JP2013058530A - Multi-chip composite lead frame and semiconductor device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new composite lead frame structure for a multi-chip intended to eliminate advanced processing required in advance when bonding leads of two types of support substrates, a metallic substrate and an organic material substrate, and a variety of inconvenience, in a composite lead frame structure having semiconductor chips mounted above and below the central portion of the lead frame.SOLUTION: A multi-chip composite lead frame 1 for mounting mutually different semiconductor chips above and below the central portion of the lead frame at least includes: an inner lead frame group 11 disposed toward the one semiconductor chip to deal with at least one semiconductor chip; an inner lead frame group 12 disposed toward another semiconductor chip to deal with the other semiconductor chip; and a semiconductor chip island composed of an insulative resin sheet 14 fixed to and supported by the end portion of any one of the inner lead frame groups.

Description

本発明は、複数の半導体チップを搭載可能な複合リードフレームのインナーリード構造に関する。   The present invention relates to an inner lead structure of a composite lead frame on which a plurality of semiconductor chips can be mounted.

ICやLSIのようなシリコン半導体(以下、半導体チップもしくは単にチップと記す。)は、接続用の端子を半導体チップの上面や下面に100〜1000個備えるが、このピッチは一般的に非常に狭く(〜100μm)プリント基板に直接搭載できない。そこで、図3に示すような半導体の端子ピッチを接続の容易なピッチ(〜1mm)にまで拡大する中間基板に搭載した上で、取り扱いが容易な形状に整えるパッケージング加工が行われる。このパッケージング工程は複数の工程を含むが半導体チップは、原則として1個が中間基板としてのリードフレーム1に搭載される。   Silicon semiconductors such as ICs and LSIs (hereinafter referred to as “semiconductor chips” or simply “chips”) have 100 to 1000 connection terminals on the upper and lower surfaces of the semiconductor chip, but this pitch is generally very narrow. (˜100 μm) Cannot be directly mounted on a printed circuit board. Therefore, a packaging process is performed in which the terminal pitch of the semiconductor as shown in FIG. 3 is mounted on an intermediate substrate that expands to an easily connectable pitch (˜1 mm), and then the shape is adjusted to be easy to handle. This packaging process includes a plurality of processes. In principle, one semiconductor chip is mounted on a lead frame 1 as an intermediate substrate.

リードフレーム1(以下、LFとも記す。)は、アルミや鉄/ニッケル合金からなる一定の剛性を有する金属板をプレスもしくはエッチング加工して製造され、チップの端子数に相当する複数のリードと1個のアイランド4からなる。リードは、アイランド4に搭載される半導体チップの端子2と電気的に接続するインナーリード9と外部機器接続用の端子につながるアウターリード10がある。インナーリード9とアウターリード10は同じ金属配線であるが前者はアイランド4に向かってピッチが狭く、アウターリード10はアイランド4からインナーリード9を放射状に外側に延ばしたものである。   The lead frame 1 (hereinafter also referred to as LF) is manufactured by pressing or etching a metal plate having a certain rigidity made of aluminum or iron / nickel alloy, and includes a plurality of leads corresponding to the number of terminals of the chip and 1 It consists of 4 islands. The lead includes an inner lead 9 electrically connected to the terminal 2 of the semiconductor chip mounted on the island 4 and an outer lead 10 connected to a terminal for connecting to an external device. The inner leads 9 and the outer leads 10 are the same metal wiring, but the former has a narrow pitch toward the island 4, and the outer leads 10 are obtained by extending the inner leads 9 radially outward from the island 4.

一般的なLFでは、アイランド4に搭載する半導体チップ上の端子2とインナーリード9はAu線3でワイヤーボンディング接続する。このほかLFには、リード類がふらつかずばらけないように一体に保つサポートフレーム8、吊りバー6やダムバー7と称されフレームが付属するが、リード同士が短絡しないようにパッケージング工程の適切な段階で切断される。   In a general LF, the terminals 2 and the inner leads 9 on the semiconductor chip mounted on the island 4 are connected by wire bonding with Au wires 3. In addition, the LF comes with a support frame 8, a suspension bar 6 and a dam bar 7 that keep the leads together so that the leads do not fluctuate. It is cut at a certain stage.

LF以外の中間基板には、銅箔付樹脂フィルムあるいは銅箔付プラスチック基板を用いて、銅箔をフォトリソ技術により、ピッチ拡張用に放射状に加工した配線基板がある。配線構成や使用法はLFと同じであるが、樹脂からなる支持体のおかげで金属部分の厚みを薄くできるので、エッチング加工でリードをパターニングする場合より微細加工ができるという利点がある。   As an intermediate substrate other than LF, there is a wiring substrate obtained by processing a copper foil radially for pitch expansion by a photolithography technique using a resin film with copper foil or a plastic substrate with copper foil. Although the wiring configuration and usage are the same as those of LF, the thickness of the metal portion can be reduced by virtue of the support made of resin, so that there is an advantage that fine processing can be performed as compared with the case of patterning leads by etching processing.

多ピンの半導体チップを搭載するにはリードの数を増やす必要があるが、その際インナーリード9の線幅をより微細化する必要がある。エッチングで微細化するにはリードフレーム1を組成する金属の板厚をインナーリード間の隙間より薄くする必要がある。しかし薄くし過ぎるとインナーリードの自己支持性と、外部接続端子としてのアウターリードに必要な剛性が維持できなくなる。   In order to mount a multi-pin semiconductor chip, it is necessary to increase the number of leads. At that time, it is necessary to further reduce the line width of the inner lead 9. In order to reduce the size by etching, it is necessary to make the thickness of the metal composing the lead frame 1 thinner than the gap between the inner leads. However, if the thickness is too thin, the self-supporting property of the inner lead and the rigidity necessary for the outer lead as the external connection terminal cannot be maintained.

そこで、インナーリード数を増やすために、リードフレーム1のアイランド4とこれに向かうインナーリード9部分を、フィルム上に金属配線を備え、微細加工が容易な配線基板に置換する技術が開発された(TAB)。フィルム等樹脂基板上の銅箔は、LFより板厚が薄いので微細加工が可能である。LFのインナーリードはTAB等のアウターリードと接続される必要がるが、これはアウターリード部をインナーリードに重ねて接合することでなされる(特許文献1)。   Therefore, in order to increase the number of inner leads, a technique has been developed in which the island 4 of the lead frame 1 and the inner lead 9 portion facing the lead frame 1 are replaced with a wiring board that is provided with metal wiring on the film and is easy to finely process. TAB). Since the copper foil on the resin substrate such as a film is thinner than LF, fine processing is possible. The inner lead of the LF needs to be connected to an outer lead such as TAB, but this is done by overlapping and joining the outer lead portion to the inner lead (Patent Document 1).

同じ技術思想に属するものに、フィルム状のTABの代わりにプラスチック配線基板を
使用するものがある(特許文献2)。LF構造を基本に、その中心部をフィルムにするかより剛性のあるプラスチック板にするかの違いしかない。
これらはいずれも、リードフレームの内側のリード先端部と配線基板のアウターリードとが接続されて一体化しており、複合リードフレームと呼ばれる(特許文献2)。
Among those belonging to the same technical idea, there is one using a plastic wiring board instead of a film-like TAB (Patent Document 2). Based on the LF structure, the only difference is whether the center is a film or a more rigid plastic plate.
Both of these are integrated by connecting the leading end portion of the lead inside the lead frame and the outer lead of the wiring board, and are called a composite lead frame (Patent Document 2).

リードフレーム1を拡張する別の方向は、複数の半導体チップを搭載できるマルチチップ対応のLFである。このようなマルチチップタイプは、新たな集積回路を開発する場合に、複数の集積回路チップをまとめて1チップ化するよりもTAT(Turn Around Time)が短くてすむので開発投資を低減できる利点がある。既存の半導体チップやその組み立てライン及び試験工程を流用できるため、ハイブリッドICよりもカスタムICを作るのが容易であり、新しく開発するのはLFのみとなる(特許文献3)。   Another direction in which the lead frame 1 is expanded is a multichip compatible LF in which a plurality of semiconductor chips can be mounted. Such a multi-chip type has an advantage that, when developing a new integrated circuit, the TAT (Turn Around Time) can be shortened rather than integrating a plurality of integrated circuit chips into one chip, so that development investment can be reduced. is there. Since existing semiconductor chips and their assembly lines and test processes can be used, it is easier to make custom ICs than hybrid ICs, and only LF is newly developed (Patent Document 3).

複合リードフレームのマルチチップ化として、中央の配線基板上に複数のチップを並べる形態と垂直方向に重ねる形態及びこれらの組み合わせがある。垂直方向についてはひとつのチップの背中に重ねる形態と、基板の表裏にICチップを配置する形態及びこれらの組み合わせがある。チップの接続端子とLFと配線基板のリードとの接続は、通常はワイヤーボンディングで行われ、LFと中心部の配線基板(TABあるいはプラスチック基板)のリードとは重ね合わせて金属接合で接続される。   As a multi-chip composite lead frame, there are a form in which a plurality of chips are arranged on a central wiring board, a form in which they are stacked vertically, and a combination thereof. As for the vertical direction, there are a form of overlapping one chip on the back, a form of placing IC chips on the front and back of the substrate, and a combination thereof. The connection terminals of the chip, the LF, and the leads of the wiring board are usually connected by wire bonding, and the LF and the leads of the wiring board (TAB or plastic substrate) at the center are overlapped and connected by metal bonding. .

しかしながら、複合フレーム化自体が、1回のエッチングもしくはプレス加工で製造されるLFに、別のエッチング加工で製造したTABあるいはプラスチック配線板を付加するもので、LFに比べて高価になるという問題がある。
特に、プラスチック基板あるいはTABテープ上のリード端子をリードフレーム側のリードに接合させる場合、電気抵抗を低くするために、前者のリード端子にはAuめっきを行い高温で接合することが必要である。この点から複合リードフレーム化は高価になる。
However, the composite frame itself adds a TAB or plastic wiring board manufactured by another etching process to the LF manufactured by one etching or pressing process, and there is a problem that it becomes expensive compared to the LF. is there.
In particular, when a lead terminal on a plastic substrate or TAB tape is joined to a lead on the lead frame side, the former lead terminal needs to be plated with Au and joined at a high temperature in order to reduce the electrical resistance. In this respect, the composite lead frame becomes expensive.

さらにまた、有機材料と金属との複合材であるプラスチック基板あるいはTABテープ基材は一般的に高温では基板の膨張があるので、できるだけ低温でLFと接合する必要がある。一方、金属接合の安定化には高温で短時間の接合が求められる。このように有機配線板上の金属端子と金属リードフレームでの相反する熱負荷の影響はトレードオフの関係がある。これに加え、両材料の熱膨張係数には大きな乖離があり、接合後に熱収縮差から引き剥がし応力が発生し、安定な金属接合を得るのが難しい問題がある。   Furthermore, since a plastic substrate or a TAB tape base material, which is a composite material of an organic material and a metal, generally expands at a high temperature, it must be bonded to LF at the lowest possible temperature. On the other hand, stabilization of metal bonding requires high-temperature and short-time bonding. Thus, there is a trade-off relationship between the effects of conflicting thermal loads between the metal terminal on the organic wiring board and the metal lead frame. In addition to this, there is a large difference between the thermal expansion coefficients of both materials, and there is a problem that it is difficult to obtain a stable metal joint because peeling stress is generated from the thermal shrinkage difference after joining.

複合リードフレームで複数のチップを搭載する場合、中央の配線基板の表裏に金属配線を形成し同時に裏面の配線を表面に導くスルーホール加工をする必要がある。Auめっきしたプラスチック基板あるいはTABテープとAgめっきしたリードフレーム(LF)とを接合するには、リード同士の位置合わせ精度が求められ、作業性が低下する。これらはいずれもコストアップになるという問題があった。   When mounting a plurality of chips with a composite lead frame, it is necessary to form a metal wiring on the front and back of the central wiring board and simultaneously perform through-hole processing to guide the wiring on the back surface to the front surface. In order to join an Au-plated plastic substrate or TAB tape and an Ag-plated lead frame (LF), alignment accuracy between the leads is required, and workability is lowered. All of these have the problem of increasing costs.

特願平3−154848号公報Japanese Patent Application No. 3-154848 特願平3−170242号公報Japanese Patent Application No. 3-170242 特許第2582013号Japanese Patent No. 2582013

そこで本発明は、リードフレーム中心部の上下に半導体チップを搭載するマルチチップ用複合リードフレーム構造において、金属基板と有機材料基板という異質な2種類の支持基板のリードを接合する際に予め必要となる事前処理や種々の不都合の排除を目的とした
もので、マルチチップ対応の新規な複合リードフレームの構造の提供することを目的とした。
Therefore, the present invention requires in advance when joining leads of two different types of support substrates, a metal substrate and an organic material substrate, in a multi-chip composite lead frame structure in which semiconductor chips are mounted above and below the center of the lead frame. The purpose of this invention is to provide a new composite lead frame structure compatible with multi-chip.

上記課題を解決するための請求項1に記載の発明は、リードフレーム中心部の上下に異なる半導体チップを搭載するためのリードフレームであって、少なくとも、一方の半導体チップに対応するための該半導体チップに向かうインナーリード群と、別の半導体チップに対応するための該半導体チップに向かうインナーリード群と、前記いずれかのインナーリード群の端部に固定されて支持される有機絶縁樹脂シートからなる半導体チップ用アイランドと、を備えることを特徴とするマルチチップ用複合リードフレームとしたものである。   The invention according to claim 1 for solving the above-mentioned problem is a lead frame for mounting different semiconductor chips above and below the central portion of the lead frame, and the semiconductor for accommodating at least one semiconductor chip. An inner lead group that faces the chip, an inner lead group that faces the semiconductor chip to correspond to another semiconductor chip, and an organic insulating resin sheet that is fixed and supported at an end of one of the inner lead groups A multi-chip composite lead frame comprising a semiconductor chip island.

次に、請求項2に記載の発明は、前記有機絶縁樹脂シートが固定されるインナーリード群の先端部は、別のインナーリード群の先端部より中心に近く、且つ前記樹脂シートが収容されるように、ハーフエッチング加工されることで先端部以外より厚みが薄いことを特徴とする請求項1に記載のマルチチップ用複合リードフレームとしたものである。   Next, according to a second aspect of the present invention, the tip of the inner lead group to which the organic insulating resin sheet is fixed is closer to the center than the tip of another inner lead group, and the resin sheet is accommodated. Thus, the multi-chip composite lead frame according to claim 1, wherein the multi-chip composite lead frame is thinner than the tip portion by being half-etched.

次に、請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載のマルチチップ用複合リードフレームを使用する半導体装置であって、半導体チップ用アイランドの一方の面に搭載された半導体チップは、一方のインナーリード群とワイヤボンディング接続され、他方の面に搭載された別の半導体チップも別のインナーリード群とワイヤボンディング接続され、その後所定のパッケージング加工が施されたことを特徴とする半導体装置としたものである。   Next, the invention according to claim 3 is a semiconductor device using the multi-chip composite lead frame according to claim 1 or 2, wherein the semiconductor is mounted on one surface of the semiconductor chip island. The chip is connected to one inner lead group by wire bonding, and another semiconductor chip mounted on the other surface is also connected to another inner lead group by wire bonding, followed by a predetermined packaging process. This is a semiconductor device.

次に、請求項4に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載のマルチチップ用複合リードフレームを使用する半導体装置であって、半導体チップ用アイランドの一方の面に搭載された半導体チップは、一方のインナーリード群とワイヤボンディング接続され、他方の面に搭載された別の半導体チップは別のインナーリード群とフリップチップ接続され、その後所定のパッケージング加工が施されたことを特徴とする半導体装置としたものである。   Next, the invention described in claim 4 is a semiconductor device using the multi-chip composite lead frame according to claim 1 or 2, wherein the semiconductor is mounted on one surface of the semiconductor chip island. The chip is connected to one inner lead group by wire bonding, and another semiconductor chip mounted on the other surface is flip-chip connected to another inner lead group, and then a predetermined packaging process is performed. This is a semiconductor device.

本発明は、リードフレームのインナーリードを2つの半導体チップに対応する2群に分けて長さを変えた構成とし、長さの長いほうのインナーリードに有機絶縁樹脂を固定した。リードフレームの中央部の平坦な有機絶縁樹脂をアイランドとして半導体チップ搭載面としたことにより、上下に複数の半導体チップを搭載することが可能になった。
尚、異なる半導体チップは、複数であることが肝要で、同じ半導体チップであっても構わない。
In the present invention, the inner leads of the lead frame are divided into two groups corresponding to the two semiconductor chips and the length is changed, and the organic insulating resin is fixed to the inner lead having the longer length. By using a flat organic insulating resin at the center of the lead frame as an island as a semiconductor chip mounting surface, a plurality of semiconductor chips can be mounted vertically.
It is important that there are a plurality of different semiconductor chips, and the same semiconductor chip may be used.

アイランドの表裏に半導体チップを搭載できるが、アイランドとしての基板は単に半導体チップを搭載するだけであって、従来の複合リードフレームと異なり配線加工やスルーホール導通を必要としない。したがって、配線端子自体が存在せずAu,Ag等の表面処理が不要である。当然、外側のリードフレームのリードと内側のアイランド基板のリードとの金属接合もなくアライメント工程も不要である。さらに、リード間の金属接合に必要な高温での接合処理もないために、異質な材料を高温で固定したことによる金属接合部の強度低下もない。   Although semiconductor chips can be mounted on the front and back of the island, the substrate as an island is simply mounted with a semiconductor chip and does not require wiring processing or through-hole conduction unlike a conventional composite lead frame. Therefore, there is no wiring terminal itself, and surface treatment such as Au or Ag is unnecessary. Naturally, there is no metal bonding between the lead of the outer lead frame and the lead of the inner island substrate, and no alignment process is required. Further, since there is no bonding process at high temperature necessary for metal bonding between the leads, there is no decrease in strength of the metal bonding portion due to fixing a different material at high temperature.

アイランドの下部の長さの長いインナーリードに有機絶縁樹脂が接着され固定され、その上表面に搭載される半導体チップの端子と短いインナーリードとは、ワイヤーボンディング接続されるが、裏面に搭載される半導体チップと有機絶縁樹脂に固定された長いイン
ナーリードとの接続については、ワイヤーボンディングかフリップチップ接続の選択が可能である。この選択は、裏面に搭載されるチップの大きさによるであろう。チップの下側にインナーリードが侵入するようなチップの大きさであればフリップチップ接続が好ましい。入り込まなければワイヤーボンディングが選択される。
したがって、半導体チップの端子接続方法に制限が少なく、半導体チップの選択範囲が広がり、高機能で多機能な半導体装置が容易に製造できる。
An organic insulating resin is bonded and fixed to the long inner lead at the bottom of the island, and the terminals of the semiconductor chip mounted on the upper surface and the short inner lead are connected by wire bonding, but mounted on the back surface. For the connection between the semiconductor chip and the long inner lead fixed to the organic insulating resin, either wire bonding or flip chip connection can be selected. This choice will depend on the size of the chip mounted on the back side. Flip chip connection is preferable if the chip size is such that the inner lead penetrates into the lower side of the chip. If it does not enter, wire bonding is selected.
Therefore, there are few restrictions on the terminal connection method of the semiconductor chip, the selection range of the semiconductor chip is widened, and a highly functional and multifunctional semiconductor device can be easily manufactured.

従来の複合リードフレームではリードフレームに別の配線基板を張り合わせるために基材の厚さは(リードフレーム+配線基板)のトータル厚になってしまう。一方、LF基材のインナーリードの先端部にハーフエッチング部を設け、ハーフエッチング部上に有機絶縁樹脂を収容するように固定すればより薄い半導体装置とすることができる。   In the conventional composite lead frame, since another wiring board is bonded to the lead frame, the thickness of the base material becomes the total thickness of (lead frame + wiring board). On the other hand, if a half-etched portion is provided at the tip of the inner lead of the LF base and the organic insulating resin is accommodated on the half-etched portion, a thinner semiconductor device can be obtained.

更には、複合化に使用するTABあるいはプラスチック基板は加工されたものを使用するので高価になるが、本発明になる複合リードフレームはインナーリード上に設ける絶縁樹脂シートは単に断裁するだけで配線等加工の必要が無いので安価な複合リードフレームを提供できる。   Furthermore, the processed TAB or plastic substrate used for the composite is expensive because it uses a processed one, but the composite lead frame according to the present invention simply cuts the insulating resin sheet provided on the inner lead, etc. Since there is no need for processing, an inexpensive composite lead frame can be provided.

本発明になるリードフレームの構造を説明する図面であって、(a)上面視、(b)断面視の図である。It is drawing explaining the structure of the lead frame which becomes this invention, Comprising: (a) Top view, (b) Sectional drawing. (a)〜(f)本発明になる半導体装置の製造工程を説明する断面視の工程図である。(A)-(f) It is process drawing of the cross sectional view explaining the manufacturing process of the semiconductor device which becomes this invention. 従来型のリードフレーム構造と半導体チップ搭載の様子を説明するか下面視の図である。It is a figure of the bottom view explaining the state of the conventional lead frame structure and semiconductor chip mounting.

本発明になるリードフレーム1は、図1(a)〜(b)にその概略を示すように、一般のリードフレーム(図3)が備えるインナーリード9,アウターリード10及びアイランド4から、アイランド4を取り去り、前記インナーリード9を2つの半導体チップに対応するように長さの異なる第一の群と第二の群に分け、第一の群に属するインナーリード11をアイランドとなる絶縁性樹脂シート14を下支えするように長さを長くし、第二の群12を先端が絶縁性樹脂シート14外に収まるように長さを相対的に短くし、金属製のアイランドの代わりに絶縁性樹脂シート14を用いたものである。   The lead frame 1 according to the present invention includes an inner lead 9, an outer lead 10 and an island 4 included in a general lead frame (FIG. 3) as shown in FIGS. The inner lead 9 is divided into a first group and a second group having different lengths so as to correspond to two semiconductor chips, and the inner lead 11 belonging to the first group is an insulating resin sheet serving as an island. The length of the second group 12 is lengthened so as to support 14, and the length of the second group 12 is relatively shortened so that the tip is outside the insulating resin sheet 14, and the insulating resin sheet is used instead of the metal island. 14 is used.

さらに、第一群に属する絶縁性樹脂シート14を下支えするインナーリードの先端については、ハーフエッチング加工することで厚みを薄くしたもので、ここに絶縁性樹脂シート14が収まるように敷設すれば、例え半導体チップがその上に搭載されたとしても全体の厚みが厚くならない。
尚、図1(a)ではリードは細分化せずに一塊に記載したがリード配置他の詳細は図3と同様である。また、図1(b)についてはリードが2段に描かれているが、第一群と第二群で長さが異なることを示すために2段にしたものであって実際は同一面内にあるものである。
Furthermore, for the tip of the inner lead that supports the insulating resin sheet 14 belonging to the first group, the thickness is reduced by half-etching, and if the insulating resin sheet 14 is laid so that it fits, Even if a semiconductor chip is mounted thereon, the overall thickness does not increase.
In FIG. 1A, the leads are shown in one lump without being subdivided, but the details of the arrangement of the leads are the same as in FIG. Also, in FIG. 1 (b), the lead is drawn in two steps, but the lead is shown in two steps to show that the lengths of the first group and the second group are different. There is something.

第一群と第二群のインナーリード端部のまとまり方については、図1(a)に示す4角形状あるいは略4角形状のものに限られない。どのような形状であっても構わないが、ある種の中心対称性(回転対称性)があるのが好ましい。第一群と第二群と区分けがされているがリード自体は上述したように同一平面上にあるので、どのように第一群と第二群に分けるかについては搭載する半導体チップの端指数とそれらの配置態様で決めればよい。分けられたすべてのリード11,12を対応する半導体チップの端子と接続する必要があるわけでもない。   The method of collecting the inner lead ends of the first group and the second group is not limited to the quadrangular shape or the substantially quadrangular shape shown in FIG. Although it may be in any shape, it is preferable that there is some kind of central symmetry (rotational symmetry). Although the lead group is divided into the first group and the second group, the leads themselves are on the same plane as described above, so how to divide into the first group and the second group is the end index of the mounted semiconductor chip. And their arrangement mode. It is not necessary to connect all the divided leads 11 and 12 to the corresponding semiconductor chip terminals.

以下、図2と図1を使用して、LF中央の上下に半導体チップを備える複合リードフレーム及びこれをパッケージングした半導体装置について製造工程に即して本発明を説明する。絶縁樹脂シート14上には、半導体チップを電気的に接続できる範囲で並置しても構わない。   Hereinafter, the present invention will be described with reference to FIG. 2 and FIG. 1 in accordance with the manufacturing process of a composite lead frame having semiconductor chips above and below the center of the LF and a semiconductor device packaged with the composite lead frame. On the insulating resin sheet 14, you may arrange in parallel in the range which can electrically connect a semiconductor chip.

(リードフレーム製造工程)
リードフレームは、枚葉状あるいは帯状の金属板に、リード及び所定のパターンからなる単位のリードフレームが縦横方向に多面付けで配列された状態で同時に加工されて形成されるが、簡単のため図2では単一のリードフレームについて記載してある。最終的に他面付けが個片に断裁される。
(Lead frame manufacturing process)
The lead frame is formed by simultaneously processing a lead or unit lead frame having a predetermined pattern on a sheet-like or strip-like metal plate in a state where the lead frame is arranged in a multi-sided manner in the vertical and horizontal directions. Then, a single lead frame is described. Finally, the other imposition is cut into pieces.

まず、鉄−ニッケル等の合金薄板又は銅−ニッケル−錫等の金属合金製の金属板の表面に、フォトレジストを塗布してフォトレジスト層を形成する。次いで、電気的接続エリアを末端に備えるアウターリードとインナーリード、これらリードとつながるサポートフレーム、吊りバーとタイバーとなる部分にレジストパターンを形成するために、所定のパターンを有する露光用フォトマスクを介してフォトレジスト層に紫外線を照射する。   First, a photoresist is applied to the surface of an alloy thin plate such as iron-nickel or a metal plate made of a metal alloy such as copper-nickel-tin to form a photoresist layer. Next, in order to form a resist pattern on the outer lead and inner lead having an electrical connection area at the end, a support frame connected to these leads, and a portion serving as a suspension bar and tie bar, an exposure photomask having a predetermined pattern is used. Then, the photoresist layer is irradiated with ultraviolet rays.

次いで、フォトレジスト層に現像、必要に応じて硬膜処理を行う。これにより、インナーリード先端の絶縁性樹脂シートが載る部分以外のリード部分と吊りバーとタイバーとなる部分を残してフォトレジストが現像除去される。   Next, the photoresist layer is developed and, if necessary, hardened. As a result, the photoresist is developed and removed, leaving the lead portion other than the portion on which the insulating resin sheet at the tip of the inner lead is placed, and the portions that become the suspension bar and tie bar.

同様に、金属板の裏面にもフォトレジストを塗布してフォトレジスト層を形成後、パターン露光、現像等という一連の処理を行う。パターン露光にあたっては、インナーリード全体と吊りバーとタイバーとなる部分を残してフォトレジストが現像除去され、レジストパターンが形成される。   Similarly, after a photoresist is applied to the back surface of the metal plate to form a photoresist layer, a series of processes such as pattern exposure and development are performed. In pattern exposure, the photoresist is developed and removed, leaving the entire inner lead and the portions serving as the suspension bar and tie bar, thereby forming a resist pattern.

次に、金属板の裏面にエッチング防止の耐腐食用の樹脂フィルムを貼着し、金属板1の表面側から表面のフォトレジスト非形成部を所定の深度(概ねLF厚の1/2)まで塩化第二鉄等のエッチャントを用いてエッチング加工処理(ハーフエッチング処理)を行う。絶縁性樹脂シート14が載るエリアもハーフエッチングされる。洗浄後、その表面に耐腐食用の樹脂フィルムを貼着する。   Next, an anti-corrosion-resistant resin film is attached to the back surface of the metal plate, and the photoresist non-formation portion on the surface from the surface side of the metal plate 1 to a predetermined depth (approximately ½ of the LF thickness). Etching process (half etching process) is performed using an etchant such as ferric chloride. The area where the insulating resin sheet 14 is placed is also half-etched. After cleaning, a corrosion-resistant resin film is attached to the surface.

次に、金属板の裏面の耐腐食用の樹脂フィルムを剥がし、金属板の裏面側から、裏面のフォトレジスト非形成部を所定の深度(概ねLF厚の1/2)まで塩化第二鉄等のエッチャントを用いてエッチング加工処理を行うと表面、裏面のレジストパターンが形成されていない金属部位に貫通部が形成される。これにより、図面上では詳細が描かれていないが第一群のインナーリード11と第二群のインナーリード12他を備えるリードフレーム1が形成される(図2(b))。   Next, the anti-corrosion resin film on the back surface of the metal plate is peeled off, and ferric chloride or the like from the back surface side of the metal plate to the non-photoresist-formed portion on the back surface to a predetermined depth (approximately ½ of the LF thickness) When the etching process is performed using this etchant, a penetrating portion is formed in a metal portion where the resist pattern on the front surface and the back surface is not formed. As a result, the lead frame 1 including the first group of inner leads 11, the second group of inner leads 12, and the like, although not shown in detail in the drawing, is formed (FIG. 2B).

インナーリード11先端のハーフエッチングされた部分の裏面側はエッチングされないようにレジストで保護してあるので貫通せず、ハーフエッチング状態に留まる。尚、図2ではハーフエッチングについては省略してある。リードフレーム1を形成するエッチング加工は、表裏の面に各々1回ずつ行い、計2回行っているが、表裏から同時に1回のエッチングで金属板1にエッチング加工を行っても構わない。   The back side of the half-etched portion at the tip of the inner lead 11 is protected by a resist so that it is not etched, so it does not penetrate and remains in a half-etched state. In FIG. 2, the half etching is omitted. The etching process for forming the lead frame 1 is performed once on each of the front and back surfaces for a total of two times. However, the metal plate 1 may be etched once from the front and back surfaces simultaneously.

(絶縁樹脂シートの貼付)
次に、第二のインナーリード群の開口部で第一のインナーリード群のハーフエッチ部に所定の大きさの絶縁樹脂シート14を接着材で固定する(図2(c))。図1(b)に示したようにハーフエッチは必ずしも必要ないが、この場合その分だけ厚くなる。絶縁性樹脂
シート14は、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂、あるいはPPAや液晶ポリマーなど耐熱性のある熱可塑性樹脂をシート状にしたものが好ましい。
(Attaching an insulating resin sheet)
Next, an insulating resin sheet 14 having a predetermined size is fixed to the half-etched portion of the first inner lead group with an adhesive at the opening of the second inner lead group (FIG. 2C). As shown in FIG. 1B, half-etching is not always necessary, but in this case, the thickness is increased accordingly. The insulating resin sheet 14 is preferably a sheet made of a thermosetting resin such as an epoxy resin, or a heat-resistant thermoplastic resin such as PPA or a liquid crystal polymer.

(半導体チップ搭載工程)
こうして得たリードフレーム1の絶縁性樹脂シート14の上面に、例えば、接着剤により第一の半導体チップ15を貼着(ダイボンド)する。その後ワイヤーボンダーにより、半導体チップの上面の端子と第二のインナーリードの上面の電気的接続エリアとをAuワイヤー16をワイヤーボンディングすることで、半導体チップ15とインナーリード12とを接続する。こうして、リードフレーム1の上面に半導体チップ15を搭載した。
(Semiconductor chip mounting process)
The first semiconductor chip 15 is bonded (die-bonded) to the upper surface of the insulating resin sheet 14 of the lead frame 1 obtained in this way, for example, with an adhesive. Then, the semiconductor chip 15 and the inner lead 12 are connected by wire bonding the Au wire 16 to the terminal on the upper surface of the semiconductor chip and the electrical connection area on the upper surface of the second inner lead by a wire bonder. Thus, the semiconductor chip 15 was mounted on the upper surface of the lead frame 1.

次に、前記絶縁性樹脂シート14の下面に、接着剤により第二の半導体チップ17を貼着(ダイボンド)し、その後ワイヤーボンダーにより、半導体チップ17の上面の端子と長い方のリード群の上面の電気的接続エリアとをAuワイヤー16をワイヤーボンディングすることで、第二の半導体チップとインナーリードとを接続する。こうして、半導体発光装置用リードフレーム下面に第二の半導体チップを搭載し電気接続する。
第二のチップ17についてはフリップチップ接続しても構わない。チップの裏面に搭載された半田ボールとAuめっきされたインナーリードとをアライメントしてからリフロー炉を通過させることで導通を採ることができる(図2(d)右側の図)。
Next, the second semiconductor chip 17 is bonded (die-bonded) to the lower surface of the insulating resin sheet 14 with an adhesive, and then the terminals on the upper surface of the semiconductor chip 17 and the upper surfaces of the longer lead group are bonded with a wire bonder. The second semiconductor chip and the inner lead are connected by wire bonding the Au wire 16 to the electrical connection area. Thus, the second semiconductor chip is mounted on the lower surface of the lead frame for the semiconductor light emitting device and electrically connected.
The second chip 17 may be flip-chip connected. Conductivity can be obtained by aligning the solder balls mounted on the back surface of the chip and the inner leads plated with Au and then passing them through a reflow furnace (the right side of FIG. 2 (d)).

(めっき処理)
ワイヤーボンディングに先行してLFリード端の電気接続エリアの表面の酸化膜を除去して清浄な表面を形成した後、Agめっき層を形成しておくのが好ましい。めっきは、銀めっきに変えて、金めっき、パラジウムめっきとしても構わない。また、銀めっき、金めっき、パラジウムめっきを行うのに先立ち、耐熱拡散性に優れたNi(ニッケル)めっき等の下地めっきを行っても構わない。
(Plating treatment)
It is preferable to form an Ag plating layer after forming a clean surface by removing the oxide film on the surface of the electrical connection area at the end of the LF lead prior to wire bonding. The plating may be gold plating or palladium plating instead of silver plating. Further, prior to performing silver plating, gold plating, and palladium plating, base plating such as Ni (nickel) plating having excellent heat diffusion properties may be performed.

(モールド成型工程)
次に、LFに対し、金型を用いた樹脂モールド成型を行うことで、金属板及び半導体チップをモールド樹脂で所定形状に被覆する。モールド樹脂18は、一般に極性基を持つため、これら極性基がLF表面の酸化膜と結合して、LF金属とモールド樹脂との密着性が向上する効果がある。すなわち、モールド樹脂をLFに形成した酸化膜と接触させることで、モールド樹脂とLF金属板の界面の密着性が優れたものになり、耐湿信頼性の高いリードフレーム1が得られる。
(Molding process)
Next, the metal plate and the semiconductor chip are covered with a mold resin in a predetermined shape by performing resin mold molding using a mold on the LF. Since the mold resin 18 generally has polar groups, these polar groups are combined with an oxide film on the surface of the LF, and there is an effect of improving the adhesion between the LF metal and the mold resin. That is, by bringing the mold resin into contact with the oxide film formed on the LF, the adhesiveness at the interface between the mold resin and the LF metal plate becomes excellent, and the lead frame 1 with high moisture resistance reliability can be obtained.

樹脂モールド成型で用いる金型は、リードフレーム1が収まり射出樹脂が所望の形状となる凹部を予め形成してある金型を用いる。金型は、一般に蓋となる板状の上金型と下金型とで1組の構成である。下金型には、溶融するモールド樹脂を注入する注入口と、リードフレーム1を装填可能な凹部を内部空間として形成しておく。   As a mold used for resin molding, a mold in which a recess in which the lead frame 1 is accommodated and the injection resin has a desired shape is formed in advance. The mold generally has a set of a plate-shaped upper mold and a lower mold that serve as a lid. In the lower mold, an injection port for injecting a mold resin to be melted and a recess in which the lead frame 1 can be loaded are formed as an internal space.

樹脂モールド成型は、先ず、下金型の凹部にリードフレーム1を装填し、次に、上金型で下金型上に蓋をして型締めする。次いで、注入口から、内部空間内に加熱溶融したモールド樹脂を注入して、装填されたリードフレーム1にモールド樹脂18をモールド成型して樹脂が充填されたリードフレームを得る。ここで、モールド樹脂18が金型に注入される際、リードフレーム1のうち、樹脂の注入口の近傍の1単位フレームから、注入口から離れた部位にある別の1単位フレームへと、順次に樹脂が流れていき、樹脂モールドされていく。冷却後金型からはずせばモールドされた半導体装置19が得られる(図2(e))。   In resin molding, first, the lead frame 1 is loaded in the recess of the lower mold, and then the upper mold is covered with a lid on the lower mold and clamped. Next, a mold resin heated and melted is injected into the internal space from the injection port, and a mold resin 18 is molded into the loaded lead frame 1 to obtain a lead frame filled with the resin. Here, when the mold resin 18 is injected into the mold, the lead frame 1 is sequentially moved from one unit frame in the vicinity of the resin injection port to another one unit frame in a part away from the injection port. Resin flows and is molded with resin. If it is removed from the mold after cooling, a molded semiconductor device 19 is obtained (FIG. 2E).

また、樹脂モールドの際にリードフレーム1の表面と裏面にモールド樹脂18が付着しないよう、下金型の凹部の深さ(内部空間の高さ)はリードフレーム1の厚みと略同一に
形成する。それにより、金型内にリードフレーム1を装填した際に、リードフレーム1の表面は上金型の面に密着させ、裏面は下金型の面に密着させる。
Further, the depth of the recess of the lower mold (the height of the internal space) is formed to be substantially the same as the thickness of the lead frame 1 so that the mold resin 18 does not adhere to the front and back surfaces of the lead frame 1 during resin molding. . Thereby, when the lead frame 1 is loaded in the mold, the surface of the lead frame 1 is brought into close contact with the surface of the upper mold, and the back surface is brought into close contact with the surface of the lower mold.

このモールド成型で用いるモールド樹脂は、耐熱性、耐光性、熱導電性を有することが望ましく、熱可塑性樹脂あるいは熱硬化性樹脂を用いることができる。例えば、エポキシ樹脂、変性エポキシ樹脂、シルセシキオキサン系樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネイト樹脂、芳香族系ポリエステル樹脂(不飽和ポリエステル樹脂)、ポリアミド系樹脂(芳香族ポリアミド(PPA))、ポリフタルアミド(PPA)、液晶ポリマ(LCP)、シクロオレフィン系樹脂などの有機高分子材料が望ましく、1種の樹脂又は、複数種の樹脂の混合樹脂を用いて構わない。   The mold resin used in this molding is desirably heat resistance, light resistance, and thermal conductivity, and a thermoplastic resin or a thermosetting resin can be used. For example, epoxy resin, modified epoxy resin, silsesquioxane resin, silicone resin, acrylic resin, polycarbonate resin, aromatic polyester resin (unsaturated polyester resin), polyamide resin (aromatic polyamide (PPA)), poly Organic polymer materials such as phthalamide (PPA), liquid crystal polymer (LCP), and cycloolefin resin are desirable, and one kind of resin or a mixed resin of a plurality of kinds of resins may be used.

(金属めっき工程)
次に、図4(e)のように、モールド樹脂18から露出したアウターリードの表面に、耐熱拡散性に優れた光沢或いは半光沢のNi(ニッケル)めっきあるいはCo(コバルト)めっき等の硬質の下地めっき層1cを0.5〜8μmの厚さに形成する。
(Metal plating process)
Next, as shown in FIG. 4 (e), the surface of the outer lead exposed from the mold resin 18 is made of a hard material such as a glossy or semi-glossy Ni (nickel) plating or a Co (cobalt) plating having excellent heat diffusion properties. The base plating layer 1c is formed to a thickness of 0.5 to 8 μm.

特に、金属板の空隙をモールド樹脂で充填した後にモールド樹脂から露出したアウターリードの表面に金属めっき層を形成すると、リードの表面の一部にモールド樹脂が薄く残留していた場合、その部分には金属めっき層が形成されず、リード表面の残留汚染が容易に検出される。迅速に対応すれば結果として生産性に優れるという利点がある。   In particular, when the metal plating layer is formed on the surface of the outer lead exposed from the mold resin after filling the gap of the metal plate with the mold resin, if the mold resin remains thin on a part of the surface of the lead, No metal plating layer is formed, and residual contamination on the lead surface is easily detected. If it responds quickly, there is an advantage that productivity is excellent as a result.

(個片への分割)
次に、他面付けされた半導体装置を個片に分割する。分割された個片が、個々の半導体装置になる。専用ソケットにアウターリードが容易に収容されるように先端部が折り曲げ加工したり、樹脂モールドをさらに専用のケースで被覆することも行われる。
このようにして所望のマルチチップ対応の半導体装置が得られる(図2(f))。
(Division into pieces)
Next, the semiconductor device on the other side is divided into pieces. The divided pieces become individual semiconductor devices. The tip portion is bent so that the outer lead is easily accommodated in the dedicated socket, or the resin mold is further covered with a dedicated case.
In this manner, a desired multichip-compatible semiconductor device is obtained (FIG. 2F).

1、リードフレーム(又はその基材)
2、接続端子
3、Au線(WB)
4、アイランド
5、タイバー
7、ダムバー
6、吊りバー
8、サポートフレーム
9、インナーリード
10、アウターリード
11、第一のインナーリード
12.第二のインナーリード
13、アウターリード(詳細省略)
14、絶縁性樹脂シート
15、第一の半導体チップ(上側)
16、ワイヤーボンド
17、第二の半導体チップ(下側)
18、モールド樹脂
19、半導体装置
1. Lead frame (or its base material)
2, connection terminal 3, Au wire (WB)
4, island 5, tie bar 7, dam bar 6, suspension bar 8, support frame 9, inner lead 10, outer lead 11, first inner lead 12. Second inner lead 13, outer lead (details omitted)
14. Insulating resin sheet 15, first semiconductor chip (upper side)
16, wire bond 17, second semiconductor chip (lower side)
18, mold resin 19, semiconductor device

Claims (4)

リードフレーム中心部の上下に異なる半導体チップを搭載するためのリードフレームであって、少なくとも、
一方の半導体チップに対応するための該半導体チップに向かうインナーリード群と、別の半導体チップに対応するための該半導体チップに向かうインナーリード群と、前記いずれかのインナーリード群の端部に固定されて支持される有機絶縁樹脂シートからなる半導体チップ用アイランドと、を備えることを特徴とするマルチチップ用複合リードフレーム。
A lead frame for mounting different semiconductor chips above and below the center of the lead frame, at least,
An inner lead group directed to the semiconductor chip corresponding to one semiconductor chip, an inner lead group directed to the semiconductor chip corresponding to another semiconductor chip, and fixed to an end of one of the inner lead groups A multi-chip composite lead frame, comprising: an island for a semiconductor chip made of an organic insulating resin sheet that is supported.
前記有機絶縁樹脂シートが固定されるインナーリード群の先端部は、別のインナーリード群の先端部より中心に近く、且つ前記樹脂シートが収容されるように、ハーフエッチング加工されることで先端部以外より厚みが薄いことを特徴とする請求項1に記載のマルチチップ用複合リードフレーム。   The tip portion of the inner lead group to which the organic insulating resin sheet is fixed is closer to the center than the tip portion of another inner lead group, and the tip portion is half-etched so that the resin sheet is accommodated. The composite lead frame for multichip according to claim 1, wherein the thickness is thinner than the other. 請求項1又は請求項2に記載のマルチチップ用複合リードフレームを使用する半導体装置であって、半導体チップ用アイランドの一方の面に搭載された半導体チップは、一方のインナーリード群とワイヤボンディング接続され、他方の面に搭載された別の半導体チップも別のインナーリード群とワイヤボンディング接続され、その後所定のパッケージング加工が施されたことを特徴とする半導体装置。   3. A semiconductor device using the multi-chip composite lead frame according to claim 1 or 2, wherein the semiconductor chip mounted on one surface of the semiconductor chip island is connected to one inner lead group by wire bonding. The semiconductor device is characterized in that another semiconductor chip mounted on the other surface is also wire-bonded to another inner lead group and then subjected to a predetermined packaging process. 請求項1又は請求項2に記載のマルチチップ用複合リードフレームを使用する半導体装置であって、半導体チップ用アイランドの一方の面に搭載された半導体チップは、一方のインナーリード群とワイヤボンディング接続され、他方の面に搭載された別の半導体チップは別のインナーリード群とフリップチップ接続され、その後所定のパッケージング加工が施されたことを特徴とする半導体装置。   3. A semiconductor device using the multi-chip composite lead frame according to claim 1 or 2, wherein the semiconductor chip mounted on one surface of the semiconductor chip island is connected to one inner lead group by wire bonding. Another semiconductor chip mounted on the other surface is flip-chip connected to another inner lead group, and then subjected to a predetermined packaging process.
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