JP2013032245A - 二酸化炭素精製供給方法及びシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】精製循環系20に二酸化炭素を供給して二酸化炭素を精製循環系20内で循環させながら精製する精製循環処理を行い、精製循環系20内の二酸化炭素が所定の清浄度になるまで精製循環処理を行ったのちに、精製循環処理で精製された二酸化炭素をユースポイント40に供給する。
【選択図】 図1
Description
図1に示す二酸化炭素精製供給システムを組み立て、同じく図1に示すユースポイントに対し、精製された二酸化炭素を供給した。ここで、フィルタ25,34の孔径を0.003μmとした。二酸化炭素ボンベ10として、4Nグレード(純度99.99%)のものを使用して精製循環系20に二酸化炭素を供給した。精製循環系内に所定量の二酸化炭素を供給した後、バルブ11を閉じて、二酸化炭素ボンベ10から精製循環系に対する二酸化炭素の供給を停止した。精製循環処理を半日以上行った後、開閉弁31を開けて、精製された二酸化炭素をユースポイントに供給した。ユースポイント40では、チャンバー43に超臨界二酸化炭素を供給してチャンバー43内で直径300mmのシリコンウエハの処理を行った。処理後、ウエハの表面に残存する直径38nm以上の微小パーティクル数を計測した。結果を図3に示す。図において「Run1」、「Run2」、「Run3」とあるのは、再現性を確認するために複数回にわたって試行を行った際の何回目の試行であるかを示している。
図4に、参考例1,2でのシステム構成を示す。この構成は、図1に示したものにおいて二酸化炭素ボンベ10からの二酸化炭素が過冷却器23に直接供給されるようにしたものである。参考例1,2では、二酸化炭素の精製循環処理は行われない。二酸化炭素ボンベ10としては、参考例1においては4Nグレードのものを使用し、参考例2においては6Nグレード(純度99.9999%)のものを使用した。フィルタ25,34の孔径は実施例1の場合と同じである。実施例1の場合と同様に、チャンバー43に超臨界二酸化炭素を供給し、チャンバー43内で直径300mmのシリコンウエハの処理を行い、処理後、ウエハの表面に残存する直径38nm以上の微小パーティクルの数を計測した。結果を図3に示す。図において「Run1」、「Run2」、「Run3」とあるのは、再現性を確認するために複数回にわたって試行を行った際の何回目の試行であるかを示している。
11 バルブ
13 サンプリングバルブ
14 パーティクルカウンタ
20 精製循環系
21 凝縮器
22 貯槽
23 過冷却器
24 ポンプ
25,28,34,42 フィルタ
26,45 背圧弁
27 蒸発器
31 開閉弁
32 バッファタンク
33 減圧弁
40 ユースポイント
41 加熱器
43 チャンバー
Claims (6)
- ユースポイントに二酸化炭素を供給する二酸化炭素精製供給方法において、
精製循環系に二酸化炭素を供給して前記二酸化炭素を前記精製循環系内で循環させながら精製する精製循環処理を行い、
前記精製循環系内の前記二酸化炭素が所定の清浄度になるまで前記精製循環処理を行ったのちに、前記精製循環処理で精製された前記二酸化炭素を前記ユースポイントに供給することを特徴とする、二酸化炭素精製供給方法。 - 前記精製循環処理によって精製された二酸化炭素を前記精製循環系の外部に設けられたバッファタンクに貯留し、前記バッファタンクから前記ユースポイントに前記精製された二酸化炭素を供給する、請求項1に記載の二酸化炭素精製供給方法。
- 前記精製循環処理を継続して実施しつつ前記精製循環系に二酸化炭素を供給し、前記ユースポイントでの需要量に応じて前記精製された二酸化炭素を前記ユースポイントに供給する、請求項2に記載の二酸化炭素精製供給方法。
- ユースポイントに二酸化炭素を供給する二酸化炭素精製供給システムにおいて、
二酸化炭素源から二酸化炭素の供給を受け、前記二酸化炭素を循環させつつ精製する精製循環系と、
前記精製循環系と前記ユースポイントとの間に設けられた弁と、
を有し、
前記精製循環系により前記二酸化炭素を所定の清浄度になるまで精製した後に、前記弁を介して前記精製された前記二酸化炭素を前記ユースポイントに供給することを特徴とする、二酸化炭素精製供給システム。 - 前記弁と前記ユースポイントとの間に前記精製された二酸化炭素を貯留するバッファタンクを備え、前記バッファタンクから前記ユースポイントに前記精製された二酸化炭素が供給される、請求項4に記載の二酸化炭素精製供給システム。
- 前記精製循環系で前記二酸化炭素の精製を継続して実施しつつ前記精製循環系に二酸化炭素が供給され、前記ユースポイントでの需要量に応じて前記精製された二酸化炭素を前記ユースポイントに供給する、請求項5に記載の二酸化炭素精製供給システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2011169282A JP2013032245A (ja) | 2011-08-02 | 2011-08-02 | 二酸化炭素精製供給方法及びシステム |
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2011
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