JP2013045880A - Manufacturing method of electronic device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、水晶振動子や圧電素子に代表される電子デバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an electronic device typified by a crystal resonator or a piezoelectric element.
水晶振動子は周波数特性に優れているため、デバイス、具体的にプリント基板実装部品の一つとして多用されている。ここで、上記水晶振動子の特性を安定させるには、外気の影響を遮断する必要があるので、密封容器に入れることが望ましい。このようなパッケージ構造の例としては、後述の「ガラス−セラミック複合体およびそれを用いたフラットパッケージ型圧電部品」などが知られている(特許文献1)。 Since a crystal resonator is excellent in frequency characteristics, it is frequently used as a device, specifically, one of printed circuit board mounting components. Here, in order to stabilize the characteristics of the crystal resonator, it is necessary to block the influence of outside air. As an example of such a package structure, a “glass-ceramic composite and a flat package type piezoelectric component using the same” described later is known (Patent Document 1).
この特許文献1に記載のパッケージは、ベースに水晶振動子片を納め、キャップを被せてなる電子デバイスにおいて、水晶振動子片とほぼ同じ熱膨張率の材料であるセラミックとガラス粉末とを混合したものを用いて、パッケージが構成されることを特徴とする。しかし、このパッケージは、ガラス−セラミック複合体であるため、1個のベースに水晶振動子片を載せ、キャップを被せることによる単品生産によってなるため、生産性が著しく低い。加えて、このパッケージは、ガラス−セラミック複合体の加工が難しいため、生産コストが嵩む。
In the package described in
これらの欠点を解消するべく、パッケージを加工容易なガラスで製造する方法が提案されており、一例として、後述の「電子部品パッケージ」などが知られている(特許文献2)。 In order to eliminate these drawbacks, a method of manufacturing a package with glass that is easy to process has been proposed. As an example, an “electronic component package” described later is known (Patent Document 2).
図6を用いて特許文献2記載の電子部品パッケージの概要を説明する。当該電子部品パッケージでは、ベース110に貫通孔を作製する工程(a)、貫通孔に低融点ガラスを流し込み、金属ピン120をはめ込む工程(b)、金属ピン120を押し込むと共に、ガラス板を凹状に加工する工程(c)、電極130を印刷によって形成する工程(d)、水晶振動子等の部品140を金属ピン120に搭載する工程(e)、封止材150を介してキャップ160とベース110を封止接合する工程(f)を経て、電子デバイス100が製造されている。ここで、(c)の工程において、加熱温度をガラスの軟化点温度(約1000℃)以上にしてガラスを溶着させることで、ベース110に密着固定した金属ピン120を得ることができるため、(f)の工程で確実に機密性を保つことが可能となり、低コストで電子デバイス100を製造できるというものである。
The outline of the electronic component package described in Patent Document 2 will be described with reference to FIG. In the electronic component package, a step (a) of forming a through hole in the
また、パッケージを加工容易なガラスで製造する他の例として、後述の「電子デバイスおよび製造方法」が知られている(特許文献3)。 Further, as another example of manufacturing a package with glass that can be easily processed, an “electronic device and manufacturing method” described later is known (Patent Document 3).
図7を用いて特許文献3記載の電子デバイスの概要を説明する。当該電子デバイス200では、絶縁基板208a,208bの貫通孔203a,203bに形成する貫通電極206a,206bとして、金属と無機材料からなる混合部材204a,204bと、金錫からなる合金部材205a,205bとから構成し、混合部材204a,204bを合金部材205a,205bにより蓋をするように構成した。これにより、貫通電極206a,206bの密閉性が向上するとともに、混合部材204a,204bと貫通孔203a,203bの側壁との間の接合性が向上し、かつ、混合部材204a,204bの空孔が充足されて外部からの不純物や水分の浸入が防止されるので密閉性が向上する。
The outline | summary of the electronic device of patent document 3 is demonstrated using FIG. In the
しかしながら、上記のパッケージには、以下の問題がある。まず、特許文献2記載のパッケージにおいて、金属ピン120が短い場合や、または、押し込み量が少ない場合には、金属ピン120が低融点ガラスに包まれてしまう。このため、工程(d)で形成する電極130と金属ピン120との電気的接続が十分に確保できないという問題がある。また、仮に設計通りに金属ピン120を押し込めたとしても、ベース110がガラスの軟化点以上の温度にさらされているため、ガラスが金属ピン120の先端をカバーする可能性がある。さらには、金属ピン120が約1000℃の温度にさらされる結果、金属ピン120の周囲で酸化膜が成長し、電極130と電子部品140とが導通しなくなるという課題もある。また、特許文献3記載のパッケージでは、金属と無機材料からなる混合部材204a,204bを貫通電極206a,206bに用いているため、抵抗が高くなるという問題がある。そこで、本発明の課題は、これらの問題を解決することにある。
However, the above package has the following problems. First, in the package described in Patent Document 2, when the
上述した課題を解決するために、本発明は以下の手段を提供する。
請求項1に記載の発明は、電子デバイスの製造方法であって、ガラス製のベース材の上下何れか一方の面に窪みを形成する工程と、前記窪みに金属粒子を充填する工程と、前記ガラスよりも融点の低い金属粒子を加熱して溶融させる工程と、少なくとも前記窪みの底面が外部へ露出するように前記ベース材を研磨することにより、研磨後のベース材に前記金属粒子に基づく貫通電極を備えたベースを形成する工程と、前記ベースの上下何れか一方の面に、前記貫通電極の一端と当接するように内部配線を形成する工程と、前記内部配線と電気的に導通するように前記ベースに電子部品を実装する工程と、を備えることを特徴とする。
In order to solve the above-described problems, the present invention provides the following means.
The invention according to
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の電子デバイスの製造方法であって、前記金属粒子は複数種類の金属から構成されることを特徴とする。 A second aspect of the present invention is the electronic device manufacturing method according to the first aspect, wherein the metal particles are composed of a plurality of types of metals.
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載の電子デバイスの製造であって、前記金属粒子は複数種類の粒子径からなる粒子が混在してなることを特徴とする。
Invention of Claim 3 is manufacture of the electronic device of
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の電子デバイスの製造方法であって、前記金属粒子は直径1〜100ナノメートルの粒子径からなる粒子を含み、当該金属粒子を構成する金属は、前記ガラスよりも融点が高いことを特徴とする。 Invention of Claim 4 is a manufacturing method of the electronic device of Claim 3, Comprising: The said metal particle contains the particle | grains which have a particle diameter of diameter 1-100 nanometer, The metal which comprises the said metal particle Has a melting point higher than that of the glass.
請求項5に記載の発明は、請求項1から4のいずれかに記載の電子デバイスの製造方法であって、1つの前記ベース上に複数の電子デバイスを一括形成した後、前記電子デバイスを個片化する工程を備えることを特徴とする。これにより、本発明に係る電子デバイスを一括で製造することができ、電子デバイスの大量生産における製造時間及び工程の短縮及び低コスト化が図れる。
The invention according to claim 5 is the method for manufacturing the electronic device according to any one of
請求項6に記載の発明は、請求項1から5の何れか一項に記載の電子デバイスの製造方法であって、前記ベースと接合可能であり、接合した状態で前記ベースとともに外気と遮断された空洞部を形成するカバーを、前記ベースに接合して前記電子部品を前記空洞部に密封する工程と、前記ベースの前記内部配線が形成された面と対向する面に、前記貫通電極の他端と当接するように外部電極を形成する工程と、を備えることを特徴とする。
The invention according to claim 6 is the method for manufacturing an electronic device according to any one of
本発明によれば、貫通電極を形成する上で、ベース材に形成された窪みに金属粒子を充填した後、その金属粒子を加熱して溶融させる工程を用いており、金属ピンをはめ込む/押し込む工程を用いない。そのため、本発明では、金属ピンが低融点ガラスに包まれる事態や金属ピンの周囲に酸化膜が形成されるなどの事態を避けることができるので、電子部品と外部電極との電気的導通を安定して保つことができる。さらに、本発明では、金属粒子としてガラスよりも融点の低いものを用いているので、ガラス製のベース材がガラスの軟化点以上の温度にさらされることもない。加えて、本発明では、窪みに金属粒子を充填して溶融し、ベース材を研磨するだけで容易に貫通電極を形成することができる。 According to the present invention, when forming the through electrode, a process is used in which the metal particle is filled in the recess formed in the base material, and then the metal particle is heated and melted. No process is used. Therefore, in the present invention, it is possible to avoid a situation in which the metal pin is encased in the low melting point glass or an oxide film is formed around the metal pin, so that the electrical conduction between the electronic component and the external electrode is stable. Can be kept. Furthermore, in the present invention, since the metal particles having a melting point lower than that of glass are used, the glass base material is not exposed to a temperature higher than the softening point of the glass. In addition, according to the present invention, the through electrode can be easily formed simply by filling the recess with the metal particles and melting them and polishing the base material.
したがって、本発明は、電子部品と外部電極との導通を安定して保ち、且つ、容易に貫通電極を形成できる電子デバイスの製造方法を提供できるという効果を奏する。 Therefore, the present invention has an effect that it is possible to provide a method of manufacturing an electronic device that can stably maintain conduction between the electronic component and the external electrode and can easily form a through electrode.
以下、本発明に係る電子デバイスの製造方法の第1の実施形態を図に基づいて詳細に説明する。図1は本発明に係る電子デバイスの断面図である。電子デバイス1は、ガラス製のベース10及びカバー60で囲まれた、外気と遮断された空洞部に電子部品50が搭載されている。そして、電子部品50は、実装部40、内部配線30、貫通電極20を介して、基板に実装される端子である外部電極70と電気的に接続されている。ここで、カバー60としては、ガラス製に限らず、例えば、電子デバイス1が圧力センサなどのMEMSデバイスの場合はシリコン製のもの等を用いることができる。また、カバー60はアルミ製のものを用いることもできる。
Hereinafter, a first embodiment of an electronic device manufacturing method according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of an electronic device according to the present invention. In the
図1に示す電子デバイス1は、電子部品50として音叉型の水晶振動子片を搭載した水振動子、圧電素子、半導体回路、LED、各種センサなど、ベース10上に搭載可能な各種の電子部品を搭載したものを含む。また、電子デバイス1は、電子部品としてLEDなどを搭載する場合、カバー60を有しなくてもよい。
An
貫通電極20は、例えば、AuSnなどの合金である。当該貫通電極20は、ベース10の高さ方向に亘って当該ベース10を上下に貫くように設けられ、両端部に連接された内部配線30と外部電極70とを電気的に接続する。
The through
内部配線30、外部電極70は、それぞれ金属膜で形成され、最表面が金、銀、白金等の貴金属を使用した層状からなる。ここで、貴金属は、イオン化傾向が小さく、耐腐食性があるため、内部配線30、外部電極70の長期的劣化を抑えることができるので、本願発明を用いた電子デバイス1の信頼性を向上させることができる。当該内部配線30、外部電極70は、各々ベース10(及び貫通電極20)の上下端部に配設される。なお、金属拡散を防ぐための拡散防止層として、貴金属で形成された表面層の下地にニッケル等の金属層を形成しても良い。また、内部配線30、外部電極70は、同一の材料を用いて形成することもできるが、異なる材料を用いて形成してもよい。
The
ところで、内部配線30、外部電極70の形成方法には、スパッタ法が一般的である。ただし、内部配線30、外部電極70は、めっき法を用いて形成してもよい。
Incidentally, a sputtering method is generally used as a method of forming the
また、内部配線30の上面に形成した、内部配線30と電子部品50とを接続する実装部40は、例えば銀ペースト等の導電接着剤を用いることができる。その場合、内部配線30と電子部品50とは、接続部である銀ペースト等の導電接着剤(実装部40)を焼成して接合される。しかし、電子部品50の構成によっては、接続部として導電接着剤を用いなくても良い。例えば、内部配線30の最表面に金の膜(金膜)を形成した場合、電子部品50上に形成した金バンプ(図示しない)を実装部40として用いることができる。その場合、電子部品50上に形成した金バンプと内部配線30の金膜とを熱圧着によって接合する金−金接合などを導電接着剤の代わりに用いて接合することができる。
Moreover, the mounting
また、外部電極70は、基板実装時の応力を緩和する銀ペースト等の導電性接着剤で形成することもできる。
The
(電子デバイスの製造方法)
次に、本実施形態に係る電子デバイス1の製造方法を図2から図4を用いて説明する。図2から図4は、ウェハーレベルで作製され、最後にダイシング等で切断されて得られる電子デバイスの製造方法を示す図である。なお、本実施形態に係る電子デバイス1は、これに限定されず、はじめから個別パッケージで形成されてもよい。
(Electronic device manufacturing method)
Next, a method for manufacturing the
図2は、本実施形態に係る電子デバイス1の製造工程を示す図である。
図2(a)は、ベース材9に凹形状の窪みを形成する工程を説明するための図である。当該窪みは、サンドブラスト、レーザー加工、ドリル加工、熱プレス加工等で製造する。
FIG. 2 is a diagram illustrating a manufacturing process of the
FIG. 2A is a view for explaining a process of forming a concave recess in the
図2(b)は、上記凹形状の窪みに金属粒子21を充填する工程を説明するための図である。本工程では、金属粒子21として、AuとSnの2種の粒子を充填する。金属粒子21に使用する金属の種類としては、Au、Snに限らなく、例えば、Zn、In,Pb、Ge,Siなども用いることができる。また、充填する金属粒子21は2種に限らず3種以上であってもよい。また、金属粒子のサイズ(粒子径)は単一である必要は無く、複数サイズのものを用いてもよい。この場合、窪みは最密充填に近い構造をとれるので、次工程での金属粒子21の溶融時における体積減少を防ぐことができる。また、1〜100nmサイズの金属粒子21を混在させることで、高融点金属からなる金属粒子21を用いた場合であっても、サイズ効果により金属粒子21が低融点化するため、窪みの充填に使用できる。
FIG. 2B is a view for explaining a process of filling the concave shape with the
図2(c)は、金属粒子21を加熱させて、合金22を得る工程を説明するための図である。本工程では、金属粒子21としてガラスの融点より低い金属を溶融することで合金22を得ている。この合金22は電子デバイス1の実装時の温度より高い融点であればよく、例として、AuSn合金があげられる。
FIG. 2C is a view for explaining a process of obtaining the
図2(d)は、ベース材9の研磨工程を説明するための図である。少なくとも窪みの底面が外部へ露出するように(具体的には、ベース材9の上下の面と合金22の上下端面とが同じ高さ位置で且つ平行な面となるように)ベース材9を研磨することにより、窪みに充填された合金22が、貫通電極20として機能する。また、貫通電極20を備えた研磨後のベース材9がベース10となる。ここで、図3、図4は、図2(c)の状態での貫通電極20となる部分を拡大した図である。具体的には、図3は、窪みに充填された合金22の一部がベース材9の上面よりも上方に突出した状態を示す図である。一方、図4は、窪みに充填された合金22の上端面がベース材9の上面に対して凹状に形成された状態を示す図である。そして、この図3又は図4に示す状態において、ベース材9の上下の面と合金22の上下端面とが同じ高さ位置で且つ平行な面となるように、図3又は図4に示す破線位置までベース材9を上下面から研磨することにより、合金22の状態(窪みへの形成のされ方)によらず、良好な貫通電極20を形成できる。
FIG. 2D is a diagram for explaining a polishing process of the
図2(e)は、内部配線30を貫通電極20のベース10の一の面(上下何れか一方の面であり、ここでは図2(d)に示すベース10を上下反転させた状態での上面)側の端面上と、ベース10の上記一の面上とにスパッタ法を用いて形成し、電子部品50を設置し、内部配線30と電子部品50とを実装部40を介して接続する電子部品接続工程を説明するための図である。ここで、内部配線30と電子部品50とを接続する実装部40は、例えば銀ペースト等の導電接着剤を用いることができる。その場合、内部配線30と電子部品50とは、接続部である銀ペースト等の導電接着剤を焼成して接合される。また、電子部品50の構成によっては、接続部として導電接着剤を用いなくても良い。例えば、内部配線30の最表面に金を使用した場合、電子部品50上に形成した金バンプを実装部40として用いることができる。その場合、電子部品40上に形成した金バンプと内部配線30の金膜とを熱圧着によって接合する金−金接合などを導電接着剤の代わりに用いて接合することができる。
FIG. 2E shows the
図2(f)は、ベース10に搭載された電子部品50を保護するため、凹状に加工したカバー60をベース10と接合するキャップ接合工程を説明するための図である。この工程において、ベース10の上記一の面とカバー60の凹状箇所とで外気と遮断された空洞部を形成する。これにより、空洞部に電子部品を密封した状態で配設できる。また、カバー60の材質は、接合方法や、真空度やコスト等などの電子部品50に要求される仕様を考慮して、例えば、シリコン、ガラス、アルミニウム等を、適宜に選択すればよい。例えば、電子部品50が水晶振動子片であり、ベース10とカバー60との接合後に周波数調整をする場合には、カバー60にはガラス製の部材を選択することが望ましい。また、カバー60とベース10との接合方法としては、例えば、接着や陽極接合、金−金接合等を用いることができる。なお、ベース10が凹状に加工されている場合、カバー60は凹状に形成される必要はない。この場合、ベース10の凹状箇所とカバー60の一方の面(下面)とで空洞部が形成されるので、電子部品は当該空洞部に設けられていればよい。
FIG. 2F is a diagram for explaining a cap joining step for joining the
図2(g)は、外部配線70を貫通電極21のベース10の上記一の面側の端面と反対の端面上と、ベース10の一の面と反対の面(下面)上とにスパッタ法を用いて形成する工程を説明するための図である。ここで、内部配線30、外部電極70はそれぞれスパッタ法、蒸着法とフォトリソ法を組み合わせて形成してもよい。
In FIG. 2G, the
図2(h)は、パッケージを個片化する工程を説明するための図である。すなわち、図2(h)が示唆する工程は、1つのベース10上に複数の電子デバイスを一括形成した後、電子デバイスを個片化する工程である。この工程において、カバー60の材質によって.個片化する方法は変わるが、一例として、ダイシング、またはレーザーカットによって電子デバイスの個片化を行うことができる。
FIG. 2H is a diagram for explaining the process of dividing the package into individual pieces. That is, the step suggested by FIG. 2H is a step of forming a plurality of electronic devices on one
以上により、本実施形態に係る電子デバイス1の製造方法によると、貫通電極20を形成する上で、ベース材9に形成された窪みに金属粒子21を充填した後、その金属粒子21を加熱して溶融させる工程を用いており、金属ピンをはめ込む/押し込む工程を用いない。そのため、電子デバイス1では、金属ピンが低融点ガラスに包まれる事態や金属ピンの周囲に酸化膜が形成されるなどの事態を避けることができるので、電子部品50と外部電極70との電気的導通を安定して保つことができる。さらに、電子デバイス1では、金属粒子21としてガラスよりも融点の低いものを用いているので、ガラス製のベース材9がガラスの軟化点以上の温度にさらされていることもない。さらに、電子デバイス1では、窪みに金属粒子21を充填して溶融し、ベース材9を研磨するだけで容易に貫通電極20を形成することができる。
As described above, according to the method for manufacturing the
したがって、本発明は、電子部品と外部電極との導通を安定して保ち、且つ、容易に貫通電極を形成可能な電子デバイスの製造方法といえる。 Therefore, the present invention can be said to be a method for manufacturing an electronic device that can stably maintain conduction between the electronic component and the external electrode and can easily form a through electrode.
また、本実施形態に係る電子デバイス1の製造方法によると、金属粒子21はAuとSnのように複数種類の金属から構成できる。つまり、金の融点は1064℃であるため、ベース材の融点より高く、金単体を溶融して使用することは難しいが、例えば、金80wt%錫20wt%の共晶温度は約280℃であり、電子デバイス1の基板への実装時のリフロー温度(約260℃)よりも高く、ベース材の融点よりも低い温度で溶融できるものとなるので、実用可能な電子デバイスを製造できる。また金錫の割合は金80wt%錫20wt%に限定されるものでなく、例えば、金50wt%錫50wt%でもよい。
Moreover, according to the manufacturing method of the
また、電子デバイス1において、金属粒子21は複数種類の粒子径からなるものを混在させることができる。この場合、窪みは最密充填に近い構造をとれるので、次工程での金属粒子21の溶融時における体積減少を防ぐことができる。
In the
また、本実施形態に係る電子デバイス1の製造方法によると、金属粒子は直径1〜100ナノメートルの粒子径からなる粒子を含み、当該金属粒子21を構成する金属は、ガラスよりも融点が高いものを用いる。つまり、高融点金属からなる金属粒子21を用いた場合であっても、サイズ効果により金属粒子21が低融点化するため、窪みの充填に使用できる。
Moreover, according to the manufacturing method of the
また、本実施形態に係る電子デバイス1の製造方法によると、図2(h)に示したように、1つのベース10上に複数の電子デバイス1を一括形成した後、電子デバイス1を個片化することができる。そのため、本発明に係る電子デバイスを一括で製造することができ、電子デバイスの大量生産における製造時間及び工程の短縮及び低コスト化が図れる。
In addition, according to the method for manufacturing the
(第2の実施形態)
次に、本発明に係る電子デバイスの製造方法の第2の実施形態を図5を用いて説明する。なお、図5(e)以外の工程は、図2で述べた各工程と同一工程のため、以下ではその説明を省略し、図2と異なる工程のみを説明する。図5は、本実施形態に係る電子デバイスの製造工程を示す図である。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the electronic device manufacturing method according to the present invention will be described with reference to FIG. Since steps other than FIG. 5E are the same as the steps described in FIG. 2, the description thereof will be omitted below, and only the steps different from FIG. 2 will be described. FIG. 5 is a diagram illustrating a manufacturing process of the electronic device according to the present embodiment.
図5(e)は、内部配線30を貫通電極20のベース10の一の面(図2(e)と上下反対の面)側の端面上と、ベース10の当該一の面上とにスパッタ法を用いて形成し、電子部品50を設置し、内部配線30と電子部品50とを実装部40を介して、接続する電子部品接続工程を説明するための図である。図5(e)が図2(e)と異なる点は、内部配線30を形成する面が相違すること(上下逆転していること)である。レイアウトや特性の関係から、内部配線30を形成する面は、図2(e)及び図5(e)のどちらの構成にしてもよい。
FIG. 5E shows that the
本発明の電子デバイスは、例えば、本発明の電子デバイスを発振子として用いた発振器又は時計、本発明の電子デバイスを計時部に備えた携帯情報機器、本発明の電子デバイスを時刻情報などの電波を受信部に備えた電波時計等の電子機器に用いることができる。 The electronic device of the present invention includes, for example, an oscillator or a clock using the electronic device of the present invention as an oscillator, a portable information device including the electronic device of the present invention in a timekeeping unit, and an electronic device of the present invention as a radio wave such as time information. Can be used for an electronic device such as a radio timepiece provided in the receiver.
1 電子デバイス
9 ベース材
10 ベース
11 犠牲材
20 貫通電極
21 金属粒子
22 合金
30 内部配線
40 実装部
50 電子部品
60 カバー
70 外部電極
100 電子デバイス
110 ベース
120 金属ピン
130 電極
140 電子部品
150 封止材
160 キャップ
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記窪みに金属粒子を充填する工程と、
前記ガラスよりも融点の低い金属粒子を加熱して溶融させる工程と、
少なくとも前記窪みの底面が外部へ露出するように前記ベース材を研磨することにより、研磨後のベース材に前記金属粒子に基づく貫通電極を備えたベースを形成する工程と、
前記ベースの上下何れか一方の面に、前記貫通電極の一端と当接するように内部配線を形成する工程と、
前記内部配線と電気的に導通するように前記ベースに電子部品を実装する工程と、
を備えることを特徴とする電子デバイスの製造方法。 Forming a depression on one of the upper and lower surfaces of the glass base material;
Filling the hollow with metal particles;
Heating and melting metal particles having a melting point lower than that of the glass;
Polishing the base material so that at least the bottom surface of the recess is exposed to the outside, thereby forming a base including a through electrode based on the metal particles in the base material after polishing;
Forming an internal wiring on one of upper and lower surfaces of the base so as to be in contact with one end of the through electrode;
Mounting an electronic component on the base so as to be electrically connected to the internal wiring;
The manufacturing method of the electronic device characterized by the above-mentioned.
前記ベースの前記内部配線が形成された面と対向する面に、前記貫通電極の他端と当接するように外部電極を形成する工程と、
を備えることを特徴とする請求項1から5の何れか一項に記載の電子デバイスの製造方法。 A step of joining the base to form a cavity portion that can be joined to the base and is shielded from outside air together with the base, and sealing the electronic component to the cavity portion;
Forming an external electrode on the surface of the base facing the surface on which the internal wiring is formed so as to contact the other end of the through electrode;
The method for manufacturing an electronic device according to any one of claims 1 to 5, further comprising:
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2011
- 2011-08-24 JP JP2011182440A patent/JP2013045880A/en not_active Withdrawn
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