーボードに、電子機器
として使用するために必要な液晶、キーパネル、スピー
カーなどのユーザーインターフェース、他の電子機器と
の電気的な入出力端子、又はチップ形状でない電子部品
が取り付けられている、請求項1に記載のチップ集積ボ
ード。
2. The wiring board which is integrated with a non-defective chip module as a pseudo wafer having non-defective chip components to be mounted on a mother board such as an LSI chip, a chip resistor, a chip capacitor, and re-wires and forms a circuit on a device surface. Liquid crystal, key panels, user interfaces such as speakers, electrical input / output terminals with other electronic devices, or electronic components that are not chip-shaped are attached to the pseudo motherboard of the electronic device, The chip integrated board according to claim 1.
【請求項3】 前記保護物質が有機系絶縁性樹脂又は無
機系絶縁性物質である、請求項1に記載のチップ集積ボ
ード。
3. The chip integrated board according to claim 1, wherein the protective material is an organic insulating resin or an inorganic insulating material.
【請求項4】 前記保護物質の位置で切断されて、単一
の半導体チップ、又は複数個又は複数種の半導体チップ
が前記配線ボードとしての疑似マザーボード又はインタ
ーポーザー基板と一体化されたチップに加工される、請
求項1に記載のチップ集積ボード。
4. The semiconductor chip is cut at the position of the protective material to be processed into a single semiconductor chip or a chip in which a plurality of or plural kinds of semiconductor chips are integrated with a pseudo motherboard or an interposer substrate as the wiring board. The chip integrated board according to claim 1, wherein:
【請求項5】 基板上に設けた粘着手段に、複数個又は
複数種のチップ部品をその電極面が下になるように固定
する工程と、保護物質を前記複数個又は複数種のチップ
部品の少なくとも側面に被着する工程と、前記保護物質
が被着されて一体化された前記チップ部品と前記基板と
を分離して疑似ウエーハを得る工程と、前記疑似ウエー
ハの電極面側に対応する配線を有する配線ボードと前記
疑似ウエーハとを電気的接続状態で一体化する工程と、
を具備するチップ集積ボードの製造方法。
5. A step of fixing a plurality of or a plurality of types of chip components to an adhesive means provided on a substrate so that an electrode surface thereof faces down, and a step of applying a protective substance to the plurality of or a plurality of types of chip components. A step of attaching at least a side surface, a step of separating the chip component and the substrate, each of which has the protective substance attached thereto and integrated, to obtain a pseudo wafer, and a wiring corresponding to an electrode surface side of the pseudo wafer Integrating the wiring board having the pseudo wafer and the pseudo wafer in an electrically connected state,
A method for manufacturing a chip integrated board comprising:
【請求項6】 LSIチップ、チップ抵抗、チップコン
デンサーなどマザーボードに実装する良品チップ部品を
有する前記疑似ウエーハとしての良品チップモジュール
と一体化されてデバイス表面上で再配線、回路形成する
前記配線ボードとしての疑似マザーボードに、電子機器
として使用するために必要な液晶、キーパネル、スピー
カーなどのユーザーインターフェース、他の電子機器と
の電気的な入出力端子、又はチップ形状でない電子部品
を取り付ける、請求項5に記載のチップ集積ボードの製
造方法。
6. The wiring board which is integrated with a non-defective chip module as a pseudo wafer having non-defective chip components to be mounted on a motherboard such as an LSI chip, a chip resistor, a chip capacitor, and re-wires and forms a circuit on a device surface. 6. A user interface such as a liquid crystal, a key panel, and a speaker, an electric input / output terminal for other electronic devices, or an electronic component that is not in a chip shape necessary for use as an electronic device is attached to the pseudo motherboard. 3. The method for manufacturing a chip integrated board according to claim 1.
【請求項7】 前記保護物質が有機系絶縁性樹脂又は無
機系絶縁性物質である、請求項5に記載のチップ集積ボ
ードの製造方法。
7. The method for manufacturing a chip integrated board according to claim 5, wherein the protective material is an organic insulating resin or an inorganic insulating material.
【請求項8】 前記保護物質の位置で切断されて、単一
の半導体チップ、又は複数個又は複数種の半導体チップ
が前記配線ボードとしての疑似マザーボード又はインタ
ーポーザー基板と一体化されたチップに加工されるチッ
プ集積ボードを得る、請求項5に記載の集積ボードの製
造方法。
8. A single semiconductor chip or a plurality or a plurality of kinds of semiconductor chips are cut into a chip integrated with a pseudo motherboard or an interposer substrate as the wiring board by cutting at a position of the protective material. The method for manufacturing an integrated board according to claim 5, wherein a chip integrated board to be obtained is obtained.
【請求項9】 前記疑似ウエーハを前記疑似マザーボー
ド又はインターポーザー基板にマウントし、リフロー、
洗浄、樹脂封入を行う、請求項8に記載のチップ集積ボ
ードの製造方法。
9. The pseudo wafer is mounted on the pseudo motherboard or interposer substrate, and reflow is performed.
The method for manufacturing a chip integrated board according to claim 8, wherein washing and resin encapsulation are performed.
【請求項10】 前記疑似ウエーハの裏面側から研削し
た後、前記切断を行う、請求項8に記載のチップ集積ボ
ードの製造方法。
10. The method of manufacturing a chip integrated board according to claim 8, wherein the cutting is performed after grinding from the back side of the pseudo wafer.
【請求項11】 少なくとも電極が一方の面側に設けら
れたチップ部品の複数個又は複数種が、少なくとも側面
に被着された保護物質により固着してなる疑似ウエーハ
と、この疑似ウエーハの電極面側に対応する配線を有す
る配線ボードとが、電気的接続状態で一体化されたチッ
プ集積ボードが、前記保護物質の位置で切断されて得ら
れる、チップ状電子部品。
11. A pseudo wafer in which a plurality or a plurality of types of chip components having at least one electrode provided on one surface side are fixed by a protective substance adhered to at least a side surface, and an electrode surface of the pseudo wafer. A chip-shaped electronic component obtained by cutting a chip integrated board in which a wiring board having wiring corresponding to a side is integrated in an electrically connected state at a position of the protective substance.
【請求項12】 LSIチップ、チップ抵抗、チップコ
ンデンサーなどマザーボードに実装する良品チップ部品
を有する前記疑似ウエーハとしての良品チップモジュー
ルと一体化されてデバイス表面上で再配線、回路形成す
る前記配線ボードとしての疑似マザーボードに、電子機
器として使用するために必要な液晶、キーパネル、スピ
ーカーなどのユーザーインターフェース、他の電子機器
との電気的な入出力端子、又はチップ形状でない電子部
品が取り付けられる、請求項11に記載のチップ状電子
部品。
12. The wiring board which is integrated with a non-defective chip module as a pseudo wafer having non-defective chip components mounted on a mother board, such as an LSI chip, a chip resistor, and a chip capacitor, and re-wires and forms a circuit on a device surface. The pseudo-motherboard is mounted with a user interface such as a liquid crystal, a key panel, a speaker, an electrical input / output terminal with other electronic devices, or an electronic component that is not a chip shape, necessary for use as an electronic device. 12. The chip-shaped electronic component according to item 11.
【請求項13】 前記保護物質が有機系絶縁性樹脂又は
無機系絶縁性物質である、請求項11に記載のチップ状
電子部品。
13. The chip-shaped electronic component according to claim 11, wherein the protective material is an organic insulating resin or an inorganic insulating material.
【請求項14】 前記保護物質の位置で切断されて、単
一の半導体チップ、又は複数個又は複数種の半導体チッ
プが前記配線ボードとしての疑似マザーボード又はイン
ターポーザー基板と一体化されたチップとして得られ
る、請求項9に記載のチップ状電子部品。
14. A single semiconductor chip or a plurality of semiconductor chips or a plurality of semiconductor chips are cut at the position of the protective material to obtain a chip integrated with a pseudo motherboard or an interposer substrate as the wiring board. The chip-shaped electronic component according to claim 9, wherein
【請求項15】 基板上に設けた粘着手段に、複数個又
は複数種のチップ部品をその電極面が下になるように固
定する工程と、保護物質を前記複数個又は複数種のチッ
プ部品の少なくとも側面に被着する工程と、前記保護物
質が被着されて一体化された前記チップ部品と前記基板
とを分離して疑似ウエーハを得る工程と、前記疑似ウエ
ーハの電極面側に対応する配線を有する配線ボードと前
記疑似ウエーハとを電気的接続状態で一体化してチップ
集積ボードを得る工程と、このチップ集積ボードを前記
保護物質の位置で切断する工程と、を具備するチップ状
電子部品の製造方法。
15. A step of fixing a plurality of or a plurality of types of chip components to an adhesive means provided on a substrate so that an electrode surface thereof faces down, and a step of applying a protective substance to the plurality of or a plurality of types of chip components. A step of attaching at least a side surface, a step of separating the chip component and the substrate, each of which has the protective substance attached thereto and integrated, to obtain a pseudo wafer, and a wiring corresponding to an electrode surface side of the pseudo wafer A step of obtaining a chip integrated board by integrating the wiring board having the above and the pseudo wafer in an electrically connected state, and a step of cutting the chip integrated board at the position of the protective material. Production method.
【請求項16】 LSIチップ、チップ抵抗、チップコ
ンデンサーなどマザーボードに実装する良品チップ部品
を有する前記疑似ウエーハとしての良品チップモジュー
ルと一体化されてデバイス表面上で再配線、回路形成す
る前記配線ボードとしての疑似マザーボードに、電子機
器として使用するために必要な液晶、キーパネル、スピ
ーカーなどのユーザーインターフェース、他の電子機器
との電気的な入出力端子、又はチップ形状でない電子部
品を取り付ける、請求項13に記載のチップ状電子部品
の製造方法。
16. The wiring board which is integrated with a non-defective chip module as a pseudo wafer having non-defective chip components mounted on a mother board such as an LSI chip, a chip resistor, and a chip capacitor, and re-wiring and forming a circuit on a device surface. A user interface such as a liquid crystal, a key panel, and a speaker necessary for use as an electronic device, an electrical input / output terminal with other electronic devices, or an electronic component that is not a chip shape. 3. The method for producing a chip-shaped electronic component according to claim 1.
【請求項17】 前記保護物質が有機系絶縁性樹脂又は
無機系絶縁性物質である、請求項15に記載のチップ状
電子部品の製造方法。
17. The method according to claim 15, wherein the protection material is an organic insulating resin or an inorganic insulating material.
【請求項18】 前記保護物質の位置で切断されて、単
一の半導体チップ、又は複数個又は複数種の半導体チッ
プが前記配線ボードとしての疑似マザーボード又はイン
ターポーザー基板と一体化されたチップに加工されるチ
ップ集積ボードを得る、請求項15に記載のチップ状電
子部品の製造方法。
18. The semiconductor device is cut at the position of the protective material, and processed into a single semiconductor chip or a chip in which a plurality of or a plurality of types of semiconductor chips are integrated with a pseudo motherboard or an interposer substrate as the wiring board. The method for manufacturing a chip-like electronic component according to claim 15, wherein a chip integrated board is obtained.
【請求項19】 前記疑似ウエーハを前記疑似マザーボ
ード又はインターポーザー基板にマウントし、リフロ
ー、洗浄、樹脂封入を行う、請求項18に記載のチップ
状電子部品の製造方法。
19. The method according to claim 18, wherein the pseudo wafer is mounted on the pseudo motherboard or the interposer substrate, and reflow, cleaning, and resin encapsulation are performed.
【請求項20】 前記疑似ウエーハの裏面側から研削し
た後、前記切断を行う、請求項15に記載のチップ状電
子部品の製造方法。
20. The method of manufacturing a chip-like electronic component according to claim 15, wherein the cutting is performed after grinding from the back side of the pseudo wafer.
【請求項21】 少なくとも電極が一方の面側に設けら
れたチップ部品の複数個又は複数種が、少なくとも側面
に被着された保護物質により固着してなる疑似ウエーハ
と、この疑似ウエーハの電極面側に対応する配線を有す
る配線ボードとが、電気的接続状態で一体化されたチッ
プ集積ボードが、前記保護物質の位置で切断されて得ら
れるチップ状電子部品が組み込まれている電子機器。
21. A pseudo wafer in which a plurality or a plurality of types of chip components having at least one electrode provided on one surface side are fixed by a protective substance adhered to at least a side surface, and an electrode surface of the pseudo wafer. An electronic device in which a chip-like electronic component obtained by cutting a chip integrated board in which a wiring board having wiring corresponding to a side is integrated in an electrically connected state at the position of the protective substance is incorporated.
【請求項22】 LSIチップ、チップ抵抗、チップコ
ンデンサーなどマザーボードに実装する良品チップ部品
を有する前記疑似ウエーハとしての良品チップモジュー
ルと一体化されてデバイス表面上で再配線、回路形成す
る前記配線ボードとしての疑似マザーボードに、電子機
器として使用するために必要な液晶、キーパネル、スピ
ーカーなどのユーザーインターフェース、他の電子機器
との電気的な入出力端子、又はチップ形状でない電子部
品が取り付けられる、請求項21に記載の電子機器。
22. The wiring board which is integrated with a non-defective chip module as a pseudo wafer having non-defective chip components mounted on a motherboard, such as an LSI chip, a chip resistor, and a chip capacitor, and re-wires and forms a circuit on a device surface. The pseudo-motherboard is mounted with a user interface such as a liquid crystal, a key panel, a speaker, an electrical input / output terminal with other electronic devices, or an electronic component that is not a chip shape, necessary for use as an electronic device. 22. The electronic device according to 21.
【請求項23】 前記保護物質が有機系絶縁性樹脂又は
無機系絶縁性物質である、請求項21に記載の電子機
器。
23. The electronic device according to claim 21, wherein the protective material is an organic insulating resin or an inorganic insulating material.
【請求項24】 前記保護物質の位置で切断されて、単
一の半導体チップ、又は複数個又は複数種の半導体チッ
プが前記配線ボードとしての疑似マザーボード又はイン
ターポーザー基板と一体化されたチップが組み込まれて
いる、請求項21に記載の電子機器。
24. A chip in which a single semiconductor chip or a plurality or a plurality of kinds of semiconductor chips are integrated with a pseudo motherboard or an interposer substrate as the wiring board by being cut at the position of the protective material. The electronic device according to claim 21, wherein
【請求項25】 前記チップ状電子部品が筐体内に収容
されている、請求項21に記載の電子機器。
25. The electronic device according to claim 21, wherein the chip-shaped electronic component is housed in a housing.
【請求項26】 前記チップ状電子部品の保護物質が外
装構造を形成している、請求項21に記載の電子機器。
26. The electronic device according to claim 21, wherein the protective material for the chip-shaped electronic component forms an exterior structure.
【請求項27】 基板上に設けた粘着手段に、複数個又
は複数種のチップ部品をその電極面が下になるように固
定する工程と、保護物質を前記複数個又は複数種のチッ
プ部品の少なくとも側面に被着する工程と、前記保護物
質が被着されて一体化された前記チップ部品と前記基板
とを分離して疑似ウエーハを得る工程と、前記疑似ウエ
ーハの電極面側に対応する配線を有する配線ボードと前
記疑似ウエーハとを電気的接続状態で一体化してチップ
集積ボードを得る工程と、このチップ集積ボードを前記
保護物質の位置で切断する工程と、これによって得られ
たチップ状電子部品を組み込む工程と、を具備する電子
機器の製造方法。
27. A step of fixing a plurality of or a plurality of types of chip components to an adhesive means provided on a substrate so that an electrode surface thereof faces down, and applying a protective substance to the plurality of or a plurality of types of chip components. A step of attaching at least a side surface, a step of separating the chip component and the substrate, each of which has the protective substance attached thereto and integrated, to obtain a pseudo wafer, and a wiring corresponding to an electrode surface side of the pseudo wafer A step of obtaining a chip integrated board by integrating the wiring board having the above and the pseudo wafer in an electrically connected state, a step of cutting the chip integrated board at the position of the protective material, and a chip-like electronic device obtained by the step A method of manufacturing an electronic device, comprising: a step of incorporating components.
【請求項28】 LSIチップ、チップ抵抗、チップコ
ンデンサーなどマザーボードに実装する良品チップ部品
を有する前記疑似ウエーハとしての良品チップモジュー
ルと一体化されてデバイス表面上で再配線、回路形成す
る前記配線ボードとしての疑似マザーボードに、電子機
器として使用するために必要な液晶、キーパネル、スピ
ーカーなどのユーザーインターフェース、他の電子機器
との電気的な入出力端子、又はチップ形状でない電子部
品を取り付ける、請求項27に記載の電子機器の製造方
法。
28. The wiring board which is integrated with a non-defective chip module as a pseudo wafer having non-defective chip components mounted on a motherboard, such as an LSI chip, a chip resistor, and a chip capacitor, and re-wires and forms a circuit on a device surface. 28. A user interface such as a liquid crystal, a key panel, and a speaker, an electrical input / output terminal with other electronic devices, or an electronic component that is not in a chip shape necessary for use as an electronic device is attached to the pseudo motherboard. 3. The method for manufacturing an electronic device according to claim 1.
【請求項29】 前記保護物質が有機系絶縁性樹脂又は
無機系絶縁性物質である、請求項27に記載の電子機器
の製造方法。
29. The method for manufacturing an electronic device according to claim 27, wherein the protective material is an organic insulating resin or an inorganic insulating material.
【請求項30】 前記保護物質の位置で切断されて、単
一の半導体チップ、又は複数個又は複数種の半導体チッ
プが前記配線ボードとしての疑似マザーボード又はイン
ターポーザー基板と一体化されたチップに加工されるチ
ップ集積ボードを得る、請求項27に記載の電子機器の
製造方法。
30. The semiconductor substrate is cut at the position of the protective material to process a single semiconductor chip or a plurality of or a plurality of types of semiconductor chips into a chip integrated with a pseudo motherboard or an interposer substrate as the wiring board. The method for manufacturing an electronic device according to claim 27, wherein a chip integrated board is obtained.
【請求項31】 前記疑似ウエーハを前記疑似マザーボ
ード又はインターポーザー基板にマウントし、リフロ
ー、洗浄、樹脂封入を行う、請求項30に記載の電子機
器の製造方法。
31. The method for manufacturing an electronic device according to claim 30, wherein the pseudo wafer is mounted on the pseudo motherboard or the interposer substrate, and reflow, cleaning, and resin encapsulation are performed.
【請求項32】 前記疑似ウエーハの裏面側から研削し
た後、前記切断を行う、請求項27に記載の電子機器の
製造方法。
32. The method of manufacturing an electronic device according to claim 27, wherein the cutting is performed after grinding from the back side of the pseudo wafer.
【請求項33】 前記チップ状電子部品を筐体内に収容
する、請求項27に記載の電子機器の製造方法。
33. The method for manufacturing an electronic device according to claim 27, wherein said chip-shaped electronic component is housed in a housing.
【請求項34】 前記チップ状電子部品の保護物質が外
装構造を形成している、請求項27に記載の電子機器の
製造方法。
34. The method for manufacturing an electronic device according to claim 27, wherein the protective material for the chip-shaped electronic component forms an exterior structure.
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