JP2013051223A - カメラモジュールおよび素子搭載用基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】カメラモジュールのさらなる低背化を可能にする技術を提供する。
【解決手段】半導体素子１２０が搭載された第１の素子搭載用基板１１０にはんだボール２７０を介してレンズ２９０およびチップ部品２２０が搭載された第２の素子搭載用基板２１０が積層されている。第２の素子搭載用基板２１０に、半導体素子１２０の設置領域に対応して開口部３００が設けられている。開口部３００に透明部材３１０が嵌め込まれており、透明部材３１０の外周は、開口部３００に露出する第２の素子搭載用基板２１０の内壁に接着剤３２０により固着されている。
【選択図】図１

Description

本発明は、撮像素子が搭載されたカメラモジュールおよびカメラモジュールで用いられる素子搭載用基板の製造方法に関する。

携帯電話、ＰＤＡ、ＤＶＣ、ＤＳＣといったポータブルエレクトロニクス機器には、人
物や風景を撮影できるカメラ機能が付加されるなどの高機能化が加速するなか、こうした
製品が市場で受け入れられるためには小型・軽量化が必須となっており、その実現のため
に高集積のシステムＬＳＩが求められている。

一方、これらのエレクトロニクス機器に対しては、より使い易く便利なものが求められ
ており、機器に使用されるＬＳＩに対し、高機能化、高性能化が要求されている。このた
め、ＬＳＩチップの高集積化に伴いそのＩ／Ｏ数が増大する一方でパッケージ自体の小型
化、薄型化の要求も強く、これらを両立させるために、半導体部品の高密度な基板実装に
適合した半導体パッケージの開発が強く求められている。このような要求に応えるため、
半導体部品を搭載する半導体モジュールについてはさらなる薄型化が求められている。

従来のポータブルエレクトロニクス機器の一例であるカメラモジュールについて説明す
る。

図１０は、従来のカメラモジュールの構造を示す断面図である。

図１０に示すように、従来のカメラモジュールでは、ＣＭＯＳ等の撮像素子３が電極部７を介して実装基板１に実装されている。筐体２は、実装基板１に固定されており、撮像素子３は筐体２の基端側の内部に配置されている。筐体２の先端側に、レンズ４を内蔵したレンズホルダ８が設けられている。レンズ４と撮像素子３との間に、赤外カットフィルターなどの光学フィルター１１が設置されている。光学フィルター１１は、レンズホルダ８に形成された保持部１３により保持されている。レンズ４が光学フィルター１１に近づいても、レンズ４を透過して光学フィルター１１の周辺部に入射する光の入射角がレンズ４が光学フィルター１１から離れているときと変わらないようにするため、光学フィルター１１は、撮像素子３の側に突出するように湾曲している。

特開２００５−０２７１５５号公報

従来のように、湾曲した光学フィルターを用いる場合には、平板状の光学フィルターを湾曲させる工程が別途必要となり、製造上の工程数が増えることで、製造コストの増加を招いていた。このため、カメラモジュールの低背化技術としては、製造コストを考慮すると現実的な技術ではなく、改良の余地が残されていた。

本発明はこうした課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、カメラモジュールのさらなる低背化を可能にする技術の提供にある。

本発明のある態様はカメラモジュールである。当該カメラモジュールは、半導体素子を搭載した第１の素子搭載用基板と、第１の素子搭載用基板の上方に設けられ、一方の主表面から他方の主表面に貫通する開口部が設けられている第２の素子搭載用基板と、半導体素子の周囲に設けられ、第２の素子搭載用基板に設けられている配線層と第１の素子搭載用基板に設けられている配線層とを電気的に接続する電気接続部材と、開口部の上方に設けられたレンズと、開口部に嵌め込まれ、特定の波長領域の電磁波が透過可能な透明部材と、を備え、第２の素子搭載用基板の面方向において、透明部材の外周の側面の少なくとも一部と、開口部の第２の素子搭載用基板の内壁とが重畳していることを特徴とする。

上記態様のカメラモジュールにおいて、第２の素子搭載用基板のレンズ側の主表面に対して、対応する側の透明部材の主表面が第２の素子搭載用基板の内部の方へ凹んでいてもよい。また、第２の素子搭載用基板は、無機充填材が充填された絶縁樹脂層を含み、透明部材は、無機充填材と熱膨張係数が同等であってもよい。

本発明の他の態様は素子搭載用基板の製造方法である。当該素子搭載用基板の製造方法は、配線基板の所定領域に開口部を形成する工程と、開口部が設けられた配線基板を、開口部に対応する領域に凹部を有する台座の上に載置する工程と、開口部に透明部材を嵌め込み、凹部で透明部材を支持させる工程と、透明部材と開口部の配線基板の内壁とを接着する工程と、を備えることを特徴とする。

上記態様の素子搭載用基板の製造方法において、開口部を形成する工程は、透明部材の角部に対応する領域に貫通孔を形成する工程と、貫通孔を結ぶように配線基板を切断する工程と、を備え、透明部材を開口部に嵌め込んだときに、透明部材の角部が貫通孔の形成領域の中に位置してもよい。

なお、上述した各要素を適宜組み合わせたものも、本件特許出願によって特許による保護を求める発明の範囲に含まれうる。

本発明によれば、カメラモジュールをさらに低背化することができる。

実施の形態１に係るカメラモジュールの構造を示す概略断面図である。 実施の形態２に係るカメラモジュールの構造を示す概略断面図である。 第２の素子搭載用基板の作製方法を示す工程図である。 第２の素子搭載用基板の作製方法を示す工程図である。 第２の素子搭載用基板の作製方法を示す工程図である。 第２の素子搭載用基板の作製方法を示す工程図である。 実施の形態３に係るカメラモジュールの構造を示す概略断面図である。 実施の形態に係るカメラモジュールを備えた携帯電話の構成を示す図である。 図８に示した携帯電話の部分断面図である。 従来のカメラモジュールの構造を示す断面図である。

以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。

（実施の形態１）
図１は、実施の形態１に係る半導体モジュールの一例としてのカメラモジュール１０の構造を示す概略断面図である。本実施の形態に係るカメラモジュール１０は、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話に搭載のカメラなどの撮像装置に用いられる。

実施の形態１に係るカメラモジュール１０は、第１の回路モジュール１００と、第１の回路モジュール１００の上に搭載された第２の回路モジュール２００とを備える。

第１の回路モジュール１００は、主な構成として第１の素子搭載用基板１１０と第１の素子搭載用基板１１０に実装された半導体素子１２０を備える。

第１の素子搭載用基板１１０は、第１の絶縁樹脂層１３０とガラスクロス１３２とを含む。このガラスクロス１３２は、第１の絶縁樹脂層１３０に複数層織り込まれていてもよい。

第１の絶縁樹脂層１３０は、たとえば、ＢＴレジン等のメラミン誘導体、液晶ポリマー、エポキシ樹脂、ＰＰＥ樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、ポリアミドビスマレイミド等の熱硬化性樹脂で形成することができる。

第１の絶縁樹脂層１３０に埋め込まれたガラスクロス１３２により、第１の素子搭載用基板１１０の剛性が高められている。

第１の絶縁樹脂層１３０の一方の主表面（本実施の形態では、回路素子搭載面）に所定パターンの第１の配線層１４０が設けられている。また、第１の絶縁樹脂層１３０の一方の主表面には、回路モジュール搭載用のはんだを接合するための第１の電極部１６０が設けられている。第１の電極部１６０については後述する。第１の配線層１４０を構成する材料としては銅が挙げられる。第１の配線層１４０の厚さは、たとえば２０μｍである。

第１の絶縁樹脂層１３０の一方の主表面に第２の絶縁樹脂層１５０が設けられている。第２の絶縁樹脂層１５０は、第１の電極部１６０の周囲および第１の電極部１６０を構成する第１の導体部１６２の上面周縁部を被覆している。言い換えると、第２の絶縁樹脂層１５０には、第１の電極部１６０の中央領域が露出するような開口が設けられている。なお、第２の絶縁樹脂層１５０は、たとえば、フォトソルダーレジストにより形成される。第２の絶縁樹脂層１５０の厚さは、たとえば８０〜１００μｍである。第２の絶縁樹脂層１５０は、第１の電極部１６０の周囲のみならず、第１の絶縁樹脂層１３０の周縁に沿って堤防状に設けられている。すなわち、第２の絶縁樹脂層１５０で囲まれた領域が凹部（キャビティ）となっている。

第１の電極部１６０は、第１の導体部１６２および第２の導体部１６４を含む。

第１の導体部１６２は、第１の配線層１４０と同層であり、第１の絶縁樹脂層１３０の一方の主表面に形成されている。さらに、第１の導体部１６２は、第１の配線層１４０と同等の厚さ（たとえば２０μｍ）を有する。第１の導体部１６２の径は、たとえば３５０μｍである。

第２の導体部１６４は、第１の導体部１６２の上面、第２の絶縁樹脂層１５０の側壁により形成された空間内に充填されている。すなわち、第２の導体部１６４の上面は、第２の絶縁樹脂層１５０に設けられた開口内に位置している。第２の導体部１６４の厚さは、たとえば４０μｍである。

なお、第２の導体部１６４の上面にＮｉ／Ａｕ層などの金めっき層が形成されていてもよい。金めっき層により第２の導体部１６４の酸化が抑制される。金めっき層としてＮｉ／Ａｕ層を形成する場合には、第２の導体部１６４側に設けられるＮｉ層の厚さは、たとえば１〜１５μｍであり、Ｎｉ層の上に設けられるＡｕ層の厚さは、たとえば０．０３〜１μｍである。

以上説明した第１の素子搭載用基板１１０に半導体素子１２０が搭載されている。具体的には、第２の絶縁樹脂層１５０で囲まれたキャビティに半導体素子１２０が実装されている。半導体素子１２０に設けられた素子電極１２１と所定領域の第１の配線層１４０とが金線１２２によりワイヤボンディング接続されている。また、ワイヤボンディングが接続される第１の配線層１４０の上面にＮｉ／Ａｕ層などの金めっき層が形成されていてもよい。

本実施の形態のカメラモジュール１０では、半導体素子１２０はＣＭＯＳ型イメージセンサ等の受光素子である。半導体素子１２０の表面には、フォトダイオードがマトリクス状に形成されており、各フォトダイオードは、受光量に応じて光を電荷量に光電変換し、画素信号として出力する。

第２の回路モジュール２００は、第２の素子搭載用基板２１０にチップ部品２２０が搭載された構成を有する。チップ部品２２０は、後述するレンズ２９０を駆動するための電子部品であり、たとえば、駆動ＩＣ、電源ＩＣ、抵抗や容量等の受動部品等が挙げられる。

第２の素子搭載用基板２１０は、基材となる第３の絶縁樹脂層２３０と、第３の絶縁樹脂層２３０の一方の主表面（本実施の形態では、半導体素子搭載面）に形成された第２の配線層２４０と、第３の絶縁樹脂層２３０の他方の主表面に形成された第２の電極部２４２と、第３の絶縁樹脂層２３０の一方の主表面に形成された第４の絶縁樹脂層２５０と、第３の絶縁樹脂層２３０の他方の主表面に形成された第５の絶縁樹脂層２５２とを含む。

第３の絶縁樹脂層２３０は、たとえば、ＢＴレジン等のメラミン誘導体、液晶ポリマー、エポキシ樹脂、ＰＰＥ樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、ポリアミドビスマレイミド等の熱硬化性樹脂で形成することができる。本実施の形態では、第３の絶縁樹脂層２３０に、補強材として無機充填材の一種であるガラスクロス２３２が埋設されている。第３の絶縁樹脂層２３０の厚さは、たとえば、２４０μｍである。

第３の絶縁樹脂層２３０の一方の主表面に所定パターンの第２の配線層２４０が設けられている。図示しないが、第２の配線層２４０の上にＮｉ／Ａｕ層などの金めっき層が形成されていてもよい。第２の配線層２４０の所定箇所において、チップ部品２２０がはんだ２２１により電気的に接続されている。また、第３の絶縁樹脂層２３０の他方の主表面に第２の電極部２４２が設けられている。図示しないが、第２の電極部２４２の上にＮｉ／Ａｕ層などの金めっき層が形成されていてもよい。第２の配線層２４０および第２の電極部２４２を構成する材料としては銅が挙げられる。第２の配線層２４０と第２の電極部２４２とは、第３の絶縁樹脂層２３０の所定位置において第３の絶縁樹脂層２３０を貫通するビア導体（図示せず）により電気的に接続されている。なお、特に図示していないが、第３の絶縁樹脂層２３０の他方の主表面には、第２の電極部２４２と同層で、かつ、同じ高さの配線層が設けられている。

第３の絶縁樹脂層２３０の一方の主表面にフォトソルダーレジストなどからなる第４の絶縁樹脂層２５０が設けられている。また、第３の絶縁樹脂層２３０の他方の主表面にフォトソルダーレジストなどからなる第５の絶縁樹脂層２５２が設けられている。第５の絶縁樹脂層２５２には、第２の電極部２４２にはんだボール２７０を搭載するための開口が設けられている。はんだボール２７０は、第５の絶縁樹脂層２５２に設けられた開口内において第２の電極部２４２に接続されている。第４の絶縁樹脂層２５０および第５の絶縁樹脂層２５２の厚さは、たとえば、３０μｍである。

第２の素子搭載用基板２１０には、鏡筒２８０が設置されており、鏡筒２８０の内周面に設けられたネジ部の螺合によって円筒型本体２８２と鏡筒２８０とが結合している。レンズ２９０は、円筒型本体２８２に取り付けられている。

また、半導体素子１２０の設置領域に対応して、第２の素子搭載用基板２１０を貫通する開口部３００が設けられている。この開口部３００に透明部材３１０が嵌め込まれている。透明部材３１０の外周の側面は、開口部３００に露出する第２の素子搭載用基板２１０の内壁に接着剤３２０により固着されている。透明部材３１０の厚さは、たとえば、３００μｍである。

透明部材３１０は、特定の波長領域の電磁波が透過可能な材料で形成されており、具体的には、ＩＲカットフィルターである。透明部材３１０をＩＲカットフィルターとすることにより、半導体素子１２０へ流入する過度な長波長の赤外線が遮断される。なお、透明部材３１０としては、ＩＲカットフィルターの他に、紫外線カットフィルター、カラーフィルター、偏光板、燃焼ガス透過フィルター、火炎測温フィルター、プラスチック測温フィルター、石英ガラス透過フィルター、ガラス測温用フィルターなどが挙げられる。

本実施の形態では、透明部材３１０のレンズ２９０側の主表面は、第４の絶縁樹脂層２５０のレンズ２９０側の主表面と面一であるが、透明部材３１０のレンズ２９０側の主表面と第４の絶縁樹脂層２５０のレンズ２９０側の主表面とが段差を形成していてもよい。言い換えると、第２の素子搭載用基板２１０の面方向において、透明部材３１０の外周の側面の少なくとも一部と、開口部３００の第２の素子搭載用基板２１０の内壁とが重畳していればよい。なお、本実施の形態では、配線基板は、第３の絶縁樹脂層２３０、第４の絶縁樹脂層２５０および第５の絶縁樹脂層２５２を含む第２の素子搭載用基板２１０である。

透明部材３１０の熱膨張係数は、第３の絶縁樹脂層２３０に埋設された無機充填材、本実施の形態では、ガラスクロス２３２の熱膨張係数と同等である。一般的に使用されるガラスクロスの熱膨張係数（℃^−１）は、５．５×１０^−６である。この場合、透明部材３１０の熱膨張係数（℃^−１）として５．５×１０^−６が好ましい。なお、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダ石英ガラスの熱膨張係数（℃^−１）は、それぞれ、５．６×１０^−７、５．２×１０^−６、８．５×１０^−６であり、ガラスクロスの構成材料によっては、透明部材３１０の熱膨張係数（℃^−１）の範囲として、５×１０^−７〜９×１０^−６の範囲を取り得る。なお、エポキシ樹脂の熱膨張係数（℃^−１）は、およそ６×１０^−５であり、透明部材３１０の熱膨張係数の範囲から外れている。

以上説明した半導体モジュールの一例としてのカメラモジュール１０によれば、以下に挙げる効果のうち少なくとも一つを得ることができる。
（１）第２の素子搭載用基板２１０に設けられた開口部３００に透明部材３１０を嵌め込むことにより、レンズ２９０の高さをより低くすることができ、ひいては、カメラモジュール１０の低背化を図ることができる。
（２）第２の素子搭載用基板２１０に設けられた開口部３００に透明部材３１０を嵌め込むことにより、第２の素子搭載用基板２１０の強度あるいは剛性を高めることができる。
（３）第２の素子搭載用基板２１０に設けられた開口部３００に第３の絶縁樹脂層２３０に埋設された無機充填材と熱膨張係数が同等の透明部材３１０を嵌め込むことにより、第２の素子搭載用基板２１０全体の熱応答性を均一にすることができる。これにより、チップ部品２２０や半導体素子１２０を表面実装する際に、第２の素子搭載用基板２１０に熱が加わった場合に、第２の素子搭載用基板２１０にねじれが生じることを抑制することができる。
（４）第２の素子搭載用基板２１０に設けられた開口部３００に透明部材３１０を嵌め込むことにより、透明部材３１０を固着する接着剤３２０は開口部３００内にとどまるため、チップ部品２２０の設置領域に関する設計自由度を向上させることができる。
（５）開口部３００に露出する第２の素子搭載用基板２１０の内壁が接着剤３２０で被覆されるため、開口部３００に露出する第２の素子搭載用基板２１０の内壁にダスト発生抑制のための端面保護樹脂を別途設ける必要がない。
（６）開口部が設けられた上側のプリント基板を下側のプリント基板に積層した後、上側のプリント基板の開口部を塞ぐように透明部材を設置する場合には、透明部材を設置するまでの間に下側のプリント基板上のＣＭＯＳイメージセンサー等の半導体素子にダストが落ちるおそれがある。これに対して、第２の素子搭載用基板２１０は、第２の素子搭載用基板２１０を第１の素子搭載用基板１１０に搭載する前に、開口部３００が透明部材３１０により塞がれているため、第２の素子搭載用基板２１０を第１の素子搭載用基板１１０に搭載することで、半導体素子１２０にダストが落ちることを抑制することができる。

（実施の形態２）
図２は、実施の形態２に係る半導体モジュールの一例としてのカメラモジュール１０の構造を示す概略断面図である。本実施の形態のカメラモジュール１０は、レンズ２９０および透明部材３１０の構成を除き、実施の形態１と同様である。

本実施の形態では、レンズ２９０が非対称の平凸レンズであり、透明部材３１０の側が凸になっている。

透明部材３１０の厚みは第２の素子搭載用基板２１０の厚みと同等であり、第２の素子搭載用基板２１０のレンズ２９０側の主表面（本実施の形態では、第４の絶縁樹脂層２５０の表面）に対して、透明部材３１０のレンズ２９０側の表面が凹んだ構造となっている。このため、実施の形態１で述べた効果の他に、レンズ２９０の凸側表面と透明部材３１０のレンズ２９０側の表面との距離を確保することができ、カメラモジュール１０のさらなる低背化を図ることができる。

（素子搭載用基板の作製方法）
図３（Ａ）、図３（Ｂ）、図４乃至図６は、第２の素子搭載用基板の作製方法を示す工程図である。なお、図５および図６では、図５（ｉ）、図６（ｉ）に第２の素子搭載用基板の平面図を示し、それぞれのＡ−Ａ’線に対応する断面図を図５（ｉｉ）、図６（ｉｉ）に示す。

まず、図３（Ａ）に示すように、第２の素子搭載用基板２１０を用意する。なお、図３乃至図６では、第２の素子搭載用基板２１０が簡略化して図示されており、第２の配線層２４０等は適宜省略されている。

次に、図３（Ｂ）に示すように、第２の素子搭載用基板２１０の所定領域（後の工程で組み付けられる透明部材３１０の角部に対応する領域）にドリル加工により貫通孔（捨て穴）３１２を形成する。より具体的には、貫通孔３１２の領域内に透明部材３１０の角部が位置するように貫通孔３１２を形成する。

次に、図４に示すように、四隅が貫通孔３１２となるような切断線３１４に沿って第２の素子搭載用基板２１０を切断し、開口部３００を形成する。開口部３００を形成する切断加工をルーターのみを用いて行うと、四隅の形状が点線３１６のように丸みを帯びるため、開口部３００内の有効面積が減少する。これに対して、開口部３００の四隅に貫通孔３１２を予め形成しておくことにより、開口部３００の四隅に障害となる部分がなくなるため、開口部３００内をより広く利用することができる。すなわち、より大きい面積の透明部材を開口部３００に嵌め込むことができる。

次に、図５（ｉ）および図５（ｉｉ）に示すように、台座（または治具）４００の上に、第２の素子搭載用基板２１０を載置した状態で、開口部３００に透明部材３１０を嵌め込み、仮置きを行う。なお、台座４００の中央部分の領域４１０は、台座４００の基準面４２０から深さＨだけ低くなっている。このため、開口部３００に透明部材３１０を嵌め込むと、透明部材３１０の下面は、第２の素子搭載用基板２１０の下面から深さＨだけ下方に突出する。言い換えると、透明部材３１０と第２の素子搭載用基板２１０の厚みが同じ場合には、中央部分の領域４１０が低くなった台座４００を用いることにより、透明部材３１０の上面が第２の素子搭載用基板２１０の上面より深さＨ分だけ低くなった状態で保持することができる。また、台座４００の中央部分の領域４１０の周囲に領域４１０よりさらに低い凹部４３０が設けられている。

次に、図６（ｉ）および図６（ｉｉ）に示すように、台座４００によって透明部材３１０が保持された状態で、透明部材３１０と開口部３００に露出した第２の素子搭載用基板２１０の内壁との間の隙間に接着剤３２０を流し込む。このとき、余分な接着剤が発生した場合に、余分な接着剤は凹部４３０に流れ込み、凹部４３０が液だめとして機能することにより、余分な接着剤が第２の素子搭載用基板２１０に付着することを抑制することができる。

なお、実施の形態２に係るカメラモジュール１０では、透明部材３１０の厚みと第２の素子搭載用基板２１０の厚みとが同等であり、第２の素子搭載用基板２１０の半導体素子１２０側の主表面に対して、透明部材３１０の半導体素子１２０側の表面が凸になっているが、これに限られない。透明部材３１０の厚みが第２の素子搭載用基板２１０よりも厚みが薄く、透明部材３１０の半導体素子１２０側の表面が第２の素子搭載用基板２１０の半導体素子１２０側の表面に対して凹んでいてもよい。この場合には、中央部分の領域４１０が基準面４２０より高くなっている台座４００を用いて、台座４００の上に、第２の素子搭載用基板２１０を載置した状態で、開口部３００に透明部材３１０を嵌め込み、仮置きを行う。

（実施の形態３）
図７は、実施の形態３に係る半導体モジュールの一例としてのカメラモジュール１０の構造を示す概略断面図である。本実施の形態のカメラモジュール１０は、透明部材３１０の厚みを除き、実施の形態２と同様である。

透明部材３１０の厚みは第２の素子搭載用基板２１０の厚みより薄い。第２の素子搭載用基板２１０のレンズ２９０側の主表面（本実施の形態では、第４の絶縁樹脂層２５０の表面）に対して、透明部材３１０のレンズ２９０側の表面が凹んでいる。一方、第２の素子搭載用基板２１０の半導体素子１２０側の主表面と、透明部材３１０の半導体素子１２０側の表面とは面一になっている。すなわち、第２の素子搭載用基板２１０の厚みと透明部材３１０の厚みとの差が第２の素子搭載用基板２１０のレンズ２９０側の主表面と透明部材３１０のレンズ２９０側の表面との段差に相当している。このため、実施の形態２と同様に、レンズ２９０の凸側表面と透明部材３１０のレンズ２９０側の表面との距離を確保することができ、カメラモジュール１０のさらなる低背化を図ることができる。さらに、第２の素子搭載用基板２１０の半導体素子１２０側の主表面と、透明部材３１０の半導体素子１２０側の表面とは面一であるため、はんだボール２７０の高さを低くして透明部材３１０と半導体素子１２０との間隔を狭めることができ、ひいてはカメラモジュール１０のさらなる低背化を図ることができる。

（携帯機器への適用）
次に、本発明の一態様のカメラモジュールを備えた携帯機器について説明する。なお、携帯機器として携帯電話に搭載する例を示すが、たとえば、個人用携帯情報端末（ＰＤＡ）、デジタルビデオカメラ（ＤＶＣ）、音楽プレーヤ、及びデジタルスチルカメラ（ＤＳＣ）といった電子機器であってもよい。

図８は実施の形態に係るカメラモジュール１０を備えた携帯電話の外観の構成を示す図である。なお、本願のカメラモジュールを搭載した構造については後述する。携帯電話１１１１は、第１の筐体１１１２と第２の筐体１１１４が可動部１１２０によって連結される構造になっている。第１の筐体１１１２と第２の筐体１１１４は可動部１１２０を軸として回動可能である。第１の筐体１１１２には文字や画像等の情報を表示する表示部１１１８やスピーカ部１１２４が設けられている。第２の筐体１１１４には操作用ボタンなどの操作部１１２２やマイク部１１２６が設けられている。なお、本発明の各実施形態に係るカメラモジュールのいずれかがこうした携帯電話１１１１の内部に搭載されている。

図９は図８に示した携帯電話の部分断面図（第１の筐体１１１２および第２の筐体１１１４の断面図）である。半導体モジュール１２００がはんだボール１２１０を介してプリント基板１１２８ａに搭載され、こうしたプリント基板１１２８ａを介して表示部１１１８などと電気的に接続されている。半導体モジュール１２００は、たとえば、各回路を駆動するための電源回路、ＲＦを発生するＲＦ発生回路、ＤＡＣ、エンコーダ回路、携帯電話の表示部に採用される液晶パネルの光源としてのバックライトの駆動回路、後述するカメラモジュール１０で取得された画像データなどの入出力回路などとして機能する。

実施の形態に係るカメラモジュール１０は、第２の筐体１１１４に設けられたプリント基板１１２８ｂに実装されている。第２の筐体１１１４には、光を透過させる窓部１１１５が設けられており、カメラモジュール１０に設けられたレンズが窓部１１１５に対向して設けられている。このカメラモジュール１０により携帯電話で撮影が可能になっている。撮影されたデータは、半導体モジュール１２００の処理によりメモリ（図示せず）に格納される。

本発明の実施形態に係る半導体モジュールを備えた携帯機器によれば、以下の効果を得ることができる。

上記実施の形態で示したカメラモジュール１０はさらなる低背化が図られているため、こうしたカメラモジュール１０を搭載した携帯機器の薄型化を図ることができる。

本発明は、上述の各実施の形態に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形を加えることも可能であり、そのような変形が加えられた実施の形態も本発明の範囲に含まれうるものである。

例えば、第１の絶縁樹脂層１３０が多層化され、配線層が第１の絶縁樹脂層１３０の多層化に応じて多層化されていてもよい。同様に、第３の絶縁樹脂層２３０が多層化され、配線層が第３の絶縁樹脂層２３０の多層化に応じて多層化されていてもよい。

１０ カメラモジュール、１００ 第１の回路モジュール、１１０ 第１の素子搭載用基板、１２０ 半導体素子、１３０ 第１の絶縁樹脂層、１３２ ガラスクロス、１５０ 第２の絶縁樹脂層、１６０ 第１の電極部、２００ 第２の回路モジュール、２１０ 第２の素子搭載用基板、２２０ チップ部品、２３０ 第３の絶縁樹脂層、２５０ 第４の絶縁樹脂層、２５２ 第５の絶縁樹脂層、２７０ はんだボール、２８０ 鏡筒、２８２ 円筒型本体、２９０ レンズ、３１０ 透明部材、３２０ 接着剤

Claims (6)

1. 半導体素子を搭載した第１の素子搭載用基板と、
   前記第１の素子搭載用基板の上方に設けられ、一方の主表面から他方の主表面に貫通する開口部が設けられている第２の素子搭載用基板と、
   前記半導体素子の周囲に設けられ、前記第２の素子搭載用基板に設けられている配線層と前記第１の素子搭載用基板に設けられている配線層とを電気的に接続する電気接続部材と、
   前記開口部の上方に設けられたレンズと、
   前記開口部に嵌め込まれ、特定の波長領域の電磁波が透過可能な透明部材と、
   を備え、
   前記第２の素子搭載用基板の面方向において、前記透明部材の外周の側面の少なくとも一部と、前記開口部の前記第２の素子搭載用基板の内壁とが重畳していることを特徴とするカメラモジュール。
2. 前記第２の素子搭載用基板のレンズ側の主表面に対して、対応する側の前記透明部材の主表面が前記第２の素子搭載用基板の内部の方へ凹んでいる請求項１に記載のカメラモジュール。
3. 前記第２の素子搭載用基板は、無機充填材が充填された絶縁樹脂層を含み、
   前記透明部材は、前記無機充填材と熱膨張係数が同等である請求項１または２に記載の素子搭載用基板。
4. 前記透明部材は、赤外線カットフィルターである請求項１乃至３のいずれか１項に記載の素子搭載用基板。
5. 配線基板の所定領域に開口部を形成する工程と、
   前記開口部が設けられた前記配線基板を、前記開口部に対応する領域に凹部を有する台座の上に載置する工程と、
   前記開口部に透明部材を嵌め込み、前記凹部で前記透明部材を支持させる工程と、
   前記透明部材と前記開口部の前記配線基板の内壁とを接着する工程と、
   を備えることを特徴とする素子搭載用基板の製造方法。
6. 前記開口部を形成する工程は、
   前記透明部材の角部に対応する領域に貫通孔を形成する工程と、
   前記貫通孔を結ぶように前記配線基板を切断する工程と、
   を備え、
   前記透明部材を前記開口部に嵌め込んだときに、前記透明部材の角部が前記貫通孔の形成領域の中に位置する請求項５に記載の素子搭載用基板の製造方法。

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