JP2013084026A - Touch sensor for touch panel - Google Patents

Touch sensor for touch panel Download PDF

Info

Publication number
JP2013084026A
JP2013084026A JP2011221511A JP2011221511A JP2013084026A JP 2013084026 A JP2013084026 A JP 2013084026A JP 2011221511 A JP2011221511 A JP 2011221511A JP 2011221511 A JP2011221511 A JP 2011221511A JP 2013084026 A JP2013084026 A JP 2013084026A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
conductive material
pressure
sensitive adhesive
metal mesh
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011221511A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Shibata
吉夫 柴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Paper Mills Ltd filed Critical Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority to JP2011221511A priority Critical patent/JP2013084026A/en
Publication of JP2013084026A publication Critical patent/JP2013084026A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch sensor for a touch panel that is suitable as a touch sensor of a touch panel using a capacitance system, does not impair the appearance of a display, and is high in a manufacturing yield.SOLUTION: There is provided a touch sensor for a touch panel in which two light transmissive conductive materials are arranged so as to face each other via an adhesive layer. The light transmissive conductive materials have a metal mesh pattern with the thickness of a thin metal wire equal to or smaller than 1.25 μm on a base material. The storage modulus at 23°C of an adhesive composition composing the adhesive layer is 1×10Pa or less.

Description

本発明は、タッチパネルに用いられるタッチセンサー、特に投影型静電容量方式タッチパネルに好適に用いられるタッチセンサーに関するものである。   The present invention relates to a touch sensor used for a touch panel, and more particularly to a touch sensor suitably used for a projection capacitive touch panel.

パーソナル・デジタル・アシスタント(PDA)、ノートPC、OA機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルが広く用いられている。   In electronic devices such as personal digital assistants (PDAs), notebook PCs, OA devices, medical devices, and car navigation systems, touch panels are widely used as input means for these displays.

タッチパネルには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などがある。抵抗膜方式のタッチパネルは、光透過性導電材料と透明導電体層付ガラスとがスペーサーを介して対向配置されており、光透過性導電材料に電流を流し光透過性導電層付ガラスに於ける電圧を計測するような構造となっている。一方、静電容量方式のタッチパネルは、基材上に透明導電体層を有するものを基本的構成とし、可動部分がないことが特徴であり、高耐久性、高透過率を有するため、例えば車載用途等において適用されている。   The touch panel includes an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, a resistance film method, and the like depending on a position detection method. In the resistive film type touch panel, a light-transmitting conductive material and a glass with a transparent conductor layer are arranged to face each other with a spacer interposed therebetween. It has a structure that measures voltage. On the other hand, a capacitive touch panel is basically characterized by having a transparent conductor layer on a substrate, has no moving parts, and has high durability and high transmittance. It is applied in applications.

タッチパネル用途の透明電極(光透過性導電材料)としては、一般にITOからなる光透過性導電膜が基材上に形成されたものが使用されてきた。しかしながらITO導電膜は屈折率が大きく、光の表面反射が大きいため、全光線透過率が低下する問題や、可撓性が低いため屈曲した際にITO導電膜に亀裂が生じて電気抵抗値が高くなる問題があった。   As a transparent electrode (light transmissive conductive material) for use in a touch panel, a material in which a light transmissive conductive film made of ITO is generally formed on a substrate has been used. However, since the ITO conductive film has a large refractive index and a large surface reflection of light, there is a problem that the total light transmittance is lowered, and since the flexibility is low, the ITO conductive film cracks when bent and the electric resistance value is low. There was a problem of getting higher.

また、光透過性導電膜を有する導電材料に求められる性能として導電性と光透過率があるが、ITO等の導電体薄膜を形成させる場合、導電性を高くするにはある程度の膜厚の導電体薄膜が必要であり、それによって透過率が低下するという問題がある。従って、導電性が高くかつ光透過率が高い光透過性導電材料を製造するため、近年は光透過性基材上に金属細線をメッシュパターン状に形成し、金属細線の線幅や間隔、さらにはパターン形状などを調整することにより、高い光線透過率を維持し、高い導電性を付与した光透過性導電材料が知られている。   In addition, there are conductivity and light transmittance as performance required for a conductive material having a light transmissive conductive film. However, when a conductive thin film such as ITO is formed, a certain degree of film thickness is required to increase the conductivity. There is a problem in that a thin body film is required, thereby reducing the transmittance. Therefore, in order to produce a light-transmitting conductive material having high conductivity and high light transmittance, in recent years, metal fine wires are formed in a mesh pattern on a light-transmitting substrate, and the line width and spacing of the metal thin wires are further increased. A light-transmitting conductive material that maintains high light transmittance and imparts high conductivity by adjusting the pattern shape or the like is known.

金属細線をメッシュパターン状に形成する光透過性導電材料として、基板上に薄い触媒層を形成し、その上にレジストパターンを形成した後、めっき法によりレジスト開口部に金属層を積層し、最後にレジスト層及びレジスト層で保護された下地金属を除去することにより導電性パターンを形成するセミアディティブ方法が、例えば特開2007−287994号公報、特開2007−287953号公報などに開示されている。   After forming a thin catalyst layer on the substrate and forming a resist pattern on the substrate as a light-transmitting conductive material that forms fine metal wires in a mesh pattern, the metal layer is laminated on the resist openings by plating. A semi-additive method for forming a conductive pattern by removing a resist layer and a base metal protected by the resist layer is disclosed in, for example, Japanese Unexamined Patent Application Publication Nos. 2007-287994 and 2007-287953. .

また近年、銀塩拡散転写法を用いた銀塩写真感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法も提案されている。例えば特開2003−77350号公報、特開2005−250169号公報や特開2007−188655号公報等では、基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する導電性材料前駆体に、可溶性銀塩形成剤及び還元剤をアルカリ液中で作用させて、金属銀パターンを形成させる技術が開示されている。この方式によるパターニングは均一な線幅を再現することができることに加え、銀は金属の中で最も導電性が高いため、他方式に比べ、より薄い膜厚で高い導電性を得ることができる。さらにこの方法で得られた銀パターン膜はITO導電膜よりも可撓性が高く折り曲げに強いという利点がある。   In recent years, a method using a silver salt photographic light-sensitive material using a silver salt diffusion transfer method as a conductive material precursor has also been proposed. For example, in JP-A-2003-77350, JP-A-2005-250169, JP-A-2007-188655, etc., a conductive material precursor having a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer at least in this order on a substrate. A technique for forming a metallic silver pattern by allowing a soluble silver salt forming agent and a reducing agent to act on the body in an alkaline solution is disclosed. Patterning by this method can reproduce a uniform line width, and since silver has the highest conductivity among metals, higher conductivity can be obtained with a thinner film thickness than other methods. Furthermore, the silver pattern film obtained by this method has an advantage that it is more flexible and resistant to bending than the ITO conductive film.

静電容量方式の中でも投影型静電容量方式を用いたタッチパネルは、複数の電極が同一平面上にパターニングされた光透過性導電材料を2枚粘着剤で貼り合わせることでタッチセンサーを製造している。しかし、電極がパターニングされた光透過性導電材料として金属メッシュパターンを用いた場合、金属細線の厚みにより光線が乱反射することなどにより、タッチパネルを通して見たディスプレイの外観を損ねることがあるという問題があった。こうした問題は金属メッシュパターンの細線の厚みを薄くすることで改善できる。しかしながら粘着剤で張り合わせる前後で、光透過性導電材料の導電性に変化が生じることがあり、タッチパネル用タッチセンサーとして使用できなくなる場合があり改良が求められていた。   A touch panel using the projected capacitive method among the capacitive methods is manufactured by attaching a light-transmitting conductive material in which a plurality of electrodes are patterned on the same plane to each other with an adhesive. Yes. However, when a metal mesh pattern is used as a light-transmitting conductive material with patterned electrodes, there is a problem in that the appearance of the display viewed through the touch panel may be impaired due to irregular reflection of light rays due to the thickness of the thin metal wires. It was. Such a problem can be improved by reducing the thickness of the fine line of the metal mesh pattern. However, before and after bonding with an adhesive, the conductivity of the light-transmitting conductive material may change, and it may become impossible to use as a touch sensor for a touch panel, and an improvement has been demanded.

一方、特許文献1には、重、軽剥離フィルムの剥離力差が大きい基材レス両面粘着シートに用いる粘着剤として、特定の貯蔵弾性率を有する粘着剤が記載され、特許文献2には段差吸収性と耐久性に優れた光学部材貼り合わせ粘着シートの粘着剤層が、特定の貯蔵弾性率を有することが記載されている。   On the other hand, Patent Document 1 describes a pressure-sensitive adhesive having a specific storage elastic modulus as a pressure-sensitive adhesive used for a base-less double-sided pressure-sensitive adhesive sheet having a large difference in peel force between heavy and light release films. It is described that the pressure-sensitive adhesive layer of the optical member-bonded pressure-sensitive adhesive sheet excellent in absorption and durability has a specific storage elastic modulus.

特開2010−168425号公報JP 2010-168425 A 特開2010−77287号公報JP 2010-77287 A

本発明の課題は、ディスプレイの外観を損ねることがなく、かつ製造歩留まりの高いタッチパネル用タッチセンサーを提供することである。   An object of the present invention is to provide a touch sensor for a touch panel that does not impair the appearance of a display and has a high manufacturing yield.

本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
(1)粘着剤層を介して2枚の光透過性導電材料が対向するように配置されたタッチパネル用タッチセンサーであって、前記光透過性導電材料は基材上に金属細線の厚みが1.25μm以下の金属メッシュパターンを有し、前記粘着剤層を構成する粘着剤組成物の23℃における貯蔵弾性率が1×10Pa以下であることを特徴とするタッチパネル用タッチセンサー。
The above object of the present invention is achieved by the following invention.
(1) A touch sensor for a touch panel arranged such that two light-transmitting conductive materials face each other with an adhesive layer interposed therebetween, wherein the light-transmitting conductive material has a thickness of a thin metal wire on a substrate. A touch sensor for a touch panel, having a metal mesh pattern of 25 μm or less and having a storage elastic modulus at 23 ° C. of a pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer of 1 × 10 6 Pa or lower.

本発明により、ディスプレイの外観を損ねることがなく、かつ製造歩留まりの高いタッチパネル用タッチセンサーを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a touch sensor for a touch panel that does not impair the appearance of the display and has a high manufacturing yield.

本発明の光透過性導電材料が有する電極パターンの一例An example of an electrode pattern included in the light-transmitting conductive material of the present invention

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明のタッチパネル用タッチセンサーが有する光透過性導電材料は基材上に金属メッシュパターンを有している。金属メッシュパターンとしては金属細線を辺とする公知の形状を用いることができ、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角形、(正)二十角形などの(正)n角形、円、楕円、星形などを組み合わせた模様でありこれらの単位の単独の繰り返しあるいは2種類以上の組み合わせパターンなどを用いることができる。また、辺が直線でなくとも例えばジグザグ線、波線などで構成されていても良い。さらに特開2002−223095号公報で開示されているような、ストライプ状、煉瓦積み模様状のパターンも用いることができる。本発明ではこれらいずれの形状も用いることができるが、好ましくは正方形、正三角形、正六角形である。   The light transmissive conductive material included in the touch sensor for a touch panel of the present invention has a metal mesh pattern on a base material. As the metal mesh pattern, a known shape having a metal thin wire as a side can be used, for example, a triangle such as a regular triangle, an isosceles triangle, a right triangle, a square such as a square, a rectangle, a rhombus, a parallelogram, a trapezoid, (Positive) Hexagon, (Positive) Octagon, (Positive) Dodecagon, (Positive) N-gonal such as Dodecagon, Circle, Ellipse, Star, etc. Or a combination pattern of two or more types can be used. Further, even if the side is not a straight line, it may be constituted by, for example, a zigzag line or a wavy line. Furthermore, a stripe pattern or a brickwork pattern as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-223095 can also be used. Any of these shapes can be used in the present invention, but a square, a regular triangle, and a regular hexagon are preferable.

本発明において金属メッシュパターンの細線間隔は単位図形が正方形の場合、その正方形の1辺の長さとする。また単位図形が正方形でない場合は、その単位図形と同じ面積になる正方形を算出し、その1辺の長さをその単位図形での細線間隔とする。金属メッシュパターンの細線間隔は400μm以下が好ましい。また金属メッシュパターンの金属細線の線幅は20μm以下が好ましく、より好ましくは1〜15μm、さらに好ましくは1〜10μmである。こうした金属メッシュパターンが設けられた面(導電部)のシート抵抗はJIS K7134の四端子法(端子間隔5mm)で測定した際の値で500Ω/□以下であることが好ましく、より好ましくは200Ω/□以下であり、さらに100Ω/□以下が好ましい。   In the present invention, when the unit figure is a square, the fine line interval of the metal mesh pattern is the length of one side of the square. If the unit graphic is not a square, a square having the same area as the unit graphic is calculated, and the length of one side is defined as the fine line interval in the unit graphic. The fine wire interval of the metal mesh pattern is preferably 400 μm or less. The line width of the fine metal wires of the metal mesh pattern is preferably 20 μm or less, more preferably 1 to 15 μm, and still more preferably 1 to 10 μm. The sheet resistance of the surface (conductive portion) provided with such a metal mesh pattern is preferably 500 Ω / □ or less, more preferably 200 Ω / □, as measured by the four-terminal method (terminal spacing 5 mm) of JIS K7134. □ or less, more preferably 100Ω / □ or less.

図1に本発明の光透過性導電性材料が有する金属メッシュにより構成される電極パターンの一例を示す。図1において、aは金属メッシュパターン部(導電部)、bは電極端子部、cは非画像部(非導電部)である。本発明のタッチパネル用タッチセンサーは、粘着剤層を介して2枚の光透過性導電材料が対向するように配置されるが、その際一方の光透過性導電材料が有する非画像部cに、もう一方の光透過性導電材料が有する金属メッシュパターン部aが位置するように配置される。図1では一方の光透過性導電材料が有する電極パターンの一例をパターン1として、もう一方の光透過性導電材料が有する電極パターンの一例をパターン2として示した。   FIG. 1 shows an example of an electrode pattern composed of a metal mesh included in the light-transmitting conductive material of the present invention. In FIG. 1, a is a metal mesh pattern part (conductive part), b is an electrode terminal part, and c is a non-image part (non-conductive part). The touch sensor for a touch panel of the present invention is arranged so that two light-transmitting conductive materials face each other with an adhesive layer interposed therebetween. At that time, in the non-image portion c included in one light-transmitting conductive material, It arrange | positions so that the metal mesh pattern part a which the other light transmissive conductive material has may be located. In FIG. 1, an example of an electrode pattern included in one light transmissive conductive material is shown as a pattern 1, and an example of an electrode pattern included in the other light transmissive conductive material is shown as a pattern 2.

本発明において金属メッシュパターンは金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、及びこれらの複合材からなることが好ましい。これら金属メッシュパターンを形成する方法としては、銀塩感光材料を用いる方法、同方法を用いさらに得られた銀画像に無電解めっきや電解めっきを施す方法、スクリーン印刷法を用いて銀ペーストなどの導電性インキを印刷する方法、銀インクなどの導電性インクをインクジェット法で印刷する方法、あるいは蒸着やスパッタなどで導電性層を形成し、その上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法、銅箔などの金属箔を貼り、さらにその上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法など、公知の方法を用いることができる。中でも製造される金属メッシュパターンの厚みが薄くでき、さらに極微細な金属パターンも容易に形成できる銀塩感光材料を用いる方法が好ましい。この銀塩感光材料を用いる方法としては、特開2003−77350号公報、特開2005−250169号公報、特開2007−188655号公報、特開2007−129205号公報、特開2008−153596号公報等を挙げることができるが、中でも特開2003−77350号公報、特開2005−250169号公報や特開2007−188655号公報に記載されるような銀塩拡散転写法を用いた場合、金属メッシュパターンの厚みを薄くすることができ、特に好ましい。   In the present invention, the metal mesh pattern is preferably made of gold, silver, copper, nickel, aluminum, and a composite material thereof. As a method of forming these metal mesh patterns, a method using a silver salt photosensitive material, a method of applying electroless plating or electrolytic plating to a silver image obtained by using the same method, a silver paste using a screen printing method, etc. A method of printing conductive ink, a method of printing conductive ink such as silver ink by inkjet method, or forming a conductive layer by vapor deposition or sputtering, forming a resist film on it, exposure, development, etching A known method such as a method obtained by removing a resist layer, a method of attaching a metal foil such as a copper foil, forming a resist film thereon, exposing, developing, etching, removing a resist layer, etc. be able to. Among them, a method using a silver salt photosensitive material that can reduce the thickness of the metal mesh pattern to be manufactured and can easily form an extremely fine metal pattern is preferable. As a method of using this silver salt photosensitive material, JP2003-77350A, JP2005250169A, JP2007-188655A, JP2007-129205A, JP2008-153596A. In particular, when a silver salt diffusion transfer method as described in JP-A-2003-77350, JP-A-2005-250169, or JP-A-2007-188655 is used, a metal mesh is used. The thickness of the pattern can be reduced, which is particularly preferable.

これらの手法で作製した金属メッシュパターンの厚み(金属細線の厚み)は、厚過ぎると光透過性導電材料を張り合わせタッチセンサーとしたとき、金属細線の厚みにより光線が乱反射することなどにより、タッチパネルを通して見たディスプレイの外観を損ねる場合があり、また薄すぎるとタッチパネルとして必要な導電性を確保し難くなる。よって、その厚みは1.25μm以下であることが必要であり、0.05〜1μmが好ましく、より好ましくは0.1〜0.5μmである。   If the thickness of the metal mesh pattern produced by these methods (thickness of the fine metal wire) is too thick, when the light-transmitting conductive material is bonded to the touch sensor, the light is irregularly reflected by the thickness of the fine metal wire. The appearance of the displayed display may be impaired, and if it is too thin, it will be difficult to ensure the conductivity necessary for the touch panel. Therefore, the thickness needs to be 1.25 micrometers or less, 0.05-1 micrometer is preferable, More preferably, it is 0.1-0.5 micrometer.

本発明の光透過性導電材料に用いる基材としては、プラスチック、ガラス、ゴム、セラミックス等が好ましく用いられる。これら基材は全光線透過率が60%以上であるものが好ましい。プラスチックの中でも、フレキシブル性を有する樹脂フィルムは、取扱い性が優れている点で好適に用いられる。基材として使用される樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等からなる厚さ50〜300μmの樹脂フィルムが挙げられる。基材には易接着層など公知の層が設けられていても良い。   As a base material used for the light-transmitting conductive material of the present invention, plastic, glass, rubber, ceramics and the like are preferably used. These substrates preferably have a total light transmittance of 60% or more. Among plastics, a resin film having flexibility is preferably used in terms of excellent handleability. Specific examples of the resin film used as the substrate include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), acrylic resins, epoxy resins, fluorine resins, silicone resins, polycarbonate resins, diacetate resins, Examples thereof include resin films having a thickness of 50 to 300 μm made of triacetate resin, polyarylate resin, polyvinyl chloride, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyimide resin, polyamide resin, polyolefin resin, cyclic polyolefin resin, and the like. A known layer such as an easy-adhesion layer may be provided on the substrate.

本発明の光透過性導電材料は基材とその上に位置する金属メッシュパターン以外にも、ハードコート層、反射防止層、粘着層、防眩層など公知の層を金属メッシュパターンの上(基材から遠い側)、あるいは基材のメッシュパターンとは反対の側に設けることができる。また、基材と金属メッシュパターンとの間に、物理現像核層、易接着層、接着剤層など公知の層を設けることができる。   In addition to the base material and the metal mesh pattern located on the base material, the light-transmitting conductive material of the present invention has a known layer such as a hard coat layer, an antireflection layer, an adhesive layer and an antiglare layer on the metal mesh pattern. It can be provided on the side far from the material) or on the side opposite to the mesh pattern of the substrate. Moreover, well-known layers, such as a physical development nucleus layer, an easily bonding layer, and an adhesive bond layer, can be provided between a base material and a metal mesh pattern.

本発明における粘着剤層について説明する。粘着剤層は粘着剤を主成分とする粘着剤組成物により構成され、光透過性導電材料を張り合わせるために用いられる。ここで主成分とは粘着剤層の全固形分の50質量%以上が粘着剤であることを意味し、好ましくは65質量%以上、より好ましくは85質量%以上である。粘着剤層の厚みは特に限定されないが、2枚とも導電面側を粘着剤層側に配置する場合はそれぞれの光透過性導電材料の間に導通がない状態を保持するための厚みは必要である。また、厚みがありすぎると2枚の光透過性導電材料の電極パターンに距離ができ目視すると違和感を覚え、タッチセンサーとして外観を損ねる場合がある。粘着剤層の好ましい厚みは5〜300μm、さらに好ましくは10〜200μmである。   The pressure-sensitive adhesive layer in the present invention will be described. The pressure-sensitive adhesive layer is composed of a pressure-sensitive adhesive composition containing a pressure-sensitive adhesive as a main component, and is used for bonding light-transmitting conductive materials. Here, the main component means that 50% by mass or more of the total solid content of the adhesive layer is an adhesive, preferably 65% by mass or more, and more preferably 85% by mass or more. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited. However, in the case where the two conductive surfaces are arranged on the pressure-sensitive adhesive layer side, the thickness for maintaining a state where there is no conduction between the respective light-transmitting conductive materials is necessary. is there. On the other hand, if the thickness is too large, the distance between the electrode patterns of the two light-transmitting conductive materials can be increased, and the user may feel uncomfortable when viewing it, and the appearance of the touch sensor may be impaired. The preferred thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 5 to 300 μm, more preferably 10 to 200 μm.

本発明のタッチパネル用タッチセンサーにおいて、粘着剤層を構成する粘着剤組成物は、23℃での貯蔵弾性率が1×10Pa以下であり、貯蔵弾性率は2.0×10Pa以下であることがより好ましい。貯蔵弾性率が高すぎる粘着剤組成物により構成される粘着剤層を使用すると、光透過性導電材料の金属メッシュパターンの細線に断線が生じる場合があり、所望の導電性が得られず、タッチパネル用タッチセンサーとして不良品となる場合があった。上記貯蔵弾性率が小さすぎると貼り付けた後でのハガレなどが起きやすいので、下限は1×10Pa程度であることが好ましい。貯蔵弾性率は、特開2010−168425号公報、特開2010−77287号公報等に記載されている方法で測定することができる。 In the touch sensor for a touch panel of the present invention, the pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer has a storage elastic modulus at 23 ° C. of 1 × 10 6 Pa or lower and a storage elastic modulus of 2.0 × 10 5 Pa or lower. It is more preferable that If a pressure-sensitive adhesive layer composed of a pressure-sensitive adhesive composition having a storage modulus that is too high is used, the fine wire of the metal mesh pattern of the light-transmitting conductive material may break, and the desired conductivity cannot be obtained. In some cases, it was a defective touch sensor. If the storage elastic modulus is too small, peeling after sticking tends to occur, so the lower limit is preferably about 1 × 10 4 Pa. The storage elastic modulus can be measured by a method described in JP 2010-168425 A, JP 2010-77287 A, or the like.

粘着剤層は同一成分の単層構造であっても良いし、成分の異なる粘着剤、例えば、強粘着剤層と弱粘着剤層などからなる多層構造であっても良い。このような場合、光透過性導電材料の金属メッシュパターンに接する粘着剤層を構成する粘着剤組成物の23℃における貯蔵弾性率が1×10Pa以下である。 The pressure-sensitive adhesive layer may have a single-layer structure of the same component, or may have a multilayer structure composed of pressure-sensitive adhesives having different components, for example, a strong pressure-sensitive adhesive layer and a weak pressure-sensitive adhesive layer. In such a case, the storage elastic modulus at 23 ° C. of the pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer in contact with the metal mesh pattern of the light-transmitting conductive material is 1 × 10 6 Pa or less.

粘着剤組成物に使用される粘着剤は特に限定されず、アクリル系粘着剤やゴム系粘着剤を使用することができるが、透明性が高く光学用途として広く用いられるアクリル系粘着剤が好ましい。   The pressure-sensitive adhesive used in the pressure-sensitive adhesive composition is not particularly limited, and an acrylic pressure-sensitive adhesive or a rubber-based pressure-sensitive adhesive can be used, but an acrylic pressure-sensitive adhesive that is highly transparent and widely used for optical applications is preferable.

ゴム系粘着剤としては、例えば、天然ゴム、天然ゴムとメチルメタクリレートなどのアクリル成分との共重合物、スチレンブロック共重合体及びその水素添加物、ならびに、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体及びその水素添加物などが挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。   Examples of the rubber-based adhesive include natural rubber, a copolymer of natural rubber and an acrylic component such as methyl methacrylate, a styrene block copolymer and a hydrogenated product thereof, and a styrene-butadiene-styrene block copolymer and Examples thereof include hydrogenated products. These may be used singly or in combination of two or more.

アクリル系粘着剤としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレートなど水酸基含有モノマーを共重合してなる(メタ)アクリル系ポリマーや、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレートなどアルキル基を有するアクリル系モノマーが共重合されたものが挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよい。   As acrylic pressure-sensitive adhesives, hydroxyl-containing monomers such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate are copolymerized. (Meth) acrylic polymers, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl ( Has an alkyl group such as (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, etc. That include those acrylic monomer is copolymerized. These may be used singly or in combination of two or more.

上記アクリル系ポリマーの製造は、溶液重合、塊状重合、乳化重合などの公知の任意の製法を採用することができる。   The acrylic polymer can be produced by any known production method such as solution polymerization, bulk polymerization, and emulsion polymerization.

上記粘着剤組成物においてはタッキファイヤーなどの粘着付与剤を適宜用いることができる。   In the said adhesive composition, tackifiers, such as a tackifier, can be used suitably.

粘着剤組成物においては架橋剤を適宜用いることができる。架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、過酸化物等が挙げられる。   In the pressure-sensitive adhesive composition, a crosslinking agent can be appropriately used. Examples of the crosslinking agent include an isocyanate crosslinking agent, an epoxy crosslinking agent, an oxazoline crosslinking agent, and a peroxide.

イソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどのジイソシアネート類や、各種ポリオールで変性したジイソシアネート付加物、イソシアヌレート環やビューレット体やアロファネート体を形成させたポリイソシアネート化合物などが挙げられる。   Isocyanate-based crosslinking agents include diisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diisocyanate adducts modified with various polyols, isocyanurate rings, burettes and allophanates. Examples include the formed polyisocyanate compound.

粘着剤組成物には、その他の公知の添加剤を含有していてもよく、例えば、加硫剤、粘着付与剤、着色剤、顔料などの粉体、染料、界面活性剤、可塑剤、表面潤滑剤、レベリング剤、軟化剤、酸化防止剤、老化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、無機または有機の充填剤、金属粉、粒子状、箔状物などを使用する用途に応じて適宜添加することができる。   The pressure-sensitive adhesive composition may contain other known additives, for example, powders such as vulcanizing agents, tackifiers, colorants, pigments, dyes, surfactants, plasticizers, surfaces Applications that use lubricants, leveling agents, softeners, antioxidants, anti-aging agents, light stabilizers, UV absorbers, polymerization inhibitors, inorganic or organic fillers, metal powders, particles, foils, etc. Depending on the case, it can be added appropriately.

上記粘着剤組成物を用いて2枚の光透過性導電材料を張り合わせる方法については特に制限はない。例えば、任意の支持体に粘着剤層を塗設し、一方の光透過性導電材料に粘着剤層を転写させてからもう一方の光透過性導電材料を貼合する方法、また直接一方の光透過性導電材料に粘着剤層を塗設し、もう一方の光透過性導電材料を貼合する方法などがある。貼り合わせる向きについては、2枚の光透過性導電材料のそれぞれの導電面(金属メッシュパターン側)を粘着剤層側に配置する場合、また2枚の光透過性導電材料のうち一方の光透過性導電材料の導電面(金属メッシュパターン側)ともう一方の光透過性導電材料の非導電面(金属メッシュパターン側と支持体を介して反対側)とを粘着剤層側に配置する場合のいずれにおいても本発明を適用することができる。   There is no restriction | limiting in particular about the method of bonding together two light transmissive conductive materials using the said adhesive composition. For example, a method in which a pressure-sensitive adhesive layer is applied to an arbitrary support, the pressure-sensitive adhesive layer is transferred to one light-transmitting conductive material, and then the other light-transmitting conductive material is bonded. There is a method in which a pressure-sensitive adhesive layer is applied to a transparent conductive material and another light-transmitting conductive material is bonded. Regarding the direction of bonding, when the conductive surfaces (metal mesh pattern side) of the two light transmissive conductive materials are arranged on the pressure-sensitive adhesive layer side, one of the two light transmissive conductive materials transmits light. When the conductive surface (metal mesh pattern side) of the conductive material and the non-conductive surface (metal mesh pattern side and the opposite side through the support) of the other light-transmissive conductive material are arranged on the adhesive layer side In either case, the present invention can be applied.

粘着剤(粘着剤層)を任意の支持体や光透過性導電材料に塗設する方法としては、例えばリバースコーター、コンマコーターやリップコーター、ダイコーターなどがあり、目的に応じて選択することができる。   Examples of the method of coating the adhesive (adhesive layer) on an arbitrary support or light-transmitting conductive material include a reverse coater, a comma coater, a lip coater, and a die coater, which can be selected according to the purpose. it can.

以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.

<実施例1>
基材として、厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。なおこの基材の全光線透過率は91%であった。
<Example 1>
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm was used as the substrate. The total light transmittance of this substrate was 91%.

次に下記処方に従い、物理現像核層塗液を作製し、基材上に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。   Next, according to the following prescription, a physical development nucleus layer coating solution was prepared, applied onto a substrate, and dried to provide a physical development nucleus layer.

<硫化パラジウムゾルの調製>
A液 塩化パラジウム 5g
塩酸 40ml
蒸留水 1000ml
B液 硫化ソーダ 8.6g
蒸留水 1000ml
A液とB液を撹拌しながら混合し、30分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
<Preparation of palladium sulfide sol>
Liquid A Palladium chloride 5g
Hydrochloric acid 40ml
1000ml distilled water
B liquid sodium sulfide 8.6g
1000ml distilled water
Liquid A and liquid B were mixed with stirring, and 30 minutes later, the solution was passed through a column filled with an ion exchange resin to obtain palladium sulfide sol.

<物理現像核層塗液の調製>各1mあたり
前記硫化パラジウムゾル 0.4mg
2質量%グリオキザール水溶液 0.2ml
界面活性剤(S−1) 4mg
デナコールEX−830 50mg
(ナガセケムテックス(株)製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル)
10質量%SP−200水溶液 0.5mg
(日本触媒(株)製ポリエチレンイミン;平均分子量10,000)
<Preparation of physical development nucleus layer coating solution> per 1 m 2 of the palladium sulfide sol 0.4 mg
0.2% aqueous 2 mass% glyoxal solution
Surfactant (S-1) 4mg
Denacol EX-830 50mg
(Polyethylene glycol diglycidyl ether manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
10 mass% SP-200 aqueous solution 0.5 mg
(Nippon Shokubai Co., Ltd. polyethyleneimine; average molecular weight 10,000)

続いて、基材に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、及び保護層を上記物理現像核層の上に塗設し、銀塩感光材料1を得た。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀95モル%と臭化銀5モル%で、平均粒径が0.15μmになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀1gあたり0.5gのゼラチンを含む。   Subsequently, an intermediate layer, a silver halide emulsion layer, and a protective layer having the following composition were coated on the physical development nucleus layer in order from the side closer to the substrate to obtain a silver salt photosensitive material 1. The silver halide emulsion was prepared by a general double jet mixing method for photographic silver halide emulsions. This silver halide emulsion was prepared with 95 mol% of silver chloride and 5 mol% of silver bromide, and an average grain size of 0.15 μm. The silver halide emulsion thus obtained was subjected to gold sulfur sensitization using sodium thiosulfate and chloroauric acid according to a conventional method. The silver halide emulsion thus obtained contains 0.5 g of gelatin per gram of silver.

<中間層組成/1mあたり>
ゼラチン 0.5g
界面活性剤(S−1) 5mg
染料1
<Intermediate layer composition / per 1 m 2 >
Gelatin 0.5g
Surfactant (S-1) 5mg
Dye 1

Figure 2013084026
Figure 2013084026

Figure 2013084026
Figure 2013084026

<ハロゲン化銀乳剤層組成/1mあたり>
ゼラチン 0.5g
ハロゲン化銀乳剤 4.0g銀相当
1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 3mg
界面活性剤(S−1) 20mg
<Silver halide emulsion layer composition / 1m 2 per>
Gelatin 0.5g
Silver halide emulsion 4.0g Equivalent to silver 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole 3mg
Surfactant (S-1) 20mg

<保護層組成/1mあたり>
ゼラチン 1g
不定形シリカマット剤(平均粒径3.5μm) 10mg
界面活性剤(S−1) 10mg
<Protective layer composition / per 1 m 2 >
1g of gelatin
Amorphous silica matting agent (average particle size 3.5μm) 10mg
Surfactant (S-1) 10mg

このようにして得た銀塩感光材料1と、図1のパターン1を同一平面上に有する透過原稿を密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで400nm以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。なお、図1のパターン1及びパターン2の金属メッシュパターン部(導電部)aは、線幅7μm、細線間隔300μmの単位図形が正方形のメッシュからなる。   The silver salt light-sensitive material 1 obtained in this way and a transparent original having the pattern 1 of FIG. 1 on the same plane are in close contact with each other, and through a resin filter that cuts light of 400 nm or less with a contact printer using a mercury lamp as a light source. Exposed. The metal mesh pattern portion (conductive portion) a of the pattern 1 and the pattern 2 in FIG. 1 is formed of a mesh whose unit figure having a line width of 7 μm and a fine line interval of 300 μm is a square.

その後、下記拡散転写現像液中に20℃で90秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、及び保護層を40℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。こうして図1のパターン1の形状を持つ金属メッシュパターンを有する光透過性導電材料1−1を得た。なお、得られた光透過性導電材料の線幅、細線間隔は透過原稿と全く同じ形状、線幅の画像になっていた。金属メッシュパターンの膜厚は共焦点顕微鏡(レーザーテック社製、オプテリクスC130)で調べたところ、0.1μmであった。   Thereafter, the film was immersed in the following diffusion transfer developer at 20 ° C. for 90 seconds, and then the silver halide emulsion layer, intermediate layer and protective layer were removed by washing with warm water at 40 ° C. and dried. Thus, a light transmissive conductive material 1-1 having a metal mesh pattern having the shape of pattern 1 in FIG. 1 was obtained. The obtained light transmissive conductive material had an image with the same line width and fine line spacing as the transparent original. When the film thickness of the metal mesh pattern was examined with a confocal microscope (Latertec Corp., Optics C130), it was 0.1 μm.

また光透過性導電材料1−1の金属メッシュパターン部(導電部)aと同じ線幅、線間隔の正方形のメッシュからなる100mm四方の大きさの金属メッシュパターンを光透過性導電材料1−1と同様にして作製した。この金属メッシュパターンのシート抵抗をJIS K7134の四端子法(端子間隔5mm)で測定したところ、50Ω/□であった。   Also, a 100 mm square metal mesh pattern composed of a square mesh with the same line width and line spacing as the metal mesh pattern portion (conductive portion) a of the light transmissive conductive material 1-1 is used as the light transmissive conductive material 1-1. It produced similarly. When the sheet resistance of this metal mesh pattern was measured by the four-terminal method of JIS K7134 (terminal interval 5 mm), it was 50Ω / □.

光透過性導電材料1−1と同様にして、図1のパターン2の形状を持つ金属メッシュパターンを有する光透過性導電材料1−2を得た。   In the same manner as the light-transmitting conductive material 1-1, a light-transmitting conductive material 1-2 having a metal mesh pattern having the shape of the pattern 2 in FIG. 1 was obtained.

得られた光透過性導電材料1−1の端子部bの抵抗をテスターで測定した。得られた結果を表1に示す(貼合前)。   The resistance of the terminal part b of the obtained light transmissive conductive material 1-1 was measured with a tester. The obtained results are shown in Table 1 (before bonding).

<拡散転写現像液組成>
水酸化カリウム 25g
ハイドロキノン 18g
1−フェニル−3−ピラゾリドン 2g
亜硫酸カリウム 80g
N−メチルエタノールアミン 15g
臭化カリウム 1.2g
全量を水で1000mL
pH=12.2に調整する。
<Diffusion transfer developer composition>
Potassium hydroxide 25g
Hydroquinone 18g
1-phenyl-3-pyrazolidone 2g
Potassium sulfite 80g
N-methylethanolamine 15g
Potassium bromide 1.2g
Total volume with water 1000mL
Adjust to pH = 12.2.

次に粘着剤層に使用する粘着剤組成物を以下のように作製した。   Next, the adhesive composition used for an adhesive layer was produced as follows.

反応容器に、酢酸エチル233質量部を溶剤として、アクリル酸ブチル98質量部、アクリル酸1.0質量部、アクリル酸4−ヒドロキシブチル1.0質量部、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル0.1質量部を入れ、窒素置換を行った後、55℃に昇温し15時間重合反応を行なった。質量平均分子量97万のアクリル系ポリマーの溶液を得た。このアクリル系ポリマーの固形分100質量部に対して、タッキファイヤーとしてスチレンオリゴマー(イーストマンケミカル社製、ピコラスチックA75)40質量部を添加し、さらにヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート三量体(三井化学ポリウレタン社製、タケネートD−170N)0.1質量部を添加し、粘着剤組成物を作製した。   In a reaction vessel, 233 parts by mass of ethyl acetate as a solvent, 98 parts by mass of butyl acrylate, 1.0 part by mass of acrylic acid, 1.0 part by mass of 4-hydroxybutyl acrylate, 2,2′-azobisisobutyro After adding 0.1 part by mass of nitrile and carrying out nitrogen substitution, the temperature was raised to 55 ° C. and a polymerization reaction was carried out for 15 hours. An acrylic polymer solution having a weight average molecular weight of 970,000 was obtained. 40 parts by mass of a styrene oligomer (Picolastic A75, manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.) is added as a tackifier to 100 parts by mass of the solid content of the acrylic polymer, and isocyanurate trimer of hexamethylene diisocyanate (Mitsui Chemicals). 0.1 part by mass of Takenate D-170N (manufactured by Polyurethane Co., Ltd.) was added to prepare an adhesive composition.

作製した粘着剤組成物の貯蔵弾性率の測定は以下の条件で行い、23℃での貯蔵弾性率(G′)を測定した。この結果を表1に示す。   The storage elastic modulus of the produced pressure-sensitive adhesive composition was measured under the following conditions, and the storage elastic modulus (G ′) at 23 ° C. was measured. The results are shown in Table 1.

TAインスツルメント社製ARES、変形モード:ねじり、測定周波数:一定周波数1Hz、昇温速度:5℃/分、測定温度:粘着剤のガラス転移温度付近から160℃まで測定、形状:パラレルプレート8.0mmφ、試料厚さ:0.5〜2mm(取り付け初期)   TA Instruments ARES, deformation mode: torsion, measurement frequency: constant frequency 1 Hz, heating rate: 5 ° C./min, measurement temperature: measured from near glass transition temperature of adhesive to 160 ° C., shape: parallel plate 8 .0mmφ, sample thickness: 0.5-2mm (initial stage)

この粘着剤組成物を、光透過性導電材料1−1の導電面(金属メッシュパターン側)に乾燥厚さが25μmになるように塗布し、120℃で3分間乾燥し粘着剤層を形成した。   This pressure-sensitive adhesive composition was applied to the conductive surface (metal mesh pattern side) of the light-transmitting conductive material 1-1 so that the dry thickness was 25 μm, and dried at 120 ° C. for 3 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer. .

位置合わせを行った後、粘着剤層が塗設された光透過性導電材料1−1に、光透過性導電材料1−2の導電面(金属メッシュパターン側)を張り合わせた。その後、フィルム貼り合わせ機のニップロール圧を0.5MPa/mに調整し、分速1mで搬送しながら加圧して、タッチセンサーを作製した。   After alignment, the conductive surface (metal mesh pattern side) of the light transmissive conductive material 1-2 was bonded to the light transmissive conductive material 1-1 on which the pressure-sensitive adhesive layer was applied. Thereafter, the nip roll pressure of the film laminating machine was adjusted to 0.5 MPa / m, and the pressure was applied while being conveyed at a speed of 1 m / min to produce a touch sensor.

得られたタッチセンサーの光透過性導電材料1−1側の端子間の電気抵抗をテスターで測定した。この結果を表1に示す(貼合後)。   The electrical resistance between the terminals on the light transmissive conductive material 1-1 side of the obtained touch sensor was measured with a tester. The results are shown in Table 1 (after bonding).

得られたタッチセンサーを、ある夜景画を描写したディスプレイ上に置き、その外観品質を評価した。ディスプレイの画面が違和感なく見える場合を○、多少違和感がある場合を△、ディスプレイの画面が白っぽく見え違和感がある場合を×とし、○及び△をタッチセンサーとして可、×を不可とした。これらの結果を表1に示す。   The obtained touch sensor was placed on a display depicting a night scene and its appearance quality was evaluated. The case where the display screen looks uncomfortable is indicated as ◯, the case where the display screen is somewhat uncomfortable, △, the case where the display screen appears whitish and uncomfortable, is indicated as ×, ○ and △ are allowed as touch sensors, and × is not possible. These results are shown in Table 1.

<実施例2>
粘着剤組成物を以下のように作製した。
<Example 2>
The pressure-sensitive adhesive composition was prepared as follows.

反応容器に、酢酸エチル233質量部を溶剤として、アクリル酸ブチル98質量部、アクリル酸1.0質量部、アクリル酸4−ヒドロキシブチル1.0質量部、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル0.1質量部を入れ、窒素置換を行った後、55℃に昇温し15時間重合反応を行なった。質量平均分子量97万のアクリル系ポリマーの溶液を得た。このアクリル系ポリマーの固形分100質量部に対して、30質量部のスチレンと、重合開始剤としてのベンゾイルパーオキサイド0.15質量部を加えて、窒素置換しながら、60℃で5時間、70℃で8時間グラフト重合反応を行い、変性アクリル系ポリマーを得た。この変性アクリル系ポリマー100質量部に、α−メチルスチレンとスチレンの共重合体(イーストマンケミカル社製、クリスタレックス3085)80質量部、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート付加物(日本ポリウレタン社製、コロネートL)0.15質量部を添加し、粘着剤組成物を作製した。   In a reaction vessel, 233 parts by mass of ethyl acetate as a solvent, 98 parts by mass of butyl acrylate, 1.0 part by mass of acrylic acid, 1.0 part by mass of 4-hydroxybutyl acrylate, 2,2′-azobisisobutyro After adding 0.1 part by mass of nitrile and carrying out nitrogen substitution, the temperature was raised to 55 ° C. and a polymerization reaction was carried out for 15 hours. An acrylic polymer solution having a weight average molecular weight of 970,000 was obtained. To 100 parts by mass of the solid content of this acrylic polymer, 30 parts by mass of styrene and 0.15 parts by mass of benzoyl peroxide as a polymerization initiator were added, and the atmosphere was replaced with nitrogen for 5 hours at 60 ° C., 70 A graft polymerization reaction was performed at 0 ° C. for 8 hours to obtain a modified acrylic polymer. To 100 parts by mass of this modified acrylic polymer, 80 parts by mass of a copolymer of α-methylstyrene and styrene (Eastman Chemical Co., Crystallex 3085), a tolylene diisocyanate adduct of trimethylolpropane (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L) 0.15 parts by mass was added to prepare an adhesive composition.

上記粘着剤組成物を使用した以外は実施例1と同様にタッチセンサーを作製し、評価を実施した。これらの結果を表1に示す。   A touch sensor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition was used. These results are shown in Table 1.

<実施例3>
粘着剤組成物を以下のように作製した。
<Example 3>
The pressure-sensitive adhesive composition was prepared as follows.

反応容器に、酢酸エチル233質量部を溶剤として、アクリル酸ブチル98.5質量部、アクリル酸0.5質量部、アクリル酸4−ヒドロキシブチル1.0質量部、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル0.1質量を入れ、窒素置換を行った後、55℃に昇温し15時間重合反応を行なった。質量平均分子量112万のアクリル系ポリマーの溶液を得た。このアクリル系ポリマーの固形分100質量部に対して、40質量部のスチレンとアクリロイルモルホリン10質量部、重合開始剤としてのベンゾイルパーオキサイド0.25質量部を加えて、窒素置換しながら、60℃で5時間、70℃で8時間グラフト重合反応を行い、変性アクリル系ポリマーを得た。この変性アクリル系ポリマー100質量部に、タッキファイヤーとしてスチレンオリゴマー(ヤスハラケミカル社製、SX−85)80質量部、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート付加物(日本ポリウレタン社製、コロネートL)0.15質量部を添加し、粘着剤組成物を作製した。   In a reaction vessel, 233 parts by mass of ethyl acetate as a solvent, 98.5 parts by mass of butyl acrylate, 0.5 parts by mass of acrylic acid, 1.0 part by mass of 4-hydroxybutyl acrylate, 2,2′-azobisiso After adding 0.1 mass of butyronitrile and carrying out nitrogen substitution, it heated up at 55 degreeC and performed the polymerization reaction for 15 hours. An acrylic polymer solution having a mass average molecular weight of 1,120,000 was obtained. While adding 40 parts by weight of styrene and 10 parts by weight of acryloylmorpholine and 0.25 parts by weight of benzoyl peroxide as a polymerization initiator with respect to 100 parts by weight of the solid content of this acrylic polymer, the temperature was changed to 60 ° C. For 5 hours and at 70 ° C. for 8 hours to obtain a modified acrylic polymer. 100 parts by mass of this modified acrylic polymer, 80 parts by mass of a styrene oligomer (SX-85, manufactured by Yasuhara Chemical Co., Ltd.) as a tackifier, 0.15 mass of a tolylene diisocyanate adduct of trimethylolpropane (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd., Coronate L) Part was added and the adhesive composition was produced.

上記粘着剤組成物を使用した以外は実施例1と同様にタッチセンサーを作製し、評価を実施した。これらの結果を表1に示す。   A touch sensor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition was used. These results are shown in Table 1.

<比較例1>
粘着剤組成物を以下のように作製した。
<Comparative Example 1>
The pressure-sensitive adhesive composition was prepared as follows.

反応容器に、アクリル酸2−エチルヘキシル80質量部、アクリル酸20質量部、光重合開始剤としてイルガキュア−184(チバガイギー社製)0.6質量部を入れ、窒素置換を行った後、高圧水銀ランプにより、約100mJ/cmの照射量で紫外線を照射した。この照射により得られた粘稠物に対し、内部架橋剤としてトリメチロールプロパントリアクリレート1質量部を配合して、粘着剤組成物を作製した。 A reaction vessel was charged with 80 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 20 parts by mass of acrylic acid, and 0.6 parts by mass of Irgacure-184 (manufactured by Ciba Geigy) as a photopolymerization initiator. Was irradiated with ultraviolet rays at an irradiation dose of about 100 mJ / cm 2 . To the viscous material obtained by this irradiation, 1 part by mass of trimethylolpropane triacrylate was blended as an internal crosslinking agent to prepare a pressure-sensitive adhesive composition.

上記粘着剤組成物を使用した以外は実施例1と同様にタッチセンサーを作製し、評価を実施した。これらの結果を表1に示す。   A touch sensor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition was used. These results are shown in Table 1.

<実施例4>
実施例1のハロゲン化銀乳剤層の1mあたりのハロゲン化銀乳剤を2.0gに変更した以外は実施例1と同様に光透過性導電材料2−1(図1のパターン1を使用)、2−2(図1のパターン2を使用)を作製した。共焦点顕微鏡(レーザーテック社製、オプテリクスC130)により測定した金属メッシュパターンの厚みは、0.05μmであった。
<Example 4>
The light transmissive conductive material 2-1 was used in the same manner as in Example 1 except that the silver halide emulsion per 1 m 2 of the silver halide emulsion layer of Example 1 was changed to 2.0 g (use pattern 1 in FIG. 1). 2-2 (using pattern 2 in FIG. 1) was prepared. The thickness of the metal mesh pattern measured with a confocal microscope (Latertec Corp., Optics C130) was 0.05 μm.

光透過性導電材料2−1の金属メッシュパターン部(導電部)aと同じ線幅、線間隔の正方形のメッシュからなる100mm四方の大きさの金属メッシュパターンを光透過性導電材料2−1と同様に作製した。この金属メッシュパターンのシート抵抗をJIS K7134の四端子法(端子間隔5mm)で測定したところ、480Ω/□であった。   A 100 mm square metal mesh pattern composed of a square mesh with the same line width and line spacing as the metal mesh pattern portion (conductive portion) a of the light transmissive conductive material 2-1 is used as the light transmissive conductive material 2-1. It produced similarly. When the sheet resistance of this metal mesh pattern was measured by the four-terminal method of JIS K7134 (terminal interval 5 mm), it was 480Ω / □.

光透過性導電性材料2−1、2−2を用いた以外は、実施例1と同様にタッチセンサーを作製し、評価を実施した。これらの結果を表1に示す。   A touch sensor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the light-transmitting conductive materials 2-1 and 2-2 were used. These results are shown in Table 1.

<実施例5>
実施例1の光透過性導電材料1−1に、下記のめっき液を用いて、液温60℃、電流密度2A/cm、めっき時間2分の条件下で電解ニッケルめっきを実施し、光透過性導電材料3−1を作製した。共焦点顕微鏡(レーザーテック社製、オプテリクスC130)により測定しためっき後の金属メッシュパターンの厚みは、0.5μmであった。同様に、光透過性導電材料1−2にめっきを施し、光透過性導電材料3−2を作製した。
<Example 5>
The light-transmitting conductive material 1-1 of Example 1 was subjected to electrolytic nickel plating using the following plating solution under the conditions of a liquid temperature of 60 ° C., a current density of 2 A / cm 2 , and a plating time of 2 minutes. A transparent conductive material 3-1 was produced. The thickness of the metal mesh pattern after plating measured by a confocal microscope (Lasertec Corporation, Optics C130) was 0.5 μm. Similarly, the light transmissive conductive material 1-2 was plated to produce a light transmissive conductive material 3-2.

光透過性導電材料3−1の金属メッシュパターン部(導電部)aと同じ線幅、線間隔の正方形のメッシュからなる100mm四方の大きさの金属メッシュパターンを光透過性導電材料3−1と同様に作製した。この金属メッシュパターンのシート抵抗をJIS K7134の四端子法(端子間隔5mm)で測定したところ、20Ω/□であった。   A 100 mm square metal mesh pattern composed of a square mesh with the same line width and line spacing as the metal mesh pattern portion (conductive portion) a of the light transmissive conductive material 3-1 is used as the light transmissive conductive material 3-1. It produced similarly. When the sheet resistance of this metal mesh pattern was measured by the four-terminal method of JIS K7134 (terminal interval 5 mm), it was 20Ω / □.

<めっき液>
硫酸ニッケル 240g
塩化ニッケル 45g
ホウ酸 30g
全量を水で1000mLとする。
pH=4.6に調整する。
<Plating solution>
240 g of nickel sulfate
Nickel chloride 45g
Boric acid 30g
Bring the total volume to 1000 mL with water.
Adjust to pH = 4.6.

光透過性導電性材料3−1、3−2を用いた以外は、実施例1と同様にタッチセンサーを作製し、評価を実施した。これらの結果を表1に示す。   A touch sensor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the light-transmitting conductive materials 3-1 and 3-2 were used. These results are shown in Table 1.

<実施例6>
実施例1の光透過性導電材料1−1に、実施例5のめっき液を用いて、液温60℃、電流密度2A/cm、めっき時間4分の条件下で電解ニッケルめっきを実施し、光透過性導電材料4−1を作製した。共焦点顕微鏡(レーザーテック社製、オプテリクスC130)により測定しためっき後の金属細線の厚みは、1.0μmであった。同様に、光透過性導電材料1−2にめっきを施し、光透過性導電材料4−2を作製した。
<Example 6>
Electrolytic nickel plating was performed on the light-transmitting conductive material 1-1 of Example 1 using the plating solution of Example 5 under conditions of a liquid temperature of 60 ° C., a current density of 2 A / cm 2 , and a plating time of 4 minutes. A light-transmitting conductive material 4-1 was produced. The thickness of the fine metal wire after plating measured by a confocal microscope (Latertec Corp., Optics C130) was 1.0 μm. Similarly, the light transmissive conductive material 1-2 was plated to produce a light transmissive conductive material 4-2.

光透過性導電材料4−1の金属メッシュパターン部(導電部)aと同じ線幅、線間隔の正方形のメッシュからなる100mm四方の大きさの金属メッシュパターンを光透過性導電材料4−1と同様に作製した。この金属メッシュパターンのシート抵抗をJIS K7134の四端子法(端子間隔5mm)で測定したところ、10Ω/□であった。   A 100 mm square metal mesh pattern made of a square mesh with the same line width and line interval as the metal mesh pattern portion (conductive portion) a of the light transmissive conductive material 4-1 is referred to as the light transmissive conductive material 4-1. It produced similarly. When the sheet resistance of this metal mesh pattern was measured by the four-terminal method of JIS K7134 (terminal interval 5 mm), it was 10Ω / □.

光透過性導電性材料4−1、4−2を用いた以外は、実施例1と同様にタッチセンサーを作製し、評価を実施した。これらの結果を表1に示す。   A touch sensor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the light-transmitting conductive materials 4-1 and 4-2 were used. These results are shown in Table 1.

<比較例2>
実施例1の光透過性導電材料1−1に、実施例5のめっき液を用いて、液温60℃、電流密度2A/cm、めっき時間6分の条件下で電解ニッケルめっきを実施し、光透過性導電材料5−1を作製した。共焦点顕微鏡(レーザーテック社製、オプテリクスC130)により測定しためっき後の金属細線の厚みは、1.5μmであった。同様に、光透過性導電材料1−2にめっきを施し、光透過性導電材料5−2を作製した。
<Comparative example 2>
Electrolytic nickel plating was performed on the light-transmitting conductive material 1-1 of Example 1 using the plating solution of Example 5 under conditions of a liquid temperature of 60 ° C., a current density of 2 A / cm 2 , and a plating time of 6 minutes. A light-transmitting conductive material 5-1 was produced. The thickness of the metal fine wire after plating measured with a confocal microscope (Latertec Corp., Optics C130) was 1.5 μm. Similarly, the light transmissive conductive material 1-2 was plated to produce a light transmissive conductive material 5-2.

光透過性導電材料5−1の金属メッシュパターン部(導電部)aと同じ線幅、線間隔の正方形のメッシュからなる100mm四方の大きさの金属メッシュパターンを光透過性導電材料3−1と同様に作製した。この金属メッシュパターンのシート抵抗をJIS K7134の四端子法(端子間隔5mm)で測定したところ、5Ω/□であった。   A 100 mm square metal mesh pattern made of a square mesh with the same line width and line spacing as the metal mesh pattern portion (conductive portion) a of the light transmissive conductive material 5-1 is used as the light transmissive conductive material 3-1. It produced similarly. When the sheet resistance of this metal mesh pattern was measured by the four-terminal method of JIS K7134 (terminal interval 5 mm), it was 5Ω / □.

光透過性導電性材料5−1、5−2を用いた以外は、実施例1と同様にタッチセンサーを作製し、評価を実施した。これらの結果を表1に示す。   A touch sensor was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the light-transmitting conductive materials 5-1 and 5-2 were used. These results are shown in Table 1.

Figure 2013084026
Figure 2013084026

表1の結果から、静電容量方式を用いたタッチパネルのタッチセンサーとして好適であり、かつ製造歩留まりの高いタッチセンサーが得られることが判る。   From the results in Table 1, it can be seen that a touch sensor that is suitable as a touch sensor for a touch panel using a capacitance method and that has a high manufacturing yield can be obtained.

a 金属メッシュパターン部(導電部)
b 電極端子部
c 非画像部(非導電部)
a Metal mesh pattern part (conductive part)
b Electrode terminal part c Non-image part (non-conductive part)

Claims (1)

粘着剤層を介して2枚の光透過性導電材料が対向するように配置されたタッチパネル用タッチセンサーであって、前記光透過性導電材料は基材上に金属細線の厚みが1.25μm以下の金属メッシュパターンを有し、前記粘着剤層を構成する粘着剤組成物の23℃における貯蔵弾性率が1×10Pa以下であることを特徴とするタッチパネル用タッチセンサー。 A touch sensor for a touch panel arranged such that two light transmissive conductive materials face each other through an adhesive layer, wherein the light transmissive conductive material has a thickness of a thin metal wire on a base material of 1.25 μm or less A touch sensor for a touch panel, wherein the storage elastic modulus at 23 ° C. of the pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer is 1 × 10 6 Pa or less.
JP2011221511A 2011-10-06 2011-10-06 Touch sensor for touch panel Pending JP2013084026A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011221511A JP2013084026A (en) 2011-10-06 2011-10-06 Touch sensor for touch panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011221511A JP2013084026A (en) 2011-10-06 2011-10-06 Touch sensor for touch panel

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013084026A true JP2013084026A (en) 2013-05-09

Family

ID=48529180

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011221511A Pending JP2013084026A (en) 2011-10-06 2011-10-06 Touch sensor for touch panel

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013084026A (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014219987A (en) * 2013-05-10 2014-11-20 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Touch sensor
JP2015060585A (en) * 2013-09-18 2015-03-30 鼎展電子股▲分▼有限公司 Transparent conductive structure with metal mesh
JP2015138514A (en) * 2014-01-24 2015-07-30 大日本印刷株式会社 Position detection electrode member for touch panel, touch panel made using electrode member, and image display device made using touch panel
WO2015129308A1 (en) * 2014-02-28 2015-09-03 富士フイルム株式会社 Layered body for touch panel, and adhesive sheet
JP2016045374A (en) * 2014-08-22 2016-04-04 綜研化学株式会社 Laminate for curved surface image display and curved surface image display
JP2016126348A (en) * 2014-12-26 2016-07-11 住友化学株式会社 Optical laminate
KR20160110458A (en) * 2014-02-19 2016-09-21 후지필름 가부시키가이샤 Multilayer structure and touch panel module
CN106019447A (en) * 2015-03-31 2016-10-12 住友化学株式会社 Optical laminate and liquid crystal display (LCD) device
JP2016192200A (en) * 2015-03-30 2016-11-10 富士フイルム株式会社 Manufacturing method of conductive sheet, and touch panel
JP2017065217A (en) * 2015-10-02 2017-04-06 日東電工株式会社 Laminate, touch panel, laminate formation kit, and, method of improving bending resistance of transparent conductive film
JP2018081917A (en) * 2017-11-29 2018-05-24 株式会社ジャパンディスプレイ Organic EL device with built-in touch sensor
US10170727B2 (en) 2013-08-30 2019-01-01 Japan Display Inc. Display device
TWI721972B (en) * 2015-03-31 2021-03-21 日商住友化學股份有限公司 Optical laminate and liquid crystal display device
TWI741978B (en) * 2015-03-31 2021-10-11 日商住友化學股份有限公司 Optical laminate and liquid crystal display device

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014219987A (en) * 2013-05-10 2014-11-20 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Touch sensor
US9519366B2 (en) 2013-05-10 2016-12-13 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Touch sensor
US10804488B2 (en) 2013-08-30 2020-10-13 Japan Display Inc. Display device
US10170727B2 (en) 2013-08-30 2019-01-01 Japan Display Inc. Display device
JP2015060585A (en) * 2013-09-18 2015-03-30 鼎展電子股▲分▼有限公司 Transparent conductive structure with metal mesh
JP2015138514A (en) * 2014-01-24 2015-07-30 大日本印刷株式会社 Position detection electrode member for touch panel, touch panel made using electrode member, and image display device made using touch panel
KR20160110458A (en) * 2014-02-19 2016-09-21 후지필름 가부시키가이샤 Multilayer structure and touch panel module
KR101892835B1 (en) * 2014-02-19 2018-08-28 후지필름 가부시키가이샤 Multilayer structure and touch panel module
WO2015129308A1 (en) * 2014-02-28 2015-09-03 富士フイルム株式会社 Layered body for touch panel, and adhesive sheet
JP2015179498A (en) * 2014-02-28 2015-10-08 富士フイルム株式会社 Layered body for touch panel, and adhesive sheet
JP2016045374A (en) * 2014-08-22 2016-04-04 綜研化学株式会社 Laminate for curved surface image display and curved surface image display
JP2016126348A (en) * 2014-12-26 2016-07-11 住友化学株式会社 Optical laminate
JP2017107231A (en) * 2014-12-26 2017-06-15 住友化学株式会社 Optical laminate
JP2016192200A (en) * 2015-03-30 2016-11-10 富士フイルム株式会社 Manufacturing method of conductive sheet, and touch panel
KR102568075B1 (en) * 2015-03-31 2023-08-17 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical laminate and liquid crystal display device
JP2017186566A (en) * 2015-03-31 2017-10-12 住友化学株式会社 Optical laminate and liquid crystal display device
KR101858405B1 (en) * 2015-03-31 2018-05-15 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical laminate and liquid crystal display device
KR20180053604A (en) * 2015-03-31 2018-05-23 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical laminate and liquid crystal display device
KR20220020294A (en) * 2015-03-31 2022-02-18 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical laminate and liquid crystal display device
KR101785198B1 (en) * 2015-03-31 2017-10-12 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical laminate and liquid crystal display device
CN106019447A (en) * 2015-03-31 2016-10-12 住友化学株式会社 Optical laminate and liquid crystal display (LCD) device
KR102513209B1 (en) * 2015-03-31 2023-03-22 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical laminate and liquid crystal display device
TWI721972B (en) * 2015-03-31 2021-03-21 日商住友化學股份有限公司 Optical laminate and liquid crystal display device
TWI741978B (en) * 2015-03-31 2021-10-11 日商住友化學股份有限公司 Optical laminate and liquid crystal display device
JP2016193603A (en) * 2015-03-31 2016-11-17 住友化学株式会社 Optical laminate and liquid crystal display device
JP2017065217A (en) * 2015-10-02 2017-04-06 日東電工株式会社 Laminate, touch panel, laminate formation kit, and, method of improving bending resistance of transparent conductive film
JP2018081917A (en) * 2017-11-29 2018-05-24 株式会社ジャパンディスプレイ Organic EL device with built-in touch sensor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013084026A (en) Touch sensor for touch panel
TWI683244B (en) Adhesive sheet for touch panels, laminate for touch panels and capacitive touch panel
JP5827749B2 (en) Capacitive touch panel, method for manufacturing the same, and input device
JP6026447B2 (en) Laminate for touch panel, flat panel display
US20150376466A1 (en) Adhesive film and laminate for touch panel
JP5926445B2 (en) Capacitive touch panel
JP6148217B2 (en) Touch panel adhesive film, touch panel laminate, adhesive layer peeling method, touch panel usage method, touch panel system
WO2016009784A1 (en) Capacitive touch panel
TWI706300B (en) Film touch sensor
JP6042853B2 (en) Touch panel adhesive film, touch panel laminate, adhesive layer peeling method, touch panel usage method, touch panel system
US20210403769A1 (en) Transfer foil for touch sensor and method for manufacturing conductive film for touch sensor
JP5876351B2 (en) Light transmissive electrode
JP5926444B2 (en) Capacitive touch panel
JP3590530B2 (en) Touch panel
US20230147436A1 (en) Method for manufacturing metal sensing electrode structure, touch display device and mobile terminal
JP2012040709A (en) Easy adhesion film and laminate using the same
JP2019159073A (en) Conductive material laminate body
JP2020026043A (en) Laminate
CN213069767U (en) Touch panel and conductive thin film
TW201604757A (en) Capacitive touch panel
JP7230556B2 (en) Adhesive sheet, conductive material
JP2015127103A (en) Light-transmitting conductive material laminate
TW202041364A (en) Laminate, method for producing substrate with layer to be plated, metohd for producing conductive film
JP2017087564A (en) Conductive material laminate