JP2013063394A - 磁性体を含んだ粒子を洗浄する洗浄装置 - Google Patents
磁性体を含んだ粒子を洗浄する洗浄装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】磁性体を含んだ粒子と親水性溶媒と疎水性溶媒とが供給される容器1と、第1磁極MP1及び第2磁極MP2を含んだ磁界発生器とを含んでいる。容器1には、親水性溶媒を排出する第1排出口17と、疎水性溶媒を排出する第2排出口18とが設けられ、第1排出口17は、第2排出口18と比較して下端の位置が低い。第1磁極MP1及び第2磁極MP2は、容器1の下方で、互いに離間して配列し、y方向寸法が、容器1内の空間のy方向の寸法比較して小さい。磁極間の領域の中心を通り且つ鉛直方向に平行な直線と第1排出口17の中心とを結ぶ最短の線分がx方向に対して成す角度は60°乃至90°の範囲内にあり、当該平行な直線と第2排出口18の中心と結ぶ最短の線分がx方向に対して成す角度は60°乃至90°の範囲内にある。
【選択図】図2
Description
ポリメチルメタクリレート1380重量部を、24000重量部のアセトンに溶解させ、さらに、平均粒子径2μmのマグネタイト粒子15000重量部を分散させて溶液を得た。次に、この溶液をスプレードライヤーにより噴霧乾燥し、平均粒子径45μmの球状の凝集体を得た。続いて、この凝集体5kgに、水20Lを添加して混合しながら、ギアオイル3.5kgを徐々に加え、10分間混合した。このとき、水中のギアオイルの全量が凝集体に吸着されたことを確認した。この凝集体を被洗浄物として以下の洗浄試験において使用した。
容器1の代わりに、親水性溶媒排出口17及び疎水性溶媒排出口18が、下端の位置が同じ高さになるように設けられた容器を使用したこと以外は、実施例1と同様の試験を行った。
ヘキサンの代わりにデカンを疎水性溶媒として使用したこと以外は実施例1と同様の試験を行った。
n−オクチルトリエトキシシラン1000重量部を30000重量部の水と100重量部の酢酸とに溶解させ、更に、平均粒子径2μmのマグネタイト粒子3000重量部を分散させて溶液を得た。この溶液をスプレードライヤーにより噴霧し、平均粒子径35μmの球状の凝集体を得た。
容器1の代わりに、親水性溶媒排出口17及び疎水性溶媒排出口18が、下端の位置が同じ高さになるように設けられた容器を使用したこと、実施例3で得られた凝集体を使用したこと以外は、実施例1と同様の試験を行った。
Claims (5)
- 磁性体を含んだ粒子を親水性溶媒と疎水性溶媒との混合液で洗浄する洗浄装置であって、
前記粒子と前記親水性溶媒と前記疎水性溶媒とが供給され、前記親水性溶媒を排出する第1排出口と、前記疎水性溶媒を排出する第2排出口とが設けられ、前記第1排出口は前記第2排出口と比較して下端の位置がより低い容器と、
逆極性の第1及び第2磁極を含み、前記第1及び第2磁極は、前記容器の下方で、鉛直方向に対して垂直な第1方向に互いから離間して配列し、前記第1及び第2磁極の各々は、前記鉛直方向及び前記第1方向に対して垂直な第2方向の寸法が、前記容器内の空間の前記第2方向の寸法と比較してより小さく、前記第1及び第2磁極間の領域の中心を通り且つ前記鉛直方向に平行な直線と前記第1排出口の中心とを結ぶ最短の線分が前記第1方向に対して成す角度は60°乃至90°の範囲内にあり、前記直線と前記第2排出口の中心と結ぶ最短の線分が前記第1方向に対して成す角度は60°乃至90°の範囲内にある磁界発生器と
を具備した洗浄装置。 - 前記容器の内面は、前記第1及び第2磁極間の領域に対応した位置で下方に向けて先細りした底面を含んでいる請求項1に記載の洗浄装置。
- 前記磁界発生器は、前記第1及び第2磁極が前記容器内に発生させる磁界の強度を変化させることが可能である請求項1又は2に記載の洗浄装置。
- 前記容器に前記粒子と前記親水性溶媒とを供給する第1供給装置と、
前記容器に前記疎水性溶媒を供給する第2供給装置と、
前記第1排出口に接続され、前記容器から前記親水性溶媒の一部を除去する第1排出装置と、
前記第2排出口に接続され、前記容器から前記疎水性溶媒の一部を除去する第2排出装置と、
前記磁界発生器、前記第1及び第2供給装置、並びに前記第1及び第2排出装置の動作を制御するコントローラと
を更に具備した請求項3に記載の洗浄装置。 - 前記コントローラは、
前記第1供給装置を動作させて、前記親水性溶媒の液面を前記第1排出口の下端よりも上方に位置させる第1ステップと、
前記磁界が強まるように前記磁界発生器の動作を制御する第2ステップと、
前記磁界を強めたまま、前記第1排出装置を動作させて、前記親水性溶媒の液面を前記第1排出口の下端の高さに位置させる第3ステップと、
前記磁界が弱まるように前記磁界発生器の動作を制御する第4ステップと、
前記磁界を弱めたまま、前記第2供給装置を動作させて、前記混合液の液面を前記第2排出口の下端よりも上方に位置させる第5ステップと、
前記磁界が強まるように前記磁界発生器の動作を制御する第6ステップと、
前記磁界を強めたまま、前記第2排出装置を動作させて、前記混合液の液面を前記第2排出口の下端の高さに位置させる第7ステップと
がこの順に行われるように前記磁界発生器、前記第1及び第2供給装置、並びに前記第1及び第2排出装置の動作を制御する請求項4に記載の洗浄装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011203720A JP2013063394A (ja) | 2011-09-16 | 2011-09-16 | 磁性体を含んだ粒子を洗浄する洗浄装置 |
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JP2011203720A JP2013063394A (ja) | 2011-09-16 | 2011-09-16 | 磁性体を含んだ粒子を洗浄する洗浄装置 |
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JP2013063394A true JP2013063394A (ja) | 2013-04-11 |
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ID=48187427
Family Applications (1)
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JP2011203720A Withdrawn JP2013063394A (ja) | 2011-09-16 | 2011-09-16 | 磁性体を含んだ粒子を洗浄する洗浄装置 |
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JP (1) | JP2013063394A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015000385A (ja) * | 2013-06-17 | 2015-01-05 | 株式会社東芝 | ろ過助材を利用した水処理方法、及びその装置 |
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2011
- 2011-09-16 JP JP2011203720A patent/JP2013063394A/ja not_active Withdrawn
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