JP2013103947A - Adhesive film for circuit connection, circuit-connected body using the adhesive film, and method of producing the circuit-connected body - Google Patents

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陽介 相澤
Koji Kobayashi
宏治 小林
Masahiro Arifuku
征宏 有福
Takashi Tatezawa
貴 立澤
Masahide Kume
雅英 久米
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive film for circuit connection, with which sufficiently-low connection resistance and sufficient impression strength can be obtained.SOLUTION: An adhesive film for circuit connection includes: a conductive adhesive layer that contains an adhesive component containing a curing agent and further contains conductive particles; and an insulating adhesive layer that contains the adhesive component containing the curing agent but does not contain the conductive particles. The thickness of the conductive adhesive layer is twice or lower as large as an average grain size of the conductive particles. The mass ratio of the curing agent the adhesive component contained in the conductive adhesive layer contains to the adhesive component is lower than the mass ratio of the curing agent the adhesive component contained in the insulating adhesive layer contains to the adhesive component.

Description

本発明は、回路接続用接着剤フィルム並びにそれを用いた回路接続体及び回路接続体の製造方法に関する。   The present invention relates to an adhesive film for circuit connection, a circuit connection body using the same, and a method for manufacturing the circuit connection body.

相対向する回路を加熱、加圧し加圧方向の電極間を電気的に接続する回路接続材料、例えば、エポキシ系接着剤やアクリル系接着剤に導電粒子を分散させた異方導電接着フィルムは、主に液晶ディスプレイ(LCD)を駆動させる半導体が搭載されたTCP(Tape Carrier Package)又はCOF(Chip On Flex)とLCDパネル、あるいは、TCP又はCOFとプリント配線板との電気的接続に広く使用されている。   A circuit connecting material that heats and presses opposite circuits to electrically connect electrodes in the pressing direction, for example, an anisotropic conductive adhesive film in which conductive particles are dispersed in an epoxy adhesive or an acrylic adhesive, Widely used for electrical connection between TCP (Tape Carrier Package) or COF (Chip On Flex) and LCD panel, or TCP or COF and printed wiring board, which is mainly equipped with a semiconductor that drives liquid crystal display (LCD) ing.

最近では、半導体をフェイスダウンで直接LCDパネルやプリント配線板に実装する場合でも、従来のワイヤーボンディング法ではなく、薄型化や狭ピッチ接続に有利なフリップチップ実装が採用されており、ここでも異方導電接着フィルムが回路接続材料として用いられている(例えば、特許文献1〜4参照)。   Recently, even when semiconductors are directly mounted face-down on LCD panels or printed wiring boards, flip chip mounting, which is advantageous for thinning and narrow pitch connection, has been adopted instead of the conventional wire bonding method. A direction conductive adhesive film is used as a circuit connecting material (see, for example, Patent Documents 1 to 4).

近年、LCDモジュールのCOF化やファインピッチ化に伴い、回路接続材料を用いた接続の際に、隣り合う電極間に短絡が発生するという問題が生じている。上記問題の対応策として、接着剤成分中に絶縁粒子を分散させて短絡を防止する技術がある(例えば、特許文献5〜9参照)。   In recent years, with the increase in COF and fine pitch of LCD modules, there has been a problem that a short circuit occurs between adjacent electrodes during connection using a circuit connection material. As a countermeasure for the above-described problem, there is a technique for preventing a short circuit by dispersing insulating particles in an adhesive component (see, for example, Patent Documents 5 to 9).

また、基板が絶縁性有機物又はガラスからなる配線部材や、表面の少なくとも一部に窒化シリコン、シリコーン樹脂及び/又はポリイミド樹脂を備える配線部材等に接着するため、接着剤成分にシリコーン粒子を含有させたり(例えば、特許文献10参照)、接着後の熱膨張率差に基づく内部応力を低減させるため、接着剤にゴム粒子を分散させる技術がある(例えば、特許文献11参照)。   In addition, in order to adhere to a wiring member made of an insulating organic material or glass, or a wiring member having silicon nitride, silicone resin and / or polyimide resin on at least a part of the surface, the adhesive component contains silicone particles. In order to reduce internal stress based on the difference in coefficient of thermal expansion after bonding, there is a technique of dispersing rubber particles in an adhesive (for example, see Patent Document 11).

さらに、導電粒子の捕捉効率を向上させ、接続する基板のガラスエッジ部での導電粒子の凝集によるショートを防止するため、導電粒子を分散した異方導電接着剤層と絶縁性接着剤層とが積層された構成を有する2層構成の回路接続材料の技術がある(例えば、特許文献12参照)。   Furthermore, in order to improve the capturing efficiency of the conductive particles and prevent short-circuiting due to the aggregation of the conductive particles at the glass edge portion of the substrate to be connected, an anisotropic conductive adhesive layer in which the conductive particles are dispersed and an insulating adhesive layer are provided. There is a technique of a circuit connection material having a two-layer structure having a stacked structure (see, for example, Patent Document 12).

特開昭59−120436号公報JP 59-120436 A 特開昭60−191228号公報JP-A-60-191228 特開平1−251787号公報JP-A-1-251787 特開平7−90237号公報JP-A-7-90237 特開昭51−20941号公報JP 51-20941 A 特開平3−29207号公報JP-A-3-29207 特開平4−174980号公報JP-A-4-174980 特許第3048197号公報Japanese Patent No. 3048197 特許第3477367号公報Japanese Patent No. 3477367 国際公開第01/014484号パンフレットInternational Publication No. 01/014484 Pamphlet 特開2001−323249号公報JP 2001-323249 A 特開2009−1708988号公報JP 2009-1708988 A

しかしながら、近年の回路部材では電極の高精細化が進み、回路接続時に回路接続材料の樹脂が充分に排除されないため、接続抵抗が高まる、圧痕強度が不充分となるなどの問題が生じている。   However, in recent circuit members, the electrodes have become higher in definition and the resin of the circuit connection material is not sufficiently removed at the time of circuit connection, so that problems such as increased connection resistance and insufficient indentation strength have arisen.

そこで、本発明は、充分に低い接続抵抗及び充分な圧痕強度を得ることが可能な回路接続用接着剤フィルムを提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide the adhesive film for circuit connection which can obtain a sufficiently low connection resistance and sufficient indentation intensity | strength.

本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、導電性接着剤層の厚みや硬化剤の含有量を調整することにより、接続抵抗及び圧痕強度の改善が可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors can improve the connection resistance and indentation strength by adjusting the thickness of the conductive adhesive layer and the content of the curing agent. As a result, the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、硬化剤を含有する接着剤成分及び導電粒子を含む導電性接着剤層と、硬化剤を含有する接着剤成分を含み導電粒子を含まない絶縁性接着剤層と、を備える回路接続用接着剤フィルムであって、上記導電性接着剤層の厚みは上記導電粒子の平均粒径の2倍以下であり、上記導電性接着剤層に含まれる接着剤成分が含有する硬化剤の当該接着剤成分に対する質量比が、上記絶縁性接着剤層に含まれる接着剤成分が含有する硬化剤の当該接着剤成分に対する質量比よりも少ない、回路接続用接着剤フィルムに関する。   That is, the present invention comprises a conductive adhesive layer containing an adhesive component containing a curing agent and conductive particles, and an insulating adhesive layer containing an adhesive component containing a curing agent and no conductive particles. An adhesive film for circuit connection, wherein the thickness of the conductive adhesive layer is not more than twice the average particle size of the conductive particles, and the curing agent contained in the adhesive component contained in the conductive adhesive layer It is related with the adhesive film for circuit connections whose mass ratio with respect to the said adhesive component is less than the mass ratio with respect to the said adhesive component of the hardening | curing agent which the adhesive agent component contained in the said insulating adhesive layer contains.

導電性接着剤層の厚みが導電粒子の平均粒径の2倍以下であることによって、導電粒子の移動が抑制され、接続抵抗の上昇を抑制することができる。また、導電性接着剤層に含まれる接着剤成分が含有する硬化剤の当該接着剤成分に対する質量比が、絶縁性接着剤層に含まれる接着剤成分が含有する硬化剤の当該接着剤成分に対する質量比よりも少ないことによって、充分に低い接続抵抗及び充分な圧痕強度が得られる。   When the thickness of the conductive adhesive layer is not more than twice the average particle size of the conductive particles, the movement of the conductive particles can be suppressed, and the increase in connection resistance can be suppressed. Moreover, the mass ratio of the curing agent contained in the adhesive component contained in the conductive adhesive layer to the adhesive component is relative to the adhesive component of the curing agent contained in the adhesive component contained in the insulating adhesive layer. By being less than the mass ratio, sufficiently low connection resistance and sufficient indentation strength can be obtained.

上記接着剤成分は、熱可塑性樹脂及びラジカル重合性化合物を更に含有することが好ましく、上記硬化剤がラジカル重合開始剤であることが好ましい。このような接着剤成分を用いることによって、低温且つ短時間での硬化(低温速硬化)が可能となる。   The adhesive component preferably further contains a thermoplastic resin and a radical polymerizable compound, and the curing agent is preferably a radical polymerization initiator. By using such an adhesive component, curing at a low temperature and in a short time (low temperature rapid curing) becomes possible.

また、本発明は、対向配置された一対の回路部材と、上記一対の回路部材の間に介在し、それぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように上記回路部材同士を接着する接続部と、を備える回路接続体であって、上記接続部が、本発明の回路接続用接着剤フィルムの硬化物からなる、回路接続体に関する。本発明の回路接続体は、上記本発明の回路接続用接着剤フィルムを用いて接続部を形成していることにより、充分に低い接続抵抗及び充分な圧痕強度を有するものとなる。   Further, the present invention provides a circuit member that is interposed between a pair of circuit members disposed opposite to each other and the pair of circuit members so that circuit electrodes of each circuit member are electrically connected to each other. It is a circuit connection body provided with the connection part to adhere | attach, Comprising: The said connection part is related with the circuit connection body which consists of hardened | cured material of the adhesive film for circuit connection of this invention. The circuit connection body of the present invention has a sufficiently low connection resistance and a sufficient indentation strength by forming the connection portion using the above-mentioned adhesive film for circuit connection of the present invention.

さらに、本発明は、対向配置された一対の回路部材と、上記一対の回路部材の間に介在し、それぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように上記回路部材同士を接着する接続部と、を備える回路接続体の製造方法であって、上記一対の回路部材の間に、本発明の回路接続用接着剤フィルムを介在させ、全体を加熱及び加圧することにより、上記回路接続用接着剤フィルムの硬化物からなる上記接続部を設ける、上記回路接続体の製造方法に関する。本発明の製造方法によれば、充分に低い接続抵抗及び充分な圧痕強度を有する回路接続体を得ることが可能である。   Furthermore, the present invention provides a circuit member which is interposed between a pair of circuit members arranged opposite to each other and the pair of circuit members so that circuit electrodes of each circuit member are electrically connected to each other. A connecting part for bonding, wherein the adhesive film for circuit connection of the present invention is interposed between the pair of circuit members, and the whole is heated and pressurized, It is related with the manufacturing method of the said circuit connection body which provides the said connection part which consists of hardened | cured material of the adhesive film for circuit connections. According to the manufacturing method of the present invention, it is possible to obtain a circuit connection body having a sufficiently low connection resistance and a sufficient indentation strength.

本発明によれば、充分に低い接続抵抗及び充分な圧痕強度を得ることが可能な回路接続用接着剤フィルム並びにそれを用いた回路接続体及び回路接続体の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesive film for circuit connection which can obtain sufficiently low connection resistance and sufficient indentation intensity | strength, the circuit connection body using the same, and the manufacturing method of a circuit connection body can be provided.

本発明の回路接続用接着剤フィルムの一実施形態を示す端面図である。It is an end view which shows one Embodiment of the adhesive film for circuit connections of this invention.

以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書における「(メタ)アクリル酸」とは「アクリル酸」及びそれに対応する「メタクリル酸」を意味し、「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」及びそれに対応する「メタクリレート」を意味し、「(メタ)アクリロキシ」とは「アクリロキシ」及びそれに対応する「メタクリロキシ」を意味する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings as necessary. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In the present specification, “(meth) acrylic acid” means “acrylic acid” and its corresponding “methacrylic acid”, and “(meth) acrylate” means “acrylate” and its corresponding “methacrylate”. And “(meth) acryloxy” means “acryloxy” and its corresponding “methacryloxy”.

本発明の回路接続用接着剤フィルム(以下、単に「接着剤フィルム」ともいう。)は、導電粒子を含む導電性接着剤層と、導電粒子を含まない絶縁性接着剤層と、を備える。   The adhesive film for circuit connection of the present invention (hereinafter also simply referred to as “adhesive film”) includes a conductive adhesive layer containing conductive particles and an insulating adhesive layer not containing conductive particles.

上記導電性接着剤層の厚みは、導電粒子の平均粒径の2倍以下である。これにより、導電粒子の移動が抑制され、接続抵抗の上昇を抑制することができる。上記厚みは、導電粒子の平均粒径の2倍以下であればよいが、導電粒子の平均粒径に対して、20〜100%の厚みであると好ましく、25〜75%の厚みであるとより好ましい。具体的には、上記厚みが1〜5μmであると好ましく、1〜4μmであるとより好ましい。   The thickness of the conductive adhesive layer is not more than twice the average particle size of the conductive particles. Thereby, the movement of the conductive particles is suppressed, and an increase in connection resistance can be suppressed. Although the thickness should just be 2 times or less of the average particle diameter of electroconductive particle, it is preferable in it being 20-100% of thickness with respect to the average particle diameter of electroconductive particle, and being 25-75% of thickness. More preferred. Specifically, the thickness is preferably 1 to 5 μm, and more preferably 1 to 4 μm.

一方、絶縁性接着剤層の厚みは、2〜21μmであると好ましく、4〜14μmであるとより好ましい。   On the other hand, the thickness of the insulating adhesive layer is preferably 2 to 21 μm, and more preferably 4 to 14 μm.

導電粒子の平均粒径は、次のようにして求めることができる。すなわち、1個の核粒子を任意に選択し、これを示差走査電子顕微鏡で観察してその最大径及び最小径を測定する。この最大径及び最小径の積の平方根をその粒子の粒径とする。この方法で、任意に選択した核粒子50個について粒径を測定し、その平均値を導電粒子の平均粒径とする。   The average particle diameter of the conductive particles can be determined as follows. That is, one core particle is arbitrarily selected, and this is observed with a differential scanning electron microscope, and its maximum diameter and minimum diameter are measured. The square root of the product of the maximum diameter and the minimum diameter is defined as the particle diameter of the particle. By this method, the particle diameter of 50 arbitrarily selected core particles is measured, and the average value is taken as the average particle diameter of the conductive particles.

導電粒子の平均粒径は、接続する回路の電極高さより低くすると隣接電極間の短絡が減少する等の点から、1〜10μmであると好ましく、1〜8μmであると好ましく、2〜6μmであると更に好ましく、3〜5μmであると特に好ましく、3〜4μmであると最も好ましい。   The average particle diameter of the conductive particles is preferably 1 to 10 μm, preferably 1 to 8 μm, and preferably 2 to 6 μm from the viewpoint that the short circuit between adjacent electrodes decreases when the electrode height is lower than the electrode height of the circuit to be connected. More preferably, it is 3 to 5 μm, particularly preferably 3 to 4 μm.

導電粒子の10%圧縮弾性率(K値)は、100〜1000kgf/mmであることが好ましい。 The 10% compression elastic modulus (K value) of the conductive particles is preferably 100 to 1000 kgf / mm 2 .

導電粒子としては、Au、Ag、Ni、Cu、はんだ等の金属粒子やカーボン等が挙げられる。導電粒子は、核となる粒子を1又は2以上の層で被覆し、最外層が導電性の層である粒子であってもよい。この場合、充分なポットライフを得るためには、最外層はNi、Cu等の遷移金属類よりもAu、Ag、白金族の貴金属類が好ましく、Auがより好ましい。   Examples of the conductive particles include metal particles such as Au, Ag, Ni, Cu, and solder, and carbon. The conductive particles may be particles in which core particles are covered with one or more layers, and the outermost layer is a conductive layer. In this case, in order to obtain a sufficient pot life, the outermost layer is preferably Au, Ag, or a platinum group noble metal, more preferably Au, than transition metals such as Ni and Cu.

また、導電粒子は、Ni等の遷移金属類の表面をAuの貴金属類で被覆したものでもよい。さらに、導電粒子は、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック等の絶縁粒子に金属等の導電性物質を被覆したものであってもよい。導電粒子が絶縁粒子に導電性物質を被覆したものであって、最外層を貴金属類、核となる絶縁粒子をプラスチックとした場合、又は導電粒子が熱溶融金属粒子の場合、加熱加圧により変形性を有し、接続時に電極との接触面積が増加し信頼性が向上するので好ましい。   The conductive particles may be those in which the surface of a transition metal such as Ni is coated with a noble metal such as Au. Furthermore, the conductive particles may be those obtained by coating nonconductive glass, ceramic, plastic, or other insulating particles with a conductive material such as metal. When conductive particles are made of insulating particles coated with a conductive material and the outermost layer is precious metal and the core insulating particles are plastic, or the conductive particles are hot-melt metal particles, they are deformed by heating and pressing. This is preferable because the contact area with the electrode increases at the time of connection and the reliability is improved.

貴金族類の被覆層の厚みは、良好な抵抗を得るためには、100Å以上であると好ましい。ただし、Ni等の遷移金属の上に貴金属類の被覆層を設ける場合には、貴金属類の被覆層の欠損や導電粒子の混合分散時に生じる貴金属類の被覆層の欠損等により生じる酸化還元作用で遊離ラジカルが発生しポットライフ低下を引き起こすため、ラジカル重合系の接着剤成分を使用するときには被覆層の厚みは300Å以上が好ましい。   In order to obtain good resistance, the thickness of the noble metal coating layer is preferably 100 mm or more. However, when a noble metal coating layer is provided on a transition metal such as Ni, the oxidation-reduction action caused by the noble metal coating layer deficiency or the noble metal coating layer deficiency generated when the conductive particles are mixed and dispersed. Since free radicals are generated and pot life is reduced, the thickness of the coating layer is preferably 300 mm or more when using a radical polymerization type adhesive component.

導電粒子は、通常、接着剤成分100体積部に対して0.1〜30体積部の範囲で含有させることができるが、用途により好適な含有量は異なる。例えば、導電粒子による隣接回路の短絡等を一層充分に防止するためには0.1〜10体積部とするとより好ましい。   Although electroconductive particle can be contained normally in 0.1-30 volume parts with respect to 100 volume parts of adhesive components, suitable content changes with uses. For example, 0.1 to 10 parts by volume is more preferable in order to more sufficiently prevent a short circuit between adjacent circuits due to conductive particles.

絶縁性接着剤層に対する導電性接着剤層の最低溶融粘度比は、少なくとも10倍以上であることが好ましい。これにより、加圧の際の導電粒子の移動抑制効果がより向上する。なお、上記最低溶融粘度比の上限は特に限定されないが、例えば1000倍以下とすることができる。   The minimum melt viscosity ratio of the conductive adhesive layer to the insulating adhesive layer is preferably at least 10 times or more. Thereby, the movement inhibitory effect of the conductive particles during pressurization is further improved. In addition, although the upper limit of the said minimum melt viscosity ratio is not specifically limited, For example, it can be 1000 times or less.

本発明の接着剤フィルムにおいては、導電性接着剤層に含まれる接着剤成分が含有する硬化剤の当該接着剤成分に対する質量比が、上記絶縁性接着剤層に含まれる接着剤成分が含有する硬化剤の当該接着剤成分に対する質量比よりも少ない。これにより、導電性接着剤層の流動性が向上し、回路接続時に樹脂が充分に排除される結果、充分に低い接続抵抗及び充分な圧痕強度が得られる。   In the adhesive film of the present invention, the mass ratio of the curing agent contained in the adhesive component contained in the conductive adhesive layer to the adhesive component contains the adhesive component contained in the insulating adhesive layer. Less than the mass ratio of the curing agent to the adhesive component. As a result, the fluidity of the conductive adhesive layer is improved, and the resin is sufficiently removed at the time of circuit connection. As a result, a sufficiently low connection resistance and a sufficient indentation strength can be obtained.

導電性接着剤層に含まれる接着剤成分の硬化剤含有量は、3〜10質量%であることが好ましく、4〜8質量%であることがより好ましい。一方、絶縁性接着剤層に含まれる接着剤成分の硬化剤含有量は、4〜11質量%であることが好ましく、5〜9質量%であることがより好ましい。   The curing agent content of the adhesive component contained in the conductive adhesive layer is preferably 3 to 10% by mass, and more preferably 4 to 8% by mass. On the other hand, the curing agent content of the adhesive component contained in the insulating adhesive layer is preferably 4 to 11% by mass, and more preferably 5 to 9% by mass.

導電性接着剤層及び絶縁性接着剤層に含まれる接着剤成分は、熱可塑性樹脂及びラジカル重合性化合物を更に含有し、上記硬化剤はラジカル重合開始剤であることが好ましい。このような接着剤成分を用いることによって、低温且つ短時間での硬化(低温速硬化)が可能となる。   The adhesive component contained in the conductive adhesive layer and the insulating adhesive layer further contains a thermoplastic resin and a radical polymerizable compound, and the curing agent is preferably a radical polymerization initiator. By using such an adhesive component, curing at a low temperature and in a short time (low temperature rapid curing) becomes possible.

熱可塑性樹脂としては、フェノキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタンイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられるが、特にポリエステルウレタンやエチレン−酢酸ビニル共重合体が好適に用いられる。   Examples of the thermoplastic resin include a phenoxy resin, an acrylic resin, a polyimide resin, a polyurethaneimide resin, a polyamideimide resin, and a polyurethane resin. In particular, polyester urethane and an ethylene-vinyl acetate copolymer are preferably used.

ラジカル重合性化合物は、ラジカルにより重合する官能基を有する化合物であり、その具体例としては、(メタ)アクリレート、マレイミド化合物等が挙げられる。ラジカル重合性化合物の配合量は、接着剤成分の固形分全体に対して、25〜55質量%であると好ましく、30〜50質量%であるとより好ましい。   A radically polymerizable compound is a compound having a functional group that is polymerized by radicals, and specific examples thereof include (meth) acrylates and maleimide compounds. The blending amount of the radical polymerizable compound is preferably 25 to 55% by mass and more preferably 30 to 50% by mass with respect to the entire solid content of the adhesive component.

(メタ)アクリレートとしては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジ(メタ)アクリロキシプロパン、2,2−ビス〔4−((メタ)アクリロキシメトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−((メタ)アクリロキシポリエトキシ)フェニル〕プロパン、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ビス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ε−カプロラクトン変性トリス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート、トリス((メタ)アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。   Examples of the (meth) acrylate include urethane (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di ( (Meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, 2-hydroxy-1,3-di (meth) acryloxypropane, 2,2 -Bis [4-((meth) acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4-((meth) acryloxypolyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl (meth) acrylate, tris Rodekaniru (meth) acrylate, bis ((meth) acryloxy ethyl) isocyanurate, .epsilon.-caprolactone-modified tris ((meth) acryloxy ethyl) isocyanurate, tris ((meth) acryloxy ethyl) isocyanurate.

マレイミド化合物としては、分子中にマレイミド基を少なくとも2個以上含有するものが好ましく、例えば、1−メチル−2,4−ビスマレイミドベンゼン、N,N’−m−フェニレンビスマレイミド、N,N’−P−フェニレンビスマレイミド、N,N’−m−トルイレンビスマレイミド、N,N’−4,4−ビフェニレンビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチル−ビフェニレン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジエチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルプロパンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルエーテルビスマレイミド、N,N’−3,3’−ジフェニルスルホンビスマレイミド、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−s−ブチル−4,8−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、1,1−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]デカン、4,4’−シクロヘキシリデン−ビス[1−(4−マレイミドフェノキシ)−2−シクロヘキシル]ベンゼン、2,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。これらは、1種を単独で又は2種以上を併用して用いたり、アリルフェノール、アリルフェニルエーテル、安息香酸アリル等のアリル化合物と併用して用いてもよい。   As the maleimide compound, those containing at least two maleimide groups in the molecule are preferable. For example, 1-methyl-2,4-bismaleimidebenzene, N, N′-m-phenylenebismaleimide, N, N ′ -P-phenylene bismaleimide, N, N'-m-toluylene bismaleimide, N, N'-4,4-biphenylene bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3'-dimethyl-biphenylene ) Bismaleimide, N, N′-4,4- (3,3′-dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N′-4,4- (3,3′-diethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N ′ -4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylpropane bismaleimide, N, N'-4,4-diphenyl ether bisma Imido, N, N′-3,3′-diphenylsulfone bismaleimide, 2,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3-s-butyl-4,8 -(4-maleimidophenoxy) phenyl] propane, 1,1-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] decane, 4,4'-cyclohexylidene-bis [1- (4-maleimidophenoxy) -2 -Cyclohexyl] benzene, 2,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] hexafluoropropane and the like. These may be used alone or in combination of two or more, or may be used in combination with allyl compounds such as allylphenol, allylphenyl ether, and allyl benzoate.

このようなラジカル重合性化合物は、1種を単独で又は2種以上を併用して用いることができる。ラジカル重合性化合物は、25℃での粘度が100000〜1000000mPa・sであるラジカル重合性化合物を少なくとも含有することが好ましく、特に100000〜500000mPa・sの粘度(25℃)を有するラジカル重合性化合物を含有することが好ましい。ラジカル重合性化合物の粘度の測定は、市販のE型粘度計を用いて測定できる。   Such radically polymerizable compounds can be used alone or in combination of two or more. The radical polymerizable compound preferably contains at least a radical polymerizable compound having a viscosity at 25 ° C. of 100,000 to 1,000,000 mPa · s, and particularly a radical polymerizable compound having a viscosity (25 ° C.) of 100,000 to 500,000 mPa · s. It is preferable to contain. The viscosity of the radical polymerizable compound can be measured using a commercially available E-type viscometer.

ラジカル重合性化合物の中でもウレタン(メタ)アクリレートが接着性の観点から好ましく、また、耐熱性を向上させるために用いる有機過酸化物との橋かけ後、単独で100℃以上のTgを示すラジカル重合性化合物を併用して用いることが特に好ましい。このようなラジカル重合性化合物としては、ジシクロペンテニル基、トリシクロデカニル基及び/又はトリアジン環を有するものを用いることができる。特に、トリシクロデカニル基やトリアジン環を有するラジカル重合性化合物が好適に用いられる。   Among the radical polymerizable compounds, urethane (meth) acrylate is preferable from the viewpoint of adhesiveness, and after crosslinking with an organic peroxide used for improving heat resistance, radical polymerization showing Tg of 100 ° C. or more alone. It is particularly preferable to use the active compound in combination. As such a radically polymerizable compound, a compound having a dicyclopentenyl group, a tricyclodecanyl group and / or a triazine ring can be used. In particular, a radical polymerizable compound having a tricyclodecanyl group or a triazine ring is preferably used.

リン酸エステル構造を有するラジカル重合性化合物を0.1〜10質量%用いた場合、金属等の無機物表面での接着強度が向上するので好ましく、0.5〜5質量%であるとより好ましい。リン酸エステル構造を有するラジカル重合性化合物は、無水リン酸と2−ヒドロキシル(メタ)アクリレートの反応物として得られる。具体的には、2−メタクリロイロキシエチルアッシドフォスヘート、2−アクリロイロキシエチルアッシドフォスヘート等があげられる。こららは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用できる。   When 0.1 to 10% by mass of a radically polymerizable compound having a phosphate ester structure is used, the adhesive strength on the surface of an inorganic substance such as a metal is preferably increased, and more preferably 0.5 to 5% by mass. The radically polymerizable compound having a phosphoric ester structure is obtained as a reaction product of phosphoric anhydride and 2-hydroxyl (meth) acrylate. Specific examples include 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, 2-acryloyloxyethyl acid phosphate, and the like. These can be used singly or in combination of two or more.

硬化剤としては、イミダゾール系、ヒドラジド系、三フッ化ホウ素−アミン錯体、スルホニウム塩、アミンイミド、ポリアミンの塩、ジシアンジアミド等が挙げられる。これらは、1種を単独又は2種以上を混合して使用することができ、分解促進剤、抑制剤等を混合して用いてもよい。また、これらの硬化剤をポリウレタン系、ポリエステル系の高分子物質等で被覆してマイクロカプセル化したものは、可使時間が延長されるために好ましい。   Examples of the curing agent include imidazole, hydrazide, boron trifluoride-amine complex, sulfonium salt, amine imide, polyamine salt, dicyandiamide and the like. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types, You may mix and use a decomposition accelerator, an inhibitor, etc. In addition, those encapsulating these curing agents with polyurethane-based or polyester-based polymeric substances and the like and microencapsulated are preferable because the pot life is extended.

上記硬化剤は、加熱若しくは光によって遊離ラジカルを発生するラジカル重合開始剤(ラジカル重合開始剤)を含むことが好ましい。   The curing agent preferably contains a radical polymerization initiator (radical polymerization initiator) that generates free radicals by heating or light.

ラジカル重合開始剤は、過酸化化合物、アゾ系化合物等の加熱により分解して遊離ラジカルを発生するものであり、目的とする接続温度、接続時間、ポットライフ等により適宜選定されるが、高反応性とポットライフの点から、半減期10時間の温度が40℃以上かつ、半減期1分の温度が180℃以下の有機過酸化物が好ましい。この場合、ラジカル重合開始剤の配合量は、接着剤成分の固形分全体に対して、0.05〜10質量%であると好ましく、0.1〜5質量%であるとより好ましい。   The radical polymerization initiator is one that decomposes by heating a peroxide compound, an azo compound or the like to generate free radicals, and is appropriately selected depending on the target connection temperature, connection time, pot life, etc. From the standpoint of properties and pot life, an organic peroxide having a half-life of 10 hours at a temperature of 40 ° C. or more and a half-life of 1 minute at a temperature of 180 ° C. or less is preferred. In this case, the blending amount of the radical polymerization initiator is preferably 0.05 to 10% by mass and more preferably 0.1 to 5% by mass with respect to the entire solid content of the adhesive component.

ラジカル重合開始剤は、具体的には、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド等から選定できる。回路部材の接続端子(回路電極)の腐食を抑えるために、パーオキシエステル、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイドから選定されることが好ましく、高反応性が得られるパーオキシエステルから選定されることがより好ましい。   Specifically, the radical polymerization initiator can be selected from diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxyester, peroxyketal, dialkyl peroxide, hydroperoxide, and the like. In order to suppress corrosion of connection terminals (circuit electrodes) of circuit members, it is preferable to select from peroxyesters, dialkyl peroxides, and hydroperoxides, and to select from peroxyesters that provide high reactivity. More preferred.

ジアシルパーオキサイドとしては、例えば、イソブチルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシニックパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエン、ベンゾイルパーオキサイド等が挙げられる   Examples of the diacyl peroxide include isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, and succinic peroxide. Benzoylperoxytoluene, benzoyl peroxide, etc.

パーオキシジカーボネートとしては、例えば、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−tert−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシメトキシパーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジメトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチルパーオキシ)ジカーボネート等が挙げられる。   Examples of peroxydicarbonate include di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, bis (4-tert-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethoxymethoxyperoxydicarbonate, Examples include di (2-ethylhexylperoxy) dicarbonate, dimethoxybutylperoxydicarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutylperoxy) dicarbonate, and the like.

パーオキシエステルとしては、例えば、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエート、tert−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、tert−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、tert−ブチルパーオキシイソブチレート、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、tert−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、tert−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノネート、tert−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ビス(m−トルオイルパーオキシ)ヘキサン、tert−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、tert−ヘキシルパーオキシベンゾエート、tert−ブチルパーオキシアセテート、ジ−tert−ブチルパーオキシヘキサハイドロテレフタレート等が挙げられる。   Examples of peroxyesters include cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxynoedecanoate, tert -Hexylperoxyneodecanoate, tert-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-bis ( 2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, tert-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, tert-butylperoxy-2-ethyl Hexanonate, tert-butyl peroxyisobutyrate, 1,1-bis tert-butylperoxy) cyclohexane, tert-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, tert-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanonate, tert-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2, 5-bis (m-toluoylperoxy) hexane, tert-butylperoxyisopropyl monocarbonate, tert-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, tert-hexylperoxybenzoate, tert-butylperoxyacetate, di- Examples include tert-butyl peroxyhexahydroterephthalate.

パーオキシケタールとしては、例えば、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,5,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,5,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−(tert−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)デカン等が挙げられる。   Examples of the peroxyketal include 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,5,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis ( tert-Butylperoxy) -3,5,5-trimethylcyclohexane, 1,1- (tert-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) decane and the like.

ジアルキルパーオキサイドとしては、例えば、α,α’−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、tert−ブチルクミルパーオキサイド等が挙げられる   Examples of the dialkyl peroxide include α, α′-bis (tert-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, tert -Butyl cumyl peroxide

ハイドロパーオキサイドとしては、例えば、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。   Examples of the hydroperoxide include diisopropylbenzene hydroperoxide and cumene hydroperoxide.

これらのラジカル重合開始剤は1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができ、分解促進剤、抑制剤等を混合して用いてもよい。   These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more, and may be used by mixing a decomposition accelerator, an inhibitor and the like.

上記接着剤成分は、必要に応じて、ハイドロキノン、メチルエーテルハイドロキノン類等の重合禁止剤を適宜含有してもよい。   The adhesive component may appropriately contain a polymerization inhibitor such as hydroquinone or methyl ether hydroquinone as necessary.

本発明の接着剤フィルムは、フィルム状で使用することが取り扱い性に優れることから好ましく、その場合フィルム形成性高分子を含有してもよい。フィルム形成性高分子としては、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリフェニレンオキサイド、尿素樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、キシレン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイソシアネート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステルウレタン樹脂等が用いられる。これらの中でも水酸基等の官能基を有する樹脂は接着性が向上することができるので、より好ましい。また、これらの高分子をラジカル重合性の官能基で変性したものも用いることができる。これら高分子の重量平均分子量は10000以上が好ましい。また、重量平均分子量が1000000以上になると混合性が低下するため、1000000未満であると好ましい。   The adhesive film of the present invention is preferably used in the form of a film because of its excellent handleability. In that case, the adhesive film may contain a film-forming polymer. As film-forming polymers, polystyrene, polyethylene, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyimide, polyamide, polyester, polyvinyl chloride, polyphenylene oxide, urea resin, melamine resin, phenol resin, xylene resin, epoxy resin, polyisocyanate resin, Phenoxy resin, polyimide resin, polyester urethane resin or the like is used. Among these, a resin having a functional group such as a hydroxyl group is more preferable because adhesiveness can be improved. Also, those obtained by modifying these polymers with radically polymerizable functional groups can be used. These polymers preferably have a weight average molecular weight of 10,000 or more. Moreover, since mixing property will fall when a weight average molecular weight becomes 1000000 or more, it is preferable in it being less than 1 million.

さらに、接着剤成分は、充填材、軟化剤、促進剤、老化防止剤、着色剤、難燃化剤、チキソトロピック剤、カップリング剤、フェノール樹脂、メラミン樹脂、イソシアネート類等を含有することもできる。   Furthermore, the adhesive component may contain fillers, softeners, accelerators, anti-aging agents, colorants, flame retardants, thixotropic agents, coupling agents, phenol resins, melamine resins, isocyanates, and the like. it can.

充填材を含有する場合、接続信頼性等の向上が得られるので好ましい。充填材は、その最大径が導電粒子の粒径未満であれば使用でき、接着剤成分に対して5〜60体積%の範囲で用いることが好ましい。60体積%を超えると、信頼性向上の効果が飽和する。   When the filler is contained, it is preferable because connection reliability and the like can be improved. The filler can be used if its maximum diameter is less than the particle diameter of the conductive particles, and is preferably used in the range of 5 to 60% by volume with respect to the adhesive component. If it exceeds 60% by volume, the effect of improving reliability is saturated.

カップリング剤としては、ビニル基、アクリル基、アミノ基、エポキシ基及びイソシアネート基からなる群より選ばれる1種以上の基を含有する化合物が、接着性の向上の点から好ましい。   As the coupling agent, a compound containing one or more groups selected from the group consisting of a vinyl group, an acrylic group, an amino group, an epoxy group, and an isocyanate group is preferable from the viewpoint of improving adhesiveness.

導電性接着剤層及び絶縁性接着剤層は、上述の接着剤成分を含むことができるが、それぞれの層の成分の少なくとも一部は異なっていることが好ましい。   The conductive adhesive layer and the insulating adhesive layer can include the above-described adhesive component, but it is preferable that at least some of the components of each layer are different.

また、反応性樹脂を含有する層と潜在性硬化剤を含有する層に分離した場合や、遊離ラジカルを発生する硬化剤を含有する層と導電粒子を含有する層に分離した場合、従来の高精細化可能の効果に加えて、ポットライフの向上効果が得られる。   In addition, when separated into a layer containing a reactive resin and a layer containing a latent curing agent, or separated into a layer containing a curing agent that generates free radicals and a layer containing conductive particles, In addition to the effect of refinement, an effect of improving pot life can be obtained.

本発明の接着剤フィルムは、例えば、ICチップと基板との接着や電気回路相互の接着用の材料として有用である。   The adhesive film of the present invention is useful, for example, as a material for bonding an IC chip and a substrate or bonding electric circuits.

本発明の接着剤フィルムを用いて回路接続対を得る場合、例えば、対向配置された一対の回路部材の間に、本発明の回路接続用接着剤フィルムを介在させ、全体を加熱及び加圧することにより、それぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように回路部材同士を接着し、回路接続体を得ることができる。   When obtaining a circuit connection pair using the adhesive film of the present invention, for example, the circuit connection adhesive film of the present invention is interposed between a pair of circuit members arranged opposite to each other, and the whole is heated and pressurized. Thus, the circuit members can be bonded to each other so that the circuit electrodes of the respective circuit members are electrically connected to each other, thereby obtaining a circuit connection body.

上記回路接続体は、対向配置された一対の回路部材と、当該一対の回路部材の間に介在し、それぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように上記回路部材同士を接着する接続部と、を備え、上記接続部は、本発明の回路接続用接着剤フィルムの硬化物からなる。   The circuit connection body is interposed between the pair of circuit members opposed to each other and the pair of circuit members, and the circuit members are connected to each other so that the circuit electrodes of each circuit member are electrically connected to each other. A connecting portion to be bonded, and the connecting portion is made of a cured product of the adhesive film for circuit connection of the present invention.

回路部材としては、例えば、半導体チップ、抵抗体チップ、コンデンサチップ等のチップ部品、プリント基板等の基板等が挙げられる。これらの回路部材には接続端子(回路電極)が通常は多数(場合によっては単数でもよい)設けられている。   Examples of the circuit member include a chip component such as a semiconductor chip, a resistor chip, and a capacitor chip, and a substrate such as a printed board. These circuit members are usually provided with a large number of connection terminals (circuit electrodes).

接着剤フィルムは、接続時に接着剤が溶融流動し相対向する回路電極の接続を得た後、硬化して接続を保持するものであり、接着剤の流動性は重要な因子である。厚み0.7mm、15mm×15mmのガラス板に、厚み35μm、5mm×5mmの接着剤フィルムを挟み、170℃、2MPa、10秒の条件で加熱加圧を行った場合、初期の接着剤フィルムの主面の面積(A)と加熱加圧後の主面の面積(B)とを用いて表される流動性(B)/(A)の値は1.3〜3.0であることが好ましく、1.5〜2.5であることがより好ましい。1.3未満では流動性が悪く、良好な接続が得られない傾向があり、3.0を超える場合は、気泡が発生しやすく信頼性に劣る傾向がある。   In the adhesive film, the adhesive melts and flows at the time of connection to obtain a connection between circuit electrodes facing each other, and then cures to maintain the connection. The fluidity of the adhesive is an important factor. When an adhesive film having a thickness of 35 μm and 5 mm × 5 mm is sandwiched between a glass plate having a thickness of 0.7 mm and 15 mm × 15 mm, and heating and pressing are performed at 170 ° C., 2 MPa, 10 seconds, the initial adhesive film The value of the fluidity (B) / (A) expressed using the area (A) of the main surface and the area (B) of the main surface after heating and pressing is 1.3 to 3.0. Preferably, it is 1.5 to 2.5. If it is less than 1.3, the fluidity is poor and there is a tendency that good connection cannot be obtained. If it exceeds 3.0, bubbles tend to be generated and the reliability tends to be poor.

接着剤フィルムの硬化後の40℃での弾性率は100〜3000MPaが好ましく、500〜2000MPaがより好ましい。   The elastic modulus at 40 ° C. after curing of the adhesive film is preferably 100 to 3000 MPa, and more preferably 500 to 2000 MPa.

以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

(接着剤フィルムの作製)
熱可塑性樹脂として、ポリエステルウレタン1(東洋紡績(株)製、UR4125(商品名))27質量部、ポリエステルウレタン2(東洋紡績(株)製、UR3500(商品名))10質量部及びエチレン−酢酸ビニル共重合体(三井・デュポン・ポリケミカル(株)製、EV40W(商品名))7.5質量部、ラジカル重合性化合物として、アクリレート(東亞合成(株)製、M−215(商品名))16質量部及びウレタンアクリレート(新中村化学工業(株)製、UA5500T(商品名))24質量部を混合し、ベース樹脂とした。
(Preparation of adhesive film)
As thermoplastic resins, 27 parts by mass of polyester urethane 1 (manufactured by Toyobo Co., Ltd., UR4125 (trade name)), 10 parts by mass of polyester urethane 2 (manufactured by Toyobo Co., Ltd., UR3500 (trade name)), and ethylene-acetic acid 7.5 parts by mass of vinyl copolymer (Mitsui / DuPont Polychemical Co., Ltd., EV40W (trade name)), radical polymerizable compound, acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., M-215 (trade name)) ) 16 parts by mass and 24 parts by mass of urethane acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., UA5500T (trade name)) were mixed to obtain a base resin.

上記ベース樹脂に、ラジカル重合開始剤として、パーヘキサ250(2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、日本油脂(株)製、商品名)及びHTP−65W(ジ−tert−ブチルパーオキシヘキサハイドロテレフタレート、化薬アクゾ(株)製、商品名)を、表1に示す質量比にてそれぞれ混合し、接着剤成分を調整した。得られた接着剤成分を100体積部として、導電粒子としてNiめっきポリスチレン粒子(平均粒径3μm)8.3体積部を混合し、厚み75μmのPETフィルム上に塗工し、70℃で5分乾燥させることにより、PETフィルム上に膜厚4μmの導電性接着剤層が形成されたフィルム状接着剤1を得た。   To the above base resin, perhexa 250 (2,5-dimethyl-2,5-bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, Nippon Oil & Fats Co., Ltd., trade name) and HTP-65W as radical polymerization initiators. (Di-tert-butylperoxyhexahydroterephthalate, Kayaku Akzo Co., Ltd., trade name) were mixed at a mass ratio shown in Table 1 to adjust the adhesive component. 100 parts by volume of the obtained adhesive component was mixed with 8.3 parts by volume of Ni-plated polystyrene particles (average particle size: 3 μm) as conductive particles, coated on a 75 μm-thick PET film, and at 70 ° C. for 5 minutes. By drying, the film adhesive 1 in which the conductive adhesive layer with a film thickness of 4 μm was formed on the PET film was obtained.

一方、上記ベース樹脂に上記2種のラジカル重合開始剤を表1に示す質量比にてそれぞれ混合し、得られた接着剤成分を、厚み50μmのPETフィルム上に塗工し、70℃で5分乾燥させることにより、PETフィルム上に膜厚10μmの絶縁性接着剤層が形成されたフィルム状接着剤2を得た。   On the other hand, the above two types of radical polymerization initiators were mixed with the base resin at a mass ratio shown in Table 1, and the obtained adhesive component was applied onto a PET film having a thickness of 50 μm. By making it dry partially, the film adhesive 2 in which the 10-micrometer-thick insulating adhesive layer was formed on PET film was obtained.

上記フィルム状接着剤1及び2を、導電性接着剤層と絶縁性接着剤層とが向き合うように合わせ、ラミネータ(50℃、50cm/分)を用いてラミネートし、実施例1並びに比較例1及び2の接着剤フィルムを得た。   The film-like adhesives 1 and 2 are laminated so that the conductive adhesive layer and the insulating adhesive layer face each other and laminated using a laminator (50 ° C., 50 cm / min). Example 1 and Comparative Example 1 And 2 adhesive films were obtained.

Figure 2013103947
Figure 2013103947

(評価用接続体の作製)
これらの接着剤フィルムを、それぞれ幅1.5mmのサイズに切り出し、一方のセパレータ(PETフィルム)を剥離しながら、ITO電極及びAl電極を有するガラス基板に70℃、1MPa、2sの条件で貼り付け、もう一方のセパレータを剥離した後、COF(電極間ピッチ:25μm、電極幅:12.2μm、12.8μm)を貼り付け、150℃又は190℃、3MPa、4秒の条件で圧着を行い、評価用の接続体を作製した。
(Preparation of evaluation connector)
Each of these adhesive films was cut out to a size of 1.5 mm in width, and while being peeled off one separator (PET film), it was affixed to a glass substrate having an ITO electrode and an Al electrode at 70 ° C., 1 MPa, and 2 s. Then, after peeling off the other separator, COF (interelectrode pitch: 25 μm, electrode width: 12.2 μm, 12.8 μm) was applied, and pressure bonding was performed under conditions of 150 ° C. or 190 ° C., 3 MPa, 4 seconds, A connection body for evaluation was produced.

(接続抵抗の評価)
得られた各接続体について、隣接電極間の抵抗値をデジタルマルチメータ(ADVANTEST製、商品名)を用いて測定し、平均値が3Ω未満の場合を「A」、3Ω以上の場合を「B」と評価した。
(Evaluation of connection resistance)
About each obtained connection body, the resistance value between adjacent electrodes is measured using a digital multimeter (manufactured by ADVANTEST, trade name), and when the average value is less than 3Ω, “A” and when it is 3Ω or more, “B ".

(圧痕強度の評価)
得られた各接続体について、強度が充分でムラがない場合を「A」、強度が弱い場合やムラがある場合を「B」と評価した。評価結果を表2に示す。
(Evaluation of indentation strength)
About each obtained connection body, the case where intensity | strength was sufficient and there was no nonuniformity was evaluated as "A", and the case where intensity | strength was weak or nonuniformity was evaluated as "B". The evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2013103947
Figure 2013103947

表2に示されるように、導電性接着剤層と絶縁性接着剤層に含まれるラジカル重合開始剤の質量が等しい比較例1及び2においては、150℃又は190℃で圧着した場合に接続抵抗が高まり圧痕強度が不充分となった。それに対して、導電性接着剤層に含まれるラジカル重合開始剤の質量が絶縁性接着剤層に含まれるラジカル重合開始剤の質量よりも少ない実施例1においては、150℃及び190℃のいずれで圧着した場合でも、充分に低い接続抵抗及び充分な圧痕強度が得られた。   As shown in Table 2, in Comparative Examples 1 and 2 in which the masses of the radical polymerization initiators contained in the conductive adhesive layer and the insulating adhesive layer are equal, the connection resistance is obtained when pressure bonding is performed at 150 ° C. or 190 ° C. The indentation strength became insufficient. On the other hand, in Example 1 where the mass of the radical polymerization initiator contained in the conductive adhesive layer is less than the mass of the radical polymerization initiator contained in the insulating adhesive layer, either 150 ° C. or 190 ° C. Even when crimped, sufficiently low connection resistance and sufficient indentation strength were obtained.

本発明の回路接続用接着剤フィルムは、TCP、COF、プリント配線板等の高精細化された回路部材同士を接続する回路接続材料として好適に用いられる。   The adhesive film for circuit connection of the present invention is suitably used as a circuit connection material for connecting high-definition circuit members such as TCP, COF, and printed wiring boards.

3a…絶縁性接着剤層、3b…導電性接着剤層、4a,4b…接着剤成分、5…導電粒子、10…回路接続用接着剤フィルム。   3a ... insulating adhesive layer, 3b ... conductive adhesive layer, 4a, 4b ... adhesive component, 5 ... conductive particles, 10 ... adhesive film for circuit connection.

Claims (4)

硬化剤を含有する接着剤成分及び導電粒子を含む導電性接着剤層と、硬化剤を含有する接着剤成分を含み導電粒子を含まない絶縁性接着剤層と、を備える回路接続用接着剤フィルムであって、
前記導電性接着剤層の厚みは前記導電粒子の平均粒径の2倍以下であり、
前記導電性接着剤層に含まれる接着剤成分が含有する硬化剤の当該接着剤成分に対する質量比が、前記絶縁性接着剤層に含まれる接着剤成分が含有する硬化剤の当該接着剤成分に対する質量比よりも少ない、回路接続用接着剤フィルム。
An adhesive film for circuit connection comprising: an adhesive component containing a curing agent and a conductive adhesive layer containing conductive particles; and an insulating adhesive layer containing an adhesive component containing a curing agent and no conductive particles Because
The thickness of the conductive adhesive layer is not more than twice the average particle size of the conductive particles,
The mass ratio of the curing agent contained in the adhesive component contained in the conductive adhesive layer to the adhesive component is relative to the adhesive component of the curing agent contained in the adhesive component contained in the insulating adhesive layer. An adhesive film for circuit connection, which is less than the mass ratio.
前記接着剤成分が、熱可塑性樹脂及びラジカル重合性化合物を更に含有し、前記硬化剤がラジカル重合開始剤である、請求項1記載の回路接続用接着剤フィルム。   The adhesive film for circuit connection according to claim 1, wherein the adhesive component further contains a thermoplastic resin and a radical polymerizable compound, and the curing agent is a radical polymerization initiator. 対向配置された一対の回路部材と、
前記一対の回路部材の間に介在し、それぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように前記回路部材同士を接着する接続部と、を備える回路接続体であって、
前記接続部が、請求項1又は2に記載の回路接続用接着剤フィルムの硬化物からなる、回路接続体。
A pair of circuit members disposed opposite to each other;
A circuit connection body comprising a connection part interposed between the pair of circuit members and bonding the circuit members so that circuit electrodes of the respective circuit members are electrically connected to each other;
The circuit connection body which the said connection part consists of the hardened | cured material of the adhesive film for circuit connections of Claim 1 or 2.
対向配置された一対の回路部材と、前記一対の回路部材の間に介在し、それぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように前記回路部材同士を接着する接続部と、を備える回路接続体の製造方法であって、
前記一対の回路部材の間に、請求項1又は2に記載の回路接続用接着剤フィルムを介在させ、全体を加熱及び加圧することにより、前記回路接続用接着剤フィルムの硬化物からなる前記接続部を設ける、前記回路接続体の製造方法。
A pair of circuit members disposed opposite to each other, and a connection portion that is interposed between the pair of circuit members and bonds the circuit members to each other so that circuit electrodes of the respective circuit members are electrically connected; A method of manufacturing a circuit connection body comprising:
The connection made of a cured product of the adhesive film for circuit connection by interposing the adhesive film for circuit connection according to claim 1 or 2 between the pair of circuit members, and heating and pressurizing the whole. A method for manufacturing the circuit connection body, wherein a portion is provided.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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