JP2013026555A - Management device - Google Patents

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substrate
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holder
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Isao Sugaya
功 菅谷
Naohiko Kurata
尚彦 倉田
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Nikon Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem in which there is a risk that a suction unit is degraded to cause a reduction in alignment accuracy of a substrate and a shift of the substrate during a substrate transfer when a leaf spring of the substrate holder is degraded.SOLUTION: The management device, which manages a first suction unit, provided on a first substrate holder which holds a first substrate, and a second suction unit, provided on a second substrate holder which holds a second substrate, which exerts an attraction force of sandwiching the first substrate and the second substrate between the first substrate holder and the second substrate holder by pairing with the first suction unit, comprises: a detector which detects a state of the attraction force between the first suction unit and the second suction unit; a determination part which determines whether or not the attraction force between the first suction unit and the second suction unit is good on the basis of the state of the attraction force; and a warning part which warns to prompt a maintenance of at least one of the first suction unit and the second suction unit on the basis of the determination result of the determination part.

Description

本発明は、管理装置に関する。   The present invention relates to a management apparatus.

基板を保持した一対の基板ホルダを精度良く位置合わせして重ね合わせ、加熱加圧することにより一対の基板を貼り合わせる貼り合わせ装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。基板ホルダは、基板ホルダ同士を吸着固定させる磁石と磁性体等の吸着ユニットを備えることによって、一対の基板ホルダにずれが発生することを防止する。
[先行技術文献]
[特許文献]
[特許文献1]特開2007−208031号公報
A bonding apparatus is known in which a pair of substrate holders holding a substrate are accurately aligned, overlapped, and heated and pressed to bond a pair of substrates (for example, see Patent Document 1). The substrate holder includes a magnet and a magnetic unit that attract and fix the substrate holders to each other, thereby preventing the pair of substrate holders from being displaced.
[Prior art documents]
[Patent Literature]
[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-208031

貼り合わせ装置において、基板ホルダが繰り返し使用されると、吸着ユニットの吸着力が弱まり、基板搬送中に基板がずれるおそれがある。   In the bonding apparatus, when the substrate holder is repeatedly used, the suction force of the suction unit is weakened, and the substrate may be shifted during the transport of the substrate.

上記課題を解決するために、本発明に係る管理装置は、第1基板を保持する第1基板ホルダに設けられた第1吸着ユニットと、第2基板を保持する第2基板ホルダに設けられ、第1吸着ユニットと対となって第1基板ホルダと第2基板ホルダとの間に第1基板と第2基板とを挟み込む吸着力を発揮する第2吸着ユニットとの管理装置であって、第1吸着ユニットと第2吸着ユニットの間の吸着力の状態を検出する検出部と、吸着力の状態に基づいて第1吸着ユニットと第2吸着ユニットとの間の吸着力の良否を判断する判断部と、判断部の判断結果に基づいて、第1吸着ユニットと第2吸着ユニットの少なくとも一方のメンテナンスを促す警告を行う警告部とを備える。   In order to solve the above problems, a management device according to the present invention is provided in a first suction unit provided in a first substrate holder that holds a first substrate, and a second substrate holder that holds a second substrate, A management device for a second suction unit that exhibits a suction force that sandwiches the first substrate and the second substrate between the first substrate holder and the second substrate holder in pairs with the first suction unit, A detection unit that detects the state of the suction force between the first suction unit and the second suction unit, and a determination that determines whether the suction force between the first suction unit and the second suction unit is good based on the state of the suction force And a warning unit that issues a warning prompting maintenance of at least one of the first suction unit and the second suction unit based on the determination result of the determination unit.

なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。   It should be noted that the above summary of the invention does not enumerate all the necessary features of the present invention. In addition, a sub-combination of these feature groups can also be an invention.

第1の実施形態に係る貼り合わせ装置の全体構造を概略的に示す平面図である。It is a top view which shows roughly the whole structure of the bonding apparatus which concerns on 1st Embodiment. 本アライナの構造を概略的に示す側断面図である。It is a sectional side view which shows the structure of this aligner roughly. 第1基板を保持した第1基板ホルダを概略的に示す平面図である。It is a top view which shows roughly the 1st board | substrate holder holding the 1st board | substrate. 第2基板を保持した第2基板ホルダを概略的に示す平面図である。It is a top view showing roughly the 2nd substrate holder holding the 2nd substrate. ワーク対形成直前の状態を概略的に示す平面図である。It is a top view which shows the state just before workpiece | work pair formation schematically. ワーク対形成直後の状態を概略的に示す平面図である。It is a top view which shows the state immediately after workpiece | work pair formation schematically. マグネットユニットを概略的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a magnet unit roughly. 吸着ユニットの板バネを概略的に示す平面図である。It is a top view which shows roughly the leaf | plate spring of an adsorption | suction unit. 板バネが弾性変形した状態を概略的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows roughly the state which the leaf | plate spring elastically deformed. 図9で示す板バネの変形状態において、吸着子を含めて示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view including an adsorber in the deformed state of the leaf spring shown in FIG. 9. 制御部の構造を概略的に示すブロック構成図である。It is a block block diagram which shows the structure of a control part roughly. 貼り合わせ装置によって、2組の基板を接合する接合処理と並行して実行される、吸着ユニットを管理する管理処理のフローチャートである。It is a flowchart of the management process which manages the adsorption | suction unit performed in parallel with the joining process which joins 2 sets of board | substrates by the bonding apparatus. 本アライナが、付勢部材を下方向に駆動させて板バネの弾性反力を検出する様子を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows a mode that this aligner detects the elastic reaction force of a leaf | plate spring by driving a biasing member below. 第2の実施形態に係る貼り合わせ装置の全体構造を概略的に示す平面図である。It is a top view which shows roughly the whole structure of the bonding apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 下基板ホルダを上方から見下ろした様子を概略的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a mode that the lower substrate holder was looked down from upper direction. 下基板ホルダを下方から見上げた様子を概略的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a mode that the lower substrate holder was looked up from the downward direction. 上基板ホルダを下方から見上げた様子を概略的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a mode that the upper substrate holder was looked up from the downward direction. 上基板ホルダを上方から見下ろした様子を概略的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a mode that the upper substrate holder was looked down from upper direction. 本アライナにおいて、ワーク対の形成直前の状態を概略的に示す断面図である。In this aligner, it is sectional drawing which shows the state immediately before formation of a workpiece | work pair schematically. 本アライナにおいて、ワーク対の形成直後の状態を概略的に示す断面図である。In this aligner, it is sectional drawing which shows the state immediately after formation of a workpiece | work pair. ホルダ観察ユニットの構造を概略的に示す側断面図である。It is a sectional side view which shows the structure of a holder observation unit roughly. 制御部の構造を概略的に示すブロック構成図である。It is a block block diagram which shows the structure of a control part roughly. 貼り合わせ装置によって、2組の基板を接合する接合処理と並行して実行される、吸着ユニットを管理する管理処理のフローチャートである。It is a flowchart of the management process which manages the adsorption | suction unit performed in parallel with the joining process which joins 2 sets of board | substrates by the bonding apparatus. 本アライナ及びホルダ観察ユニットによって、観察穴を通して観察されたずれ検出用マークを含む画像データの例を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the example of the image data containing the mark for a deviation | shift detection observed through the observation hole by this aligner and holder observation unit.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。   Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the invention according to the claims. In addition, not all the combinations of features described in the embodiments are essential for the solving means of the invention.

図1は、本実施形態に係る貼り合わせ装置100の全体構造を概略的に示す平面図である。貼り合わせ装置100は、回路パターンが形成された複数の基板を、接合すべき電極同士が接触するように重ね合わせて加熱加圧することにより接合する。   FIG. 1 is a plan view schematically showing the overall structure of a bonding apparatus 100 according to the present embodiment. The laminating apparatus 100 bonds a plurality of substrates on which circuit patterns are formed by overlapping and heating and pressing so that electrodes to be bonded come into contact with each other.

貼り合わせ装置100は、共通の筐体101の内部に形成された大気環境部102及び真空環境部202を含む。大気環境部102は、筐体101の外部に面して、全体制御部110及びEFEM(Equipment Front End Module)112を有する。全体制御部110は、貼り合わせ装置100内に含まれる装置を制御する制御プログラムであるレシピを記憶する記憶部111を備える。全体制御部110は、記憶部111に記憶されたレシピに従って貼り合わせ装置100内に含まれる各装置を制御する。   The bonding apparatus 100 includes an atmospheric environment unit 102 and a vacuum environment unit 202 that are formed inside a common housing 101. The atmospheric environment unit 102 has an overall control unit 110 and an EFEM (Equipment Front End Module) 112 facing the outside of the housing 101. The overall control unit 110 includes a storage unit 111 that stores a recipe that is a control program for controlling an apparatus included in the bonding apparatus 100. The overall control unit 110 controls each device included in the bonding apparatus 100 according to the recipe stored in the storage unit 111.

EFEM112は、3つのロードポート113及びロボットアーム116を備える。各ロードポートには密閉型の基板格納用ポッドであるFOUP(Front Opening Unified Pod)114が装着される。FOUP114に格納された基板120は、ロボットアーム116によって出し入れされる。なお、ここでいう基板120は、既に回路パターンが複数周期的に形成されている単体のシリコンウェハ、化合物半導体ウェハ等である。また、FOUP114に格納された基板120が、既に複数のウェハを積層して形成された積層基板である場合もある。   The EFEM 112 includes three load ports 113 and a robot arm 116. Each load port is mounted with a FOUP (Front Opening Unified Pod) 114 which is a sealed pod for storing a substrate. The substrate 120 stored in the FOUP 114 is taken in and out by the robot arm 116. The substrate 120 here is a single silicon wafer, a compound semiconductor wafer or the like on which a plurality of circuit patterns are already formed periodically. In some cases, the substrate 120 stored in the FOUP 114 is a laminated substrate formed by already laminating a plurality of wafers.

大気環境部102は、筐体101の内側にそれぞれ配置された、予備アライナ130、本アライナ140、ホルダラック150及び分離機構160を備える。ホルダラック150は、基板120を保持する複数枚の基板ホルダ300を収納する。   The atmospheric environment unit 102 includes a spare aligner 130, a main aligner 140, a holder rack 150, and a separation mechanism 160, which are arranged inside the housing 101, respectively. The holder rack 150 stores a plurality of substrate holders 300 that hold the substrate 120.

基板ホルダ300は、第1基板ホルダの一例としての下基板ホルダ330と、第2基板ホルダの一例としての上基板ホルダ310の2種類に分けられ、下基板ホルダ330と上基板ホルダ310が対として使用される。なお、上基板ホルダ310が保持する基板120と下基板ホルダ330が保持する基板120を区別する場合、上基板ホルダ310が保持する基板120を第1基板121、下基板ホルダ330が保持する基板120を第2基板122と呼ぶ。   The substrate holder 300 is divided into two types: a lower substrate holder 330 as an example of a first substrate holder and an upper substrate holder 310 as an example of a second substrate holder. The lower substrate holder 330 and the upper substrate holder 310 are paired. used. When the substrate 120 held by the upper substrate holder 310 is distinguished from the substrate 120 held by the lower substrate holder 330, the substrate 120 held by the upper substrate holder 310 is the substrate 120 held by the first substrate 121 and the lower substrate holder 330. Is called a second substrate 122.

ホルダラック150は、基板ホルダ300を出し入れする面側にバーコードリーダ152を備える。基板ホルダ300には、基板ホルダ300毎に異なる管理IDをコード化したバーコード302が設けられている。バーコードリーダ152は、ロボットアーム175によって基板ホルダ300が搬入出されるときにバーコード302を読み取る。そしてバーコードリーダ152は、読み取ったバーコード302をデコードした管理IDを全体制御部110に送信する。全体制御部110は、ホルダラック150から管理IDを受信することにより、ホルダラック150に対して搬入出された基板ホルダ300を識別する。   The holder rack 150 includes a barcode reader 152 on the surface side where the substrate holder 300 is inserted and removed. The substrate holder 300 is provided with a barcode 302 in which a management ID that is different for each substrate holder 300 is encoded. The barcode reader 152 reads the barcode 302 when the substrate holder 300 is carried in / out by the robot arm 175. Then, the barcode reader 152 transmits a management ID obtained by decoding the read barcode 302 to the overall control unit 110. The overall control unit 110 receives the management ID from the holder rack 150 and thereby identifies the substrate holder 300 that has been carried into and out of the holder rack 150.

予備アライナ130は、基板120が本アライナ140に搬入されたときに、本アライナ140が備える顕微鏡の視野内に基板120のアライメントマークが収まるように、基板120を予備的に位置合わせする。予備アライナ130は、基板アライナ131及びホルダアライナ134を備える。   The preliminary aligner 130 preliminarily aligns the substrate 120 so that when the substrate 120 is carried into the main aligner 140, the alignment mark of the substrate 120 is within the field of view of the microscope included in the aligner 140. The spare aligner 130 includes a substrate aligner 131 and a holder aligner 134.

基板アライナ131は、基板テーブル132及び検出器133を備える。基板テーブル132にはロボットアーム116によって基板120が載置される。検出器133は、基板120を俯瞰して基板120の位置及び向きを検出する。基板アライナ131は、予め定められた範囲に入るように基板120の位置及び向きを調整する。   The substrate aligner 131 includes a substrate table 132 and a detector 133. The substrate 120 is placed on the substrate table 132 by the robot arm 116. The detector 133 overlooks the substrate 120 and detects the position and orientation of the substrate 120. The substrate aligner 131 adjusts the position and orientation of the substrate 120 so as to fall within a predetermined range.

ホルダアライナ134は、ホルダテーブル135及び検出器136を備える。ホルダテーブル135には、ホルダラック150から搬送された基板ホルダ300が載置される。検出器136は、基板ホルダ300を俯瞰して基板ホルダ300の位置及び向きを検出する。ホルダアライナ134は、予め定められた範囲に入るように基板ホルダ300の位置及び向きを調整する。   The holder aligner 134 includes a holder table 135 and a detector 136. The substrate holder 300 transferred from the holder rack 150 is placed on the holder table 135. The detector 136 overlooks the substrate holder 300 and detects the position and orientation of the substrate holder 300. The holder aligner 134 adjusts the position and orientation of the substrate holder 300 so as to fall within a predetermined range.

基板スライダ138は、基板アライナ131により位置調整された基板120を、基板アライナ131からホルダアライナ134へと搬送する。そして、基板スライダ138は、ホルダアライナ134により位置調整された基板ホルダ300上に基板120を載置する。   The substrate slider 138 conveys the substrate 120 whose position has been adjusted by the substrate aligner 131 from the substrate aligner 131 to the holder aligner 134. The substrate slider 138 places the substrate 120 on the substrate holder 300 whose position is adjusted by the holder aligner 134.

ホルダテーブル135には給電端子139が設けられており、基板ホルダ300の裏面に設けられた給電端子と接続して、基板ホルダ300に電力を供給する。基板ホルダ300は内部に静電チャックを有しており、当該静電チャックはホルダアライナ134から供給された電力で基板120を静電吸着する。これにより基板ホルダ300が基板120を保持する。吸着により一体化された基板120及び基板ホルダ300は「ワーク」と称される場合がある。なお、吸着により一体化された第2基板122と上基板ホルダ310は「上ワーク」、吸着により一体化された第1基板121と下基板ホルダ330は「下ワーク」と称される場合がある。予備アライナ130により形成されたワークは、ロボットアーム171によって受け渡しポート178に載置され、ロボットアーム176によって本アライナ140に搬入される。   The holder table 135 is provided with a power supply terminal 139 and is connected to a power supply terminal provided on the back surface of the substrate holder 300 to supply power to the substrate holder 300. The substrate holder 300 has an electrostatic chuck inside, and the electrostatic chuck electrostatically attracts the substrate 120 with electric power supplied from the holder aligner 134. As a result, the substrate holder 300 holds the substrate 120. The substrate 120 and the substrate holder 300 integrated by suction may be referred to as a “work”. The second substrate 122 and the upper substrate holder 310 integrated by suction may be referred to as “upper workpiece”, and the first substrate 121 and the lower substrate holder 330 integrated by suction may be referred to as “lower workpiece”. . The workpiece formed by the preliminary aligner 130 is placed on the transfer port 178 by the robot arm 171 and is carried into the main aligner 140 by the robot arm 176.

本アライナ140は、上ワークと下ワークを対向させて、各ワークの基板120に形成された複数のアライメントマークを位置合わせして重ね合わせる。本アライナ140に求められる位置合わせ精度は予備アライナ130よりも高く、回路パターンが形成された基板120の、接合すべき電極同士が接触するように位置合わせする場合には、サブミクロンレベルの精度が求められる。   The aligner 140 positions and superimposes a plurality of alignment marks formed on the substrate 120 of each work, with the upper work and the lower work facing each other. The alignment accuracy required for the aligner 140 is higher than that of the preliminary aligner 130. When the alignment is performed so that the electrodes to be bonded of the substrate 120 on which the circuit pattern is formed are in contact with each other, the accuracy on the submicron level is high. Desired.

本アライナ140で重ね合わせた2つの基板120は、上基板ホルダ310と下基板ホルダ330との間に挟まれる。そして、2つの基板120は、上基板ホルダ310に設けられた永久磁石と、下基板ホルダ330に設けられた磁性体材料の吸着子との間に発生する吸引力により仮止めされる。上基板ホルダ310、下基板ホルダ330、及びそれらに挟まれた2つの基板120の組み合わせは「ワーク対」と称される場合がある。ワーク対は、ロボットアーム176によって受け渡しポート178に載置される。そして、ロボットアーム171が、搬送制御部172の制御に従って、ワーク対を受け渡しポート178から分離機構160に搬送する。そしてワーク対は、ロボットアーム175によってロードロックチャンバ220に搬入される。   The two substrates 120 overlapped by the aligner 140 are sandwiched between the upper substrate holder 310 and the lower substrate holder 330. The two substrates 120 are temporarily fixed by the attractive force generated between the permanent magnet provided on the upper substrate holder 310 and the magnetic material adsorber provided on the lower substrate holder 330. The combination of the upper substrate holder 310, the lower substrate holder 330, and the two substrates 120 sandwiched between them may be referred to as a “work pair”. The workpiece pair is placed on the transfer port 178 by the robot arm 176. Then, the robot arm 171 transfers the workpiece pair from the transfer port 178 to the separation mechanism 160 in accordance with the control of the transfer control unit 172. Then, the workpiece pair is carried into the load lock chamber 220 by the robot arm 175.

真空環境部202は、ロードロックチャンバ220、ロボットアーム230及び複数の加熱加圧ユニット240を有する。ロボットアーム230は、保持したワーク対をロードロックチャンバ220と加熱加圧ユニット240の間で搬送する。ロードロックチャンバ220は、大気環境部102側と真空環境部202側とに、交互に開閉するシャッタ222、224を有しており、大気環境部102の内部雰囲気を真空環境部202側に漏らすことなく、ワーク対を真空環境部202に搬入する。   The vacuum environment unit 202 includes a load lock chamber 220, a robot arm 230, and a plurality of heating and pressing units 240. The robot arm 230 conveys the held work pair between the load lock chamber 220 and the heating / pressurizing unit 240. The load lock chamber 220 has shutters 222 and 224 that open and close alternately on the atmosphere environment section 102 side and the vacuum environment section 202 side, and leaks the internal atmosphere of the atmosphere environment section 102 to the vacuum environment section 202 side. Instead, the work pair is carried into the vacuum environment unit 202.

ロボットアーム230は、ロードロックチャンバ220から搬出したワーク対を複数の加熱加圧ユニット240のいずれかに搬入する。そして加熱加圧ユニット240は、搬入されたワーク対を加熱加圧する。ワーク対が加熱加圧されることにより2組の基板120が恒久的に接合される。加熱加圧ユニット240により接合された2組の基板120は、まとめて「接合基板」と称される場合がある。   The robot arm 230 carries the work pair carried out from the load lock chamber 220 into one of the plurality of heating and pressing units 240. The heating / pressurizing unit 240 heats and presses the loaded workpiece pair. When the work pair is heated and pressurized, the two sets of substrates 120 are permanently bonded. The two sets of substrates 120 bonded by the heating and pressing unit 240 may be collectively referred to as “bonded substrates”.

基板接合後のワーク対は、ロボットアーム230によってロードロックチャンバ220に搬入され、ロボットアーム175によって分離機構160に搬入される。分離機構160は、加熱加圧されることにより基板ホルダ300に張り付いた接合基板を、基板ホルダ300から分離する。分離された接合基板は下基板ホルダ330上に吸着されずに載置された状態となる。   The workpiece pair after substrate bonding is carried into the load lock chamber 220 by the robot arm 230 and carried into the separation mechanism 160 by the robot arm 175. The separation mechanism 160 separates the bonded substrate attached to the substrate holder 300 from the substrate holder 300 by being heated and pressurized. The separated bonded substrate is placed on the lower substrate holder 330 without being adsorbed.

接合基板の分離後、分離機構160は、バーコードリーダ162により上基板ホルダ310のバーコード302を読み取る。そして、分離機構160は、バーコード302をデコードした管理IDを全体制御部110に通知する。上基板ホルダ310はロボットアーム176により反転された後、ホルダラック150に戻されるか、または次の基板120を搭載すべく予備アライナ130に搬送される。下基板ホルダ330は接合基板を載せたまま、ロボットアーム171によって、予備アライナ130に搬送される。そして、接合基板がロボットアーム116によってFOUP114に収容される。そして下基板ホルダ330は、ホルダラック150に戻されるかまたは、次の基板120を搭載するべくホルダアライナ134によって位置が調整される。以上示したように、貼り合わせ装置100が、2組の基板120を基板ホルダ300に搭載して重ね合わせ、加熱加圧することによって接合する処理は「基板接合処理」と称される場合がある。   After separating the bonded substrates, the separation mechanism 160 reads the barcode 302 of the upper substrate holder 310 with the barcode reader 162. Then, the separation mechanism 160 notifies the overall control unit 110 of the management ID obtained by decoding the barcode 302. The upper substrate holder 310 is inverted by the robot arm 176 and then returned to the holder rack 150 or transferred to the spare aligner 130 for mounting the next substrate 120. The lower substrate holder 330 is transported to the spare aligner 130 by the robot arm 171 with the bonded substrate placed thereon. Then, the bonded substrate is accommodated in the FOUP 114 by the robot arm 116. Then, the lower substrate holder 330 is returned to the holder rack 150 or the position thereof is adjusted by the holder aligner 134 to mount the next substrate 120. As described above, the process in which the bonding apparatus 100 mounts the two sets of substrates 120 on the substrate holder 300, overlaps them, and bonds them by heating and pressing may be referred to as “substrate bonding process”.

図2は、本アライナ140の構造を概略的に示す断面図である。本アライナ140の上ステージ141は天井147に固定される。天井147には上顕微鏡143及びバーコードリーダ146が固定される。一方、下ステージ142は、下載置台421、昇降部422、台座部423、駆動部424及びベース425を備える。   FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the structure of the aligner 140. The upper stage 141 of the aligner 140 is fixed to the ceiling 147. An upper microscope 143 and a barcode reader 146 are fixed to the ceiling 147. On the other hand, the lower stage 142 includes a lower mounting table 421, an elevating unit 422, a base unit 423, a driving unit 424, and a base 425.

下載置台421には、基板120を搭載した基板ホルダ300が載置される。下載置台421は、真空吸着により基板ホルダ300を保持する。昇降部422は、下載置台421を昇降させる。下載置台421上には下顕微鏡144が設置されている。昇降部422によって下載置台421が昇降すると、合わせて下顕微鏡144も昇降する。下顕微鏡144は、上ステージ141に載置されたワークを観察する。   A substrate holder 300 on which the substrate 120 is mounted is placed on the lower mounting table 421. The lower mounting table 421 holds the substrate holder 300 by vacuum suction. The elevating unit 422 moves the lower mounting table 421 up and down. A lower microscope 144 is installed on the lower mounting table 421. When the lower mounting table 421 moves up and down by the lifting unit 422, the lower microscope 144 moves up and down together. The lower microscope 144 observes the workpiece placed on the upper stage 141.

一方、上顕微鏡143は、下載置台421に載置されたワークを観察する。台座部423は駆動部424上に設置されている。駆動部424はベース425に設置されており、台座部423をXY平面方向に移動する。ここで、上ワークと下ワークを重ね合わせてワーク対を形成する処理フローについて説明する。   On the other hand, the upper microscope 143 observes the workpiece placed on the lower placement table 421. The pedestal portion 423 is installed on the driving portion 424. The drive unit 424 is installed on the base 425 and moves the pedestal unit 423 in the XY plane direction. Here, a processing flow for forming a work pair by superposing the upper work and the lower work will be described.

本アライナ140には、ロボットアーム176によってまず上ワークが搬入される。本アライナ140は、バーコードリーダ146によって上基板ホルダ310のバーコード302を読み取り、管理IDを全体制御部110に送信する。そして上ワークはロボットアーム176によって反転されて、基板を保持する面が下向きの状態で上ステージ141に押し当てられる。上ステージ141は上ワークを吸着して保持する。   The upper work is first carried into the aligner 140 by the robot arm 176. The aligner 140 reads the barcode 302 of the upper substrate holder 310 with the barcode reader 146 and transmits the management ID to the overall control unit 110. Then, the upper work is reversed by the robot arm 176 and is pressed against the upper stage 141 with the surface holding the substrate facing downward. The upper stage 141 sucks and holds the upper work.

次にロボットアーム176が、下ワークを下載置台421に載置する。本アライナ140は、駆動部424により下載置台421を移動させながら、上顕微鏡143によって下ワークの基板120の表面を撮像する。そして本アライナ140は、複数のアライメントマークの座標を検出する。次に本アライナ140は、駆動部424により下載置台421を移動させながら、下顕微鏡144によって、上ワークの基板120表面を撮像する。そして、本アライナ140は、上ワークの基板120に形成された複数のアライメントマークの座標を検出する。   Next, the robot arm 176 places the lower work on the lower mounting table 421. The aligner 140 images the surface of the substrate 120 of the lower workpiece with the upper microscope 143 while moving the lower mounting table 421 by the driving unit 424. The aligner 140 detects the coordinates of a plurality of alignment marks. Next, the aligner 140 images the surface of the substrate 120 of the upper workpiece with the lower microscope 144 while moving the lower mounting table 421 by the driving unit 424. The aligner 140 detects the coordinates of a plurality of alignment marks formed on the substrate 120 of the upper workpiece.

本アライナ140は、検出した両基板120の対応するアライメントマークの位置ずれが最小となるように、基板120の位置を合わせる。そして位置合わせ完了後、下載置台421を上昇させることにより下ワークの基板120と上ワークの基板120を接触させて、ワーク対を形成する。こうして形成されたワーク対は、ロボットアーム176によって本アライナ140から搬出される。   The aligner 140 aligns the positions of the substrates 120 so that the detected misalignment of the corresponding alignment marks on both the substrates 120 is minimized. After the alignment is completed, the lower mounting table 421 is raised to bring the lower work substrate 120 and the upper work substrate 120 into contact with each other to form a work pair. The workpiece pair thus formed is carried out from the aligner 140 by the robot arm 176.

図3は、第1基板121を保持した上基板ホルダ310を概略的に示す平面図である。上基板ホルダ310は、ホルダ本体312および第1吸着部の一例としてのマグネットユニット320を備える。ホルダ本体312は、セラミックス、金属等の高剛性材料により一体成形され、第1基板121よりも径がひとまわり大きな円板状をなす。   FIG. 3 is a plan view schematically showing the upper substrate holder 310 holding the first substrate 121. The upper substrate holder 310 includes a holder main body 312 and a magnet unit 320 as an example of a first attracting unit. The holder body 312 is integrally formed of a highly rigid material such as ceramics or metal, and has a disk shape whose diameter is slightly larger than that of the first substrate 121.

ホルダ本体312は、第1基板121を保持する保持領域314をその表面に備える。保持領域314は研磨されて高い平坦性を有する。第1基板121の保持は、静電力を利用した吸着により行われる。具体的には、ホルダ本体312に埋め込まれた電極316に、ホルダ本体312の裏面に設けられた給電端子318を介して電圧を加えることにより、上基板ホルダ310と第1基板121との間に電位差を生じさせて、第1基板121を保持領域314に吸着させる。   The holder main body 312 includes a holding region 314 for holding the first substrate 121 on the surface thereof. The holding region 314 is polished and has high flatness. The first substrate 121 is held by suction using an electrostatic force. Specifically, a voltage is applied to the electrode 316 embedded in the holder main body 312 via a power supply terminal 318 provided on the back surface of the holder main body 312, so that the upper substrate holder 310 and the first substrate 121 are interposed. A potential difference is generated to attract the first substrate 121 to the holding region 314.

マグネットユニット320は、第1基板121を保持する表面において、保持した第1基板121よりも外側である外周領域に複数配置される。図の場合、2個を一組として120度毎に合計6個のマグネットユニット320が配されている。   A plurality of magnet units 320 are arranged in an outer peripheral region on the surface holding the first substrate 121 and outside the held first substrate 121. In the case of the figure, a total of six magnet units 320 are arranged every 120 degrees with two as one set.

図4は、第2基板122を保持した下基板ホルダ330を概略的に示す平面図である。下基板ホルダ330は、ホルダ本体332および吸着ユニット340を備える。ホルダ本体332は、セラミックス、金属等の高剛性材料により一体成形され、第2基板122よりも径がひとまわり大きな円板状をなす。   FIG. 4 is a plan view schematically showing the lower substrate holder 330 holding the second substrate 122. The lower substrate holder 330 includes a holder main body 332 and a suction unit 340. The holder main body 332 is integrally formed of a highly rigid material such as ceramic or metal, and has a disk shape whose diameter is slightly larger than that of the second substrate 122.

ホルダ本体332は、第2基板122を保持する保持領域334をその表面に備える。保持領域334は研磨されて高い平坦性を有する。第2基板122の保持は、静電力を利用した吸着により行われる。具体的には、ホルダ本体332に埋め込まれた電極336に、ホルダ本体332の裏面に設けられた給電端子338を介して電圧を加えることにより、下基板ホルダ330と第2基板122との間に電位差を生じさせて、第2基板122を下基板ホルダ330に吸着させる。   The holder main body 332 includes a holding region 334 that holds the second substrate 122 on the surface thereof. The holding region 334 is polished and has high flatness. The second substrate 122 is held by suction using an electrostatic force. Specifically, a voltage is applied to the electrode 336 embedded in the holder main body 332 via a power supply terminal 338 provided on the back surface of the holder main body 332, so that the lower substrate holder 330 and the second substrate 122 are interposed. A potential difference is generated to attract the second substrate 122 to the lower substrate holder 330.

吸着ユニット340は、第2基板122を保持する表面において、保持した第2基板122よりも外側である外周領域に複数配置される。図の場合、2個を一組として120度毎に合計6個の吸着ユニット340が配されている。吸着ユニット340は、第2吸着部の一例としての吸着子341及び弾性部材の一例としての板バネ342を備える。吸着子341は磁性体材料により形成されている。そして吸着子341は、板バネ342上に固定されており、保持領域334に対して垂直な方向に板バネ342の弾性力を受ける。   A plurality of suction units 340 are arranged on the outer surface of the surface that holds the second substrate 122 and outside the held second substrate 122. In the case of the figure, a total of six suction units 340 are arranged every 120 degrees with two as one set. The adsorption unit 340 includes an adsorber 341 as an example of a second adsorption unit and a leaf spring 342 as an example of an elastic member. The adsorber 341 is made of a magnetic material. The adsorber 341 is fixed on the leaf spring 342 and receives the elastic force of the leaf spring 342 in a direction perpendicular to the holding region 334.

吸着ユニット340は、上基板ホルダ310のマグネットユニット320とそれぞれ対応するように配置されている。そして、第1基板121を保持した上基板ホルダ310と、第2基板122を保持した下基板ホルダ330が、互いに向かい合うと吸着ユニット340とマグネットユニット320の間に吸引力が生じる。上基板ホルダ310と下基板ホルダ330は、この吸引力によって第1基板121と第2基板122を挟持して固定する。   The adsorption unit 340 is disposed so as to correspond to the magnet unit 320 of the upper substrate holder 310, respectively. When the upper substrate holder 310 that holds the first substrate 121 and the lower substrate holder 330 that holds the second substrate 122 face each other, an attractive force is generated between the adsorption unit 340 and the magnet unit 320. The upper substrate holder 310 and the lower substrate holder 330 sandwich and fix the first substrate 121 and the second substrate 122 by this suction force.

図5は、本アライナ140において、ワーク対の形成直前の状態を概略的に示す断面図である。具体的には、上ステージ141に真空吸着保持された上基板ホルダ310が保持する第1基板121と、下ステージ142に真空吸着保持された下基板ホルダ330が保持する第2基板122の位置合わせが完了した状態の断面図である。   FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a state immediately before the work pair is formed in the aligner 140. Specifically, the first substrate 121 held by the upper substrate holder 310 held by vacuum suction on the upper stage 141 and the second substrate 122 held by the lower substrate holder 330 held by vacuum suction on the lower stage 142 are aligned. It is sectional drawing of the state which completed.

第1基板121と第2基板122の位置合わせを実行するとき、すなわち、下ステージ142をXY平面内で移動させるときには、第1基板121と第2基板122が接触しないように、両者の間に若干の隙間を形成する。この状態において吸着子341がマグネットユニット320に結合しないように、上ステージ141は複数の付勢部材430を備える。   When performing alignment between the first substrate 121 and the second substrate 122, that is, when the lower stage 142 is moved in the XY plane, the first substrate 121 and the second substrate 122 are not in contact with each other so as not to contact each other. A slight gap is formed. In this state, the upper stage 141 includes a plurality of urging members 430 so that the attractor 341 is not coupled to the magnet unit 320.

付勢部材430は、主に、柱状の部材であるプッシュピン432と、プッシュピン432を上下方向に駆動するシリンダ部434を備える。プッシュピン432は、伸長位置において、マグネットユニット320に設けられた貫通穴321の内部を通って、その先端が貫通穴321から突出する。またプッシュピン432は、収納位置においては、シリンダ部434の内部にその一部が収納されて、貫通穴321から退避する。すなわち、プッシュピン432は、貫通穴321の内部で、シリンダ部434の駆動によりZ軸方向に進退する。   The biasing member 430 mainly includes a push pin 432 that is a columnar member, and a cylinder portion 434 that drives the push pin 432 in the vertical direction. The push pin 432 passes through the inside of the through hole 321 provided in the magnet unit 320 at the extended position, and the tip thereof protrudes from the through hole 321. Further, in the storage position, a part of the push pin 432 is stored inside the cylinder portion 434 and retracts from the through hole 321. That is, the push pin 432 moves forward and backward in the Z-axis direction by driving the cylinder portion 434 inside the through hole 321.

第1基板121と第2基板122が相対的にXY方向に移動され得るときには、プッシュピン432は、吸着子341の上面に接触するように伸長位置に制御され、吸着子341のマグネットユニット320への結合を阻止する。即ち、吸着子341は板バネ342上に設置されているが、板バネ342が弾性変形して吸着子341がマグネットユニット320へ結合しないように、プッシュピン432が吸着子341を上方から押さえつけて、板バネ342の弾性変形を抑制する。プッシュピン432にはロードセル436が備え付けられている。本アライナ140は、ロードセル436により、プッシュピン432に加わる圧力を検出する。   When the first substrate 121 and the second substrate 122 can be moved relative to each other in the XY direction, the push pin 432 is controlled to the extended position so as to contact the upper surface of the attractor 341, and to the magnet unit 320 of the attractor 341. Block the binding. That is, the attracting element 341 is installed on the leaf spring 342, but the push pin 432 presses the attracting element 341 from above so that the leaf spring 342 is elastically deformed and the attracting element 341 is not coupled to the magnet unit 320. The elastic deformation of the leaf spring 342 is suppressed. The push pin 432 is provided with a load cell 436. The aligner 140 detects the pressure applied to the push pin 432 by the load cell 436.

なお、本アライナ140による第1基板121と第2基板122の位置合わせは、最終的な微調整段階においては、プッシュピン432の先端が吸着子341の上面を摺動する程度の移動量において実行される。それ以外の段階である、例えば顕微鏡によるアライメントマークの観察段階においては、第1基板121と第2基板122は、XYZ軸方向へ相対的に大きく離れた状態となるので、吸着子341がマグネットユニット320へ予期せず結合することはない。したがって、原則としてプッシュピン432は、マグネットユニット320の磁力が吸着子341へ及び、かつ、両者の結合を規制したいときに、伸長位置に制御され、それ以外のときには収納位置に制御される。   It should be noted that the alignment of the first substrate 121 and the second substrate 122 by the aligner 140 is performed with a moving amount such that the tip of the push pin 432 slides on the upper surface of the adsorber 341 in the final fine adjustment stage. Is done. In the other stage, for example, the stage of observing the alignment mark by a microscope, the first substrate 121 and the second substrate 122 are relatively far apart in the XYZ axis directions, so that the attractor 341 is disposed in the magnet unit. There is no unexpected binding to 320. Therefore, in principle, the push pin 432 is controlled to the extended position when the magnetic force of the magnet unit 320 is applied to the attracting element 341 and it is desired to restrict the coupling between them, and is controlled to the retracted position otherwise.

図6は、本アライナ140において、ワーク対の形成直後の状態を概略的に示す断面図である。具体的には、図5の状態から、第1基板121の表面と第2基板122の表面が接触するように下ステージ142をZ軸方向に駆動した状態を示し、さらに、プッシュピン432が収納位置に制御されて、吸着子341がマグネットユニット320に結合した状態を示す。   FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a state immediately after the work pair is formed in the aligner 140. Specifically, FIG. 5 shows a state in which the lower stage 142 is driven in the Z-axis direction so that the surface of the first substrate 121 and the surface of the second substrate 122 are in contact with each other, and the push pin 432 is stored. The state where the attractor 341 is coupled to the magnet unit 320 under the control of the position is shown.

図5の状態から図6の状態へ移行する過程において、プッシュピン432を収納位置に移動させる動作に伴って、板バネ342が弾性変形し、吸着子341がマグネットユニット320に結合する。このとき板バネ342の弾性力は、下基板ホルダ330と上基板ホルダ310を引き寄せて、下基板ホルダ330と上基板ホルダ310による第1基板121と第2基板122の挟持力を強める方向に働く。なお、分離機構160において、基板ホルダ300から接合基板を分離するときは、この逆の過程を経る。すなわち、分離機構160は、プッシュピンによって、吸着子341を押し下げることにより、マグネットユニット320と、吸着子341との結合を解除する。   In the process of shifting from the state of FIG. 5 to the state of FIG. 6, the leaf spring 342 is elastically deformed with the operation of moving the push pin 432 to the storage position, and the attractor 341 is coupled to the magnet unit 320. At this time, the elastic force of the leaf spring 342 acts in a direction that pulls the lower substrate holder 330 and the upper substrate holder 310 together to increase the clamping force of the first substrate 121 and the second substrate 122 by the lower substrate holder 330 and the upper substrate holder 310. . In the separation mechanism 160, when the bonded substrate is separated from the substrate holder 300, the reverse process is performed. That is, the separation mechanism 160 releases the coupling between the magnet unit 320 and the attractor 341 by pushing down the attractor 341 with a push pin.

図7は、マグネットユニット320を概略的に示す斜視図である。マグネットユニット320は、磁石322及び、磁石322を収容して支持する支持部325を備える。支持部325は、磁石322を収容する円筒状の収容部を有する。また、支持部325は、上基板ホルダ310に固定するネジを貫通させるネジ穴328を有する。支持部325は、例えば炭素鋼S25Cにより形成される。支持部325は、吸着子341と対向する対向面329を有する。   FIG. 7 is a perspective view schematically showing the magnet unit 320. The magnet unit 320 includes a magnet 322 and a support portion 325 that accommodates and supports the magnet 322. The support portion 325 has a cylindrical accommodating portion that accommodates the magnet 322. Further, the support portion 325 has a screw hole 328 through which a screw fixed to the upper substrate holder 310 is passed. The support portion 325 is made of, for example, carbon steel S25C. The support portion 325 has a facing surface 329 that faces the adsorbent 341.

磁石322は、支持部325の収容部に嵌入される円柱形をなした永久磁石であり、例えば、8N程度の大きさの磁力を有する。磁石322の中心軸には、プッシュピン432を挿通する挿通孔323が設けられており、この挿通孔323に接続するように、支持部325にも挿通孔326が設けられている。挿通孔323及び挿通孔326により、貫通穴321を形成する。   The magnet 322 is a columnar permanent magnet that is inserted into the accommodating portion of the support portion 325, and has a magnetic force of about 8N, for example. An insertion hole 323 through which the push pin 432 is inserted is provided on the central axis of the magnet 322, and an insertion hole 326 is also provided in the support portion 325 so as to connect to the insertion hole 323. A through hole 321 is formed by the insertion hole 323 and the insertion hole 326.

図8は、板バネ342を概略的に示す平面図である。板バネ342は、下基板ホルダ330の保持領域334に直交する方向に弾性を有する弾性部材であり、例えば、SUS631等の高強度析出硬化型ステンレス鋼により形成される。また、板バネ342は、中心付近の円形部343と耳状に突出した取付け部344を備え、中心部の直径は22mmであり、厚さは0.1mmである。   FIG. 8 is a plan view schematically showing the leaf spring 342. The leaf spring 342 is an elastic member having elasticity in a direction orthogonal to the holding region 334 of the lower substrate holder 330, and is formed of, for example, high-strength precipitation hardening stainless steel such as SUS631. The leaf spring 342 includes a circular portion 343 near the center and a mounting portion 344 protruding in an ear shape, and the center portion has a diameter of 22 mm and a thickness of 0.1 mm.

円形部343には、互いに同一方向に沿って伸び、かつ伸長方向に直交する方向へ間隔をおいて配置される一対のスリット346が形成されている。各スリット346は、円形部343の中心からの距離が互いに等しい。2つのスリット346により、円形部343の中心付近に帯状部348が形成される。   The circular portion 343 is formed with a pair of slits 346 extending along the same direction and spaced from each other in a direction perpendicular to the extending direction. Each slit 346 has the same distance from the center of the circular portion 343. A band-shaped portion 348 is formed near the center of the circular portion 343 by the two slits 346.

帯状部348には、円形部343の中心となる位置に、吸着子341を固定させる貫通穴347が設けられている。同様に、取付け部344は、板バネ342を上基板ホルダ310に固定するネジを貫通させるネジ穴345を有する。板バネ342は、上基板ホルダ310に対し、2つのネジ穴が上基板ホルダ310の周方向に沿い、かつ、スリット346の伸長方向が上基板ホルダ310の略径方向に沿うように、ホルダ本体332の周縁部に配置される。   The belt-like portion 348 is provided with a through hole 347 for fixing the adsorber 341 at a position that becomes the center of the circular portion 343. Similarly, the attachment portion 344 has a screw hole 345 through which a screw for fixing the leaf spring 342 to the upper substrate holder 310 is passed. The plate spring 342 has a holder main body so that two screw holes are along the circumferential direction of the upper substrate holder 310 and the extension direction of the slit 346 is along the substantially radial direction of the upper substrate holder 310 with respect to the upper substrate holder 310. It is arranged at the peripheral edge of 332.

図9は、板バネ342が上方向に弾性変形した状態を概略的に示す斜視図である。具体的には、板バネ342に固定された吸着子341が、マグネットユニット320に吸引されて結合したときの変形状態を表す。ただし、図において吸着子341は示されていない。   FIG. 9 is a perspective view schematically showing a state in which the leaf spring 342 is elastically deformed upward. Specifically, it represents a deformed state when the attracting element 341 fixed to the leaf spring 342 is attracted to and coupled to the magnet unit 320. However, the adsorber 341 is not shown in the drawing.

板バネ342は、吸着子341がマグネットユニット320に吸引されることにより、帯状部348が貫通穴347を頂点とするように浮き上がる。そして、板バネ342は、この浮き上がりに伴って、円形部343の周辺部のうち帯状部348と接続される2つの部分が互いに近づこうとするように弾性変形する。このとき、各スリット346は、それぞれの変形を許容するように、開口形状を変形させる。   The leaf spring 342 is lifted so that the belt-like portion 348 has the through hole 347 as a vertex when the attractor 341 is attracted to the magnet unit 320. As the plate spring 342 is lifted, the leaf spring 342 is elastically deformed so that the two portions connected to the belt-like portion 348 in the peripheral portion of the circular portion 343 approach each other. At this time, each slit 346 deforms the opening shape so as to allow the respective deformation.

図10は、図9で示す板バネ342の変形状態において、吸着子341を含めて示す斜視図である。吸着子341は、貫通穴347を介してネジなどの締結部材により板バネ342に固定される。図9及び図10では、板バネ342が上方向に弾性変形した状態を例示したが、板バネ342は下方向にも弾性変形する。例えば、付勢部材430によって吸着子341が下方向に押下されることにより、板バネ342は下向きに弾性変形する。このとき、付勢部材430は板バネ342から上向きの弾性反力を受ける。   10 is a perspective view including the adsorber 341 in a deformed state of the leaf spring 342 shown in FIG. The adsorber 341 is fixed to the leaf spring 342 through a through hole 347 with a fastening member such as a screw. 9 and 10 illustrate the state in which the leaf spring 342 is elastically deformed in the upward direction, the leaf spring 342 is also elastically deformed in the downward direction. For example, when the attracting member 430 is pushed down by the biasing member 430, the leaf spring 342 is elastically deformed downward. At this time, the biasing member 430 receives an upward elastic reaction force from the leaf spring 342.

図11は、全体制御部110のシステム構成を概略的に示すブロック図である。本実施形態に係る貼り合わせ装置100は、基板接合処理と並行して、基板ホルダ300の板バネ342を管理する管理処理を実行する。全体制御部110は、記憶部111、駆動制御部502、検出部504、判断部506、警告部510、表示部512、音声出力部514及び通信部516を備える。   FIG. 11 is a block diagram schematically showing the system configuration of the overall control unit 110. The bonding apparatus 100 according to the present embodiment executes a management process for managing the leaf spring 342 of the substrate holder 300 in parallel with the substrate bonding process. The overall control unit 110 includes a storage unit 111, a drive control unit 502, a detection unit 504, a determination unit 506, a warning unit 510, a display unit 512, an audio output unit 514, and a communication unit 516.

記憶部111は、各基板ホルダ300の管理IDと、各基板ホルダ300が基板接合処理に使用された回数を対応付けて記憶する。各基板ホルダ300が基板接合処理に使用された回数は、貼り合わせ装置100の全体の動作を制御する全体制御部110によりカウントされる。そして、全体制御部110によって、記憶部111のデータが逐次更新される。   The storage unit 111 stores the management ID of each substrate holder 300 in association with the number of times each substrate holder 300 has been used for the substrate bonding process. The number of times each substrate holder 300 is used for the substrate bonding process is counted by the overall control unit 110 that controls the overall operation of the bonding apparatus 100. Then, the data in the storage unit 111 is sequentially updated by the overall control unit 110.

駆動制御部502は、貼り合わせ装置100内の各装置を制御して、基板接合処理および板バネ342の管理処理を実行する。検出部504は、板バネ342の弾性反力を検出する。判断部506は、検出部504が検出した弾性反力と、予め定められた基準反力とを比較して、板バネ342の良否を判断する。   The drive control unit 502 controls each device in the bonding apparatus 100 to execute substrate bonding processing and leaf spring 342 management processing. The detection unit 504 detects the elastic reaction force of the leaf spring 342. The determination unit 506 compares the elastic reaction force detected by the detection unit 504 with a predetermined reference reaction force to determine whether the leaf spring 342 is good or bad.

警告部510は、判断部506が判断した結果に基づいて、板バネ342のメンテナンスを促す警告を行う。表示部512は、警告部510の制御に従って、板バネ342のメンテナンスを促す警告を表示する。音声出力部514は、警告部510の制御に従って、板バネ342のメンテナンスを促す警告を音声出力する。通信部516は警告部510の制御に従って、板バネ342のメンテナンスを促す警告を含むデータを、ネットワークを介して他の装置に送信する。   The warning unit 510 issues a warning that prompts maintenance of the leaf spring 342 based on the result determined by the determination unit 506. The display unit 512 displays a warning prompting maintenance of the leaf spring 342 according to the control of the warning unit 510. The voice output unit 514 outputs a warning for prompting maintenance of the leaf spring 342 according to the control of the warning unit 510. The communication unit 516 transmits data including a warning for prompting maintenance of the leaf spring 342 to another device via the network according to the control of the warning unit 510.

図12は、貼り合わせ装置100によって、基板接合処理と並行して実行される、板バネ342を管理する管理処理のフローチャートである。また図13は、本アライナ140が、付勢部材430を下方向に駆動させて板バネ342の弾性反力を検出する様子を示す概念図である。図12に示すフローは、基板接合処理において、上ワークと下ワークが本アライナ140に搬入されたときに開始する。   FIG. 12 is a flowchart of a management process for managing the leaf spring 342 executed by the bonding apparatus 100 in parallel with the substrate bonding process. FIG. 13 is a conceptual diagram showing how the aligner 140 detects the elastic reaction force of the leaf spring 342 by driving the biasing member 430 downward. The flow shown in FIG. 12 starts when the upper work and the lower work are carried into the aligner 140 in the substrate bonding process.

ステップS1202では、本アライナ140が、上ワークを構成する上基板ホルダ310及び下基板ホルダ330のバーコード302を読み取って得た管理IDを全体制御部110に通知する。全体制御部110は、記憶部111に記憶された管理IDと使用回数の対応データを参照して、通知された管理IDに対応する上基板ホルダ310と下基板ホルダ330の使用回数を取得する。   In step S <b> 1202, the aligner 140 notifies the overall control unit 110 of the management ID obtained by reading the barcode 302 of the upper substrate holder 310 and the lower substrate holder 330 constituting the upper workpiece. The overall control unit 110 refers to the management ID and usage count correspondence data stored in the storage unit 111 and acquires the usage counts of the upper substrate holder 310 and the lower substrate holder 330 corresponding to the notified management ID.

ステップS1204では、本アライナ140が上ワークと下ワークを位置合わせする。本アライナ140は、第1基板121と第2基板122のアライメントマークを基準として、下ステージ142をXY平面方向に駆動することにより、位置合わせをする。このとき下ステージ142と上ステージ141はZ軸方向で相対的に大きく離れた状態であり、マグネットユニット320の磁力は吸着子341に影響しない。   In step S1204, the aligner 140 aligns the upper work and the lower work. The aligner 140 performs alignment by driving the lower stage 142 in the XY plane direction with reference to the alignment marks of the first substrate 121 and the second substrate 122. At this time, the lower stage 142 and the upper stage 141 are relatively far apart in the Z-axis direction, and the magnetic force of the magnet unit 320 does not affect the attractor 341.

ステップS1206では、全体制御部110が、ステップS1202で取得した上基板ホルダ310と下基板ホルダ330の使用回数が予め定められた回数の倍数であるか否かを判定する。予め定められた回数は、例えば100回など、板バネ342の良否を検査する頻度に応じて、ユーザにより設定される。ステップS1206で判定が肯定された場合は、ステップS1208に移行する。   In step S1206, overall control unit 110 determines whether the number of times of use of upper substrate holder 310 and lower substrate holder 330 acquired in step S1202 is a multiple of a predetermined number. The predetermined number of times is set by the user according to the frequency of checking the quality of the leaf spring 342, for example, 100 times. If the determination is affirmative in step S1206, the process proceeds to step S1208.

ステップS1208では、本アライナ140が、シリンダ部434によりプッシュピン432を下方向に駆動させて、吸着子341を、板バネ342の弾性力に抗してマグネットユニット320から離れる方向へ付勢する。本アライナ140は、吸着子341を基準の位置、即ち、弾性変形の無い状態から、予め定められた距離の分だけ、下方向に移動させる。   In step S1208, the aligner 140 drives the push pin 432 downward by the cylinder portion 434, and biases the attractor 341 in a direction away from the magnet unit 320 against the elastic force of the leaf spring 342. The aligner 140 moves the adsorber 341 downward from a reference position, that is, a state without elastic deformation, by a predetermined distance.

ステップS1210では、本アライナ140が、吸着子341を基準位置から予め定められた距離の分だけ押し下げた場合の、プッシュピン432が受ける弾性反力を、ロードセル436によって検出する。本アライナ140は検出した弾性反力を記憶部111に記憶する。   In step S1210, the aligner 140 detects, by the load cell 436, the elastic reaction force received by the push pin 432 when the adsorber 341 is pushed down from the reference position by a predetermined distance. The aligner 140 stores the detected elastic reaction force in the storage unit 111.

ステップS1212では、判断部506が、ステップS1210で検出された弾性反力が、基準反力を下回るか否かにより板バネ342の良否を判断する。基準反力は事前に実験することにより設定される。例えば、劣化のない状態の板バネ342を予め定められた距離の分押し下げた場合の弾性反力をX[N]とし、劣化により弾性反力が(0.5)X[N]低下している板バネ342を9個用意する(すなわち、n=1から9)。そして、各板バネ342を設置した下基板ホルダ330と上基板ホルダ310とでワーク対を形成して搬送テストを実行し、ずれが発生する頻度が5%を超える板バネ342の弾性反力を基準反力として設定する。 In step S <b> 1212, the determination unit 506 determines whether the leaf spring 342 is good or not based on whether or not the elastic reaction force detected in step S <b> 1210 is less than the reference reaction force. The reference reaction force is set by conducting an experiment in advance. For example, let X [N] be an elastic reaction force when the leaf spring 342 in a state without deterioration is pushed down by a predetermined distance, and the elastic reaction force decreases by (0.5) n X [N] due to the deterioration. Nine leaf springs 342 are prepared (that is, n = 1 to 9). Then, a workpiece pair is formed by the lower substrate holder 330 and the upper substrate holder 310 on which each leaf spring 342 is installed, and a conveyance test is performed. The elastic reaction force of the leaf spring 342 in which the frequency of occurrence of deviation exceeds 5% Set as the standard reaction force.

ステップS1212で、判断部506により、検出した弾性反力が基準反力を下回ると判定された場合はステップS1214に移行する。ステップS1214では、警告部510が、下基板ホルダ330の管理IDおよび板バネ342のメンテナンスを促す警告を、表示部512に表示する。   If the determination unit 506 determines in step S1212 that the detected elastic reaction force is lower than the reference reaction force, the process proceeds to step S1214. In step S <b> 1214, the warning unit 510 displays a warning for prompting maintenance of the management ID of the lower substrate holder 330 and the leaf spring 342 on the display unit 512.

ステップS1206で判定が否定された場合およびステップS1212で判定が否定された場合には、ステップS1216に移行する。ステップS1216では、本アライナ140が、上ワークと下ワークを重ね合わせてワーク対を形成する。形成されたワーク対は、ロボットアーム176によって本アライナ140から搬出され、真空環境部202に搬送される。   If the determination is negative in step S1206 and if the determination is negative in step S1212, the process proceeds to step S1216. In step S1216, the aligner 140 overlaps the upper work and the lower work to form a work pair. The formed workpiece pair is unloaded from the main aligner 140 by the robot arm 176 and transferred to the vacuum environment unit 202.

ステップS1218では、全体制御部110が、基板接合処理の終了指示を受けているかを判定する。そして判定が否定された場合は、ステップS1202に戻り、次の上基板ホルダ310及び下基板ホルダ330の管理IDを取得する。判定が肯定された場合は、処理を終了する。   In step S1218, the overall control unit 110 determines whether an instruction to end the substrate bonding process has been received. If the determination is negative, the process returns to step S1202, and the management IDs of the next upper substrate holder 310 and lower substrate holder 330 are acquired. If the determination is affirmative, the process ends.

即ち、本実施形態では、基板ホルダ300が予め定められた回数使用されたときに、板バネ342の弾性反力を検出することによって板バネ342の良否を判断し、基準反力を下回っている場合に板バネのメンテナンスを促す警告を表示する。当該警告によって、ユーザは板バネ342がメンテナンスを要する状態になっていることを知ることができる。したがって、例えば基板接合処理中に、本アライナ140から真空環境部202に搬送される間に、板バネ342の劣化が原因で上基板ホルダ310と下基板ホルダ330に挟持された第1基板121と第2基板122がずれることを未然に防止できる。その結果、第1基板121と第2基板122の間にずれが生じることによる、接合すべき電極同士の接触不良を防止できるので、基板接合処理の歩留まり向上に貢献できる。   That is, in the present embodiment, when the substrate holder 300 is used a predetermined number of times, the quality of the leaf spring 342 is determined by detecting the elastic reaction force of the leaf spring 342, and is lower than the reference reaction force. In this case, a warning prompting the maintenance of the leaf spring is displayed. The warning allows the user to know that the leaf spring 342 is in a state requiring maintenance. Therefore, for example, during the substrate bonding process, the first substrate 121 sandwiched between the upper substrate holder 310 and the lower substrate holder 330 due to the deterioration of the leaf spring 342 while being transferred from the aligner 140 to the vacuum environment unit 202. It is possible to prevent the second substrate 122 from shifting. As a result, a contact failure between electrodes to be bonded due to a shift between the first substrate 121 and the second substrate 122 can be prevented, which can contribute to an improvement in the yield of the substrate bonding process.

上記実施形態では、ステップS1212において、検出した弾性反力が基準反力を下回っている場合に、板バネ342のメンテナンスを促す警告を表示する例を挙げて説明したが、基板ホルダ300をホルダラック150に収容した後で警告を表示してもよい。例えば、全体制御部110は、対象となる基板ホルダ300が保持している基板120の基板接合処理が終了した後で、基板ホルダ300をホルダラック150に収容する。そして、警告部510が、収容後に基板ホルダ300の管理ID、板バネ342のメンテナンスを促す警告及び基板ホルダ300を収容したホルダラック150の棚番号を表示する。棚番号を合わせて表示することによって、警告をみたユーザは対象となる基板ホルダ300を該当する棚番号から速やかに搬出してメンテナンスすることができる。   In the above-described embodiment, an example in which a warning prompting maintenance of the leaf spring 342 is displayed when the detected elastic reaction force is lower than the reference reaction force in step S1212 has been described. A warning may be displayed after being accommodated in 150. For example, the overall control unit 110 stores the substrate holder 300 in the holder rack 150 after the substrate bonding process for the substrate 120 held by the target substrate holder 300 is completed. Then, the warning unit 510 displays the management ID of the substrate holder 300 after the storage, a warning for prompting maintenance of the leaf spring 342, and the shelf number of the holder rack 150 that stores the substrate holder 300. By displaying the shelf numbers together, the user who sees the warning can quickly carry out the maintenance of the target substrate holder 300 from the corresponding shelf number.

そして、警告部510が、表示部512に表示した警告を、対応する基板ホルダ300がホルダラック150から搬出されたときに消去する。具体的には、ホルダラック150が、基板ホルダ300が搬出されたことを全体制御部110に通知して、通知を受けた全体制御部110が、通知された棚番号に対応する警告の表示を終了するように制御する。   Then, the warning unit 510 erases the warning displayed on the display unit 512 when the corresponding substrate holder 300 is unloaded from the holder rack 150. Specifically, the holder rack 150 notifies the overall control unit 110 that the substrate holder 300 has been carried out, and the received overall control unit 110 displays a warning corresponding to the notified shelf number. Control to end.

また上記実施形態では、ステップS1212において、判断部506が、検出部504が検出した板バネ342の弾性反力が、基準反力を下回っていると判定した場合に、メンテナンスを促す警告を行う例を挙げて説明した。ここでさらに、警告部510が、検出した弾性反力と基準反力の差異に従って、板バネ342がメンテナンスを要するまでの残り使用回数を表示部に表示してもよい。   In the above embodiment, in step S1212, when the determination unit 506 determines that the elastic reaction force of the leaf spring 342 detected by the detection unit 504 is lower than the reference reaction force, an example of performing a warning for prompting maintenance is performed. And explained. Further, the warning unit 510 may display the remaining number of uses until the leaf spring 342 requires maintenance according to the difference between the detected elastic reaction force and the reference reaction force.

例えば、判断部506が、劣化していない板バネ342の弾性反力をX[N]、基準反力を0.6X[N]とした場合に、検出した弾性反力が0.7X[N]のときは残り使用回数が200回、0.65X[N]の場合は残り使用回数が100回と判断する。弾性反力と基準反力との差異に対する残り使用回数は、差異と使用回数を対応づけた対応テーブルを予め記憶部111に記憶しておき、その対応テーブルを判断部506が参照することによって、判断する。対応テーブルは、ユーザが経験により設定しても良いし、予め実験をすることによって設定しても良い。   For example, when the determination unit 506 sets the elastic reaction force of the undegraded leaf spring 342 to X [N] and the reference reaction force to 0.6 X [N], the detected elastic reaction force is 0.7 X [N ], It is determined that the remaining number of uses is 200, and in the case of 0.65X [N], the remaining number of uses is 100. The remaining number of uses for the difference between the elastic reaction force and the reference reaction force is stored in advance in the storage unit 111 associating the difference with the number of use, and the decision unit 506 refers to the correspondence table. to decide. The correspondence table may be set by the user based on experience or may be set by conducting an experiment in advance.

そして、警告部510が、対象の基板ホルダ300の管理IDと残り使用回数を表示部512に表示する。上述したように、残り使用回数を例示することによって、ユーザは板バネ342のメンテナンスを実行する準備ができる。なお、警告部510は、残り使用回数の代わりに残り使用時間を判断して、表示しても良い。   Then, the warning unit 510 displays the management ID and the remaining usage count of the target substrate holder 300 on the display unit 512. As described above, by exemplifying the remaining number of times of use, the user is ready to perform maintenance of the leaf spring 342. Note that the warning unit 510 may determine and display the remaining usage time instead of the remaining usage count.

また上記実施形態では、警告部510が、表示部512に警告を表示する例を挙げて説明したが、音声出力部514を介して警告を音声出力するように構成しても良い。またさらに、警告を含むデータを、基板ホルダ300の管理会社に設置されたコンピュータに送信するように構成してもよい。基板ホルダ300にメンテナンスを要することを、管理会社に伝えることにより、交換用の基板ホルダ300の提供を迅速に実行できる。   Further, in the above-described embodiment, the warning unit 510 has been described by taking an example in which a warning is displayed on the display unit 512. However, the warning unit 510 may be configured to output a warning through a voice output unit 514. Still further, data including a warning may be transmitted to a computer installed in a management company of the substrate holder 300. By informing the management company that the substrate holder 300 requires maintenance, the replacement substrate holder 300 can be provided quickly.

図14は、第2の実施形態に係る貼り合わせ装置の全体構造を概略的に示す平面図である。図1と共通の要素には同じ参照番号を付して説明を省略する。第2の実施形態に係る貼り合わせ装置100は、ホルダ観察ユニット180を備える。   FIG. 14 is a plan view schematically showing the overall structure of the bonding apparatus according to the second embodiment. Elements common to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. A bonding apparatus 100 according to the second embodiment includes a holder observation unit 180.

図15は、下基板ホルダ370を上方から見下ろした様子を概略的に示す斜視図である。また、図16は同じ下基板ホルダ370を下方から見上げた様子を示す斜視図である。下基板ホルダ370は、ホルダ本体910並びに、第1吸着ユニットの一例としての吸着子920及び板バネ925を備える。   FIG. 15 is a perspective view schematically showing a state in which the lower substrate holder 370 is looked down from above. FIG. 16 is a perspective view showing the same lower substrate holder 370 as viewed from below. The lower substrate holder 370 includes a holder main body 910, an adsorber 920 and a leaf spring 925 as an example of a first adsorption unit.

ホルダ本体910は、焼結セラミックス、金属等の高剛性材料により一体成形され、第2基板122よりも径がひとまわり大きな円板状をなす。ホルダ本体910は、第2基板122を保持する基板保持面911を備える。基板保持面911は、高い平坦性を有しており、第2基板122に対して密着する。基板保持面911には、ホルダ本体910の表裏を貫通する貫通孔916が形成されている。また基板保持面911よりも外側の領域には、ずれ検出用マーク915が設けられている。またホルダ本体910の表面および裏面にはバーコード302が設けられている。   The holder body 910 is integrally formed of a highly rigid material such as sintered ceramics or metal, and has a disk shape whose diameter is slightly larger than that of the second substrate 122. The holder main body 910 includes a substrate holding surface 911 that holds the second substrate 122. The substrate holding surface 911 has high flatness and is in close contact with the second substrate 122. The substrate holding surface 911 is formed with a through hole 916 that passes through the front and back of the holder body 910. Further, a deviation detection mark 915 is provided in a region outside the substrate holding surface 911. A barcode 302 is provided on the front and back surfaces of the holder body 910.

吸着子920は、磁性体材料により形成され、ホルダ本体910において基板保持面911よりも外周側に複数配される。板バネ925は、チタンにより形成され、ホルダ本体910において基板保持面911よりも外周側に複数配される。吸着子920は、板バネ925上に固定されており、基板保持面911に対して垂直な方向に、板バネ925の弾性力を受ける。給電端子930は、下基板ホルダ370の裏面において、ホルダ本体910に埋め込まれる。下基板ホルダ370は、給電端子930を介して電力の供給を受けることにより、基板120を静電吸着する。   The adsorbers 920 are formed of a magnetic material, and a plurality of the adsorbers 920 are arranged on the outer peripheral side of the substrate holding surface 911 in the holder main body 910. The plate springs 925 are made of titanium, and a plurality of leaf springs 925 are arranged on the outer peripheral side of the substrate holding surface 911 in the holder main body 910. The adsorber 920 is fixed on the plate spring 925 and receives the elastic force of the plate spring 925 in a direction perpendicular to the substrate holding surface 911. The power supply terminal 930 is embedded in the holder main body 910 on the back surface of the lower substrate holder 370. The lower substrate holder 370 electrostatically attracts the substrate 120 by receiving power supply through the power supply terminal 930.

図17は、上基板ホルダ360を下方から見上げた様子を示す斜視図である。また、図18は同じ上基板ホルダ360を上方から見下ろした様子を概略的に示す斜視図である。下基板ホルダ370と共通の要素には同じ参照番号を付して説明を省略する。   FIG. 17 is a perspective view showing the upper substrate holder 360 as viewed from below. FIG. 18 is a perspective view schematically showing the same upper substrate holder 360 as viewed from above. Elements common to the lower substrate holder 370 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

上基板ホルダ360は、第2吸着ユニットの一例としての永久磁石940を備える。永久磁石940は、ホルダ本体910において基板保持面910よりも外周側に複数配される。永久磁石940と、下基板ホルダ370の吸着子920はそれぞれ対応する位置に配置されている。そして、第2基板122を保持した下基板ホルダ370と第1基板121を保持した上基板ホルダ360が、互いに向かい合うと、吸着子920と永久磁石940の間に吸引力が発生する。下基板ホルダ370と上基板ホルダ360は、この吸引力によって、第1基板121と第2基板122を重ね合わせた状態で挟持して固定する。   The upper substrate holder 360 includes a permanent magnet 940 as an example of a second adsorption unit. A plurality of permanent magnets 940 are arranged on the outer peripheral side of the substrate holding surface 910 in the holder main body 910. The permanent magnet 940 and the attractor 920 of the lower substrate holder 370 are arranged at corresponding positions. Then, when the lower substrate holder 370 holding the second substrate 122 and the upper substrate holder 360 holding the first substrate 121 face each other, an attractive force is generated between the attractor 920 and the permanent magnet 940. The lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 are clamped and fixed in a state where the first substrate 121 and the second substrate 122 are overlapped by this suction force.

上基板ホルダ360の基板保持面911よりも外側の領域には、表裏を貫通する観察穴914が設けられている。観察穴914は、上基板ホルダ360と下基板ホルダ370を重ね合わせた場合に、下基板ホルダ370のずれ検出用マーク915と対向する。従って、上基板ホルダ360の裏面側から観察穴914を通して、ずれ検出用マーク915を観察できる。本実施形態において、貼り合わせ装置100は、本アライナ140で観察したずれ検出用マーク915と、本アライナ140からホルダ観察ユニット180に搬送させた後にホルダ観察ユニット180で観察したずれ検出用マーク915とを比較することにより、搬送中に生じた下基板ホルダ370と上基板ホルダ360のずれを検出する。   An observation hole 914 penetrating the front and back is provided in a region outside the substrate holding surface 911 of the upper substrate holder 360. The observation hole 914 faces the displacement detection mark 915 of the lower substrate holder 370 when the upper substrate holder 360 and the lower substrate holder 370 are overlapped. Accordingly, the deviation detection mark 915 can be observed from the back surface side of the upper substrate holder 360 through the observation hole 914. In the present embodiment, the bonding apparatus 100 includes a deviation detection mark 915 observed with the main aligner 140, and a deviation detection mark 915 observed with the holder observation unit 180 after being transferred from the aligner 140 to the holder observation unit 180. Are detected, a shift between the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 that occurs during conveyance is detected.

図19は、本アライナ140において、ワーク対の形成直前の状態を概略的に示す断面図である。具体的には、下ステージ142に真空吸着保持された下基板ホルダ370が保持する第2基板122と、上ステージ141に真空吸着保持された上基板ホルダ360が保持する第1基板121の位置合わせが完了した状態の断面図である。   FIG. 19 is a cross-sectional view schematically showing a state immediately before the work pair is formed in the aligner 140. Specifically, the second substrate 122 held by the lower substrate holder 370 held by vacuum suction on the lower stage 142 and the first substrate 121 held by the upper substrate holder 360 held by vacuum suction on the upper stage 141 are aligned. It is sectional drawing of the state which completed.

第1基板121と第2基板122の位置合わせを実行するとき、すなわち、下ステージ142をXY平面内で移動させるときには、第1基板121と第2基板122が接触しないように、両者の間に数ミリメートルの隙間が形成される。上ステージ141は、吸着子920が永久磁石940に結合しないように複数の付勢部材450を備える。   When performing alignment between the first substrate 121 and the second substrate 122, that is, when the lower stage 142 is moved in the XY plane, the first substrate 121 and the second substrate 122 are not in contact with each other so as not to contact each other. A gap of several millimeters is formed. The upper stage 141 includes a plurality of urging members 450 so that the attractor 920 is not coupled to the permanent magnet 940.

付勢部材450は、主に、柱状の部材であるプッシュピン452と、プッシュピン452を上下方向に駆動するシリンダ部454を備える。プッシュピン452は、伸長位置において、上基板ホルダ360に設けられたホルダ挿通孔938と、ホルダ挿通孔938に一致するように位置合わせされて配設されている永久磁石940に設けられた永久磁石挿通孔942の内部を通って、その先端が永久磁石挿通孔942から突出する。また、プッシュピン452は、収納位置においては、シリンダ部454の内部にその一部が収納されて、それぞれの挿通孔から退避する。すなわち、プッシュピン452は、それぞれの挿通孔の内部で、シリンダ部454の駆動により上下方向に進退する。   The biasing member 450 mainly includes a push pin 452 that is a columnar member, and a cylinder portion 454 that drives the push pin 452 in the vertical direction. In the extended position, the push pin 452 has a holder insertion hole 938 provided in the upper substrate holder 360 and a permanent magnet provided in a permanent magnet 940 that is aligned and aligned with the holder insertion hole 938. The tip protrudes from the permanent magnet insertion hole 942 through the inside of the insertion hole 942. Further, in the storage position, a part of the push pin 452 is stored inside the cylinder portion 454 and retracts from each insertion hole. That is, the push pin 452 moves back and forth in the vertical direction by driving the cylinder portion 454 inside each insertion hole.

第1基板121と第2基板122が相対的にXY方向に移動され得るときには、プッシュピン452は、吸着子920の上面に接触するように伸長位置に制御され、吸着子920の永久磁石940への結合を阻止する。即ち、吸着子920は板バネ925上に設置されているが、板バネ925が弾性変形して吸着子920が永久磁石940へ結合しないように、プッシュピン452が吸着子920を上方から押さえつけて、板バネ925の弾性変形を抑制する。   When the first substrate 121 and the second substrate 122 can be moved relative to each other in the XY direction, the push pin 452 is controlled to the extended position so as to come into contact with the upper surface of the attractor 920, and to the permanent magnet 940 of the attractor 920. Block the binding. That is, the attractor 920 is installed on the leaf spring 925, but the push pin 452 presses the attractor 920 from above so that the leaf spring 925 is elastically deformed and the attractor 920 is not coupled to the permanent magnet 940. The elastic deformation of the leaf spring 925 is suppressed.

図20は、本アライナ140において、ワーク対の形成直後の状態を概略的に示す断面図である。具体的には、図19の状態から、第1基板121の表面と第2基板122の表面が接触するように下ステージ142をZ軸方向に駆動した状態を示し、さらに、プッシュピン452が収納位置に制御されて、吸着子920が永久磁石940に結合した状態を示す。   FIG. 20 is a cross-sectional view schematically showing a state immediately after the work pair is formed in the aligner 140. Specifically, FIG. 19 shows a state in which the lower stage 142 is driven in the Z-axis direction so that the surface of the first substrate 121 and the surface of the second substrate 122 are in contact with each other, and the push pin 452 is housed. The state is shown in which the attractor 920 is coupled to the permanent magnet 940 under the control of the position.

図19の状態から図20の状態へ移行する過程において、プッシュピン452を収納位置に移動させる動作に伴って板バネ925が弾性変形して、吸着子920が永久磁石940に結合する。このとき板バネ925の弾性力は、下基板ホルダ370と上基板ホルダ360を引き寄せて、下基板ホルダ370と上基板ホルダ360による第1基板121と第2基板122の挟持力を強める方向に働く。   In the process of shifting from the state of FIG. 19 to the state of FIG. 20, the leaf spring 925 is elastically deformed with the operation of moving the push pin 452 to the storage position, and the attractor 920 is coupled to the permanent magnet 940. At this time, the elastic force of the leaf spring 925 acts to pull the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 closer together and increase the clamping force of the first substrate 121 and the second substrate 122 by the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360. .

図21は、ホルダ観察ユニット180の構造を概略的に示す側断面図である。ホルダ観察ユニット180は、載置台182及び観察部184を備える。載置台182には、ロボットアーム171によって、本アライナ140により形成されたワーク対が搬入される。ワーク対は、上基板ホルダ360の観察穴914が、観察部184の撮影視野内に入る位置に配置される。   FIG. 21 is a side sectional view schematically showing the structure of the holder observation unit 180. The holder observation unit 180 includes a mounting table 182 and an observation unit 184. A work pair formed by the aligner 140 is carried into the mounting table 182 by the robot arm 171. The workpiece pair is arranged at a position where the observation hole 914 of the upper substrate holder 360 falls within the imaging field of view of the observation unit 184.

観察部184は、観察穴914及び観察穴914を通して撮影視野に入る下基板ホルダ370のずれ検出用マーク915を撮像する。そしてホルダ観察ユニット180は、撮像して取得した観察穴914およびずれ検出用マーク915を含む画像データを全体制御部118に送信する。   The observation unit 184 images the shift detection mark 915 of the lower substrate holder 370 that enters the imaging field of view through the observation hole 914 and the observation hole 914. Then, the holder observation unit 180 transmits image data including the observation hole 914 and the deviation detection mark 915 acquired by imaging to the overall control unit 118.

図22は、全体制御部118のシステム構成を概略的に示すブロック図である。本実施形態に係る貼り合わせ装置100は、基板接合処理と並行して、基板ホルダ300の吸着ユニットを管理する管理処理を実行する。全体制御部118は、記憶部111、駆動制御部602、検出部604、判断部606、警告部610、表示部612、音声出力部614及び通信部616を備える。   FIG. 22 is a block diagram schematically showing the system configuration of the overall control unit 118. The bonding apparatus 100 according to the present embodiment executes a management process for managing the suction unit of the substrate holder 300 in parallel with the substrate bonding process. The overall control unit 118 includes a storage unit 111, a drive control unit 602, a detection unit 604, a determination unit 606, a warning unit 610, a display unit 612, an audio output unit 614, and a communication unit 616.

記憶部111は、貼り合わせ装置100内の各装置を制御する制御プログラムであるレシピを記憶する。また記憶部111は、各基板ホルダ300の管理IDと、各基板ホルダ300が基板接合処理に使用された回数を対応付けて記憶する。基板接合処理に使用された回数は全体制御部118によりカウントされて、記憶部111のデータが逐次更新される。全体制御部118は、例えば分離機構160のバーコードリーダ162から管理IDを受信した場合に、その管理IDに対応する基板ホルダ300の、基板接合処理に使用された回数をカウントアップする。   The storage unit 111 stores a recipe that is a control program for controlling each device in the bonding apparatus 100. In addition, the storage unit 111 stores the management ID of each substrate holder 300 and the number of times each substrate holder 300 has been used for the substrate bonding process in association with each other. The total number of times used for the substrate bonding process is counted by the overall control unit 118, and the data in the storage unit 111 is sequentially updated. For example, when the management controller 118 receives a management ID from the barcode reader 162 of the separation mechanism 160, the overall control unit 118 counts up the number of times the substrate holder 300 corresponding to the management ID has been used for the substrate bonding process.

駆動制御部602は、貼り合わせ装置100内の各装置を制御して、基板接合処理および第1吸着ユニットおよび第2吸着ユニットの管理処理を実行する。検出部604は、第1吸着ユニットおよび第2吸着ユニットが吸着力を発揮して基板120を挟み込んだ状態で、2つの基板ホルダ300を移動させた場合の、基板ホルダ300間のずれ量を検出する。判断部606は、検出部604が検出したずれ量に基づいて、第1吸着ユニットおよび第2吸着ユニットの良否を判断する。   The drive control unit 602 controls each device in the bonding apparatus 100 to execute a substrate bonding process and a management process for the first suction unit and the second suction unit. The detection unit 604 detects a shift amount between the substrate holders 300 when the two substrate holders 300 are moved in a state where the first suction unit and the second suction unit exert suction power and sandwich the substrate 120 therebetween. To do. The determination unit 606 determines the quality of the first suction unit and the second suction unit based on the deviation amount detected by the detection unit 604.

警告部610は、判断部606が判断した結果に基づいて、第1吸着ユニット及び第2吸着ユニットの少なくとも一方のメンテナンスを促す警告を行う。表示部612は、警告部610の制御に従って、第1吸着ユニット及び第2吸着ユニットの少なくとも一方のメンテナンスを促す警告を表示する。音声出力部614は、警告部610の制御に従って、第1吸着ユニット及び第2吸着ユニットの少なくとも一方のメンテナンスを促す警告を音声出力する。通信部616は警告部610の制御に従って、第1吸着ユニット及び第2吸着ユニットの少なくとも一方のメンテナンスを促す警告を含むデータを、ネットワークを介して他の装置に送信する。   The warning unit 610 issues a warning that prompts maintenance of at least one of the first suction unit and the second suction unit based on the result determined by the determination unit 606. The display unit 612 displays a warning that prompts maintenance of at least one of the first suction unit and the second suction unit according to the control of the warning unit 610. The voice output unit 614 outputs a warning prompting maintenance of at least one of the first suction unit and the second suction unit in accordance with the control of the warning unit 610. The communication unit 616 transmits data including a warning that prompts maintenance of at least one of the first suction unit and the second suction unit to another device via the network according to the control of the warning unit 610.

図23は、貼り合わせ装置100によって、基板接合処理と並行して実行される、第1吸着ユニットおよび第2吸着ユニットを管理する管理処理のフローチャートである。また図24は、本アライナ140及びホルダ観察ユニット180によって撮像された、観察穴914及びずれ検出用マーク915を含む画像データの例を示す概念図である。図23に示すフローチャートのフローは、基板接合処理において、予備アライナ130により形成された上ワークと下ワークが本アライナ140に搬入され、本アライナ140によってワーク対が形成されたときに開始する。   FIG. 23 is a flowchart of a management process for managing the first suction unit and the second suction unit, which is executed by the bonding apparatus 100 in parallel with the substrate bonding process. FIG. 24 is a conceptual diagram illustrating an example of image data including an observation hole 914 and a deviation detection mark 915 captured by the aligner 140 and the holder observation unit 180. The flow of the flowchart shown in FIG. 23 starts when the upper work and the lower work formed by the preliminary aligner 130 are carried into the main aligner 140 and a work pair is formed by the main aligner 140 in the substrate bonding process.

ステップS2302では、本アライナ140が、上基板ホルダ360の観察穴914を通して、下基板ホルダ370のずれ検出用マーク915を観察する。本アライナ140は、ワーク対が載置された下載置台421を、駆動部424によって移動させて、上顕微鏡143の視野内に上基板ホルダ360の観察穴914を収める。本アライナ140は、上顕微鏡143により、観察穴914およびずれ検出用マーク915を含む画像を撮像する。そして本アライナ140は撮像した画像データを全体制御部118に送信する。全体制御部118は受信した画像データを第1画像データ801として記憶部111に記憶する。   In step S2302, the aligner 140 observes the deviation detection mark 915 of the lower substrate holder 370 through the observation hole 914 of the upper substrate holder 360. The aligner 140 moves the lower mounting table 421 on which the work pair is mounted by the driving unit 424 to place the observation hole 914 of the upper substrate holder 360 in the field of view of the upper microscope 143. The aligner 140 captures an image including the observation hole 914 and the shift detection mark 915 with the upper microscope 143. The aligner 140 transmits the captured image data to the overall control unit 118. The overall control unit 118 stores the received image data as first image data 801 in the storage unit 111.

ステップS2304では、まずロボットアーム176が本アライナ140からワーク対を搬出して、受け渡しポート178に載置する。そして、搬送制御部172による制御に従って、ロボットアーム171が、ワーク対を受け渡しポート178からホルダ観察ユニット180に搬送する。ホルダ観察ユニット180に搬送されたワーク対は、載置台182上に載置される。   In step S 2304, first, the robot arm 176 unloads the work pair from the aligner 140 and places it on the delivery port 178. Then, the robot arm 171 transfers the workpiece pair from the transfer port 178 to the holder observation unit 180 in accordance with control by the transfer control unit 172. The workpiece pair transported to the holder observation unit 180 is placed on the placement table 182.

ステップS2306では、ホルダ観察ユニット180が、ワーク対を構成する上基板ホルダ360の観察穴914を通して、下基板ホルダ370のずれ検出用マーク915を観察する。そしてホルダ観察ユニット180は、観察部184によって撮像した、観察穴914およびずれ検出用マーク915を含む画像データを全体制御部118に送信する。全体制御部118は受信した画像データを第2画像データ802として記憶部111に記憶する。   In step S2306, the holder observation unit 180 observes the deviation detection mark 915 of the lower substrate holder 370 through the observation hole 914 of the upper substrate holder 360 constituting the workpiece pair. Then, the holder observation unit 180 transmits image data including the observation hole 914 and the deviation detection mark 915 taken by the observation unit 184 to the overall control unit 118. The overall control unit 118 stores the received image data as second image data 802 in the storage unit 111.

ステップS2308では、ワーク対が、本アライナ140からホルダ観察ユニット180に移動する間に生じた下基板ホルダ370と上基板ホルダ360のずれ量を、検出部604が検出する。検出部604は、まず記憶部111に記憶された第1画像データ801及び第2画像データ802を参照する。   In step S <b> 2308, the detection unit 604 detects a shift amount between the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 that is generated while the work pair moves from the aligner 140 to the holder observation unit 180. The detection unit 604 first refers to the first image data 801 and the second image data 802 stored in the storage unit 111.

そして検出部604は、第1画像データ801及び第2画像データ802中の観察穴914の部分を基準として、第1画像データに含まれるずれ検出用マーク915及び第2画像データに含まれるずれ検出用マーク915のずれ量を検出する。具体的に検出部604は、図24の比較画像803に示す、2つのずれ検出用マーク915の中心点の位置ずれ量Xと、角度ずれ量θを算出する。検出部604は算出した位置ずれ量Xおよび角度ずれ量θを、下基板ホルダ370と上基板ホルダ360の搬送前後のずれ量として記憶部111に記憶する。   Then, the detection unit 604 detects the displacement detection mark 915 included in the first image data and the displacement detection included in the second image data with reference to the portion of the observation hole 914 in the first image data 801 and the second image data 802. The shift amount of the mark for use 915 is detected. Specifically, the detection unit 604 calculates the positional deviation amount X and the angular deviation amount θ between the center points of the two deviation detection marks 915 shown in the comparison image 803 in FIG. The detection unit 604 stores the calculated positional deviation amount X and angular deviation amount θ in the storage unit 111 as deviation amounts before and after the conveyance of the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360.

ステップS2310では、判断部606が、記憶部111に記憶された、ずれ量と第1吸着ユニット及び第2吸着ユニットの劣化度合いを対応付ける対応テーブルを参照して、ステップS2308で算出したずれ量に対応する劣化度合いを判断する。対応テーブルには、ずれ量の大きさと劣化度合いの大きさが正の相関を持つデータが登録されている。すなわち、判断部606は、ずれ量が大きいほど、劣化度合いが大きいと判断する。なお、対応テーブルは予めユーザによって設定されて、記憶部111に記憶される。   In step S2310, the determining unit 606 refers to the correspondence table that associates the deviation amount with the degree of deterioration of the first adsorption unit and the second adsorption unit, and stores the deviation amount calculated in step S2308. Determine the degree of deterioration. In the correspondence table, data having a positive correlation between the amount of deviation and the degree of deterioration is registered. That is, the determination unit 606 determines that the degree of deterioration is larger as the deviation amount is larger. The correspondence table is set in advance by the user and stored in the storage unit 111.

ステップS2312では、判断部606が、ステップS2310で判断した劣化度合いが、基準劣化度合いを超えているか否かを判定する。基準劣化度合いは、第1吸着ユニットと第2吸着ユニットの劣化により生じる下基板ホルダ370と上基板ホルダ360の搬送前後のずれ量が、第1基板121と第2基板122の接合すべき電極同士が電気的に導通しない程のずれ量を超えるか否かを基準として、サブミクロンレベルで設定される。   In step S2312, the determination unit 606 determines whether or not the degree of deterioration determined in step S2310 exceeds the reference degree of deterioration. The reference deterioration degree is determined by the amount of deviation between the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 that are caused by the deterioration of the first adsorption unit and the second adsorption unit before and after the conveyance of the first substrate 121 and the second substrate 122. Is set at a sub-micron level with reference to whether or not the amount of deviation exceeds the amount of electrical conduction.

ステップS2314では、判断された劣化度合いが基準劣化度合いを超えていると判定されたワーク対の接合処理が完了した後に、ロボットアーム175が、下基板ホルダ370および上基板ホルダ360を退避棚に収納する。ホルダラック150は、下基板ホルダ370および上基板ホルダ360を収納した退避棚の棚番号を全体制御部118に通知する。   In step S2314, the robot arm 175 stores the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 in the evacuation shelf after the workpiece pair joining process for which the determined deterioration degree exceeds the reference deterioration degree is completed. To do. The holder rack 150 notifies the overall control unit 118 of the shelf number of the retreat shelf in which the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 are stored.

ステップS2316では、警告部610が、退避棚に収納された下基板ホルダ370及び上基板ホルダ360の管理ID、ステップS2314で通知された退避棚の棚番号および第1吸着ユニット及び第2吸着ユニットの少なくとも一方のメンテナンスを促す警告を、表示部612に表示する。そして本フローチャートの処理を終了する。   In step S2316, the warning unit 610 controls the management ID of the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 stored in the evacuation shelf, the shelf number of the evacuation shelf notified in step S2314, and the first adsorption unit and the second adsorption unit. A warning prompting at least one maintenance is displayed on the display unit 612. And the process of this flowchart is complete | finished.

即ち、本実施形態では、ワーク対の搬送前後で下基板ホルダ370と上基板ホルダ360に生じるずれ量を検出して、検出したずれ量から第1吸着ユニット及び第2吸着ユニットの良否を判断し、許容される劣化を超えている場合に、吸着ユニットのメンテナンスを促す警告を表示する。当該警告をユーザが見ることにより、例えば第1吸着ユニットの一例としての板バネ925の吸着力が弱まっていたり、第2吸着ユニットの一例としての永久磁石940が加熱加圧ユニットによって高熱に加熱されることによって熱減磁したりして劣化していることに気づくことができる。   That is, in this embodiment, the amount of deviation generated in the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 is detected before and after the workpiece pair is conveyed, and the quality of the first suction unit and the second suction unit is determined from the detected amount of deviation. When the allowable deterioration is exceeded, a warning that prompts maintenance of the suction unit is displayed. When the user sees the warning, for example, the attractive force of the leaf spring 925 as an example of the first adsorption unit is weakened, or the permanent magnet 940 as an example of the second adsorption unit is heated to high heat by the heating and pressurizing unit. It can be noticed that it has deteriorated due to thermal demagnetization.

そしてユーザによって吸着ユニットのメンテナンスが行われることによって、吸着ユニットの劣化により貼り合わせ装置100内でワーク対を搬送している間に位置ずれが発生して、一対の基板120が接合不良を起こすことを未然に防止することができる。また更に本実施形態では、第1吸着ユニット及び第2吸着ユニットが許容される劣化を超えて劣化している下基板ホルダ370と上基板ホルダ360を、ホルダラック150の退避棚に収納してその使用を中止するので、ユーザが警告に気づくまでの間に生ずる基板ホルダ300の位置ずれを防止することができる。なお本実施形態では、ステップS2314において、基板ホルダ300を退避棚に収納する例を挙げて説明したが、ユーザの指示があるまでは対象となる基板ホルダ300の使用を継続するように制御しても良い。   When the suction unit is maintained by the user, the pair of substrates 120 may be poorly bonded due to a positional shift while the workpiece pair is being transported in the bonding apparatus 100 due to the deterioration of the suction unit. Can be prevented in advance. Furthermore, in the present embodiment, the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 that have deteriorated beyond the allowable deterioration of the first suction unit and the second suction unit are stored in the retreat shelf of the holder rack 150 and the Since the use is stopped, the displacement of the substrate holder 300 that occurs before the user notices the warning can be prevented. In this embodiment, the example in which the substrate holder 300 is stored in the retreat shelf in step S2314 has been described. However, control is performed so as to continue using the target substrate holder 300 until the user gives an instruction. Also good.

警告部610は、表示部612に表示した警告を、対応する基板ホルダ300がホルダラック150の退避棚から搬出されたときに消去する。具体的には、退避棚から基板ホルダ300が搬出されたことをホルダラック150が検出して、棚番号を全体制御部118に通知し、通知を受けた全体制御部118が、通知された棚番号に対応する警告の表示を終了するように制御する。   The warning unit 610 erases the warning displayed on the display unit 612 when the corresponding substrate holder 300 is unloaded from the retraction shelf of the holder rack 150. Specifically, the holder rack 150 detects that the substrate holder 300 has been unloaded from the evacuation shelf, notifies the overall control unit 118 of the shelf number, and the received overall control unit 118 receives the notified shelf. Control to end display of warning corresponding to number.

上記実施形態では、上基板ホルダ360の観察穴914を通して下基板ホルダ370のずれ検出用マーク915を観察することにより、下基板ホルダ370と上基板ホルダ360とのずれ量を検出する例を挙げて説明した。しかしながらそれに限らず、搬送前後の下基板ホルダ370と上基板ホルダ360のエッジ部分を観察することによって、下基板ホルダ370と上基板ホルダ360のずれ量を検出しても良い。   In the above embodiment, an example in which the amount of displacement between the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 is detected by observing the displacement detection mark 915 of the lower substrate holder 370 through the observation hole 914 of the upper substrate holder 360 will be described. explained. However, the present invention is not limited thereto, and the amount of shift between the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 may be detected by observing the edge portions of the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 before and after the conveyance.

下基板ホルダ370と上基板ホルダ360のエッジ部分を観察する場合、搬送前の下基板ホルダ370と上基板ホルダ360のエッジ部分の観察を本アライナ140が実行する。また、搬送後の下基板ホルダ370と上基板ホルダ360のエッジ部分の観察をホルダ観察ユニット180が実行する。観察穴914とずれ検出用マーク915の代わりに、エッジ部分の観察によってずれ量を検出することにより、観察穴914とずれ検出用マーク915を設けなくても良いことから、基板ホルダ300の構造を簡略化できる。   When the edge portions of the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 are observed, the aligner 140 executes the observation of the edge portions of the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 before the conveyance. In addition, the holder observation unit 180 executes observation of the edge portions of the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360 after the conveyance. Instead of the observation hole 914 and the displacement detection mark 915, the amount of displacement is detected by observing the edge portion, so that the observation hole 914 and the displacement detection mark 915 need not be provided. It can be simplified.

また、非接触で嵌め合う凸部および凹部を、下基板ホルダ370と上基板ホルダ360に形成して、ワーク対の搬送前後で凸部と凹部のギャップを検出することにより、下基板ホルダ370と上基板ホルダ360のずれを検出しても良い。その場合、周知のギャップセンサを凸部および凹部に設置して、ギャップセンサに電力を供給することにより、ギャップを検出する。   Further, by forming convex portions and concave portions that fit in a non-contact manner in the lower substrate holder 370 and the upper substrate holder 360, and detecting the gap between the convex portions and the concave portions before and after conveyance of the workpiece pair, the lower substrate holder 370 A deviation of the upper substrate holder 360 may be detected. In that case, a well-known gap sensor is installed in a convex part and a recessed part, and a gap is detected by supplying electric power to a gap sensor.

電力の供給は、例えばギャップセンサと連結する給電端子を基板ホルダ300の裏面に設けて、本アライナ140の下載置台421およびホルダ観察ユニット180の載置台182に設けた給電端子から実行する。またギャップセンサが検出した検出値の取得は、同様に基板ホルダ300の裏面に設けた配線と、本アライナ140の下載置台421およびホルダ観察ユニット180の載置台182に設けた配線とを接続することにより実行する。ギャップセンサによるずれの検出を採用することにより、観察によりずれを検出するのに比べて処理の高速化が期待できる。   The power supply is performed from the power supply terminals provided on the lower mounting table 421 of the aligner 140 and the mounting table 182 of the holder observation unit 180 by providing a power supply terminal connected to the gap sensor on the back surface of the substrate holder 300, for example. Similarly, the detection value detected by the gap sensor is obtained by connecting the wiring provided on the back surface of the substrate holder 300 and the wiring provided on the lower mounting table 421 of the aligner 140 and the mounting table 182 of the holder observation unit 180. To execute. By adopting the detection of deviation by a gap sensor, it is possible to expect a higher processing speed than detecting deviation by observation.

また上記実施形態では、本アライナ140によってワーク対を形成する毎にずれの検出を行う例を挙げて説明したが、各基板ホルダ300が基板接合処理に予め定められた回数使用される毎にずれの検出を行うように構成しても良い。その場合全体制御部118が、記憶部111に記憶されている各基板ホルダ300の使用回数を監視して、例えば使用回数が100の倍数と等しくなる毎に、図23に示すフローチャートを実行するように制御する。   In the above-described embodiment, an example in which deviation is detected every time a work pair is formed by the aligner 140 has been described. However, each time the substrate holder 300 is used for a predetermined number of times in the substrate bonding process, the deviation is detected. It may be configured to detect the above. In that case, the overall control unit 118 monitors the number of uses of each substrate holder 300 stored in the storage unit 111, and executes the flowchart shown in FIG. 23 every time the number of uses becomes equal to a multiple of 100, for example. To control.

またさらに、ワーク対を受け渡しポート178からホルダ観察ユニット180に移動させるときに、搬送制御部172によって、予め定められた加速度を与えるように構成しても良い。例えば全体制御部118は、各基板ホルダ300の使用回数が100の倍数と等しくなる毎に図11に示すフローを実行する場合に、フローを実行しない場合よりも大きな加速度を与えるように、搬送制御部172を制御する。   Still further, when the workpiece pair is transferred from the delivery port 178 to the holder observation unit 180, a predetermined acceleration may be applied by the transport control unit 172. For example, when the flow shown in FIG. 11 is executed every time the number of uses of each substrate holder 300 becomes equal to a multiple of 100, the overall control unit 118 controls the conveyance so as to give a larger acceleration than when the flow is not executed. The unit 172 is controlled.

そして判断部606が、第1吸着ユニット及び第2吸着ユニットの良否を判断するときに、記憶部111に記憶された、加速度と対応付けて設定されている基準ずれ量を超えるか否かにより劣化を判断するように構成する。加速度と対応付けて設定されている基準ずれ量は、異なる加速度で搬送した場合の位置ずれ量を計測する試験を予め行うことにより設定される。   When the determination unit 606 determines whether the first suction unit and the second suction unit are good or bad, the deterioration depends on whether or not the reference deviation amount set in association with the acceleration stored in the storage unit 111 is exceeded. It is configured to determine. The reference deviation amount set in association with the acceleration is set by performing in advance a test for measuring the positional deviation amount when transported at different accelerations.

基板ホルダ300の管理処理を実行する場合に、実行しない場合よりも高い加速度を与えて第1吸着ユニットと第2吸着ユニットの良否を判断することにより、加速度を変更せずに劣化を検出するのに比べて早い段階で劣化を検出できる。すなわち、劣化しかけている状態を検出できるので、基板接合処理で基板ホルダ300を使用している最中に基準劣化度合いを超えてしまう前に、メンテナンスを促す警告を行うことができる。   When executing the management process of the substrate holder 300, it is possible to detect deterioration without changing the acceleration by giving a higher acceleration than when not executing it and judging whether the first suction unit and the second suction unit are good or bad. Deterioration can be detected at an earlier stage than In other words, since the deterioration state can be detected, a warning for urging maintenance can be issued before the reference deterioration degree is exceeded while the substrate holder 300 is being used in the substrate bonding process.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。   As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above-described embodiment. It is apparent from the scope of the claims that the embodiments added with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.

特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。   The order of execution of each process such as operations, procedures, steps, and stages in the apparatus, system, program, and method shown in the claims, the description, and the drawings is particularly “before” or “prior to”. It should be noted that the output can be realized in any order unless the output of the previous process is used in the subsequent process. Regarding the operation flow in the claims, the description, and the drawings, even if it is described using “first”, “next”, etc. for convenience, it means that it is essential to carry out in this order. It is not a thing.

100 貼り合わせ装置、101 筐体、102 大気環境部、110 全体制御部、111 記憶部、112 EFEM、113 ロードポート、114 FOUP、116 ロボットアーム、118 全体制御部、120 基板、121 第1基板、122 第2基板、130 予備アライナ、131 基板アライナ、132 基板テーブル、133 検出器、134 ホルダアライナ、135 ホルダテーブル、136 検出器、138 基板スライダ、139 給電端子、140 本アライナ、141 上ステージ、142 下ステージ、143 上顕微鏡、144 下顕微鏡、146 バーコードリーダ、147 天井、150 ホルダラック、152 バーコードリーダ、160 分離機構、162 バーコードリーダ、171 ロボットアーム、172 搬送制御部、175、176 ロボットアーム、178 受け渡しポート、180 ホルダ観察ユニット、182 載置台、184 観察部、202 真空環境部、220 ロードロックチャンバ、222、224 シャッタ、230 ロボットアーム、240 加熱加圧ユニット、300 基板ホルダ、302 バーコード、310 上基板ホルダ、312 ホルダ本体、314 保持領域、316 電極、318 給電端子、320 マグネットユニット、321 貫通穴、322 磁石、323 挿通孔、325 支持部、326 挿通孔、328 ネジ穴、329 対向面、330 下基板ホルダ、332 ホルダ本体、334 保持領域、336 電極、338 給電端子、340 吸着ユニット、341 吸着子、342 板バネ、343 円形部、344 取付け部、345 ネジ穴、346 スリット、347 貫通穴、348 帯状部、360 上基板ホルダ、370 下基板ホルダ、421 下載置台、422 昇降部、423 台座部、424 駆動部、425 ベース、430 付勢部材、432 プッシュピン、434 シリンダ部、436 ロードセル、450 付勢部材、452 プッシュピン、454 シリンダ部、502 駆動制御部、504 検出部、506 判断部、510 警告部、512 表示部、514 音声出力部、516 通信部、602 駆動制御部、604 検出部、606 判断部、610 警告部、612 表示部、614 音声出力部、616 通信部、801 第1画像データ、802 第2画像データ、803 比較画像、910 ホルダ本体、911 基板保持面、914 観察穴、915 ずれ検出用マーク、916 貫通孔、920 吸着子、925 板バネ、930 給電端子、938 ホルダ挿通孔、940 永久磁石、942 永久磁石挿通孔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Bonding apparatus, 101 Housing | casing, 102 Atmosphere environment part, 110 Whole control part, 111 Memory | storage part, 112 EFEM, 113 Load port, 114 FOUP, 116 Robot arm, 118 Whole control part, 120 board | substrate, 121 1st board | substrate, 122 Second substrate, 130 Preliminary aligner, 131 Substrate aligner, 132 Substrate table, 133 detector, 134 Holder aligner, 135 Holder table, 136 detector, 138 Substrate slider, 139 Feed terminal, 140 aligner, 141 Upper stage, 142 Lower stage, 143 Upper microscope, 144 Lower microscope, 146 Bar code reader, 147 Ceiling, 150 Holder rack, 152 Bar code reader, 160 Separation mechanism, 162 Bar code reader, 171 Robot arm, 17 Transfer control unit, 175, 176 Robot arm, 178 Delivery port, 180 Holder observation unit, 182 Mounting table, 184 Observation unit, 202 Vacuum environment unit, 220 Load lock chamber, 222, 224 Shutter, 230 Robot arm, 240 Heating and pressurization Unit, 300 Substrate holder, 302 Bar code, 310 Upper substrate holder, 312 Holder body, 314 Holding area, 316 Electrode, 318 Feed terminal, 320 Magnet unit, 321 Through hole, 322 Magnet, 323 Insertion hole, 325 Support part, 326 Insertion hole, 328 Screw hole, 329 Opposing surface, 330 Lower substrate holder, 332 Holder body, 334 Holding area, 336 Electrode, 338 Power supply terminal, 340 Adsorption unit, 341 Adsorber, 342 Leaf spring, 343 Circular part, 44 Mounting portion, 345 Screw hole, 346 Slit, 347 Through hole, 348 Band-shaped portion, 360 Upper substrate holder, 370 Lower substrate holder, 421 Lower mounting base, 422 Lifting portion, 423 Base portion, 424 Drive portion, 425 Base, 430 attached Urging member, 432 push pin, 434 cylinder part, 436 load cell, 450 urging member, 452 push pin, 454 cylinder part, 502 drive control part, 504 detection part, 506 judgment part, 510 warning part, 512 display part, 514 sound Output unit, 516 communication unit, 602 drive control unit, 604 detection unit, 606 determination unit, 610 warning unit, 612 display unit, 614 audio output unit, 616 communication unit, 801 first image data, 802 second image data, 803 Comparative image, 910 Holder body, 911 Substrate holding , 914 observation hole 915 deviation detecting mark, 916 through hole, 920 Kyuchakuko, 925 leaf springs, 930 power supply terminals, 938 holder insertion hole 940 permanent magnet, 942 a permanent magnet insertion hole

Claims (13)

第1基板を保持する第1基板ホルダに設けられた第1吸着ユニットと、第2基板を保持する第2基板ホルダに設けられ、前記第1吸着ユニットと対となって前記第1基板ホルダと前記第2基板ホルダとの間に前記第1基板と前記第2基板とを挟み込む吸着力を発揮する第2吸着ユニットとの管理装置であって、
前記第1吸着ユニットと前記第2吸着ユニットの間の吸着力の状態を検出する検出部と、
前記吸着力の状態に基づいて前記第1吸着ユニットと前記第2吸着ユニットとの間の吸着力の良否を判断する判断部と、
前記判断部の判断結果に基づいて、前記第1吸着ユニットと前記第2吸着ユニットの少なくとも一方のメンテナンスを促す警告を行う警告部と
を備える管理装置。
A first suction unit provided in a first substrate holder for holding a first substrate; and a second substrate holder for holding a second substrate; and the first substrate holder as a pair with the first suction unit; A management device for a second suction unit that exerts a suction force that sandwiches the first substrate and the second substrate between the second substrate holder;
A detection unit for detecting a state of an adsorption force between the first adsorption unit and the second adsorption unit;
A determination unit that determines whether or not the suction force between the first suction unit and the second suction unit is good based on the state of the suction force;
A management apparatus comprising: a warning unit that issues a warning that prompts maintenance of at least one of the first suction unit and the second suction unit based on a determination result of the determination unit.
前記第1吸着ユニットは、第1吸着体を有し、
前記第2吸着ユニットは、前記第1吸着ユニットが備える第1吸着体と対になって、前記吸着力を発揮する第2吸着体、および、前記第2吸着ユニットを支持する弾性部材を有し、
前記検出部は、前記吸着力の状態として、前記弾性部材の弾性反力を検出し、
前記判断部は、前記弾性反力が予め定められた基準反力を下回るか否かにより前記弾性部材の劣化を判断し、
前記警告部は、前記判断部の判断結果に基づいて、前記弾性部材のメンテナンスを促す警告を行う、
請求項1に記載の管理装置。
The first adsorption unit has a first adsorbent,
The second adsorption unit has a second adsorbent that exhibits the adsorbing force in a pair with the first adsorbent included in the first adsorbing unit, and an elastic member that supports the second adsorbing unit. ,
The detection unit detects an elastic reaction force of the elastic member as a state of the adsorption force,
The determination unit determines deterioration of the elastic member depending on whether the elastic reaction force is less than a predetermined reference reaction force,
The warning unit performs a warning for urging maintenance of the elastic member based on a determination result of the determination unit.
The management apparatus according to claim 1.
前記第2吸着体を前記弾性部材の弾性力に抗して前記第1吸着体から離れる方向へ付勢する付勢部材を備え、前記検出部は、前記付勢部材が前記弾性部材から受ける反力を検出する請求項2に記載の管理装置。   An urging member that urges the second adsorbent in a direction away from the first adsorbent against the elastic force of the elastic member; and the detection unit is a reaction that the urging member receives from the elastic member. The management device according to claim 2 which detects force. 前記第1吸着体は貫通穴を有し、前記付勢部材は、前記貫通穴を貫通して前記第2吸着体を付勢する請求項3に記載の管理装置。   The management device according to claim 3, wherein the first adsorption body has a through hole, and the urging member urges the second adsorption body through the through hole. 前記弾性部材は板バネである請求項2から4のいずれか1項に記載の管理装置。   The management device according to claim 2, wherein the elastic member is a leaf spring. 前記検出部は、前記第1吸着ユニットと前記第2吸着ユニットが前記吸着力を発揮して前記第1基板と前記第2基板を挟み込んだ状態で、前記第1基板ホルダと前記第2基板ホルダを移動させた後のずれ量に基づいて、前記吸着力の状態を検出する、
請求項1に記載の管理装置。
The detection unit includes the first substrate holder and the second substrate holder in a state where the first suction unit and the second suction unit exert the suction force and sandwich the first substrate and the second substrate. Detecting the state of the attraction force based on the amount of deviation after moving
The management apparatus according to claim 1.
前記第1基板ホルダと前記第2基板ホルダを移動させるときに、前記第1基板ホルダと前記第2基板ホルダに予め定められた加速度を与える加速部を備え、
前記判断部は、ずれ量が、前記予め定められた加速度に基づいて設定されている基準ずれ量を超えるか否かにより前記良否を判断する請求項6に記載の管理装置。
An accelerating unit that applies a predetermined acceleration to the first substrate holder and the second substrate holder when moving the first substrate holder and the second substrate holder;
The management device according to claim 6, wherein the determination unit determines the quality based on whether or not a deviation amount exceeds a reference deviation amount set based on the predetermined acceleration.
前記第1吸着ユニットと前記第2吸着ユニットは、磁石と、磁性体と、前記磁石および前記磁性体の少なくとも一方を支持する弾性部材とを備え、
前記判断部は前記弾性部材の劣化を判断する請求項6または7に記載の管理装置。
The first adsorption unit and the second adsorption unit each include a magnet, a magnetic body, and an elastic member that supports at least one of the magnet and the magnetic body.
The management device according to claim 6 or 7, wherein the determination unit determines deterioration of the elastic member.
前記警告部は、前記メンテナンスを促す警告を表示装置に表示する請求項1から8のいずれか1項に記載の管理装置。   The management device according to claim 1, wherein the warning unit displays a warning for prompting the maintenance on a display device. 前記警告部は、前記メンテナンスを促す警告として、メンテナンス時期を要するまでの残り時間、または、メンテナンスを要するまでの残り使用回数の少なくともいずれかを表示する請求項9に記載の管理装置。   The management device according to claim 9, wherein the warning unit displays at least one of a remaining time until a maintenance time is required and a remaining number of times of use until a maintenance is required as the warning for prompting the maintenance. 前記警告部は、前記判断部の判断結果に基づいて、前記基板ホルダを収容するホルダラックに前記基板ホルダを収容する請求項1から10のいずれか1項に記載の管理装置。   The management device according to claim 1, wherein the warning unit accommodates the substrate holder in a holder rack that accommodates the substrate holder based on a determination result of the determination unit. 前記警告部は、前記メンテナンスを促す警告を音声出力する請求項1から11のいずれか1項に記載の管理装置。   The management device according to claim 1, wherein the warning unit outputs a warning that prompts the maintenance. 前記警告部は、前記メンテナンスを促す警告を含むデータを送信する請求項1から12のいずれか1項に記載の管理装置。   The management device according to claim 1, wherein the warning unit transmits data including a warning that prompts the maintenance.
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