JP2013070224A - Container, vibration device and electronic apparatus - Google Patents

Container, vibration device and electronic apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2013070224A
JP2013070224A JP2011207188A JP2011207188A JP2013070224A JP 2013070224 A JP2013070224 A JP 2013070224A JP 2011207188 A JP2011207188 A JP 2011207188A JP 2011207188 A JP2011207188 A JP 2011207188A JP 2013070224 A JP2013070224 A JP 2013070224A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
axis
insulating substrate
main surface
container
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2011207188A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2013070224A5 (en
Inventor
Masanori Hanzawa
正則 半澤
Kyo Horie
協 堀江
Toshiaki Sato
敏章 佐藤
Kenji Komine
賢二 小峰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2011207188A priority Critical patent/JP2013070224A/en
Publication of JP2013070224A publication Critical patent/JP2013070224A/en
Publication of JP2013070224A5 publication Critical patent/JP2013070224A5/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16195Flat cap [not enclosing an internal cavity]

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a small-sized piezoelectric device of a surface mounting type which enables a temperature compensation type oscillator having small frequency drift characteristics.SOLUTION: A container 20A comprises: an insulation substrate 20a having first electrode pads 28a and 28b for a piezoelectric vibration element and second electrode pads 29a and 29b for an electronic element on a front portion and a plurality of mounting terminals 22 on a rear portion; and a lid member 38 for hermetically sealing a space of the front portion. The mounting terminals 22 and the first and second electrode pads 28a, 28b, 29a and 29b are electrically connected by wiring conductors 23b and 23c, respectively. Thermal conductivity Tc of a material substantially constituting the insulation substrate 20a falls within a range satisfying an expression of 50[W/(m K)]≤Tc≤200[W/(m K)].

Description

本発明は、電子部品用容器と、この容器に電子部品、圧電振動素子を搭載した圧電デバイスに関する。また、この圧電デバイスを用いた圧電モジュール、及び電子機器に関する。   The present invention relates to an electronic component container and a piezoelectric device in which an electronic component and a piezoelectric vibration element are mounted on the container. The present invention also relates to a piezoelectric module using the piezoelectric device and an electronic apparatus.

特許文献1乃至4には、携帯電話等の無線通信機器に用いられる温度補償型圧電発振器が開示されている。特許文献4には、温度補償回路として温度に関する四次成分以上の回路を用いて電源投入後の周波数ドリフトを小さくした温度補償型圧電発振器が開示されている。これに使用されるIC部品は、温度を感知する温度センサーと、圧電振動素子の温度変化による周波数変動を補償するための温度補償回路と、可変容量素子と、増幅回路等を有しており、圧電振動素子を高精度に温度補償できると開示されている。また、実装端子、素子搭載パッド、IC搭載パッドは、容器(パッケージ)の絶縁基板内部に設けられたビア電極(貫通孔(ビアホール)にビア電極ペーストを充填した導体)、及び絶縁基板の層間に配置された配線パターン等により電気的接続されている。   Patent Documents 1 to 4 disclose temperature compensated piezoelectric oscillators used for wireless communication devices such as mobile phones. Patent Document 4 discloses a temperature-compensated piezoelectric oscillator in which a frequency drift after power-on is reduced using a circuit having a temperature-related fourth-order component or more as a temperature compensation circuit. The IC component used for this has a temperature sensor for sensing temperature, a temperature compensation circuit for compensating for frequency fluctuations due to temperature changes of the piezoelectric vibration element, a variable capacitance element, an amplifier circuit, and the like. It is disclosed that the temperature of the piezoelectric vibration element can be compensated with high accuracy. In addition, the mounting terminals, the element mounting pads, and the IC mounting pads are provided between via electrodes (conductors in which through-holes (via holes) are filled with via electrode paste) provided in the insulating substrate of the container (package) and between the insulating substrates. It is electrically connected by the arranged wiring pattern or the like.

特許文献5には、絶縁容器の隅部に設けたキャスタレーションに金属膜等を焼成し、この導電膜(キャスタレーション電極)を実装端子と素子搭載パッドとの電気的導通の手段とした例が開示されている。なお、絶縁容器の4つの角部に上下方向に伸長するキャスタレーションは、多数の容器がマトリクス状に形成された積層マザーウェーハから個別の容器に小割切断する際に用いられる。
容器の内部に形成したビア電極の一方の端部を蓋部材(リッド)に接続し、他方の端部を接地用実装端子に接続することにより、電磁気的なシールド効果が得られる。また、容器の層間に焼成した配線パターンとキャスタレーション電極とを接続することにより、実装端子と配線パターンとを電気的に導通することができる。キャスタレーション電極同志を層間に焼成した配線パターンにより導通した例も開示されている。配線パターン等の電極材料にはタングステン等が用いられる。
Patent Document 5 discloses an example in which a metal film or the like is fired on a castellation provided at a corner of an insulating container, and this conductive film (castellation electrode) is used as a means for electrical conduction between a mounting terminal and an element mounting pad. It is disclosed. The castellation extending vertically in the four corners of the insulating container is used when a large number of containers are divided into individual containers from a laminated mother wafer formed in a matrix.
An electromagnetic shielding effect can be obtained by connecting one end of a via electrode formed inside the container to a lid member (lid) and connecting the other end to a grounding mounting terminal. Further, by connecting the fired wiring pattern and the castellation electrode between the layers of the container, the mounting terminal and the wiring pattern can be electrically connected. An example is also disclosed in which the castellation electrodes are made conductive by a wiring pattern fired between layers. Tungsten or the like is used for an electrode material such as a wiring pattern.

ところで、上記の温度補償型圧電発振器では、パッケージ内の圧電振動素子の温度と、絶縁容器の外部に設けたIC部品に内蔵する温度センサーが検出する温度との間に僅かに温度差が生じる。両者間に温度差があると、誤差のある温度に基づいて圧電振動子の周波数温度特性を補償することになり、高精度の温度補償ができず、周波数ドリフトが生じるという問題があった。そこで、このような不具合に対処するために、圧電振動素子が搭載されている絶縁基板の温度を精度よく測定する試みがなされてきた。   By the way, in the above temperature compensated piezoelectric oscillator, there is a slight temperature difference between the temperature of the piezoelectric vibration element in the package and the temperature detected by the temperature sensor built in the IC component provided outside the insulating container. If there is a temperature difference between the two, the frequency temperature characteristic of the piezoelectric vibrator is compensated based on the temperature having an error, so that there is a problem that high-precision temperature compensation cannot be performed and frequency drift occurs. Therefore, in order to deal with such problems, attempts have been made to accurately measure the temperature of the insulating substrate on which the piezoelectric vibration element is mounted.

特許文献6〜特許文献8には、温度検出精度の向上と、小型化を図るために、容器の上部のキャビティー内に圧電振動素子を収容し、反対側の下部のキャビティー内に発振回路、温度補償回路等を収容した構造の表面実装型圧電発振器が開示されている。特許文献6には、圧電振動素子を接続するパッドの近傍に温度センサーを配置し、圧電振動素子の温度と温度センサーにより検出される温度との温度差を小さくすることにより、周波数温度特性、周波数ドリフト特性を安定化できると開示されている。しかし、圧電振動素子搭載用のパッドに接続されたIC部品の端子は、発振回路の増幅器の近傍に配置されているので、増幅器の動作に伴い発熱する。その結果、IC部品に内蔵する温度センサーを圧電振動素子側に近接させてもIC部品の発熱温度を検出する虞があり、周波数ドリフト特性を劣化させるという課題がある。   In Patent Documents 6 to 8, in order to improve the temperature detection accuracy and reduce the size, a piezoelectric vibration element is accommodated in the upper cavity of the container, and an oscillation circuit is disposed in the lower cavity on the opposite side. A surface mount piezoelectric oscillator having a structure containing a temperature compensation circuit and the like is disclosed. In Patent Document 6, a temperature sensor is disposed in the vicinity of a pad to which a piezoelectric vibration element is connected, and the temperature difference between the temperature of the piezoelectric vibration element and the temperature detected by the temperature sensor is reduced, whereby the frequency temperature characteristics, the frequency It is disclosed that the drift characteristic can be stabilized. However, since the terminal of the IC component connected to the pad for mounting the piezoelectric vibration element is disposed in the vicinity of the amplifier of the oscillation circuit, heat is generated with the operation of the amplifier. As a result, even if a temperature sensor built in the IC component is brought close to the piezoelectric vibration element side, the heat generation temperature of the IC component may be detected, and there is a problem that the frequency drift characteristic is deteriorated.

次に、特許文献7には、容器の上部のキャビティーに圧電振動素子と、発振回路、温度センサーを備えた第1のIC部品とを収容すると共に、下部のキャビティーに温度補償回路を備えた第2のIC部品を収容することにより、圧電振動素子と温度センサーとを同じ温度環境下に配置でき、周波数温度特性、周波数ドリフト特性を安定化できると開示されている。しかし、IC部品を二分して、温度センサー付きの第1のIC部品を圧電振動素子と同じキャビティーに収容する構造はコスト高となって実現性が低く、また発振器全体の小型化に逆行するという課題がある。
また、特許文献8には、容器の上部の凹部に圧電振動素子を片持ち支持状態で収容し、下部の凹部にIC部品を収容し、IC部品の温度センサー端子を上部凹部に設けた枕部材と接続することにより、圧電振動素子の温度と、温度センサーの検出温度との温度差を縮小して、周波数温度特性、周波数ドリフト特性を安定化できると開示されている。
Next, in Patent Document 7, a piezoelectric vibration element, a first IC component including an oscillation circuit and a temperature sensor are accommodated in the upper cavity of the container, and a temperature compensation circuit is provided in the lower cavity. Further, it is disclosed that by accommodating the second IC component, the piezoelectric vibration element and the temperature sensor can be arranged in the same temperature environment, and the frequency temperature characteristic and the frequency drift characteristic can be stabilized. However, the structure in which the IC component is divided into two parts and the first IC component with the temperature sensor is accommodated in the same cavity as the piezoelectric vibration element is high in cost and low in feasibility, and goes against the downsizing of the entire oscillator. There is a problem.
Further, Patent Document 8 discloses a pillow member in which a piezoelectric vibration element is housed in a cantilever-supported state in an upper recess of a container, an IC component is housed in a lower recess, and a temperature sensor terminal of the IC component is provided in the upper recess. It is disclosed that the frequency temperature characteristic and the frequency drift characteristic can be stabilized by reducing the temperature difference between the temperature of the piezoelectric vibration element and the temperature detected by the temperature sensor.

しかし、特許文献6〜特許文献8に開示された何れの構造も、セラミック基板に圧電振動素子を搭載する構成であるため、導電性接着剤を介して圧電振動素子と接続されたセラミック基板の温度を測定すれば、圧電振動素子の温度を正確に検出できると推測されている。しかし、実際には周波数ドリフト特性を改善する効果は、十分ではなかった。このように、圧電振動素子と離れて温度センサーを内蔵するIC部品を配置した従来の表面実装型圧電発振器では、圧電振動素子の温度を正確に検出することはできず、安定した周波数温度特性が得られない。また起動時の周波数ドリフト特性の改善も不十分であるという問題があった。   However, since any of the structures disclosed in Patent Documents 6 to 8 has a structure in which the piezoelectric vibration element is mounted on the ceramic substrate, the temperature of the ceramic substrate connected to the piezoelectric vibration element via the conductive adhesive is not limited. Is measured, it is estimated that the temperature of the piezoelectric vibration element can be accurately detected. However, in practice, the effect of improving the frequency drift characteristic has not been sufficient. As described above, in the conventional surface mount piezoelectric oscillator in which the IC component including the temperature sensor is arranged apart from the piezoelectric vibration element, the temperature of the piezoelectric vibration element cannot be accurately detected, and a stable frequency temperature characteristic is obtained. I can't get it. Further, there has been a problem that the frequency drift characteristic at the time of start-up is insufficient.

特許文献9には、圧電振動子の容器の主面に、ICチップを接着した表面実装型圧電発振器が開示されている。ICチップは温度センサーを内蔵し、圧電振動素子は容器内に収容されている。圧電振動素子は温度変化によってその周波数が変動し、温度センサーは温度変化によって出力信号が変化する。ICチップに内蔵される発振回路と、圧電振動素子とによって圧電発振器が構成され、ICチップに内蔵される温度補償回路で圧電発振器の周波数が補償される。つまり、温度補償発振回路は、温度センサーからの出力信号に基づいて温度補償用の電圧信号を出力し、それを可変容量素子に印加することにより可変容量素子の容量を変化させて、周波数を補償する。温度の変化により圧電振動素子の振動周波数が変動するが、温度センサーの出力信号により温度補償発振回路が動作し、周波数の変化分を補償する。ICチップを圧電振動子の容器に固定することで、両者の位置を近接させ、温度差を縮小できると記述されている。温度センサーはICチップの表層部に形成されおり、発振器をこのような構成にすることにより周波数温度特性、周波数ドリフト特性を安定化できると開示されている。   Patent Document 9 discloses a surface-mount piezoelectric oscillator in which an IC chip is bonded to the main surface of a container of a piezoelectric vibrator. The IC chip incorporates a temperature sensor, and the piezoelectric vibration element is accommodated in the container. The frequency of the piezoelectric vibration element varies with a temperature change, and the output signal of the temperature sensor changes with a temperature change. A piezoelectric oscillator is constituted by the oscillation circuit built in the IC chip and the piezoelectric vibration element, and the frequency of the piezoelectric oscillator is compensated by the temperature compensation circuit built in the IC chip. In other words, the temperature compensated oscillation circuit outputs a voltage signal for temperature compensation based on the output signal from the temperature sensor, and changes the capacitance of the variable capacitance element by applying it to the variable capacitance element to compensate the frequency. To do. Although the vibration frequency of the piezoelectric vibration element fluctuates due to the change in temperature, the temperature compensation oscillation circuit operates by the output signal of the temperature sensor to compensate for the change in frequency. It is described that the temperature difference can be reduced by fixing the IC chip to the container of the piezoelectric vibrator to bring the positions of the two close together. It is disclosed that the temperature sensor is formed on the surface layer portion of the IC chip, and the frequency temperature characteristic and the frequency drift characteristic can be stabilized by configuring the oscillator in such a configuration.

最近、携帯電話の主回路基板に関し、集積化、チップセット化等の技術革新が進み、部品の小型・低背化、少数化の傾向は目覚ましい。即ち、前述の特許文献1乃至9に記載されているような温度補償型圧電発振器は必ずしも必要とされず、主回路基板(マザーボード)上に搭載されるIC部品に温度補償回路を付加する傾向がある。しかし、基準周波数源には、圧電振動子を用い、圧電振動子と前記のようなIC部品(チップセット)と組合せることにより、圧電振動子の温度補償を実現するという試みがなされている。   Recently, with respect to the main circuit boards of mobile phones, technological innovations such as integration and chipset advance have progressed, and the trend of miniaturization, low profile, and fewer parts is remarkable. That is, the temperature-compensated piezoelectric oscillator described in Patent Documents 1 to 9 is not necessarily required, and there is a tendency to add a temperature compensation circuit to an IC component mounted on the main circuit board (motherboard). is there. However, an attempt has been made to realize temperature compensation of the piezoelectric vibrator by using a piezoelectric vibrator as the reference frequency source and combining the piezoelectric vibrator with the IC component (chip set) as described above.

しかし、主回路基板に搭載された圧電振動子の温度と、圧電振動子の温度を検出する温度センサーの出力温度との間に温度差があることが問題になっている。これは回路基板上に圧電振動子、温度センサー、及び熱源を配置し、回路基板上の温度分布をシミュレーションによって求めることにより明らかとなった。圧電振動子と温度センサーとの僅かの温度差は、携帯電話に搭載されているGPSの位置測定精度に影響する。GPSは基準周波数の短期安定度が極めて重要な要素となるからである。
特許文献10には、底板及び枠壁からなる凹部を有する矩形状の容器と、容器に収容された水晶振動素子と、容器の開口部に接合された金属カバーと、水晶振動素子の温度検出用で容器の長手方向の一端側に付着させたサーミスタと、を備えた表面実装型水晶振動子が開示されている。サーミスタの長手方向が、容器の高さ方向に直交して容器の外側面に固着した構成とした温度センサー付き水晶振動子である。
特許文献11には、底板層と枠壁層と有した凹状積層セラミックからなる容器と、容器内に収容され一端部両側が固着された水晶振動素子と、水晶振動素子と共に容器内に収容されたサーミスタと、を備えた表面実装型水晶振動子が開示されている。水晶振動素子の主面は底板層の最上位層と対面し、サーミスタは底板層に設けられた凹所内に配置された構成の温度センサー付き水晶振動子である。
However, there is a problem that there is a temperature difference between the temperature of the piezoelectric vibrator mounted on the main circuit board and the output temperature of the temperature sensor that detects the temperature of the piezoelectric vibrator. This has been clarified by arranging a piezoelectric vibrator, a temperature sensor, and a heat source on a circuit board and obtaining a temperature distribution on the circuit board by simulation. A slight temperature difference between the piezoelectric vibrator and the temperature sensor affects the position measurement accuracy of the GPS mounted on the mobile phone. This is because the short-term stability of the reference frequency is an extremely important factor for GPS.
In Patent Document 10, a rectangular container having a recess made of a bottom plate and a frame wall, a crystal resonator element housed in the container, a metal cover joined to an opening of the container, and a temperature detector for the crystal resonator element And a thermistor attached to one end side in the longitudinal direction of the container. This is a crystal resonator with a temperature sensor in which the longitudinal direction of the thermistor is fixed to the outer surface of the container perpendicular to the height direction of the container.
In Patent Document 11, a container made of a concave laminated ceramic having a bottom plate layer and a frame wall layer, a crystal resonator element housed in the container and fixed at both ends at one end, and a container together with the crystal resonator element were housed in the container. A surface-mounted crystal resonator including a thermistor is disclosed. The main surface of the crystal resonator element faces the uppermost layer of the bottom plate layer, and the thermistor is a crystal resonator with a temperature sensor configured to be disposed in a recess provided in the bottom plate layer.

特開2005−217782公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-217784 特開2005−244925公報JP 2005-244925 A 特開2009−089437公報JP 2009-089437 A 特開2010−206443公報JP 2010-206443 A 特開2006−054314公報JP 2006-054314 A 特開2006−191517公報JP 2006-191517 A 特開2008−263564公報JP 2008-263564 A 特開2010−035078公報JP 2010-035078 A 特開2009−105199公報JP 2009-105199 A 特開2010−118979公報JP 2010-118979 A 特開2008−205938公報JP 2008-205938 A

しかしながら、上記の圧電デバイスでは、圧電振動素子を収容する第1の収納部は、その底部(セラミック製)を介して反対側の第2の収納部に感温部品(サーミスタ)を搭載する構造を有しており、容器が絶縁性のセラミックであるため、熱伝導性の点から第1の収納部内の圧電振動素子の温度と第2の収納部内の感温部品が検出する温度との間に温度差が生じるという問題があった。
また、特許文献11に開示の構造では、サーミスタが圧電振動子の容器の内部に搭載されており、圧電振動素子の温度を検出できることが期待できる。しかし、容器に収容された圧電振動素子に何らかの特性不良が発生したとき、同じ容器内に搭載されているサーミスタも廃棄させざるを得ず、その分コスト高となるという問題があった。
また、特許文献10に開示の構造では、容器の構造は簡素になりコスト低減は図れるものの、外部回路と併用されて携帯電話のGPS機能に要求されるような性能を有する圧電発振器の構成は難しい。つまり、電源が投入された後の短い時間で圧電振動素子の実際の温度と、サーミスタ(感温部品)が検出する温度との間に温度差が生じ、GPS機能が要求する規格を満たせないという問題あった。
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、圧電振動素子の温度と感温素子との温度差をできるだけ小さくし、主回路基板(マザーボード)上に搭載された補償回路と組合せることにより、周波数ドリフト特性の小さく、温度補償型発振器を可能とする、表面実装型の小型圧電デバイスを提供することを目的としている。
However, in the above-described piezoelectric device, the first storage portion that stores the piezoelectric vibration element has a structure in which the temperature-sensitive component (thermistor) is mounted on the second storage portion on the opposite side via the bottom portion (made of ceramic). Since the container is made of an insulating ceramic, between the temperature of the piezoelectric vibration element in the first storage portion and the temperature detected by the temperature sensitive component in the second storage portion from the viewpoint of thermal conductivity. There was a problem that a temperature difference occurred.
In the structure disclosed in Patent Document 11, it is expected that the thermistor is mounted inside the container of the piezoelectric vibrator and the temperature of the piezoelectric vibration element can be detected. However, when some characteristic failure occurs in the piezoelectric vibration element accommodated in the container, the thermistor mounted in the same container must be discarded, and there is a problem that the cost increases accordingly.
Further, in the structure disclosed in Patent Document 10, the structure of the container is simplified and the cost can be reduced, but it is difficult to configure a piezoelectric oscillator having the performance required for the GPS function of the mobile phone in combination with an external circuit. . In other words, a temperature difference occurs between the actual temperature of the piezoelectric vibration element and the temperature detected by the thermistor (temperature-sensitive component) in a short time after the power is turned on, and the standard required by the GPS function cannot be satisfied. There was a problem.
The present invention has been made in view of the above, and by making the temperature difference between the temperature of the piezoelectric vibration element and the temperature sensitive element as small as possible, in combination with a compensation circuit mounted on the main circuit board (motherboard), It is an object of the present invention to provide a small surface-mount piezoelectric device that has a small frequency drift characteristic and enables a temperature compensated oscillator.

本発明は、上記の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本発明に係る容器は、第1の主面側に振動素子を搭載する第1の電極パッドと、電子素子を搭載する第2の電極パッドと、を有し、前記第1の主面とは反対側の第2の主面側に複数の実装端子を有した絶縁基板と、前記振動素子、及び前記電子素子を含む前記第1の主面側の空間を気密封止する蓋部材と、を備えた容器であって、前記実装端子と前記第1、及び第2の電極パッドとは、夫々配線導体により電気的に接続され、前記絶縁基板を主として構成する材質の熱伝導率Tcが、50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)]を満足することを特徴とする容器である。   Application Example 1 A container according to the present invention includes a first electrode pad on which a vibration element is mounted on a first main surface side, and a second electrode pad on which an electronic element is mounted. An insulating substrate having a plurality of mounting terminals on the second main surface side opposite to the main surface, and the space on the first main surface side including the vibration element and the electronic element are hermetically sealed. A mounting member, and the mounting terminal and the first and second electrode pads are electrically connected to each other by a wiring conductor, and heat conduction of a material mainly constituting the insulating substrate. The container is characterized in that the rate Tc satisfies 50 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200 [W / (m · K)].

この構成によれば、絶縁基板を構成する材質が高熱伝導率を有するため、実装端子から伝導する熱は配線導体を伝わると同時に、絶縁基板内を立体的に伝わり、第1、及び第2の電極パッド夫々の時間に対する温度上昇カーブはほぼ同様な曲線になるという効果がある。また容器の構造がシンプルであるため、コストが低減できるという利点がある。   According to this configuration, since the material constituting the insulating substrate has high thermal conductivity, the heat conducted from the mounting terminal is transmitted three-dimensionally through the insulating substrate at the same time as the wiring conductor, and the first and second There is an effect that the temperature rise curve with respect to the time of each electrode pad becomes almost the same curve. Moreover, since the structure of a container is simple, there exists an advantage that cost can be reduced.

[適用例2]また容器は、前記絶縁基板の第1の主面の周縁にシールリングを設けたことを特徴とする適用例1に記載の容器である。   [Application Example 2] The container according to Application Example 1, wherein the container is provided with a seal ring at the periphery of the first main surface of the insulating substrate.

この構成によれば、シールリングに溶接される蓋部材と接地用の実装端子とが導通接続されるため、容器はシールド効果を有するという効果がある。   According to this structure, since the lid member welded to the seal ring and the mounting terminal for grounding are conductively connected, there is an effect that the container has a shielding effect.

[適用例3]また容器は、第1の主面側に振動素子を搭載する第1の電極パッドと、電子素子を搭載する第2の電極パッドと、を有し、前記第1の主面とは反対側の第2の主面側に複数の実装端子を有した第1の絶縁基板と、前記第1の絶縁基板の第1の主面に対して底部を積層固定される環状の第2の絶縁基板と、前記第2の絶縁基板の中空部内に位置する前記振動素子、及び前記電子素子を含む空間を気密封止する蓋部材と、を備えた容器であって、前記実装端子と前記第1、及び第2の電極パッドとは、夫々配線導体により電気的に接続され、前記絶縁基板を主として構成する材質の熱伝導率Tcが、50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)]を満足することを特徴とする容器である。   Application Example 3 In addition, the container includes a first electrode pad on which a vibration element is mounted on the first main surface side, and a second electrode pad on which an electronic element is mounted. The first main surface A first insulating substrate having a plurality of mounting terminals on the second main surface side opposite to the first main surface of the first insulating substrate. And a lid member that hermetically seals the space including the electronic element and the vibration element positioned in the hollow portion of the second insulating substrate, the mounting terminal, The first and second electrode pads are electrically connected to each other by a wiring conductor, and the thermal conductivity Tc of a material mainly constituting the insulating substrate is 50 [W / (m · K)] ≦ Tc. ≦ 200 [W / (m · K)] is satisfied.

この構成によれば、容器は高熱伝導率を有する第1、及び第2の絶縁基板を積層焼成して構成されるため、実装端子から伝導する熱は配線導体を伝わると同時に、絶縁基板内を立体的に伝わり、第1、及び第2の電極パッド夫々の時間に対する温度上昇カーブはほぼ同様な曲線になるという効果がある。   According to this configuration, since the container is configured by laminating and firing the first and second insulating substrates having high thermal conductivity, heat conducted from the mounting terminal is transmitted through the wiring conductor and at the same time, the inside of the insulating substrate. There is an effect that the temperature rise curves with respect to the time of the first and second electrode pads are substantially similar curves.

[適用例4]また容器は、第1の主面側に振動素子を搭載する第1の電極パッドを有し、前記第1の主面とは反対側の第2の主面側に電子素子を搭載する第2の電極パッドと、を有する第1の絶縁基板と、前記第1の絶縁基板の第1の主面に対して底部を積層固定されることにより第1の収容部を形成する環状の第2の絶縁基板と、前記第2の主面側に対して表部を積層固定されることにより第2の収容部を形成し、底部に複数の実装端子を有する環状の第3の絶縁基板と、前記第2の絶縁基板の中空部内に位置する前記振動素子を含む空間を気密封止する蓋部材とを備え、前記実装端子と前記第1、及び第2の電極パッドとは、夫々配線導体により電気的に接続され、前記第1、第2、及び第3の絶縁基板を主として構成する材質の熱伝導率Tcが、50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)]を満足することを特徴とする容器である。   Application Example 4 In addition, the container includes a first electrode pad on which the vibration element is mounted on the first main surface side, and an electronic element on the second main surface side opposite to the first main surface side. A first insulating substrate having a second electrode pad on which the first insulating substrate is mounted, and a bottom portion is laminated and fixed to the first main surface of the first insulating substrate to form a first accommodating portion. An annular second insulating substrate and a second housing portion are formed by laminating and fixing a front portion to the second main surface side, and an annular third insulating member having a plurality of mounting terminals at the bottom. An insulating substrate; and a lid member that hermetically seals the space including the vibration element located in the hollow portion of the second insulating substrate, and the mounting terminal and the first and second electrode pads are: Thermal conduction of materials that are electrically connected by respective wiring conductors and that mainly constitute the first, second, and third insulating substrates. Tc is a container that satisfies the 50 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200 [W / (m · K)].

この構成によれば、容器は高熱伝導率を有する第1、第2、及び第3の絶縁基板を積層焼成して構成されるため、実装端子から伝導する熱は配線導体を伝わると同時に、絶縁基板内を立体的に伝わり、第1、及び第2の電極パッド夫々の時間に対する温度上昇カーブはほぼ同様な曲線になるという効果がある。また、第1の収容部と、第2の収容部とを第1の絶縁基板により分離しているため、高精度、高安定度を要求する振動デバイス等に適しているという利点がある。   According to this configuration, since the container is configured by laminating and firing the first, second, and third insulating substrates having high thermal conductivity, the heat conducted from the mounting terminal is transmitted through the wiring conductor and at the same time is insulated. There is an effect that the temperature rise curves with respect to the time of the first and second electrode pads become substantially similar curves in a three-dimensional manner in the substrate. Moreover, since the 1st accommodating part and the 2nd accommodating part are isolate | separated by the 1st insulating substrate, there exists an advantage that it is suitable for the vibration device etc. which require high precision and high stability.

[適用例5]また容器は、前記熱伝導率Tcが、120[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)]を満足することを特徴とする適用例1乃至4のうち何れか一項に記載の容器である。   Application Example 5 In the application example 1, the container satisfies the thermal conductivity Tc of 120 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200 [W / (m · K)]. It is a container as described in any one of thru | or 4.

この構成によれば、第1、及び第2の電極パッドの夫々の時間に対する温度上昇カーブが更に近接した曲線になるという効果がある。   According to this configuration, there is an effect that the temperature rise curves with respect to the respective times of the first and second electrode pads become closer curves.

[適用例6]また容器は、前記熱伝導率Tcが、前記配線導体の熱伝導率と同等であることを特徴とする適用例1乃至4のうち何れか一項に記載の容器である。   Application Example 6 Further, the container is the container according to any one of Application Examples 1 to 4, wherein the thermal conductivity Tc is equal to the thermal conductivity of the wiring conductor.

この構成によれば、第1、及び第2の電極パッド夫々が実装端子から等距離になるように配置することにより、時間に対する温度上昇カーブはほぼ同様な曲線になるという効果がある。   According to this configuration, by arranging the first and second electrode pads so as to be equidistant from the mounting terminals, there is an effect that the temperature rise curves with respect to time become substantially similar curves.

[適用例7]本発明に係る振動デバイスは、振動素子と、電子素子とを、適用例1乃至6のうち何れか一項に記載の容器に搭載したことを特徴とする振動デバイスである。   Application Example 7 A vibration device according to the present invention is a vibration device in which a vibration element and an electronic element are mounted on the container according to any one of Application Examples 1 to 6.

この構成によれば、本発明に係る容器を用いて振動デバイスを構成しているため、振動素子とその温度を検出する電子素子との時間に対する温度上昇カーブがほぼ同様になるので、外部の発振器と補償回路とを用いて精度よく補償でき、周波数ドリフト特性の少ない基準発振器が構成できるという効果がある。   According to this configuration, since the vibrating device is configured using the container according to the present invention, the temperature rise curves with respect to time of the vibrating element and the electronic element for detecting the temperature thereof are substantially the same, so that the external oscillator And a compensation circuit can be accurately compensated, and a reference oscillator having a small frequency drift characteristic can be configured.

[適用例8]また振動デバイスは、前記蓋部材は、前記容器の内部を貫通する導体、又は前記容器の外側面に設けられたキャスタレーション電極により前記実装端子と電気的に接続されていることを特徴とする適用例7に記載の振動デバイスである。   Application Example 8 In the vibration device, the lid member is electrically connected to the mounting terminal by a conductor penetrating the inside of the container or a castellation electrode provided on an outer surface of the container. It is a vibration device as described in application example 7 characterized by these.

この構成によれば、接地用の実装端子と蓋部材とが導通接続されるので、シールド効果を有する振動デバイスが構成できるという効果がある。   According to this configuration, since the grounding mounting terminal and the lid member are conductively connected, there is an effect that a vibrating device having a shielding effect can be configured.

[適用例9]また振動デバイスは、前記振動素子は、音叉型水晶振動素子であることを特徴とする適用例7又は8に記載の振動デバイスである。   [Application Example 9] The vibration device according to Application Example 7 or 8, wherein the vibration element is a tuning fork type crystal vibration element.

この構成によれば、振動素子に音叉型水晶振動素子を用いているため、高周波を分周する回路を必要とせず、所望の低周波の基準発振器が得られるという利点がある。   According to this configuration, since a tuning fork type crystal resonator element is used as the resonator element, there is an advantage that a desired low frequency reference oscillator can be obtained without requiring a circuit for dividing a high frequency.

[適用例10]また振動デバイスは、前記振動素子の基板は、水晶の結晶軸である電気軸としてのX軸と、機械軸としてのY軸と、光学軸としてのZ軸と、からなる直交座標系の前記X軸を中心として、前記Z軸を前記Y軸の−Y方向へ所定の角度だけ傾けた軸をZ’軸とし、前記Y軸を前記Z軸の+Z方向へ前記所定の角度だけ傾けた軸をY’軸とし、前記X軸と前記Z’軸に平行な面で構成され、前記Y’軸に平行な方向を厚みとする水晶基板であり、前記X軸に平行な辺を長辺とし、前記Z’軸に平行な辺を短辺とした水晶基板を用いたことを特徴とする適用例7又は8に記載の振動デバイスである。   Application Example 10 Further, in the vibration device, the substrate of the vibration element includes an X axis as an electric axis that is a crystal axis of quartz, a Y axis as a mechanical axis, and a Z axis as an optical axis. Centering on the X axis of the coordinate system, the Z axis is inclined by a predetermined angle in the −Y direction of the Y axis as a Z ′ axis, and the Y axis is in the + Z direction of the Z axis. A quartz substrate that is formed by a plane parallel to the X-axis and the Z′-axis, with the axis tilted only by the Y′-axis and having a thickness in a direction parallel to the Y′-axis, and a side parallel to the X-axis The vibration device according to Application Example 7 or 8, wherein a quartz substrate having a long side and a short side parallel to the Z ′ axis is used.

この構成によれば、客先仕様が要求する温度特性を適切に実現できるという効果がある。 According to this structure, there exists an effect that the temperature characteristic which a customer specification requires can be implement | achieved appropriately.

[適用例11]また振動デバイスは、前記収容部には、前記振動素子として、ATカット水晶振動素子と音叉型水晶振動素子とが併置されていることを特徴とする適用例7又は8に記載の振動デバイスである。   Application Example 11 In the application example 7 or 8, the vibration device includes an AT-cut crystal vibration element and a tuning-fork crystal vibration element disposed in the housing portion as the vibration element. It is a vibration device.

この構成によれば、ATカット水晶振動素子と、音叉型水晶振動素子とを用いており、外部の発振回路、及び補償回路と併用することにより、高周波と低周波の2つの温度補償された圧電発振器が構成され、且つ周波数ドリフト特性の優れた2つの基準周波数が得られるという効果がある。   According to this configuration, an AT-cut crystal resonator element and a tuning-fork crystal resonator element are used, and two temperature compensated piezoelectric elements of high frequency and low frequency are used in combination with an external oscillation circuit and a compensation circuit. An oscillator is configured, and two reference frequencies having excellent frequency drift characteristics can be obtained.

[適用例12]本発明の電子機器は、適用例7乃至11のうち何れか一項に記載の振動デバイスを内蔵したことを特徴とする電子機器である。   Application Example 12 An electronic apparatus according to the present invention is an electronic apparatus including the vibration device according to any one of Application Examples 7 to 11.

上記の振動デバイスを用いて電子機器を製作すると、高安定で周波数ドリフト特性の優れた基準周波数源が容易に構成できるという効果がある。   When an electronic device is manufactured using the above-described vibration device, there is an effect that a reference frequency source having high stability and excellent frequency drift characteristics can be easily configured.

本発明の第1の実施形態に係る容器の概略図で、(a)は蓋部材を省略した斜視図、(b)は蓋部材を省略した平面図、(c)は(b)のQ−Q断面図、(d)は底面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is the schematic of the container which concerns on the 1st Embodiment of this invention, (a) is the perspective view which abbreviate | omitted the lid member, (b) is the top view which abbreviate | omitted the lid member, (c) is Q- of (b). Q sectional drawing, (d) is a bottom view. (a)及び(b)は絶縁基板の表面と裏面の電極パターンの変形例を示す図。(A) And (b) is a figure which shows the modification of the electrode pattern of the surface of an insulating substrate, and a back surface. 本発明の第2の実施形態に係る容器の、(a)は蓋部材を省略した斜視図、(b)は蓋部材を省略した平面図、(c)は(b)のQ−Q断面図、(d)は底面図。The container which concerns on the 2nd Embodiment of this invention, (a) is the perspective view which abbreviate | omitted the lid member, (b) is the top view which abbreviate | omitted the lid member, (c) is QQ sectional drawing of (b). , (D) is a bottom view. 本発明の第3の実施形態に係る容器の、(a)は蓋部材を省略した平面図、(b)は(a)のQ−Q断面図、(c)は底面図。The container which concerns on the 3rd Embodiment of this invention, (a) is the top view which abbreviate | omitted the cover member, (b) is QQ sectional drawing of (a), (c) is a bottom view. 本発明の第1の実施形態に係る圧電デバイスの概略図で、(a)は蓋部材を省略した平面図、(b)は(a)のQ−Q断面図、(c)は底面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is the schematic of the piezoelectric device which concerns on the 1st Embodiment of this invention, (a) is the top view which abbreviate | omitted the cover member, (b) is QQ sectional drawing of (a), (c) is a bottom view. 圧電デバイス2の概略図で、(a)は蓋部材を省略した平面図、(b)は(a)のQ−Q断面図、(c)は底面図。It is the schematic of the piezoelectric device 2, (a) is the top view which abbreviate | omitted the cover member, (b) is QQ sectional drawing of (a), (c) is a bottom view. 座標軸と切断角度を説明する図。The figure explaining a coordinate axis and a cutting angle. (a)は圧電振動素子の平面図であり、(b)はQ−Q断面図。(A) is a top view of a piezoelectric vibration element, (b) is QQ sectional drawing. (a)は圧電デバイス2の熱の伝導を説明する図、(b)は部材の熱伝導率を説明する表。(A) is a figure explaining the heat conduction of the piezoelectric device 2, (b) is a table | surface explaining the heat conductivity of a member. (a)は本発明の圧電デバイス2の、経過時間と、圧電振動素子及び感温素子の各温度との関係を示す図であり、(b)は従来の圧電デバイスの、経過時間と、圧電振動素子及び感温素子の各温度との関係を示す図であり、(c)は容器の熱伝導率を変えた場合の、熱伝導率と、圧電振動素子と感温素子との温度差との関係を示す図。(A) is a figure which shows the relationship between the elapsed time of the piezoelectric device 2 of this invention, and each temperature of a piezoelectric vibration element and a thermosensitive element, (b) is the elapsed time and piezoelectricity of the conventional piezoelectric device. It is a figure which shows the relationship with each temperature of a vibration element and a temperature sensing element, (c) is the thermal conductivity when the thermal conductivity of the container is changed, and the temperature difference between the piezoelectric vibration element and the temperature sensing element. FIG. 圧電デバイス3の概略図で、(a)は蓋部材を省略した平面図、(b)は(a)のQ−Q断面図、(c)は底面図。It is the schematic of the piezoelectric device 3, (a) is the top view which abbreviate | omitted the cover member, (b) is QQ sectional drawing of (a), (c) is a bottom view. 圧電デバイス4の概略図で、(a)は蓋部材を省略した平面図、(b)は(a)のQ−Q断面図、(c)は底面図。It is the schematic of the piezoelectric device 4, (a) is the top view which abbreviate | omitted the cover member, (b) is QQ sectional drawing of (a), (c) is a bottom view. 圧電デバイス5の概略図で、(a)は蓋部材を省略した平面図、(b)は(a)のQ−Q断面図、(c)は底面図。It is the schematic of the piezoelectric device 5, (a) is the top view which abbreviate | omitted the cover member, (b) is QQ sectional drawing of (a), (c) is a bottom view. 圧電デバイス6の概略図で、(a)は断面図であり、(b)は蓋部材を省略した容器の平面図であり、(c)は(b)のQ−Q断面図。It is the schematic of the piezoelectric device 6, (a) is sectional drawing, (b) is a top view of the container which abbreviate | omitted the cover member, (c) is QQ sectional drawing of (b). デジタル携帯電話の構成を示すブロック図。The block diagram which shows the structure of a digital mobile telephone. 圧電デバイス7の構成を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a configuration of a piezoelectric device 7. 音叉型圧電振動素子の構成を示す、(a)は平面図であり、(b)は(a)のP−P断面図。The structure of a tuning fork type piezoelectric vibration element is shown, (a) is a top view, (b) is PP sectional drawing of (a). 圧電デバイス8の構成を示す概略図であり、(a)は蓋部材を除いた平面図であり、(b)は(a)のQ−Q断面図。It is the schematic which shows the structure of the piezoelectric device 8, (a) is a top view except the cover member, (b) is QQ sectional drawing of (a).

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る電子部品用の容器20Aの構成を示す概略図であり、同図(a)は蓋部材38を省略した斜視図であり、同図(b)は蓋部材38を省略した平面図であり、同図(c)は(b)のQ−Q断面図であり、同図(d)は容器20Aの底面図である。
本発明の容器20Aは、絶縁基板20aと、蓋部材38と、を概略備えて構成されている。絶縁基板20aの材料としては、通常のアルミナセラミック(Al)の熱伝導率17[W/(m・K)]より大きい、例えば50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)]のセラミック材を用いて構成されている。一例として炭化ケイ素(SiC、60[W/(m・K)]〜200[W/(m・K)])、窒化アルミ(AlN、120[W/(m・K)]〜160[W/(m・K)])等を挙げるとことができる。
蓋部材38は、金属板をバスタブ状(逆椀状)にプレス加工したものでもよいし、セラミック、ガラス等を凹部状に成形したものでもよい。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of an electronic component container 20A according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 (a) is a perspective view in which a lid member 38 is omitted, and FIG. It is the top view which omitted the cover member 38, the figure (c) is QQ sectional drawing of (b), and the figure (d) is a bottom view of container 20A.
The container 20 </ b> A of the present invention is configured by roughly including an insulating substrate 20 a and a lid member 38. As a material of the insulating substrate 20a, the thermal conductivity of ordinary alumina ceramic (Al 2 O 3 ) is larger than 17 [W / (m · K)], for example, 50 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200. The ceramic material is [W / (m · K)]. As an example, silicon carbide (SiC, 60 [W / (m · K)] to 200 [W / (m · K)]), aluminum nitride (AlN, 120 [W / (m · K)] to 160 [W / (M · K)]) and the like.
The lid member 38 may be a metal plate pressed into a bathtub shape (inverted bowl shape), or may be a ceramic, glass or the like formed into a concave shape.

図1(b)に示すように、絶縁基板20aの第1の主面(表部)S1の長手方向の一方の端部寄りには、短手方向に沿って圧電振動素子を搭載する一対の第1の電極パッド28a、28bが設けられ、他方の端部寄りには短手方向に沿って電子素子を搭載する一対の第2の電極パッド29a、29bが設けられている。更に、図1(d)に示すように、第1の主面S1とは反対側の第2の主面S2の角隅部には、複数の実装端子22(22a〜22d)が設けられている。
絶縁基板20aの絶縁体内部には、ビア電極(ビアホール(貫通孔)にビア電極ペーストを充填し、焼成形成した導体)が形成されている。図1(c)、(d)に示すように、絶縁基板20aの肉厚内部に、第2の主面(裏面)S2に形成された実装端子22a、22bと、第1の主面(表部)S1に形成された圧電振動素子用の一対の第1の電極パッド28a、28bと、を夫々導通接続するビア電極23a、23bが貫通形成されている。また、第2の主面(裏面)S2に形成された実装端子22c、22dと、第1の主面(表部)S1に形成された電子素子用の一対の第2の電極パッド29a、29bと、を夫々導通接続するビア電極24a、24bが貫通形成されている。なお、絶縁基板20aの角隅部の側壁面には、キャスタレーションC1、C2、C3、C4が形成されている。
As shown in FIG. 1 (b), a pair of piezoelectric vibration elements are mounted along the short direction near one end in the longitudinal direction of the first main surface (front portion) S1 of the insulating substrate 20a. First electrode pads 28a and 28b are provided, and a pair of second electrode pads 29a and 29b for mounting electronic elements along the short direction are provided near the other end. Further, as shown in FIG. 1D, a plurality of mounting terminals 22 (22a to 22d) are provided at the corners of the second main surface S2 opposite to the first main surface S1. Yes.
A via electrode (a conductor formed by filling a via hole (through hole) with a via electrode paste and firing) is formed inside the insulator of the insulating substrate 20a. As shown in FIGS. 1C and 1D, the mounting terminals 22a and 22b formed on the second main surface (back surface) S2 and the first main surface (front surface) are formed inside the thickness of the insulating substrate 20a. Part) Via electrodes 23a and 23b are formed to penetrate through the pair of first electrode pads 28a and 28b for the piezoelectric vibration element formed in S1. Also, mounting terminals 22c and 22d formed on the second main surface (back surface) S2, and a pair of second electrode pads 29a and 29b for electronic elements formed on the first main surface (front portion) S1. And via electrodes 24a and 24b are formed to pass through. In addition, castellations C1, C2, C3, and C4 are formed on the side wall surfaces at the corners of the insulating substrate 20a.

絶縁基板20aの第1の主面(表部)S1の周縁部に例えば低融点ガラス材を塗布し、このガラス材上に金属製、又は非金属製の凹部状の蓋部材38の外周裾部を載置し、ガラス材を加熱溶着して第1の主面S1上の空間部を密封する。また、絶縁基板20aの第1の主面(表部)S1の周縁部に、第1、及び第2の電極パッド28a、28b、29a、29bを形成する工程で、シールリングをスクリーン印刷しておき、焼成すれば周縁部にシールリングを設けた絶縁基板20aを構成することができる。
このシールリング上に金属製の蓋部材38を載置し、抵抗溶接等により第1の主面S1上の空間部を密封することができる。また、第1の主面S1の周縁部にシールリングを設ける場合には、このシールリングと接地用の実装端子22とを導通接続するビア電極を形成し、金属製の蓋部材38を接地してシールド効果を持たすことができる。
For example, a low-melting glass material is applied to the peripheral edge portion of the first main surface (front portion) S1 of the insulating substrate 20a, and the outer peripheral skirt portion of the concave cover member 38 made of metal or nonmetal on the glass material. The glass material is heated and welded to seal the space on the first main surface S1. Further, in the step of forming the first and second electrode pads 28a, 28b, 29a, 29b on the peripheral portion of the first main surface (front portion) S1 of the insulating substrate 20a, a seal ring is screen-printed. If it is fired, an insulating substrate 20a having a seal ring at the peripheral edge can be formed.
A metal lid member 38 is placed on the seal ring, and the space on the first main surface S1 can be sealed by resistance welding or the like. When a seal ring is provided on the peripheral edge of the first main surface S1, a via electrode is formed to electrically connect the seal ring and the grounding mounting terminal 22, and the metal lid member 38 is grounded. Can have a shielding effect.

図2は、図1に示す絶縁基板20aの変形例である絶縁基板20a1の構成を示す図であり、図2(a)は第1の主面(表部)の電極パターンを示す図であり、同図(b)は第2の主面(裏部)の電極パターンを示す図である。絶縁基板20a1の角隅部に設けたキャスタレーションC1〜C4の壁面に金属膜を焼成してキャスタレーション電極Ce1〜Ce4としている。キャスタレーション電極Ce1、Ce2は、実装端子22a、22bと夫々導通接続されていると共に、第1の主面S1に形成した配線パターン26a、26aにより、圧電振動素子搭載用の第1の電極パッド28a、28bとも夫々導通接続されている。また、キャスタレーション電極Ce3、Ce4は、実装端子22c、22dと夫々導通接続されていると共に、第1の主面S1に形成した第2の配線パターン26b、26bにより、電子素子搭載用の第2の電極パッド29a、29bとも夫々導通接続されている。   FIG. 2 is a diagram showing a configuration of an insulating substrate 20a1 that is a modification of the insulating substrate 20a shown in FIG. 1, and FIG. 2 (a) is a diagram showing an electrode pattern on the first main surface (front portion). FIG. 6B is a diagram showing an electrode pattern on the second main surface (back portion). A metal film is fired on the wall surfaces of castellations C1 to C4 provided at the corners of the insulating substrate 20a1 to form castellation electrodes Ce1 to Ce4. The castellation electrodes Ce1 and Ce2 are electrically connected to the mounting terminals 22a and 22b, respectively, and the first electrode pads 28a for mounting the piezoelectric vibration element are formed by the wiring patterns 26a and 26a formed on the first main surface S1. , 28b are electrically connected. Further, the castellation electrodes Ce3 and Ce4 are electrically connected to the mounting terminals 22c and 22d, respectively, and the second wiring patterns 26b and 26b formed on the first main surface S1 are used to mount second electronic elements. The electrode pads 29a and 29b are also conductively connected.

図3は第2の実施形態の容器20Bの構成を示す図であり、同図(a)は蓋部材38を省略した斜視図であり、同図(b)は蓋部材38を省略した平面図であり、同図(c)は(b)のQ−Qの断面図であり、同図(d)は底面図である。
容器20Bは、図3(c)に示すように平板状の第1の絶縁基板20a1と、矩形環状の第2の絶縁基板20b1と、平板状の蓋部材38と、を概略備えている。第1の絶縁基板20a1は、第1の主面(表部)S1の長手方向の一方の端部寄りに短手方向に沿って圧電振動素子を搭載する第1の電極パッド28a、28bを備えている。更に、第1の絶縁基板20a1は、他方の端部寄りに短手方向に沿って電子素子を搭載する一対の第2の電極パッド29a、29bを備えており、第1の主面S1とは反対側の第2の主面S2側に複数の実装端子22(22a、22b、22c、22d)を有している。
3A and 3B are views showing the configuration of the container 20B of the second embodiment. FIG. 3A is a perspective view in which the lid member 38 is omitted, and FIG. 3B is a plan view in which the lid member 38 is omitted. (C) is a cross-sectional view taken along the line Q-Q in (b), and (d) is a bottom view.
As shown in FIG. 3C, the container 20 </ b> B schematically includes a flat plate-like first insulating substrate 20 a 1, a rectangular annular second insulating substrate 20 b 1, and a flat plate-like lid member 38. The first insulating substrate 20a1 includes first electrode pads 28a and 28b on which piezoelectric vibration elements are mounted along the short side direction near one end in the longitudinal direction of the first main surface (front portion) S1. ing. Furthermore, the first insulating substrate 20a1 includes a pair of second electrode pads 29a and 29b for mounting electronic elements along the short direction near the other end, and the first main surface S1 is A plurality of mounting terminals 22 (22a, 22b, 22c, 22d) are provided on the opposite second main surface S2 side.

第2の絶縁基板20b1は、第1の絶縁基板20a1の第1の主面(表部)S1に対して底部を積層固定される環状の絶縁基板である。第2の絶縁基板20b1の環状の中空部と第1の絶縁基板20a1の第1の主面S1とで形成する凹部が、圧電振動素子及び電子素子を収容する収容部27である。第2の絶縁基板20b1の上部周縁には環状のシールリング42が焼成されている。このシールリング42に金属製の蓋部材38が溶接されて収容部27が気密封止される。
図3(c)、(d)に示すように、第1の絶縁基板20a1の肉厚内部に、第2の主面(裏面)S2に形成された実装端子22a、22bと、第1の主面(表部)S1に形成された圧電振動素子用の一対の第1の電極パッド28a、28bとを夫々導通接続するビア電極23a、23bが貫通形成されている。また、第2の主面(裏面)S2に形成された実装端子22c、22dと、第1の主面(表部)S1に形成された電子素子用の一対の第2の電極パッド29a、29bと、を夫々導通接続するビア電極24a、24bが貫通形成されている。
The second insulating substrate 20b1 is an annular insulating substrate whose bottom is stacked and fixed to the first main surface (front portion) S1 of the first insulating substrate 20a1. A recess formed by the annular hollow portion of the second insulating substrate 20b1 and the first main surface S1 of the first insulating substrate 20a1 is a housing portion 27 that houses the piezoelectric vibration element and the electronic element. An annular seal ring 42 is fired around the upper periphery of the second insulating substrate 20b1. A metal lid member 38 is welded to the seal ring 42 to hermetically seal the accommodating portion 27.
As shown in FIGS. 3C and 3D, the mounting terminals 22a and 22b formed on the second main surface (rear surface) S2 and the first main substrate are formed inside the thickness of the first insulating substrate 20a1. Via electrodes 23a and 23b are formed penetratingly connecting the pair of first electrode pads 28a and 28b for the piezoelectric vibration element formed on the surface (surface portion) S1. Also, mounting terminals 22c and 22d formed on the second main surface (back surface) S2, and a pair of second electrode pads 29a and 29b for electronic elements formed on the first main surface (front portion) S1. And via electrodes 24a and 24b are formed to pass through.

容器20Bの角隅部にはキャスタレーション電極Ce1〜Ce4が形成されている。図2にと同様に、キャスタレーション電極Ce1、Ce2は、実装端子22a、22bと夫々導通接続されていると共に、第1の主面S1に形成した配線パターン26a、26aにより、圧電振動素子搭載用の第1の電極パッド28a、28bとも夫々導通接続されている。キャスタレーション電極Ce3、Ce4は、実装端子22c、22dと夫々導通接続されていると共に、第1の主面S1に形成した第2の配線パターン26b、26bにより、電子素子搭載用の第2の電極パッド29a、29bと夫々導通接続されている。更に、第2の絶縁基板20b1の上部周縁に形成されたシールリング42と接地用の実装端子22cとは、第1の絶縁基板20a1と第2の絶縁基板20b1とを貫通するビア電極25により導通接続されている。
なお、容器20Bの第1、及び第2の絶縁基板20a1、20b1は、炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミ(AlN)等の高熱伝導率Tc(50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)])の材料を用いて構成されている。
Castoration electrodes Ce1 to Ce4 are formed at corners of the container 20B. As in FIG. 2, the castellation electrodes Ce1 and Ce2 are electrically connected to the mounting terminals 22a and 22b, respectively, and the piezoelectric vibration element mounting is provided by the wiring patterns 26a and 26a formed on the first main surface S1. The first electrode pads 28a and 28b are also conductively connected to each other. The castellation electrodes Ce3 and Ce4 are electrically connected to the mounting terminals 22c and 22d, respectively, and the second wiring patterns 26b and 26b formed on the first main surface S1 are second electrodes for mounting electronic elements. The pads 29a and 29b are electrically connected to each other. Further, the seal ring 42 formed on the upper peripheral edge of the second insulating substrate 20b1 and the grounding mounting terminal 22c are electrically connected by the via electrode 25 penetrating the first insulating substrate 20a1 and the second insulating substrate 20b1. It is connected.
The first and second insulating substrates 20a1 and 20b1 of the container 20B have high thermal conductivity Tc (50 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ such as silicon carbide (SiC) and aluminum nitride (AlN). 200 [W / (m · K)]).

図4は第3の実施形態の容器20Cの構成を示す図であり、同図(a)は蓋部材38を省略した平面図であり、同図(b)は(a)のQ−Qの断面図であり、同図(c)は底面図である。容器20Cは、図4(b)に示すように第1の絶縁基板20a2と、第2の絶縁基板20b2と、第3の絶縁基板20c2と、平板状の蓋部材38と、を概略備えている。第1の絶縁基板20a2は、第1の主面(表部)S1の長手方向の一方の端部寄りに、短手方向に沿って圧電振動素子を搭載する第1の電極パッド28a、28bを備えている。更に第1の主面S1とは反対側の第2の主面S2の中央部に電子素子を搭載する一対の第2の電極パッド29a、29bを備えている。
第2の絶縁基板20b2は、環状平板の絶縁基板であり、第1の絶縁基板20a2の第1の主面S1に対して底部を積層固定されて、圧電振動素子用の第1の収容部27aを形成する。第2の絶縁基板20b2の上部周縁には、シールリング42が形成されている。
第3の絶縁基板20c2は、環状平板の絶縁基板であり、第1の絶縁基板20a2の第2の主面S2に対して表部を積層固定されて、電子素子用の第2の収容部27bを形成する。第3の絶縁基板20c2の底部には複数の実装端子22(22a、22b、22c、22d)が形成されている。第1の収容部27aは、蓋部材38により気密封止される。
FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the container 20C of the third embodiment, in which FIG. 4 (a) is a plan view in which the lid member 38 is omitted, and FIG. 4 (b) is a diagram of QQ in FIG. It is sectional drawing and the figure (c) is a bottom view. As shown in FIG. 4B, the container 20C is roughly provided with a first insulating substrate 20a2, a second insulating substrate 20b2, a third insulating substrate 20c2, and a flat lid member 38. . The first insulating substrate 20a2 has first electrode pads 28a, 28b on which piezoelectric vibration elements are mounted along the short direction, near one end in the longitudinal direction of the first main surface (front portion) S1. I have. Furthermore, a pair of second electrode pads 29a and 29b for mounting electronic elements are provided in the center of the second main surface S2 opposite to the first main surface S1.
The second insulating substrate 20b2 is an annular flat insulating substrate, the bottom of which is laminated and fixed to the first main surface S1 of the first insulating substrate 20a2, and the first accommodating portion 27a for the piezoelectric vibration element. Form. A seal ring 42 is formed on the upper peripheral edge of the second insulating substrate 20b2.
The third insulating substrate 20c2 is an annular flat insulating substrate, and a surface portion is laminated and fixed to the second main surface S2 of the first insulating substrate 20a2, so that a second accommodating portion 27b for an electronic element is formed. Form. A plurality of mounting terminals 22 (22a, 22b, 22c, 22d) are formed on the bottom of the third insulating substrate 20c2. The first accommodating portion 27 a is hermetically sealed by the lid member 38.

図4に示すように、第1の絶縁基板20a2の肉厚内部には、第1の主面S1の第1の電極パッド28a、28bと夫々一端が導通接続するビア電極23c、23dが形成されている。更に、ビア電極23c、23dの他端と夫々導通接続する配線パターン26a、26aが形成され、第2の主面S2の第2の電極パッド29a、29bと夫々導通接続する配線パターン26b、26bが形成されている。第3の絶縁基板20c2の肉厚内部には、実装端子22a、22bと夫々一端が導通接続するビア電極23a、23bが形成されている。ビア電極23a、23bの他端は夫々配線パターン26a、26aの他端と導通接続されている。また、第3の絶縁基板20c2の肉厚内部には、実装端子22c、22dと夫々一端が導通接続するビア電極24b、24aが形成され、他端は第1の絶縁基板20a2の第2の主面S2に形成された配線パターン26b、26bの他端と夫々導通接続している。第1、第2、及び第3の絶縁基板20a2、20b2、及び20c2を貫通するビア電極25が設けられ、接地用の実装端子22cと第2の絶縁基板20b2の上部周縁に形成したシールリング42とを導通接続している。第1の絶縁基板20a2、第2の絶縁基板20b2、及び第3の絶縁基板20c2の夫々の角隅部の側壁には、キャスタレーション電極Ce1、Ce2、Ce3、Ce4が形成され、夫々と実装端子22a、22b、22c、22dとを導通接続するパターンが設けられている。なお、第1、第2、及び第3の絶縁基板20a2、202、20c2は、炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミ(AlN)等の高熱伝導率(50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)])の材料を用いて構成されている。   As shown in FIG. 4, via electrodes 23 c and 23 d that are electrically connected to one end of the first electrode pads 28 a and 28 b on the first main surface S <b> 1 are formed inside the thickness of the first insulating substrate 20 a 2. ing. Furthermore, wiring patterns 26a and 26a that are conductively connected to the other ends of the via electrodes 23c and 23d are formed, and wiring patterns 26b and 26b that are conductively connected to the second electrode pads 29a and 29b of the second main surface S2 are formed. Is formed. Via electrodes 23a and 23b that are electrically connected to one end of the mounting terminals 22a and 22b are formed inside the third insulating substrate 20c2. The other ends of the via electrodes 23a and 23b are electrically connected to the other ends of the wiring patterns 26a and 26a, respectively. In addition, via electrodes 24b and 24a whose one ends are electrically connected to the mounting terminals 22c and 22d are formed inside the thickness of the third insulating substrate 20c2, and the other ends are the second main terminals of the first insulating substrate 20a2. The other ends of the wiring patterns 26b and 26b formed on the surface S2 are electrically connected. A via electrode 25 penetrating the first, second, and third insulating substrates 20a2, 20b2, and 20c2 is provided, and a seal ring 42 formed on the upper peripheral edge of the grounding mounting terminal 22c and the second insulating substrate 20b2. Are connected to each other. Castoration electrodes Ce1, Ce2, Ce3, and Ce4 are formed on the sidewalls of the corner portions of the first insulating substrate 20a2, the second insulating substrate 20b2, and the third insulating substrate 20c2, respectively. Patterns for conductively connecting 22a, 22b, 22c, and 22d are provided. The first, second, and third insulating substrates 20a2, 202, and 20c2 have high thermal conductivity (50 [W / (m · K)] ≦ Tc such as silicon carbide (SiC) and aluminum nitride (AlN). ≦ 200 [W / (m · K)]).

図1の実施形態に示すように、容器20Aの絶縁基板20aを構成する材質が高熱伝導率(50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)])を有するため、実装端子22から伝導する熱は配線導体(ビア電極23a〜23d)を伝わると同時に、絶縁基板内を立体的に伝わり、第1、及び第2の電極パッド28a、28b、29a、29bの夫々の時間に対する温度上昇カーブは、ほぼ同様な曲線になるという効果がある。また容器の構造がシンプルであるため、コストが低減できるという利点がある。
図1に示す絶縁基板20aの第1の主面の周縁にシールリングを設け、このシールリングに溶接される蓋部材38と接地用の実装端子22cとが導通接続されるため、容器はシールド効果を有するという効果がある。
図3の実施形態に示すように、容器20Bは高熱伝導率(50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)])を有する第1、及び第2の絶縁基板20a1、20b1を積層焼成して構成されるため、実装端子22から伝導する熱は配線導体23a〜23dを伝わると同時に、第1及び第2の絶縁基板内を立体的に伝わり、第1、及び第2の電極パッド28a、28b、29a、29bの夫々の時間に対する温度上昇カーブはほぼ同様な曲線になるという効果がある。
As shown in the embodiment of FIG. 1, the material constituting the insulating substrate 20a of the container 20A has a high thermal conductivity (50 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200 [W / (m · K)]). Therefore, the heat conducted from the mounting terminal 22 is transmitted through the wiring conductor (via electrodes 23a to 23d) and at the same time three-dimensionally in the insulating substrate, and the first and second electrode pads 28a, 28b, 29a, 29b. There is an effect that the temperature rise curve with respect to each time becomes substantially the same curve. Moreover, since the structure of a container is simple, there exists an advantage that cost can be reduced.
Since the seal ring is provided on the periphery of the first main surface of the insulating substrate 20a shown in FIG. 1, and the lid member 38 welded to the seal ring and the mounting terminal 22c for grounding are electrically connected, the container has a shielding effect. There is an effect of having.
As shown in the embodiment of FIG. 3, the container 20 </ b> B has a first and second containers having high thermal conductivity (50 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200 [W / (m · K)]). Since the insulating substrates 20a1 and 20b1 are laminated and fired, the heat conducted from the mounting terminal 22 is transmitted three-dimensionally through the first and second insulating substrates at the same time as being transmitted through the wiring conductors 23a to 23d. , And the second electrode pads 28a, 28b, 29a, 29b have an effect that the temperature rise curves with respect to the respective times become substantially similar curves.

図4の実施形態に示すように、容器20Cは高熱伝導率(50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)])を有する第1、第2、及び第3の絶縁基板20a2、20b2、20c2を積層焼成して構成されるため、実装端子22から伝導する熱は配線導体23a〜23dを伝わると同時に、絶縁基板内を立体的に伝わり、第1、及び第2の電極パッド28a、28b、29a、29bの夫々の時間に対する温度上昇カーブはほぼ同様な曲線になるという効果がある。また、第1の収容部27aと第2の収容部27bとを第1の絶縁基板20a2により分離しているため、高精度、高安定度を要求する圧電デバイス等に適している。
図1〜図4において容器を構成する絶縁基板の熱伝導率Tcを望ましくは、120[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)]とすることにより、第1、及び第2の電極パッド28a、28b、29a、29b夫々の時間に対する温度上昇カーブが更に近接した曲線になるという効果がある。
また図1〜図4において容器を構成する絶縁基板の熱伝導率Tcと、配線導体の熱伝導率とを同程度にすると、第1の電極パッド28a、28bと第2の電極パッド29a、29とを夫々実装端子から等距離になるように配置することにより、配線導体の配置、長さ等に関わらず、時間に対する温度上昇カーブはほぼ同様な曲線になるという効果がある。
As shown in the embodiment of FIG. 4, the container 20C has first, second, and high thermal conductivity (50 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200 [W / (m · K)]). Since the third insulating substrates 20a2, 20b2, and 20c2 are laminated and fired, the heat conducted from the mounting terminal 22 is transmitted through the wiring conductors 23a to 23d and at the same time three-dimensionally in the insulating substrate. Also, there is an effect that the temperature rise curves with respect to the respective times of the second electrode pads 28a, 28b, 29a, 29b become substantially similar curves. Moreover, since the 1st accommodating part 27a and the 2nd accommodating part 27b are isolate | separated by the 1st insulating substrate 20a2, it is suitable for the piezoelectric device etc. which request | require high precision and high stability.
1-4, the thermal conductivity Tc of the insulating substrate constituting the container is desirably set to 120 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200 [W / (m · K)]. There is an effect that the temperature rise curves with respect to the time of the first and second electrode pads 28a, 28b, 29a, 29b become curves closer to each other.
1 to 4, if the thermal conductivity Tc of the insulating substrate constituting the container and the thermal conductivity of the wiring conductor are set to the same level, the first electrode pads 28 a and 28 b and the second electrode pads 29 a and 29 Are arranged so as to be equidistant from the mounting terminals, respectively, so that there is an effect that the temperature rise curve with respect to time becomes substantially the same regardless of the arrangement and length of the wiring conductor.

図5は、本発明に係る圧電デバイス1の実施形態の構成を示す図であり、同図(a)は蓋部材38を省略した平面図であり、同図(b)は(a)のQ−Q断面図である。圧電デバイス1は、図1に示した本発明に係る容器20Aと、圧電振動素子10と、感温素子(電子素子)30と、を備えている。絶縁基板20a1の第1の主面(表部)に設けた第2の電極パッド29a、29bにクリーム半田を塗布し、この上に感温素子30を載置し、リフロー炉を通して感温素子30を接続固定する。これを洗浄、乾燥した後、第1の主面(表部)に設けた第1の電極パッド28a、28bに導電性接着剤35を塗布し、この上に圧電振動素子10を載置し、軽く押さえた後、乾燥炉で導電性接着剤35を乾燥、硬化する。また、必要に応じて真空炉内で高温でアニールを行い、真空中又は不活性ガスの雰囲気中で第1の主面の空間部を蓋部材38で密封封止して、圧電デバイス1を完成する。クリーム半田の代わりに半田ボール、金バンプ等を用いて感温素子30を固定してもよい。
図5(b)に示した実施形態例は、絶縁基板20a1の第1の主面S1の周縁部にシールリング42を設けた容器を用いた例であり、金属製の凹部状の蓋部材38を、シールリング42に溶接すると、接地用の実装端子22cと蓋部材38とはビア電極25により導通接続され、シールド効果を持たせることができる。
なお、感温素子30の固定は脱ガスを考慮すると金属バンプを用いる方が望ましい。
図5(c)は、図5(b)に示す圧電デバイス1の逆椀状の金属製蓋部材38に代わりに、セラミック、ガラス等の材質を用いて成形した非金属製の蓋部材38を用いて構成した圧電デバイス1’の例である。蓋部材38の内側壁面は、シールド効果を考慮してメタライズ加工が施されてある。
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of an embodiment of the piezoelectric device 1 according to the present invention, in which FIG. 5 (a) is a plan view in which the lid member 38 is omitted, and FIG. 5 (b) is a diagram of Q in FIG. It is -Q sectional drawing. The piezoelectric device 1 includes the container 20 </ b> A according to the present invention illustrated in FIG. 1, a piezoelectric vibration element 10, and a temperature sensitive element (electronic element) 30. Cream solder is applied to the second electrode pads 29a and 29b provided on the first main surface (front portion) of the insulating substrate 20a1, and the temperature sensing element 30 is placed thereon, and the temperature sensing element 30 is passed through a reflow furnace. Secure the connection. After washing and drying this, the conductive adhesive 35 is applied to the first electrode pads 28a, 28b provided on the first main surface (front portion), and the piezoelectric vibration element 10 is placed thereon, After lightly pressing, the conductive adhesive 35 is dried and cured in a drying furnace. Further, annealing is performed at a high temperature in a vacuum furnace as necessary, and the space of the first main surface is hermetically sealed with a lid member 38 in a vacuum or in an inert gas atmosphere to complete the piezoelectric device 1. To do. The temperature sensitive element 30 may be fixed using solder balls, gold bumps, or the like instead of cream solder.
The embodiment shown in FIG. 5B is an example in which a container having a seal ring 42 provided on the peripheral edge of the first main surface S1 of the insulating substrate 20a1 is used, and a metallic concave lid member 38 is used. Is welded to the seal ring 42, the grounding mounting terminal 22c and the lid member 38 are conductively connected to each other by the via electrode 25, thereby providing a shielding effect.
Note that it is preferable to use metal bumps for fixing the temperature sensitive element 30 in consideration of degassing.
FIG. 5C shows a non-metallic lid member 38 formed by using a material such as ceramic or glass instead of the reverse lid-like metallic lid member 38 of the piezoelectric device 1 shown in FIG. It is an example of piezoelectric device 1 'comprised using. The inner wall surface of the lid member 38 is metallized in consideration of the shielding effect.

図6は、第2の実施形態の圧電デバイス2の構成を示す図であり、同図(a)は蓋部材38を省略した平面図であり、同図(b)は(a)のQ−Q断面図であり、同図(c)は底面図である。圧電デバイス1は、図3に示した本発明に係る容器20Bと、圧電振動素子10と、感温素子(電子素子)30と、を備えている。絶縁基板20a1の第1の主面(表部)に設けた第2の電極パッド29a、29bにクリーム半田を塗布し、この上に感温素子30を載置し、リフロー炉を通して感温素子30を接続固定する。これを洗浄、乾燥した後、第1の主面(表部)に設けた第1の電極パッド28a、28bに導電性接着剤35を塗布し、この上に圧電振動素子10を載置し、軽く押さえた後、乾燥炉で導電性接着剤35を乾燥、硬化する。第2の絶縁基板20b1の上部の周縁部に焼成したシールリング42に金属製の蓋部材38を載置し、抵抗溶接等の手段を用いて圧電振動素子10、感温素子30を収容する収容部27を気密封止して、圧電デバイス2を完成する。シールリング42と接地用の実装端子22cとは、ビア電極25により導通接続されており、金属製の蓋部材38をシールリング42に溶接することにより、圧電デバイス2にシールド効果を持たせることができる。   FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the piezoelectric device 2 according to the second embodiment. FIG. 6A is a plan view in which the lid member 38 is omitted, and FIG. It is Q sectional drawing and the figure (c) is a bottom view. The piezoelectric device 1 includes the container 20 </ b> B according to the present invention illustrated in FIG. 3, the piezoelectric vibration element 10, and a temperature sensitive element (electronic element) 30. Cream solder is applied to the second electrode pads 29a and 29b provided on the first main surface (front portion) of the insulating substrate 20a1, and the temperature sensing element 30 is placed thereon, and the temperature sensing element 30 is passed through a reflow furnace. Secure the connection. After washing and drying this, the conductive adhesive 35 is applied to the first electrode pads 28a, 28b provided on the first main surface (front portion), and the piezoelectric vibration element 10 is placed thereon, After lightly pressing, the conductive adhesive 35 is dried and cured in a drying furnace. A housing in which a metal lid member 38 is mounted on a fired seal ring 42 on the peripheral edge of the upper portion of the second insulating substrate 20b1, and the piezoelectric vibration element 10 and the temperature sensing element 30 are housed by means of resistance welding or the like. The part 27 is hermetically sealed to complete the piezoelectric device 2. The seal ring 42 and the grounding mounting terminal 22c are electrically connected by the via electrode 25, and the piezoelectric device 2 can have a shielding effect by welding the metal lid member 38 to the seal ring 42. it can.

図5、図6に示した実施形態例に用いられる圧電振動素子10には、例えばATカット水晶振動素子を用いる。水晶等の圧電材料は三方晶系に属し、図7に示すように互いに直交する結晶軸X、Y、Zを有する。X軸、Y軸、Z軸は、夫々電気軸、機械軸、光学軸と呼称される。ATカット水晶基板12は、XZ面をX軸の回りに角度θだけ回転させた平面に沿って水晶から切り出された平板である。ATカット水晶基板12の場合は、θは略35°15′である。なお、Y軸及びZ軸もX軸の周りにθ回転させて、夫々Y’軸、及びZ’軸とする。従って、ATカット水晶基板12は、直交する結晶軸X、Y’、Z’を有する。ATカット水晶基板12は、厚み方向がY’軸であって、Y’軸に直交するXZ’面(X軸及びZ’軸を含む面)が主面であり、厚みすべり振動が主振動として励振される。ATカット以外にカットアングルは異なるが、例えばBTカット等も用いることができる。
この切断角度を用いれば、客先仕様が要求する温度特性を適切に実現できるという効果がある。
As the piezoelectric vibration element 10 used in the embodiment shown in FIGS. 5 and 6, for example, an AT cut crystal vibration element is used. A piezoelectric material such as quartz belongs to the trigonal system and has crystal axes X, Y, and Z orthogonal to each other as shown in FIG. The X axis, the Y axis, and the Z axis are referred to as an electric axis, a mechanical axis, and an optical axis, respectively. The AT-cut quartz crystal substrate 12 is a flat plate cut out from the quartz crystal along a plane obtained by rotating the XZ plane around the X axis by an angle θ. In the case of the AT cut quartz substrate 12, θ is approximately 35 ° 15 ′. Note that the Y-axis and the Z-axis are also rotated by θ around the X-axis to be the Y′-axis and the Z′-axis, respectively. Accordingly, the AT-cut quartz substrate 12 has orthogonal crystal axes X, Y ′, and Z ′. The AT-cut quartz substrate 12 has a thickness direction of the Y ′ axis, and an XZ ′ plane (a plane including the X axis and the Z ′ axis) orthogonal to the Y ′ axis is a main surface, and a thickness shear vibration is a main vibration. Excited. For example, a BT cut or the like can be used although the cut angle is different from the AT cut.
If this cutting angle is used, there is an effect that the temperature characteristics required by the customer specifications can be appropriately realized.

図5、図6に示す圧電基板12の一例は、図7に示すようにX軸(電気軸)、Y軸(機械軸)、Z軸(光学軸)からなる直交座標系のX軸を中心として、Z軸をY軸の−Y方向へ傾けた軸をZ’軸とし、Y軸をZ軸の+Z方向へ傾けた軸をY’軸とし、X軸とZ’軸に平行な面で構成され、Y’軸に平行な方向を厚みとするATカット水晶基板からなる。
ATカット水晶基板の外形形状は、一般的にX軸方向を長手方向とする矩形状であり、共振周波数はY’軸方向の厚さに依存する。周波数が高く、X辺比(X/t、XはX軸方向の長さ、tは厚さ)、又はZ辺比(Z/t、ZはZ’軸方向の長さ、tは厚さ)が大きい場合には、図5、図6に示すように、平板形状の水晶基板12が用いられる。また、周波数が低く、X辺比(X/t)、又はZ辺比(Z/t)が小さい場合には、メサ型水晶基板(周辺部に比べ中央部を厚くした水晶基板)12が用いられる。図8はメサ型水晶振動素子の一例であり、同図(a)は平面図であり、同図(b)はQ−Q断面図である。
メサ型水晶基板12は、その中央に位置し主たる振動領域となる励振部13と、励振部13より薄肉で励振部13の周縁に沿って形成された従たる振動領域となる周辺部15と、を有している。つまり、振動領域は、励振部13と、周辺部15の一部に跨っている。図8に示す例では、圧電基板12の長手方向(図中横方向)には2段の段差があり、短手方向(図中縦方向)には図8(b)に示すように1段の段差が形成されたメサ型圧電基板を用いた圧電振動素子10の例である。
An example of the piezoelectric substrate 12 shown in FIGS. 5 and 6 is centered on the X axis of an orthogonal coordinate system composed of an X axis (electrical axis), a Y axis (mechanical axis), and a Z axis (optical axis) as shown in FIG. In the plane parallel to the X axis and the Z ′ axis, the axis tilted in the −Y direction of the Y axis is the Z ′ axis, the axis tilted in the + Z direction of the Z axis is the Y ′ axis. It consists of an AT-cut quartz substrate having a thickness in a direction parallel to the Y ′ axis.
The external shape of the AT-cut quartz substrate is generally a rectangular shape whose longitudinal direction is the X-axis direction, and the resonance frequency depends on the thickness in the Y′-axis direction. High frequency, X side ratio (X / t, X is length in X axis direction, t is thickness), or Z side ratio (Z / t, Z is length in Z ′ axis direction, t is thickness) ) Is large, a flat-plate crystal substrate 12 is used as shown in FIGS. Further, when the frequency is low and the X-side ratio (X / t) or the Z-side ratio (Z / t) is small, a mesa-type quartz substrate (a quartz substrate having a thicker central portion than the peripheral portion) 12 is used. It is done. FIG. 8 shows an example of a mesa-type crystal resonator element. FIG. 8A is a plan view and FIG. 8B is a QQ cross-sectional view.
The mesa-type quartz substrate 12 includes an excitation unit 13 that is located in the center and serves as a main vibration region, a peripheral portion 15 that is thinner than the excitation unit 13 and is formed along the periphery of the excitation unit 13, and a sub vibration region. have. That is, the vibration region extends over the excitation unit 13 and a part of the peripheral unit 15. In the example shown in FIG. 8, there are two steps in the longitudinal direction (lateral direction in the drawing) of the piezoelectric substrate 12, and one step in the short direction (vertical direction in the drawing) as shown in FIG. 8 (b). This is an example of the piezoelectric vibration element 10 using a mesa-type piezoelectric substrate in which a step is formed.

圧電振動素子10は、水晶基板12の励振部13の表裏に励振電極14a、14bが形成され、励振電極14a、14bの夫々から水晶基板12の端部に設けた端子電極18a、18bに向かって延びるリード電極16a、16bが形成されている。
励振電極14a、14bに交番電圧を印加すると、水晶振動素子10は固有の振動モード、例えばATカット水晶の場合は厚みすべりモードが励振される。
また、図5、図6に示す圧電デバイス1、1’に用いる感温素子30は、温度変化に応じて物理量、例えば電気抵抗が変わるサーミスタ等を用いる。サーミスタ30の電気抵抗の変化を外部回路で検出し、サーミスタ30の温度が測定される。サーミスタ30の温度を検知することにより、圧電振動素子10の温度を推定することができる。
容器20A〜20C等の実装端子22(22a、22b、22c、22d)と、ビア電極23a、23b、23c、23d、25と、第1、及び第2の配線パターン26a、26b)とに用いる金属材料としては、例えばタングステン材を例示することができる。第2の絶縁基板20b1、20b2の上部の周縁に形成されるシールリング(メタライズ部)42としてもタングステン材を用いることができる。
In the piezoelectric vibration element 10, excitation electrodes 14 a and 14 b are formed on the front and back of the excitation unit 13 of the quartz substrate 12, and toward the terminal electrodes 18 a and 18 b provided at the end of the quartz substrate 12 from the excitation electrodes 14 a and 14 b. Extending lead electrodes 16a and 16b are formed.
When an alternating voltage is applied to the excitation electrodes 14a and 14b, the crystal resonator element 10 is excited in a specific vibration mode, for example, in the case of an AT cut crystal, the thickness shear mode.
Moreover, the thermosensitive element 30 used for the piezoelectric devices 1 and 1 ′ shown in FIGS. 5 and 6 uses a thermistor whose physical quantity, for example, electric resistance changes according to temperature change. A change in the electrical resistance of the thermistor 30 is detected by an external circuit, and the temperature of the thermistor 30 is measured. By detecting the temperature of the thermistor 30, the temperature of the piezoelectric vibration element 10 can be estimated.
Metal used for mounting terminals 22 (22a, 22b, 22c, 22d) such as containers 20A to 20C, via electrodes 23a, 23b, 23c, 23d, 25, and first and second wiring patterns 26a, 26b) Examples of the material include a tungsten material. A tungsten material can also be used as the seal ring (metallized portion) 42 formed on the periphery of the upper part of the second insulating substrates 20b1 and 20b2.

本発明に係る圧電デバイスの熱の伝導を図9に示す圧電デバイス2を例にして説明する。図9(a)は、図6に示した圧電デバイス2の断面図であり、同図(b)は圧電デバイス2に用いられる各部材の熱伝導率である。一般的な容器の主構成部材はアルミナセラミックス(Al)であり、その熱伝導率Tcは17[W/(m・K)]である。本発明に係る容器の主構成部材は、炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミ(AlN、)等であり、その熱伝導率は50[W/(m・K)]〜200[W/(m・K)]と極めて高い熱伝導率を有している。マザーボードに搭載された増幅器等で発生した熱は、マザーボードの配線パターンを経由して圧電デバイス2が実装されるランドパターンより、実装端子22に伝導される。圧電振動素子10用の第1の電極パッド28a、28bに導通接続するビア電極23a、23b、感温素子30用の第2の電極パッド29a、29bに導通接続するビア電極23a、23b、接地用実装端子22cと蓋部材38とを導通接続するビア電極25が、共に融点の極めて高いタングステン(W)で形成されているとする。タングステン(W)の熱伝導率は167[W/(m・K)]であり、金属の中では銀(420)、銅(398)、金(320)、アルミニウム(236)等に次いで高い熱伝導率を有している。 The heat conduction of the piezoelectric device according to the present invention will be described with reference to the piezoelectric device 2 shown in FIG. FIG. 9A is a cross-sectional view of the piezoelectric device 2 shown in FIG. 6, and FIG. 9B shows the thermal conductivity of each member used in the piezoelectric device 2. The main constituent member of a general container is alumina ceramics (Al 2 O 3 ), and its thermal conductivity Tc is 17 [W / (m · K)]. Main constituent members of the container according to the present invention are silicon carbide (SiC), aluminum nitride (AlN,) and the like, and the thermal conductivity thereof is 50 [W / (m · K)] to 200 [W / (m ·). K)] and extremely high thermal conductivity. Heat generated by an amplifier or the like mounted on the motherboard is conducted to the mounting terminal 22 from the land pattern on which the piezoelectric device 2 is mounted via the wiring pattern of the motherboard. Via electrodes 23a, 23b electrically connected to the first electrode pads 28a, 28b for the piezoelectric vibration element 10, via electrodes 23a, 23b electrically connected to the second electrode pads 29a, 29b for the temperature sensitive element 30, and grounding It is assumed that the via electrode 25 that electrically connects the mounting terminal 22c and the lid member 38 is formed of tungsten (W) having an extremely high melting point. Tungsten (W) has a thermal conductivity of 167 [W / (m · K)]. Among metals, it has the second highest heat after silver (420), copper (398), gold (320), aluminum (236), etc. It has conductivity.

本発明の容器の主構成材料は、炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミ(AlN、)等であり、その熱伝導率Tcはタングステン(W)と同等又はそれ以上の熱伝導率を有している。従って、従来の容器のように、主として実装端子22とビア電極、キャスタレーション電極を経由して熱が伝導するのではなく、実装端子22から炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミ(AlN、)等からなる第1、及び第2の絶縁基板20a1、20b1の内部を立体的に経由して、第1、及び第2の電極パッド28a、28b、29a、29bに伝導し、圧電振動素子10、感温素子30の温度を上昇させる。また第2の絶縁基板20b1に伝導した熱は蓋部材38に伝わり、蓋部材38と第1の絶縁基板20a1の第1の主面(表部)とからの輻射熱で圧電振動素子10、感温素子30の温度を上昇させる。
第1の電極パッド28a、28bと第2の電極パッド29a、29bとは、実装端子22に対してほぼ対称な位置に配置されているため、実装端子22からの熱により、圧電振動素子10の温度上昇カーブと感温素子30の温度上昇カーブとはほぼ同様な曲線となる。つまり、外部の発振回路、補償回路を併用して温度補償型発振器を構成する場合、感温素子30は、圧電振動子10の温度を正確に検知することが可能になり、周波数ドリフト特性と周波数温度特性に優れた発振器を構成することが可能となる。
The main constituent material of the container of the present invention is silicon carbide (SiC), aluminum nitride (AlN, etc.), and the thermal conductivity Tc thereof is equal to or higher than that of tungsten (W). . Therefore, unlike the conventional container, heat is not conducted mainly via the mounting terminal 22 and the via electrode and the castellation electrode, but from the mounting terminal 22 from silicon carbide (SiC), aluminum nitride (AlN), or the like. Conducting to the first and second electrode pads 28a, 28b, 29a, 29b through the inside of the first and second insulating substrates 20a1, 20b1 in three dimensions, the piezoelectric vibrating element 10, the temperature sensitive The temperature of the element 30 is raised. Further, the heat conducted to the second insulating substrate 20b1 is transmitted to the lid member 38, and the piezoelectric vibration element 10 and the temperature sensitive are radiated from the lid member 38 and the first main surface (front portion) of the first insulating substrate 20a1. The temperature of the element 30 is raised.
Since the first electrode pads 28a and 28b and the second electrode pads 29a and 29b are disposed at substantially symmetrical positions with respect to the mounting terminal 22, the heat from the mounting terminal 22 causes the piezoelectric vibration element 10 to The temperature rise curve and the temperature rise curve of the temperature sensing element 30 are substantially similar curves. That is, when a temperature compensated oscillator is configured by using an external oscillation circuit and a compensation circuit together, the temperature sensing element 30 can accurately detect the temperature of the piezoelectric vibrator 10, and frequency drift characteristics and frequency An oscillator having excellent temperature characteristics can be configured.

図10(a)は本発明に係る容器20Bに圧電振動素子10と感温素子30とを搭載して構成した圧電デバイス2の電源投入後の圧電振動素子10(破線)と感温素子30(実線)と温度変化を示した曲線である。熱の伝導経路が立体的であるため、圧電振動素子10と感温素子30との温度上昇は、図10(a)に示すように共にほぼ同じ温度を保ちながら温度平衡点(時間が十分に経過した後に達する温度)に達する。
一方、図10(b)は、アルミナセラミックス(Al)を主構成部材とした従来の容器を用いて構成した圧電デバイスにおける圧電振動素子10と、感温素子30との電源投入後の温度変化を示した曲線の一例である。圧電振動素子10の温度と、感温素子30との温度とには温度差があり、時間が経過しないと温度差は縮小しない。
図10(c)は、電源投入後の所定の時間で測定した時の、容器20を構成する材質の熱伝導率Tcと、圧電振動素子10の温度と感温素子30の温度との温度差ΔTと、の関係を示す曲線である。材質の熱伝導率が高くなるに応じて、所定の時間での温度差ΔTは小さくなる。
以上のように本発明の圧電デバイスをマザーボードに搭載し、発振回路と温度補償回路とを用いて基準発振器を構成すると周波数ドリフト特性の優れた発振器を構成できる。
FIG. 10A shows the piezoelectric vibration element 10 (broken line) and the temperature sensitive element 30 (after power-on of the piezoelectric device 2 configured by mounting the piezoelectric vibration element 10 and the temperature sensitive element 30 on the container 20B according to the present invention. A solid line) and a curve showing a temperature change. Since the heat conduction path is three-dimensional, the temperature rises of the piezoelectric vibration element 10 and the temperature sensitive element 30 are maintained at substantially the same temperature as shown in FIG. The temperature reached after elapses).
On the other hand, FIG. 10B shows the piezoelectric vibration element 10 in the piezoelectric device configured using a conventional container mainly composed of alumina ceramics (Al 2 O 3 ) and the temperature-sensitive element 30 after the power is turned on. It is an example of the curve which showed the temperature change. There is a temperature difference between the temperature of the piezoelectric vibration element 10 and the temperature of the temperature-sensitive element 30, and the temperature difference is not reduced unless time elapses.
FIG. 10C shows the temperature difference between the thermal conductivity Tc of the material constituting the container 20 and the temperature of the piezoelectric vibration element 10 and the temperature of the thermosensitive element 30 when measured at a predetermined time after the power is turned on. It is a curve which shows the relationship with (DELTA) T. As the thermal conductivity of the material increases, the temperature difference ΔT at a predetermined time decreases.
As described above, when the piezoelectric device of the present invention is mounted on a mother board and a reference oscillator is configured using an oscillation circuit and a temperature compensation circuit, an oscillator having excellent frequency drift characteristics can be configured.

図11は、第3の実施形態例の圧電デバイス3の構成を示す図であり、同図(a)は、蓋部材38を省略した平面図であり、同図(b)は(a)のQ−Q断面図であり、同図(c)は底面図である。圧電デバイス3が図6に示す圧電デバイス2と異なる点は、圧電デバイス3を構成する容器20Dの構成と、圧電振動素子10と感温素子30との位置関係にある。つまり、本実施形態では圧電振動素子10用の一対の第1の電極パッド28a、28bと、感温部品30用の一対の第2の電極パッド29a、29bとが近接配置されている点が特徴的である。圧電デバイス3の場合も圧電デバイス2と同様に、圧電振動素子10の温度と感温素子30の温度との温度差は、電源投入後共にほぼ同じ温度を保ちながら温度平衡点(時間が十分に経過した後に達する温度)に達する。
なお、図6に示す圧電デバイス2と同様に、接地用の実装端子22cと蓋部材とをビア電極25に導通接続することによりシールド効果を持たせることができる。なお、第1、及び第2の絶縁基板20a2、20b2は、炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミ(AlN)等の高熱伝導率の材料を用いて構成されている。
FIG. 11 is a diagram illustrating the configuration of the piezoelectric device 3 according to the third embodiment. FIG. 11A is a plan view in which the lid member 38 is omitted, and FIG. 11B is a diagram of FIG. It is QQ sectional drawing and the figure (c) is a bottom view. The piezoelectric device 3 is different from the piezoelectric device 2 shown in FIG. 6 in the configuration of the container 20 </ b> D constituting the piezoelectric device 3 and the positional relationship between the piezoelectric vibration element 10 and the temperature sensitive element 30. In other words, the present embodiment is characterized in that the pair of first electrode pads 28a, 28b for the piezoelectric vibration element 10 and the pair of second electrode pads 29a, 29b for the temperature sensitive component 30 are arranged close to each other. Is. In the case of the piezoelectric device 3, as in the piezoelectric device 2, the temperature difference between the temperature of the piezoelectric vibration element 10 and the temperature of the thermosensitive element 30 is the temperature equilibrium point (time sufficiently The temperature reached after elapses).
Similar to the piezoelectric device 2 shown in FIG. 6, a shielding effect can be provided by electrically connecting the mounting terminal 22 c for grounding and the lid member to the via electrode 25. Note that the first and second insulating substrates 20a2 and 20b2 are made of a material having high thermal conductivity such as silicon carbide (SiC) or aluminum nitride (AlN).

図12は、第4の実施形態の圧電デバイス4の構成を示す図であり、同図(a)は蓋部材を省略した平面図であり、同図(b)は(a)のQ−Q断面図であり、同図(c)は底面図である。図6に示す圧電デバイス2と異なる点は、圧電デバイス4の容器20Eの構造である。圧電デバイス4の容器20Eは、第1の絶縁基板20a3と、第2の絶縁基板20b3と、第3の絶縁基板20c3と、を積層焼成した容器である。第1の絶縁基板20a3の第1の主面(表面)には、感温素子30搭載用の一対の第2の電極パッド29a、29bと、第2の配線パターン26bとが形成され、第2の主面(裏面)の角隅部には実装端子22(22a〜22d)が形成されている。更に、第1の絶縁基板20a3の肉厚内部にはビア電極23a、23bと、ビア電極24a、24b形成されている。実装端子22c、22dはビア電極24a、24bと、第2の配線パターン26b、26bと、を経由して、感温素子30搭載用の第2の電極パッド29a、29bに導通接続している。   FIG. 12 is a diagram illustrating the configuration of the piezoelectric device 4 according to the fourth embodiment. FIG. 12A is a plan view in which the lid member is omitted, and FIG. It is sectional drawing and the figure (c) is a bottom view. The difference from the piezoelectric device 2 shown in FIG. 6 is the structure of the container 20E of the piezoelectric device 4. A container 20E of the piezoelectric device 4 is a container obtained by laminating and firing a first insulating substrate 20a3, a second insulating substrate 20b3, and a third insulating substrate 20c3. On the first main surface (front surface) of the first insulating substrate 20a3, a pair of second electrode pads 29a and 29b for mounting the temperature sensing element 30 and a second wiring pattern 26b are formed, and the second Mounting terminals 22 (22a to 22d) are formed at corners of the main surface (back surface). Further, via electrodes 23a and 23b and via electrodes 24a and 24b are formed inside the thickness of the first insulating substrate 20a3. The mounting terminals 22c and 22d are electrically connected to the second electrode pads 29a and 29b for mounting the temperature sensing element 30 via the via electrodes 24a and 24b and the second wiring patterns 26b and 26b.

更に、圧電デバイス4の容器20Eの第2の絶縁基板20b3は、中央に空間部を有する環状体の平板であり、第1の絶縁基板20a3の第1の主面(表部)に対して底部を積層固定されている。第2の絶縁基板20b3の表部の端部寄りには圧電振動素子10搭載用の一対の第1の電極パッド28a、28bが短辺方向に沿って併置されている。第2の絶縁基板20b3の肉厚内部には一対の第1の電極パッド28a、28bと一端が夫々導通接続するビア電極23c、23dが形成され、他端は夫々第1の絶縁基板20a3内部のビア電極23a、23bと導通接続している。第1の絶縁基板20a3の第1の主面(表部)と、環状の第2の絶縁基板20b3の空間部で形成する第2の収容部27bに感温素子30が収容される。第3の絶縁基板20c3は環状体であり、第2の絶縁基板20b3の表部に対して底部を積層固定されている。第2の絶縁基板20b3の表部と、第3の絶縁基板20cの中空部とで構成する第1の収容部27aに圧電振動素子10を収容する。第3の絶縁基板20c3の上部周縁にはタングステン(W)等からなるシームリング42が焼成されており、蓋部材38が抵抗溶接されて、第1の収容部27aは気密封止される。また、実装端子22cとシームリング42とを導通接続するビア電極25が、第1、第2、及び第3の絶縁基板20a3、20b3、20c3を貫通して形成されている。なお、第1、第2、及び第3の絶縁基板20a3、20b3、20c3は、炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミ(AlN)等の高熱伝導率の材料を用いて構成されている。   Further, the second insulating substrate 20b3 of the container 20E of the piezoelectric device 4 is an annular flat plate having a space portion at the center, and is a bottom portion with respect to the first main surface (front portion) of the first insulating substrate 20a3. The stack is fixed. A pair of first electrode pads 28a, 28b for mounting the piezoelectric vibration element 10 are juxtaposed along the short side direction near the end of the front portion of the second insulating substrate 20b3. A pair of first electrode pads 28a, 28b and via electrodes 23c, 23d, one end of which is electrically connected to each other, are formed in the thickness of the second insulating substrate 20b3, and the other ends are respectively formed in the first insulating substrate 20a3. The via electrodes 23a and 23b are electrically connected. The temperature sensitive element 30 is accommodated in the second accommodating portion 27b formed by the first main surface (front portion) of the first insulating substrate 20a3 and the space portion of the annular second insulating substrate 20b3. The third insulating substrate 20c3 is an annular body, and the bottom portion is laminated and fixed to the front portion of the second insulating substrate 20b3. The piezoelectric vibration element 10 is accommodated in the first accommodating portion 27a configured by the front portion of the second insulating substrate 20b3 and the hollow portion of the third insulating substrate 20c. A seam ring 42 made of tungsten (W) or the like is fired around the upper peripheral edge of the third insulating substrate 20c3, the lid member 38 is resistance-welded, and the first accommodating portion 27a is hermetically sealed. A via electrode 25 that electrically connects the mounting terminal 22c and the seam ring 42 is formed through the first, second, and third insulating substrates 20a3, 20b3, and 20c3. The first, second, and third insulating substrates 20a3, 20b3, and 20c3 are configured using a material having high thermal conductivity such as silicon carbide (SiC) and aluminum nitride (AlN).

圧電デバイス4の製造に際しては、上述した容器20Eの第2の収容部第27の第2にある電極パッド29a、29bにクリーム半田等を塗布し、その上に感温素子30を載置し、加熱して感温素子30を固着させる。続いて第1、及び第2の収容部27a、27bを洗浄、乾燥した後、第1の収容部27aの第1の電極パッド28a、28bに導電性接着剤35を塗布し、その上に圧電振動素子10を載置して軽く押さえ、所定の温度の乾燥炉中で所定の時間保持し、導電性接着剤35の乾燥、硬化させる。また、必要に応じて真空炉の中で圧電振動素子10のアニールを行う。その後、真空中又は不活性ガスの雰囲気中で第1の収容部27aを蓋部材38で密封封止して、圧電デバイス4を完成する。クリーム半田の代わりに半田ボール、金バンプ等を用いて感温素子30を固定してもよい。   When manufacturing the piezoelectric device 4, cream solder or the like is applied to the electrode pads 29a and 29b in the second accommodation portion 27th second of the container 20E described above, and the temperature sensitive element 30 is placed thereon, The temperature sensitive element 30 is fixed by heating. Subsequently, after the first and second accommodating portions 27a and 27b are cleaned and dried, the conductive adhesive 35 is applied to the first electrode pads 28a and 28b of the first accommodating portion 27a, and the piezoelectric material is applied thereon. The vibrating element 10 is placed and pressed lightly, and held in a drying furnace at a predetermined temperature for a predetermined time, and the conductive adhesive 35 is dried and cured. Further, the piezoelectric vibration element 10 is annealed in a vacuum furnace as necessary. Thereafter, the first housing portion 27a is hermetically sealed with the lid member 38 in a vacuum or in an inert gas atmosphere to complete the piezoelectric device 4. The temperature sensitive element 30 may be fixed using solder balls, gold bumps, or the like instead of cream solder.

図13は、第5の実施形態の圧電デバイス5の構成を示す図であり、同図(a)は蓋部材を省略した平面図であり、同図(b)は(a)のQ−Q断面図であり、同図(c)は底面図である。圧電デバイス5は、図4に示した本発明に係る容器20Cを用いて構成した圧電デバイスである。図13(b)に示すように、圧電デバイス5は、主回路基板上に搭載された発振回路部品及び補償回路部品と接続されて所望の周波数を出力する圧電振動素子10と、圧電振動素子10の温度を検出する感温素子30と、圧電振動素子10を収容する第1の収容部27aを第1の絶縁基板20a2の第1の主面S1側に有すると共に、感温素子30を収容する第2の収容部27bを第2の主面S2側に有した容器20Cと、第1の収容部27aを封止する蓋部材38と、を備えている。   FIG. 13 is a diagram illustrating the configuration of the piezoelectric device 5 according to the fifth embodiment. FIG. 13A is a plan view in which the lid member is omitted, and FIG. It is sectional drawing and the figure (c) is a bottom view. The piezoelectric device 5 is a piezoelectric device configured using the container 20C according to the present invention shown in FIG. As shown in FIG. 13B, the piezoelectric device 5 is connected to an oscillation circuit component and a compensation circuit component mounted on the main circuit board and outputs a desired frequency, and the piezoelectric vibration element 10. The temperature sensing element 30 for detecting the temperature of the first and the first accommodation portion 27a for accommodating the piezoelectric vibration element 10 are provided on the first main surface S1 side of the first insulating substrate 20a2, and the temperature sensing element 30 is accommodated. A container 20C having the second storage portion 27b on the second main surface S2 side and a lid member 38 for sealing the first storage portion 27a are provided.

圧電デバイス5の製造に際しては、図4に示した容器20Cの第1の電極パッド28a、28bに導電性接着剤35を塗布し、その上に圧電振動素子10を載置して軽く押さえ、所定の温度の乾燥炉中で所定の時間保持し、導電性接着剤35の乾燥、硬化させる。必要に応じて真空炉の中で、高温で所定の時間保持し、圧電振動素子10のアニールを行う。その後、真空中又は不活性ガスの雰囲気中で第1の収容部27aを蓋部材38で密封封止する。続いて容器20Cを反転し、第2の電極パッド29a、29bにクリーム半田等を塗布し、その上に感温素子30を載置し、加熱して感温素子30を固着させて、圧電デバイス5を完成する。クリーム半田の代わりに半田ボール、金バンプ等を用いて感温素子30を固定してもよい。   When the piezoelectric device 5 is manufactured, the conductive adhesive 35 is applied to the first electrode pads 28a and 28b of the container 20C shown in FIG. 4, and the piezoelectric vibration element 10 is placed on the first electrode pad 28a and 28b. The conductive adhesive 35 is dried and cured by holding for a predetermined time in a drying furnace at a temperature of 5 mm. If necessary, the piezoelectric vibrating element 10 is annealed in a vacuum furnace at a high temperature for a predetermined time. Thereafter, the first accommodating portion 27a is hermetically sealed with the lid member 38 in a vacuum or in an inert gas atmosphere. Subsequently, the container 20C is inverted, cream solder or the like is applied to the second electrode pads 29a and 29b, the temperature sensitive element 30 is placed thereon, and the temperature sensitive element 30 is fixed by heating, thereby the piezoelectric device. Complete 5. The temperature sensitive element 30 may be fixed using solder balls, gold bumps, or the like instead of cream solder.

図14(a)は、第6の実施形態例の圧電デバイス6の構成を示す断面図であり、同図(b)は、容器20Fの平面図であり、同図(c)は、(b)のQ−Q断面図である。圧電デバイス4の構成が図6示す圧電デバイス2の構成と異なる点は、図14に示すように、第1の絶縁基板20a4の第1の主面(表面)の周縁部に厚肉環状のシールリング42を焼成した点である。第1の絶縁基板20a4の第1の主面(表面)と、厚肉環状のシールリング42とで収容部27を構成している。シールリング42の上部にコバール等の蓋部材38をシーム溶接することにより、収容部27を気密封止することができる。圧電デバイス6の場合は蓋部材38として平板状の金属板を用いることができる。なお、絶縁基板20a4は、炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミ(AlN)等の高熱伝導率の材料を用いて構成されている。   FIG. 14A is a cross-sectional view showing the configuration of the piezoelectric device 6 according to the sixth embodiment, FIG. 14B is a plan view of the container 20F, and FIG. It is QQ sectional drawing of). The configuration of the piezoelectric device 4 is different from the configuration of the piezoelectric device 2 shown in FIG. 6 in that, as shown in FIG. 14, a thick annular seal is formed on the peripheral portion of the first main surface (front surface) of the first insulating substrate 20a4. This is the point where the ring 42 is fired. The first main surface (front surface) of the first insulating substrate 20a4 and the thick annular seal ring 42 constitute the accommodating portion 27. The cover 27 can be hermetically sealed by seam welding a cover member 38 such as Kovar to the top of the seal ring 42. In the case of the piezoelectric device 6, a flat metal plate can be used as the lid member 38. The insulating substrate 20a4 is configured using a material having high thermal conductivity such as silicon carbide (SiC) or aluminum nitride (AlN).

本発明に係る図1〜図4に示した容器等を用いて圧電デバイス1〜6を構成しているため、電源投入後の圧電振動素子10と温度を検出する電子素子30との、経過時間に対する温度上昇カーブがほぼ同様になるので、外部の発振回路部品と補償回路部品とを併用して、周波数ドリフト特性の少ない、温度補償された基準発振器が構成できるという効果がある。   Since the piezoelectric devices 1 to 6 are configured using the container or the like shown in FIGS. 1 to 4 according to the present invention, the elapsed time between the piezoelectric vibration element 10 after power-on and the electronic element 30 for detecting temperature. As a result, the temperature oscillation curve with respect to the above can be made substantially the same, so that an external oscillation circuit component and a compensation circuit component can be used together to form a temperature compensated reference oscillator having a small frequency drift characteristic.

図15は、第7の実施形態の圧電デバイス7を用いるデジタル携帯電話100の構成を示す概略ブロック図である。圧電デバイス7は、図3で説明した容器20Bを用い、収容部27に音叉型水晶振動素子10bを収容し、蓋部材38で収容部27を真空・密封した後、感温部品30を容器の側面に接着剤で固着して圧電デバイス7を構成する。
図15に示すデジタル携帯電話100で音声を送信する場合、使用者が自分の音声をマイクロフォンに入力すると、信号はパルス幅変調・符号化の回路と変調器/復調器の回路を経てトランスミッター、アンテナスイッチを介しアンテナから送信される。一方、他者から送信された信号は、アンテナで受信され、アンテナスイッチ、受信フィルター+アンプ回路等を経て、レシーバー回路に入り、このレシーバー回路から変調器/復調器回路に入力される。そして、復調器回路で復調された信号がパルス幅変調・符号化回路を経てスピーカーから音声として出力されるように構成されている。アンテナスイッチや変調器/復調器ブ回路等を制御するためにコントローラーが設けられている。
FIG. 15 is a schematic block diagram showing a configuration of a digital mobile phone 100 using the piezoelectric device 7 of the seventh embodiment. The piezoelectric device 7 uses the container 20B described with reference to FIG. 3. The tuning fork type crystal resonator element 10b is accommodated in the accommodating portion 27, and the accommodating portion 27 is vacuumed and sealed with the lid member 38. The piezoelectric device 7 is configured by being fixed to the side surface with an adhesive.
In the case of transmitting sound with the digital cellular phone 100 shown in FIG. 15, when the user inputs his / her own sound into the microphone, the signal passes through the pulse width modulation / coding circuit and the modulator / demodulator circuit to the transmitter and antenna. It is transmitted from the antenna through the switch. On the other hand, a signal transmitted from another person is received by an antenna, passes through an antenna switch, a reception filter + amplifier circuit, etc., enters a receiver circuit, and is input from this receiver circuit to a modulator / demodulator circuit. The signal demodulated by the demodulator circuit is output as a sound from a speaker via a pulse width modulation / coding circuit. A controller is provided to control the antenna switch, the modulator / demodulator circuit, and the like.

このコントローラーは、上述の機能の他に表示部であるLCDや、数字等の入力部であるキー、さらにRAMやROM等も制御するため、用いられる音叉型水晶振動子の周波数は、高精度、高安定度であることが求められる。この要求に応えるべく、音叉型水晶振動素子10bと、感温素子30と、を容器20Bの収容部27に収容して構成した圧電デバイスが、図16示す圧電デバイス7である。
つまり、第7の実施形態例の圧電デバイス7と、図6に示す圧電デバイス2との異なる点は、圧電デバイス2では、圧電振動素子10は厚みすべり振動素子を用いているが、圧電デバイス7では屈曲振動をする音叉型水晶振動素子10bを用いている点が異なる。高周波の基準周波数が必要とされる場合は、圧電デバイス2が適し、低周波の基準周波数が要求される場合は圧電デバイス7が適している。
圧電振動素子10に音叉型水晶振動素子10bを用いているため、高周波を分周する回路を必要とせず、所望の低周波の基準発振器が得られるという利点がある。また、上記の圧電デバイスを用いて電子機器を製作すると、高安定で周波数ドリフト特性の優れた基準周波数源が容易に構成できるという効果がある。
In addition to the functions described above, this controller controls the LCD, which is the display unit, the keys, which are input units for numbers, etc., and the RAM, ROM, etc. High stability is required. In order to meet this demand, the piezoelectric device 7 shown in FIG. 16 is a piezoelectric device configured by accommodating the tuning-fork type crystal vibrating element 10b and the temperature sensitive element 30 in the accommodating portion 27 of the container 20B.
That is, the difference between the piezoelectric device 7 of the seventh embodiment and the piezoelectric device 2 shown in FIG. 6 is that, in the piezoelectric device 2, the piezoelectric vibration element 10 uses a thickness shear vibration element, but the piezoelectric device 7. However, the difference is that a tuning fork type crystal vibrating element 10b that performs bending vibration is used. The piezoelectric device 2 is suitable when a high frequency reference frequency is required, and the piezoelectric device 7 is suitable when a low frequency reference frequency is required.
Since the tuning-fork type crystal resonator element 10b is used for the piezoelectric resonator element 10, there is an advantage that a desired low-frequency reference oscillator can be obtained without requiring a circuit for dividing a high frequency. In addition, when an electronic apparatus is manufactured using the above-described piezoelectric device, a reference frequency source having high stability and excellent frequency drift characteristics can be easily configured.

音叉型圧電振動素子について簡単に説明する。図17(a)は、音叉型圧電振動素子10bの平面図であり、同図(b)は(a)のP−P断面図である。圧電基板52は、フォトリソグラフィ技術とエッチング手法を用いて形成される。図17(a)に示すように、音叉型圧電振動素子10bは、互いに並行(平行)して直線状に延びる細幅帯状の複数の振動腕55a、55bと、各振動腕55a、55bの一方の端部(基端部)間を連接する基部54と、各振動腕55a、55bの振動中心線に沿った表面及び裏面に夫々形成された溝部57a、57b、58a、58bと、を備えている。   A tuning fork type piezoelectric vibration element will be briefly described. FIG. 17A is a plan view of the tuning fork type piezoelectric vibration element 10b, and FIG. 17B is a cross-sectional view taken along the line P-P in FIG. The piezoelectric substrate 52 is formed using a photolithography technique and an etching technique. As shown in FIG. 17A, the tuning fork type piezoelectric vibration element 10b includes a plurality of narrow belt-shaped vibrating arms 55a and 55b that are parallel (parallel) to each other and extend linearly, and one of the vibrating arms 55a and 55b. A base portion 54 that connects the end portions (base end portions), and groove portions 57a, 57b, 58a, and 58b formed on the front and back surfaces of the vibrating arms 55a and 55b, respectively, along the vibration center line. Yes.

図17(b)は、同図(a)のP−P断面図であり、各振動腕55a、55bに夫々形成された励振電極60、62、64、66の配置を示す断面図である。励振電極60、64は、各溝部57a(57b)、58a(8b)の表面、及び側面に形成され、励振電極62、66は各振動腕55a、55bの夫々両側面に形成されている。励振電極60、66と、励振電極62、64とは、互いに異符号の電圧が基部54の電極パッド(図示せず)を介して印加されるように構成されている。つまり、励振電極60、66に+電圧が印加されるとき、励振電極62、64には−電圧が印加され、図17(b)の矢印で示すような電界が生じ、圧電振動素子50の重心を通る中心線に対し対称な音叉振動(屈曲振動)が励振される。
なお、溝部57a(57b)、58a(58b)を形成することにより、電界強度が強まり、音叉振動をより効率的に励振することができる。即ち、圧電振動素子のCI(クリスタルインピーダンス)を小さくすることができる。
FIG. 17B is a cross-sectional view taken along the line P-P in FIG. 17A, and is a cross-sectional view showing the arrangement of the excitation electrodes 60, 62, 64, 66 formed on the respective vibrating arms 55 a, 55 b. Excitation electrodes 60 and 64 are formed on the surfaces and side surfaces of the respective groove portions 57a (57b) and 58a (8b), and excitation electrodes 62 and 66 are formed on both side surfaces of the respective vibrating arms 55a and 55b. The excitation electrodes 60 and 66 and the excitation electrodes 62 and 64 are configured such that voltages having different signs are applied to each other via an electrode pad (not shown) of the base 54. That is, when a positive voltage is applied to the excitation electrodes 60 and 66, a negative voltage is applied to the excitation electrodes 62 and 64, and an electric field as indicated by an arrow in FIG. A tuning fork vibration (bending vibration) that is symmetrical with respect to the center line passing through is excited.
In addition, by forming the grooves 57a (57b) and 58a (58b), the electric field strength is increased, and tuning fork vibration can be excited more efficiently. That is, the CI (crystal impedance) of the piezoelectric vibration element can be reduced.

図18は、第8の実施形態例の圧電デバイス8の構成を示す図である。図18(a)は平面図であり、同図(b)は(a)のQ−Q断面図である。圧電デバイス8が、図6に示す圧電デバイス2と異なる点は、第1の絶縁基板20a5の第1の主面(表面)と、環状平板の第2の絶縁基板20b5の空間部とで形成される収容部27に、厚みすべり振動モードの圧電振動素子10aと、屈曲振動モードの音叉型圧電振動素子10bと、を併置して収容した点である。2つの圧電振動素子10a、10bを併置したので、第1の電極パッド28a〜28dは4個必要となり、これに対応するビア電極も4つ必要となる。また、ビア電極の個数が増えるのに応じ、実装端子の数も多くなる。
圧電デバイス8は、低周波と高周波の2つの基準周波数を必要とする電子機器には有用であり、1つの感温部品30で2つの高精度の周波数を得ることができる。
圧電デバイス8と、発振回路部品、及び補償回路部品を有する外部回路と併用することにより、高周波と低周波の2つの圧電発振器が構成され、温度補償された、高安定、且つ周波数ドリフト特性の優れた2つの基準周波数が得られるという効果がある。
FIG. 18 is a diagram illustrating a configuration of the piezoelectric device 8 according to the eighth embodiment. FIG. 18A is a plan view, and FIG. 18B is a QQ cross-sectional view of FIG. The piezoelectric device 8 is different from the piezoelectric device 2 shown in FIG. 6 in that it is formed by the first main surface (front surface) of the first insulating substrate 20a5 and the space portion of the second insulating substrate 20b5 which is an annular flat plate. This is because the piezoelectric vibration element 10a in the thickness-shear vibration mode and the tuning-fork type piezoelectric vibration element 10b in the bending vibration mode are accommodated in the accommodating portion 27. Since the two piezoelectric vibration elements 10a and 10b are juxtaposed, four first electrode pads 28a to 28d are required, and four corresponding via electrodes are also required. As the number of via electrodes increases, the number of mounting terminals also increases.
The piezoelectric device 8 is useful for an electronic apparatus that requires two reference frequencies, a low frequency and a high frequency, and two high-accuracy frequencies can be obtained with one temperature-sensitive component 30.
By using the piezoelectric device 8 in combination with an external circuit having an oscillation circuit component and a compensation circuit component, two high-frequency and low-frequency piezoelectric oscillators are configured, temperature compensated, highly stable, and excellent in frequency drift characteristics. There is an effect that two reference frequencies can be obtained.

1、1’2、3、4、5、6、7、8…圧電デバイス、10、10a、10b…圧電振動素子、12…圧電基板、13…励振部、14a、14b…励振電極、15…周辺部、16a、16b…リード電極、18a、18b…端子電極、20、20A、20B、20C、20D、20E、20F、20G…容器、20a、20a1、20a2、20a3、20a4、20a5…第1の絶縁基板、20b、20b1、20b2、20b3、20b5…第2の絶縁基板、20c2、20c3…第3の絶縁基板、22、22a、22b、22c、22d…実装端子、23a、23b、23c、23d、25…ビア電極、26a…第1の配線パターン、26b…第2の配線パターン、27…収容部、27a…第1の収容部、27b…第2の収容部、28a、28b…第1の電極パッド、29a、29b…第2の電極パッド、30…感温素子、35…導電性接着剤、38…蓋部材、42…シールリング、C1、C2、C3、C4…キャスタレーション、Ce1、Ce2、Ce3、Ce4…キャスタレーション電極、S1…第1の主面、S2…第2の主面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1'2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 ... Piezoelectric device 10, 10a, 10b ... Piezoelectric vibration element, 12 ... Piezoelectric substrate, 13 ... Excitation part, 14a, 14b ... Excitation electrode, 15 ... Peripheral part, 16a, 16b ... lead electrode, 18a, 18b ... terminal electrode, 20, 20A, 20B, 20C, 20D, 20E, 20F, 20G ... container, 20a, 20a1, 20a2, 20a3, 20a4, 20a5 ... first Insulating substrate, 20b, 20b1, 20b2, 20b3, 20b5 ... Second insulating substrate, 20c2, 20c3 ... Third insulating substrate, 22, 22a, 22b, 22c, 22d ... Mounting terminals, 23a, 23b, 23c, 23d, 25 ... via electrode, 26a ... first wiring pattern, 26b ... second wiring pattern, 27 ... accommodating portion, 27a ... first accommodating portion, 27b ... second accommodating portion, 28 28b ... first electrode pad, 29a, 29b ... second electrode pad, 30 ... temperature sensitive element, 35 ... conductive adhesive, 38 ... lid member, 42 ... sealing ring, C1, C2, C3, C4 ... Castellation, Ce1, Ce2, Ce3, Ce4 ... castellation electrode, S1 ... first main surface, S2 ... second main surface

Claims (12)

第1の主面側に振動素子を搭載する第1の電極パッドと、
電子素子を搭載する第2の電極パッドと、
を有し、
前記第1の主面とは反対側の第2の主面側に複数の実装端子を有した絶縁基板と、
前記振動素子、及び前記電子素子を含む前記第1の主面側の空間を気密封止する蓋部材と、
を備えた容器であって、
前記実装端子と前記第1、及び第2の電極パッドとは、
夫々配線導体により電気的に接続され、
前記絶縁基板を主として構成する材質の熱伝導率Tcが、
50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)]
を満足することを特徴とする容器。
A first electrode pad on which a vibration element is mounted on the first main surface side;
A second electrode pad on which the electronic element is mounted;
Have
An insulating substrate having a plurality of mounting terminals on the second main surface side opposite to the first main surface;
A lid member that hermetically seals the space on the first main surface side including the vibration element and the electronic element;
A container comprising
The mounting terminal and the first and second electrode pads are:
Each is electrically connected by a wiring conductor,
The thermal conductivity Tc of the material mainly constituting the insulating substrate is
50 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200 [W / (m · K)]
A container characterized by satisfying
前記絶縁基板の第1の主面の周縁にシールリングを設けたことを特徴とする請求項1に記載の容器。   The container according to claim 1, wherein a seal ring is provided on a peripheral edge of the first main surface of the insulating substrate. 第1の主面側に振動素子を搭載する第1の電極パッドと、
電子素子を搭載する第2の電極パッドと、
を有し、
前記第1の主面とは反対側の第2の主面側に複数の実装端子を有した第1の絶縁基板と、
前記第1の絶縁基板の第1の主面に対して底部を積層固定される環状の第2の絶縁基板と、
前記第2の絶縁基板の中空部内に位置する前記振動素子、及び前記電子素子を含む空間を気密封止する蓋部材と、
を備えた容器であって、
前記実装端子と前記第1、及び第2の電極パッドとは、
夫々配線導体により電気的に接続され、
前記絶縁基板を主として構成する材質の熱伝導率Tcが、
50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)]
を満足することを特徴とする容器。
A first electrode pad on which a vibration element is mounted on the first main surface side;
A second electrode pad on which the electronic element is mounted;
Have
A first insulating substrate having a plurality of mounting terminals on the second main surface side opposite to the first main surface;
An annular second insulating substrate whose bottom is laminated and fixed to the first main surface of the first insulating substrate;
A lid member hermetically sealing a space including the vibration element and the electronic element located in the hollow portion of the second insulating substrate;
A container comprising
The mounting terminal and the first and second electrode pads are:
Each is electrically connected by a wiring conductor,
The thermal conductivity Tc of the material mainly constituting the insulating substrate is
50 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200 [W / (m · K)]
A container characterized by satisfying
第1の主面側に振動素子を搭載する第1の電極パッドを有し、
前記第1の主面とは反対側の第2の主面側に電子素子を搭載する第2の電極パッドと、
を有する第1の絶縁基板と、
前記第1の絶縁基板の第1の主面に対して底部を積層固定されることにより第1の収容部を形成する環状の第2の絶縁基板と、
前記第2の主面側に対して表部を積層固定されることにより第2の収容部を形成し、底部に複数の実装端子を有する環状の第3の絶縁基板と、
前記第2の絶縁基板の中空部内に位置する前記振動素子を含む空間を気密封止する蓋部材と
を備え、
前記実装端子と前記第1、及び第2の電極パッドとは、夫々配線導体により電気的に接続され、
前記第1、第2、及び第3の絶縁基板を主として構成する材質の熱伝導率Tcが、
50[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)]
の満足することを特徴とする容器。
A first electrode pad on which a vibration element is mounted on the first main surface side;
A second electrode pad on which an electronic element is mounted on the second main surface side opposite to the first main surface;
A first insulating substrate having:
An annular second insulating substrate that forms a first housing portion by stacking and fixing a bottom portion to the first main surface of the first insulating substrate;
An annular third insulating substrate having a plurality of mounting terminals on the bottom, forming a second housing portion by stacking and fixing a front portion to the second main surface side,
A lid member that hermetically seals the space including the vibration element located in the hollow portion of the second insulating substrate;
The mounting terminal and the first and second electrode pads are electrically connected by wiring conductors, respectively.
The thermal conductivity Tc of the material mainly constituting the first, second and third insulating substrates is
50 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200 [W / (m · K)]
A container characterized by satisfaction.
前記熱伝導率Tcが、
120[W/(m・K)]≦Tc≦200[W/(m・K)]
を満足することを特徴とする請求項1乃至4のうち何れか一項に記載の容器。
The thermal conductivity Tc is
120 [W / (m · K)] ≦ Tc ≦ 200 [W / (m · K)]
The container according to any one of claims 1 to 4, wherein:
前記熱伝導率Tcが、前記配線導体の熱伝導率と同等であることを特徴とする請求項1乃至4ののうち何れか一項に記載の容器。   The container according to any one of claims 1 to 4, wherein the thermal conductivity Tc is equal to the thermal conductivity of the wiring conductor. 振動素子と、電子素子とを、請求項1乃至6のうち何れか一項に記載の容器に搭載したことを特徴とする振動デバイス。   A vibrating device comprising a vibrating element and an electronic element mounted on the container according to any one of claims 1 to 6. 前記蓋部材は、前記容器の内部を貫通する導体、又は前記容器の外側面に設けられたキャスタレーション電極により前記実装端子と電気的に接続されていることを特徴とする請求項7に記載の振動デバイス。   The said lid member is electrically connected with the said mounting terminal by the conductor which penetrates the inside of the said container, or the castellation electrode provided in the outer surface of the said container. Vibration device. 前記振動素子は、音叉型水晶振動素子であることを特徴とする請求項7又は8に記載の振動デバイス。   The vibrating device according to claim 7, wherein the vibrating element is a tuning fork type quartz vibrating element. 前記振動素子の基板は、水晶の結晶軸である電気軸としてのX軸と、機械軸としてのY軸と、光学軸としてのZ軸と、からなる直交座標系の前記X軸を中心として、
前記Z軸を前記Y軸の−Y方向へ所定の角度だけ傾けた軸をZ’軸とし、
前記Y軸を前記Z軸の+Z方向へ前記所定の角度だけ傾けた軸をY’軸とし、
前記X軸と前記Z’軸に平行な面で構成され、
前記Y’軸に平行な方向を厚みとする水晶基板であり、
前記X軸に平行な辺を長辺とし、
前記Z’軸に平行な辺を短辺とした水晶基板を用いたことを特徴とする請求項7又は8に記載の振動デバイス。
The substrate of the vibration element is centered on the X axis of an orthogonal coordinate system including an X axis as an electric axis that is a crystal axis of quartz, a Y axis as a mechanical axis, and a Z axis as an optical axis.
An axis obtained by inclining the Z axis by a predetermined angle in the −Y direction of the Y axis is defined as a Z ′ axis.
An axis obtained by inclining the Y axis by the predetermined angle in the + Z direction of the Z axis is a Y ′ axis,
It is composed of a plane parallel to the X axis and the Z ′ axis,
A quartz substrate having a thickness in a direction parallel to the Y ′ axis,
The side parallel to the X axis is the long side,
The vibration device according to claim 7 or 8, wherein a quartz substrate having a side parallel to the Z 'axis as a short side is used.
前記収容部には、前記振動素子として、ATカット水晶振動素子と音叉型水晶振動素子とが併置されていることを特徴とする請求項7又は8に記載の振動デバイス。   9. The vibration device according to claim 7, wherein an AT-cut crystal vibration element and a tuning fork type crystal vibration element are juxtaposed as the vibration element in the housing portion. 請求項7乃至11のうち何れか一項に記載の振動デバイスを内蔵したことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the vibration device according to any one of claims 7 to 11.
JP2011207188A 2011-09-22 2011-09-22 Container, vibration device and electronic apparatus Withdrawn JP2013070224A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011207188A JP2013070224A (en) 2011-09-22 2011-09-22 Container, vibration device and electronic apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011207188A JP2013070224A (en) 2011-09-22 2011-09-22 Container, vibration device and electronic apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013070224A true JP2013070224A (en) 2013-04-18
JP2013070224A5 JP2013070224A5 (en) 2014-10-02

Family

ID=48475415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011207188A Withdrawn JP2013070224A (en) 2011-09-22 2011-09-22 Container, vibration device and electronic apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013070224A (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014229912A (en) * 2013-05-17 2014-12-08 京セラクリスタルデバイス株式会社 Crystal device
JP2014239414A (en) * 2013-05-10 2014-12-18 株式会社大真空 Piezoelectric vibration device
JP2015128276A (en) * 2013-11-29 2015-07-09 日本電波工業株式会社 Surface-mounted crystal vibrator and manufacturing method of the same
JP2015220586A (en) * 2014-05-16 2015-12-07 京セラ株式会社 Board for mounting piezoelectric vibration element and piezoelectric device
JP5900582B1 (en) * 2014-11-21 2016-04-06 株式会社大真空 Piezoelectric vibration device
WO2016152905A1 (en) * 2015-03-26 2016-09-29 京セラ株式会社 Wiring board, electronic device and electronic module
WO2016208674A1 (en) * 2015-06-25 2016-12-29 京セラ株式会社 Wiring board, electronic device, and electronic module
US10009004B2 (en) 2014-07-30 2018-06-26 Seiko Epson Corporation Resonator device, electronic device, and mobile object
JP2018113716A (en) * 2018-03-12 2018-07-19 セイコーエプソン株式会社 Electronic device, circuit board for electronic device, electronic apparatus, and movable body

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014239414A (en) * 2013-05-10 2014-12-18 株式会社大真空 Piezoelectric vibration device
JP2014229912A (en) * 2013-05-17 2014-12-08 京セラクリスタルデバイス株式会社 Crystal device
JP2015128276A (en) * 2013-11-29 2015-07-09 日本電波工業株式会社 Surface-mounted crystal vibrator and manufacturing method of the same
JP2015220586A (en) * 2014-05-16 2015-12-07 京セラ株式会社 Board for mounting piezoelectric vibration element and piezoelectric device
US11101785B2 (en) 2014-07-30 2021-08-24 Seiko Epson Corporation Resonator device, electronic device, and moving object
US10396754B2 (en) 2014-07-30 2019-08-27 Seiko Epson Corporation Resonator device, electronic device, and moving object
US11641186B2 (en) 2014-07-30 2023-05-02 Seiko Epson Corporation Resonator device, electronic device, and moving object
US10009004B2 (en) 2014-07-30 2018-06-26 Seiko Epson Corporation Resonator device, electronic device, and mobile object
JP5900582B1 (en) * 2014-11-21 2016-04-06 株式会社大真空 Piezoelectric vibration device
WO2016080075A1 (en) * 2014-11-21 2016-05-26 株式会社大真空 Piezoelectric oscillation device
CN107005221A (en) * 2014-11-21 2017-08-01 株式会社大真空 Piezodectric vibration device
WO2016152905A1 (en) * 2015-03-26 2016-09-29 京セラ株式会社 Wiring board, electronic device and electronic module
JPWO2016152905A1 (en) * 2015-03-26 2017-12-28 京セラ株式会社 Wiring board, electronic device and electronic module
US10290591B2 (en) 2015-03-26 2019-05-14 Kyocera Corporation Wiring board, electronic device, and electronic module
CN107615893A (en) * 2015-06-25 2018-01-19 京瓷株式会社 Circuit board, electronic installation and electronic module
US10319672B2 (en) 2015-06-25 2019-06-11 Kyocera Corporation Wiring board, electronic device, and electronic module
US10699993B2 (en) 2015-06-25 2020-06-30 Kyocera Corporation Wiring board, electronic device, and electronic module
JPWO2016208674A1 (en) * 2015-06-25 2018-03-01 京セラ株式会社 Wiring board, electronic device and electronic module
WO2016208674A1 (en) * 2015-06-25 2016-12-29 京セラ株式会社 Wiring board, electronic device, and electronic module
JP2018113716A (en) * 2018-03-12 2018-07-19 セイコーエプソン株式会社 Electronic device, circuit board for electronic device, electronic apparatus, and movable body

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013102315A (en) Piezoelectric device and electronic apparatus
JP2013070224A (en) Container, vibration device and electronic apparatus
US10715058B2 (en) Piezoelectric device and electronic apparatus
JP2013055573A (en) Piezoelectric device and electronic apparatus
US20110080070A1 (en) Tuning-fork resonator with grooves on principal surfaces
US9018826B2 (en) Mesa-type quartz-crystal vibrating piece and quartz crystal device
US11342899B2 (en) Crystal resonator device
JP2013098209A (en) Circuit board, electronic device, electronic equipment, and circuit board manufacturing method
JP2013050321A (en) Physical quantity detector and electronic apparatus
JP2013055572A (en) Piezoelectric device and electronic apparatus
JP2016208192A (en) Piezoelectric vibration device
JP2014107778A (en) Vibration device, electronic apparatus and mobile body
JP2013146004A (en) Vibration device and electronic apparatus
JP2013062707A (en) Piezoelectric device and electronic apparatus
JP5097929B2 (en) Manufacturing method of electronic parts
JP2014086842A (en) Piezoelectric vibration device
JP4587726B2 (en) Piezoelectric vibrator storage package and piezoelectric device
JP2016111380A (en) Piezoelectric oscillator
JP6604071B2 (en) Piezoelectric vibration device
JP6569267B2 (en) Piezoelectric oscillator
JP2013098687A (en) Vibration device and electronic apparatus
JP2012242344A (en) Acceleration detector, acceleration detection device and electronic apparatus
JP4587727B2 (en) Piezoelectric vibrator storage package and piezoelectric device
JP4587730B2 (en) Piezoelectric vibrator storage package and piezoelectric device
KR20170109805A (en) Thermistor for piezoelectric device and piezoelectric device package including the same

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140818

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140818

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20150107

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150710

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150714

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20150901