JP2013043797A - Insulating film composition - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an insulating film composition for forming an insulating film or a protective layer (hereinafter called as an insulating film or the like) which is much higher in a withstand voltage, wear resistance, heat conductivity, and scratch resistance.SOLUTION: Since alumina powder is contained in thick film insulating paste with glass as a main component, it is possible to obtain an insulating film of a fixing heater or an insulating film which is suitable for the protective layer of a thermal print head, and high in hardness, high in wear resistance or scratch resistance, and high in heat conductivity and high voltage resistance. Since the aspect ratio of the alumina powder is as small as 1.2 or lower, it is possible to obtain packing density, and to further increase the improvement effect of the hardness of the insulating film or the like. Since the volume percentage of the alumina powder is as large as 25(%) or higher, it is possible to further increase the improvement effect of the hardness or heat conductivity of the insulating film or the like, and since the volume percentage is kept in 60(%) or lower, it is possible to obtain the strong insulating film or the like.

Description

本発明は、基材上に備えられる電極や抵抗発熱体等を保護する等の目的で設けられる絶縁膜、特に複写機の定着ヒータの絶縁膜やサーマルプリントヘッドの発熱体を覆う保護層等の形成に好適な絶縁膜組成物に関する。   The present invention provides an insulating film provided for the purpose of protecting an electrode and a resistance heating element provided on a substrate, particularly a protective layer covering an insulating film of a fixing heater of a copying machine or a heating element of a thermal print head. The present invention relates to an insulating film composition suitable for formation.

例えば、トナー画像を紙等の被印刷物に転写して定着する形式の複写機では、その定着装置においてその被印刷物が加熱されつつ加圧されることによって、転写されたトナーが溶融させられてその紙等に定着させられる。定着装置には、その被印刷物を加熱するための定着ヒータと、その被印刷物を定着ヒータに向かって加圧しつつ一方向に送るための加圧ローラとが備えられている。このような定着装置の一形式として、定着ヒータを平板長尺状に形成すると共に、加圧ローラとの間にその回転に伴って回転させられる耐熱樹脂製の定着フィルムを設けて、定着装置を小型化すると共にその熱容量を低下させたものがある。   For example, in a copying machine of a type in which a toner image is transferred and fixed on a printed material such as paper, the transferred toner is melted by applying pressure while the printed material is heated in the fixing device. It can be fixed on paper. The fixing device includes a fixing heater for heating the printed material and a pressure roller for feeding the printed material in one direction while pressing the printed material toward the fixing heater. As one type of such a fixing device, a fixing heater is formed in a long plate shape, and a fixing film made of a heat-resistant resin that is rotated with the rotation is provided between the pressure roller and the fixing device. There is one that has been reduced in size and reduced its heat capacity.

上記の定着ヒータは、例えば、ガラスやセラミックス等から成る平板状の基板の表面に、印刷或いは転写等の適宜の方法でAg/Pd合金等から成る抵抗発熱体層を設けたものである。この抵抗発熱体層は、例えばその両端部においてAg等から成る電極端子に接続されると共に、その表面がガラスを主成分とする絶縁膜で覆われている。このような絶縁膜は、平板状の定着ヒータに限られず、円筒状の絶縁性基材の外周面に抵抗発熱体層を設けた定着ローラにも設けられている。   In the fixing heater, for example, a resistance heating element layer made of an Ag / Pd alloy or the like is provided on the surface of a flat substrate made of glass, ceramics, or the like by an appropriate method such as printing or transfer. The resistance heating element layer is connected, for example, to electrode terminals made of Ag or the like at both ends thereof, and the surface thereof is covered with an insulating film containing glass as a main component. Such an insulating film is not limited to a flat fixing heater, but is also provided on a fixing roller having a resistance heating element layer provided on the outer peripheral surface of a cylindrical insulating substrate.

また、サーマルプリンタでは、その印字部において、記録紙を一方向に送りつつ加熱することにより、その記録紙上に画像を形成する。感熱記録紙を用いる形式のものでは、加熱されることによって感熱記録紙に設けられた感熱層中の感熱色素が発色させられて画像が形成される。また、熱転写インクリボンを用いる形式のものでは、加熱することにより溶融し或いは昇華したインクが記録紙に転写させられて画像が形成される。この場合は記録紙に普通紙が用いられる。上記印字部には、感熱記録紙や熱転写インクリボンを加熱するためのサーマルプリントヘッドと、記録紙をそのサーマルプリントヘッドに向かって押圧しつつ一方向に送るための加圧ローラとが備えられている。このサーマルプリントヘッドは、例えば、セラミック基板の一面に蓄熱層を介して設けられたライン状の抵抗発熱体を保護層で覆った基本構造を備えている。   In a thermal printer, an image is formed on a recording sheet by heating the recording sheet while feeding the recording sheet in one direction. In the type using the thermal recording paper, when heated, the thermal dye in the thermal layer provided on the thermal recording paper is colored to form an image. Further, in the type using the thermal transfer ink ribbon, the ink melted or sublimated by heating is transferred onto the recording paper to form an image. In this case, plain paper is used as the recording paper. The printing unit includes a thermal print head for heating the thermal recording paper and the thermal transfer ink ribbon, and a pressure roller for feeding the recording paper in one direction while pressing the recording paper toward the thermal print head. Yes. This thermal print head has a basic structure in which, for example, a line-shaped resistance heating element provided on one surface of a ceramic substrate via a heat storage layer is covered with a protective layer.

また、上述したような絶縁膜或いは保護層は、例えば回路基板においても、その表面に設けられた電極等の導体膜や電子部品等を保護する目的で形成されている。   The insulating film or the protective layer as described above is formed for the purpose of protecting a conductor film such as an electrode provided on the surface of the circuit board or an electronic component, for example, also on a circuit board.

特開平10−338543号公報JP 10-338543 A 特開平11−147711号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-147711 特開2001−226117号公報JP 2001-226117 A 特開平10−193659号公報JP-A-10-193659 特開平04−073163号公報Japanese Patent Laid-Open No. 04-073163

ところで、上記のような定着ヒータの絶縁膜や、サーマルプリントヘッドの保護層には、発生した熱が被印刷物に効率よく伝達されるように熱伝導率が高いこと、硬度が高く延いては耐摩耗性や耐スクラッチ性が高く被印刷物に擦られても摩耗し難く傷も付きにくいこと、等が求められる。また、定着ヒータの絶縁膜においては、更に、高い信頼性を得るために、耐電圧が可及的に高く絶縁破壊が容易に起きないことも求められる。また、回路基板の絶縁膜にも、電子部品から発生した熱を容易に放熱させ、或いは絶縁破壊によって保護機能が失われることを避けるべく、熱伝導率や耐電圧が可及的に高いことが望まれている。   By the way, the insulating film of the fixing heater and the protective layer of the thermal print head as described above have a high thermal conductivity so that the generated heat is efficiently transmitted to the printing material, and a high hardness and resistance. It is required to have high wear resistance and scratch resistance, and are difficult to be worn and scratched even when rubbed against a printing material. In addition, the insulating film of the fixing heater is required to have a high withstand voltage as much as possible and to prevent dielectric breakdown easily in order to obtain high reliability. Also, the thermal conductivity and withstand voltage must be as high as possible in the insulating film of the circuit board in order to easily dissipate the heat generated from the electronic components or to prevent the protective function from being lost due to dielectric breakdown. It is desired.

例えば、スーパーマーケットのレジスタや携帯型の感熱式プリンタでは、薄膜式のサーマルプリントヘッドが主流であるが、薄膜式では保護層をスパッタで形成することが一般に行われていた。ガラスペーストで保護層を形成すると、熱伝導性、耐摩耗性、耐スクラッチ性が不足するためである。しかしながら、スパッタ法を利用すると製造コストが増大するため、ガラスペーストでこれらの特性を改善することが望まれている。また、携帯型プリンタでは、特に電池(充電池を含む)の持ちのよいことが望まれるが、保護層の熱伝導率が低いと印字濃度等の品質と電池の持ちを両立させることが困難になる。   For example, in supermarket registers and portable thermal printers, thin film thermal print heads are the mainstream, but in the thin film type, a protective layer is generally formed by sputtering. This is because when the protective layer is formed of glass paste, thermal conductivity, wear resistance, and scratch resistance are insufficient. However, since the manufacturing cost increases when the sputtering method is used, it is desired to improve these characteristics with a glass paste. In portable printers, it is particularly desirable that batteries (including rechargeable batteries) have good durability. However, if the thermal conductivity of the protective layer is low, it is difficult to achieve both quality such as print density and battery durability. Become.

上述したような要求に対して、ガラス粉末の5〜45(wt%)をアルミナ粉末に置き換えることによって耐電圧を高めた定着ヒータや厚膜抵抗体のカバーコートに用いるガラスペーストが提案されている(例えば、特許文献1を参照。)。900(℃)以下の比較的低い焼成温度で緻密な膜を形成し得る低軟化点ガラスを用いると耐電圧が低くなる傾向に対し、上記のガラスペーストは膜厚を厚くすることなく耐電圧を高めることを目的とする。しかしながら、上記ガラスペーストから生成される絶縁膜は、耐電圧が未だ低く、一層の向上が望まれていた。   In response to the above requirements, glass pastes have been proposed for use in fixing heaters and thick film resistor cover coats that have increased withstand voltage by replacing 5 to 45 wt% of the glass powder with alumina powder. (For example, see Patent Document 1). When using a low softening point glass that can form a dense film at a relatively low firing temperature of 900 (° C.) or less, the withstand voltage tends to be low, whereas the above glass paste has a high withstand voltage without increasing the film thickness. The purpose is to increase. However, the insulating film produced from the glass paste has a low withstand voltage, and further improvement has been desired.

また、薄膜トランジスタやサーマルプリントヘッド等の各種電子部品の表面に滑らかな耐摩耗性のオーバーコート層(すなわち保護層)を形成するに際して、平均粒径が0.1(μm)以下の球状の無機質粒子を焼成時にガラスを形成する金属有機物に混合することが提案されている(例えば、特許文献5を参照。)。この保護層形成技術は、スパッタリング等の高価な薄膜技術を用いることなく保護層に要求される耐摩耗性および平滑性を満足させようとするものである。しかしながら、上記のような混合物を用いた保護層は、未だ十分な耐摩耗性を有するものではなく、一層の改善が求められていた。   In addition, when forming a smooth wear-resistant overcoat layer (that is, a protective layer) on the surface of various electronic components such as thin film transistors and thermal print heads, spherical inorganic particles having an average particle size of 0.1 (μm) or less are fired. It has been proposed to mix with metal organics that sometimes form glass (see, for example, Patent Document 5). This protective layer forming technique is intended to satisfy the wear resistance and smoothness required for the protective layer without using an expensive thin film technique such as sputtering. However, the protective layer using the mixture as described above still does not have sufficient wear resistance, and further improvement has been demanded.

本発明は、以上の事情を背景として為されたものであって、その目的は、耐電圧、耐摩耗性、熱伝導率、および耐スクラッチ性が一層高い絶縁膜や保護層(以下、絶縁膜等という)を形成し得る絶縁膜組成物を提供することにある。   The present invention has been made against the background described above, and its purpose is to provide an insulating film or protective layer (hereinafter referred to as insulating film) having higher withstand voltage, wear resistance, thermal conductivity, and scratch resistance. Etc.) is provided.

斯かる目的を達成するため、本発明の要旨とするところは、所定の基材の表面に絶縁膜を形成するために用いられるガラスを主成分とする絶縁膜組成物であって、アスペクト比が1.2以下のアルミナ粉末を絶縁膜組成物全体に占める体積比率x(%)と平均粒径y(μm)が以下の関係式(1)を満たす範囲で含むことにある。
0.09exp(9.8/(60−x))+0.24≦y≦7
(但し、25≦x<60) ・・・(1)
In order to achieve such an object, the gist of the present invention is an insulating film composition mainly composed of glass used for forming an insulating film on the surface of a predetermined substrate, and having an aspect ratio. The volume ratio x (%) and the average particle size y (μm) of the alumina powder of 1.2 or less in the entire insulating film composition are included in a range satisfying the following relational expression (1).
0.09exp (9.8 / (60−x)) + 0.24 ≦ y ≦ 7
(However, 25 ≦ x <60) (1)

このようにすれば、ガラスを主成分とする絶縁膜組成物には、アルミナ粉末が含まれているため、その絶縁膜組成物は複写機の定着ヒータの絶縁膜やサーマルプリントヘッドの保護層に好適で、硬度が高く延いては耐摩耗性や耐スクラッチ性が高く、且つ熱伝導率や耐電圧が高い絶縁膜等を得ることができる。このとき、アルミナ粉末のアスペクト比が1.2以下と小さく球形に近いことから、膜形成時に高い充填密度が容易に得られるので、アルミナ粉末が含まれることによる絶縁膜等の硬度等の改善効果が一層高められる。また、アルミナ粉末の体積比率xが25(%)以上と十分に大きいことから、アルミナ粉末が含まれることによる絶縁膜等の硬度や熱伝導率等の改善効果が一層高められ、体積比率xが60(%)未満に留められていることから、強固な絶縁膜等を得ることができる。また、アルミナ粉末の平均粒径yが前記(1)式を満たし、0.09exp(9.8/(60−x))+0.24(μm)以上、すなわち0.35(μm)以上であることから、形成した絶縁膜等からアルミナ粒子が脱落することが十分に抑制され延いては一層高い耐スクラッチ性が得られる。また、平均粒径yが7(μm)以下に留められていることから、形成する絶縁膜等の膜厚を例えば10(μm)以下と十分に薄くしても膜表面の凹凸が十分に小さくなり、焼成しただけでも十分に高い平滑性を有する絶縁膜等を得ることができる。   In this way, since the insulating film composition mainly composed of glass contains alumina powder, the insulating film composition is applied to the insulating film of the fixing heater of the copying machine and the protective layer of the thermal print head. An insulating film having high hardness, high wear resistance and scratch resistance, and high thermal conductivity and withstand voltage can be obtained. At this time, since the aspect ratio of the alumina powder is as small as 1.2 or less and is nearly spherical, a high packing density can be easily obtained at the time of film formation. Enhanced. Moreover, since the volume ratio x of the alumina powder is sufficiently large as 25 (%) or more, the effect of improving the hardness, thermal conductivity, etc. of the insulating film and the like due to the inclusion of the alumina powder is further enhanced, and the volume ratio x is Since it is kept below 60 (%), a strong insulating film or the like can be obtained. The average particle size y of the alumina powder satisfies the above formula (1) and is 0.09exp (9.8 / (60−x)) + 0.24 (μm) or more, that is, 0.35 (μm) or more. The alumina particles are sufficiently prevented from falling off from the film or the like, and as a result, higher scratch resistance is obtained. In addition, since the average particle size y is kept at 7 (μm) or less, the unevenness of the film surface is sufficiently small even if the thickness of the insulating film to be formed is sufficiently thin, for example, 10 (μm) or less. Thus, an insulating film having sufficiently high smoothness can be obtained even by baking.

なお、本願において「アスペクト比」は、粒子の長径/短径比で、球形に近いほど値が1に近くなる。アスペクト比が小さいほど球形に近づき充填密度が高められるので、アルミナ粉末の添加効果が一層高められる。例えば、アスペクト比が小さいほど形成される絶縁膜等の耐電圧が高く且つばらつきも小さくなる。アスペクト比が小さくなるほど形成する絶縁膜の表面の突起が小さくなり或いは生じ難くなるので、膜表面の平滑性が向上するが、このことが耐電圧の向上にも寄与しているものと思われる。また、アスペクト比が小さくなるほど、塗布・乾燥後の膜中における粒子の充填性が向上するため、形成される絶縁膜等において膜相互或いは膜内の特性のバラツキが抑制される利点もある。また、本願において「平均粒径」は、アルミナ粉末の電子顕微鏡(SEM)写真を用いて実測した平均値である。具体的には、例えば、電子顕微鏡にて10000倍若しくは5000倍で任意に2視野を撮影し、その写真全体の粒子から平均的な大きさと思われる粒子を目視で5個選び、その粒子の直径を実測してこれをその粒子の粒径とし、2視野5個ずつで合計10個の粒子の平均を平均粒径とする。   In the present application, the “aspect ratio” is the ratio of the major axis / minor axis of the particle, and the value becomes closer to 1 as the particle becomes closer to a sphere. The smaller the aspect ratio is, the closer to the spherical shape and the higher the packing density, so that the effect of adding alumina powder is further enhanced. For example, the smaller the aspect ratio, the higher the withstand voltage of the formed insulating film or the like and the smaller the variation. As the aspect ratio becomes smaller, the protrusions on the surface of the insulating film to be formed become smaller or less likely to occur, so that the smoothness of the film surface improves. This seems to contribute to the improvement of the withstand voltage. In addition, as the aspect ratio decreases, the particle filling property in the film after coating and drying improves, so that there is an advantage that variation in characteristics between films or in the film is suppressed in the formed insulating film or the like. In the present application, the “average particle diameter” is an average value measured using an electron microscope (SEM) photograph of alumina powder. Specifically, for example, two fields of view are arbitrarily photographed with an electron microscope at 10000 times or 5000 times, and five particles of an average size are visually selected from the particles of the entire photograph, and the diameter of the particles is selected. Is measured, and this is taken as the particle size of the particle, and the average of a total of 10 particles in 5 fields of view is taken as the average particle size.

上述したように、アスペクト比が1.2以下のアルミナ粉末を混合することで形成される絶縁膜等の硬度・熱伝導率・耐電圧は十分に改善される。したがって、この条件を満たせば、アルミナ粉末の体積比率xや平均粒径yは特に限定されないが、それら体積比率xおよび平均粒径yを制御することにより、上記の各特性が一層向上させられる。   As described above, the hardness, thermal conductivity, and withstand voltage of the insulating film formed by mixing alumina powder having an aspect ratio of 1.2 or less are sufficiently improved. Therefore, if this condition is satisfied, the volume ratio x and the average particle diameter y of the alumina powder are not particularly limited. However, by controlling the volume ratio x and the average particle diameter y, each of the above characteristics can be further improved.

まず、体積比率xは、25〜60(%)の範囲内とすることが好ましい。アルミナ粉末を添加した効果すなわち前述した各特性の改善効果を十分に得るためには、体積比率xが十分に大きいことが好ましく、25(%)以上であることが好ましい。形成した絶縁膜等が紙等で擦られることによってその絶縁膜等内のガラスが削られると、アルミナ粒子が露出させられる。体積比率xが十分に大きくされていれば、露出したアルミナ粒子による絶縁膜等の摩耗抑制効果が十分に得られるので、耐摩耗性や耐スクラッチ性が一層向上する。すなわち、サーマルプリンタ等の装置寿命も向上する。また、アルミナ粉末の熱伝導率はガラスに比較して高いので、熱伝導率の改善効果も高くなる。熱伝導率が十分に高くなることにより、十分に高い応答性が得られる。応答性が高くなれば、プリンタの起動が早くなると共に印字速度も高くなり、電気の無駄が少なくなるので省エネにもなる利点がある。また、耐スクラッチ性が一層向上させられることにより、絶縁膜等に傷が付きにくくなり、その傷による印字不良も抑制される。一方、アルミナ粉末が多くなるほど結着剤であるガラスが相対的に少なくなって形成される絶縁膜等が脆くなり、また、粒子相互間の隙間も増大して緻密性も低下するので、絶縁膜等の緻密性を十分に高くし且つ表面の平滑性を十分に高くする(すなわち十分な滑らかさを得る)と共に十分な膜強度を得るためには、体積比率xが十分に小さいことが好ましく、60(%)未満であることが好ましい。体積比率xが過大になると緻密性が急に失われ、特に60(%)以上になると、形成される絶縁膜等の表面の凹凸が著しく大きくなって実用性に劣る。上記体積比率xの範囲は、重量百分率で概ね30〜65(%)に相当する。   First, the volume ratio x is preferably in the range of 25 to 60 (%). In order to sufficiently obtain the effect of adding the alumina powder, that is, the effect of improving the above-described characteristics, the volume ratio x is preferably sufficiently large, and preferably 25 (%) or more. When the formed insulating film or the like is rubbed with paper or the like to scrape the glass in the insulating film or the like, the alumina particles are exposed. If the volume ratio x is sufficiently large, the effect of suppressing wear of the insulating film or the like by the exposed alumina particles can be sufficiently obtained, so that wear resistance and scratch resistance are further improved. That is, the service life of a thermal printer or the like is also improved. Moreover, since the thermal conductivity of alumina powder is higher than that of glass, the effect of improving the thermal conductivity is also increased. A sufficiently high responsiveness can be obtained by sufficiently increasing the thermal conductivity. Higher responsiveness has the advantage that the start-up of the printer is accelerated and the printing speed is increased, so that waste of electricity is reduced and energy is saved. Further, since the scratch resistance is further improved, the insulating film or the like is hardly scratched, and printing defects due to the scratch are suppressed. On the other hand, as the amount of alumina powder increases, the insulating film formed with a relatively small amount of glass as a binder becomes fragile, and the gap between particles increases and the compactness also decreases. In order to obtain a sufficiently high density and a sufficiently high surface smoothness (that is, to obtain a sufficient smoothness) and a sufficient film strength, the volume ratio x is preferably sufficiently small, It is preferable that it is less than 60 (%). When the volume ratio x is excessively high, the denseness is suddenly lost, and particularly when the volume ratio x is 60% or more, the unevenness of the surface of the formed insulating film or the like becomes remarkably large and the practicality is inferior. The range of the volume ratio x corresponds to approximately 30 to 65 (%) in terms of weight percentage.

また、前記(1)式によれば、体積比率xが下限値25(%)の場合に、平均粒径yは下限値0.35(μm)になる。したがって、平均粒径yは、0.35≦y≦7(μm)の範囲内の値であることが好ましい。前記各特性の改善効果を十分に得るためには、平均粒径yが十分に大きいことが好ましく、0.37(μm)以上であることが一層好ましい。平均粒径が十分に大きくされることにより、上述したようにガラスが削られてアルミナ粒子が露出させられた場合において、そのアルミナ粒子が脱落し難くなるので耐摩耗性や耐スクラッチ性が十分に高められる。しかも、アルミナ粉末の凝集が抑制されて高い分散性が得られる。一方、平均粒径yが大きくなるほど形成される絶縁膜等の表面の凹凸が生じ易くなると共に、相対的にガラス量が少なくなることに起因して膜強度が低下するので、平均粒径yは十分に小さいことが好ましく、7(μm)以下であることが好ましい。   Further, according to the equation (1), when the volume ratio x is the lower limit value 25 (%), the average particle size y becomes the lower limit value 0.35 (μm). Accordingly, the average particle size y is preferably a value within the range of 0.35 ≦ y ≦ 7 (μm). In order to sufficiently obtain the effect of improving the above characteristics, the average particle size y is preferably sufficiently large, and more preferably 0.37 (μm) or more. By making the average particle size sufficiently large, when the glass is scraped and the alumina particles are exposed as described above, the alumina particles are less likely to fall off, so the wear resistance and scratch resistance are sufficiently high. Enhanced. Moreover, agglomeration of the alumina powder is suppressed and high dispersibility is obtained. On the other hand, as the average particle size y increases, surface irregularities of the formed insulating film and the like are more likely to occur, and the film strength decreases due to the relatively small amount of glass. It is preferably sufficiently small, and is preferably 7 (μm) or less.

また、添加されるアルミナ粉末は、前記(1)式を満たすことが好ましいが、この(1)式においては、体積比率xが大きくなるほど平均粒径yの下限値が大きくなる。すなわち、体積比率xが小さい領域では微細な平均粒径yのアルミナ粉末も用い得るが、体積比率xが大きい領域では大きい平均粒径yのアルミナ粉末を用いることが必要になる。例えば、体積比率xが55(%)程度以下の領域では、平均粒径yが1.5(μm)程度のアルミナ粉末も用い得るが、これを越えると用い得るアルミナ粉末の平均粒径yが急激に大きくなる。前述したように平均粒径yが小さいほどアルミナ粒子が脱落し易いが、体積比率xが小さい場合には脱落しても絶縁膜の物性の変化が小さいためであると考えられる。   Further, the alumina powder to be added preferably satisfies the above formula (1), but in this formula (1), the lower limit of the average particle size y increases as the volume ratio x increases. That is, alumina powder having a fine average particle size y can be used in a region where the volume ratio x is small, but it is necessary to use alumina powder having a large average particle size y in a region where the volume ratio x is large. For example, in the region where the volume ratio x is about 55 (%) or less, an alumina powder having an average particle size y of about 1.5 (μm) can be used. growing. As described above, the smaller the average particle size y, the easier the alumina particles fall off. However, when the volume ratio x is small, it is considered that the change in physical properties of the insulating film is small even if the volume ratio x falls off.

また、前記アルミナ粉末の製造方法は特に限定されないが、CVD等の気相法、ゾルゲル法等の液相法すなわち湿式法、または高温溶射法が好ましい。これらの製造方法によれば、粒径のばらつきが小さく、アスペクト比の小さい球形に近い微細なアルミナ粉末が容易に得られる。しかも、これらの方法によって製造されたアルミナ粉末は粒子表面が滑らかであることから、印刷用紙に傷が付きにくく印刷品質が一層高められる利点もある。なお、アルミナ粉末の製造方法としては、適宜の方法で合成した後に所望の大きさに破砕する方法もよく知られるが、このような破砕アルミナはアスペクト比が大きいことから、高い充填密度を得るのが困難で生成される膜も多孔質になり易い上に、粒子表面に鋭利なエッジが存在するので、上記気相法等により得られたアルミナ粉末が好ましい。上記CVD法は、例えば、アルミニウムアルコキシドを加水分解して合成した水酸化アルミニウムを塩素等のハロゲンガスと共に噴射して気相成長させることでアルミナ粉末を得るものである。また、上記高温溶射法は、例えばバイヤー法で得られたアルミナ粉末を高温火炎中に溶射し、或いは、水酸化アルミニウム粉末またはそのスラリーを火炎中に噴霧し、得られた微粉末を高温で捕集するものである(例えば、特開2001−019425号公報を参照。)。   The method for producing the alumina powder is not particularly limited, but a vapor phase method such as CVD, a liquid phase method such as a sol-gel method, that is, a wet method, or a high temperature spraying method is preferable. According to these production methods, a fine alumina powder having a small particle diameter variation and a small aspect ratio close to a sphere can be easily obtained. Moreover, since the alumina powder produced by these methods has a smooth particle surface, there is an advantage that the printing paper is hardly damaged and the printing quality is further improved. As a method for producing alumina powder, a method of synthesizing by an appropriate method and then crushing it to a desired size is well known, but since such a crushing alumina has a large aspect ratio, a high packing density is obtained. In addition, since the film formed is difficult to be porous and a sharp edge is present on the particle surface, the alumina powder obtained by the above gas phase method or the like is preferable. In the CVD method, for example, aluminum powder synthesized by hydrolyzing aluminum alkoxide is jetted together with a halogen gas such as chlorine to be vapor-phase grown to obtain alumina powder. In addition, the above high temperature spraying method is, for example, spraying alumina powder obtained by the Bayer method into a high temperature flame, or spraying aluminum hydroxide powder or slurry thereof into the flame, and capturing the fine powder obtained at high temperature. (See, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2001-019425).

因みに、ガラスを主成分とする絶縁膜組成物にアルミナ粉末を添加することは、前述したように従来から知られていることであり(前記特許文献1を参照。)、また、そのような絶縁膜組成物は市販されている。しかしながら、現在までに知られているこれらの絶縁膜組成物では、添加するアルミナ粉末の物性については特に考慮されていなかった。そのため、製造コスト面で有利な安価な破砕アルミナが用いられていたことから、アスペクト比が大きいので、耐電圧、耐摩耗性、熱伝導率、および耐スクラッチ性が何れも不十分になり、或いはそのばらつきが大きくなって信頼性に欠けていたものと考えられる。   Incidentally, the addition of alumina powder to an insulating film composition containing glass as a main component is conventionally known as described above (see Patent Document 1), and such insulation. The film composition is commercially available. However, in these insulating film compositions known to date, no particular consideration has been given to the physical properties of the alumina powder to be added. Therefore, since cheap crushed alumina, which is advantageous in terms of manufacturing cost, was used, the aspect ratio is large, so that withstand voltage, wear resistance, thermal conductivity, and scratch resistance are all insufficient, or It seems that the variation was large and the reliability was lacking.

また、回路基板の導体膜や電子部品等を保護するための絶縁膜を形成するための樹脂組成物において、アルミナ粉末をフィラーとして添加することが提案されている(前記特許文献2、3を参照。)。これらの樹脂組成物は、樹脂の熱伝導性が低いことから、これを改善する目的でアルミナ粉末を添加したものである。したがって、本願発明と同様に絶縁膜組成物にアルミナ粉末を添加するものではあるが、主成分が相違すると共にアルミナ粉末を添加する目的も全く相違する。   Further, it has been proposed to add alumina powder as a filler in a resin composition for forming an insulating film for protecting a conductor film, an electronic component or the like on a circuit board (see Patent Documents 2 and 3). .). Since these resin compositions have low thermal conductivity of the resin, alumina powder is added for the purpose of improving the resin composition. Therefore, the alumina powder is added to the insulating film composition as in the present invention, but the main component is different and the purpose of adding the alumina powder is completely different.

また、基板と発熱抵抗体層との間に蓄熱層を有するサーマルプリントヘッドにおいて、樹脂とビッカース硬度が400以上の無機材料粒子との混合物をその蓄熱層として用いることが提案されている(例えば、特許文献4を参照。)。この蓄熱層は、ガラスで形成すると熱応答性が不十分になる一方、ポリイミド等の熱応答性に優れた樹脂で形成すると耐熱性と機械的強度が不足することから、樹脂において耐熱性および機械的強度を改善することを目的としたものである。無機材料粒子としては、シリカ、アルミナ、窒化珪素、炭化珪素、炭化チタン、窒化チタン、窒化硼素が挙げられており、粒子径状は真球状が好ましい旨が記載されている。上記技術も、特許文献2,3と同様に絶縁膜組成物にアルミナ粉末等を添加するものではあるが、主成分が相違すると共にアルミナ粉末を添加する目的も全く相違する。   Further, in a thermal print head having a heat storage layer between a substrate and a heating resistor layer, it has been proposed to use a mixture of resin and inorganic material particles having a Vickers hardness of 400 or more as the heat storage layer (for example, (See Patent Document 4). When this heat storage layer is made of glass, the thermal responsiveness becomes insufficient. On the other hand, if it is made of a resin having excellent thermal responsiveness such as polyimide, the heat resistance and mechanical strength are insufficient. The purpose is to improve the mechanical strength. Examples of the inorganic material particles include silica, alumina, silicon nitride, silicon carbide, titanium carbide, titanium nitride, and boron nitride, and that the particle diameter is preferably a true sphere. In the above technique, alumina powder or the like is added to the insulating film composition as in Patent Documents 2 and 3, but the main component is different and the purpose of adding the alumina powder is completely different.

また、前記特許文献5の混合物では、ガラスにアルミナ等の無機質粒子が混合されているが、表面平滑性を得るために著しく微細な無機微粒子を用いていることから、その取扱いが困難になっている。しかも、具体例として示されているのはガラス微粒子を金属有機物に混合したものだけで、無機質粒子としてアルミナを用いる場合にどのような粒径のものをどのようにして用いるのかは全く触れられていない。   Further, in the mixture of Patent Document 5, inorganic particles such as alumina are mixed with glass. However, since extremely fine inorganic fine particles are used to obtain surface smoothness, handling thereof becomes difficult. Yes. Moreover, only a mixture of glass fine particles and a metal organic material is shown as a specific example. When alumina is used as an inorganic particle, what particle size is used and how it is used is completely touched. Absent.

ここで、好適には、前記絶縁膜組成物は、前記アルミナ粉末の体積比率x(%)が35≦x≦55の範囲内である。このようにすれば、熱伝導率や硬度が一層高く且つ表面凹凸の一層小さい絶縁膜が得られる。   Here, preferably, in the insulating film composition, the volume ratio x (%) of the alumina powder is in a range of 35 ≦ x ≦ 55. In this way, an insulating film having higher thermal conductivity and hardness and smaller surface irregularities can be obtained.

また、好適には、前記絶縁膜組成物は、前記アルミナ粉末の平均粒径y(μm)が5(μm)以下である。このようにすれば、表面の凹凸が一層小さい絶縁膜が得られる。形成する絶縁膜の膜厚にも依存するが、平均粒径yが5(μm)以下であれば、定着ヒータ、サーマルプリントヘッド、回路基板の絶縁膜用途などにおいて問題となるような突起が生じ難く、しかも、耐電圧の最小値も十分に高くなる。   Preferably, the insulating film composition has an average particle size y (μm) of the alumina powder of 5 (μm) or less. In this way, an insulating film with even smaller surface irregularities can be obtained. Depending on the thickness of the insulating film to be formed, if the average particle size y is 5 (μm) or less, protrusions that cause problems in fixing heaters, thermal print heads, circuit board insulating films, etc. will occur. In addition, the minimum withstand voltage is sufficiently high.

なお、前記アルミナ粉末は、平均粒径の異なる2種以上が併用されてもよい。このようにすれば、大径の粒子間に小径の粒子が入ることによって、形成される絶縁膜等の表面の平滑性が向上するので、紙等で表面が擦られた際にその紙等の表面に傷が生ずることが一層抑制される。混合するアルミナ粉末は、例えば、平均粒径が0.35〜7.0(μm)の範囲内から選択することが好ましい。   In addition, the alumina powder may be used in combination of two or more different average particle diameters. In this way, since the smoothness of the surface of the formed insulating film and the like is improved by entering the small-sized particles between the large-sized particles, the surface of the paper or the like when the surface is rubbed with paper or the like is improved. The occurrence of scratches on the surface is further suppressed. The alumina powder to be mixed is preferably selected from a range of, for example, an average particle size of 0.35 to 7.0 (μm).

また、好適には、前記アルミナ粉末のアスペクト比は、1.1以下である。このようにすれば、アルミナ粉末が一層球形に近づくことから、焼成後の絶縁膜に突起が一層生じ難くなる。しかも、絶縁膜を形成するに際して絶縁膜組成物のペーストを調製してスクリーン印刷法を利用する場合には、一層球形に近いアルミナ粉末が用いられることからペーストの分散性が向上するので、印刷、乾燥後における膜の密度が一層高められ、焼成後に一層緻密な絶縁膜が得られる利点がある。   Preferably, the alumina powder has an aspect ratio of 1.1 or less. In this way, since the alumina powder becomes more spherical, protrusions are less likely to occur in the fired insulating film. In addition, when the insulating film composition paste is prepared and the screen printing method is used when forming the insulating film, the dispersibility of the paste is improved because alumina powder having a more spherical shape is used. There is an advantage that the density of the film after drying is further increased and a denser insulating film can be obtained after firing.

なお、本発明において、絶縁膜の主成分となるガラスは特に限定されず、鉛ガラスでも無鉛ガラスでもよい。鉛ガラスとしては、例えば、PbO-SiO2-ZnO系ガラスやPbO-SiO2-B2O3系ガラス等が挙げられる。また、無鉛ガラスとしては、SiO2-B2O3-ZnO系ガラス、SiO2-B2O3-ZnO-Al2O3系ガラス、Bi2O3-B2O3系ガラス等が挙げられる。何れにおいても、上記成分に加えてアルカリ金属酸化物やアルカリ土類酸化物等を適宜含むことができる。 In the present invention, the glass as the main component of the insulating film is not particularly limited, and may be lead glass or lead-free glass. Examples of the lead glass include PbO—SiO 2 —ZnO glass and PbO—SiO 2 —B 2 O 3 glass. Lead-free glass includes SiO 2 -B 2 O 3 -ZnO glass, SiO 2 -B 2 O 3 -ZnO-Al 2 O 3 glass, Bi 2 O 3 -B 2 O 3 glass, etc. It is done. In any case, in addition to the above components, an alkali metal oxide, an alkaline earth oxide, or the like can be appropriately contained.

また、好適には、本発明の絶縁膜組成物は、複写機等のトナー定着に用いられる定着ヒータの表面に形成された抵抗発熱体層を覆う絶縁膜を形成するためのものである。本発明の絶縁膜組成物は、前述したように低アスペクト比のアルミナ粉末が添加されることで高い耐電圧を有する絶縁膜等を得ることができるため、高電圧が印加される定着ヒータの絶縁膜に好適である。   Preferably, the insulating film composition of the present invention is for forming an insulating film covering a resistance heating element layer formed on the surface of a fixing heater used for fixing toner in a copying machine or the like. The insulating film composition of the present invention can obtain an insulating film having a high withstand voltage by adding alumina powder having a low aspect ratio as described above, so that insulation of a fixing heater to which a high voltage is applied is obtained. Suitable for membranes.

また、好適には、本発明の絶縁膜組成物は、サーマルプリントヘッドの保護層に用いられるものである。本発明の絶縁膜組成物は、前述したように低アスペクト比のアルミナ粉末が前記(1)式を満たす体積比率xおよび平均粒径yの範囲で含まれることから、十分に高い膜硬度を有し、熱伝導率や表面平滑性に優れた絶縁膜等を得ることができるので、硬度、熱伝導率、表面平滑性を同時に満たすことが求められるサーマルプリントヘッドの保護層等に好適である。   Preferably, the insulating film composition of the present invention is used for a protective layer of a thermal print head. As described above, the insulating film composition of the present invention has a sufficiently high film hardness because the low-aspect-ratio alumina powder is contained in the volume ratio x and the average particle diameter y satisfying the above formula (1). In addition, since an insulating film having excellent thermal conductivity and surface smoothness can be obtained, it is suitable for a protective layer of a thermal print head that is required to satisfy hardness, thermal conductivity, and surface smoothness at the same time.

本発明の一実施例の絶縁膜組成物で絶縁膜を形成した定着ヒータが備えられた定着装置の要部断面構成を模式的に示す図である。1 is a diagram schematically illustrating a cross-sectional configuration of a main part of a fixing device provided with a fixing heater in which an insulating film is formed with an insulating film composition according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施例の絶縁膜組成物で絶縁膜を形成した他の定着ヒータの断面構造を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the cross-sectional structure of the other fixing heater which formed the insulating film with the insulating film composition of one Example of this invention. 本発明の一実施例の絶縁膜組成物で絶縁膜を形成した回路基板の断面構造を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the cross-section of the circuit board which formed the insulating film with the insulating film composition of one Example of this invention. 本発明の一実施例の絶縁膜組成物で保護層を形成したサーマルプリントヘッドが備えられたサーマルプリンタの印刷部の要部断面構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the principal part cross-section structure of the printing part of the thermal printer provided with the thermal print head which formed the protective layer with the insulating film composition of one Example of this invention. 低アスペクト比のアルミナ粉末を添加した本発明の一実施例の絶縁膜組成物から形成した絶縁膜の耐電圧特性を、高アスペクト比のアルミナ粉末を添加した比較例のそれと共に示す図である。It is a figure which shows the withstand voltage characteristic of the insulating film formed from the insulating film composition of one Example of this invention which added the alumina powder of the low aspect ratio with that of the comparative example which added the alumina powder of the high aspect ratio. 実施例、比較例共に図5に示したものとは異なるアルミナ粉末を用いた絶縁膜の耐電圧特性を示す図である。It is a figure which shows the withstand voltage characteristic of the insulating film using the alumina powder different from what was shown in FIG. 5 in the Example and the comparative example. 高アスペクト比のアルミナ粉末の一例を示す電子顕微鏡写真である。It is an electron micrograph which shows an example of the alumina powder of a high aspect ratio. 高アスペクト比のアルミナ粉末の他の例を示す電子顕微鏡写真である。It is an electron micrograph which shows the other example of the alumina powder of a high aspect ratio. 低アスペクト比のアルミナ粉末の一例を示す電子顕微鏡写真である。2 is an electron micrograph showing an example of low aspect ratio alumina powder. 低アスペクト比のアルミナ粉末の他の例を示す電子顕微鏡写真である。It is an electron micrograph which shows the other example of the alumina powder of a low aspect ratio. スクラッチ評価「○」の表面顕微鏡写真の一例である。It is an example of the surface micrograph of scratch evaluation "(circle)". スクラッチ評価「△」の表面顕微鏡写真の一例である。It is an example of the surface micrograph of scratch evaluation "(triangle | delta)". スクラッチ評価「×」の表面顕微鏡写真の一例である。It is an example of the surface micrograph of scratch evaluation "x". サーマルプリントヘッドの保護層としての特性評価結果に基づいてアルミナ体積比率とアルミナ粒径との関係の好適な範囲をまとめた図である。It is the figure which put together the suitable range of the relationship between an alumina volume ratio and an alumina particle size based on the characteristic evaluation result as a protective layer of a thermal print head. 評価用サンプルの一例の表面顕微鏡写真である。It is a surface micrograph of an example of the sample for evaluation. 評価用サンプルの他の一例の表面顕微鏡写真である。It is a surface micrograph of another example of the sample for evaluation. 評価用サンプルの更に他の一例の表面顕微鏡写真である。It is a surface micrograph of another example of the sample for evaluation. 評価用サンプルの更に他の一例の表面顕微鏡写真である。It is a surface micrograph of another example of the sample for evaluation. 評価用サンプルの更に他の一例の表面顕微鏡写真である。It is a surface micrograph of another example of the sample for evaluation. 評価用サンプルの更に他の一例の表面顕微鏡写真である。It is a surface micrograph of another example of the sample for evaluation. 評価用サンプルの更に他の一例の表面顕微鏡写真である。It is a surface micrograph of another example of the sample for evaluation. 粒径5(μm)の破砕アルミナを用いた場合の表面顕微鏡写真である。It is a surface micrograph in the case of using crushed alumina having a particle size of 5 (μm). 粒径3(μm)の破砕アルミナを用いた場合の表面顕微鏡写真である。It is a surface micrograph in the case of using crushed alumina having a particle size of 3 (μm).

以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の実施例において図は適宜簡略化或いは変形されており、各部の寸法比および形状等は必ずしも正確に描かれていない。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following embodiments, the drawings are appropriately simplified or modified, and the dimensional ratios, shapes, and the like of the respective parts are not necessarily drawn accurately.

図1は、本発明の一実施例の定着ヒータ10が備えられた複写機の定着装置の要部構成を模式的に示す断面図である。図1において、定着装置は、定着ヒータ10が基台12の下端部に固定されると共に、略円筒形状の定着フィルム14がその周囲に配置され、更に、それらの下方に加圧ローラ16がその軸心回りの回転可能に設けられている。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a main configuration of a fixing device of a copying machine provided with a fixing heater 10 according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the fixing device includes a fixing heater 10 fixed to the lower end portion of a base 12, a substantially cylindrical fixing film 14 disposed around the fixing heater 10, and a pressure roller 16 below the fixing film 14. It is provided so as to be rotatable around an axis.

上記の定着ヒータ10は、アルミナ等のセラミック材料から成る紙面に垂直な方向に長い平板長尺状の基材18と、その一面に適宜のパターンで設けられた抵抗発熱体層20と、その抵抗発熱体層20を覆う絶縁膜22とを備えたもので、基材18が基台12に設けられた凹部に埋め込まれた状態で固定されている。   The fixing heater 10 includes a flat plate-like base material 18 made of a ceramic material such as alumina and extending in a direction perpendicular to the paper surface, a resistance heating element layer 20 provided in an appropriate pattern on one surface thereof, and a resistance thereof. The base material 18 is fixed in a state of being embedded in a recess provided in the base 12.

上記の抵抗発熱体層20は、例えばAg/Pd合金等から成るもので、トナー定着に必要な発熱量が得られるように適宜のパターン、例えば基材18の一端側から他端側に向かう直線状パターンや屈曲パターン等で設けられている。なお、基材18の長手方向の両端部には、図示しない一対の電極が前記絶縁膜22から露出した状態で設けられており、上記抵抗発熱体層20はその両端部がこれら一対の電極に接続されている。   The resistance heating element layer 20 is made of, for example, an Ag / Pd alloy or the like, and has an appropriate pattern such as a straight line from one end side to the other end side of the substrate 18 so as to obtain a heat generation amount necessary for toner fixing. Provided in the shape pattern, the bent pattern, or the like. It should be noted that a pair of electrodes (not shown) are provided at both ends in the longitudinal direction of the base material 18 so as to be exposed from the insulating film 22, and the resistance heating element layer 20 has both ends at the pair of electrodes. It is connected.

また、前記絶縁膜22は、例えば、SiO2-B2O3-ZnO系ガラスと、フィラーとから成るもので、例えば10〜50(μm)程度の範囲内の厚さ寸法で設けられている。上記のガラスは、例えば、ネットワーク成分であるSiO2、B2O3、ZnOを合計で73(mol%)、中間ネットワーク成分であるAl2O3を4(mol%)、修飾酸化物成分であるBaO、SrOを合計で23(mol%)の割合で含む組成を備えている。また、このガラスの軟化点は690(℃)程度、熱膨張率は67(%)程度である。 The insulating film 22 is made of, for example, SiO 2 —B 2 O 3 —ZnO-based glass and a filler, and is provided with a thickness within a range of about 10 to 50 (μm), for example. . The above glass is composed of, for example, network components SiO 2 , B 2 O 3 and ZnO in total 73 (mol%), intermediate network component Al 2 O 3 4 (mol%), and a modified oxide component. It has a composition containing certain BaO and SrO in a total proportion of 23 (mol%). The glass has a softening point of about 690 (° C.) and a coefficient of thermal expansion of about 67 (%).

また、上記のフィラーは、アスペクト比が1.2以下、例えば1.07程度で、平均粒径が0.8(μm)程度のアルミナ粉末から成るもので、絶縁膜22中に45(wt%)程度の割合で含まれている。このフィラーは、絶縁膜22の耐電圧を高める目的で添加されたものである。上記アルミナ粉末は、例えば、アルミニウムアルコキシドを加水分解して合成した水酸化アルミニウムを塩素ガスと共に噴射して気相成長させることによって製造したもので、このような製造方法によることから、上述したように微細でアスペクト比が小さい特徴を有している。   The filler is made of alumina powder having an aspect ratio of 1.2 or less, for example, about 1.07, and an average particle size of about 0.8 (μm), and is contained in the insulating film 22 at a ratio of about 45 (wt%). It is. This filler is added for the purpose of increasing the withstand voltage of the insulating film 22. The alumina powder is produced by, for example, spraying aluminum hydroxide synthesized by hydrolyzing aluminum alkoxide together with chlorine gas and performing vapor phase growth. It is fine and has a small aspect ratio.

また、前記の加圧ローラ16は、例えばアルミニウム製円柱24の外周面にシリコーンゴム26が固着されたもので、図示しない軸受け装置にそのアルミニウム製円柱24が回転可能に軸支されている。加圧ローラ16は、その使用状態において、定着フィルム14を介して定着ヒータ10に押圧されるようになっている。   The pressure roller 16 is made of, for example, a silicone rubber 26 fixed to the outer peripheral surface of an aluminum cylinder 24, and the aluminum cylinder 24 is rotatably supported by a bearing device (not shown). The pressure roller 16 is pressed against the fixing heater 10 through the fixing film 14 in the use state.

このように構成された定着装置において、図示しない転写装置によりトナーが転写された記録紙28等が送られてくると、定着ヒータ10と加圧ローラ16との間で定着フィルム14を介して加圧されると同時に加熱され、トナーに含まれる樹脂が溶融して、その記録紙28等にトナーが定着させられる。このとき、定着フィルム14は、加圧ローラ16の回転に伴って回転させられるので、定着ヒータ10はその表面すなわち絶縁膜22の表面が定着フィルム14で擦られることになるが、本実施例の絶縁膜22は高い耐電圧を有することから、これにより静電気が発生しても、絶縁破壊が生じ難い特徴を有している。   In the fixing device configured as described above, when the recording paper 28 or the like on which the toner is transferred by a transfer device (not shown) is fed, the recording paper 28 is added between the fixing heater 10 and the pressure roller 16 via the fixing film 14. The resin contained in the toner is melted at the same time as being pressed, and the toner is fixed on the recording paper 28 or the like. At this time, since the fixing film 14 is rotated in accordance with the rotation of the pressure roller 16, the surface of the fixing heater 10, that is, the surface of the insulating film 22 is rubbed with the fixing film 14. Since the insulating film 22 has a high withstand voltage, even if static electricity is generated by this, the insulating film 22 has a characteristic that dielectric breakdown does not easily occur.

すなわち、上記の絶縁膜22は、前述したようにアスペクト比が小さいアルミナ粉末を含むことから、例えば耐電圧の平均値が120(V/μm)以上と十分に高く、且つ、ばらつきも±10(%)程度と十分に小さい優れた耐電圧特性を有している。そのため、耐電圧が十分に高いことから、複写機の使用中に発生する静電気による絶縁破壊が生じ難いのである。しかも、耐電圧のばらつきが小さいことから、所望の耐電圧特性を備えた定着ヒータ10を高い歩留まりで製造できる利点もある。   That is, since the insulating film 22 includes the alumina powder having a small aspect ratio as described above, the average withstand voltage is sufficiently high, for example, 120 (V / μm) or more, and the variation is ± 10 ( %) And has an excellent withstand voltage characteristic that is sufficiently small. Therefore, since the withstand voltage is sufficiently high, dielectric breakdown due to static electricity generated during use of the copying machine is unlikely to occur. In addition, since the variation in withstand voltage is small, there is an advantage that the fixing heater 10 having a desired withstand voltage characteristic can be manufactured with a high yield.

図2は、複写機に上記定着ヒータ10および定着フィルム14に代えて用いられる他の実施例の円筒状の定着ヒータ30の断面構造を模式的に示したものである。定着ヒータ30は、円筒状の基材32と、その外周面に固着された抵抗発熱体層34と、その抵抗発熱体層34を覆う絶縁膜36とを備えている。   FIG. 2 schematically shows a cross-sectional structure of a cylindrical fixing heater 30 of another embodiment used in the copying machine in place of the fixing heater 10 and the fixing film 14. The fixing heater 30 includes a cylindrical base material 32, a resistance heating element layer 34 fixed to the outer peripheral surface thereof, and an insulating film 36 covering the resistance heating element layer 34.

上記の基材32は、例えば、SiO2-B2O3-Al2O3系の硬質ガラスから成るものである。この硬質ガラスには、上記成分の他に少量のアルカリ金属酸化物やアルカリ土類金属酸化物などが含まれている。 The substrate 32 is made of, for example, SiO 2 —B 2 O 3 —Al 2 O 3 hard glass. This hard glass contains a small amount of an alkali metal oxide or an alkaline earth metal oxide in addition to the above components.

また、上記の抵抗発熱体層34は、前記抵抗発熱体層20と同様にAg/Pd合金等を用いて直線状パターンや螺旋状パターン等の適宜の形状で設けられている。また、絶縁膜36は前記絶縁膜22と同様に構成されたものである。このような形態の定着ヒータにおいても、その使用時には抵抗発熱体層34に高電圧が印加されると共に、記録紙28や加圧ローラ16等と擦れ合うことから、高い耐電圧が要求されるが、定着ヒータ10と同様に絶縁膜36が優れた耐電圧特性を有することから、耐電圧に優れた定着ヒータ30を高い歩留まりで製造できる利点がある。   The resistance heating element layer 34 is provided in an appropriate shape such as a linear pattern or a spiral pattern using an Ag / Pd alloy or the like, like the resistance heating element layer 20. The insulating film 36 is configured in the same manner as the insulating film 22. Even in such a fixing heater, a high voltage is applied to the resistance heating element layer 34 when used, and the recording paper 28 and the pressure roller 16 rub against each other. Since the insulating film 36 has an excellent withstand voltage characteristic like the fixing heater 10, there is an advantage that the fixing heater 30 having an excellent withstand voltage can be manufactured with a high yield.

また、このように優れた耐電圧特性を有する絶縁膜22、36を構成するガラスは、上述した定着ヒータ10、30に限られず、耐電圧が高く且つ信頼性を要求される他の用途、例えば、図3に示すような厚膜ハイブリッドICその他の回路基板40の絶縁膜42にも用いられる。   Further, the glass constituting the insulating films 22 and 36 having such an excellent withstand voltage characteristic is not limited to the fixing heaters 10 and 30 described above, and other applications that require high withstand voltage and high reliability, for example, The thick film hybrid IC as shown in FIG. 3 and other insulating films 42 of the circuit board 40 are also used.

図3において、回路基板40は、アルミナ等から成る基板44の一面に導体膜46を形成すると共にICやチップ抵抗等の電子部品48を実装し、これらを絶縁膜42で覆ったものである。上記導体膜46は、例えばAgやAg/Pd等の厚膜導体材料から成るもので、電子部品48は、この導体膜46にハンダ等を用いて固着されている。このような用途においても、低アスペクト比のアルミナ粉末をフィラーとして含む本実施例の絶縁膜42によれば、十分に高い耐電圧が得られるので、回路基板40の信頼性が高められる利点がある。   In FIG. 3, a circuit board 40 is formed by forming a conductor film 46 on one surface of a substrate 44 made of alumina or the like and mounting an electronic component 48 such as an IC or a chip resistor, and covering them with an insulating film 42. The conductor film 46 is made of a thick film conductor material such as Ag or Ag / Pd, for example, and the electronic component 48 is fixed to the conductor film 46 using solder or the like. Even in such an application, according to the insulating film 42 of the present embodiment containing the low-aspect-ratio alumina powder as a filler, a sufficiently high withstand voltage can be obtained, so that there is an advantage that the reliability of the circuit board 40 can be improved. .

図4は、絶縁膜組成物の更に他の適用例であるサーマルプリントヘッド50を備えたサーマルプリンタの印刷部の要部構成を模式的に示す断面図である。サーマルプリンタは、サーマルプリントヘッド50が図示しないフレームや筐体等に固定されると共に、その上方に加圧ローラ52がその軸心周りの自転可能に設けられている。   FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a main configuration of a printing unit of a thermal printer provided with a thermal print head 50 which is still another application example of the insulating film composition. In the thermal printer, a thermal print head 50 is fixed to a frame, a casing, or the like (not shown), and a pressure roller 52 is provided above the shaft so as to be able to rotate about its axis.

上記のサーマルプリントヘッド50は、アルミナ等から成る基板54の一面に順次に積層形成された蓄熱層56と、抵抗発熱体層58と、一対の電極層60,60と、保護層62とを備えており、上記基板54において図示しないフレームや筐体に固定されている。上記の蓄熱層56は、例えばグレーズガラスから成るもので、例えば図4に示す一様な断面を以て紙面に垂直な方向に沿って伸びる帯状に設けられている。この蓄熱層56の長さ寸法は、サーマルプリンタの印刷対象となる記録紙64の幅寸法に応じて定められており、幅寸法は印刷速度や印刷精度等を考慮して定められている。   The thermal print head 50 includes a heat storage layer 56, a resistance heating element layer 58, a pair of electrode layers 60 and 60, and a protective layer 62, which are sequentially laminated on one surface of a substrate 54 made of alumina or the like. The substrate 54 is fixed to a frame or a housing (not shown). The heat storage layer 56 is made of, for example, glaze glass, and is provided in a belt shape extending along a direction perpendicular to the paper surface with a uniform cross section shown in FIG. 4, for example. The length dimension of the heat storage layer 56 is determined according to the width dimension of the recording paper 64 to be printed by the thermal printer, and the width dimension is determined in consideration of the printing speed, printing accuracy, and the like.

また、前記抵抗発熱体層58は、例えば酸化ルテニウム等から成るもので、感熱記録紙の感熱色素を発色させ或いは熱転写インクリボンのインクを熔融または昇華させるために必要な発熱量が得られるように、適宜の厚さ寸法やパターンで設けられている。また、この抵抗発熱体層58は、蓄熱層56の上に設けられていることから、その蓄熱層56の上に位置する部分は突条を成している。また、前記電極層60,60は、例えばAl等の導体材料から成るもので、上記抵抗発熱体層58に図4における左右両側からそれぞれ通電できるようにそれに重ねて形成されている。電極層60,60の抵抗発熱体層58上における相互間隔は、適切な発熱量が得られるように適宜定められている。   Further, the resistance heating element layer 58 is made of, for example, ruthenium oxide so that a heat generation amount necessary for coloring the thermal dye of the thermal recording paper or melting or sublimating the ink of the thermal transfer ink ribbon can be obtained. These are provided with appropriate thickness dimensions and patterns. Further, since the resistance heating element layer 58 is provided on the heat storage layer 56, the portion located on the heat storage layer 56 forms a protrusion. The electrode layers 60, 60 are made of a conductive material such as Al, for example, and are formed on the resistance heating element layer 58 so as to be energized from both the left and right sides in FIG. The distance between the electrode layers 60 and 60 on the resistance heating element layer 58 is appropriately determined so that an appropriate amount of heat generation can be obtained.

また、前記保護層62は、例えばガラスおよびフィラーから成るもので、10(μm)以下、例えば7〜8(μm)程度の厚さ寸法で設けられている。上記ガラスは特に限定されず、種々のものを用い得るが、例を挙げると、例えば、鉛ガラス、ビスマスガラス、亜鉛ガラスである。   The protective layer 62 is made of, for example, glass and filler, and is provided with a thickness dimension of 10 (μm) or less, for example, about 7 to 8 (μm). Although the said glass is not specifically limited and various things can be used, For example, they are lead glass, bismuth glass, and zinc glass, for example.

また、前記のフィラーは、アスペクト比が1.2以下、例えば1.04〜1.15程度で、平均粒径が0.35〜5(μm)程度の球状アルミナ粉末から成るもので、保護層62中に例えば25〜60(%)程度の体積比率で含まれている。このフィラーは保護層62の熱伝導率、表面平滑性、および硬度を改善する目的で添加されたものである。アルミナはガラスに比較して熱伝導率が高いことから、その添加量に応じて熱導電率が高められ、熱応答性や放熱性に優れた保護層62が得られる。このような効果は、前記図1〜図3に示す何れの用途においても同様に得られる。   The filler is made of spherical alumina powder having an aspect ratio of 1.2 or less, for example, about 1.04 to 1.15 and an average particle size of about 0.35 to 5 (μm). %) Volume ratio. This filler is added for the purpose of improving the thermal conductivity, surface smoothness, and hardness of the protective layer 62. Since alumina has a higher thermal conductivity than glass, the thermal conductivity is increased according to the amount of the alumina added, and the protective layer 62 excellent in thermal response and heat dissipation can be obtained. Such an effect can be similarly obtained in any of the applications shown in FIGS.

上記アルミナ粉末は、例えばアルミニウムアルコキシドを加水分解して合成した水酸化アルミニウムを塩素ガスと共に噴射して気相成長させることによって製造したもので、このような製造方法によることから、上述したように微細でアスペクト比が小さい特徴を有している。なお、アルミナ粉末は、このようなCVD法によって製造したものを用いることが特に好ましいが、例えば、ゾルゲル法等の液相法や高温溶射法によっても同様なアルミナ粉末を得ることができる。   The alumina powder is produced by, for example, spraying aluminum hydroxide synthesized by hydrolyzing aluminum alkoxide together with chlorine gas and performing vapor phase growth. And has a small aspect ratio. In addition, it is particularly preferable to use the alumina powder produced by such a CVD method. For example, a similar alumina powder can be obtained by a liquid phase method such as a sol-gel method or a high temperature spraying method.

なお、前記加圧ローラ52は、前記加圧ローラ16と同様に、アルミニウム等から成る金属製円柱66の外周面にシリコーンゴム等から成るゴム層68が固着されたもので、図示しない軸受け装置にその金属製円柱66が紙面に垂直な軸心周りの自転可能に軸支されている。加圧ローラ52は、その使用状態において、サーマルプリントヘッド50の保護層62、特に、その突条部に押圧されるようになっており、記録紙64が例えば左方から送られてくると、サーマルプリントヘッド50と加圧ローラ52との間でその記録紙64が加圧されると同時にそのサーマルプリントヘッド50の加熱パターンに従って加熱され、感熱色素の発色やインクの熔融などによってその記録紙64に印刷が施される。   The pressure roller 52 is similar to the pressure roller 16 in that a rubber layer 68 made of silicone rubber or the like is fixed to the outer peripheral surface of a metal cylinder 66 made of aluminum or the like. The metal cylinder 66 is pivotally supported so as to be capable of rotating about an axis perpendicular to the paper surface. The pressure roller 52 is pressed against the protective layer 62 of the thermal print head 50, in particular, the protruding portion in the use state, and when the recording paper 64 is fed from the left side, for example, The recording paper 64 is pressed between the thermal print head 50 and the pressure roller 52 and simultaneously heated according to the heating pattern of the thermal print head 50, and the recording paper 64 is heated by coloring of a thermal dye or melting of ink. Is printed.

このとき、サーマルプリントヘッド50は、保護層62の表面が記録紙64で擦られることになるが、保護層62は前述したように表面の平滑性が高いことから記録紙64傷をつけ難く、紙かすも発生し難い利点がある。また、熱伝導率が高いことから、高いエネルギー効率が得られるので、携帯用端末に組み込まれた場合においても、印字濃度を高めながら電池の持ちがよい利点もある。また、高硬度であることから、記録紙64による摩耗も生じ難いので、耐久性に優れる利点もある。   At this time, in the thermal print head 50, the surface of the protective layer 62 is rubbed with the recording paper 64. However, since the protective layer 62 has high surface smoothness as described above, it is difficult to damage the recording paper 64. There is an advantage that paper dust does not easily occur. Moreover, since the high thermal conductivity provides high energy efficiency, there is an advantage that the battery can be held while increasing the print density even when incorporated in a portable terminal. Further, since it is high in hardness, it is difficult to cause abrasion due to the recording paper 64, and thus there is an advantage that it is excellent in durability.

上記のような絶縁膜22,36,42や保護層62は、例えば、ガラス粉末およびフィラーをベヒクル中に分散した厚膜絶縁ペーストすなわち絶縁膜組成物を調製し、これを抵抗発熱体層20、34、導体膜46、電極層60,60等の上にディッピングやスクリーン印刷等の適宜の塗布方法を用いて塗布し、焼成処理を施すことによって形成される。   The insulating films 22, 36, 42 and the protective layer 62 as described above are prepared by, for example, preparing a thick film insulating paste, that is, an insulating film composition in which glass powder and filler are dispersed in a vehicle. 34, the conductor film 46, the electrode layers 60, 60 and the like are applied by using an appropriate application method such as dipping or screen printing, and are subjected to a baking treatment.

図5、図6は、上記のようにして形成される絶縁膜の耐電圧を、フィラーとして添加するアルミナ粉末のアスペクト比および粒径を変化させて評価した結果を示したものである。用いたアルミナ粉末の特性およびガラスとの混合比を表1,2に示す。これら表1,2において、「高アスペクト比アルミナ」が比較例、「低アスペクト比アルミナ」が実施例である。表1に示すアルミナAは、平均粒径(D50)が0.8(μm)と微細なもの、表2に示すアルミナBは、平均粒径が4(μm)前後と比較的大きなものである。粒径は何れもレーザ回折法で測定した値である。これら4種のアルミナの電子顕微鏡写真を図7〜図10に示す。なお、微粉のアルミナAを用いた厚膜絶縁ペーストのガラス:アルミナ混合比(wt%)は、55:45とし、アルミナBを用いたものは50:50とした。なお、何れのサンプルも、フィラーとして添加したアルミナ粉末のアスペクト比・粒径・混合比が異なる他は同様な条件で絶縁膜を形成した。   5 and 6 show the results of evaluating the withstand voltage of the insulating film formed as described above by changing the aspect ratio and the particle size of the alumina powder added as a filler. The characteristics of the alumina powder used and the mixing ratio with glass are shown in Tables 1 and 2. In Tables 1 and 2, “high aspect ratio alumina” is a comparative example, and “low aspect ratio alumina” is an example. Alumina A shown in Table 1 has a fine average particle diameter (D50) of 0.8 (μm), and alumina B shown in Table 2 has a relatively large average particle diameter of around 4 (μm). The particle diameter is a value measured by a laser diffraction method. Electron micrographs of these four types of alumina are shown in FIGS. The glass: alumina mixing ratio (wt%) of the thick film insulating paste using fine powdered alumina A was 55:45, and that using alumina B was 50:50. In each sample, an insulating film was formed under the same conditions except that the alumina powder added as a filler had different aspect ratios, particle sizes, and mixing ratios.

上記図5、図6に示す耐電圧特性は、例えば、平坦なアルミナ基板上に厚膜導体を印刷形成して下部電極を設け、その上に各厚膜絶縁ペーストを厚膜スクリーン印刷によって塗布して焼成処理を施して絶縁膜を形成した後、その絶縁膜上にCuテープを貼り付けて上部電極を形成し、試験装置によって上下電極間に交流電圧を印加して、印加電圧毎の絶縁破壊個数(累積値)を測定することにより評価した。サンプル数は各仕様とも36個である。この評価では、印加電圧を0.1(V)ずつ上昇させて、絶縁破壊が起きたときの電圧を測定値とした。上記試験装置としては、KIKUSUI社製TOS-5051を使用した。また、グラフに示した電圧は実効値である。   The withstand voltage characteristics shown in FIGS. 5 and 6 are as follows. For example, a thick film conductor is printed on a flat alumina substrate to form a lower electrode, and each thick film insulating paste is applied thereon by thick film screen printing. After forming an insulating film by baking, Cu tape is pasted on the insulating film to form the upper electrode, and an AC voltage is applied between the upper and lower electrodes using a test device, and dielectric breakdown occurs at each applied voltage. Evaluation was made by measuring the number (cumulative value). The number of samples is 36 for each specification. In this evaluation, the applied voltage was increased by 0.1 (V), and the voltage when dielectric breakdown occurred was taken as the measured value. As the test apparatus, TOS-5051 manufactured by KIKUSUI was used. The voltage shown in the graph is an effective value.

図5において、平均粒径が0.8(μm)と微細なアルミナ粉末を用いた場合には、膜厚が22(μm)程度の絶縁膜を形成することができるが、低アスペクト比のアルミナを用いた実施例では2.4〜3.1(kV)程度、すなわち109〜141(V/μm)程度の耐電圧が得られる。これに対して、高アスペクト比のアルミナを用いた比較例では1.7〜2.1(kV)程度、すなわち77〜95(V/μm)程度の耐電圧に留まる。単位厚み当たりの平均値およびばらつきでみると、実施例では、平均値が120(V/μm)程度で、ばらつきが22(V/μm)程度であるのに対し、比較例では、平均値が84(V/μm)程度で、ばらつきが18(V/μm)程度になる。ばらつきは同程度であるが、低アスペクト比のアルミナ粉末をフィラーとして用いた実施例では、高アスペクト比のフィラーを用いた比較例に比べて、最低値でも平均値でも30(V/μm)以上向上している。   In FIG. 5, when fine alumina powder with an average particle size of 0.8 (μm) is used, an insulating film with a film thickness of about 22 (μm) can be formed. In the present embodiment, a withstand voltage of about 2.4 to 3.1 (kV), that is, about 109 to 141 (V / μm) is obtained. On the other hand, in the comparative example using alumina having a high aspect ratio, the withstand voltage is about 1.7 to 2.1 (kV), that is, about 77 to 95 (V / μm). In terms of the average value and variation per unit thickness, in the example, the average value is about 120 (V / μm) and the variation is about 22 (V / μm), whereas in the comparative example, the average value is The variation is about 18 (V / μm) at about 84 (V / μm). Although the variation is about the same, the example using the low aspect ratio alumina powder as the filler is 30 (V / μm) or more at the minimum value and the average value compared with the comparative example using the high aspect ratio filler. It has improved.

また、図6において、平均粒径が4(μm)程度の比較的大きなアルミナ粉末を用いた場合には、膜厚が33(μm)程度の絶縁膜を形成することができるが、低アスペクト比のアルミナを用いた実施例では1.3〜2.4(kV)程度、すなわち39〜73(V/μm)程度の耐電圧が得られる。これに対して、高アスペクト比のアルミナを用いた比較例では0.4〜1.5(kV)程度、すなわち12〜45(V/μm)程度の耐電圧に留まる。単位厚み当たりの平均値およびばらつきでみると、実施例では、平均値が62(V/μm)程度で、ばらつきが34(V/μm)程度であるのに対し、比較例では、平均値が27(V/μm)程度で、ばらつきが33(V/μm)程度になる。ばらつきは同程度であるが、低アスペクト比のアルミナ粉末をフィラーとして用いた実施例では、高アスペクト比のフィラーを用いた比較例に比べて、最低値でも平均値でも30(V/μm)前後向上している。   In FIG. 6, when a relatively large alumina powder having an average particle size of about 4 (μm) is used, an insulating film having a thickness of about 33 (μm) can be formed. In the embodiment using alumina, a withstand voltage of about 1.3 to 2.4 (kV), that is, about 39 to 73 (V / μm) can be obtained. On the other hand, in the comparative example using the high aspect ratio alumina, the withstand voltage is about 0.4 to 1.5 (kV), that is, about 12 to 45 (V / μm). Looking at the average value and variation per unit thickness, in the example, the average value is about 62 (V / μm) and the variation is about 34 (V / μm), whereas in the comparative example, the average value is The variation is about 33 (V / μm) at about 27 (V / μm). Although the variation is about the same, in the example using the low aspect ratio alumina powder as the filler, the minimum value and the average value are around 30 (V / μm) compared to the comparative example using the high aspect ratio filler. It has improved.

上記の高アスペクト比アルミナBは、一般に用いられている破砕アルミナで、高アスペクト比アルミナAは、例えばこれを更に粉砕したものであるが、何れもアスペクト比が2前後と大きくなっている。これに対して、低アスペクト比アルミナA,Bは、アスペクト比が1程度と小さい。上記の評価結果によれば、高アスペクト比のアルミナ粉末をフィラーとして用いる場合に比較して、低アスペクト比のアルミナ粉末をフィラーとして用いれば、耐電圧が著しく向上することが明らかである。   The high aspect ratio alumina B is a generally used crushed alumina, and the high aspect ratio alumina A is, for example, further pulverized, and has an aspect ratio as large as about 2. In contrast, the low aspect ratio aluminas A and B have a small aspect ratio of about 1. According to the above evaluation results, it is clear that the withstand voltage is remarkably improved when the low-aspect-ratio alumina powder is used as the filler as compared with the case where the high-aspect-ratio alumina powder is used as the filler.

なお、上記表1,表2に記載した平均アスペクト比は、電子顕微鏡写真で適当な個数、例えば1視野当たり10個程度の粒子を任意に選んで長軸寸法および短軸寸法を測定し、各粒子のアスペクト比(長軸寸法/短軸寸法)を測定して平均値を算出したものである。高アスペクト比アルミナAはアスペクト比が例えば1.38〜2.25の範囲でばらつき、平均値は1.75であった。また、高アスペクト比アルミナBはアスペクト比が1.21〜3.33の範囲でばらつき、平均値は2.31であった。また、低アスペクト比アルミナAはアスペクト比が1.00〜1.13の範囲でばらつき、平均値は1.07であった。また、低アスペクト比アルミナBはアスペクト比が1.00〜1.08の範囲でばらつき、平均値は1.04であった。高アスペクト比アルミナは、アスペクト比の平均値が大きいだけでなく、ばらつきも著しく大きい。   The average aspect ratios listed in Tables 1 and 2 above are determined by measuring the major axis dimension and minor axis dimension by arbitrarily selecting an appropriate number of particles in an electron micrograph, for example, about 10 particles per field of view. The average value was calculated by measuring the aspect ratio (major axis dimension / minor axis dimension) of the particles. The high aspect ratio alumina A varied in the aspect ratio of, for example, 1.38 to 2.25, and the average value was 1.75. Further, the high aspect ratio alumina B varied in the aspect ratio range of 1.21 to 3.33, and the average value was 2.31. Further, the low aspect ratio alumina A varied in the range of 1.00 to 1.13, and the average value was 1.07. Further, the low aspect ratio alumina B varied in the aspect ratio range of 1.00 to 1.08, and the average value was 1.04. High aspect ratio alumina not only has a large average aspect ratio, but also has a large variation.

上述した評価結果によれば、本実施例のガラスを主成分とする厚膜絶縁ペーストには、CVDにより製造されたアスペクト比が1.2以下のアルミナ粉末が含まれていることから、その厚膜絶縁ペーストから形成される絶縁膜の耐電圧が高められることが明らかである。   According to the evaluation results described above, the thick film insulation paste mainly composed of the glass of this example contains alumina powder having an aspect ratio of 1.2 or less manufactured by CVD. It is clear that the withstand voltage of the insulating film formed from the paste can be increased.

特に、本実施例においては、低アスペクト比のアルミナA,Bは共にアスペクト比が1.1以下であって一層球形に近いことから、絶縁膜に突起が生じにくくなると共に、前記厚膜絶縁ペーストを調製するに際して高い分散性が得られるので、印刷、乾燥時に膜の密度が高められ、焼成後に一層緻密な絶縁膜が得られる利点もある。   In particular, in this example, both the low aspect ratio aluminas A and B have an aspect ratio of 1.1 or less and are closer to a spherical shape, so that it is difficult for protrusions to occur on the insulating film and the thick film insulating paste is prepared. Since high dispersibility is obtained, the density of the film is increased during printing and drying, and there is an advantage that a denser insulating film can be obtained after firing.

下記の表3は、前記保護層62を形成するための厚膜絶縁ペーストとしての適否を判断するために、アルミナ粉末の含有量と粒径とを種々変更して、形成した保護層62の緻密性およびスクラッチ性を評価した結果をまとめたものである。緻密性は、形成したガラス膜の表面および断面を電子顕微鏡で観察して、ガラスの連続性に基づいて判断した。ガラスの連続性が保たれているものを「○」(=緻密性高い)、空隙が認められるが保護層62として使用可能な程度の緻密性を有するものを「△」、ガラスの連続性が保たれていないものすなわち独立した粒子の存在が認められるものを「×」(=緻密性低い)の評価とした。また、スクラッチ性は、ガラス膜表面を#180の研磨紙で擦って傷の生じ易さやアルミナ粒子の脱落し易さに基づいて判断した。浅い傷が僅かに生ずる程度のものを「○」、傷が容易に入るものやアルミナ粒子が簡単に脱落するものを「×」、これらの中間を「△」とした。なお、これらの評価は、全て焼成処理を施したままの面(すなわちアズファイヤ)で行った。スクラッチ性の評価基準の参考に図11〜図13に「○」、「△」、「×」の表面顕微鏡写真をそれぞれ示す。   Table 3 below shows the denseness of the protective layer 62 formed by variously changing the content and particle size of the alumina powder in order to determine the suitability as a thick film insulating paste for forming the protective layer 62. The results of evaluating the properties and scratch properties are summarized. The denseness was judged based on the continuity of the glass by observing the surface and cross section of the formed glass film with an electron microscope. “○” indicates that the continuity of the glass is maintained (= highly dense), “△” indicates that the void is recognized but has a degree of denseness that can be used as the protective layer 62, and the continuity of the glass is Those not retained, that is, those in which the existence of independent particles were recognized were evaluated as “x” (= low density). The scratch property was judged on the basis of the ease of scratching and the ease of dropping off alumina particles by rubbing the glass film surface with # 180 abrasive paper. “◯” indicates that a slight scratch is slightly generated, “×” indicates that a scratch easily enters or alumina particles easily fall off, and “Δ” indicates an intermediate between these. All of these evaluations were performed on the surface (ie, as-fired) as it was fired. For reference of evaluation criteria for scratch properties, surface micrographs of “◯”, “Δ”, and “×” are shown in FIGS.

上記の評価結果によれば、緻密性は、アルミナ粉末の添加量が9.5(vol%)の場合には、評価した全ての平均粒径の場合に十分な結果が得られ、25〜45(vol%)の添加量では0.5(μm)以上の平均粒径で十分な結果が得られた。50(vol%)の添加量では0.5(μm)以上の平均粒径で使用可能な程度の緻密性が得られ、0.7(μm)以上の平均粒径で十分な緻密性が得られた。55(vol%)の添加量では、1.5(μm)以上の平均粒径で使用可能な程度の緻密性が得られ、3(μm)以上の平均粒径で十分な緻密性が得られた。57(vol%)の添加量では、5(μm)の平均粒径で十分な緻密性が得られ、3(μm)以上の平均粒径で使用可能な程度の緻密性が得られた。60(vol%)の添加量では使用可能な程度の緻密性を得ることができなかった。   According to the above evaluation results, when the addition amount of alumina powder is 9.5 (vol%), the denseness is sufficient for all the average particle sizes evaluated, and 25 to 45 (vol. %), Sufficient results were obtained with an average particle size of 0.5 (μm) or more. With an addition amount of 50 (vol%), a denseness that can be used with an average particle diameter of 0.5 (μm) or more was obtained, and a sufficient denseness was obtained with an average particle diameter of 0.7 (μm) or more. With an addition amount of 55 (vol%), a denseness that can be used with an average particle diameter of 1.5 (μm) or more was obtained, and a sufficient denseness was obtained with an average particle diameter of 3 (μm) or more. With an addition amount of 57 (vol%), sufficient denseness was obtained with an average particle size of 5 (μm), and a usable fineness was obtained with an average particle size of 3 (μm) or more. With an addition amount of 60 (vol%), it was not possible to obtain a dense enough to be used.

また、スクラッチ性については、アルミナ粉末が9.5(vol%)では全ての粒径においてスクラッチ性が不足し、アルミナ粉末の添加効果が現れていないが、25(vol%)の添加量になると、0.5(μm)以上の粒径のものでは使用可能な程度のスクラッチ性が得られる。添加量が35(vol%)になると、0.5(μm)以上の粒径で十分なスクラッチ性が得られる。50(vol%)の添加量では、0.5(μm)以上の粒径で使用可能な程度のスクラッチ性が得られ、0.7(μm)以上の粒径で十分なスクラッチ性が得られる。また、55(vol%)の添加量では、0.7(μm)以上の粒径で十分なスクラッチ性が得られる。57(vol%)の添加量では、3(μm)以上の粒径で使用可能な程度のスクラッチ性が得られる。60(vol%)の添加量では十分なスクラッチ性を得ることができなかった。すなわち、添加量が多くなると小さい平均粒径におけるスクラッチ性の低下傾向が認められ、60(vol%)以上の添加量では良好なスクラッチ性を得ることができない。   As for the scratch property, when the alumina powder is 9.5 (vol%), the scratch property is insufficient for all particle sizes, and the addition effect of the alumina powder does not appear, but when the added amount is 25 (vol%), 0.5% With a particle size of (μm) or more, scratch properties that can be used are obtained. When the addition amount is 35 (vol%), sufficient scratch properties can be obtained with a particle size of 0.5 (μm) or more. With an addition amount of 50 (vol%), scratch properties that can be used with a particle size of 0.5 (μm) or more can be obtained, and sufficient scratch properties can be obtained with a particle size of 0.7 (μm) or more. Further, with an addition amount of 55 (vol%), sufficient scratch properties can be obtained with a particle size of 0.7 (μm) or more. With an addition amount of 57 (vol%), a scratch property that can be used with a particle size of 3 (μm) or more can be obtained. Sufficient scratch properties could not be obtained with an addition amount of 60 (vol%). That is, when the addition amount is increased, a tendency to decrease the scratch property at a small average particle diameter is observed, and when the addition amount is 60 (vol%) or more, good scratch property cannot be obtained.

図14は、上記の評価結果に基づき、緻密性およびスクラッチ性の何れか両方が「○」のものを「○」、少なくとも一方が「△」のものを「△」、少なくとも一方が「×」のものを「×」として、好適な範囲を示した図である。アルミナ体積比率が25(vol%)且つアルミナ粒径が7(μm)以下で使用可能であり、体積比率の上限および粒径の下限は図の曲線で示される。図の3本の直線および曲線で囲まれた範囲が良好な緻密性およびスクラッチ性が得られる範囲であり、線上は良否の境界上すなわち十分ではないが使用可能な条件である。曲線の式は前記(1)式である。   FIG. 14 shows that based on the above evaluation results, both of the denseness and the scratch property are “◯” when “◯”, at least one is “△”, and at least one is “×”. It is the figure which showed the suitable range by making a thing "x". It can be used at an alumina volume ratio of 25 (vol%) and an alumina particle size of 7 (μm) or less, and the upper limit of the volume ratio and the lower limit of the particle size are shown by the curves in the figure. The range surrounded by the three straight lines and the curve in the figure is a range where good fineness and scratching can be obtained, and the line is a boundary between good and bad, that is, not sufficient but usable conditions. The equation of the curve is the above equation (1).

上記表3および図14に示されるデータのうち、例えば、アルミナ体積比率が45(%)、アルミナ平均粒径が1.5(μm)の場合のガラス膜の表面の顕微鏡写真を図15に示す。このような体積比率、平均粒径の条件でも極めて緻密なガラス膜が得られることが認められる。写真は省略するが、平均粒径が異なる場合も0.5(μm)〜3(μm)のものでは概ね同様な結果であり、体積比率が25(%)の場合も同様な結果であった。体積比率45(%)、平均粒径0.3(μm)では、図16に示されるように、膜表面に空隙が目立ち、緻密性、スクラッチ性ともに不十分になる。この体積比率では、0.5(μm)よりも粒径が小さくなると、急激に緻密性が損なわれる。体積比率が50(%)の場合には、平均粒径が0.7(μm)以上であれば図17に示されるように十分な緻密性が得られるが、0.5(μm)では図18に示されるように使用可能ではあるがやや劣る結果となる。   Of the data shown in Table 3 and FIG. 14, for example, a micrograph of the surface of the glass film when the alumina volume ratio is 45 (%) and the alumina average particle size is 1.5 (μm) is shown in FIG. It can be seen that an extremely dense glass film can be obtained even under such conditions of volume ratio and average particle diameter. Although the photographs are omitted, the average particle diameter is different when the average particle size is 0.5 (μm) to 3 (μm), and the same result is obtained when the volume ratio is 25 (%). When the volume ratio is 45 (%) and the average particle size is 0.3 (μm), as shown in FIG. 16, voids are conspicuous on the film surface, and both the denseness and the scratch property become insufficient. With this volume ratio, when the particle size is smaller than 0.5 (μm), the denseness is abruptly lost. When the volume ratio is 50 (%), if the average particle diameter is 0.7 (μm) or more, sufficient denseness can be obtained as shown in FIG. 17, but 0.5 (μm) is shown in FIG. As a result, the results are slightly inferior.

また、体積比率が55(%)になると、平均粒径が5(μm)のものでは図19に示されるように凹凸が目立つものの十分な緻密性を備えている。しかし、この程度の体積比率になると、前述したように平均粒径が小さいと緻密性が損なわれる傾向にあり、例えば、図20に示されるように55(%)−0.7(μm)のサンプルでは、緻密性の点において不適の結果となる。また、60(%)以上になると、3(μm)のサンプルの写真を図21に示すように、粒子の独立性が高くなり緻密性が失われる。   Further, when the volume ratio is 55 (%), those having an average particle diameter of 5 (μm) are sufficiently dense although unevenness is conspicuous as shown in FIG. However, when the volume ratio is about this level, as described above, when the average particle size is small, the denseness tends to be impaired. For example, in the sample of 55 (%)-0.7 (μm) as shown in FIG. Inadequate results in terms of compactness. On the other hand, when it is 60 (%) or more, as shown in a photograph of a sample of 3 (μm) as shown in FIG.

なお、上記の表3および図14等には示されていないが、アルミナの平均粒径が7(μm)以上になると、保護層62が薄い膜厚ではその表面の凹凸が大きくなり、膜厚を厚くすると熱効率が劣るため、アルミナ粉末を添加する効果が損なわれる。また、7(μm)以上の球状粒子は高コストになるため、利用価値も低い。保護層62の厚さ寸法は、熱効率面では薄い方が好ましく、10(μm)以下にする必要があり、通常は7〜8(μm)程度である。アルミナの平均粒径が5(μm)以上の場合には、粒度分布を考えると7〜8(μm)程度の粒子も含まれるので、膜厚10(μm)以下にすることが困難である。したがって、アルミナの平均粒径は5(μm)以下が一層好ましい。   Although not shown in the above Table 3 and FIG. 14 and the like, when the average particle diameter of alumina is 7 (μm) or more, the surface of the protective layer 62 becomes thin and the unevenness of the surface becomes large. If the thickness is increased, the thermal efficiency is inferior, so the effect of adding alumina powder is impaired. In addition, since spherical particles of 7 (μm) or more are expensive, their utility value is low. The thickness of the protective layer 62 is preferably thin in terms of thermal efficiency, and needs to be 10 (μm) or less, and is usually about 7 to 8 (μm). When the average particle diameter of alumina is 5 (μm) or more, considering the particle size distribution, particles of about 7 to 8 (μm) are included, and it is difficult to make the film thickness 10 (μm) or less. Therefore, the average particle diameter of alumina is more preferably 5 (μm) or less.

また、上述したように保護層62に添加するアルミナ粉末は、平均粒径が0.35〜7(μm)の範囲のものを用い得るが、何れの粒径のものを用いるかは、サーマルプリントヘッド50の用途に応じて定めることもできる。例えば、スーパーマーケットのレジスタ用など、耐久性が重視される用途では、耐摩耗性が高くアルミナ粒子が脱落しにくい粗い粒子を用いることが好ましい。一方、医療用など、印刷の精細度が重視される用途では、耐久性が若干犠牲になるが、細かい粒子を用いることが好ましい。   Further, as described above, the alumina powder added to the protective layer 62 may be one having an average particle size in the range of 0.35 to 7 (μm). It can also be determined according to the application. For example, in applications where durability is important, such as for supermarket resistors, it is preferable to use coarse particles that have high wear resistance and that alumina particles are less likely to fall off. On the other hand, in applications where the fineness of printing is important, such as medical use, durability is slightly sacrificed, but it is preferable to use fine particles.

なお、前記表3に示されるように、CVD法により製造した球状粒子を用いた実施例では、アルミナ体積比率と平均粒径との関係を適宜選択することによって緻密性およびスクラッチ性に優れた保護層62を得ることができるが、破砕アルミナを用いると、緻密性はある程度得られるものの、スクラッチ性が劣るため、保護層62に用いることができない。破砕アルミナを用いた場合の平均粒径5(μm)、3(μm)のそれぞれについて体積比率55(%)のガラス膜の表面顕微鏡写真を図22、図23に示す。破砕アルミナを用いた場合には、特に高含有率における緻密性低下が顕著である。このような結果になるのは、破砕アルミナではアスペクト比が著しく大きいことも影響しているものと考えられる。しかも、破砕アルミナを用いて保護層62を形成すると、アルミナ粒子のエッジによって記録紙64に傷がつく問題もある。   As shown in Table 3, in Examples using spherical particles produced by the CVD method, protection with excellent denseness and scratch properties can be achieved by appropriately selecting the relationship between the alumina volume ratio and the average particle size. Although the layer 62 can be obtained, if crushed alumina is used, the denseness can be obtained to some extent, but the scratch property is inferior, so that it cannot be used for the protective layer 62. 22 and 23 show surface micrographs of glass films having a volume ratio of 55 (%) for each of average particle diameters 5 (μm) and 3 (μm) when crushed alumina is used. When crushed alumina is used, the reduction in denseness is particularly remarkable at a high content. This result is thought to be due to the fact that the aspect ratio of crushed alumina is extremely large. Moreover, when the protective layer 62 is formed using crushed alumina, there is a problem that the recording paper 64 is damaged by the edges of the alumina particles.

以上、説明したように、本実施例によれば、ガラスを主成分とする厚膜絶縁ペーストには、アルミナ粉末が含まれているため、複写機の定着ヒータ10の絶縁膜22やサーマルプリントヘッド50の保護層62に好適で、硬度が高く延いては耐摩耗性や耐スクラッチ性が高く、且つ熱伝導率や耐電圧が高い絶縁膜等を得ることができる。このとき、アルミナ粉末のアスペクト比が1.2以下と小さく球形に近いことから、膜形成時に高い充填密度が容易に得られるので、アルミナ粉末が含まれることによる絶縁膜等の硬度等の改善効果が一層高められる。また、アルミナ粉末の体積比率が25(%)以上と十分に大きいことから、アルミナ粉末が含まれることによる絶縁膜等の硬度や熱伝導率等の改善効果が一層高められ、体積比率が60(%)未満に留められていることから、強固な絶縁膜等を得ることができる。また、アルミナ粉末の平均粒径が前記(1)式を満たし、0.35(μm)以上であることから、形成した絶縁膜等からアルミナ粒子が脱落することが十分に抑制され延いては一層高い耐スクラッチ性が得られる。また、平均粒径が7(μm)以下に留められていることから、形成する絶縁膜等の膜厚を例えば10(μm)以下と十分に薄くしても膜表面の凹凸が十分に小さくなり、焼成しただけでも十分に高い平滑性を有する絶縁膜等を得ることができる。   As described above, according to this embodiment, since the thick film insulating paste mainly composed of glass contains alumina powder, the insulating film 22 of the fixing heater 10 of the copying machine and the thermal print head. It is suitable for 50 protective layers 62, and it is possible to obtain an insulating film having high hardness and high wear resistance and scratch resistance and high thermal conductivity and withstand voltage. At this time, since the aspect ratio of the alumina powder is as small as 1.2 or less and is nearly spherical, a high packing density can be easily obtained at the time of film formation. Enhanced. Further, since the volume ratio of the alumina powder is sufficiently large as 25 (%) or more, the improvement effect of the hardness and thermal conductivity of the insulating film and the like due to the inclusion of the alumina powder is further enhanced, and the volume ratio is 60 ( %), It is possible to obtain a strong insulating film or the like. In addition, since the average particle diameter of the alumina powder satisfies the above formula (1) and is 0.35 (μm) or more, the alumina particles are sufficiently prevented from falling off from the formed insulating film, etc. Scratch property is obtained. In addition, since the average particle size is kept at 7 (μm) or less, the unevenness of the film surface is sufficiently small even if the thickness of the insulating film to be formed is sufficiently thin, for example, 10 (μm) or less. An insulating film having sufficiently high smoothness can be obtained even by firing.

以上、本発明を図面を参照して詳細に説明したが、本発明は更に別の態様でも実施でき、その主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得るものである。   As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail with reference to drawings, this invention can be implemented also in another aspect, A various change can be added in the range which does not deviate from the main point.

10 定着ヒータ、12 基台、14 定着フィルム、16 加圧ローラ、18 基材、20 抵抗発熱体層、22 絶縁膜、24 アルミニウム製円柱、26 シリコーンゴム、28 記録紙、30 定着ヒータ、32 基材、34 抵抗発熱体層、36 絶縁膜、40 回路基板、42 絶縁膜、44 基板、46 導体膜、48 電子部品、50 サーマルプリントヘッド、52 加圧ローラ、54 基板、56 蓄熱層、58 抵抗発熱体層、60,60 電極層、62 保護層、64 記録紙、66 金属製円柱、68 ゴム層 10 fixing heater, 12 base, 14 fixing film, 16 pressure roller, 18 base material, 20 resistance heating element layer, 22 insulating film, 24 aluminum cylinder, 26 silicone rubber, 28 recording paper, 30 fixing heater, 32 base Material, 34 Resistance heating element layer, 36 Insulating film, 40 Circuit board, 42 Insulating film, 44 Substrate, 46 Conductor film, 48 Electronic component, 50 Thermal print head, 52 Pressure roller, 54 Substrate, 56 Thermal storage layer, 58 Resistance Heating element layer, 60, 60 electrode layer, 62 protective layer, 64 recording paper, 66 metal cylinder, 68 rubber layer

Claims (3)

所定の基材の表面に絶縁膜を形成するために用いられるガラスを主成分とする絶縁膜組成物であって、
アスペクト比が1.2以下のアルミナ粉末を絶縁膜組成物全体に占める体積比率x(%)と平均粒径y(μm)が以下の関係式(1)を満たす範囲で含むことを特徴とする絶縁膜組成物。
0.09exp(9.8/(60−x))+0.24≦y≦7
(但し、25≦x<60) ・・・(1)
An insulating film composition mainly composed of glass used for forming an insulating film on the surface of a predetermined substrate,
An insulating film comprising alumina powder having an aspect ratio of 1.2 or less in a range where the volume ratio x (%) and the average particle size y (μm) in the whole insulating film composition satisfy the following relational expression (1): Composition.
0.09exp (9.8 / (60−x)) + 0.24 ≦ y ≦ 7
(However, 25 ≦ x <60) (1)
前記体積比率x(%)が35≦x≦55の範囲内である請求項1の絶縁膜組成物。   The insulating film composition according to claim 1, wherein the volume ratio x (%) is in a range of 35 ≦ x ≦ 55. 前記平均粒径y(μm)が5(μm)以下である請求項1または請求項2の絶縁膜組成物。   The insulating film composition according to claim 1 or 2, wherein the average particle size y (µm) is 5 (µm) or less.
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